JP2021001333A - フィルム用樹脂組成物及びそれを用いたエチレン系フィルム - Google Patents

Abstract

【課題】 光沢、透明性、衝撃強度、ヒートシール性、耐ピンホール性に優れるフィルム又はそのようなフィルムを与える樹脂組成物を提供する。【解決手段】 エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンに由来する構造単位（Ａ）と、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位（Ｂ）を必須構成単位として含む共重合体（Ｐ）中の、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の少なくとも一部が周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含有する金属含有カルボン酸塩に変換されてなり、回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δが、５０度〜７５度であることを特徴とするアイオノマーを含むフィルム用樹脂組成物、それを用いて成形されたフィルムである。【選択図】 なし

Description

本発明は、新規エチレン系アイオノマーを用いたフィルム用樹脂組成物、及びそれを用いたエチレン系フィルムに関するものである。さらに詳しくは、高剛性、高強度、高透明性、高光沢度、低温ヒートシール性の少なくとも一項目が優れたエチレン系フィルムに関する。

従来、フィルム形成用のエチレン系重合体としては、高圧ラジカル重合法により得られる、枝分れ分岐鎖を多数有する低密度ポリエチレン（ＬＤＰＥ）や、触媒重合法により得られる線状の低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ又はメタロセンＰＥ）が知られているが、前者は成形加工性が優れているものの、強度が低く、後者は強度が優れているものの成形加工性が低く、これらを全て満たすことは難しい。

一方、エチレン系アイオノマーは、エチレン−不飽和カルボン酸共重合体をベース樹脂とし、ナトリウムや亜鉛等の金属イオンで分子間結合した樹脂である（特許文献１）。強靭で弾性に富み、かつ柔軟性があり、耐摩耗性、及び透明性等の特徴がある。
現在、市販されているエチレン系アイオノマーとしては、Ｄｕｐｏｎｔ社が開発したエチレン−メタクリル酸共重合体のナトリウム塩や亜鉛塩「Ｓｕｒｌｙｎ（登録商標）」、及び、三井・ダウポリケミカル社が販売している「ハイミラン（登録商標）」等が知られている。

これら現在市販されているエチレン系アイオノマーに用いられるベース樹脂のエチレン−不飽和カルボン酸共重合体には、いずれも、エチレンと不飽和カルボン酸等の極性基含有モノマーを、高圧ラジカル重合法により重合した極性基含有オレフィン共重合体が用いられている。高圧ラジカル重合法は、比較的極性基含有モノマーの種類を選ばずに安価に重合可能であるという利点がある。しかし、この、高圧ラジカル重合法で製造される極性基含有オレフィン共重合体の分子構造は、図１に示すイメージ図のように、多くの長鎖分岐及び短鎖分岐を不規則に有する多分岐型の分子構造であり、強度的には不十分であるという欠点がある。

一方、従来より触媒を用いた重合方法を用いて、図２に示すイメージ図のように、分子構造が直鎖状の極性基含有オレフィン共重合体を製造する方法が模索されていたが、極性基含有モノマーは一般的に触媒毒となるため重合が難しく、実際に、工業的に安価で安定的な方法で、所望の物性を有する極性基含有オレフィン共重合体を得ることは長年難しいとされていた。
しかしながら近年、本願出願人等により開発された新触媒及び新製造方法を用いることにより、分子構造が実質的に直鎖状の極性基含有オレフィン共重合体を、工業的に安価で安定的に得る方法が提案されている。
そして、エチレン系アイオノマーのベース樹脂となる極性基含有オレフィン共重合体の製造方法として、後周期遷移金属触媒を用い、エチレンとアクリル酸ｔ−ブチルの共重合体を製造し、得られた極性基含有オレフィン共重合体を熱又は酸処理を行うことでエチレン−アクリル酸共重合体に変性した後、金属イオンと反応させ二元アイオノマーを製造することに成功したことが本願出願人等により報告されている（特許文献２）。

米国特許第３２６４２７２号明細書 特開２０１６−７９４０８号公報

フィルムにおいては、各種用途において要求される度合いが異なるものの、一般に、強度が高く、剛性と強度のバランスが良く、透明性が高いこと、光沢性があること、またヒートシール時の強度、低温ヒートシール性等が、それぞれ、又は組み合わせて求められている。しかしながら、従来のポリエチレン樹脂では、これら物性のうちどれか一つを飛躍的に向上した形で満たすものや、組み合わせて十分に満たすものを得ることは、従来の技術では難しい状況にあった。また、従来の多分岐型の分子構造を有するエチレン系アイオノマーを用いたフィルムも、常温から低温域における衝撃に対する耐性が十分ではなく、本発明者らが見出したところによると、耐屈曲性能に乏しく、ピンホールの発生が忌避される包装用途などにおいては不十分である。
本願は、かかる従来技術の状況に鑑み、フィルムの光沢、透明性、引張強度、突き刺し強度、耐ピンホール性、ヒートシール強度、常温域から低温域での衝撃強度に優れるフィルムとフィルム用樹脂組成物を提供することを目的とする。

上記課題の解決のため本発明者らが検討を重ねた結果、特定のアイオノマー樹脂を用いたフィルム用樹脂組成物をフィルム成形することで、フィルムに求められる物性に対し予想以上に格段に優れた効果を有することを見出した。
該エチレン系アイオノマーは、ベース樹脂が実質的に直鎖状の分子構造を有すると共にアイオノマーとしての機能も有する、従来にはない新規のエチレン系アイオノマーであり、その物性等は従来の多分岐型の分子構造を有するエチレン系アイオノマーとは大きく異なり、特有の特性及び適した用途についても未知である。本発明は、実質的に直鎖状のエチレン系アイオノマーを含む樹脂組成物をフィルム成形して得られたエチレン系フィルムが、従来のエチレン系樹脂フィルムの性能の域を超えて、フィルムに求められる物性の改良に関し優れた効果を有することを見出したことに基づくものである。

すなわち、本発明は以下の［１］〜［１９］で示されるとおりである。
［１］エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンに由来する構造単位（Ａ）と、
カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位（Ｂ）を必須構成単位として含む共重合体（Ｐ）中の、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の少なくとも一部が周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含有する金属含有カルボン酸塩に変換されてなり、
回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δが、５０度〜７５度であることを特徴とするアイオノマーを含むフィルム用樹脂組成物である。
［２］エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンに由来する構造単位（Ａ）と、
カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位（Ｂ）と、前記構造単位（Ａ）と前記構造単位（Ｂ）以外の、分子構造中に炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物である構造単位（Ｃ）を必須構成単位として含む共重合体（Ｐ）中の、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の少なくとも一部が周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含有する金属含有カルボン酸塩に変換されてなり、
回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δが、５０度〜７５度であることを特徴とするアイオノマーを含むフィルム用樹脂組成物である。
［３］前記共重合体（Ｐ）中の前記構造単位（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される非環状モノマー又は下記一般式（２）で表される環状モノマーであることを特徴とする、前記［２］に記載のフィルム用樹脂組成物である。

［一般式（１）中、Ｔ^１〜Ｔ^３はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、水酸基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された炭素数２〜２０の炭化水素基、炭素数２〜２０のエステル基で置換された炭素数３〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜２０のエステル基、炭素数炭素数３〜２０のシリル基、ハロゲン原子、又は、シアノ基からなる群より選択される置換基であり、
Ｔ^４は、水酸基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された炭素数２〜２０の炭化水素基、炭素数２〜２０のエステル基で置換された炭素数３〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜２０のエステル基、炭素数炭素数３〜２０のシリル基、ハロゲン原子、又は、シアノ基からなる群より選択される置換基である。]

［一般式（２）中、Ｒ^１〜Ｒ^１２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、及び、炭素数１〜２０の炭化水素基からなる群より選ばれるものであり、Ｒ^９及びＲ^１０、並びに、Ｒ^１１及びＲ^１２は、各々一体化して２価の有機基を形成してもよく、Ｒ^９又はＲ^１０と、Ｒ^１１又はＲ^１２とは、互いに環を形成していてもよい。
また、ｎは、０又は正の整数を示し、ｎが２以上の場合には、Ｒ^５〜Ｒ^８は、それぞれの繰り返し単位の中で、それぞれ同一でも異なっていてもよい。］
［４］前記共重合体（Ｐ）中の前記構造単位（Ｃ）が、前記一般式（１）で表される非環状モノマーであることを特徴とする、［３］に記載のフィルム用樹脂組成物である。
［５］前記共重合体（Ｐ）中の前記構造単位（Ｃ）が、前記一般式（２）で表される環状モノマーであることを特徴とする、［３］に記載のフィルム用樹脂組成物である。
［６］前記共重合体（Ｐ）の^１３Ｃ−ＮＭＲにより算出されるメチル分岐数が、炭素１，０００個当たり５０個以下であることを特徴とする、［１］〜［５］のいずれかに記載のフィルム用樹脂組成物である。
［７］前記共重合体（Ｐ）の^１３Ｃ−ＮＭＲにより算出されるメチル分岐数が、炭素１，０００個当たり５個以下であることを特徴とする、［１］〜［５］のいずれかに記載のフィルム用樹脂組成物である。
［８］前記共重合体（Ｐ）が、共重合体中に前記構造単位（Ｂ）を２〜２０ｍｏｌ％（前記共重合体を構成する全構成単位の合計を１００ｍｏｌ％とする）含むことを特徴とする、［１］〜［７］のいずれかに記載のフィルム用樹脂組成物である。
［９］前記共重合体（Ｐ）が、共重合体中に前記構造単位（Ｃ）を０．００１ｍｏｌ％〜２０．０ｍｏｌ％（前記共重合体を構成する全構成単位の合計を１００ｍｏｌ％とする）含むことを特徴とする、［１］〜［８］のいずれかに記載のフィルム用樹脂組成物である。
［１０］前記構造単位（Ａ）が、エチレンに由来する構造単位であることを特徴とする、［１］〜［９］のいずれかに記載のフィルム用樹脂組成物である。
［１１］前記金属イオンが、周期表１族の金属イオンであることを特徴とする、［１］〜［１０］のいずれかに記載のフィルム用樹脂組成物である。
［１２］前記金属イオンが、周期表１２族の金属イオンであることを特徴とする、［１］〜［１０］のいずれかに記載のフィルム用樹脂組成物である。
［１３］前記共重合体（Ｐ）が周期表第８〜１１族の遷移金属を含む遷移金属触媒を用いて製造された前駆体共重合体を加水分解して得られた共重合体であることを特徴とする、［１］〜［１２］のいずれかに記載のフィルム用樹脂組成物である。
［１４］前記遷移金属触媒がリンスルホン酸又はリンフェノール配位子とニッケル又はパラジウムからなる遷移金属触媒であることを特徴とする、［１３］に記載のフィルム用樹脂組成物である。
［１５］前記［１］〜［１４］のいずれかに記載のフィルム用樹脂組成物を用いて成形されたエチレン系フィルムである。
［１６］エチレン系樹脂を樹脂成分とするフィルムであって、厚さ３０μｍに成形して測定した際の、−２０℃におけるフィルムインパクトが２０Ｊ／ｍｍ以上であり、かつ、ＭＤ方向における引張弾性率が、１５０ＭＰａ以上であることを特徴とする、エチレン系フィルムである。
［１７］エチレン系樹脂を樹脂成分とするフィルムであって、厚さ３０μｍに成形して測定した際の、シール温度１２０℃、シール圧力０．２ＭＰａ、シール時間１秒、下部シールバー温度６０℃におけるヒートシール強度が、１０Ｎ／１５ｍｍ以上であることを特徴とする、エチレン系フィルムである。
［１８］エチレン系樹脂を樹脂成分とするインフレーションフィルムであって、厚さ３０μｍに成形したときの、ヘイズが２％以下であることを特徴とする、エチレン系フィルムである。
［１９］エチレン系樹脂を樹脂成分とするインフレーションフィルムであって、厚さ３０μｍに成形したときの、グロス（２０°）が、１２０％以上であることを特徴とする、エチレン系フィルムである。

実質的に直鎖状構造であるアイオノマーを用いた本発明のフィルムは、既存のポリエチレン又は多分岐構造を有するアイオノマー樹脂からなるフィルムに比べ、光沢、透明性、常温に加えて低温環境下での衝撃強度、ヒートシール性、耐ピンホール性に優れる。

高圧ラジカル重合法で製造される極性基含有オレフィン共重合体の多分岐型の分子構造のイメージ図である。図中の丸印は極性基を表す。 分子構造が直鎖状の極性基含有オレフィン共重合体のイメージ図である。図中の丸印は極性基を表す。 比較例１〜９、実施例１〜１６の摩耗量と屈曲回数を示したグラフである。 比較例１０〜１３、実施例１７〜２０のインフレーションフィルムのヒートシール強度評価結果を示したグラフである。 比較例１０〜１３、実施例１７〜１９の２３℃におけるフィルムインパクトとＭＤ方向の引張弾性率の評価結果を示したグラフである。 比較例１０〜１３、実施例１７〜２０の−２０℃におけるフィルムインパクトとＭＤ方向の引張弾性率の評価結果を示したグラフである。 比較例１０〜１３、実施例１７〜２０、参考例（ＯＰＰフィルム）のフィルムの、ヘイズの値を示したグラフである。 比較例１０〜１３、実施例１７〜２０、参考例（ＯＰＰフィルム）のフィルムの、グロスの値を示したグラフである。

本発明はエチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンに由来する構造単位（Ａ）と、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位（Ｂ）とを必須構成単位として、さらに場合により分子構造中に炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物である構造単位（Ｃ）を構成単位として含み、これらが実質的に直鎖状に共重合、好ましくはランダム共重合した共重合体（Ｐ）をベース樹脂とし、該構造単位（Ｂ）のカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の少なくとも一部が周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含有する金属含有カルボン酸塩に変換されていることを特徴とするアイオノマーを用いたフィルムである。

以下、本発明に関わるアイオノマー、アイオノマーを用いたフィルム及び、その用途などについて、項目毎に詳細に説明する。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味する。また、本明細書において数値範囲を示す「〜」とは、その前後に記載された数値を下限値及び上限値として含む意味で使用される。また、本明細書において、共重合体とは、少なくとも一種の単位（Ａ）と、少なくとも一種の単位（Ｂ）とを含む、二元系以上の共重合体を意味する。
また、本明細書において、アイオノマーとは、前記構造単位（Ａ）と、前記構造単位（Ｂ）の少なくとも一部が金属含有カルボン酸塩に変換されている構造単位（Ｂ’）とを含み、更に前記構造単位（Ｂ）を含んでいてもよい、２元系以上の共重合体のアイオノマーを意味する。

１．アイオノマー
本発明のアイオノマーは、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンに由来する構造単位（Ａ）と、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位（Ｂ）とを必須構成単位として、さらに場合により分子構造中に炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物である構造単位（Ｃ）を構成単位として含み、これらが実質的に直鎖状に共重合、好ましくはランダム共重合した共重合体（Ｐ）をベース樹脂とし、該構造単位（Ｂ）のカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の少なくとも一部が周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含有する金属含有カルボン酸塩に変換されていることを特徴とする。

（１）構造単位（Ａ）
構造単位（Ａ）はエチレンに由来する構造単位及び炭素数３〜２０のα−オレフィンに由来する構造単位からなる群より選ばれる少なくとも一種の構造単位である。
本発明に関わるα−オレフィンは構造式：ＣＨ_２＝ＣＨＲ^１８で表される、炭素数３〜２０のα−オレフィンである（Ｒ^１８は炭素数１〜１８の炭化水素基であり、直鎖構造であっても分岐を有していてもよい）。α−オレフィンの炭素数は、より好ましくは、３〜１２である。

構造単位（Ａ）の具体例として、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、３−メチル−１−ブテン、及び４−メチル−１−ペンテン等が挙げられ、エチレンであってもよい。エチレンとしては、石油原料由来の他、植物原料由来等の非石油原料由来のエチレンを用いることができる。
また、構造単位（Ａ）は、一種類であってもよいし、複数種であってもよい。
二種の組み合わせとしては、例えば、エチレン−プロピレン、エチレン−１−ブテン、エチレン−１−ヘキセン、エチレン−１−オクテン、プロピレン−１−ブテン、プロピレン−１−ヘキセン、及びプロピレン−１−オクテン等が挙げられる。
三種の組み合わせとしては、例えば、エチレン−プロピレン−１−ブテン、エチレン−プロピレン−１−ヘキセン、エチレン−プロピレン−１−オクテン、プロピレン−１−ブテン−ヘキセン、及びプロピレン−１−ブテン−１−オクテン等が挙げられる。

本発明においては、構造単位（Ａ）としては、好ましくは、エチレンを必須で含み、必要に応じて１種以上の炭素数３〜２０のα−オレフィンをさらに含んでもよい。
構造単位（Ａ）中のエチレンは、構造単位（Ａ）の全ｍｏｌに対して、６５〜１００ｍｏｌ％であってもよく、７０〜１００ｍｏｌ％であってもよい。
耐衝撃性の点から前期構造単位（Ａ）が、エチレンに由来する構造単位であってもよい。

（２）構造単位（Ｂ）
構造単位（Ｂ）は、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位である。なお、構造単位（Ｂ）は、カルボキシ基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位と同じ構造であることを表し、後述の製造方法において述べるように、必ずしもカルボキシ基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーを用いて製造されたものでなくてもよい。

