JP2020192546A - Solder paste - Google Patents

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浩由 川▲崎▼
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正人 白鳥
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Abstract

To provide a solder paste which can achieve soldering having reduced production of voids without impairing production efficiency and storage stability, has a thickening suppression effect and is excellent in wettability, has a small temperature difference between a liquidus line temperature and a solidus line temperature, and has high mechanical characteristics.SOLUTION: A solder paste contains: a flux for solder that contains a resin, a glycol-based solvent and an organic acid ester; and a solder alloy that has an alloy composition of 25-300 mass ppm As, 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less Bi, more than 0 mass ppm and 8,000 mass ppm or less Pb, and the balance Sn, and satisfies Expression (1): 275≤2As+Bi+Pb and Expression (2): 0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≤7, in Expressions (1) and (2), As, Bi and Pb each satisfy a content (mass ppm) in the alloy composition.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、はんだペーストに関する。 The present invention relates to a solder paste.

近年、電子部品の表面実装等においては、あらかじめ常温で塗布又は接着しておいたはんだを、後から加熱溶融してはんだ付けする、リフローはんだ付けが行われている。
はんだペーストを用いたリフローはんだ付けの場合、はんだペーストは、主に、はんだ粉末と、樹脂成分、溶剤及び各種添加剤を含むフラックスとからなり、これをスクリーン印刷等によって接合予定部分に塗布、加熱することによってはんだ付けが行われる。
ところで、フラックスに添加される添加剤の中には有機酸等の揮発成分も含まれるところ、揮発成分ははんだ付けの際の加熱によりガス化する。また、無鉛系はんだを用いる場合にははんだ付け温度が高温となるため、揮発成分以外のフラックス成分も分解することがある。そのため、リフローはんだ付けにおいては、このような揮発ガスや分解ガスに起因するボイドがはんだ付け部に発生するという問題がある。
この点、特許文献1には、低分子二塩基酸ジアルキルエステル化合物を添加してフラックスの分解を防ぐことによってボイドの発生を低減することが開示されている(特許文献1)。
In recent years, in surface mounting of electronic components and the like, reflow soldering is performed in which solder that has been applied or adhered at room temperature in advance is later heated and melted and soldered.
In the case of reflow soldering using a solder paste, the solder paste mainly consists of solder powder and a flux containing a resin component, a solvent and various additives, which is applied and heated to the planned joining portion by screen printing or the like. Soldering is performed by doing so.
By the way, the additive added to the flux also contains a volatile component such as an organic acid, and the volatile component is gasified by heating during soldering. Further, when lead-free solder is used, the soldering temperature becomes high, so that the flux component other than the volatile component may be decomposed. Therefore, in reflow soldering, there is a problem that voids caused by such volatile gas and decomposition gas are generated in the soldered portion.
In this regard, Patent Document 1 discloses that the generation of voids is reduced by adding a low-molecular-weight dibasic acid dialkyl ester compound to prevent decomposition of the flux (Patent Document 1).

また、近年、電極の小型化が進むにつれて、はんだペーストの印刷面積も狭小化が進んでいることから、購入したはんだペーストを使い切るまでの時間は長期化している。はんだペーストは、はんだ粉末とフラックスを混錬したものであり、保管期間が長期に渡る場合には、保管状況によってははんだペーストの粘度が上がってしまい、購入当初の印刷性能を発揮することができないことがある。 Further, in recent years, as the size of the electrode has been reduced, the printed area of the solder paste has also been narrowed, so that it takes a long time to use up the purchased solder paste. Solder paste is a mixture of solder powder and flux, and if the storage period is long, the viscosity of the solder paste will increase depending on the storage conditions, and the printing performance at the time of purchase cannot be exhibited. Sometimes.

そこで、例えば特許文献2には、はんだペーストの経時変化を抑制するため、Snと、Ag、Bi、Sb、Zn、In及びCuからなる群から選択される1種又は2種以上と、を含み、かつ、所定量のAsを含むはんだ合金が開示されている。同文献には、25℃で2週間後の粘度が作製当初の粘度と比較して140%未満である結果が示されている。 Therefore, for example, Patent Document 2 includes Sn and one or more selected from the group consisting of Ag, Bi, Sb, Zn, In, and Cu in order to suppress the time-dependent change of the solder paste. And, a solder alloy containing a predetermined amount of As is disclosed. The document shows that the viscosity after 2 weeks at 25 ° C. is less than 140% of the initial viscosity.

特開2007−136491号公報JP-A-2007-136491 特開2015−98052号公報JP-A-2015-98052

しかしながら、特許文献1で使用されている低分子二塩基酸ジアルキルエステル化合物を含むフラックスは、増粘抑制の観点からは未だ十分であるとはいえない。 However, the flux containing the low-molecular-weight dibasic acid dialkyl ester compound used in Patent Document 1 is not yet sufficient from the viewpoint of suppressing thickening.

特許文献2には、As含有量が多いと溶融性が劣る結果が示されており、当該溶融性は、溶融はんだの濡れ性に相当すると考えられる。一般に、溶融はんだの濡れ性を向上させるためには高活性のフラックスを用いる必要がある。特許文献2に記載のフラックスにおいて、Asによる濡れ性の劣化が抑制されるためには、高活性のフラックスを用いればよいと考えられる。しかし、高活性のフラックスを用いるとフラックスの粘度上昇率が上がってしまう。また、特許文献2の記載を鑑みると、粘度上昇率の上昇を抑えるためにはAs含有量を増加させる必要がある。特許文献2に記載のはんだペーストが更に低い粘度上昇率と優れた濡れ性を示すためには、フラックスの活性力とAs含有量を増加しつづける必要があり、悪循環を招くことになる。 Patent Document 2 shows that the meltability is inferior when the As content is high, and the meltability is considered to correspond to the wettability of the molten solder. Generally, it is necessary to use a highly active flux in order to improve the wettability of the molten solder. In the flux described in Patent Document 2, it is considered that a highly active flux may be used in order to suppress the deterioration of wettability due to As. However, if a highly active flux is used, the viscosity increase rate of the flux increases. Further, in view of the description of Patent Document 2, it is necessary to increase the As content in order to suppress the increase in the viscosity increase rate. In order for the solder paste described in Patent Document 2 to exhibit a lower viscosity increase rate and excellent wettability, it is necessary to continuously increase the active force of the flux and the As content, which causes a vicious cycle.

また、微細な電極を接合するためには、はんだ継手の機械的特性等を向上させる必要がある。元素によっては、含有量が多くなると液相線温度が上昇して液相線温度と固相線温度が広がり、凝固時に偏析して不均一な合金組織が形成されてしまう。はんだ合金がこのような合金組織を有すると、引張強度などの機械的特性が劣り外部からの応力により容易に破断してしまう。この問題は、近年の電極の小型化にともない顕著になってきている Further, in order to join fine electrodes, it is necessary to improve the mechanical properties of the solder joint. Depending on the element, when the content increases, the liquidus temperature rises, the liquidus temperature and the solidus temperature spread, and segregation occurs during solidification to form a non-uniform alloy structure. If the solder alloy has such an alloy structure, the mechanical properties such as tensile strength are inferior and the solder alloy is easily broken due to external stress. This problem has become more prominent with the recent miniaturization of electrodes.

そこで、本発明は、製造効率や保存安定性を損なうことなく、ボイドの発生の少ないはんだ付けを実現でき、かつ、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さく高い機械的特性を有するはんだペーストを提供することを目的とする。 Therefore, the present invention can realize soldering with less generation of voids without impairing production efficiency and storage stability, has an effect of suppressing thickening, is excellent in wettability, and has a liquidus temperature and a solid phase. An object of the present invention is to provide a solder paste having a small temperature difference from the wire temperature and high mechanical properties.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、はんだ付け時におけるフラックスの溶融粘度が低ければ、仮に揮発ガスや分解ガスが発生したとしても樹脂成分が固化する前に速やかにはんだ付け部から抜け出すことができ、ボイドとして残存することがないことに気が付いた。
そして、はんだ付け時のフラックスの溶融粘度は、フラックス中に存在している溶剤の量と関係があり、はんだ付けの際(接合時)の加熱により揮発するなどして溶剤量が減ると溶融粘度は上昇するが、溶剤が十分な量残存していれば溶融粘度は低く、その結果、はんだ付け時に揮発ガスや分解ガスが発生してもはんだ付け部から抜けきることが判明した。
As a result of diligent studies to solve the above problems, the present inventors have diligently studied, and if the melt viscosity of the flux at the time of soldering is low, even if volatile gas or decomposition gas is generated, soldering is promptly performed before the resin component solidifies. I noticed that I was able to get out of the part and did not remain as a void.
The melt viscosity of the flux during soldering is related to the amount of solvent present in the flux, and when the amount of solvent decreases due to volatilization due to heating during soldering (during joining), the melt viscosity However, it was found that the melt viscosity is low if a sufficient amount of solvent remains, and as a result, even if volatile gas or decomposition gas is generated during soldering, it can be removed from the soldered portion.

もっとも、はんだ付け時にフラックス中に溶剤が十分な量残存するよう、溶剤として低揮発性のものを用いると、はんだ付け時における溶融粘度を低くすることはできるが、今度は、接合時に加熱をしても十分に乾燥させることができず、はんだ付け部表面がべたつき、ごみ等が付着するという別の問題が生じる。
そこで、接合後の乾燥性にも留意しながら、さらなる研究を重ねた結果、溶剤としてグリコール系溶剤と有機酸エステルとを併用した場合には、乾燥性及びはんだ付け時における低溶融粘度という相反する要求を両立するフラックスとすることができ、ボイド発生の問題を解決できることを見出した。
しかも、有機酸エステルは、グリコール系溶剤やロジン樹脂等の一般的なフラックスの主成分との相溶性も良好であるため、フラックスに添加しても、その製造効率や保存安定性を損なうこともない。
However, if a low volatility solvent is used so that a sufficient amount of solvent remains in the flux during soldering, the melt viscosity at the time of soldering can be lowered, but this time, heating is performed at the time of joining. However, it cannot be sufficiently dried, and another problem occurs that the surface of the soldered portion is sticky and dust or the like adheres to the soldered portion.
Therefore, as a result of further research while paying attention to the drying property after bonding, when a glycol solvent and an organic acid ester are used in combination as a solvent, the drying property and the low melt viscosity at the time of soldering conflict with each other. It was found that the flux can meet the requirements and the problem of void generation can be solved.
Moreover, since the organic acid ester has good compatibility with the main component of a general flux such as a glycol solvent or a rosin resin, even if it is added to the flux, its production efficiency and storage stability may be impaired. Absent.

