JP2021028225A - Electron beam irradiation device and electron beam irradiation method - Google Patents

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Abstract

To provide an electron beam irradiation technique for radiating electron beam to the whole outer surface of a bottomed cylindrical container by one electron beam irradiation device and with one irradiation while using electron beam of low energy or medium energy.SOLUTION: An electron beam irradiation device comprises: transport means which holds a bottomed cylindrical container so that a side face thereof faces an irradiation direction of electron beam, and transports the same from an upstream side toward a downstream side; electron beam irradiation means comprising an electron beam irradiation part which accelerates electron beam toward the transported container and radiates the same; and a reflector plate which is located at a position facing the electron irradiation part across the container on a side of a transport path, and has a reflective surface for reflecting irradiated electron beam on a bottom surface of the container. A plurality of rollers, which move in a transport direction while rotating are arranged on the transport means at constant intervals, and this device is configured so as to transport the container while rotating the same between adjacent two rollers.SELECTED DRAWING: Figure 1A

Description

本発明は、電子線照射装置および電子線照射方法に関し、詳しくは、後方散乱を利用した電子線照射装置および電子線照射方法に関する。 The present invention relates to an electron beam irradiation device and an electron beam irradiation method, and more particularly to an electron beam irradiation device and an electron beam irradiation method using backscattering.

医薬品、化粧品および飲料などの包装容器に対しては、内容物を充填する前に容器を滅菌して無菌状態にし、その後、無菌室内で内容物を充填して密封するように義務付けられている。 For packaging containers such as pharmaceuticals, cosmetics and beverages, it is obligatory to sterilize and sterilize the containers before filling them, and then fill and seal the contents in a sterile room.

具体的な滅菌方法としては、高温高圧水蒸気を用いる高圧蒸気滅菌、エチレンオキシドガス(EOG)を用いるEOG滅菌、γ線や電子線等の放射線を用いる放射線照射滅菌等が知られている。 As specific sterilization methods, high-pressure steam sterilization using high-temperature and high-pressure steam, EOG sterilization using ethylene oxide gas (EOG), irradiation sterilization using radiation such as γ-rays and electron beams, and the like are known.

これらの内、高圧蒸気滅菌は、高温高圧水蒸気を用いるため、高圧のチャンバーを必要とし、また、対象物が高温高圧に耐える必要がある。このため、高圧蒸気滅菌は、近年広く用いられているプラスチック製の容器に適した滅菌方法とは言えない。 Of these, high-pressure steam sterilization uses high-temperature and high-pressure steam, so a high-pressure chamber is required, and the object must withstand high-temperature and high-pressure. Therefore, high-pressure steam sterilization cannot be said to be a sterilization method suitable for plastic containers widely used in recent years.

また、EOG滅菌は、低温での滅菌が可能であるが、滅菌処理及び残留ガス除去に要する時間が比較的大きい。また、EOGが発がん性を有することから、規制の強化が求められている。 Further, although EOG sterilization can be sterilized at a low temperature, the time required for sterilization and removal of residual gas is relatively long. In addition, since EOG has carcinogenicity, stricter regulations are required.

このため、近年は、放射線照射滅菌が広く採用されるようになっているが、その内でも、放射性物質を使用する必要がない電子線照射滅菌の採用が増えてきている。そして、このような電子線照射滅菌では、容器の外面を滅菌するだけでなく、容器の材質、肉厚の大きさによっては容器の内面を滅菌することもできる。 For this reason, in recent years, radiation sterilization has been widely adopted, and among them, electron beam sterilization, which does not require the use of radioactive substances, is increasingly being adopted. In such electron beam irradiation sterilization, not only the outer surface of the container can be sterilized, but also the inner surface of the container can be sterilized depending on the material and thickness of the container.

従来の電子線照射滅菌は、容器を梱包した状態で、梱包の外側から透過力の高い高エネルギーの電子線を照射して電子線を梱包及び容器肉厚等を透過させることにより容器全面を滅菌している(特許文献1、2参照)。この方法は、容器を梱包しているため、滅菌した後、ユーザーの下に搬送することが可能である。 In conventional electron beam irradiation sterilization, the entire surface of the container is sterilized by irradiating the container with a high-energy electron beam with high penetrating power from the outside of the container to sterilize the electron beam and allow the thickness of the container to pass through. (See Patent Documents 1 and 2). Since this method packs the container, it can be sterilized and then transported to the user.

しかし、上記の方法を採用した場合には、梱包を開封したときから内容物を充填するまでの間に、容器の外面が汚染されるリスクがある。このため、内容物の充填ラインにおいて、滅菌と内容物の充填とを連続して行うことができるインラインタイプの電子線照射技術が求められている。または高エネルギー電子線で梱包した状態で滅菌した後に梱包を開放する際の再汚染を防ぐために2重梱包にすることや、内容物を充填するまでの間に容器の外面を滅菌する技術が求められている。 However, when the above method is adopted, there is a risk that the outer surface of the container is contaminated between the time when the package is opened and the time when the contents are filled. Therefore, there is a demand for an in-line type electron beam irradiation technique capable of continuously performing sterilization and filling of contents in a filling line of contents. Alternatively, there is a need for double packaging to prevent recontamination when opening the package after sterilization in a state of being packed with a high-energy electron beam, and technology for sterilizing the outer surface of the container before filling the contents. Has been done.

