JP6638844B1 - Solder paste - Google Patents

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Abstract

【課題】製造効率や保存安定性を損なうことなく、ボイドの発生の少ないはんだ付けを実現でき、かつ、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さく高い機械的特性を有するはんだペーストを提供すること。【解決手段】樹脂、グリコール系溶剤及び炭素数16〜18の一価のアルコールを含む、はんだ付け用フラックス;及びAs:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:275≦2As+Bi+Pb (1)0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]を満たすはんだ合金;を含む、はんだペースト。【選択図】なしAn object of the present invention is to achieve soldering with less voids without impairing manufacturing efficiency and storage stability, and also have an effect of suppressing viscosity increase, excellent wettability, and a liquidus temperature and a solidus temperature. To provide a solder paste having a small temperature difference and high mechanical properties. A soldering flux containing a resin, a glycol-based solvent and a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms; and As: 25 to 300 ppm by mass, Bi: 0 to 25,000 ppm by mass, Pb: It has an alloy composition of more than 0 mass ppm and not more than 8000 mass ppm, and the balance being Sn, and the following formulas (1) and (2): 275 ≦ 2As + Bi + Pb (1) 0 <2.3 × 10−4 × Bi + 8. 2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2) [In the formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition] Alloy; solder paste. [Selection diagram] None

Description

本発明は、はんだペーストに関する。   The present invention relates to a solder paste.

近年、電子部品の表面実装等においては、あらかじめ常温で塗布又は接着しておいたはんだを、後から加熱溶融してはんだ付けする、リフローはんだ付けが行われている。
はんだペーストを用いたリフローはんだ付けの場合、はんだペーストは、主に、はんだ粉末と、樹脂成分、溶剤及び各種添加剤を含むフラックスとからなり、これをスクリーン印刷等によって接合予定部分に塗布、加熱することによってはんだ付けが行われる。
ところで、フラックスに添加される添加剤の中には有機酸等の揮発成分も含まれるところ、揮発成分ははんだ付けの際の加熱によりガス化する。また、無鉛系はんだを用いる場合にははんだ付け温度が高温となるため、揮発成分以外のフラックス成分も分解することがある。そのため、リフローはんだ付けにおいては、このような揮発ガスや分解ガスに起因するボイドがはんだ付け部に発生するという問題がある。
この点、特許文献1には、低分子二塩基酸ジアルキルエステル化合物を添加してフラックスの分解を防ぐことによってボイドの発生を低減することが開示されている(特許文献1)。
2. Description of the Related Art In recent years, in surface mounting of electronic components, reflow soldering has been performed in which solder previously applied or bonded at room temperature is heated and melted and soldered later.
In the case of reflow soldering using a solder paste, the solder paste mainly consists of a solder powder and a flux containing a resin component, a solvent, and various additives, which is applied to a portion to be joined by screen printing or the like, and heated. By doing so, soldering is performed.
Incidentally, volatile components such as organic acids are also included in the additives added to the flux, and the volatile components are gasified by heating during soldering. In addition, when a lead-free solder is used, the soldering temperature is high, so that flux components other than volatile components may be decomposed. For this reason, in reflow soldering, there is a problem that voids due to such volatile gas and decomposition gas are generated in a soldered portion.
In this regard, Patent Document 1 discloses that the generation of voids is reduced by adding a low molecular weight dibasic acid dialkyl ester compound to prevent the decomposition of flux (Patent Document 1).

また、近年、電極の小型化が進むにつれて、はんだペーストの印刷面積も狭小化が進んでいることから、購入したはんだペーストを使い切るまでの時間は長期化している。はんだペーストは、はんだ粉末とフラックスを混錬したものであり、保管期間が長期に渡る場合には、保管状況によってははんだペーストの粘度が上がってしまい、購入当初の印刷性能を発揮することができないことがある。   Further, in recent years, as the size of the electrode has been reduced, the printed area of the solder paste has been reduced, and thus the time until the purchased solder paste has been used has been prolonged. Solder paste is a mixture of solder powder and flux.If the storage period is long, depending on the storage conditions, the viscosity of the solder paste will increase, and the printing performance at the time of purchase cannot be exhibited. Sometimes.

そこで、例えば特許文献2には、はんだペーストの経時変化を抑制するため、Snと、Ag、Bi、Sb、Zn、In及びCuからなる群から選択される1種又は2種以上と、を含み、かつ、所定量のAsを含むはんだ合金が開示されている。同文献には、25℃で2週間後の粘度が作製当初の粘度と比較して140%未満である結果が示されている。   Therefore, for example, Patent Document 2 includes Sn and one or more kinds selected from the group consisting of Ag, Bi, Sb, Zn, In, and Cu in order to suppress the temporal change of the solder paste. Also, a solder alloy containing a predetermined amount of As is disclosed. The document shows that the viscosity after 2 weeks at 25 ° C. is less than 140% as compared with the viscosity at the beginning of production.

特開2007−136491号公報JP 2007-136491 A 特開2015−98052号公報JP-A-2005-98052

特許文献1で使用されている低分子二塩基酸ジアルキルエステル化合物は、フラックスに一般に使用されているロジン樹脂やグリコール系溶剤との相溶性が高いとは言えない。そのため、低分子二塩基酸ジアルキルエステル化合物をフラックスに添加すると、フラックスやはんだペーストを製造する際の混合効率が低下する。また、長期保存の際にフラックスが相分離するおそれもある。   The low molecular weight dibasic acid dialkyl ester compound used in Patent Literature 1 cannot be said to have high compatibility with rosin resins and glycol solvents generally used in flux. Therefore, when the low molecular weight dibasic acid dialkyl ester compound is added to the flux, the mixing efficiency in producing the flux and the solder paste is reduced. In addition, the flux may undergo phase separation during long-term storage.

特許文献2には、As含有量が多いと溶融性が劣る結果が示されており、当該溶融性は、溶融はんだの濡れ性に相当すると考えられる。一般に、溶融はんだの濡れ性を向上させるためには高活性のフラックスを用いる必要がある。特許文献2に記載のフラックスにおいて、Asによる濡れ性の劣化が抑制されるためには、高活性のフラックスを用いればよいと考えられる。しかし、高活性のフラックスを用いるとフラックスの粘度上昇率が上がってしまう。また、特許文献2の記載を鑑みると、粘度上昇率の上昇を抑えるためにはAs含有量を増加させる必要がある。特許文献2に記載のはんだペーストが更に低い粘度上昇率と優れた濡れ性を示すためには、フラックスの活性力とAs含有量を増加しつづける必要があり、悪循環を招くことになる。   Patent Literature 2 discloses that if the As content is large, the meltability is poor, and the meltability is considered to correspond to the wettability of the molten solder. Generally, in order to improve the wettability of molten solder, it is necessary to use a highly active flux. In the flux described in Patent Document 2, it is considered that a highly active flux may be used in order to suppress the deterioration of wettability due to As. However, when a highly active flux is used, the rate of increase in the viscosity of the flux increases. Also, in view of the description of Patent Document 2, it is necessary to increase the As content in order to suppress the increase in the viscosity increase rate. In order for the solder paste described in Patent Document 2 to exhibit a lower viscosity increase rate and excellent wettability, it is necessary to keep increasing the flux activation power and As content, which results in a vicious cycle.

また、微細な電極を接合するためには、はんだ継手の機械的特性等を向上させる必要がある。元素によっては、含有量が多くなると液相線温度が上昇して液相線温度と固相線温度が広がり、凝固時に偏析して不均一な合金組織が形成されてしまう。はんだ合金がこのような合金組織を有すると、引張強度などの機械的特性が劣り外部からの応力により容易に破断してしまう。この問題は、近年の電極の小型化にともない顕著になってきている。   Further, in order to join the fine electrodes, it is necessary to improve the mechanical properties and the like of the solder joint. For some elements, when the content increases, the liquidus temperature rises, the liquidus temperature and the solidus temperature broaden, and segregates during solidification to form a non-uniform alloy structure. When the solder alloy has such an alloy structure, mechanical properties such as tensile strength are inferior and the solder alloy is easily broken by an external stress. This problem has become remarkable with the recent miniaturization of electrodes.

そこで、本発明は、製造効率や保存安定性を損なうことなく、ボイドの発生の少ないはんだ付けを実現でき、かつ、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さく高い機械的特性を有するはんだペーストを提供することを目的とする。   Therefore, the present invention can realize soldering with less generation of voids without impairing manufacturing efficiency and storage stability, and has an effect of suppressing viscosity increase, excellent wettability, liquidus temperature and solid phase. An object of the present invention is to provide a solder paste having a small temperature difference from a linear temperature and high mechanical properties.

本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、はんだ付け時におけるフラックスの溶融粘度が低ければ、仮に揮発ガスや分解ガスが発生したとしても樹脂成分が固化する前に速やかにはんだ付け部から抜け出すことができ、ボイドとして残存することがないことに気が付いた。
そして、はんだ付け時のフラックスの溶融粘度は、フラックス中に存在している溶剤の量と関係があり、はんだ付けの際(接合時)の加熱により揮発するなどして溶剤量が減ると溶融粘度は上昇するが、溶剤が十分な量残存していれば溶融粘度は低く、その結果、はんだ付け時に揮発ガスや分解ガスが発生してもはんだ付け部から抜けきることが判明した。
The present inventors have conducted intensive studies to solve the above-described problems. As a result, if the melt viscosity of the flux at the time of soldering is low, even if volatile gas or decomposition gas is generated, soldering is quickly performed before the resin component is solidified. I noticed that I was able to get out of the section and not remain as a void.
The melt viscosity of the flux at the time of soldering is related to the amount of the solvent present in the flux. However, it was found that if a sufficient amount of the solvent remained, the melt viscosity was low, and as a result, even if volatile gas or decomposition gas was generated during soldering, it could be removed from the soldered portion.

