JP2020199209A - 眼科装置及び眼科装置の制御方法 - Google Patents

Abstract

【課題】撮像素子への迷光の入射を防止することができる眼科装置及び眼科装置の制御方法を提供する。【解決手段】撮像素子と対物レンズから撮像素子に至る観察系光路とを有する観察系と、観察系と共通の撮像素子と観察系光路の途中から分岐して再び観察系光路に合流する第１分岐光路とを有し、被検眼からの第１測定光の第１戻り光を撮像素子で撮像する第１測定系と、対物レンズから第１分岐光路の途中に至る第２共通光路と第１分岐光路の途中から分岐して設けられた第２分岐光路とを有し、被検眼に第１測定光と同一の波長域の第２測定光を照射し、第２測定光の第２戻り光を検出する第２測定系と、第２測定系が作動する場合には第１分岐光路を遮断し、且つ第１測定系が作動する場合には第１分岐光路を開放するシャッタ機構と、を備える。【選択図】図３

Description

本発明は、眼科装置及び眼科装置の制御方法に関する。

被検眼に対して複数の検査、測定、及び計測を実行可能な眼科装置が知られている。例えば特許文献１には、被検眼の屈折力値の測定と、光コヒーレンストモグラフィ（Optical Coherence Tomography：ＯＣＴ）を用いた被検眼の計測及び断層像撮影と、を行う眼科装置（複合機）が開示されている。この眼科装置は、前眼部観察系、レフ測定光学系、及びＯＣＴ光学系などを含む複数種類の光学系を備える。

前眼部観察系は、撮像素子と、対物レンズから撮像素子に至る光路と、を備える。この前眼部観察系は、被検眼の前眼部の観察像を撮像素子で撮像する。

レフ測定光学系は、被検眼の屈折力の測定に用いられる。レフ測定光学系は、観察系と共通の撮像素子と、観察系の光路の途中から分岐して撮像素子に至る光路と、を有する。このレフ測定光学系は、被検眼の眼底にリング状のパターン光を照射し、被検眼からのパターン光の戻り光を撮像素子で撮像する。

ＯＣＴ光学系は、観察系の光路から分岐したレフ測定光学系の光路の途中からさらに分岐して設けられており、被検眼のＯＣＴ計測（断層像撮影を含む）に用いられる。

特開２０１７−１３６２１５号公報

特許文献１に記載の眼科装置（複合機）では、被検眼の瞳孔の収縮を抑えるために、観察系による前眼部の観察と、レフ測定光学系による測定と、ＯＣＴ光学系による計測と、を不可視光（例えば赤外光）で行う。この際に、眼科装置で用いられる不可視光の波長域の選択肢が少ないため、レフ測定光学系とＯＣＴ光学系とでは同一（略同一を含む、以下同じ）の波長域の不可視光が用いられる。このため、ＯＣＴ光学系による計測を行う場合に、被検眼からの測定光の戻り光の一部がレフ測定光学系の光路を通って撮像素子に迷光として入射するおそれがある。この場合には、前眼部の観察像にゴーストが発生するため、観察像に基づく被検眼の前眼部の状態の確認が困難になる。

本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、撮像素子への迷光の入射を防止することができる眼科装置及び眼科装置の制御方法を提供することを目的とする。

本発明の目的を達成するための眼科装置は、撮像素子と、対物レンズから撮像素子に至る観察系光路と、を有し、対物レンズを介して被検眼の観察像を撮像素子で撮像する観察系と、観察系と共通の撮像素子と、観察系光路の途中から分岐して再び観察系光路に合流する第１分岐光路と、観察系光路の一部と共通の第１共通光路と、を有し、被検眼に第１測定光を照射し、被検眼からの第１測定光の第１戻り光を撮像素子で撮像する第１測定系と、対物レンズから第１分岐光路の途中に至る第２共通光路と、第１分岐光路の途中から分岐して設けられた第２分岐光路と、を有し、被検眼に第１測定光と同一の波長域の第２測定光を照射し、被検眼からの第２測定光の第２戻り光を検出する第２測定系と、第２測定系が作動する場合には第２共通光路とは異なる位置で第１分岐光路を遮断し、且つ第１測定系が作動する場合には第１分岐光路を開放するシャッタ機構と、を備える。

この眼科装置によれば、第２測定系が作動する場合に第１分岐光路を進行する迷光をシャッタ機構で遮断することができる。

本発明の他の態様に係る眼科装置において、シャッタ機構が、第１測定系が作動する場合には第１共通光路とは異なる位置で観察系光路を遮断し、且つ第２測定系が作動する場合には観察系光路を開放する。これにより、観察系と第１測定系とにおいて撮像素子を共通化させることができるので、眼科装置の低コスト化及び小型化が図れる。

本発明の他の態様に係る眼科装置において、第１測定系が、被検眼の眼底に第１測定光としてパターン光を照射して、パターン光の第１戻り光を撮像素子により撮像し、第２測定系が、光源からの光を第２測定光と参照光とに分割し、第２測定光を被検眼の眼底に照射して、被検眼からの第２測定光の第２戻り光と参照光との干渉光を検出する。これにより、被検眼の屈折力測定（角膜形状測定）及びＯＣＴ計測を１つの眼科装置で実行することができ、さらにＯＣＴ計測時に迷光が撮像素子に入射することが防止される。

本発明の他の態様に係る眼科装置において、シャッタ機構により第１分岐光路を遮断する位置が、眼底と光学的に共役な共役位置である。これにより、被検眼のディオプタが変わった場合でもシャッタ機構を移動させる必要がなくなる。

本発明の他の態様に係る眼科装置において、シャッタ機構が、第１共通光路とは異なる位置で観察系光路を遮断する第１遮断位置に挿脱自在に設けられた第１シャッタと、第２共通光路とは異なる位置で第１分岐光路を遮断する第２遮断位置に挿脱自在に設けられた第２シャッタと、第１測定系が作動する場合には第１シャッタを第１遮断位置に挿入し且つ第２シャッタを第２遮断位置から退避させ、第２測定系が作動する場合には第１シャッタを第１遮断位置から退避させ且つ第２シャッタを第２遮断位置に挿入する駆動機構と、を備える。

本発明の他の態様に係る眼科装置において、シャッタ機構が、第１共通光路とは異なる位置で観察系光路を遮断する第１遮断位置と、第２共通光路とは異なる位置で第１分岐光路を遮断する第２遮断位置と、の間で変位自在に保持された共通シャッタと、第１測定系が作動する場合には共通シャッタを第１遮断位置に移動させ、第２測定系が作動する場合には共通シャッタを第２遮断位置に移動させる駆動機構と、を備える。これにより、１種類の共通シャッタで観察系光路の遮断及び開放と、第１分岐光路の遮断及び開放とが実行可能になるので、眼科装置の低コスト化及び省スペース化が図れる。

本発明の他の態様に係る眼科装置において、第１共通光路が、対物レンズと第１分岐光路の一端との間の光路と、第１分岐光路の他端と撮像素子との間の光路と、を含む。

本発明の他の態様に係る眼科装置において、第１測定光及び第２測定光の波長域が、観察像を形成する光の波長域とは異なる。

本発明の目的を達成するための眼科装置の制御方法は、撮像素子と、対物レンズから撮像素子に至る観察系光路と、を有し、対物レンズを介して被検眼の観察像を撮像素子で撮像する観察系と、観察系と共通の撮像素子と、観察系光路の途中から分岐して再び観察系光路に合流する第１分岐光路と、観察系光路の一部と共通の第１共通光路と、を有し、被検眼に第１測定光を照射し、被検眼からの第１測定光の第１戻り光を撮像素子で撮像する第１測定系と、対物レンズから第１分岐光路の途中に至る第２共通光路と、第１分岐光路の途中から分岐して設けられた第２分岐光路と、を有し、被検眼に第１測定光と同一の波長域の第２測定光を照射し、被検眼からの第２測定光の第２戻り光を検出する第２測定系と、を備える眼科装置の制御方法において、第２測定系が作動する場合には第２共通光路とは異なる位置で第１分岐光路を遮断し、且つ第１測定系が作動する場合には第１分岐光路を開放する。

本発明の他の態様に係る眼科装置の制御方法において、第１測定系が作動する場合には第１共通光路とは異なる位置で観察系光路を遮断し、且つ第２測定系が作動する場合には観察系光路を開放する。

本発明は、撮像素子への迷光の入射を防止することができる。

第１実施形態の眼科装置の光学系の概略図である。 ＯＣＴユニットの光学系の概略図である。 前眼部観察系、レフ測定光学系、及びＯＣＴ光学系の各光路と、観察系シャッタ機構と、レフ系シャッタ機構と、を説明するための説明図である。 図３中のダイクロイックフィルタの拡大図である。 処理部の機能ブロック図である。 第１実施形態の眼科装置による被検眼の測定及び計測処理の流れ、特に第１シャッタ及び第２シャッタの開閉処理の流れを示すフローチャートである。 第２実施形態の眼科装置の光学系の概略図である。

［第１実施形態］
＜光学系の構成＞
図１は、オートレフケラトメータとＯＣＴ装置とを組み合わせた第１実施形態の眼科装置１０００（複合機）の光学系の概略図である。図１に示すように、眼科装置１０００は、被検眼Ｅの眼屈折力測定及び角膜形状測定（ケラト測定）と、ＯＣＴを用いた計測と、を実行する。

眼科装置１０００は、アライメント系１と、ケラト測定系３と、固視投影系４と、前眼部観察系５と、レフ測定光学系（レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７）と、ＯＣＴ光学系８と、を含む。