このようなインラインでの電子線照射を行うためには、装置が小型であることが求められるが、上記した従来の高エネルギー電子線照射装置では装置規模が大きく、また、発生するX線を遮蔽するためには、コンクリートシールドなどの大型のシールド設備を必要とする。このため、高エネルギー電子線照射装置は、インラインでの電子線照射に適した設備とは言えない。 In order to perform such in-line electron beam irradiation, the device is required to be small, but the above-mentioned conventional high-energy electron beam irradiation device has a large device scale and shields generated X-rays. In order to do so, a large shield facility such as a concrete shield is required. Therefore, the high-energy electron beam irradiator cannot be said to be suitable for in-line electron beam irradiation.

一方、低エネルギーおよび中エネルギーの電子線照射装置は、装置規模が小さく、シールド設備としても、鉛シールドを用いた小型の自己シールドでよいため(特許文献3参照)、インラインでの電子線照射に適した設備と言うことができる。 On the other hand, low-energy and medium-energy electron beam irradiators are small in scale, and the shield equipment may be a small self-shield using a lead shield (see Patent Document 3), so that they can be used for in-line electron beam irradiation. It can be said that it is a suitable facility.

しかしながら、滅菌の対象となる容器は、一般的に有底筒状の形状を有している。このため、透過力の小さい低エネルギーおよび中エネルギーの電子線を、容器の一方向、例えば、側面側から照射したのでは、背面側や底面には電子線を照射することができず、照射のムラを生じてしまう。 However, the container to be sterilized generally has a bottomed tubular shape. Therefore, if low-energy and medium-energy electron beams with low penetrating power are irradiated from one direction of the container, for example, from the side surface side, the electron beam cannot be irradiated to the back surface side or the bottom surface, and the irradiation is performed. It causes unevenness.

そこで、このような照射ムラの発生をなくす方法として、例えば、筒状の容器の側面を支持して搬送しながら底面部側から電子線を照射する第1電子線加速器と、筒状の容器を底面部側から支持して自転させながら側面部側から電子線を照射する第2電子線加速器とを配置して、第1電子線加速器による照射と第2電子線加速器による照射とを連続して行う連続滅菌装置が提案されている(特許文献4参照)。 Therefore, as a method for eliminating the occurrence of such irradiation unevenness, for example, a first electron beam accelerator that irradiates an electron beam from the bottom surface side while supporting and transporting the side surface of the tubular container and a tubular container are used. A second electron beam accelerator that irradiates electron beams from the side surface side while supporting and rotating from the bottom surface side is arranged, and irradiation by the first electron beam accelerator and irradiation by the second electron beam accelerator are continuously performed. A continuous sterilization apparatus has been proposed (see Patent Document 4).

しかしながら、このような連続滅菌装置は、容器の底面および側面の全周に亘って電子線を照射することはできるものの、容器の搬送手段および電子線加速器をそれぞれ2台必要とするため、設備の大型化が避けられない。また、電子線の照射を2回に分けて行う必要があるため、効率的な処理とは言えず、生産性の向上を図る上で問題がある。 However, although such a continuous sterilizer can irradiate an electron beam over the entire circumference of the bottom surface and the side surface of the container, it requires two transport means for the container and two electron beam accelerators, respectively. Larger size is inevitable. In addition, since it is necessary to irradiate the electron beam in two steps, it cannot be said to be an efficient process, and there is a problem in improving productivity.

特開平11−130172号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-13017 特開2018−95257号公報JP-A-2018-95257 実開平5−62900号公報Jikkenhei 5-62900 国際公開WO2013/062006International release WO2013 / 062006

本発明は、上記した従来の電子線照射滅菌における諸問題に鑑みて、低エネルギーまたは中エネルギーの電子線を用いながらも、1台の電子線照射装置で、さらに、1回の照射で、有底筒状の容器の外面全体に電子線を照射することができる電子線照射技術を提供することを課題とする。 In view of the above-mentioned problems in the conventional electron beam irradiation sterilization, the present invention can be performed with one electron beam irradiation device and one irradiation while using a low energy or medium energy electron beam. An object of the present invention is to provide an electron beam irradiation technique capable of irradiating the entire outer surface of a bottom tubular container with an electron beam.

本発明者は、上記課題の解決について鋭意検討を行い、以下に記載する発明により上記課題が解決できることを見出し、本発明を完成させるに至った。 The present inventor has diligently studied the solution to the above problem, found that the above problem can be solved by the invention described below, and has completed the present invention.

