JP2021024747A - Etching method of glass plate - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、リン酸塩系のガラス板をエッチングする方法に関する。 The present invention relates to a method for etching a phosphate-based glass plate.
デジタルカメラ等においては、CCDやCMOS等の固体撮像素子デバイスが用いられている。これらの固体撮像素子デバイスは、広範囲の受光感度を有しているので、人間の視覚に合わせるため、赤外域の光を除去する必要がある。下記の特許文献1では、赤外域の光を除去するための近赤外線カットフィルタとして、フツリン酸塩系ガラスからなる赤外線吸収ガラス板が開示されている。特許文献1では、両面研磨機を用いた物理研磨などによりガラス板の厚みが薄くされている。
In digital cameras and the like, solid-state image sensor devices such as CCD and CMOS are used. Since these solid-state image sensor devices have a wide range of light-receiving sensitivities, it is necessary to remove light in the infrared region in order to match the human vision.
近年、固体撮像素子においては、より一層の小型化が求められている。そのため、固体撮像素子デバイスを構成する赤外線吸収ガラス板においても一層の薄型化が求められる。しかしながら、特許文献1のように物理研磨により薄くする方法では、ガラス板の厚みを薄くしすぎると、ガラス板の割れが生じる場合があった。
In recent years, further miniaturization has been required for solid-state image sensors. Therefore, the infrared absorbing glass plate constituting the solid-state image sensor device is also required to be further thinned. However, in the method of thinning by physical polishing as in
本発明は上記の事情に鑑みて為されたものであり、ガラス板に割れを発生させることなく当該ガラス板の厚みを薄くすることを技術的課題とする。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and it is a technical subject to reduce the thickness of the glass plate without causing cracks in the glass plate.
本発明に係るガラス板のエッチング方法は上記の課題を解決するためのものであり、リン酸塩系のガラス板をエッチング液に浸漬してエッチング処理を行うエッチング工程を備え、前記エッチング液は、アルカリ成分としてキレート剤のアルカリ塩を含み、前記アルカリ塩の濃度は、アルカリ塩換算で、質量%で5%以上とされていることを特徴とする。 The method for etching a glass plate according to the present invention is for solving the above-mentioned problems, and includes an etching step of immersing a phosphate-based glass plate in an etching solution to perform an etching process. It is characterized in that it contains an alkali salt of a chelating agent as an alkaline component, and the concentration of the alkali salt is 5% or more in mass% in terms of alkali salt.
アルカリ塩の濃度が5%以上とされたエッチング液にガラス板を浸漬させることで、前工程においてガラスに存在していたマイクロクラック等の欠陥が除去される。これにより、物理研磨の場合と比較して、ガラス板に割れを発生させることなく当該ガラス板の厚みを薄くすることが可能になる。また、偏肉が少なく、高い寸法精度を有する薄型ガラス板を形成できる。 By immersing the glass plate in an etching solution having an alkali salt concentration of 5% or more, defects such as microcracks existing in the glass in the previous step are removed. This makes it possible to reduce the thickness of the glass plate without causing cracks in the glass plate as compared with the case of physical polishing. In addition, it is possible to form a thin glass plate having a small uneven thickness and high dimensional accuracy.
前記エッチング工程では、10℃以上の前記エッチング液に前記ガラス板を浸漬した状態で、前記エッチング液を前記ガラス板の表面と相対的に流動させることにより、前記エッチング処理を行うことができる。 In the etching step, the etching process can be performed by immersing the glass plate in the etching solution at 10 ° C. or higher and allowing the etching solution to flow relative to the surface of the glass plate.
かかる構成によれば、ガラス板の表面に沿ってエッチング液を相対的に流動させることにより、エッチング液を流動させない場合と比較して、ガラス板の表面に対して均一にエッチング処理を行うことができる。 According to this configuration, by allowing the etching solution to flow relatively along the surface of the glass plate, the etching treatment can be uniformly performed on the surface of the glass plate as compared with the case where the etching solution does not flow. it can.
前記エッチング工程における前記エッチング液の温度は、15℃以上25℃以下であり、前記エッチング液における前記アルカリ塩の前記濃度は、8%以上18%以下であってもよい。 The temperature of the etching solution in the etching step may be 15 ° C. or higher and 25 ° C. or lower, and the concentration of the alkaline salt in the etching solution may be 8% or higher and 18% or lower.
また、前記エッチング工程における前記エッチング液の温度は、15℃以上20℃未満であってもよい。 Further, the temperature of the etching solution in the etching step may be 15 ° C. or higher and lower than 20 ° C.
本方法によりエッチング処理される前記ガラス板は、組成として質量%でP2O5を25%以上含むものであってもよい。 The glass plate to be etched by the present method, the P 2 O 5 in wt% as a composition may contain 25% or more.
本発明に係るガラス板のエッチング方法では、前記エッチング工程において、前記エッチング液を振動させてもよい。これにより、ガラス板の表面に対するエッチング液の相対的な流動を促進させることができる。 In the method for etching a glass plate according to the present invention, the etching solution may be vibrated in the etching step. This makes it possible to promote the relative flow of the etching solution with respect to the surface of the glass plate.
また、前記エッチング工程において、複数の前記ガラス板を支持するホルダを前記エッチング液に浸漬してもよい。これにより、多数のガラス板に対して効率良くエッチング処理を施すことができる。 Further, in the etching step, holders supporting the plurality of glass plates may be immersed in the etching solution. As a result, a large number of glass plates can be efficiently etched.
また、前記エッチング工程において、前記エッチング液に浸漬される前記ホルダを振動させてもよい。これにより、ガラス板の表面に対するエッチング液の相対的な流動を促進させることができる。 Further, in the etching step, the holder immersed in the etching solution may be vibrated. This makes it possible to promote the relative flow of the etching solution with respect to the surface of the glass plate.
本発明によれば、ガラス板に割れを発生させることなく当該ガラス板の厚みを薄くすることができる。 According to the present invention, the thickness of the glass plate can be reduced without causing cracks in the glass plate.
以下、本発明を実施するための形態について、図面を参照しながら説明する。図1乃至図7は、本発明に係るガラス板のエッチング方法の一実施形態を示す。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings. 1 to 7 show an embodiment of a glass plate etching method according to the present invention.
