JP2020196038A - Inclination check method - Google Patents

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Abstract

To provide an inclination check method that is able to accurately check the inclination of a laser beam emitted to a work piece.SOLUTION: An inclination check method, by which inclination of a laser beam emitted to a work piece from an emitting head of a laser beam emitting unit and having a wavelength absorbed by the work piece is checked with respect to the work piece, comprises: forming a first groove in the work piece by condensing the laser beam into a position of a first height using an upper surface of the work piece as a reference; forming a second groove in the work piece by condensing a laser beam into a position of a second height different from the first height; based on a first image obtained by imaging the first groove from above, calculating a first quantity of displacement, corresponding to a distance between a position serving as a reference in the first image and the first groove; based on a second image obtained by imaging the second groove from above, calculating a second quantity of displacement, corresponding to a distance between a position serving as a reference in the second image and the second groove; based on the first quantity of displacement and the second quantity of displacement, checking inclination of the laser beam made incident on the work piece, to the upper surface in an incident direction.SELECTED DRAWING: Figure 6

Description

本発明は、被加工物に照射されるレーザービームの傾きを確認する際に用いられる傾き確認方法に関する。 The present invention relates to a tilt confirmation method used when confirming the tilt of a laser beam irradiated to a work piece.

各種の電子機器に組み込まれるデバイスチップは、基材となるウェーハの表面をストリートと呼ばれる分割予定ラインで複数の領域に区画し、各領域に集積回路等のデバイスを形成した上で、このウェーハを分割予定ラインに沿って分割することにより得られる。ウェーハのような板状の被加工物を分割する際には、例えば、被加工物に吸収される波長のレーザービームを照射できるレーザービーム照射ユニットを備えたレーザー加工装置が用いられる(例えば、特許文献1参照)。 For device chips to be incorporated into various electronic devices, the surface of the wafer as the base material is divided into a plurality of areas by a planned division line called a street, and devices such as integrated circuits are formed in each area, and then this wafer is placed. It is obtained by dividing along the planned division line. When dividing a plate-shaped workpiece such as a wafer, for example, a laser machining apparatus equipped with a laser beam irradiation unit capable of irradiating a laser beam having a wavelength absorbed by the workpiece is used (for example, a patent). Reference 1).

レーザービーム照射ユニットは、一般に、レーザー発振器と、複数の光学部品でなる光学系と、を含んでおり、レーザー発振器で発生させたレーザービームを光学系で被加工物へと導く。このレーザービーム照射ユニットを用いて、被加工物の表面又は内部で集光するようにレーザービームを照射すれば、いわゆるアブレーション加工によって被加工物に溝等を形成できる。 The laser beam irradiation unit generally includes a laser oscillator and an optical system composed of a plurality of optical components, and guides the laser beam generated by the laser oscillator to the workpiece by the optical system. If the laser beam irradiation unit is used to irradiate a laser beam so as to condense light on the surface or inside of the work piece, a groove or the like can be formed in the work piece by so-called ablation processing.

ところで、被加工物の表面に対してレーザービームが斜めに入射すると(入射角≠0°)、レーザービームによって形成される溝が傾いたり、アブレーション加工の際に発生する屑(デブリ)が溝の片側に多く飛散したりする。よって、上述のような被加工物のアブレーション加工では、被加工物の表面に対してレーザービームの入射方向(進行方向)が垂直になるように、レーザービーム照射ユニットの光学系を調整しておくことが重要になる。 By the way, when the laser beam is obliquely incident on the surface of the workpiece (incident angle ≠ 0 °), the groove formed by the laser beam is tilted, and the debris generated during the ablation process is formed in the groove. It scatters a lot on one side. Therefore, in the ablation processing of the workpiece as described above, the optical system of the laser beam irradiation unit is adjusted so that the incident direction (traveling direction) of the laser beam is perpendicular to the surface of the workpiece. Is important.

特開2007−275912号公報JP-A-2007-275912

被加工物に対するレーザービームの入射方向の傾きを確認する方法としては、例えば、レーザービーム照射ユニットから照射されるレーザービームをミラーで反射させて、入射光に対する反射光のずれを確認する方法がある。しかしながら、この方法では、ホルダー等によって固定されるミラーの角度が適切な値からずれた場合に、レーザービームの入射方向の傾きを精度良く確認することが難しくなってしまう。 As a method of confirming the inclination of the laser beam in the incident direction with respect to the workpiece, for example, there is a method of reflecting the laser beam emitted from the laser beam irradiation unit with a mirror and confirming the deviation of the reflected light with respect to the incident light. .. However, in this method, when the angle of the mirror fixed by the holder or the like deviates from an appropriate value, it becomes difficult to accurately confirm the inclination of the laser beam in the incident direction.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、被加工物に照射されるレーザービームの傾きを精度良く確認できる傾き確認方法を提供することである。 The present invention has been made in view of such a problem, and an object of the present invention is to provide a tilt confirmation method capable of accurately confirming the tilt of a laser beam irradiating a work piece.

本発明の一態様によれば、レーザービーム照射ユニットの照射ヘッドから被加工物に照射され該被加工物に吸収される波長のレーザービームの該被加工物に対する傾きを確認する傾き確認方法であって、被加工物の上面を基準とする第1高さの位置に該レーザービームを集光させながら該被加工物と該照射ヘッドとを該上面に沿う方向に相対的に移動させて、該被加工物に照射される該レーザービームで該被加工物に第1溝を形成する第1加工ステップと、被加工物の上面を基準とする該第1高さとは異なる第2高さの位置に該レーザービームを集光させながら該被加工物と該照射ヘッドとを該上面に沿う方向に相対的に移動させて、該被加工物に照射される該レーザービームで該被加工物に第2溝を形成する第2加工ステップと、該第1溝を上方から撮像して得られる第1画像に基づいて、該第1画像内の基準となる位置と該第1溝との距離に相当する第1ずれ量を算出する第1ずれ量算出ステップと、該第2溝を上方から撮像して得られる第2画像に基づいて、該第2画像内の基準となる位置と該第2溝との距離に相当する第2ずれ量を算出する第2ずれ量算出ステップと、該第1ずれ量と該第2ずれ量とに基づいて、該被加工物に入射する該レーザービームの入射方向の該上面に対する傾きを確認する傾き確認ステップと、を含む傾き確認方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is a tilt confirmation method for confirming the tilt of a laser beam having a wavelength that is irradiated from the irradiation head of the laser beam irradiation unit to the workpiece and absorbed by the workpiece with respect to the workpiece. Then, while condensing the laser beam at a position at a first height with respect to the upper surface of the work piece, the work piece and the irradiation head are relatively moved in a direction along the upper surface, and the laser beam is focused. A position of a second height different from the first processing step of forming a first groove in the work piece by the laser beam applied to the work piece and the first height with respect to the upper surface of the work piece. While condensing the laser beam, the workpiece and the irradiation head are relatively moved in a direction along the upper surface, and the laser beam irradiating the workpiece is used to irradiate the workpiece. Based on the second processing step of forming the two grooves and the first image obtained by imaging the first groove from above, it corresponds to the distance between the reference position in the first image and the first groove. Based on the first deviation amount calculation step for calculating the first deviation amount to be performed and the second image obtained by imaging the second groove from above, the reference position in the second image and the second groove. The incident direction of the laser beam incident on the workpiece based on the second deviation amount calculation step for calculating the second deviation amount corresponding to the distance from and the first deviation amount and the second deviation amount. An inclination confirmation method including an inclination confirmation step for confirming the inclination with respect to the upper surface thereof is provided.

本発明の一態様にかかる傾き確認方法は、該傾き確認ステップで確認された該レーザービームの該入射方向の該上面に対する傾きが許容される範囲内であれば、該照射ヘッドを調整する必要がないと判定し、該傾き確認ステップで確認された該レーザービームの該入射方向の該上面に対する傾きが許容される範囲外であれば、該照射ヘッドを調整する必要があると判定する判定ステップを更に含むことがある。 In the inclination confirmation method according to one aspect of the present invention, it is necessary to adjust the irradiation head as long as the inclination of the laser beam confirmed in the inclination confirmation step with respect to the upper surface in the incident direction is within an allowable range. If it is determined that the laser beam does not exist and the inclination of the laser beam confirmed in the inclination confirmation step with respect to the upper surface is out of the allowable range, the determination step of determining that the irradiation head needs to be adjusted is performed. May include more.

本発明の一態様にかかる傾き確認方法では、第1高さの位置にレーザービームを集光させて被加工物に第1溝を形成し、この第1溝を上方から撮像して得られる第1画像に基づいて、第1画像内の基準となる位置と第1溝との距離に相当する第1ずれ量を算出する。同様に、第2高さの位置にレーザービームを集光させて被加工物に第2溝を形成し、この第2溝を上方から撮像して得られる第2画像に基づいて、第2画像内の基準となる位置と第2溝との距離に相当する第2ずれ量を算出する。 In the inclination confirmation method according to one aspect of the present invention, a laser beam is focused at a position of a first height to form a first groove in a work piece, and the first groove is imaged from above. Based on one image, the first deviation amount corresponding to the distance between the reference position in the first image and the first groove is calculated. Similarly, a second image is formed based on a second image obtained by condensing a laser beam at a position of a second height to form a second groove in a work piece and imaging the second groove from above. The second deviation amount corresponding to the distance between the reference position and the second groove is calculated.