請求項1に記載の発明は、
有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射装置であって、
前記容器を側面が前記電子線の照射方向と相対するように保持して、上流側から下流側に向けて搬送する搬送路を備える搬送手段と、
前記搬送路を搬送される前記容器に向けて電子を加速して照射する電子線照射部を備える電子線照射手段と、
前記搬送路の側方で前記容器を挟んで前記電子線照射部と対向する位置に配置され、前記電子線照射部より照射された前記電子線を前記容器の底面に反射させる反射面を有する反射板とが備えられており、
前記搬送手段には、回転しながら搬送方向に移動する複数のローラーが、一定間隔をおいて配置されており、隣接する2つの前記ローラー間に配置された前記容器を回転させながら搬送するように構成されていることを特徴とする電子線照射装置である。
The invention according to claim 1
An electron beam irradiator that irradiates an electron beam toward a bottomed tubular container.
A transport means having a transport path for holding the container so that its side surface faces the irradiation direction of the electron beam and transporting the container from the upstream side to the downstream side.
An electron beam irradiating means including an electron beam irradiating unit that accelerates and irradiates electrons toward the container to be transported along the transport path.
Reflection having a reflecting surface that is arranged on the side of the transport path so as to face the electron beam irradiating portion with the container in between and reflects the electron beam irradiated from the electron beam irradiating portion to the bottom surface of the container. It is equipped with a board,
A plurality of rollers that move in the transport direction while rotating are arranged in the transport means at regular intervals so as to rotate and transport the container arranged between the two adjacent rollers. It is an electron beam irradiation device characterized by being configured.

請求項2に記載の発明は、
前記反射板が、冷却可能であることを特徴とする請求項1に記載の電子線照射装置である。
The invention according to claim 2
The electron beam irradiation device according to claim 1, wherein the reflector is coolable.

請求項3に記載の発明は、
前記反射板の前記反射面が、鏡面加工されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子線照射装置である。
The invention according to claim 3
The electron beam irradiation device according to claim 1 or 2, wherein the reflective surface of the reflector is mirror-finished.

請求項4に記載の発明は、
前記反射板において、少なくとも前記反射面が、金属を用いて形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の電子線照射装置である。
The invention according to claim 4
The electron beam irradiation device according to any one of claims 1 to 3, wherein at least the reflective surface of the reflector is formed of metal.

請求項5に記載の発明は、
請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の電子線照射装置を用いて、有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射方法であって、
前記容器を、側面が前記電子線の照射方向と相対するように保持して、上流側から下流側に向けて搬送する搬送工程と、
前記搬送路を搬送される前記容器の側面に向けて電子を加速して照射すると共に、前記電子線照射部より照射され、前記反射板の反射面から反射してきた電子線を前記容器の底面に照射する電子線照射工程とを備えており、
前記搬送工程において、隣接する2つの前記ローラー間に配置された前記容器を回転させながら搬送することを特徴とする電子線照射方法である。
The invention according to claim 5
An electron beam irradiation method for irradiating an electron beam toward a bottomed tubular container using the electron beam irradiation device according to any one of claims 1 to 4.
A transport step of holding the container so that the side surface faces the irradiation direction of the electron beam and transporting the container from the upstream side to the downstream side.
Electrons are accelerated and irradiated toward the side surface of the container to be conveyed through the transport path, and the electron beam irradiated from the electron beam irradiation unit and reflected from the reflection surface of the reflector is applied to the bottom surface of the container. It is equipped with an electron beam irradiation process to irradiate.
In the transfer step, the electron beam irradiation method is characterized in that the container arranged between two adjacent rollers is transferred while rotating.

本発明によれば、低エネルギーまたは中エネルギーの電子線を用いながらも、1台の電子線照射装置で、さらに、1回の照射で、有底筒状の容器の外面全体に電子線を照射することができる電子線照射技術を提供することができる。 According to the present invention, while using a low-energy or medium-energy electron beam, the entire outer surface of the bottomed tubular container is irradiated with the electron beam with one electron beam irradiation device and further with one irradiation. It is possible to provide an electron beam irradiation technique that can be used.

また、反射板から反射してきた電子線を利用して、容器の底面における電子線の照射不足を補うことで、底面と側面の照射の偏りを改善することができるため、放射線劣化しやすい容器でも1台で滅菌することができる。 In addition, by using the electron beam reflected from the reflector to compensate for the insufficient irradiation of the electron beam on the bottom surface of the container, it is possible to improve the uneven irradiation of the bottom surface and the side surface, so even in a container that is prone to radiation deterioration. It can be sterilized by one unit.

本発明の一実施の形態に係る電子線照射装置の基本的な態様を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the basic aspect of the electron beam irradiation apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 図1AのA−A矢視図である。It is the AA arrow view of FIG. 1A. 本発明の一実施の形態に係る電子線照射装置の反射板の構成を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the structure of the reflector of the electron beam irradiation apparatus which concerns on one Embodiment of this invention. 図2Aの反射板を背面から見た模式図である。It is a schematic view which looked at the reflector of FIG. 2A from the back. 電子線照射中における容器の回転機構を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the rotation mechanism of a container during electron beam irradiation.

以下、本発明を実施の形態に基づいて説明する。 Hereinafter, the present invention will be described based on the embodiments.

[1]電子線照射装置
1.基本的な態様
はじめに、本実施の形態の電子線照射装置の基本的な態様について説明する。図1Aは、本実施の形態に係る電子線照射装置の基本的な態様を示す模式図であり、図1Bは、図1AのA−A矢視図である。
[1] Electron beam irradiation device 1. Basic Aspects First, the basic aspects of the electron beam irradiation apparatus of the present embodiment will be described. FIG. 1A is a schematic view showing a basic aspect of the electron beam irradiation device according to the present embodiment, and FIG. 1B is a view taken along the line AA of FIG. 1A.