もっとも、はんだ付け時にフラックス中に溶剤が十分な量残存するよう、溶剤として低揮発性のものを用いると、はんだ付け時における溶融粘度を低くすることはできるが、今度は、接合時に加熱をしても十分に乾燥させることができず、はんだ付け部表面がべたつき、ごみ等が付着するという別の問題が生じる。
そこで、接合後の乾燥性にも留意しながら、さらなる研究を重ねた結果、溶剤としてグリコール系溶剤と炭素数が16〜18の一価のアルコールとを併用した場合には、乾燥性及びはんだ付け時における低溶融粘度という相反する要求を両立するフラックスとすることができ、ボイド発生の問題を解決できることを見出した。
しかも、炭素数が16〜18の一価のアルコールは、アルコールであるためグリコール系溶剤やロジン樹脂等の一般的なフラックスの主成分との相溶性も良好であるため、フラックスに添加しても、その製造効率や保存安定性を損なうこともない。
However, if a low volatile solvent is used so that a sufficient amount of the solvent remains in the flux at the time of soldering, the melt viscosity at the time of soldering can be lowered. However, it cannot be dried sufficiently, and another problem arises in that the surface of the soldered portion is sticky and dust adheres.
Therefore, as a result of further study while paying attention to the drying property after joining, when the glycol solvent and the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms are used in combination, the drying property and the soldering It has been found that a flux that can satisfy conflicting requirements of low melt viscosity at the time can be achieved, and that the problem of void generation can be solved.
Moreover, since monohydric alcohols having 16 to 18 carbon atoms are alcohols, they have good compatibility with main components of general fluxes such as glycol solvents and rosin resins. The production efficiency and storage stability are not impaired.

また、本発明者らは、BiとPbがAsと同様の増粘抑制効果を発揮する知見を得た。この理由は定かではないが、以下のように推察される。   In addition, the present inventors have found that Bi and Pb exert the same thickening suppressing effect as that of As. The reason for this is not clear, but is presumed as follows.

増粘抑制効果はフラックスとの反応を抑制することにより発揮されることから、フラックスとの反応性が低い元素として、イオン化傾向が低い元素が挙げられる。一般に、合金のイオン化は、合金組成としてのイオン化傾向、すなわち標準電極電位で考える。例えば、Snに対して貴なAgを含むSnAg合金はSnよりもイオン化し難い。このため、Snよりも貴な元素を含有する合金はイオン化し難いことになり、はんだペーストの増粘抑制効果が高いと推察される。   Since the effect of suppressing thickening is exhibited by suppressing the reaction with the flux, an element having low reactivity with the flux includes an element having a low ionization tendency. Generally, the ionization of an alloy is considered based on the ionization tendency as an alloy composition, that is, the standard electrode potential. For example, a SnAg alloy containing Ag which is noble to Sn is less likely to be ionized than Sn. For this reason, an alloy containing an element nobler than Sn is less likely to be ionized, and it is presumed that the effect of suppressing thickening of the solder paste is high.

ここで、特許文献2では、Sn、Ag、Cuの他に、Bi、Sb、Zn、及びInが等価な元素として掲げられているが、イオン化傾向としては、In及びZnはSnに対して卑な元素である。つまり、特許文献2にはSnより卑な元素を添加しても増粘抑制効果が得られることが記載されていることになる。このため、イオン化傾向に則して選定された元素を含有するはんだ合金は、特許文献2に記載のはんだ合金と比較して同等以上の増粘抑制効果が得られると考えられる。また、前述のように、As含有量が増加すると濡れ性が劣化してしまう。   Here, in Patent Document 2, Bi, Sb, Zn, and In are listed as equivalent elements in addition to Sn, Ag, and Cu. However, in terms of ionization tendency, In and Zn are lower than Sn. Element. In other words, Patent Literature 2 describes that the effect of suppressing thickening can be obtained even when an element lower than Sn is added. For this reason, it is considered that a solder alloy containing an element selected in accordance with the ionization tendency can obtain a thickening suppression effect equal to or greater than that of the solder alloy described in Patent Document 2. Further, as described above, when the As content increases, the wettability deteriorates.

本発明者らは、増粘抑制効果として知見したBi及びPbについて詳細に調査した。Bi及びPbははんだ合金の液相線温度を下げるため、はんだ合金の加熱温度が一定である場合、はんだ合金の濡れ性を向上させる。ただ、含有量によっては固相線温度が著しく低下するため、液相線温度と固相線温度との温度差であるΔTが広くなりすぎる。ΔTが広くなりすぎると凝固時に偏析が生じてしまい、機械的強度等の機械的特性の低下に繋がってしまう。ΔTが広がる現象は、Bi及びPbを同時に添加した場合に顕著に表れることから、厳密な管理が必要である。   The present inventors have conducted a detailed investigation on Bi and Pb found as a thickening suppressing effect. Since Bi and Pb lower the liquidus temperature of the solder alloy, when the heating temperature of the solder alloy is constant, the wettability of the solder alloy is improved. However, since the solidus temperature remarkably decreases depending on the content, ΔT, which is the temperature difference between the liquidus temperature and the solidus temperature, becomes too wide. If ΔT is too wide, segregation occurs at the time of solidification, leading to a decrease in mechanical properties such as mechanical strength. Since the phenomenon that ΔT is widespread becomes remarkable when Bi and Pb are added simultaneously, strict control is required.

Sn、SnCuはんだ合金、及びSnAgCuはんだ合金において、増粘抑制効果、優れた濡れ性、及びΔTの狭窄化、のすべてが優れた結果を示すためには、As、Bi、及びPbの含有量を個々に管理するのではなく、これらの元素の含有量を総合的に管理する必要があると考えた。そこで、本発明者らは、これらの3元素の含有量に関して種々の検討を行った結果、偶然にも、各元素の含有量が所定量の範囲内において所定の関係式を満たす場合に、増粘抑制効果、濡れ性、及びΔTの狭窄化のすべてが優れた結果を示す知見を得た。   In the Sn, SnCu solder alloy, and SnAgCu solder alloy, the content of As, Bi, and Pb must be set so that the thickening suppression effect, excellent wettability, and narrowing of ΔT all show excellent results. We thought that it was necessary to manage the contents of these elements comprehensively instead of managing them individually. Accordingly, the present inventors have conducted various studies on the contents of these three elements, and as a result, when the contents of the respective elements satisfy a predetermined relational expression within the range of the predetermined amounts, the present inventors have found that the increase has occurred. It has been found that the viscosity suppressing effect, the wettability, and the narrowing of ΔT all show excellent results.

すなわち、本発明は以下の通りである。
[1]
樹脂、グリコール系溶剤及び炭素数が16〜18の一価のアルコールを含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
を含む、はんだペースト。
[2]
さらに、有機酸を含む、[1]に記載のはんだペースト。
[3]
さらに、活性剤を含む、[1]に記載のはんだペースト。
[4]
前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量が、0質量%超20質量%以下である、[1]〜[3]いずれかに記載のはんだペースト。
[5]
前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量が、5〜15質量%の範囲内である、[4]に記載のはんだペースト。
[6]
前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量(質量%)の比(炭素数が16〜18の一価のアルコール含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.01〜1.25である、[1]〜[5]いずれかに記載のはんだペースト。
[7]
前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量(質量%)の比(炭素数が16〜18の一価のアルコール含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.15〜0.72である、[6]に記載のはんだペースト。
[8]
ロジン系樹脂を30〜60質量%、グリコール系溶剤を20〜45質量%、炭素数が16〜18の一価のアルコールを5〜20質量%、及び、有機酸を1〜15質量%の範囲内で含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
を含む、はんだペースト。
[9]
さらに、チキソ剤及び/又は酸化防止剤を含む、[1]〜[8]いずれかに記載のはんだペースト。
[10]
前記炭素数16〜18の一価のアルコールが、炭素数16の一価のアルコールである、[1]〜[9]いずれかに記載のはんだペースト。
[11]
前記炭素数16の一価のアルコールが、2−ヘキシルデカノールである、[10]に記載のはんだペースト。
[12]
前記合金組成はが、下記(1a)式:
275≦2As+Bi+Pb≦25200 (1a)
[上記(1a)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、[1]〜[11]のいずれかに記載のはんだペースト。
[13]
前記合金組成が、下記(1b)式:
275≦2As+Bi+Pb≦5300 (1b)
[上記(1b)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、[1]〜[12]のいずれかに記載のはんだペースト。
[14]
前記合金組成が、下記(2a)式:
0.02≦2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦0.9 (2a)
[上記(2a)式中、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、[1]〜[13]のいずれかに記載のはんだペースト。
[15]
さらに、前記合金組成が、Ag:0〜4質量%及びCu:0〜0.9質量%の少なくとも1種を含有する、[1]〜[14]のいずれかに記載のはんだペースト。
[16]
さらに、酸化ジルコニウム粉末を有する、[1]〜[15]のいずれかに記載のはんだペースト。
[17]
前記酸化ジルコニウム粉末を前記はんだペーストの全質量に対して0.05〜20.0質量%含有する、[16]に記載のはんだペースト。
[18]
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金をはんだ付けするための、
樹脂、グリコール系溶剤及び炭素数が16〜18の一価のアルコールを含むフラックス。
[19]
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金をはんだ付けするための、
ロジン系樹脂を30〜60質量%、グリコール系溶剤を20〜45質量%、炭素数が16〜18の一価のアルコールを5〜20質量%、及び、有機酸を1〜15質量%の範囲内で含むフラックス。
That is, the present invention is as follows.
[1]
A soldering flux containing a resin, a glycol-based solvent and a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms; and As: 25 to 300 ppm by mass, Bi: 0 to 25,000 ppm by mass, Pb: 0 ppm by mass. And 8000 mass ppm or less, and the balance has an alloy composition consisting of Sn, and the following formulas (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
Solder alloy that satisfies;
Including, solder paste.
[2]
The solder paste according to [1], further comprising an organic acid.
[3]
The solder paste according to [1], further including an activator.
[4]
The solder paste according to any one of [1] to [3], wherein the content of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is more than 0% by mass and 20% by mass or less.
[5]
The solder paste according to [4], wherein the content of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is within a range of 5 to 15% by mass.
[6]
The ratio of the content (% by mass) of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms to the content (% by mass) of the glycol-based solvent (content of monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms / glycol) The solder paste according to any one of [1] to [5], wherein the content of the solvent is 0.01 to 1.25.
[7]
The ratio of the content (% by mass) of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms to the content (% by mass) of the glycol-based solvent (content of monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms / glycol) The solder paste according to [6], wherein the content of the solvent is 0.15 to 0.72.
[8]
The rosin-based resin is 30 to 60% by mass, the glycol-based solvent is 20 to 45% by mass, the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is 5 to 20% by mass, and the organic acid is 1 to 15% by mass. And an alloy composition comprising As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm to 25,000 mass ppm, Pb: more than 0 mass ppm to 8,000 mass ppm, and the balance Sn. And the following equations (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
Solder alloy that satisfies;
Including, solder paste.
[9]
The solder paste according to any one of [1] to [8], further comprising a thixotropic agent and / or an antioxidant.
[10]
The solder paste according to any one of [1] to [9], wherein the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is a monohydric alcohol having 16 carbon atoms.
[11]
The solder paste according to [10], wherein the monohydric alcohol having 16 carbon atoms is 2-hexyldecanol.
[12]
The alloy composition is represented by the following formula (1a):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
[In the above formula (1a), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of [1] to [11], which satisfies the following.
[13]
The alloy composition has the following formula (1b):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
[In the above formula (1b), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of [1] to [12], which satisfies the following.
[14]
The alloy composition has the following formula (2a):
0.02 ≦ 2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 0.9 (2a)
[In the formula (2a), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of [1] to [13], which satisfies the following.
[15]
The solder paste according to any one of [1] to [14], wherein the alloy composition contains at least one of Ag: 0 to 4% by mass and Cu: 0 to 0.9% by mass.
[16]
The solder paste according to any one of [1] to [15], further comprising a zirconium oxide powder.
[17]
The solder paste according to [16], wherein the zirconium oxide powder is contained in an amount of 0.05 to 20.0% by mass based on the total mass of the solder paste.
[18]
As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm to 25000 mass ppm, Pb: more than 0 mass ppm to 8000 mass ppm, and the balance is an alloy composition consisting of Sn, and the following formula (1) and (2) )formula:
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
For soldering a solder alloy that satisfies
A flux containing a resin, a glycol-based solvent and a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms.
[19]
As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm to 25000 mass ppm, Pb: more than 0 mass ppm to 8000 mass ppm, and the balance is an alloy composition consisting of Sn, and the following formula (1) and (2) )formula:
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
For soldering a solder alloy that satisfies
The rosin-based resin is 30 to 60% by mass, the glycol-based solvent is 20 to 45% by mass, the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is 5 to 20% by mass, and the organic acid is 1 to 15% by mass. Flux containing within.

