JP2020525818A - リソグラフィ装置の焦点性能を測定するための方法並びにパターニングデバイス及び装置、デバイス製造方法 - Google Patents
リソグラフィ装置の焦点性能を測定するための方法並びにパターニングデバイス及び装置、デバイス製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
Description
[0001] 本出願は、2017年6月26日に出願された欧州特許出願公開第17177774.1号の優先権を主張するものであり、その全体が参照によって本明細書に組み込まれる。
(a)リソグラフィ装置を使用して少なくとも1つの焦点計測パターンを基板に印刷することであって、印刷された焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含むことと、
(b)検査放射を使用して、印刷された焦点計測パターンにおける第一周期的アレイに対する回折スペクトルの反対部分間の非対称性を測定することと、
(c)ステップ(b)で測定された非対称性に少なくとも部分的に基づいて焦点性能の測定値を導出することと、を含み、
上記第一周期的アレイは、第一フィーチャが第二フィーチャと交互に配置された繰り返し配置を含み、各第一フィーチャの最小寸法が、印刷ステップ(a)の限界解像度に近いがそれ以上であり、周期性の方向における各第二フィーチャの最大寸法が、第一フィーチャの最小寸法の少なくとも2倍であり、
各第一フィーチャは、第一フィーチャとその近傍の第二フィーチャとの間の周期性の方向における間隔が第一フィーチャの最小寸法の2分の1〜2倍となるように2つの隣接する第二フィーチャ間に位置決めされる、
方法を提供する。
(a)リソグラフィ装置を使用して少なくとも1つの焦点計測パターンを基板に印刷することであって、印刷された焦点計測パターンが、少なくとも1方向に周期的であるフィーチャのアレイを含むことと、
(b)印刷された焦点計測パターンの特性を測定することと、
(c)上記特性の測定から焦点性能の測定値を導出することと、を含み、
焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含み、各フィーチャの寸法が、印刷ステップ(a)の限界解像度に近いがそれ以上であり、
上記フィーチャが対で配置され、且つ周期性の方向における焦点計測パターン内の隣接する対のフィーチャ間の間隔が、各第一フィーチャの寸法と1対内の第一フィーチャ間の間隔の両方よりもはるかに大きい、
方法を提供する。
放射ビームB(例えば、EUV放射)を調節するように構成された照明システム(イルミネータ)ILと、
パターニングデバイス(例えば、マスク又はレクチル)MAを支持するように構築され、且つパターニングデバイスを正確に位置決めするように構成された第一ポジショナPMに接続された支持構造(例えば、マスクテーブル)MTと、
基板(例えば、レジストコートウェーハ)Wを保持するように構築され、且つ基板を正確に位置決めするように構成された第二ポジショナPWに接続された基板テーブル(例えば、ウェーハテーブル)WTと、
放射ビームBに付与されるパターンを基板Wのターゲット部分C(例えば、1つ又は複数のダイを備える)にパターニングデバイスMAによって投影するように構成された投影システム(例えば、反射型投影システム)PSと、
を備える。
1.ステップモードでは、支持構造(例えば、マスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは基本的に静止状態に維持され、その一方で、放射ビームに付与されたパターン全体がターゲット部分Cに1回で投影される(すなわち、単一静的露光)。次いで、基板テーブルWTは、異なるターゲット部分Cを露光させることができるようにX方向及び/又はY方向にずらされる。
2.スキャンモードでは、支持構造(例えば、マスクテーブル)MT及び基板テーブルWTは同期してスキャンされ、その一方で、放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される(すなわち、単一動的露光)。支持構造(例えば、マスクテーブル)MTに対する基板テーブルWTの速度及び方向は、投影システムPSの拡大(縮小)特性及び像反転特性によって決定されてもよい。