図1及び図2に示すように、本方法に使用されるエッチング処理装置1は、ガラス板Gを保持するホルダ2と、エッチング液Eを収容するエッチング槽3と、振動発生装置4とを備える。また、エッチング処理装置1は、エッチング槽3にエッチング液Eを供給する供給装置と、エッチング液Eの温度を調整する温度調節装置とを備える。
As shown in FIGS. 1 and 2, the
ガラス板Gは、四角形状に構成されるが、この形状に限定されない。ガラス板Gは、表裏二面からなる主表面(以下、単に「表面」という)MSと、表面MS同士を繋ぐ端面ESとを有する。端面ESは、四角形状のガラス板Gの各辺において、表面MSとほぼ直交するように形成される。 The glass plate G is formed in a quadrangular shape, but is not limited to this shape. The glass plate G has a main surface (hereinafter, simply referred to as “surface”) MS composed of two front and back surfaces, and an end surface ES that connects the surface MSs to each other. The end face ES is formed so as to be substantially orthogonal to the surface MS on each side of the rectangular glass plate G.
本実施形態では、赤外線吸収機能に優れるリン酸塩系のガラス板Gにエッチング処理を施す例を示す。 In this embodiment, an example of etching a phosphate-based glass plate G having an excellent infrared absorbing function is shown.
エッチング処理後のガラス板Gの厚みは、0.2mm以下であり、好ましくは0.19mm以下であり、より好ましくは、0.15mm以下、さらに好ましくは0.12mm以下である。ガラス板Gは、例えば固体撮像素子デバイスの赤外線カットフィルタとして使用される。ガラス板Gは、厚みが0.2mm以下と薄いため、固体撮像素子デバイスの小型化に大きく寄与し得る。なお、厚みが薄すぎると、搬送工程でガラス板Gを持ち上げる際に割れが生じ易くなる場合がある。このため、ガラス板Gの厚みは、0.05mm以上であることが好ましく、0.08mm以上であることがより好ましい。 The thickness of the glass plate G after the etching treatment is 0.2 mm or less, preferably 0.19 mm or less, more preferably 0.15 mm or less, still more preferably 0.12 mm or less. The glass plate G is used, for example, as an infrared cut filter for a solid-state image sensor device. Since the glass plate G has a thin thickness of 0.2 mm or less, it can greatly contribute to the miniaturization of the solid-state image sensor device. If the thickness is too thin, cracks may easily occur when the glass plate G is lifted in the transport process. Therefore, the thickness of the glass plate G is preferably 0.05 mm or more, and more preferably 0.08 mm or more.
ガラス板Gにおける各表面MSの面積は、100mm2以上25000mm2以下とすることができる。各表面MSの面積の好ましい範囲は、400mm2以上25000mm2以下、より好ましくは1000mm2以上25000mm2以下、さらに好ましくは2500mm2以上25000mm2以下、特に好ましくは5000mm2以上25000mm2以下である。 The area of each surface MS in the glass sheet G may be a 100 mm 2 or more 25000 mm 2 or less. The preferred range of the area of each surface MS is, 400 mm 2 or more 25000 mm 2 or less, more preferably 1000 mm 2 or more 25000 mm 2 or less, more preferably 2500 mm 2 or more 25000 mm 2 or less, particularly preferably 5000 mm 2 or more 25000 mm 2 or less.
以下、赤外線吸収機能を有するガラス板Gの特徴について、詳細に説明する。ガラス板Gに用いられるリン酸塩系ガラスは、F(フッ素)を実質的に含んでいないことが望ましい。ここで、「実質的に含んでいない」とは、質量%で0.1%以下のフッ素を含んでいてもよいことを意味している。 Hereinafter, the characteristics of the glass plate G having an infrared absorbing function will be described in detail. It is desirable that the phosphate-based glass used for the glass plate G does not substantially contain F (fluorine). Here, "substantially free" means that fluorine may be contained in an amount of 0.1% or less in mass%.
このようなリン酸塩系ガラスとしては、例えば、質量%で、P2O5 25〜60%、Al2O3 2〜19%、RO(ただしRは、Mg、Ca、Sr及びBaから選択される少なくとも一種) 5〜45%、ZnO 0〜13%、K2O 8〜20%、Na2O 0〜12%、及びCuO 0.3〜20%を含有し、フッ素を実質的に含んでいない、ガラスを用いることができる。
Examples of such phosphate-based glass include P 2 O 5 25 to 60%, Al 2
P2O5は、ガラス骨格を形成する成分である。P2O5の含有量は、質量%で、好ましくは25〜60%であり、より好ましくは30〜55%であり、さらに好ましくは40〜50%である。P2O5の含有量が少なすぎると、ガラス化が不安定になる場合がある。一方、P2O5の含有量が多すぎると、耐候性が低下し易くなることがある。 P 2 O 5 is a component that forms a glass skeleton. The content of P 2 O 5 is mass%, preferably 25 to 60%, more preferably 30 to 55%, still more preferably 40 to 50%. If the content of P 2 O 5 is too small, vitrification may become unstable. On the other hand, if the content of P 2 O 5 is too large, the weather resistance may be easily lowered.
Al2O3は、耐候性をより一層向上させる成分である。A12O3の含有量は、質量%で、好ましくは2〜19%であり、より好ましくは2〜15%であり、さらに好ましくは2.8〜14.5%であり、特に好ましくは3.5〜14.0%である。Al2O3の含有量が少なすぎると、耐候性が十分でないことがある。一方、Al2O3の含有量が多すぎると、溶融性が低下して溶融温度が上昇する場合がある。なお、溶融温度が上昇すると、Cuイオンが還元されてCu2+からCu+にシフトし易くなるため、所望の光学特性が得られ難くなる場合がある。具体的には、近紫外〜可視域における光透過率が低下したり、赤外線吸収特性が低下し易くなったりすることがある。 Al 2 O 3 is a component that further improves weather resistance. The content of A1 2 O 3 is mass%, preferably 2 to 19%, more preferably 2 to 15%, still more preferably 2.8 to 14.5%, and particularly preferably 3 It is .5 to 14.0%. If the content of Al 2 O 3 is too low, the weather resistance may not be sufficient. On the other hand, if the content of Al 2 O 3 is too large, the meltability may decrease and the melting temperature may rise. When the melting temperature rises, Cu ions are reduced and it becomes easy to shift from Cu 2+ to Cu + , so that it may be difficult to obtain desired optical characteristics. Specifically, the light transmittance in the near-ultraviolet to visible region may decrease, or the infrared absorption characteristic may easily decrease.
