JP2021014549A - Thermoplastic resin composition for laser direct structuring and molded article - Google Patents

Thermoplastic resin composition for laser direct structuring and molded article Download PDF

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Abstract

To provide a thermoplastic resin composition for laser direct structuring and a molded article having excellent plating property and low dielectric characteristics.SOLUTION: There is provided a thermoplastic resin composition comprising a cyclic polyolefin (A) and a laser direct structuring additive (B), wherein the cyclic polyolefin (A) is composed of a hydrogenated block copolymer which is a hydrogenation product of a block copolymer containing at least one aromatic vinyl monomer unit and at least one conjugated diene monomer unit, the hydrogenated block copolymer has a hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit which is a hydrogenation product of a polymer block composed of an aromatic vinyl monomer unit and a hydrogenated conjugated diene polymer block unit which is a hydrogenation product of a polymer block composed of a conjugated diene polymer unit and the hydrogenated block copolymer has at least two hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and at least one hydrogenated conjugated diene polymer block unit.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、立体回路形成技術(Laser−Direct−Structuring;以下、「LDS法」と称する場合もある。)による、メッキ性及び低誘電特性に優れるレーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物及び成形体に関する。 The present invention is a thermoplastic resin composition for laser direct structuring and molding, which is excellent in plating property and low dielectric property, by a three-dimensional circuit forming technique (Laser-Direct-Structuring; hereinafter may be referred to as "LDS method"). Regarding the body.

近年実用化されつつある、微細な回路を簡便に形成できるLDS法によるメッキ形成は、電磁線照射により単体金属核を形成しうる金属酸化物を含むポリブチレンテレフタレート等からなる基板材料が好適に用いられている(特許文献1)。
LDS法に用いる基板材料にポリカーボネートを用いた場合には、金属酸化物によりポリカーボネートが分解され、溶融安定性が低下し、加工が困難になるという問題がある。これを解決するため、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン(ABS)等のゴム状重合体を配合することが提案されている(特許文献2)。また、ここには、メッキの堆積量や密着強度を増大させるため、ポリカーボネートに二酸化チタンを配合することが望ましいと記載されている。
For plating formation by the LDS method, which has been put into practical use in recent years and can easily form fine circuits, a substrate material made of polybutylene terephthalate or the like containing a metal oxide capable of forming a single metal nucleus by electromagnetic beam irradiation is preferably used. (Patent Document 1).
When polycarbonate is used as the substrate material used in the LDS method, there is a problem that the polycarbonate is decomposed by the metal oxide, the melt stability is lowered, and the processing becomes difficult. In order to solve this, it has been proposed to blend a rubber-like polymer such as acrylonitrile-butadiene-styrene (ABS) (Patent Document 2). Further, it is described here that it is desirable to add titanium dioxide to polycarbonate in order to increase the amount of plating deposited and the adhesion strength.

特表2004−534408号公報Japanese Patent Publication No. 2004-534408 特表2010−536947号公報Special Table 2010-536947

ところで、通信の高速度化、大容量化は年々進歩している。通信機器の回路やアンテナ、センサー、カバー、コネクタ、ケーシングといった関連部品においては、用いられる材料が有する誘電損失によって通信効率が低下することが知られている。通信効率を低下させないために、上記関連部品に用いられる材料として、低誘電率、特に低誘電損失なる特性が求められる。しかしながら、特許文献1及び2で提案されている材料は、いずれも誘電率が高く、高速通信機器用部品には不向きである。 By the way, the speed and capacity of communication are increasing year by year. In related parts such as circuits of communication equipment, antennas, sensors, covers, connectors, and casings, it is known that the dielectric loss of the materials used reduces the communication efficiency. In order not to reduce the communication efficiency, the material used for the related parts is required to have a low dielectric constant, particularly a low dielectric loss. However, the materials proposed in Patent Documents 1 and 2 all have a high dielectric constant and are not suitable for parts for high-speed communication equipment.

そこで、本発明は上記のような従来技術の問題を鑑みてなされたものである。即ち、本発明の課題は、メッキ性及び低誘電特性に優れる、レーザーダイレクトストラクチャリング用の熱可塑性樹脂組成物及び成形体を提供することである。 Therefore, the present invention has been made in view of the above-mentioned problems of the prior art. That is, an object of the present invention is to provide a thermoplastic resin composition and a molded product for laser direct structuring, which are excellent in plating property and low dielectric property.

本発明者は鋭意検討した結果、LDS法によるメッキ形成の基板材料として、少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー単位及び少なくとも1種の共役ジエンモノマー単位を含むブロックコポリマーの水素化体である水素化ブロックコポリマーからなる環状ポリオレフィンと、レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤を用いることで、メッキ性と低誘電特性に優れ、LDS法によるメッキ形成の高速通信機器用基板材料として好適に用いることができることを見出した。 As a result of diligent studies, the present inventor has made a hydrogenated block which is a hydride of a block copolymer containing at least one aromatic vinyl monomer unit and at least one conjugated diene monomer unit as a substrate material for plating formation by the LDS method. It has been found that by using a cyclic polyolefin composed of a copolymer and a laser direct structuring additive, it is excellent in plating property and low dielectric property, and can be suitably used as a substrate material for high-speed communication equipment for plating formation by the LDS method.

即ち、本発明は以下の特徴を有する。
[1]環状ポリオレフィン(A)と、レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)とを含有する熱可塑性樹脂組成物であって、該環状ポリオレフィン(A)が、少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー単位及び少なくとも1種の共役ジエンモノマー単位を含むブロックコポリマーの水素化体である水素化ブロックコポリマーからなり、該水素化ブロックコポリマーは、前記芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位、及び前記共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有し、該水素化ブロックコポリマーは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を少なくとも2個有すると共に、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位を少なくとも1個有する、熱可塑性樹脂組成物。
That is, the present invention has the following features.
[1] A thermoplastic resin composition containing a cyclic polyolefin (A) and a laser direct structuring additive (B), wherein the cyclic polyolefin (A) contains at least one aromatic vinyl monomer unit and It is composed of a hydride block copolymer which is a hydride of a block copolymer containing at least one conjugated diene monomer unit, and the hydride block copolymer is a hydride of a polymer block composed of the aromatic vinyl monomer unit. It has an aromatic vinyl polymer block unit and a hydride conjugated diene polymer block unit which is a hydride of the polymer block composed of the conjugated diene monomer unit, and the hydride block copolymer is the hydride aromatic vinyl polymer block unit. A thermoplastic resin composition having at least two of the above and at least one of the hydrogenated conjugated diene polymer block units.

[2]前記熱可塑性樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対して、前記レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)3〜30質量部を含有する、[1]に記載の熱可塑性樹脂組成物。
[3]前記レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)が、銅クロム酸化物及びアンチモン含有酸化錫から選ばれる1種以上である、[1]又は[2]に記載の熱可塑性樹脂組成物。
[4]前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が90%以上の水素化レベルをもち、かつ、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位が95%以上の水素化レベルをもつ、[1]〜[3]のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。
[2] The thermoplastic resin composition according to [1], which contains 3 to 30 parts by mass of the laser direct structuring additive (B) with respect to 100 parts by mass of the resin component in the thermoplastic resin composition. ..
[3] The thermoplastic resin composition according to [1] or [2], wherein the laser direct structuring additive (B) is at least one selected from copper chromium oxide and antimony-containing tin oxide.
[4] The hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit has a hydrogenation level of 90% or more, and the hydrogenated conjugated diene polymer block unit has a hydrogenation level of 95% or more [1] to [3]. ] The thermoplastic resin composition according to any one item.

[5]前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化ポリスチレンからなり、前記環状ポリオレフィン(A)中の含有率が30〜99モル%である、[1]〜[4]のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。
[6]前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位が水素化ポリブタジエンからなり、前記環状ポリオレフィン(A)中の含有率が1〜70モル%である、[1]〜[5]のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。
[7]前記環状ポリオレフィン(A)100質量部に対して、更に、酸変性環状ポリオレフィン(C)0〜50質量部を含有する、[1]〜[6]のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。
[8]レーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物である、[1]〜[7]のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。
[5] Any one of [1] to [4], wherein the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is made of polystyrene hydride and the content in the cyclic polyolefin (A) is 30 to 99 mol%. The thermoplastic resin composition according to.
[6] The item according to any one of [1] to [5], wherein the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is made of hydrogenated polybutadiene, and the content in the cyclic polyolefin (A) is 1 to 70 mol%. The thermoplastic resin composition according to the above.
[7] The heat according to any one of [1] to [6], which further contains 0 to 50 parts by mass of the acid-modified cyclic polyolefin (C) with respect to 100 parts by mass of the cyclic polyolefin (A). Plastic resin composition.
[8] The thermoplastic resin composition according to any one of [1] to [7], which is a thermoplastic resin composition for laser direct structuring.