カルボキシル基を有するモノマーに由来する構造単位としては例えば、具体的にはアクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、テトラヒドロフタル酸、イタコン酸、シトラコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ノルボルネンジカルボン酸、ビシクロ［２，２，１］ヘプト−２−エン−５，６−ジカルボン酸などの不飽和カルボン酸が挙げられ、ジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位としては例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物、３，６−エポキシ−１，２，３，６−テトラヒドロフタル酸無水物、テトラシクロ［６．２．１．１^3,6．０^2,7］ドデカ−９−エン−４，５−ジカルボン酸無水物、２，７−オクタジエン−１−イルコハク酸無水物などの不飽和ジカルボン酸無水物が挙げられる。
カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位として、工業的入手の容易さの点から好ましくは、アクリル酸、メタクリル酸、５−ノルボルネン−２，３−ジカルボン酸無水物が挙げられ、特にアクリル酸であってもよい。
また、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位は、一種類であってもよいし、複数種であってもよい。

なお、ジカルボン酸無水物基は空気中の水分と反応して開環し、一部がジカルボン酸となる場合があるが、本発明の主旨を逸脱しない範囲においてならば、ジカルボン酸無水物基が開環していてもよい。

（３）その他の構造単位（Ｃ）
本発明に用いる共重合体（Ｐ）としては、構造単位（Ａ）と構造単位（Ｂ）のみからなる二元共重合体と、構造単位（Ａ）と構造単位（Ｂ）と、それら以外の構造単位（Ｃ）をさらに含む多元共重合体を用いることができるが、構造単位（Ａ）及び構造単位（Ｂ）で示される構造単位以外の構造単位（Ｃ）をさらに含む、多元共重合体であってもよい。構造単位（Ｃ）を与えるモノマーは、構造単位（Ａ）及び、構造単位（Ｂ）を与えるモノマーに包含されるものでなければ、任意のモノマーを使用できる。構造単位（Ｃ）を与えるモノマーは、分子構造中に炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物であれば限定されないが、例えば後掲の一般式（１）で表される非環状モノマーや一般式（２）で表される環状モノマーなどが挙げられる。
構造単位（Ａ）と構造単位（Ｂ）のみからなる二元共重合体に比べて、構造単位（Ｃ）成分を含む三元以上の多元共重合体をアイオノマーのベース樹脂として用いることにより、融点や結晶化度が低いアイオノマーを得られることができ、フィルム化した際に、飛躍的に剛性と靱性のバランスが良くなり、透明性やグロスも格段に優れ、低温ヒートシール性に優れたフィルムを得ることができる。構造単位（Ｃ）は、１種類のモノマーに基づくものでもよく、２種類以上のモノマーを組み合わせて用いてもよい。

・非環状モノマー

［一般式（１）中、Ｔ^１〜Ｔ^３はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、水酸基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された炭素数２〜２０の炭化水素基、炭素数２〜２０のエステル基で置換された炭素数３〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜２０のエステル基、炭素数炭素数３〜２０のシリル基、ハロゲン原子、又は、シアノ基からなる群より選択される置換基であり、
Ｔ^４は、水酸基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された炭素数２〜２０の炭化水素基、炭素数２〜２０のエステル基で置換された炭素数３〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜２０のエステル基、炭素数炭素数３〜２０のシリル基、ハロゲン原子、又は、シアノ基からなる群より選択される置換基である。]

本発明のアイオノマーにおいては、Ｔ^１及びＴ²は水素原子であってもよく、Ｔ^３は水素原子又はメチル基であってもよく、Ｔ^４は炭素数２〜２０のエステル基であってもよい。

Ｔ^１〜Ｔ^４に関する炭化水素基、置換アルコキシ基、置換エステル基、アルコキシ基、アリール基、エステル基、シリル基が有する炭素骨格は、分岐、環、及び／又は不飽和結合を有してもよい。
Ｔ^１〜Ｔ^４に関する炭化水素基の炭素数は、下限値が１以上であればよく、上限値は２０以下であればよく、１０以下であってもよい。
Ｔ^１〜Ｔ^４に関する置換アルコキシ基の炭素数は、下限値が１以上であればよく、上限値は２０以下であればよく、１０以下であってもよい。
Ｔ^１〜Ｔ^４に関する置換エステル基の炭素数は、下限値が２以上であればよく、上限値は２０以下であればよく、１０以下であってもよい。
Ｔ^１〜Ｔ^４に関するアルコキシ基の炭素数は、下限値が１以上であればよく、上限値は２０以下であればよく、１０以下であってもよい。
Ｔ^１〜Ｔ^４に関するアリール基の炭素数は、下限値が６以上であればよく、上限値は２０以下であればよく、１１以下であってもよい。
Ｔ^１〜Ｔ^４に関するエステル基の炭素数は、下限値が２以上であればよく、上限値は２０以下であればよく、１０以下であってもよい。
Ｔ^１〜Ｔ^４に関するシリル基の炭素数は、下限値が３以上であればよく、上限値は１８以下であればよく、１２以下であってもよい。シリル基としては、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリｎ−プロピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、ジメチルフェニルシリル基、メチルジフェニルシリル基、及びトリフェニルシリル基等が挙げられる。

本発明のアイオノマーにおいては、製造の容易さの点から、Ｔ^１及びＴ²は水素原子であってもよく、Ｔ^３は水素原子又はメチル基であってもよく、Ｔ^１〜Ｔ^３が、いずれも水素原子であってもよい。
また、耐衝撃性の点から、Ｔ^４は炭素数２〜２０のエステル基であってもよい。

非環状モノマーとしては、具体的には、（メタ）アクリル酸エステル等を含むＴ^４が炭素数２〜２０のエステル基である場合等が挙げられる。
Ｔ^４が炭素数２〜２０のエステル基である場合、非環状モノマーとしては、構造式：ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^２１）ＣＯ_２（Ｒ^２２）で表される化合物が挙げられる。ここで、Ｒ^２１は、水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基であり、分岐、環、及び／又は不飽和結合を有してもよい。Ｒ^２２は、炭素数１〜２０の炭化水素基であり、分岐、環、及び／又は不飽和結合を有してもよい。さらに、Ｒ^２２内の任意の位置にヘテロ原子を含有してもよい。
構造式：ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^２１）ＣＯ_２（Ｒ^２２）で表される化合物として、Ｒ^２１が、水素原子又は炭素数１〜５の炭化水素基である化合物が挙げられる。また、Ｒ^２１が水素原子であるアクリル酸エステル又はＲ^２１がメチル基であるメタクリル酸エステルが挙げられる。
構造式：ＣＨ_２＝Ｃ（Ｒ^２１）ＣＯ_２（Ｒ^２２）で表される化合物の具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸トルイル、（メタ）アクリル酸ベンジル等が挙げられる。
具体的な化合物として、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル（ｎＢＡ）、アクリル酸イソブチル（ｉＢＡ）、アクリル酸ｔ−ブチル（ｔＢＡ）、及びアクリル酸２−エチルヘキシル等が挙げられ、特にアクリル酸ｎ−ブチル（ｎＢＡ）、アクリル酸イソブチル（ｉＢＡ）、及びアクリル酸ｔ−ブチル（ｔＢＡ）であってもよい。
なお、非環状モノマーは、一種類であってもよいし、複数種であってもよい。

・環状モノマー

［一般式（２）中、Ｒ^１〜Ｒ^１２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、及び、炭素数１〜２０の炭化水素基からなる群より選ばれるものであり、Ｒ^９及びＲ^１０、並びに、Ｒ^１１及びＲ^１２は、各々一体化して２価の有機基を形成してもよく、Ｒ^９又はＲ^１０と、Ｒ^１１又はＲ^１２とは、互いに環を形成していてもよい。
また、ｎは、０又は正の整数を示し、ｎが２以上の場合には、Ｒ^５〜Ｒ^８は、それぞれの繰り返し単位の中で、それぞれ同一でも異なっていてもよい。］

環状モノマーとしては、ノルボルネン系オレフィン等が挙げられ、ノルボルネン、ビニルノルボルネン、エチリデンノルボルネン、ノルボルナジエン、テトラシクロドデセン、トリシクロ［４．３．０．１^２，５］デカ−３−エン、などの環状オレフィンの骨格を有する化合物等が挙げられ、２−ノルボルネン（ＮＢ）、及び、テトラシクロ［６．２．１．１^３，６．０^２，７］ドデカ−４−エン等であってもよい。

（４）共重合体（Ｐ）
本発明で用いるアイオノマーのベース樹脂となる共重合体（Ｐ）は、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンに由来する構造単位（Ａ）と、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位（Ｂ）とを必須構成単位として含み、さらに場合により前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の任意の構造単位（Ｃ）を含み、これら各構造単位が実質的に直鎖状に共重合、好ましくはランダム共重合していることを特徴とする。「実質的に直鎖状」とは、共重合体が分岐を有していないか又は分岐構造が現れる頻度が小さく、共重合体を直鎖状とみなしうる状態であることを指す。具体的には、後述する条件下で共重合体の位相角δが５０度以上である状態を指す。

本発明に関わる共重合体（Ｐ）は、構造単位（Ａ）及び、構造単位（Ｂ）をそれぞれ１種類以上含有し、合計２種以上のモノマー単位を含むことが必要であり、前記（Ａ）及び（Ｂ）以外の任意の構造単位（Ｃ）を含んでいてもよいが、そのような構造単位（Ｃ）を含んだ多元共重合体であることが好ましい。
本発明に関わる共重合体の構造単位と構造単位量について説明する。
エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン（Ａ）、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー（Ｂ）、並びに（Ａ）及び（Ｂ）以外の任意のモノマー（Ｃ）それぞれ１分子に由来する構造を、共重合体中の１構造単位と定義する。
そして、共重合体中の構造単位全体を１００ｍｏｌ％とした時に各構造単位の比率をｍｏｌ％で表したものが構造単位量である。

・エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン（Ａ）の構造単位量：
本発明に関わる構造単位（Ａ）の構造単位量は、下限が６０．０ｍｏｌ％以上、好ましくは７０．０ｍｏｌ％以上、より好ましくは８０．０ｍｏｌ％以上、さらに好ましくは８５．０ｍｏｌ％以上、さらにより好ましくは９０．０ｍｏｌ％以上、特に好ましくは９１．２ｍｏｌ％以上であり、上限が９７．９ｍｏｌ％以下、好ましくは９７．５ｍｏｌ％以下、より好ましくは９７．０ｍｏｌ％以下、さらに好ましくは９６．５ｍｏｌ％以下から選択される。
エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン（Ａ）に由来する構造単位量が６０．０ｍｏｌ％よりも少なければ共重合体の靱性が劣り、９７．９ｍｏｌ％よりも多ければ共重合体の結晶化度が高くなり、透明性が悪くなる場合がある。

・カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー（Ｂ）の構造単位量：
本発明に関わる構造単位（Ｂ）の構造単位量は、下限が２．０ｍｏｌ％以上、好ましくは２．９ｍｏｌ％以上であり、より好ましくは５．２ｍｏｌ％以上、上限が２０．０ｍｏｌ％以下、好ましくは１５．０ｍｏｌ％以下、より好ましくは１０．０ｍｏｌ％以下、さらに好ましくは８．０ｍｏｌ％以下、特に好ましくは６．０ｍｏｌ％以下、最も好ましくは５．６ｍｏｌ％以下から選択される。
カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー（Ｂ）に由来する構造単位量が２．０ｍｏｌ％よりも少なければ、共重合体の極性の高い異種材料との接着性が充分ではなく、２０．０ｍｏｌ％より多ければ共重合体の充分な機械物性が得られない場合がある。
更に、用いられるカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーは単独でもよく、２種類以上を合わせて用いてもよい。

・任意のモノマー（Ｃ）の構造単位量：
本発明のアイオノマーの構成要素に前記（Ａ）又は（Ｂ）以外の任意のモノマー（Ｃ）が含まれる場合、本発明に関わる構造単位（Ｃ）の構造単位量は、下限が０．００１ｍｏｌ％以上、好ましくは０．０１０ｍｏｌ％以上、より好ましくは０．０２０ｍｏｌ％以上、さらに好ましくは０．１ｍｏｌ％以上、さらにより好ましくは１．９ｍｏｌ％以上であり、特に好ましくは２．０ｍｏｌ％以上であり、上限が２０．０ｍｏｌ％以下、好ましくは１５．０ｍｏｌ％以下、より好ましくは１０．０ｍｏｌ％以下、さらに好ましくは５．０ｍｏｌ％以下、特に好ましくは３．６ｍｏｌ％以下から選択される。
任意のモノマー（Ｃ）に由来する構造単位量が０．００１ｍｏｌ％以上であると、共重合体の柔軟性が充分となりやすく、２０．０ｍｏｌ％以下であると共重合体の充分な機械物性が得られやすい。
更に、用いられる任意のモノマーは単独でもよく、２種類以上を合わせて用いてもよい。

・共重合体中のカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー、及び任意のモノマーの構造単位量の測定方法：
本発明に関わる共重合体中のカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー、及び任意のモノマーの構造単位量は^１Ｈ−ＮＭＲスペクトルを用いて求められる。^１Ｈ−ＮＭＲは以下の方法によって測定する。
試料２００〜２５０ｍｇをｏ−ジクロロベンゼン／重水素化臭化ベンゼン（Ｃ_６Ｄ_５Ｂｒ）＝４／１（体積比）２．４ｍｌ及び化学シフトの基準物質であるヘキサメチルジシロキサンと共に内径１０ｍｍφのＮＭＲ試料管に入れて窒素置換した後封管し、加熱溶解して均一な溶液としてＮＭＲ測定する。
ＮＭＲ測定は１０ｍｍφのクライオプローブを装着したブルカー・ジャパン（株）のＡＶ４００Ｍ型ＮＭＲ装置を用いて１２０℃で行う。
^１Ｈ−ＮＭＲはパルス角４．５°、パルス間隔１．８秒、積算回数を２５６回以上として測定する。化学シフトはヘキサメチルジシロキサンのメチルプロトンのピークを０．０８８ｐｐｍとして設定し、他のプロトンによるピークの化学シフトはこれを基準とする。

多元共重合体の炭素１，０００個当たりの分岐数：
本発明の多元共重合体においては、弾性率を高くし、充分な機械物性を得る点から、^１３Ｃ−ＮＭＲにより算出されるメチル分岐数が、炭素１，０００個当たり、上限が５０個以下であってもよく、５個以下であってもよく、１個以下であってもよく、０．５個以下であってもよく、下限は、特に限定されず、少なければ少ないほどよい。またエチル分岐数が炭素１，０００個当たり、上限が３．０個以下であってもよく、２．０個以下であってもよく、１．０個以下であってもよく、０．５個以下であってもよく、下限は、特に限定されず、少なければ少ないほどよい。さらにブチル分岐数が炭素１，０００個当たり、上限が７．０個以下であってもよく、５．０個以下であってもよく、３．０個以下であってもよく、０．５個以下であってもよく、下限は、特に限定されず、少なければ少ないほどよい。

多元共重合体中のカルボキシ基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー、及び非環状モノマーに由来する構造単位量、及び分岐数の測定方法：
本発明の多元共重合体中のカルボキシ基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー、及び非環状モノマーに由来する構造単位量、及び炭素１，０００個当たりの分岐数は^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルを用いて求められる。^１３Ｃ−ＮＭＲは以下の方法によって測定する。
試料２００〜３００ｍｇをｏ−ジクロロベンゼン（Ｃ_６Ｈ_４Ｃｌ_２）と重水素化臭化ベンゼン（Ｃ_６Ｄ_５Ｂｒ）の混合溶媒（Ｃ_６Ｈ_４Ｃｌ_２／Ｃ_６Ｄ_５Ｂｒ＝２／１（体積比））２．４ｍｌ及び化学シフトの基準物質であるヘキサメチルジシロキサンと共に内径１０ｍｍφのＮＭＲ試料管に入れて窒素置換した後封管し、加熱溶解して均一な溶液としてＮＭＲ測定試料とする。
ＮＭＲ測定は１０ｍｍφのクライオプローブを装着したブルカー・ジャパン（株）のＡＶ４００Ｍ型ＮＭＲ装置を用いて１２０℃で行う。
^１３Ｃ−ＮＭＲは、試料の温度１２０℃、パルス角を９０°、パルス間隔を５１．５秒、積算回数を５１２回以上、逆ゲートデカップリング法で測定する。
化学シフトはヘキサメチルジシロキサンの^１３Ｃシグナルを１．９８ｐｐｍに設定し、他の^１３Ｃによるシグナルの化学シフトはこれを基準とする。
得られた^１３Ｃ−ＮＭＲにおいて、多元共重合体が有するモノマー又は分岐に特有のシグナルを同定し、その強度を比較することで、多元共重合体中の各モノマーの構造単位量、及び分岐数を解析することができる。モノマー又は分岐に特有のシグナルの位置は公知の資料を参照することもできるし、試料に応じて独自に同定することもできる。このような解析手法は、当業者にとって一般的に行いうるものである。

・重量平均分子量（Ｍｗ）と分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）：
本発明に関わる共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）は、下限が通常１，０００以上であり、好ましくは６，０００以上であり、より好ましくは１０，０００以上であり、上限が通常２，０００，０００以下であり、好ましくは１，５００，０００以下であり、更に好ましくは１，０００，０００以下であり、特に好適なのは８００，０００以下であり、最も好ましくは１００，０００以下である。
Ｍｗが１，０００未満では共重合体の機械的強度や耐衝撃性などの物性が充分ではなく、Ｍｗが２，０００，０００を超えると共重合体の溶融粘度が非常に高くなり、共重合体の成形加工が困難となる場合がある。