第1溝と第2溝とは、それぞれ被加工物の上面のレーザービームが照射された位置に形成されるので、第1ずれ量は、被加工物の上面の所定の位置からの第1溝のずれを表し、第2ずれ量は、被加工物の上面の所定の位置からの第2溝のずれを表すことになる。よって、第1ずれ量と第2ずれ量とに基づいて、レーザービームの入射方向の被加工物に対する傾きを精度良く確認できる。 Since the first groove and the second groove are formed at positions where the laser beam is irradiated on the upper surface of the work piece, the first deviation amount is the first groove from a predetermined position on the upper surface of the work piece. The second deviation amount represents the deviation of the second groove from a predetermined position on the upper surface of the workpiece. Therefore, it is possible to accurately confirm the inclination of the laser beam with respect to the workpiece in the incident direction based on the first deviation amount and the second deviation amount.

レーザー加工装置の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of the laser processing apparatus. 被加工物等の構成例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of the work piece and the like. 図3(A)は、被加工物の上面にレーザービームが集光するように照射ヘッドの高さを調整した状態で、被加工物にレーザービームが照射される様子を示す側面図であり、図3(B)は、図3(A)の条件で被加工物に形成される溝を撮像ユニットで撮像して得られる画像の例を示す図である。FIG. 3A is a side view showing how the laser beam is irradiated to the workpiece in a state where the height of the irradiation head is adjusted so that the laser beam is focused on the upper surface of the workpiece. FIG. 3B is a diagram showing an example of an image obtained by imaging a groove formed in a workpiece under the condition of FIG. 3A with an imaging unit. 図4(A)は、被加工物の上面を基準とする第1高さの位置にレーザービームが集光するように照射ヘッドの高さを調整した状態で、被加工物にレーザービームが照射される様子を示す側面図であり、図4(B)は、図4(A)の条件で被加工物に形成される第1溝を撮像ユニットで撮像して得られる画像の例を示す図である。FIG. 4A shows the work piece being irradiated with the laser beam in a state where the height of the irradiation head is adjusted so that the laser beam is focused at the position of the first height with respect to the upper surface of the work piece. 4 (B) is a side view showing how the image is formed, and FIG. 4 (B) is a diagram showing an example of an image obtained by imaging the first groove formed in the workpiece under the conditions of FIG. 4 (A) with an imaging unit. Is. 図5(A)は、被加工物の上面を基準とする第2高さの位置にレーザービームが集光するように照射ヘッドの高さを調整した状態で、被加工物にレーザービームが照射される様子を示す側面図であり、図5(B)は、図5(A)の条件で被加工物に形成される第2溝を撮像ユニットで撮像して得られる画像の例を示す図である。FIG. 5A shows the work piece being irradiated with the laser beam in a state where the height of the irradiation head is adjusted so that the laser beam is focused at the position of the second height with respect to the upper surface of the work piece. 5 (B) is a side view showing how the light beam is formed, and FIG. 5 (B) is a diagram showing an example of an image obtained by imaging the second groove formed in the workpiece under the condition of FIG. 5 (A) with an imaging unit. Is. 図6(A)は、第1ずれ量と画像との関係を模式的に示す図であり、図6(B)は、第2ずれ量と画像との関係を模式的に示す図である。FIG. 6A is a diagram schematically showing the relationship between the first deviation amount and the image, and FIG. 6B is a diagram schematically showing the relationship between the second deviation amount and the image.

添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図1は、本実施形態にかかる傾き確認方法が用いられるレーザー加工装置2の構成例を示す斜視図である。なお、図1では、レーザー加工装置2の一部の構成要素を機能ブロックで示している。また、以下の説明で用いられるX軸方向(加工送り方向)、Y軸方向(割り出し送り方向)、及びZ軸方向(高さ方向)は、互いに垂直である。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view showing a configuration example of a laser processing apparatus 2 in which the inclination confirmation method according to the present embodiment is used. In FIG. 1, some components of the laser processing apparatus 2 are shown by functional blocks. Further, the X-axis direction (machining feed direction), the Y-axis direction (indexing feed direction), and the Z-axis direction (height direction) used in the following description are perpendicular to each other.

図1に示すように、レーザー加工装置2は、各構成要素を支持する基台4を備えている。基台4の上面には、水平移動機構(加工送り機構、割り出し送り機構)6が配置されている。水平移動機構6は、基台4の上面に固定されY軸方向に対して概ね平行な一対のY軸ガイドレール8を備えている。Y軸ガイドレール8には、Y軸移動テーブル10がスライド可能に取り付けられている。 As shown in FIG. 1, the laser processing apparatus 2 includes a base 4 that supports each component. A horizontal movement mechanism (machining feed mechanism, indexing feed mechanism) 6 is arranged on the upper surface of the base 4. The horizontal movement mechanism 6 includes a pair of Y-axis guide rails 8 fixed to the upper surface of the base 4 and substantially parallel to the Y-axis direction. A Y-axis moving table 10 is slidably attached to the Y-axis guide rail 8.

Y軸移動テーブル10の下面側には、ナット部(不図示)が設けられている。このY軸移動テーブル10のナット部には、Y軸ガイドレール8に対して概ね平行なY軸ボールネジ12が螺合されている。Y軸ボールネジ12の一端部には、Y軸パルスモータ14が連結されている。Y軸パルスモータ14でY軸ボールネジ12を回転させれば、Y軸移動テーブル10は、Y軸ガイドレール8に沿ってY軸方向に移動する。 A nut portion (not shown) is provided on the lower surface side of the Y-axis moving table 10. A Y-axis ball screw 12 substantially parallel to the Y-axis guide rail 8 is screwed into the nut portion of the Y-axis moving table 10. A Y-axis pulse motor 14 is connected to one end of the Y-axis ball screw 12. If the Y-axis ball screw 12 is rotated by the Y-axis pulse motor 14, the Y-axis moving table 10 moves in the Y-axis direction along the Y-axis guide rail 8.

Y軸移動テーブル10の上面には、X軸方向に対して概ね平行な一対のX軸ガイドレール16が設けられている。X軸ガイドレール16には、X軸移動テーブル18がスライド可能に取り付けられている。X軸移動テーブル18の下面側には、ナット部(不図示)が設けられている。 A pair of X-axis guide rails 16 substantially parallel to the X-axis direction are provided on the upper surface of the Y-axis moving table 10. An X-axis moving table 18 is slidably attached to the X-axis guide rail 16. A nut portion (not shown) is provided on the lower surface side of the X-axis moving table 18.

このX軸移動テーブル18のナット部には、X軸ガイドレール16に対して概ね平行なX軸ボールネジ20が螺合されている。X軸ボールネジ20の一端部には、X軸パルスモータ22が連結されている。X軸パルスモータ22でX軸ボールネジ20を回転させれば、X軸移動テーブル18は、X軸ガイドレール16に沿ってX軸方向に移動する。 An X-axis ball screw 20 substantially parallel to the X-axis guide rail 16 is screwed into the nut portion of the X-axis moving table 18. An X-axis pulse motor 22 is connected to one end of the X-axis ball screw 20. When the X-axis ball screw 20 is rotated by the X-axis pulse motor 22, the X-axis moving table 18 moves in the X-axis direction along the X-axis guide rail 16.

X軸移動テーブル18の上面側には、円柱状のテーブル基台24が配置されている。また、テーブル基台24の上部には、被加工物11(図2参照)の保持に使用されるチャックテーブル(保持テーブル)26が配置されている。テーブル基台24の下部には、モータ等の回転駆動源(不図示)が連結されている。 A columnar table base 24 is arranged on the upper surface side of the X-axis moving table 18. Further, a chuck table (holding table) 26 used for holding the workpiece 11 (see FIG. 2) is arranged on the upper part of the table base 24. A rotary drive source (not shown) such as a motor is connected to the lower part of the table base 24.

この回転駆動源から発生する力によって、チャックテーブル26は、Z軸方向に対して概ね平行な回転軸の周りに回転する。また、テーブル基台24及びチャックテーブル26は、上述した水平移動機構6によって、X軸方向及びY軸方向に移動する(加工送り、割り出し送り)。 The force generated from this rotation drive source causes the chuck table 26 to rotate around a rotation axis that is substantially parallel to the Z-axis direction. Further, the table base 24 and the chuck table 26 are moved in the X-axis direction and the Y-axis direction by the horizontal movement mechanism 6 described above (machining feed, index feed).

