JP2021011471A - ナフチルベンゾシロール化合物の固体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】２５℃で固体である、以下式（１）で表される化合物及びその製造方法を提供すること。【解決手段】周期表７族、８族、９族および１０族の第５周期〜第６周期の遷移金属からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の化合物存在下、以下式（２）で表される化合物を脱水素反応させる工程を備える製造方法により以下式（１）で表される化合物を製造することで、前記課題が解決可能となる。（式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）【選択図】なし

Description

本発明は、有機ＥＬ素子、有機半導体、有機薄膜太陽電池等の原料モノマーとして使用されるナフチルベンゾシロール化合物の固体およびその製造方法に関する。

二つの芳香環がケイ素で架橋された化合物（ベンゾシロール化合物）は有機ＥＬ素子、有機半導体、有機薄膜太陽電池等の原料モノマーとして有用であることが知られている。特に多環芳香族基を持つベンゾシロール化合物は、有機ＥＬ素子、有機半導体、有機薄膜太陽電池等に活用され得るグラフェンナノリボンの原料モノマーとして有用とされている（例えば特許文献１）。

国際公開２０１７／１３１１９０号パンフレット

多環芳香族基を持つベンゾシロール化合物の中でも以下式（１）：

で表される化合物（ナフチルベンゾシロール化合物）は置換基としてオクチルジアルキル基を有している為、置換基を有さないナフチルベンゾシロール化合物に比し溶媒溶解性に優れるとの特徴を有することから特に原料モノマーとして有用である。係る特性に基づき、本願特許出願人らは上記式（１）で表される化合物が前記したグラフェンナノリボンの原料モノマーとして有用であることを見出し、別途特許出願を行った（特願２０１９−１１６６６３号）。本出願には、上記特願２０１９−１１６６６３号の内容は、参照により援用される。

上記式（１）で表される化合物の合成ルートとしては以下式（３）：

で表される化合物を、過酸化物を用いて選択的に環化させるルート（Ｘｕ，Ｌ．；Ｚｈａｎｇ，Ｓ．；Ｌｉ， Ｐ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．Ｆｒｏｎｔ．２０１５，２，４５９−４６３．）が考えられるが、該方法で製造される上記式（１）で表される化合物は、シリカゲルカラムクロマトグラフィーや分取ＧＰＣを用いて精製しても２５℃で液体であった為、常温では液体であると考えられていた。

本発明の目的は、２５℃で固体である、上記式（１）で表される化合物及びその製造方法を提供することにある。

本発明者らは、前記の課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、上記式（１）で表される化合物を特定の条件で製造することによって、常温では液体であると考えられていた上記式（１）化合物が結晶化し固体となることを見出した。具体的には以下の発明を含む。

項１．２５℃で固体である、以下式（１）で表される化合物。

（式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）
項２．示差走査熱量分析による融解吸熱最大温度が６２〜６７℃である、以下式（１）で表される化合物の固体。

（式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）
項３．回折角２θ＝４．９±０．２°、９．８±０．２°、１５．４±０．２°及び１６．５±０．２°ピークを有する、以下式（１）で表される化合物の固体。

（式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）
項４．以下式（１）：

（式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）
で表される化合物の製造方法であって、
周期表７族、８族、９族および１０族の第５周期〜第６周期の遷移金属からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の化合物存在下、以下式（２）：

（式中、Ｅｔ及びｎ−Ｏｃｔｙｌは前記に同じである。）
で表される化合物を脱水素反応させる工程を備える、製造方法。

項５．周期表７族、８族、９族および１０族の第５周期〜第６周期の遷移金属からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属が、ロジウム、ルテニウム、イリジウムおよび白金からなる群から選ばれる少なくとも１種である、項４記載の製造方法。

項６．以下式（２）で表される化合物。

（式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）

本発明によれば、２５℃で固体である、上記式（１）で表される化合物及びその製造方法を提供することが可能となる。上記式（１）で表される化合物が液体である場合、工業的に大規模で実施可能な精製方法としては蒸留が考えられるが、蒸留により精製する場合、上記式（１）で表される化合物の沸点が高い一方、高温とすることにより上記式（１）で表される化合物の分解が考えられる為、高真空下で蒸留することが必要となるが、係る条件で蒸留することは設備面から一般的に実施困難であることが多い。一方、２５℃、即ち常温で固体であれば、晶析等の大規模かつ工業的実施が容易な方法によって精製が可能であることから、高純度である上記式（１）で表される化合物を大量に提供することが可能となる。

実施例１で得られた結晶（本発明の固体）の示差走査熱量測定（ＤＳＣ）曲線を表す図である。 実施例１で得られた結晶（本発明の固体）の粉末Ｘ線回折パターンを表す図である。

本明細書において、「含有」は、「含む（comprise）」、「実質的にのみからなる（consist essentially of）」、及び「のみからなる（consist of）」のいずれも包含する概念である。また、本明細書において、数値範囲を「Ａ〜Ｂ」で示す場合、Ａ以上Ｂ以下を意味する。

＜上記式（１）で表される化合物の固体＞
本発明の上記式（１）で表される化合物の固体は２５℃で固体であればよく、非晶質体であっても結晶であっても、これらの混合物であっても前記した本発明の効果が発現し得る。また結晶である場合、どのような構造であってもよい（複数の結晶形を示し得る、結晶多形体であってもよい）が、典型的には下記する（ａ）または（ｂ）の特徴の内、少なくとも一つの特徴を示し得る。