本発明に関わる共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）は、通常１．５〜４．０、好ましくは１．６〜３．５、更に好ましくは１．９〜２．３の範囲である。Ｍｗ／Ｍｎが１．５未満では共重合体の成形を始めとして各種加工性が充分でなく、４．０を超えると共重合体の機械物性が劣るものとなる場合がある。
また、本明細書においては（Ｍｗ／Ｍｎ）を分子量分布パラメーターと表現することがある。

本発明に関わる共重合体の重量平均分子量（Ｍｗ）及び数平均分子量（Ｍｎ）はゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって求められる。また、分子量分布パラメーター（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、更に数平均分子量（Ｍｎ）を求め、ＭｗとＭｎの比、Ｍｗ／Ｍｎを算出するものである。

本発明に関わるＧＰＣの測定方法の一例は以下の通りである。
（測定条件）
使用機種：ウォーターズ社製１５０Ｃ
検出器：ＦＯＸＢＯＲＯ社製ＭＩＲＡＮ１Ａ・ＩＲ検出器（測定波長：３．４２μｍ）
測定温度：１４０℃
溶媒：オルトジクロロベンゼン（ＯＤＣＢ）
カラム：昭和電工社製ＡＤ８０６Ｍ／Ｓ（３本）
流速：１．０ｍＬ／分
注入量：０．２ｍＬ
（試料の調製）
試料はＯＤＣＢ（０．５ｍｇ／ｍＬのＢＨＴ（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）を含む）を用いて１ｍｇ／ｍＬの溶液を調製し、１４０℃で約１時間を要して溶解させる。
（分子量（Ｍ）の算出）
標準ポリスチレン法により行い、保持容量から分子量への換算は、予め作成しておいた標準ポリスチレンによる検量線を用いて行う。使用する標準ポリスチレンは例えば、東ソー社製の、（Ｆ３８０、Ｆ２８８、Ｆ１２８、Ｆ８０、Ｆ４０、Ｆ２０、Ｆ１０、Ｆ４、Ｆ１、Ａ５０００、Ａ２５００、Ａ１０００）の銘柄、昭和電工製単分散ポリスチレン（Ｓ−７３００、Ｓ−３９００、Ｓ−１９５０、Ｓ−１４６０、Ｓ−１０１０、Ｓ−５６５、Ｓ−１５２、Ｓ−６６．０、Ｓ−２８．５、Ｓ−５．０５、の各０．０７ｍｇ／ｍｌ溶液）などである。各々が０．５ｍｇ／ｍＬとなるようにＯＤＣＢ（０．５ｍｇ／ｍＬのＢＨＴを含む）に溶解した溶液を０．２ｍＬ注入して較正曲線を作成する。較正曲線は最小二乗法で近似して得られる三次式、又は溶出時間と分子量の対数値を４次式で近似したものなどを用いる。分子量（Ｍ）への換算に使用する粘度式［η］＝Ｋ×Ｍαには以下の数値を用いる。
ポリスチレン（ＰＳ）：Ｋ＝１．３８×１０^−４、α＝０．７
ポリエチレン（ＰＥ）：Ｋ＝３．９２×１０^−４、α＝０．７３３
ポリプロピレン（ＰＰ）：Ｋ＝１．０３×１０^−４、α＝０．７８

・融点（Ｔｍ、℃）：
本発明に関わる共重合体の融点は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定した吸熱曲線の最大ピーク温度によって示される。最大ピーク温度とは、ＤＳＣ測定において、縦軸に熱流（ｍＷ）、横軸に温度（℃）をとった際に得られる吸熱曲線に複数ピークが示された場合、そのうちベースラインからの高さが最大であるピークの温度の事を示し、ピークが１つだった場合には、そのピークの温度の事を示している。
融点は５０℃〜１４０℃であることが好ましく、６０℃〜１３８℃であることが更に好ましく、７０℃〜１３５℃であることが最も好ましい。この範囲より低ければ耐熱性が充分ではなく、この範囲より高い場合は接着性が劣るものとなる場合がある。
融点は、例えば、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製のＤＳＣ（ＤＳＣ７０２０）を使用し、試料約５．０ｍｇをアルミパンに詰め、１０℃／分で２００℃まで昇温し、２００℃で５分間等温保持後、１０℃／分で２０℃まで降温し、２０℃で５分間等温保持後、再度、１０℃／分で２００℃まで昇温させる際の吸収曲線より求めることができる。

・共重合体の分子構造：
本発明に関わる共重合体の分子鎖末端は、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンの構造単位（Ａ）であってもよく、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーの構造単位（Ｂ）であってもよく、（Ａ）及び（Ｂ）以外の任意の構造単位（Ｃ）であってもよい。

また、本発明に関わる共重合体は、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンの構造単位（Ａ）、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーの構造単位（Ｂ）、及び任意のモノマーの構造単位（Ｃ）のランダム共重合体、ブロック共重合体、並びにグラフト共重合体等が挙げられる。これらの中では、構造単位（Ｂ）を多く含むことが可能なランダム共重合体であってもよい。
一般的な三元系の共重合体の分子構造例（１）を下記に示す。
ランダム共重合体とは、下記に示した分子構造例（１）のエチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンの構造単位（Ａ）とカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーの構造単位（Ｂ）と任意のモノマーの構造単位（Ｃ）とが、ある任意の分子鎖中の位置においてそれぞれの構造単位を見出す確率が、その隣接する構造単位の種類と無関係な共重合体である。
下記のように、共重合体の分子構造例（１）は、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンの構造単位（Ａ）とカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーの構造単位（Ｂ）と任意のモノマーの構造単位（Ｃ）とが、ランダム共重合体を形成している。

なお、グラフト変性によってカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーの構造単位（Ｂ）を導入した共重合体の分子構造例（２）も参考に掲載すると、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンの構造単位（Ａ）及び任意のモノマーの構造単位（Ｃ）とが共重合された共重合体の一部が、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーの構造単位（Ｂ）にグラフト変性される。

また、共重合体におけるランダム共重合性は種々の方法により確認することが可能であるが、共重合体のコモノマー含量と融点との関係からランダム共重合性を判別する手法が特開２０１５−１６３６９１号公報及び特開２０１６−０７９４０８号公報に詳しく述べられている。上記文献から共重合体の融点（Ｔｍ、℃）が−３．７４×[Ｚ]＋１３０（ただし、[Ｚ]はコモノマー含量／ｍｏｌ％である）よりも高い場合はランダム性が低いと判断できる。

ランダム共重合体である本発明に関わる共重合体は示差走査熱量測定（ＤＳＣ）により観測される融点（Ｔｍ、℃）と、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーの構造単位（Ｂ）及び任意のモノマーの構造単位（Ｃ）の合計の含有量［Ｚ］（ｍｏｌ％）とが下記の式（Ｉ）を満たすことが好ましい。
５０＜Ｔｍ＜−３．７４×[Ｚ]＋１３０・・・（Ｉ）
共重合体の融点（Ｔｍ、℃）が−３．７４×[Ｚ]＋１３０（℃）よりも高い場合はランダム共重合性が低い為、衝撃強度など機械物性が劣り、融点が５０℃よりも低い場合は耐熱性が劣る場合がある。

さらに本発明に関わる共重合体は、その分子構造を直鎖状とする観点から、遷移金属触媒の存在下で製造されたものであることが好ましい。
なお、高圧ラジカル重合法プロセスによる重合、金属触媒を用いた重合など、製造方法によって共重合体の分子構造は異なることが知られている。
この分子構造の違いは製造方法を選択する事によって制御が可能であるが、例えば、特開２０１０−１５０５３２号公報に記載されている様に、回転式レオメータで測定した複素弾性率によっても、その分子構造を推定する事ができる。

・複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δ：
本発明の共重合体においては、回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δが、５０〜７５度であることを特徴とする。位相角δの下限は５０度以上であってもよく、５１度以上であってもよく、５４度以上であってもよく、５６度以上であってもよく、５８度以上であってもよく、位相角δの上限は７５度以下であってもよく、７０度以下であってもよい。
より具体的には、回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δ（Ｇ^＊＝０．１ＭＰａ）が５０度以上である場合、多元共重合体の分子構造は直鎖状の構造であって、長鎖分岐を全く含まない構造か、機械的強度に影響を与えない程度の少量の長鎖分岐を含む構造を示す。
また、回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δ（Ｇ^＊＝０．１ＭＰａ）が５０度より低い場合、多元共重合体の分子構造は長鎖分岐を過多に含む構造を示し、機械的強度が劣るものとなる。
回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δは、分子量分布と長鎖分岐の両方の影響を受ける。しかし、Ｍｗ／Ｍｎ≦４、より好ましくはＭｗ／Ｍｎ≦３である多元共重合体に限れば長鎖分岐の量の指標になり、その分子構造に含まれる長鎖分岐が多いほどδ（Ｇ^＊＝０．１ＭＰａ）値は小さくなる。なお、多元共重合体のＭｗ／Ｍｎが１．５以上であれば、当該分子構造が長鎖分岐を含まない構造である場合でもδ（Ｇ^＊＝０．１ＭＰａ）値が７５度を上回ることはない。

複素弾性率の測定方法は、以下の通りである。
試料を厚さ１．０ｍｍの加熱プレス用モールドに入れ、表面温度１８０℃の熱プレス機中で５分間予熱後、加圧と減圧を繰り返すことで溶融樹脂中の残留気体を脱気し、更に４．９ＭＰａで加圧し、５分間保持する。その後、試料を表面温度２５℃のプレス機に移し替え、４．９ＭＰａの圧力で３分間保持することで冷却し、厚さが約１．０ｍｍの試料からなるプレス板を作成する。試料からなるプレス板を直径２５ｍｍ円形に加工したものをサンプルとし、動的粘弾性特性の測定装置としてＲｈｅｏｍｅｔｒｉｃｓ社製ＡＲＥＳ型回転式レオメータを用い、窒素雰囲気下において以下の条件で動的粘弾性を測定する。
・プレート：φ２５ｍｍ パラレルプレート
・温度：１６０℃
・歪み量：１０％
・測定角周波数範囲：１．０×１０^−２〜１．０×１０^２ ｒａｄ／ｓ
・測定間隔：５点／ｄｅｃａｄｅ
複素弾性率の絶対値Ｇ^＊（Ｐａ）の常用対数ｌｏｇＧ^＊に対して位相角δをプロットし、ｌｏｇＧ^＊＝５．０に相当する点のδ（度）の値をδ（Ｇ^＊＝０．１ＭＰａ）とする。測定点の中にｌｏｇＧ^＊＝５．０に相当する点がないときは、ｌｏｇＧ^＊＝５．０前後の２点を用いて、ｌｏｇＧ^＊＝５．０におけるδ値を線形補間で求める。また、測定点がいずれもｌｏｇＧ^＊＜５であるときは、ｌｏｇＧ^＊値が大きい方から３点の値を用いて２次曲線でｌｏｇＧ^＊＝５．０におけるδ値を補外して求める。

・共重合体の製造について
本発明に関わる共重合体は、その分子構造を直鎖状とする観点から、遷移金属触媒の存在下で製造されたものであることが好ましい。
・重合触媒
本発明に関わる共重合体の製造に用いる重合触媒の種類は、構造単位（Ａ）、構造単位（Ｂ）、及び任意の構造単位（Ｃ）を共重合することが可能なものであれば特に限定されないが、例えば、キレート性配位子を有する第５〜１１族の遷移金属化合物が挙げられる。
好ましい遷移金属の具体例としては、バナジウム原子、ニオビウム原子、タンタル原子、クロム原子、モリブデン原子、タングステン原子、マンガン原子、鉄原子、白金原子、ルテニウム原子、コバルト原子、ロジウム原子、ニッケル原子、パラジウム原子、銅原子などが挙げられる。これらの中で好ましくは、第８〜１１族の遷移金属であり、さらに好ましくは第１０族の遷移金属であり、特に好ましくはニッケル（Ｎｉ）、パラジウム（Ｐｄ）である。これらの金属は、単一であっても複数を併用してもよい。
キレート性配位子は、Ｐ、Ｎ、Ｏ、及びＳからなる群より選択される少なくとも２個の原子を有しており、二座配位（ｂｉｄｅｎｔａｔｅ）又は多座配位（ｍｕｌｔｉｄｅｎｔａｔｅ）であるリガンドを含み、電子的に中性又は陰イオン性である。Ｂｒｏｏｋｈａｒｔらによる総説に、キレート性配位子の構造が例示されている（Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖ．，２０００，１００，１１６９）。
キレート性配位子としては、好ましくは、二座アニオン性Ｐ、Ｏ配位子が挙げられる。二座アニオン性Ｐ、Ｏ配位子として例えば、リンスルホン酸、リンカルボン酸、リンフェノール、リンエノラートが挙げられる。キレート性配位子としては、他に、二座アニオン性Ｎ、Ｏ配位子が挙げられる。二座アニオン性Ｎ、Ｏ配位子として例えば、サリチルアルドイミナートやピリジンカルボン酸が挙げられる。キレート性配位子としては、他に、ジイミン配位子、ジフェノキサイド配位子、及びジアミド配位子等が挙げられる。

キレート性配位子から得られる金属錯体の構造は、置換基を有してもよいアリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物が配位した下記構造式（ａ）又は（ｂ）で表される。


［構造式（ａ）、及び構造式（ｂ）において、
Ｍは、元素の周期表の第５〜１１族のいずれかに属する遷移金属、即ち前述したような種々の遷移金属を表す。
Ｘ^１は、酸素、硫黄、−ＳＯ_３−、又は−ＣＯ_２−を表す。
Ｙ^１は、炭素又はケイ素を表す。
ｎは、０又は１の整数を表す。
Ｅ^１は、リン、砒素又はアンチモンを表す。
Ｒ^５３及びＲ^５４は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１ないし３０のヘテロ原子を含有してもよい炭化水素基を表す。
Ｒ^５５は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、又は炭素数１ないし３０のヘテロ原子を含有してもよい炭化水素基を表す。
Ｒ^５６及びＲ^５７は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数１ないし３０のヘテロ原子を含有してもよい炭化水素基、ＯＲ^５２、ＣＯ_２Ｒ^５２、ＣＯ_２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^５１）_２、Ｃ（Ｏ）Ｒ^５２、ＳＲ^５２、ＳＯ_２Ｒ^５２、ＳＯＲ^５２、ＯＳＯ_２Ｒ^５２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ^５２）_２−ｙ（Ｒ^５１）_ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ^５２、Ｎ（Ｒ^５２）_２、Ｓｉ（ＯＲ^５１）_３−ｘ（Ｒ^５１）_ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ^５１）_３−ｘ（Ｒ^５１）_ｘ、ＮＯ_２、ＳＯ_３Ｍ’、ＰＯ_３Ｍ’_２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ^５２）_２Ｍ’又はエポキシ含有基を表す。
Ｒ^５１は、水素又は炭素数１ないし２０の炭化水素基を表す。
Ｒ^５２は、炭素数１ないし２０の炭化水素基を表す。
Ｍ’は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、４級アンモニウム又はフォスフォニウムを表し、ｘは、０から３までの整数、ｙは、０から２までの整数を表す。
なお、Ｒ^５６とＲ^５７が互いに連結し、脂環式環、芳香族環、又は酸素、窒素、若しくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよい。この時、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。
Ｌ^１は、Ｍに配位したリガンドを表す。
また、Ｒ^５３とＬ^１が互いに結合して環を形成してもよい。］

より好ましくは、重合触媒となる錯体は、下記構造式（ｃ）で表される遷移金属錯体である。

［構造式（ｃ）において、
Ｍは、元素の周期表の第５〜１１族のいずれかに属する遷移金属、即ち前述したような種々の遷移金属を表す。
Ｘ^１は、酸素、硫黄、−ＳＯ_３−、又は−ＣＯ_２−を表す。
Ｙ^１は、炭素又はケイ素を表す。
ｎは、０又は１の整数を表す。
Ｅ^１は、リン、砒素又はアンチモンを表す。
Ｒ^５３及びＲ^５４は、それぞれ独立に、水素又は炭素数１ないし３０のヘテロ原子を含有してもよい炭化水素基を表す。
Ｒ^５５は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、又は炭素数１ないし３０のヘテロ原子を含有してもよい炭化水素基を表す。
Ｒ^５８、Ｒ^５９、Ｒ^６０及びＲ^６１は、それぞれ独立に、水素、ハロゲン、炭素数１ないし３０のヘテロ原子を含有してもよい炭化水素基、ＯＲ^５２、ＣＯ_２Ｒ^５２、ＣＯ_２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ^５１）_２、Ｃ（Ｏ）Ｒ^５２、ＳＲ^５２、ＳＯ_２Ｒ^５２、ＳＯＲ^５２、ＯＳＯ_２Ｒ^５２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ^５２）_２−ｙ（Ｒ^５１）_ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ^５２、Ｎ（Ｒ^５２）_２、Ｓｉ（ＯＲ^５１）_３−ｘ（Ｒ^５１）_ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ^５１）_３−ｘ（Ｒ^５１）_ｘ、ＮＯ_２、ＳＯ_３Ｍ’、ＰＯ_３Ｍ’_２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ^５２）_２Ｍ’又はエポキシ含有基を表す。
Ｒ^５１は、水素又は炭素数１ないし２０の炭化水素基を表す。
Ｒ^５２は、炭素数１ないし２０の炭化水素基を表す。
Ｍ’は、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、４級アンモニウム又はフォスフォニウムを表し、ｘは、０から３までの整数、ｙは、０から２までの整数を表す。
なお、Ｒ^５８〜Ｒ^６１から適宜選択された複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環、又は酸素、窒素、若しくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよい。このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。
Ｌ^１は、Ｍに配位したリガンドを表す。
また、Ｒ^５３とＬ^１が互いに結合して環を形成してもよい。］