本発明によれば、製造効率や保存安定性を損なうことなく、ボイドの発生の少ないはんだ付けを実現でき、かつ、増粘抑制効果を有し、濡れ性に優れ、液相線温度と固相線温度との温度差が小さく高い機械的特性を有するはんだペーストを提供することができる。   According to the present invention, it is possible to realize soldering with less generation of voids, without impairing production efficiency and storage stability, and also has an effect of suppressing thickening, excellent wettability, liquidus temperature and solid phase It is possible to provide a solder paste having a small temperature difference from the linear temperature and high mechanical properties.

以下、本発明を実施するための形態(以下、「本実施形態」という。)についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。   Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention (hereinafter, referred to as “the present embodiment”) will be described in more detail, but the present invention is not limited thereto, and various forms may be used without departing from the gist of the present invention. Deformation is possible.

本実施形態は、樹脂、グリコール系溶剤及び炭素数が16〜18の一価のアルコールを含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
を含む、はんだペーストに関する。
In the present embodiment, a soldering flux containing a resin, a glycol-based solvent and a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25000 mass ppm or less, Pb: has an alloy composition of more than 0 mass ppm and not more than 8000 mass ppm and the balance Sn, and the following formulas (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
Solder alloy that satisfies;
And a solder paste.

<フラックス>
はんだ付け用フラックスは、樹脂(ベース樹脂)及び溶剤と、必要に応じて各種添加剤を含むものであって、溶剤として、少なくともグリコール系溶剤及び炭素数16〜18の一価のアルコールを含む。
<Flux>
The soldering flux contains a resin (base resin) and a solvent, and various additives as necessary. The solvent contains at least a glycol solvent and a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms.

樹脂としては、従来はんだ付け用フラックスに使用されている各種樹脂を使用することができる。このような樹脂としては、例えば、ロジン系樹脂、アクリル樹脂、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、スチレン−マレイン酸共重合体、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、フェノキシ樹脂、テルペン樹脂、テルペンフェノール樹脂、及び、これらの混合物が挙げられ、この中でも、ロジン系樹脂が一般的によく用いられている。
ロジン系樹脂としては、例えば、ガムロジン、ウッドロジン等の天然ロジンや、その誘導体(重合ロジン、水添ロジン、不均化ロジン、酸変性ロジン、ロジンエステル等)が挙げられる。
フラックス中の樹脂の含有量に限定はなく、例えば、10〜80質量%の範囲内とすることができ、20〜70質量%の範囲内としてもよいし、30〜60質量%の範囲内としてもよい。
As the resin, various resins conventionally used for soldering flux can be used. Examples of such a resin include rosin resin, acrylic resin, polyester, polyethylene, polypropylene, polyamide, styrene-maleic acid copolymer, acrylic resin, epoxy resin, phenol resin, phenoxy resin, terpene resin, and terpene phenol. Resins and mixtures thereof are listed, and among them, rosin-based resins are generally and often used.
Examples of the rosin-based resin include natural rosins such as gum rosin and wood rosin, and derivatives thereof (polymerized rosin, hydrogenated rosin, disproportionated rosin, acid-modified rosin, rosin ester, and the like).
The content of the resin in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 10 to 80% by mass, may be in the range of 20 to 70% by mass, or may be in the range of 30 to 60% by mass. Is also good.

本実施形態においては、溶剤として、少なくともグリコール系溶剤及び炭素数16〜18の一価のアルコールを用いる。このような炭素数の一価のアルコールは沸点が適度な範囲にあり、一般的なはんだ付けで採用される接合温度においては、接合初期にはフラックス中に残存してフラックスの溶融粘度を低く保ち、分解ガス等の解放を容易にしつつ、接合後期にはある程度揮発する。
ここで、グリコール系溶剤とは、グリコール(脂肪族又は脂環式炭化水素の2つの相異なる炭素原子に1つずつ水酸基が結合している構造を有する化合物)又はその誘導体からなる溶剤をいう。本実施形態において、グリコール系溶剤の種類に限定はなく、例えば、はんだ付け用フラックスに一般的に使用されているものを用いることができ、具体例としては、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコール、ヘキシレングリコール、フェニルグリコール、ヘキシルジグリコール、2−エチルヘキシルジグリコールに加え、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(ブチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(メチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノヘキシルエーテル(ヘキシルカルビトール)、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等のグリコールエーテル類が挙げられる。これらのうち、炭素数2〜24のアルコールのグリコールエーテル(具体的には、モノグリコールエーテル(炭素数:4〜26)、ジグリコールエーテル(炭素数:6〜28)、オリゴグリコールエーテル(炭素数:2+2×n〜24+2×n))が好ましく、炭素数4〜16のアルコールのグリコールエーテルがより好ましく、炭素数6〜8のアルコールのグリコールエーテルが特に好ましい。
グリコール系溶剤は、一種を単独で用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
In the present embodiment, at least a glycol solvent and a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms are used as the solvent. Such a monohydric alcohol having a carbon number has a moderate boiling point, and at the joining temperature employed in general soldering, remains in the flux at the initial stage of joining to keep the melt viscosity of the flux low. In addition, it is easily volatilized in a later stage of bonding while facilitating release of decomposition gas and the like.
Here, the glycol solvent refers to a solvent composed of glycol (a compound having a structure in which a hydroxyl group is bonded to two different carbon atoms of an aliphatic or alicyclic hydrocarbon one by one) or a derivative thereof. In the present embodiment, the type of the glycol-based solvent is not limited, for example, those commonly used for soldering flux can be used, and specific examples include diethylene glycol, dipropylene glycol, and triethylene glycol. , Hexylene glycol, phenyl glycol, hexyl diglycol, 2-ethylhexyl diglycol, diethylene glycol monobutyl ether (butyl carbitol), diethylene glycol monomethyl ether (methyl carbitol), diethylene glycol monohexyl ether (hexyl carbitol), propylene glycol And glycol ethers such as monophenyl ether. Of these, glycol ethers of alcohols having 2 to 24 carbon atoms (specifically, monoglycol ether (carbon number: 4 to 26), diglycol ether (carbon number: 6 to 28), oligoglycol ether (carbon number : 2 + 2 × n to 24 + 2 × n)), more preferably a glycol ether of an alcohol having 4 to 16 carbon atoms, and particularly preferably a glycol ether of an alcohol having 6 to 8 carbon atoms.
The glycol solvents may be used alone or in combination of two or more.

フラックス中のグリコール系溶剤の含有量(複数種類のグリコール系溶剤を用いる場合はその総含有量)にも限定はなく、例えば、10〜60質量%の範囲内としてもよいし、15〜50質量%の範囲内としてもよいし、20〜45質量%の範囲内としてもよい。   The content of the glycol-based solvent in the flux (when a plurality of types of glycol-based solvents are used, the total content thereof) is not limited, and may be, for example, in the range of 10 to 60% by mass or 15 to 50% by mass. % Or within a range of 20 to 45% by mass.

本実施形態においては、溶剤として、上記グリコール系溶剤に加えて炭素数16〜18の一価のアルコールを併用する。これにより、はんだ付け時において溶融粘度の低いフラックスを実現することができる。
炭素数16〜18の一価のアルコールとしては、1−ヘキサデカノール(炭素数16)、2−ヘキシルデカノール(炭素数16)、イソヘキサデカノール(炭素数16)、1−ヘプタデカノール(炭素数17)、1−オクタデカノール(炭素数18)、イソステアリルアルコール(炭素数18)等が挙げられ、一種のみ用いてもよいし、二種以上を併用してもよい。
この中でも、炭素数16のものが好ましく、とりわけ、2−ヘキシルデカノール(CAS番号:2425−77−6)は、ベタツキが少なく好ましい。2−ヘキシルデカノールとしては、例えば、ファインオキソコール1600(日産化学工業株式会社製、登録商標)などを使用することができる。
In the present embodiment, a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is used as the solvent in addition to the glycol-based solvent. Thereby, a flux having a low melt viscosity at the time of soldering can be realized.
Examples of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms include 1-hexadecanol (carbon number 16), 2-hexyldecanol (carbon number 16), isohexadecanol (carbon number 16), and 1-heptadecanol (carbon number). Formula 17), 1-octadecanol (carbon number 18), isostearyl alcohol (carbon number 18), etc., may be used alone or in combination of two or more.
Among them, those having 16 carbon atoms are preferable, and in particular, 2-hexyldecanol (CAS number: 2425-77-6) is preferable because it has less stickiness. As 2-hexyldecanol, for example, Fineoxocol 1600 (manufactured by Nissan Chemical Industries, Ltd., registered trademark) or the like can be used.