（ａ）後述する実施例の項にて記載される条件によって測定される示差走査熱量分析による融解吸熱最大温度が６２〜６７℃。

（ｂ）後述する実施例の項にて記載される条件によって測定されるＣｕ−Ｋα線による粉末Ｘ線回折パターンにおいて、回折角２θ＝４．９±０．２°、９．８±０．２°、１５．４±０．２°及び１６．５±０．２°に特徴的なピークを有する。次いで、１４．１±０．２°及び１４．６±０．２°に強度の高いピークを有する。

このような上記式（１）で表される化合物の固体は、２５℃で固体である。上記式（１）で表される化合物が液体である場合、工業的に大規模で実施可能な精製方法としては蒸留が考えられるが、蒸留により精製する場合、上記式（１）で表される化合物の沸点が高い一方、高温とすることにより上記式（１）で表される化合物の分解が考えられる為、高真空下で蒸留することが必要となるが、係る条件で蒸留することは設備面から一般的に実施困難であることが多い。一方、２５℃、即ち常温で固体であることにより、晶析等の大規模かつ工業的実施が容易な方法によって精製が可能であることから、高純度である上記式（１）で表される化合物を大量に提供することが可能となる。

このような上記式（１）で表される化合物の固体は、有機ＥＬ素子、有機半導体、有機薄膜太陽電池等の原料モノマーとして使用することができる。

＜上記式（１）で表される化合物の固体の製造方法＞
本発明の上記式（１）で表される化合物の固体は、周期表７族、８族、９族および１０族の第５周期〜第６周期の遷移金属からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の化合物存在下、以下式（２）：

（式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）
で表される化合物を脱水素反応することによって得られる（以下、係る反応を「本反応」と称することがある）。

上記式（２）で表される化合物は公知の方法を組み合わせることによって製造可能であり、具体的に例えば、後述する実施例の項にて記載される方法により製造することができる。

周期表７族、８族、９族および１０族の第５周期〜第６周期の遷移金属からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の化合物（以下、「金属触媒」と称することもある）として具体的に例えば、周期表７族の金属の化合物としては、マンガン、テクネチウム、レニウム等の金属の化合物が挙げられ、周期表８族の金属の化合物としては、鉄、ルテニウム、オスミウム等の金属の化合物が挙げられ、周期表９族の金属の化合物としては、コバルト、ロジウム、イリジウム等の金属の化合物が挙げられ、周期表１０族の金属の化合物としては、ニッケル、パラジウム、白金等の金属の化合物が挙げられる。これら金属の化合物の中でもロジウム、レニウム、ルテニウム、イリジウムおよび白金からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の化合物が好ましく、特に１価のロジウム化合物が好ましい。

金属触媒として例えば錯体、ハロゲン化物、酸化物等が挙げられ、錯体であることが好ましい。錯体として具体的に例えば、カルボニル錯体、トリメチルホスフィン錯体、トリエチルホスフィン錯体、トリブチルホスフィン錯体、トリ−ｓｅｃ−ブチルホスフィン錯体、トリ−ｔｅｒｔ−ブチルホスフィン錯体、トリシクロへキシルホスフィン錯体、トリフェニルホスフィン錯体、メチルジフェニルホスフィン錯体、ジメチルフェニルホスフィン錯体、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）エタン錯体、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパン錯体、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）ブタン錯体、１，２−ビス（ジフェニルホスフィノ）−１，１’−ビナフチル錯体、トリフルオロメタンスルホネート錯体、アセテート錯体、プロピオネート錯体、ブチレート錯体、アセチルアセトナート錯体、エチレン錯体、シクロオクテン錯体、シクロオクタジエン錯体、ノルボルナジエン錯体などが挙げられる。

金属触媒の具体例として、マンガンを含む金属触媒として具体的には、Ｍｎ_２（ＣＯ）_１０等が挙げられ、レニウムを含む金属触媒として具体的には、Ｒｅ_２（ＣＯ）_１０、ＲｅＣｌ（ＣＯ）_５、ＲｅＢｒ（ＣＯ）_５、［ＲｅＢｒ（ＣＯ）_３（ｔｈｆ）］_２、ＲｅＣｌ_３、ＲｅＣｌ_３（ＰＭｅ_２Ｐｈ）_３、ＲｅＯＣｌ_３（ＰＰｈ_３）_２等が挙げられ、鉄を含む金属触媒として具体的には、Ｆｅ_３（ＣＯ）_１２等が挙げられ、ルテニウムを含む金属触媒として具体的には、Ｒｕ_３（ＣＯ）_１２、ＲｕＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_３、ＲｕＣｌＨ（ＣＯ）（ＰＰｈ_３）_３、ＲｕＣｌ_３等が挙げられ、オスミウムを含む金属触媒として具体的には、Ｏｓ_３（ＣＯ）_１２等が挙げられ、ロジウムを含む金属触媒として具体的には、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ_３）_３、Ｒｈ_４（ＣＯ）_１２、［ＲｈＣｌ（ＣＯ）_２］_２、ＲｈＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ_３）_２、［Ｒｈ（ＯＡｃ）_２］_２、［ＲｈＣｌ（ｃｏｄ）］_２、ＲｈＣｌ_３・３Ｈ_２Ｏ等が挙げられ、イリジウムを含む金属触媒として具体的には、Ｉｒ_４（ＣＯ）_１２等が挙げられ、白金を含む金属触媒として具体的には、ＰｔＯ_２等が挙げられる。なお、Ｍｅはメチル基を示し、Ｐｈはフェニル基を示し、Ａｃはアセチル基を示し、ｔｈｆはテトラヒドロフランを示し、ｃｏｄは１，５−シクロオクタジエンを示す。これら金属触媒の具体例の中でもロジウムを含む金属触媒である、ＲｈＣｌ（ＰＰｈ_３）_３、Ｒｈ_４（ＣＯ）_１２、［ＲｈＣｌ（ＣＯ）_２］_２、ＲｈＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ_３）_２、［Ｒｈ（ＯＡｃ）_２］_２、［ＲｈＣｌ（ｃｏｄ）］_２及びＲｈＣｌ_３・３Ｈ_２Ｏからなる群から選ばれる少なくとも一種の金属触媒が好ましい。