ここで、キレート性配位子を有する第５〜１１族の遷移金属化合物の触媒としては、代表的に、いわゆる、ＳＨＯＰ系触媒及びＤｒｅｎｔ系触媒等の触媒が知られている。
ＳＨＯＰ系触媒は、置換基を有してもよいアリール基を有するリン系リガンドがニッケル金属に配位した触媒である（例えば、ＷＯ２０１０−０５０２５６号公報を参照）。
また、Ｄｒｅｎｔ系触媒は、置換基を有してもよいアリール基を有するリン系リガンドがパラジウム金属に配位した触媒である（例えば、特開２０１０−２０２６４７号公報を参照）。

・共重合体の重合方法：
本発明に関わる共重合体の重合方法は限定されない。
重合方法としては、媒体中で少なくとも一部の生成重合体がスラリーとなるスラリー重合、液化したモノマー自身を媒体とするバルク重合、気化したモノマー中で行う気相重合、又は、高温高圧で液化したモノマーに生成重合体の少なくとも一部が溶解する高圧イオン重合などが挙げられる。
重合形式としては、バッチ重合、セミバッチ重合、又は連続重合のいずれの形式でもよい。
また、リビング重合を行ってもよいし、連鎖移動を併発しながら重合を行ってもよい。
更に、重合の際には、いわゆるｃｈａｉｎ ｓｈｕｔｔｌｉｎｇ ａｇｅｎｔ（ＣＳＡ）を併用し、ｃｈａｉｎ ｓｈｕｔｔｌｉｎｇ反応や、ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｖｅ ｃｈａｉｎ ｔｒａｎｓｆｅｒ ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＣＣＴＰ）を行ってもよい。
具体的な製造プロセス及び条件については、例えば、特開２０１０−２６０９１３号公報、特開２０１０−２０２６４７号公報等に開示されている。

・共重合体へのカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の導入方法：
本発明に関わる共重合体へのカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の導入方法は特に限定されない。本発明の主旨を逸脱しない範囲で、種々の方法によりカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を導入することができる。
カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の導入方法は、例えば、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するコモノマーを直接共重合する方法や、カルボキシル基を生じる官能基を有する他のモノマーを共重合した後、変性によりカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を導入する方法などが挙げられる。

変性によりカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を導入する方法としては、例えばカルボン酸を導入する場合、前駆体としてのアクリル酸エステルを共重合した後に加水分解し、カルボン酸に変化する方法や、前駆体としてのアクリル酸ｔ−ブチルを共重合した後、加熱分解によりカルボン酸に変化させる方法等が挙げられる。

上記、加水分解又は加熱分解する際に、反応を促進させる添加剤として、従来公知の酸・塩基触媒を使用してもよい。酸・塩基触媒としては特に制限されないが、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどのアルカリ金属やアルカリ土類金属の水酸化物、炭酸水素ナトリウムや炭酸ナトリウムなどのアルカリ金属、アルカリ土類金属の炭酸塩、モンモリロナイトなどの固体酸、塩酸、硝酸、硫酸などの無機酸、ギ酸、酢酸、安息香酸、クエン酸、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸、トリフルオロメタンスルホン酸などの有機酸などを適宜用いることが出来る。
反応促進効果、価格、装置腐食性等の観点から水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸が好ましく、パラトルエンスルホン酸、トリフルオロ酢酸がより好ましい。

（５）アイオノマー
本発明に関わるアイオノマーは、前記共重合体（Ｐ）中の、構造単位（Ｂ）のカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の少なくとも一部が周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含有する金属含有カルボン酸塩に変換された、実質的に直鎖状構造を有するアイオノマーである。なお、アイオノマーは、後述のとおりアイオノマーベース樹脂に金属塩を作用させることにより得られ、その際に重合体の分子鎖を切断するような反応は通常起こらない。このため、コモノマーのモル比、分岐の程度、ランダム性等の構造に関するパラメーターは、通常はアイオノマーベース樹脂とアイオノマーとの間で保存されている。

・アイオノマーの構造
本発明に関わるアイオノマーは本発明に関わる共重合体と同様に実質的に直鎖状構造を有することから、回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δが、５０〜７５度であることを特徴とする。位相角δの下限は５１度以上であってもよく、位相角δの上限は６４度以下であってもよい。
位相角δ（Ｇ^＊＝０．１ＭＰａ）が５０度より低い場合、アイオノマーの分子構造は長鎖分岐を過多に含む構造を示し、機械的強度が劣るものとなる。前述のとおり、Ｍｗ／Ｍｎ≦４であれば位相角δの値は長鎖分岐の量の指標になる。アイオノマーのＭｗ／Ｍｎが１．５以上であれば、当該分子構造が長鎖分岐を含まない構造である場合でもδ（Ｇ^＊＝０．１ＭＰａ）値が７５度を上回ることはない。

・アイオノマーの融点（Ｔｍ、℃）
本発明に関わるアイオノマーの融点（Ｔｍ、℃）は、５０℃〜１４０℃であることが好ましく、６０℃〜１３８℃であることが更に好ましく、７０℃〜１３５℃が最も好ましい。この範囲より低ければ耐熱性が充分ではなく、この範囲より高い場合は接着性が劣るものとなる場合がある。
本願発明に関わるアイオノマーのうち、構造単位（Ａ）と構造単位（Ｂ）のみからなる二元共重合体をベースとするアイオノマーは、融点が９０℃以上、好ましくは９５℃以上、更に好ましくは１００℃以上を示し、三元以上の多元系共重合体をベースとするアイオノマーの融点は、１００℃未満、好ましくは９５℃未満、更に好ましくは９０℃未満を示す。

・金属イオン
本発明に関わるアイオノマーに含まれる金属イオンは、特に限定されず、従来公知のアイオノマーに用いられる金属イオンを含むことができる。金属イオンとしては、中でも、周期表１族、２族、又は１２族の金属イオンであることが好ましく、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｒｂ^＋、Ｃｓ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、Ｓｒ^２＋、Ｂａ^２＋及びＺｎ^２＋からなる群から選ばれる少なくとも１種がより好ましい。特に好ましくは、Ｌｉ^＋、Ｎａ^＋、Ｋ^＋、Ｍｇ^２＋、Ｃａ^２＋、及びＺｎ^２＋、更に好ましくは、Ｎａ^＋、及びＺｎ^２＋からなる群から選ばれる少なくとも１種が挙げられる。
これらの金属イオンを必要に応じて２種以上混合して含むことができる。

・中和度（ｍｏｌ％）
金属イオンの含有量としては、ベースポリマーとしての共重合体中のカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の少なくとも一部又は全部を中和する量を含むことが好ましく、好ましい中和度（平均中和度）としては、５〜９５ｍｏｌ％、より好ましくは１０〜９０ｍｏｌ％、さらに好ましくは２０〜８０ｍｏｌ％である。
なお、中和度は、共重合体中のカルボキシ基及び／又はジカルボン酸無水物基に含まれ得るカルボキシ基の合計ｍｏｌ量に対する、金属イオンの価数×ｍｏｌ量の合計ｍｏｌ量の割合から求めることができる。
ジカルボン酸無水物基はカルボン酸塩を形成する際に、開環してジカルボン酸となるため、ジカルボン酸無水物基１ｍｏｌにつき、２ｍｏｌのカルボキシ基を有するものとして前記カルボキシ基の合計ｍｏｌ量を求める。また、例えばＺｎ^２＋等の二価の金属イオンは、１ｍｏｌにつき、２ｍｏｌのカルボキシ基と塩を形成できるものとして、２×ｍｏｌ量により中和度の分子の合計ｍｏｌ量を算出する。
中和度が高いと、アイオノマーの引張強度及び引張破壊応力が高く、引張破壊ひずみが小さくなるが、アイオノマーのメルトフローレート（ＭＦＲ）が小さくなる傾向がある。一方、中和度が低いと、適度なＭＦＲのアイオノマーが得られるが、引張弾性率及び引張破壊応力は低く、引張破壊ひずみが高くなる傾向がある。

・アイオノマーの製造方法
本発明に関わるアイオノマーは、上述のとおりの共重合体へのカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の導入方法によって得たエチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン／不飽和カルボン酸の共重合体を、周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含有する金属塩により処理し金属含有カルボン酸塩に変換する変換工程を経ることにより得てもよい。また、本発明に関わるアイオノマーはエチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン／不飽和カルボン酸エステル共重合体を加熱し、該共重合体中の少なくとも一部のエステル基を、周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含有する金属含有カルボン酸塩に変換する加熱変換工程を経ることにより得てもよい。

重合体にカルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を導入してからアイオノマーを製造する場合、その製造方法は、例えば、以下のとおりである。すなわち、エチレン／メタクリル酸（ＭＡＡ）共重合体などの金属イオンを捕捉する物質と金属塩を場合により加熱して混練することで金属イオン供給源を作製し、ついでアイオノマーベース樹脂に当該金属イオン供給源を所望の中和度となる量投入し、混練することで得ることができる。

また、加熱変換工程においては、（ｉ）エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン／不飽和カルボン酸エステル共重合体を加熱し、加水分解又は加熱分解によりエチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン／不飽和カルボン酸共重合体にした後、周期表１族、２族、又は１２族の金属イオンを含有する化合物と反応させることで、該エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン／不飽和カルボン酸共重合体中のカルボン酸を該金属含有カルボン酸塩に変換してもよく、また、（ｉｉ）エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン／不飽和カルボン酸エステル共重合体を加熱し、該共重合体のエステル基を加水分解又は加熱分解させながら、周期表１族、２族、又は１２族の金属イオンを含有する化合物と反応させることで、前記エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン／不飽和カルボン酸エステル共重合体中のエステル基部分を前記金属含有カルボン酸塩に変換してもよい。

金属イオンを含有する化合物は、周期表１族、２族、又は１２族の金属の酸化物、水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩、酢酸塩、ギ酸塩などであってもよい。
金属イオンを含有する化合物は、粒状あるいは微粉状で反応系に供給してもよく、水や有機溶媒に溶解又は分散させた後、反応系に供給してもよく、エチレン／不飽和カルボン酸共重合体やオレフィン共重合体をベースポリマーとするマスターバッチを作製し、反応系に供給してもよい。反応を円滑に進行させるためにはマスターバッチを作製し、反応系に供給する方法が好ましい。

さらにまた、金属イオンを含有する化合物との反応はベント押出機、バンバリーミキサー、ロールミルの如き種々の型の装置により、溶融混練することによって行ってもよく、反応はバッチ式でも連続法でもよい。反応によって副生する水及び炭酸ガスを脱気装置により排出することにより、円滑に反応を行うことができることからベント押出機のような脱気装置付きの押出機を用い連続的に行うことが好ましい。
金属イオンを含有する化合物との反応に際し、反応を促進させるために、少量の水を注入してもよい。

エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィン／不飽和カルボン酸エステル共重合体を加熱する温度は、エステルがカルボン酸になる温度であればよく、加熱温度が低すぎる場合はエステルがカルボン酸に変換されず、高すぎる場合には脱カルボニル化や共重合体の分解が進む場合がある。従って、本発明の加熱温度は、好ましくは８０℃〜３５０℃、より好ましくは１００℃〜３４０℃、更に好ましくは１５０℃〜３３０℃、更により好ましくは２００℃〜３２０℃の範囲で行われる。

反応時間は加熱温度やエステル基部分の反応性等により変わるが、通常１分〜５０時間であり、より好ましくは２分〜３０時間であり、更に好ましくは２分〜１０時間であり、よりさらに好ましくは２分〜３時間であり、特に好ましくは３分〜２時間である。

上記工程において、反応雰囲気下に特に制限はないが、一般に不活性ガス気流下で行われるほうが好ましい。不活性ガスの例としては、窒素、アルゴン、二酸化炭素雰囲気が使用できる。少量の酸素や空気の混入があってもよい。

上記工程で用いる反応器としては、特に制限は無いが、共重合体を実質的に均一に攪拌できる方法であれば何ら限定されず、攪拌器を装備したガラス容器やオートクレーブ（ＡＣ）を用いてもよいし、ブラベンダープラストグラフ、一軸あるいは二軸押出機、強力スクリュー型混練機、バンバリーミキサー、ニーダー、ロール等の従来知られているいかなる混練機も使用することができる。

アイオノマーベース樹脂に対し金属イオンが導入され、アイオノマーとなったかどうかは、得られた樹脂のＩＲスペクトルを測定してカルボン酸（二量体）のカルボニル基に由来するピークの減少を調べることによって確認することができる。中和度も同じく、前述のモル比からの計算のほか、カルボン酸（二量体）のカルボニル基に由来するピークの減少と、カルボン酸塩基のカルボニル基に由来するピークの増加を調べることによって、確認することができる。

＜アイオノマー物性＞
本発明に用いるアイオノマー、特にフィルム用途に好適なフィルム用アイオノマーとしては、後述する実施例１〜２０の欄に記載した測定条件下において、下記物性のいずれか又はそれらを組み合わせて有するものである。

・ＭＦＲ：
本発明のアイオノマーにおいては、温度１９０℃、荷重２．１６ｋｇにおけるメルトフローレート（ＭＦＲ）が、０．０１〜３０ｇ／１０分であり、好ましくは０．１〜１５ｇ／１０分であり、より好ましくは０．５〜２０ｇ／１０分である。
アイオノマーのＭＦＲがこの範囲であると、フィルム成形が容易である。

・引張弾性率：
本発明のアイオノマーにおいては、引張弾性率が２０ＭＰａ以上、好ましくは２０〜３５０ＭＰａであり、好ましくは２０〜３００ＭＰａである。
アイオノマーの引張弾性率がこの範囲であると、フィルムとしたときの密着性が良好となる。また、弾性率の面での設計が困難となることなくアイオノマーを製造することができる。

・引張衝撃強さ：
本発明のアイオノマーにおいては、引張衝撃強さが１００ＫＪ／ｍ^２以上、好ましくは引張衝撃強さが７００ＫＪ／ｍ^２以上であり、更に好ましくは８００ＫＪ／ｍ^２以上である。
三元系以上の多元系共重合体をベースとしたアイオノマーにおいて、特に引張衝撃強度が７００ＫＪ／ｍ^２以上を達成するアイオノマーを得ることができる。アイオノマーの引張衝撃強さがこの範囲であると、フィルムが大変形を伴う擦れ等があっても、破損する恐れが小さくなる。引張衝撃強さの上限は当業者にとって用いられる材料から得られる範囲において特に制限はない。

・摩耗試験における摩耗量：
本発明のアイオノマーにおいては、摩耗試験における摩耗量が１０ｍｇ未満であり、好ましくは９ｍｇ以下である。摩耗試験の条件は後述するとおりである。
摩耗試験における摩耗量がこの範囲であると、繰り返しの擦れ・圧縮の力が加わった際にも、フィルム表面に破損が起こりにくくなる。

・ヘイズ：
本発明のアイオノマーにおいては、ヘイズが０．１〜３０％であり、好ましくは０．１〜２０％である。
アイオノマーのヘイズが３０％以下であれば、透明性が低下することなく、環境、用途を制限されることなく使用出来るため好ましい。

・添加剤
本発明に関わるアイオノマーには、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、従来公知の酸化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、着色剤、顔料、架橋剤、発泡剤、核剤、難燃剤、導電材、及び、充填材等の添加剤を配合してもよい。

・樹脂組成物
フィルム（シートを含む）などの成形品に用いるフィルム用樹脂組成物として、本発明のアイオノマーは単独で用いてもよく、他の樹脂成分を配合した樹脂組成物として用いてもよい。以下、本発明において、成形品に用いられる場合の「アイオノマーを含む樹脂組成物」というときは、アイオノマー樹脂単独、又は他の樹脂成分や添加剤等を配合した組成物を包含する。本発明のアイオノマー樹脂組成物において配合可能な他の樹脂成分としては、アイオノマーと相溶性があり、フィルム用樹脂組成物として本発明の効果を損なわないものであれば特に制限されない。例えば、高密度ポリエチレン、中密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、エチレン・酢酸ビニル共重合体、エチレン・アクリル酸エステル共重合体、他のアイオノマー等を挙げることができる。また、２種類以上の材料を複合して用いることもできる。これら樹脂成分の配合量は、本発明の効果を損なわない範囲であれば特に制限されない。
本願発明のフィルム用樹脂組成物は、本願に係る特定のアイオノマーを含むことを特徴とし、好ましくは１〜１００重量％の範囲から、任意にその目的とするフィルム用途や他の諸条件との組み合わせでその含有量を選択しうる。
フィルム用樹脂材料として、本願に係る特定のアイオノマーを用いる場合には、樹脂組成物中の含有量として、該フィルム用樹脂材料は、本発明のアイオノマーを１０重量％以上含有するものであることが好ましく、３０重量％以上含有するものがより好ましく、５０重量％以上含有するものがさらに好ましく、６０重量％以上含有するものであることが特に好ましい。上限値は１００重量％以下から９０重量％以下、７０重量％以下、５０重量％以下、もしくは４０重量％以下から任意に選択しうる。
樹脂組成物中の本願発明に係る特定のアイオノマーを含む含有量が高いほど、該アイオノマーを用いたことによる優れた物性等を十分に発揮することが可能となるが、他の加工性や要求する物性、コストといった観点から配合量は任意に選択することができる。
また、他のフィルム用樹脂材料の改質剤としての使用であれば、樹脂組成物中の含有量として、該フィルム用樹脂材料は、本発明のアイオノマーを１重量％以上、好ましくは３重量％以上、より好ましくは１０重量％以上、更に好ましくは２０重量％以上含むことができる。