[9][1]〜[7]のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物を成形した成形体。
[10]表面にメッキを有する、[9]に記載の成形体。
[11]前記メッキがアンテナとしての性能を保有する、[10]に記載の成形体。
[12]携帯電子機器部品である、[9]〜[11]のいずれか1項に記載の成形体。
[13][9]に記載の成形体の表面に、レーザーを照射後、銅メッキ層を形成する、メッキ付き成形体の製造方法。
[14][13]に記載のメッキ付き成形体の製造方法を含む、アンテナを有する携帯電子機器部品の製造方法。
[9] A molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition according to any one of [1] to [7].
[10] The molded product according to [9], which has plating on its surface.
[11] The molded product according to [10], wherein the plating retains the performance as an antenna.
[12] The molded product according to any one of [9] to [11], which is a portable electronic device component.
[13] A method for producing a plated molded product, wherein a copper-plated layer is formed after irradiating the surface of the molded product according to [9] with a laser.
[14] A method for manufacturing a portable electronic device component having an antenna, which comprises the method for manufacturing a plated molded product according to [13].

この発明によると、特定の環状ポリオレフィン及びレーザーダイレクトストラクチャリング添加剤を有する熱可塑性樹脂組成物を、LDS法によるメッキ形成を行うための基板材料として用いることにより、メッキ性と低誘電特性に優れ、LDS法によるメッキ形成のための高速通信機器用基板材料として好適に用いることができることを見出した。
また、この熱可塑性樹脂組成物からなる成形体は、低誘電特性に優れるので、携帯電子機器の内装部品や外装部品に用いることができる。
According to the present invention, by using a thermoplastic resin composition having a specific cyclic polyolefin and a laser direct structuring additive as a substrate material for performing plating formation by the LDS method, it is excellent in plating property and low dielectric property. It has been found that it can be suitably used as a substrate material for high-speed communication equipment for plating formation by the LDS method.
Further, since the molded product made of this thermoplastic resin composition has excellent low dielectric properties, it can be used for interior parts and exterior parts of portable electronic devices.

以下に本発明について詳細に説明するが、以下の説明は、本発明の実施の形態の一例であり、本発明はその要旨を超えない限り、以下の記載内容に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲において、任意に変形して実施することができる。
以下において、「〜」を用いてその前後に数値又は物性値を挟んで表現する場合、その前後の値を含むものとして用いることとする。
The present invention will be described in detail below, but the following description is an example of an embodiment of the present invention, and the present invention is not limited to the following description as long as the gist of the present invention is not exceeded. It can be arbitrarily modified and carried out without departing from the gist of the invention.
In the following, when a numerical value or a physical property value is inserted before and after using "~", it is used as including the values before and after that.

本願に係る発明は、環状ポリオレフィン(A)と、レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)とを含有する熱可塑性樹脂組成物、特にレーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物についての発明である。 The invention according to the present application is an invention for a thermoplastic resin composition containing a cyclic polyolefin (A) and a laser direct structuring additive (B), particularly a thermoplastic resin composition for laser direct structuring.

<環状ポリオレフィン(A)>
本発明の環状ポリオレフィン(A)は、少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー単位及び少なくとも1種の共役ジエンモノマー単位を含むブロックコポリマーの水素化体である水素化ブロックコポリマーからなる。
該水素化ブロックコポリマーは、前記芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位、及び、前記共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有する。
また、該水素化ブロックコポリマーは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を少なくとも2個有すると共に、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位を少なくとも1個有するものである。
<Cyclic polyolefin (A)>
The cyclic polyolefin (A) of the present invention comprises a hydrogenated block copolymer which is a hydride of a block copolymer containing at least one aromatic vinyl monomer unit and at least one conjugated diene monomer unit.
The hydrogenated block copolymer is a hydrogenated product of a hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit, which is a hydride of a polymer block composed of the aromatic vinyl monomer unit, and hydrogen, which is a hydride of a polymer block composed of the conjugated diene monomer unit. It has a modified conjugated diene polymer block unit.
Further, the hydrogenated block copolymer has at least two hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and at least one hydrogenated conjugated diene polymer block unit.

本発明の環状ポリオレフィン(A)は、低誘電特性及び耐候性の観点から、前記水素化ブロックコポリマーからなることが好ましい。
なお、「ブロック」とは、後記するように、本明細書において、コポリマーの構造的又は組成的に異なった重合セグメントからのミクロ層分離を表すコポリマーの重合セグメントをいう。このため、例えば「ブロック単位を少なくとも2個有する」とは、水素化ブロックコポリマーの中に、構造的又は組成的に異なった重合セグメントからのミクロ層分離を表すコポリマーの重合セグメントを少なくとも2個有することをいう。
The cyclic polyolefin (A) of the present invention is preferably made of the hydrogenated block copolymer from the viewpoint of low dielectric properties and weather resistance.
As will be described later, the term "block" as used herein refers to a polymerized segment of a copolymer that represents microlayer separation from polymerized segments that are structurally or compositionally different from each other. For this reason, for example, "having at least two block units" means that the hydrogenated block copolymer has at least two polymerized segments of the copolymer representing microlayer separation from structurally or structurally different polymerized segments. Say that.

前記の芳香族ビニルモノマー単位の原料となる芳香族ビニルモノマーは、一般式(1)で示されるモノマーである。 The aromatic vinyl monomer used as a raw material for the aromatic vinyl monomer unit is a monomer represented by the general formula (1).

Figure 2021014549
Figure 2021014549

ここでRは、水素又はアルキル基、Arはフェニル基、ハロフェニル基、アルキルフェニル基、アルキルハロフェニル基、ナフチル基、ピリジニル基、又はアントラセニル基である。 Here, R is a hydrogen or an alkyl group, Ar is a phenyl group, a halophenyl group, an alkylphenyl group, an alkylhalophenyl group, a naphthyl group, a pyridinyl group, or an anthrasenyl group.

前記アルキル基は、ハロ基、ニトロ基、アミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルボニル基、及びカルボキシル基のような官能基で単置換若しくは多重置換されたアルキル基であってもよい。また、前記アルキル基の炭素数は、1〜6がよい。
また、前記のArは、フェニル基又はアルキルフェニル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
The alkyl group may be a mono- or multiple-substituted alkyl group with a functional group such as a halo group, a nitro group, an amino group, a hydroxy group, a cyano group, a carbonyl group, and a carboxyl group. The alkyl group preferably has 1 to 6 carbon atoms.
Further, the Ar is preferably a phenyl group or an alkylphenyl group, and more preferably a phenyl group.

前記芳香族ビニルモノマーとしては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン(全ての異性体を含み、特にp−ビニルトルエン)、エチルスチレン、プロピルスチレン、ブチルスチレン、ビニルビフェニル、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン(全ての異性体)、及びこれらの混合物が挙げられる。 Examples of the aromatic vinyl monomer include styrene, α-methylstyrene, vinyltoluene (including all isomers, particularly p-vinyltoluene), ethylstyrene, propylstyrene, butylstyrene, vinylbiphenyl, vinylnaphthalene, and vinyl. Anthracene (all isomers), and mixtures thereof.

前記の共役ジエンモノマー単位の原料となる共役ジエンモノマーは、2個の共役二重結合を持つモノマーであればよく、特に限定されるものではない。
共役ジエンモノマーとしては、例えば、1,3−ブタジエン、2−メチル−1,3−ブタジエン(イソプレンン)、2−メチル−1,3ペンタジエンとその類似化合物、及びこれらの混合物が挙げられる。
The conjugated diene monomer used as a raw material for the conjugated diene monomer unit may be a monomer having two conjugated double bonds, and is not particularly limited.
Examples of the conjugated diene monomer include 1,3-butadiene, 2-methyl-1,3-butadiene (isoprene), 2-methyl-1,3 pentadiene and similar compounds, and mixtures thereof.

前記1,3−ブタジエンの重合体であるポリブタジエンは、水素化で1−ブテン繰り返し単位の等価物を与える1,2配置、又は水素化でエチレン繰り返し単位の等価物を与える1,4配置のいずれかを含むことができる。 Polybutadiene, which is a polymer of 1,3-butadiene, has either an 1,2 configuration that gives an equivalent of 1-butene repeating units by hydrogenation, or a 1,4 configuration that gives an equivalent of ethylene repeating units by hydrogenation. Can be included.

前記の芳香族ビニルモノマーや、1,3−ブタジエンを含む前記共役ジエンモノマーから構成される重合性ブロックの水素化体は、本発明で使用される水素化ブロックコポリマーに含まれる。好ましくは、水素化ブロックコポリマーは官能基のないブロックコポリマーである。
なお、「官能基のない」とはブロックコポリマー中に如何なる官能基、即ち、炭素と水素以外の元素を含む基が存在しないことを意味する。
The hydrogenated block copolymer composed of the aromatic vinyl monomer and the conjugated diene monomer containing 1,3-butadiene is included in the hydrogenated block copolymer used in the present invention. Preferably, the hydrogenated block copolymer is a functional group-free block copolymer.
In addition, "without functional groups" means that there are no functional groups in the block copolymer, that is, groups containing elements other than carbon and hydrogen.

