JP2020199451A - 成膜装置及び成膜方法 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (4)
- 被成膜物に対して所定の薄膜を成膜する成膜装置であって、
被成膜物が設置される、真空排気手段を備える第1チャンバと、成膜材料を溶解させた超臨界流体を格納する第2チャンバと、第1チャンバと第2チャンバとを連通する連通手段とを備え、
真空排気手段により第1チャンバ内を大気圧より低い圧力に減圧し、第1チャンバと第2チャンバとの圧力差によって、第1チャンバ内の被成膜物に向けて、成膜材料を溶解させた超臨界流体が供給されるように構成したことを特徴とする成膜装置。 - 前記第1チャンバの圧力を調整する圧力調整手段を更に備えることを特徴とする請求項1記載の成膜装置。
- 前記連通手段は供給管で構成され、第1チャンバ内に突出する供給管の一端に、成膜材料を溶解させた超臨界流体を噴射する噴射ノズルが設けられ、噴射ノズルに対して被成膜物を相対移動させる移動手段が設けられることを特徴とする請求項1または請求項2記載の成膜装置。
- 被成膜物に対して所定の薄膜を成膜する成膜方法であって、
被成膜物を設置した第1チャンバ内を大気圧より低い圧力に減圧する工程と、
成膜材料を設置した第2チャンバ内に超臨界流体を供給し、この成膜材料を溶解させた超臨界流体を生成する工程と、
第1チャンバと第2チャンバとを連通して、第1チャンバと第2チャンバとの圧力差によって第1チャンバ内の被成膜物に向けて、成膜材料を溶解させた超臨界流体を供給する工程とを含むことを特徴とする成膜方法。
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