JP2020192579A - New rosin compound, method for producing the same, and flux and solder paste - Google Patents

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Abstract

To provide a flux and a solder paste which are excellent in solderability and can enhance reliability.SOLUTION: A flux contains a new rosin compound having a high content ratio of agathin acids, and preferably further contains a thixotropic agent and a solvent. A solder paste contains a flux containing a new rosin compound, and specific solder powder. The solder powder contains a solder alloy that has an alloy composition of at least one of 25-300 mass ppm As, more than 0 mass ppm and 5,100 mass ppm or less Pb, more than 0 mass ppm and 3,000 mass ppm or less Sb, more than 0 mass ppm and 10,000 mass ppm or less Bi, and the balance Sn, and satisfies Expression (1): 275≤2As+Sb+Bi+Pb and Expression (2): 0.01≤(2As+Sb)/(Bi+Pb)≤10.00, in Expressions (1) and (2), As, Sb, Bi and Pb each represent a content in the alloy composition.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、新規なロジン化合物及びその製造方法、フラックス、はんだペーストに関する。 The present invention relates to a novel rosin compound, a method for producing the same, a flux, and a solder paste.

プリント基板への電子部品の実装といった、電子機器における電子部品の固定及び電気的接続は、コスト面及び信頼性の面で最も有利なはんだ付けにより一般に行われている。このはんだ付けにおいては、プリント基板及び電子部品にはんだが付着し易くなるようにする補助剤であるフラックスが使用される。 Fixing and electrical connection of electronic components in electronic devices, such as mounting electronic components on printed circuit boards, is generally performed by soldering, which is the most advantageous in terms of cost and reliability. In this soldering, flux, which is an auxiliary agent that facilitates the adhesion of solder to the printed circuit board and electronic components, is used.

フラックスは、下記の(1)〜(3)などの多くの有用な作用を果たしている。
(1)金属表面清浄作用(プリント基板及び電子部品の金属表面の酸化膜を化学的に除去して、はんだ付けが可能となるように表面を清浄化する作用)
(2)再酸化防止作用(清浄になった金属表面をはんだ付け中に覆って酸素との接触を遮断し、加熱により金属表面が再酸化されるのを防止する作用)
(3)界面張力低下作用(溶融したはんだの表面張力を小さくして、金属表面のはんだによる濡れ性を高める作用)
The flux has many useful functions such as (1) to (3) below.
(1) Metal surface cleaning action (action of chemically removing the oxide film on the metal surface of printed circuit boards and electronic components to clean the surface so that soldering is possible)
(2) Anti-oxidation action (action to cover the cleaned metal surface during soldering to block contact with oxygen and prevent the metal surface from being re-oxidized by heating)
(3) Interfacial tension lowering action (action to reduce the surface tension of molten solder and improve the wettability of metal surfaces with solder)

特に、上記(1)の作用を発揮する上で、フラックス、及びフラックスに含まれる組成物の酸価(mgKOH/g)を高くする必要があり、酸価を上昇させるために、活性剤の一種である有機酸を添加すること等が行われている。 In particular, in order to exert the action of (1) above, it is necessary to increase the acid value (mgKOH / g) of the flux and the composition contained in the flux, and in order to increase the acid value, it is a kind of activator. The addition of an organic acid is carried out.

また、フラックスにイオン性物質が多く含まれると、プリント基板及び電子部品の金属表面が腐食されやすくなってしまう。このため、フラックスの腐食性を小さくして信頼性を高める観点からは、フラックスに含まれるイオン性物質は少ない方が望ましい。
フラックスにおけるイオン性物質の定量には、水溶液比抵抗(電気抵抗率)試験が用いられている。水溶液比抵抗(Ω・m)の値が大きいほど、腐食性が小さく、フラックスとしての信頼性が高い。
Further, if the flux contains a large amount of ionic substances, the metal surfaces of the printed circuit board and electronic components are easily corroded. Therefore, from the viewpoint of reducing the corrosiveness of the flux and increasing the reliability, it is desirable that the amount of ionic substances contained in the flux is small.
An aqueous solution resistivity (electric resistivity) test is used to quantify ionic substances in flux. The larger the value of the aqueous solution resistivity (Ω · m), the smaller the corrosiveness and the higher the reliability as a flux.

フラックスには、上記の有機酸等の活性剤以外にも、ロジン等のベース樹脂が添加されている。
ベース樹脂であるロジンとしては、これまで天然ロジンが主に用いられている。このような天然ロジンは、アビエチン酸を主成分とするが、天然ロジンの産地によってはアガチン酸類(アガチン酸、ジヒドロアガチン酸、テトラヒドロアガチン酸等)を含むものも存在する。
In addition to the above-mentioned activator such as organic acid, a base resin such as rosin is added to the flux.
As the rosin which is the base resin, natural rosin has been mainly used so far. Such natural rosin contains abietic acid as a main component, but there are some that contain agatic acids (agatic acid, dihydroagatic acid, tetrahydroagatic acid, etc.) depending on the production area of the natural rosin.

アガチン酸類を含むロジンの従来の例として、特許文献1においては、ピマラン型樹脂酸(a−1)を少なくとも15重量%、ラブダン型樹脂酸(a−2)を少なくとも1重量%、および共役二重結合を有さないアビエタン型樹脂酸(a−3)を少なくとも50重量%含むロジン類(A)からなるハンダ付フラックス用ベース樹脂が提案されている。
ラブダン型樹脂酸(a−2)の例として、アガチン酸由来の樹脂酸が開示されている。
As a conventional example of a rosin containing agatinic acids, in Patent Document 1, at least 15% by weight of pimaran-type resin acid (a-1), at least 1% by weight of labdane-type resin acid (a-2), and conjugated dizygous acid. A soldered flux base resin made of rosins (A) containing at least 50% by weight of an abietane-type resin acid (a-3) having no heavy bond has been proposed.
As an example of the labdane-type resin acid (a-2), a resin acid derived from agatic acid is disclosed.

国際公開第2013/172295号International Publication No. 2013/172295

しかし、特許文献1の実施例で用いられているようなフラックスでは、酸価が低く、はんだ付け性が十分ではないことがわかった。
本発明は、上述した事情を鑑みてなされたものであり、はんだ付け性に優れ、かつ、信頼性を高められるフラックス及びはんだペーストを提供することを目的とする。
However, it was found that the flux used in the examples of Patent Document 1 has a low acid value and insufficient solderability.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a flux and a solder paste which are excellent in solderability and can enhance reliability.

本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意研究した結果、原料であるロジンを蒸留する際に、精製ロジンとして従来使用していた主留分ではなく、蒸留装置に残存したロジン成分(釜残)にアガチン酸類が多く含まれ、アガチン酸類を多く含む当該ロジン成分をフラックスに用いることで上記課題を解決できることを知見し、本発明を完成するに至った。本発明の具体的態様は以下のとおりである。 As a result of diligent research to solve the above problems, the present inventors have made a rosin component (pot) remaining in the distillation apparatus instead of the main distillate conventionally used as a purified rosin when distilling the raw material rosin. It was found that the above-mentioned problems can be solved by using the rosin component containing a large amount of agacinic acids in the remaining) as a flux, and the present invention has been completed. Specific embodiments of the present invention are as follows.

[1]15質量%を超え70質量%以下のアガチン酸類と、ロジンとを含む、ロジン化合物。 [1] A rosin compound containing rosin and agatinic acids in an amount of more than 15% by mass and 70% by mass or less.

[2]上記[1]に記載のロジン化合物を含有する、フラックス。 [2] A flux containing the rosin compound according to the above [1].

[3]更に、チキソ剤及び溶剤を含有する、上記[2]に記載のフラックス。 [3] The flux according to the above [2], which further contains a thixotropic agent and a solvent.

[4]前記チキソ剤は、アミド化合物及びエステル化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む、上記[3]に記載のフラックス。 [4] The flux according to the above [3], wherein the thixotropy contains at least one selected from the group consisting of an amide compound and an ester compound.

[5]前記アミド化合物は、ポリアミド、ビスアミド及びモノアミドからなる群より選択される少なくとも一種を含む、上記[4]に記載のフラックス。 [5] The flux according to the above [4], wherein the amide compound contains at least one selected from the group consisting of polyamide, bisamide and monoamide.

[6]前記チキソ剤は、前記アミド化合物を少なくとも含み、前記フラックス全体の総量に対して前記アミド化合物を0質量%超15質量%以下で含む、上記の[4]又は[5]に記載のフラックス。 [6] The above-mentioned [4] or [5], wherein the thixotropy contains at least the amide compound and contains the amide compound in an amount of more than 0% by mass and 15% by mass or less based on the total amount of the flux. flux.

[7]前記エステル化合物は、ヒマシ硬化油を含む、上記の[4]から[6]のいずれか1項に記載のフラックス。 [7] The flux according to any one of [4] to [6] above, wherein the ester compound contains castor oil.

[8]前記チキソ剤は、前記エステル化合物を少なくとも含み、前記フラックス全体の総量に対して前記エステル化合物を0質量%超8質量%以下で含む、上記の[4]から[7]のいずれか1項に記載のフラックス。 [8] Any of the above [4] to [7], wherein the thixotropy contains at least the ester compound and contains the ester compound in an amount of more than 0% by mass and 8% by mass or less based on the total amount of the entire flux. The flux according to item 1.

[9]更に、前記フラックス全体の総量に対して、有機酸を0質量%以上15質量%以下で含む、上記の[2]から[8]のいずれか1項に記載のフラックス。 [9] The flux according to any one of the above [2] to [8], further comprising an organic acid in an amount of 0% by mass or more and 15% by mass or less with respect to the total amount of the entire flux.

[10]更に、前記フラックス全体の総量に対して、アミンを0質量%以上8質量%以下、有機ハロゲン化合物を0質量%以上8質量%以下、アミンハロゲン化水素酸塩を0質量%以上3質量%以下、又は酸化防止剤を0質量%以上8質量%以下で含む、上記の[2]から[9]のいずれか1項に記載のフラックス。 [10] Further, with respect to the total amount of the entire flux, amine is 0% by mass or more and 8% by mass or less, organic halogen compound is 0% by mass or more and 8% by mass or less, and amine hydrohalide is 0% by mass or more 3 The flux according to any one of the above [2] to [9], which contains 0% by mass or more and 8% by mass or less of an antioxidant in an amount of 0% by mass or less or an antioxidant.

[11]上記の[2]から[10]のいずれか1項に記載のフラックスと、はんだ粉末とを含有する、はんだペースト。 [11] A solder paste containing the flux according to any one of the above [2] to [10] and a solder powder.

[12]前記はんだ粉末は、As:25〜300質量ppm、Pb:0質量ppm超え5100質量ppm以下、並びにSb:0質量ppm超え3000質量ppm以下、及びBi:0質量ppm超え10000質量ppm以下の少なくとも一種、並びに残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式を満たすはんだ合金を含む、上記[11]に記載のはんだペースト。
275≦2As+Sb+Bi+Pb (1)
0.01≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2)
上記(1)式及び(2)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
[12] The solder powder has As: 25 to 300 mass ppm, Pb: 0 mass ppm or more and 5100 mass ppm or less, and Sb: 0 mass ppm or more and 3000 mass ppm or less, and Bi: 0 mass ppm or more and 10000 mass ppm or less. The solder paste according to the above [11], which comprises at least one of the above and a solder alloy having an alloy composition in which the balance is Sn and satisfies the following equations (1) and (2).
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb (1)
0.01 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2)
In the above equations (1) and (2), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

[13]更に、前記合金組成は、下記(1a)式を満たす、上記[12]に記載のはんだペースト。
275≦2As+Sb+Bi+Pb≦25200 (1a)
上記(1a)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
[13] Further, the solder paste according to the above [12], wherein the alloy composition satisfies the following formula (1a).
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
In the above formula (1a), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

[14]更に、前記合金組成は、下記(1b)式を満たす、上記[12]に記載のはんだペースト。
275≦2As+Sb+Bi+Pb≦5300 (1b)
上記(1b)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
[14] Further, the solder paste according to the above [12], wherein the alloy composition satisfies the following formula (1b).
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
In the above formula (1b), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

[15]更に、前記合金組成は、下記(2a)式を満たす、上記の[12]から[14]のいずれか1項に記載のはんだペースト。
0.31≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2a)
上記(2a)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
[15] The solder paste according to any one of [12] to [14] above, wherein the alloy composition satisfies the following formula (2a).
0.31 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2a)
In the above formula (2a), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

[16]更に、前記合金組成は、Ag:0〜4質量%及びCu:0〜0.9質量%からなる群より選択される少なくとも一種を含有する、上記の[12]から[15]のいずれか1項に記載のはんだペースト。 [16] Further, the alloy composition of the above [12] to [15] contains at least one selected from the group consisting of Ag: 0 to 4% by mass and Cu: 0 to 0.9% by mass. The solder paste according to any one item.

[17]下記の工程(a)と工程(b)とを有する、ロジン化合物の製造方法。
工程(a):1質量%以上15質量%以下のアガチン酸類を含む原料ロジン化合物、を蒸留して、前記原料ロジン化合物中のアガチン酸類を濃縮する工程
工程(b):前記工程(a)後の、濃縮したアガチン酸類を含む粗ロジン化合物を蒸留して精製し、15質量%を超え70質量%以下のアガチン酸類を含むロジン化合物を得る工程
[17] A method for producing a rosin compound, which comprises the following steps (a) and (b).
Step (a): A step of distilling a raw material rosin compound containing agatic acids of 1% by mass or more and 15% by mass or less to concentrate the agatic acids in the raw material rosin compound Step (b): After the step (a) The step of distilling and purifying a crude rosin compound containing concentrated agatinic acids to obtain a rosin compound containing more than 15% by mass and 70% by mass or less of agatinic acids.

[18]前記工程(a)で、前記原料ロジン化合物として、天然ロジン及び水添ロジンからなる群より選択されるものを用いる、上記[17]に記載のロジン化合物の製造方法。 [18] The method for producing a rosin compound according to the above [17], wherein the raw material rosin compound selected in the step (a) is selected from the group consisting of natural rosin and hydrogenated rosin.

本発明によれば、はんだ付け性に優れ、かつ、信頼性を高められるフラックス及びはんだペーストを提供することができる。
また、本発明によれば、アガチン酸類の含有割合が高い新規なロジン化合物及びその製造方法を提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a flux and a solder paste having excellent solderability and high reliability.
Further, according to the present invention, it is possible to provide a novel rosin compound having a high content ratio of agatinic acids and a method for producing the same.

本発明を以下により詳しく説明する。
本明細書において、はんだ合金組成に関する「ppm」は、特に指定しない限り「質量ppm」である。「%」は、特に指定しない限り「質量%」である。
The present invention will be described in more detail below.
In the present specification, "ppm" relating to the solder alloy composition is "mass ppm" unless otherwise specified. “%” Is “mass%” unless otherwise specified.

<ロジン化合物>
本実施の形態のロジン化合物は、15質量%を超え70質量%以下のアガチン酸類と、ロジンと、を含む。
<Rosin compound>
The rosin compound of the present embodiment contains more than 15% by mass and 70% by mass or less of agatic acids and rosin.

ロジン化合物中のアガチン酸類としては、例えば、アガチン酸、ジヒドロアガチン酸、テトラヒドロアガチン酸等が挙げられる。 Examples of the agatic acids in the rosin compound include agatic acid, dihydroagatic acid, tetrahydroagatic acid and the like.

ロジン化合物全体の質量に対するアガチン酸類の含有量は、15質量%を超え70質量%以下であり、15質量%を超え40質量%以下が好ましく、15質量%を超え30質量%以下がより好ましい。
アガチン酸類の含有量が上記範囲内であれば、フラックスとした際のはんだ付け性に優れ、信頼性が高い。
アガチン酸類の含有量は、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置による分子量測定法を用いて測定する。
The content of agatinic acids with respect to the total mass of the rosin compound is more than 15% by mass and 70% by mass or less, preferably more than 15% by mass and 40% by mass or less, and more preferably more than 15% by mass and 30% by mass or less.
When the content of agatinic acids is within the above range, the solderability when used as a flux is excellent and the reliability is high.
The content of agatinic acids is measured using a molecular weight measurement method using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus.