前記の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の好ましい例としては、水素化ポリスチレンを挙げることができ、前記の水素化共役ジエンポリマーブロック単位の好ましい例としては、水素化ポリブタジエンを挙げることができる。
そして、水素化ブロックコポリマーの好ましい一態様としては、スチレンとブタジエンの水素化トリブロック又はペンタブロックコポリマーを挙げることができ、他の如何なる官能基又は構造的変性剤も含まないことが好ましい。
「ブロック」とは、コポリマーの構造的又は組成的に異なった重合セグメントからのミクロ層分離を表すコポリマーの重合セグメントとして定義される。ミクロ層分離は、ブロックコポリマー中で重合セグメントが混じり合わないことにより生ずる。
なお、ミクロ層分離とブロックコポリマーは、PHYSICS TODAYの1999年2月号32−38頁の“Block Copolymers−Designer Soft Materials”で広範に議論されている。
Preferable examples of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit include polystyrene hydride, and preferred examples of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit include hydrogenated polybutadiene.
A preferred embodiment of the hydrogenated block copolymer is a hydrogenated triblock or pentablock copolymer of styrene and butadiene, preferably free of any other functional group or structural modifier.
A "block" is defined as a polymerization segment of a copolymer that represents microlayer separation from structurally or compositionally different polymerization segments of the copolymer. Microlayer separation occurs due to the immiscibility of the polymerized segments in the block copolymer.
It should be noted that microlayer separation and block copolymers are widely discussed in "Block Copolymers-Designer Soft Materials", February 1999, pp. 32-38 of PHYSICS TODAY.

水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の含有率は、前記環状ポリオレフィン(A)に対して、好ましくは30〜99モル%、より好ましくは40〜90モル%である。
水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の比率が上記下限値以上であれば剛性が低下することがなく、上記上限値以下であれば脆性が悪化することがない。
The content of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is preferably 30 to 99 mol%, more preferably 40 to 90 mol% with respect to the cyclic polyolefin (A).
If the ratio of hydrogenated aromatic vinyl polymer block units is at least the above lower limit value, the rigidity is not lowered, and if it is at least the above upper limit value, brittleness is not deteriorated.

また、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の含有率は、前記環状ポリオレフィン(A)に対して、好ましくは1〜70モル%、より好ましくは10〜60モル%である。
水素化共役ジエンポリマーブロック単位の比率が上記下限値以上であれば脆性が悪化することがなく、上記上限値以下であれば剛性が低下することがない。
The content of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is preferably 1 to 70 mol%, more preferably 10 to 60 mol% with respect to the cyclic polyolefin (A).
If the ratio of hydrogenated conjugated diene polymer block units is at least the above lower limit value, brittleness does not deteriorate, and if it is at least the above upper limit value, rigidity does not decrease.

なお、前記のとおり、本願発明にかかるポリオレフィンは、「環状ポリオレフィン」であるが、この「環状」とは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が有する、芳香族環の水素化により生じる脂環式構造のことをいう。 As described above, the polyolefin according to the present invention is a "cyclic polyolefin", and the "cyclic" is an alicyclic formed by hydrogenation of an aromatic ring possessed by the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit. It refers to the formula structure.

本発明の水素化ブロックコポリマーはSBS、SBSBS、SIS、SISIS、及びSISBS(ここで、Sはポリスチレン、Bはポリブタジエン、Iはポリイソプレンを意味する。)のようなトリブロック、マルチブロック、テーパーブロック、及びスターブロックコポリマーを含むブロックコポリマーの水素化によって製造される。 The hydrogenated block copolymers of the present invention are triblocks, multiblocks, taper blocks such as SBS, SBSBS, SIS, SISIS, and SISBS (where S stands for polystyrene, B stands for polybutadiene, I stands for polyisoprene). , And block copolymers, including star block copolymers, are produced by hydrogenation.

本発明の水素化ブロックコポリマーはそれぞれの末端に芳香族ビニルポリマーからなるセグメントを含む。このため、本発明の水素化ブロックコポリマーは、少なくとも2個の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を有することとなる。そして、この2個の水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の間には、少なくとも1つの水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有することとなる。 The hydrogenated block copolymers of the present invention contain a segment consisting of an aromatic vinyl polymer at each end. Therefore, the hydrogenated block copolymer of the present invention will have at least two hydrogenated aromatic vinyl polymer block units. Then, at least one hydrogenated conjugated diene polymer block unit will be provided between the two hydrogenated aromatic vinyl polymer block units.

前記水素化ブロックを構成する水素化前のブロックコポリマーは、何個かの追加ブロックを含んでいてもよく、これらのブロックはトリブロックポリマー骨格のどの位置に結合していてもよい。このように、線状ブロックは例えばSBS、SBSB、SBSBS、そしてSBSBSBを含む。コポリマーは分岐していてもよく、重合連鎖はコポリマーの骨格に沿ってどの位置に結合していてもよい。 The pre-hydrogenation block copolymer constituting the hydrogenation block may contain several additional blocks, which may be attached to any position on the triblock polymer backbone. Thus, the linear block includes, for example, SBS, SBSB, SBBSS, and SBBSSB. The copolymer may be branched and the polymerization chain may be attached at any position along the backbone of the copolymer.

水素化ブロックコポリマーの重量平均分子量(Mw)の下限は、好ましくは30,000以上、より好ましくは40,000以上、更に好ましくは45,000以上、特に好ましくは50,000以上である。また、Mwの上限は、好ましくは120,000以下、より好ましくは100,000以下、更に好ましくは95,000以下、特に好ましくは90,000以下、最も好ましくは85,000以下、極めて好ましくは80,000以下である。
Mwが上記下限値以上であれば機械強度が低下せず、上記上限値以下であれば成形加工性が悪化しない。
本明細書のMwは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)を用いて決定される。
The lower limit of the weight average molecular weight (Mw) of the hydrogenated block copolymer is preferably 30,000 or more, more preferably 40,000 or more, still more preferably 45,000 or more, and particularly preferably 50,000 or more. The upper limit of Mw is preferably 120,000 or less, more preferably 100,000 or less, further preferably 95,000 or less, particularly preferably 90,000 or less, most preferably 85,000 or less, and extremely preferably 80. It is less than 000.
If Mw is at least the above lower limit value, the mechanical strength does not decrease, and if it is at least the above upper limit value, the moldability does not deteriorate.
The Mw herein is determined using gel permeation chromatography (GPC).

ブロックコポリマーの水素化レベルは、好ましくは水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が90%以上、水素化共役ジエンポリマーブロック単位が95%以上であり、より好ましくは水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が95%以上、水素化共役ジエンポリマーブロック単位が99%以上であり、更に好ましくは水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が98%以上、水素化共役ジエンポリマーブロック単位が99.5%以上であり、特に好ましくは水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が99.5%以上、水素化共役ジエンポリマーブロック単位が99.5%以上の水素化である。
なお、水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルとは、芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示し、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルとは、共役ジエンポリマーブロック単位が水素化によって飽和される割合を示す。このように高レベルの水素化は、誘電損失を低減させるために好ましい。
The hydrogenation level of the block copolymer is preferably 90% or more for the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit, 95% or more for the hydrogenated conjugated diene polymer block unit, and more preferably 95% or more for the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit. % Or more, the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is 99% or more, more preferably the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is 98% or more, and the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is 99.5% or more, particularly. Preferably, the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is 99.5% or more, and the hydrogenation-conjugated diene polymer block unit is 99.5% or more.
The hydrogenation level of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit indicates the rate at which the aromatic vinyl polymer block unit is saturated by hydrogenation, and the hydrogenation level of the hydrogenation-conjugated diene polymer block unit is the conjugated diene. Shows the rate at which a polymer block unit is saturated by hydrogenation. Such high levels of hydrogenation are preferred in order to reduce dielectric loss.

水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベルと水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベルは、プロトンNMRを用いて決定される。 The hydrogenation level of the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit and the hydrogenation level of the hydrogenated conjugated diene polymer block unit are determined by using proton NMR.

本発明の環状ポリオレフィン(A)のメルトフローレート(MFR)は特に限定されないが、通常0.1g/10分以上であり、成形方法や成形体の外観の観点から、好ましくは0.2g/10分以上である。また通常200g/10分以下であり、材料強度の観点から、好ましくは100g/10分以下、より好ましくは50g/10分以下である。
MFRは、ISO 1133に従って、測定温度230℃、測定荷重2.16kgの条件で測定した。
The melt flow rate (MFR) of the cyclic polyolefin (A) of the present invention is not particularly limited, but is usually 0.1 g / 10 minutes or more, and is preferably 0.2 g / 10 from the viewpoint of the molding method and the appearance of the molded product. More than a minute. Further, it is usually 200 g / 10 minutes or less, preferably 100 g / 10 minutes or less, and more preferably 50 g / 10 minutes or less from the viewpoint of material strength.
The MFR was measured according to ISO 1133 under the conditions of a measurement temperature of 230 ° C. and a measurement load of 2.16 kg.

環状ポリオレフィン(A)は、1種を単独で用いてもよく、モノマー単位の組成や物性等の異なる2種以上を併用してもよい。
本発明の環状ポリオレフィン(A)としては、市販のものを用いることができる。具体的には、三菱ケミカル(株)製:ゼラス(商標登録)が挙げられる。
As the cyclic polyolefin (A), one type may be used alone, or two or more types having different composition and physical properties of each monomer unit may be used in combination.
As the cyclic polyolefin (A) of the present invention, a commercially available product can be used. Specifically, Mitsubishi Chemical Corporation: Zelas (registered trademark) can be mentioned.

<レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)>
レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)は、レーザービームが照射されると、当該添加剤(B)に含まれる金属原子が活性化され、表面に金属層が形成されるという特徴を有する添加剤である。
以下、「レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)」を、「LDS添加剤(B)」と称する場合もある。
<Laser direct structuring additive (B)>
The laser direct structuring additive (B) is an additive having a characteristic that when a laser beam is irradiated, metal atoms contained in the additive (B) are activated and a metal layer is formed on the surface. is there.
Hereinafter, the "laser direct structuring additive (B)" may be referred to as "LDS additive (B)".

このLDS添加剤(B)としては、例えば、銅クロム酸化物(CuCr)等の重金属複合酸化物スピネル;銅水酸化物リン酸塩、リン酸銅、硫酸銅、チオシアン酸銅等の銅塩;アンチモンがドープされた酸化錫等のアンチモン含有酸化錫;等の金属酸化物や金属塩等の金属化合物や、その金属化合物の一部に異なる金属がドープされた別種金属含有金属化合物等が挙げられる。これらの中では、銅クロム酸化物、アンチモン含有酸化錫が好ましい。
銅クロム酸化物は黒色顔料としても機能するため、黒色の成形体を得る場合に好適であり、アンチモン含有酸化錫は白色顔料として使用できるので、白色成形体として、あるいは更に他の色の顔料と併用して所望のカラーバリエーションとして応用することもできる。
Examples of the LDS additive (B) include heavy metal composite oxide spinels such as copper chromium oxide (CuCr 2 O 4 ); copper hydroxide phosphate, copper phosphate, copper sulfate, copper thiocyanate and the like. Copper salt; antimony-containing tin oxide such as antimon-doped tin oxide; metal oxides such as metal oxides and metal compounds such as metal salts, and other metal-containing metal compounds in which a different metal is doped in a part of the metal compound, etc. Can be mentioned. Among these, copper chromium oxide and antimony-containing tin oxide are preferable.
Since copper chromium oxide also functions as a black pigment, it is suitable for obtaining a black molded body, and antimony-containing tin oxide can be used as a white pigment, so that it can be used as a white molded body or with pigments of other colors. It can also be applied in combination as a desired color variation.

前記LDS添加剤(B)の粒子径は、0.01〜50μmが好ましく、0.05〜30μmがより好ましい。このような粒子径とすることにより、メッキを適応した際のメッキ表面状態の均一性が良好になる傾向にある。 The particle size of the LDS additive (B) is preferably 0.01 to 50 μm, more preferably 0.05 to 30 μm. With such a particle size, the uniformity of the plating surface state when plating is applied tends to be good.

前記LDS添加剤(B)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明のLDS添加剤(B)としては、市販のものを用いることができる。具体的には、シェファード社製 Black1G、Keeling&Walker社製 CP5Cが挙げられる。
The LDS additive (B) may be used alone or in combination of two or more.
As the LDS additive (B) of the present invention, a commercially available product can be used. Specific examples thereof include Black1G manufactured by Shepherd and CP5C manufactured by Keeling & Walker.

<酸変性環状ポリオレフィン(C)>
本発明の熱可塑性樹脂組成物には、上記成分(A)及び成分(B)に加えて、酸変性環状ポリオレフィン(C)を更に含有することが好ましい。
酸変性環状ポリオレフィン(C)は、成分(A)と、成分(B)等の無機物に対して高い相溶化性能を発揮することができる。
<Acid-modified cyclic polyolefin (C)>
The thermoplastic resin composition of the present invention preferably further contains an acid-modified cyclic polyolefin (C) in addition to the above components (A) and (B).
The acid-modified cyclic polyolefin (C) can exhibit high compatibility performance with the component (A) and an inorganic substance such as the component (B).

酸変性環状ポリオレフィン(C)は、前述の環状ポリオレフィン(A)を、不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体でグラフト変性した、変性環状ポリオレフィンである。
変性に供する環状ポリオレフィン(A)は、1種でもよく、モノマー単位の組成や物性等の異なる2種以上でもよい。
不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体によるグラフト変性処理は、常用されている任意の方法を採用することができ、その方法は特に限定されない。
The acid-modified cyclic polyolefin (C) is a modified cyclic polyolefin obtained by graft-modifying the above-mentioned cyclic polyolefin (A) with an unsaturated carboxylic acid and / or a derivative thereof.
The cyclic polyolefin (A) to be subjected to modification may be one kind or two or more kinds having different composition and physical properties of each monomer unit.
For the graft modification treatment with an unsaturated carboxylic acid and / or a derivative thereof, any commonly used method can be adopted, and the method is not particularly limited.

例えば、溶液変性法としては、有機溶剤中に、環状ポリオレフィン(A)と不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体と、必要に応じてラジカル重合開始剤を投入し、通常60〜350℃、好ましくは80〜250℃の温度で、通常0.5〜15時間、好ましくは1〜10時間反応させる方法が挙げられる。
また、溶融変性法としては、環状ポリオレフィン(A)と不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体とを、押出機等を使用して170〜290℃で溶融し、通常0.5〜10分間反応させる方法が挙げられる。
For example, as a solution modification method, a cyclic polyolefin (A), an unsaturated carboxylic acid and / or a derivative thereof, and a radical polymerization initiator, if necessary, are added to an organic solvent, and the temperature is usually 60 to 350 ° C., preferably. Examples thereof include a method of reacting at a temperature of 80 to 250 ° C. for usually 0.5 to 15 hours, preferably 1 to 10 hours.
As a melt modification method, the cyclic polyolefin (A) and the unsaturated carboxylic acid and / or its derivative are melted at 170 to 290 ° C. using an extruder or the like and usually reacted for 0.5 to 10 minutes. The method can be mentioned.

これらの中でも、衛生性の観点から、溶媒を使用しない溶融変性法が好ましく、押出機を用いて変性することがより好ましい。なお、効率よく変性させるためにはラジカル重合開始剤の存在下に変性することが好ましい。 Among these, from the viewpoint of hygiene, a melt modification method that does not use a solvent is preferable, and modification using an extruder is more preferable. In order to modify efficiently, it is preferable to modify in the presence of a radical polymerization initiator.

不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、エンドシス−ビシクロ〔2.2.1〕ヘプト−5−エン−2,3−ジカルボン酸が挙げられる。
また、不飽和カルボン酸の誘導体としては、酸無水物、エステル、アミド、イミド、金属塩等が挙げられる。具体的には、無水マレイン酸、無水ハイミック酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸等の酸無水物;アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、アクリル酸グリシジル、マレイン酸モノエチルエステル、マレイン酸ジエチルエステル、イタコン酸モノメチルエステル、イタコン酸ジエチルエステル等のエステル;アクリルアミド、メタクリルアミド、マレイン酸モノアミド、マレイン酸ジアミド、マレイン酸−N−モノエチルアミド、マレイン酸−N,N−ジエチルアミド、マレイン酸−N,N−モノブチルアミド、マレイン酸−N,N−ジブチルアミド、フマル酸モノアミド、フマル酸ジアミド、フマル酸−N−モノブチルアミド、フマル酸−N,N−ジブチルアミド等のアミド;マレイミド、Nブチルマレイミド、N−フェニルマレイミド等のイミド;アクリル酸ナトリウム、メタクリル酸ナトリウム、アクリル酸カリウム、メタクリル酸カリウム等の金属塩が挙げられる。
Examples of unsaturated carboxylic acids include acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, citraconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, and endosis-bicyclo [2.2.1] hept-5-en-2. , 3-Dicarboxylic acid.
Examples of the unsaturated carboxylic acid derivative include acid anhydrides, esters, amides, imides, and metal salts. Specifically, acid anhydrides such as maleic anhydride, hymicic anhydride, itaconic anhydride, and citraconic anhydride; methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, glycidyl acrylate, monoethyl maleate. Esters such as esters, maleic acid diethyl ester, itaconic acid monomethyl ester, itaconic acid diethyl ester; acrylamide, methacrylic acid, maleic acid monoamide, maleic acid diamide, maleic acid-N-monoethylamide, maleic acid-N, N-diethylamide. , Maleic acid-N, N-monobutylamide, maleic acid-N, N-dibutylamide, fumaric acid monoamide, fumaric acid diamide, fumaric acid-N-monobutylamide, fumaric acid-N, N-dibutylamide, etc. Amides; imides such as maleimide, N-butyl maleimide, N-phenylmaleimide; metal salts such as sodium acrylate, sodium methacrylate, potassium acrylate, potassium methacrylate and the like can be mentioned.

不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
これらの中でも、特にマレイン酸、無水マレイン酸が好ましい。
As the unsaturated carboxylic acid and / or its derivative, one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
Among these, maleic acid and maleic anhydride are particularly preferable.