（前眼部観察系５）
前眼部観察系５は、本発明の観察系に相当するものであり、被検眼Ｅの前眼部の観察像Ｐを取得、より具体的には動画撮影する。前眼部観察系５は、前眼部照明光源５０、対物レンズ５１、ダイクロイックフィルタ５２、絞り５３（テレセン絞り）、リレーレンズ５５，５６、ダイクロイックフィルタ７６、結像レンズ５８、撮像素子５９、及び観察系シャッタ機構３００を備える。

前眼部照明光源５０は、被検眼Ｅの前眼部に不可視光の照明光、例えば波長９４０ｎｍの赤外光を照射する。前眼部により反射された照明光は、対物レンズ５１を通過し、ダイクロイックフィルタ５２を透過し、絞り５３に形成された孔部を通過し、リレーレンズ５５，５６を通過し、ダイクロイックフィルタ７６を透過する。

ダイクロイックフィルタ５２は、所謂ロングパスフィルタであり、前眼部観察系５で用いられる波長９４０ｎｍ付近の光を透過し、後述のレフ測定光学系及びＯＣＴ光学系８で用いられる波長８４０ｎｍ付近の光を反射する。これにより、ダイクロイックフィルタ５２は、前眼部観察系５の光路からレフ測定光学系及びＯＣＴ光学系８の双方の光路を分岐（波長分離）させると共に、前眼部観察系５の光路とレフ測定光学系及びＯＣＴ光学系８の双方の光路とを合成する。

なお、ダイクロイックフィルタ５２における各光路を分岐及び合成する面は、対物レンズ５１の光軸に対して傾斜して配置される。また、ダイクロイックフィルタ５２の代わりに、波長９４０ｎｍ付近の光を透過し且つ波長８４０ｎｍ付近の光を反射（遮断）する各種の光学素子を用いてもよい。

ダイクロイックフィルタ７６は、前眼部観察系５で用いられる波長９４０ｎｍ付近の光を透過し、後述のレフ測定光学系及びＯＣＴ光学系８で用いられる波長８４０ｎｍ付近の光を反射する。これにより、ダイクロイックフィルタ５２は、前眼部観察系５の光路と、この前眼部観察系５の光路から分岐したレフ測定光学系（レフ測定受光系７）の光路と、を合成する。ダイクロイックフィルタ７６を透過した光は、結像レンズ５８により撮像素子５９の撮像面に結像される。

撮像素子５９は、公知のエリアセンサ（エリアイメージセンサ）であり、前眼部観察系５及びレフ測定光学系（レフ測定受光系７）とで共用される。この撮像素子５９の撮像面は、前眼部観察系５を経由する光学系において瞳孔共役位置に配置されている。なお、瞳孔共役位置は、被検眼Ｅに対する眼科装置１０００のアライメントが完了した状態での被検眼Ｅの瞳孔と光学的に略共役な位置であり、瞳孔と光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。撮像素子５９は、結像レンズ５８により撮像面に結像された光を所定のレートで撮像及び信号出力を行う。

撮像素子５９から出力された撮像信号（映像信号）は、後述の処理部９に入力される。処理部９は、被検眼Ｅの前眼部の観察時には、撮像素子５９から出力された撮像信号に基づく観察像Ｐ（前眼部像）を表示部２７０に表示させる。なお、観察像Ｐは、例えば赤外動画像である。

表示部２７０は、観察像Ｐの表示を行ったり、或いはユーザインターフェイス部として、処理部９の制御部２１０（図５参照）による制御を受けて各情報を表示したりする。

観察系シャッタ機構３００は、詳しくは後述するが、前眼部観察系５の光路の開放及び遮断を切り替える。

（アライメント系１）
アライメント系１は、被検眼Ｅに対する前眼部観察系５の光軸方向（前後方向、Ｚ方向、作動距離方向）におけるアライメントと、前眼部観察系５の光軸に直交する方向［左右方向（Ｘ方向）、上下方向（Ｙ方向）］のアライメントと、に用いられる。このアライメント系１は、一対のステレオカメラ１４を含む。各ステレオカメラ１４は、被検眼Ｅの前眼部を撮影し、前眼部の撮影画像を後述の処理部９に出力する。処理部９は、詳しくは後述するが、各ステレオカメラ１４から入力された撮影画像に基づき、被検眼Ｅに対する前眼部観察系５等のアライメントを行う。

（ケラト測定系３）
ケラト測定系３は、被検眼Ｅの角膜Ｃｒの形状の測定に用いられる。ケラト測定系３は、対物レンズ５１から撮像素子５９までを前眼部観察系５と共用すると共に、赤外光である角膜形状測定用のパターン光（リング状光束）を角膜Ｃｒに投射するためのケラト板３１及びケラトリング光源３２を有する。

ケラト板３１は、対物レンズ５１と被検眼Ｅとの間に配置されている。ケラト板３１の背面側（対物レンズ５１側）にはケラトリング光源３２が設けられている。ケラト板３１には、対物レンズ５１の光軸を中心とする円周上に沿ってケラトリング光源３２からの光を透過するケラトパターン（透過部）が形成されている。なお、ケラトパターンは、対物レンズ５１の光軸を中心とする円弧状（円周の一部）に形成されていてもよい。ケラトリング光源３２からの光でケラト板３１を照明することにより、角膜Ｃｒに対して角膜形状測定用のパターン光が投射される。

角膜Ｃｒからの反射光（ケラトリング像）は、撮像素子５９により被検眼Ｅの前眼部の観察像Ｐと共に検出される。処理部９は、このケラトリング像を基に公知の演算を行うことで、角膜Ｃｒの形状を表す角膜形状パラメータを算出する。

（レフ測定光学系：レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７）
レフ測定光学系は、本発明の第１測定系に相当するものであり、被検眼Ｅの屈折力値を測定するレフ測定に用いられる。このレフ測定光学系は、レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７を含む。レフ測定投射系６は、被検眼Ｅの眼底Ｅｆに対して不可視光（赤外光）のリング状のパターン光を投射する。レフ測定受光系７は、被検眼Ｅからのパターン光の戻り光である第１戻り光を受光する。

レフ測定投射系６は、レフ測定受光系７の光路上に設けられた孔開きプリズム６５によって分岐された光路に設けられる。なお、孔開きプリズム６５に形成されている孔部は、瞳孔共役位置に配置される。レフ測定投射系６は、対物レンズ５１及びダイクロイックフィルタ５２を前眼部観察系５と共用すると共に、レフ測定光源６１と、リレーレンズ６２と、円錐プリズム６３と、リング絞り６４と、孔開きプリズム６５と、ロータリープリズム６６と、ダイクロイックフィルタ６７と、を備える。

レフ測定受光系７は、対物レンズ５１から孔開きプリズム６５までをレフ測定投射系６と共用し、且つダイクロイックフィルタ７６から撮像素子５９までを前眼部観察系５と共用する。また、レフ測定受光系７は、リレーレンズ７１、反射ミラー７２、リレーレンズ７３、合焦レンズ７４、反射ミラー７５、及びレフ系シャッタ機構３０４を備える。

レフ測定光源６１は、高輝度光源であるＳＬＤ（Super Luminescent Diode）光源であり、本発明の第１測定光に相当する波長８３０ｎｍ〜８９０ｎｍ（本実施形態では８４０ｎｍとする）の不可視光（赤外光）を出射する。また、レフ測定光源６１は、光軸方向に移動可能であり眼底共役位置に配置される。なお、眼底共役位置とは、アライメントが完了した状態での被検眼Ｅの眼底Ｅｆと光学的に略共役な位置であり、眼底Ｅｆと光学的に共役な位置又はその近傍を意味するものとする。

レフ測定光源６１から出力された光は、リレーレンズ６２を通過し、円錐プリズム６３の円錐面に入射する。円錐面に入射した光は偏向され、円錐プリズム６３の底面から出射する。円錐プリズム６３の底面から出射した光は、リング絞り６４に形成されたリング状の透光部を通過する。この透光部を通過したリング状のパターン光（リング状光束）は、孔開きプリズム６５の孔部の周囲に形成された反射面により反射され、ロータリープリズム６６を通過し、ダイクロイックフィルタ６７により反射される。

ダイクロイックフィルタ６７は、レフ測定光学系によるレフ測定時と、ＯＣＴ光学系８によりＯＣＴ計測時と、において差し替えられる。ダイクロイックフィルタ６７は、レフ測定時には波長８４０ｎｍ付近の光を反射し且つ後述の固視投影系４からの視標光を透過するフィルタが用いられ、ＯＣＴ計測時には波長８４０ｎｍ付近の光を透過するフィルタが用いられる。これにより、ダイクロイックフィルタ６７は、レフ測定光学系の光路からＯＣＴ光学系８の光路を分岐（分離）させると共に、これら両光路を合成する。

ダイクロイックフィルタ６７により反射された光は、ダイクロイックフィルタ５２により反射され、対物レンズ５１を通過し、被検眼Ｅに投射される。ロータリープリズム６６は、眼底Ｅｆの血管及び疾患部位等に対するパターン光の光量分布を平均化したり、レフ測定光源６１に起因するスペックルノイズを低減したりするために用いられる。

眼底Ｅｆに投射されたリング状のパターン光の第１戻り光は、対物レンズ５１を通過し、ダイクロイックフィルタ５２及びダイクロイックフィルタ６７により反射される。ダイクロイックフィルタ６７により反射された第１戻り光は、ロータリープリズム６６を通過し、孔開きプリズム６５の孔部を通過し、リレーレンズ７１を通過し、反射ミラー７２により反射され、リレーレンズ７３及び合焦レンズ７４を通過する。