3.別のモードでは、支持構造(例えば、マスクテーブル)MTは、プログラマブルパターニングデバイスを保持して基本的に静止状態に維持され、且つ放射ビームに付与されたパターンがターゲット部分Cに投影される間に基板テーブルWTが移動又はスキャンされる。このモードでは、通例はパルス放射源が用いられ、且つプログラマブルパターニングデバイスが基板テーブルWTの毎回の移動後に又はスキャン中の連続する放射パルス間に必要に応じて更新される。この動作モードは、上で言及したタイプのプログラマブルミラーアレイなどの、プログラマブルパターニングデバイスを利用するマスクレスリソグラフィに容易に適用することができる。
[0067] 図5は、使用され得る種々の焦点計測パターンを図示しており、当然ながら、冒頭で述べた本発明の第一態様を参照しながら本明細書に開示した原理に基づいて、他の例も想定することができる。例の全てにおいて、周期Pの繰り返し単位を含む、パターンの小さなセクションのみが示されている。
1000 計測ターゲットを備えた製品設計又は計測ウェーハ設計を画定して好適なパターニングデバイス(レチクル)のセットを準備することによって始まる。生産前に、既知の焦点/露光変化で露光を行い、これらを測定して1つ又は複数の較正曲線を得る(これは、設計ステップと露光ステップと測定ステップの繰り返しループを含み得る)。
1010 1つ又は複数の焦点計測パターンを製品パターンと一緒に基板に印刷する。
1020 好適な検査装置を使用して各焦点計測パターンの回折スペクトルの一部分の強度を測定する(例えば、+1次数は、回折スペクトルの好適な部分である)。
1030 検査装置を使用して各焦点計測パターンの回折スペクトルの反対部分の強度(例えば、−1次)を測定する。
1040 反対の回折次数の強度を比較することによって、1つ又は複数の焦点計測パターンの非対称性の測定値を計算する。
1050 ステップ1000で記憶された較正曲線及び/又はSEMなどの他の測定値と共に、非対称性測定値を使用して、焦点計測パターンを印刷する際の焦点誤差を計算する。
1060 後続の基板での露光のための焦点設定において導出された焦点測定値を使用する。
1070 終了するか又は繰り返す。
[0097] 図11は、使用され得る焦点計測パターンの2つの更なる例を図示しており、当然ながら、本明細書に開示する発明の第二態様の原理に基づいて、他の例も想定することができる。これらの例では、焦点計測パターンは、少なくとも1方向に周期的である対のフィーチャ1122、1124のアレイを含む。周期Pの繰り返し単位を含む、パターンの小さなセクションのみが示されている。図5(a)の例は、周期毎に1対のフィーチャ1122、1124のみを含む。ある特定の寸法に符号を付すことができるように、1対のフィーチャの一部の拡大視が差し込み詳細図で示されている。寸法は、周期性の方向に測定される。周期性の方向における各フィーチャの最小寸法L1、L2は、完全に合焦されたときに、印刷ステップの限界解像度に近いがそれ以上である。図示の例では、各対内のフィーチャの寸法L1、L2及び各対内のフィーチャ間の間隔dの寸法は全て、同程度の大きさである。1対内のフィーチャ1122、1124の寸法L1及びL2は、差し込み詳細図に示すように、いくつかの実施形態では、等しくてもよく、又は等しくなくてもよい。各対内の第一フィーチャ間の間隔dの寸法は、例えば、各対内のフィーチャ1122、1124の平均寸法の1〜1.5倍、又は1〜2倍であってもよい。各対内の第一フィーチャ間の間隔dの寸法は、例えば、各対内のフィーチャの最小寸法の1〜1.5倍、又は1〜2倍であってもよい。周期性の方向における対のフィーチャ間の間隔Dは、各フィーチャの最小寸法と1対内のフィーチャ間の間隔dの両方よりもはるかに大きい。
1600 計測ターゲットを備えた製品設計を画定して好適なパターニングデバイス(レチクル)のセットを準備することによって始まる。生産前に、既知の焦点/露光変化で露光を行い、これらを測定して1つ又は複数の較正曲線を得る(これは、設計ステップと露光ステップと測定ステップの繰り返しループを含み得る)。
1610 1つ又は複数の焦点計測パターンを製品パターンと一緒に基板に印刷する。
1620 好適な検査装置を使用して各焦点計測パターンの回折スペクトルの一部分の強度を測定する(例えば、+1次数は、回折スペクトルの好適な部分である)。
1630 検査装置を使用して各焦点計測パターンの回折スペクトルの反対部分の強度(例えば、−1次)を測定する。