本実施の形態におけるロジン化合物中のロジンには、天然ロジン、変性ロジンのいずれかを含むものを用いることができる。このようなロジンとしては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン及びトール油ロジン等の原料ロジン、並びに該原料ロジンから得られる誘導体が挙げられる。該誘導体としては、例えば、精製ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン及びα,β不飽和カルボン酸変性物(アクリル化ロジン、マレイン化ロジン、フマル化ロジン等)、並びに該重合ロジンの精製物、水素化物及び不均化物、並びに該α,β不飽和カルボン酸変性物の精製物、水素化物及び不均化物等が挙げられ、一種又は二種以上を使用することができる。 As the rosin in the rosin compound in the present embodiment, one containing either a natural rosin or a modified rosin can be used. Examples of such rosins include raw material rosins such as gum rosin, wood rosin and tall oil rosin, and derivatives obtained from the raw material rosin. Examples of the derivative include purified rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, polymerized rosin and α, β unsaturated carboxylic acid modified products (acrylicated rosin, maleated rosin, fumarized rosin, etc.), and the polymerized rosin. Examples thereof include purified products, hydrides and disproportionated products of the above, and purified products, hydrides and disproportionated products of the α, β unsaturated carboxylic acid modified products, and one or more of them can be used.

<ロジン化合物の製造方法>
次に、本実施の形態のロジン化合物の製造方法について説明する。
<Manufacturing method of rosin compound>
Next, a method for producing the rosin compound of the present embodiment will be described.

上述した本実施の形態のロジン化合物の製造方法は、下記の工程(a)と工程(b)とを有する。
工程(a):1質量%以上15質量%以下のアガチン酸類を含む原料ロジン化合物、を蒸留して、前記原料ロジン化合物中のアガチン酸類を濃縮する工程
工程(b):前記工程(a)後の、濃縮したアガチン酸類を含む粗ロジン化合物を蒸留して精製し、15質量%を超え70質量%以下のアガチン酸類を含むロジン化合物を得る工程
The method for producing a rosin compound of the present embodiment described above includes the following steps (a) and (b).
Step (a): A step of distilling a raw material rosin compound containing agatic acids of 1% by mass or more and 15% by mass or less to concentrate the agatic acids in the raw material rosin compound Step (b): After the step (a) The step of distilling and purifying a crude rosin compound containing concentrated agatinic acids to obtain a rosin compound containing more than 15% by mass and 70% by mass or less of agatinic acids.

工程(a)で、原料として用いる1質量%以上15質量%以下のアガチン酸類を含む原料ロジン化合物としては、アガチン酸類を含む限り特に限定されないが、天然ロジン及び水添ロジンからなる群より選択されるものを用いることが好ましい。例えば、原料ロジン化合物としては、中国産、ベトナム産又はインドネシア産の南亜松ロジン等の天然ロジン、当該天然ロジンの水添ロジン等を用いることが好ましい。 The raw material rosin compound containing 1% by mass or more and 15% by mass or less of agatinic acids used as a raw material in the step (a) is not particularly limited as long as it contains agatinic acids, but is selected from the group consisting of natural rosin and hydrogenated rosin. It is preferable to use one. For example, as the raw material rosin compound, it is preferable to use a natural rosin such as South Apine rosin produced in China, Vietnam or Indonesia, a hydrogenated rosin of the natural rosin, or the like.

工程(a)で用いる蒸留装置としては、特に限定されないが、バッチ式蒸留装置、連続式蒸留装置、薄膜式蒸留装置等を用いることができる。
工程(a)において原料ロジン化合物を蒸留する際の圧力は、50Pa以上400Pa以下が好ましく、100Pa以上300Pa以下がより好ましく、100Pa以上250Pa以下がさらに好ましい。
工程(a)において原料ロジン化合物を蒸留する際の温度は、100℃以上300℃以下が好ましく、150℃以上280℃以下がより好ましく、200℃以上270℃以下がさらに好ましい。
工程(a)において原料ロジン化合物を蒸留する際の蒸留時間は、0.5時間以上24時間以下が好ましく、1時間以上12時間以下がより好ましく、1.5時間以上5時間以下がさらに好ましい。
The distillation apparatus used in the step (a) is not particularly limited, but a batch distillation apparatus, a continuous distillation apparatus, a thin film distillation apparatus and the like can be used.
The pressure for distilling the raw material rosin compound in the step (a) is preferably 50 Pa or more and 400 Pa or less, more preferably 100 Pa or more and 300 Pa or less, and further preferably 100 Pa or more and 250 Pa or less.
The temperature at which the raw material rosin compound is distilled in the step (a) is preferably 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or higher and 280 ° C. or lower, and further preferably 200 ° C. or higher and 270 ° C. or lower.
The distillation time for distilling the raw material rosin compound in the step (a) is preferably 0.5 hours or more and 24 hours or less, more preferably 1 hour or more and 12 hours or less, and further preferably 1.5 hours or more and 5 hours or less.

工程(b)の精製で用いる蒸留装置としては、特に限定されないが、バッチ式蒸留装置、連続式蒸留装置、薄膜式蒸留装置等を用いることができる。
工程(b)において、前記工程(a)後の、濃縮したアガチン酸類を含む粗ロジン化合物を蒸留する際の圧力は、50Pa以上400Pa以下が好ましく、100Pa以上300Pa以下がより好ましく、100Pa以上250Pa以下がさらに好ましい。
工程(b)において、前記粗ロジン化合物を蒸留する際の温度は、100℃以上300℃以下が好ましく、150℃以上280℃以下がより好ましく、200℃以上270℃以下がさらに好ましい。
工程(b)において、前記粗ロジン化合物を蒸留する際の蒸留時間は、0.5時間以上24時間以下が好ましく、1時間以上12時間以下がより好ましく、1.5時間以上5時間以下がさらに好ましい。
The distillation apparatus used in the purification of the step (b) is not particularly limited, but a batch distillation apparatus, a continuous distillation apparatus, a thin film distillation apparatus and the like can be used.
In the step (b), the pressure for distilling the crude rosin compound containing concentrated agatinic acids after the step (a) is preferably 50 Pa or more and 400 Pa or less, more preferably 100 Pa or more and 300 Pa or less, and 100 Pa or more and 250 Pa or less. Is even more preferable.
In the step (b), the temperature at which the crude rosin compound is distilled is preferably 100 ° C. or higher and 300 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or higher and 280 ° C. or lower, and further preferably 200 ° C. or higher and 270 ° C. or lower.
In the step (b), the distillation time for distilling the crude rosin compound is preferably 0.5 hours or more and 24 hours or less, more preferably 1 hour or more and 12 hours or less, and further preferably 1.5 hours or more and 5 hours or less. preferable.

本実施の形態のロジン化合物の製造方法においては、所望の濃度のアガチン酸類が得られるまで工程(a)を繰り返すことが好ましく、工程(a)の繰り返し回数は、1回以上100回以下が好ましく、2回以上50回以下がより好ましく、3回以上10回以下がさらに好ましい。
また、かかるロジン化合物の製造方法における工程(a)は、濃縮後の原料ロジン化合物に、1質量%以上15質量%以下のアガチン酸類を含む原料ロジン化合物をさらに添加する操作を含んでいてもよい。
In the method for producing a rosin compound of the present embodiment, it is preferable to repeat the step (a) until a desired concentration of agatinic acids is obtained, and the number of repetitions of the step (a) is preferably 1 to 100 times. It is more preferably 2 times or more and 50 times or less, and further preferably 3 times or more and 10 times or less.
Further, the step (a) in the method for producing the rosin compound may include an operation of further adding the raw material rosin compound containing 1% by mass or more and 15% by mass or less of the agatinic acids to the raw material rosin compound after concentration. ..

従来のロジンの製造方法においては、原料ロジンを蒸留することにより、揮発性の初留分及び蒸留装置内に残存したピッチ成分(釜残)を除去して、アビエチン酸等のモノカルボン酸の樹脂酸を含む主留分を取り出し、その後、精製することにより精製ロジンを得ていた。
一方、本実施の形態のロジン化合物の製造方法においては、アガチン酸類が含まれる原料ロジン化合物を選定し、揮発性の初留分及びアビエチン酸等のモノカルボン酸の樹脂酸を含む主留分を蒸留して除去し、蒸留装置内に残存した成分に含まれるアガチン酸類を濃縮することにより、アガチン酸類を高濃度で含有するロジン化合物を得ている。これにより、アガチン酸類はジカルボン酸であるため酸価が高く、高濃度とした場合に、フラックスのはんだ付け性を効率的に高められる。また、アガチン酸類を単離することなしにロジン中で濃縮させるため、工業スケールにおいても容易に低コストで製造することが可能となる。
In the conventional method for producing rosin, the raw material rosin is distilled to remove the volatile initial distillate and the pitch component (remaining in the kettle) remaining in the distillation apparatus, and a resin of a monocarboxylic acid such as abietic acid. Purified rosin was obtained by removing the main distillate containing an acid and then purifying it.
On the other hand, in the method for producing a rosin compound of the present embodiment, a raw material rosin compound containing agatic acids is selected, and a volatile initial distillate and a main distillate containing a resin acid of a monocarboxylic acid such as abietic acid are used. A rosin compound containing a high concentration of abietic acids is obtained by distilling and removing the abietic acids contained in the components remaining in the distillation apparatus. As a result, since agatinic acids are dicarboxylic acids, they have a high acid value, and when the concentration is high, the solderability of the flux can be efficiently improved. In addition, since the agatic acids are concentrated in rosin without being isolated, they can be easily produced at low cost even on an industrial scale.

<フラックス>
本実施の形態のフラックスは、上述した特定のロジン化合物を含有するものであり、はんだペースト用フラックスとして特に好適なものである。
本実施の形態においては、フラックス中に含まれるアガチン酸類の含有量が多いほど、はんだ付け性が高められる。
例えば、フラックス中に含まれるアガチン酸類の含有量は、フラックス全体の総量に対して、0.5質量%を超え20質量%以下が好ましく、1質量%以上16質量%以下がより好ましく、2質量%以上10質量%以下がさらに好ましい。
フラックス中に含まれるアガチン酸類の含有量が上記範囲内であれば、フラックスとした際のはんだ付け性に優れ、信頼性が高い。
また、フラックス中に含まれるアガチン酸類の含有量は、フラックスの固形分(溶剤を除くもの)の総量に対して、2〜40質量%が好ましく、5〜35質量%がより好ましく、5〜30質量%がさらに好ましい。
<Flux>
The flux of the present embodiment contains the above-mentioned specific rosin compound, and is particularly suitable as a flux for solder paste.
In the present embodiment, the higher the content of agatanic acids contained in the flux, the higher the solderability.
For example, the content of agatinic acids contained in the flux is preferably more than 0.5% by mass and 20% by mass or less, more preferably 1% by mass or more and 16% by mass or less, and 2% by mass with respect to the total amount of the entire flux. % Or more and 10% by mass or less are more preferable.
When the content of agatinic acids contained in the flux is within the above range, the solderability when the flux is used is excellent and the reliability is high.
The content of agatinic acids contained in the flux is preferably 2 to 40% by mass, more preferably 5 to 35% by mass, and 5 to 30% of the total amount of the solid content (excluding the solvent) of the flux. Mass% is more preferred.

例えば、本実施の形態のフラックスは、上述した特定のロジン化合物に加え、更に、チキソ剤及び溶剤を含有するものが挙げられる。 For example, the flux of the present embodiment may contain a thixotropic agent and a solvent in addition to the above-mentioned specific rosin compound.

フラックス中に含まれるロジン化合物の含有量は、フラックス全体の総量に対して、2質量%以上60質量%以下が好ましく、5質量%以上50質量%以下がより好ましく、10質量%以上40質量%以下がさらに好ましい。 The content of the rosin compound contained in the flux is preferably 2% by mass or more and 60% by mass or less, more preferably 5% by mass or more and 50% by mass or less, and 10% by mass or more and 40% by mass with respect to the total amount of the entire flux. The following is more preferable.

本実施の形態で用いられるチキソ剤としては、例えば、アミド化合物、エステル化合物、ソルビトール系チキソ剤等が挙げられる。 Examples of the thixotropy used in the present embodiment include amide compounds, ester compounds, sorbitol-based thixotropy and the like.

チキソ剤であるアミド化合物としては、モノアミド、ビスアミド、ポリアミドが挙げられる。
例えば、かかるアミド化合物は、ラウリン酸アミド、パルミチン酸アミド、ステアリン酸アミド、ベヘン酸アミド、ヒドロキシステアリン酸アミド、飽和脂肪酸アミド、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、不飽和脂肪酸アミド、p−トルアミド、p−トルエンメタンアミド、芳香族アミド、ヘキサメチレンヒドロキシステアリン酸アミド、置換アミド、メチロールステアリン酸アミド、メチロールアミド、脂肪酸エステルアミド等のモノアミド;メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、エチレンビスヒドロキシ脂肪酸(脂肪酸の炭素数C6〜24)アミド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アミド、飽和脂肪酸ビスアミド、メチレンビスオレイン酸アミド、不飽和脂肪酸ビスアミド、m−キシリレンビスステアリン酸アミド、芳香族ビスアミド等のビスアミド;
飽和脂肪酸ポリアミド、不飽和脂肪酸ポリアミド、芳香族ポリアミド、1,2,3−プロパントリカルボン酸トリス(2−メチルシクロヘキシルアミド)、環状アミドオリゴマー、非環状アミドオリゴマー等のポリアミドが挙げられる。
Examples of the amide compound that is a thixotropic agent include monoamide, bisamide, and polyamide.
For example, such amide compounds include lauric acid amides, palmitic acid amides, stearic acid amides, behenic acid amides, hydroxystearic acid amides, saturated fatty acid amides, oleic acid amides, erucic acid amides, unsaturated fatty acid amides, p-toluamides, p. -Monoamides such as toluenemethaneamide, aromatic amide, hexamethylenehydroxystearic acid amide, substituted amide, methylolstearic acid amide, methylolamide, fatty acid esteramide; methylenebisstearic acid amide, ethylenebislauric acid amide, ethylenebishydroxy fatty acid (C6 to 24 carbon atoms of fatty acid) Amide, ethylene bishydroxystearic acid amide, saturated fatty acid bisamide, methylene bisoleic acid amide, unsaturated fatty acid bisamide, m-xylylene bisstearic acid amide, aromatic bisamide and other bisamides;
Examples thereof include polyamides such as saturated fatty acid polyamides, unsaturated fatty acid polyamides, aromatic polyamides, tris 1,2,3-propanetricarboxylic acids (2-methylcyclohexylamide), cyclic amide oligomers, and acyclic amide oligomers.

前記環状アミドオリゴマーは、ジカルボン酸とジアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、トリカルボン酸とジアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸とトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、トリカルボン酸とトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸及びトリカルボン酸とジアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸及びトリカルボン酸とトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸とジアミン及びトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、トリカルボン酸とジアミン及びトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー、ジカルボン酸及びトリカルボン酸とジアミン及びトリアミンとが環状に重縮合したアミドオリゴマー等が挙げられる。 The cyclic amide oligomer includes an amide oligomer in which dicarboxylic acid and diamine are polycondensed cyclically, an amide oligomer in which tricarboxylic acid and diamine are polycondensed cyclically, an amide oligomer in which dicarboxylic acid and triamine are polycondensed cyclically, and tricarboxylic acid. Amido oligomer with cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and triamine, amide oligomer with cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and tricarboxylic acid and diamine, amide oligomer with cyclic polycondensation of dicarboxylic acid and tricarboxylic acid and triamine, dicarboxylic acid and diamine And an amide oligomer in which triamine is cyclically polycondensed, an amide oligomer in which tricarboxylic acid, diamine and triamine are polycondensed cyclically, and an amide oligomer in which dicarboxylic acid and tricarboxylic acid and diamine and triamine are cyclically polycondensed. ..