また、本発明者らは、BiとPbがAsと同様の増粘抑制効果を発揮する知見を得た。この理由は定かではないが、以下のように推察される。 In addition, the present inventors have obtained the finding that Bi and Pb exert the same thickening suppressing effect as As. The reason for this is not clear, but it can be inferred as follows.

増粘抑制効果はフラックスとの反応を抑制することにより発揮されることから、フラックスとの反応性が低い元素として、イオン化傾向が低い元素が挙げられる。一般に、合金のイオン化は、合金組成としてのイオン化傾向、すなわち標準電極電位で考える。例えば、Snに対して貴なAgを含むSnAg合金はSnよりもイオン化し難い。このため、Snよりも貴な元素を含有する合金はイオン化し難いことになり、はんだペーストの増粘抑制効果が高いと推察される。 Since the thickening suppressing effect is exerted by suppressing the reaction with the flux, an element having a low reactivity with the flux includes an element having a low ionization tendency. Generally, the ionization of an alloy is considered in terms of the ionization tendency as the alloy composition, that is, the standard electrode potential. For example, a SnAg alloy containing Ag, which is noble to Sn, is more difficult to ionize than Sn. Therefore, an alloy containing an element nobler than Sn is difficult to ionize, and it is presumed that the effect of suppressing thickening of the solder paste is high.

ここで、特許文献2では、Sn、Ag、Cuの他に、Bi、Sb、Zn、及びInが等価な元素として掲げられているが、イオン化傾向としては、In及びZnはSnに対して卑な元素である。つまり、特許文献2にはSnより卑な元素を添加しても増粘抑制効果が得られることが記載されていることになる。このため、イオン化傾向に則して選定された元素を含有するはんだ合金は、特許文献2に記載のはんだ合金と比較して同等以上の増粘抑制効果が得られると考えられる。また、前述のように、As含有量が増加すると濡れ性が劣化してしまう。 Here, in Patent Document 2, in addition to Sn, Ag, and Cu, Bi, Sb, Zn, and In are listed as equivalent elements, but in terms of ionization tendency, In and Zn are base to Sn. Element. That is, Patent Document 2 describes that the thickening suppressing effect can be obtained even if an element lower than Sn is added. Therefore, it is considered that the solder alloy containing the element selected according to the ionization tendency can obtain the same or higher thickening suppressing effect as compared with the solder alloy described in Patent Document 2. Further, as described above, as the As content increases, the wettability deteriorates.

本発明者らは、増粘抑制効果として知見したBi及びPbについて詳細に調査した。Bi及びPbははんだ合金の液相線温度を下げるため、はんだ合金の加熱温度が一定である場合、はんだ合金の濡れ性を向上させる。ただ、含有量によっては固相線温度が著しく低下するため、液相線温度と固相線温度との温度差であるΔTが広くなりすぎる。ΔTが広くなりすぎると凝固時に偏析が生じてしまい、機械的強度等の機械的特性の低下に繋がってしまう。ΔTが広がる現象は、Bi及びPbを同時に添加した場合に顕著に表れることから、厳密な管理が必要である。 The present inventors investigated in detail Bi and Pb found as an effect of suppressing thickening. Since Bi and Pb lower the liquidus temperature of the solder alloy, the wettability of the solder alloy is improved when the heating temperature of the solder alloy is constant. However, since the solidus temperature is significantly lowered depending on the content, ΔT, which is the temperature difference between the liquidus temperature and the solidus temperature, becomes too wide. If ΔT becomes too wide, segregation will occur during solidification, leading to deterioration of mechanical properties such as mechanical strength. Since the phenomenon that ΔT spreads remarkably appears when Bi and Pb are added at the same time, strict control is required.

Sn、SnCuはんだ合金、及びSnAgCuはんだ合金において、増粘抑制効果、優れた濡れ性、及びΔTの狭窄化、のすべてが優れた結果を示すためには、As、Bi、及びPbの含有量を個々に管理するのではなく、これらの元素の含有量を総合的に管理する必要があると考えた。そこで、本発明者らは、これらの3元素の含有量に関して種々の検討を行った結果、偶然にも、各元素の含有量が所定量の範囲内において所定の関係式を満たす場合に、増粘抑制効果、濡れ性、及びΔTの狭窄化のすべてが優れた結果を示す知見を得た。 In Sn, SnCu solder alloys, and SnAgCu solder alloys, in order to show excellent results in terms of thickening suppressing effect, excellent wettability, and narrowing of ΔT, the contents of As, Bi, and Pb should be adjusted. We thought that it was necessary to comprehensively control the contents of these elements, rather than controlling them individually. Therefore, as a result of various studies on the contents of these three elements, the present inventors happened to increase the content when the content of each element satisfies a predetermined relational expression within a predetermined amount range. We obtained findings that all of the anti-viscous effect, wettability, and stenosis of ΔT showed excellent results.

すなわち、本発明は以下の通りである。
[1]
樹脂、グリコール系溶剤及び有機酸エステルを含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
を含む、はんだペースト。
[2]
さらに、有機酸を含む、上記[1]に記載のはんだペースト。
[3]
さらに、活性剤を含む、上記[1]に記載のはんだペースト。
[4]
前記有機酸エステルの含有量が、0質量%超20質量%以下である、上記[1]〜[3]いずれかに記載のはんだペースト。
[5]
前記有機酸エステルの含有量が、5〜15質量%の範囲内である、上記[4]に記載のはんだペースト。
[6]
前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記有機酸エステルの含有量(質量%)の比(有機酸エステル含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.01〜1.25である、上記[1]〜[5]いずれかに記載のはんだペースト。
[7]
前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記有機酸エステルの含有量(質量%)の比(有機酸エステル含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.15〜0.72である、上記[6]に記載のはんだペースト。
[8]
ロジン系樹脂を30〜60質量%、グリコール系溶剤を10〜60質量%、有機酸エステルを0.5〜30質量%、及び、有機酸を1〜15質量%の範囲内で含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
を含む、はんだペースト。
[9]
前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記有機酸エステルの含有量(質量%)の比(有機酸エステル含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.01〜1.25である、上記[8]記載のはんだペースト。
[10]
さらに、チキソ剤及び/又は酸化防止剤を含む、上記[1]〜[9]いずれかに記載のはんだペースト。
[11]
前記有機酸エステルが、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジイソプロピル、マレイン酸ジブチル、セバシン酸ジメチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジブチル、及びセバシン酸シオクチルからなる群より選ばれる1種以上である、上記[1]〜[10]いずれかに記載のはんだペースト。
[12]
前記合金組成はが、下記(1a)式:
275≦2As+Bi+Pb≦25200 (1a)
[上記(1a)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、上記[1]〜[11]のいずれかに記載のはんだペースト。
[13]
前記合金組成が、下記(1b)式:
275≦2As+Bi+Pb≦5300 (1b)
[上記(1b)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、上記[1]〜[12]のいずれかに記載のはんだペースト。
[14]
前記合金組成が、下記(2a)式:
0.02≦2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦0.9 (2a)
[上記(2a)式中、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、上記[1]〜[13]のいずれかに記載のはんだペースト。
[15]
さらに、前記合金組成が、Ag:0〜4質量%及びCu:0〜0.9質量%の少なくとも1種を含有する、上記[1]〜[14]のいずれかに記載のはんだペースト。
[16]
さらに、酸化ジルコニウム粉末を有する、上記[1]〜[15]のいずれかに記載のはんだペースト。
[17]
前記酸化ジルコニウム粉末を前記はんだペーストの全質量に対して0.05〜20.0質量%含有する、上記[16]に記載のはんだペースト。
[18]
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金をはんだ付けするための、
樹脂、グリコール系溶剤及び有機酸エステルを含むフラックス。
[19]
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金をはんだ付けするための、
ロジン系樹脂を30〜60質量%、グリコール系溶剤を10〜60質量%、有機酸エステルを0.5〜30質量%、及び有機酸を1〜15質量%の範囲内で含むフラックス。
That is, the present invention is as follows.
[1]
Soldering flux containing resin, glycol solvent and organic acid ester; and As: 25-300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass ppm or less, and the balance Has an alloy composition consisting of Sn, and the following equations (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above equations (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
Solder alloy that meets the requirements;
Including, solder paste.
[2]
The solder paste according to the above [1], further containing an organic acid.
[3]
The solder paste according to the above [1], further containing an activator.
[4]
The solder paste according to any one of [1] to [3] above, wherein the content of the organic acid ester is more than 0% by mass and 20% by mass or less.
[5]
The solder paste according to the above [4], wherein the content of the organic acid ester is in the range of 5 to 15% by mass.
[6]
The ratio of the content (mass%) of the organic acid ester to the content (mass%) of the glycol solvent (organic acid ester content / content of glycol solvent) is 0.01 to 1.25. The solder paste according to any one of the above [1] to [5].
[7]
The ratio of the content (mass%) of the organic acid ester to the content (mass%) of the glycol solvent (organic acid ester content / content of glycol solvent) is 0.15 to 0.72. The solder paste according to the above [6].
[8]
Solding containing rosin-based resin in the range of 30 to 60% by mass, glycol-based solvent in the range of 10 to 60% by mass, organic acid ester in the range of 0.5 to 30% by mass, and organic acid in the range of 1 to 15% by mass. Flux; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass ppm or less, and the balance having an alloy composition of Sn, as described in (1) below. Equation and equation (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above equations (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
Solder alloy that meets the requirements;
Including, solder paste.
[9]
The ratio of the content (mass%) of the organic acid ester to the content (mass%) of the glycol solvent (organic acid ester content / content of glycol solvent) is 0.01 to 1.25. The solder paste according to the above [8].
[10]
The solder paste according to any one of the above [1] to [9], further containing a thixotropic agent and / or an antioxidant.
[11]
One selected from the group consisting of dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, diethyl sebacate, diisopropyl sebacate, dibutyl sebacate, and sioctyl sebacate. The solder paste according to any one of the above [1] to [10].
[12]
The alloy composition is based on the following formula (1a):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
[In the above formula (1a), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of the above [1] to [11], which satisfies the above conditions.
[13]
The alloy composition is the following formula (1b):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
[In the above formula (1b), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of the above [1] to [12], which satisfies the above conditions.
[14]
The alloy composition is the following formula (2a):
0.02 ≤ 2.3 x 10 -4 x Bi + 8.2 x 10 -4 x Pb ≤ 0.9 (2a)
[In the above formula (2a), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of the above [1] to [13], which satisfies the above conditions.
[15]
The solder paste according to any one of [1] to [14] above, wherein the alloy composition contains at least one of Ag: 0 to 4% by mass and Cu: 0 to 0.9% by mass.
[16]
The solder paste according to any one of [1] to [15] above, further comprising zirconium oxide powder.
[17]
The solder paste according to the above [16], which contains the zirconium oxide powder in an amount of 0.05 to 20.0% by mass based on the total mass of the solder paste.
[18]
As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass ppm or less, and the balance having an alloy composition of Sn, according to the following formula (1) and (2). )formula:
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above equations (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
For soldering a solder alloy that meets the requirements,
Flux containing resin, glycol solvent and organic acid ester.
[19]
As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass ppm or less, and the balance having an alloy composition of Sn, according to the following formula (1) and (2). )formula:
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above equations (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
For soldering a solder alloy that meets the requirements,
A flux containing 30 to 60% by mass of a rosin-based resin, 10 to 60% by mass of a glycol-based solvent, 0.5 to 30% by mass of an organic acid ester, and 1 to 15% by mass of an organic acid.