RO(ただしRは、Mg、Ca、Sr及びBaから選択される少なくとも一種)は、耐候性を改善するとともに、溶融性を向上させる成分である。ROの含有量は、質量%で、好ましくは5〜45%であり、より好ましくは7〜40%であり、さらに好ましくは10〜35%である。ROの含有量が少なすぎると、耐候性及び溶融性が十分でない場合がある。一方、ROの含有量が多すぎると、ガラスの安定性が低下し易く、RO成分起因の結晶が析出し易くなることがある。 RO (where R is at least one selected from Mg, Ca, Sr and Ba) is a component that improves weather resistance and meltability. The content of RO is mass%, preferably 5 to 45%, more preferably 7 to 40%, and even more preferably 10 to 35%. If the RO content is too low, the weather resistance and meltability may not be sufficient. On the other hand, if the content of RO is too large, the stability of the glass tends to decrease, and crystals due to the RO component may easily precipitate.
なお、ROの各成分の含有量の好ましい範囲は以下の通りである。 The preferable range of the content of each component of RO is as follows.
MgOは、耐候性を改善させる成分である。MgOの含有量は、質量%で、好ましくは0〜15%であり、より好ましくは0〜7%である。MgOの含有量が多すぎると、ガラスの安定性が低下し易くなることがある。 MgO is a component that improves weather resistance. The content of MgO is mass%, preferably 0 to 15%, and more preferably 0 to 7%. If the MgO content is too high, the stability of the glass may easily decrease.
CaOは、MgOと同様に耐候性を改善させる成分である。CaOの含有量は、質量%で、好ましくは0〜15%であり、より好ましくは0〜7%である。CaOの含有量が多すぎると、ガラスの安定性が低下し易くなることがある。 CaO is a component that improves weather resistance like MgO. The CaO content is mass%, preferably 0 to 15%, more preferably 0 to 7%. If the CaO content is too high, the stability of the glass may easily decrease.
SrOは、MgOと同様に耐候性を改善させる成分である。SrOの含有量は、質量%で、好ましくは0〜12%であり、より好ましくは0〜5%である。SrOの含有量が多すぎると、ガラスの安定性が低下し易くなることがある。 SrO is a component that improves weather resistance like MgO. The content of SrO is mass%, preferably 0 to 12%, and more preferably 0 to 5%. If the content of SrO is too high, the stability of the glass may easily decrease.
BaOは、ガラスを安定化するとともに、耐候性を向上させる成分である。BaOの含有量は、質量%で、好ましくは1〜30%であり、より好ましくは2〜27%であり、さらに好ましくは3〜25%である。BaOの含有量が少なすぎると、十分にガラスを安定化できなかったり、十分に耐候性を向上できなかったりする場合がある。一方、BaOの含有量が多すぎると、成形中にBaO起因の結晶が析出し易くなることがある。 BaO is a component that stabilizes glass and improves weather resistance. The content of BaO is mass%, preferably 1 to 30%, more preferably 2 to 27%, still more preferably 3 to 25%. If the content of BaO is too small, the glass may not be sufficiently stabilized or the weather resistance may not be sufficiently improved. On the other hand, if the content of BaO is too large, crystals derived from BaO may easily precipitate during molding.
ZnOは、ガラスの安定性及び耐候性を改善させる成分である。ZnOの含有量は、質量%で、好ましくは0〜13%であり、より好ましくは0〜12%であり、さらに好ましくは0〜10%である。ZnOの含有量が多すぎると、溶融性が低下して溶融温度が高くなり、結果として所望の光学特性が得られ難くなる場合がある。また、ガラスの安定性が低下し、ZnO成分起因の結晶が析出し易くなる場合がある。 ZnO is a component that improves the stability and weather resistance of glass. The content of ZnO is mass%, preferably 0 to 13%, more preferably 0 to 12%, and even more preferably 0 to 10%. If the content of ZnO is too large, the meltability is lowered and the melting temperature is raised, and as a result, it may be difficult to obtain desired optical characteristics. In addition, the stability of the glass may decrease, and crystals due to the ZnO component may easily precipitate.
以上のように、RO及びZnOはガラスの安定化を改善する効果があり、特にP2O5が少ない場合に、その効果を享受し易い。 As described above, RO and ZnO have an effect of improving the stabilization of glass, and it is easy to enjoy the effect especially when P 2 O 5 is small.
なお、ROに対するP2O5の含有量の比(P2O5/RO)は、好ましくは1.0〜1.9であり、より好ましくは、1.2〜1.8である。比(P2O5/RO)が小さすぎると、液相温度が高くなってRO起因の失透が析出し易くなる場合がある。一方、P2O5/ROが大きすぎると、耐候性が低下し易くなる場合がある。 The ratio of the content of P 2 O 5 with respect to RO (P 2 O 5 / RO) is preferably 1.0 to 1.9, more preferably 1.2 to 1.8. If the ratio (P 2 O 5 / RO) is too small, the liquidus temperature may rise and devitrification due to RO may easily precipitate. On the other hand, if P 2 O 5 / RO is too large, the weather resistance may easily decrease.
K2Oは、溶融温度を低下させる成分である。K2Oの含有量は、質量%で、好ましくは8〜20%であり、より好ましくは12.5〜19.5%である。K2Oの含有量が少なすぎると、溶融温度が高くなって所望の光学特性が得られ難くなることがある。一方、K2Oの含有量が多すぎると、K2O起因の結晶が成形中に析出し易くなり、ガラス化が不安定になることがある。 K 2 O is a component that lowers the melting temperature. The K 2 O content, in mass%, preferably 8 to 20%, more preferably 12.5 to 19.5%. If the content of K 2 O is too small, the melting temperature may become high and it may be difficult to obtain desired optical characteristics. On the other hand, if the content of K 2 O is too large, crystals derived from K 2 O are likely to precipitate during molding, and vitrification may become unstable.
Na2Oも、K2Oと同様に溶融温度を低下させる成分である。Na2Oの含有量は、質量%で、好ましくは0〜12%であり、より好ましくは0〜7%である。Na2Oの含有量が多すぎると、ガラス化が不安定になることがある。 Like K 2 O, Na 2 O is also a component that lowers the melting temperature. The content of Na 2 O is mass%, preferably 0 to 12%, and more preferably 0 to 7%. If the Na 2 O content is too high, vitrification may become unstable.