また、前記非環状アミドオリゴマーは、モノカルボン酸とジアミン及び/又はトリアミンとが非環状に重縮合したアミドオリゴマーである場合、ジカルボン酸及び/又はトリカルボン酸とモノアミンとが非環状に重縮合したアミドオリゴマーである場合等が挙げられる。モノカルボン酸又はモノアミンを含むアミドオリゴマーであると、モノカルボン酸、モノアミンがターミナル分子(terminal molecules)として機能し、分子量を小さくした非環状アミドオリゴマーとなる。また、非環状アミドオリゴマーは、ジカルボン酸及び/又はトリカルボン酸と、ジアミン及び/又はトリアミンとが非環状に重縮合したアミド化合物である場合、非環状高分子系アミドポリマーとなる。更に、非環状アミドオリゴマーは、モノカルボン酸とモノアミンとが非環状に縮合したアミドオリゴマーも含まれる。 When the acyclic amide oligomer is an amide oligomer in which a monocarboxylic acid and diamine and / or triamine are polycondensed in an acyclic manner, the amide in which a dicarboxylic acid and / or the tricarboxylic acid and the monoamine are polycondensed acyclically. Examples thereof include the case of an oligomer. In the case of an amide oligomer containing a monocarboxylic acid or a monoamine, the monocarboxylic acid and the monoamine function as terminal molecules (terminal molecules) to form an acyclic amide oligomer having a reduced molecular weight. When the acyclic amide oligomer is an amide compound in which a dicarboxylic acid and / or a tricarboxylic acid and a diamine and / or a triamine are polycondensed in an acyclic manner, the acyclic amide oligomer is a non-cyclic polymer amide polymer. Further, the acyclic amide oligomer also includes an amide oligomer in which a monocarboxylic acid and a monoamine are acyclically condensed.

チキソ剤であるエステル化合物としては、例えば、ヒマシ硬化油等が挙げられる。 Examples of the ester compound that is a thixotropic agent include castor oil and the like.

ソルビトール系チキソ剤としては、例えば、ジベンジリデンソルビトール、ビス(4−メチルベンジリデン)ソルビトール、(D−)ソルビトール、モノベンジリデン(−D−)ソルビトール、モノ(4−メチルベンジリデン)−(D−)ソルビトール等が挙げられる。 Examples of the sorbitol-based thixo agent include dibenzylidene sorbitol, bis (4-methylbenzylidene) sorbitol, (D-) sorbitol, monobenzylidene (-D-) sorbitol, and mono (4-methylbenzylidene)-(D-) sorbitol. And so on.

チキソ剤は、1種又は2種以上を使用することができる。
前記チキソ剤は、アミド化合物及びエステル化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。
かかるチキソ剤の含有量は、フラックス全体の総量に対して、0.1〜15.0質量%が好ましく、0.2質量%以上10.0質量%以下がより好ましい。
One type or two or more types of thixotropic agents can be used.
The thixotropy preferably contains at least one selected from the group consisting of amide compounds and ester compounds.
The content of the thixotropy is preferably 0.1 to 15.0% by mass, more preferably 0.2% by mass or more and 10.0% by mass or less, based on the total amount of the flux.

前記アミド化合物には、ポリアミド、ビスアミド及びモノアミドからなる群より選択される少なくとも一種を含むものを用いることが好ましい。本実施の形態のフラックスは、前記アミド化合物を、フラックス全体の総量に対して、0質量%超15.0質量%以下含むことが好ましく、0.2質量%以上10.0質量%以下含むことがより好ましい。 It is preferable to use the amide compound containing at least one selected from the group consisting of polyamide, bisamide and monoamide. The flux of the present embodiment preferably contains the amide compound in an amount of more than 0% by mass and 15.0% by mass or less, and 0.2% by mass or more and 10.0% by mass or less, based on the total amount of the flux. Is more preferable.

前記エステル化合物には、ヒマシ硬化油を含むものを用いることが好ましい。本実施の形態のフラックスは、前記エステル化合物を、フラックス全体の総量に対して、0質量%以上8.0質量%以下含むことが好ましく、0質量%以上5.0質量%以下含むことがより好ましい。 As the ester compound, it is preferable to use a compound containing castor oil. The flux of the present embodiment preferably contains the ester compound in an amount of 0% by mass or more and 8.0% by mass or less, and more preferably 0% by mass or more and 5.0% by mass or less, based on the total amount of the flux. preferable.

本実施の形態で用いられる溶剤としては、水、アルコール系溶剤、グリコールエーテル系溶剤、テルピネオール類等が挙げられる。
アルコール系溶剤としてはイソプロピルアルコール、1,2−ブタンジオール、イソボルニルシクロヘキサノール、2,4−ジエチル−1,5−ペンタンジオール、2,2−ジメチル−1,3−プロパンジオール、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジオール、2,5−ジメチル−3−ヘキシン−2,5−ジオール、2,3−ジメチル−2,3−ブタンジオール、1,1,1−トリス(ヒドロキシメチル)エタン、2−エチル−2−ヒドロキシメチル−1,3−プロパンジオール、2,2’−オキシビス(メチレン)ビス(2−エチル−1,3−プロパンジオール)、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)−1,3−プロパンジオール、1,2,6−トリヒドロキシヘキサン、ビス[2,2,2−トリス(ヒドロキシメチル)エチル]エーテル、1−エチニル−1−シクロヘキサノール、1,4−シクロヘキサンジオール、1,4−シクロヘキサンジメタノール、エリトリトール、トレイトール、グアヤコールグリセロールエーテル、3,6−ジメチル−4−オクチン−3,6−ジオール、2,4,7,9−テトラメチル−5−デシン−4,7−ジオール等が挙げられる。
グリコールエーテル系溶剤としては、ヘキシルグリコール、ヘキシルジグリコール、2−エチルヘキシルグリコール、2−エチルヘキシルジグリコール、ジメチルトリグリコール、ジブチルジグリコール、ジエチレングリコールモノ−2−エチルヘキシルエーテル、2−メチルペンタン−2,4−ジオール、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、トリエチレングリコールモノブチルエーテル、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等の脂肪族グリコールエーテル系溶剤;フェニルグリコール、フェニルジグリコール、ベンジルグリコール、ベンジルジグリコール、エチレングリコールモノフェニルエーテル等の芳香族グリコールエーテル系溶剤等が挙げられる。
溶剤は、1種又は2種以上を使用することができる。
Examples of the solvent used in this embodiment include water, alcohol-based solvents, glycol ether-based solvents, terpineols and the like.
As alcohol-based solvents, isopropyl alcohol, 1,2-butanediol, isobornylcyclohexanol, 2,4-diethyl-1,5-pentanediol, 2,2-dimethyl-1,3-propanediol, 2,5 -Dimethyl-2,5-hexanediol, 2,5-dimethyl-3-hexine-2,5-diol, 2,3-dimethyl-2,3-butanediol, 1,1,1-tris (hydroxymethyl) Ethan, 2-ethyl-2-hydroxymethyl-1,3-propanediol, 2,2'-oxybis (methylene) bis (2-ethyl-1,3-propanediol), 2,2-bis (hydroxymethyl) -1,3-propanediol, 1,2,6-trihydroxyhexane, bis [2,2,2-tris (hydroxymethyl) ethyl] ether, 1-ethynyl-1-cyclohexanol, 1,4-cyclohexanediol , 1,4-Cyclohexanedimethanol, erythritol, treitol, guayacol glycerol ether, 3,6-dimethyl-4-octin-3,6-diol, 2,4,7,9-tetramethyl-5-decine-4 , 7-diol and the like.
Glycol ether-based solvents include hexyl glycol, hexyl diglycol, 2-ethylhexyl glycol, 2-ethylhexyl diglycol, dimethyltriglycol, dibutyldiglycol, diethylene glycol mono-2-ethylhexyl ether, 2-methylpentane-2,4- Aliper glycol ether-based solvents such as diols, diethylene glycol monohexyl ethers, diethylene glycol dibutyl ethers, triethylene glycol monobutyl ethers, tetraethylene glycol monomethyl ethers, tetraethylene glycol dimethyl ethers; phenyl glycols, phenyldiglycols, benzyl glycols, benzyl diglycols, Examples thereof include aromatic glycol ether-based solvents such as ethylene glycol monophenyl ether.
As the solvent, one kind or two or more kinds can be used.

本実施形態のフラックスは、ロジン、チキソ剤及び溶剤以外の成分を含有してもよい。ロジン、チキソ剤及び溶剤以外の成分としては、例えば、有機酸、アミン、ハロゲン系活性剤、酸化防止剤などが挙げられる。 The flux of the present embodiment may contain components other than rosin, thixotropic agent and solvent. Examples of components other than rosin, thixotropy and solvent include organic acids, amines, halogen-based activators, antioxidants and the like.

有機酸としては、グルタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、エイコサン二酸、クエン酸、グリコール酸、コハク酸、サリチル酸、ジグリコール酸、ジピコリン酸、ジブチルアニリンジグリコール酸、スベリン酸、セバシン酸、チオグリコール酸、テレフタル酸、ドデカン二酸、パラヒドロキシフェニル酢酸、ピコリン酸、フェニルコハク酸、フタル酸、フマル酸、マレイン酸、マロン酸、ラウリン酸、安息香酸、酒石酸、イソシアヌル酸トリス(2−カルボキシエチル)、グリシン、1,3−シクロヘキサンジカルボン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)プロピオン酸、2,2−ビス(ヒドロキシメチル)ブタン酸、2,3−ジヒドロキシ安息香酸、2,4−ジエチルグルタル酸、2−キノリンカルボン酸、3−ヒドロキシ安息香酸、リンゴ酸、p−アニス酸、ステアリン酸、12−ヒドロキシステアリン酸、オレイン酸、リノール酸、リノレン酸等が挙げられる。 Organic acids include glutaric acid, adipic acid, azelaic acid, eicosandioic acid, citric acid, glycolic acid, succinic acid, salicylic acid, diglycolic acid, dipicolinic acid, dibutylaniline diglycolic acid, suberic acid, sebacic acid, and thioglycol. Acid, terephthalic acid, dodecanedioic acid, parahydroxyphenylacetic acid, picolinic acid, phenylsuccinic acid, phthalic acid, fumaric acid, maleic acid, malonic acid, lauric acid, benzoic acid, tartaric acid, tris isocyanurate (2-carboxyethyl) , Glycin, 1,3-cyclohexanedicarboxylic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) propionic acid, 2,2-bis (hydroxymethyl) butanoic acid, 2,3-dihydroxybenzoic acid, 2,4-diethylglutaric acid , 2-Kinolinecarboxylic acid, 3-hydroxybenzoic acid, malic acid, p-anisic acid, stearic acid, 12-hydroxystearic acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid and the like.

また、有機酸としては、ダイマー酸、トリマー酸、ダイマー酸に水素を添加した水添物である水添ダイマー酸、トリマー酸に水素を添加した水添物である水添トリマー酸が挙げられる。 Examples of the organic acid include dimer acid, trimer acid, hydrogenated dimer acid which is a hydrogenated product obtained by adding hydrogen to dimer acid, and hydrogenated trimer acid which is a hydrogenated product obtained by adding hydrogen to trimer acid.

例えば、オレイン酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とメタクリル酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸の反応物であるトリマー酸、リノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノレン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、アクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とオレイン酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノール酸の反応物であるトリマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、メタクリル酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、オレイン酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるダイマー酸、リノール酸とリノレン酸の反応物であるトリマー酸、上述した各ダイマー酸の水添物である水添ダイマー酸、上述した各トリマー酸の水添物である水添トリマー酸等が挙げられる。 For example, dimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of oleic acid and linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid, and methacrylic acid. Dimeric acid, which is a reaction product of methacrylic acid, trimeric acid, which is a reaction product of methacrylic acid, dimer acid, which is a reaction product of acrylic acid and methacrylic acid, trimer acid, which is a reaction product of acrylic acid and methacrylic acid, and oleic acid. A certain dimer acid, trimer acid which is a reaction product of oleic acid, dimer acid which is a reaction product of linoleic acid, trimer acid which is a reaction product of linoleic acid, dimer acid which is a reaction product of linolenic acid, and a reaction product of linolenic acid. A certain trimer acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and oleic acid, trimer acid which is a reaction product of acrylic acid and oleic acid, dimer acid which is a reaction product of acrylic acid and linoleic acid, reaction of acrylic acid and linoleic acid Trimmer acid, which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, dimer acid, which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, trimeric acid, which is a reaction product of acrylic acid and linolenic acid, dimer acid, which is a reaction product of methacrylic acid and oleic acid, methacrylic acid and oleic acid. Trimmer acid, which is a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, dimer acid, which is a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, trimeric acid, which is a reaction product of methacrylic acid and linoleic acid, dimer acid, which is a reaction product of methacrylic acid and linolenic acid, and methacrylic acid. Trimmer acid, which is a reaction product of linolenic acid, dimer acid, which is a reaction product of oleic acid and linolenic acid, trimeric acid, which is a reaction product of oleic acid and linolenic acid, dimer acid, which is a reaction product of linoleic acid and linolenic acid, linole. Examples thereof include trimeric acid, which is a reaction product of acid and linolenic acid, hydrogenated dimer acid, which is a hydrogenated product of each of the above-mentioned dimer acids, and hydrogenated trimeric acid, which is a hydrogenated product of each of the above-mentioned trimeric acids.

有機酸は、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
本実施の形態のフラックスは、有機酸を、フラックス全体の総量に対して、0質量%以上15質量%以下含むことが好ましく、0.2質量%以上10質量%以下含むことがより好ましい。
As the organic acid, one type may be used alone, or two or more types may be mixed and used.
The flux of the present embodiment preferably contains an organic acid in an amount of 0% by mass or more and 15% by mass or less, and more preferably 0.2% by mass or more and 10% by mass or less, based on the total amount of the flux.