金属触媒の使用量は、上記式（２）で表される化合物１モルに対し、金属原子の量として通常１〜２０ミリモルが好ましく、３〜１０ミリモルがより好ましい。

本反応は通常、有機溶媒の存在下に実施することができる。使用可能な有機溶媒として例えば、炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、エステル、ケトン、アルコールからなる群から選ばれた少なくとも１種の有機溶媒が挙げられる。炭化水素として具体的に例えば、ペンタン、ヘキサン、へプタン等の脂肪族炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が挙げられ、ハロゲン化炭化水素としては、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン等が挙げられ、エーテルとしては、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル等が挙げられ、エステルとしては酢酸エチル、酢酸プロピル、エチレンジアセテート等が挙げられ、ケトンとしては、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられ、アルコールとしては、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコール、ベンジルアルコール等が挙げられる。これら溶媒の中でも工業的取扱の容易性から炭化水素が好ましく、具体的にはトルエン、キシレン等の芳香族炭化水素が特に好ましい。

有機溶媒を使用する場合の使用量は、上記式（２）で表される化合物１重量部に対し通常０．２〜１０重量部が好ましく、１〜５重量部がより好ましい。これら有機溶媒は必要に応じ２種以上併用してもよい。

本反応は通常６０〜１４０℃、好ましくは１００〜１３０℃で実施することができる。

本反応を実施する際、系中に副生する水素を捕捉する物質を併用してもよい。併用可能な物質として例えば脂肪族アルケン、脂肪族アルキン、脂肪族ケトン等の炭素―炭素不飽和結合を有する化合物、白金及び／又はパラジウムカーボン等の水素吸収能を有する物質等が挙げられる。脂肪族アルケンとして具体的に例えば、３，３−ジメチル−１−ブテン、１−ヘキセン、１，３−ブタジエンが挙げられ、脂肪族アルキンとして具体的に例えば２−ブチン、２−ペンチン、２，４−ヘキサジインが挙げられ、脂肪族ケトンとして具体的に例えばアセトン、ジイソプロピルケトン、ピナコロンが挙げられる。これら水素を捕捉する物質の使用量は特に限定されない。また、これら水素を捕捉する物質は必要に応じ２種以上併用してもよい。

本反応終了後、常法により上記式（１）で表される化合物を含む反応混合物から上記式（１）で表される化合物の固体を取り出すことが可能である。具体的に例えば、必要に応じ前記反応混合物に有機溶媒を添加して有機物を有機層に溶解させた後、金属触媒をシリカゲルにより吸着させ、得られた有機層を必要に応じ一部濃縮した後、晶析により上記式（１）で表される化合物の固体を取り出す方法が挙げられる。後処理で使用可能な有機溶媒として例えば、上述した本反応で使用可能な有機溶媒と同種の溶媒が挙げられる。

上記した方法によって得られた上記式（１）で表される化合物の固体は必要に応じ再晶析、吸着、分取等の常法により精製してもよい。再晶析により精製する場合、使用可能な有機溶媒として例えば、上述した本反応で使用可能な有機溶媒と同種の溶媒が挙げられる。

以下に実施例等を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明は何ら限定されるものではない。

（１）ＮＭＲ測定
^１Ｈ−ＮＭＲ及び^１３Ｃ−ＮＭＲは、内部標準としてテトラメチルシランを用い、溶媒として重クロロホルム（ＣＤＣｌ_３）を用いて、ＪＥＯＬ−ＥＳＣ６００（^１Ｈ ６００ＭＨｚ、^１３Ｃ １５０ＭＨｚ）またはＪＥＯＬ−ＥＳＣ４００（^１Ｈ ４００ＭＨｚ、^１３Ｃ １００ＭＨｚ、^１９Ｆ ３７６ＭＨｚ）分光計によって記録した。なお、各データは以下のように記載した。

化学シフト、多重度（ｓ＝ｓｉｎｇｌｅｔ、ｄ＝ｄｏｕｂｌｅｔ、ｄｄ＝ｄｏｕｂｌｅｔ ｏｆ ｄｏｕｂｌｅｔｓ、ｄｄｄ＝ｄｏｕｂｌｅｔ ｏｆ ｄｏｕｂｌｅｔ ｏｆ ｄｏｕｂｌｅｔｓ、ｔ＝ｔｒｉｐｌｅｔ、ｔｄ＝ｔｒｉｐｌｅｔ ｏｆ ｄｏｕｂｌｅｔｓ、ｑ＝ｑｕａｒｔｅｔ、ｍ＝ｍｕｌｔｉｐｌｅｔ）、結合定数（Ｈｚ）、及びｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ。

（２）高速原子衝突質量分析（ＦＡＢ−ＭＳ）
ＦＡＢ−ＭＳはマトリックスとして３−ニトロベンジルアルコールを用い、二重収束質量分析計（ＪＥＯＬ ＪＭＳ−７００）により高分解能質量スペクトル（ＨＲＭＳ）を取得した。