フラックス中の炭素数16〜18の一価のアルコールの含有量に限定はなく、炭素数16〜18の一価のアルコールが含まれていればよい。フラックスやはんだペーストのはんだ付け時の溶融粘度を低くするという点からは、含有量は多い方が好ましく、例えば、0.5質量%以上としてもよいし、1質量%以上としてもよいし、5質量%以上とすることもできる。一方、フラックスやはんだペーストの乾燥不良をなくし、べたつきを抑えるという点からは、含有量は少ない方が好ましく例えば、30質量%以下としてもよいし、20質量%以下としてもよいし、15質量%以下とすることもできる。   The content of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms in the flux is not limited, and it is sufficient that the flux contains a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms. From the viewpoint of reducing the melt viscosity of the flux or the solder paste at the time of soldering, the content is preferably high, for example, 0.5 mass% or more, 1 mass% or more, or 5 mass% or more. It can be set to not less than mass%. On the other hand, from the viewpoint of eliminating poor drying of the flux and the solder paste and suppressing stickiness, the content is preferably small, for example, 30% by mass or less, 20% by mass or less, or 15% by mass. It can also be as follows.

また、グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する炭素数16〜18の一価のアルコールの含有量(質量%)(複数種類用いる場合はその総量)の比(炭素数16〜18の一価のアルコール含有量/グリコール系溶剤の含有量)にも限定はないが、ボイド発生の防止と乾燥のバランスの点からは、0.01〜1.25であることが好ましく、0.15〜1.25であることがより好ましく、0.15〜0.72であることがさらに好ましい。   Further, the ratio of the content (mass%) of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms (mass%) to the content (mass%) of the glycol-based solvent (the total amount when a plurality of types are used) (the monovalent alcohol having 16 to 18 carbon atoms) (Alcohol content / glycol solvent content) is not limited, but is preferably 0.01 to 1.25, and more preferably 0.15 to 1 from the viewpoint of the balance between prevention of void generation and drying. .25, more preferably 0.15 to 0.72.

本実施形態においては、グリコール系溶剤及び炭素数16〜18の一価のアルコールに加えてさらに、他の公知の溶剤を併用することもできる。このような溶剤としては、例えば、ベンジルアルコール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、1,5−ペンタンジオール、オクタンジオール、テルピネオール、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等のアルコール類;トルエン、キシレン、n−ヘキサン等の炭化水素類;酢酸イソプロピル、安息香酸ブチル等のエステル類が挙げられ、これらの一種又は二種以上用いることができる。   In the present embodiment, in addition to the glycol-based solvent and the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms, another known solvent may be used in combination. Examples of such a solvent include alcohols such as benzyl alcohol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, 1,5-pentanediol, octanediol, terpineol, ethyl cellosolve, and butyl cellosolve; and carbonized solvents such as toluene, xylene, and n-hexane. Hydrogens; esters such as isopropyl acetate and butyl benzoate; and one or more of these can be used.

本実施形態のフラックスは、樹脂及び溶剤に加えて、活性剤、チキソ剤(チキソトロピック剤)及び酸化防止剤や、防錆剤、消泡剤、つや消し剤、界面活性剤、着色剤等のフラックスに添加されることのある各種添加剤を含有することができる。   The flux of the present embodiment includes fluxes such as an activator, a thixotropic agent (thixotropic agent), an antioxidant, a rust inhibitor, a defoaming agent, a matting agent, a surfactant, a coloring agent, in addition to the resin and the solvent. And various additives that may be added to the composition.

活性剤としては、例えば、有機酸類、アミン類、有機ハロゲン化合物類、アミンハロゲン化水素酸塩類、ホスホン酸類、燐酸エステル類等のフラックスにおいて一般に使用されているものを、一種又は二種以上を組合せて用いることができる。
フラックス中の活性剤の含有量に限定はなく、例えば、0〜30質量%の範囲内であってもよいし、0〜20質量%の範囲内であってもよい。
As the activator, for example, those commonly used in fluxes such as organic acids, amines, organic halogen compounds, amine hydrohalides, phosphonic acids, and phosphoric esters, or a combination of one or more kinds Can be used.
The content of the activator in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 30% by mass or in the range of 0 to 20% by mass.

このうち、有機酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、安息香酸、グリコール酸等のモノカルボン酸;シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、ピメリン酸、ジグリコール酸等のジカルボン酸又はその無水物;乳酸、クエン酸、酒石酸等のオキシ酸;ダイマー酸、水添ダイマー酸、トリマー酸、水添トリマー酸、ピコリン酸等が挙げられ、これらの一種又は二種以上を用いることができる。また、炭素数8以上の高級飽和又は不飽和脂肪酸等も使用できる。
これらの有機酸の中には揮発性のものや、その沸点がはんだ付け温度よりも低いものも多く含まれるところ、そのようなものははんだ付けの際にボイドの原因となるガスを発生しやすい。しかし、本実施形態においては、ガスが発生したとしてもボイドとしてはんだ付け部に残存することがないので、本実施形態はフラックスが揮発性や沸点の低い有機酸を含む場合に特に有効である。
フラックス中の有機酸の含有量に限定はなく、例えば、1〜15質量%の範囲内であってもよく、3〜10質量%の範囲内であってもよい。
Among them, organic acids include, for example, monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, benzoic acid, and glycolic acid; oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, suberic acid, pimelic acid, diglycolic acid, and the like. Dicarboxylic acids or anhydrides thereof; oxyacids such as lactic acid, citric acid and tartaric acid; dimer acid, hydrogenated dimer acid, trimer acid, hydrogenated trimer acid, picolinic acid and the like. One or more of these may be used. Can be used. Also, higher saturated or unsaturated fatty acids having 8 or more carbon atoms can be used.
Many of these organic acids are volatile or those whose boiling point is lower than the soldering temperature, and such substances are liable to generate gases that cause voids during soldering . However, in this embodiment, even if gas is generated, the gas does not remain in the soldered portion as a void. Therefore, this embodiment is particularly effective when the flux contains an organic acid having low volatility or a low boiling point.
The content of the organic acid in the flux is not limited, and may be, for example, in a range of 1 to 15% by mass or in a range of 3 to 10% by mass.

アミンとしては、例えば、ジフェニルグアニジン、ジトリルグアニジン、ナフチルアミン、トリエタノールアミンや、イミダゾール、2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−フェニルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール等のイミダゾール化合物等が挙げられる。
フラックス中のアミンの含有量に限定はなく、例えば、0〜10質量%の範囲内であってもよく、0〜5質量%の範囲内であってもよい。
As the amine, for example, diphenylguanidine, ditolylguanidine, naphthylamine, triethanolamine, imidazole, 2-methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-phenylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl- Imidazole compounds such as 4-methylimidazole;
The content of the amine in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 10% by mass or in the range of 0 to 5% by mass.

有機ハロゲン化合物としては、例えば、臭素化された有機化合物が挙げられ、具体的には、1−ブロモ−2−ブタノール、1−ブロモ−2−プロパノール、3−ブロモ−1−プロパノール、3−ブロモ−1,2−プロパンジオール、1,4−ジブロモ−2−ブタノール、1,3−ジブロモ−2−プロパノール、2,3−ジブロモ−1−プロパノール、2,3−ジブロモ−1,4−ブタンジオール、2,3−ジブロモ−2−ブテン−1,4ジオール等が挙げられ、これらの一種又は二種以上を用いることができる。
フラックス中の有機ハロゲン化合物の含有量に限定はなく、例えば、0〜10質量%の範囲内であってもよく、0〜5質量%の範囲内であってもよい。
Examples of the organic halogen compound include a brominated organic compound, and specifically, 1-bromo-2-butanol, 1-bromo-2-propanol, 3-bromo-1-propanol, 3-bromo -1,2-propanediol, 1,4-dibromo-2-butanol, 1,3-dibromo-2-propanol, 2,3-dibromo-1-propanol, 2,3-dibromo-1,4-butanediol , 2,3-dibromo-2-butene-1,4 diol and the like, and one or more of these can be used.
The content of the organic halogen compound in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 10% by mass or in the range of 0 to 5% by mass.

アミンハロゲン化水素酸塩類としては、例えば、臭化水素酸(HBr)、塩化水素酸(HCl)、フッ化水素酸(HF)等のハロゲン化水素酸と、アニリン、ジフェニルグアニジン、ジエチルアミン、イソプロピルアミン等のアミン化合物とを組合せた塩が挙げられる。また、アミンハロゲン化水素酸塩類同等物として、テトラフルオロホウ酸(HBF4)と、アミン化合物とを組合せた塩も用いることができる。
フラックス中のアミンハロゲン化水素酸塩類等の含有量に限定はなく、例えば、0〜5質量%の範囲内であってもよく、0〜2質量%の範囲内であってもよい。
Examples of amine hydrohalides include, for example, hydrohalic acids such as hydrobromic acid (HBr), hydrochloric acid (HCl), hydrofluoric acid (HF), aniline, diphenylguanidine, diethylamine, and isopropylamine. And the like in combination with an amine compound. In addition, a salt obtained by combining tetrafluoroboric acid (HBF 4 ) with an amine compound can also be used as an amine hydrohalide equivalent.
The content of the amine hydrohalides in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 5% by mass or in the range of 0 to 2% by mass.

なお、本実施形態において、上述した有機酸類、アミン類、有機ハロゲン化合物類、アミンハロゲン化水素酸塩類や、ホスホン酸類、燐酸エステル類等は、活性剤として添加することができるが、それ以外の役割を果たすこともあり、そのような意図で添加してもよい。   In the present embodiment, the above-described organic acids, amines, organic halogen compounds, amine hydrohalides, phosphonic acids, phosphate esters, and the like can be added as an activator. It may play a role, and may be added with such an intention.

チキソ剤はチキソ性の付与のために添加される添加剤であり、具体例としては、ステアリン酸アマイド、メチレンビスべヘン酸アマイド、ヒドロキシステアリン酸エチレンビスアマイド等の脂肪酸アマイド、p−トルアミド等の芳香族アマイド、ひまし硬化油、カルナバワックス、蜜ろう等が挙げられ、これらの一種又は二種以上用いることができる。
フラックス中のチキソ剤の含有量に限定はなく、例えば、0〜30質量%の範囲内であってもよいし、0〜10質量%の範囲内であってもよい。
The thixotropic agent is an additive added for imparting thixotropic properties. Specific examples thereof include fatty acid amides such as stearic acid amide, methylenebisbehenic acid amide, and hydroxystearic acid ethylenebisamide, and aromatic compounds such as p-toluamide. Group amide, castor hardened oil, carnauba wax, beeswax, etc., and one or more of these can be used.
The content of the thixotropic agent in the flux is not limited, and may be, for example, in the range of 0 to 30% by mass or in the range of 0 to 10% by mass.