アミンとしては、モノエタノールアミン、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン、エチルアミン、トリエチルアミン、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、2−メチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾール、1,2−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−メチルイミダゾール、1−ベンジル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾリウムトリメリテイト、1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾリウムトリメリテイト、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−[2’−メチルイミダゾリル−(1’)]−エチル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2−フェニルイミダゾールイソシアヌル酸付加物、2−フェニル−4,5−ジヒドロキシメチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾール、2,3−ジヒドロ−1H−ピロロ[1,2−a]ベンズイミダゾール、1−ドデシル−2−メチル−3−ベンジルイミダゾリウムクロライド、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジン、2,4−ジアミノ−6−ビニル−s−トリアジンイソシアヌル酸付加物、2,4−ジアミノ−6−メタクリロイルオキシエチル−s−トリアジン、エポキシ−イミダゾールアダクト、2−メチルベンゾイミダゾール、2−オクチルベンゾイミダゾール、2−ペンチルベンゾイミダゾール、2−(1−エチルペンチル)ベンゾイミダゾール、2−ノニルベンゾイミダゾール、2−(4−チアゾリル)ベンゾイミダゾール、ベンゾイミダゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−tert−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’,5’−ジ−tert−アミルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−5’−tert−オクチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2,2’−メチレンビス[6−(2H−ベンゾトリアゾール−2−イル)−4−tert−オクチルフェノール]、6−(2−ベンゾトリアゾリル)−4−tert−オクチル−6’−tert−ブチル−4’−メチル−2,2’−メチレンビスフェノール、1,2,3−ベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]ベンゾトリアゾール、カルボキシベンゾトリアゾール、1−[N,N−ビス(2−エチルヘキシル)アミノメチル]メチルベンゾトリアゾール、2,2’−[[(メチル−1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]イミノ]ビスエタノール、1−(1’,2’−ジカルボキシエチル)ベンゾトリアゾール、1−(2,3−ジカルボキシプロピル)ベンゾトリアゾール、1−[(2−エチルヘキシルアミノ)メチル]ベンゾトリアゾール、2,6−ビス[(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)メチル]−4−メチルフェノール、5−メチルベンゾトリアゾール、5−フェニルテトラゾール等が挙げられる。 Examples of amines include monoethanolamine, diphenylguanidine, ditrilguanidine, ethylamine, triethylamine, cyclohexylamine, ethylenediamine, triethylenetetramine, 2-methylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole, 1,2-dimethyl. Imidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole, 1-benzyl-2-methylimidazole, 1-benzyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-methyl Imidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl imidazole, 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole, 1-cyanoethyl-2-undecyl imidazolium trimerite, 1- Cyanoethyl-2-phenylimidazolium trimeritate, 2,4-diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'- Undecylimidazolyl- (1')] -ethyl-s-triazine, 2,4-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine, 2, 4-Diamino-6- [2'-methylimidazolyl- (1')]-ethyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2-phenylimidazole isocyanuric acid adduct, 2-phenyl-4,5-dihydroxymethylimidazole, 2-Phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole, 2,3-dihydro-1H-pyrrolo [1,2-a] benzimidazole, 1-dodecyl-2-methyl-3-benzylimidazolium chloride, 2- Methylimidazoline, 2-phenylimidazolin, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine, 2,4-diamino-6-vinyl-s-triazine isocyanuric acid adduct, 2,4-diamino-6-methacryloyloxy Ethyl-s-triazine, epoxy-imidazole adduct, 2-methylbenzoimidazole, 2-octylbenzoimidazole, 2-pentylbenzoimidazole, 2- (1-ethylpentyl) benzoimidazole, 2-nonylbenzoimidazole, 2- (4) -Thiazolyl) benzoimidazole, benzoimidazole, 2- (2'-hydroxy-5'-methylphenyl) benzotriazole , 2- (2'-Hydroxy-3'-tert-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, 2- (2'-hydroxy-3', 5'-di-tert-amylphenyl) Benzotriazole, 2- (2'-hydroxy-5'-tert-octylphenyl) benzotriazole, 2,2'-methylenebis [6- (2H-benzotriazole-2-yl) -4-tert-octylphenol], 6 -(2-Benzotriazolyl) -4-tert-octyl-6'-tert-butyl-4'-methyl-2,2'-methylenebisphenol, 1,2,3-benzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] benzotriazole, carboxybenzotriazole, 1- [N, N-bis (2-ethylhexyl) aminomethyl] methylbenzotriazole, 2,2'-[[(methyl-1H- Benzotriazole-1-yl) methyl] imino] bisethanol, 1- (1', 2'-dicarboxyethyl) benzotriazole, 1- (2,3-dicarboxypropyl) benzotriazole, 1-[(2-2-) Ethylhexylamino) methyl] benzotriazole, 2,6-bis [(1H-benzotriazole-1-yl) methyl] -4-methylphenol, 5-methylbenzotriazole, 5-phenyltetrazole and the like can be mentioned.

アミンは、1種を単独で用いてもよく、2種以上を混合して用いてもよい。
本実施形態のフラックスは、アミンを、フラックス全体の総量に対して、0質量%以上8質量%含んでもよい。
One type of amine may be used alone, or two or more types may be mixed and used.
The flux of the present embodiment may contain amine in an amount of 0% by mass or more and 8% by mass based on the total amount of the flux.

ハロゲン系活性剤としては、例えば、アミンハロゲン化水素酸塩、有機ハロゲン化合物等が挙げられる。 Examples of the halogen-based activator include amine hydrogen halides and organic halogen compounds.

アミンハロゲン化水素酸塩は、アミンとハロゲン化水素とを反応させた化合物である。
アミンハロゲン化水素酸塩におけるアミンとしては、上述したアミンを用いることができ、エチルアミン、シクロヘキシルアミン、エチレンジアミン、トリエチルアミン、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン、メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール等が挙げられる。ハロゲン化水素としては、塩素、臭素、ヨウ素、フッ素の水素化物(塩化水素、臭化水素、ヨウ化水素、フッ化水素)が挙げられる。また、アミンハロゲン化水素酸塩に代えて、あるいはアミンハロゲン化水素酸塩と合わせてホウフッ化物を含んでもよく、ホウフッ化物としてホウフッ化水素酸等が挙げられる。
アミンハロゲン化水素酸塩としては、アニリン塩化水素、シクロヘキシルアミン塩化水素、アニリン臭化水素、ジフェニルグアニジン臭化水素、ジトリルグアニジン臭化水素、エチルアミン臭化水素等が挙げられる。
Amine hydrohalide is a compound obtained by reacting an amine with hydrogen halide.
As the amine in the amine hydrohalide, the above-mentioned amine can be used, and examples thereof include ethylamine, cyclohexylamine, ethylenediamine, triethylamine, diphenylguanidine, ditrilguanidine, methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole and the like. Be done. Examples of hydrogen halides include hydrides of chlorine, bromine, iodine and fluorine (hydrogen chloride, hydrogen bromide, hydrogen iodide, hydrogen fluoride). Further, borofluoric acid may be contained in place of the amine hydrohalide or in combination with the amine halide hydride, and examples of the borofluoric acid include borohydrofluoric acid.
Examples of the amine hydrogen halide include aniline hydrogen chloride, cyclohexylamine hydrogen chloride, aniline hydrogen bromide, diphenylguanidine hydrogen bromide, ditrilguanidine hydrogen bromide, ethylamine hydrogen bromide and the like.

有機ハロゲン化合物としては、trans−2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、トリアリルイソシアヌレート6臭化物、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4−ジオール、イソシアヌル酸トリス(2,3−ジブロモプロピル)、無水クロレンド酸等が挙げられる。 Examples of the organic halogen compound include trans-2,3-dibromo-2-butane-1,4-diol, triallyl isocyanurate hexabromide, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol and 3-bromo. -1-propanol, 3-bromo-1,2-propanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2,3- Dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-1,4-butanediol, 2,3-dibromo-2-butene-1,4-diol, tris isocyanurate (2,3-dibromopropyl), Examples thereof include chlorendic anhydride.

本実施の形態のフラックスは、有機ハロゲン化合物を、フラックス全体の総量に対して、0質量%以上8質量%以下、アミンハロゲン化水素酸塩を0質量%以上3質量%以下含んでもよい。 The flux of the present embodiment may contain an organic halogen compound in an amount of 0% by mass or more and 8% by mass or less and an amine hydrohalide hydrochloride in an amount of 0% by mass or more and 3% by mass or less based on the total amount of the flux.

酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系酸化防止剤等が挙げられる。
本実施の形態のフラックスは、酸化防止剤を、フラックス全体の総量に対して、0質量%以上8質量%以下含むことが好ましい。
Examples of the antioxidant include a hindered phenolic antioxidant and the like.
The flux of the present embodiment preferably contains an antioxidant in an amount of 0% by mass or more and 8% by mass or less based on the total amount of the flux.

本実施の形態のフラックスは、更に、ロジン以外の樹脂成分を含有してもよい。
ロジン以外の樹脂成分としては、例えば、アクリル樹脂、テルペン樹脂、変性テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、変性テルペンフェノール樹脂、スチレン樹脂、変性スチレン樹脂、キシレン樹脂、変性キシレン樹脂等が挙げられる。
変性テルペン樹脂としては、芳香族変性テルペン樹脂、水添テルペン樹脂、水添芳香族変性テルペン樹脂等を使用することができる。変性テルペンフェノール樹脂としては、水添テルペンフェノール樹脂等を使用することができる。変性スチレン樹脂としては、スチレンアクリル樹脂、スチレンマレイン酸樹脂等を使用することができる。変性キシレン樹脂としては、フェノール変性キシレン樹脂、アルキルフェノール変性キシレン樹脂、フェノール変性レゾール型キシレン樹脂、ポリオール変性キシレン樹脂、ポリオキシエチレン付加キシレン樹脂等が挙げられる。
The flux of the present embodiment may further contain a resin component other than rosin.
Examples of the resin component other than rosin include acrylic resin, terpene resin, modified terpene resin, terpenephenol resin, modified terpenephenol resin, styrene resin, modified styrene resin, xylene resin, modified xylene resin and the like.
As the modified terpene resin, an aromatic modified terpene resin, a hydrogenated terpene resin, a hydrogenated aromatic modified terpene resin and the like can be used. As the modified terpene phenol resin, hydrogenated terpene phenol resin or the like can be used. As the modified styrene resin, styrene acrylic resin, styrene maleic anhydride and the like can be used. Examples of the modified xylene resin include a phenol-modified xylene resin, an alkylphenol-modified xylene resin, a phenol-modified resol-type xylene resin, a polyol-modified xylene resin, and a polyoxyethylene-added xylene resin.

本実施形態のフラックスは、更に、界面活性剤を含有してもよい。
ここでの界面活性剤としては、ポリオキシアルキレンアセチレングリコール類、ポリオキシアルキレングリセリルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンエステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、ポリオキシアルキレンアルキルアミド等が挙げられる。
The flux of the present embodiment may further contain a surfactant.
Examples of the surfactant here include polyoxyalkylene acetylene glycols, polyoxyalkylene glyceryl ether, polyoxyalkylene alkyl ether, polyoxyalkylene ester, polyoxyalkylene alkyl amine, and polyoxyalkylene alkyl amide.

以上説明した本実施形態のフラックスは、はんだペースト用として特に好適なものである。かかるフラックスをはんだペーストに適用することで、はんだ付け性に優れ、信頼性を高められる。 The flux of the present embodiment described above is particularly suitable for solder paste. By applying such a flux to the solder paste, the solderability is excellent and the reliability can be enhanced.

また、本実施形態のフラックスは、はんだペースト用に限定されず、フローはんだ付け用の液状フラックスとしても適用できる。この液状フラックスは、主成分が溶剤であり、イソプロピルアルコール等の揮発性溶剤を含有し、スプレー塗布などが一般的な使用方法とされる。例えば、本実施形態のフラックスを適用した液状フラックスとしては、特許第6322881号公報に記載のフラックスにおけるロジン系樹脂の一部又は全体を、本発明に係るロジン化合物に置換したフラックスが挙げられる。本実施形態のフラックスを液状フラックスに適用することでも、はんだ付け性に優れ、信頼性を高められる。 Further, the flux of the present embodiment is not limited to that for solder paste, and can also be applied as a liquid flux for flow soldering. The main component of this liquid flux is a solvent, and it contains a volatile solvent such as isopropyl alcohol, and spray coating or the like is generally used. For example, examples of the liquid flux to which the flux of the present embodiment is applied include a flux in which a part or all of the rosin-based resin in the flux described in Japanese Patent No. 63222881 is replaced with the rosin compound according to the present invention. By applying the flux of the present embodiment to the liquid flux, the solderability is excellent and the reliability can be enhanced.

上述した本発明の効果が得られる理由は定かではないが以下のように推測される。
ロジンは、結晶性が高い成分である。フラックス残渣の主成分であるロジンが原因で、残渣に亀裂が入ることで割れが生じると、その亀裂から吸湿しやすくなる等の不都合がある。アガチン酸類は全て、ロジン、特に主成分であるアビエチン酸の構造と比較しても柔軟な構造を有している。このため、アガチン酸類の含有量が増えるほど、ロジンの結晶化が阻害されて、柔らかい残渣になりやすい。このため、本実施形態のロジン化合物を含有するフラックスによれば、本発明の効果が得られると考えられる。
The reason why the above-mentioned effects of the present invention can be obtained is not clear, but it is presumed as follows.
Rosin is a highly crystalline component. If rosin, which is the main component of the flux residue, causes cracks in the residue, there are inconveniences such as easy absorption of moisture from the cracks. All agatic acids have a flexible structure even when compared with the structure of rosin, particularly abietic acid, which is the main component. Therefore, as the content of agatinic acids increases, the crystallization of rosin is inhibited and the residue tends to be soft. Therefore, it is considered that the effect of the present invention can be obtained by the flux containing the rosin compound of the present embodiment.

<はんだペースト>
本実施の形態のはんだペーストは、上述したフラックスと、はんだ粉末とを含有する。
<Solder paste>
The solder paste of the present embodiment contains the above-mentioned flux and solder powder.

はんだ粉末は、Sn単体のはんだの粉体、または、Sn−Ag系、Sn−Cu系、Sn−Ag−Cu系、Sn−Bi系、Sn−In系等、あるいは、これらの合金にSb、Bi、Pb、In、Cu、Zn、As、Ag、Cd、Fe、Ni、Co、Au、Ge、P等を添加したはんだ合金の粉体で構成されるものを任意に用いることができる。 The solder powder is a solder powder of Sn alone, Sn-Ag type, Sn-Cu type, Sn-Ag-Cu type, Sn-Bi type, Sn-In type, etc., or Sb, an alloy thereof. Any one composed of a powder of a solder alloy to which Bi, Pb, In, Cu, Zn, As, Ag, Cd, Fe, Ni, Co, Au, Ge, P and the like are added can be used arbitrarily.

一実施形態として、はんだ粉末は、As:25〜300質量ppm、Pb:0質量ppm超え5100質量ppm以下、並びにSb:0質量ppm超え3000質量ppm以下、及びBi:0質量ppm超え10000質量ppm以下の少なくとも一種、並びに残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式を満たすはんだ合金を含むもの(以下「はんだ粉末(Sp)」という。)が好ましい。
275≦2As+Sb+Bi+Pb (1)
0.01≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2)
上記(1)式及び(2)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
In one embodiment, the solder powder has As: 25 to 300 mass ppm, Pb: 0 mass ppm and 5100 mass ppm or less, and Sb: 0 mass ppm and 3000 mass ppm or less, and Bi: 0 mass ppm and 10000 mass ppm. Those containing at least one of the following and a solder alloy having an alloy composition in which the balance is Sn and satisfying the following equations (1) and (2) (hereinafter referred to as "solder powder (Sp)") are preferable.
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb (1)
0.01 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2)
In the above equations (1) and (2), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

1.合金組成
(1)As:25〜300質量ppm
Asは、はんだペーストの粘度の経時変化を抑制することができる元素である。Asは、フラックスとの反応性が低く、また、Snに対して貴な元素であるために増粘抑制効果を発揮することができると推察される。Asが25質量ppm未満であると、増粘抑制効果を十分に発揮することができない。As含有量の下限は25質量ppm以上であり、好ましくは50質量ppm以上であり、より好ましくは100質量ppm以上である。一方、Asが多すぎるとはんだ合金の濡れ性が劣化する。As含有量の上限は300質量ppm以下であり、好ましくは250質量ppm以下であり、より好ましくは200質量ppm以下である。
1. 1. Alloy composition
(1) As: 25 to 300 mass ppm
As is an element capable of suppressing a change in the viscosity of the solder paste over time. It is presumed that As has low reactivity with flux and is a noble element with respect to Sn, so that it can exert an effect of suppressing thickening. If As is less than 25 mass ppm, the thickening suppressing effect cannot be sufficiently exhibited. The lower limit of the As content is 25 mass ppm or more, preferably 50 mass ppm or more, and more preferably 100 mass ppm or more. On the other hand, if the amount of As is too large, the wettability of the solder alloy deteriorates. The upper limit of the As content is 300 mass ppm or less, preferably 250 mass ppm or less, and more preferably 200 mass ppm or less.