図2は、被加工物11等の構成例を示す斜視図である。本実施形態で用いられる被加工物11は、例えば、シリコン等の半導体材料でなる円盤状のウェーハである。図2に示すように、この被加工物11は、概ね平坦で互いに平行な上面11a及び下面11bを有している。 FIG. 2 is a perspective view showing a configuration example of the workpiece 11 and the like. The workpiece 11 used in this embodiment is, for example, a disk-shaped wafer made of a semiconductor material such as silicon. As shown in FIG. 2, the workpiece 11 has an upper surface 11a and a lower surface 11b that are substantially flat and parallel to each other.

被加工物11の下面11bには、被加工物11よりも径の大きい粘着テープ(ダイシングテープ)13を貼付する。また、粘着テープ13の外周部分には、環状のフレーム15を固定する。すなわち、被加工物11は、粘着テープ13を介してフレーム15に支持される。 An adhesive tape (dicing tape) 13 having a diameter larger than that of the workpiece 11 is attached to the lower surface 11b of the workpiece 11. Further, an annular frame 15 is fixed to the outer peripheral portion of the adhesive tape 13. That is, the workpiece 11 is supported by the frame 15 via the adhesive tape 13.

なお、本実施形態では、シリコン等の半導体材料でなる円盤状のウェーハを被加工物11としているが、被加工物11の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば、他の半導体、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる任意の形状の基板を被加工物11として用いることもできる。また、チャックテーブル26によって被加工物11を適切に保持できるようであれば、被加工物11の下面11bには、必ずしも粘着テープ13を貼付しなくて良い。 In the present embodiment, the disk-shaped wafer made of a semiconductor material such as silicon is used as the workpiece 11, but the material, shape, structure, size, etc. of the workpiece 11 are not limited. For example, a substrate of any shape made of other materials such as semiconductors, ceramics, resins, and metals can be used as the workpiece 11. Further, if the work piece 11 can be appropriately held by the chuck table 26, the adhesive tape 13 does not necessarily have to be attached to the lower surface 11b of the work piece 11.

チャックテーブル26の上面の一部は、例えば、多孔質材で構成されており、被加工物11を保持するための保持面26aになる。この保持面26aは、X軸方向及びY軸方向に対して概ね平行に形成されており、チャックテーブル26の内部に設けられた吸引路(不図示)等を介して吸引源(不図示)に接続されている。また、チャックテーブル26の周囲には、被加工物11を支持する環状のフレーム15を固定する4個のクランプ28が設けられている。 A part of the upper surface of the chuck table 26 is made of, for example, a porous material, and serves as a holding surface 26a for holding the workpiece 11. The holding surface 26a is formed substantially parallel to the X-axis direction and the Y-axis direction, and serves as a suction source (not shown) via a suction path (not shown) provided inside the chuck table 26. It is connected. Further, around the chuck table 26, four clamps 28 for fixing the annular frame 15 that supports the workpiece 11 are provided.

水平移動機構6のY軸方向の一方側の領域には、X軸方向に対して概ね垂直な側面を持つ柱状の支持構造30が設けられている。この支持構造30の側面には、鉛直移動機構(高さ調整機構)32が配置されている。鉛直移動機構32は、支持構造30の側面に固定されZ軸方向に対して概ね平行な一対のZ軸ガイドレール34を備えている。Z軸ガイドレール34には、Z軸移動テーブル36がスライド可能に取り付けられている。 A columnar support structure 30 having a side surface substantially perpendicular to the X-axis direction is provided in a region on one side of the horizontal movement mechanism 6 in the Y-axis direction. A vertical movement mechanism (height adjustment mechanism) 32 is arranged on the side surface of the support structure 30. The vertical movement mechanism 32 includes a pair of Z-axis guide rails 34 fixed to the side surface of the support structure 30 and substantially parallel to the Z-axis direction. A Z-axis moving table 36 is slidably attached to the Z-axis guide rail 34.

Z軸移動テーブル36の裏面側(Z軸ガイドレール34側)には、ナット部(不図示)が設けられている。このZ軸移動テーブル36のナット部には、Z軸ガイドレール34に対して概ね平行なZ軸ボールネジ(不図示)が螺合されている。Z軸ボールネジの一端部には、Z軸パルスモータ38が連結されている。Z軸パルスモータ38でZ軸ボールネジを回転させれば、Z軸移動テーブル36は、Z軸ガイドレール34に沿ってZ軸方向に移動する。 A nut portion (not shown) is provided on the back surface side (Z-axis guide rail 34 side) of the Z-axis moving table 36. A Z-axis ball screw (not shown) substantially parallel to the Z-axis guide rail 34 is screwed into the nut portion of the Z-axis moving table 36. A Z-axis pulse motor 38 is connected to one end of the Z-axis ball screw. When the Z-axis ball screw is rotated by the Z-axis pulse motor 38, the Z-axis moving table 36 moves in the Z-axis direction along the Z-axis guide rail 34.

Z軸移動テーブル36の表面側には、支持具40が固定されており、この支持具40には、レーザービーム照射ユニット42の一部が支持されている。レーザービーム照射ユニット42は、例えば、基台4に固定されたレーザー発振器(不図示)と、支持具40に支持された筒状のハウジング44と、ハウジング44のY軸方向の端部に設けられた照射ヘッド46と、を含む。 A support 40 is fixed to the surface side of the Z-axis moving table 36, and a part of the laser beam irradiation unit 42 is supported by the support 40. The laser beam irradiation unit 42 is provided, for example, at the laser oscillator (not shown) fixed to the base 4, the tubular housing 44 supported by the support 40, and the end portion of the housing 44 in the Y-axis direction. The irradiation head 46 and the like are included.

レーザー発振器は、例えば、レーザー発振に適したNd:YAG等のレーザー媒質を含んでおり、被加工物11に吸収される波長のレーザービームを生成してハウジング44側に放射する。ハウジング44は、レーザービーム照射ユニット42を構成する光学系の一部を収容しており、レーザー発振器から放射されたレーザービームを照射ヘッド46へと導く。なお、この光学系は、主に、ミラーやレンズ等の光学部品によって構成される。 The laser oscillator includes, for example, a laser medium such as Nd: YAG suitable for laser oscillation, and generates a laser beam having a wavelength absorbed by the workpiece 11 and radiates it to the housing 44 side. The housing 44 accommodates a part of the optical system constituting the laser beam irradiation unit 42, and guides the laser beam emitted from the laser oscillator to the irradiation head 46. This optical system is mainly composed of optical components such as mirrors and lenses.

照射ヘッド46には、レーザービーム照射ユニット42を構成する光学系の別の一部が設けられている。例えば、この照射ヘッド46は、ハウジング44から導かれたレーザービームの進路をミラー(不図示)等で下向きに変え、集光用のレンズ46a(図3(A)等参照)で所定の高さに集光する。 The irradiation head 46 is provided with another part of the optical system constituting the laser beam irradiation unit 42. For example, the irradiation head 46 changes the course of the laser beam guided from the housing 44 downward with a mirror (not shown) or the like, and has a predetermined height with a condensing lens 46a (see FIG. 3A or the like). Condenses on.

照射ヘッド46のX軸方向の一方側の領域には、レーザービーム照射ユニット42のハウジング44に固定された撮像ユニット48が配置されている。撮像ユニット48は、例えば、CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor)イメージセンサやCCD(Charge Coupled Device)イメージセンサ等を含み、チャックテーブル26によって保持された被加工物11の上面11a側を撮像する際に用いられる。 An imaging unit 48 fixed to the housing 44 of the laser beam irradiation unit 42 is arranged in a region on one side of the irradiation head 46 in the X-axis direction. The imaging unit 48 includes, for example, a CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) image sensor, a CCD (Charge Coupled Device) image sensor, and the like, and is used when imaging the upper surface 11a side of the workpiece 11 held by the chuck table 26. Be done.

基台4の上部は、各構成要素を収容できるカバー(不図示)によって覆われている。このカバーの側面には、ユーザーインターフェースとなるタッチパネル式のディスプレイ(入出力ユニット)50が配置されている。例えば、被加工物11を加工する際に適用される種々の条件は、このディスプレイ50を介してレーザー加工装置2に入力される。また、撮像ユニット48で生成された画像は、ディスプレイ50に表示される。 The upper part of the base 4 is covered with a cover (not shown) capable of accommodating each component. A touch panel type display (input / output unit) 50 serving as a user interface is arranged on the side surface of the cover. For example, various conditions applied when processing the workpiece 11 are input to the laser processing apparatus 2 via the display 50. Further, the image generated by the image pickup unit 48 is displayed on the display 50.

水平移動機構6、鉛直移動機構32、レーザービーム照射ユニット42、撮像ユニット48、ディスプレイ50等の構成要素は、それぞれ、制御部(制御ユニット)52に接続されている。制御部52は、被加工物11の加工に必要な一連の工程に合わせて、上述した各構成要素を制御する。 The components such as the horizontal movement mechanism 6, the vertical movement mechanism 32, the laser beam irradiation unit 42, the image pickup unit 48, and the display 50 are each connected to the control unit (control unit) 52. The control unit 52 controls each of the above-mentioned components according to a series of steps required for processing the workpiece 11.