酸化防止剤としては、例えば、フラックス又はその他の各種分野で使用されているヒンダードフェノール系酸化防止剤、フェノール系酸化防止剤、ビスフェノール系酸化防止剤、ポリマー型酸化防止剤等を使用することができ、これらの一種又は二種以上用いることができる。
フラックス中の酸化防止剤の含有量に限定はなく、例えば、0〜10質量%の範囲内であってもよいし、0〜5質量%の範囲内であってもよい。
As the antioxidant, for example, a hindered phenolic antioxidant, a phenolic antioxidant, a bisphenol-based antioxidant, a polymer-type antioxidant, and the like used in flux or other various fields may be used. And one or more of these can be used.
The content of the antioxidant in the flux is not limited, and may be, for example, in a range of 0 to 10% by mass or in a range of 0 to 5% by mass.

本実施形態のはんだ付け用フラックスの好ましい組成の一例としては、ロジン系樹脂を30〜60質量%、グリコール系溶剤を20〜45質量%、炭素数16〜18の一価のアルコールを5〜20質量%、有機酸を1〜15質量%の範囲内で含むものが挙げられる。   As an example of a preferred composition of the soldering flux of the present embodiment, a rosin-based resin is 30 to 60% by mass, a glycol-based solvent is 20 to 45% by mass, and a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is 5 to 20%. And those containing an organic acid in the range of 1 to 15% by mass.

<はんだ合金>
Asは、はんだペーストの粘度の経時変化を抑制することができる元素である。Asはフラックスとの反応性が低く、またSnに対して貴な元素であるために増粘抑制効果を発揮することができると推察される。Asが25質量ppm未満であると、増粘抑制効果を十分に発揮することができない。As含有量の下限は25質量ppm以上であり、好ましくは50質量ppm以上であり、より好ましくは100質量ppm以上である。一方、Asが多すぎるとはんだ合金の濡れ性が劣化する。As含有量の上限は300質量ppm以下であり、このましくは250質量ppm以下であり、より好ましくは200質量ppm以下である。
<Solder alloy>
As is an element capable of suppressing a change with time in the viscosity of the solder paste. It is presumed that As has low reactivity with flux and is an element noble to Sn, so that it can exhibit a thickening suppressing effect. When As is less than 25 ppm by mass, the effect of suppressing thickening cannot be sufficiently exhibited. The lower limit of the As content is 25 ppm by mass or more, preferably 50 ppm by mass or more, and more preferably 100 ppm by mass or more. On the other hand, if the content of As is too large, the wettability of the solder alloy deteriorates. The upper limit of the As content is 300 ppm by mass or less, preferably 250 ppm by mass or less, and more preferably 200 ppm by mass or less.

Bi及びPbはフラックスとの反応性が低く増粘抑制効果を示す元素である。また、これらの元素は、はんだ合金の液相線温度を下げるとともに溶融はんだの粘性を低減させるため、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる元素である。   Bi and Pb are elements having low reactivity with the flux and exhibiting a thickening suppressing effect. Further, these elements are elements that can suppress the deterioration of wettability due to As in order to lower the liquidus temperature of the solder alloy and reduce the viscosity of the molten solder.

Bi及びPbの少なくとも1元素が存在すれば、Asによる濡れ性の劣化を抑えることができる。本発明に係るはんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の下限は0質量ppm超えであり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。本発明に係るはんだ合金がPbを含有する場合、Pb含有量の下限は0質量ppm超えであり、好ましくは25質量ppm以上であり、より好ましくは50質量ppm以上であり、さらに好ましくは75質量ppm以上であり、特に好ましくは100質量ppm以上であり、最も好ましくは250質量ppm以上である。   If at least one element of Bi and Pb is present, deterioration of wettability by As can be suppressed. When the solder alloy according to the present invention contains Bi, the lower limit of the Bi content is more than 0 mass ppm, preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, further more preferably 75 mass ppm. ppm or more, particularly preferably 100 ppm or more, and most preferably 250 ppm or more. When the solder alloy according to the present invention contains Pb, the lower limit of the Pb content is more than 0 mass ppm, preferably 25 mass ppm or more, more preferably 50 mass ppm or more, and still more preferably 75 mass ppm. ppm or more, particularly preferably 100 ppm or more, and most preferably 250 ppm or more.

一方、これらの元素の含有量が多すぎると、固相線温度が著しく低下するため、液相線温度と固相線温度との温度差であるΔTが広くなりすぎる。ΔTが広すぎると、溶融はんだの凝固過程において、BiやPbの含有量が少ない高融点の結晶相が析出するために液相のBiやPbが濃縮される。その後、さらに溶融はんだの温度が低下すると、BiやPbの濃度が高い低融点の結晶相が偏析してしまう。このため、はんだ合金の機械的強度等が劣化することになる。特に、Bi濃度が高い結晶相は硬くて脆いため、はんだ合金中で偏析すると機械的強度等が著しく低下する。   On the other hand, if the content of these elements is too large, the solidus temperature is remarkably lowered, so that ΔT, which is the temperature difference between the liquidus temperature and the solidus temperature, becomes too wide. If ΔT is too wide, a liquid phase Bi or Pb is concentrated in the solidification process of the molten solder because a high melting point crystalline phase having a low content of Bi or Pb is deposited. Thereafter, when the temperature of the molten solder further decreases, a low melting point crystalline phase having a high concentration of Bi or Pb segregates. For this reason, the mechanical strength and the like of the solder alloy deteriorate. In particular, since the crystal phase having a high Bi concentration is hard and brittle, segregation in the solder alloy significantly lowers the mechanical strength and the like.

このような観点から、本発明に係るはんだ合金がBiを含有する場合、Bi含有量の上限は25000質量ppm以下であり、好ましくは10000質量ppm以下であり、より好ましくは1000質量ppm以下であり、さらに好ましくは600質量ppm以下であり、特に好ましくは500質量ppm以下である。本発明に係るはんだ合金がPbを含有する場合、Pb含有量の上限値は8000質量ppm以下であり、好ましくは5100質量ppm以下であり、より好ましくは5000質量ppm以下であり、さらに好ましくは1000質量ppm以下であり、特に好ましくは850質量ppm以下であり、最も好ましくは500質量ppm以下である。 From such a viewpoint, when the solder alloy according to the present invention contains Bi, the upper limit of the Bi content is 25,000 mass ppm or less, preferably 10000 mass ppm or less, more preferably 1000 mass ppm or less. , More preferably at most 600 ppm by mass, particularly preferably at most 500 ppm by mass. When the solder alloy according to the present invention contains Pb, the upper limit of the Pb content is 8000 mass ppm or less, preferably 5100 mass ppm or less, more preferably 5000 mass ppm or less, and still more preferably 1000 mass ppm or less. It is at most 850 ppm by mass, particularly preferably at most 850 ppm by mass, most preferably at most 500 ppm by mass.

本発明に係るはんだ合金は、下記(1)式を満たす必要がある。   The solder alloy according to the present invention needs to satisfy the following expression (1).

275≦2As+Bi+Pb (1)
上記(1)式中、As、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
In the above formula (1), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

As、Bi及びPbは、いずれも増粘抑制効果を示す元素である。これらの合計が230質量ppm以上である必要がある。(1)式中、As含有量を2倍にしたのは、AsがBiやPbと比較して増粘抑制効果が高いためである。   As, Bi and Pb are all elements that exhibit a thickening suppressing effect. These totals need to be 230 ppm by mass or more. In the formula (1), the reason why the As content is doubled is that As has a higher viscosity-suppressing effect than Bi or Pb.

(1)式が275未満であると、増粘抑制効果が十分に発揮されない。(1)式の下限は275以上であり、好ましくは300以上であり、より好ましくは700以上であり、さらに好ましくは900以上である。一方、(1)の上限は、増粘抑制効果の観点では特に限定されることはないが、ΔTを適した範囲にする観点から、好ましくは25200以下であり、より好ましくは15200以下であり、さらに好ましくは10200以下であり、特に好ましくは8200以下であり、最も好ましくは5300以下である。   If the value of the expression (1) is less than 275, the effect of suppressing thickening is not sufficiently exhibited. The lower limit of the formula (1) is 275 or more, preferably 300 or more, more preferably 700 or more, and even more preferably 900 or more. On the other hand, the upper limit of (1) is not particularly limited from the viewpoint of the effect of suppressing thickening, but is preferably 25200 or less, more preferably 15200 or less, from the viewpoint of setting ΔT in a suitable range. It is more preferably at most 10,200, particularly preferably at most 8,200, most preferably at most 5,300.

上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記(1a)式及び(1b)式である。   The following formulas (1a) and (1b) are those in which the upper and lower limits are appropriately selected from the above preferred embodiments.

275≦2As+Bi+Pb≦25200 (1a)
275≦2As+Bi+Pb≦5300 (1b)
上記(1a)及び(1b)式中、As、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
In the above formulas (1a) and (1b), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

本発明に係るはんだ合金は、下記(2)式を満たす必要がある。   The solder alloy according to the present invention needs to satisfy the following expression (2).

0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
上記(2)式中、Bi、及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
In the above formula (2), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

Bi及びPbは、Asを含有することによる濡れ性の劣化を抑制するが、含有量が多すぎるとΔTが上昇してしまうため、厳密な管理が必要である。特に、Bi及びPbを同時に含有する合金組成では、ΔTが上昇しやすい。本発明では、BiとPbの含有量に所定の係数を乗じた値の合計を規定することにより、ΔTの上昇を抑制することができる。(2)式ではPbの係数がBiの係数より大きい。PbはBiと比較してΔTへの寄与度が大きく、含有量が少し増加しただけでΔTが大幅に上昇してしまうためである。   Bi and Pb suppress the deterioration of wettability due to the inclusion of As. However, if the content is too large, ΔT increases, so strict control is required. In particular, in an alloy composition containing Bi and Pb simultaneously, ΔT tends to increase. In the present invention, an increase in ΔT can be suppressed by defining the sum of values obtained by multiplying the Bi and Pb contents by a predetermined coefficient. In the equation (2), the coefficient of Pb is larger than the coefficient of Bi. This is because Pb has a large contribution to ΔT as compared with Bi, and ΔT greatly increases even if the content is slightly increased.