（３）示差走査熱量測定（ＤＳＣ）
上記式（１）で表される化合物の固体５ｍｇをアルミパンに精密に秤取し、示差走査熱量計（エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社：ＤＳＣ７０２０）を用い、酸化アルミニウムを対照として下記操作条件で測定した。

（操作条件）
昇温速度：１０℃／ｍｉｎ
測定範囲：２０−２００℃
雰囲気 ：開放、窒素４０ｍｌ／ｍｉｎ。

（４）粉末Ｘ線回折
上記式（１）で表される化合物の固体１０ｍｇをガラス試験板の試料充填部に充填し、粉末Ｘ線回折装置（Ｒｉｇａｋｕ社製：ＭｉｎｉＦｌｅｘ６００）を用いて下記の条件で測定した。

Ｘ線源 ：ＣｕＫα
出力 ：０．６ｋＷ（４０ｋＶ−１５ｍＡ）
測定範囲 ：２θ＝２°〜７０°
スキャン速度：２θ＝２°／ｍｉｎ
スリット ：ソーラースリット＝５°、高さ制限スリット＝１０ｍｍ、ＳＳ、ＲＳ＝可変（０．１ｍｍ〜）。

（５）以下実施例等で用いた分析／精製用の物質等について
分析用薄層クロマトグラフィー（ＴＬＣ）：Ｅ．Ｍｅｒｃｋシリカゲル６０ Ｆ２５４プレコートプレート（０．２５ｍｍ）
カラムクロマトグラム用シリカゲル：ＫＡＮＴＯシリカゲル６０Ｎ（球形、中性、４０〜１００μｍ）。

（６）分取用ＧＰＣ及び分取条件
装置：日本分析工業株式会社社製 ＪＡＩ ＬＣ−９２０４
カラム：日本分析工業株式会社社製 ＪＡＩＧＥＬ−１Ｈ／ＪＡＩＧＥＬ−２Ｈ
溶媒：クロロホルム
流速：１０−１８ｍＬ／ｍｉｎ。

＜製造例１＞
３−クロロ―３―エチルウンデカンの製造例

式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を、ＴＨＦはテトラヒドロフランを表す。

磁気撹拌子を入れた２００ｍＬの二口丸底フラスコに、削り層状マグネシウム（５．８ｇ、２４０ｍｍｏｌ）を加え、反応容器を減圧下にヒートガンで１０分間撹拌しながら加熱した。フラスコを室温に冷却した後、ｎ−オクチルブロミド（３７．１ｍＬ、２２５ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（１００ｍＬ）を加えた。この反応混合物に、１，２−ジブロモエタン（２滴、削り層状マグネシウムの活性化用）を加え、反応混合物を４０℃で１時間撹拌して、対応するＧｒｉｇｎａｒｄ試薬を調製した。磁気撹拌子を入れた別の３００ｍＬ二口丸底フラスコに、３−ペンタノン（化合物Ｓ１；１６．０ｍＬ、１５０ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（１００ｍＬ）を加えた。このケトン溶液に、上記の通り調製したＧｒｉｇｎａｒｄ試薬溶液を０℃で激しく撹拌しながら滴下した。次に反応混合物を４０℃まで昇温した後、同温度で１４時間撹拌した。

反応の進行をＴＬＣで確認した後、得られた反応混合物を水でクエンチした。有機層を飽和ＮＨ_４Ｃｌ水溶液及び水で洗浄し、Ｎａ_２ＳＯ_４で乾燥した後、Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別し、減圧下で溶媒を除去することにより、３−エチル−３−ヒドロキシルウンデカン（化合物Ｓ２）の粗生成物を得た。

次いで、上記操作によって得られた化合物Ｓ２の粗生成物及び磁気撹拌子を含む２００ｍＬ丸底フラスコに濃塩酸（３５ｍＬ）を加えた後、室温で１時間撹拌し、得られた混合物からジエチルエーテル（１００ｍＬ）を用いて有機物を３回抽出した。抽出した有機層を一つにまとめた後、ブラインで洗浄し、次いでＮａ_２ＳＯ_４で乾燥した。その後、Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別し、減圧下で溶媒を除去して粗生成物を得、得られた粗生成物をシリカゲル上のフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン）による精製により、３−クロロ−３−エチルウンデカン（化合物Ｓ３；１７．０ｇ）を得た。

＜参考例１＞
２５℃で液体である、式（１）で表される化合物の合成例

式中、Ｅｔはエチル基を表す。Ｂ_２ｐｉｎ_２はビス（ピナコラート）ジボロンを表す。ｄｂａはジベンジリデンアセトンを表す。Ｐｈはフェニル基を表す。ＡｃＯＫは酢酸カリウムを表す。Ｂｐｉｎはピナコラートボリル基を表す。ＤＭＥは１，２−ジメトキシエタンを表す。ｎ−ＢｕＬｉはｎ−ブチルリチウムを表す。ＴＨＦはテトラヒドロフランを表す。Ｍｅはメチル基を表す。ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表す。Ｃ_７Ｈ_５Ｆ_３はトリフルオロメチルベンゼンを表す。

窒素雰囲気下、磁気撹拌子を入れた２００ｍＬの二口丸底フラスコに、２−ナフトール（化合物Ｓ４；１２．０ｇ，８３．２ｍｍｏｌ）、３−クロロ−３−エチルウンデカン（化合物Ｓ３；２７．３ｇ，１２４．９ｍｏｌ）、及びＣＨ_２Ｃｌ_２（１２０ｍＬ）を加えた。その後、ＡｌＣｌ_３（１１．０ｇ，８３．２ｍｍｏｌ）を室温で加えた。その後４０℃まで昇温し、４０℃で６時間撹拌した後、メタノール（３０ｍＬ）を添加することにより反応をクエンチした。