本発明で用いられるアイオノマーには、必要に応じて、添加又は配合される各種の添加剤及び重合体成分を、ヘンシェルミキサー、スーパーミキサー、タンブラー型ミキサー等を用いて混合した後、一軸あるいは二軸押出機、ニーダー等で加熱混練し、ペレット化してもよい。

２．成形品（フィルム）
本発明の一実施態様は、前記アイオノマーを含むフィルム用樹脂組成物を用いて成形されたフィルム状の成形品、すなわち、エチレン系フィルムに関する。ここでエチレン系フィルムとは、いわゆるエチレンモノマーを主成分とした樹脂により得られるフィルムをいう。
フィルムの厚さとしては、その用途に応じて任意に選択しうるが、通常、１〜５００μｍ程度、好ましくは５〜２００μｍ、更に好ましくは１０〜１００μｍである。本明細書においては、厚みが上記範囲外であっても、厚みが残り２軸方向の長さに比して十分に小さく、厚み方向を持たない面を専らその利用に供するものをフィルム（フィルム状成形品）として表す。本発明の成形品は、フィルム状であればその面の部分は四辺形、円形、三角形など任意の形状をとることができる。好ましくは屈曲可能である。従って、本願発明の「フィルム」とは、狭義のフィルム（厚みが２５０μｍ未満）だけではなく、厚みが２５０μｍ以上の狭義のシートや、テープ等も含む意味である。
ただし、本発明のアイオノマーを含む樹脂組成物より成形されたフィルムの最大の特徴が、高い光学物性と共に高剛性、高強度を示す点に鑑みると、特にフィルム厚みが薄い方が、本願発明のフィルムの高強度や透明性等の飛躍的な効果が顕著に表れやすい。そのため、１〜１００μｍ、好ましくは１〜５０μｍ、１〜３０μｍが好ましく、配合量や用途によっては大幅に厚みを減らすことにより、１〜１０μｍ、究極的には１〜５μｍの範囲にすることも可能である。

本発明のアイオノマーを含有する樹脂組成物をフィルム状に成形することで、フィルム成形体を得ることができる。フィルム又はシートの製造方法は当業者に公知の方法を用いることができる。各種のインフレーション成形法、Ｔダイフィルム成形法、カレンダー成形法等が挙げられる。本発明のアイオノマーを含有する樹脂組成物は、特にこのように、薄く長尺に成形するフィルム化工程を経ることにより、アイオノマー共重合体単体からは予想外の飛躍的な効果を発揮したフィルムを得ることができる。
たとえば、インフレーション成形法を用いる場合、環状ダイを備えた公知のインフレーション成形機を使用することができる。
環状ダイの温度は７０〜２２０℃とすることが好ましい。また、インフレーションフィルム成形の過程における吹き出しエアリングは特に制限されないが、複数の吹き出しスリットを有するものが好ましい。インフレーションフィルム成形の過程におけるブローアップ比は、好ましくは０．３〜１０の範囲であり、より好ましくは１〜８の範囲である。バブルの安定性を増すために公知のバブル内部冷却装置を用いることもできる。

本発明のアイオノマーを含むフィルム用樹脂組成物を用いて成形されたエチレン系フィルムは、従来の一般的なエチレン系樹脂を用いたエチレン系フィルムでは達しえなかった、未到達の領域の、飛躍的な物性性能を少なくとも１以上、又は兼ね備えて有するエチレン系フィルムである。
すなわち、高剛性、高強度、高透明性、高光沢性、低温ヒートシール性といった、いずれか又はそれらを兼ね備えた下記性能を有するフィルムである。
・高剛性及び高強度（靱性）
本発明の一態様は、エチレン系樹脂を樹脂成分とするフィルムであって、厚さ３０μｍに成形して測定した際の、−２０℃におけるフィルムインパクトが２０Ｊ／ｍｍ以上である。かつ、ＭＤ方向における引張弾性率が、１５０ＭＰａ以上であるエチレン系フィルムである。
好ましくは２３℃におけるフィルムインパクトが３０Ｊ／ｍｍ以上であり、フィルムインパクトが４０Ｊ／ｍｍ以上、更には５０Ｊ／ｍｍ以上であり、−２０℃におけるフィルムインパクトは２０Ｊ／ｍｍ以上、さらに好ましくは２２Ｊ／ｍｍ以上、更には３０Ｊ／ｍｍ以上、更には４０Ｊ／ｍｍ以上である。一方、ＭＤ方向における引張弾性率は、好ましくは２００ＭＰａ以上、更には２５０ＭＰａ以上である。
図５及び６に示すように、フィルムには剛性と靱性のバランスが重要であるが、本発明によれば、両者を共に適度にバランスが取れて高い値を示す上に低温域である−２０℃でもそのバランスが良好であり、今まで得られていなかった領域の物性を備えたエチレン系フィルムが得られる。
・高ヒートシール強度
本発明の一態様は、エチレン系樹脂を樹脂成分とするフィルムであって、厚さ３０μｍに成形して測定した際の、シール温度１２０℃、シール圧力０．２ＭＰａ、シール時間１秒、下部シールバー温度６０℃におけるヒートシール強度が、１０Ｎ／１５ｍｍ以上であるエチレン系フィルムである。
より好ましくは、シール温度１００℃、シール圧力０．２ＭＰａ、シール時間１秒、下部シールバー温度６０℃におけるヒートシール強度が、６Ｎ／１５ｍｍ以上、さらに好ましくは前期条件におけるヒートシール強度が７Ｎ／１５ｍｍ以上であるエチレン系フィルムである。
・高透明性
本発明の一態様は、エチレン系樹脂を樹脂成分とするエチレン系フィルム、特にインフレーション成形して得られるインフレーションフィルムにおいて、厚さ３０μｍに成形したときの、ヘイズが２％以下のエチレン系フィルムである。特に好ましくは、前記条件でのヘイズが、１％以下、更に好ましくは０．５％以下のエチレン系フィルムである。
・高光沢性
本発明の一態様は、エチレン系樹脂を樹脂成分とするエチレン系フィルム、特にインフレーション成形して得られるインフレーションフィルムにおいて、厚さ３０μｍに成形したときの、グロス（２０°）が１２０％以上のエチレン系フィルムである。特に好ましくは、前記条件でのグロスが、１３０％以上のエチレン系フィルムである。

本実施形態のフィルムは、従来のエチレン系樹脂又はアイオノマーを用いるエチレン系フィルムとして公知の用途、又はエチレン系フィルムは従来使用していなかった他のフィルム材の用途、例えばＯＰＰフィルム代替用フィルムとして単層、又は他の材料と積層して用いることができる。
例えば、フィルム、シート、テープなどの各種用途が挙げられ、フィルムとしては、農業用フィルム、食品用フィルム、電子材料用フィルム、工業用フィルムが挙げられ、包装用フィルムとしては種々の包装材、例えば食品包装材、医療用包装材、電子材料用包装材、工業材料包装材等として用いることができる。例えば、重量物又は、液体を含む内容物を包装するためのフィルムとして好適に用いることができる。
その他半導体用粘着テープ又はフィルム、マーキングフィルム、衛生材料、プロテクトフィルム、シーラントフィルム、鋼線被覆材料、クリーンルームカーテン、壁紙、マット、床材、フレコン内袋、コンテナー、靴、バッテリーセパレーター、透湿フィルム、防汚フィルム、防塵フィルム、ＰＶＣ代替フィルム、ＯＰＰ代替フィルム等が挙げられる。

以下に、実施例及び比較例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、実施例及び比較例における物性の測定と評価は、以下に示す方法によって実施した。また、表中のｎｏ ｄａｔａは未測定を意味し、ｎｏｔ ｄｅｔｅｃｔｅｄは検出限界未満を意味する。

＜測定と評価＞
（１）重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布パラメーター（Ｍｗ／Ｍｎ）の測定
重量平均分子量（Ｍｗ）はゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって求めた。また、分子量分布パラメーター（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、更に数平均分子量（Ｍｎ）を求め、ＭｗとＭｎの比、Ｍｗ／Ｍｎによって算出した。測定は下記の手順及び条件に従って行った。

１）試料の前処理
試料にカルボン酸基が含まれる場合は、例えばジアゾメタンやトリメチルシリル（ＴＭＳ）ジアゾメタンなどを用いたメチルエステル化などのエステル化処理を行い測定に用いた。また、試料にカルボン酸塩基が含まれる場合は酸処理を行い、カルボン酸塩基をカルボン酸基へと変性した後、上記のエステル化処理を行い測定に用いた。

２）試料溶液の調製
４ｍＬバイアル瓶に試料３ｍｇ及びｏ−ジクロロベンゼン３ｍＬを秤り採り、スクリューキャップ及びテフロン（登録商標）製セプタムで蓋をした後、センシュー科学製ＳＳＣ−７３００型高温振とう機を用いて１５０℃で２時間振とうを行った。振とう終了後、不溶成分がないことを目視で確認した。

３）測定
ウォーターズ社製Ａｌｌｉａｎｃｅ ＧＰＣＶ２０００型に昭和電工製高温ＧＰＣカラムＳｈｏｗｄｅｘ ＨＴ−Ｇ×１本及び同ＨＴ−８０６Ｍ×２本を接続し、溶離液にｏ−ジクロロベンゼンを使用し、温度１４５℃、流量：１．０ｍＬ／分下にて測定を行った。

４）較正曲線
カラムの較正は、昭和電工製単分散ポリスチレン（Ｓ−７３００、Ｓ−３９００、Ｓ−１９５０、Ｓ−１４６０、Ｓ−１０１０、Ｓ−５６５、Ｓ−１５２、Ｓ−６６．０、Ｓ−２８．５、Ｓ−５．０５、の各０．０７ｍｇ／ｍｌ溶液）、ｎ−エイコサン及びｎ−テトラコンタンの測定を上記と同様の条件にて行い、溶出時間と分子量の対数値を４次式で近似した。なお、ポリスチレン分子量（Ｍ_ＰＳ）とポリエチレン分子量（Ｍ_ＰＥ）の換算には次式を用いた。
Ｍ_ＰＥ＝０．４６８×Ｍ_ＰＳ

（２）カルボキシ基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー、及び非環状モノマー由来の構造単位量と炭素１，０００個当たりの分岐数の測定方法
本発明の多元共重合体中のカルボキシ基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー、及び非環状モノマーに由来する構造単位量、及び炭素１，０００個当たりの分岐数は^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルを用いて求められる。^１３Ｃ−ＮＭＲは以下の方法によって測定した。
試料２００〜３００ｍｇをｏ−ジクロロベンゼン（Ｃ_６Ｈ_４Ｃｌ_２）と重水素化臭化ベンゼン（Ｃ_６Ｄ_５Ｂｒ）の混合溶媒（Ｃ_６Ｈ_４Ｃｌ_２／Ｃ_６Ｄ_５Ｂｒ＝２／１（体積比））２．４ｍｌ及び化学シフトの基準物質であるヘキサメチルジシロキサンと共に内径１０ｍｍφのＮＭＲ試料管に入れて窒素置換した後封管し、加熱溶解して均一な溶液としてＮＭＲ測定試料とした。
ＮＭＲ測定は１０ｍｍφのクライオプローブを装着したブルカー・ジャパン（株）のＡＶ４００Ｍ型ＮＭＲ装置を用いて１２０℃で行った。
^１３Ｃ−ＮＭＲは、試料の温度１２０℃、パルス角を９０°、パルス間隔を５１．５秒、積算回数を５１２回以上、逆ゲートデカップリング法で測定した。
化学シフトはヘキサメチルジシロキサンの^１３Ｃシグナルを１．９８ｐｐｍに設定し、他の^１３Ｃによるシグナルの化学シフトはこれを基準とした。

１）試料の前処理
試料にカルボン酸塩基が含まれる場合は酸処理を行うことにより、カルボン酸塩基をカルボキシ基へと変性した後に測定に用いた。また試料にカルボキシ基が含まれる場合は、例えばジアゾメタンやトリメチルシリル（ＴＭＳ）ジアゾメタンなどを用いたメチルエステル化などのエステル化処理を適宜行ってもよい。

２）カルボキシ基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマー、及び非環状モノマー由来の構造単位量の算出
＜Ｅ／ｔＢＡ＞
ｔＢＡのｔ−ブチルアクリレート基の四級炭素シグナルは、^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルの７９．６〜７８．８に検出される。これらのシグナル強度を用い、以下の式からコモノマー量を算出した。
ｔＢＡ総量（ｍｏｌ％）＝Ｉ（ｔＢＡ）×１００／〔Ｉ（ｔＢＡ）＋Ｉ（Ｅ）〕
ここで、Ｉ（ｔＢＡ）、Ｉ（Ｅ）はそれぞれ、以下の式で示される量である。
Ｉ（ｔＢＡ）＝Ｉ_{７９．６〜７８．８}
Ｉ（Ｅ）＝（Ｉ_{１８０．０〜１３５．０}＋Ｉ_{１２０．０〜５．０}−Ｉ（ｔＢＡ）×７）／２

＜Ｅ／ｔＢＡ／ｎＢＡ＞
ｔＢＡのｔ−ブチルアクリレート基の四級炭素シグナルは、^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルの７９．６〜７８．８ｐｐｍ、ｎＢＡのブトキシ基のメチレンシグナルは、６４．１〜６３．４ｐｐｍに検出される。これらのシグナル強度を用い、以下の式からコモノマー量を算出した。
ｔＢＡ総量（ｍｏｌ％）＝Ｉ（ｔＢＡ）×１００／〔Ｉ（ｔＢＡ）＋Ｉ（ｎＢＡ）＋Ｉ（Ｅ）〕
ｎＢＡ総量（ｍｏｌ％）＝Ｉ（ｎＢＡ）×１００／〔Ｉ（ｔＢＡ）＋Ｉ（ｎＢＡ）＋Ｉ（Ｅ）〕
ここで、Ｉ（ｔＢＡ）、Ｉ（ｎＢＡ）、Ｉ（Ｅ）はそれぞれ、以下の式で示される量である。
Ｉ（ｔＢＡ）＝Ｉ_{７９．６〜７８．８}
Ｉ（ｎＢＡ）＝Ｉ_{６４．１〜６３．４}
Ｉ（Ｅ）＝（Ｉ_{１８０．０〜１３５．０}＋Ｉ_{１２０．０〜５．０}−Ｉ（ｎＢＡ）×７−Ｉ（ｔＢＡ）×７）／２

＜Ｅ／ｔＢＡ／ｉＢＡ＞
ｔＢＡのｔ−ブチルアクリレート基の四級炭素シグナルは、^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルの７９．６〜７８．８ｐｐｍ、ｉＢＡのイソブトキシ基のメチレンシグナルは７０．５〜６９．８ｐｐｍ、イソブトキシ基のメチルシグナルは１９．５〜１８．９ｐｐｍに検出される。これらのシグナル強度を用い、以下の式からコモノマー量を算出した。
ｔＢＡ総量（ｍｏｌ％）＝Ｉ（ｔＢＡ）×１００／〔Ｉ（ｔＢＡ）＋Ｉ（ｉＢＡ）＋Ｉ（Ｅ）〕
ｉＢＡ総量（ｍｏｌ％）＝Ｉ（ｉＢＡ）×１００／〔Ｉ（ｔＢＡ）＋Ｉ（ｉＢＡ）＋Ｉ（Ｅ）〕
ここで、Ｉ（ｔＢＡ）、Ｉ（ｉＢＡ）、Ｉ（Ｅ）はそれぞれ、以下の式で示される量である。
Ｉ（ｔＢＡ）＝Ｉ_{７９．６〜７８．８}
Ｉ（ｉＢＡ）＝（Ｉ_{７０．５〜６９．８}＋Ｉ_{１９．５〜１８．９}）／３
Ｉ（Ｅ）＝（Ｉ_{１８０．０〜１３５．０}＋Ｉ_{１２０．０〜５．０}−Ｉ（ｉＢＡ）×７−Ｉ（ｔＢＡ）×７）／２

＜Ｅ／ｔＢＡ／ＮＢ＞
ｔＢＡのｔ−ブチルアクリレート基の四級炭素シグナルは、^１３Ｃ−ＮＭＲスペクトルの７９．６〜７８．８ｐｐｍ、ＮＢのメチン炭素シグナルは４１．９〜４１．１ｐｐｍに検出される。これらのシグナル強度を用い、以下の式からコモノマー量を算出した。
ｔＢＡ総量（ｍｏｌ％）＝Ｉ（ｔＢＡ）×１００／〔Ｉ（ｔＢＡ）＋Ｉ（ＮＢ）＋Ｉ（Ｅ）〕
ＮＢ総量（ｍｏｌ％）＝Ｉ（ＮＢ）×１００／〔Ｉ（ｔＢＡ）＋Ｉ（ＮＢ）＋Ｉ（Ｅ）〕
ここで、Ｉ（ｔＢＡ）、Ｉ（ＮＢ）、Ｉ（Ｅ）はそれぞれ、以下の式で示される量である。
Ｉ（ｔＢＡ）＝Ｉ_{７９．６〜７８．８}
Ｉ（ＮＢ）＝（Ｉ_{４１．９〜４１．１}）／２
Ｉ（Ｅ）＝（Ｉ_{１８０．０〜１３５．０}＋Ｉ_{１２０．０〜５．０}−Ｉ（ＮＢ）×７−Ｉ（ｔＢＡ）×７）／２