合焦レンズ７４は、レフ測定受光系７の光軸に沿って移動可能である。合焦レンズ７４を通過した光は、反射ミラー７５により反射され、ダイクロイックフィルタ７６により反射され、結像レンズ５８により撮像素子５９の撮像面に結像される。なお、撮像素子５９の撮像面は、レフ測定受光系７を経由する光学系において眼底共役位置に配置される。処理部９は、撮像素子５９から出力される撮像信号に基づき公知の演算を行うことで被検眼Ｅの屈折力値を演算する。屈折力値は、例えば球面度数、乱視度数及び乱視軸角度、又は等価球面度数を含む。

なお、レフ測定光源６１及び合焦レンズ７４は、後述の処理部９の制御の下、レフ測定光学系を用いて得られた被検眼Ｅの屈折力値に基づき、眼底Ｅｆとレフ測定光源６１と撮像素子５９とが共役となるような位置に、それぞれ光軸方向に移動される。

レフ系シャッタ機構３０４は、詳しくは後述するが、レフ測定受光系７の光路の開放及び遮断を切り替える。

（固視投影系４）
固視投影系４は、ダイクロイックフィルタ８３により後述のＯＣＴ光学系８の光路から分岐された光路に設けられている。

固視投影系４は、固視標を被検眼Ｅに呈示する。固視投影系４の光路には、固視ユニット４０が配置されている。固視ユニット４０は、後述の処理部９からの制御を受け、固視投影系４の光路に沿って移動可能である。固視ユニット４０は、固視投影系４の光路（光軸）に沿って移動可能であり、液晶パネル４１を含む。ダイクロイックフィルタ８３と固視ユニット４０との間に、リレーレンズ４２が配置されている。

液晶パネル４１は、後述の処理部９の制御の下、固視標を表すパターンを表示する。この液晶パネル４１は、固視標を表すパターンの表示位置を任意に変更可能である。これにより、被検眼Ｅの固視位置を変更できる。被検眼Ｅの固視位置としては、眼底Ｅｆの黄斑部を中心とする画像を取得するための位置、視神経乳頭を中心とする画像を取得するための位置、及び黄斑部と視神経乳頭との間の眼底中心を中心とする画像を取得するための位置などがある。

また、液晶パネル４１は、後述の処理部９の制御の下、既述のレフ測定光源６１及び合焦レンズ７４の移動に連動して光軸方向に移動される。

液晶パネル４１からの視標光は、リレーレンズ４２を通過し、ダイクロイックフィルタ８３を透過し、リレーレンズ８２を通過し、反射ミラー８１により反射され、ダイクロイックフィルタ６７を透過し、ダイクロイックフィルタ５２により反射される。ダイクロイックフィルタ５２により反射された視標光は、対物レンズ５１を通過して眼底Ｅｆに投射される。

（ＯＣＴ光学系８）
ＯＣＴ光学系８は、本発明の第２測定系に相当するものであり、被検眼ＥのＯＣＴ計測を行うための光学系である。ＯＣＴ光学系８は、レフ測定光学系から分岐して設けられている。ＯＣＴ光学系８は、ダイクロイックフィルタ５２により前眼部観察系５の光路から分岐（波長分離）され且つダイクロイックフィルタ６７によりレフ測定光学系の光路から分岐された光路を有する。なお、既述の固視投影系４の光路は、ダイクロイックフィルタ８３によりＯＣＴ光学系８の光路に合成（結合）される。これにより、ＯＣＴ光学系８及び固視投影系４のそれぞれの光軸を同軸で結合することができる。

ＯＣＴ光学系８は、対物レンズ５１、ダイクロイックフィルタ５２，６７、反射ミラー８１、リレーレンズ８２、ダイクロイックフィルタ８３、反射ミラー８４、リレーレンズ８５、合焦レンズ８７、光スキャナー８８、コリメータレンズユニット８９、及びＯＣＴユニット１００を有する。

図２は、ＯＣＴユニット１００の光学系の概略図である。図２及び既述の図１に示すように、ＯＣＴユニット１００のＯＣＴ光源１０１は、一般的なスウェプトソースタイプのＯＣＴ装置と同様に、出射光の波長を掃引（走査）可能な波長掃引型（波長走査型）光源であり、共振器を含むレーザー光源を含む。ＯＣＴ光源１０１は、人眼では視認できない近赤外の波長域において、出力波長を時間的に変化させる。

ＯＣＴユニット１００には、スウェプトソースＯＣＴを実行するための光学系が設けられている。この光学系は、干渉光学系を含む。この干渉光学系は、ＯＣＴ光源１０１からの光を測定光ＬＳ（本発明の第２測定光に相当）と参照光ＬＲとに分割する機能と、被検眼Ｅからの測定光ＬＳの戻り光である第２戻り光と参照光路を経由した参照光ＬＲとを重ね合わせて干渉光ＬＣを生成する機能と、この干渉光ＬＣを検出する機能とを備える。干渉光学系により得られた干渉光ＬＣの検出結果（検出信号）は、干渉光ＬＣのスペクトルを示す信号であり、処理部９に送られる。

ＯＣＴ光源１０１は、例えば出射光の波長を、レフ測定光源６１から出射される光の波長域と同一（略同一、重複、一部重複を含む）の波長域の波長８６０ｎｍ付近（本実施形態では８４０ｎｍとする）を基準として高速で変化させる近赤外波長可変レーザーを含む。ＯＣＴ光源１０１から出力された光Ｌ０は、光ファイバー１０２により偏波コントローラ１０３に導かれてその偏光状態が調整される。偏光状態が調整された光Ｌ０は、光ファイバー１０４によりファイバーカプラー１０５に導かれ、ファイバーカプラー１０５によって測定光ＬＳと参照光ＬＲとに分割される。

参照光ＬＲは、光ファイバー１１０によりコリメータ１１１に導かれて平行光束に変換され、光路長補正部材１１２及び分散補償部材１１３を経由し、コーナーキューブ１１４に導かれる。光路長補正部材１１２は、参照光ＬＲの光路長と測定光ＬＳの光路長とを合わせるよう作用する。分散補償部材１１３は、参照光ＬＲと測定光ＬＳとの間の分散特性を合わせるよう作用する。コーナーキューブ１１４は、参照光ＬＲの入射方向に沿って移動可能であり、それにより参照光ＬＲの光路長を変更する。

コーナーキューブ１１４を経由した参照光ＬＲは、分散補償部材１１３及び光路長補正部材１１２を経由し、コリメータ１１６によって平行光束から集束光束に変換され、光ファイバー１１７に入射する。光ファイバー１１７に入射した参照光ＬＲは、偏波コントローラ１１８に導かれてその偏光状態が調整され、光ファイバー１１９によりアッテネータ１２０に導かれて光量が調整され、光ファイバー１２１によりファイバーカプラー１２２に導かれる。

一方、ファイバーカプラー１０５により生成された測定光ＬＳは、光ファイバーｆ１により導かれてコリメータレンズユニット８９により平行光束に変換される。平行光束に変換された測定光ＬＳは、合焦レンズ８７、リレーレンズ８５、及び反射ミラー８４を経由し、ダイクロイックフィルタ８３により反射される。

合焦レンズ８７は、光軸方向（対物レンズ５１の光軸方向、ＯＣＴ光学系８の光軸方向）に移動可能である。合焦レンズ８７は、後述の処理部９の制御の下、合焦レンズ７４の移動に連動して光軸方向に移動される。また、合焦レンズ８７は、ＯＣＴ計測よりも前に実施された被検眼Ｅのレフ測定結果に基づき、光ファイバーｆ１の端面が計測部位（眼底Ｅｆ又は前眼部）と光学系に共役となるように位置調整される。

光スキャナー８８は、例えば、ＭＥＭＳ（Micro Electro Mechanical Systems）スキャナー、ガルバノミラー、ポリゴンミラー、回転ミラー、ダボプリズム、ダブルダボプリズム、及びローテーションプリズムなどが用いられる。この光スキャナー８８は、測定光ＬＳを２次元的に偏向、例えばＯＣＴ光学系８の光軸に直交する水平方向及び垂直方向に撮影部位（眼底Ｅｆ又は前眼部）をスキャンするように測定光ＬＳを偏向する。このような測定光ＬＳの走査態様としては、例えば、水平スキャン、垂直スキャン、十字スキャン、放射スキャン、円スキャン、同心円スキャン、及び螺旋スキャンなどがある。

ダイクロイックフィルタ８３により反射された測定光ＬＳは、リレーレンズ８２を通過し、反射ミラー８１により反射され、ダイクロイックフィルタ６７を透過し、ダイクロイックフィルタ５２により反射され、対物レンズ５１により屈折されて被検眼Ｅに入射する。被検眼Ｅからの測定光ＬＳの第２戻り光は、往路と同じ経路を逆向きに進行してファイバーカプラー１０５に導かれ、光ファイバー１２８を経由してファイバーカプラー１２２に到達する。なお、図２では図面の煩雑化を防止するため、測定光ＬＳの第２戻り光にも符号ＬＳを付している。

ファイバーカプラー１２２は、光ファイバー１２８を介して入射された測定光ＬＳの第２戻り光と、光ファイバー１２１を介して入射された参照光ＬＲとの干渉光ＬＣを生成する。また、ファイバーカプラー１２２は、所定の分岐比（例えば１：１）で干渉光ＬＣを分岐することにより、一対の干渉光ＬＣを生成する。一対の干渉光ＬＣは、それぞれ光ファイバー１２３，１２４を通じて検出器１２５に導かれる。