1640 反対の回折次数の強度を比較することによって、1つ又は複数の焦点計測パターンの非対称性の測定値を計算する。
1650 任意選択で、焦点計測パターン間のプログラムされた非対称性の知識及び/又は実際のオーバーレイ性能などの他の測定値と共に、非対称性測定値を使用して、焦点計測パターンを印刷する際の焦点誤差を計算する。
1660 後続の基板での露光のための焦点設定において導出された焦点測定値を使用する。
1670 終了するか又は繰り返す。
1.リソグラフィ装置の焦点性能を測定する方法であって、
(a)リソグラフィ装置を使用して少なくとも1つの焦点計測パターンを基板に印刷することであって、印刷された焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含むことと、
(b)検査放射を使用して、印刷された焦点計測パターンにおける第一周期的アレイに対する回折スペクトルの反対部分間の非対称性を測定することと、
(c)ステップ(b)で測定された非対称性に少なくとも部分的に基づいて焦点性能の測定値を導出することと、を含み、
上記第一周期的アレイは、第一フィーチャが第二フィーチャと交互に配置された繰り返し配置を含み、各第一フィーチャの最小寸法が、印刷ステップ(a)の限界解像度に近いがそれ以上であり、周期性の方向における各第二フィーチャの最大寸法が、第一フィーチャの最小寸法の少なくとも2倍であり、
各第一フィーチャは、第一フィーチャとその近傍の第二フィーチャとの間の周期性の方向における間隔が第一フィーチャの最小寸法の2分の1〜2倍となるように2つの隣接する第二フィーチャ間に位置決めされる、方法。
2.周期的アレイにおける各第一フィーチャが、周期性の方向に上記最小寸法を有する、条項1に記載の方法。
3.周期的アレイにおける各第一フィーチャが、周期性の方向を横断する方向に上記最小寸法を有する、条項1に記載の方法。
4.周期的アレイにおける各第二フィーチャが、印刷ステップの限界解像度に近いがそれ以上の最小寸法を上記周期性の方向を横断する方向に有するサブフィーチャを更に含む、条項1〜3の何れか一項に記載の方法。
5.印刷された焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイ及び第二周期的アレイを含み、フィーチャの各周期的アレイが、上記先行する条項に規定するような形状を有し、プログラムされた非対称性が各周期的アレイにあり、第二周期的アレイの非対称性が第一周期的アレイの非対称性とは正反対であり、且つステップ(b)が、第一周期的アレイ及び第二周期的アレイの各々の非対称性を測定することを含み、且つステップ(c)が、周期的アレイについて測定された非対称性を組み合わせることによって焦点性能の上記測度を決定する、条項1〜4の何れか一項に記載の方法。
6.上記サブフィーチャは、各第二フィーチャが周期性の方向に対して非対称となるように配置され、且つフィーチャの第二周期的アレイにおける各第二フィーチャの非対称性が、フィーチャの第一周期的アレイにおける非対称性とは正反対である、条項5に記載の方法。
7.2つの隣接する第二フィーチャ間の各第一フィーチャの間隔が、周期性の方向において等しくなく、且つフィーチャの第二周期的アレイにおける隣接する第二フィーチャ間の第一フィーチャの不等間隔が、フィーチャの第一周期的アレイにおける不等間隔とは正反対である、条項1〜6の何れか一項に記載の方法。
8.上記周期性の方向における各第一フィーチャと上記隣接する第二フィーチャの一方との間の距離が、第一フィーチャと上記隣接する第二フィーチャの他方との間の距離の1〜2倍である、条項7に記載の方法。
9.ステップ(b)での測定が、第一フィーチャの上記最小寸法よりもはるかに長い波長を有する放射を使用して実行される、条項1〜8の何れか一項に記載の方法。
10.ステップ(b)での測定は、第一フィーチャの上記最小寸法が40nm未満である一方で、150nmよりも長い波長を有する放射を使用して実行される、条項9に記載の方法。
11.ステップ(b)での測定は、上記焦点計測パターンを印刷するためにリソグラフィ装置によって使用される放射の波長が20nm未満である一方で、150nmよりも長い波長を有する放射を使用して実行される、条項1〜10の何れか一項に記載の方法。