その後、有機層を水で洗浄し、Ｎａ_２ＳＯ_４で乾燥した後、Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別し、減圧下で溶媒を除去することにより粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル上でのオープンカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ヘキサン＝４：１）により精製することによって、６−（３−エチル−ウンデシル）−２−ナフトール（化合物Ｓ５）を無色オイルとして得た（１３．０ｇ，収率４８％）。

窒素雰囲気下、磁気撹拌子を入れた２００ｍＬの二口丸底フラスコに、化合物Ｓ５（８．００ｇ，２４．５ｍｍｏｌ）及びＣＨ_２Ｃｌ_２（１２０ｍＬ）を加えた。その後、０℃まで冷却し、トリエチルアミン（６．８３ｍＬ，４９．０ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。その後、０℃で０．５時間撹拌した後、（ＣＦ_３ＳＯ_２）_２Ｏ（４．５３ｍＬ，２６．９ｍｍｏｌ）を加え、０℃で２時間さらに撹拌した。その後、水を加えることにより反応をクエンチした。

得られた反応混合物をＣＨ_２Ｃｌ_２（５０ｍＬ）を用いて３回抽出した。抽出した有機層を一つにまとめた後、ブラインで洗浄し、Ｎａ_２ＳＯ_４で乾燥した後、Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別し、減圧下で溶媒を除去することにより粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル上でのオープンカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ＣＨ_２Ｃｌ_２／ヘキサン＝４：１）によって精製することにより、６−（３−エチル−３−ウンデシル）−２−ナフチルトリフルオロメタンスルホネート（化合物Ｓ６）を無色オイルとして得た（６．１２ｇ）。

窒素雰囲気下、磁気撹拌子を入れた２００ｍＬの二口丸底フラスコに、１，４−ジオキサン（１２５ｍＬ）を先に加えた後、次いで化合物Ｓ６（５．００ｇ，１０．９ｍｍｏｌ）、ビス（ピナコラート）ジボロン（Ｂ_２ｐｉｎ_２；４．１５ｇ，１６．４ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）・クロロホルム付加物（Ｐｄ_２（ｄｂａ）_３・ＣＨＣｌ_３；１．１３ｇ，１．０９ｍｍｏｌ，１０ｍｏｌ％）、トリフェニルホスフィン（ＰＰｈ_３；３．６３ｍＬ，２．１８ｍｍｏｌ，２０ｍｌ％）及び酢酸カリウム（ＡｃＯＫ；３．２１ｇ，３２．７ｍｍｏｌ）を加えた。その後、１００℃まで昇温し、１００℃で４時間撹拌した後、反応を水でクエンチした。

得られた反応混合物をＣＨ_２Ｃｌ_２（４０ｍＬ）で３回抽出し、抽出した有機層を一つにまとめた後、ブラインで洗浄し、次いでＮａ_２ＳＯ_４で乾燥した後、Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別し、減圧下で溶媒を除去することにより粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル上のフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン／ＣＨ_２Ｃｌ_２＝４：１）によって精製することにより、２−（６−（３−エチル−３−ウンデシル）−２−ナフチル）−４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン（化合物Ｓ７）を無色オイルとして得た（４．１１ｇ，収率８４％）。

窒素雰囲気下、磁気撹拌子を入れた２００ｍＬ二口丸底フラスコに１，２−ジメトキシエタン（３０ｍＬ）、水（１５ｍＬ）を先に加えた後、次いで化合物Ｓ７（３．１５ｇ，７．２１ｍｍｏｌ）、１−ブロモ−２−ヨードベンゼン（１．７０ｇ，６．０１ｍｍｏｌ）、ジクロロビス（トリフェニルホスフィン）パラジウム（２）（ＰｄＣｌ_２（ＰＰｈ_３）_２；８４２ｍｇ，１．２ｍｍｏｌ，２０ｍｏｌ％）、及びＫ_２ＣＯ_３（２．０８ｇ，１５．０ｍｍｏｌ）を加えた。８０℃まで昇温後、８０℃で５時間撹拌した後、１，２−ジメトキシエタンを蒸発させた。

得られた反応混合物に、水（４０．０ｍＬ）及びジエチルエーテル（２０．０ｍＬ） を添加し、その後有機層を分離した。水層をジエチルエーテル（２０ｍＬ）を用いて３回抽出した。抽出した有機層を一つにまとめた後、有機層をブラインで洗浄し、次いでＮａ_２ＳＯ_４で乾燥した後、Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別し、減圧下で溶媒を除去することにより粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル上のフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン）によって精製することにより、２−（２−ブロモフェニル）−６−（３−エチル−３−ウンデシル）ナフタレン（化合物Ｓ８）を無色オイルとして得た（２．５０ｇ，収率７４％）。