本発明によれば、製造効率や保存安定性を損なうことなく、ボイドの発生の少ないはんだ付けを実現でき、かつ、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さく高い機械的特性を有するはんだペーストを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to realize soldering with less generation of voids without impairing manufacturing efficiency and storage stability, and has an effect of suppressing thickening, excellent wettability, liquidus temperature and solid phase. It is possible to provide a solder paste having a small temperature difference from the wire temperature and high mechanical properties.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。 Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention (hereinafter, referred to as “the present embodiment”) will be described in more detail, but the present invention is not limited to this, and various aspects are not deviated from the gist thereof. It can be transformed.

本実施形態は、樹脂、グリコール系溶剤及び有機酸エステルを含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
を含む、はんだペーストに関する。
In this embodiment, a flux for soldering containing a resin, a glycol-based solvent and an organic acid ester; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass by mass. It has an alloy composition of ppm or less and the balance is Sn, and the following equations (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above equations (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
Solder alloy that meets the requirements;
Concerning solder paste, including.

<フラックス>
はんだ付け用フラックスは、樹脂(ベース樹脂)及び溶剤と、必要に応じて各種添加剤を含むものであって、溶剤として、少なくともグリコール系溶剤及び有機酸エステルを含む。
<Flux>
The soldering flux contains a resin (base resin), a solvent, and various additives as required, and contains at least a glycol-based solvent and an organic acid ester as the solvent.

樹脂としては、従来はんだ付け用フラックスに使用されている各種樹脂を使用することができる。このような樹脂としては、例えば、ロジン系樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、及び、これらの混合物が挙げられ、この中でも、ロジン系樹脂が一般的によく用いられている。
ロジン系樹脂としては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン等の天然ロジンや、その誘導体(重合ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、酸変性ロジン、ロジンエステル等)が挙げられる。
フラックス中の樹脂の含有量に限定はなく、例えば、10〜80質量%の範囲内とすることができ、20〜70質量%の範囲内としてもよいし、30〜60質量%の範囲内としてもよい。
As the resin, various resins conventionally used for soldering flux can be used. Examples of such resins include rosin resins, acrylic resins, polyesters, polyethylenes, polypropylenes, polyamides, styrene-maleic acid copolymers, acrylic resins, epoxy resins, phenol resins, phenoxy resins, terpen resins, and terpenphenols. Examples thereof include resins and mixtures thereof, and among these, rosin-based resins are generally often used.
Examples of the rosin-based resin include natural rosins such as gum rosin and wood rosin, and derivatives thereof (polymerized rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, acid-modified rosin, rosin ester, etc.).
The content of the resin in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 10 to 80% by mass, in the range of 20 to 70% by mass, or in the range of 30 to 60% by mass. May be good.

本実施形態においては、溶剤として、少なくともグリコール系溶剤及び有機酸エステルを用いる。このような有機酸エステルは沸点が適度な範囲にあり、一般的なはんだ付けで採用される接合温度においては、接合初期にはフラックス中に残存してフラックスの溶融粘度を低く保ち、分解ガス等の解放を容易にしつつ、接合後期にはある程度揮発する。
ここで、グリコール系溶剤とは、グリコール(脂肪族又は脂環式炭化水素の2つの相異なる炭素原子に1つずつ水酸基が結合している構造を有する化合物)又はその誘導体からなる溶剤をいう。本実施形態において、グリコール系溶剤の種類に限定はなく、例えば、はんだ付け用フラックスに一般的に使用されているものを用いることができ、具体例としては、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、フェニルグリコール、ヘキシルジグリコール、2−エチルヘキシルジグリコールに加え、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(メチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(ヘキシルカルビトール)、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等のグリコールエーテル類が挙げられる。これらのうち、炭素数2〜24のアルコールのグリコールエーテル(具体的には、モノグリコールエーテル(炭素数:4〜26)、ジグリコールエーテル(炭素数:6〜28)、オリゴグリコールエーテル(炭素数:2+2×n〜24+2×n))が好ましく、炭素数4〜16のアルコールのグリコールエーテルがより好ましく、炭素数6〜8のアルコールのグリコールエーテルが特に好ましい。
グリコール系溶剤は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
In the present embodiment, at least a glycol solvent and an organic acid ester are used as the solvent. Such organic acid esters have a boiling point in an appropriate range, and at the bonding temperature used in general soldering, they remain in the flux at the initial stage of bonding to keep the melt viscosity of the flux low, and decompose gas and the like. Volatilizes to some extent in the late bonding stage, while facilitating the release of the solder.
Here, the glycol-based solvent refers to a solvent composed of glycol (a compound having a structure in which one hydroxyl group is bonded to two different carbon atoms of an aliphatic or alicyclic hydrocarbon) or a derivative thereof. In the present embodiment, the type of glycol-based solvent is not limited, and for example, those generally used for soldering flux can be used. Specific examples thereof include diethylene glycol, dipropylene glycol, and triethylene glycol. , Hexylene glycol, phenyl glycol, hexyl diglycol, 2-ethylhexyl diglycol, diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol), diethylene glycol monomethyl ether (methyl carbitol), diethylene glycol monohexyl ether (hexyl carbitol), propylene glycol Examples thereof include glycol ethers such as monophenyl ether. Of these, glycol ethers of alcohols having 2 to 24 carbon atoms (specifically, monoglycol ethers (carbon atoms: 4 to 26), diglycol ethers (carbon atoms: 6 to 28), oligoglycol ethers (carbon atoms: 6 to 28)). : 2 + 2 × n to 24 + 2 × n)) is preferable, alcohol glycol ethers having 4 to 16 carbon atoms are more preferable, and alcohol glycol ethers having 6 to 8 carbon atoms are particularly preferable.
As the glycol solvent, one kind may be used alone, or two or more kinds may be used in combination.

フラックス中のグリコール系溶剤の含有量(複数種類のグリコール系溶剤を用いる場合はその総含有量)にも限定はなく、例えば、10〜60質量%の範囲内としてもよいし、15〜50質量%の範囲内としてもよいし、20〜45質量%の範囲内としてもよい。 The content of the glycol-based solvent in the flux (the total content when a plurality of types of glycol-based solvents are used) is not limited, and may be in the range of 10 to 60% by mass or 15 to 50% by mass, for example. It may be in the range of%, or may be in the range of 20 to 45% by mass.

本実施形態においては、溶剤として、上記グリコール系溶剤に加えて有機酸エステルを併用する。これにより、はんだ付け時において溶融粘度の低いフラックスを実現することができる。 In the present embodiment, an organic acid ester is used in combination with the above glycol-based solvent as the solvent. As a result, a flux having a low melt viscosity can be realized at the time of soldering.

有機酸エステルを含むフラックスは、ソルダペーストの保管中におけるはんだ合金粉末と活性剤との反応を抑制し得るため、活性剤の活性度や配合量を調整せずともその活性力は残存され、はんだ付け時における良好なぬれ性を確保し、ボイドの発生を抑制することができる。 Since the flux containing the organic acid ester can suppress the reaction between the solder alloy powder and the activator during storage of the solder paste, the activity of the active agent remains even if the activity and the blending amount of the activator are not adjusted. Good wettability at the time of attachment can be ensured, and the generation of voids can be suppressed.

有機酸エステルとしては、例えば、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジイソプロピル、マレイン酸ジブチル、セバシン酸ジメチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジブチル、セバシン酸シオクチル等が挙げられる。これらは1種単独でまたは複数種を混合して用いてもよい。 Examples of the organic acid ester include dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, diethyl sebacate, diisopropyl sebacate, dibutyl sebacate, and sioctyl sebacate. These may be used alone or in admixture of a plurality of types.

フラックス中の有機酸エステルの含有量(複数種類の有機酸エステルを用いる場合はその総含有量)に限定はないが、0.5質量%以上としてもよいし、1質量%以上としてもよいし、5質量%以上とすることもできる。一方、フラックスやソルダペーストの乾燥不良をなくし、べたつきを抑えるという点からは含有量は少ない方が好ましく、例えば、30質量%以下としてもよいし、20質量%以下としてもよいし、15質量%以下とすることもできる。 The content of the organic acid ester in the flux (the total content when a plurality of types of organic acid esters are used) is not limited, but may be 0.5% by mass or more, or 1% by mass or more. It can also be 5% by mass or more. On the other hand, from the viewpoint of eliminating poor drying of the flux and solder paste and suppressing stickiness, it is preferable that the content is small, for example, 30% by mass or less, 20% by mass or less, or 15% by mass. It can also be as follows.

また、グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する有機酸エステルの含有量(質量%)(複数種類用いる場合はその総量)の比(有機酸エステル含有量/グリコール系溶剤の含有量)にも限定はないが、ボイド発生の防止の点からは、0.01〜1.25であることが好ましく、0.15〜1.25であることがより好ましく、0.15〜0.72であることがさらに好ましい。 In addition, the ratio of the content (mass%) of the organic acid ester to the content (mass%) of the glycol solvent (the total amount when a plurality of types are used) (organic acid ester content / content of the glycol solvent) is also calculated. Although there is no limitation, it is preferably 0.01 to 1.25, more preferably 0.15 to 1.25, and 0.15 to 0.72 from the viewpoint of preventing the generation of voids. Is even more preferable.

本実施形態においては、グリコール系溶剤及び有機酸エステルに加えてさらに、他の公知の溶剤を併用することもできる。このような溶剤としては、例えば、ベンジルアルコール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、1,5−ペンタンジオール、2−エチル−1,3−ヘキサンジオール、テルピネオール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類;トルエン、キシレン、n−ヘキサン等の炭化水素類;酢酸イソプロピル、安息香酸ブチル等のエステル類が挙げられ、これらの一種又は二種以上用いることができる。 In the present embodiment, in addition to the glycol-based solvent and the organic acid ester, other known solvents can be used in combination. Examples of such a solvent include alcohols such as benzyl alcohol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, 1,5-pentanediol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, terpineol, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve; toluene, Hydrocarbons such as xylene and n-hexane; esters such as isopropyl acetate and butyl benzoate can be mentioned, and one or more of these can be used.