検出器１２５は、例えばバランスドフォトダイオードである。バランスドフォトダイオードは、一対の干渉光ＬＣをそれぞれ検出する一対のフォトディテクタを含み、これらフォトディテクタにより得られた一対の検出結果の差分を出力する。検出器１２５は、この出力（検出信号）をデータ収集機器（Data Acquisition System）であるＤＡＱ１３０に送る。

ＤＡＱ１３０には、ＯＣＴ光源１０１からクロックＫＣが供給される。クロックＫＣは、ＯＣＴ光源１０１において、波長可変光源により所定の波長範囲内で掃引される各波長の出力タイミングに同期して生成される。ＯＣＴ光源１０１は、例えば、各出力波長の光Ｌ０を分岐することにより得られた２つの分岐光の一方を光学的に遅延させた後、これらの合成光を検出した結果に基づいてクロックＫＣを生成する。ＤＡＱ１３０は、検出器１２５から入力される検出信号をクロックＫＣに基づきサンプリングする。

また、ＤＡＱ１３０は、検出器１２５からの検出信号のサンプリング結果を処理部９の演算処理部２２０（図５参照）に送る。演算処理部２２０は、例えば一連の波長走査毎に（Ａライン毎に）、サンプリングデータに基づくスペクトル分布にフーリエ変換等を施すことにより、各Ａラインにおける反射強度プロファイルを形成する。更に、演算処理部２２０は、各Ａラインの反射強度プロファイルを画像化することにより画像データを形成する。

なお、本実施形態のＯＣＴユニット１００には、参照光ＬＲの光路長を変更するためのコーナーキューブ１１４が設けられているが、他の光学部材を用いて測定光路長と参照光路長との差を変更してもよい。

＜各光学系の光路＞
図３は、前眼部観察系５、レフ測定光学系（レフ測定受光系７）、及びＯＣＴ光学系８の各光路と、観察系シャッタ機構３００と、レフ系シャッタ機構３０４と、を説明するための説明図である。

図３に示すように、前眼部観察系５は、対物レンズ５１から撮像素子５９に至る観察系光路ＬＰ１を有する。

レフ測定光学系のレフ測定受光系７は、対物レンズ５１からダイクロイックフィルタ５２，７６を経て撮像素子５９に至るレフ測定光路ＬＰ２を有する。このレフ測定光路ＬＰ２は、第１分岐光路ＬＰ２ａと第１共通光路ＬＰ２ｂとを備える。

第１分岐光路ＬＰ２ａは、ダイクロイックフィルタ５２により観察系光路ＬＰ１の途中から分岐された後、ダイクロイックフィルタ７６により観察系光路ＬＰ１と合流する。第１共通光路ＬＰ２ｂは、観察系光路ＬＰ１の一部と共通の光路であって、且つ対物レンズ５１と第１分岐光路ＬＰ２ａの一端（ダイクロイックフィルタ５２）との間の光路、及び第１分岐光路ＬＰ２ａの他端（ダイクロイックフィルタ７６）と撮像素子５９との間の光路を含む。

ＯＣＴ光学系８は、対物レンズ５１からダイクロイックフィルタ５２，６７，８３を経てＯＣＴユニット１００に至るＯＣＴ計測光路ＬＰ３を有する。このＯＣＴ計測光路ＬＰ３は、第２分岐光路ＬＰ３ａと第２共通光路ＬＰ３ｂとを備える。

第２分岐光路ＬＰ３ａは、第１分岐光路ＬＰ２ａから分岐された光路である。なお、第２分岐光路ＬＰ３ａは、ダイクロイックフィルタ８３により固視投影系４の光路と分岐される。

第２共通光路ＬＰ３ｂは、レフ測定光路ＬＰ２の一部（観察系光路ＬＰ１の一部を含む）と共通の光路であって、対物レンズ５１とダイクロイックフィルタ６７との間の光路である。

＜観察系シャッタ機構３００＞
観察系シャッタ機構３００は、本発明のシャッタ機構の一部を構成するものであり、第１共通光路ＬＰ２ｂとは異なる位置において観察系光路ＬＰ１の開放及び遮断を切り替える。既述の通り、前眼部観察系５及びレフ測定受光系７では撮像素子５９を共通化させているので、第１共通光路ＬＰ２ｂは、観察系光路ＬＰ１及びレフ測定光路ＬＰ２の双方で共通の光路である。このため、本実施形態では、レフ測定光学系を作動させて被検眼Ｅのレフ測定を行う場合には、観察系シャッタ機構３００により第１共通光路ＬＰ２ｂと異なる位置で観察系光路ＬＰ１を遮断（以下、「観察系光路ＬＰ１を遮断」と略す）することで、パターン光の第１戻り光以外の光が撮像素子に入射することを防止する。

また、本実施形態では、レフ測定光学系によるレフ測定を行わない場合、例えばＯＣＴ光学系８を作動させてＯＣＴ計測を行ったり、アライメント及びケラト測定を行ったりする場合には、観察系シャッタ機構３００による観察系光路ＬＰ１の遮断を解除してこの観察系光路ＬＰ１を開放する。これにより、前眼部観察系５による被検眼Ｅの前眼部の観察像Ｐの取得が可能となる。その結果、例えばＯＣＴ計測時において、検者が、表示部２７０に表示される観察像Ｐに基づき被検眼Ｅの状態（アライメント状態等）を確認することができる。

観察系シャッタ機構３００は、第１シャッタ３０１と、第１シャッタ駆動機構３０２と、を含む。第１シャッタ３０１は、観察系光路ＬＰ１においてリレーレンズ５６とダイクロイックフィルタ７６との間の第１遮断位置に挿脱自在に設けられている。なお、第１遮断位置は、観察系光路ＬＰ１の中で第１共通光路ＬＰ２ｂとは異なる位置であれば特に限定はされない。

第１シャッタ駆動機構３０２は、本発明の駆動機構に相当する。第１シャッタ駆動機構３０２は、例えば、第１シャッタ３０１を第１遮断位置とこの第１遮断位置から退避した第１退避位置とに移動させる公知のアクチュエータ（アクチュエータの駆動力を第１シャッタ３０１に伝達する伝達機構を含む）である。

第１シャッタ駆動機構３０２は、後述の処理部９の制御の下、第１シャッタ３０１を移動させる。第１シャッタ駆動機構３０２は、レフ測定光学系を作動させてレフ測定を行う場合には、第１シャッタ３０１を第１遮断位置に挿入して観察系光路ＬＰ１を遮断する。また、第１シャッタ駆動機構３０２は、ＯＣＴ光学系８を作動させてＯＣＴ計測を行ったり、アライメント及びケラト測定を行ったりする場合には、第１シャッタ３０１を第１退避位置に移動させて観察系光路ＬＰ１を開放する。

＜レフ系シャッタ機構３０４＞
図４は、図３中のダイクロイックフィルタ５２，６７の拡大図である。図４及び既述の図３に示すように、レフ系シャッタ機構３０４は、本発明のシャッタ機構の一部を構成するものであり、第２共通光路ＬＰ３ｂとは異なる位置においてレフ測定光路ＬＰ２の第１分岐光路ＬＰ２ａの開放及び遮断を切り替える。

既述の通り、レフ測定受光系７及びＯＣＴ光学系８では同一の波長域（波長８４０ｎｍ）の赤外光が用いられる。また、ＯＣＴ光学系８で用いられる測定光ＬＳ及びその第２戻り光の光量は、レフ測定光学系（レフ測定受光系７）で用いられるパターン光及びその第１戻り光の光量よりも大きい。

この際に、ダイクロイックフィルタ５２は、既述の通り、レフ測定光学系及びＯＣＴ光学系８で用いられる波長８４０ｎｍの光を透過せず且つ前眼部観察系５で用いられる波長９４０ｎｍの光を透過するロングパスフィルタである。このため、対物レンズ５１からダイクロイックフィルタ５２に入射した測定光ＬＳの第２戻り光の全てが、ダイクロイックフィルタ５２によりダイクロイックフィルタ６７に向けて反射される。

一方、ダイクロイックフィルタ６７は、ＯＣＴ計測時には測定光ＬＳの第２戻り光を透過するフィルタを用いる必要があるが、第２戻り光の光量は大きいので、第２戻り光の全てを透過させることはできない。このため、第２戻り光の一部がダイクロイックフィルタ６７により反射されて迷光ＧＬ（図４参照）となり、この迷光ＧＬがレフ測定光路ＬＰ２を通って撮像素子５９に入射する。

このようにＯＣＴ光学系８によるＯＣＴ計測を行う場合に、迷光ＧＬがレフ測定光路ＬＰ２を通って撮像素子５９に入射すると、この撮像素子５９により撮像される観察像Ｐにゴーストが発生する。その結果、検者が表示部２７０に表示される観察像Ｐに基づき被検眼Ｅの状態（アライメント状態等）を確認することができない。

そこで本実施形態では、ＯＣＴ光学系８を作動させて被検眼ＥのＯＣＴ計測を行う場合には、レフ系シャッタ機構３０４により第２共通光路ＬＰ３ｂとは異なる位置で第１分岐光路ＬＰ２ａを遮断（以下、「第１分岐光路ＬＰ２ａを遮断」と略す）する。これにより、ダイクロイックフィルタ６７により反射された迷光ＧＬがレフ測定光路ＬＰ２を通って撮像素子５９に入射することが防止される。なお、本実施形態では、アライメント及びケラト測定を行う場合にもレフ系シャッタ機構３０４により第１分岐光路ＬＰ２ａを遮断する。

