JP2020515864A - 分析物検出用の微少流体装置 - Google Patents
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Abstract
Description
捕捉剤は、ペプチドでもよい。
捕捉剤は、合成のものでも天然のものでもよい。
(i)本教示に記載された微少流体装置にサンプルを導入する工程と、
(ii)流体流を誘引する工程と、
(iii)分析物を捕捉する工程と、
(iv)微少流体装置の応答特性の変化を測定することにより、流体中の分析物の存在を検出する工程と、を含む。
この方法は、マイクロまたはナノスフェアリソグラフィ製造プロセスを介した電着により形成される、金、その他の金属、および導電性ポリマー(銀およびコバルトアレイも製造できる)中に、一連の規則正しい球状セグメント金属キャビティアレイを製作することができる。図1は、金マイクロキャビティ・アレイ・プラットフォームのためのナノスフェアリソグラフィ製造プロセスの模式図である。
所望の直径サイズ(直径範囲25nm〜21μmを入手可能)の市販のポリスチレン(PS)ラテックススフェア(Bangs Laboratory社、USA)の10重量%ストック溶液を、水中での約1重量%溶液に希釈する。50オングストロームのチタン接着層(Platypus Technologies社、USA)上に1000オングストロームの金(Au)を525μmの厚みで被覆した導電性シリコンウエハ上にスフェア100の薄層を堆積させ、室温で一晩蒸発させる。
ついで、電着を下記のように行う。電解質液を、窒素で30分間脱気した後、蒸着させる。市販の金メッキ水溶液を使用して、制御された厚みの金膜を電気化学的に堆積させる。電位(V)vsAg/AgCl(飽和KCl)電極を印加する。図1を参照すると、キャビティ101の厚みは、電気化学的堆積工程において通過する電荷量(C)および印加される電圧(V)により容易に制御される。
プロトコルAの主な利点の1つは、表面を選択的に修飾(改変)する(modify)能力である。例えば、このようなプロトコルを使用して、アレイ全体を単一の表面活性捕捉剤、例えば細胞捕捉抗体、で修飾するか、または上面およびキャビティ壁内部を異なる種で選択的に修飾するかのいずれかが可能である。テトラヒドロフラン(THF)中に3時間浸漬することによりポリスチレン(PS)スフェアを除去した後、表面全体を化学的に修飾するために、キャビティアレイ全体(上面およびキャビティ壁の両方)を、室温で一晩、所望の捕捉剤の溶液中に浸漬してよい。異なるチオールによって上面およびキャビティ壁を選択的に修飾することは、図1に示された2段階吸着プロセスにより実現される。まず、アレイを、室温で一晩、1種の界面活性リガンドの溶液に浸漬させる。ついで、上面修飾アレイを、THF中に3時間浸漬させて、PSスフェアを除去し、続けて、室温で一晩、別のチオールに浸漬させる。
図2は、キャビティアレイ基板の大量生産のためのフォトリソグラフィ製造プロセスの模式図である。
図2に、直径10ミクロンのフォトリソグラフィで作製されたキャビティアレイの走査型電子顕微鏡写真(SEM)画像例を示す。画像は、5.00kVの加速電圧を使用して記録した。直径は、特注の商業的に製造されたマスクを使用して容易に変えることができる。本教示に係る微少流体装置のために、現在は、直径2ミクロンのアレイが最適化されている。
被覆するために各種の異なる技術を使用できるが、本発明者らは、スピンコーティングが基板をレジストで被覆するのに最も迅速かつ容易な方法であると、結論付けた。基板を回転真空チャック上に保持し、ある程度のレジストを中央に堆積させる。ついで、ウエハを500rpmで10秒間回転させて、レジストをシリコン上に均一に広げ、ついで、より速いrpmで回転させて特定の膜厚を形成する。
スピンコート後、ソフトベークを行う。ソフトベーク中に、レジスト中の有機溶剤が少量蒸発し、レジスト膜がわずかに固化し、粘度が増す。これは、レジストからの残留物がマスク上に残らずマスクの寿命が長くなるため、マスクが基板と接触する接触リソグラフィの際には特に有益である。
ソフトベーク後、ウエハを、照明/位置合わせ装置に移す。この装置は、ウエハをマスク特徴部と高精度に位置合わせするための高倍率カメラを有する。これは、多層リソグラフィ、すなわち、同じウエハ上に異なる高さの特徴部を作成するためにのみ実際に必要であることを理解されたい。本教示に係る装置の場合、キャビティは、単層リソグラフィのみを必要とするため、位置合わせはそれほど重要ではない。ウエハを真空ステージ上に保持し、マスクをその上にボルト止めする。ステージ位置は、X、Y、およびZ方向に調整可能であり、マスクと位置合わせするように回転させることもできる。ついで、ステージをUVランプの下に移動させ、マスクパターンをフォトレジストに転写する。