12.上記焦点計測パターンにおけるフィーチャの上記周期的アレイの各々の周期が350nmよりも大きい、条項1〜11の何れか一項に記載の方法。
13.リソグラフィ装置の焦点性能を測定する方法であって、
(a)リソグラフィ装置を使用して少なくとも1つの焦点計測パターンを基板に印刷することであって、印刷された焦点計測パターンが、少なくとも1方向に周期的であるフィーチャのアレイを含むことと、
(b)印刷された焦点計測パターンの特性を測定することと、
(c)上記特性の測定から焦点性能の測定値を導出することと、を含み、
焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含み、各フィーチャの寸法が、印刷ステップ(a)の限界解像度に近いがそれ以上であり、
上記フィーチャが対で配置され、且つ周期性の方向における焦点計測パターン内の隣接する対のフィーチャ間の間隔が、各第一フィーチャの寸法と1対内の第一フィーチャ間の間隔の両方よりもはるかに大きい、方法。
14.焦点計測パターンが対のフィーチャのグループの周期的アレイを含み、且つ周期性の方向における焦点計測パターン内の対のフィーチャの隣接するグループ間の間隔が、各フィーチャの寸法と1対内のフィーチャ間の間隔の両方よりもはるかに大きい、条項13に記載の方法。
15.各対内のフィーチャの寸法と各対内のフィーチャ間の間隔の寸法とが、周期性の方向において、同程度の大きさである、条項13又は15に記載の方法。
16.各対内のフィーチャ間の間隔の寸法が、周期性の方向において、各対内のフィーチャの平均寸法の2分の1〜2倍である、条項15に記載の方法。
17.各対内のフィーチャ間の間隔の寸法が、周期性の方向において、各対内のフィーチャの平均寸法の3分の2〜1.5倍である、条項16に記載の方法。
18.各対内の第一フィーチャ間の間隔の寸法が、周期性の方向において、各対内のフィーチャの最小寸法の1〜2倍である、条項15、16又は17に記載の方法。
19.焦点計測パターンが、パターニングデバイスによって画定され、且つステップ(a)での印刷では、パターニングデバイスに斜角をなして入射するパターニング放射でパターニングデバイスの像が投影される、条項13〜18の何れか一項に記載の方法。
20.焦点計測パターンが、少なくとも対のフィーチャの第二周期的アレイを更に含み、プログラムされた差が各アレイにおける各対内のフィーチャ間の寸法にあることと上記プログラムされた差が第一周期的アレイと第二周期的アレイとで正反対であることとを除いて、第二周期的アレイが第一周期的アレイと同じ形状を有する、条項13〜19の何れか一項に記載の方法。
21.ステップ(b)が、対のフィーチャの第一周期的アレイ及び第二周期的アレイについて別々に、印刷された焦点計測パターンの上記特性を測定することを含み、ステップ(c)では、焦点性能の測定値が、少なくとも第一周期的アレイ及び第二周期的アレイについての上記特性の測定値を組み合わせることによって得られる、条項20に記載の方法。
22.ステップ(b)で測定される特性が非対称性である、条項13〜21の何れか一項に記載の方法。
23.非対称性が、印刷された焦点計測パターンにおける又は各周期的アレイの回折スペクトルにおける非対称性を測定することによって測定される、条項22に記載の方法。
24.ステップ(b)での測定が、上記焦点計測パターンにおける対のフィーチャ内のフィーチャの周期性の方向における寸法よりもはるかに長い波長を有する放射を使用して実行される、条項13〜23の何れか一項に記載の方法。
25.ステップ(b)での測定は、上記焦点計測パターンにおける対のフィーチャ内のフィーチャの寸法が40nm未満である一方で、150nmよりも長い波長を有する放射を使用して実行される、条項24に記載の方法。
26.ステップ(b)での測定は、上記焦点計測パターンを印刷するためにリソグラフィ装置によって使用される放射の波長が20nm未満である一方で、150nmよりも長い波長を有する放射を使用して実行される、条項13〜25の何れか一項に記載の方法。
27.ステップ(b)での測定が、電子顕微鏡を使用して実行される、条項13〜21の何れか一項に記載の方法。
28.上記焦点計測パターンにおける対のフィーチャの上記又は各周期的アレイの各々の周期が350nmよりも大きい、条項13〜27の何れか一項に記載の方法。
29.リソグラフィ装置で使用されるパターニングデバイスであって、