ラジカル重合開始剤としては、有機過酸化物又はアゾ化合物が好ましく、有機過酸化物がより好ましい。
具体的には、ジ−t−ブチルパーオキサイド、t−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3、1,4−ビス(t−ブチルパーオキシイソプロピル)ベンゼン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキサン、n−ブチル−4,4−ビス(t−ブチルパーオキシ)バレエート、2,2−ビス(4,4−t−ブチルパーオキシシクロヘキシル)プロパン、2,2−ビス(t−ブチルパーオキシ)ブタン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)シクロドデカン等のジアルキルパーオキサイド類;t−ブチルパーオキシアセテート、t−ブチルパーオキシ−2−エチルヘキサノエート、t−ブチルパーオキシピバレート、t−ブチルパーオキシラウレート、t−ブチルパーオキシベンゾエート、t−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート、t−ブチルパーオキシマレイックアシッド、ジ−t−ブチルパーオキシイソフタレート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキシン−3、2,5−ジメチル−2,5−ジ(トルイルパーオキシ)ヘキサン等のパーオキシエステル類;ジ−3,5,5−トリメチルヘキサノイルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、ジベンゾイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類;t−ブチルヒドロパーオキサイド、クメンヒドロパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキサイド、p−メンタンヒドロパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ヒドロパーオキシ)ヘキサン等のヒドロパーオキサイド類;メチルエチルケトンパーオキサイド、シクロヘキサノンパーオキサイド等のケトンパーオキサイド類等が挙げられる。
ラジカル重合開始剤は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
As the radical polymerization initiator, an organic peroxide or an azo compound is preferable, and an organic peroxide is more preferable.
Specifically, di-t-butyl peroxide, t-butyl cumyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butyl peroxy) hexane, 2,5-dimethyl. -2,5-di (t-butylperoxy) hexin-3,1,4-bis (t-butylperoxyisopropyl) benzene, 1,1-bis (t-butylperoxy) cyclohexane, n-butyl- 4,4-bis (t-butylperoxy) ballet, 2,2-bis (4,5-t-butylperoxycyclohexyl) propane, 2,2-bis (t-butylperoxy) butane, 1,1 Dialkyl peroxides such as -bis (t-butylperoxy) cyclododecane; t-butylperoxyacetate, t-butylperoxy-2-ethylhexanoate, t-butylperoxypivalate, t-butylper Oxylaurate, t-butylperoxybenzoate, t-butylperoxyisopropyl carbonate, t-butylperoxymaleic acid, di-t-butylperoxyisophthalate, 2,5-dimethyl-2,5-di ( Peroxyesters such as benzoylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexin-3, 2,5-dimethyl-2,5-di (toluylperoxy) hexane; Diacyl peroxides such as di-3,5,5-trimethylhexanoyl peroxide, octanoyl peroxide, dibenzoyl peroxide; t-butylhydroperoxide, cumenehydroperoxide, diisopropylbenzenehydroperoxide, p- Hydroperoxides such as mentan hydroperoxide and 2,5-dimethyl-2,5-di (hydroperoxy) hexane; ketone peroxides such as methyl ethyl ketone peroxide and cyclohexanone peroxide can be mentioned.
One type of radical polymerization initiator may be used alone, or two or more types may be used in combination.

ラジカル重合開始剤としては、上記例示物の中でも、半減期が1分となる分解温度が100℃以上であるものが、変性効率の観点から好ましい。
具体的には、ジ−t−ブチルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルパーオキシ)ヘキシン−3等のジアルキルパーオキサイド類;t−ブチルパーオキシベンゾエート、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ジ(ベンゾイルパーオキシ)ヘキシン−3等のパーオキシエステル類が好ましい。
As the radical polymerization initiator, among the above-mentioned examples, those having a decomposition temperature of 100 ° C. or higher having a half-life of 1 minute are preferable from the viewpoint of modification efficiency.
Specifically, di-t-butyl peroxide, dicumyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5-di (). Dialkyl peroxides such as t-butylperoxy) hexin-3; t-butylperoxybenzoate, 2,5-dimethyl-2,5-di (benzoylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2,5 Peroxy esters such as −di (benzoyl peroxy) hexin-3 are preferred.

ラジカル重合開始剤の使用量は、原料となる環状ポリオレフィン(A)100質量部に対して、0.001〜2質量部の割合が好ましい。 The amount of the radical polymerization initiator used is preferably 0.001 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the cyclic polyolefin (A) as a raw material.

酸変性環状ポリオレフィン(C)における、不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体に由来する構成単位の含有率(以下、「変性率」と称する場合もある。)は、酸変性環状ポリオレフィン(C)の全体に対して、0.20〜5.0質量%が好ましく、0.30〜4.0質量%がより好ましく、0.50〜3.0質量%が更に好ましい。
変性率が前記範囲内であれば、相溶化が十分となる傾向にある。
The content of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid and / or its derivative in the acid-modified cyclic polyolefin (C) (hereinafter, may be referred to as “modification rate”) is the content of the acid-modified cyclic polyolefin (C). 0.25 to 5.0% by mass is preferable, 0.30 to 4.0% by mass is more preferable, and 0.50 to 3.0% by mass is further preferable with respect to the whole.
If the modification rate is within the above range, the compatibility tends to be sufficient.

酸変性環状ポリオレフィン(C)における、不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体に由来する構成単位の結合位置は、特に限定されず、酸変性環状ポリオレフィン(C)の主鎖末端及び側鎖の少なくとも一方に導入されていればよい。
なお、酸変性環状ポリオレフィン(C)の変性率は、例えば、以下の方法で測定することができる。
The bonding position of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid and / or its derivative in the acid-modified cyclic polyolefin (C) is not particularly limited, and at least one of the main chain end and the side chain of the acid-modified cyclic polyolefin (C). It should be introduced in.
The modification rate of the acid-modified cyclic polyolefin (C) can be measured by, for example, the following method.

先ず、圧縮成形機等を用いて、酸変性環状ポリオレフィン(C)から厚さ0.1〜0.4mmのシート状のプレスサンプルを作成する。
次に、フーリエ変換型赤外分光光度計にて、サンプルの2000〜1600cm−1のスペクトルを測定し、不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体特有の吸収(C=O伸縮振動帯、即ち、カルボニル特性吸収。)から求めることができる。
First, a sheet-shaped press sample having a thickness of 0.1 to 0.4 mm is prepared from the acid-modified cyclic polyolefin (C) using a compression molding machine or the like.
Next, a spectrum of 2000 to 1600 cm -1 of the sample was measured with a Fourier transform infrared spectrophotometer, and the absorption peculiar to unsaturated carboxylic acid and / or its derivative (C = O stretching vibration band, that is, carbonyl). It can be obtained from characteristic absorption.).

具体的には、得られたスペクトルに、1950cm−1と1665cm−1との間でベースラインを引き、1827〜1665cm−1の間のピーク面積Sを算出する。
得られたピーク面積Sを使用し、下記式(1)に基づいて、不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体に由来する構成単位の含有率Xmを算出する。
なお、酸変性環状ポリオレフィン(C)の変性においては、未反応の不飽和カルボン酸及び/又はその誘導体も残留し得るが、本明細書における変性率とは、上記の通り、酸変性環状ポリオレフィン(C)を上記の方法で測定した際の値を意味するものとする。
Xm=k・S/t・ρ ・・・(1)
(式中、kは不飽和カルボン酸を含有する熱可塑性樹脂のメチルエステル化物のNMR定量値を元に求められた係数を表し、t(mm)はサンプルの厚さを表し、ρはサンプルの密度(g/cm)を表す。)
More specifically, the obtained spectrum, pull the baseline between 1950cm -1 and 1665 cm -1, calculates the peak area S between 1827~1665cm -1.
Using the obtained peak area S, the content rate Xm of the structural unit derived from the unsaturated carboxylic acid and / or its derivative is calculated based on the following formula (1).
In the modification of the acid-modified cyclic polyolefin (C), an unreacted unsaturated carboxylic acid and / or a derivative thereof may remain, but the modification rate in the present specification refers to the acid-modified cyclic polyolefin (C) as described above. C) shall mean the value when measured by the above method.
Xm = k ・ S / t ・ ρ ・ ・ ・ (1)
(In the formula, k represents a coefficient obtained based on the NMR quantitative value of the methyl esterified product of the thermoplastic resin containing an unsaturated carboxylic acid, t (mm) represents the thickness of the sample, and ρ represents the thickness of the sample. It represents the density (g / cm 3 ).)

酸変性環状ポリオレフィン(C)は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を併用してもよい。
本発明の酸変性環状ポリオレフィン(C)としては、市販のものを用いることができる。具体的には、三菱ケミカル社製:「ゼラス(商標登録)MC940AP」が挙げられる。
As the acid-modified cyclic polyolefin (C), one type may be used alone, or two or more types may be used in combination.
As the acid-modified cyclic polyolefin (C) of the present invention, a commercially available product can be used. Specifically, Mitsubishi Chemical Corporation: "Zeras (registered trademark) MC940AP" can be mentioned.