制御部52は、代表的には、CPU(Central Processing Unit)等の処理装置や、フラッシュメモリ等の記憶装置を含むコンピュータによって構成される。記憶装置に記憶されたソフトウェアに従い処理装置等を動作させることによって、制御部52の機能が実現される。 The control unit 52 is typically composed of a processing device such as a CPU (Central Processing Unit) and a computer including a storage device such as a flash memory. The function of the control unit 52 is realized by operating the processing device or the like according to the software stored in the storage device.

レーザー加工装置2を用いて被加工物11を加工する際には、まず、下面11bに貼付された粘着テープ13を介して被加工物11をチャックテーブル26に載せ、吸引源の負圧を保持面26aに作用させる。これにより、被加工物11はチャックテーブル26に保持され、その上面11aが露出する。なお、フレーム15は、4個のクランプ28によって固定される。 When processing the workpiece 11 using the laser machining apparatus 2, first, the workpiece 11 is placed on the chuck table 26 via the adhesive tape 13 attached to the lower surface 11b, and the negative pressure of the suction source is maintained. It acts on the surface 26a. As a result, the workpiece 11 is held by the chuck table 26, and the upper surface 11a thereof is exposed. The frame 15 is fixed by four clamps 28.

被加工物11をチャックテーブル26で保持した後には、図2に示すように、水平移動機構6でチャックテーブル26をX軸方向に移動させながら、レーザービーム照射ユニット42の照射ヘッド46から下方にレーザービーム21を照射する。照射ヘッド46のZ軸方向の位置(高さ)は、例えば、被加工物11の上面11a等にレーザービーム21が集光するように調整される。 After the workpiece 11 is held by the chuck table 26, as shown in FIG. 2, the chuck table 26 is moved downward in the X-axis direction by the horizontal movement mechanism 6 from the irradiation head 46 of the laser beam irradiation unit 42. Irradiate the laser beam 21. The position (height) of the irradiation head 46 in the Z-axis direction is adjusted so that the laser beam 21 concentrates on, for example, the upper surface 11a of the workpiece 11.

これにより、チャックテーブル26の移動の経路に沿って被加工物11にレーザービーム21を照射し、このレーザービーム21によって被加工物11の上面11a側を加工できる(アブレーション加工)。本実施形態では、被加工物11と照射ヘッド46とがX軸方向に沿って相対的に移動するので、図2に示すように、X軸方向に沿う直線状の溝11cが被加工物11の上面11a側に形成される。 As a result, the work piece 11 is irradiated with the laser beam 21 along the moving path of the chuck table 26, and the upper surface 11a side of the work piece 11 can be machined by the laser beam 21 (ablation processing). In the present embodiment, the workpiece 11 and the irradiation head 46 move relatively along the X-axis direction, so that the linear groove 11c along the X-axis direction is the workpiece 11 as shown in FIG. It is formed on the upper surface 11a side of the above.

上述のように、撮像ユニット48は、レーザービーム照射ユニット42のハウジング44に固定されており、照射ヘッド46に対してX軸方向の一方側の領域に配置される。よって、例えば、被加工物11に溝11cを形成した後、チャックテーブル26をX軸方向に移動させれば、この溝11cを撮像ユニット48によって撮像できる。 As described above, the imaging unit 48 is fixed to the housing 44 of the laser beam irradiation unit 42, and is arranged in a region on one side in the X-axis direction with respect to the irradiation head 46. Therefore, for example, if the groove 11c is formed in the workpiece 11 and then the chuck table 26 is moved in the X-axis direction, the groove 11c can be imaged by the image pickup unit 48.

次に、本実施形態の傾き確認方法について詳述する。図3(A)は、被加工物11の上面11aにレーザービーム21が集光するように照射ヘッド46の高さを調整した状態で、被加工物11にレーザービーム21が照射される様子を示す側面図である。図3(B)は、図3(A)の条件で被加工物11に形成される溝11dを撮像ユニット48で撮像して得られる画像31aの例を示す図である。 Next, the method of confirming the inclination of the present embodiment will be described in detail. FIG. 3A shows a state in which the laser beam 21 is irradiated to the workpiece 11 with the height of the irradiation head 46 adjusted so that the laser beam 21 concentrates on the upper surface 11a of the workpiece 11. It is a side view which shows. FIG. 3B is a diagram showing an example of an image 31a obtained by imaging a groove 11d formed in the workpiece 11 under the condition of FIG. 3A with the image pickup unit 48.

本実施形態のレーザービーム照射ユニット42が備える光学系は、例えば、被加工物11の上面11aにレーザービーム21を集光させた際に、このレーザービーム21がY軸方向で基準となる所定の位置17に集光するように調整されている。そのため、レーザービーム21の集光点23が被加工物11の上面11aに位置付けられる図3(A)の条件では、この基準となる位置17に溝11dが形成される。なお、図3(B)の画像31a内には、図3(A)の位置17に対応する位置17aが一点鎖線で示されている。 In the optical system included in the laser beam irradiation unit 42 of the present embodiment, for example, when the laser beam 21 is focused on the upper surface 11a of the workpiece 11, the laser beam 21 serves as a reference in the Y-axis direction. It is adjusted to focus on position 17. Therefore, under the condition of FIG. 3A in which the condensing point 23 of the laser beam 21 is positioned on the upper surface 11a of the workpiece 11, the groove 11d is formed at the reference position 17. In the image 31a of FIG. 3 (B), the position 17a corresponding to the position 17 of FIG. 3 (A) is indicated by a alternate long and short dash line.

本実施形態の傾き確認方法では、まず、被加工物11の上面11aを基準とする第1高さの位置にレーザービーム21を集光させて、この被加工物11に第1溝を形成する(第1加工ステップ)。図4(A)は、被加工物11の上面11aを基準とする第1高さh1の位置にレーザービーム21が集光するように照射ヘッド46の高さを調整した状態で、被加工物11にレーザービーム21が照射される様子を示す側面図である。 In the inclination confirmation method of the present embodiment, first, the laser beam 21 is focused at a position of the first height with respect to the upper surface 11a of the workpiece 11, and the first groove is formed in the workpiece 11. (First processing step). FIG. 4A shows a work piece in a state where the height of the irradiation head 46 is adjusted so that the laser beam 21 concentrates on the position of the first height h1 with respect to the upper surface 11a of the work piece 11. 11 is a side view showing how the laser beam 21 is irradiated to 11.

具体的には、図4(A)に示すように、被加工物11の上面11aを基準とする第1高さh1の位置にレーザービーム21が集光するように、鉛直移動機構32で照射ヘッド46の高さを調整する。そして、この状態で、照射ヘッド46から下方にレーザービーム21を照射しながら、被加工物11を保持しているチャックテーブル26を水平移動機構6でX軸方向に移動させる。 Specifically, as shown in FIG. 4A, the vertical movement mechanism 32 irradiates the work piece 11 so that the laser beam 21 concentrates at the position of the first height h1 with respect to the upper surface 11a. Adjust the height of the head 46. Then, in this state, the chuck table 26 holding the workpiece 11 is moved in the X-axis direction by the horizontal movement mechanism 6 while irradiating the laser beam 21 downward from the irradiation head 46.

つまり、被加工物11の上面11aを基準とする第1高さh1の位置にレーザービーム21を集光させながら、被加工物11と照射ヘッド46とを被加工物11の上面11aに沿う方向に相対的に移動させる。その結果、被加工物11に照射されるレーザービーム21によって、X軸方向に沿う直線状の第1溝11e(図4(B)参照)が被加工物11の上面11a側に形成される。 That is, the direction in which the workpiece 11 and the irradiation head 46 are aligned with the upper surface 11a of the workpiece 11 while condensing the laser beam 21 at the position of the first height h1 with respect to the upper surface 11a of the workpiece 11. Move relative to. As a result, the laser beam 21 that irradiates the workpiece 11 forms a linear first groove 11e (see FIG. 4B) along the X-axis direction on the upper surface 11a side of the workpiece 11.

本実施形態では、被加工物11の上面11aより下方にレーザービーム21が集光するように、被加工物11の上面11aを基準とする第1高さh1を設定している。つまり、本実施形態の第1高さh1は、負の値になる。ただし、第1高さh1の値に特段の制限はない。例えば、第1高さh1は、正の値又はゼロとなるように設定されても良い。 In the present embodiment, the first height h1 with reference to the upper surface 11a of the workpiece 11 is set so that the laser beam 21 concentrates below the upper surface 11a of the workpiece 11. That is, the first height h1 of this embodiment has a negative value. However, there is no particular limitation on the value of the first height h1. For example, the first height h1 may be set to a positive value or zero.

被加工物11に第1溝11eを形成した後には、第1溝11eを上方から撮像して画像を得る(第1画像取得ステップ)。図4(B)は、第1溝11eを撮像ユニット48で撮像して得られる画像(第1画像)31bの例を示す図である。なお、図4(B)の画像31b内には、図4(A)の位置17に対応する位置17bが一点鎖線で示されている。 After the first groove 11e is formed in the workpiece 11, the first groove 11e is imaged from above to obtain an image (first image acquisition step). FIG. 4B is a diagram showing an example of an image (first image) 31b obtained by imaging the first groove 11e with the imaging unit 48. In the image 31b of FIG. 4 (B), the position 17b corresponding to the position 17 of FIG. 4 (A) is indicated by a alternate long and short dash line.

