JP2020188101A - Method for manufacturing circular substrate - Google Patents

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大悟 下房
Daigo Shimofusa
大悟 下房
貴司 小野
Takashi Ono
貴司 小野
舞 小笠原
Mai Ogasawara
舞 小笠原
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Abstract

To provide a method for manufacturing a circular substrate capable of appropriately discharging heat generated when the substrate is punched out by a core drill.SOLUTION: A method for manufacturing a circular substrate smaller than a substrate having one side surface and the other side surface, from the substrate, includes: a tape sticking step for sticking a tape on the other side surface of the substrate; a holding step for holding the substrate with a holding table via the tape; a blanking step for blanking the substrate with a core drill to form the circular substrate by rotating the core drill having a diameter smaller than the substrate to make the core drill cut from one side surface of the substrate to the other side surface while supplying a machining liquid to the core drill; and a detaching step for detaching the circular substrate from the tape to remove the same. In the blanking step, movement of the core drill in a direction approaching the tape and movement in a direction away from the tape are repeated while the core drill is made to cut from one side surface of the substrate to the other side surface.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

本発明は、円形基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a circular substrate.

各種の電子機器に組み込まれるデバイスチップの生産には、例えば、シリコン等の半導体材料でなる円形(円盤状)のウェーハが使用される。このウェーハは、円柱状のインゴットをワイヤーソー等でスライスして円形のアズスライスウェーハを形成し、その表裏面の平坦度をラッピング処理によって高めた後に、外周部に残る角を面取り加工によって落とすことで得られる。 For the production of device chips to be incorporated in various electronic devices, for example, circular (disk-shaped) wafers made of semiconductor materials such as silicon are used. For this wafer, a cylindrical ingot is sliced with a wire saw or the like to form a circular asslice wafer, the flatness of the front and back surfaces thereof is improved by a wrapping process, and then the corners remaining on the outer peripheral portion are chamfered. Obtained at.

ところで、ウェーハの品質に問題があると、性能が不十分なデバイスチップが生産され易いので、そのような場合には、例えば、対象のウェーハが廃棄される。一方で、ウェーハの一部の品質だけに問題があるにもかかわらず、ウェーハの全体を廃棄してしまうと、品質に問題のない大部分を併せて廃棄することになり不経済である。 By the way, if there is a problem with the quality of the wafer, a device chip having insufficient performance is likely to be produced. In such a case, for example, the target wafer is discarded. On the other hand, if the entire wafer is discarded even though there is a problem only in the quality of a part of the wafer, it is uneconomical because most of the wafers having no problem in quality are also discarded.

そこで、ウェーハの一部の品質だけに問題がある場合には、ウェーハを円形にくり抜いて、この品質に問題のある一部を含まない小さな径のウェーハを形成することがある。また、デバイスチップの生産に用いられる設備等の関係で大きな径のウェーハを使用できない場合には、このウェーハを円形にくり抜いて、小さな径のウェーハを形成することもある。 Therefore, when there is a problem only in the quality of a part of the wafer, the wafer may be hollowed out in a circular shape to form a wafer having a small diameter that does not include the part having a problem in the quality. Further, when a wafer having a large diameter cannot be used due to equipment used for producing device chips or the like, this wafer may be hollowed out in a circular shape to form a wafer having a small diameter.

ウェーハのような板状の部材(以下、基板)から円形の部材(以下、円形基板)をくり抜く際には、例えば、複数の砥粒を結合材で固定してなる切削ブレード(例えば、特許文献1参照)や、コアドリル等の工具が使用される。コアドリルは、基板のくり抜きに適した円筒状に形成されているので、切削ブレードに比べて短時間に基板をくり抜いて円形基板を形成できる。 When a circular member (hereinafter, circular substrate) is hollowed out from a plate-shaped member (hereinafter, substrate) such as a wafer, for example, a cutting blade (for example, a patent document) formed by fixing a plurality of abrasive grains with a binder. 1) and tools such as core drills are used. Since the core drill is formed in a cylindrical shape suitable for hollowing out a substrate, the substrate can be hollowed out in a shorter time than a cutting blade to form a circular substrate.

特開平11−54461号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 11-54461

コアドリルで基板をくり抜く際には、切削ブレードを用いて基板を加工する場合等と同様に、コアドリルと基板とが接触する加工点に水等の加工液を供給する。ところが、コアドリルの構造上、加工点に大量の加工液を供給するのは難しいので、加工点で発生する熱が排出され難く、この熱による加工精度の低下やコアドリルの異常摩耗等が問題になっていた。 When the substrate is hollowed out with the core drill, a processing liquid such as water is supplied to the processing point where the core drill and the substrate come into contact with each other, as in the case of processing the substrate with a cutting blade. However, due to the structure of the core drill, it is difficult to supply a large amount of machining fluid to the machining point, so it is difficult for the heat generated at the machining point to be discharged, and problems such as deterioration of machining accuracy and abnormal wear of the core drill due to this heat become problems. Was there.

本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、コアドリルで基板をくり抜く際に発生する熱を適切に排出できる円形基板の製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a circular substrate capable of appropriately discharging heat generated when a substrate is hollowed out by a core drill.