1つ又は複数のデバイスパターン及び1つ又は複数の計測パターンのフィーチャを画定するための反射部分及び非反射部分を備え、
計測パターンが少なくとも1つの焦点計測パターンを含み、
焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含み、
上記第一周期的アレイは、第一フィーチャが第二フィーチャと交互に配置された繰り返し配置を含み、各第一フィーチャの最小寸法が、リソグラフィ装置の限界解像度に近いがそれ以上であり、周期性の方向における各第二フィーチャの最大寸法が、第一フィーチャの最小寸法の少なくとも2倍であり、
各第一フィーチャは、第一フィーチャとその近傍の第二フィーチャとの間の周期性の方向における間隔が第一フィーチャの最小寸法の2分の1〜2倍となるように2つの隣接する第二フィーチャ間に位置決めされる、パターニングデバイス。
30.焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイ及び第二周期的アレイを含み、フィーチャの各周期的アレイが、条項29に規定するような形状を有し、プログラムされた非対称性が各周期的アレイにあり、第二周期的アレイの非対称性が第一周期的アレイの非対称性とは正反対である、条項28に記載のパターニングデバイス。
31.リソグラフィ装置で使用されるパターニングデバイスであって、
1つ又は複数のデバイスパターン及び1つ又は複数の計測パターンのフィーチャを画定するための反射部分及び非反射部分を備え、
計測パターンが少なくとも1つの焦点計測パターンを含み、
焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含み、各フィーチャの寸法が、リソグラフィ装置の限界解像度に近いがそれ以上であり、
上記フィーチャが対で配置され、且つ周期性の方向における焦点計測パターン内の隣接する対のフィーチャ間の間隔が、各第一フィーチャの寸法と1対内の第一フィーチャ間の間隔の両方よりもはるかに大きい、パターニングデバイス。
32.焦点計測パターンが、少なくとも対のフィーチャの第二周期的アレイを更に含み、プログラムされた差が各アレイにおける各対内のフィーチャ間の寸法にあることと上記プログラムされた差が第一周期的アレイと第二周期的アレイとで正反対であることとを除いて、第二周期的アレイが第一周期的アレイと同じ形状を有する、条項31に記載のパターニングデバイス。
33.上記反射部分が、リソグラフィ装置で使用される、20ナノメートルよりも短い放射の波長を反射するようになされ、且つ各第一フィーチャが、上記リソグラフィ装置によって印刷されたときに、周期性の方向に40ナノメートル未満の最小寸法を有する、条項29〜32の何れか一項に記載のパターニングデバイス。
34.リソグラフィプロセスのパラメータを測定するための計測装置であって、
条項1〜28の何れか一項に記載の方法のステップ(b)及び(c)を実施するように動作可能である、計測装置。
35.リソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、
リソグラフィ装置が、
反射型パターニングデバイスを照明するように配置された照明光学システムと、
パターニングデバイスの像を基板上に投影するように配置された投影光学システムと、
条項34に記載の計測装置と、を備え、
リソグラフィ装置が、パターンを更なる基板に付与するときに、計測装置によって導出された焦点性能の測定値を使用するように配置される、リソグラフィシステム。
36.好適なプロセッサ制御装置上で作動したときに、条項1〜28の何れか一項に記載の方法のステップ(b)及び/又は(c)をプロセッサ制御装置に実行させる、プロセッサ可読命令を含むコンピュータプログラム。
37.リソグラフィプロセスを使用してデバイスパターンが一連の基板に付与される、デバイスを製造する方法であって、
条項1〜28の何れか一項に記載の方法を使用して、リソグラフィプロセスの焦点性能を測定することと、
測定された焦点性能に従って後続の基板に対するリソグラフィプロセスを制御することと、
を含む、方法。
[00127] 結論として、リソグラフィプロセスを使用してデバイスを製造する方法は、本明細書に開示した焦点測定方法を実行し、焦点測定方法を使用して、処理された基板を測定してリソグラフィプロセスの性能のパラメータを測定し、且つプロセスのパラメータ(特に焦点)を調整して、後続の基板の処理のためのリソグラフィプロセスの性能を改善又は維持することによって改善することができる。