(2)Pb:0質量ppm超え5100質量ppm以下、並びにSb:0質量ppm超え3000質量ppm以下、及びBi:0質量ppm超え10000質量ppm以下の少なくとも一種
Sbは、フラックスとの反応性が低く増粘抑制効果を示す元素である。本実施形態におけるはんだ合金がSbを含有する場合、Sb含有量の下限は0質量ppm超えであり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、更に好ましくは100質量ppm以上であり、特に好ましくは300質量ppm以上である。一方、Sb含有量が多すぎると、濡れ性が劣化するため、適度な含有量にする必要がある。Sb含有量の上限は3000質量ppm以下であり、好ましくは1150質量ppm以下であり、より好ましくは500質量ppm以下である。
(2) At least one kind of Sb having Pb: more than 0 mass ppm and 5100 mass ppm or less, Sb: more than 0 mass ppm and 3000 mass ppm or less, and Bi: more than 0 mass ppm and 10000 mass ppm or less has low reactivity with flux. It is an element that has an effect of suppressing thickening. When the solder alloy in the present embodiment contains Sb, the lower limit of the Sb content is 0 mass ppm or more, preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, and further preferably 100 mass ppm. It is ppm or more, and particularly preferably 300 mass ppm or more. On the other hand, if the Sb content is too large, the wettability deteriorates, so it is necessary to set the content to an appropriate level. The upper limit of the Sb content is 3000 mass ppm or less, preferably 1150 mass ppm or less, and more preferably 500 mass ppm or less.

Bi及びPbは、Sbと同様に、フラックスとの反応性が低く増粘抑制効果を示す元素である。また、Bi及びPbは、はんだ合金の液相線温度を下げるとともに、溶融はんだの粘性を低減させるため、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる元素である。 Like Sb, Bi and Pb are elements that have low reactivity with flux and exhibit an effect of suppressing thickening. Further, Bi and Pb are elements that can suppress deterioration of wettability due to As because the liquidus temperature of the solder alloy is lowered and the viscosity of the molten solder is reduced.

Pb、並びにSb、及びBiの少なくとも1元素が存在すれば、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる。本実施形態におけるはんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の下限は0質量ppm超えであり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、更に好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。Pb含有量の下限は0質量ppm超えであり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、更に好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。 If at least one element of Pb, Sb, and Bi is present, deterioration of wettability due to As can be suppressed. When the solder alloy in the present embodiment contains Bi, the lower limit of the Bi content is 0 mass ppm or more, preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, and further preferably 75 mass ppm. It is ppm or more, particularly preferably 100 mass ppm or more, and most preferably 250 mass ppm or more. The lower limit of the Pb content is 0 mass ppm or more, preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, further preferably 75 mass ppm or more, and particularly preferably 100 mass ppm or more. Yes, most preferably 250 mass ppm or more.

一方、これらの元素の含有量が多すぎると、固相線温度が著しく低下するため、液相線温度と固相線温度との温度差であるΔTが広くなりすぎる。ΔTが広すぎると、溶融はんだの凝固過程において、BiやPbの含有量が少ない高融点の結晶相が析出するために液相のBiやPbが濃縮される。その後、更に溶融はんだの温度が低下すると、BiやPbの濃度が高い低融点の結晶相が偏析してしまう。このため、はんだ合金の機械的強度等が劣化し、信頼性が劣ることになる。特に、Bi濃度が高い結晶相は硬くて脆いため、はんだ合金中で偏析すると信頼性が著しく低下する。 On the other hand, if the content of these elements is too large, the solidus temperature is remarkably lowered, so that ΔT, which is the temperature difference between the liquidus temperature and the solidus temperature, becomes too wide. If ΔT is too wide, the liquid phase Bi and Pb will be concentrated because a high melting point crystal phase having a low content of Bi and Pb is precipitated in the solidification process of the molten solder. After that, when the temperature of the molten solder is further lowered, the low melting point crystal phase having a high concentration of Bi and Pb is segregated. Therefore, the mechanical strength and the like of the solder alloy are deteriorated, and the reliability is deteriorated. In particular, since the crystal phase having a high Bi concentration is hard and brittle, segregation in the solder alloy significantly lowers the reliability.

このような観点から、本実施形態におけるはんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の上限は10000質量ppm以下であり、好ましくは1000質量ppm以下であり、より好ましくは600質量ppm以下であり、更に好ましくは500質量ppm以下である。Pb含有量の上限は5100質量ppm以下であり、好ましくは5000質量ppm以下であり、より好ましくは1000質量ppm以下であり、更に好ましくは850質量ppm以下であり、特に好ましくは500質量ppm以下である。 From this point of view, when the solder alloy in the present embodiment contains Bi, the upper limit of the Bi content is 10,000 mass ppm or less, preferably 1000 mass ppm or less, and more preferably 600 mass ppm or less. More preferably, it is 500 mass ppm or less. The upper limit of the Pb content is 5100 mass ppm or less, preferably 5000 mass ppm or less, more preferably 1000 mass ppm or less, further preferably 850 mass ppm or less, and particularly preferably 500 mass ppm or less. is there.

(3) (1)式
本実施形態におけるはんだ合金は、下記(1)式を満たす必要がある。
(3) Equation (1) The solder alloy in this embodiment must satisfy the following equation (1).

275≦2As+Sb+Bi+Pb (1)
上記(1)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb (1)
In the above formula (1), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

As、Sb、Bi及びPbは、いずれも増粘抑制効果を示す元素であり、これらの合計が275質量ppm以上である必要がある。(1)式中、As含有量を2倍にしたのは、AsがSbやBiやPbと比較して増粘抑制効果が高いためである。 As, Sb, Bi and Pb are all elements exhibiting a thickening suppressing effect, and the total of these elements needs to be 275 mass ppm or more. In the formula (1), the As content is doubled because As has a higher effect of suppressing thickening than Sb, Bi and Pb.

(1)式が275未満であると、増粘抑制効果が十分に発揮されない。(1)式の下限は275以上であり、好ましくは350以上であり、より好ましくは1200以上である。一方、(1)式の上限は、増粘抑制効果の観点では特に限定されることはないが、ΔTを適した範囲にする観点から、好ましくは25200以下であり、より好ましくは10200以下であり、更に好ましくは5300以下であり、特に好ましくは3800以下である。 If the formula (1) is less than 275, the thickening suppressing effect is not sufficiently exhibited. The lower limit of the equation (1) is 275 or more, preferably 350 or more, and more preferably 1200 or more. On the other hand, the upper limit of the formula (1) is not particularly limited from the viewpoint of the thickening suppressing effect, but is preferably 25200 or less, more preferably 10200 or less, from the viewpoint of setting ΔT in a suitable range. It is more preferably 5300 or less, and particularly preferably 3800 or less.

上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記(1a)式及び(1b)式である。 The following equations (1a) and (1b) are obtained by appropriately selecting the upper limit and the lower limit from the above preferred embodiments.

275≦2As+Sb+Bi+Pb≦25200 (1a)
275≦2As+Sb+Bi+Pb≦5300 (1b)
上記(1a)及び(1b)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
In the above formulas (1a) and (1b), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

(4) (2)式
本実施形態におけるはんだ合金は、下記(2)式を満たす必要がある。
(4) Equation (2) The solder alloy in this embodiment must satisfy the following equation (2).

0.01≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2)
上記(2)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0.01 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2)
In the above formula (2), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

As及びSbは含有量が多いと、はんだ合金の濡れ性が劣化する。一方、Bi及びPbは、Asを含有することによる濡れ性の劣化を抑制するが、含有量が多すぎるとΔTが上昇してしまうため、厳密な管理が必要である。特に、Bi及びPbを同時に含有する合金組成では、ΔTが上昇しやすい。これらを鑑みると、Bi及びPbの含有量を増加させて過度に濡れ性を向上させようとすると、ΔTが広がってしまう。一方、AsやSbの含有量を増加させて増粘抑制効果を向上させようとすると、濡れ性が劣化してしまう。そこで、本実施形態では、As及びSbのグループ、Bi及びPbのグループに分け、両グループの合計量が適正な所定の範囲内である場合に、増粘抑制効果、ΔTの狭窄化、及び濡れ性のすべてが同時に満たされるのである。 If the contents of As and Sb are large, the wettability of the solder alloy deteriorates. On the other hand, Bi and Pb suppress the deterioration of wettability due to the inclusion of As, but if the content is too large, ΔT increases, so strict control is required. In particular, in an alloy composition containing Bi and Pb at the same time, ΔT tends to increase. In view of these, if the contents of Bi and Pb are increased to excessively improve the wettability, ΔT will spread. On the other hand, if the content of As and Sb is increased to improve the thickening suppressing effect, the wettability is deteriorated. Therefore, in the present embodiment, the group is divided into As and Sb groups, Bi and Pb groups, and when the total amount of both groups is within an appropriate predetermined range, the thickening suppressing effect, ΔT narrowing, and wetting All of the sex is satisfied at the same time.

(2)式が0.01未満であると、Bi及びPbの含有量の合計がAs及びSbの含有量の合計と比較して相対的に多くなるため、ΔTが広がってしまう。(2)式の下限は0.01以上であり、好ましくは0.02以上であり、より好ましくは0.41以上であり、更に好ましくは0.90以上であり、特に好ましくは1.00以上であり、最も好ましくは1.40以上である。一方、(2)式が10.00を超えると、As及びSbの含有量の合計が、Bi及びPbの含有量の合計より相対的に多くなるため、濡れ性が劣化してしまう。(2)式の上限は10.00以下であり、好ましくは5.33以下であり、より好ましくは4.50以下であり、更に好ましくは2.67以下であり、更により好ましくは2.50以下であり、特に好ましくは2.30以下である。 If the equation (2) is less than 0.01, the total content of Bi and Pb is relatively large as compared with the total content of As and Sb, so that ΔT spreads. The lower limit of the formula (2) is 0.01 or more, preferably 0.02 or more, more preferably 0.41 or more, further preferably 0.90 or more, and particularly preferably 1.00 or more. Most preferably, it is 1.40 or more. On the other hand, when the equation (2) exceeds 10.00, the total content of As and Sb becomes relatively larger than the total content of Bi and Pb, so that the wettability deteriorates. The upper limit of the formula (2) is 10.00 or less, preferably 5.33 or less, more preferably 4.50 or less, still more preferably 2.67 or less, and even more preferably 2.50. It is less than or equal to, and particularly preferably 2.30 or less.

なお、(2)式の分母は「Bi+Pb」であり、これらを含有しないと(2)式が成立しない。すなわち、本実施形態におけるはんだ合金は、Bi及びPbの少なくとも一種を必ず含有することになる。Bi及びPbを含有しない合金組成は、前述のように、濡れ性が劣る。
上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記(2a)式である。
The denominator of Eq. (2) is "Bi + Pb", and Eq. (2) cannot be established unless these are included. That is, the solder alloy in this embodiment always contains at least one of Bi and Pb. The alloy composition containing no Bi and Pb is inferior in wettability as described above.
The following equation (2a) is obtained by appropriately selecting the upper limit and the lower limit from the above preferred embodiments.

0.31≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2a)
上記(2a)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0.31 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2a)
In the above formula (2a), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

(5) Ag:0〜4質量%及びCu:0〜0.9質量%からなる群より選択される少なくとも一種
Agは、結晶界面にAgSnを形成してはんだ合金の信頼性を向上させることができる任意元素である。また、Agはイオン化傾向がSnに対して貴な元素であり、As、Pb及びBiと共存することにより、これらの増粘抑制効果を助長する。Ag含有量は、好ましくは0〜4質量%であり、より好ましくは0.5〜3.5質量%であり、更に好ましくは1.0〜3.0質量%である。
(5) At least one Ag selected from the group consisting of Ag: 0 to 4% by mass and Cu: 0 to 0.9% by mass forms Ag 3 Sn at the crystal interface to improve the reliability of the solder alloy. It is an arbitrary element that can be used. In addition, Ag is an element whose ionization tendency is noble with respect to Sn, and when it coexists with As, Pb and Bi, it promotes the effect of suppressing thickening of these elements. The Ag content is preferably 0 to 4% by mass, more preferably 0.5 to 3.5% by mass, and further preferably 1.0 to 3.0% by mass.

Cuは、はんだ継手の接合強度を向上させることができる任意元素である。また、Cuはイオン化傾向がSnに対して貴な元素であり、As、Pb及びBiと共存することにより、これらの増粘抑制効果を助長する。Cu含有量は、好ましくは0〜0.9質量%であり、より好ましくは0.1〜0.8質量%であり、更に好ましくは0.2〜0.7質量%である。 Cu is an optional element that can improve the joint strength of solder joints. Further, Cu is an element whose ionization tendency is noble with respect to Sn, and when it coexists with As, Pb and Bi, it promotes the effect of suppressing thickening of these elements. The Cu content is preferably 0 to 0.9% by mass, more preferably 0.1 to 0.8% by mass, and even more preferably 0.2 to 0.7% by mass.

(6)残部:Sn
本実施形態におけるはんだ合金の残部はSnである。前述の元素の他に不可避的不純物を含有してもよい。不可避的不純物を含有する場合であっても、前述の効果に影響することはない。また、後述するように、本発明では含有しない元素が不可避的不純物として含有されても、前述の効果に影響することはない。Inは、含有量が多すぎるとΔTが広がるため、1000質量ppm以下であれば前述の効果に影響することはない。
(6) Remaining: Sn
The rest of the solder alloy in this embodiment is Sn. In addition to the above-mentioned elements, unavoidable impurities may be contained. Even if it contains unavoidable impurities, it does not affect the above-mentioned effects. Further, as will be described later, even if an element not contained in the present invention is contained as an unavoidable impurity, it does not affect the above-mentioned effect. If the content of In is too large, ΔT spreads, so if it is 1000 mass ppm or less, the above-mentioned effect is not affected.

2.はんだ粉末
本実施形態におけるはんだ粉末は、JIS Z 3284−1:2014における粉末サイズの分類(表2)において記号1〜8を満たすサイズ(粒度分布)を満たしていることが好ましい。より好ましくは記号4〜8を満たすサイズ(粒度分布)であり、更に好ましくは記号5〜8を満たすサイズ(粒度分布)である。粒径がこの条件を満たすと、粉末の表面積が大きすぎず粘度の上昇が抑制され、また、微細粉末の凝集が抑制されて粘度の上昇が抑えられることがある。このため、より微細な部品へのはんだ付けが可能となる。
2. 2. Solder powder The solder powder in the present embodiment preferably satisfies the size (particle size distribution) satisfying symbols 1 to 8 in the powder size classification (Table 2) in JIS Z 3284-1: 2014. A size satisfying symbols 4 to 8 (particle size distribution) is more preferable, and a size satisfying symbols 5 to 8 (particle size distribution) is more preferable. When the particle size satisfies this condition, the surface area of the powder is not too large and the increase in viscosity is suppressed, and the aggregation of the fine powder is suppressed and the increase in viscosity may be suppressed. Therefore, it is possible to solder to finer parts.

フラックスの含有量:
フラックスの含有量は、はんだペーストの全質量に対して5〜95質量%であることが好ましく、5〜15質量%であることがより好ましい。
はんだペースト中のフラックスの含有量がこの範囲であると、はんだ粉末に起因する増粘抑制効果が十分に発揮される。加えて、プリント基板及び電子部品の金属表面の腐食がより抑えられ、信頼性が高められる。
Flux content:
The flux content is preferably 5 to 95% by mass, more preferably 5 to 15% by mass, based on the total mass of the solder paste.
When the content of the flux in the solder paste is in this range, the thickening suppressing effect caused by the solder powder is sufficiently exhibited. In addition, corrosion of the metal surface of the printed circuit board and electronic components is further suppressed, and reliability is enhanced.