(2)式が0であるはんだ合金は、Bi及びPbの両元素を含有しないことになり、Asを含有したことによる濡れ性の劣化を抑制することができない。(2)式の下限は0超えであり、好ましくは0.02以上であり、より好ましくは0.03以上であり、さらに好ましくは0.05以上であり、特に好ましくは0.06以上であり、最も好ましくは0.11以上である。一方、(2)式が7を超えるとΔTの温度域が広くなりすぎるため、溶融はんだの凝固時にBiやPbの濃度が高い結晶相が偏析して機械的強度等が劣化する。(2)の上限は7以下であり、好ましくは6.56以下であり、より好ましくは6.40以下であり、さらに好ましくは5.75以下であり、さらにより好ましくは4.18以下であり、特に好ましくは2.30以下であり、最も好ましくは0.90以下である。   (2) Since the solder alloy having the formula 0 does not contain both elements of Bi and Pb, deterioration of wettability due to containing As cannot be suppressed. The lower limit of the formula (2) is more than 0, preferably 0.02 or more, more preferably 0.03 or more, further more preferably 0.05 or more, and particularly preferably 0.06 or more. , Most preferably 0.11 or more. On the other hand, if the expression (2) exceeds 7, the temperature range of ΔT becomes too wide, so that a crystal phase having a high concentration of Bi or Pb segregates during solidification of the molten solder, and the mechanical strength and the like deteriorate. The upper limit of (2) is 7 or less, preferably 6.56 or less, more preferably 6.40 or less, still more preferably 5.75 or less, and even more preferably 4.18 or less. , Particularly preferably 2.30 or less, and most preferably 0.90 or less.

上記好ましい態様の中から上限及び下限を適宜選択したものが、下記(2a)式である。   The following formula (2a) is obtained by appropriately selecting the upper and lower limits from the above preferred embodiments.

0.02≦2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦0.9 (2a)
上記(2a)式中、Bi及びPbは各々合金組成での含有量(質量ppm)を表す。
0.02 ≦ 2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 0.9 (2a)
In the above formula (2a), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition.

Agは、結晶界面にAg3Snを形成してはんだ合金の機械的強度等を向上させることができる任意元素である。また、Agはイオン化係数がSnに対して貴な元素であり、As、Pb、及びBiと共存することによりこれらの増粘抑制効果を助長する。Ag含有量は好ましくは0〜4%であり、より好ましくは0.5〜3.5%であり、さらに好ましくは1.0〜3.0%である。 Ag is an optional element that can form Ag 3 Sn at the crystal interface to improve the mechanical strength and the like of the solder alloy. Ag is an element whose ionization coefficient is noble with respect to Sn, and promotes the effect of suppressing thickening of these elements by coexisting with As, Pb, and Bi. Ag content is preferably 0 to 4%, more preferably 0.5 to 3.5%, and still more preferably 1.0 to 3.0%.

Cuは、はんだ継手の接合強度を向上させることができる任意元素である。また、Cuはイオン化係数がSnに対して貴な元素であり、As、Pb、及びBiと共存することによりこれらの増粘抑制効果を助長する。Cu含有量は好ましくは0〜0.9%であり、より好ましくは0.1〜0.8%%であり、さらに好ましくは0.2〜0.7%である。   Cu is an optional element that can improve the bonding strength of the solder joint. Further, Cu is an element whose ionization coefficient is noble with respect to Sn and coexists with As, Pb, and Bi to promote the effect of suppressing thickening of these elements. The Cu content is preferably 0 to 0.9%, more preferably 0.1 to 0.8%, and still more preferably 0.2 to 0.7%.

本発明に係るはんだ合金の残部はSnである。前述の元素の他に不可避的不純物を含有してもよい。不可避的不純物を含有する場合であっても、前述の効果に影響することはない。また、後述するように、本発明では含有しない元素が不可避的不純物として含有されても前述の効果に影響することはない。Inは、含有量が多すぎるとΔTが広がるため、1000質量ppm以下であれば前述の効果に影響することはない。   The balance of the solder alloy according to the present invention is Sn. Inevitable impurities may be contained in addition to the aforementioned elements. Even if unavoidable impurities are contained, the effects described above are not affected. Further, as described later, even if an element which is not contained in the present invention is contained as an unavoidable impurity, the above-mentioned effect is not affected. If the content of In is too large, ΔT is widened. Therefore, if the content is 1000 ppm or less, the above-mentioned effect is not affected.

<はんだペースト>
はんだペースト中のはんだ合金及びフラックスの含有量に限定はなく、例えば、はんだ合金を5〜95質量%、フラックスを5〜95質量%とすることができる。
<Solder paste>
There is no limitation on the contents of the solder alloy and the flux in the solder paste. For example, the solder alloy may be 5 to 95% by mass and the flux may be 5 to 95% by mass.

本発明に係るはんだペーストは、酸化ジルコニウム粉末を含有することが好ましい。酸化ジルコニウムは、経時変化に伴うペーストの粘度上昇を抑制することができる。これは、酸化ジルコニウムを含有することにより、はんだ粉末表面の酸化膜厚がフラックス中に投入する前の状態を維持するためと推測される。詳細は不明であるが、以下のように推察される。通常、フラックスの活性成分は常温でもわずかに活性を持っているため、はんだ粉末の表面酸化膜が還元により薄くなり、粉末同士が凝集する原因になっている。そこで、はんだペーストに酸化ジルコニウム粉末を添加することで、フラックスの活性成分が酸化ジルコニウム粉末と優先的に反応し、はんだ粉末表面の酸化膜が凝集しない程度に維持されると推察される。   The solder paste according to the present invention preferably contains zirconium oxide powder. Zirconium oxide can suppress an increase in viscosity of the paste due to a change with time. This is presumed to be due to the inclusion of zirconium oxide to maintain the oxide film thickness on the surface of the solder powder before it was introduced into the flux. Details are unknown, but are presumed as follows. Normally, since the active component of the flux has a slight activity even at room temperature, the surface oxide film of the solder powder is thinned by reduction, which causes the powder to agglomerate. Therefore, it is presumed that by adding zirconium oxide powder to the solder paste, the active component of the flux reacts preferentially with the zirconium oxide powder, and is maintained to such an extent that the oxide film on the surface of the solder powder does not aggregate.

このような作用効果を十分に発揮するためには、はんだペースト中の酸化ジルコニウム粉末の含有量ははんだペーストの全質量に対して0.05〜20.0%であることが好ましい。0.05%以上であると上記作用効果を発揮することができ、20.0%以下であると金属粉末の含有量を確保することができ、増粘防止効果を発揮することができる。酸化ジルコニウムの含有量は好ましくは0.05〜10.0%であり、より好ましい含有量は0.1〜3%である。   In order to sufficiently exhibit such effects, the content of the zirconium oxide powder in the solder paste is preferably 0.05 to 20.0% based on the total mass of the solder paste. When the content is 0.05% or more, the above-described effects can be exhibited, and when the content is 20.0% or less, the content of the metal powder can be secured, and the effect of preventing thickening can be exhibited. The content of zirconium oxide is preferably 0.05 to 10.0%, and more preferably 0.1 to 3%.

はんだペースト中の酸化ジルコニウム粉末の粒径は5μm以下であることが好ましい。粒径が5μm以下であるとペーストの印刷性を維持することができる。下限は特に限定されることはないが0.5μm以上であればよい。上記粒径は、酸化ジルコニウム粉末のSEM写真を撮影し、0.1μm以上の各粉末について画像解析により投影円相当径を求め、その平均値とした。   The particle diameter of the zirconium oxide powder in the solder paste is preferably 5 μm or less. When the particle size is 5 μm or less, the printability of the paste can be maintained. The lower limit is not particularly limited, but may be 0.5 μm or more. The particle diameter was determined by taking an SEM photograph of the zirconium oxide powder, obtaining the equivalent diameter of the projected circle by image analysis for each powder of 0.1 μm or more, and taking the average value thereof.

酸化ジルコニウムの形状は特に限定されないが、異形状であればフラックスとの接触面積が大きく増粘抑制効果がある。球形であると良好な流動性が得られるためにペーストとしての優れた印刷性が得られる。所望の特性に応じて適宜形状を選択すればよい。   The shape of the zirconium oxide is not particularly limited. However, if the shape is zirconium oxide, the contact area with the flux is large, and there is an effect of suppressing thickening. Spherical shape provides good fluidity, and therefore excellent printability as a paste. What is necessary is just to select a shape suitably according to a desired characteristic.

本実施形態のはんだ付け用フラックス及びはんだペーストの製造方法に限定はなく、原料を同時に又は順次、任意の方法で混合することにより製造することができる。
フラックスの製造にあたっては、最終的にフラックスの全成分が混合されればよく、グリコール系溶剤と炭素数が16〜18の一価のアルコールは予め混合して混合溶剤としておいてもよいし、別々のタイミングでフラックスの他の成分と混合してもよいし、グリコール系溶剤と炭素数が16〜18の一価のアルコールを含むフラックスの全成分を同時に混合してもよい。
また、はんだペーストの製造にあたっても、必ずしも、フラックスを予め調製して、これをはんだ合金と混合する必要はなく、最終的にフラックスの全成分、はんだ合金及び必要に応じてはんだペーストに添加される添加剤とが混合されるのであれば混合の順番は問わず、フラックスの成分の一部とはんだ合金とを混合した後、フラックスの残りの成分を添加するなどしてもよい。
The method for producing the soldering flux and the solder paste according to the present embodiment is not limited, and it can be produced by mixing the raw materials simultaneously or sequentially by an arbitrary method.
In the production of the flux, all the components of the flux may be finally mixed, and the glycol solvent and the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms may be mixed in advance as a mixed solvent or may be separately mixed. May be mixed with other components of the flux at the timing described above, or all components of the flux containing the glycol-based solvent and the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms may be mixed at the same time.
Also, in manufacturing the solder paste, it is not always necessary to prepare the flux in advance and mix it with the solder alloy, and it is finally added to all components of the flux, the solder alloy and, if necessary, the solder paste. As long as the additives are mixed, the order of mixing may be performed irrespective of the order of mixing, and after a part of the components of the flux is mixed with the solder alloy, the remaining components of the flux may be added.

<フラックスの検討>
次に、本発明を実施例によりさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの例によってなんら限定されるものではない。
<Examination of flux>
Next, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

表1に示す原料を表1に示す配合で混合し、実施例A1〜A28及び比較例A1、A2のフラックスを調製した。なお、各原料は相溶し、容易に混合することができた。   The raw materials shown in Table 1 were mixed according to the formulations shown in Table 1, and the fluxes of Examples A1 to A28 and Comparative Examples A1 and A2 were prepared. In addition, each raw material was compatible and could be easily mixed.