図1A、図1Bにおいて、1はインラインに設けられた電子線照射装置であり、電子線を容器Cに向けて放射して照射する電子線照射部11が、搬送路12の上方に、容器Cと相対するように配置されている。なお、本実施の形態において、電子線照射部11は、例えば、加速電圧1MV以下の低エネルギーまたは中エネルギーで電子を加速する。そして、13は反射板であり、搬送路12の側方で容器Cを挟んで電子線照射部11と対向する位置に傾斜して配置されている。また、容器Cは、図1Bに示すように、回転する複数のローラー21の隣接する2つのローラー間に配置されて、ローラー21の回転に合わせて回転している。 In FIGS. 1A and 1B, reference numeral 1 denotes an in-line electron beam irradiating device, and an electron beam irradiating unit 11 that radiates and irradiates an electron beam toward the container C is located above the transport path 12 in the container C. It is arranged so as to face with. In the present embodiment, the electron beam irradiation unit 11 accelerates electrons with low energy or medium energy having an acceleration voltage of 1 MV or less, for example. Reference numeral 13 denotes a reflector, which is inclined so as to face the electron beam irradiation unit 11 with the container C on the side of the transport path 12. Further, as shown in FIG. 1B, the container C is arranged between two adjacent rollers of the plurality of rotating rollers 21 and rotates in accordance with the rotation of the rollers 21.

このような構成とすることにより、横向きに載置された容器Cの側面に向けて放射電子線11aを照射した場合、回転する容器Cの側面では、放射電子線11aが十分に照射されるため、十分な滅菌を行うことができる。 With such a configuration, when the radiated electron beam 11a is irradiated toward the side surface of the container C placed sideways, the radiated electron beam 11a is sufficiently irradiated on the side surface of the rotating container C. , Can be sufficiently sterilized.

しかし、容器Cの底面については、図1Aに示すように、放射電子線11aは容器Cの底面に平行に通過するため、照射不足を招いて十分な滅菌ができない恐れがある。このため、本実施の形態においては、容器Cに照射されなかった放射電子線11aの一部を反射板13の反射面13aにおいて反射させることにより、後方散乱電子線11bを、容器Cの底面Bに向けて照射することができるようにされている。 However, as shown in FIG. 1A, the radiated electron beam 11a passes parallel to the bottom surface of the container C, which may lead to insufficient irradiation and insufficient sterilization. Therefore, in the present embodiment, the backscattered electron beam 11b is transmitted to the bottom surface B of the container C by reflecting a part of the radiated electron beam 11a that was not irradiated to the container C on the reflecting surface 13a of the reflector 13. It is designed so that it can be irradiated toward.

この結果、底面Bにおける電子線の照射不足を補って、十分な照射を行うことができ、低エネルギーまたは中エネルギーの電子線を用いながらも、1台の電子線照射装置で、さらに、1回の照射で、有底筒状の容器の外面全体に電子線を照射して滅菌することができる。また、底面Bにおける電子線の照射不足を補うことで、底面と側面の照射の偏りを改善することができるため、放射線劣化しやすい容器でも1台で滅菌することができる。 As a result, sufficient irradiation can be performed by compensating for the insufficient irradiation of the electron beam on the bottom surface B, and even while using a low-energy or medium-energy electron beam, one electron beam irradiation device can be used once more. The entire outer surface of the bottomed tubular container can be sterilized by irradiating it with an electron beam. Further, by compensating for the insufficient irradiation of the electron beam on the bottom surface B, the unevenness of the irradiation on the bottom surface and the side surface can be improved, so that even a container that is prone to radiation deterioration can be sterilized by one unit.

そして、加速電圧が1MV以下のような電子線照射部11は小型であるため、電子線照射装置1全体も小型化でき、インラインに設ける滅菌設備として好ましい。 Since the electron beam irradiation unit 11 having an acceleration voltage of 1 MV or less is small, the entire electron beam irradiation device 1 can also be miniaturized, which is preferable as an in-line sterilization facility.

なお、本実施の形態においては、必要に応じて、電子線照射前に予め内容物が充填された容器に対して、低エネルギーの電子線を利用することで内容物に電子線を照射せずに容器の外面だけを照射することもできる。 In the present embodiment, if necessary, the contents are not irradiated with the electron beam by using the low-energy electron beam for the container filled with the contents in advance before the electron beam irradiation. It is also possible to irradiate only the outer surface of the container.

2.電子線照射装置の特徴部
次に、本実施の形態の電子線照射装置の具体的な態様の内、特徴部である反射板、ローラーについて説明する。
2. 2. Characteristic part of the electron beam irradiation device Next, among the specific aspects of the electron beam irradiation device of the present embodiment, the reflector and the roller which are the feature parts will be described.