具体的には、例えば、被加工物11に第1溝11eを形成した後に、チャックテーブル26をX軸方向に移動させて、撮像ユニット48の下方に第1溝11eを位置付ける。そして、この撮像ユニット48で下方の第1溝11eを撮像する。撮像ユニット48によって得られた画像31bは、例えば、制御部52に記憶され、必要に応じてディスプレイ50に表示される。 Specifically, for example, after forming the first groove 11e in the workpiece 11, the chuck table 26 is moved in the X-axis direction to position the first groove 11e below the image pickup unit 48. Then, the image pickup unit 48 images the lower first groove 11e. The image 31b obtained by the image pickup unit 48 is stored in, for example, the control unit 52, and is displayed on the display 50 as needed.

上述のように、本実施形態のレーザービーム照射ユニット42の光学系は、被加工物11の上面11aにレーザービーム21を集光させた際に、このレーザービーム21がY軸方向で基準となる所定の位置17に集光するように調整されている。そのため、被加工物11に照射されるレーザービーム21の中心線21aが傾いた状態で、このレーザービーム21の集光点23を被加工物11の上面11aより下方に位置付けると、図4(A)に示すように、上面11aと中心線21aとの交点は、基準となる位置17からずれる。 As described above, in the optical system of the laser beam irradiation unit 42 of the present embodiment, when the laser beam 21 is focused on the upper surface 11a of the workpiece 11, the laser beam 21 serves as a reference in the Y-axis direction. It is adjusted to focus on a predetermined position 17. Therefore, when the center line 21a of the laser beam 21 irradiated to the workpiece 11 is tilted and the focusing point 23 of the laser beam 21 is positioned below the upper surface 11a of the workpiece 11, FIG. 4 (A) ), The intersection of the upper surface 11a and the center line 21a deviates from the reference position 17.

なお、被加工物11に照射されるレーザービーム21の中心線21aが傾く理由は、様々である。本実施形態では、レンズ46aの中心軸(光軸)46bに対して非対称なレーザービーム21がレンズ46aに入射することで被加工物11に照射されるレーザービーム21の中心線21aが傾いた場合を例示している。その他にも、中心軸46bに対して非平行なレーザービーム21がレンズ46aに入射する場合等には、被加工物11に照射されるレーザービーム21の中心線21aが傾く。 There are various reasons why the center line 21a of the laser beam 21 irradiated to the workpiece 11 is tilted. In the present embodiment, when the laser beam 21 asymmetrical with respect to the central axis (optical axis) 46b of the lens 46a is incident on the lens 46a, the center line 21a of the laser beam 21 irradiated to the workpiece 11 is tilted. Is illustrated. In addition, when the laser beam 21 that is non-parallel to the central axis 46b is incident on the lens 46a, the center line 21a of the laser beam 21 that irradiates the workpiece 11 is tilted.

第1溝11eの幅方向(Y軸方向)の中央の位置は、上面11aと中心線21aとの交点に概ね一致するので、この第1溝11eの幅方向の中央の位置も、基準となる位置17からずれることになる。よって、第1溝11eを撮像ユニット48で上方から撮像すると、図4(B)に示すような画像31bが得られる。 Since the central position of the first groove 11e in the width direction (Y-axis direction) roughly coincides with the intersection of the upper surface 11a and the center line 21a, the central position of the first groove 11e in the width direction is also a reference. It will deviate from the position 17. Therefore, when the first groove 11e is imaged from above by the image pickup unit 48, the image 31b as shown in FIG. 4B can be obtained.

被加工物11に照射されるレーザービーム21の中心線21aは、被加工物11に対するレーザービーム21の入射方向21bに対して概ね平行なので、入射方向21bの傾きは、中心線21aの傾きに概ね等しくなる。なお、画像31bのx軸方向及びy軸方向は、それぞれ、レーザー加工装置2のX軸方向及びY軸方向に対応している。 Since the center line 21a of the laser beam 21 irradiated to the workpiece 11 is substantially parallel to the incident direction 21b of the laser beam 21 with respect to the workpiece 11, the inclination of the incident direction 21b is approximately equal to the inclination of the center line 21a. Become equal. The x-axis direction and the y-axis direction of the image 31b correspond to the X-axis direction and the Y-axis direction of the laser processing apparatus 2, respectively.

画像31bを得た後には、第1高さh1とは異なる第2高さの位置にレーザービーム21を集光させて、この被加工物11に第2溝を形成する(第2加工ステップ)。図5(A)は、被加工物11の上面11aを基準とする第2高さh2の位置にレーザービーム21が集光するように照射ヘッド46の高さを調整した状態で、被加工物11にレーザービーム21が照射される様子を示す側面図である。 After obtaining the image 31b, the laser beam 21 is focused at a position of a second height different from the first height h1 to form a second groove in the workpiece 11 (second processing step). .. FIG. 5A shows a work piece in a state where the height of the irradiation head 46 is adjusted so that the laser beam 21 concentrates on the position of the second height h2 with respect to the upper surface 11a of the work piece 11. 11 is a side view showing how the laser beam 21 is irradiated to 11.

具体的には、水平移動機構6でチャックテーブル26をY軸方向に移動させて、被加工物11の第1溝11eが形成されていない領域を照射ヘッド46の下方に位置付ける。ただし、第1溝11eと重ならない位置に第2溝を形成できるようであれば、この動作は省略されても良い。 Specifically, the chuck table 26 is moved in the Y-axis direction by the horizontal movement mechanism 6, and the region where the first groove 11e of the workpiece 11 is not formed is positioned below the irradiation head 46. However, this operation may be omitted as long as the second groove can be formed at a position that does not overlap with the first groove 11e.

また、図5(A)に示すように、被加工物11の上面11aを基準とする第2高さh2の位置にレーザービーム21が集光するように、鉛直移動機構32で照射ヘッド46の高さを調整する。そして、この状態で、照射ヘッド46から下方にレーザービーム21を照射しながら、被加工物11を保持しているチャックテーブル26を水平移動機構6でX軸方向に移動させる。 Further, as shown in FIG. 5A, the vertical movement mechanism 32 of the irradiation head 46 so that the laser beam 21 concentrates at the position of the second height h2 with respect to the upper surface 11a of the workpiece 11. Adjust the height. Then, in this state, the chuck table 26 holding the workpiece 11 is moved in the X-axis direction by the horizontal movement mechanism 6 while irradiating the laser beam 21 downward from the irradiation head 46.

つまり、被加工物11の上面11aを基準とする第1高さh1とは異なる第2高さh2の位置にレーザービーム21を集光させながら、被加工物11と照射ヘッド46とを被加工物11の上面11aに沿う方向に相対的に移動させる。その結果、被加工物11に照射されるレーザービーム21によって、X軸方向に沿う直線状の第2溝11f(図5(B)参照)が被加工物11の上面11a側に形成される。 That is, the workpiece 11 and the irradiation head 46 are to be processed while condensing the laser beam 21 at a position of the second height h2 different from the first height h1 with respect to the upper surface 11a of the workpiece 11. It is relatively moved in the direction along the upper surface 11a of the object 11. As a result, the laser beam 21 that irradiates the workpiece 11 forms a linear second groove 11f (see FIG. 5B) along the X-axis direction on the upper surface 11a side of the workpiece 11.

本実施形態では、被加工物11の上面11aより上方にレーザービーム21が集光するように、被加工物11の上面11aを基準とする第2高さh2を設定している。つまり、本実施形態の第2高さh2は、正の値になる。ただし、第1高さh1の値と第2高さh2の値とが異なる限りは、第2高さh2の値に特段の制限はない。例えば、第2高さh2は、負の値又はゼロとなるように設定されても良い。 In the present embodiment, the second height h2 with reference to the upper surface 11a of the workpiece 11 is set so that the laser beam 21 concentrates above the upper surface 11a of the workpiece 11. That is, the second height h2 of this embodiment has a positive value. However, as long as the value of the first height h1 and the value of the second height h2 are different, the value of the second height h2 is not particularly limited. For example, the second height h2 may be set to a negative value or zero.

被加工物11に第2溝11fを形成した後には、第2溝11fを上方から撮像して画像を得る(第2画像取得ステップ)。図5(B)は、第2溝11fを撮像ユニット48で撮像して得られる画像(第2画像)31cの例を示す図である。なお、図5(B)の画像31c内には、図5(A)の位置17に対応する位置17cが一点鎖線で示されている。 After the second groove 11f is formed in the workpiece 11, the second groove 11f is imaged from above to obtain an image (second image acquisition step). FIG. 5B is a diagram showing an example of an image (second image) 31c obtained by imaging the second groove 11f with the imaging unit 48. In the image 31c of FIG. 5 (B), the position 17c corresponding to the position 17 of FIG. 5 (A) is indicated by a alternate long and short dash line.