また、本実施形態では、レフ測定光学系を作動させて被検眼Ｅのレフ測定を行う場合には、レフ系シャッタ機構３０４による第１分岐光路ＬＰ２ａの遮断を解除してこの第１分岐光路ＬＰ２ａ（レフ測定光路ＬＰ２）を開放する。これにより、レフ測定光学系による被検眼Ｅのレフ測定が可能となる。

レフ系シャッタ機構３０４は、第２シャッタ３０５と、第２シャッタ駆動機構３０６と、を含む。第２シャッタ３０５は、第１分岐光路ＬＰ２ａの中で第２共通光路ＬＰ３ｂとは異なる位置である第２遮断位置に挿脱自在に設けられている。

この際に、第２遮断位置は、眼底Ｅｆと光学的に共役な眼底共役位置、すなわち本実施形態では合焦レンズ７４と反射ミラー７５との間の位置であることが好ましい。この場合には、第２遮断位置に入射する迷光ＧＬは孔開きプリズム６５の孔部を通過するため、迷光ＧＬの径の大きさは孔部の径の大きさ以下となる。これにより、第２シャッタ３０５を最小限の大きさにすることができる。また、第２遮断位置を合焦レンズ７４と反射ミラー７５との間に設定することで、被検眼Ｅのディオプタが変わった場合でも合焦レンズ７４の移動に連動して第２シャッタ３０５を移動させる必要がなくなる。

第２シャッタ駆動機構３０６は、本発明の駆動機構に相当する。第２シャッタ駆動機構３０６は、第２シャッタ３０５を第２遮断位置とこの第２遮断位置から退避した第２退避位置とに移動させる公知のアクチュエータ（アクチュエータの駆動力を第２シャッタ３０５に伝達する伝達機構を含む）である。

第２シャッタ駆動機構３０６は、後述の処理部９の制御の下、第２シャッタ３０５を移動させる。第２シャッタ駆動機構３０６は、ＯＣＴ光学系８を作動させてＯＣＴ計測を行ったり、アライメント及びケラト測定を行ったりする場合には、第２シャッタ３０５を第２遮断位置に挿入して第１分岐光路ＬＰ２ａを遮断する。また、第２シャッタ駆動機構３０６は、レフ測定光学系を作動させてレフ測定を行う場合には、第２シャッタ３０５を第２退避位置に移動させて第１分岐光路ＬＰ２ａ（レフ測定光路ＬＰ２）を開放する。

＜処理部９の構成＞
図５は、処理部９の機能ブロック図である。なお、図５では図面の煩雑化を防止するため、レフ測定光学系（レフ測定受光系７）の撮像素子５９は図示を省略している。

図５に示すように、処理部９は、各種のプロセッサ（Processor）及びメモリ等から構成された演算回路を備える。各種のプロセッサには、ＣＰＵ（Central Processing Unit）、ＧＰＵ（Graphics Processing Unit）、ＡＳＩＣ（Application Specific Integrated Circuit）、及びプログラマブル論理デバイス［例えばＳＰＬＤ（Simple Programmable Logic Devices）、ＣＰＬＤ（Complex Programmable Logic Device）、及びＦＰＧＡ（Field Programmable Gate Arrays）］等が含まれる。なお、処理部９の各種機能は、１つのプロセッサにより実現されてもよいし、同種または異種の複数のプロセッサで実現されてもよい。この処理部９は、不図示の記憶回路又は記憶装置に格納されているプログラムを読み出し実行することで、制御部２１０及び演算処理部２２０として機能する。

また、処理部９には、既述の眼科装置１０００の各部の他に、移動機構２００と、移動機構４０Ｄ，８０Ｄと、移動機構６１Ｄ，７４Ｄと、操作部２８０と、通信部２９０と、が接続されている。

（移動機構２００）
移動機構２００は、アライメント系１、ケラト測定系３、固視投影系４、前眼部観察系５、レフ測定投射系６、レフ測定受光系７、及びＯＣＴ光学系８が収納されたヘッド部（図示は省略）を前後左右上下方向に移動させる機構である。この移動機構２００には、ヘッド部を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構と、が設けられている。アクチュエータは、例えばパルスモータにより構成される。伝達機構は、例えば歯車の組み合わせ或いはラックアンドピニオンなどによって構成される。移動機構２００は、制御部２１０（主制御部２１１）の制御の下、ヘッド部の移動を行う。

（移動機構４０Ｄ）
移動機構４０Ｄは、固視ユニット４０を固視投影系４の光軸方向（対物レンズ５１の光軸方向）に移動させる機構である。この移動機構４０Ｄには、移動機構２００と同様に、固視ユニット４０を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構とが設けられている。移動機構４０Ｄは、制御部２１０（主制御部２１１）の制御の下、固視ユニット４０の移動を行う。

（移動機構８０Ｄ）
移動機構８０Ｄは、ＯＣＴ光学系８の合焦レンズ８７をＯＣＴ光学系８の光軸方向（対物レンズ５１の光軸方向）に移動させる機構である。この移動機構８０Ｄには、移動機構２００と同様に、合焦レンズ８７を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構と、が設けられている。移動機構８０Ｄは、制御部２１０（主制御部２１１）の制御の下、合焦レンズ８７の移動を行う。

（移動機構６１Ｄ）
移動機構６１Ｄは、レフ測定投射系６のレフ測定光源６１をその光軸方向に移動する移動機構を含む。この移動機構６１Ｄには、移動機構２００と同様に、レフ測定光源６１を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構と、が設けられている。移動機構６１Ｄは、制御部２１０（主制御部２１１）の制御の下、レフ測定光源６１の移動を行う。

（移動機構７４Ｄ）
移動機構７４Ｄは、レフ測定受光系７の合焦レンズ７４をその光軸方向に移動する移動機構を含む。この移動機構７４Ｄには、移動機構２００と同様に、合焦レンズ７４を移動するための駆動力を発生するアクチュエータと、この駆動力を伝達する伝達機構と、が設けられている。合焦レンズ７４は、制御部２１０（主制御部２１１）の制御の下、合焦レンズ７４の移動を行う。

（操作部２８０）
操作部２８０は、ユーザインターフェイス部として、眼科装置１０００を操作するために使用される。操作部２８０は、眼科装置１０００に設けられた各種のハードウェアキー（操作レバー、ボタン、及びスイッチなど）を含む。また、操作部２８０には、タッチパネル式の表示部２７０の表示画面に表示される各種のソフトウェアキー（ボタン、アイコン、及びメニューなど）も含まれる。

（通信部２９０）
通信部２９０は、図示しない外部装置と通信するための機能を有する。通信部２９０は、外部装置との接続形態に応じた通信インターフェイスを備える。外部装置の例として、レンズの光学特性を測定する眼鏡レンズ測定装置がある。また、外部装置は、任意の眼科装置、記録媒体から情報を読み取る装置（リーダ）、或いは記録媒体に情報を書き込む装置（ライタ）などでもよい。さらに、外部装置は、病院情報システム（Hospital Information System：HIS）サーバ、ＤＩＣＯＭ（Digital Imaging and Communications in Medicine）サーバ、医師端末、モバイル端末、個人端末、及びクラウドサーバなどでもよい。なお、通信部２９０は、例えば処理部９に設けられていてもよい。

（制御部２１０）
制御部２１０は、既述のプロセッサを含み、眼科装置１０００の各部を制御する。制御部２１０は、主制御部２１１と、記憶部２１２と、を含む。記憶部２１２は、眼科装置１０００を制御するためのコンピュータプログラムと、各種のデータと、を記憶する。

記憶部２１２に記憶されるコンピュータプログラムには、眼科装置１０００の各部の作動を制御する制御プログラムと、眼科装置１０００に各種測定及び計測を実行させるための制御プログラムと、演算処理部２２０による演算処理用の制御プログラムと、が含まれる。このようなコンピュータプログラムに従って主制御部２１１が動作することにより、制御部２１０は制御処理を実行する。また、記憶部２１２に記憶されるデータとしては、例えば他覚測定の測定結果（屈折力値、ＯＣＴ計測結果）、断層像の画像データ、眼底像の画像データ、及び被検眼情報などがある。被検眼情報は、患者ＩＤ及び氏名などの被検者に関する情報や、左眼／右眼の識別情報などの被検眼Ｅに関する情報を含む。

主制御部２１１は、眼科装置１０００の各種制御を行う。この各種制御には、被検眼Ｅに対する眼科装置１０００（既述のヘッド部）のアライメントに係るアライメント制御、被検眼Ｅのケラト測定に係るケラト測定制御、被検眼Ｅのレフ測定に係るレフ測定制御、及び被検眼ＥのＯＣＴ計測に係るＯＣＴ計測制御などの公知の制御が複数含まれる。また、各種制御には、従来の制御とは異なる制御として、第１シャッタ３０１及び第２シャッタ３０５の開閉を制御するシャッタ開閉制御が含まれる。

（アライメント制御）
主制御部２１１は、ケラト測定前とレフ測定（後述の本測定）前とにおいて、アライメント系１及び移動機構２００を制御するアライメント制御部として機能する。主制御部２１１は、ケラト測定前及びレフ測定（本測定）前に、アライメント系１の一対のステレオカメラ１４による被検眼Ｅの前眼部の撮影を実行させ、各ステレオカメラ１４により撮影された撮影画像に基づき被検眼Ｅの３次元位置を公知の手法（特開２０１３−２４８３７６号公報参照）で特定する。また、主制御部２１１は、特定した被検眼Ｅの３次元位置に基づき移動機構２００を駆動して、既述のヘッド部を前後左右上下に移動させることで、被検眼Ｅに対する眼科装置１０００のアライメントを実行させる。