本実施形態のフラックスは、樹脂及び溶剤に加えて、活性剤、チキソ剤(チキソトロピック剤)及び酸化防止剤や、防錆剤、消泡剤、つや消し剤、界面活性剤、着色剤等のフラックスに添加されることのある各種添加剤を含有することができる。 The flux of the present embodiment is a flux of an activator, a thixotropic agent (thixotropic agent), an antioxidant, a rust preventive, a defoaming agent, a matting agent, a surfactant, a colorant, etc., in addition to a resin and a solvent. It can contain various additives that may be added to.

活性剤としては、例えば、有機酸類、アミン類、有機ハロゲン化合物類、アミンハロゲン化水素酸塩類、ホスホン酸類、燐酸エステル類等のフラックスにおいて一般に使用されているものを、一種又は二種以上を組合せて用いることができる。
フラックス中の活性剤の含有量に限定はなく、例えば、0〜30質量%の範囲内であってもよいし、0〜20質量%の範囲内であってもよい。
As the activator, for example, one or a combination of two or more of those generally used in fluxes such as organic acids, amines, organic halogen compounds, amine hydrohalates, phosphonic acids, and phosphoric acid esters. Can be used.
The content of the activator in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 30% by mass or in the range of 0 to 20% by mass.

このうち、有機酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、安息香酸、グリコール酸等のモノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、ピメリン酸、ジグリコール酸等のジカルボン酸又はその無水物;乳酸、クエン酸、酒石酸等のオキシ酸;ダイマー酸、水添ダイマー酸、トリマー酸、水添トリマー酸、ピコリン酸等が挙げられ、これらの一種又は二種以上を用いることができる。また、炭素数8以上の高級飽和又は不飽和脂肪酸等も使用できる。
これらの有機酸の中には揮発性のものや、その沸点がはんだ付け温度よりも低いものも多く含まれるところ、そのようなものははんだ付けの際にボイドの原因となるガスを発生しやすい。しかし、本実施形態においては、ガスが発生したとしてもボイドとしてはんだ付け部に残存することがないので、本実施形態はフラックスが揮発性や沸点の低い有機酸を含む場合に特に有効である。
フラックス中の有機酸の含有量に限定はなく、例えば、1〜15質量%の範囲内であってもよく、3〜10質量%の範囲内であってもよい。
Among these, organic acids include, for example, monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, benzoic acid, and glycolic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, suberic acid, pimeric acid, diglycolic acid and the like. Dicarboxylic acid or its anhydride; oxyacids such as lactic acid, citric acid, tartaric acid; dimer acid, hydrogenated dimer acid, trimer acid, hydrogenated trimer acid, picolinic acid and the like, and one or more of these Can be used. Further, higher saturated or unsaturated fatty acids having 8 or more carbon atoms can also be used.
Many of these organic acids are volatile and their boiling points are lower than the soldering temperature, and such organic acids tend to generate void-causing gases during soldering. .. However, in the present embodiment, even if gas is generated, it does not remain in the soldered portion as voids, so that this embodiment is particularly effective when the flux contains an organic acid having a low volatility or a low boiling point.
The content of the organic acid in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 1 to 15% by mass or in the range of 3 to 10% by mass.

アミンとしては、例えば、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン、ナフチルアミン、トリエタノールアミンや、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物等が挙げられる。
フラックス中のアミンの含有量に限定はなく、例えば、0〜10質量%の範囲内であってもよく、0〜5質量%の範囲内であってもよい。
Examples of amines include diphenylguanidine, ditrilguanidine, naphthylamine, triethanolamine, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-. Examples thereof include imidazole compounds such as 4-methylimidazole.
The content of amine in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 10% by mass or in the range of 0 to 5% by mass.

有機ハロゲン化合物としては、例えば、臭素化された有機化合物が挙げられ、具体的には、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4ジオール等が挙げられ、これらの一種又は二種以上を用いることができる。
フラックス中の有機ハロゲン化合物の含有量に限定はなく、例えば、0〜10質量%の範囲内であってもよく、0〜5質量%の範囲内であってもよい。
Examples of the organic halogen compound include brominated organic compounds, and specifically, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol, 3-bromo-1-propanol, and 3-bromo. -1,2-Propanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2,3-dibromo-1,4-butanediol , 2,3-Dibromo-2-butene-1,4diol and the like, and one or more of these can be used.
The content of the organic halogen compound in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 10% by mass or in the range of 0 to 5% by mass.

アミンハロゲン化水素酸塩類としては、例えば、臭化水素酸(HBr)、塩化水素酸(HCl)、フッ化水素酸(HF)等のハロゲン化水素酸と、アニリン、ジフェニルグアニジン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン等のアミン化合物とを組合せた塩が挙げられる。また、アミンハロゲン化水素酸塩類同等物として、テトラフルオロホウ酸(HBF4)と、アミン化合物とを組合せた塩も用いることができる。
フラックス中のアミンハロゲン化水素酸塩類等の含有量に限定はなく、例えば、0〜5質量%の範囲内であってもよく、0〜2質量%の範囲内であってもよい。
Examples of amine hydrohalide salts include hydrohalic acids such as hydrobromic acid (HBr), hydrochloride (HCl), and hydrofluoric acid (HF), and aniline, diphenylguanidine, diethylamine, and isopropylamine. Examples thereof include salts in combination with amine compounds such as. Further, as an equivalent of amine hydrohalide, a salt in which tetrafluoroboric acid (HBF 4 ) and an amine compound are combined can also be used.
The content of amine halide hydrohalates and the like in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 5% by mass or in the range of 0 to 2% by mass.

なお、本実施形態において、上述した有機酸類、アミン類、有機ハロゲン化合物類、アミンハロゲン化水素酸塩類や、ホスホン酸類、燐酸エステル類等は、活性剤として添加することができるが、それ以外の役割を果たすこともあり、そのような意図で添加してもよい。 In the present embodiment, the above-mentioned organic acids, amines, organic halogen compounds, amine hydrogen halides, phosphonic acids, phosphoric acid esters and the like can be added as activators, but other than that. It may play a role and may be added with such an intention.

本実施の形態のフラックスは、チキソ剤を含んでいてもよい。
チキソ剤としては、ワックス系チキソ剤、アマイド系チキソ剤、ソルビトール系チキソ剤等が挙げられる。ワックス系チキソ剤としては例えばヒマシ硬化油等が挙げられる。アマイド系チキソ剤としては、モノアマイド系チキソ剤、ビスアマイド系チキソ剤、ポリアマイド系チキソ剤が挙げられ、具体的には、ラウリン酸アマイド、パルミチン酸アマイド、ステアリン酸アマイド、ベヘン酸アマイド、ヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸アマイド、オレイン酸アマイド、エルカ酸アマイド、不飽和脂肪酸アマイド、p−トルエンメタンアマイド、芳香族アマイド、メチレンビスステアリン酸アマイド、エチレンビスラウリン酸アマイド、エチレンビスヒドロキシステアリン酸アマイド、飽和脂肪酸ビスアマイド、メチレンビスオレイン酸アマイド、不飽和脂肪酸ビスアマイド、m−キシリレンビスステアリン酸アマイド、芳香族ビスアマイド、飽和脂肪酸ポリアマイド、不飽和脂肪酸ポリアマイド、芳香族ポリアマイド、置換アマイド、メチロールステアリン酸アマイド、メチロールアマイド、脂肪酸エステルアマイド等が挙げられる。ソルビトール系チキソ剤としては、ジベンジリデン−D−ソルビトール、ビス(4−メチルベンジリデン)−D−ソルビトール等が挙げられる。
The flux of the present embodiment may contain a thixotropic agent.
Examples of the thixotropy include wax-based thixotropy, amide-based thixotropy, and sorbitol-based thixotropy. Examples of the wax-based thixotropy include castor oil and the like. Examples of the amide-based thixo agent include monoamide-based thixo agent, bisamide-based thixo agent, and polyamide-based thixo agent. , Saturated fatty acid amide, oleic acid amide, erucic acid amide, unsaturated fatty acid amide, p-toluenemethane amide, aromatic amide, methylene bisstearic acid amide, ethylene bislauric acid amide, ethylene bishydroxystearic acid amide, saturated fatty acid bis amide , Methylenebisoleic acid amide, unsaturated fatty acid bisamide, m-xylylene bisstearic acid amide, aromatic bisamide, saturated fatty acid polyamide, unsaturated fatty acid polyamide, aromatic polyamide, substituted amide, methylolstearate amide, methylolamide, fatty acid Examples include ester amide. Examples of the sorbitol-based thixotropy include dibenzylidene-D-sorbitol and bis (4-methylbenzylidene) -D-sorbitol.

また、本実施の形態のフラックスは、チキソ剤としてエステル化合物を含んでいてもよい。エステル化合物としては、例えば、ヒマシ硬化油等が挙げられる。 Further, the flux of the present embodiment may contain an ester compound as a thixotropic agent. Examples of the ester compound include castor oil and the like.

フラックスに含まれるチキソ剤の合計量は、0質量%以上15質量%以下であることが好ましく、0質量%以上10質量%以下であることがより好ましい。また、アマイド系チキソ剤の含有量は好ましくは0質量%以上12質量%以下であり、エステル化合物の含有量は好ましくは0質量%以上8.0質量%以下、より好ましくは0質量%以上4.0質量%以下である。 The total amount of the thixotropic agent contained in the flux is preferably 0% by mass or more and 15% by mass or less, and more preferably 0% by mass or more and 10% by mass or less. The content of the amido-based thixo agent is preferably 0% by mass or more and 12% by mass or less, and the content of the ester compound is preferably 0% by mass or more and 8.0% by mass or less, more preferably 0% by mass or more 4 It is 0.0% by mass or less.

酸化防止剤としては、例えば、フラックス又はその他の各種分野で使用されているヒンダードフェノール系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、ビスフェノール系酸化防止剤、ポリマー型酸化防止剤等を使用することができ、これらの一種又は二種以上用いることができる。
フラックス中の酸化防止剤の含有量に限定はなく、例えば、0〜10質量%の範囲内であってもよいし、0〜5質量%の範囲内であってもよい。
As the antioxidant, for example, a hindered phenol-based antioxidant, a phenol-based antioxidant, a bisphenol-based antioxidant, a polymer-type antioxidant, etc. used in flux or various other fields may be used. Yes, one or more of these can be used.
The content of the antioxidant in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 10% by mass or in the range of 0 to 5% by mass.