本発明の一態様によれば、一方の面と該一方の面とは反対側の他方の面とを有する基板から、該基板よりも小さい円形基板を製造する円形基板の製造方法であって、該基板の該他方の面にテープを貼着するテープ貼着ステップと、該テープ貼着ステップを実施した後、該テープを介して該基板を保持テーブルで保持する保持ステップと、該保持ステップを実施した後、該基板よりも小さい直径のコアドリルを回転させて、該コアドリルに加工液を供給しながら該コアドリルを該基板の該一方の面から該他方の面まで切り込ませることにより該基板を該コアドリルでくり抜いて該円形基板を形成するくり抜きステップと、該くり抜きステップを実施した後、該テープから該円形基板を剥離して取り外す取り外しステップと、を備え、該くり抜きステップでは、該コアドリルを該基板の該一方の面から該他方の面まで切り込ませる間に、該コアドリルの該テープに接近する方向への移動と該テープから離れる方向への移動とを繰り返して、該コアドリルが該基板を加工する加工点に該加工液を浸入させる円形基板の製造方法が提供される。 According to one aspect of the present invention, there is a method for manufacturing a circular substrate, which is a method for manufacturing a circular substrate smaller than the substrate from a substrate having one surface and the other surface on the opposite side of the one surface. A tape sticking step of sticking a tape to the other surface of the substrate, a holding step of holding the substrate on a holding table via the tape after performing the tape sticking step, and the holding step. After this, the substrate is cut by rotating a core drill having a diameter smaller than that of the substrate and cutting the core drill from one surface of the substrate to the other surface while supplying the processing liquid to the core drill. A hollowing step for forming the circular substrate by hollowing out with the core drill and a removing step for peeling and removing the circular substrate from the tape after performing the hollowing out step are provided. While cutting from one surface of the substrate to the other surface, the core drill repeatedly moves the core drill toward the tape and away from the tape, and the core drill cuts the substrate. Provided is a method for manufacturing a circular substrate in which the processing liquid is impregnated into a processing point to be processed.

本発明の一態様において、該取り外しステップを実施する前に、該円形基板の方向を示すマークを形成するマーク形成ステップを更に備えることが好ましい。 In one aspect of the present invention, it is preferable to further include a mark forming step for forming a mark indicating the direction of the circular substrate before carrying out the removing step.

本発明の一態様にかかる円形基板の製造方法では、基板をコアドリルでくり抜いて円形基板を形成する際に、コアドリルのテープに接近する方向への移動とテープから離れる方向への移動とを繰り返して、コアドリルが基板を加工する加工点に加工液を浸入させるので、加工点に十分な量の加工液を供給できる。その結果、この加工液によって、コアドリルで基板をくり抜く際に発生する熱を適切に排出できる。 In the method for manufacturing a circular substrate according to one aspect of the present invention, when the substrate is hollowed out with a core drill to form a circular substrate, the movement of the core drill in the direction approaching the tape and the movement in the direction away from the tape are repeated. Since the core drill infiltrates the machining fluid into the machining point where the substrate is machined, a sufficient amount of machining fluid can be supplied to the machining point. As a result, this processing liquid can appropriately discharge the heat generated when the substrate is hollowed out by the core drill.

また、本発明の一態様にかかる円形基板の製造方法では、基板の他方の面にテープを貼着した上で、この基板の一方の面から他方の面までコアドリルを切り込ませることにより基板をコアドリルでくり抜いて円形基板を形成するので、円形基板は、テープを介して基板と連結された状態になる。よって、円形基板がコアドリルに嵌って取り出せなくなることもない。 Further, in the method for manufacturing a circular substrate according to one aspect of the present invention, a tape is attached to the other surface of the substrate, and then a core drill is cut from one surface to the other surface of the substrate to cut the substrate. Since the circular substrate is formed by hollowing out with a core drill, the circular substrate is in a state of being connected to the substrate via tape. Therefore, the circular substrate does not fit into the core drill and cannot be taken out.

基板の構成例を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structural example of a substrate schematically. 基板にテープが貼着された状態を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically the state which the tape is attached to the substrate. 保持テーブルによって基板が保持された状態を模式的に示す一部断面側面図である。It is a partial cross-sectional side view which shows typically the state which the substrate is held by the holding table. 方向を示すマークが基板に形成される様子を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically how the mark which shows a direction is formed on a substrate. マークが形成された基板を模式的に示す平面図である。It is a top view which shows typically the substrate on which the mark was formed. 基板がコアドリルでくり抜かれる様子を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically how the substrate is hollowed out by a core drill. 図7(A)、図7(B)、図7(C)、及び図7(D)は、コアドリルが移動する様子を模式的に示す断面図である。7 (A), 7 (B), 7 (C), and 7 (D) are cross-sectional views schematically showing how the core drill moves. テープから円形基板が取り外される様子を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically how the circular substrate is removed from a tape. 変形例において、方向を示すマークが基板に形成される様子を模式的に示す斜視図である。It is a perspective view which shows typically how the mark which shows a direction is formed on a substrate in a modification.

添付図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。図1は、本実施形態にかかる円形基板の製造方法で使用される基板11の構成例を模式的に示す斜視図である。本実施形態で使用される基板11は、例えば、結晶性のシリコン(Si)でなる円形(円盤状)のウェーハであり、概ね平坦な第1面(一方の面)11aと、この第1面11aとは反対側の第2面(他方の面)11bと、を有している。 Embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a perspective view schematically showing a configuration example of a substrate 11 used in the method for manufacturing a circular substrate according to the present embodiment. The substrate 11 used in the present embodiment is, for example, a circular (disk-shaped) wafer made of crystalline silicon (Si), and has a substantially flat first surface (one surface) 11a and the first surface. It has a second surface (the other surface) 11b opposite to 11a.

基板11の外周縁には、結晶方位を示すノッチ11cが設けられている。ただし、ノッチ11cの代わりに、オリエンテーションフラット等が設けられていることもある。この基板11の直径(=D1)は、本実施形態で製造される円形基板の直径よりも大きい。基板11の厚さ(=T1)は、本実施形態で製造される円形基板の厚さ以上である。 A notch 11c indicating the crystal orientation is provided on the outer peripheral edge of the substrate 11. However, an orientation flat or the like may be provided instead of the notch 11c. The diameter (= D1) of the substrate 11 is larger than the diameter of the circular substrate manufactured in this embodiment. The thickness (= T1) of the substrate 11 is equal to or greater than the thickness of the circular substrate manufactured in this embodiment.

なお、本実施形態では、結晶性のシリコンでなる円形(円盤状)のウェーハを基板11として用いるが、基板11の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。例えば、他の半導体、セラミックス、樹脂、金属等の材料でなる任意の形状の基板11を用いることもできる。 In the present embodiment, a circular (disk-shaped) wafer made of crystalline silicon is used as the substrate 11, but the material, shape, structure, size, etc. of the substrate 11 are not limited. For example, a substrate 11 having an arbitrary shape made of other materials such as semiconductors, ceramics, resins, and metals can be used.