現像とは、所望のトポグラフィーを残すために、未架橋レジストを溶解および除去することである。本教示に係る装置の製造方法では、「湿式」現像を使用する。湿式現像は、現像溶媒中にレジストを浸すことを含む。本明細書で使用される溶媒は、MicroPosit EC溶媒(2−メトキシ−1−メチルエチルアセテート)である。この方法は、架橋レジストと未架橋レジストとの間の分子量の差に依存する。レジストの露光されていない、従って架橋されていない領域は洗い流される。レジスト上に新しい現像液を連続的に供給し、小さなキャビティまたはチャネルからレジストを除去するために、液体を一定に撹拌し続ける。このプロセスは、音波浴の使用によりまたは振動プラットフォーム上に置くことにより、かなり補助される。一般的には、キャビティを、通常、音波浴中で1〜3分間現像する。現像後、完成したウエハを、イソプロパノールおよび脱イオン水で洗浄し、窒素で乾燥させる。
最終(および任意)段階は、ハードベークである。これは、レジスト中の残留有機溶剤を除去し、現像中に弱化した可能性のあるレジスト表面をアニールするためである。完全に架橋されたSU−8のガラス転移温度は、200℃の領域にある。したがって、より高い温度でハードベークを行うことができる。本明細書に記載された方法によれば、ウエハは、150℃で10〜15分間ハードベークできる。ハードベークは、1回使用の電極キャビティにはそれほど重要ではないが、構造的一体性とウエハの寿命が重要であるキャスティングまたはエンボスに使用されるウエハには、ハードベークが重要である。
捕捉抗体または捕捉タンパク質を、第1の平面に、前記平面上にスタンプすることにより、固定化できる。アレイの上面(基板の第1の平面)を、捕捉抗体または捕捉タンパク質でスタンプすることにより修飾できる。例えば、アレイの上面に、グラム陽性抗体、グラム陰性抗体もしくは酵母タンパク質、または病原体サブタイプを選択的に捕捉する抗体をスタンプできる。
マスターを、フォトリソグラフィ技術を使用して準備する。マスターはシリコン上に形成する。フォトレジストを表面に塗布し(最初に500rpmで10秒間、ついで、30秒間で1000rpmに速くする)、フォトマスクおよびUV光によりパターン化する。ついで、マスターをベークし(95℃で3分間)、現像し(超音波処理で2分間)、使用前に洗浄する。フォトレジストは非常に安定しており、ウエハマスタを、スタンプのためのトポグラフィックテンプレートとして何度も再使用できる。
フォトレジスト・キャビティ・アレイの上面を修飾するのに使用されるPDMSスタンプの製造プロセスの模式図を、図4Aに示す。製造後、マスターをペトリ皿に入れ、シリコーンエラストマーとシリコーンエラストマー硬化剤との比を10:1にして、PDMSをマスター上に注ぐ。この混合物は、白金錯体製の触媒を含有する短いヒドロシラン架橋剤からなる。注いだ後、PDMSを真空下に1時間置き、ついで70℃で1時間硬化させて、ポリマーを固化させる。ついで、スタンプを剥がし、所望のサイズに切断する。スタンプは、マスターの逆の構造を複製する。スタンプの隆起領域はマスターの窪んだ領域に対応する。
所望の抗体(ストック濃度100μg/ml)を、室温で15分間、PDMSスタンプと接触させる。使用に適した抗体は、GTX40307グラム陰性エンドトキシン[308]マウスモノクローナル抗体、GTX36804グラム陽性細菌LTA[3801]マウスモノクローナル抗体、および天然Candida Rugoseコレステロールエステラーゼ精製タンパク質を含む。抗体溶液を除去し、過剰の溶液を窒素流で除去する。ついで、抗体吸着スタンプを、フォトリソグラフィアレイ表面上に配置し、軽く押圧して、表面とスタンプとの間に適切な接触が生じるのを確実にする。スタンプをアレイと共に、室温で15分間インキュベートする。スタンプを表面から剥がすと、抗体はキャビティアレイ基板の上面に吸着される。キャビティアレイの基部において露出した金を、選択されたチオールで修飾してもよい。チオール修飾が必要ない場合、非特異的結合を減少させるために、金をチオール化PEG(ポリエチレングリコール)でブロックする。抗体修飾アレイを、チオール化PEG8−COOHの1mM溶液と共に、室温で一晩インキュベートする。最後に、表面に非特異的接着が残らないように、アレイ全体を、1%のBSA(ウシ血清アルブミン)溶液と共に、室温で1時間インキュベートする。ついで、このアレイを、細菌捕捉および電気化学的検出用のバイナリ応答装置に挿入する。
全体的なディスク設計
バイナリ応答ディスクの設計を、ソリッドワークス・プレミアム(SolidWorks Premium)2015プログラムを使用して行う。これは、ソリッドモデリングコンピュータ支援設計(CAD)プログラムである。ディスクの3Dモデルを最初に描画する。ディスク特徴部の異なる深さは、モデル構造内の異なる深さにある。全体として、9つの異なるレイヤーをモデル設計から抽出する。各レイヤーは、AutoCADとラベル付けされた別のCADプログラムで開かれなければならない。ここで、ポリラインをそれぞれ、後の段階での製造を容易にするために、連続ラインに変換する。ついで、各レイヤーをDXFファイルとして保存する。