本実施形態のはんだ付け用フラックスの好ましい組成の一例としては、ロジン系樹脂を30〜60質量%、グリコール系溶剤を20〜45質量%、有機酸エステルを5〜20質量%、有機酸を1〜15質量%の範囲内で含むものが挙げられる。 As an example of a preferable composition of the soldering flux of the present embodiment, rosin-based resin is 30 to 60% by mass, glycol-based solvent is 20 to 45% by mass, organic acid ester is 5 to 20% by mass, and organic acid is 1. Those containing within the range of ~ 15% by mass can be mentioned.

<はんだ合金>
Asは、はんだペーストの粘度の経時変化を抑制することができる元素である。Asはフラックスとの反応性が低く、またSnに対して貴な元素であるために増粘抑制効果を発揮することができると推察される。Asが25質量ppm未満であると、増粘抑制効果を十分に発揮することができない。As含有量の下限は25質量ppm以上であり、好ましくは50質量ppm以上であり、より好ましくは100質量ppm以上である。一方、Asが多すぎるとはんだ合金の濡れ性が劣化する。As含有量の上限は300質量ppm以下であり、このましくは250質量ppm以下であり、より好ましくは200質量ppm以下である。
<Solder alloy>
As is an element capable of suppressing a change in the viscosity of the solder paste over time. Since As has low reactivity with flux and is a noble element with respect to Sn, it is presumed that it can exert an effect of suppressing thickening. If As is less than 25 mass ppm, the thickening suppressing effect cannot be sufficiently exhibited. The lower limit of the As content is 25 mass ppm or more, preferably 50 mass ppm or more, and more preferably 100 mass ppm or more. On the other hand, if the amount of As is too large, the wettability of the solder alloy deteriorates. The upper limit of the As content is 300 mass ppm or less, preferably 250 mass ppm or less, and more preferably 200 mass ppm or less.

Bi及びPbはフラックスとの反応性が低く増粘抑制効果を示す元素である。また、これらの元素は、はんだ合金の液相線温度を下げるとともに溶融はんだの粘性を低減させるため、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる元素である。 Bi and Pb are elements that have low reactivity with flux and exhibit an effect of suppressing thickening. Further, these elements are elements that can suppress deterioration of wettability due to As because the liquidus temperature of the solder alloy is lowered and the viscosity of the molten solder is reduced.

Bi及びPbの少なくとも1元素が存在すれば、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる。本実施形態に係るはんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の下限は0質量ppm超えであり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。本実施形態に係るはんだ合金がPbを含有する場合、Pb含有量の下限は0質量ppm超えであり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。 If at least one element of Bi and Pb is present, deterioration of wettability due to As can be suppressed. When the solder alloy according to the present embodiment contains Bi, the lower limit of the Bi content is 0 mass ppm or more, preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, and further preferably 75 mass ppm or more. It is mass ppm or more, particularly preferably 100 mass ppm or more, and most preferably 250 mass ppm or more. When the solder alloy according to the present embodiment contains Pb, the lower limit of the Pb content is 0 mass ppm or more, preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, and further preferably 75 mass ppm or more. It is mass ppm or more, particularly preferably 100 mass ppm or more, and most preferably 250 mass ppm or more.

一方、これらの元素の含有量が多すぎると、固相線温度が著しく低下するため、液相線温度と固相線温度との温度差であるΔTが広くなりすぎる。ΔTが広すぎると、溶融はんだの凝固過程において、BiやPbの含有量が少ない高融点の結晶相が析出するために液相のBiやPbが濃縮される。その後、さらに溶融はんだの温度が低下すると、BiやPbの濃度が高い低融点の結晶相が偏析してしまう。このため、はんだ合金の機械的強度等が劣化することになる。特に、Bi濃度が高い結晶相は硬くて脆いため、はんだ合金中で偏析すると機械的強度等が著しく低下する。 On the other hand, if the content of these elements is too large, the solidus temperature is remarkably lowered, so that ΔT, which is the temperature difference between the liquidus temperature and the solidus temperature, becomes too wide. If ΔT is too wide, the liquid phase Bi and Pb will be concentrated because a high melting point crystal phase having a low content of Bi and Pb is precipitated in the solidification process of the molten solder. After that, when the temperature of the molten solder is further lowered, the low melting point crystal phase having a high concentration of Bi and Pb is segregated. Therefore, the mechanical strength of the solder alloy and the like are deteriorated. In particular, since the crystal phase having a high Bi concentration is hard and brittle, segregation in the solder alloy significantly reduces the mechanical strength and the like.

このような観点から、本実施形態に係るはんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の上限は25000質量ppm以下であり、好ましくは10000質量ppm以下であり、より好ましくは1000質量ppm以下であり、さらに好ましくは600質量ppm以下であり、特に好ましくは500質量ppm以下である。本実施形態に係るはんだ合金がPbを含有する場合、Pb含有量の下限値は8000質量ppm以下であり、好ましくは5100質量ppm以下であり、より好ましくは5000質量ppm以下であり、さらに好ましくは1000質量ppm以下であり、特に好ましくは850質量ppm以下であり、最も好ましくは500質量ppm以下である。 From this point of view, when the solder alloy according to the present embodiment contains Bi, the upper limit of the Bi content is 25,000 mass ppm or less, preferably 10,000 mass ppm or less, and more preferably 1000 mass ppm or less. Yes, more preferably 600 mass ppm or less, and particularly preferably 500 mass ppm or less. When the solder alloy according to the present embodiment contains Pb, the lower limit of the Pb content is 8000 mass ppm or less, preferably 5100 mass ppm or less, more preferably 5000 mass ppm or less, still more preferably. It is 1000 mass ppm or less, particularly preferably 850 mass ppm or less, and most preferably 500 mass ppm or less.

本実施形態に係るはんだ合金は、下記(1)式を満たす必要がある。 The solder alloy according to this embodiment needs to satisfy the following equation (1).

275≦2As+Bi+Pb (1)
上記(1)式中、As、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
In the above formula (1), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

As、Bi及びPbは、いずれも増粘抑制効果を示す元素である。これらの合計が230質量ppm以上である必要がある。(1)式中、As含有量を2倍にしたのは、AsがBiやPbと比較して増粘抑制効果が高いためである。 As, Bi and Pb are all elements that have an effect of suppressing thickening. The total of these needs to be 230 mass ppm or more. In the formula (1), the As content is doubled because As has a higher effect of suppressing thickening than Bi and Pb.

(1)式が275未満であると、増粘抑制効果が十分に発揮されない。(1)式の下限は275以上であり、好ましくは300以上であり、より好ましくは700以上であり、さらに好ましくは900以上である。一方、(1)の上限は、増粘抑制効果の観点では特に限定されることはないが、ΔTを適した範囲にする観点から、好ましくは25200以下であり、より好ましくは15200以下であり、さらに好ましくは10200以下であり、特に好ましくは8200以下であり、最も好ましくは5300以下である。 If the formula (1) is less than 275, the thickening suppressing effect is not sufficiently exhibited. The lower limit of the equation (1) is 275 or more, preferably 300 or more, more preferably 700 or more, and further preferably 900 or more. On the other hand, the upper limit of (1) is not particularly limited from the viewpoint of the thickening suppressing effect, but is preferably 25200 or less, more preferably 15200 or less, from the viewpoint of setting ΔT in a suitable range. It is more preferably 10200 or less, particularly preferably 8200 or less, and most preferably 5300 or less.

上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記(1a)式及び(1b)式である。 The following equations (1a) and (1b) are obtained by appropriately selecting the upper limit and the lower limit from the above preferred embodiments.

275≦2As+Bi+Pb≦25200 (1a)
275≦2As+Bi+Pb≦5300 (1b)
上記(1a)及び(1b)式中、As、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
In the above formulas (1a) and (1b), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

本実施形態に係るはんだ合金は、下記(2)式を満たす必要がある。 The solder alloy according to this embodiment needs to satisfy the following equation (2).

0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
上記(2)式中、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
In the above formula (2), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

Bi及びPbは、Asを含有することによる濡れ性の劣化を抑制するが、含有量が多すぎるとΔTが上昇してしまうため、厳密な管理が必要である。特に、Bi及びPbを同時に含有する合金組成では、ΔTが上昇しやすい。本実施形態では、BiとPbの含有量に所定の係数を乗じた値の合計を規定することにより、ΔTの上昇を抑制することができる。(2)式ではPbの係数がBiの係数より大きい。PbはBiと比較してΔTへの寄与度が大きく、含有量が少し増加しただけでΔTが大幅に上昇してしまうためである。 Bi and Pb suppress the deterioration of wettability due to the inclusion of As, but if the content is too large, ΔT increases, so strict control is required. In particular, in an alloy composition containing Bi and Pb at the same time, ΔT tends to increase. In the present embodiment, the increase in ΔT can be suppressed by defining the total of the values obtained by multiplying the contents of Bi and Pb by a predetermined coefficient. In equation (2), the coefficient of Pb is larger than the coefficient of Bi. This is because Pb has a larger contribution to ΔT than Bi, and even if the content is slightly increased, ΔT is significantly increased.

(2)式が0であるはんだ合金は、Bi及びPbの両元素を含有しないことになり、Asを含有したことによる濡れ性の劣化を抑制することができない。(2)式の下限は0超えであり、好ましくは0.02以上であり、より好ましくは0.03以上であり、さらに好ましくは0.05以上であり、特に好ましくは0.06以上であり、最も好ましくは0.11以上である。一方、(2)式が7を超えるとΔTの温度域が広くなりすぎるため、溶融はんだの凝固時にBiやPbの濃度が高い結晶相が偏析して機械的強度等が劣化する。(2)の上限は7以下であり、好ましくは6.56以下であり、より好ましくは6.40以下であり、さらに好ましくは5.75以下であり、さらにより好ましくは4.18以下であり、特に好ましくは2.30以下であり、最も好ましくは0.90以下である。 The solder alloy having the formula (2) of 0 does not contain both Bi and Pb elements, and the deterioration of wettability due to the inclusion of As cannot be suppressed. The lower limit of the equation (2) is more than 0, preferably 0.02 or more, more preferably 0.03 or more, further preferably 0.05 or more, and particularly preferably 0.06 or more. , Most preferably 0.11 or more. On the other hand, if the equation (2) exceeds 7, the temperature range of ΔT becomes too wide, so that the crystal phase having a high concentration of Bi and Pb segregates during solidification of the molten solder, and the mechanical strength and the like deteriorate. The upper limit of (2) is 7 or less, preferably 6.56 or less, more preferably 6.40 or less, further preferably 5.75 or less, and even more preferably 4.18 or less. , Especially preferably 2.30 or less, and most preferably 0.90 or less.