CuOは、近赤外線を吸収するための成分である。CuOの含有量は、質量%で、好ましくは0.3〜20%であり、より好ましくは0.3〜15%であり、さらに好ましくは0.4〜13%である。CuOの含有量が少なすぎると、所望の近赤外線吸収特性が得られない場合がある。一方、CuOの含有量が多すぎると、紫外〜可視域の光透過性が低下し易くなることがある。また、ガラス化が不安定になる場合がある。なお、所望の光学特性を得るためのCuOの含有量は、板厚によって適宜調整することが好ましい。 CuO is a component for absorbing near infrared rays. The content of CuO is mass%, preferably 0.3 to 20%, more preferably 0.3 to 15%, and even more preferably 0.4 to 13%. If the CuO content is too low, the desired near-infrared absorption characteristics may not be obtained. On the other hand, if the content of CuO is too large, the light transmittance in the ultraviolet to visible region may be easily lowered. In addition, vitrification may become unstable. The CuO content for obtaining desired optical characteristics is preferably adjusted appropriately depending on the plate thickness.
また、上記成分以外にも、B2O3、Nb2O5、Y2O3、La2O3、Ta2O5、CeO2又はSb2O3等を本発明の効果を損なわない範囲で含有させてもよい。具体的には、これらの成分の含有量は、それぞれ、質量%で、好ましくは0〜3%であり、より好ましくは0〜2%である。 In addition to the above components, B 2 O 3 , Nb 2 O 5 , Y 2 O 3 , La 2 O 3 , Ta 2 O 5 , CeO 2 or Sb 2 O 3 and the like are within the range that does not impair the effects of the present invention. It may be contained in. Specifically, the content of each of these components is mass%, preferably 0 to 3%, and more preferably 0 to 2%.
また、ガラスは、組成としてカチオン%表示で、P5+ 5〜50%、Al3+ 2〜30%、R’+(R’は、Li、Na及びKから選択される少なくとも一種) 10〜50%、及び、R2+(R2+は、Mg2+、Ca2+、Sr2+、Ba2+及びZn2+から選択される少なくとも一種) 20〜50%、Cu2+ 0.5〜15%かつ、アニオン%表示で、F− 5〜80%、及び、O2− 20〜95%を含有する。 In addition, glass is represented by cation% as a composition, P 5+ 5-50%, Al 3+ 2-30%, R' + (R'is at least one selected from Li, Na and K) 10-50%. , And R 2+ (R 2+ is at least one selected from Mg 2+ , Ca 2+ , Sr 2+ , Ba 2+ and Zn 2+ ) 20 to 50%, Cu 2+ 0.5 to 15% and anion% display , F - 5 to 80%, and contains O 2-20 to 95%.
上記組成に加えさらに、アニオン%表示で、F− 5〜80%を含有する組成としても良い。 In addition to the above composition, the composition may further contain F- 5 to 80% in terms of anion%.
より好ましくは、組成としてカチオン%表示で、P5+ 40〜50%、Al3+ 7〜12%、K+ 15〜25%、Mg2+ 3〜12%、Ca2+ 3〜6%、Ba2+ 7〜12%、Cu2+ 1〜15%かつ、アニオン%表示で、F− 5〜80%、及び、O2− 20〜95%を含有するリン酸塩ガラスを用いることができる。
More preferably, the composition is expressed as cation%, P 5+ 40 to 50%,
好ましい他の組成のガラスとしては、カチオン%表示で、P5+ 20〜35%、Al3+ 10〜20%、Li+ 20〜30%、Na+ 0〜10%、Mg2+ 1〜8%、Ca2+ 3〜13%、Sr2+ 2〜12%、Ba2+ 2〜8%、Zn2+ 0〜5%、Cu2+ 0.5〜5%かつ、アニオン%表示で、F− 30〜65%、及び、O2− 35〜75%を含有するフツリン酸ガラスを用いることができる。
Glasses of other preferred compositions include P 5+ 20-35%, Al 3+ 10-20%, Li + 20-30%, Na + 0-10%, Mg 2+ 1-8%, Ca in% cation. 2+ 3 to 13%,
好ましい他の組成のガラスとしては、カチオン%表示で、P5+ 35〜45%、Al3+ 8〜12%、Li+ 20〜30%、Mg2+ 1〜5%、Ca2+ 3〜6%、Ba2+ 4〜8%、Cu2+ 1〜6%かつ、アニオン%表示で、F− 10〜20%、及び、O2− 75〜95%を含有するフツリン酸ガラスを用いることができる。
Glasses of other preferred compositions include P 5+ 35-45%, Al 3+ 8-12%, Li + 20-30%, Mg 2+ 1-5%, Ca 2+ 3-6%, Ba in% cation. 2+ 4 to 8%,
好ましい他の組成のガラスとしては、カチオン%表示で、P5+ 30〜45%、Al3+ 15〜25%、Li+ 1〜5%、Na+ 7〜13%、K+ 0.1〜5%、Mg2+ 1〜8%、Ca2+ 3〜13%、Ba2+ 6〜12%、Zn2+ 0〜7%、Cu2+ 1〜5%かつ、アニオン%表示で、F− 30〜45%、及び、O2− 50〜70%を含有するフツリン酸ガラスを用いることができる。 Glasses of other preferred compositions include P 5+ 30-45%, Al 3+ 15-25%, Li + 1-5%, Na + 7-13%, K + 0.1-5% in% cation. , Mg 2+ 1-8%, Ca 2+ 3-13%, Ba 2+ 6-12%, Zn 2+ 0-7%, Cu 2+ 1-5%, and F - 30-45% in anion% display, and , it can be used fluorophosphate glass containing O 2-50-70%.
ガラス板Gを上記組成とすることにより、可視域におけるより一層高い光透過率と赤外域におけるより一層優れた光吸収特性の両者を達成することが可能となる。具体的には、波長400nmにおける光透過率は、好ましくは50%以上、より好ましくは60%以上であり、波長500nmにおける光透過率は、好ましくは83%以上、より好ましくは85%以上である。一方、波長700nmにおける光透過率は、好ましくは40%以下、より好ましくは30%以下であり、波長800nmにおける光透過率は、好ましくは20%以下、より好ましくは15%以下である。 By making the glass plate G have the above composition, it is possible to achieve both a higher light transmittance in the visible region and an even better light absorption characteristic in the infrared region. Specifically, the light transmittance at a wavelength of 400 nm is preferably 50% or more, more preferably 60% or more, and the light transmittance at a wavelength of 500 nm is preferably 83% or more, more preferably 85% or more. .. On the other hand, the light transmittance at a wavelength of 700 nm is preferably 40% or less, more preferably 30% or less, and the light transmittance at a wavelength of 800 nm is preferably 20% or less, more preferably 15% or less.