図5Aに、細菌捕捉および検出のための電極201が挿入されたバイナリ応答特性装置200の一例のイメージを示す。
・ITO/金電極(基準)
・グラム陽性(作用電極)
・グラム陰性(作用電極)
・酵母(作用電極)
・対電極
・基準電極212
・グラム陽性電極201
・グラム陰性電極201
・真菌/酵母電極201
・対電極213
本明細書において先に記載された装置に対する変形例において、異なる分析物により遮断され得る複数のチャンバを含む検出システムを提供できる。このような配置は、異なる分析物を選択的に標的とするように検出システムの異なる領域を表面処理することにより、実現できる。このようにして、ディスク上の第1の所定の箇所は、第1のセットの分析物により遮断されるが第2のセットによっては遮断されない複数のチャンバを含むことになる。これに対応して、ディスク上の異なる所定の箇所は、第1のセットによってではなく第2のセットの分析物によって、遮断されることになる。このような装置は多重装置300と考えることができ、図8および図9に例が示される。
A:作用電極:選択された抗体
B:作用電極:選択された抗体
C:作用電極:選択された抗体
D:作用電極:選択された抗体
(左)基準電極、(中央)作用電極および(右)対電極。
この例では、多重装置400は、1つの検査領域のみから構成される。例えば、バイナリ応答装置の判断(グラム陽性、グラム陰性、または酵母)からの細菌診断に続けて、本多重装置により、グラム陽性病原体含有サンプルまたはグラム陰性病原体含有サンプルのいずれかについて細菌亜種を特定することができる。図10を参照すると、この装置400は、14個の別個の電極インキュベーションチャンバ401を含む。14個のインキュベーションチャンバ401それぞれに、ITO−Au−Au電極配置を含む構成が存在する。各インキュベーションチャンバは、特異的捕捉抗体により機能化される。以下の表1に、単一の装置におけるグラム陽性検出の可能性の例のリストを示す。
本教示に係る装置および方法により、捕捉された病原体が電気化学インピーダンスを使用して検出可能であるため、従来公知のアッセイの7〜48時間の培養工程が不要になる。
Claims (34)
- 流体中の分析物を検出するための微少流体装置であって、基板内に画定された1つ又は複数のチャンバへの入口を画定する第1の表面を有する該基板を含み、前記チャンバの表面は、前記基板の第2の表面を画定し、前記第1の表面が、少なくとも1種の分析物の選択的標的化及び捕捉により前記チャンバのうちの少なくとも1つのチャンバへの前記入口が動作可能に遮断され得るように修飾された微少流体装置において、前記微少流体装置の応答特性が、前記チャンバのうちの前記少なくとも1つのチャンバへの前記入口の前記遮断により動作可能に変化することにより、前記流体中の前記分析物の存在の指標となる、
微少流体装置。 - 前記第1の表面が、分析物の非特異的捕捉を阻害するように選択的に修飾されている、請求項1に記載の微少流体装置。
- 前記分析物が生物細胞である、請求項1または2に記載の微少流体装置。
- 前記分析物が、病原体、ガン細胞、または他の希少細胞を含む、請求項1〜3のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記基板の前記第1の表面が、前記表面上に捕捉剤を固定化することにより修飾される、請求項1〜4のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記捕捉剤が、抗体、タンパク質、核酸、または合成受容体からなる群から選択される、請求項5に記載の微少流体装置。
- 前記捕捉剤が、前記第1の表面上への湿式化学堆積、低温プラズマ堆積、またはソフトスタンピングにより、前記第1の表面上に固定化される、請求項5または6に記載の微少流体装置。
- 前記捕捉剤が、前記1つ又は複数のチャンバの入口周囲の前記第1の表面上に位置する、請求項7に記載の微少流体装置。
- 前記基板内に画定された前記チャンバの表面が、曲面を画定する、請求項1〜8のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記基板内に画定された前記1つ又は複数のチャンバが、100nm〜10μmの範囲の直径または幅を有する、請求項1〜9のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記1つ又は複数のチャンバが、前記チャンバの前記直径の0.05〜0.95倍の深さを有する、請求項1〜10のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 異なるサイズのチャンバが、前記第1の表面の異なる領域上に設けられている、請求項11に記載の微少流体装置。