上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記(2a)式である。 The following equation (2a) is obtained by appropriately selecting the upper limit and the lower limit from the above preferred embodiments.

0.02≦2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦0.9 (2a)
上記(2a)式中、Bi及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0.02 ≤ 2.3 x 10 -4 x Bi + 8.2 x 10 -4 x Pb ≤ 0.9 (2a)
In the above formula (2a), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

Agは、結晶界面にAg3Snを形成してはんだ合金の機械的強度等を向上させることができる任意元素である。また、Agはイオン化傾向がSnに対して貴な元素であり、As、Pb、及びBiと共存することによりこれらの増粘抑制効果を助長する。Ag含有量は好ましくは0〜4%であり、より好ましくは0.5〜3.5%であり、さらに好ましくは1.0〜3.0%である。 Ag is an arbitrary element capable of forming Ag 3 Sn at the crystal interface to improve the mechanical strength of the solder alloy and the like. In addition, Ag is an element whose ionization tendency is noble with respect to Sn, and when it coexists with As, Pb, and Bi, it promotes the effect of suppressing thickening. The Ag content is preferably 0 to 4%, more preferably 0.5 to 3.5%, and even more preferably 1.0 to 3.0%.

Cuは、はんだ継手の接合強度を向上させることができる任意元素である。また、Cuはイオン化傾向Snに対して貴な元素であり、As、Pb、及びBiと共存することによりこれらの増粘抑制効果を助長する。Cu含有量は好ましくは0〜0.9%であり、より好ましくは0.1〜0.8%%であり、さらに好ましくは0.2〜0.7%である。 Cu is an optional element that can improve the joint strength of solder joints. Further, Cu is a noble element with respect to ionization tendency Sn, and when it coexists with As, Pb, and Bi, it promotes the effect of suppressing thickening of these elements. The Cu content is preferably 0 to 0.9%, more preferably 0.1 to 0.8%, and even more preferably 0.2 to 0.7%.

本実施形態に係るはんだ合金の残部はSnである。前述の元素の他に不可避的不純物を含有してもよい。不可避的不純物を含有する場合であっても、前述の効果に影響することはない。また、後述するように、本実施形態では含有しない元素が不可避的不純物として含有されても前述の効果に影響することはない。Inは、含有量が多すぎるとΔTが広がるため、1000質量ppm以下であれば前述の効果に影響することはない。 The rest of the solder alloy according to this embodiment is Sn. In addition to the above-mentioned elements, unavoidable impurities may be contained. Even if it contains unavoidable impurities, it does not affect the above-mentioned effects. Further, as will be described later, even if an element not contained in the present embodiment is contained as an unavoidable impurity, the above-mentioned effect is not affected. If the content of In is too large, ΔT spreads, so if it is 1000 mass ppm or less, the above-mentioned effect is not affected.

<はんだペースト>
はんだペースト中のはんだ合金及びフラックスの含有量に限定はなく、例えば、はんだ合金を5〜95質量%、フラックスを5〜95質量%とすることができる。
<Solder paste>
The contents of the solder alloy and the flux in the solder paste are not limited, and for example, the solder alloy may be 5 to 95% by mass and the flux may be 5 to 95% by mass.

本実施形態に係るはんだペーストは、酸化ジルコニウム粉末を含有することが好ましい。酸化ジルコニウムは、経時変化に伴うペーストの粘度上昇を抑制することができる。これは、酸化ジルコニウムを含有することにより、はんだ粉末表面の酸化膜厚がフラックス中に投入する前の状態を維持するためと推測される。詳細は不明であるが、以下のように推察される。通常、フラックスの活性成分は常温でもわずかに活性を持っているため、はんだ粉末の表面酸化膜が還元により薄くなり、粉末同士が凝集する原因になっている。そこで、はんだペーストに酸化ジルコニウム粉末を添加することで、フラックスの活性成分が酸化ジルコニウム粉末と優先的に反応し、はんだ粉末表面の酸化膜が凝集しない程度に維持されると推察される。 The solder paste according to this embodiment preferably contains zirconium oxide powder. Zirconium oxide can suppress an increase in the viscosity of the paste due to aging. It is presumed that this is because the zirconium oxide is contained so that the oxide film thickness on the surface of the solder powder is maintained in the state before being put into the flux. Details are unknown, but it is inferred as follows. Normally, the active component of the flux has a slight activity even at room temperature, so that the surface oxide film of the solder powder becomes thin due to reduction, which causes the powders to aggregate with each other. Therefore, it is presumed that by adding the zirconium oxide powder to the solder paste, the active component of the flux reacts preferentially with the zirconium oxide powder, and the oxide film on the surface of the solder powder is maintained to such an extent that it does not aggregate.

このような作用効果を十分に発揮するためには、はんだペースト中の酸化ジルコニウム粉末の含有量ははんだペーストの全質量に対して0.05〜20.0%であることが好ましい。0.05%以上であると上記作用効果を発揮することができ、20.0%以下であると金属粉末の含有量を確保することができ、増粘防止効果を発揮することができる。酸化ジルコニウムの含有量は好ましくは0.05〜10.0%であり、より好ましい含有量は0.1〜3%である。 In order to fully exert such effects, the content of the zirconium oxide powder in the solder paste is preferably 0.05 to 20.0% with respect to the total mass of the solder paste. When it is 0.05% or more, the above-mentioned action and effect can be exhibited, and when it is 20.0% or less, the content of the metal powder can be secured, and the thickening prevention effect can be exhibited. The content of zirconium oxide is preferably 0.05 to 10.0%, and the more preferable content is 0.1 to 3%.

はんだペースト中の酸化ジルコニウム粉末の粒径は5μm以下であることが好ましい。粒径が5μm以下であるとペーストの印刷性を維持することができる。下限は特に限定されることはないが0.5μm以上であればよい。上記粒径は、酸化ジルコニウム粉末のSEM写真を撮影し、0.1μm以上の各粉末について画像解析により投影円相当径を求め、その平均値とした。 The particle size of the zirconium oxide powder in the solder paste is preferably 5 μm or less. When the particle size is 5 μm or less, the printability of the paste can be maintained. The lower limit is not particularly limited, but may be 0.5 μm or more. For the particle size, an SEM photograph of the zirconium oxide powder was taken, and the diameter equivalent to the projected circle was obtained by image analysis for each powder of 0.1 μm or more, and the average value was used.

酸化ジルコニウムの形状は特に限定されないが、異形状であればフラックスとの接触面積が大きく増粘抑制効果がある。球形であると良好な流動性が得られるためにペーストとしての優れた印刷性が得られる。所望の特性に応じて適宜形状を選択すればよい。 The shape of zirconium oxide is not particularly limited, but if it has a different shape, the contact area with the flux is large and there is an effect of suppressing thickening. When it is spherical, good fluidity can be obtained, so that excellent printability as a paste can be obtained. The shape may be appropriately selected according to the desired characteristics.

本実施形態のはんだ付け用フラックス及びはんだペーストの製造方法に限定はなく、原料を同時に又は順次、任意の方法で混合することにより製造することができる。
フラックスの製造にあたっては、最終的にフラックスの全成分が混合されればよく、グリコール系溶剤と有機酸エステルは予め混合して混合溶剤としておいてもよいし、別々のタイミングでフラックスの他の成分と混合してもよいし、グリコール系溶剤と有機酸エステルを含むフラックスの全成分を同時に混合してもよい。
また、はんだペーストの製造にあたっても、必ずしも、フラックスを予め調製して、これをはんだ合金とを混合する必要はなく、最終的にフラックスの全成分、はんだ合金及び必要に応じてはんだペーストに添加される添加剤とが混合されるのであれば混合の順番は問わず、フラックスの成分の一部とはんだ合金とを混合した後、フラックスの残りの成分を添加するなどしてもよい。
The method for producing the soldering flux and the solder paste of the present embodiment is not limited, and the raw materials can be produced by mixing the raw materials simultaneously or sequentially by any method.
In the production of the flux, all the components of the flux may be finally mixed, and the glycol solvent and the organic acid ester may be mixed in advance to form a mixed solvent, or other components of the flux may be mixed at different timings. May be mixed with, or all the components of the flux including the glycol solvent and the organic acid ester may be mixed at the same time.
Further, in the production of the solder paste, it is not always necessary to prepare the flux in advance and mix it with the solder alloy, and finally it is added to all the components of the flux, the solder alloy and, if necessary, the solder paste. As long as the additives are mixed, the order of mixing may not be limited, and a part of the components of the flux and the solder alloy may be mixed, and then the remaining components of the flux may be added.

次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。 Next, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to these examples.

<フラックスの検討>
原料を表に示す配合で混合し、実施例A1〜A74及び比較例A1、A2のフラックスを調製した。なお、各原料は相溶し、容易に混合することができた。
<Examination of flux>
The raw materials were mixed in the formulations shown in the table to prepare fluxes of Examples A1 to A74 and Comparative Examples A1 and A2. The raw materials were compatible with each other and could be easily mixed.

実施例、比較例のフラックスについて、ボイド発生率及びはんだぬれ性を以下の手順で評価した。 For the fluxes of Examples and Comparative Examples, the void generation rate and solder wettability were evaluated by the following procedure.