上記の組成のガラス板Gは、例えば、鋳込み法、ロールアウト法、ダウンドロー法、又はリドロー法等の成形方法によって板状に成形される。 The glass plate G having the above composition is formed into a plate shape by, for example, a molding method such as a casting method, a rollout method, a downdraw method, or a redraw method.
以下、エッチング処理装置1の詳細な構成について説明する。図1乃至図5に示すように、ホルダ2は、複数のガラス板Gを所定の間隔をおいて保持するように構成される。ホルダ2は、エッチング液Eに対する耐食性に優れた金属(例えばステンレス鋼)により構成されるが、この材質に限定されるものではない。ホルダ2は、昇降装置及び移動機構(図示せず)を介して上下方向及び水平方向に移動可能に構成される。ホルダ2は、複数のガラス板Gを保持した状態で、エッチング槽3に収容されたエッチング液Eに浸漬される。ホルダ2は、エッチング液Eに浸漬された状態で、その自転により各ガラス板Gを回転させる。
Hereinafter, the detailed configuration of the
図3乃至図5に示すように、ホルダ2は、一対のベース部材5と、当該一対のベース部材5を繋ぐ連結部材6と、ガラス板Gを保持する保持部7,8と、保持部7を固定するロック部9と、当該ホルダ2を回転(自転)させる軸部10と、を備える。
As shown in FIGS. 3 to 5, the
一対のベース部材5は、長方形状の板部材により構成される。各ベース部材5は、連結部材6を介して、所定の間隔をおいて互いに対向するように配置される。以下、各ベース部材5において、互いに向き合う面を内面5aといい、内面5aとは反対側の面を外面5bという。
The pair of
連結部材6は、断面視円形の棒状部材であるが、この形状に限定されるものではない。本実施形態では、複数の連結部材6によって一対のベース部材5が連結される。
The connecting
保持部7,8は、四角形状のガラス板Gにおいて対向する二辺(平行な二辺)を保持する第一保持部7と、他の二辺(平行な二辺)を保持する第二保持部8とを含む。
The holding
ベース部材5には、複数(図例では四個)の第一保持部7が設けられる。第一保持部7は、ベース部材5に回動自在に支持される。各第一保持部7は、一対の基板11と、基板11同士を繋ぐ連結部材12a,12bと、ガラス板Gの位置決めを行う第一固定部13とを備える。
The
基板11は、ベース部材5の外面5b側に配置される。図3に示すように、基板11は、長尺状に構成される第一の部分11aと、この第一の部分11aの一端部から、直角に突出する第二の部分11bとを備える。
The
第一の部分11aは、ロック部9の一部が係合する開口部11cを有する。開口部11cは、四角形状に構成されるが、この形状に限定されない。
The
第二の部分11bは、その一端部が第一の部分11aと一体に構成され、他端部がベース部材5に固定される。詳細には、第二の部分11bは、支持軸14を介してベース部材5に回動自在に支持される。これにより、第一保持部7は、図3に示すように、実線で示す第一の姿勢と、二点鎖線で示す第二の姿勢とに姿勢変更可能に構成される。第一の姿勢は、ガラス板Gを保持可能な姿勢(保持姿勢)であり、第二の姿勢は、ガラス板Gの保持を解除するとともに、ホルダ2の内側の空間(一対のベース部材5における内面5a間の空間)に対してガラス板Gを出し入れすることを可能にする姿勢(退避姿勢)である。
One end of the
図3に示すように、支持軸14は、第一保持部7を所定の方向に付勢する付勢部材15を支持する。付勢部材15は、ねじりコイルばねにより構成されるが、これに限定されるものではない。付勢部材15は、一端部が第一保持部7の連結部材12bに固定され、他端部が第二保持部8の一部(後述する連結部材17)に固定されている。付勢部材15は、第一の部分11aがベース部材5から離れるように、第一保持部7を付勢する。すなわち、付勢部材15は、第一保持部7が第一の姿勢(保持姿勢)から第二の姿勢(退避姿勢)に向かうように、当該第一保持部7を付勢する。
As shown in FIG. 3, the
連結部材12a,12bは、断面視円形の棒状部材により構成されるが、この形状に限定されない。連結部材12a,12bは、一対の基板11に係る第一の部分11a同士を連結する。本実施形態では二本の連結部材12a,12bによって基板11同士が連結されるが、連結部材12a,12bの数はこれに限定されない。連結部材12a,12bは、第一の部分11aの一端部同士を連結する第一連結部材12aと、他端部(第二の部分11b側の端部)同士を連結する第二連結部材12bとを含む。
The connecting
第一固定部13は、第一連結部材12aに設けられる。第一固定部13は、合成樹脂により構成されるが、この材質に限定されない。第一固定部13は、第一連結部材12aの長手方向に沿う長尺状の板部材として構成される。図4に示すように、第一固定部13は、ガラス板Gの一辺に接触可能な複数の凹部16を有する。各凹部16は、ホルダ2の長手方向に沿って一定の間隔(ピッチ)で形成される。
The
図4及び図5に示すように、第二保持部8は、一対のベース部材5の間に設けられる。第二保持部8は、一対のベース部材5を繋ぐ一対の連結部材17と、ガラス板Gの位置決めを行う第二固定部18と、を備える。
As shown in FIGS. 4 and 5, the
一対の連結部材17は、軸部10の中心を通る軸線Oに対して線対称となるように配置される(図5参照)。第二固定部18は、合成樹脂により板状に構成されるが、この材質に限定されない。第二固定部18は、各連結部材17に固定される。一方の連結部材17に固定される第二固定部18と、他方の連結部材17に固定される第二固定部18とは、互いに対向するように配置される(図5参照)。
The pair of connecting
図5に示すように、第二固定部18は、ガラス板Gの端部に接触する複数の凹部19を有する。凹部19は、第一固定部13の凹部16と同じ構成を有する。すなわち、複数の凹部19は、ホルダ2の長手方向に沿って一定の間隔(ピッチ)で形成されており、この間隔は、第一固定部13における凹部16の間隔と等しい。
As shown in FIG. 5, the second fixing
図6に示すように、ロック部9は、ロック部材20と、このロック部材20を回動自在に支持する支持部材21とを有する。
As shown in FIG. 6, the