なお、各モノマーの構造単位量が不等号を含む「＜０．１」で示されている場合、多元共重合体中の構成単位として存在しているが有効数字を考慮して０．１ｍｏｌ％未満の量であることを意味する。

３）炭素１，０００個当たりの分岐数の算出
多元共重合体には、主鎖に分岐が単独で存在する孤立型と、複合型（主鎖を介して分岐と分岐が対面した対面タイプ、分岐鎖中に分岐のあるｂｒａｎｃｈｅｄ−ｂｒａｎｃｈタイプ、及び連鎖タイプ）が存在する。
以下は、エチル分岐の構造の例である。なお、対面タイプの例において、Ｒはアルキル基を表す。

炭素１，０００個当たりの分岐数は、以下の式のＩ（分岐）項に、下記のＩ（B1）、Ｉ（B2）、Ｉ（B4）のいずれかを代入し求める。B1はメチル分岐、B2はエチル分岐、B4はブチル分岐を表す。メチル分岐数はＩ（B1）を用い、エチル分岐数はＩ（B2）を用い、ブチル分岐数はＩ（B4）を用いて求める。
分岐数（個／炭素１，０００個当たり）＝Ｉ（分岐）×１０００／Ｉ（total）
ここで、Ｉ（total）、Ｉ（B1）、Ｉ（B2）、Ｉ（B4）は以下の式で示される量である。
Ｉ（total）＝Ｉ_{180.0〜135.0} ＋Ｉ_120.0〜5.0
Ｉ（B1）＝（Ｉ_20.0〜19.8＋Ｉ_33.2〜33.1＋Ｉ_37.5〜37.3）／４
Ｉ（B2）＝Ｉ_8.6〜7.6 ＋Ｉ_11.8〜10.5
Ｉ（B4）＝Ｉ_14.3〜13.7 −Ｉ_32.2〜32.0
ここで、Ｉは積分強度を、Ｉの下つき添字の数値は化学シフトの範囲を示す。例えばＩ_{180.0〜135.0}は１８０．０ｐｐｍと１３５．０ｐｐｍの間に検出した^１３Ｃシグナルの積分強度を示す。
帰属は、非特許文献Macromolecules 1984, 17, 1756-1761、Macromolecules 1979，12，41を参考にした。
なお、各分岐数が不等号を含む「＜０．１」で示されている場合、多元共重合体中の構成単位として存在しているが有効数字を考慮して０．１ｍｏｌ％未満の量であることを意味する。また、ｎｏｔ ｄｅｔｅｃｔｅｄは検出限界未満を意味する。

（３）赤外吸収スペクトル
試料を１８０℃にて３分間溶融し、圧縮成形して、厚さ５０μｍ程度のフィルムを作製する。このフィルムをフーリエ変換赤外分光分析により分析して、赤外吸収スペクトルを得た。
製品名：ＦＴ／ＩＲ−６１００ 日本分光株式会社製
測定手法：透過法
検出器：ＴＧＳ（Ｔｒｉｇｌｙｃｉｎｅ ｓｕｌｆａｔｅ）
積算回数：１６〜５１２回
分解能：４．０ｃｍ^−１
測定波長：５０００〜５００ｃｍ^−１

（４）複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δの測定
１）試料の準備、測定
試料を厚さ１．０ｍｍの加熱プレス用モールドに入れ、表面温度１８０℃の熱プレス機中で５分間予熱後、加圧と減圧を繰り返すことで溶融樹脂中の残留気体を脱気し、更に４．９ＭＰａで加圧し、５分間保持した。その後、表面温度２５℃のプレス機に移し替え、４．９ＭＰａの圧力で３分間保持することで冷却し、厚さが約１．０ｍｍの試料からなるプレス板を作製した。試料からなるプレス板を直径２５ｍｍの円形に加工したものをサンプルとし、動的粘弾性特性の測定装置としてＲｈｅｏｍｅｔｒｉｃｓ社製ＡＲＥＳ型回転式レオメータを用い、窒素雰囲気下において以下の条件で動的粘弾性を測定した。
・プレート：φ２５ｍｍ（直径） パラレルプレート
・温度：１６０℃
・歪み量：１０％
・測定角周波数範囲：１．０×１０^−２〜１．０×１０^２ ｒａｄ／ｓ
・測定間隔：５点／ｄｅｃａｄｅ
複素弾性率の絶対値Ｇ^＊（Ｐａ）の常用対数ｌｏｇＧ^＊に対して位相角δをプロットし、ｌｏｇＧ^＊＝５．０に相当する点のδ（度）の値をδ（Ｇ^＊＝０．１ＭＰａ）とした。測定点の中にｌｏｇＧ^＊＝５．０に相当する点がないときは、ｌｏｇＧ^＊＝５．０前後の２点を用いて、ｌｏｇＧ^＊＝５．０におけるδ値を線形補間で求めた。また、測定点がいずれもｌｏｇＧ^＊＜５であるときは、ｌｏｇＧ^＊値が大きい方から３点の値を用いて２次曲線でｌｏｇＧ^＊＝５．０におけるδ値を補外して求めた。

（５）融点（Ｔｍ、℃）：
融点は、示差走査型熱量計（ＤＳＣ）により測定した吸熱曲線のピーク温度によって示される。測定にはエスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製のＤＳＣ（ＤＳＣ７０２０）を使用し、次の測定条件で実施した。
試料約５．０ｍｇをアルミパンに詰め、１０℃／分で２００℃まで昇温し、２００℃で５分間保持した後に１０℃／分で３０℃まで降温させた。３０℃で５分間保持した後、再度、１０℃／分で昇温させる際の吸収曲線のうち、最大ピーク温度を融点Ｔｍとし、融解吸熱ピーク面積から融解熱（ΔＨ）を求め、その融解熱を高密度ポリエチレン（ＨＤＰＥ）の完全結晶の融解熱２９３Ｊ／ｇで除することにより、結晶化度（％）を求めた。

（６）メルトフローレート（ＭＦＲ）
ＭＦＲは、ＪＩＳ Ｋ−７２１０（１９９９年）の表１−条件７に従い、温度１９０℃、荷重２１．１８Ｎ（＝２．１６ｋｇ）の条件で測定した。

（７）ヘイズ測定方法
ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠してヘイズを測定した。

試料のプレス板調整方法
試料を、寸法：５０ｍｍ×６０ｍｍ、厚さ０．５ｍｍの加熱プレス用モールドに入れ、表面温度１８０℃の熱プレス機中で５分間予熱後、加圧と減圧を繰り返すことで試料中の残留気体を脱気し、更に４．９ＭＰａで加圧し、３分間保持した。その後、表面温度２５℃のプレス機に移し替え、４．９ＭＰａの圧力で３分間保持することで冷却し、厚さが約０．５ｍｍのプレス板を作製した。

（８）引張試験
試料をＪＩＳ Ｋ７１５１（１９９５年）に記載の方法（冷却方法Ａ）で厚さ１ｍｍのシートを作製し、これを打抜いて作製したＪＩＳ Ｋ７１６２（１９９４年）に記載の５Ｂ形小型試験片を用いて、ＪＩＳ Ｋ７１６１（１９９４年）に従って温度２３℃の条件下において引張試験を行い、引張弾性率、引張破壊応力及び引張破壊ひずみを測定した。なお、試験速度は１０ｍｍ／分とした。

（９）引張衝撃強さ
１）引張衝撃強さ試験サンプルの作製方法
試料を、厚さ１ｍｍの加熱プレス用モールドに入れ、表面温度１８０℃の熱プレス機中で５分間予熱後、加圧と減圧を繰り返すことで試料を溶融すると共に試料中の残留気体を脱気し、更に４．９ＭＰａで加圧し、５分間保持した。その後、４．９ＭＰａの圧力をかけた状態で、１０℃／分の速度で徐々に冷却し、温度が室温付近まで低下したところでモールドから成形板を取り出した。得られた成形板を温度２３±２℃、湿度５０±５℃の環境下で４８時間以上、状態調節した。状態調節後のプレス板からＡＳＴＭ Ｄ１８２２ Ｔｙｐｅ−Ｓの形状の試験片を打ち抜き、引張衝撃強さ試験サンプルとした。

２）引張衝撃強さ試験条件
上記試験片を用い、ＪＩＳ Ｋ ７１６０−１９９６のＢ法を参考として引張衝撃強さを測定した。なお、ＪＩＳ Ｋ ７１６０−１９９６と異なるのは、試験片の形状のみである。その他測定条件等に関しては、ＪＩＳ Ｋ ７１６０−１９９６に準じた方法で試験を実施した。

（１０）摩耗量の測定
１）摩耗試験サンプルの作製方法
試料を、寸法：１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、厚さ１ｍｍの加熱プレス用モールドに入れ、表面温度１８０℃の熱プレス機中で５分間予熱後、加圧と減圧を繰り返すことで試料を溶融すると共に試料中の残留気体を脱気し、更に４．９ＭＰａで加圧し、３分間保持した。その後、４．９ＭＰａの圧力をかけた状態で、１０℃／分の速度で徐々に冷却し、温度が室温付近まで低下したところでモールドから成形板を取り出した。得られた成形板を温度２３±２℃、湿度５０±５℃の環境下で４８時間以上、状態調節した。状態調節後のプレス板を直径約１１５ｍｍの円形に切り抜き、中心に直径約６．５ｍｍの穴をあけ、摩耗試験サンプルとした。

２）摩耗試験条件
上記試験片を用い、ＪＩＳ Ｋ ７２０４−１９９９に準拠し下記条件で摩耗損失量（ｍｇ）を測定した。
・装置：テーバー摩耗試験機（ロータリーアブレーションテスタ）＿（株）東洋精機製作所製
・摩耗輪：ＣＳ−１７
・回転数：６０回転／ｍｉｎ
・試験回数：１０００回転
・荷重：４．９Ｎ

（１１）耐屈曲回数の測定
１）屈曲試験サンプルの作製方法
試料を、寸法：１５０ｍｍ×１５０ｍｍ、厚さ１ｍｍの加熱プレス用モールドに入れ、表面温度１８０℃の熱プレス機中で５分間予熱後、加圧と減圧を繰り返すことで試料を溶融すると共に試料中の残留気体を脱気し、更に４．９ＭＰａで加圧し、３分間保持した。その後、４．９ＭＰａの圧力をかけた状態で、１０℃／分の速度で徐々に冷却し、温度が室温付近まで低下したところでモールドから成形板を取り出した。得られた成形板を温度２３±２℃、湿度５０±５℃の環境下で４８時間以上、状態調節した。状態調節後のプレス板を幅１５ｍｍ、長さ約１１０ｍｍに切断し屈曲試験サンプルとした。

２）屈曲試験条件
上記試験片を用い、ＪＩＳ Ｐ ８１１５−２００１を参考に下記条件で耐屈曲回数を測定した。なお、ＪＩＳ Ｐ ８１１５−２００１と異なるのは、試験片の材質と荷重のみである。その他測定条件等に関しては、ＪＩＳ Ｐ ８１１５−２００１に準じた方法で試験を実施した。
・装置：ＭＩＴ耐折疲労試験機＿（株）東洋精機製作所製
・荷重：２９．４Ｎ
・折り曲げ速度：１７５回／ｍｉｎ
・折り曲げ角度：１３５°
・折り曲げクランプの屈曲半径：０．３８ｍｍ

＜フィルムの作成方法＞
（比較例１０〜１３、実施例１７）
口径５０ｍｍφ単軸押出機にダイ口径７５ｍｍφ、リップ幅３ｍｍのダイを取り付け、押出機、及びダイの設定温度を１９０℃に設定した条件で、ブロー比２．０でインフレーション成形を行い、比較例１０〜１３、実施例９に示す３０μｍの厚さのフィルムを得た。このフィルムについて物性評価を行った結果を表７に示した。

＜フィルムのヘイズ評価方法＞
ＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠してヘイズを測定した。

＜フィルムのグロス評価方法＞
ＪＩＳ Ｚ８７４１を参考にフィルムのグロスを測定した。

＜フィルムの引張弾性率の測定方法＞
ＪＩＳ Ｋ ７１２７に準拠しＭＤ、ＴＤ方向を測定した。

＜フィルムの衝撃強度評価方法＞
・２３℃及び−２０℃におけるフィルムインパクト
東洋精機製作所製フィルムインパクトテスター（FILM・IMPACT・TESTER：以下、単に「試験機」という）を用い、単位フィルム厚みあたりの貫通破壊に要した仕事量を測定した。具体的には、試験フィルムを２３℃−５０％の雰囲気に保存し、状態調節を行った後、試験機に試験フィルムを直径５０ｍｍのホルダーにて固定し、１／２インチ（約１３．０ｍｍ）の半球型金属を試験フィルムの内層面から貫通部で打撃させ、貫通破壊に要した仕事量を測定した。その時、荷重は除去し、最大目盛り（仕事量）が３．０Ｊとなるようにした。そして、仕事量をフィルム厚みで除した値を、２３℃におけるフィルムインパクト値とした。
上記と同様に、同じく東洋精機製作所製の恒温槽を具備した試験機を用い、フィルムを固定している保持部分、及びフィルムが−２０℃となるように調整した条件で貫通破壊に要した仕事量を測定した。その時、上記同様に荷重は除去し、最大目盛り（仕事量）が３．０Ｊとなるようにした。そして、仕事量をフィルム厚みで除した値を、−２０℃におけるフィルムインパクト値とした。

＜フィルムの突刺し強度評価方法＞
フィルムを固定し、フィルムに直径１.０ｍｍ、先端形状半径０.５ｍｍの半円形の針を毎分５０±０.５ｍｍの速度で突刺し、針が貫通するまでの最大荷重（Ｎ）を測定した。

＜フィルムの耐ピンホール性評価方法＞
ゲルボフレックス装置（テスター産業製）にて、フィルムを３０００回屈曲させた。その後、ピンホール数を測定した。

＜フィルムのヒートシール強度＞
インフレーション成形フィルムを２枚重ね、厚さ１２μｍのＰＥＴフィルムを介した上で、下方シールバーの温度を６０℃、上方シールバーの温度は８０〜１５０℃とし、シール時圧力を２．０ＭＰａ、１．０秒のシール時間でヒートシールを行い、１５ｍｍ幅の１８０度剥離強度を測定した。測定結果を表８及び図２に示す。

＜金属錯体の合成＞
（１）Ｂ−２７ＤＭ／Ｎｉ錯体の合成
Ｂ−２７ＤＭ／Ｎｉ錯体は、国際公開第２０１０／０５０２５６号に記載された合成例４に従い、下記の２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−ペンタフルオロフェニルフェノール配位子（Ｂ−２７ＤＭ）を使用した。国際公開第２０１０／０５０２５６号の実施例１に準じて、ビス（１，５−シクロオクタジエン）ニッケル（０）（Ｎｉ（ＣＯＤ）_２と称する）を用いて、Ｂ−２７ＤＭとＮｉ（ＣＯＤ）_２とが１対１で反応したニッケル錯体（Ｂ−２７ＤＭ／Ｎｉ）を合成した。

（２）Ｂ−４２３／Ｎｉ錯体の合成
１）配位子Ｂ−４２３：２−ビス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスファノ−６−（２，６−ジイソプロピルフェニル）フェノールの合成

以下のスキームに従って配位子Ｂ−４２３を合成した。
なお、以降の化学式中、−ＯＭＯＭとはメトキシメトキシ基（−ＯＣＨ_２ＯＣＨ_３）を表す。

（ｉ）化合物２の合成
特許文献ＷＯ２０１０／０５０２５６に従って合成した。

（ｉｉ）化合物３の合成
化合物２（２．６４ｇ、１０．０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（５．０ｍｌ）溶液にｉ−ＰｒＭｇＣｌ（２Ｍ、５．２５ｍｌ）を０℃で加えた。反応混合物を２５℃で１時間撹拌した後、ＰＣｌ_３（６１８ｍｇ、４．５０ｍｍｏｌ）を−７８℃で加えた。
反応混合物を２５℃まで３時間かけて昇温し、黄色懸濁液を得た。溶媒を減圧留去し、黄色固体を得た。この混合物を精製することなく、次の反応に用いた。

（ｉｉｉ）化合物５の合成
化合物４（３０ｇ、２２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（２５０ｍｌ）溶液にｎ−ＢｕＬｉ（２．５Ｍ、９６ｍｌ）を０℃で加え、３０℃で１時間撹拌した。この溶液にＢ（Ｏ^ｉＰｒ）_３（１２３ｇ、６５１ｍｍｏｌ）を−７８℃で加え、３０℃で２時間撹拌して白色懸濁液を得た。塩酸（１Ｍ）を加えてｐＨ＝６〜７に調整し、有機層を濃縮して混合物を得た。得られた混合物を石油エーテル（８０ｍｌ）で洗浄し、化合物５を２６ｇ得た。