本実施形態のはんだペーストは、更に、酸化ジルコニウム粉末を含有することが好ましい。酸化ジルコニウムを含有することにより、経時変化に伴うペーストの粘度上昇を抑制することができる。これは、酸化ジルコニウムを含有することにより、はんだ粉末表面の酸化膜厚がフラックス中に投入する前の状態を維持するためと推測される。詳細は不明であるが、以下のように推察される。通常、フラックスの活性成分は常温でもわずかに活性を持っているため、はんだ粉末の表面酸化膜が還元により薄くなり、粉末同士が凝集する原因になっている。そこで、はんだペーストに酸化ジルコニウム粉末を添加することで、フラックスの活性成分が酸化ジルコニウム粉末と優先的に反応し、はんだ粉末表面の酸化膜が凝集しない程度に維持されると推察される。 The solder paste of the present embodiment preferably further contains zirconium oxide powder. By containing zirconium oxide, it is possible to suppress an increase in the viscosity of the paste due to aging. It is presumed that this is because the zirconium oxide is contained so that the oxide film thickness on the surface of the solder powder is maintained in the state before being put into the flux. Details are unknown, but it is inferred as follows. Normally, the active component of the flux has a slight activity even at room temperature, so that the surface oxide film of the solder powder becomes thin due to reduction, which causes the powders to aggregate with each other. Therefore, it is presumed that by adding the zirconium oxide powder to the solder paste, the active component of the flux reacts preferentially with the zirconium oxide powder, and the oxide film on the surface of the solder powder is maintained to such an extent that it does not aggregate.

このような作用効果を十分に発揮するために、はんだペースト中の酸化ジルコニウム粉末の含有量は、はんだペーストの全質量に対して0.05〜20.0質量%であることが好ましい。0.05質量%以上であると、上記作用効果を発揮することができ、20.0質量%以下であると、金属粉末の含有量を確保することができ、増粘防止効果を発揮することができる。酸化ジルコニウム粉末の含有量は、より好ましくは0.05〜10.0質量%であり、更に好ましい含有量は0.1〜3質量%である。 In order to fully exert such effects, the content of the zirconium oxide powder in the solder paste is preferably 0.05 to 20.0% by mass with respect to the total mass of the solder paste. When it is 0.05% by mass or more, the above-mentioned action and effect can be exhibited, and when it is 20.0% by mass or less, the content of the metal powder can be secured and the thickening prevention effect can be exhibited. Can be done. The content of the zirconium oxide powder is more preferably 0.05 to 10.0% by mass, and the further preferable content is 0.1 to 3% by mass.

はんだペースト中の酸化ジルコニウム粉末の粒径は、5μm以下であることが好ましい。粒径が5μm以下であると、ペーストの印刷性を維持することができる。粒径の下限は特に限定されることはないが、0.5μm以上であればよい。
上記酸化ジルコニウム粉末の粒径は、酸化ジルコニウム粉末のSEM写真を撮影し、0.1μm以上の各粉末について画像解析により投影円相当径を求め、その平均値とする。
The particle size of the zirconium oxide powder in the solder paste is preferably 5 μm or less. When the particle size is 5 μm or less, the printability of the paste can be maintained. The lower limit of the particle size is not particularly limited, but may be 0.5 μm or more.
For the particle size of the zirconium oxide powder, an SEM photograph of the zirconium oxide powder is taken, and the diameter corresponding to the projected circle is obtained by image analysis for each powder of 0.1 μm or more, and the average value thereof is used.

酸化ジルコニウムの形状は、特に限定されないが、異形状であればフラックスとの接触面積が大きく増粘抑制効果がある。球形であると、良好な流動性が得られるためにペーストとしての優れた印刷性が得られる。所望の特性に応じて適宜形状を選択すればよい。 The shape of zirconium oxide is not particularly limited, but if it has a different shape, the contact area with the flux is large and there is an effect of suppressing thickening. When it is spherical, good fluidity can be obtained, so that excellent printability as a paste can be obtained. The shape may be appropriately selected according to the desired characteristics.

はんだペーストの製造方法:
本実施形態のはんだペーストは、当業界で一般的な方法により製造される。
まず、はんだ粉末の製造は、溶融させたはんだ材料を滴下して粒子を得る滴下法や遠心噴霧する噴霧法、バルクのはんだ材料を粉砕する方法等、公知の方法を採用することができる。滴下法や噴霧法において、滴下や噴霧は、粒子状とするために不活性雰囲気や溶媒中で行うことが好ましい。そして、上記各成分を加熱混合してフラックスを調製し、フラックス中に上記はんだ粉末を導入し、撹拌、混合して製造することができる。
How to make solder paste:
The solder paste of this embodiment is produced by a method common in the art.
First, for the production of the solder powder, known methods such as a dropping method in which molten solder material is dropped to obtain particles, a spraying method in which centrifugal spray is applied, and a method in which bulk solder material is crushed can be adopted. In the dropping method and the spraying method, the dropping and spraying are preferably performed in an inert atmosphere or a solvent in order to form particles. Then, each of the above components can be heated and mixed to prepare a flux, and the solder powder can be introduced into the flux, stirred and mixed for production.

<本実施の形態のフラックス及びはんだペーストの作用効果例>
本実施の形態においては、特定の割合でアガチン酸類を含むロジン化合物と、好ましくはチキソ剤及び溶剤と、を含むフラックスを採用するため、プリント基板及び電子部品の金属表面の腐食がより抑えられてはんだ付け性に優れ、かつ、信頼性が高められる。
加えて、かかるフラックスと、はんだ粉末としてSnとともに特定の元素(As、Pb並びにSb及びBiの少なくとも一種)を特定の割合で併用した合金組成を有するはんだ合金、を含むはんだ粉末と、を組み合わせたはんだペーストでは、粘度上昇等の経時変化が起きにくく、濡れ性に優れ、高い機械的特性を示す。更には、このはんだペーストによれば、腐食性を低くでき、信頼性を高めることができる。
<Example of action and effect of flux and solder paste of this embodiment>
In the present embodiment, since a flux containing a rosin compound containing agatanic acids in a specific ratio, preferably a soldering agent and a solvent is used, corrosion of the metal surface of the printed circuit board and electronic parts is further suppressed. Excellent solderability and high reliability.
In addition, such a flux is combined with a solder powder containing Sn and a solder alloy having an alloy composition in which a specific element (at least one of As, Pb and Sb and Bi) is used in a specific ratio as a solder powder. The solder paste is less likely to change with time such as an increase in viscosity, has excellent wettability, and exhibits high mechanical properties. Further, according to this solder paste, the corrosiveness can be lowered and the reliability can be improved.

本発明に係るはんだペーストを用いた接合方法は、例えばリフロー法を用いて常法に従って行えばよい。フローソルダリングを行う場合のはんだ合金の溶融温度は概ね液相線温度から20℃程度高い温度でよい。また、本実施の形態におけるはんだ合金を用いて接合する場合には、凝固時の冷却速度を考慮した方が組織の微細化の観点から好ましい。例えば2〜3℃/s以上の冷却速度ではんだ継手を冷却する。この他の接合条件は、はんだ合金の合金組成に応じて適宜調整することができる。 The joining method using the solder paste according to the present invention may be carried out according to a conventional method using, for example, a reflow method. When flow soldering is performed, the melting temperature of the solder alloy may be approximately 20 ° C. higher than the liquidus temperature. Further, when joining using the solder alloy in the present embodiment, it is preferable to consider the cooling rate at the time of solidification from the viewpoint of microstructure miniaturization. For example, the solder joint is cooled at a cooling rate of 2 to 3 ° C./s or higher. Other joining conditions can be appropriately adjusted according to the alloy composition of the solder alloy.

本実施の形態におけるはんだ合金は、その原材料として低α線量材を使用することにより低α線量合金を製造することができる。このような低α線量合金は、メモリ周辺のはんだバンプの形成に用いられるとソフトエラーを抑制することが可能となる。 As the solder alloy in the present embodiment, a low α-dose alloy can be produced by using a low α-dose material as a raw material thereof. When such a low α-dose alloy is used for forming solder bumps around a memory, soft errors can be suppressed.

以下、実施例により本発明を更に詳細に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these examples.

[ロジン化合物の製造]
ロジン化合物(I)の製造:
ベトナム産水添ロジン200kgを減圧蒸留装置に仕込み、窒素シール下に200Paの減圧下において、250℃で3時間蒸留を行った。そして、初留分、主留分などの各留分を取り除き、減圧蒸留装置に残存したロジン化合物(IA)を得た。
次に、減圧蒸留装置内のロジン化合物(IA)にベトナム産水添ロジン100kgをさらに加え(再投入)、上記と同様の蒸留条件で3時間蒸留を行い、減圧蒸留装置に残存したロジン化合物(IB)を得た。そして、液相温度235℃以上260℃以下の留分を取り出し、最終精製物であるロジン(I)を得た。
[Manufacturing of rosin compounds]
Production of rosin compound (I):
200 kg of hydrogenated rosin produced in Vietnam was charged into a vacuum distillation apparatus, and distilled at 250 ° C. for 3 hours under a reduced pressure of 200 Pa under a nitrogen seal. Then, each fraction such as the initial fraction and the main fraction was removed to obtain a rosin compound (IA) remaining in the vacuum distillation apparatus.
Next, 100 kg of hydrogenated rosin produced in Vietnam was further added (recharged) to the rosin compound (IA) in the vacuum distillation apparatus, and distillation was performed for 3 hours under the same distillation conditions as above, and the rosin compound remaining in the vacuum distillation apparatus (re-injection). IB) was obtained. Then, a fraction having a liquid phase temperature of 235 ° C. or higher and 260 ° C. or lower was taken out to obtain a final purified product, rosin (I).

ロジン化合物(II)の製造:
上記「ロジン化合物(I)の製造」と同様の蒸留を3回繰り返して行い(すなわち、水添ロジンの再投入、蒸留、水添ロジンの再投入、蒸留を繰り返して、釜残のアガチン酸を濃縮)、最終精製物であるロジン化合物(II)を得た。
Production of rosin compound (II):
Distillation similar to the above "Production of rosin compound (I)" was repeated three times (that is, re-injection of hydrogenated rosin, distillation, re-injection of hydrogenated rosin, and distillation were repeated to remove the agatic acid remaining in the kettle. (Concentration), the final purified product, rosin compound (II), was obtained.

ロジン化合物(III)の製造:
上記「ロジン化合物(I)の製造」と同様の蒸留を5回繰り返して行い、最終精製物であるロジン化合物(III)を得た。
Production of rosin compound (III):
Distillation similar to the above "Production of rosin compound (I)" was repeated 5 times to obtain rosin compound (III) as a final purified product.

ロジン化合物(IV)の製造:
上記「ロジン化合物(I)の製造」と同様の蒸留を7回繰り返して行い、最終精製物であるロジン化合物(IV)を得た。
Production of rosin compound (IV):
Distillation similar to the above "Production of rosin compound (I)" was repeated 7 times to obtain rosin compound (IV) as a final purified product.

ロジン化合物(V)の製造:
上記「ロジン化合物(I)の製造」におけるロジン化合物(IA)を、ロジン化合物(V)として用いた。
Production of rosin compound (V):
The rosin compound (IA) in the above-mentioned "Production of rosin compound (I)" was used as the rosin compound (V).

そして、得られたロジン化合物(I)〜(V)について、ゲル浸透クロマトグラフィー(GPC)装置を用い、分子量を測定することにより、各ロジン化合物に含まれる成分の分析を行った。この評価結果を以下の表1に示す。
なお、表1中の各成分の数値は、ロジン化合物全体の質量に対する各成分の質量%を表す。
Then, with respect to the obtained rosin compounds (I) to (V), the components contained in each rosin compound were analyzed by measuring the molecular weight using a gel permeation chromatography (GPC) apparatus. The evaluation results are shown in Table 1 below.
The numerical value of each component in Table 1 represents the mass% of each component with respect to the total mass of the rosin compound.

Figure 2020192579
Figure 2020192579

[フラックスの調製]
ロジン化合物としてロジン化合物(I)25質量部と、チキソ剤であるアミド化合物としてポリアミド6質量部と、溶剤としてテトラエチレングリコールモノメチルエーテル69質量部と、を混合してフラックス(実施例1に示す組成からなるフラックス)を調製した。
[Preparation of flux]
A flux (composition shown in Example 1) is obtained by mixing 25 parts by mass of rosin compound (I) as a rosin compound, 6 parts by mass of polyamide as an amide compound as a thixo agent, and 69 parts by mass of tetraethylene glycol monomethyl ether as a solvent. Flux consisting of) was prepared.

また、表2〜10に示す通り、前記の実施例1と同様にして、各成分を混合することにより、実施例2〜50及び比較例1〜3に示す各組成からなるフラックスをそれぞれ調製した。 Further, as shown in Tables 2 to 10, fluxes having the respective compositions shown in Examples 2 to 50 and Comparative Examples 1 to 3 were prepared by mixing each component in the same manner as in Example 1 described above. ..

なお、表2〜10における組成は、フラックスの全量を100質量%とした場合の質量%である。
表中、ポリアミドとして脂肪族ポリアミドを用いた。ビスアミドとしてヘキサメチレンビスヒドロキシステアリン酸アミドを用いた。モノアミドとしてp−トルアミドを用いた。
The composition in Tables 2 to 10 is mass% when the total amount of flux is 100% by mass.
In the table, an aliphatic polyamide was used as the polyamide. Hexamethylenebishydroxystearic acid amide was used as the bisamide. P-toluamide was used as the monoamide.

次に、表2〜10に示す各例のフラックスを用いた場合について、フラックスの酸価(mgKOH/g)の測定を行い、はんだ付け性の評価を行った。また、フラックスの水溶液比抵抗(電気抵抗率)(Ω・m)の測定を行い、信頼性の評価を行った。詳細は以下のとおりである。 Next, the acid value (mgKOH / g) of the flux was measured and the solderability was evaluated when the fluxes of each example shown in Tables 2 to 10 were used. In addition, the aqueous solution specific resistance (electric resistivity) (Ω · m) of the flux was measured to evaluate the reliability. The details are as follows.

<はんだ付け性の評価>
(1)検証方法
表2〜10に示す各例のフラックスについて、JIS Z 3197:2012に基づいて酸価(mgKOH/g)を測定した。そして、以下の判定基準に従って、はんだ付け性の評価を行った。
<Evaluation of solderability>
(1) Verification method The acid value (mgKOH / g) of the flux of each example shown in Tables 2 to 10 was measured based on JIS Z 3197: 2012. Then, the solderability was evaluated according to the following criteria.

(2)判定基準
○:フラックスの酸価が50mgKOH/g以上であり、十分な活性を有する。
×:フラックスの酸価が50mgKOH/g未満であり、活性が不十分である。
はんだペーストにおいて、フラックスの酸価が高くなるほど、金属表面を清浄化する作用が強くなり、はんだ付け性が良いことを意味する。
(2) Judgment criteria ◯: The acid value of the flux is 50 mgKOH / g or more, and it has sufficient activity.
X: The acid value of the flux is less than 50 mgKOH / g, and the activity is insufficient.
In the solder paste, the higher the acid value of the flux, the stronger the action of cleaning the metal surface, which means that the solderability is good.

<信頼性の評価>
(1)検証方法
表2〜10に示す各例のフラックスについて、JIS Z 3197:2012に基づいて水溶液比抵抗(電気抵抗率)(Ω・m)を測定した。そして、以下の判定基準に従って、信頼性の評価を行った。
<Evaluation of reliability>
(1) Verification method For the flux of each example shown in Tables 2 to 10, the aqueous solution resistivity (electric resistivity) (Ω · m) was measured based on JIS Z 3197: 2012. Then, the reliability was evaluated according to the following criteria.

(2)判定基準
○○:フラックスの水溶液比抵抗が1000Ω・m以上である。
○:フラックスの水溶液比抵抗が500Ω・m以上1000Ω・m未満である。
×:フラックスの水溶液比抵抗が500Ω・m未満である。
はんだペーストにおいて、フラックスの水溶液比抵抗が高くなるほど、金属表面の腐食抑制効果が強くなり、信頼性が高いことを意味する。
(2) Judgment criteria XX: The aqueous solution resistivity of the flux is 1000 Ω · m or more.
◯: The aqueous solution resistivity of the flux is 500 Ω · m or more and less than 1000 Ω · m.
X: The aqueous solution resistivity of the flux is less than 500 Ω · m.
In the solder paste, the higher the aqueous solution resistivity of the flux, the stronger the corrosion suppressing effect on the metal surface, which means that the reliability is high.