<熱可塑性樹脂組成物>
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、環状ポリオレフィン(A)と、LDS添加剤(B)とを含有する。
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、更に、酸変性環状ポリオレフィン(C)を含有してもよい。
また、本発明の熱可塑性樹脂組成物は、更に、後述する樹脂成分(成分(A)、(C)以外の樹脂成分)やエラストマー成分を含有してもよい。
<Thermoplastic resin composition>
The thermoplastic resin composition of the present invention contains a cyclic polyolefin (A) and an LDS additive (B).
The thermoplastic resin composition of the present invention may further contain an acid-modified cyclic polyolefin (C).
In addition, the thermoplastic resin composition of the present invention may further contain a resin component (resin component other than the components (A) and (C)) and an elastomer component described later.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、レーザーダイレクトストラクチャリング用途に好適に用いることができる、レーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物である。 The thermoplastic resin composition of the present invention is a thermoplastic resin composition for laser direct structuring that can be suitably used for laser direct structuring applications.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、熱可塑性樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対して、LDS添加剤(B)3〜30質量部を含有することがよい。
そして、LDS添加剤(B)の含有量は、5質量部以上が好ましい。また、25質量部以下が好ましく、20質量部以下がより好ましい。
The thermoplastic resin composition of the present invention preferably contains 3 to 30 parts by mass of the LDS additive (B) with respect to 100 parts by mass of the resin component in the thermoplastic resin composition.
The content of the LDS additive (B) is preferably 5 parts by mass or more. Further, 25 parts by mass or less is preferable, and 20 parts by mass or less is more preferable.

成分(B)の含有量が上記下限値以上であれば、成分(B)を含むことによるメッキ性が有効に発現する。また、上記上限値以下であれば、低誘電特性を有効に得ることができる。 When the content of the component (B) is at least the above lower limit value, the plating property due to the inclusion of the component (B) is effectively exhibited. Further, if it is not more than the above upper limit value, the low dielectric property can be effectively obtained.

ここで、熱可塑性樹脂組成物中の「樹脂成分」とは、樹脂として成分(A)のみを用いている場合には、成分(A)を指す。
樹脂として成分(A)及び(C)を用いている場合には、成分(A)+(C)を指す。
樹脂として成分(A)、(C)及び他の樹脂を用いている場合には、成分(A)+(C)+他の樹脂を指す。
Here, the "resin component" in the thermoplastic resin composition refers to the component (A) when only the component (A) is used as the resin.
When the components (A) and (C) are used as the resin, it refers to the components (A) + (C).
When the components (A), (C) and other resins are used as the resin, it refers to the components (A) + (C) + other resins.

本発明の熱可塑性樹脂組成物は、環状ポリオレフィン(A)100質量部に対して、酸変性環状ポリオレフィン(C)0〜50質量部を含有することができる。成分(C)の含有量は、0.2〜20質量部が好ましい。
成分(C)を含有することにより、無機物に対して高い相溶化性能を発揮することができるが、その含有量が多過ぎると誘電特性が低下する傾向にある。よって、成分(C)の含有量は、上記上限値以下とすることが好ましい。
The thermoplastic resin composition of the present invention can contain 0 to 50 parts by mass of the acid-modified cyclic polyolefin (C) with respect to 100 parts by mass of the cyclic polyolefin (A). The content of the component (C) is preferably 0.2 to 20 parts by mass.
By containing the component (C), high compatibility performance with respect to inorganic substances can be exhibited, but if the content is too large, the dielectric property tends to deteriorate. Therefore, the content of the component (C) is preferably not more than the above upper limit value.

<その他の成分>
本発明の熱可塑性樹脂組成物には、その他の成分として、樹脂組成物に常用されている配合剤を、本発明の効果を損なわない範囲で含有させることができる。
このような配合剤としては、例えば、熱安定剤、紫外線吸収剤、光安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、結晶核剤、防錆剤、無機充填材、ガラス繊維、発泡剤、及び顔料が挙げられる。
このうち、酸化防止剤、特にフェノール系、硫黄系又はリン系の酸化防止剤を含有させることが好ましい。
酸化防止剤は、本発明の熱可塑性樹脂組成物100質量部に対して0.01〜2質量部含有させることが好ましい。
<Other ingredients>
As other components, the thermoplastic resin composition of the present invention may contain a compounding agent commonly used in the resin composition as long as the effects of the present invention are not impaired.
Examples of such a compounding agent include a heat stabilizer, an ultraviolet absorber, a light stabilizer, an antioxidant, an antioxidant, a crystal nucleating agent, a rust preventive, an inorganic filler, a glass fiber, a foaming agent, and a pigment. Can be mentioned.
Of these, it is preferable to contain an antioxidant, particularly a phenol-based, sulfur-based or phosphorus-based antioxidant.
The antioxidant is preferably contained in an amount of 0.01 to 2 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the thermoplastic resin composition of the present invention.

また、本発明の効果を損なわない範囲で、前記成分(A)及び成分(C)以外の樹脂成分やエラストマー成分を含有させてもよい。
このような樹脂成分としては、例えば、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、エチレン−α−オレフィン共重合樹脂、プロピレン−α−オレフィン共重合樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合樹脂、エチレン−アクリル酸エステル共重合樹脂、エチレン−(メタ)アクリル酸共重合樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、エチレン−ビニルアルコール共重合体、アクリル系樹脂、及び石油樹脂スチレン−共役ジエンブロック共重合樹脂が挙げられる。
Further, a resin component or an elastomer component other than the component (A) and the component (C) may be contained as long as the effect of the present invention is not impaired.
Examples of such resin components include polyethylene resin, polypropylene resin, ethylene-α-olefin copolymer resin, propylene-α-olefin copolymer resin, ethylene-vinyl acetate copolymer resin, and ethylene-acrylic acid ester copolymer resin. , Ethylene- (meth) acrylic acid copolymer resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polyester resin, polyamide resin, ethylene-vinyl alcohol copolymer, acrylic resin, and petroleum resin styrene-conjugated diene block Copolymerized resin can be mentioned.

これらのその他の成分の配合は、熱可塑性樹脂の溶融混練に常用されている混練方法にて成分(A)に練り込んで添加しても構わないし、成分(A)と共に有機溶媒へ溶解させて混合しても構わない。 These other components may be added by kneading them into the component (A) by the kneading method commonly used for melt-kneading the thermoplastic resin, or they may be dissolved together with the component (A) in an organic solvent. You may mix them.

<熱可塑性樹脂組成物の製造方法>
本発明の熱可塑性樹脂組成物は、成分(A)及び(B)、必要に応じて成分(C)やその他の成分を、通常の押出機やバンバリーミキサー、ロール、ブラベンダープラストグラフ、ニーダーブラベンダー等を用いて常法で混練して製造することができる。
これらの製造方法の中でも、押出機、特に二軸押出機を用いることが好ましい。
<Manufacturing method of thermoplastic resin composition>
The thermoplastic resin composition of the present invention contains components (A) and (B), and if necessary, component (C) and other components in a normal extruder, Banbury mixer, roll, lavender plastograph, kneaderb. It can be produced by kneading with a conventional method using lavender or the like.
Among these manufacturing methods, it is preferable to use an extruder, particularly a twin-screw extruder.

本発明の熱可塑性樹脂組成物を押出機等で混練して製造する際には、通常180〜300℃、好ましくは220〜280℃に加熱した状態で溶融混練することによって製造することができる。 When the thermoplastic resin composition of the present invention is kneaded and kneaded with an extruder or the like, it can be produced by melt-kneading while heating to 180 to 300 ° C., preferably 220 to 280 ° C.

<成形体>
本発明の熱可塑性樹脂組成物を成形した成形体は、その表面に、アンテナ回路等の所望のパターン状にレーザービームが照射される。これによって回路パターンを設ける領域のみに、活性化された金属層が前記成形体の表面に形成される。また、後続する金属メッキのために有利な表面構造が発生する。
成形体はメッキ液に浸漬され、銅、ニッケル、金等を無電界メッキ(もしくは電界メッキ)で成形体表面、特に成形体表面のうち、前記の活性化された金属層の部分の表面にメッキが施され、回路パターンが形成される。
<Molded body>
The surface of the molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition of the present invention is irradiated with a laser beam in a desired pattern such as an antenna circuit. As a result, an activated metal layer is formed on the surface of the molded product only in the region where the circuit pattern is provided. Also, an advantageous surface structure is generated due to the subsequent metal plating.
The molded body is immersed in a plating solution, and copper, nickel, gold, etc. are plated on the surface of the molded body by electroless plating (or electric field plating), particularly on the surface of the activated metal layer portion of the surface of the molded body. Is applied to form a circuit pattern.

<成形方法>
本発明の熱可塑性樹脂組成物の成形は、通常の射出成形法、又は必要に応じて、ガスインジェクション成形法、射出圧縮成形法、ショートショット発泡成形法等の各種成形法を用いて行うことができ、成形体とすることができる。これによりによりレーザーダイレクトストラクチャリング用各種通信機器部材として用いることができる。
特に、本発明の熱可塑性樹脂組成物を射出成形することにより成形体とすることが好ましく、射出成形を行なう際の成形条件は以下の通りである。
成形温度は通常200〜300℃であり、好ましくは220〜280℃である。射出圧力は通常5〜100MPaであり、好ましくは10〜80MPaである。また、金型温度は通常0〜100℃であり、好ましくは30〜95℃である。
<Molding method>
The thermoplastic resin composition of the present invention can be molded by using an ordinary injection molding method or, if necessary, various molding methods such as a gas injection molding method, an injection compression molding method, and a short shot foam molding method. It can be a molded product. As a result, it can be used as various communication equipment members for laser direct structuring.
In particular, it is preferable that the thermoplastic resin composition of the present invention is injection-molded to form a molded product, and the molding conditions for performing injection molding are as follows.
The molding temperature is usually 200 to 300 ° C, preferably 220 to 280 ° C. The injection pressure is usually 5 to 100 MPa, preferably 10 to 80 MPa. The mold temperature is usually 0 to 100 ° C, preferably 30 to 95 ° C.