本実施形態にかかる円形基板の製造方法では、まず、上述した基板11の第2面11bにテープを貼着(貼付)する(テープ貼着ステップ)。図2は、基板11にテープ13が貼着された状態を模式的に示す斜視図である。本実施形態では、例えば、基板11の第2面11b側に、基板11よりも径の大きいテープ13を貼着する。 In the method for manufacturing a circular substrate according to the present embodiment, first, a tape is attached (attached) to the second surface 11b of the substrate 11 described above (tape attachment step). FIG. 2 is a perspective view schematically showing a state in which the tape 13 is attached to the substrate 11. In the present embodiment, for example, a tape 13 having a diameter larger than that of the substrate 11 is attached to the second surface 11b side of the substrate 11.

テープ13は、代表的には、フィルム状の基材と、基材の表面に設けられた糊層と、を含む。テープ13の糊層を基板11の第2面11bに密着させることで、テープ13は基板11に貼着される。また、このテープ13の外周部分は、基板11を囲む環状のフレーム15に固定される。これにより、基板11は、テープ13を介してフレーム15に支持された状態になる。 The tape 13 typically includes a film-like base material and a glue layer provided on the surface of the base material. The tape 13 is attached to the substrate 11 by bringing the glue layer of the tape 13 into close contact with the second surface 11b of the substrate 11. Further, the outer peripheral portion of the tape 13 is fixed to the annular frame 15 surrounding the substrate 11. As a result, the substrate 11 is in a state of being supported by the frame 15 via the tape 13.

ただし、テープ13の材質、形状、構造、大きさ等に制限はない。テープ13は、例えば、基板11をくり抜いて形成される円形基板と基板11とを連結できるものであれば良い。そのため、基板11より小さいテープ13を、基板11の第2面11bに貼着することもできる。なお、テープ13が基板11より小さい場合には、このテープ13にフレーム15を固定しない。このように、テープ13には、必ずしもフレーム15を固定しなくて良い。 However, there are no restrictions on the material, shape, structure, size, etc. of the tape 13. The tape 13 may be any tape 13 as long as it can connect the circular substrate formed by hollowing out the substrate 11 and the substrate 11. Therefore, the tape 13 smaller than the substrate 11 can be attached to the second surface 11b of the substrate 11. If the tape 13 is smaller than the substrate 11, the frame 15 is not fixed to the tape 13. In this way, the frame 15 does not necessarily have to be fixed to the tape 13.

基板11の第2面11bにテープ13を貼着した後には、このテープ13を介して基板11を保持テーブル(チャックテーブル)で保持する(保持ステップ)。図3は、保持テーブル(チャックテーブル)2によって基板11が保持された状態を模式的に示す一部断面側面図である。保持テーブル2は、例えば、ステンレス鋼に代表される金属材料でなる円筒状の枠体4と、多孔質材料でなり枠体4の上部に配置される保持板6と、を含む。 After the tape 13 is attached to the second surface 11b of the substrate 11, the substrate 11 is held by the holding table (chuck table) via the tape 13 (holding step). FIG. 3 is a partial cross-sectional side view schematically showing a state in which the substrate 11 is held by the holding table (chuck table) 2. The holding table 2 includes, for example, a cylindrical frame 4 made of a metal material typified by stainless steel, and a holding plate 6 made of a porous material and arranged on the upper part of the frame 4.

保持板6の上面は、テープ13を介して基板11を保持する保持面6aとなる。保持板6の下面側は、枠体4の内部に設けられた流路4a等を介して吸引源(不図示)に接続されている。流路4a等には、流体の流れを制御するバルブ(不図示)が設けられている。そのため、バルブを開けば、吸引源の負圧を保持面6aに作用させることができる。 The upper surface of the holding plate 6 is a holding surface 6a that holds the substrate 11 via the tape 13. The lower surface side of the holding plate 6 is connected to a suction source (not shown) via a flow path 4a or the like provided inside the frame body 4. A valve (not shown) for controlling the flow of fluid is provided in the flow path 4a or the like. Therefore, if the valve is opened, the negative pressure of the suction source can be applied to the holding surface 6a.

枠体4の周囲には、フレーム15の固定に使用される複数のクランプ8が設けられている。枠体4(保持テーブル2)は、モータ等の回転駆動源(不図示)に連結されており、上述した保持面6aに対して概ね垂直な回転軸の周りに回転する。また、枠体4(保持テーブル2)は、移動機構(不図示)によって支持されており、上述した保持面6aに対して概ね平行な方向(水平方向)に移動する。 A plurality of clamps 8 used for fixing the frame 15 are provided around the frame body 4. The frame body 4 (holding table 2) is connected to a rotation drive source (not shown) such as a motor, and rotates around a rotation axis substantially perpendicular to the above-mentioned holding surface 6a. Further, the frame body 4 (holding table 2) is supported by a moving mechanism (not shown), and moves in a direction (horizontal direction) substantially parallel to the holding surface 6a described above.

保持テーブル2で基板11を保持する際には、まず、基板11に貼着されているテープ13の基材側を、保持テーブル2の保持面6aに接触させる。そして、バルブを開いて、保持面6aに吸引源の負圧を作用させる。これにより、テープ13が保持面6aに吸着され、基板11は、第1面11a側が上方に露出した状態で保持テーブル2に保持される。また、フレーム15は、クランプ8によって固定される。 When holding the substrate 11 on the holding table 2, first, the base material side of the tape 13 attached to the substrate 11 is brought into contact with the holding surface 6a of the holding table 2. Then, the valve is opened to apply the negative pressure of the suction source to the holding surface 6a. As a result, the tape 13 is attracted to the holding surface 6a, and the substrate 11 is held on the holding table 2 with the first surface 11a side exposed upward. Further, the frame 15 is fixed by the clamp 8.