（ケラト測定制御）
主制御部２１１は、１回目のアライメント完了後にケラト測定系３（前眼部観察系５）及び演算処理部２２０を制御するケラト測定制御部として機能する。主制御部２１１は、ケラトリング光源３２を点灯させて被検眼Ｅの前眼部に角膜形状測定用のパターン光を投射した状態で、撮像素子５９による被検眼Ｅの前眼部の観察像Ｐの撮像を実行させ、この観察像Ｐの撮像信号を撮像素子５９から演算処理部２２０に入力させる。次いで、主制御部２１１は、演算処理部２２０に対して観察像Ｐに基づく被検眼Ｅの角膜形状（角膜屈折力、角膜乱視度、及び角膜乱視軸角度）の演算を実行させる。

（レフ測定制御：仮測定）
主制御部２１１は、ケラト測定後と２回目のアライメント完了後とにおいて、レフ測定光学系（レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７）、固視投影系４、及び演算処理部２２０を制御するレフ測定制御部として機能する。なお、レフ測定は、ケラト測定後の仮測定と２回目のアライメント完了後の本測定とを含む。

主制御部２１１は、仮測定では、固視投影系４の液晶パネル４１を制御して、固視標を被検眼Ｅに呈示する。また、主制御部２１１は、レフ測定光学系を制御して、レフ測定光源６１を点灯させると共にロータリープリズム６６の回転を開始させることで、被検眼Ｅの眼底Ｅｆにリング状のパターン光を投射する。次いで、主制御部２１１は、レフ測定光学系を制御して、被検眼Ｅからのパターン光の第１戻り光に基づくリング像の撮像を撮像素子５９に実行させ、このリング像の撮像信号を撮像素子５９から演算処理部２２０に入力させる。

そして、主制御部２１１は、演算処理部２２０に対して、リング像の撮像画像に基づく被検眼Ｅの仮の球面度数Ｓ及び乱視度数Ｃの演算を公知の手法で実行させる。また、主制御部２１１は、仮の球面度数Ｓ及び乱視度数Ｃの演算結果に基づき、移動機構６１Ｄ，７４Ｄ，４０Ｄを駆動して、レフ測定光源６１、合焦レンズ７４、及び液晶パネル４１を等価球面度数（Ｓ＋Ｃ／２）の位置へ移動させる。

さらに、主制御部２１１は、レフ測定光学系等を制御して、既述の眼底Ｅｆに対するパターン光の投射と、撮像素子５９によるリング像の撮像と、演算処理部２２０による仮の球面度数Ｓ及び乱視度数Ｃの演算と、レフ測定光源６１、合焦レンズ７４、及び液晶パネル４１の等価球面度数の位置への移動と、を実行させる。この際に主制御部２１１は、移動機構８０Ｄを制御して、合焦レンズ７４等の移動に連動して合焦レンズ８７を移動させる。そして、主制御部２１１は、前述の各処理を繰り返し実行させた後、レフ測定光源６１を消灯させると共に、ロータリープリズム６６の回転を停止させる。

（レフ測定制御：本測定）
主制御部２１１は、本測定では、移動機構４０Ｄを制御して、液晶パネル４１を仮測定において求められた位置から更に雲霧位置に移動させることにより、被検眼Ｅの雲霧を促す。そして、主制御部２１１は、仮測定と同様にレフ測定光学系等を制御して、既述の眼底Ｅｆに対するパターン光の投射と、撮像素子５９によるリング像の撮像と、を実行させて、このリング像の撮像画像を演算処理部２２０に入力させる。次いで、主制御部２１１は、演算処理部２２０に対して、リング像の撮像画像と合焦レンズ７４の移動量とに基づく被検眼Ｅの屈折力値（球面度数、乱視度数、乱視軸角度）の演算を公知の手法で実行させる。

（ＯＣＴ計測制御）
主制御部２１１は、レフ測定の本測定後にＯＣＴ光学系８及び演算処理部２２０を制御するＯＣＴ計測制御部として機能する。なお、主制御部２１１は、ＯＣＴ計測制御を開始する前に、移動機構４０Ｄを制御して、液晶パネル４１を雲霧位置から既述の仮測定において求められた位置に移動させた後、固視投影系４の液晶パネル４１を制御して固視標を被検眼Ｅに呈示する。また、主制御部２１１は、コーナーキューブ１１４を移動させて測定光ＬＳ及び参照光ＬＲの光路長補正を実行する。

主制御部２１１は、ＯＣＴ光学系８を制御して、ＯＣＴユニット１００のＯＣＴ光源１０１を点灯させると共に、光スキャナー８８の動作を開始させることで、被検眼Ｅの所定の部位（前眼部、眼底Ｅｆ、又は両者）を測定光ＬＳでスキャンさせる。また、主制御部２１１は、ＯＣＴ光学系８を制御して、検出器１２５による一対の干渉光ＬＣの検出及び検出信号の出力と、ＤＡＱ１３０による検出信号のサンプリングとを実行させた後、この検出信号のサンプリング結果を演算処理部２２０に入力させる。さらに、主制御部２１１は、演算処理部２２０に対して、検出信号のサンプリング結果に基づくＯＣＴ計測、例えば断層像の形成及び眼内パラメータの演算を実行させる。

なお、眼内パラメータは、被検眼Ｅの眼軸長、角膜厚、前房深度、水晶体厚、角膜前面の強主経線曲率半径、角膜前面の弱主経線曲率半径、角膜後面の強主経線曲率半径、角膜後面の弱主経線曲率半径、水晶体前面の強主経線曲率半径、水晶体前面の弱主経線曲率半径、水晶体後面の強主経線曲率半径、及び水晶体後面の弱主経線曲率半径の少なくとも１つを含む。

（シャッタ開閉制御）
主制御部２１１は、アライメント前と、ケラト測定前と、レフ測定（仮測定及び本測定前）と、ＯＣＴ計測前と、において、第１シャッタ駆動機構３０２及び第２シャッタ駆動機構３０６を制御するシャッタ駆動制御部として機能する。

主制御部２１１は、アライメント前、ケラト測定前、及びＯＣＴ計測前においては、第１シャッタ駆動機構３０２を駆動して第１シャッタ３０１を第１退避位置に移動させると共に、第２シャッタ駆動機構３０６を駆動して第２シャッタ３０５を第２遮断位置に移動させる。すなわち、観察系光路ＬＰ１を開放すると共にレフ測定光路ＬＰ２（第１分岐光路ＬＰ２ａ）を遮断する。

また、主制御部２１１は、レフ測定（仮測定及び本測定前）においては、第１シャッタ駆動機構３０２を駆動して第１シャッタ３０１を第１遮断位置に移動させると共に、第２シャッタ駆動機構３０６を駆動して第２シャッタ３０５を第２退避位置に移動させる。すなわち、観察系光路ＬＰ１を遮断すると共にレフ測定光路ＬＰ２（第１分岐光路ＬＰ２ａ）を開放する。

（演算処理部２２０）
演算処理部２２０は、眼屈折力算出部２２１と、画像形成部２２２と、データ処理部２２３と、を含む。

眼屈折力算出部２２１は、主制御部２１１の制御の下、レフ測定時の撮像素子５９により撮像されたリング像を公知の手法で解析して、被検眼Ｅの屈折力値（球面度数、乱視度数、及び乱視軸角度）を演算する。また、眼屈折力算出部２２１は、主制御部２１１の制御の下、ケラト測定時の撮像素子５９により撮像された観察像Ｐを公知の手法で解析して、被検眼Ｅの角膜形状（角膜屈折力、角膜乱視度、及び角膜乱視軸角度）を演算する。

画像形成部２２２は、主制御部２１１の制御の下、ＯＣＴ計測時に検出器１２５及びＤＡＱ１３０を経て入力された検出信号のサンプリング結果に基づき、従来のスペクトラルドメインタイプのＯＣＴと同様のフィルタ処理及び高速フーリエ変換処理などを実行して、被検眼Ｅの断層像の画像データを形成する。

データ処理部２２３は、主制御部２１１の制御の下、画像形成部２２２により形成された断層像に対して各種のデータ処理（画像処理）及び解析処理を施す。例えば、データ処理部２２３は、各断層像に対して輝度補正及び分散補正等の補正処理を実行したり、各断層像を解析して既述の眼内パラメータの演算を実行したりする。また、データ処理部２２３は、前眼部観察系５を用いて得られた被検眼Ｅの前眼部の観察像Ｐに対しても各種の画像処理及び解析処理を施す。

さらにデータ処理部２２３は、断層像の間の画素を補間する補間処理などの公知の画像処理を実行することにより、被検眼Ｅのボリュームデータ（ボクセルデータ）を形成することができる。ボリュームデータに基づく画像を表示部２７０に表示させる場合、データ処理部２２３は、このボリュームデータに対してレンダリング処理を施して、特定の視線方向から見たときの擬似的な３次元画像を形成する。

［第１実施形態の作用］
図６は、第１実施形態の眼科装置１０００による被検眼Ｅの測定及び計測処理の流れ、特に本発明の制御方法に相当する第１シャッタ３０１及び第２シャッタ３０５の開閉処理の流れを示すフローチャートである。なお、初期状態では、第１シャッタ３０１が第１退避位置（開）にセットされ、第２シャッタ３０５が第２遮断位置（閉）にセットされているものとする（ステップＳ１）。