<総合評価(1)>
〇:表2〜10において、はんだ付け性、信頼性の各評価が、いずれも〇である。
×:表2〜10において、はんだ付け性、信頼性の各評価の各評価のうち、少なくとも1つが×である。
<Comprehensive evaluation (1)>
〇: In Tables 2 to 10, each evaluation of solderability and reliability is 〇.
X: In Tables 2 to 10, at least one of the evaluations of solderability and reliability is x.

評価した結果を表2〜10に示す。 The evaluation results are shown in Tables 2-10.

Figure 2020192579
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実施例1に示す組成からなるフラックスを用いた場合、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。
これらの結果から、実施例1に示す組成からなるフラックスと、後述の試験例1〜108に示す各合金組成からなるはんだ粉末のそれぞれと、を混合(はんだ粉末:フラックス=89:11(質量比))することにより、粘度上昇等の経時変化が起きにくく、濡れ性に優れ、高い機械的特性を有するとともに、はんだ付け性に優れ、かつ、信頼性が高められたはんだペーストを調製できると言える。
When the flux having the composition shown in Example 1 was used, sufficient effects were obtained for the effect of cleaning the metal surface and suppressing the corrosion of the metal surface.
From these results, the flux having the composition shown in Example 1 and the solder powder having each alloy composition shown in Test Examples 1 to 108 described later were mixed (solder powder: flux = 89: 11 (mass ratio). )) It can be said that a solder paste that does not easily change with time such as an increase in viscosity, has excellent wettability, has high mechanical properties, has excellent solderability, and has improved reliability can be prepared. ..

実施例2〜4に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、チキソ剤であるアミド化合物の種類を変える、複数種類のアミド化合物を組み合わせることでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 2 to 4, the metal surface can also be combined with a plurality of types of amide compounds containing the rosin compound (I) within the range specified in the present invention and changing the type of the amide compound which is a thixo agent. Sufficient effect was obtained on the cleaning of the metal surface and the effect of suppressing corrosion on the metal surface.

実施例5に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、複数種類のアミド化合物を組み合わせる、エステル化合物を含むことでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Example 5, the metal surface can be cleaned and the metal surface can be corroded by including the ester compound, which contains the rosin compound (I) within the range specified in the present invention and combines a plurality of types of amide compounds. A sufficient effect was obtained for the inhibitory effect.

実施例6に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、複数種類のアミド化合物を組み合わせる、エステル化合物を含む、溶剤の種類を変えることでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Example 6, the metal surface can be cleaned by combining the rosin compound (I) within the range specified in the present invention, combining a plurality of types of amide compounds, including an ester compound, and changing the type of solvent. A sufficient effect was obtained on the effect of suppressing corrosion of the metal surface.

実施例7〜8に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)の量を増減することでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 7 to 8, increasing or decreasing the amount of the rosin compound (I) within the range specified in the present invention also has a sufficient effect on the effect of cleaning the metal surface and suppressing the corrosion of the metal surface. was gotten.

実施例9〜12に示すように、ロジン化合物の種類を変える、複数種類のロジン化合物を組み合わせることでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 9 to 12, even by combining a plurality of types of rosin compounds by changing the type of the rosin compound, sufficient effects were obtained for the effect of cleaning the metal surface and suppressing the corrosion of the metal surface.

実施例13〜15に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、有機酸を含む、チキソ剤であるアミド化合物の量を増やすことでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 13 to 15, the metal surface can also be cleaned by increasing the amount of the amide compound, which is a thixo agent, containing the rosin compound (I) within the range specified in the present invention and containing the organic acid. , A sufficient effect was obtained on the corrosion suppressing effect of the metal surface.

実施例16〜20に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、有機酸の種類を変える、複数種類の有機酸を組み合わせる、有機酸の量を変えることでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 16 to 20, the rosin compound (I) within the range specified in the present invention is contained, and the type of organic acid is changed, a plurality of types of organic acids are combined, or the amount of organic acid is changed. , Sufficient effect was obtained for cleaning the metal surface and suppressing corrosion of the metal surface.

実施例21、22に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、有機酸を含む、アミンを含むことでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 21 and 22, the effect of purifying the metal surface and suppressing the corrosion of the metal surface also by containing the rosin compound (I) within the range specified in the present invention, the organic acid, and the amine. Sufficient effect was obtained.

実施例23、24に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、有機酸を含む、ハロゲン系活性剤を含むことでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 23 and 24, even if a halogen-based activator containing a rosin compound (I) within the range specified in the present invention and containing an organic acid is contained, the metal surface can be cleaned and the metal surface can be cleaned. A sufficient effect was obtained for the corrosion suppression effect.

実施例25に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、有機酸を含む、酸化防止剤を含むことでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Example 25, even if the rosin compound (I) within the range specified in the present invention is contained and an antioxidant containing an organic acid is contained, the effect of cleaning the metal surface and suppressing the corrosion of the metal surface is also achieved. Sufficient effect was obtained.

実施例26に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、有機酸の量を減らしても、アミンを含む、ハロゲン系活性剤を含む、酸化防止剤を含むことにより、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Example 26, it contains a rosin compound (I) within the range specified in the present invention, and even if the amount of the organic acid is reduced, it contains an antioxidant containing an amine, including a halogen-based activator. As a result, a sufficient effect was obtained on the effect of cleaning the metal surface and suppressing the corrosion of the metal surface.

実施例27、28に示すように、有機酸を含み、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)の量を変えても、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 27 and 28, even if the amount of the rosin compound (I) containing an organic acid and within the range specified in the present invention is changed, the effect of cleaning the metal surface and suppressing the corrosion of the metal surface can be obtained. A sufficient effect was obtained.

実施例29〜33に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、エステル化合物を含み、有機酸の種類を変える、複数種類の有機酸を組み合わせる、有機酸の量を変えることでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 29 to 33, an organic acid containing a rosin compound (I) within the range specified in the present invention, containing an ester compound, changing the type of organic acid, combining a plurality of types of organic acids, Even by changing the amount, a sufficient effect was obtained on the cleaning of the metal surface and the effect of suppressing corrosion on the metal surface.

実施例34、35に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、エステル化合物を含み、有機酸を含み、アミンを含むことでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 34 and 35, the metal surface can be cleaned by containing the rosin compound (I) within the range specified in the present invention, the ester compound, the organic acid, and the amine. A sufficient effect was obtained on the surface corrosion suppressing effect.

実施例36、37に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、エステル化合物を含み、有機酸を含み、ハロゲン系活性剤を含むことでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 36 and 37, the metal surface can also be cleaned by containing the rosin compound (I) within the range specified in the present invention, containing the ester compound, containing the organic acid, and containing the halogen-based activator. A sufficient effect was obtained on the effect of suppressing corrosion of the metal surface.

実施例38に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、エステル化合物を含み、有機酸を含み、酸化防止剤を含むことでも、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Example 38, the metal surface can be cleaned by containing the rosin compound (I) within the range specified in the present invention, the ester compound, the organic acid, and the antioxidant. A sufficient effect was obtained on the surface corrosion suppressing effect.

実施例39に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、エステル化合物を含み、有機酸の量を減らしても、アミンを含み、ハロゲン系活性剤を含み、更に酸化防止剤を含むことにより、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Example 39, the rosin compound (I) within the range specified in the present invention is contained, the ester compound is contained, and even if the amount of the organic acid is reduced, the amine is contained and the halogen-based activator is contained. Further, by containing an antioxidant, a sufficient effect was obtained for cleaning the metal surface and suppressing corrosion of the metal surface.

実施例40、41に示すように、有機酸を含み、エステル化合物を含み、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)の量を変えても、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 40 and 41, even if the amount of the rosin compound (I) containing the organic acid, the ester compound, and the range specified in the present invention is changed, the metal surface can be cleaned and the metal surface can be cleaned. A sufficient effect was obtained for the corrosion suppression effect.

実施例42に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、有機酸を含み、エステル化合物を含み、アミド化合物の量を増やしても、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Example 42, the metal surface is cleaned even if the rosin compound (I) within the range specified in the present invention is contained, the organic acid is contained, the ester compound is contained, and the amount of the amide compound is increased. A sufficient effect was obtained on the corrosion suppressing effect of the metal surface.

実施例43〜46に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、有機酸を含み、エステル化合物を含み、アミド化合物の量を減らしても、エステル化合物の量を増やすことにより、フラックスのチキソ性、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 43 to 46, the amount of the ester compound even if the rosin compound (I) within the range specified in the present invention is contained, the organic acid is contained, the ester compound is contained, and the amount of the amide compound is reduced. By increasing the amount of the mixture, sufficient effects were obtained for the tixo property of the flux, the cleaning of the metal surface, and the effect of suppressing corrosion of the metal surface.

実施例47に示すように、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含み、有機酸を含み、チキソ剤であるアミド化合物の量を増やしても、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Example 47, even if the amount of the rosin compound (I) within the range specified in the present invention, the organic acid, and the amide compound which is a thixo agent is increased, the metal surface can be cleaned and the metal can be cleaned. A sufficient effect was obtained on the surface corrosion suppressing effect.

実施例48、49に示すように、有機酸を含み、チキソ剤であるアミド化合物の含有量を減らしても、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含むことにより、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Examples 48 and 49, even if the content of the amide compound which contains an organic acid and is a thixo agent is reduced, the metal surface is contained by containing the rosin compound (I) within the range specified in the present invention. Sufficient effect was obtained on the cleaning of the metal surface and the effect of suppressing corrosion on the metal surface.

実施例50に示すように、有機酸を含み、エステル化合物を含み、本発明で規定された範囲内のロジン化合物(I)を含むことにより、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られた。 As shown in Example 50, by containing an organic acid, an ester compound, and a rosin compound (I) within the range specified in the present invention, the metal surface can be cleaned and the metal surface can be suppressed from corrosion. On the other hand, a sufficient effect was obtained.

これに対して、比較例1に示すように、アガチン酸類の含有量が本発明で規定された範囲外であるロジン化合物(V)を含むことにより、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られなかった。 On the other hand, as shown in Comparative Example 1, by containing the rosin compound (V) whose content of agatinic acids is outside the range specified in the present invention, the metal surface is cleaned and the metal surface is suppressed from corrosion. A sufficient effect was not obtained for the effect.

また、比較例2に示すように、本発明で規定された範囲内でロジン化合物を含まないと、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して十分な効果が得られなかった。 Further, as shown in Comparative Example 2, if the rosin compound was not contained within the range specified in the present invention, a sufficient effect on the effect of cleaning the metal surface and suppressing the corrosion of the metal surface could not be obtained.

また、比較例3との対比より、本発明を適用したフラックスにおいては、有機酸がより少ない量で、金属表面の清浄化、及び金属表面の腐食抑制効果のいずれに対しても十分な効果が得られることが確認された。 Further, as compared with Comparative Example 3, in the flux to which the present invention is applied, a smaller amount of organic acid has a sufficient effect on both the cleaning of the metal surface and the corrosion suppressing effect of the metal surface. It was confirmed that it could be obtained.

以上説明したように、実施例1〜50に示す組成からなるフラックスを用いた場合、金属表面の清浄化、金属表面の腐食抑制効果に対して、いずれも十分な効果が得られた。 As described above, when the flux having the composition shown in Examples 1 to 50 was used, sufficient effects were obtained for both the cleaning of the metal surface and the corrosion suppressing effect of the metal surface.

[はんだペーストの製造]
表11〜16に示す合金組成からなり、JIS Z 3284−1:2014における粉末サイズの分類(表2)において記号4を満たすサイズ(粒度分布)のはんだ粉末(試験例1〜108、試験例201〜278)を作製した。
但し、試験例1、5〜11、13〜15、18、19、23〜29、31〜33、36、37、41〜47、49〜51、54、55、59〜65、67〜69、72、73、77〜83、85〜87、90、91、95〜101、103〜105、108のはんだ粉末が、上述した「はんだ粉末(Sp)」に該当するものである。
[Manufacturing of solder paste]
Solder powders having the alloy compositions shown in Tables 11 to 16 and having a size (particle size distribution) satisfying symbol 4 in the powder size classification (Table 2) in JIS Z 3284-1: 2014 (Test Examples 1 to 108, Test Example 201). ~ 278) was prepared.
However, Test Examples 1, 5-11, 13-15, 18, 19, 23-29, 31-33, 36, 37, 41-47, 49-51, 54, 55, 59-65, 67-69, The solder powders of 72, 73, 77 to 83, 85 to 87, 90, 91, 95 to 101, 103 to 105, and 108 correspond to the above-mentioned "solder powder (Sp)".

前記の、実施例21に示す組成からなるフラックスと、表11〜16に示す各例の合金組成からなるはんだ粉末と、を混合して、はんだペーストを作製した。フラックスとはんだ粉末との質量比は、フラックス:はんだ粉末=11:89とした。 The above-mentioned flux having the composition shown in Example 21 and the solder powder having the alloy composition of each example shown in Tables 11 to 16 were mixed to prepare a solder paste. The mass ratio of the flux to the solder powder was set to flux: solder powder = 11:89.

各例のはんだ粉末を用いた場合について、はんだペーストにおける粘度の経時変化を測定した。また、はんだ粉末の液相線温度及び固相線温度を測定した。更に、作製直後のはんだペーストを用いて濡れ性の評価を行った。詳細は以下のとおりである。 When the solder powder of each example was used, the change in viscosity of the solder paste with time was measured. In addition, the liquidus temperature and the solidus temperature of the solder powder were measured. Furthermore, the wettability was evaluated using the solder paste immediately after production. The details are as follows.

<はんだペーストにおける粘度の経時変化の評価>
(1)検証方法
作製直後の各はんだペーストについて、株式会社マルコム社製:PCU−205を用い、回転数:10rpm、25℃、大気中で12時間粘度を測定した。
<Evaluation of changes in viscosity of solder paste over time>
(1) Verification method For each solder paste immediately after production, the viscosity was measured for 12 hours in the air at a rotation speed of 10 rpm and 25 ° C. using PCU-205 manufactured by Malcolm Co., Ltd.

(2)判定基準
A:12時間後の粘度がはんだペーストを作製後30分経過した時の粘度と比較して1.2倍以下である。
B:12時間後の粘度がはんだペーストを作製後30分経過した時の粘度と比較して1.2倍を超える。
(2) Judgment Criteria A: The viscosity after 12 hours is 1.2 times or less as compared with the viscosity when 30 minutes have passed after the solder paste was prepared.
B: The viscosity after 12 hours exceeds 1.2 times the viscosity when 30 minutes have passed after the solder paste was prepared.

<ΔTの評価>
(1)検証方法
フラックスと混合する前のはんだ粉末について、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、型番:EXSTAR DSC7020を用い、サンプル量:約30mg、昇温速度:15℃/minにてDSC測定を行い、固相線温度及び液相線温度を得た。得られた液相線温度から固相線温度を引いてΔTを求めた。
<Evaluation of ΔT>
(1) Verification method For the solder powder before mixing with the flux, DSC measurement was performed using SII Nanotechnology Co., Ltd., model number: EXSTAR DSC7020, sample volume: about 30 mg, and heating rate: 15 ° C./min. The solid-phase line temperature and the liquid-phase line temperature were obtained. ΔT was obtained by subtracting the solidus temperature from the obtained liquidus temperature.

(2)判定基準
A:ΔTが10℃以下である。
B:ΔTが10℃を超える。
(2) Judgment criteria A: ΔT is 10 ° C. or lower.
B: ΔT exceeds 10 ° C.