基板11を保持テーブル2で保持した後には、この基板11にマークを形成する(マーク形成ステップ)。図4は、マーク11dが基板11に形成される様子を模式的に示す斜視図であり、図5は、マーク11dが形成された基板11を模式的に示す平面図である。本実施形態では、結晶方位(方向)を示すマーク11dを基板11に形成する。つまり、ノッチ11cに相当する情報を持つマーク11dが基板11に形成される。 After the substrate 11 is held by the holding table 2, a mark is formed on the substrate 11 (mark forming step). FIG. 4 is a perspective view schematically showing how the mark 11d is formed on the substrate 11, and FIG. 5 is a plan view schematically showing the substrate 11 on which the mark 11d is formed. In the present embodiment, the mark 11d indicating the crystal orientation (direction) is formed on the substrate 11. That is, the mark 11d having the information corresponding to the notch 11c is formed on the substrate 11.

このマーク11dは、後にコアドリルを切り込ませる円形の加工予定ライン11eの内側の領域にも形成される。つまり、円形基板となる領域内にも、マーク11dが形成される。このようなマーク11dにより、基板11から分離された後にも円形基板の結晶方位を容易に確認できるようになる。 The mark 11d is also formed in the inner region of the circular scheduled machining line 11e into which the core drill is cut later. That is, the mark 11d is also formed in the region of the circular substrate. With such a mark 11d, the crystal orientation of the circular substrate can be easily confirmed even after being separated from the substrate 11.

ただし、基板11には、円形基板の方向を示す他のマーク11dを形成することもできる。つまり、マーク11dによって示される方向は、結晶方位でなくとも良い。なお、マーク11dの形成方法に特段の制限はないが、本実施形態では、基板11の第1面11aを切削する方法が用いられる。図4に示すように、保持テーブル2によって保持された基板11の上方には、切削ユニット12が配置されている。 However, another mark 11d indicating the direction of the circular substrate may be formed on the substrate 11. That is, the direction indicated by the mark 11d does not have to be the crystal orientation. The method of forming the mark 11d is not particularly limited, but in the present embodiment, a method of cutting the first surface 11a of the substrate 11 is used. As shown in FIG. 4, the cutting unit 12 is arranged above the substrate 11 held by the holding table 2.

切削ユニット12は、例えば、筒状のスピンドルハウジング14を含んでいる。このスピンドルハウジング14の内側の空間には、保持テーブル2の保持面6aに対して概ね平行な回転軸となるスピンドル16が収容されている。スピンドル16の一端側には、砥粒を結合材で固定してなる環状の切削ブレード18が装着されている。 The cutting unit 12 includes, for example, a tubular spindle housing 14. In the space inside the spindle housing 14, a spindle 16 which is a rotation axis substantially parallel to the holding surface 6a of the holding table 2 is housed. An annular cutting blade 18 formed by fixing abrasive grains with a binder is mounted on one end side of the spindle 16.

スピンドル16の他端側には、モータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、スピンドル16の一端側に装着された切削ブレード18は、回転駆動源が生じる力によって回転する。この切削ユニット12(スピンドルハウジング14)は、例えば、移動機構(不図示)によって支持されており、保持面6aに対して概ね垂直な方向(鉛直方向)と、保持面6aに対して概ね平行な方向(水平方向)とに移動する。 A rotary drive source (not shown) such as a motor is connected to the other end side of the spindle 16, and the cutting blade 18 mounted on one end side of the spindle 16 rotates by the force generated by the rotary drive source. The cutting unit 12 (spindle housing 14) is supported by, for example, a moving mechanism (not shown), and is substantially perpendicular to the holding surface 6a (vertical direction) and substantially parallel to the holding surface 6a. Move in the direction (horizontal direction).

基板11にマーク11dを形成する際には、例えば、切削ブレード18を回転させて、この切削ブレード18の下端が基板11の第1面11aより低くなるように、保持テーブル2に対する切削ユニット12の高さを調整する。そして、マーク11dの被形成領域に沿って切削ブレード18が移動するように、保持テーブル2と切削ユニット12とを保持面6aに対して概ね平行な方向に相対的に移動させる。 When forming the mark 11d on the substrate 11, for example, the cutting blade 18 is rotated so that the lower end of the cutting blade 18 is lower than the first surface 11a of the substrate 11, so that the cutting unit 12 with respect to the holding table 2 is formed. Adjust the height. Then, the holding table 2 and the cutting unit 12 are moved relatively in a direction substantially parallel to the holding surface 6a so that the cutting blade 18 moves along the formed region of the mark 11d.

これにより、図4に示すように、マーク11dの被形成領域に沿って基板11の第1面11aに切削ブレード18を切り込ませ、結晶方位を示すマーク11dを形成できる。マーク11dは、基板11のノッチ11cに相当する情報を持つので、このマーク11dに基づいて、基板11から切り出される円形基板の結晶方位を確認できるようになる。図5に示すように、本実施形態では、円形基板となる全ての領域にマーク11dを形成する。 As a result, as shown in FIG. 4, the cutting blade 18 can be cut into the first surface 11a of the substrate 11 along the formed region of the mark 11d to form the mark 11d indicating the crystal orientation. Since the mark 11d has information corresponding to the notch 11c of the substrate 11, the crystal orientation of the circular substrate cut out from the substrate 11 can be confirmed based on the mark 11d. As shown in FIG. 5, in the present embodiment, the mark 11d is formed in all the regions of the circular substrate.

基板11にマーク11dを形成した後には、この基板11よりも小さい直径のコアドリルで基板11をくり抜いて円形基板を形成する(くり抜きステップ)。図6は、基板11がコアドリル22でくり抜かれる様子を模式的に示す斜視図である。コアドリル22は、例えば、保持面6aに対して概ね垂直な回転軸となるスピンドル24を備えている。 After the mark 11d is formed on the substrate 11, the substrate 11 is hollowed out with a core drill having a diameter smaller than that of the substrate 11 to form a circular substrate (hollowing step). FIG. 6 is a perspective view schematically showing how the substrate 11 is hollowed out by the core drill 22. The core drill 22 includes, for example, a spindle 24 that is a rotation axis that is substantially perpendicular to the holding surface 6a.