<用途>
本発明の熱可塑性樹脂組成物の成形体は、前記の通り、アンテナ回路等の所望のパターン状にレーザービームを照射し、その表面にメッキを施すことにより、メッキ付き成形体とすることができる。そして、このメッキ付き成形体のメッキは、アンテナとしての性能を保有することができる。このため、前記の照射及びメッキの施された前記メッキ付き成形体は、アンテナを有する携帯電子機器部品として、使用することが可能となる。
<Use>
As described above, the molded product of the thermoplastic resin composition of the present invention can be made into a plated molded product by irradiating a laser beam in a desired pattern such as an antenna circuit and plating the surface thereof. .. Then, the plating of this plated molded product can retain the performance as an antenna. Therefore, the irradiated and plated molded product can be used as a portable electronic device component having an antenna.

以下、実施例を用いて本発明の内容を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例によって限定されるものではない。以下の実施例における各種の製造条件や評価結果の値は、本発明の実施態様における上限または下限の好ましい値としての意味をもつものであり、好ましい範囲は前記した上限または下限の値と、下記実施例の値または実施例同士の値との組み合わせで規定される範囲であってもよい。 Hereinafter, the content of the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following Examples as long as the gist of the present invention is not exceeded. The values of various production conditions and evaluation results in the following examples have meanings as preferable values of the upper limit or the lower limit in the embodiment of the present invention, and the preferable ranges are the above-mentioned upper limit or lower limit values and the following. It may be in the range specified by the value of Examples or the combination of the values of Examples.

[物性]
<メルトフローレート(MFR)>
・装置:(株)東洋精機製作所製「メルトインデクサー」
・温度:230℃
・オリフィス孔径:2mm
・荷重:2.16kg
[Physical characteristics]
<Melt flow rate (MFR)>
・ Equipment: "Melt Indexer" manufactured by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd.
・ Temperature: 230 ℃
・ Orifice hole diameter: 2 mm
・ Load: 2.16kg

<ポリマーブロックの比率>
[カーボンNMRによる測定]
・装置:Bruker社製「AVANCE400分光計」
・溶媒:オルソジクロロベンゼン−h/パラジクロロベンゼン−d混合溶媒
・濃度:0.3g/2.5mL
・測定:13C−NMR
・共鳴周波数:400MHz
・積算回数:1536
・フリップ角:45度
・データ取得時間:1.5秒
・パルス繰り返し時間:15秒
・測定温度:100℃
H照射:完全デカップリング
<Ratio of polymer blocks>
[Measurement by carbon NMR]
-Device: Bruker's "AVANCE400 spectrometer"
-Solvent: Orthodichlorobenzene-h 4 / para-dichlorobenzene-d 4 mixed solvent-Concentration: 0.3 g / 2.5 mL
-Measurement: 13 C-NMR
・ Resonance frequency: 400MHz
・ Number of integrations: 1536
・ Flip angle: 45 degrees ・ Data acquisition time: 1.5 seconds ・ Pulse repetition time: 15 seconds ・ Measurement temperature: 100 ° C
1 H irradiation: Complete decoupling

<水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位、水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベル>
[プロトンNMRによる測定]
・装置:日本分光社製「400YH分光計」
・溶媒:重クロロホルム
・濃度:0.045g/1.0mL
・測定:H−NMR
・共鳴周波数:400MHz
・積算回数:8
・測定温度:18.5℃
・水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位の水素化レベル:6.8〜7.5ppmの積分値低減率
・水素化共役ジエンポリマーブロック単位の水素化レベル:5.7〜6.4ppmの積分値低減率
<Hydrogenation level of hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit, hydrogenation conjugated diene polymer block unit>
[Measurement by proton NMR]
・ Equipment: "400YH spectrometer" manufactured by JASCO Corporation
-Solvent: Deuterated chloroform-Concentration: 0.045 g / 1.0 mL
・ Measurement: 1 1 H-NMR
・ Resonance frequency: 400MHz
・ Number of integrations: 8
-Measurement temperature: 18.5 ° C
-Hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit hydrogenation level: 6.8 to 7.5 ppm integrated value reduction rate-Hydrogen conjugated diene polymer block unit hydrogenation level: 5.7 to 6.4 ppm integrated value reduction rate

<誘電正接>
得られたレーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物を用いて、インラインスクリュウタイプ射出成形機(JSW社製「J110AD」)により、射出圧力50MPa、シリンダー温度270℃、金型温度95℃にて、厚さ2mm×幅120mm×長さ120mmの試験片を成形した。
これを、厚さ1.5mm×幅1.5mm×長さ80mmにカットし、誘電正接用試験片とした。
PNA−LネットワークアナライザN5230A(アジレント・テクノロジー(株)製)を用いて、IEC62810に準拠し、周波数10GHz、測定温度23℃にて低誘電特性の指標である誘電正接を測定した。
本発明のレーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物の誘電正接は、0.002以下が好ましく、0.0015以下がより好ましい。
<Dissipation factor>
Using the obtained thermoplastic resin composition for laser direct structuring, an in-line screw type injection molding machine (“J110AD” manufactured by JSW) was used at an injection pressure of 50 MPa, a cylinder temperature of 270 ° C, and a mold temperature of 95 ° C. A test piece having a thickness of 2 mm, a width of 120 mm, and a length of 120 mm was molded.
This was cut into a thickness of 1.5 mm, a width of 1.5 mm, and a length of 80 mm to obtain a test piece for dielectric loss tangent.
Using a PNA-L network analyzer N5230A (manufactured by Agilent Technologies, Ltd.), the dielectric loss tangent, which is an index of low dielectric characteristics, was measured at a frequency of 10 GHz and a measurement temperature of 23 ° C. in accordance with IEC62810.
The dielectric loss tangent of the thermoplastic resin composition for laser direct structuring of the present invention is preferably 0.002 or less, more preferably 0.0015 or less.

<メッキ性>
得られたレーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物を用いて、インラインスクリュウタイプ射出成形機(JSW社製「J110AD」)により、射出圧力50MPa、シリンダー温度270℃、金型温度95℃にて、厚さ2mm×幅120mm×長さ120mmの試験片を成形した。
これを、厚さ2mm×幅60mm×長さ60mmにカットし、メッキ試験用試験片とした。
レーザー照射装置(SUNX製「LP−Z SERIES」)にて波長1064nm、YAGレーザー4W、8W及び12W、出力40%、2m/sにて照射した。
その後、無電解のMacDermid製、MIDCopper100XB Strikeを用い、メッキ槽内で65℃、30分間にてメッキ層形成処理を実施し、メッキ状態を目視にて判断した。
各レーザー出力において、メッキされた状態を○とし、メッキされなかった状態を×とした。いずれかのレーザー出力でメッキされた状態が好ましく、全てのレーザー出力でメッキされた状態がより好ましい。
<Plating property>
Using the obtained thermoplastic resin composition for laser direct structuring, an in-line screw type injection molding machine (“J110AD” manufactured by JSW) was used at an injection pressure of 50 MPa, a cylinder temperature of 270 ° C, and a mold temperature of 95 ° C. A test piece having a thickness of 2 mm, a width of 120 mm, and a length of 120 mm was molded.
This was cut into a thickness of 2 mm, a width of 60 mm, and a length of 60 mm to obtain a test piece for a plating test.
Irradiation was performed with a laser irradiation device (“LP-Z SERIES” manufactured by SUNX) at a wavelength of 1064 nm, YAG lasers 4W, 8W and 12W, an output of 40%, and 2 m / s.
Then, using an electroless MacDermid MIDCoper100XB Strike, a plating layer forming treatment was carried out at 65 ° C. for 30 minutes in a plating tank, and the plating state was visually judged.
In each laser output, the plated state was marked with ◯, and the unplated state was marked with x. A state plated with any laser output is preferable, and a state plated with all laser outputs is more preferable.