(1)反射板
前記したように、容器Cの底面Bについては、放射電子線11aは容器Cの底面に平行に通過するため、側面に比べて照射不足を招く恐れがある。しかしながら、本実施の形態においては、搬送路12の側方で容器Cを挟んで電子線照射部11と対向する位置に反射板13が配置されており、放射電子線11aを反射板13の反射面13aで後方散乱させることにより、後方散乱電子線11bが容器Cの底面Bに照射されるように構成されている。このため、容器Cの底面Bに対して効率良く電子線を照射することができ、1台の電子線照射装置を用いて1回の照射でありながら、容器Cの全面に対して十分な滅菌を行うことができる。また、底面Bにおける電子線の照射不足を補うことで、底面と側面の照射の偏りを改善することができるため、放射線劣化しやすい容器でも1台で滅菌することができる。
(1) Reflector As described above, with respect to the bottom surface B of the container C, since the radiated electron beam 11a passes parallel to the bottom surface of the container C, there is a risk of insufficient irradiation as compared with the side surface. However, in the present embodiment, the reflector 13 is arranged at a position facing the electron beam irradiation unit 11 with the container C on the side of the transport path 12, and the radiated electron beam 11a is reflected by the reflector 13. By backscattering on the surface 13a, the backscattered electron beam 11b is configured to irradiate the bottom surface B of the container C. Therefore, the bottom surface B of the container C can be efficiently irradiated with the electron beam, and the entire surface of the container C can be sufficiently sterilized while being irradiated once using one electron beam irradiation device. It can be performed. Further, by compensating for the insufficient irradiation of the electron beam on the bottom surface B, the unevenness of the irradiation on the bottom surface and the side surface can be improved, so that even a container that is prone to radiation deterioration can be sterilized by one unit.

図2Aは、本実施の形態に係る電子線照射装置の反射板13の構成を示す模式図であり、図2Bは、反射板13を背面から見た模式図である。図2A、2Bにおいて、14は、反射板13を支持する支持装置である。なお、θは傾斜角度であり、cは冷媒である。 FIG. 2A is a schematic view showing the configuration of the reflector 13 of the electron beam irradiation device according to the present embodiment, and FIG. 2B is a schematic view of the reflector 13 as viewed from the back. In FIGS. 2A and 2B, reference numeral 14 denotes a support device for supporting the reflector 13. Note that θ is the inclination angle, and c is the refrigerant.

反射板13の放射電子線11aの放射方向に対する傾斜角度θが変更できるように支持装置14で支持することにより、放射電子線11aから後方散乱電子線11bへの反射角度を任意に調整することができる。この結果、後方散乱電子線11bを、容器Cの底面Bの所望する位置に合わせて確実に照射することができる。 By supporting the reflector 13 with the support device 14 so that the inclination angle θ of the radiated electron beam 11a with respect to the radiation direction can be changed, the reflection angle from the radiated electron beam 11a to the backward scattered electron beam 11b can be arbitrarily adjusted. it can. As a result, the backscattered electron beam 11b can be reliably irradiated at a desired position on the bottom surface B of the container C.

本実施の形態において、反射板13は、支持装置14に冷却装置が設けられて、冷却可能とされていることが好ましい。 In the present embodiment, it is preferable that the reflector 13 can be cooled by providing a cooling device on the support device 14.

反射板13を冷却することにより、長時間継続して放射電子線11aが反射板13に向けて照射された場合における反射板13の温度上昇を防止することができる。具体的な冷却方法としては、例えば、図2Bに示すように、反射板13の裏側に固着された配管30に、冷却水や冷却効果の高いLLCクーラント液等の冷媒cを通過させる方法も可能である。 By cooling the reflector 13, it is possible to prevent the temperature of the reflector 13 from rising when the radiated electron beam 11a is continuously irradiated toward the reflector 13 for a long time. As a specific cooling method, for example, as shown in FIG. 2B, a method of passing a refrigerant c such as cooling water or an LLC coolant having a high cooling effect through a pipe 30 fixed to the back side of the reflector 13 is also possible. Is.

反射面13aは、さらに、鏡面加工されていることが好ましい。これにより、放射電子線11aをより効率的に後方散乱させることができるため、放射電子線11aをより効率的に利用して、後方散乱電子線11bの線量を増大させることができる The reflective surface 13a is preferably mirror-finished. As a result, the radiated electron beam 11a can be backscattered more efficiently, so that the radiated electron beam 11a can be used more efficiently to increase the dose of the backscattered electron beam 11b.

また、反射板13は、少なくとも反射面13aが、電子線に対する後方散乱の機能に優れる金属を用いて形成されていることが好ましい。 Further, it is preferable that at least the reflecting surface 13a of the reflecting plate 13 is formed of a metal having an excellent backscattering function with respect to an electron beam.

具体的な金属としては、例えば、タングステン(W)や金(Au)等の重金属が挙げられる。これらの金属は、反射板13の内部まで、所謂バルク状態で使用してもよいが、反射面13aに表面被覆して薄膜を形成させる等、後方散乱に関与する表面部分のみに使用してもよい。 Specific examples of the metal include heavy metals such as tungsten (W) and gold (Au). These metals may be used up to the inside of the reflector 13 in a so-called bulk state, but may also be used only for the surface portion involved in backscattering, such as forming a thin film by surface-coating the reflecting surface 13a. Good.

(2)ローラー
図1に示すように、本実施の形態において、搬送路12には、回転しながら搬送方向に移動する複数のローラー21が、一定間隔をおいて配置されている。そして、容器Cは、隣接する2つのローラー21の間に配置されている。このため、容器Cがローラー21の回転に合わせて回転して、放射電子線11aが照射される側面が絶えず変化し、容器Cの側周面全面に対して十分な量の放射電子線11aが照射されることになる。この結果、容器Cの側面を十分に滅菌することができる。なお、21cは容器Cを底面B側から支持するためにローラー21の側面の端部に設けられた鍔部である。
(2) Rollers As shown in FIG. 1, in the present embodiment, a plurality of rollers 21 that move in the transport direction while rotating are arranged at regular intervals in the transport path 12. The container C is arranged between two adjacent rollers 21. Therefore, the container C rotates in accordance with the rotation of the roller 21, and the side surface on which the radiated electron beam 11a is irradiated is constantly changed, so that a sufficient amount of the radiated electron beam 11a is applied to the entire side peripheral surface of the container C. It will be irradiated. As a result, the side surface of the container C can be sufficiently sterilized. Reference numeral 21c is a flange portion provided at the end of the side surface of the roller 21 to support the container C from the bottom surface B side.