図６に示すように、被検者の顔が不図示の顔受け部にセットされた後、検者が操作部２８０に対してアライメント開始操作を行うと、主制御部２１１がアライメント系１及び移動機構２００を制御して、被検眼Ｅに対する眼科装置１０００の１回目のアライメントを実行させる（ステップＳ２）。

１回目のアライメント完了後、検者が操作部２８０に対してケラト測定開始操作を行うと、主制御部２１１がケラト測定系３を制御して、被検眼Ｅの前眼部への角膜形状測定用のパターン光の投射と、撮像素子５９による被検眼Ｅの前眼部の観察像Ｐの撮像と、を実行させる。次いで、主制御部２１１が演算処理部２２０を制御して、眼屈折力算出部２２１による被検眼Ｅの角膜形状の演算を実行させる（ステップＳ３）。

被検眼Ｅのケラト測定後、検者が操作部２８０に対してレフ測定開始操作を行うと、主制御部２１１が第１シャッタ駆動機構３０２を駆動して第１シャッタ３０１を第１遮断位置（閉）に移動させると共に、第２シャッタ駆動機構３０６を駆動して第２シャッタ３０５を第２退避位置（開）に移動させる（ステップＳ４）。これにより、観察系光路ＬＰ１が遮断され且つレフ測定光路ＬＰ２（第１分岐光路ＬＰ２ａ）が開放される。

次いで、主制御部２１１がレフ測定光学系（レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７）、固視投影系４、演算処理部２２０、及び移動機構８０Ｄなどを制御して、被検眼Ｅのレフ測定（仮測定）を実行する（ステップＳ５）。これにより、眼底Ｅｆに対するリング状のパターン光の照射と、撮像素子５９によるリング像の撮像と、眼屈折力算出部２２１による仮の球面度数Ｓ及び乱視度数Ｃの演算と、レフ測定光源６１、合焦レンズ７４、及び液晶パネル４１の移動と、合焦レンズ７４等の移動に連動した合焦レンズ８７の移動と、が実行される。

レフ測定（仮測定）の完了後、主制御部２１１が第１シャッタ駆動機構３０２を駆動して第１シャッタ３０１を第１退避位置（開）に移動させると共に、第２シャッタ駆動機構３０６を駆動して第２シャッタ３０５を第２遮断位置（閉）に移動させる（ステップＳ６）。これにより、観察系光路ＬＰ１が開放され且つレフ測定光路ＬＰ２が遮断される。

第１シャッタ３０１及び第２シャッタ３０５の切替完了後、主制御部２１１がアライメント系１及び移動機構２００を制御して、被検眼Ｅに対する眼科装置１０００の２回目のアライメントを実行させる（ステップＳ７）。これにより、レフ測定（仮測定）の間にアライメントがずれた場合であっても、レフ測定（本測定）前に再度アライメントが調整される。

また、主制御部２１１は、移動機構４０Ｄを制御して、液晶パネル４１を雲霧位置に移動させることにより、被検眼Ｅの雲霧を促す（ステップＳ７）。

２回目のアライメント等の完了後、主制御部２１１が第１シャッタ駆動機構３０２を駆動して第１シャッタ３０１を第１遮断位置（閉）に移動させると共に、第２シャッタ駆動機構３０６を駆動して第２シャッタ３０５を第２退避位置（開）に移動させる（ステップＳ８）。これにより、観察系光路ＬＰ１が遮断され且つレフ測定光路ＬＰ２が開放される。

次いで、主制御部２１１が仮測定と同様にレフ測定光学系（レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７）、固視投影系４、及び演算処理部２２０を制御して、被検眼Ｅのレフ測定（本測定）を実行する（ステップＳ９）。これにより、眼底Ｅｆに対するリング状のパターン光の照射と、撮像素子５９によるリング像の撮像と、眼屈折力算出部２２１による被検眼Ｅの屈折力値の演算と、が実行される。

レフ測定（本測定）の完了後、検者が操作部２８０に対してＯＣＴ計測開始操作を行うと、主制御部２１１が第１シャッタ駆動機構３０２を駆動して第１シャッタ３０１を第１退避位置（開）に移動させると共に、第２シャッタ駆動機構３０６を駆動して第２シャッタ３０５を第２遮断位置（閉）に移動させる（ステップＳ１０）。これにより、観察系光路ＬＰ１が開放され且つレフ測定光路ＬＰ２が遮断される。

第１シャッタ３０１及び第２シャッタ３０５の切替完了後、主制御部２１１が移動機構４０Ｄを制御して、液晶パネル４１を雲霧位置から既述の仮測定において求められた位置に移動させた後、固視投影系４を制御して、固視標を被検眼Ｅに呈示する。また、主制御部２１１は、コーナーキューブ１１４を移動させて測定光ＬＳ及び参照光ＬＲの光路長補正を実行する。なお、合焦レンズ８７の位置調整についてはレフ測定で完了しているため、この位置調整については省略することができ、ＯＣＴ計測に要する時間を短縮することができる。

次いで、主制御部２１１は、ＯＣＴ光学系８及び演算処理部２２０を制御して、被検眼のＯＣＴ計測を実行する（ステップＳ１１）。これにより、測定光ＬＳによる被検眼Ｅのスキャンと、検出器１２５による一対の干渉光ＬＣの検出と、ＤＡＱ１３０による検出信号のサンプリングと、画像形成部２２２による断層像の画像データの生成と、データ処理部２２３による眼内パラメータの演算と、が実行される。

以上で眼科装置１０００による被検眼Ｅのケラト測定、レフ測定、及びＯＣＴ計測が完了する。

［第１実施形態の効果］
第１実施形態の眼科装置１０００では、被検眼ＥのＯＣＴ計測時にレフ系シャッタ機構３０４の第２シャッタ３０５によりレフ測定光路ＬＰ２（第１分岐光路ＬＰ２ａ）を遮断することで、既述の図４に示した迷光ＧＬがレフ測定光路ＬＰ２を通って撮像素子５９に入射することが防止される。その結果、ＯＣＴ計測時の観察像Ｐにおけるゴーストの発生が防止されるので、表示部２７０に表示される観察像Ｐに基づき、検者が被検眼Ｅの状態（アライメント状態等）を確認することができる。

また、第１実施形態の眼科装置１０００では、観察系光路ＬＰ１に観察系シャッタ機構３００を設け、被検眼Ｅの前眼部の観察時とレフ測定時とで観察系光路ＬＰ１の開放及び遮断を切替可能にすることで、前眼部観察系５とレフ測定光学系（レフ測定受光系７）とにおいて撮像素子５９を共通化させることができる。ここで撮像素子５９への迷光ＧＬの入射という目的を達成するためには、例えば、レフ測定受光系７の反射ミラー７５を撮像素子５９（第１撮像素子）とは異なる第２撮像素子に置換（ダイクロイックフィルタ７６の削除も含む）する方法も考えられるが、２種類の撮像素子が必要になる。これに対して、第１実施形態の眼科装置１０００では、撮像素子５９を共通化させることで眼科装置１０００の低コスト化及び小型化が図れる。

さらに、第１実施形態の眼科装置１０００では、レフ系シャッタ機構３０４を眼底共役位置に配置したので、被検眼Ｅのディオプタが変わった場合でも合焦レンズ７４の移動に連動して第２シャッタ３０５を移動させる必要がなくなる。さらにまた、レフ系シャッタ機構３０４がレフ測定光路ＬＰ２において孔開きプリズム６５よりも撮像素子５９側に配置されているので、第２シャッタ３０５に入射する迷光ＧＬの径の大きさを孔開きプリズム６５の孔部の径の大きさよりも小さくすることができる。その結果、第２シャッタ３０５を最小限の大きさにすることができる。

［第２実施形態］
図７は、第２実施形態の眼科装置１０００の光学系の概略図である。上記第１実施形態の眼科装置１０００は観察系シャッタ機構３００及びレフ系シャッタ機構３０４を備えているが、図７に示すように、第２実施形態の眼科装置１０００は共通シャッタ機構３０８を備える。

なお、第２実施形態の眼科装置１０００は、観察系シャッタ機構３００及びレフ系シャッタ機構３０４の代わりに、共通シャッタ機構３０８を備える点を除けば上記第１実施形態の眼科装置１０００と基本的に同じ構成である。このため、上記第１実施形態と機能又は構成上同一のものについては同一符号を付してその説明は省略する。

共通シャッタ機構３０８は、本発明のシャッタ機構に相当するものであり、観察系光路ＬＰ１の開放及び遮断の切り替えと、レフ測定光路ＬＰ２（第１分岐光路ＬＰ２ａ）の遮断及び開放の切り替えと、を実行する。この共通シャッタ機構３０８は、共通シャッタ３０９と共通シャッタ駆動機構３１０とを備える。

共通シャッタ３０９は、後述の共通シャッタ駆動機構３１０により、第１実施形態と同様の第１遮断位置と第２遮断位置と、の間で変位自在（移動自在）に保持されている。これにより、共通シャッタ３０９が第１遮断位置に移動された場合には、観察系光路ＬＰ１が遮断され且つレフ測定光路ＬＰ２（第１分岐光路ＬＰ２ａ）が開放される。また、共通シャッタ３０９が第２遮断位置に移動された場合には、観察系光路ＬＰ１が開放され且つレフ測定光路ＬＰ２（第１分岐光路ＬＰ２ａ）が遮断される。