スピンドル24の一端側には、ビット26が装着されている。ビット26は、金属等でなる円筒状の中空ボディ28と、中空ボディ28の環状の下面に設けられた切削刃30とを含む。切削刃30は、例えば、砥粒が結合材で固定された砥石である。中空ボディ28の直径は、円形の加工予定ライン11eの直径(=D2)に対応しており、基板11の直径(=D1)よりも小さい。 A bit 26 is mounted on one end side of the spindle 24. The bit 26 includes a cylindrical hollow body 28 made of metal or the like, and a cutting blade 30 provided on the annular lower surface of the hollow body 28. The cutting blade 30 is, for example, a grindstone in which abrasive grains are fixed with a binder. The diameter of the hollow body 28 corresponds to the diameter (= D2) of the circular processing schedule line 11e, and is smaller than the diameter of the substrate 11 (= D1).

スピンドル24の他端側には、モータ等の回転駆動源(不図示)が連結されており、スピンドル24の一端側に装着されたビット26は、回転駆動源が生じる力によって回転する。このコアドリル22のスピンドル24は、例えば、移動機構(不図示)によって支持されており、保持面6aに対して概ね垂直な方向(鉛直方向)と、保持面6aに対して概ね平行な方向(水平方向)とに移動する。コアドリル22の側方には、ノズル42が配置されている。 A rotation drive source (not shown) such as a motor is connected to the other end side of the spindle 24, and the bit 26 mounted on one end side of the spindle 24 rotates by the force generated by the rotation drive source. The spindle 24 of the core drill 22 is supported by, for example, a moving mechanism (not shown), and has a direction substantially perpendicular to the holding surface 6a (vertical direction) and a direction substantially parallel to the holding surface 6a (horizontal direction). Direction) and move to. A nozzle 42 is arranged on the side of the core drill 22.

コアドリル22で基板11をくり抜く際には、円形の加工予定ライン11eの直上に切削刃30が配置されるように、基板11を保持する保持テーブル2に対してコアドリル22の位置を調整する。そして、ビット26を回転させ、ノズル42から切削刃30に純水等の加工液44を供給しながら、保持テーブル2へと近づく方向(下方)にコアドリル22を移動させる。 When the substrate 11 is hollowed out by the core drill 22, the position of the core drill 22 is adjusted with respect to the holding table 2 that holds the substrate 11 so that the cutting blade 30 is arranged directly above the circular machining schedule line 11e. Then, the bit 26 is rotated to move the core drill 22 in the direction (downward) approaching the holding table 2 while supplying the machining fluid 44 such as pure water from the nozzle 42 to the cutting blade 30.

これにより、図6に示すように、円形の加工予定ライン11eに沿って基板11に切削刃30を切り込ませ、この基板11を円形にくり抜くことができる。つまり、本実施形態では、コアドリル22(切削刃30)を基板11の第1面11aから第2面11bまで切り込ませることで、加工予定ライン11eに沿って基板11を切断する。だだし、このコアドリル22でテープ13が切断されないように、保持テーブル2に対するコアドリル22の高さを調整する必要がある。 As a result, as shown in FIG. 6, the cutting blade 30 is cut into the substrate 11 along the circular machining schedule line 11e, and the substrate 11 can be hollowed out in a circular shape. That is, in the present embodiment, the core drill 22 (cutting blade 30) is cut from the first surface 11a to the second surface 11b of the substrate 11 to cut the substrate 11 along the scheduled machining line 11e. However, it is necessary to adjust the height of the core drill 22 with respect to the holding table 2 so that the tape 13 is not cut by the core drill 22.

ところで、上述のようなコアドリル22の構造上、コアドリル22が基板11を加工する加工点(すなわち、切削刃30と基板11とが接触する接触点)に対して、大量の加工液44を供給するのは難しい。そのため、加工点で発生する熱が適切に排出されず、この熱による加工精度の低下や切削刃30の異常摩耗等が問題になり易かった。 By the way, due to the structure of the core drill 22 as described above, a large amount of processing liquid 44 is supplied to the processing point where the core drill 22 processes the substrate 11 (that is, the contact point where the cutting blade 30 and the substrate 11 come into contact with each other). Is difficult. Therefore, the heat generated at the machining point is not properly discharged, and the deterioration of machining accuracy and abnormal wear of the cutting blade 30 due to this heat are likely to cause problems.

そこで、本実施形態にかかる円形基板の製造方法では、コアドリル22(切削刃30)を基板11の第1面11aから第2面11bまで切り込ませるまでの間に、このコアドリル22の保持テーブル2に接近する方向(下方)への移動と保持テーブル2から離れる方向(上方)への移動とを繰り返す。つまり、コアドリル22のテープ13に接近する方向への移動とテープ13から離れる方向への移動とを繰り返す。 Therefore, in the method for manufacturing a circular substrate according to the present embodiment, the holding table 2 of the core drill 22 is used until the core drill 22 (cutting blade 30) is cut from the first surface 11a to the second surface 11b of the substrate 11. The movement in the direction approaching (downward) and the movement in the direction away from the holding table 2 (upward) are repeated. That is, the movement of the core drill 22 in the direction approaching the tape 13 and the movement in the direction away from the tape 13 are repeated.

図7(A)、図7(B)、図7(C)、及び図7(D)は、コアドリル22(切削刃30)が移動する様子を模式的に示す断面図である。図7(A)に示すように、コアドリル22が下方に移動し、切削刃30が基板11の第1面11a側に接触すると、この基板11の一部が削り取られて、第1面11a側に溝(加工痕)11fが形成される。 7 (A), 7 (B), 7 (C), and 7 (D) are cross-sectional views schematically showing how the core drill 22 (cutting blade 30) moves. As shown in FIG. 7A, when the core drill 22 moves downward and the cutting blade 30 comes into contact with the first surface 11a side of the substrate 11, a part of the substrate 11 is scraped off and the first surface 11a side. A groove (processing mark) 11f is formed in the groove.