<濡れ性の評価>
作製直後の各はんだペーストをCu板上に印刷し、リフロー炉でN雰囲気中、1℃/sの昇温速度で25℃から260℃まで加熱した後、室温まで冷却した。冷却後のはんだバンプの外観を光学顕微鏡で観察することで濡れ性を評価した。
<Evaluation of wettability>
Each solder paste immediately after production was printed on the Cu plate, a N 2 atmosphere in a reflow furnace, after heating from 25 ° C. to 260 ° C. at a heating rate of 1 ° C. / s, and cooled to room temperature. Wetability was evaluated by observing the appearance of the solder bumps after cooling with an optical microscope.

A:溶融しきれていないはんだ粉末が観察されない場合。
B:溶融しきれていないはんだ粉末が観察された場合。
A: When unmelted solder powder is not observed.
B: When unmelted solder powder is observed.

<総合評価(2)>
A:表11〜16において、経時変化、ΔT、濡れ性の各評価が、いずれも〇である。
B:表11〜16において、経時変化、ΔT、濡れ性の各評価のうち、少なくとも1つが×である。
<Comprehensive evaluation (2)>
A: In Tables 11 to 16, each evaluation of aging, ΔT, and wettability is 〇.
B: In Tables 11 to 16, at least one of the evaluations of change with time, ΔT, and wettability is ×.

評価した結果を表11〜16に示す。 The evaluation results are shown in Tables 11-16.

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表11〜16に示すように、試験例1〜108のはんだ粉末を用いた場合、いずれの合金組成においても、増粘抑制効果、ΔTの狭窄化、及び優れた濡れ性を示すことが確認された。 As shown in Tables 11 to 16, it was confirmed that when the solder powders of Test Examples 1 to 108 were used, the thickening suppressing effect, the narrowing of ΔT, and the excellent wettability were exhibited in any of the alloy compositions. It was.

これに対して、試験例201、214、227、240、253及び266のはんだ粉末を用いた場合、Asを含有しないため、増粘抑制効果が発揮されない結果を示した。 On the other hand, when the solder powders of Test Examples 201, 214, 227, 240, 253 and 266 were used, the result showed that the thickening suppressing effect was not exhibited because As was not contained.

試験例202、215、228、241、254及び267のはんだ粉末を用いた場合、(1)式が下限未満であるため、増粘抑制効果が発揮されない結果を示した。 When the solder powders of Test Examples 202, 215, 228, 241, 254 and 267 were used, the effect of suppressing thickening was not exhibited because the formula (1) was less than the lower limit.

試験例203、216、229、242、255及び268のはんだ粉末を用いた場合、(2)式が上限を超えるため、濡れ性が劣る結果を示した。 When the solder powders of Test Examples 203, 216, 229, 242, 255 and 268 were used, the wettability was inferior because the equation (2) exceeded the upper limit.

試験例204、205、217、218、230、231、243、244、256、257、269及び270のはんだ粉末を用いた場合、As含有量及び(2)式が上限を超えているため、濡れ性が劣る結果を示した。 When the solder powders of Test Examples 204, 205, 217, 218, 230, 231, 243, 244, 256, 257, 269 and 270 were used, the As content and the formula (2) exceeded the upper limit, so that they were wet. The result was inferior in sex.

試験例206〜208、219〜221、232〜234、245〜247、258〜260及び271〜273のはんだ粉末を用いた場合、Sb含有量が上限を超えているため、濡れ性が劣る結果を示した。 When the solder powders of Test Examples 206 to 208, 219 to 221 and 232 to 234, 245 to 247, 258 to 260 and 271 to 273 were used, the Sb content exceeded the upper limit, resulting in poor wettability. Indicated.

試験例209、210、222、223、235、236、248、249、261、262、274及び275のはんだ粉末を用いた場合、Bi含有量が上限を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。 When the solder powders of Test Examples 209, 210, 222, 223, 235, 236, 248, 249, 261, 262, 274 and 275 were used, ΔT exceeded 10 ° C. because the Bi content exceeded the upper limit. The results are shown.

試験例211、213、224、226、237、239、250、252、263、265、276及び278のはんだ粉末を用いた場合、Pb含有量が上限を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。 When the solder powders of Test Examples 211, 213, 224, 226, 237, 239, 250, 252, 263, 265, 276 and 278 are used, ΔT exceeds 10 ° C. because the Pb content exceeds the upper limit. The results are shown.

試験例212、225、238、251、264及び277のはんだ粉末を用いた場合、Bi及びPbを含有せず(2)式が成立しなかったため、濡れ性が劣る結果を示した。 When the solder powders of Test Examples 212, 225, 238, 251, 264 and 277 were used, Bi and Pb were not contained and the equation (2) was not established, so that the wettability was inferior.

また、実施例1〜20、22〜50に示す各組成からなるフラックスと、試験例1〜108に示す各合金組成からなるはんだ粉末と、をそれぞれ混合(はんだ粉末:フラックス=89:11(質量比))して作製したはんだペーストの場合も、実施例21に示す組成からなるフラックスを用いたはんだペーストの場合と同様、増粘抑制効果、ΔTの狭窄化、及び優れた濡れ性を示すことが確認された。 Further, the flux having each composition shown in Examples 1 to 20 and 22 to 50 and the solder powder having each alloy composition shown in Test Examples 1 to 108 are mixed (solder powder: flux = 89: 11 (mass)). The solder paste produced in (ratio)) also exhibits a thickening suppressing effect, a narrowing of ΔT, and excellent wettability, as in the case of a solder paste using a flux having the composition shown in Example 21. Was confirmed.

これらの結果から、実施例1〜50に示す各組成からなるフラックスのそれぞれと、試験例1〜108に示す各合金組成からなるはんだ粉末のそれぞれと、を混合することにより、粘度上昇等の経時変化が起きにくく、濡れ性に優れ、高い機械的特性を有するとともに、はんだ付け性に優れ、かつ、信頼性が高められたはんだペーストを調製できると言える。 From these results, by mixing each of the fluxes having each composition shown in Examples 1 to 50 and each of the solder powders having each alloy composition shown in Test Examples 1 to 108, the viscosity is increased with time. It can be said that a solder paste that is less likely to change, has excellent wettability, has high mechanical properties, is excellent in solderability, and has improved reliability can be prepared.

また、上述した各評価において、フラックスに配合したロジン化合物(I)〜(V)を、ベトナム産ロジン(未水添ロジン)から製造したロジン化合物、に変更した場合の各評価においても、ロジン化合物(I)〜(V)を配合した場合と同様の結果が得られた。 Further, in each of the above evaluations, the rosin compound (I) to (V) blended in the flux is also changed to a rosin compound produced from Vietnamese rosin (unhydrogenated rosin). The same results as when (I) to (V) were blended were obtained.

本発明によれば、腐食性を低くでき、信頼性を高められる、はんだペースト用フラックスを提供することができる。
また、本発明によれば、粘度上昇等の経時変化が起きにくく、プリント基板及び電子部品の金属表面の腐食がより抑えられてはんだ付け性に優れたはんだペーストを提供することができる。
According to the present invention, it is possible to provide a flux for solder paste, which can have low corrosiveness and high reliability.
Further, according to the present invention, it is possible to provide a solder paste which is less likely to change with time such as an increase in viscosity, further suppresses corrosion of the metal surface of the printed circuit board and electronic components, and has excellent solderability.

Claims (18)

15質量%を超え70質量%以下のアガチン酸類と、ロジンとを含む、ロジン化合物。 A rosin compound containing rosin and agatinic acids in an amount of more than 15% by mass and 70% by mass or less. 請求項1に記載のロジン化合物を含有する、フラックス。 A flux containing the rosin compound according to claim 1. 更に、チキソ剤及び溶剤を含有する、請求項2に記載のフラックス。 The flux according to claim 2, further containing a thixotropic agent and a solvent. 前記チキソ剤は、アミド化合物及びエステル化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項3に記載のフラックス。 The flux according to claim 3, wherein the thixotropy contains at least one selected from the group consisting of an amide compound and an ester compound. 前記アミド化合物は、ポリアミド、ビスアミド及びモノアミドからなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項4に記載のフラックス。 The flux according to claim 4, wherein the amide compound contains at least one selected from the group consisting of polyamide, bisamide and monoamide. 前記チキソ剤は、前記アミド化合物を少なくとも含み、前記フラックス全体の総量に対して前記アミド化合物を0質量%超15質量%以下で含む、請求項4又は5に記載のフラックス。 The flux according to claim 4 or 5, wherein the thixo agent contains at least the amide compound and contains the amide compound in an amount of more than 0% by mass and 15% by mass or less based on the total amount of the flux. 前記エステル化合物は、ヒマシ硬化油を含む、請求項4〜6のいずれか1項に記載のフラックス。 The flux according to any one of claims 4 to 6, wherein the ester compound contains castor oil. 前記チキソ剤は、前記エステル化合物を少なくとも含み、前記フラックス全体の総量に対して前記エステル化合物を0質量%超8質量%以下で含む、請求項4〜7のいずれか1項に記載のフラックス。 The flux according to any one of claims 4 to 7, wherein the thixo agent contains at least the ester compound and contains the ester compound in an amount of more than 0% by mass and 8% by mass or less based on the total amount of the flux. 更に、前記フラックス全体の総量に対して、有機酸を0質量%以上15質量%以下で含む、請求項2〜8のいずれか1項に記載のフラックス。 The flux according to any one of claims 2 to 8, further comprising an organic acid in an amount of 0% by mass or more and 15% by mass or less based on the total amount of the entire flux. 更に、前記フラックス全体の総量に対して、アミンを0質量%以上8質量%以下、有機ハロゲン化合物を0質量%以上8質量%以下、アミンハロゲン化水素酸塩を0質量%以上3質量%以下、又は酸化防止剤を0質量%以上8質量%以下で含む、請求項2〜9のいずれか1項に記載のフラックス。 Further, the amine is 0% by mass or more and 8% by mass or less, the organic halogen compound is 0% by mass or more and 8% by mass or less, and the amine halide hydroxide is 0% by mass or more and 3% by mass or less based on the total amount of the entire flux. , Or the flux according to any one of claims 2 to 9, which contains an antioxidant in an amount of 0% by mass or more and 8% by mass or less. 請求項2〜10のいずれか1項に記載のフラックスと、はんだ粉末とを含有する、はんだペースト。 A solder paste containing the flux according to any one of claims 2 to 10 and a solder powder. 前記はんだ粉末は、As:25〜300質量ppm、Pb:0質量ppm超え5100質量ppm以下、並びにSb:0質量ppm超え3000質量ppm以下、及びBi:0質量ppm超え10000質量ppm以下の少なくとも一種、並びに残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式を満たすはんだ合金を含む、請求項11に記載のはんだペースト。
275≦2As+Sb+Bi+Pb (1)
0.01≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2)
上記(1)式及び(2)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
The solder powder is at least one of As: 25 to 300 mass ppm, Pb: 0 mass ppm and 5100 mass ppm or less, Sb: 0 mass ppm and 3000 mass ppm or less, and Bi: 0 mass ppm and 10000 mass ppm or less. The solder paste according to claim 11, further comprising a solder alloy having an alloy composition in which the balance is Sn, and satisfying the following equations (1) and (2).
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb (1)
0.01 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2)
In the above equations (1) and (2), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.
更に、前記合金組成は、下記(1a)式を満たす、請求項12に記載のはんだペースト。
275≦2As+Sb+Bi+Pb≦25200 (1a)
上記(1a)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
The solder paste according to claim 12, wherein the alloy composition satisfies the following formula (1a).
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
In the above formula (1a), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.
更に、前記合金組成は、下記(1b)式を満たす、請求項12に記載のはんだペースト。
275≦2As+Sb+Bi+Pb≦5300 (1b)
上記(1b)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
The solder paste according to claim 12, wherein the alloy composition satisfies the following formula (1b).
275 ≦ 2As + Sb + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
In the above formula (1b), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.
更に、前記合金組成は、下記(2a)式を満たす、請求項12〜14のいずれか1項に記載のはんだペースト。
0.31≦(2As+Sb)/(Bi+Pb)≦10.00 (2a)
上記(2a)式中、As、Sb、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
The solder paste according to any one of claims 12 to 14, wherein the alloy composition satisfies the following formula (2a).
0.31 ≦ (2As + Sb) / (Bi + Pb) ≦ 10.00 (2a)
In the above formula (2a), As, Sb, Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.
更に、前記合金組成は、Ag:0〜4質量%及びCu:0〜0.9質量%からなる群より選択される少なくとも一種を含有する、請求項12〜15のいずれか1項に記載のはんだペースト。 Further, the invention according to any one of claims 12 to 15, wherein the alloy composition contains at least one selected from the group consisting of Ag: 0 to 4% by mass and Cu: 0 to 0.9% by mass. Solder paste. 下記の工程(a)と工程(b)とを有する、ロジン化合物の製造方法。
工程(a):1質量%以上15質量%以下のアガチン酸類を含む原料ロジン化合物、を蒸留して、前記原料ロジン化合物中のアガチン酸類を濃縮する工程
工程(b):前記工程(a)後の、濃縮したアガチン酸類を含む粗ロジン化合物を蒸留して精製し、15質量%を超え70質量%以下のアガチン酸類を含むロジン化合物を得る工程
A method for producing a rosin compound, which comprises the following steps (a) and (b).
Step (a): A step of distilling a raw material rosin compound containing agatic acids of 1% by mass or more and 15% by mass or less to concentrate the agatic acids in the raw material rosin compound Step (b): After the step (a) The step of distilling and purifying a crude rosin compound containing concentrated agatinic acids to obtain a rosin compound containing more than 15% by mass and 70% by mass or less of agatinic acids.
前記工程(a)で、前記原料ロジン化合物として、天然ロジン及び水添ロジンからなる群より選択されるものを用いる、請求項17に記載のロジン化合物の製造方法。 The method for producing a rosin compound according to claim 17, wherein in the step (a), the raw material rosin compound selected from the group consisting of natural rosin and hydrogenated rosin is used.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111171727A (en) * 2020-01-18 2020-05-19 普洱市思茅区森盛林化有限责任公司 Rosin production and processing technology

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51131899A (en) * 1975-05-06 1976-11-16 Arakawa Chem Ind Co Ltd Method of purifying rosin
WO2013172295A1 (en) * 2012-05-18 2013-11-21 荒川化学工業株式会社 Base resin for soldering flux, soldering flux and solder paste
JP2014014867A (en) * 2012-06-13 2014-01-30 Arakawa Chem Ind Co Ltd Base resin for soldering flux, soldering flux, and solder paste
JP2015098052A (en) * 2013-10-16 2015-05-28 三井金属鉱業株式会社 Solder alloy and solder powder
JP2016188440A (en) * 2015-03-30 2016-11-04 荒川化学工業株式会社 Solution rosin size agent and paper
JP2016537206A (en) * 2013-10-31 2016-12-01 アルファ・メタルズ・インコーポレイテッドAlpha Metals, Inc. Lead-free and silver-free solder alloy
JP2018145362A (en) * 2017-03-09 2018-09-20 東洋インキScホールディングス株式会社 Resin varnish for lithographic printing ink and lithographic printing ink

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS51131899A (en) * 1975-05-06 1976-11-16 Arakawa Chem Ind Co Ltd Method of purifying rosin
WO2013172295A1 (en) * 2012-05-18 2013-11-21 荒川化学工業株式会社 Base resin for soldering flux, soldering flux and solder paste
JP2014014867A (en) * 2012-06-13 2014-01-30 Arakawa Chem Ind Co Ltd Base resin for soldering flux, soldering flux, and solder paste
JP2015098052A (en) * 2013-10-16 2015-05-28 三井金属鉱業株式会社 Solder alloy and solder powder
JP2016537206A (en) * 2013-10-31 2016-12-01 アルファ・メタルズ・インコーポレイテッドAlpha Metals, Inc. Lead-free and silver-free solder alloy
JP2016188440A (en) * 2015-03-30 2016-11-04 荒川化学工業株式会社 Solution rosin size agent and paper
JP2018145362A (en) * 2017-03-09 2018-09-20 東洋インキScホールディングス株式会社 Resin varnish for lithographic printing ink and lithographic printing ink

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