具体的には、例えば、被加工物11に第2溝11fを形成した後に、チャックテーブル26をX軸方向に移動させて、撮像ユニット48の下方に第2溝11fを位置付ける。そして、この撮像ユニット48で下方の第2溝11fを撮像する。撮像ユニット48によって得られた画像31cは、例えば、制御部52に記憶され、必要に応じてディスプレイ50に表示される。 Specifically, for example, after forming the second groove 11f in the workpiece 11, the chuck table 26 is moved in the X-axis direction to position the second groove 11f below the image pickup unit 48. Then, the image pickup unit 48 images the lower second groove 11f. The image 31c obtained by the image pickup unit 48 is stored in, for example, the control unit 52, and is displayed on the display 50 as needed.

上述のように、本実施形態のレーザービーム照射ユニット42の光学系は、被加工物11の上面11aにレーザービーム21を集光させた際に、このレーザービーム21がY軸方向で基準となる所定の位置17に集光するように調整されている。そのため、被加工物11に照射されるレーザービーム21の中心線21aが傾いた状態で、このレーザービーム21の集光点23を被加工物11の上面11aより上方に位置付けると、図5(A)に示すように、上面11aと中心線21aとの交点は、基準となる位置17からずれる。 As described above, in the optical system of the laser beam irradiation unit 42 of the present embodiment, when the laser beam 21 is focused on the upper surface 11a of the workpiece 11, the laser beam 21 serves as a reference in the Y-axis direction. It is adjusted to focus on a predetermined position 17. Therefore, when the center line 21a of the laser beam 21 irradiated to the workpiece 11 is tilted and the focusing point 23 of the laser beam 21 is positioned above the upper surface 11a of the workpiece 11, FIG. 5 (A) ), The intersection of the upper surface 11a and the center line 21a deviates from the reference position 17.

第2溝11fの幅方向(Y軸方向)の中央の位置は、上面11aと中心線21aとの交点に概ね一致するので、この第2溝11fの幅方向の中央の位置も、基準となる位置17からずれることになる。よって、第2溝11fを撮像ユニット48で上方から撮像すると、図5(B)に示すような画像31cが得られる。 Since the central position of the second groove 11f in the width direction (Y-axis direction) roughly coincides with the intersection of the upper surface 11a and the center line 21a, the central position of the second groove 11f in the width direction is also a reference. It will deviate from the position 17. Therefore, when the second groove 11f is imaged from above by the image pickup unit 48, the image 31c as shown in FIG. 5B can be obtained.

被加工物11に照射されるレーザービーム21の中心線21aは、被加工物11に対するレーザービーム21の入射方向21bに対して概ね平行なので、入射方向21bの傾きは、中心線21aの傾きに概ね等しくなる。なお、画像31cのx軸方向及びy軸方向は、それぞれ、レーザー加工装置2のX軸方向及びY軸方向に対応している。 Since the center line 21a of the laser beam 21 irradiated to the workpiece 11 is substantially parallel to the incident direction 21b of the laser beam 21 with respect to the workpiece 11, the inclination of the incident direction 21b is approximately equal to the inclination of the center line 21a. Become equal. The x-axis direction and the y-axis direction of the image 31c correspond to the X-axis direction and the Y-axis direction of the laser processing apparatus 2, respectively.

第1溝11eを撮像して画像31bを得た後には、この画像31bに基づき、画像31b内の基準となる位置17bと第1溝11eとの距離に相当する第1ずれ量を算出する(第1ずれ量算出ステップ)。図6(A)は、第1ずれ量y1と画像31bとの関係を模式的に示す図である。 After the first groove 11e is imaged to obtain the image 31b, the first deviation amount corresponding to the distance between the reference position 17b in the image 31b and the first groove 11e is calculated based on the image 31b ( First deviation amount calculation step). FIG. 6A is a diagram schematically showing the relationship between the first deviation amount y1 and the image 31b.

具体的には、例えば、制御部52が画像31bに対してエッジ検出等の処理を行い、第1溝11eが有する2つのエッジのy座標の値をそれぞれ算出する。そして、第1溝11eの2つのエッジのy座標の値から、この第1溝11eの幅方向(y軸方向)の中央の位置33bのy座標の値を算出する。算出された位置33bのy座標の値は、制御部52に記憶される。 Specifically, for example, the control unit 52 performs processing such as edge detection on the image 31b, and calculates the y-coordinate values of the two edges of the first groove 11e, respectively. Then, from the y-coordinate values of the two edges of the first groove 11e, the y-coordinate value of the central position 33b in the width direction (y-axis direction) of the first groove 11e is calculated. The calculated y-coordinate value of the position 33b is stored in the control unit 52.

その後、制御部52は、位置33bのy座標の値と、画像31b内の基準となる位置17bのy座標の値と、から、第1ずれ量y1を算出する。つまり、本実施形態では、位置33bのy座標の値と、位置17bのy座標の値と、の差を第1ずれ量y1としている。算出された第1ずれ量y1の値は、制御部52に記憶される。 After that, the control unit 52 calculates the first deviation amount y1 from the y-coordinate value of the position 33b and the y-coordinate value of the reference position 17b in the image 31b. That is, in the present embodiment, the difference between the y-coordinate value of the position 33b and the y-coordinate value of the position 17b is set as the first deviation amount y1. The calculated value of the first deviation amount y1 is stored in the control unit 52.

同様に、第2溝11fを撮像して画像31cを得た後には、この画像31cに基づき、画像31c内の基準となる位置17cと第2溝11fとの距離に相当する第2ずれ量を算出する(第2ずれ量算出ステップ)。図6(B)は、第2ずれ量y2と画像31cとの関係を模式的に示す図である。 Similarly, after the second groove 11f is imaged to obtain the image 31c, the second deviation amount corresponding to the distance between the reference position 17c in the image 31c and the second groove 11f is determined based on the image 31c. Calculate (second deviation amount calculation step). FIG. 6B is a diagram schematically showing the relationship between the second deviation amount y2 and the image 31c.

具体的には、例えば、制御部52が画像31cに対してエッジ検出等の処理を行い、第2溝11fが有する2つのエッジのy座標の値をそれぞれ算出する。そして、第2溝11fの2つのエッジのy座標の値から、この第2溝11fの幅方向(y軸方向)の中央の位置33cのy座標の値を算出する。算出された位置33cのy座標の値は、制御部52に記憶される。 Specifically, for example, the control unit 52 performs processing such as edge detection on the image 31c, and calculates the y-coordinate values of the two edges of the second groove 11f, respectively. Then, from the y-coordinate values of the two edges of the second groove 11f, the y-coordinate value of the central position 33c in the width direction (y-axis direction) of the second groove 11f is calculated. The calculated y-coordinate value of the position 33c is stored in the control unit 52.

その後、制御部52は、位置33cのy座標の値と、画像31c内の基準となる位置17cのy座標の値と、から、第2ずれ量y2を算出する。つまり、本実施形態では、位置33cのy座標の値と、位置17cのy座標の値と、の差を第2ずれ量y2としている。算出された第2ずれ量y2の値は、制御部52に記憶される。 After that, the control unit 52 calculates the second deviation amount y2 from the y-coordinate value of the position 33c and the y-coordinate value of the reference position 17c in the image 31c. That is, in the present embodiment, the difference between the y-coordinate value at the position 33c and the y-coordinate value at the position 17c is defined as the second deviation amount y2. The calculated value of the second deviation amount y2 is stored in the control unit 52.

なお、上述のように、照射ヘッド46の位置と撮像ユニット48の位置との関係は一定であり、変わることがない。つまり、上述のような手順で得られる画像31b内の位置17bのy座標の値と、画像31c内の位置17cのy座標の値と、は、実質的に等しくなる。 As described above, the relationship between the position of the irradiation head 46 and the position of the imaging unit 48 is constant and does not change. That is, the y-coordinate value of the position 17b in the image 31b obtained by the procedure as described above and the y-coordinate value of the position 17c in the image 31c are substantially equal.

したがって、位置17bのy座標の値と、位置17cのy座標の値と、を取得するために、制御部52が何らかの処理を行う必要はない。また、本実施形態では、撮像ユニット48によって取得される画像内に基準となる位置を表示しているが、画像内には、必ずしも基準となる位置を表示しなくて良い。 Therefore, it is not necessary for the control unit 52 to perform any processing in order to acquire the y-coordinate value of the position 17b and the y-coordinate value of the position 17c. Further, in the present embodiment, the reference position is displayed in the image acquired by the image pickup unit 48, but the reference position does not necessarily have to be displayed in the image.

第1ずれ量y1と第2ずれ量y2とを算出した後には、この第1ずれ量y1と第2ずれ量y2とに基づいて、被加工物11の上面11aに対する入射方向21bの傾きを確認する(傾き確認ステップ)。上述のように、被加工物11に対する照射ヘッド46の高さが異なる条件で、この被加工物11に溝を形成すると、入射方向21bが傾いている場合(つまり、中心線21aが傾いている場合)には、各溝の幅方向(Y軸方向)の中央の位置がずれることになる。 After calculating the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2, the inclination of the incident direction 21b with respect to the upper surface 11a of the workpiece 11 is confirmed based on the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2. (Tilt confirmation step). As described above, when the groove is formed in the workpiece 11 under the condition that the height of the irradiation head 46 with respect to the workpiece 11 is different, the incident direction 21b is tilted (that is, the center line 21a is tilted). In the case), the center position in the width direction (Y-axis direction) of each groove will be displaced.