- 前記1つ又は複数のチャンバのサイズおよび形状が、前記標的分析物のサイズおよび形状に合致するように選択される、請求項1〜12のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記チャンバは、前記チャンバ間の間隔が検出対象の前記分析物の前記選択的捕捉のために最適化されるように、横方向に離間している、請求項1〜13のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記チャンバ間の前記離間またはピッチが、前記チャンバの前記直径または幅の0〜100倍である、請求項14に記載の微少流体装置。
- 前記病原体が、グラム陽性細菌、グラム陰性細菌、および真菌からなる群から選択される、請求項4〜15のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記微少流体装置の前記応答特性は、分析物の捕捉時に動作可能に変化することにより前記流体中の分析物の存在を示す、電気化学信号または光信号を含む、請求項1〜16のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 各チャンバの内面が分子マーカーの検出のために修飾されており、前記微少流体装置の応答特性が、前記チャンバのうちの少なくとも1つのチャンバへの放出されたマーカーの結合によって動作可能に変化することにより、前記捕捉された細胞の特性の指標となる、請求項1〜17のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記分子マーカーが、低分子、核酸、またはタンパク質を含む、請求項18に記載の微少流体装置。
- 各チャンバの前記内面が、捕捉剤により機能化されている、請求項18または19に記載の微少流体装置。
- 前記捕捉剤が、DNAまたはRNA捕捉鎖、抗体、または合成捕捉剤からなる群から選択される、請求項20に記載の微少流体装置。
- 前記微少流体装置の前記応答特性は、分析物の捕捉および後続のマーカー放出時に動作可能に変化することにより前記流体中の分析物の存在を示す、電気化学信号または光信号を含む、請求項17〜21のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記電気化学信号が、前記流体中の病原体負荷の指標となる変化した電気化学インピーダンス信号を含む、請求項17〜22のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記流体が、液体サンプル、全血サンプル、尿、汗、血漿もしくは他の画分、間質液、脳脊髄液、液化食品サンプルからなる群から選択される、またはスワブ表面から抽出される、請求項1〜23のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 前記分析物が、1〜60分の範囲の時間内に捕捉され、検出される、請求項1〜24のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 捕捉のための前記時間が、捕捉された病原体のその後の検出のための時間より長い、請求項25に記載の微少流体装置。
- 前記装置が、約2個/mlの濃度で細胞を検出可能である、請求項1〜26のいずれか一項に記載の微少流体装置。
- 流体中の分析物を検出する方法であって、
請求項1〜27のいずれか一項に記載の微少流体装置の使用を含む、
方法。 - 流体サンプル中の分析物を検出する方法であって、
(i)請求項1〜27のいずれか一項に記載の微少流体装置にサンプルを導入する工程と、
(ii)流体流を誘引する工程と、
(iii)分析物を捕捉する工程と、
(iv)前記微少流体装置の応答特性の変化を測定することにより、前記流体中の前記分析物の存在を検出する工程と、を含む、
方法。 - 捕捉された実体からのマーカーの放出を測定する工程をさらに含む、請求項29に記載の方法。
- 前記分析物が、病原体、細胞、小胞、またはエキソソームを含む、請求項29または30に記載の方法。
- 前記微少流体装置の前記応答特性は、前記流体中の分析物の捕捉時に動作可能に変化する電気化学応答または光信号を含む、請求項29〜31のいずれか一項に記載の方法。
- 前記電気化学応答が、前記分析物の捕捉時に動作可能に変化するインピーダンス信号を含む、請求項32に記載の方法。
- 請求項1〜27のいずれか一項に記載の微少流体装置を含む、
微少流体ディスク。
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