ロック部材20は、棒状部材により構成されるが、この形状に限定されない。ロック部材20は、一端部がベース部材5の一辺から突出し、他端部がベース部材5の外面5bと重なるように配置される。ロック部材20は、第一保持部7を固定する姿勢(固定姿勢、図6において実線で示す)と、第一保持部7の固定を解除するように固定姿勢から退避する姿勢(退避姿勢、図6において二点鎖線で示す)とに姿勢変更可能に構成される。ロック部材20は、付勢部材21bによって、退避姿勢から固定姿勢に向かう方向に付勢されている。したがって、ロック部材20は、第一保持部7を保持していない状態であっても、固定姿勢を維持するように構成される。
The
ロック部材20は、第一保持部7を退避姿勢から固定姿勢へと姿勢変更する場合に当該第一保持部7の第一の部分11aに接触する傾斜面22と、第一の部分11aの開口部11cに挿入されて当該第一の部分11aを係止する係止面23と、支持部材21の一部が挿入される孔24とを備える。
The
傾斜面22は、第一保持部7を固定する場合に、ロック部材20を固定姿勢から退避姿勢へと姿勢変更させるための案内面である。傾斜面22は、係止面23と繋がっている。係止面23は、傾斜面22に対して所定の角度を為すように構成される面である。この構成により、係止面23と傾斜面22との間には、突起部25が形成される。
The
ロック部材20に形成される孔24は、ベース部材5の厚さ方向に直交する方向において、当該支持部材21を貫通するように形成される円形の孔である。
The
支持部材21は、ベース部材5の外面5bに固定される。支持部材21は、ロック部材20を支持する軸部21aを有する。軸部21aは、ロック部材20の孔24に挿通されている。軸部21aは、ロック部材20を付勢する付勢部材21bを支持する。付勢部材21bは、ねじりコイルばねにより構成されるが、これに限定されるものではない。付勢部材21bは、その一端部がロック部材20に接触し、その他端部がベース部材5の外面5bに接触している。付勢部材21bは、ロック部材20を退避姿勢から固定姿勢へと向かう方向に付勢する。
The
ホルダ2を回転させるための軸部10は、一対のベース部材5に固定される。一対の軸部10は、各ベース部材5の外面5bから突出するように設けられる。各軸部10は、電動モータその他の駆動源に接続される。駆動源によって軸部10が回転することで、ホルダ2は、当該軸部10まわりに回転(自転)する。
The
エッチング槽3は、ホルダ2をエッチング液Eに浸漬したときに、当該ホルダ2及び軸部10と接触しない程度の容積を有する。エッチング槽3に収容されるエッチング液Eは、処理対象のガラス板Gが上述のようなリン酸塩系ガラスである場合には、例えばアルカリ洗剤により構成される。アルカリ洗剤としては、特に限定されないが、例えば、Na、Kなどのアルカリ成分や、トリエタノールアミン、ベンジルアルコール又はグリコール等の界面活性剤や、水又はアルコール等を含有する洗剤を使用できる。
The
アルカリ洗剤に含まれるアルカリ成分として、アミノポリカルボン酸などのキレート剤のアルカリ塩が含まれることが好ましい。アミノポリカルボン酸のアルカリ塩としては、ジエチレントリアミン五酢酸、エチレンジアミン四酢酸、トリエチレンテトラアミン六酢酸、ニトリロ三酢酸などのナトリウム塩及びカリウム塩が挙げられる。これらの中でも、ジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウム、エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム、トリエチレンテトラアミン六酢酸六ナトリウム、ニトリロ三酢酸三ナトリウムが好ましく使用され、特にジエチレントリアミン五酢酸五ナトリウムが好ましく使用される。 As the alkaline component contained in the alkaline detergent, it is preferable that an alkaline salt of a chelating agent such as aminopolycarboxylic acid is contained. Examples of the alkaline salt of the aminopolycarboxylic acid include sodium salts and potassium salts such as diethylenetriaminetetraacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, triethylenetetraaminehexacetic acid and nitrilotriacetic acid. Among these, diethylenetriamine pentaacetic acid pentasodium, ethylenediaminetetraacetate tetrasodium, triethylenetetraamine hexaacetic acid hexasodium, and nitrilotriacetic acid trisodium are preferably used, and diethylenetriaminepentaacetic acid pentasodium is particularly preferably used.
エッチング液Eにおけるアルカリ塩の濃度は、アルカリ塩換算で、質量%で5%以上とされることが好ましく、より好ましくは、8%以上18%以下である。エッチング液Eの残部は、水であることが望ましいが、これに限らず、他の成分が含まれても良い。エッチング液Eは、強酸、強アルカリとならないことが望ましい。エッチング液EのpHは、好ましくは7.1以上、より好ましくは8.0以上11.0以下である。 The concentration of the alkali salt in the etching solution E is preferably 5% or more in terms of mass%, more preferably 8% or more and 18% or less in terms of alkali salt. The balance of the etching solution E is preferably water, but the present invention is not limited to this, and other components may be contained. It is desirable that the etching solution E does not become a strong acid or a strong alkali. The pH of the etching solution E is preferably 7.1 or more, more preferably 8.0 or more and 11.0 or less.