(1)ボイド発生率
各実施例、比較例のフラックスとSn−3.0Ag−0.5Cu(SAC305)組成のはんだ粉末(平均粒子径φ:21μm)をフラックス:はんだ粉末=11:89の質量比で混合したはんだペーストを作製した。
次いで、ペーストを、8mm×8mmのCu−OSP電極(N=15)の上にメタルマスクを用いて120μm高さに印刷した。その後、大気雰囲気下にてリフローした。リフロープロファイルは、190℃で2分保持し、その後260℃まで1.5℃/秒で昇温、とした。
リフロー後のはんだ付け部(はんだバンプ)の透過画像をUNi−HiTE SYSTEM社製Microfocus X−ray System XVR−160を用いて観察し、ボイド発生率を求めた。具体的には、はんだバンプについて上部から下部に向かって透過観察を行い、円形のはんだバンプ透過画像を得、その色調のコントラストに基づき金属充填部とボイド部を識別して自動解析によりボイド面積率を算出し、これをボイド発生率とした。このようにして求めたボイド発生率を用いて、以下の基準でボイドの発生しにくさを評価した。
15個のはんだ付け部全てにおいてボイド発生率が15%以下である場合:○○
15個のはんだ付け部中にボイド発生率が15%超のものが含まれるが、いずれも20%以下である場合:○
15個のはんだ付け部中にボイド発生率が20%超のものが含まれる場合:×
(1) Void generation rate Flux of each example and comparative example and solder powder (average particle diameter φ: 21 μm) having a Sn-3.0Ag-0.5Cu (SAC305) composition are flux: solder powder = 11:89 mass. A solder paste mixed in a ratio was prepared.
The paste was then printed on an 8 mm × 8 mm Cu-OSP electrode (N = 15) at a height of 120 μm using a metal mask. After that, it reflowed in the air atmosphere. The reflow profile was held at 190 ° C. for 2 minutes and then warmed to 260 ° C. at 1.5 ° C./sec.
The transmission image of the soldered portion (solder bump) after the reflow was observed using Micro Focus X-ray System XVR-160 manufactured by UNi-HiTE SYSTEM, and the void generation rate was determined. Specifically, transmission observation is performed on the solder bumps from the upper part to the lower part, a circular solder bump transmission image is obtained, the metal filling portion and the void portion are identified based on the contrast of the color tone, and the void area ratio is automatically analyzed. Was calculated and used as the void occurrence rate. Using the void generation rate obtained in this way, the difficulty of void generation was evaluated according to the following criteria.
When the void generation rate is 15% or less in all 15 soldered parts: ○○
Among the 15 soldered parts, those with a void generation rate of more than 15% are included, but all of them are 20% or less: ○
When 15 soldered parts contain more than 20% void generation rate: ×

(2)はんだぬれ性
JIS Z 3198−4:2003に準じて、フラックスのはんだぬれ性を評価した。
具体的には、150℃で1時間焼成した幅5mm×長さ25mm×厚み0.5mmの銅板の表面の長さ方向の下端から3mmまでの部分に各実施例、比較例のフラックスを針先で塗布し、下記の条件ではんだ槽に浸せきし、ゼロクロスタイムを測定した。
<浸せき条件>
はんだ組成:Sn−3.0Ag−0.5Cu
はんだ槽温度:250℃ JIS Z 3198−4:2003
浸せき速度:5mm/秒 JIS Z 3198−4:2003
浸せき深さ:2mm JIS Z 3198−4:2003
測定時間:10秒 JIS Z 3198−4:2003
(2) Solder wettability The solder wettability of the flux was evaluated according to JIS Z 3198-4: 2003.
Specifically, the flux of each Example and Comparative Example is applied to the portion of the surface of a copper plate having a width of 5 mm, a length of 25 mm, and a thickness of 0.5 mm, which is fired at 150 ° C. for 1 hour, from the lower end to 3 mm in the length direction. And soaked in a solder bath under the following conditions, and the zero cross time was measured.
<Soaking conditions>
Solder composition: Sn-3.0Ag-0.5Cu
Solder tank temperature: 250 ° C JIS Z 3198-4: 2003
Immersion speed: 5 mm / sec JIS Z 3198-4: 2003
Immersion depth: 2 mm JIS Z 3198-4: 2003
Measurement time: 10 seconds JIS Z 3198-4: 2003

はんだぬれ性は以下の基準で評価した。
ゼロクロスタイムが5.5秒以下:○
ゼロクロスタイムが5.5秒超:×
Solder wettability was evaluated according to the following criteria.
Zero cross time is 5.5 seconds or less: ○
Zero cross time exceeds 5.5 seconds: ×

(3)総合評価
〇:上記の各評価が全て〇〇又は〇
×:上記の各評価において×あり
(3) Comprehensive evaluation 〇: All the above evaluations are 〇 〇 or 〇 ×: There is × in each of the above evaluations

結果を表1〜5に示す。溶剤として有機酸エステルとグリコール系溶剤を併用した実施例A1〜A74のフラックスは、良好な低ボイド発生率を有し、しかもはんだぬれ性も良好であった。 The results are shown in Tables 1-5. The fluxes of Examples A1 to A74 in which an organic acid ester and a glycol-based solvent were used in combination as a solvent had a good low void generation rate and also had good solder wettability.

Figure 2020192546
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<はんだ合金の検討>
実施例A1で調製したフラックスと、表6〜表11に示す合金組成からなりJIS Z 3284−1:2004における粉末サイズの分類(表2)において記号4を満たすサイズ(粒度分布)のはんだ合金とを混合してはんだペーストを作製した。フラックスとはんだ合金との質量比は、フラックス:はんだ粉末=11:89である。各はんだペーストについて、粘度の経時変化を測定した。また、はんだ粉末の液相線温度及び固相線温度を測定した。さらに、作製直後のはんだペーストを用いて濡れ性の評価を行った。詳細は以下のとおりである。
<Solder alloy study>
The flux prepared in Example A1 and the solder alloy having the alloy composition shown in Tables 6 to 11 and having a size (particle size distribution) satisfying symbol 4 in the powder size classification (Table 2) in JIS Z 3284-1: 2004. Was mixed to prepare a solder paste. The mass ratio of the flux to the solder alloy is flux: solder powder = 11:89. For each solder paste, the change in viscosity with time was measured. In addition, the liquidus temperature and the solidus temperature of the solder powder were measured. Furthermore, the wettability was evaluated using the solder paste immediately after production. The details are as follows.

(4)経時変化
作製直後の各はんだペーストについて、株式会社マルコム社製:PCU−205を用い、回転数:10rpm、25℃、大気中で12時間粘度を測定した。12時間後の粘度がはんだペーストを作製後30分経過した時の粘度と比較して1.2倍以下であれば、十分な増粘抑制効果が得られたものとして「○」と評価し、1.2倍を超える場合には「×」と評価した。
(4) Changes over time For each solder paste immediately after production, the viscosity was measured for 12 hours in the air at a rotation speed of 10 rpm and 25 ° C. using PCU-205 manufactured by Malcolm Co., Ltd. If the viscosity after 12 hours is 1.2 times or less of the viscosity when 30 minutes have passed since the solder paste was prepared, it was evaluated as "○" as having a sufficient effect of suppressing thickening. When it exceeded 1.2 times, it was evaluated as "x".

(5)ΔT
フラックスと混合する前のはんだ合金について、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、型番:EXSTAR DSC7020を用い、サンプル量:約30mg、昇温速度:15℃/minにてDSC測定を行い、固相線温度及び液相線温度を得た。得られた液相線温度から固相線温度を引いてΔTを求めた。ΔTが10℃以下の場合に「○」と評価し、10℃を超える場合に「×」と評価した。
(5) ΔT
For the solder alloy before mixing with the flux, DSC measurement was performed using SII Nanotechnology Co., Ltd., model number: EXSTAR DSC7020, sample amount: about 30 mg, temperature rise rate: 15 ° C./min, and solid phase line. The temperature and the liquidus temperature were obtained. ΔT was obtained by subtracting the solidus temperature from the obtained liquidus temperature. When ΔT was 10 ° C. or lower, it was evaluated as “◯”, and when it exceeded 10 ° C., it was evaluated as “x”.

(6)濡れ性
作製直後の各はんだペーストをCu板上に印刷し、リフロー炉でN2雰囲気中、1℃/sの昇温速度で25℃から260℃まで加熱した後、室温まで冷却した。冷却後のはんだバンプの外観を光学顕微鏡で観察することで濡れ性を評価した。溶融しきれていないはんだ粉末が観察されない場合に「○」と評価し、溶融しきれていないはんだ粉末が観察された場合に「×」と評価した。
(6) Wetting property Each solder paste immediately after production was printed on a Cu plate, heated in an N 2 atmosphere in a reflow furnace from 25 ° C. to 260 ° C. at a heating rate of 1 ° C./s, and then cooled to room temperature. .. Wetability was evaluated by observing the appearance of the solder bumps after cooling with an optical microscope. When the unmelted solder powder was not observed, it was evaluated as "◯", and when the unmelted solder powder was observed, it was evaluated as "x".

(7)総合評価
〇:上記の各評価が全て〇
×:上記の各評価において×あり
(7) Comprehensive evaluation 〇: All the above evaluations are 〇 ×: There is × in each of the above evaluations

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表6〜11に示すように、全ての実施例Bでは、増粘抑制効果、ΔTの狭窄化、及び優れた濡れ性を示すことがわかった。 As shown in Tables 6 to 11, it was found that all Examples B exhibited the thickening suppressing effect, the narrowing of ΔT, and the excellent wettability.

これに対して、比較例B1、B10、B19、B28、B37、及びB46は、Asを含有しないため、増粘抑制効果が発揮されなかった。 On the other hand, Comparative Examples B1, B10, B19, B28, B37, and B46 did not contain As, and therefore did not exhibit the thickening suppressing effect.

比較例B2、B11、B20、B29、B38、及びB47は、(1)式が下限未満であるため、増粘抑制効果が発揮されなかった。 In Comparative Examples B2, B11, B20, B29, B38, and B47, since the formula (1) was less than the lower limit, the thickening suppressing effect was not exhibited.

比較例B3、B4、B12、B13、B21、B22、B30、B31、B39、B40、B48、及びB49は、As含有量が上限値を超えているため、濡れ性が劣る結果を示した。 Comparative Examples B3, B4, B12, B13, B21, B22, B30, B31, B39, B40, B48, and B49 showed inferior wettability because the As content exceeded the upper limit.

比較例B5、B7、B9、B14、B16、B18、B23、B25、B27、B32、B34、B36、B41、B43、B45、B50、B52、及びB54は、Pb含有量及び(2)式が上限値を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。 Comparative Examples B5, B7, B9, B14, B16, B18, B23, B25, B27, B32, B34, B36, B41, B43, B45, B50, B52, and B54 have an upper limit of Pb content and equation (2). Since the value was exceeded, the result was that ΔT exceeded 10 ° C.

比較例B6、B15、B24、B33、B42、及びB51は、(2)式が上限値を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。 In Comparative Examples B6, B15, B24, B33, B42, and B51, ΔT exceeded 10 ° C. because the equation (2) exceeded the upper limit.

比較例B8、B17、B26、B35、B44、及びB53は、Bi含有量及び(2)式が上限値を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。 Comparative Examples B8, B17, B26, B35, B44, and B53 showed the result that ΔT exceeded 10 ° C. because the Bi content and the equation (2) exceeded the upper limit.

<フラックスとはんだ合金の組み合わせ>
実施例A1のフラックスに代えて、実施例A2〜A74の各種フラックスをそれぞれ使用し、実施例Bの各種はんだ合金とそれぞれ組み合わせた場合も、ボイド発生率、増粘抑制効果、ΔT、及び濡れ性において良好な結果が得られた。
<Combination of flux and solder alloy>
Even when various fluxes of Examples A2 to A74 are used in place of the flux of Example A1 and combined with various solder alloys of Example B, the void generation rate, the thickening suppressing effect, ΔT, and the wettability are also obtained. Good results were obtained in.