コアドリル22を下方へ移動させる際の条件(例えば、移動の速度等)は、加工点で発生する熱の影響が問題にならない範囲で調整される。例えば、コアドリル22の回転数が3000rpm〜5000rpm(代表的には、4000rpm)の場合には、移動の速度を、3μm/秒〜7μm/秒(代表的には、5μm/秒)、移動の時間を、切削刃30と基板11とが接触した時点から3秒〜7秒(代表的には、4秒)にすると良い。 The conditions for moving the core drill 22 downward (for example, the speed of movement) are adjusted within a range in which the influence of heat generated at the machining point does not matter. For example, when the rotation speed of the core drill 22 is 3000 rpm to 5000 rpm (typically 4000 rpm), the moving speed is 3 μm / sec to 7 μm / sec (typically 5 μm / sec), and the moving time is set. Is set to 3 to 7 seconds (typically 4 seconds) from the time when the cutting blade 30 and the substrate 11 come into contact with each other.

コアドリル22を下方へ移動させた後には、図7(B)に示すように、コアドリル22を上方に移動させる。これにより、ノズル42から供給される加工液44が、溝11fの内側に流れ込む。コアドリル22を上方へ移動させる際の条件(例えば、移動の速度等)は、溝11fの内側に適切な量の加工液44が供給される範囲で調整される。例えば、下方へ移動の速度より大きな10μm/秒〜30μm/秒(代表的には、20μm/秒)の速度で、基板11の第1面11aに接触しない高さまで切削刃30を上方に移動させる。 After moving the core drill 22 downward, the core drill 22 is moved upward as shown in FIG. 7 (B). As a result, the machining fluid 44 supplied from the nozzle 42 flows into the groove 11f. The conditions for moving the core drill 22 upward (for example, the speed of movement) are adjusted within a range in which an appropriate amount of the working liquid 44 is supplied to the inside of the groove 11f. For example, the cutting blade 30 is moved upward to a height that does not contact the first surface 11a of the substrate 11 at a speed of 10 μm / sec to 30 μm / sec (typically 20 μm / sec), which is larger than the downward moving speed. ..

なお、コアドリル22の下方への移動の時間に対して、コアドリル22の上方への移動の時間が長くなり過ぎると、円形基板の生産性が低下する。また、コアドリル22の下方への移動の時間が長くなり過ぎると、加工点で発生する熱の影響が問題になり易い。そこで、コアドリル22の下方への移動の時間t1と、コアドリル22の上方への移動の時間t2とは、例えば、1≦t1/t2≦15、好ましくは、2≦t1/t2≦10を満たす範囲で調整される。ただし、コアドリル22を移動させる際の条件は、必ずしもこれらを満たさなくて良い。 If the time for moving the core drill 22 upward is too long with respect to the time for moving the core drill 22 downward, the productivity of the circular substrate decreases. Further, if the time for moving the core drill 22 downward is too long, the influence of heat generated at the machining point tends to become a problem. Therefore, the time t1 for moving the core drill 22 downward and the time t2 for moving the core drill 22 upward are, for example, a range satisfying 1 ≦ t1 / t2 ≦ 15, preferably 2 ≦ t1 / t2 ≦ 10. It is adjusted with. However, the conditions for moving the core drill 22 do not necessarily satisfy these conditions.

コアドリル22を上方へ移動させた後には、図7(C)に示すように、コアドリル22を再び下方に移動させる。これにより、基板11の一部が更に削り取られて、第1面11a側の溝11fが深くなる。なお、コアドリル22の下方への移動の条件は、図7(A)にかかる下方への移動の条件と同じでも良いし、異なっても良い。 After moving the core drill 22 upward, the core drill 22 is moved downward again as shown in FIG. 7 (C). As a result, a part of the substrate 11 is further scraped off, and the groove 11f on the first surface 11a side becomes deeper. The conditions for the downward movement of the core drill 22 may be the same as or different from the conditions for the downward movement according to FIG. 7 (A).

上述のように、コアドリル22の上方への移動によって、加工点(溝11fの内側)に適切な量の加工液44を侵入させている。そのため、後の下方への移動によって基板11を再び加工する際にも、加工点で発生する熱が適切に排出され易くなる。コアドリル22を下方へ移動させた後には、図7(D)に示すように、コアドリル22を再び上方に移動させる。このように、コアドリル22の下方への移動と上方への移動とを繰り返すことによって、加工点で発生する熱に起因する問題を解消できる。 As described above, by moving the core drill 22 upward, an appropriate amount of the machining fluid 44 is invaded into the machining point (inside the groove 11f). Therefore, even when the substrate 11 is processed again by the subsequent downward movement, the heat generated at the processing point is easily discharged appropriately. After moving the core drill 22 downward, the core drill 22 is moved upward again as shown in FIG. 7 (D). By repeating the downward movement and the upward movement of the core drill 22 in this way, the problem caused by the heat generated at the machining point can be solved.

任意の加工予定ライン11eに沿ってコアドリル22で基板11をくり抜き、円形基板17(図8参照)を形成した後には、同様の手順で、他の全ての加工予定ライン11eに沿ってコアドリル22で基板11をくり抜き、円形基板17を形成する。なお、基板11の第2面11bには、テープ13が貼着されている。 After the substrate 11 is hollowed out with the core drill 22 along the arbitrary scheduled machining line 11e to form the circular substrate 17 (see FIG. 8), the core drill 22 is used along all the other scheduled machining lines 11e in the same procedure. The substrate 11 is hollowed out to form a circular substrate 17. A tape 13 is attached to the second surface 11b of the substrate 11.

また、このテープ13は、コアドリル22で切断されない。そのため、基板11をコアドリル22でくり抜いて形成された円形基板17は、テープ13を介して基板11の残りの部分と連結された状態になる。よって、基板11をコアドリル22でくり抜いた後に、このコアドリル22を上方に移動させたとしても、円形基板17は、基板11の残りの部分と同じ高さに留まることになる。つまり、円形基板17がコアドリル22のビット26に嵌って取り出せなくなることもない。 Further, the tape 13 is not cut by the core drill 22. Therefore, the circular substrate 17 formed by hollowing out the substrate 11 with the core drill 22 is in a state of being connected to the remaining portion of the substrate 11 via the tape 13. Therefore, even if the core drill 22 is moved upward after the substrate 11 is hollowed out by the core drill 22, the circular substrate 17 stays at the same height as the remaining portion of the substrate 11. That is, the circular substrate 17 does not fit into the bit 26 of the core drill 22 and cannot be taken out.