実施例、比較例のフラックスについて、その乾燥度、ボイド発生率及びはんだぬれ性を以下の手順で評価した。
(1)乾燥度
JIS Z 3197: 2012, 8.5.1乾燥度試験に準拠して、フラックスの乾燥度を評価した。
具体的には、各実施例、比較例のフラックスとSn−3.0Ag−0.5Cu(SAC305)組成のはんだ粉末(平均粒子径φ:21μm)をフラックス:はんだ粉末=11:89の質量比で混合したはんだペーストを作製した。次いで、上記JIS試験方法に従って試験片を作製し、試験を行い、フラックスの乾燥度(フラックスの乾燥のしやすさ、具体的にはフラックス残渣の粘着性)を、試験片上のフラックス残渣表面に振りかけた粉末タルクの付着度合いで評価した。
評価は、粉末タルクがブラッシングで除去できた場合を○、除去できなかった場合を×とした。
With respect to the fluxes of Examples and Comparative Examples, the dryness, void generation rate, and solder wettability were evaluated by the following procedures.
(1) Dryness The dryness of the flux was evaluated according to JIS Z 3197: 2012, 8.5.1.
Specifically, the flux of each Example and Comparative Example and the solder powder (average particle diameter φ: 21 μm) of the composition of Sn-3.0Ag-0.5Cu (SAC305) were mixed with the mass ratio of flux: solder powder = 11: 89. To prepare a mixed solder paste. Next, a test piece is prepared and tested according to the above JIS test method, and the degree of drying of the flux (easiness of drying the flux, specifically, the tackiness of the flux residue) is sprinkled on the surface of the flux residue on the test piece. The evaluation was based on the degree of adhesion of powdered talc.
The evaluation was evaluated as を when powder talc could be removed by brushing, and as × when powder talc could not be removed.

(2)ボイド発生率
(1)乾燥度試験と同様にしてはんだペーストを作製した。
次いで、ペーストを、8mm×8mmのCu−OSP電極(N=15)の上にメタルマスクを用いて120μm高さに印刷した。その後、大気雰囲気下にてリフローした。リフロープロファイルは、190℃で2分保持し、その後260℃まで1.5℃/秒で昇温、とした。
リフロー後のはんだ付け部(はんだバンプ)の透過画像をUNi−HiTE SYSTEM社製Microfocus X−ray System XVR−160を用いて観察し、ボイド発生率を求めた。具体的には、はんだバンプについて上部から下部に向かって透過観察を行い、円形のはんだバンプ透過画像を得、その色調のコントラストに基づき金属充填部とボイド部を識別して自動解析によりボイド面積率を算出し、これをボイド発生率とした。このようにして求めたボイド発生率を用いて、以下の基準でボイドの発生しにくさを評価した。
15個のはんだ付け部全てにおいてボイド発生率が15%以下である場合:○○
15個のはんだ付け部中にボイド発生率が15%超のものが含まれるが、いずれも20%以下である場合:○
15個のはんだ付け部中にボイド発生率が20%超のものが含まれる場合:×
(2) Void generation rate (1) A solder paste was prepared in the same manner as in the drying test.
Next, the paste was printed on a Cu-OSP electrode (N = 15) of 8 mm × 8 mm at a height of 120 μm using a metal mask. Thereafter, reflow was performed in an air atmosphere. The reflow profile was maintained at 190 ° C. for 2 minutes, and then heated to 260 ° C. at 1.5 ° C./sec.
The transmission image of the soldered portion (solder bump) after the reflow was observed using Microfocus X-ray System XVR-160 manufactured by UNi-HiTE SYSTEM, and the void generation rate was obtained. Specifically, transmission observation is performed from the top to the bottom of the solder bump, a circular solder bump transmission image is obtained, the metal filled part and the void part are identified based on the contrast of the color tone, and the void area ratio is automatically analyzed. Was calculated, and this was defined as a void generation rate. Using the void generation rate thus obtained, the following criteria were used to evaluate the difficulty of generating voids.
When the void generation rate is 15% or less in all 15 soldered portions: XX
When the void generation rate is more than 15% in 15 soldered portions, but all are 20% or less: ○
When the void generation rate exceeds 20% in 15 soldered portions: ×

(3)はんだぬれ性
JIS Z 3198−4に準じて、フラックスのはんだぬれ性を評価した。
具体的には、150℃で1時間焼成した幅5mm×長さ25mm×厚み0.5mmの銅板の表面の長さ方向の下端から3mmまでの部分に各実施例、比較例のフラックスを針先で塗布し、下記の条件ではんだ槽に浸せきし、ゼロクロスタイムを測定した。
<浸せき条件>
はんだ組成:Sn−3.0Ag−0.5Cu
はんだ槽温度:250℃ JIS Z 3198−4
浸せき速度:5mm/秒 JIS Z 3198−4
浸せき深さ:2mm JIS Z 3198−4
測定時間:10秒 JIS Z 3198−4
(3) Solder wettability The solder wettability of the flux was evaluated according to JIS Z 3198-4.
Specifically, the flux of each Example and Comparative Example was applied to a portion of 3 mm from the lower end in the length direction of the surface of a copper plate having a width of 5 mm, a length of 25 mm and a thickness of 0.5 mm fired at 150 ° C. for 1 hour. And immersed in a solder bath under the following conditions, and measured the zero cross time.
<Immersion conditions>
Solder composition: Sn-3.0Ag-0.5Cu
Solder bath temperature: 250 ° C JIS Z 3198-4
Immersion speed: 5 mm / sec JIS Z 3198-4
Immersion depth: 2mm JIS Z 3198-4
Measurement time: 10 seconds JIS Z 3198-4

はんだぬれ性は以下の基準で評価した。
ゼロクロスタイムが5.5秒以下:○
ゼロクロスタイムが5.5秒超:×
The solder wettability was evaluated according to the following criteria.
Zero cross time is 5.5 seconds or less: ○
Zero cross time exceeds 5.5 seconds: ×

結果を表1に示す。溶剤として2−ヘキシルデカノール(炭素数が16の一価のアルコール)とグリコール系溶剤を併用した実施例A1〜A28のフラックスは、良好な乾燥性と低ボイド発生率を両立し、しかもはんだぬれ性も良好であった。
Table 1 shows the results. The fluxes of Examples A1 to A28 in which 2-hexyldecanol (a monohydric alcohol having 16 carbon atoms) and a glycol-based solvent were used as the solvent, had both good drying properties and a low void generation rate, and also exhibited good solder wettability. It was good.

<はんだ合金の検討>
ロジンが42質量部、グリコール系溶剤が35質量部、チキソ剤が8質量部、有機酸が10質量部、アミンが2質量部、ハロゲンが3質量部で調整したフラックスと、表2〜表7に示す合金組成からなりJIS Z 3284−1:2014における粉末サイズの分類(表2)において記号4を満たすサイズ(粒度分布)のはんだ合金とを混合してはんだペーストを作製した。フラックスとはんだ合金との質量比は、フラックス:はんだ粉末=11:89である。各はんだペーストについて、粘度の経時変化を測定した。また、はんだ粉末の液相線温度及び固相線温度を測定した。さらに、作製直後のはんだペーストを用いて濡れ性の評価を行った。詳細は以下のとおりである。
<Examination of solder alloy>
Fluxes prepared with 42 parts by mass of rosin, 35 parts by mass of glycol solvent, 8 parts by mass of thixotropic agent, 10 parts by mass of organic acid, 2 parts by mass of amine, and 3 parts by mass of halogen, and Tables 2 to 7 And a solder alloy having a size (particle size distribution) satisfying the symbol 4 in the powder size classification (Table 2) according to JIS Z 3284-1: 2014 according to JIS Z 3284-1: 2014. The mass ratio of the flux to the solder alloy is flux: solder powder = 11: 89. For each solder paste, the change over time in viscosity was measured. In addition, the liquidus temperature and the solidus temperature of the solder powder were measured. Furthermore, the wettability was evaluated using the solder paste immediately after the preparation. Details are as follows.

(4)経時変化
作製直後の各はんだペーストについて、株式会社マルコム社製:PCU−205を用い、回転数:10rpm、25℃、大気中で12時間粘度を測定した。12時間後の粘度がはんだペーストを作製後30分経過した時の粘度と比較して1.2倍以下であれば、十分な増粘抑制効果が得られたものとして「○」と評価し、1.2倍を超える場合には「×」と評価した。
(4) Temporal change The viscosity of each solder paste immediately after preparation was measured using PCU-205 manufactured by Malcom Corporation at a rotation speed of 10 rpm at 25 ° C. in the air for 12 hours. If the viscosity after 12 hours is 1.2 times or less as compared to the viscosity when 30 minutes have passed since the preparation of the solder paste, it was evaluated as "O" as a sufficient thickening suppression effect was obtained, When it exceeded 1.2 times, it was evaluated as "x".

(5)ΔT
フラックスと混合する前のはんだ合金について、エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製、型番:EXSTAR DSC7020を用い、サンプル量:約30mg、昇温速度:15℃/minにてDSC測定を行い、固相線温度及び液相線温度を得た。得られた液相線温度から固相線温度を引いてΔTを求めた。ΔTが10℃以下の場合に「○」と評価し、10℃を超える場合に「×」と評価した。
(5) ΔT
For the solder alloy before being mixed with the flux, DSC measurement was carried out using SII Nanotechnology Co., Ltd., model number: EXSTAR DSC7020 at a sample amount of about 30 mg, at a heating rate of 15 ° C./min. Temperature and liquidus temperature were obtained. ΔT was determined by subtracting the solidus temperature from the obtained liquidus temperature. When ΔT was 10 ° C. or less, “○” was evaluated, and when ΔT exceeded 10 ° C., “X” was evaluated.

(6)濡れ性
作製直後の各はんだペーストをCu板上に印刷し、リフロー炉でN2雰囲気中、1℃/sの昇温速度で25℃から260℃まで加熱した後、室温まで冷却した。冷却後のはんだバンプの外観を光学顕微鏡で観察することで濡れ性を評価した。溶融しきれていないはんだ粉末が観察されない場合に「○」と評価し、溶融しきれていないはんだ粉末が観察された場合に「×」と評価した。
(6) Wettability Each solder paste immediately after preparation was printed on a Cu plate, heated from 25 ° C. to 260 ° C. at a rate of 1 ° C./s in a N 2 atmosphere in a reflow furnace, and then cooled to room temperature. . The wettability was evaluated by observing the appearance of the cooled solder bumps with an optical microscope. When no unmelted solder powder was observed, it was evaluated as "O", and when unmelted solder powder was observed, it was evaluated as "x".

表2〜7に示すように、全ての実施例Bでは、増粘抑制効果、ΔTの狭窄化、及び優れた濡れ性を示すことがわかった。   As shown in Tables 2 to 7, it was found that all Examples B exhibited a thickening suppressing effect, a narrowing of ΔT, and excellent wettability.

これに対して、比較例B1、B10、B19、B28、B37、及びB46は、Asを含有しないため、増粘抑制効果が発揮されなかった。   On the other hand, Comparative Examples B1, B10, B19, B28, B37, and B46 did not contain As, and thus did not exhibit a thickening suppressing effect.