振動発生装置4は、超音波発生装置により構成されるが、この構成に限定されるものではない。振動発生装置4は、エッチング槽3の外面に固定されているが、この態様に限定されず、ホルダ2に固定されてもよい。振動発生装置4は、エッチング槽3の外面に固定される場合には、エッチング槽3内のエッチング液Eに超音波振動を生じさせる。振動発生装置4は、ホルダ2に固定される場合には、当該ホルダ2に振動を生じさせる。ホルダ2は、その振動により、保持している複数のガラス板Gを振動させる。
The
以下、上記構成のエッチング処理装置1によって、ガラス板Gをエッチング処理する方法(エッチング方法)について説明する。
Hereinafter, a method (etching method) of etching the glass plate G by the
本方法は、図7に示すように、ガラス板Gをホルダ2内に収容する準備工程S1と、ガラス板Gを保持するホルダ2をエッチング槽3内のエッチング液Eに浸漬してエッチング処理を行うエッチング工程S2と、エッチング処理されたガラス板Gを洗浄する洗浄工程S3と、を主に備える。
In this method, as shown in FIG. 7, the preparatory step S1 for accommodating the glass plate G in the
準備工程S1では、図3に示すように、近接する二個(一対)の第一保持部7を二点鎖線で示す第二の姿勢に設定し、残りの二個の第一保持部7を第一の姿勢に設定する。このように、一部の第一保持部7が第二の姿勢となることで、ホルダ2は、その内部(一対のベース部材5の内面5a間の空間)にガラス板Gを収容することが可能な状態となる。
In the preparation step S1, as shown in FIG. 3, two adjacent
次に、ホルダ2内にエッチング処理の対象となるガラス板Gを収容する。ガラス板Gをホルダ2に収容するには、四角形状のガラス板Gの一辺を、第一の姿勢となっている二個の第一保持部7に支持させるとともに、当該一辺に直交する二辺を一対の第二保持部8に支持させる。より具体的には、第一の姿勢にある第一保持部7における第一固定部13の凹部16と、一対の第二保持部8における第二固定部18の凹部19とによって、ガラス板Gの三辺を支持する。所定数のガラス板Gがホルダ2に収容されると、第二の姿勢とされていた二個の第一保持部7が第一の姿勢に変更される。このとき、ロック部9のロック部材20は、突起部25が第一保持部7の開口部11cに係合することで、当該第一保持部7を第一の姿勢(保持姿勢)に固定する。
Next, the glass plate G to be etched is housed in the
上記のように第一保持部7が第一の姿勢に設定されると、当該第一保持部7における第一固定部13の凹部16に、ガラス板Gの残りの一辺が接触する。以上により、四角形状のガラス板Gの全ての辺が、第一保持部7に係る四個の第一固定部13及び第二保持部8に係る二個の第二固定部18によって支持される。この場合、各ガラス板Gは、ホルダ2における一対の軸部10を結ぶ軸線Oに対してほぼ直交する方向に沿う直立姿勢となって、当該ホルダ2に保持される。これにより、複数のガラス板Gは、一定の間隔でホルダ2に支持される。以上により準備工程S1が終了し、次のエッチング工程S2が実行される。なお、ガラス板Gは、エッチング工程S2前において、0.2mmよりも大きな厚み寸法を有する。ガラス板Gの厚み寸法は、このエッチング工程S2を経て、0.2mm以下となる。
When the
図2に示すように、エッチング工程S2では、ホルダ2をエッチング槽3内のエッチング液Eに浸漬する。この場合において、ガラス板Gの全体がエッチング液Eに浸漬されるように、ホルダ2全体をエッチング液Eに浸漬させることが望ましい。エッチング工程S2におけるエッチング液Eの温度は、温度調節装置により、10℃以上25℃以下とされ、好ましくは15℃以上25℃以下とされる。また、エッチング液Eの温度は、10℃以上19℃未満とされてもよい。
As shown in FIG. 2, in the etching step S2, the
その後、エッチング処理装置1は、振動発生装置4を始動させ、エッチング槽3内のエッチング液Eに超音波振動を生じさせる。あるいは、エッチング処理装置1は、振動発生装置4がホルダ2に固定されている場合には、当該振動発生装置4の始動によってホルダ2に振動を生じさせる。
After that, the
さらにエッチング処理装置1は、軸部10を駆動することにより、ホルダ2を回転させる。これにより、ガラス板Gはホルダ2とともに回転する。このとき、ガラス板Gは、その表面MSに直交する軸線(一対の軸部10を結ぶ軸線O)まわりに回転する。これにより、エッチング液Eは、ガラス板Gの表面MSに沿って、当該表面MSに対して相対的に流動することになる。
Further, the
なお、エッチング液Eをガラス板Gの表面MSに対して相対的に流動させる速度は、10m/sec以下であることが好ましく、より好ましくは、5m/sec以下、さらに好ましくは3m/sec以下である。 The speed at which the etching solution E is allowed to flow relative to the surface MS of the glass plate G is preferably 10 m / sec or less, more preferably 5 m / sec or less, and further preferably 3 m / sec or less. is there.
ガラス板Gの回転速度は、10rpm以下とされることが望ましいが、この範囲に限定されず、ガラス板Gの大きさや板厚、処理枚数等の各種条件に応じて適宜調整される。本実施形態では、ガラス板Gは、例えば一時間当たり一回転(約0.017rpm、360°/h)の速度で回転駆動される。ガラス板Gの回転は連続的に行われてもよく、間欠的に行われてもよい。 The rotation speed of the glass plate G is preferably 10 rpm or less, but is not limited to this range, and is appropriately adjusted according to various conditions such as the size and thickness of the glass plate G and the number of processed sheets. In the present embodiment, the glass plate G is rotationally driven, for example, at a speed of one rotation (about 0.017 rpm, 360 ° / h) per hour. The rotation of the glass plate G may be performed continuously or intermittently.
なお、エッチング工程S2における、ガラス板Gのエッチングレートは、1μm/h以上100μ/h以下に設定されることが望ましい。 The etching rate of the glass plate G in the etching step S2 is preferably set to 1 μm / h or more and 100 μ / h or less.
所定時間が経過し、十分なエッチング処理が行われると、エッチング工程S2が終了し、次の洗浄工程S3が実行される。 When the predetermined time elapses and sufficient etching treatment is performed, the etching step S2 is completed and the next cleaning step S3 is executed.
洗浄工程S3では、ホルダ2は、エッチング槽3から取り出され、別途用意される洗浄槽に移動する。洗浄槽では、洗浄液(例えば純水)を、ノズルを通じてホルダ2に向かって噴射することで、ホルダ2に保持されているガラス板Gを洗浄する。
In the cleaning step S3, the
以上説明した本実施形態に係るエッチング方法によれば、エッチング工程S2中に、ガラス板Gの表面MSに直交する軸線O(軸部10)まわりに当該ガラス板Gを回転させることで、ガラス板Gの表面MSに沿ってエッチング液Eを相対的に流動させることが可能になる。これにより、エッチング液Eを流動させない場合と比較して、ガラス板Gの表面MSに対して均一にエッチング処理を行うことができる。このエッチング処理によって、前工程においてガラス板Gに形成されるマイクロクラック等の欠陥を除去できる。これにより、物理研磨の場合と比較して、ガラス板Gに割れを発生させることなく当該ガラス板Gの厚みを薄くすることが可能になる。 According to the etching method according to the present embodiment described above, the glass plate G is rotated around the axis O (axis portion 10) orthogonal to the surface MS of the glass plate G during the etching step S2. It becomes possible to relatively flow the etching solution E along the surface MS of G. As a result, the surface MS of the glass plate G can be uniformly etched as compared with the case where the etching solution E is not flown. By this etching process, defects such as microcracks formed on the glass plate G in the previous step can be removed. This makes it possible to reduce the thickness of the glass plate G without causing cracks in the glass plate G as compared with the case of physical polishing.