全ての加工予定ライン11eに沿ってコアドリル22で基板11をくり抜き、円形基板17を形成した後には、テープ13から円形基板17を剥離して取り外す(取り外しステップ)。図8は、テープ13から円形基板17が取り外される様子を模式的に示す斜視図である。 After the substrate 11 is hollowed out with the core drill 22 along all the scheduled processing lines 11e to form the circular substrate 17, the circular substrate 17 is peeled off from the tape 13 and removed (removal step). FIG. 8 is a perspective view schematically showing how the circular substrate 17 is removed from the tape 13.

例えば、テープ13の糊層が光によって硬化する硬化型の樹脂を含んでいる場合には、このテープ13に光を照射して糊層の接着力を低下させることにより、テープ13から円形基板17を容易に剥離して取り外すことができる。なお、テープ13から円形基板17を剥離して取り外すための具体的な方法に特段の制限はない。 For example, when the glue layer of the tape 13 contains a curable resin that is cured by light, the tape 13 is irradiated with light to reduce the adhesive force of the glue layer, whereby the tape 13 to the circular substrate 17 are formed. Can be easily peeled off and removed. There are no particular restrictions on the specific method for peeling and removing the circular substrate 17 from the tape 13.

テープ13から取り外された円形基板17は、図8に示すように、基板11の第1面11aに相当する第1面(一方の面)17aと、基板11の第2面11bに相当する第2面(他方の面)17bと、を有している。この円形基板17の直径(=D2)は、基板11に設定される円形の加工予定ライン11eの直径(=D2)に等しい。また、マーク11dの一部が、円形基板17の結晶方位(方向)を示すマーク17cとなる。 As shown in FIG. 8, the circular substrate 17 removed from the tape 13 has a first surface (one surface) 17a corresponding to the first surface 11a of the substrate 11 and a second surface 11b corresponding to the second surface 11b of the substrate 11. It has two surfaces (the other surface) 17b. The diameter (= D2) of the circular substrate 17 is equal to the diameter (= D2) of the circular machining schedule line 11e set on the substrate 11. Further, a part of the mark 11d becomes a mark 17c indicating the crystal orientation (direction) of the circular substrate 17.

以上のように、本実施形態にかかる円形基板の製造方法では、基板11をコアドリル22でくり抜いて円形基板17を形成する際に、コアドリル22の保持テーブル2(テープ13)に接近する方向への移動と保持テーブル2から離れる方向への移動とを繰り返して、コアドリル22が基板11を加工する加工点に加工液44を浸入させるので、加工点に十分な量の加工液44を供給できる。その結果、この加工液44によって、コアドリル22で基板11をくり抜く際に発生する熱を適切に排出できる。 As described above, in the method for manufacturing a circular substrate according to the present embodiment, when the substrate 11 is hollowed out by the core drill 22 to form the circular substrate 17, the direction is such that the substrate 11 approaches the holding table 2 (tape 13) of the core drill 22. Since the core drill 22 infiltrates the machining liquid 44 into the machining point where the substrate 11 is machined by repeating the movement and the movement in the direction away from the holding table 2, a sufficient amount of the machining fluid 44 can be supplied to the machining point. As a result, the processing liquid 44 can appropriately discharge the heat generated when the substrate 11 is hollowed out by the core drill 22.

また、本実施形態にかかる円形基板の製造方法では、基板11の第2面(他方の面)11bにテープ13を貼着した上で、この基板11の第1面(一方の面)11aから第2面11bまでコアドリル22を切り込ませることにより基板11をコアドリル22でくり抜いて円形基板17を形成するので、円形基板17は、テープ13を介して基板11と連結された状態になる。よって、円形基板17がコアドリル22に嵌って取り出せなくなることもない。 Further, in the method for manufacturing a circular substrate according to the present embodiment, the tape 13 is attached to the second surface (the other surface) 11b of the substrate 11 and then from the first surface (one surface) 11a of the substrate 11. By cutting the core drill 22 up to the second surface 11b, the substrate 11 is hollowed out by the core drill 22 to form the circular substrate 17, so that the circular substrate 17 is connected to the substrate 11 via the tape 13. Therefore, the circular substrate 17 does not fit into the core drill 22 and cannot be taken out.

なお、本発明は、上述した実施形態の記載に制限されず種々変更して実施可能である。例えば、上述した実施形態では、基板11にマーク11dを形成してから、この基板11をコアドリル22でくり抜いているが、マーク11dは、少なくとも、テープ13から円形基板17を剥離して取り外す前に、基板11に形成されていればよい。すなわち、マーク形成ステップは、取り外しステップの前の任意のタイミングで実施することができる。 The present invention is not limited to the description of the above-described embodiment, and can be implemented with various modifications. For example, in the above-described embodiment, the mark 11d is formed on the substrate 11 and then the substrate 11 is hollowed out by the core drill 22, but the mark 11d is at least before the circular substrate 17 is peeled off from the tape 13 and removed. , It may be formed on the substrate 11. That is, the mark forming step can be performed at any timing before the removing step.

図9は、変形例において、方向を示すマーク11dが基板11に形成される様子を模式的に示す斜視図である。この変形例では、基板11をコアドリル22でくり抜いた後に、基板11にマーク11dを形成している。具体的な手順の細部は、上述した実施形態と同様である。 FIG. 9 is a perspective view schematically showing how the mark 11d indicating the direction is formed on the substrate 11 in the modified example. In this modification, the mark 11d is formed on the substrate 11 after the substrate 11 is hollowed out by the core drill 22. The details of the specific procedure are the same as those in the above-described embodiment.