（ｉｖ）化合物７の合成
化合物５（５．００ｇ、２７．５ｍｍｏｌ）、化合物６（４．４２ｇ、１８．３ｍｍｏｌ）、Ｐｄ_２（ｄｂａ）_３（１６８ｍｇ、０．１８３ｍｍｏｌ）、ｓ−Ｐｈｏｓ（２−ジシクロヘキシルホスフィノ−２’，６’−ジメトキシビフェニル）（３７６ｍｇ、０．９１６ｍｍｏｌ）、Ｋ_３ＰＯ_４（７．３５ｇ、３４．６ｍｍｏｌ）を反応容器に量りとり、トルエン（４０ｍｌ）を加えた。この溶液を１１０℃で１２時間反応させ、黒色懸濁液を得た。Ｈ_２Ｏ（５０ｍｌ）を加え、ＥｔＯＡｃ（５５ｍｌ×３）で抽出した。有機層を食塩水（２０ｍｌ）で洗浄してＮａ_２ＳＯ_４で脱水した。有機層を濾過して溶媒を減圧留去した後、シリカゲルカラムで精製することにより１．３ｇのオイル状物質を得た。

（ｖ）化合物８の合成
化合物７（６．５ｇ、２２ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４０ｍｌ）溶液にｎ−ＢｕＬｉ（２．５Ｍ、９．１５ｍｌ）を０℃で滴下し、３０℃に昇温して１時間撹拌した。この反応溶液を−７８℃に冷却してＣｕＣＮ（２．１ｇ，２３ｍｍｏｌ）を加え、３０℃で１時間撹拌した。反応溶液を−７８℃に冷却して化合物３（６．７ｇ、２０ｍｍｏｌ）のＴＨＦ（４０ｍｌ）溶液を加え、３０℃で１２時間撹拌して白色の懸濁液を得た。懸濁液にＨ_２Ｏ（５０ｍｌ）を加えると白色沈殿が生じた。白色沈殿を濾過で回収してジクロロメタン（２０ｍｌ）に溶解させ、アンモニア水（８０ｍｌ）を加えて３時間撹拌した。生成物をジクロロメタン（５０ｍｌ×３）で抽出してＮａ_２ＳＯ_４で脱水した後、濃縮して黄色のオイル状物質を得た。このオイル状物質をシリカゲルカラムで精製し、化合物８を２．９ｇ得た。

（ｖｉ）Ｂ−４２３の合成
化合物８（２．９ｇ、４．８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２０ｍｌ）溶液にＨＣｌ／ＥｔＯＡｃ（４Ｍ、５０ｍｌ）を０℃で加え、３０℃で２時間撹拌して淡黄色溶液を得た。溶媒を減圧留去した後、ジクロロメタン（５０ｍｌ）を加えた。飽和ＮａＨＣＯ_３水溶液（１００ｍｌ）で洗浄し、Ｂ−４２３を２．５ｇ得た。
得られた配位子Ｂ−４２３のＮＭＲ帰属値を以下に示す。
［ＮＭＲ］
^１Ｈ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、δ、ｐｐｍ）：７．４９（ｔ、１Ｈ）、７．３３（ｔ、１Ｈ）、７．２２（ｍ、４Ｈ）、６．９３（ｄ、１Ｈ）、６．８１（ｔ、１Ｈ）、６．４９（ｄｄ、４Ｈ）、６．４６（ｂｒ、１Ｈ）、３．５６（ｓ、１２Ｈ）、２．６３（ｓｅｐｔ、２Ｈ）、１．０５（ｄ、６Ｈ）、１．０４（ｄ、６Ｈ）；
^３１Ｐ ＮＭＲ（ＣＤＣｌ_３、δ、ｐｐｍ）：−６１．６（ｓ）．

２）Ｂ−４２３／Ｎｉ錯体の合成
Ｂ−４２３／Ｎｉ錯体は、Ｂ−４２３配位子を使用し、国際公開第２０１０／０５０２５６号の実施例１に準じて、ビスアセチルアセトナトニッケル（II）（Ｎｉ（ａｃａｃ）_２と称する）を用いて、Ｂ−４２３とＮｉ（ａｃａｃ）_２とが１対１で反応したニッケル錯体（Ｂ−４２３／Ｎｉ）を合成した。

＜（製造例１〜製造例１０）：アイオノマーベース樹脂前駆体の製造＞
遷移金属錯体（Ｂ−２７ＤＭ／Ｎｉ錯体又はＢ−４２３／Ｎｉ錯体）を用いて、エチレン／アクリル酸ｔＢｕ／アクリル酸エステル共重合体、及びエチレン／アクリル酸ｔＢｕ／ノルボルネン共重合体を製造した。特開２０１６−７９４０８号公報に記載された製造例１又は製造例３を参考に共重合体の製造を行い、金属触媒種、金属触媒量、トリオクチルアルミニウム（TNOA）量、トルエン量、コモノマー種、コモノマー量、エチレン分圧、重合温度、重合時間など、適宜変更した製造条件を表１、得られたアイオノマーベース樹脂前駆体の物性を表２に示す。但し、表中のno dataは未測定を意味し、not detectedは検出限界未満を意味する。

＜（樹脂１、樹脂２、樹脂１０）：アイオノマーベース樹脂の製造−１＞
内容積１．６ｍ^３の攪拌翼付きＳＵＳ３１６Ｌ製のオートクレーブに、得られた製造例１、製造例２、製造例１０の共重合体のうちいずれか１種を１００ｋｇとパラトルエンスルホン酸一水和物を２．０ｋｇ、トルエンを１７３Ｌ投入し、１０５℃で４時間撹拌した。イオン交換水１７３Ｌを投入し撹拌、静置した後、水層を抜き出した。以後、抜き出した水層のｐＨが５以上となるまで、イオン交換水の投入と抜き出しを繰り返し行った。残った溶液を４２ｍｍφベント装置付二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝４５．５）に投入し、ベントを真空に引くことで溶媒を留去した。さらに押出機先端のダイスから連続的にストランドの形で押出される樹脂を水中で冷却しカッターで切断することにより樹脂のペレットを得た。
得られた樹脂のＩＲスペクトルにおいて、ｔＢｕ基に由来する８５０ｃｍ^−１付近のピークの消失及び、エステルのカルボニル基に由来する１７３０ｃｍ^−１付近のピークの減少と、カルボン酸（二量体）のカルボニル基に由来する１７００ｃｍ^−１付近のピークの増加を観測した。
これにより、t-Ｂｕエステルの分解及びカルボン酸の生成を確認し、アイオノマーベース樹脂１、樹脂２、樹脂１０を得た。得られた樹脂の物性を表３に示す。但し、表中のno dataは未測定を意味し、not detectedは検出限界未満を意味する。

＜（樹脂３〜樹脂９）：アイオノマーベース樹脂の製造−２＞
容量５００ｍｌセパラブルフラスコに、得られた製造例３〜製造例９の共重合体を４０ｇとパラトルエンスルホン酸一水和物を０．８ｇ、トルエンを１８５ｍｌ投入し、１０５℃で４時間撹拌した。イオン交換水１８５ｍｌを投入し撹拌、静置した後、水層を抜き出した。以後、抜き出した水層のｐＨが５以上となるまで、イオン交換水の投入と抜き出しを繰り返し行った。残った溶液から溶媒を減圧留去し、恒量になるまで乾燥を行なった。
得られた樹脂のＩＲスペクトルにおいて、ｔＢｕ基に由来する８５０ｃｍ^−１付近のピークの消失及び、エステルのカルボニル基に由来する１７３０ｃｍ^−１付近のピークの減少と、カルボン酸（二量体）のカルボニル基に由来する１７００ｃｍ^−１付近のピークの増加を観測した。
これにより、t-Ｂｕエステルの分解及びカルボン酸の生成を確認し、アイオノマーベース樹脂３〜樹脂９を得た。得られた樹脂の物性を表３に示す。以下の表において、「ＡＡ」「ＮＢ」「ｉＢＡ」「ｎＢＡ」はそれぞれ、ベース樹脂中に含有されている構造単位としての「アクリル酸」「ノルボルネン」「アクリル酸イソブチル」「アクリル酸ｎ−ブチル」の略号である。但し、表中のno dataは未測定を意味し、not detectedは検出限界未満を意味する。

＜（Ｉ−１、Ｉ−３〜６、Ｉ−８〜Ｉ−１４、Ｉ−１６）：アイオノマーの製造−１＞
１）Ｎａイオン供給源の作製
容量６０ｍｌの小型ミキサーを取り付けた東洋精機（株）製ラボプラストミル：ローラミキサＲ６０型に、エチレン／メタクリル酸（ＭＡＡ）共重合体（三井・ダウポリケミカル（株）製 銘柄：Ｎｕｃｒｅｌ Ｎ１０５０Ｈ）を２２ｇと炭酸ナトリウムを１８ｇ投入し、１８０℃、４０ｒｐｍで３分間混練することでＮａイオン供給源を作製した。

２）Ｚｎイオン供給源の作製
容量６０ｍｌの小型ミキサーを取り付けた東洋精機（株）製ラボプラストミル：ローラミキサＲ６０型に、エチレン／メタクリル酸（ＭＡＡ）共重合体（三井・ダウポリケミカル（株）製 銘柄：Ｎｕｃｒｅｌ Ｎ１０５０Ｈ）を２１．８ｇと酸化亜鉛を１８ｇとステアリン酸亜鉛を０．２ｇ投入し、１８０℃、４０ｒｐｍで３分間混練することでＺｎイオン供給源を作製した。

３）：アイオノマーの作製
容量６０ｍｌの小型ミキサーを取り付けた東洋精機（株）製ラボプラストミル：ローラミキサＲ６０型に、樹脂１〜樹脂９を４０ｇ投入し、１６０℃、４０ｒｐｍで３分間混練し溶解させた。その後、Ｎａイオン供給源又はＺｎイオン供給源を所望の中和度となるように投入し、２５０℃、４０ｒｐｍで５分間混練を行った。
得られた樹脂のＩＲスペクトルにおいて、カルボン酸（二量体）のカルボニル基に由来する１７００ｃｍ^−１付近のピークが減少し、カルボン酸塩基のカルボニル基に由来する１５６０ｃｍ^−１付近のピークが増加していた。カルボン酸（二量体）のカルボニル基に由来する１７００ｃｍ^−１付近のピークの減少量から所望の中和度のアイオノマーが作製できていることを確認した。得られたアイオノマーのプレスシート物性を表５、表６に示す。

＜（Ｉ−２、Ｉ−７、Ｉ−１５、Ｉ−１７）：アイオノマーの製造−２＞
１）Ｎａイオン供給源の作製
東芝機械製２６ｍｍφベント装置付き二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝６４）に、エチレン／メタクリル酸（ＭＡＡ）共重合体（三井・ダウポリケミカル（株）製 銘柄：Ｎｕｃｒｅｌ Ｎ１０５０Ｈ）を５５ｗｔ％、炭酸ナトリウムを４５ｗｔ％の配合比率となるように連続的に投入し、バレル設定温度１５０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍの混練条件で、混練中に発生するガス及び水を真空ポンプにてベント部分より除去しながら押出を行った。さらに押出機先端のダイスから連続的にストランドの形で押出される樹脂を水中で冷却しカッターで切断することによりＮａイオン供給源のペレットを得た。
２）Ｚｎイオン供給源の作製
東芝機械製２６ｍｍφベント装置付き二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝６４）に、エチレン／メタクリル酸（ＭＡＡ）共重合体（三井・ダウポリケミカル（株）製 銘柄：Ｎｕｃｒｅｌ Ｎ１０５０Ｈ）を５５ｗｔ％、炭酸ナトリウムを４５ｗｔ％の配合比率となるように連続的に投入し、バレル設定温度１５０℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍの混練条件で、混練中に発生するガス及び水を真空ポンプにてベント部分より除去しながら押出を行った。さらに押出機先端のダイスから連続的にストランドの形で押出される樹脂を水中で冷却しカッターで切断することによりＮａイオン供給源のペレットを得た。

３）：アイオノマーの作製
東芝機械製２６ｍｍφベント装置付き二軸押出機（Ｌ／Ｄ＝６５）に、樹脂１、樹脂２、樹脂１０のいずれか一つとＮａイオン供給源又はＺｎイオン供給源を所定の中和度となるような配合比率で連続的に投入し、バレル設定温度２００℃、スクリュー回転数１５０ｒｐｍの混練条件で、投入樹脂量１００部に対して４部の割合で水を注入しつつ、混練中に発生するガス及び水を真空ポンプにてベント部分より除去しながら押出を行った。さらに押出機先端のダイスから連続的にストランドの形で押出される樹脂を水中で冷却しカッターで切断することによりアイオノマーのペレットを得た。
得られた樹脂のＩＲスペクトルにおいて、カルボン酸（二量体）のカルボニル基に由来する１７００ｃｍ^−１付近のピークが減少し、カルボン酸塩基のカルボニル基に由来する１５６０ｃｍ^−１付近のピークが増加していた。カルボン酸（二量体）のカルボニル基に由来する１７００ｃｍ^−１付近のピークの減少量から所望の中和度のアイオノマーが作製できていることを確認した。得られたアイオノマーＩ−２、Ｉ−７、Ｉ−１５のプレスシート物性を表５、Ｉ−２、Ｉ−７、Ｉ−１５、Ｉ−１７のインフレーションフィルムの物性を表７に示す。

比較例として用いた原材料について説明する。
（比較例１〜４、比較例１０〜１２、１４、１５）：既存ポリエチレン
比較例１（ＰＥ−１）
日本ポリエチレン（株）製、商品名ノバテックＨＤ、チーグラー・ナッタ系高密度ポリエチレン、エチレン・α−オレフィン共重合体、グレード名：ＨＳ４３０Ｐ、ＭＦＲ＝０．８ｇ／１０分、密度＝０．９５５ｇ／ｃｍ^３のエチレン・ブテン−１共重合体
比較例２（ＰＥ−２）
日本ポリエチレン（株）製、商品名カーネル、メタロセン系線状低密度ポリエチレン、エチレン・α−オレフィン共重合体、グレード名：ＫＦ３６０Ｔ、ＭＦＲ＝３．５ｇ／１０分、密度＝０．８９８ｇ／ｃｍ^３のエチレン・プロピレン・１−ヘキセン共重合体
比較例３（ＰＥ−３）
日本ポリエチレン（株）製、商品名カーネル、メタロセン系線状低密度ポリエチレン、エチレン・α−オレフィン共重合体、グレード名：ＫＦ５６０Ｔ、ＭＦＲ＝１６．５ｇ／１０分、密度＝０．８９８ｇ／ｃｍ^３のエチレン・プロピレン・１−ヘキセン共重合体
比較例４（ＰＥ−４）
日本ポリエチレン（株）製、商品名ノバテックＬＤ、高圧ラジカル法低密度ポリエチレン、グレード名：ＬＦ４０５Ｍ、ＭＦＲ＝２．０ｇ／１０分、密度＝０．９１９ｇ／ｃｍ^３
比較例１０（ＰＥ−５）
日本ポリエチレン（株）製、商品名ノバテックＬＬ、チーグラー・ナッタ系線状低密度ポリエチレン、グレード名：ＵＦ４２１、ＭＦＲ＝０．９ｇ／１０分、密度＝０．９２６ｇ／ｃｍ^３のエチレン・１−ブテン共重合体
比較例１１（ＰＥ−６）
日本ポリエチレン（株）製、商品名ハーモレックス、メタロセン系線状低密度ポリエチレン、エチレン・α−オレフィン共重合体、グレード名：ＮＦ３２４Ａ、ＭＦＲ＝１．０ｇ／１０分、密度＝０．９０６ｇ／ｃｍ^３のエチレン・１−ヘキセン共重合体
比較例１２（ＰＥ−７）
日本ポリエチレン（株）製、商品名カーネル、メタロセン系線状低密度ポリエチレン、エチレン・α−オレフィン共重合体、グレード名：ＫＳ２４０Ｔ、ＭＦＲ＝２．２ｇ／１０分、密度＝０．８８０ｇ／ｃｍ^３のエチレン・プロピレン・１−ヘキセン共重合体
比較例１４（ＰＥ−８）
日本ポリエチレン（株）製、商品名ノバテックＬＬ、チーグラー・ナッタ系線状低密度ポリエチレン、グレード名：ＵＦ６４１、ＭＦＲ＝２．１ｇ／１０分、密度＝０．９２７ｇ／ｃｍ^３のエチレン・１−ブテン共重合体
比較例１５（ＰＥ−９）
日本ポリエチレン（株）製、商品名ハーモレックス、メタロセン系線状低密度ポリエチレン、エチレン・α−オレフィン共重合体、グレード名：ＮＦ４４４Ｎ、ＭＦＲ＝２．０ｇ／１０分、密度＝０．９１２ｇ／ｃｍ^３のエチレン・１−ヘキセン共重合体
ＰＥ−１〜４のプレスシートの物性を表４、ＰＥ−５〜９のインフレーションフィルムの物性を表７に示す。