窒素雰囲気下、磁気撹拌子を入れた２００ｍＬの二口丸底フラスコに、化合物Ｓ８（２．５０ｇ，５．３７ｍｍｏｌ）及びテトラヒドロフラン（ＴＨＦ；１００ｍＬ）を加えた。反応混合物を−７８℃まで冷却した後、ｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ；ｎ−ヘキサン中１．６Ｍ，５．０３ｍＬ，８．０６ｍｍｏｌ）を−７８℃で滴下した。その後、反応混合物を−７８℃で１５分間撹拌した後、蒸留したクロロジメチルシラン（０．９７ｍＬ，８．０６ｍｍｏｌ）を−７８℃で加えた。その後、反応混合物を室温まで昇温し、室温で２４時間撹拌した後、反応混合物を水でクエンチした。その後、得られた反応混合物からジエチルエーテルを用いて目的物を抽出した。その後、有機層をブラインで洗浄し、次いでＮａ_２ＳＯ_４で乾燥した後、Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別し、減圧下で溶媒を除去することにより粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル上のフラッシュカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン）によって精製することにより、無色オイルとして（２−（６−（３−エチル−３−ウンデシル）−２−ナフチル）フェニル）ジメチルシラン（化合物Ｓ９）を得た（２．１２ｇ，収率８８％）。

窒素雰囲気下、磁気撹拌子を入れた２００ｍＬの二口丸底フラスコに、化合物Ｓ９（１．３ｇ，２．９０ｍｍｏｌ）及びトリフルオロメチルベンゼン（５０ｍｌ）を加えた。次いで、２−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−２−メチルプロパン（１．６１ｍＬ，８．７７ｍｍｏｌ）を室温で加えた。その後、反応混合物を１３０℃まで昇温し、同温度で３６時間撹拌した。その後室温に冷却し、反応混合物を減圧下で溶媒を除去することにより粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン／ＣＨ_２Ｃｌ_２＝１９：１）によって精製することにより、３−（３−エチル−３−ウンデシル）−１１，１１−ジメチル−１１Ｈ−ベンゾ［ｂ］ナフト［２，１−ｄ］シロール（化合物（１））を無色オイルとして得た（０．７２ｇ、収率５５％）。得られた無色オイルの一部を更に分取用ＧＰＣを用いて再精製したが、固体とはならず、オイル状の化合物（１）が得られた。

得られた２５℃で液状（オイル）である、化合物（１）の各分析値は下記の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤ_２Ｃｌ_２）：δ ７．９５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．８７−７．９０（ｍ，２Ｈ），７．７８−７．８０（ｍ，１Ｈ），７．６８−７．７２（ｍ，２Ｈ），７．５１−７．５５（ｍ，１Ｈ），７．４４−７．４７（ｍ、１Ｈ），７．２８−７．３０（ｍ，１Ｈ），１．７６−１．７８（ｍ，２Ｈ），１．３５−１．３７（ｍ，２Ｈ），１．０８−１．２３（ｍ，１２Ｈ），０．７９−０．８５（ｍ，９Ｈ），０．６５−０．７０（ｍ，３Ｈ），０．５５（ｓ，６Ｈ）。
^１３Ｃ ＮＭＲ（１５０ＭＨｚ，ＣＤ_２Ｃｌ_２）：δ １４８．１，１４６．７，１３９．２，１３７．１，１３６．８，１３３．０，１３２．６，１３０．９，１３０．２，１２８．９，１２８．４，１２７．４，１２６．６，１２５．４，１２１．０，１１９．８，３１．９，３１．６，２９．７２（２Ｃ），２９．６８，２９．４，２２．７，２２．２（２Ｃ），１４．１，１１．８，−２．８１。
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ＋）ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ_３２Ｈ_４３Ｓｉ［Ｍ＋Ｈ］^＋；４４３．３１２９，ｆｏｕｎｄ ４４３．３１２６。

＜実施例１＞
２５℃で固体である、式（１）で表される化合物の合成例

式中、ＮＢＳはＮ−ブロモスクシンイミドを表す。ＤＭＦはＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドを表す。Ｔｆはトリフルオロメタンスルホニル基を表す。Ｐｈはフェニル基を表す。ｄｂａはジベンジリデンアセトンを表す。ｄｐｐｐは１，３−ビス（ジフェニルホスフィノ）プロパンを表す。Ｅｔはエチル基を示す。ｎ−ＢｕＬｉはｎ−ブチルリチウムを表す。ＴＨＦはテトラヒドロフランを表す。Ｍｅはメチル基を表す。ｔ−Ｂｕはｔｅｒｔ−ブチル基を表す。n-octylはノルマルオクチル基を表す。

窒素雰囲気下、磁気攪拌子を入れた１Ｌの二口丸底フラスコに化合物Ｓ５（１０．８２ｇ，３３ｍｍｏｌ）及びＤＭＦ（１２５ｍｌ）を加えた。この反応混合物にＤＭＦ（４０ｍｌ）に溶かしたＮＢＳ（５．８９ｇ，３３ｍｍｏｌ）を室温にて３０分間ゆっくり滴下した。室温にて１４時間攪拌した後、水でクエンチし、酢酸エチル（２０ｍｌ）で３回抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、次いでＮａ_２ＳＯ_４で乾燥した。濾過後、溶媒を減圧下で除去して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲル上でのクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン／酢酸エチル＝１５：１）により精製することにより、１−ブロモ−６−（３−エチル−ウンデシル）−２−ナフトール（化合物Ｓ１０）を無色のオイルとして得た（４．０２ｇ，収率６１％）。