また、図1Bに示すように、水平に配置された2つのローラー21間に容器Cを配置した場合には、容器Cをチャックなどで保持する必要がないため、影ができず、容器Cの側面の全面に放射電子線11aを照射することができる。 Further, as shown in FIG. 1B, when the container C is arranged between the two horizontally arranged rollers 21, the container C does not need to be held by a chuck or the like, so that no shadow is formed and the container C is formed. The entire surface of the side surface can be irradiated with the radiation electron beam 11a.

なお、ローラー21が完全に水平の角度で配置されていると、ローラー21の回転に伴って回転する容器Cが、ローラー21上で移動してしまう恐れがあるため、ローラー21は所定の角度、好ましくは1〜80°の角度をつけて配置されていることが好ましい。これにより、容器Cが鍔部によって支えられながら回転するため、ローラー21上での移動を防止することができる。 If the rollers 21 are arranged at a completely horizontal angle, the container C that rotates with the rotation of the rollers 21 may move on the rollers 21, so that the rollers 21 have a predetermined angle. It is preferably arranged at an angle of 1 to 80 °. As a result, the container C rotates while being supported by the collar portion, so that the movement on the roller 21 can be prevented.

(3)回転機構
図3は、電子線照射中における容器の回転機構を示す模式図である。図3において、22aは固定部材、22bは支持部材、22cはローラー保持部材、22dは支点である。そして、ローラー21の回転軸は、ローラー保持部材22cの両側に突出部を有しており、一端にローラー21が取り付けられ、他端にピニオン24aが取り付けられている。また、24bはラックであり、搬送路に沿って平行に配置されている。
(3) Rotation mechanism FIG. 3 is a schematic view showing a rotation mechanism of the container during electron beam irradiation. In FIG. 3, 22a is a fixing member, 22b is a support member, 22c is a roller holding member, and 22d is a fulcrum. The rotation shaft of the roller 21 has protrusions on both sides of the roller holding member 22c, and the roller 21 is attached to one end and the pinion 24a is attached to the other end. Further, 24b is a rack and is arranged in parallel along the transport path.

図3に示すように、ローラー支持装置が搬送路に搬入されたときピニオン24aがラック24bと噛み合い、ローラー支持装置が搬送方向に移動することでローラー21が回転する。これにより、容器Cを回転させながら電子線を照射することができる。 As shown in FIG. 3, when the roller support device is carried into the transport path, the pinion 24a meshes with the rack 24b, and the roller support device moves in the transport direction to rotate the roller 21. As a result, the electron beam can be irradiated while rotating the container C.

このように、ピニオン24aとラック24bを組み合わせることにより、回転機構を簡素な構成にすることができ、また故障のリスクが低減される。また、ローラー21の回転数は、ピニオン24aとラック24bの歯数の比によって決まるため、搬送スピードが変動してもローラー21の回転数が変動することがない。このため、例えば照射線量を調整するため、搬送スピードを変えた場合でも回転数を一定に保つことができる。 By combining the pinion 24a and the rack 24b in this way, the rotation mechanism can be made simple and the risk of failure can be reduced. Further, since the rotation speed of the roller 21 is determined by the ratio of the number of teeth of the pinion 24a and the rack 24b, the rotation speed of the roller 21 does not fluctuate even if the transport speed fluctuates. Therefore, for example, in order to adjust the irradiation dose, the rotation speed can be kept constant even when the transport speed is changed.

3.より好ましい態様
(1)反射板の反射面の傾斜角度
反射板13は、反射面13aの傾斜角度θが変更できるように支持されていることが好ましい。具体的には、図2Bにおいて、例えば、配管30により反射板の幅方向の中央を中心として反射板13の傾きを自在に変えられるように支持する。これにより、サイズ、形態が多様な容器に対しても所望の位置に後方散乱電子線11bを照射することができる。
3. 3. More Preferred Embodiment (1) Inclination Angle of Reflecting Surface of Reflector The reflector 13 is preferably supported so that the inclination angle θ of the reflecting surface 13a can be changed. Specifically, in FIG. 2B, for example, the pipe 30 supports the reflector 13 so that the inclination of the reflector 13 can be freely changed around the center in the width direction of the reflector. As a result, the backscattered electron beam 11b can be applied to a desired position even for containers having various sizes and forms.

(2)ローラーの表面形状および材質
ローラー21は、容器Cと接触する部分21aの少なくとも一部の側面が、全周に亘って、ローレット加工または梨地加工が施されていることが好ましい。このような加工を施すことにより、容器Cとローラー21の側面との間の摩擦力が高められるため、容器Cがローラー21に対して滑りにくくなり、回転するローラー21に合わせて、確実に、容器Cを回転させることができる。
(2) Surface Shape and Material of Roller It is preferable that at least a part of the side surface of the portion 21a in contact with the container C of the roller 21 is knurled or satin finished over the entire circumference. By performing such processing, the frictional force between the container C and the side surface of the roller 21 is increased, so that the container C becomes less slippery with respect to the roller 21, and the container C is surely adjusted to the rotating roller 21. The container C can be rotated.