Claims (16)
- リソグラフィ装置の焦点性能を測定する方法であって、
(a)前記リソグラフィ装置を使用して少なくとも1つの焦点計測パターンを基板に印刷することであって、前記印刷された焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含むことと、
(b)検査放射を使用して、前記印刷された焦点計測パターンにおける前記第一周期的アレイに対する回折スペクトルの反対部分間の非対称性を測定することと、
(c)ステップ(b)で測定された前記非対称性に少なくとも部分的に基づいて焦点性能の測定値を導出することと、を含み、
前記第一周期的アレイは、第一フィーチャが第二フィーチャと交互に配置された繰り返し配置を含み、各第一フィーチャの最小寸法が、前記印刷ステップ(a)の限界解像度に近いがそれ以上であり、
前記周期性の方向における各第二フィーチャの最大寸法が、前記第一フィーチャの前記最小寸法の少なくとも2倍であり、
各第一フィーチャは、前記第一フィーチャとその近傍の第二フィーチャとの間の前記周期性の方向における間隔が前記第一フィーチャの前記最小寸法の2分の1〜2倍となるように2つの隣接する第二フィーチャ間に位置決めされる、方法。 - 前記周期的アレイにおける各第一フィーチャが、前記周期性の方向に前記最小寸法を有するか、又は、
前記周期的アレイにおける各第一フィーチャが、前記周期性の方向を横断する方向に前記最小寸法を有する、請求項1に記載の方法。 - 前記周期的アレイにおける各第二フィーチャが、前記印刷ステップの限界解像度に近いがそれ以上の最小寸法を前記周期性の方向を横断する方向に有するサブフィーチャを更に含む、請求項1又は2に記載の方法。
- 前記印刷された焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイ及び第二周期的アレイを含み、フィーチャの各周期的アレイが、前記先行する請求項に規定するような形状を有し、プログラムされた非対称性が各周期的アレイにあり、前記第二周期的アレイの前記非対称性が前記第一周期的アレイの非対称性とは正反対であり、且つステップ(b)が、前記第一周期的アレイ及び前記第二周期的アレイの各々の非対称性を測定することを含み、且つステップ(c)が、前記周期的アレイについて測定された前記非対称性を組み合わせることによって焦点性能の前記測度を決定し、任意選択的に、前記サブフィーチャは、各第二フィーチャが前記周期性の方向に対して非対称となるように配置され、且つフィーチャの前記第二周期的アレイにおける各第二フィーチャの前記非対称性が、フィーチャの前記第一周期的アレイにおける非対称性とは正反対である、請求項1〜3の何れか一項に記載の方法。
- 2つの隣接する第二フィーチャ間の各第一フィーチャの前記間隔が、前記周期性の方向において等しくなく、且つフィーチャの前記第二周期的アレイにおける前記隣接する第二フィーチャ間の前記第一フィーチャの不等間隔が、フィーチャの前記第一周期的アレイにおける不等間隔とは正反対であり、且つ任意選択的に、前記周期性の方向における各第一フィーチャと前記隣接する第二フィーチャの一方との間の距離が、前記第一フィーチャと前記隣接する第二フィーチャの他方との間の距離の1〜2倍である、請求項1〜4の何れか一項に記載の方法。
- ステップ(b)での前記測定が、前記第一フィーチャの前記最小寸法よりもはるかに長い波長を有する放射を使用して実行され、且つ任意選択に、ステップ(b)での前記測定は、前記第一フィーチャの前記最小寸法が40nm未満である一方で、150nmよりも長い波長を有する放射を使用して実行される、請求項1〜5の何れか一項に記載の方法。
- ステップ(b)での前記測定は、前記焦点計測パターンを印刷するために前記リソグラフィ装置によって使用される放射の波長が20nm未満である一方で、150nmよりも長い波長を有する放射を使用して実行される、請求項1〜5の何れか一項に記載の方法。
- 前記焦点計測パターンにおけるフィーチャの前記周期的アレイの各々の前記周期が350nmよりも大きい、請求項1〜7の何れか一項に記載の方法。
- リソグラフィ装置の焦点性能を測定する方法であって、