窒素雰囲気下、磁気攪拌子を入れた１００ｍｌの二口丸底フラスコに、化合物Ｓ１０（６．４ｇ，１５．８ｍｍｏｌ）及びＣＨ_２Ｃｌ_２（３０ｍｌ）を加えた。その後、０℃まで冷却した後、ピリジン（１．５ｍｌ，１９．０ｍｍｏｌ）を０℃で加えた。反応混合物をこの温度で１０分攪拌した後、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（Ｔｆ_２Ｏ；２．９ｍｌ，１７．３ｍｍｏｌ）を加え、０℃で２時間さらに攪拌した後、反応を水でクエンチした。反応混合物を酢酸エチル（２０ｍｌ）で３回抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、次いでＮａ_２ＳＯ_４で乾燥した。Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別後、溶媒を減圧下で除去して粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル上でのクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン）により精製することにより、１−ブロモ−６−（３−エチル−ウンデシル）−２−ナフチルトリフルオロメタンスルホネート（化合物Ｓ１１）を黄色のオイルとして得た（７．５ｇ，収率８９％）。得られた化合物Ｓ１１の各分析値は下記の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ８．２３（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．８５（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），７．６８−７．７３（ｍ（ｄｄ，ｄ），２Ｈ），７．４０（ｄ，Ｊ＝８．７Ｈｚ，１Ｈ），１．７８（ｑ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，４Ｈ），１．６８−１．７５（ｍ，２Ｈ），１．１７−１．３１（ｍ，１０Ｈ），０．８５（ｔ，Ｊ＝６．９Ｈｚ，３Ｈ），０．６７（ｔ，Ｊ＝７．３Ｈｚ，６Ｈ）。
^１９Ｆ ＮＭＲ（３８２ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ −７３．２。

窒素雰囲気下、磁気攪拌子を入れた１００ｍｌの二口丸底フラスコに化合物Ｓ１１（７．５４ｇ、１４．０ｍｍｏｌ）、トリス（ジベンジリデンアセトン）ジパラジウム（０）（Ｐｄ_２（ｄｂａ）_３；２３１ｍｇ，０．２８ｍｍｏｌ）、ｄｐｐｐ（２３１ｍｇ、０．５６ｍｍｏｌ）、ＬｉＢｒ（１．２２ｇ、１４．０ｍｍｏｌ）及びジエチルエーテル（Ｅｔ_２Ｏ；１２ｍｌ）を加えた。この反応混合物を０℃まで冷却した後、フェニルマグネシウムブロミド（Ｅｔ_２Ｏ中３．０Ｍ、７．０１ｍｌ）を０℃で攪拌しながら滴下した。室温に昇温し、反応混合物を室温で２０時間攪拌した後、１Ｍ ＨＣｌでクエンチし、酢酸エチル（２０ｍｌ）で３回抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、次いでＮａ_２ＳＯ_４で乾燥した。Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別後、溶媒を減圧下で除去して粗生成物を得た。粗生成物をシリカゲル上でのクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン／酢酸エチル＝２０：１）により精製することにより、１−ブロモ−６−（３−エチル−ウンデシル）−２−フェニルナフタレン（化合物Ｓ１２）を淡黄色のオイルとして得た（５．１４ｇ、収率７９％）。得られた化合物Ｓ１２の各分析値は下記の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ８．３２（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ），７．８１（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．６４（ｄｄ，Ｊ＝２．０，９．１Ｈｚ，１Ｈ），７．４５−７．４９（ｍ，４Ｈ），７．４１（ｍ，２Ｈ），１．８１（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，４Ｈ），１．６９−１．７６（ｍ，２Ｈ），１．１６−１．３２（ｍ，１０Ｈ），０．９８−１．０８（ｍ，２Ｈ），０．８６（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），０．６８（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ）。
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ １４６．２，１４２．４，１３９．９，１３３．４，１３０．６，１２９．７（２Ｃ），１２８．３，１２７．９（２Ｃ），１２７．５，１２７．４（２Ｃ），１２７．２，１２５．８，１２２．１，４３．７，３６．４，３１．９，３０．５，２９．５，２９．３，２８．９（２Ｃ），２３．５，２２．６，１４．１，８．１（２Ｃ）。
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ＋）ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ_２９Ｈ_３７Ｂｒ［Ｍ＋Ｈ］^＋；４６４．２０７９，ｆｏｕｎｄ ４６４．２０７３。

窒素雰囲気下、磁気攪拌子を入れた２００ｍｌの二口丸底フラスコに化合物Ｓ１２（６．０ｇ、１２．８ｍｍｏｌ）及びＴＨＦ（６０ｍｌ）を加えた。この反応混合物を−７８℃に冷却した後、ｎ−ブチルリチウム（ｎ−ＢｕＬｉ；ｎ−ヘキサン中１．６Ｍ，８．８ｍＬ，１４．１ｍｍｏｌ）を--−７８℃で攪拌しながら滴下した。反応混合物を同温度で３０分間攪拌した後、クロロジメチルシラン（２．８ｍＬ，２５．６ｍｍｏｌ）を−７８℃で加え、更に同温度で１時間攪拌した。室温に昇温し１６時間攪拌し後、冷水でクエンチし、酢酸エチル（５０ｍｌ）で３回抽出した。合わせた有機層をブラインで洗浄し、次いでＮａ_２ＳＯ_４で乾燥した。Ｎａ_２ＳＯ_４をろ別後、溶媒を減圧下で除去して粗生成物を得た。得られた粗生成物をシリカゲル上でのクロマトグラフィー（溶離剤：ヘキサン）により精製することにより、６−（３−エチル−ウンデシル）−１−ジメチルシリル−２−フェニルナフタレン（化合物（２））を淡黄色のオイルとして得た（４．６７ｇ、収率８２％）。得られた化合物（２）の各分析値は下記の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ８．１９（ｄ，Ｊ＝９．１Ｈｚ，１Ｈ），７．８４（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），７．５４（ｄｄ，Ｊ＝２．０，９．１Ｈｚ，１Ｈ），７．３０−７．４５（ｍ，６Ｈ），４．４７（ｓｅｐ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），１．７９（ｑ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，４Ｈ），１．６６−１．７６（ｍ，２Ｈ），１．１６−１．３２（ｍ，１０Ｈ），０．９８−１．１０（ｍ，２Ｈ），０．８４（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，３Ｈ），０．６９（ｔ，Ｊ＝７．５Ｈｚ，６Ｈ），０．２５（ｓ，３Ｈ），０．２３（ｓ，３Ｈ）。
^１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ １４８．３，１４５．１，１４４．６，１３５．６，１３２．４，１３１．９，１２９．６１（２Ｃ），１２９．５７，１２８．０，１２７．８，１２７．６（２Ｃ），１２７．０，１２６．６，１２５．６，４３．５，３６．４，３１．９，３０．５，２９．６，２９．４，２９．０（２Ｃ），２３．５，２２．７，１４．１，８．１（２Ｃ），−１．８（２Ｃ）。
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ＋）ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ_３１Ｈ_４４Ｓｉ［Ｍ＋］^＋；４４４．３２１２，ｆｏｕｎｄ ４４４．３１９５。