また、上述した実施形態では、基板11の第1面11aを切削する方法でマーク11dを形成しているが、このマーク11dを形成する方法に特段の制限はい。例えば、基板11に吸収される波長(吸収性を持つ波長)のレーザビームを基板11の第1面11aに照射する方法でマーク11dを形成することもできる。同様に、マーク11dの形状や、マーク11dが形成される位置等にも特段の制限はない。 Further, in the above-described embodiment, the mark 11d is formed by a method of cutting the first surface 11a of the substrate 11, but there is no particular limitation on the method of forming the mark 11d. For example, the mark 11d can be formed by irradiating the first surface 11a of the substrate 11 with a laser beam having a wavelength absorbed by the substrate 11 (wavelength having absorbency). Similarly, there are no particular restrictions on the shape of the mark 11d, the position where the mark 11d is formed, or the like.

その他、上述した実施形態や変形例にかかる構造、方法等は、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。 In addition, the structures, methods, and the like according to the above-described embodiments and modifications can be appropriately modified and implemented without departing from the scope of the object of the present invention.

11 :基板
11a :第1面(一方の面)
11b :第2面(他方の面)
11c :ノッチ
11d :マーク
11e :加工予定ライン
11f :溝(加工痕)
13 :テープ
15 :フレーム
17 :円形基板
17a :第1面(一方の面)
17b :第2面(他方の面)
17c :マーク
2 :保持テーブル(チャックテーブル)
4 :枠体
4a :流路
6 :保持板
6a :保持面
8 :クランプ
12 :切削ユニット
14 :スピンドルハウジング
16 :スピンドル
18 :切削ブレード
22 :コアドリル
24 :スピンドル
26 :ビット
28 :中空ボディ
30 :切削刃
42 :ノズル
44 :加工液
11: Substrate 11a: First surface (one surface)
11b: Second surface (the other surface)
11c: Notch 11d: Mark 11e: Scheduled machining line 11f: Groove (machining mark)
13: Tape 15: Frame 17: Circular substrate 17a: First surface (one surface)
17b: Second surface (the other surface)
17c: Mark 2: Holding table (chuck table)
4: Frame body 4a: Flow path 6: Holding plate 6a: Holding surface 8: Clamp 12: Cutting unit 14: Spindle housing 16: Spindle 18: Cutting blade 22: Core drill 24: Spindle 26: Bit 28: Hollow body 30: Cutting Blade 42: Nozzle 44: Processing liquid

Claims (2)

一方の面と該一方の面とは反対側の他方の面とを有する基板から、該基板よりも小さい円形基板を製造する円形基板の製造方法であって、
該基板の該他方の面にテープを貼着するテープ貼着ステップと、
該テープ貼着ステップを実施した後、該テープを介して該基板を保持テーブルで保持する保持ステップと、
該保持ステップを実施した後、該基板よりも小さい直径のコアドリルを回転させて、該コアドリルに加工液を供給しながら該コアドリルを該基板の該一方の面から該他方の面まで切り込ませることにより該基板を該コアドリルでくり抜いて該円形基板を形成するくり抜きステップと、
該くり抜きステップを実施した後、該テープから該円形基板を剥離して取り外す取り外しステップと、を備え、
該くり抜きステップでは、該コアドリルを該基板の該一方の面から該他方の面まで切り込ませる間に、該コアドリルの該テープに接近する方向への移動と該テープから離れる方向への移動とを繰り返して、該コアドリルが該基板を加工する加工点に該加工液を浸入させることを特徴とする円形基板の製造方法。
A method for manufacturing a circular substrate, which manufactures a circular substrate smaller than the substrate from a substrate having one surface and the other surface on the opposite side of the one surface.
A tape sticking step of sticking the tape to the other side of the substrate,
After performing the tape sticking step, a holding step of holding the substrate on the holding table via the tape, and a holding step.
After performing the holding step, a core drill having a diameter smaller than that of the substrate is rotated to cut the core drill from one surface of the substrate to the other surface while supplying the processing liquid to the core drill. To form the circular substrate by hollowing out the substrate with the core drill.
After performing the hollowing out step, a removing step of peeling and removing the circular substrate from the tape is provided.
In the hollowing step, while the core drill is cut from one surface of the substrate to the other surface, the core drill moves toward the tape and moves away from the tape. A method for producing a circular substrate, which comprises repeatedly impregnating the processing liquid into a processing point where the core drill processes the substrate.
該取り外しステップを実施する前に、該円形基板の方向を示すマークを形成するマーク形成ステップを更に備えることを特徴とする請求項1に記載の円形基板の製造方法。 The method for manufacturing a circular substrate according to claim 1, further comprising a mark forming step for forming a mark indicating the direction of the circular substrate before carrying out the removing step.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63199610A (en) * 1987-02-11 1988-08-18 ビービーシー ブラウン ボヴェリ アクチェンゲゼルシャフト Manufacture of semiconductor element
JPH1154461A (en) * 1997-08-04 1999-02-26 Disco Abrasive Syst Ltd Circular cutting method and curve-cutting method for wafer
WO2012042906A1 (en) * 2010-09-30 2012-04-05 Hoya株式会社 Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate
JP2018075694A (en) * 2016-11-11 2018-05-17 株式会社ディスコ Manufacturing method of substrate
JP2018113352A (en) * 2017-01-12 2018-07-19 株式会社ディスコ Chuck table and processing device

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63199610A (en) * 1987-02-11 1988-08-18 ビービーシー ブラウン ボヴェリ アクチェンゲゼルシャフト Manufacture of semiconductor element
JPH1154461A (en) * 1997-08-04 1999-02-26 Disco Abrasive Syst Ltd Circular cutting method and curve-cutting method for wafer
WO2012042906A1 (en) * 2010-09-30 2012-04-05 Hoya株式会社 Method for manufacturing magnetic-disk glass substrate
JP2018075694A (en) * 2016-11-11 2018-05-17 株式会社ディスコ Manufacturing method of substrate
JP2018113352A (en) * 2017-01-12 2018-07-19 株式会社ディスコ Chuck table and processing device

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