比較例B2、B11、B20、B29、B38、及びB47は、(1)式が下限未満であるため、増粘抑制効果が発揮されなかった。   In Comparative Examples B2, B11, B20, B29, B38, and B47, since the expression (1) was less than the lower limit, the thickening suppressing effect was not exhibited.

比較例B3、B4、B12、B13、B21、B22、B30、B31、B39、B40、B48、及びB49は、As含有量が上限値を超えているため、濡れ性が劣る結果を示した。   Comparative Examples B3, B4, B12, B13, B21, B22, B30, B31, B39, B40, B48, and B49 showed poor wettability because the As content exceeded the upper limit.

比較例B5、B7、B9、B14、B16、B18、B23、B25、B27、B32、B34、B36、B41、B43、B45、B50、B52、及びB54は、Pb含有量及び(2)式が上限値を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。   In Comparative Examples B5, B7, B9, B14, B16, B18, B23, B25, B27, B32, B34, B36, B41, B43, B45, B50, B52, and B54, the Pb content and the formula (2) are the upper limits. Since the value exceeded the value, the result showed that ΔT exceeded 10 ° C.

比較例B6、B15、B24、B33、B42、及びB51は、(2)式が上限値を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。   Comparative Examples B6, B15, B24, B33, B42, and B51 showed that ΔT exceeded 10 ° C. because Equation (2) exceeded the upper limit.

比較例B8、B17、B26、B35、B44、及びB53は、Bi含有量及び(2)式が上限値を超えているため、ΔTが10℃を超える結果を示した。   Comparative Examples B8, B17, B26, B35, B44, and B53 showed the results that ΔT exceeded 10 ° C. because the Bi content and the formula (2) exceeded the upper limit.

<フラックスとはんだ合金の組み合わせ>
実施例A1のフラックスと、実施例B2のはんだ合金とを含むはんだペーストについて評価した結果、乾燥度、ボイド発生率、増粘抑制効果、ΔT、及び濡れ性のいずれにおいても良好な結果が得られた。
<Combination of flux and solder alloy>
As a result of evaluating the solder paste containing the flux of Example A1 and the solder alloy of Example B2, good results were obtained in all of the drying degree, void generation rate, thickening suppression effect, ΔT, and wettability. Was.

実施例A1のフラックスに代えて、実施例A2〜A28の各種フラックスをそれぞれ使用した場合も、乾燥度、ボイド発生率、増粘抑制効果、ΔT、及び濡れ性においても良好な結果が得られた。   In the case of using each of the fluxes of Examples A2 to A28 instead of the flux of Example A1, good results were also obtained in terms of dryness, void generation rate, thickening suppression effect, ΔT, and wettability. .

同様に、実施例A1〜A28の各種フラックスに対して、その他の実施例Bの各種はんだ合金をそれぞれ組み合わせた場合も、乾燥度、ボイド発生率、増粘抑制効果、ΔT、及び濡れ性においても良好な結果が得られた。   Similarly, when the various fluxes of Examples A1 to A28 are combined with the various solder alloys of the other Examples B, the degree of drying, the rate of occurrence of voids, the effect of suppressing thickening, ΔT, and the wettability are also increased. Good results were obtained.

Claims (13)

樹脂、グリコール系溶剤炭素数が16〜18の一価のアルコール、及び有機酸を含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
からなり、
前記フラックス中の前記グリコール系溶剤の含有量が、10〜60質量%であり、
前記フラックス中の前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量が、0.5質量%以上30質量%以下であり、
前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量(質量%)の比(炭素数が16〜18の一価のアルコール含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.01〜1.25であり、
前記フラックス中の前記有機酸の含有量が、1〜15質量%である、はんだペースト。
A flux for soldering containing a resin, a glycol-based solvent , a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms , and an organic acid ; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm to 25,000 mass ppm, Pb Having an alloy composition consisting of more than 0 mass ppm and not more than 8000 mass ppm, and the balance being Sn, the following formulas (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
Solder alloy that satisfies;
Consisting of
The content of the glycol-based solvent in the flux is 10 to 60% by mass,
The content of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms in the flux is 0.5% by mass or more and 30% by mass or less,
The ratio of the content (% by mass) of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms to the content (% by mass) of the glycol-based solvent (content of monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms / glycol) Content of the system solvent) is 0.01 to 1.25,
The solder paste , wherein the content of the organic acid in the flux is 1 to 15% by mass .
樹脂、グリコール系溶剤炭素数が16〜18の一価のアルコール、及び活性剤を含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
からなり
前記フラックス中の前記グリコール系溶剤の含有量が、10〜60質量%であり、
前記フラックス中の前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量が、0.5質量%以上30質量%以下であり、
前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量(質量%)の比(炭素数が16〜18の一価のアルコール含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.01〜1.25であり、
前記フラックス中の前記活性剤の含有量が、0質量%超え30質量%以下である、はんだペースト。
A flux for soldering containing a resin, a glycol solvent , a monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms , and an activator ; and As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm or more and 25000 mass ppm or less, Pb Having an alloy composition consisting of more than 0 mass ppm and not more than 8000 mass ppm, and the balance being Sn, the following formulas (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
Solder alloy that satisfies;
Consisting of
The content of the glycol-based solvent in the flux is 10 to 60% by mass,
The content of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms in the flux is 0.5% by mass or more and 30% by mass or less,
The ratio of the content (% by mass) of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms to the content (% by mass) of the glycol-based solvent (content of monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms / glycol) Content of the system solvent) is 0.01 to 1.25,
The solder paste , wherein the content of the activator in the flux is more than 0% by mass and 30% by mass or less .
前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量が、0.5質量%以上20質量%以下である、請求項1又は2に記載のはんだペースト。 3. The solder paste according to claim 1, wherein the content of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is 0.5 % by mass or more and 20% by mass or less. 前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量が、5〜15質量%の範囲内である、請求項に記載のはんだペースト。 The solder paste according to claim 3 , wherein the content of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is in a range of 5 to 15% by mass. 前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量(質量%)の比(炭素数が16〜18の一価のアルコール含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.15〜0.72である、請求項1〜4のいずれか一項に記載のはんだペースト。 The ratio of the content (% by mass) of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms to the content (% by mass) of the glycol-based solvent (content of monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms / glycol) The solder paste according to any one of claims 1 to 4 , wherein a content of the system solvent is 0.15 to 0.72. ロジン系樹脂を30〜60質量%、グリコール系溶剤を20〜45質量%、炭素数が16〜18の一価のアルコールを5〜20質量%、及び、有機酸を1〜15質量%の範囲内で含む、はんだ付け用フラックス;及び
As:25〜300質量ppm、Bi:0質量ppm以上25000質量ppm以下、Pb:0質量ppm超え8000質量ppm以下、及び残部がSnからなる合金組成を有し、下記(1)式及び(2)式:
275≦2As+Bi+Pb (1)
0<2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦7 (2)
[上記(1)式及び(2)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たすはんだ合金;
からなり
前記グリコール系溶剤の含有量(質量%)に対する、前記炭素数が16〜18の一価のアルコールの含有量(質量%)の比(炭素数が16〜18の一価のアルコール含有量/グリコール系溶剤の含有量)が、0.01〜1.25である、はんだペースト。
The rosin-based resin is 30 to 60% by mass, the glycol-based solvent is 20 to 45% by mass, the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is 5 to 20% by mass, and the organic acid is 1 to 15% by mass. And an alloy composition comprising As: 25 to 300 mass ppm, Bi: 0 mass ppm to 25,000 mass ppm, Pb: more than 0 mass ppm to 8000 mass ppm, and the balance Sn. And the following equations (1) and (2):
275 ≦ 2As + Bi + Pb (1)
0 <2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 7 (2)
[In the above formulas (1) and (2), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
Solder alloy that satisfies;
Consisting of
The ratio of the content (% by mass) of the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms to the content (% by mass) of the glycol-based solvent (content of monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms / glycol) Solder paste whose content is 0.01 to 1.25 .
さらに、チキソ剤及び/又は酸化防止剤を含む、請求項1〜のいずれか一項に記載のはんだペースト。 Further comprising a thixotropic agent and / or an antioxidant, according to claim 1 to 6 any one of the description of the solder paste. 前記炭素数16〜18の一価のアルコールが、炭素数16の一価のアルコールである、請求項1〜のいずれか一項に記載のはんだペースト。 The solder paste according to any one of claims 1 to 7 , wherein the monohydric alcohol having 16 to 18 carbon atoms is a monohydric alcohol having 16 carbon atoms. 前記炭素数16の一価のアルコールが、2−ヘキシルデカノールである、請求項に記載のはんだペースト。 The solder paste according to claim 8 , wherein the monohydric alcohol having 16 carbon atoms is 2-hexyldecanol. 前記合金組成が、下記(1a)式:
275≦2As+Bi+Pb≦25200 (1a)
[上記(1a)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、請求項1〜のいずれか一項に記載のはんだペースト。
The alloy set formation is the following (1a) formula:
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 25200 (1a)
[In the above formula (1a), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of claims 1 to 9 , which satisfies the following.
前記合金組成が、下記(1b)式:
275≦2As+Bi+Pb≦5300 (1b)
[上記(1b)式中、As、Bi、及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、請求項1〜10のいずれか一項に記載のはんだペースト。
The alloy composition has the following formula (1b):
275 ≦ 2As + Bi + Pb ≦ 5300 (1b)
[In the above formula (1b), As, Bi, and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of claims 1 to 10 , which satisfies the following.
前記合金組成が、下記(2a)式:
0.02≦2.3×10-4×Bi+8.2×10-4×Pb≦0.9 (2a)
[上記(2a)式中、Bi及びPbは各々前記合金組成での含有量(質量ppm)を表す]
を満たす、請求項1〜11のいずれか一項に記載のはんだペースト。
The alloy composition has the following formula (2a):
0.02 ≦ 2.3 × 10 −4 × Bi + 8.2 × 10 −4 × Pb ≦ 0.9 (2a)
[In the formula (2a), Bi and Pb each represent the content (mass ppm) in the alloy composition]
The solder paste according to any one of claims 1 to 11 , which satisfies the following.
さらに、前記合金組成が、Ag:0〜4質量%及びCu:0〜0.9質量%の少なくとも1種を含有する、請求項1〜12のいずれか一項に記載のはんだペースト。 The solder paste according to any one of claims 1 to 12 , wherein the alloy composition contains at least one of Ag: 0 to 4% by mass and Cu: 0 to 0.9% by mass.
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