共通シャッタ駆動機構３１０は、本発明の駆動機構に相当するものであり、公知のアクチュエータ（駆動伝達機構を含む）である。この共通シャッタ駆動機構３１０は、主制御部２１１の制御の下、レフ測定光学系を作動させてレフ測定を行う場合には共通シャッタ３０９を第１遮断位置に移動させ、且つＯＣＴ光学系８を作動させてＯＣＴ計測を行う場合（アライメント及びケラト測定を行う場合も同様）には共通シャッタ３０９を第２遮断位置に移動させる。

このように観察系シャッタ機構３００及びレフ系シャッタ機構３０４の代わりに共通シャッタ機構３０８を設けた場合であっても、アライメント時、ケラト測定時、及びＯＣＴ計測時においては観察系光路ＬＰ１を開放すると共にレフ測定光路ＬＰ２（第１分岐光路ＬＰ２ａ）を遮断することができる。また、レフ測定時には観察系光路ＬＰ１を遮断すると共にレフ測定光路ＬＰ２を開放することができる。その結果、第２実施形態についても第１実施形態と同様の効果が得られる。さらに第２実施形態では、１種類の共通シャッタ機構３０８を設けるだけでよいので、第１実施形態と比較して眼科装置１０００の低コスト化及び省スペース化が図れる。

［その他］
上記各実施形態では、同一波長域の光を用いてレフ測定及びＯＣＴ計測を行う眼科装置１０００（複合機）を例に挙げて説明したが、これらレフ測定及びＯＣＴ計測の他にその他の被検眼Ｅの他覚測定を行ったり、被検眼Ｅの自覚検査を行ったりする眼科装置１０００にも本発明を適用可能である。その他の他覚測定には、被検眼Ｅの特性を取得するための測定と、被検眼Ｅの画像を取得するための撮影とが含まれる（眼圧測定及び眼底撮影等）。自覚検査は、被検者からの応答を利用して情報を取得する測定手法であり、遠用検査、近用検査、コントラスト検査、グレア検査等の自覚屈折測定、及び視野検査などがある。

上記各実施形態では、ＯＣＴ計測としてスウェプトソースタイプのＯＣＴの手法を用いる場合を説明したが、他のタイプ（例えば、スペクトラルドメインタイプ）のＯＣＴの手法を用いてもよい。

上記各実施形態では、アライメント系１の一対のステレオカメラ１４を用いて被検眼Ｅに対する眼科装置１０００のアライメントを実行しているが、上記特許文献１に記載の装置と同様に、光源及びラインセンサを用いる公知のＺアライメント系と、被検眼Ｅに点光を照射する公知のＸＹアライメント系と、を用いてアライメントを実行してもよい。

上記各実施形態では、前眼部観察系５で波長９４０ｎｍの光を用い且つレフ測定光学系及びＯＣＴ光学系８で波長８４０ｎｍの光を用いる場合を例に挙げて説明したが、各波長は適宜変更可能である。

上記各実施形態のアライメント系１、ケラト測定系３、固視投影系４、前眼部観察系５、レフ測定光学系（レフ測定投射系６及びレフ測定受光系７）、及びＯＣＴ光学系８は、図１等に示した構成に限定されるものでなく適宜変更可能である。

１…アライメント系
３…ケラト測定系
５…前眼部観察系
６…レフ測定投射系
７…レフ測定受光系
８…ＯＣＴ光学系
９…処理部
１４…ステレオカメラ
５１…対物レンズ
５２…ダイクロイックフィルタ
５９…撮像素子
６１…レフ測定光源
６７…ダイクロイックフィルタ
７４…合焦レンズ
７６…ダイクロイックフィルタ
８７…合焦レンズ
１００…ＯＣＴユニット
１０１…ＯＣＴ光源
１２５…検出器
２１０…制御部
２１１…主制御部
２２０…演算処理部
２２１…眼屈折力算出部
２２２…画像形成部
２２３…データ処理部
３００…観察系シャッタ機構
３０１…第１シャッタ
３０２…第１シャッタ駆動機構
３０４…レフ系シャッタ機構
３０５…第２シャッタ
３０６…第２シャッタ駆動機構
３０８…共通シャッタ機構
３０９…共通シャッタ
３１０…共通シャッタ駆動機構
１０００…眼科装置
ＧＬ…迷光
ＬＣ…干渉光
ＬＳ…測定光
ＬＲ…参照光
ＬＰ１…観察系光路
ＬＰ２…レフ測定光路
ＬＰ２ａ…第１分岐光路
ＬＰ２ｂ…第１共通光路
ＬＰ３…ＯＣＴ計測光路
ＬＰ３ａ…第２分岐光路
ＬＰ３ｂ…第２共通光路

Claims (10)

1. 撮像素子と、対物レンズから前記撮像素子に至る観察系光路と、を有し、前記対物レンズを介して被検眼の観察像を前記撮像素子で撮像する観察系と、
   前記観察系と共通の前記撮像素子と、前記観察系光路の途中から分岐して再び前記観察系光路に合流する第１分岐光路と、前記観察系光路の一部と共通の第１共通光路と、を有し、前記被検眼に第１測定光を照射し、前記被検眼からの前記第１測定光の第１戻り光を前記撮像素子で撮像する第１測定系と、
   前記対物レンズから前記第１分岐光路の途中に至る第２共通光路と、前記第１分岐光路の途中から分岐して設けられた第２分岐光路と、を有し、前記被検眼に前記第１測定光と同一の波長域の第２測定光を照射し、前記被検眼からの前記第２測定光の第２戻り光を検出する第２測定系と、
   前記第２測定系が作動する場合には前記第２共通光路とは異なる位置で前記第１分岐光路を遮断し、且つ前記第１測定系が作動する場合には前記第１分岐光路を開放するシャッタ機構と、
   を備える眼科装置。
2. 前記シャッタ機構が、前記第１測定系が作動する場合には前記第１共通光路とは異なる位置で前記観察系光路を遮断し、且つ前記第２測定系が作動する場合には前記観察系光路を開放する請求項１に記載の眼科装置。
3. 前記第１測定系が、前記被検眼の眼底に前記第１測定光としてパターン光を照射して、前記パターン光の前記第１戻り光を前記撮像素子により撮像し、
   前記第２測定系が、光源からの光を前記第２測定光と参照光とに分割し、前記第２測定光を前記被検眼の眼底に照射して、前記被検眼からの前記第２測定光の前記第２戻り光と前記参照光との干渉光を検出する請求項１又は２に記載の眼科装置。
4. 前記シャッタ機構により前記第１分岐光路を遮断する位置が、前記眼底と光学的に共役な共役位置である請求項３に記載の眼科装置。
5. 前記シャッタ機構が、
   前記第１共通光路とは異なる位置で前記観察系光路を遮断する第１遮断位置に挿脱自在に設けられた第１シャッタと、
   前記第２共通光路とは異なる位置で前記第１分岐光路を遮断する第２遮断位置に挿脱自在に設けられた第２シャッタと、
   前記第１測定系が作動する場合には前記第１シャッタを前記第１遮断位置に挿入し且つ前記第２シャッタを前記第２遮断位置から退避させ、前記第２測定系が作動する場合には前記第１シャッタを前記第１遮断位置から退避させ且つ前記第２シャッタを前記第２遮断位置に挿入する駆動機構と、
   を備える請求項１から４のいずれか１項に記載の眼科装置。
6. 前記シャッタ機構が、
   前記第１共通光路とは異なる位置で前記観察系光路を遮断する第１遮断位置と、前記第２共通光路とは異なる位置で前記第１分岐光路を遮断する第２遮断位置と、の間で変位自在に保持された共通シャッタと、
   前記第１測定系が作動する場合には前記共通シャッタを前記第１遮断位置に移動させ、前記第２測定系が作動する場合には前記共通シャッタを前記第２遮断位置に移動させる駆動機構と、
   を備える請求項１から４のいずれか１項に記載の眼科装置。
7. 前記第１共通光路が、前記対物レンズと前記第１分岐光路の一端との間の光路と、前記第１分岐光路の他端と前記撮像素子との間の光路と、を含む請求項１から６のいずれか１項に記載の眼科装置。
8. 前記第１測定光及び前記第２測定光の波長域が、前記観察像を形成する光の波長域とは異なる請求項１から７のいずれか１項に記載の眼科装置。
9. 撮像素子と、対物レンズから前記撮像素子に至る観察系光路と、を有し、前記対物レンズを介して被検眼の観察像を前記撮像素子で撮像する観察系と、
   前記観察系と共通の前記撮像素子と、前記観察系光路の途中から分岐して再び前記観察系光路に合流する第１分岐光路と、前記観察系光路の一部と共通の第１共通光路と、を有し、前記被検眼に第１測定光を照射し、前記被検眼からの前記第１測定光の第１戻り光を前記撮像素子で撮像する第１測定系と、
   前記対物レンズから前記第１分岐光路の途中に至る第２共通光路と、前記第１分岐光路の途中から分岐して設けられた第２分岐光路と、を有し、前記被検眼に前記第１測定光と同一の波長域の第２測定光を照射し、前記被検眼からの前記第２測定光の第２戻り光を検出する第２測定系と、
   を備える眼科装置の制御方法において、
   前記第２測定系が作動する場合には前記第２共通光路とは異なる位置で前記第１分岐光路を遮断し、且つ前記第１測定系が作動する場合には前記第１分岐光路を開放する眼科装置の制御方法。
10. 前記第１測定系が作動する場合には前記第１共通光路とは異なる位置で前記観察系光路を遮断し、且つ前記第２測定系が作動する場合には前記観察系光路を開放する請求項９に記載の眼科装置の制御方法。

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