（比較例５〜７、比較例１３）：Ｅ／ＭＡＡベース二元アイオノマー（ＨＩＭ−１〜３）
エチレンとメタクリル酸とメタクリル酸Ｎａの共重合体であって、高圧ラジカル法プロセスによって製造されたアイオノマー樹脂（三井・ダウポリケミカル（株）製 銘柄：ＨＩＭＩＬＡＮ ＨＩＭ１６０５（ＨＩＭ−１）、ＨＩＭ１７０７（ＨＩＭ−２）、ＨＩＭ１５５５（ＨＩＭ−３））を参考アイオノマーとして用いた。これらのアイオノマーは位相角δが４６〜４９°であり、長鎖分岐を過多に含む構造である。プレスシート物性を表４、インフレーションフィルムの物性を表７に示す。

（比較例８、９）：Ｅ／ＭＡＡベース二元アイオノマー（ＨＩＭ−４、５）
エチレンとメタクリル酸とメタクリル酸Ｚｎ共重合体であって、高圧ラジカル法プロセスによって製造されたアイオノマー樹脂（三井・ダウポリケミカル（株）製 銘柄：ＨＩＭＩＬＡＮ ＨＩＭ１６５２（ＨＩＭ−４）、ＨＩＭ１７０６（ＨＩＭ−５））を参考アイオノマーとして用いた。これらのアイオノマーは位相角δが４１°又は４５°であり、長鎖分岐を過多に含む構造である。プレスシート物性を表４に示す。

＜評価１：プレスシート物性について＞
・透明性
表４〜６のヘイズの値が透明性の評価指標である。ヘイズ値は曇り度を示す値であり、この値が低いほど透明性に優れる。各実施例のプレスシートは比較例１〜４のどれよりも低く、かつ既存アイオノマーのフィルム（比較例５〜９）とほぼ同等かそれ以下のヘイズ値であった。既存ポリエチレン、既存アイオノマーよりも本発明のアイオノマーが透明性に優れることが見て取れる。

・衝撃強度
表４〜６における引張弾性率と引張衝撃強度の値を見る。既存のポリエチレンにおいては剛性の評価指標である引張弾性率の増加とともに引張衝撃強度は低下していく傾向にあることが見て取れる。このことを鑑みて比較例５〜９の既存アイオノマーの引張弾性率と引張衝撃強度の値を見ていくと、既存ポリエチレンよりも引張弾性率あたりの強度が高いことが見て取れるが、本発明のアイオノマー、特に実施例１〜８においては比較例５〜９よりも高い引張弾性率でありながら同等ないしそれ以上の引張衝撃強度を有し、剛性と強度のバランスに優れることがわかる。実施例９〜１６は、既存のアイオノマーと比較して引張弾性率が同等ないしそれ以下の数値であり、総じて引張衝撃強度が高いことがわかる。したがって本発明のアイオノマーは柔軟性と強度に優れた材料であるということも見て取れる。

・耐ピンホール性
表４〜６における摩耗量と屈曲回数の値を見る。図３は各プレスシートの摩耗量を横軸、屈曲回数を縦軸にとったグラフである。耐ピンホール性を評価するにあたっては、摩耗量が小さく、屈曲回数が大きい値であることが望ましい。この両条件を満たすことで、実使用環境における屈曲や摩耗への耐久性が高い、ひいてはピンホールの生じにくい材料であることが言える。比較例１〜９と実施例１〜１６を見ていくと、実施例１〜１６に関しては比較例１〜９のプロットよりも左上に位置する。したがって本発明のアイオノマーは摩耗量が小さく、かつ屈曲回数が多いことが見て取れ、耐ピンホール性に優れることが言える。

＜評価２：フィルム物性について＞
・光学物性
表７のヘイズ値、グロス値を見る。ヘイズ値は曇り度の評価指標であり、その数値が低いほど透明性に優れることを意味しており、一般的に１０％を下回る場合に透明性に優れると判断される。一方グロス値はフィルムの光沢の評価指標であり、その数値が高いほど光沢に優れることを意味している。表７を見ると、実施例１７〜２０のヘイズ値、グロス値は比較例１０〜１３、比較例１４、１５に比べて大幅に優れていることがわかる。本発明のフィルムが有する透明性は、エチレン系樹脂フィルムとしてはほぼ未到達の領域であり、透明性が高いフィルムとして知られている２０μｍのＯＰＰフィルム（ポリプロピレン延伸フィルム）のヘイズ値１．２％、グロス値１３５．５％と比べても、より優れている。

・衝撃強度
表７の引張弾性率、フィルムインパクトの値を見る。引張弾性率はフィルムの剛性を表す評価指標であり、フィルムインパクトの値はフィルムの衝撃強度を表す評価指標である。比較例１０〜１２、比較例１４、１５の傾向から、剛性の低下、ひいては柔軟性の上昇に伴って衝撃強度は向上していく傾向が見て取れる。この傾向を鑑みながら、一般的な線状ポリエチレンと既存アイオノマーを比較すると、比較例１３の剛性は比較例１０の１．６倍、衝撃強度は２．５倍の数値を示し、既存の線状低密度ポリエチレンに比べ既存のアイオノマーは剛性と強度のバランスが良いことがわかる。次に、既存アイオノマーと本発明のアイオノマーを比較する。実施例１７〜１９のフィルムは既存のアイオノマーと同様にポリエチレンフィルムより優れた剛性を保ちつつ、衝撃強度は１．２５〜３．３倍と大きな差があることが見て取れる。特に実施例１７が示す強度レベルは比較例１２に示している非常に柔軟性の高いメタロセン系ポリエチレンも上回る強度であることから、本発明のアイオノマーで作成したフィルムが既存のポリエチレン、アイオノマーで作成したフィルムと比較して剛性と強度のバランスに非常に優れることが見て取れる。
続いて、同じく表７の−２０℃におけるフィルムインパクトの値を見ると、比較例１３〜１５のフィルムは１７〜１９Ｊ／ｍｍであり、２０Ｊ／ｍｍを超えない一方で、実施例１７〜２０のフィルムは２８．０〜３５．０Ｊ／ｍｍであり、１．５〜２．０倍程度高い強度を示す。このことから、本発明のアイオノマーは常温に加え、低温域でも衝撃強度に優れることがわかる。

・突き刺し強度
表７の突き刺し強度の値を見る。突き刺し強度は鋭利な先端がフィルムを貫通するために必要な力を表す評価指標である。実施例１７〜２０の本発明のアイオノマーを比較例１０〜１２の既存ポリエチレンと比較すると２．４〜３．８倍、比較例１３の既存アイオノマーと比較して１．０〜１．６倍程度高い数値を示している。このことから本発明のアイオノマーで作成したフィルムは既存のポリエチレン、アイオノマーで作成したフィルムと比較して突き刺しに対する強度に優れることが見て取れる。

・耐ピンホール性能
表７のゲルボフレックスの値を見る。この数値はフィルムを複数回屈曲させた際にピンホールがいくつ発生するのかを表す評価指標であり、その数値が低いほどピンホールの発生が少なく耐ピンホール性に優れると評価できる。比較例１０と比較例１４から言えることは、同じＬＬＤＰＥでありながらピンホールの数は比較例１４の方が多い。このことから１９０℃よりも低温な１６０℃で成形すると耐ピンホール性には不利であることがわかる。これを踏まえて、比較例１０〜１２、比較例１４、１５と比較例１３を見ると、既存アイオノマーは１９０℃で成形されているにも関わらず耐ピンホール性の観点からは既存ＰＥと同等あるいは劣る性能であることがわかる。ここで、実施例１７〜１９を見ると、本発明のアイオノマーは１９０℃での成形時はもちろん、１６０℃の成形時にもピンホールの数は０個である点で既存アイオノマーよりも優れた性能を持つ。実施例２０のフィルムについては、同じ１６０℃で成形したＬＬＤＰＥよりもピンホールは少なく、有利な条件であるところの１９０℃で成形した既存アイオノマーと同等程度のピンホール数であるため、より高性能あるいは同程度の性能であることがわかり、本願で紹介する他の物性と総合的に考えれば、既存ＰＥやアイオノマーよりも優れた物性を持つことがわかる。

・ヒートシール強度
表８及び図４に示すヒートシール強度の値を見る。これはフィルム同士を所定の温度、一定の圧力で溶融圧着した部分が引張破断する際の強度を示す評価指標である。一般的に、ヒートシール強度はその強度が高いことはもちろん、より低温でシールした際に高い強度が得られることが望ましい。実施例１７〜２０が示す通り、本発明のアイオノマーで作成したフィルムは９０℃〜１５０℃の温度範囲で最もシール強度が高いことが見て取れる。
上記で説明したように、プレスシート物性及びインフレーションフィルムの物性から、本発明のアイオノマーからなるフィルムが光沢、透明性、衝撃強度、突き刺し強度、耐ピンホール性、ヒートシール強度に優れる。

・剛性と靱性のバランスについて
表７及び図５に示す剛性（引張弾性率）と、靱性（引張衝撃強度）のバランスを見る。両者は共に適度にバランスが取れて高い値をとることが必要であり、図５において、右上側が良好な方向を示す。
比較例１０〜１２、比較例１４、１５に示す、従来の直鎖状の低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）や、比較例１３に示す多分岐構造ベースのアイオノマー樹脂を用いたフィルムは、剛性又は靭性のいずれかが不十分である。これら比較例に比べて、本願の実施例１７〜２０の直鎖状の構造を有するアイオノマーを用いたフィルムは、従来にない領域の剛性−靱性を有するエチレン系樹脂フィルムであることが示されている。

・透明性及び光沢度について
表７及び図６に示す、透明性の比較は、ヘイズの値により行う。ヘイズ値が小さい方が透明性は高い。比較例１０〜１２、比較例１４、１５に示す、従来の直鎖状の低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）や、比較例１３に示す多分岐構造ベースのアイオノマー樹脂を用いたフィルムに比べて、本願の実施例１７〜２０の直鎖状の構造を有するアイオノマーを用いたフィルムは、３０μｍの厚さに成形した際の、ヘイズ値が０．２％〜１．２％という、飛躍的に優れたヘイズを有するエチレン系樹脂フィルムであることが示されている。この領域の透明性を有するエチレン系樹脂フィルムとしては、ほぼ未到達の領域であり、透明性が高いフィルムとして知られている２０μｍのＯＰＰフィルム（ポリプロピレン延伸フィルム）の値１．２％と比べても、より優れている。
表７及び図７に示す、光沢度の比較は、グロス値により行う。グロス値が大きい方が光沢度は高い。比較例１０〜１２、比較例１４、１５に示す、従来の直鎖状の低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）や、比較例１３に示す多分岐構造ベースのアイオノマー樹脂を用いたフィルムに比べて、本願の実施例１７〜２０の直鎖状の構造を有するアイオノマーを用いたフィルムは、３０μｍの厚さに成形した際の、グロス値が１３７．８〜１４５．４％と、飛躍的に優れたグロス値を有するエチレン系樹脂フィルムであることが示されている。この領域の光沢度を有するエチレン系樹脂フィルムとしては、ほぼ未到達の領域であり、光沢度が高いフィルムとして知られている２０μｍのＯＰＰフィルム（ポリプロピレン延伸フィルム）の値１３５．５％と比べても、より優れている。

本発明のアイオノマーを用いたフィルムは、既存ポリエチレンや既存アイオノマーを用いて作成したフィルムと比較して、フィルムの光沢、透明性、引張強度、衝撃強度、突き刺し強度、耐ピンホール性、ヒートシール強度に優れる。本発明のフィルムは、包装用フィルムとして用いることができ、種々の包装材、例えば食品包装材、医療用包装材、工業材料包装材等として好適に用いることができる。

Claims (19)

1. エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンに由来する構造単位（Ａ）と、
   カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位（Ｂ）を必須構成単位として含む共重合体（Ｐ）中の、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の少なくとも一部が周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも１種の金属イオンを含有する金属含有カルボン酸塩に変換されてなり、
   回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δが、５０度〜７５度であることを特徴とするアイオノマーを含むフィルム用樹脂組成物。
2. エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンに由来する構造単位（Ａ）と、
   カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基を有するモノマーに由来する構造単位（Ｂ）と、前記構造単位（Ａ）と前記構造単位（Ｂ）以外の、分子構造中に炭素−炭素二重結合を１つ以上有する化合物である構造単位（Ｃ）を必須構成単位として含む共重合体（Ｐ）中の、カルボキシル基及び／又はジカルボン酸無水物基の少なくとも一部が周期表１族、２族、又は１２族から選ばれる少なくとも1種の金属イオンを含有する金属含有カルボン酸塩に変換されてなり、
   回転式レオメータで測定した複素弾性率の絶対値Ｇ^＊＝０．１ＭＰａにおける位相角δが、５０度〜７５度であることを特徴とするアイオノマーを含むフィルム用樹脂組成物。
3. 前記共重合体（Ｐ）中の前記構造単位（Ｃ）が、下記一般式（１）で表される非環状モノマー又は下記一般式（２）で表される環状モノマーであることを特徴とする、請求項２に記載のフィルム用樹脂組成物。
   
   ［一般式（１）中、Ｔ^１〜Ｔ^３はそれぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、水酸基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された炭素数２〜２０の炭化水素基、炭素数２〜２０のエステル基で置換された炭素数３〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜２０のエステル基、炭素数炭素数３〜２０のシリル基、ハロゲン原子、又は、シアノ基からなる群より選択される置換基であり、
   Ｔ^４は、水酸基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基で置換された炭素数２〜２０の炭化水素基、炭素数２〜２０のエステル基で置換された炭素数３〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリール基、炭素数２〜２０のエステル基、炭素数炭素数３〜２０のシリル基、ハロゲン原子、又は、シアノ基からなる群より選択される置換基である。]
   
   ［一般式（２）中、Ｒ^１〜Ｒ^１２は、それぞれ同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、及び、炭素数１〜２０の炭化水素基からなる群より選ばれるものであり、Ｒ^９及びＲ^１０、並びに、Ｒ^１１及びＲ^１２は、各々一体化して２価の有機基を形成してもよく、Ｒ^９又はＲ^１０と、Ｒ^１１又はＲ^１２とは、互いに環を形成していてもよい。
   また、ｎは、０又は正の整数を示し、ｎが２以上の場合には、Ｒ^５〜Ｒ^８は、それぞれの繰り返し単位の中で、それぞれ同一でも異なっていてもよい。］
4. 前記共重合体（Ｐ）中の前記構造単位（Ｃ）が、前記一般式（１）で表される非環状モノマーであることを特徴とする請求項３に記載のフィルム用樹脂組成物。
5. 前記共重合体（Ｐ）中の前記構造単位（Ｃ）が、前記一般式（２）で表される環状モノマーであることを特徴とする請求項３に記載のフィルム用樹脂組成物。
6. 前記共重合体（Ｐ）の^１３Ｃ−ＮＭＲにより算出されるメチル分岐数が、炭素１，０００個当たり５０個以下であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルム用樹脂組成物。
7. 前記共重合体（Ｐ）の^１３Ｃ−ＮＭＲにより算出されるメチル分岐数が、炭素１，０００個当たり５個以下であることを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルム用樹脂組成物。
8. 前記共重合体（Ｐ）が、共重合体中に前記構造単位（Ｂ）を２〜２０ｍｏｌ％（前記共重合体を構成する全構成単位の合計を１００ｍｏｌ％とする）含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載のフィルム用樹脂組成物。
9. 前記共重合体（Ｐ）が、共重合体中に前記構造単位（Ｃ）を０．００１ｍｏｌ％〜２０．０ｍｏｌ％（前記共重合体を構成する全構成単位の合計を１００ｍｏｌ％とする）含むことを特徴とする、請求項１〜８のいずれか１項に記載のフィルム用樹脂組成物。
10. 前記構造単位（Ａ）が、エチレンに由来する構造単位であることを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載のフィルム用樹脂組成物。
11. 前記金属イオンが、周期表１族の金属イオンであることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のフィルム用樹脂組成物。
12. 前記金属イオンが、周期表１２族の金属イオンであることを特徴とする、請求項１〜１０のいずれか１項に記載のフィルム用樹脂組成物。
13. 前記共重合体（Ｐ）が周期表第８〜１１族の遷移金属を含む遷移金属触媒を用いて製造された前駆体共重合体を加水分解して得られた共重合体であることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか１項に記載のフィルム用樹脂組成物。
14. 前記遷移金属触媒がリンスルホン酸又はリンフェノール配位子とニッケル又はパラジウムからなる遷移金属触媒であることを特徴とする、請求項１３に記載のフィルム用樹脂組成物。
15. 請求項１〜１４のいずれか１項に記載のフィルム用樹脂組成物を用いて成形されたエチレン系フィルム。
16. エチレン系樹脂を樹脂成分とするフィルムであって、厚さ３０μｍに成形して測定した際の、−２０℃におけるフィルムインパクトが２０Ｊ／ｍｍ以上であり、かつ、ＭＤ方向における引張弾性率が、１５０ＭＰａ以上であることを特徴とする、エチレン系フィルム。
17. エチレン系樹脂を樹脂成分とするフィルムであって、厚さ３０μｍに成形して測定した際の、シール温度１２０℃、シール圧力０．２ＭＰａ、シール時間１秒、下部シールバー温度６０℃におけるヒートシール強度が、１０Ｎ／１５ｍｍ以上であることを特徴とする、エチレン系フィルム。
18. エチレン系樹脂を樹脂成分とするインフレーションフィルムであって、厚さ３０μｍに成形したときの、ヘイズが２％以下であることを特徴とする、エチレン系フィルム。
19. エチレン系樹脂を樹脂成分とするインフレーションフィルムであって、厚さ３０μｍに成形したときの、グロス（２０°）が、１２０％以上であることを特徴とする、エチレン系フィルム。