なお、具体的なローレット加工の形態としては、アヤ目加工やローラー21の軸方向に沿って目が形成されたヒラ目加工を挙げることができる。また、梨地加工の形態としては、エッチング、サンドブラスト、ホーニングなど公知の表面処理加工を挙げることができる。ローレット加工の目の大きさおよび梨地における粗度は、容器の材質、側面の曲率の大きさ、表面粗度等に応じて適宜決定される。 Specific forms of knurling include knurling and fluttering in which the eyes are formed along the axial direction of the roller 21. Moreover, as a form of satin finish, known surface treatment such as etching, sandblasting, and honing can be mentioned. The size of the knurled mesh and the roughness of the satin finish are appropriately determined according to the material of the container, the size of the curvature of the side surface, the surface roughness and the like.

また、ローラー21の容器Cと接触しない部分21bの少なくとも一部の側面では、全周に亘って、鏡面加工が施されていることが好ましい。具体的には、図1Aに示すように、ローラー21の長さを容器Cの高さより大きくし、容器Cと接触しない部分21bの一部の側面に鏡面加工が施されていることが好ましい。 Further, it is preferable that at least a part of the side surface of the portion 21b that does not come into contact with the container C of the roller 21 is mirror-finished over the entire circumference. Specifically, as shown in FIG. 1A, it is preferable that the length of the roller 21 is made larger than the height of the container C, and the side surface of a part of the portion 21b that does not come into contact with the container C is mirror-finished.

これにより、鏡面加工が施されている部分では、放射電子線11aが反射されて、容器Cに向けて後方散乱するため、放射電子線11aの照射線量が少ない容器Cの頂部Tの蓋部などについても、ローラー21の鏡面加工された側面から後方散乱された電子線を照射して、滅菌することができる。 As a result, the radiated electron beam 11a is reflected and scattered backward toward the container C in the mirror-finished portion, so that the lid portion of the top T of the container C where the irradiation dose of the radiated electron beam 11a is small, etc. Can also be sterilized by irradiating backscattered electron beams from the mirrored side surface of the roller 21.

そして、このような効果を得るためには、反射板の場合と同様に、ローラー21の少なくとも側面部分は、金属を用いて形成されていることが好ましい。 In order to obtain such an effect, it is preferable that at least the side surface portion of the roller 21 is formed of metal, as in the case of the reflector.

(3)ローラーの姿勢変更
電子線の照射は、容器を水平、横向きに配置して行われる。一方、容器への内容物の充填は、通常、容器を立設させて行われるため、電子線照射後に容器を立設させる姿勢変更を行うことが好ましい。
(3) Change of roller posture Electron beam irradiation is performed by arranging the container horizontally and sideways. On the other hand, since the filling of the contents into the container is usually performed by erecting the container, it is preferable to change the posture of erecting the container after the electron beam irradiation.

[2]電子線照射方法
次に、上記した電子線照射装置を用いて、有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射方法について説明する。
[2] Electron beam irradiation method Next, an electron beam irradiation method for irradiating an electron beam toward a bottomed tubular container using the above-mentioned electron beam irradiation device will be described.

本実施の形態においては、上記した電子線照射装置を用いて、以下の2つの工程を経ることにより、容器に電子線を照射して滅菌を行うことができる。 In the present embodiment, the container can be sterilized by irradiating the container with an electron beam by going through the following two steps using the above-mentioned electron beam irradiation device.

即ち、容器を、側面が電子線の照射方向と相対するように保持して、上流側から下流側に向けて搬送する搬送工程と、搬送路を搬送される容器の側面に向けて電子を加速して照射すると共に、電子線照射部より照射され、反射板の反射面から反射してきた電子線を容器の底面に照射する電子線照射工程との2つの工程である。 That is, the transport process of holding the container so that the side surface faces the irradiation direction of the electron beam and transporting the container from the upstream side to the downstream side, and accelerating the electrons toward the side surface of the container to be transported along the transport path. The two steps are an electron beam irradiation step of irradiating the bottom surface of the container with an electron beam that is irradiated from the electron beam irradiation unit and reflected from the reflecting surface of the reflecting plate.

そして、このような工程を経て、有底筒状の容器に向けて電子線を照射することにより、上記した電子線照射装置の説明において記載したように、容器の側面だけでなく、底面や頂部に対しても十分に電子線を照射することができる。この結果、加速電圧1MV以下の低エネルギーまたは中エネルギーで電子を加速して照射する小型の電子線照射部を用いながらも、1回の照射で筒状の容器の外面全体に電子線を効率良く照射することができる。 Then, through such a process, by irradiating the electron beam toward the bottomed tubular container, as described in the above description of the electron beam irradiating device, not only the side surface of the container but also the bottom surface and the top surface. It is possible to irradiate the electron beam sufficiently. As a result, while using a small electron beam irradiation unit that accelerates and irradiates electrons with low energy or medium energy with an acceleration voltage of 1 MV or less, the electron beam can be efficiently applied to the entire outer surface of the tubular container with a single irradiation. Can be irradiated.