また、エッチング液Eにおけるアルカリ塩の濃度を5%以上とし、10℃以上のエッチング液にガラス板Gを浸漬させることで、従来の研磨では実現し得なかった薄肉のガラス板Gを形成できる。例えば、上述した組成を有するリン酸塩系のガラス板Gは、珪酸塩ガラスに比べ脆く、研磨加工により0.2mm以下に薄肉化することは困難であったが、本発明のエッチング方法によれば、平均厚さを0.2mm以下、好ましくは0.07〜0.15mm程度に薄肉化可能である。 Further, by setting the concentration of the alkali salt in the etching solution E to 5% or more and immersing the glass plate G in the etching solution at 10 ° C. or higher, a thin glass plate G that cannot be realized by conventional polishing can be formed. For example, the phosphate-based glass plate G having the above-mentioned composition is more brittle than silicate glass, and it is difficult to reduce the wall thickness to 0.2 mm or less by polishing, but the etching method of the present invention is used. For example, the average thickness can be reduced to 0.2 mm or less, preferably about 0.07 to 0.15 mm.
また、本発明に係るエッチング方法によれば、エッチング処理後のガラス板Gの偏肉を極めて小さくすることができ、例えば、15μm以下、好ましくは9μm以下、より好ましくは6μm以下とすることができる。また、エッチング処理前後の偏肉の変化量は、15μm以下、好ましくは9μm以下、より好ましくは6μm以下とすることができる。なお、偏肉の値は、ガラス板Gにおける最大肉厚と最小肉厚との差により求めることができる。 Further, according to the etching method according to the present invention, the uneven thickness of the glass plate G after the etching treatment can be made extremely small, for example, 15 μm or less, preferably 9 μm or less, and more preferably 6 μm or less. .. The amount of change in uneven thickness before and after the etching treatment can be 15 μm or less, preferably 9 μm or less, and more preferably 6 μm or less. The value of the uneven thickness can be obtained from the difference between the maximum wall thickness and the minimum wall thickness of the glass plate G.
なお、本発明は、上記実施形態の構成に限定されるものではなく、上記した作用効果に限定されるものでもない。本発明は、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。 The present invention is not limited to the configuration of the above embodiment, and is not limited to the above-mentioned action and effect. The present invention can be modified in various ways without departing from the gist of the present invention.
上記の実施形態に係るエッチング処理装置1では、ホルダ2(ガラス板G)を回転させ、エッチング液Eを当該ガラス板Gの表面MSに対して相対的に流動させることでエッチング処理を行う例を示したが、本発明はこの構成に限定されない。例えば、ホルダ2(ガラス板G)をエッチング液Eに浸漬させた状態で、ガラス板Gの表面MSと平行な方向に沿って直線的に往復移動させることで、エッチング液Eを当該ガラス板Gの表面MSに対して相対的に流動させてもよい。あるいは、ホルダ2をエッチング液E内で停止させた状態で、エッチング液Eを攪拌することで、ガラス板Gの表面MSに対して当該エッチング液Eを相対的に流動させてもよい。
In the
上記の実施形態では、エッチング工程S2において、振動発生装置4によって、エッチング液E又はホルダ2を振動させる例を示したが、本発明はこの構成に限定されるものではない。エッチング工程S2は、振動発生装置4を使用することなく実行されてもよい。
In the above embodiment, an example in which the etching solution E or the
以下、本発明に係る実施例について説明するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。 Hereinafter, examples according to the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.
本発明者は、本発明の効果を確認するための試験を行った。この試験では、上記構成のエッチング装置を使用し、エッチング液の温度、エッチング液におけるアルカリ塩の濃度、及びエッチングレートを異ならせ、複数のリン酸系のガラス板にエッチング処理を施した。エッチング液としては、キレスト株式会社製、キレスト(登録商標)Pの水溶液を使用した。 The present inventor conducted a test for confirming the effect of the present invention. In this test, a plurality of phosphoric acid-based glass plates were subjected to etching treatment by using the etching apparatus having the above configuration and changing the temperature of the etching solution, the concentration of the alkali salt in the etching solution, and the etching rate. As the etching solution, an aqueous solution of Kirest (registered trademark) P manufactured by Kirest Co., Ltd. was used.
また、本発明者は、エッチング処理後の各ガラス板について、割れの有無を確認するとともに偏肉値を測定した。各実施例に係るエッチング処理前のガラス板は、一辺が70mmの正方形であり、厚みが200μmである。この試験では、厚みが100μmとなるように、各ガラス板に対してエッチング処理が行われた。試験結果を表1に示す。
この試験により、本発明を実施することで、実施例1〜4のように、割れを生じることなく偏肉の少ないガラス板を製造できることが確認された。 From this test, it was confirmed that by carrying out the present invention, it is possible to produce a glass plate having less uneven thickness without causing cracks as in Examples 1 to 4.
2 ホルダ
E エッチング液
G ガラス板
MS ガラス板の表面
S2 エッチング工程
2 Holder E Etching liquid G Glass plate MS Glass plate surface S2 Etching process
Claims (8)
前記エッチング液は、アルカリ成分としてキレート剤のアルカリ塩を含み、前記アルカリ塩の濃度は、アルカリ塩換算で、質量%で5%以上とされていることを特徴とする、ガラス板のエッチング方法。 It is equipped with an etching process in which a phosphate-based glass plate is immersed in an etching solution to perform an etching process.
A method for etching a glass plate, wherein the etching solution contains an alkali salt of a chelating agent as an alkaline component, and the concentration of the alkali salt is 5% or more in mass% in terms of alkali salt.
The method for etching a glass plate according to claim 7, wherein in the etching step, the holder immersed in the etching solution is vibrated.
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