[原料]
<環状ポリオレフィン(A−1)>
三菱ケミカル(株)製 「ゼラス(商標登録)MC930」
・密度(ASTM D792):0.94g/cm
・MFR(230℃、2.16kg):1g/10分
・水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位:含有率67モル%、水素化レベル99.5%以上の水素化ポリスチレン
・水素化共役ジエンポリマーブロック単位:含有率33モル%、水素化レベル99.5%以上の水素化ポリブタジエン
・ブロック構造:ペンタブロック構造、合計水素化レベル:99.5%以上
[material]
<Cyclic polyolefin (A-1)>
"Zeras (registered trademark) MC930" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
-Density (ASTM D792): 0.94 g / cm 3
-MFR (230 ° C, 2.16 kg): 1 g / 10 minutes-Hydrogenated aromatic vinyl polymer block Unit: Hydrogenated polystyrene with a content of 67 mol% and hydrogenation level of 99.5% or more-Hydrogenated conjugated diene polymer block Unit: Hydrogenated polybutadiene block structure: pentablock structure, total hydrogenation level: 99.5% or more, content rate 33 mol%, hydrogenation level 99.5% or more

<レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B−1)>
シェファード社製 Black1G:銅・クロム(III)複合酸化物
<レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B−2)>
Keeling&Walker社製 CP5C:アンチモン含有酸化錫(酸化錫95質量%、酸化アンチモン5質量%、酸化鉛0.02質量%、酸化銅0.004質量%)
<Laser direct structuring additive (B-1)>
Black1G manufactured by Shepherd: Copper-chromium (III) composite oxide <Laser direct structuring additive (B-2)>
Keeling & Walker CP5C: Antimony-containing tin oxide (95% by mass of tin oxide, 5% by mass of antimony oxide, 0.02% by mass of lead oxide, 0.004% by mass of copper oxide)

<酸変性環状ポリオレフィン(C−1)>
三菱ケミカル(株)製 「ゼラス(商標登録)MC940AP」
・密度(ASTM D792):0.94g/cm
・MFR(230℃、2.16kg):3g/10分
・水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位:含有率67モル%、水素化レベル99.5%以上の水素化ポリスチレン
・水素化共役ジエンポリマーブロック単位:含有率33モル%、水素化レベル99.5%以上の水素化ポリブタジエン
・ブロック構造:ペンタブロック構造、合計水素化レベル:99.5%以上
・マレイン酸変性率:1.2質量%
<Acid-modified cyclic polyolefin (C-1)>
"Zeras (registered trademark) MC940AP" manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation
-Density (ASTM D792): 0.94 g / cm 3
-MFR (230 ° C, 2.16 kg): 3 g / 10 minutes-Hydrogenated aromatic vinyl polymer block Unit: Hydrogenated polystyrene with a content of 67 mol% and hydrogenation level of 99.5% or more-Hydrogenated conjugated diene polymer block Unit: Hydrogenated polybutadiene block structure: pentablock structure, total hydrogenation level: 99.5% or more, maleic acid modification rate: 1.2% by mass, content rate 33 mol%, hydrogenation level 99.5% or more

[実施例1]
成分(A−1)100質量部、成分(B−1)11質量部を、同方向2軸押出機(パーカコーポレーション社製 HK25D Φ25、L/D=41)にて5kg/hの速度で投入し、240℃の範囲で昇温させて溶融混練を行ない、熱可塑性樹脂組成物を製造した。
得られたペレットを用いて、評価を行なった。結果を表1に示す。
[Example 1]
100 parts by mass of component (A-1) and 11 parts by mass of component (B-1) are charged at a speed of 5 kg / h with a twin-screw extruder (HK25D Φ25, L / D = 41 manufactured by Parka Corporation) in the same direction. Then, the temperature was raised in the range of 240 ° C. and melt-kneaded to produce a thermoplastic resin composition.
The obtained pellets were used for evaluation. The results are shown in Table 1.

[実施例2〜8、比較例1]
表1に示す配合にしたこと以外は実施例1と同様にして、熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。
得られたペレットを用いて、実施例1と同様に評価を行なった。結果を表1に示す。
[Examples 2 to 8, Comparative Example 1]
Pellets of the thermoplastic resin composition were obtained in the same manner as in Example 1 except that the formulations shown in Table 1 were used.
The obtained pellets were used for evaluation in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 1.

Figure 2021014549
Figure 2021014549

<評価結果>
表1より、本発明に該当する実施例1〜8は低誘電特性及びメッキ性に優れることがわかった。
成分(B)の添加量が多いほどメッキ性が優れていた。これに対して、成分(B)を含まない比較例1はメッキ性が劣っていた。
<Evaluation result>
From Table 1, it was found that Examples 1 to 8 corresponding to the present invention were excellent in low dielectric property and plating property.
The larger the amount of the component (B) added, the better the plating property. On the other hand, Comparative Example 1 containing no component (B) was inferior in plating property.

本発明のレーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物及び成形体はメッキ性及び低誘電特性に優れ、LDS法によるメッキ形成の高速通信機器用基板材料として非常に有用であり、内装及び外装部品に用いることができる。 The thermoplastic resin composition for laser direct structuring and the molded product of the present invention are excellent in plating property and low dielectric property, and are very useful as a substrate material for high-speed communication equipment for plating formation by the LDS method, and are used for interior and exterior parts. Can be used.

Claims (14)

環状ポリオレフィン(A)と、レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)とを含有する熱可塑性樹脂組成物であって、
該環状ポリオレフィン(A)が、少なくとも1種の芳香族ビニルモノマー単位及び少なくとも1種の共役ジエンモノマー単位を含むブロックコポリマーの水素化体である水素化ブロックコポリマーからなり、
該水素化ブロックコポリマーは、前記芳香族ビニルモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位、及び前記共役ジエンモノマー単位からなるポリマーブロックの水素化体である水素化共役ジエンポリマーブロック単位を有し、
該水素化ブロックコポリマーは、前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位を少なくとも2個有すると共に、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位を少なくとも1個有する、熱可塑性樹脂組成物。
A thermoplastic resin composition containing a cyclic polyolefin (A) and a laser direct structuring additive (B).
The cyclic polyolefin (A) comprises a hydrogenated block copolymer which is a hydride of a block copolymer containing at least one aromatic vinyl monomer unit and at least one conjugated diene monomer unit.
The hydrogenated block copolymer is a hydrogenated product of a hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit, which is a hydride of a polymer block composed of the aromatic vinyl monomer unit, and a hydride of a polymer block composed of the conjugated diene monomer unit. Has a conjugated diene polymer block unit,
The hydrogenated block copolymer is a thermoplastic resin composition having at least two hydrogenated aromatic vinyl polymer block units and at least one hydrogenated conjugated diene polymer block unit.
前記熱可塑性樹脂組成物中の樹脂成分100質量部に対して、前記レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)3〜30質量部を含有する、請求項1に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The thermoplastic resin composition according to claim 1, which contains 3 to 30 parts by mass of the laser direct structuring additive (B) with respect to 100 parts by mass of the resin component in the thermoplastic resin composition. 前記レーザーダイレクトストラクチャリング添加剤(B)が、銅クロム酸化物及びアンチモン含有酸化錫から選ばれる1種以上である、請求項1又は2に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The thermoplastic resin composition according to claim 1 or 2, wherein the laser direct structuring additive (B) is at least one selected from copper chromium oxide and antimony-containing tin oxide. 前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が90%以上の水素化レベルをもち、かつ、前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位が95%以上の水素化レベルをもつ、請求項1〜3のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 Any one of claims 1 to 3, wherein the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit has a hydrogenation level of 90% or more, and the hydrogenated conjugated diene polymer block unit has a hydrogenation level of 95% or more. The thermoplastic resin composition according to the section. 前記水素化芳香族ビニルポリマーブロック単位が水素化ポリスチレンからなり、前記環状ポリオレフィン(A)中の含有率が30〜99モル%である、請求項1〜4のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The thermoplastic according to any one of claims 1 to 4, wherein the hydrogenated aromatic vinyl polymer block unit is made of polystyrene hydride and the content in the cyclic polyolefin (A) is 30 to 99 mol%. Resin composition. 前記水素化共役ジエンポリマーブロック単位が水素化ポリブタジエンからなり、前記環状ポリオレフィン(A)中の含有率が1〜70モル%である、請求項1〜5のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The thermoplastic resin according to any one of claims 1 to 5, wherein the hydrogenated conjugated diene polymer block unit is made of hydrogenated polybutadiene, and the content in the cyclic polyolefin (A) is 1 to 70 mol%. Composition. 前記環状ポリオレフィン(A)100質量部に対して、更に、酸変性環状ポリオレフィン(C)0〜50質量部を含有する、請求項1〜6のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 6, further containing 0 to 50 parts by mass of the acid-modified cyclic polyolefin (C) with respect to 100 parts by mass of the cyclic polyolefin (A). レーザーダイレクトストラクチャリング用熱可塑性樹脂組成物である、請求項1〜7のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物。 The thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 7, which is a thermoplastic resin composition for laser direct structuring. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の熱可塑性樹脂組成物を成形した成形体。 A molded product obtained by molding the thermoplastic resin composition according to any one of claims 1 to 7. 表面にメッキを有する、請求項9に記載の成形体。 The molded product according to claim 9, which has a plating on the surface. 前記メッキがアンテナとしての性能を保有する、請求項10に記載の成形体。 The molded product according to claim 10, wherein the plating retains the performance as an antenna. 携帯電子機器部品である、請求項9〜11のいずれか1項に記載の成形体。 The molded product according to any one of claims 9 to 11, which is a portable electronic device component. 請求項9に記載の成形体の表面に、レーザーを照射後、銅メッキ層を形成する、メッキ付き成形体の製造方法。 A method for producing a plated molded product, wherein a copper-plated layer is formed on the surface of the molded product according to claim 9 after irradiating the surface with a laser. 請求項13に記載のメッキ付き成形体の製造方法を含む、アンテナを有する携帯電子機器部品の製造方法。 A method for manufacturing a portable electronic device component having an antenna, which comprises the method for manufacturing a plated molded product according to claim 13.
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