より具体的には、入射方向21bの傾きが大きいと、第1ずれ量y1と第2ずれ量y2との差も大きくなり、入射方向21bの傾きが小さいと、第1ずれ量y1と第2ずれ量y2との差も小さくなる。つまり、第1ずれ量y1と第2ずれ量y2との差は、レーザービーム21の入射方向21bの傾きに応じた値をとる。そのため、例えば、第1ずれ量y1と第2ずれ量y2との差に基づいて、入射方向21bの上面11aに対する傾きを確認できる。 More specifically, when the inclination of the incident direction 21b is large, the difference between the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2 is also large, and when the inclination of the incident direction 21b is small, the first deviation amount y1 and the second deviation amount y1 and the second. The difference from the deviation amount y2 is also small. That is, the difference between the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2 takes a value corresponding to the inclination of the incident direction 21b of the laser beam 21. Therefore, for example, the inclination of the incident direction 21b with respect to the upper surface 11a can be confirmed based on the difference between the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2.

この入射方向21bの傾きの確認は、例えば、オペレータによって行われる。もちろん、制御部52の演算処理等によって入射方向21bの傾きが確認されても良い。また、具体的な確認の方法にも特段の制限はない。例えば、第1ずれ量y1と第2ずれ量y2とに基づいて入射方向21bの傾きの角度を算出することもできる。 The confirmation of the inclination of the incident direction 21b is performed by, for example, an operator. Of course, the inclination of the incident direction 21b may be confirmed by arithmetic processing of the control unit 52 or the like. In addition, there are no particular restrictions on the specific confirmation method. For example, the angle of inclination in the incident direction 21b can be calculated based on the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2.

以上のように、本実施形態にかかる傾き確認方法では、第1高さh1の位置にレーザービーム21を集光させて被加工物11に第1溝11eを形成し、この第1溝11eを上方から撮像して得られる画像(第1画像)31bに基づいて、画像31b内の基準となる位置17bと第1溝11eの幅方向の中央の位置33bとの距離に相当する第1ずれ量y1を算出する。 As described above, in the inclination confirmation method according to the present embodiment, the laser beam 21 is focused at the position of the first height h1 to form the first groove 11e in the workpiece 11, and the first groove 11e is formed. Based on the image (first image) 31b obtained by imaging from above, the first deviation amount corresponding to the distance between the reference position 17b in the image 31b and the central position 33b in the width direction of the first groove 11e. Calculate y1.

同様に、第2高さh2の位置にレーザービーム21を集光させて被加工物11に第2溝11fを形成し、この第2溝11fを上方から撮像して得られる画像(第2画像)31cに基づいて、画像31c内の基準となる位置17cと第2溝11fの幅方向の中央の位置33cとの距離に相当する第2ずれ量y2を算出する。 Similarly, an image obtained by condensing the laser beam 21 at the position of the second height h2 to form the second groove 11f in the workpiece 11 and imaging the second groove 11f from above (second image). ) 31c, the second deviation amount y2 corresponding to the distance between the reference position 17c in the image 31c and the central position 33c in the width direction of the second groove 11f is calculated.

第1溝11eと第2溝11fとは、それぞれ被加工物11の上面11aのレーザービーム21が照射された位置に形成されるので、第1ずれ量y1は、被加工物11の上面11aの所定の位置17からの第1溝11eのずれを表し、第2ずれ量y2は、被加工物11の上面11aの所定の位置17からの第2溝11fのずれを表すことになる。よって、第1ずれ量y1と第2ずれ量y2とに基づいて、レーザービーム21の入射方向21bの被加工物11に対する傾きを精度良く確認できる。 Since the first groove 11e and the second groove 11f are formed at positions where the laser beam 21 on the upper surface 11a of the workpiece 11 is irradiated, the first deviation amount y1 is the upper surface 11a of the workpiece 11. The deviation of the first groove 11e from the predetermined position 17 is represented, and the second deviation amount y2 represents the deviation of the second groove 11f from the predetermined position 17 of the upper surface 11a of the workpiece 11. Therefore, the inclination of the laser beam 21 with respect to the workpiece 11 in the incident direction 21b can be accurately confirmed based on the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2.

なお、本発明は、上述した実施形態の記載に制限されず種々変更して実施可能である。例えば、上述した実施形態の手順でレーザービーム21の入射方向21bの傾きを確認した後には、レーザービーム照射ユニット42の照射ヘッド46等(光学系)を調整する必要があるか否かを更に判定しても良い(判定ステップ)。 The present invention is not limited to the description of the above-described embodiment, and can be implemented with various modifications. For example, after confirming the inclination of the incident direction 21b of the laser beam 21 by the procedure of the above-described embodiment, it is further determined whether or not it is necessary to adjust the irradiation head 46 or the like (optical system) of the laser beam irradiation unit 42. May be done (judgment step).

この場合には、例えば、入射方向21bの傾きに相当する第1ずれ量y1と第2ずれ量y2との差が許容される範囲内であれば、照射ヘッド46等を調整する必要がないと判定する。また、第1ずれ量y1と第2ずれ量y2との差が許容される範囲外であれば、照射ヘッド46等を調整する必要があると判定する。許容される範囲は、例えば、実際の長さに換算して、−5μm以上+5μm以下、好ましくは、−3μm以上+3μm以下である。 In this case, for example, if the difference between the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2 corresponding to the inclination of the incident direction 21b is within an allowable range, it is not necessary to adjust the irradiation head 46 or the like. judge. Further, if the difference between the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2 is out of the allowable range, it is determined that the irradiation head 46 or the like needs to be adjusted. The permissible range is, for example, −5 μm or more and + 5 μm or less, preferably -3 μm or more and + 3 μm or less in terms of the actual length.

すなわち、確認された入射方向21bの傾きが許容される範囲内であれば、照射ヘッド46等を調整する必要がないと判定し、確認された入射方向21bの傾きが許容される範囲外であれば、照射ヘッド46等を調整する必要があると判定することになる。なお、この判定は、制御部52によって行われても良いし、オペレータによって行われても良い。 That is, if the confirmed inclination of the incident direction 21b is within the allowable range, it is determined that it is not necessary to adjust the irradiation head 46 or the like, and the confirmed inclination of the incident direction 21b is outside the allowable range. For example, it is determined that the irradiation head 46 and the like need to be adjusted. It should be noted that this determination may be made by the control unit 52 or by the operator.

また、上述した実施形態では、図4(A)及び図5(A)に示すように、YZ平面内での入射方向21bの傾きを確認しているが、同様の手順でXZ平面内での入射方向21bの傾きを確認しても良い。具体的には、上述した実施形態のX軸方向(y軸方向)とY軸方向(y軸方向)との関係を入れ替えることで、XZ平面内での入射方向21bの傾きを確認できる。 Further, in the above-described embodiment, as shown in FIGS. 4 (A) and 5 (A), the inclination of the incident direction 21b in the YZ plane is confirmed, but the same procedure is used to confirm the inclination in the XZ plane. You may check the inclination of the incident direction 21b. Specifically, by exchanging the relationship between the X-axis direction (y-axis direction) and the Y-axis direction (y-axis direction) of the above-described embodiment, the inclination of the incident direction 21b in the XZ plane can be confirmed.

また、上述した実施形態では、被加工物11に対して第1溝11eを形成した後に画像31bを取得し、また、被加工物11に対して第2溝11fを形成した後に画像31cを取得しているが、この手順は、矛盾を生じない範囲で任意に変更できる。例えば、被加工物11に対して第1溝11e及び第1溝11eを形成した後に、画像31b及び画像31cを取得しても良い。同様に、その他の手順も矛盾を生じない範囲で任意に変更できる。 Further, in the above-described embodiment, the image 31b is acquired after the first groove 11e is formed on the workpiece 11, and the image 31c is acquired after the second groove 11f is formed on the workpiece 11. However, this procedure can be changed arbitrarily as long as there is no contradiction. For example, the image 31b and the image 31c may be acquired after the first groove 11e and the first groove 11e are formed on the workpiece 11. Similarly, other procedures can be changed arbitrarily without causing inconsistency.

また、上述した実施形態では、異なる条件で形成される2つの溝に対応する2つのずれ量に基づいて入射方向21bの傾きを確認しているが、異なる条件で形成される3つ以上の溝に対応する3つ以上のずれ量を算出し、これら3つ以上のずれ量に基づいて入射方向21bの傾きを確認しても良い。この場合には、入射方向21bの傾きをより高い精度で確認できるようになる。 Further, in the above-described embodiment, the inclination of the incident direction 21b is confirmed based on the two deviation amounts corresponding to the two grooves formed under different conditions, but three or more grooves formed under different conditions. You may calculate the amount of deviation corresponding to 3 or more and confirm the inclination of the incident direction 21b based on the amount of deviation of 3 or more. In this case, the inclination of the incident direction 21b can be confirmed with higher accuracy.