また、底面における電子線の照射不足を補うことで、底面と側面の照射の偏りを改善することができるため、放射線劣化しやすい容器でも1台で滅菌することができる。 Further, by compensating for the insufficient irradiation of the electron beam on the bottom surface, it is possible to improve the uneven irradiation of the bottom surface and the side surface, so that even a container that is easily deteriorated by radiation can be sterilized by one unit.

以上、本発明を実施の形態に基づき説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではない。本発明と同一および均等の範囲内において、上記の実施の形態に対して種々の変更を加えることが可能である。 Although the present invention has been described above based on the embodiments, the present invention is not limited to the above embodiments. It is possible to make various modifications to the above embodiments within the same and equivalent scope as the present invention.

1 電子線照射装置
11 電子線照射部
11a 放射電子線
11b 後方散乱電子線
12 搬送路
13 反射板
13a 反射面
14 支持装置
21 ローラー
21a 容器と接触する部分
21b 容器と接触しない部分
21c 鍔部
22a 固定部材
22b 支持部材
22c ローラー保持部材
22d 支点
24 回転機構
24a ピニオン
24b ラック
30 配管
B 底面
C 容器
T 頂部
c 冷媒
θ 傾斜角度
1 Electron beam irradiation device 11 Electron beam irradiation unit 11a Radiation electron beam 11b Backscattered electron beam 12 Transport path 13 Reflector 13a Reflection surface 14 Support device 21 Roller 21a Part that contacts the container 21b Part that does not contact the container 21c Border 22a Fixed Member 22b Support member 22c Roller holding member 22d Supporting point 24 Rotating mechanism 24a Pinion 24b Rack 30 Piping B Bottom surface C Container T Top c Refrigerator θ Tilt angle

Claims (5)

有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射装置であって、
前記容器を側面が前記電子線の照射方向と相対するように保持して、上流側から下流側に向けて搬送する搬送路を備える搬送手段と、
前記搬送路を搬送される前記容器に向けて電子を加速して照射する電子線照射部を備える電子線照射手段と、
前記搬送路の側方で前記容器を挟んで前記電子線照射部と対向する位置に配置され、前記電子線照射部より照射された前記電子線を前記容器の底面に反射させる反射面を有する反射板とが備えられており、
前記搬送手段には、回転しながら搬送方向に移動する複数のローラーが、一定間隔をおいて配置されており、隣接する2つの前記ローラー間に配置された前記容器を回転させながら搬送するように構成されていることを特徴とする電子線照射装置。
An electron beam irradiator that irradiates an electron beam toward a bottomed tubular container.
A transport means having a transport path for holding the container so that its side surface faces the irradiation direction of the electron beam and transporting the container from the upstream side to the downstream side.
An electron beam irradiating means including an electron beam irradiating unit that accelerates and irradiates electrons toward the container to be transported along the transport path.
Reflection having a reflecting surface that is arranged on the side of the transport path so as to face the electron beam irradiating portion with the container in between and reflects the electron beam irradiated from the electron beam irradiating portion to the bottom surface of the container. It is equipped with a board,
A plurality of rollers that move in the transport direction while rotating are arranged in the transport means at regular intervals so as to rotate and transport the container arranged between the two adjacent rollers. An electron beam irradiation device characterized by being configured.
前記反射板が、冷却可能であることを特徴とする請求項1に記載の電子線照射装置。 The electron beam irradiation device according to claim 1, wherein the reflector is coolable. 前記反射板の前記反射面が、鏡面加工されていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の電子線照射装置。 The electron beam irradiation device according to claim 1 or 2, wherein the reflective surface of the reflector is mirror-finished. 前記反射板において、少なくとも前記反射面が、金属を用いて形成されていることを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の電子線照射装置。 The electron beam irradiating apparatus according to any one of claims 1 to 3, wherein at least the reflecting surface of the reflecting plate is formed of metal. 請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の電子線照射装置を用いて、有底筒状の容器に向けて電子線を照射する電子線照射方法であって、
前記容器を、側面が前記電子線の照射方向と相対するように保持して、上流側から下流側に向けて搬送する搬送工程と、
前記搬送路を搬送される前記容器の側面に向けて電子を加速して照射すると共に、前記電子線照射部より照射され、前記反射板の反射面から反射してきた電子線を前記容器の底面に照射する電子線照射工程とを備えており、
前記搬送工程において、隣接する2つの前記ローラー間に配置された前記容器を回転させながら搬送することを特徴とする電子線照射方法。
An electron beam irradiation method for irradiating an electron beam toward a bottomed tubular container using the electron beam irradiation device according to any one of claims 1 to 4.
A transport step of holding the container so that the side surface faces the irradiation direction of the electron beam and transporting the container from the upstream side to the downstream side.
Electrons are accelerated and irradiated toward the side surface of the container to be conveyed through the transport path, and the electron beam irradiated from the electron beam irradiation unit and reflected from the reflection surface of the reflector is applied to the bottom surface of the container. It is equipped with an electron beam irradiation process to irradiate.
In the transfer step, an electron beam irradiation method characterized in that the container arranged between two adjacent rollers is transferred while rotating.
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