このような観点から、本実施形態に係るはんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の上限は25000質量ppm以下であり、好ましくは10000質量ppm以下であり、より好ましくは1000質量ppm以下であり、さらに好ましくは600質量ppm以下であり、特に好ましくは500質量ppm以下である。本実施形態に係るはんだ合金がPbを含有する場合、Pb含有量の上限値は8000質量ppm以下であり、好ましくは5100質量ppm以下であり、より好ましくは5000質量ppm以下であり、さらに好ましくは1000質量ppm以下であり、特に好ましくは850質量ppm以下であり、最も好ましくは500質量ppm以下である。 From this point of view, when the solder alloy according to the present embodiment contains Bi, the upper limit of the Bi content is 25,000 mass ppm or less, preferably 10,000 mass ppm or less, and more preferably 1000 mass ppm or less. Yes, more preferably 600 mass ppm or less, and particularly preferably 500 mass ppm or less. When the solder alloy according to the present embodiment contains Pb, the upper limit of the Pb content is 8000 mass ppm or less, preferably 5100 mass ppm or less, more preferably 5000 mass ppm or less, still more preferably. It is 1000 mass ppm or less, particularly preferably 850 mass ppm or less, and most preferably 500 mass ppm or less.

Claims (19)

樹脂、グリコール系溶剤及び有機酸エステルを含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
を含む、はんだペースト。
Soldering flux containing resin, glycol solvent and organic acid ester; and As: 25-300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass ppm or less, and the balance Has an alloy composition consisting of Sn, and the following equations (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above equations (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
Solder alloy that meets the requirements;
Including, solder paste.
さらに、有機酸を含む、請求項1に記載のはんだペースト。 The solder paste according to claim 1, further comprising an organic acid. さらに、活性剤を含む、請求項1に記載のはんだペースト。 The solder paste according to claim 1, further comprising an activator. 前記有機酸エステルの含有量が、0質量%超20質量%以下である、請求項1〜3いずれか一項に記載のはんだペースト。 The solder paste according to any one of claims 1 to 3, wherein the content of the organic acid ester is more than 0% by mass and 20% by mass or less. 前記有機酸エステルの含有量が、5〜15質量%の範囲内である、請求項4に記載のはんだペースト。 The solder paste according to claim 4, wherein the content of the organic acid ester is in the range of 5 to 15% by mass. 前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記有機酸エステルの含有量(質量%)の比(有機酸エステル含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.01〜1.25である、請求項1〜5いずれか一項に記載のはんだペースト。 The ratio of the content (% by mass) of the organic acid ester to the content (% by mass) of the glycol solvent (organic acid ester content / content of glycol solvent) is 0.01 to 1.25. The solder paste according to any one of claims 1 to 5. 前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記有機酸エステルの含有量(質量%)の比(有機酸エステル含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.15〜0.72である、請求項6に記載のはんだペースト。 The ratio of the content (mass%) of the organic acid ester to the content (mass%) of the glycol solvent (organic acid ester content / content of glycol solvent) is 0.15 to 0.72. The solder paste according to claim 6. ロジン系樹脂を30〜60質量%、グリコール系溶剤を10〜60質量%、有機酸エステルを0.5〜30質量%、及び、有機酸を1〜15質量%の範囲内で含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
を含む、はんだペースト。
Solding containing rosin-based resin in the range of 30 to 60% by mass, glycol-based solvent in the range of 10 to 60% by mass, organic acid ester in the range of 0.5 to 30% by mass, and organic acid in the range of 1 to 15% by mass. Flux; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass ppm or less, and the balance having an alloy composition of Sn, as described in (1) below. Equation and equation (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above equations (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
Solder alloy that meets the requirements;
Including, solder paste.
前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記有機酸エステルの含有量(質量%)の比(有機酸エステル含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.01〜1.25である、請求項8記載のはんだペースト。 The ratio of the content (mass%) of the organic acid ester to the content (mass%) of the glycol solvent (organic acid ester content / content of glycol solvent) is 0.01 to 1.25. The solder paste according to claim 8. さらに、チキソ剤及び/又は酸化防止剤を含む、請求項1〜9いずれか一項に記載のはんだペースト。 The solder paste according to any one of claims 1 to 9, further comprising a thixotropic agent and / or an antioxidant. 前記有機酸エステルが、アジピン酸ジメチル、アジピン酸ジイソプロピル、マレイン酸ジブチル、セバシン酸ジメチル、アジピン酸ジイソブチル、セバシン酸ジエチル、セバシン酸ジイソプロピル、セバシン酸ジブチル、及びセバシン酸シオクチルからなる群より選ばれる1種以上である、請求項1〜10いずれか一項に記載のはんだペースト。 One selected from the group consisting of dimethyl adipate, diisopropyl adipate, dibutyl maleate, dimethyl sebacate, diisobutyl adipate, diethyl sebacate, diisopropyl sebacate, dibutyl sebacate, and sioctyl sebacate. The solder paste according to any one of claims 1 to 10, which is the above. 前記合金組成はが、下記(1a)式:
275≦2As+Bi+Pb≦25200 (1a)
[上記(1a)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、請求項1〜11のいずれか一項に記載のはんだペースト。
The alloy composition is based on the following formula (1a):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
[In the above formula (1a), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of claims 1 to 11, which satisfies the above conditions.
前記合金組成が、下記(1b)式:
275≦2As+Bi+Pb≦5300 (1b)
[上記(1b)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、請求項1〜12のいずれか一項に記載のはんだペースト。
The alloy composition is the following formula (1b):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
[In the above formula (1b), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of claims 1 to 12, which satisfies the above conditions.
前記合金組成が、下記(2a)式:
0.02≦2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦0.9 (2a)
[上記(2a)式中、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、請求項1〜13のいずれか一項に記載のはんだペースト。
The alloy composition is the following formula (2a):
0.02 ≤ 2.3 x 10 -4 x Bi + 8.2 x 10 -4 x Pb ≤ 0.9 (2a)
[In the above formula (2a), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of claims 1 to 13, which satisfies the above conditions.
さらに、前記合金組成が、Ag:0〜4質量%及びCu:0〜0.9質量%の少なくとも1種を含有する、請求項1〜14のいずれか一項に記載のはんだペースト。 The solder paste according to any one of claims 1 to 14, wherein the alloy composition contains at least one of Ag: 0 to 4% by mass and Cu: 0 to 0.9% by mass. さらに、酸化ジルコニウム粉末を有する、請求項1〜15のいずれか一項に記載のはんだペースト。 The solder paste according to any one of claims 1 to 15, further comprising zirconium oxide powder. 前記酸化ジルコニウム粉末を前記はんだペーストの全質量に対して0.05〜20.0質量%含有する、請求項16に記載のはんだペースト。 The solder paste according to claim 16, wherein the zirconium oxide powder is contained in an amount of 0.05 to 20.0% by mass based on the total mass of the solder paste. As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金をはんだ付けするための、
樹脂、グリコール系溶剤及び有機酸エステルを含むフラックス。
As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass ppm or less, and the balance having an alloy composition of Sn, according to the following formula (1) and (2). )formula:
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above equations (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
For soldering a solder alloy that meets the requirements,
Flux containing resin, glycol solvent and organic acid ester.
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金をはんだ付けするための、
ロジン系樹脂を30〜60質量%、グリコール系溶剤を10〜60質量%、有機酸エステルを0.5〜30質量%、及び有機酸を1〜15質量%の範囲内で含むフラックス。
As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25,000 mass ppm or less, Pb: 0 mass ppm or more and 8000 mass ppm or less, and the balance having an alloy composition of Sn, according to the following formula (1) and (2). )formula:
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 -4 × Bi + 8.2 × 10 -4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above equations (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition].
For soldering a solder alloy that meets the requirements,
A flux containing 30 to 60% by mass of a rosin-based resin, 10 to 60% by mass of a glycol-based solvent, 0.5 to 30% by mass of an organic acid ester, and 1 to 15% by mass of an organic acid.
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Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002224881A (en) * 2001-02-05 2002-08-13 Hitachi Metals Ltd Solder ball
JP2015020181A (en) * 2013-07-17 2015-02-02 ハリマ化成株式会社 Solder composition, solder paste, and electronic circuit board
JP2015020182A (en) * 2013-07-17 2015-02-02 ハリマ化成株式会社 Solder composition, solder paste, and electronic circuit board
JP2015098052A (en) * 2013-10-16 2015-05-28 三井金属鉱業株式会社 Solder alloy and solder powder
JP2015213956A (en) * 2014-05-09 2015-12-03 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Flux for solder paste, solder paste and solder bump manufacturing method
JP2017177166A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 株式会社タムラ製作所 Solder composition for jet dispenser
JP2017192987A (en) * 2016-04-18 2017-10-26 オリジン電気株式会社 Solder composition and method of manufacturing soldered product
JP6521161B1 (en) * 2018-07-20 2019-05-29 千住金属工業株式会社 Solder alloy, solder powder, solder paste, and solder joint using them
JP2019081200A (en) * 2017-10-27 2019-05-30 株式会社タムラ製作所 Solder composition and electronic circuit board
JP2019098343A (en) * 2017-11-28 2019-06-24 三菱自動車工業株式会社 Press working device

Patent Citations (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002224881A (en) * 2001-02-05 2002-08-13 Hitachi Metals Ltd Solder ball
JP2015020181A (en) * 2013-07-17 2015-02-02 ハリマ化成株式会社 Solder composition, solder paste, and electronic circuit board
JP2015020182A (en) * 2013-07-17 2015-02-02 ハリマ化成株式会社 Solder composition, solder paste, and electronic circuit board
JP2015098052A (en) * 2013-10-16 2015-05-28 三井金属鉱業株式会社 Solder alloy and solder powder
JP2015213956A (en) * 2014-05-09 2015-12-03 サムソン エレクトロ−メカニックス カンパニーリミテッド. Flux for solder paste, solder paste and solder bump manufacturing method
JP2017177166A (en) * 2016-03-30 2017-10-05 株式会社タムラ製作所 Solder composition for jet dispenser
JP2017192987A (en) * 2016-04-18 2017-10-26 オリジン電気株式会社 Solder composition and method of manufacturing soldered product
JP2019081200A (en) * 2017-10-27 2019-05-30 株式会社タムラ製作所 Solder composition and electronic circuit board
JP2019098343A (en) * 2017-11-28 2019-06-24 三菱自動車工業株式会社 Press working device
JP6521161B1 (en) * 2018-07-20 2019-05-29 千住金属工業株式会社 Solder alloy, solder powder, solder paste, and solder joint using them

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