また、上述した実施形態では、各溝の幅方向(y軸方向)の中央の位置のy座標の値に基づいてずれ量を算出しているが、このずれ量は、基準となる位置と各溝との距離に相当するものであれば良い。例えば、異なる条件で形成される複数の溝の幅に大きな違いがない場合には、各溝のエッジのy座標の値に基づいてずれ量を算出することもできる。すなわち、基準となる位置のy座標の値と、各溝のエッジのy座標の値と、の差を、ずれ量とすることもできる。 Further, in the above-described embodiment, the deviation amount is calculated based on the value of the y coordinate of the center position in the width direction (y-axis direction) of each groove, and this deviation amount is the reference position and each. Anything corresponding to the distance to the groove may be used. For example, when there is no large difference in the widths of the plurality of grooves formed under different conditions, the deviation amount can be calculated based on the y-coordinate value of the edge of each groove. That is, the difference between the y-coordinate value of the reference position and the y-coordinate value of the edge of each groove can be used as the deviation amount.

また、上述した実施形態では、被加工物11の上面11aにレーザービーム21を集光させた際に、このレーザービーム21が集光するY軸方向(y軸方向)の位置を、基準となる位置17に設定しているが、この基準となる位置は任意に設定される。例えば、取得される画像の端部に相当する位置を、基準となる位置に設定することもできる。 Further, in the above-described embodiment, when the laser beam 21 is focused on the upper surface 11a of the workpiece 11, the position in the Y-axis direction (y-axis direction) where the laser beam 21 is focused is used as a reference. Although it is set to the position 17, the reference position is arbitrarily set. For example, the position corresponding to the end of the acquired image can be set as a reference position.

また、上述した実施形態のレーザービーム照射ユニット42の光学系は、被加工物11の上面11aにレーザービーム21を集光させる際に、レーザービーム21がY軸方向で基準となる所定の位置17に集光するように調整されているが、このような調整は、必ずしも行われていなくても良い。更に、上述した実施形態では、制御部52が第1ずれ量y1及び第2ずれ量y2を算出しているが、オペレータがずれ量を算出しても良い。また、第1溝11eと第2溝11fとは、別の被加工物11に形成されても良い。 Further, in the optical system of the laser beam irradiation unit 42 of the above-described embodiment, when the laser beam 21 is focused on the upper surface 11a of the workpiece 11, the laser beam 21 becomes a reference position 17 in the Y-axis direction. Although it is adjusted to focus on the laser, such adjustment does not necessarily have to be performed. Further, in the above-described embodiment, the control unit 52 calculates the first deviation amount y1 and the second deviation amount y2, but the operator may calculate the deviation amount. Further, the first groove 11e and the second groove 11f may be formed on different workpieces 11.

その他、上述した実施形態や変形例にかかる構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, and the like according to the above-described embodiments and modifications can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the object of the present invention.

11 :被加工物
11a :上面
11b :下面
11c :溝
11d :溝
11e :第1溝
11f :第2溝
13 :粘着テープ(ダイシングテープ)
15 :フレーム
21 :レーザービーム
21a :中心線
21b :入射方向
23 :集光点
31a :画像
31b :画像(第1画像)
31c :画像(第2画像)
y1 :第1ずれ量
y2 :第2ずれ量
2 :レーザー加工装置
4 :基台
6 :水平移動機構(加工送り機構、割り出し送り機構)
8 :Y軸ガイドレール
10 :Y軸移動テーブル
12 :Y軸ボールネジ
14 :Y軸パルスモータ
16 :X軸ガイドレール
18 :X軸移動テーブル
20 :X軸ボールネジ
22 :X軸パルスモータ
24 :テーブル基台
26 :チャックテーブル(保持テーブル)
26a :保持面
28 :クランプ
30 :支持構造
32 :鉛直移動機構(高さ調整機構)
34 :Z軸ガイドレール
36 :Z軸移動テーブル
38 :Z軸パルスモータ
40 :支持具
42 :レーザービーム照射ユニット
44 :ハウジング
46 :照射ヘッド
46a :レンズ
46b :中心軸(光軸)
48 :撮像ユニット
50 :ディスプレイ(入出力ユニット)
52 :制御部(制御ユニット)
11: Work piece 11a: Upper surface 11b: Lower surface 11c: Groove 11d: Groove 11e: First groove 11f: Second groove 13: Adhesive tape (dicing tape)
15: Frame 21: Laser beam 21a: Center line 21b: Incident direction 23: Condensing point 31a: Image 31b: Image (first image)
31c: Image (second image)
y1: 1st deviation amount y2: 2nd deviation amount 2: Laser machining device 4: Base 6: Horizontal movement mechanism (machining feed mechanism, indexing feed mechanism)
8: Y-axis guide rail 10: Y-axis moving table 12: Y-axis ball screw 14: Y-axis pulse motor 16: X-axis guide rail 18: X-axis moving table 20: X-axis ball screw 22: X-axis pulse motor 24: Table base Table 26: Chuck table (holding table)
26a: Holding surface 28: Clamp 30: Support structure 32: Vertical movement mechanism (height adjustment mechanism)
34: Z-axis guide rail 36: Z-axis moving table 38: Z-axis pulse motor 40: Support 42: Laser beam irradiation unit 44: Housing 46: Irradiation head 46a: Lens 46b: Central axis (optical axis)
48: Imaging unit 50: Display (input / output unit)
52: Control unit (control unit)

Claims (2)

レーザービーム照射ユニットの照射ヘッドから被加工物に照射され該被加工物に吸収される波長のレーザービームの該被加工物に対する傾きを確認する傾き確認方法であって、
被加工物の上面を基準とする第1高さの位置に該レーザービームを集光させながら該被加工物と該照射ヘッドとを該上面に沿う方向に相対的に移動させて、該被加工物に照射される該レーザービームで該被加工物に第1溝を形成する第1加工ステップと、
被加工物の上面を基準とする該第1高さとは異なる第2高さの位置に該レーザービームを集光させながら該被加工物と該照射ヘッドとを該上面に沿う方向に相対的に移動させて、該被加工物に照射される該レーザービームで該被加工物に第2溝を形成する第2加工ステップと、
該第1溝を上方から撮像して得られる第1画像に基づいて、該第1画像内の基準となる位置と該第1溝との距離に相当する第1ずれ量を算出する第1ずれ量算出ステップと、
該第2溝を上方から撮像して得られる第2画像に基づいて、該第2画像内の基準となる位置と該第2溝との距離に相当する第2ずれ量を算出する第2ずれ量算出ステップと、
該第1ずれ量と該第2ずれ量とに基づいて、該被加工物に入射する該レーザービームの入射方向の該上面に対する傾きを確認する傾き確認ステップと、を含むことを特徴とする傾き確認方法。
This is a tilt confirmation method for confirming the tilt of a laser beam having a wavelength that is irradiated to a work piece from the irradiation head of the laser beam irradiation unit and is absorbed by the work piece.
While condensing the laser beam at a position at a first height with respect to the upper surface of the work piece, the work piece and the irradiation head are relatively moved in a direction along the upper surface to be processed. A first processing step of forming a first groove in the work piece with the laser beam applied to the object, and
While condensing the laser beam at a position of a second height different from the first height with respect to the upper surface of the work piece, the work piece and the irradiation head are relatively relative to the direction along the upper surface. A second machining step of moving and forming a second groove in the workpiece with the laser beam irradiated to the workpiece.
The first deviation that corresponds to the distance between the reference position in the first image and the first groove is calculated based on the first image obtained by imaging the first groove from above. Amount calculation step and
A second deviation that calculates a second deviation amount corresponding to the distance between the reference position in the second image and the second groove based on the second image obtained by imaging the second groove from above. Amount calculation step and
An inclination that includes an inclination confirmation step for confirming the inclination of the laser beam incident on the workpiece with respect to the upper surface in the incident direction based on the first deviation amount and the second deviation amount. Confirmation method.
該傾き確認ステップで確認された該レーザービームの該入射方向の該上面に対する傾きが許容される範囲内であれば、該照射ヘッドを調整する必要がないと判定し、該傾き確認ステップで確認された該レーザービームの該入射方向の該上面に対する傾きが許容される範囲外であれば、該照射ヘッドを調整する必要があると判定する判定ステップを更に含むことを特徴とする請求項1に記載の傾き確認方法。 If the inclination of the laser beam confirmed in the inclination confirmation step with respect to the upper surface in the incident direction is within an allowable range, it is determined that the irradiation head does not need to be adjusted, and the laser beam is confirmed in the inclination confirmation step. The first aspect of the present invention is characterized in that the determination step of determining that the irradiation head needs to be adjusted is further included if the inclination of the laser beam with respect to the upper surface in the incident direction is out of the allowable range. How to check the inclination of.
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