(a)前記リソグラフィ装置を使用して少なくとも1つの焦点計測パターンを基板に印刷することであって、前記印刷された焦点計測パターンが、少なくとも1方向に周期的であるフィーチャのアレイを含むことと、
(b)前記印刷された焦点計測パターンの特性を測定することと、
(c)前記特性の前記測定から焦点性能の測定値を導出することと、を含み、
前記焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含み、各フィーチャの寸法が、前記印刷ステップ(a)の限界解像度に近いがそれ以上であり、
前記フィーチャが対で配置され、且つ前記周期性の方向における前記焦点計測パターン内の隣接する対のフィーチャ間の間隔が、各第一フィーチャの寸法と1対内の第一フィーチャ間の間隔の両方よりもはるかに大きい、方法。 - 前記焦点計測パターンが対のフィーチャのグループの周期的アレイを含み、且つ前記周期性の方向における前記焦点計測パターン内の対のフィーチャの隣接するグループ間の間隔が、各フィーチャの前記寸法と1対内のフィーチャ間の前記間隔の両方よりもはるかに大きい、請求項9に記載の方法。
- 各対内の前記フィーチャの前記寸法と各対内の前記フィーチャ間の前記間隔の寸法とが、前記周期性の方向において、同程度の大きさであり、且つ任意選択的に、各対内の前記フィーチャ間の前記間隔の前記寸法が、前記周期性の方向において、各対内の前記フィーチャの前記平均寸法の2分の1〜2倍である、請求項9又は10に記載の方法。
- リソグラフィ装置で使用されるパターニングデバイスであって、
1つ又は複数のデバイスパターン及び1つ又は複数の計測パターンのフィーチャを画定するための反射部分及び非反射部分を備え、
前記計測パターンが少なくとも1つの焦点計測パターンを含み、
前記焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含み、
前記第一周期的アレイは、第一フィーチャが第二フィーチャと交互に配置された繰り返し配置を含み、各第一フィーチャの最小寸法が、前記リソグラフィ装置の限界解像度に近いがそれ以上であり、前記周期性の方向における各第二フィーチャの最大寸法が、前記第一フィーチャの前記最小寸法の少なくとも2倍であり、
各第一フィーチャは、前記第一フィーチャとその近傍の第二フィーチャとの間の前記周期性の方向における間隔が前記第一フィーチャの前記最小寸法の2分の1〜2倍となるように2つの隣接する第二フィーチャ間に位置決めされる、パターニングデバイス。 - リソグラフィ装置で使用されるパターニングデバイスであって、
1つ又は複数のデバイスパターン及び1つ又は複数の計測パターンのフィーチャを画定するための反射部分及び非反射部分を備え、
前記計測パターンが少なくとも1つの焦点計測パターンを含み、
前記焦点計測パターンが少なくともフィーチャの第一周期的アレイを含み、各フィーチャの寸法が、前記リソグラフィ装置の限界解像度に近いがそれ以上であり、
前記フィーチャが対で配置され、且つ前記周期性の方向における前記焦点計測パターン内の隣接する対のフィーチャ間の間隔が、各第一フィーチャの寸法と1対内の第一フィーチャ間の間隔の両方よりもはるかに大きい、パターニングデバイス。 - リソグラフィプロセスのパラメータを測定するための計測装置であって、
請求項1〜11の何れか一項に記載の方法のステップ(b)及び(c)を実行するように動作可能である、計測装置。 - リソグラフィ装置を備えるリソグラフィシステムであって、
前記リソグラフィ装置が、
反射型パターニングデバイスを照明するように配置された照明光学システムと、
前記パターニングデバイスの像を基板上に投影するように配置された投影光学システムと、
請求項13に記載の計測装置と、を備え、
前記リソグラフィ装置が、前記パターンを更なる基板に付与するときに、前記計測装置によって導出された焦点性能の測定値を使用するように配置される、リソグラフィシステム。 - リソグラフィプロセスを使用してデバイスパターンが一連の基板に付与される、デバイスを製造する方法であって、
請求項1〜11の何れか一項に記載の方法を使用して、前記リソグラフィプロセスの焦点性能を測定することと、
前記測定された焦点性能に従って後続の基板に対する前記リソグラフィプロセスを制御することと、
を含む、方法。
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