窒素雰囲気下、磁気攪拌子を入れた２０ｍＬの丸底フラスコに化合物（２）（４４５ｍｇ、１ｍｍｏｌ）、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム（Ｉ）（Ｒｈ（ＰＰｈ_３）_３Ｃｌ；４６ｍｇ、０．０５ｍｍｏｌ）、３，３−ジメチル−１−ブテン（０．６５ｍｌ、５ｍｍｏｌ）及びトルエン（１ｍｌ）を加えた。この反応混合物をオイルバスを用いて昇温し、還流条件下（バス温＝１３０℃）で１時間攪拌した。その後、反応混合物を室温に冷却し後、シリカゲル（溶離剤：ヘキサン）を用いて金属を吸着させた後、濃縮することで３−（３−エチル−３−ウンデシル）−１１，１１−ジメチル−１１Ｈ−ベンゾ［ｂ］ナフト［２，１−ｄ］シロール（化合物（１））を無色の結晶として得た（３８５ｍｇ，収率８７％）。

得られた２５℃で固体（結晶）である、化合物（１）の各分析値は以下の通りである。
^１Ｈ ＮＭＲ（６００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ ７．９５（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），７．８７−７．９０（ｍ，２Ｈ），７．７８−７．８０（ｍ，１Ｈ），７．６８−７．７２（ｍ，２Ｈ），７．５１−７．５５（ｍ，１Ｈ），７．４４−７．４７（ｍ、１Ｈ），７．２８−７．３０（ｍ，１Ｈ），１．７６−１．７８（ｍ，２Ｈ），１．３５−１．３７（ｍ，２Ｈ），１．０８−１．２３（ｍ，１２Ｈ），０．７９−０．８５（ｍ，９Ｈ），０．６５−０．７０（ｍ，３Ｈ），０．５５（ｓ，６Ｈ）。
^１３Ｃ ＮＭＲ（１５０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ_３）：δ １４８．１，１４６．７，１３９．２，１３７．１，１３６．８，１３３．０，１３２．６，１３０．９，１３０．２，１２８．９，１２８．４，１２７．４，１２６．６，１２５．４，１２１．０，１１９．８，３１．９，３１．６，２９．７２（２Ｃ），２９．６８，２９．４，２２．７，２２．２（２Ｃ），１４．１，１１．８，−２．８１。
ＨＲＭＳ（ＦＡＢ＋）ｍ／ｚ ｃａｌｃｄ ｆｏｒ Ｃ_３２Ｈ_４３Ｓｉ［Ｍ＋Ｈ］^＋；４４３．３１２９，ｆｏｕｎｄ ４４３．３１２６。
ＤＳＣ融解吸熱最大温度：６４．５℃。

ＤＳＣ分析チャートを図１に、粉末Ｘ線のパターンを図２に示すと共に、粉末Ｘ線の主なピーク（１０％を超える相対強度を有するもの）を表１に記載する。

Claims (6)

1. ２５℃で固体である、以下式（１）で表される化合物。
   

   

   （式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）
2. 示差走査熱量分析による融解吸熱最大温度が６２〜６７℃である、以下式（１）で表される化合物の固体。
   

   

   （式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）
3. Ｃｕ−Ｋα線による粉末Ｘ線回折パターンにおいて、回折角２θ＝４．９±０．２°、９．８±０．２°、１５．４±０．２°及び１６．５±０．２°にピークを有する、以下式（１）で表される化合物の固体。
   

   

   （式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）
4. 以下式（１）：
   

   

   （式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）
   で表される化合物の製造方法であって、
   周期表７族、８族、９族および１０族の第５周期〜第６周期の遷移金属からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属の化合物存在下、以下式（２）：
   

   

   （式中、Ｅｔ及びｎ−Ｏｃｔｙｌは前記に同じである。）
   で表される化合物を脱水素反応させる工程を備える、製造方法。
5. 周期表７族、８族、９族および１０族の第５周期〜第６周期の遷移金属からなる群から選ばれた少なくとも１種の金属が、ロジウム、ルテニウム、イリジウムおよび白金からなる群から選ばれる少なくとも１種である、請求項４記載の製造方法。
6. 以下式（２）で表される化合物。
   

   

   （式中、Ｅｔはエチル基を、ｎ−Ｏｃｔｙｌはノルマルオクチル基を表す。）

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