JP2020160157A - Glass transfer antireflection film - Google Patents

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Hiroshi Tashiro
寛 田代
将幸 村瀬
Masayuki Murase
将幸 村瀬
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Abstract

To provide a glass transfer antireflection film excellent in transferability to glass, adhesion, surface hardness and visibility.SOLUTION: A glass transfer antireflection film is formed by laminating an antireflection layer, a transfer hard coat layer formed of the photo cured product of a transfer hard coat resin composition (HAD) and a release film 2 in this order on a release film 1. The transfer hard coat resin composition (HAD) includes the following (a)-(c) components; and when using the total amount of (a)-(c) components as 100 mass%, the content of the (a) component is 1-12 mass%, the content of the (b) component is 15-48 mass%, and the content of the (c) component is 48-81 mass%, where (a) is a polyfunctional thiol compound, (b) is an active energy beam curable resin and (c) is a polyfunctional epoxy compound.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ディスプレイ用ガラス基板に適用され、密着性、表面硬度、視認性に優れるガラス転写用反射防止フィルムに関する。 The present invention relates to an antireflection film for glass transfer, which is applied to a glass substrate for a display and has excellent adhesion, surface hardness, and visibility.

ディスプレイ(表示装置)は、様々な状況下で使用され、その用途は多岐に渡っている。自動車分野では、カーナビゲーションシステム、センターインフォメーションディスプレイ、メーターパネル等にディスプレイが使用され、様々な情報の提供が可能となっている。さらに、近年静電容量式タッチパネル等の普及により、ディスプレイは触って操作し情報を取捨選択可能となり、見栄えだけでなく、操作性、触り心地といった特性も要求されている。
従来、外光の映りこみによる視認性の悪化に対して、様々な方法でディスプレイ表面に反射防止加工を施す手法が用いられてきた。このような手法は、例えば、反射防止処理を施したフィルムを粘着層を介してガラスへ貼合する貼合法や、ガラス基板を液膜処理で反射防止層形成するディップ法等である。しかし、貼合法を適用すると、粘着層起因の歪みが生じてガラスの特徴である優れた視認性の低下を招く問題が生じる。ディップ法の場合は、枚葉で作製する必要があるため生産性が悪くなる問題があった。
Display (display device) is used under various situations and has various uses. In the automobile field, displays are used for car navigation systems, center information displays, instrument panels, etc., and various information can be provided. Further, with the recent spread of capacitive touch panels and the like, displays can be operated by touching to select information, and not only appearance but also characteristics such as operability and touch comfort are required.
Conventionally, a method of applying antireflection processing to the display surface by various methods has been used to deal with the deterioration of visibility due to the reflection of external light. Such a method is, for example, a bonding method in which an antireflection-treated film is bonded to glass via an adhesive layer, a dip method in which an antireflection layer is formed by a liquid film treatment on a glass substrate, and the like. However, when the bonding method is applied, there arises a problem that distortion due to the adhesive layer occurs and the excellent visibility, which is a characteristic of glass, is deteriorated. In the case of the dip method, there is a problem that the productivity deteriorates because it is necessary to prepare the dip method.

これらの問題を解決するために、離型フィルム上に予め積層形成された機能層を転着して反射防止機能を付与する転写法が提案されている。例えば、特許文献1には、転写層に熱可塑性樹脂とエチレン性不飽和化合物とを組合せて用いたガラス転写用反射防止フィルムが開示されており、ハードコート機能と転写性の両立が図られている。しかしながら、この技術による転写層は表面硬度に優れるが、タック性に乏しいことから、転写基材に対する追従性がなく、転写層と転写基材界面に気泡が入り転写不良が発生し易い。また、ガラスとの接着性が不十分であった。 In order to solve these problems, a transfer method has been proposed in which a functional layer previously laminated and formed on a release film is transferred to impart an antireflection function. For example, Patent Document 1 discloses an antireflection film for glass transfer in which a thermoplastic resin and an ethylenically unsaturated compound are used in combination for a transfer layer, so that both a hard coat function and transferability can be achieved. There is. However, although the transfer layer by this technique has excellent surface hardness, it has poor tackiness, so that it does not follow the transfer base material, and air bubbles enter at the interface between the transfer base material and the transfer base material, and transfer defects are likely to occur. In addition, the adhesiveness with glass was insufficient.

また、特許文献2には、ハードコート層上にガラス転写層を設け、ガラス転写層において接着性を向上するため、紫外線硬化型エポキシ樹脂にアクリルポリマーを配合する技術が開示されている。しかしながら、アクリルポリマーの配合だけでは塗膜としての保持性能を損ない、ロール状にした場合その自重により接着層のはみ出しといった弊害が生じやすく、ロールtoロール加工には適用することができない。また、アクリルポリマーのTg以上の温度では、アクリルポリマーが流動するため、高温環境下での保管に適さないといった課題がある。 Further, Patent Document 2 discloses a technique of blending an acrylic polymer with an ultraviolet curable epoxy resin in order to provide a glass transfer layer on a hard coat layer and improve adhesiveness in the glass transfer layer. However, the compounding of the acrylic polymer alone impairs the holding performance as a coating film, and when it is rolled, it tends to cause an adverse effect such as the adhesive layer protruding due to its own weight, and cannot be applied to roll-to-roll processing. Further, since the acrylic polymer flows at a temperature of Tg or more of the acrylic polymer, there is a problem that it is not suitable for storage in a high temperature environment.

このように、ガラス転写用反射防止フィルムによる転写法は、本来生産性を高めながらガラス基板に反射防止機能を付与する画期的な方法であるはずが、ガラスへの転写性、密着性、表面硬度、視認性を同時に満たすことができず、実用化が進んでいなかった。 In this way, the transfer method using an antireflection film for glass transfer should be an epoch-making method that originally imparts an antireflection function to a glass substrate while increasing productivity, but transferability to glass, adhesion, and surface surface Hardness and visibility could not be satisfied at the same time, and practical application was not advanced.

特開2004−042607号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2004-042607 特開2003−154622号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2003-154622

上記の通り、本発明の目的とするところは、ガラスへの転写性、密着性、表面硬度、視認性および生産性に優れるガラス転写用反射防止フィルムを提供することにある。 As described above, an object of the present invention is to provide an antireflection film for glass transfer, which is excellent in transferability, adhesion, surface hardness, visibility and productivity to glass.

本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた結果、転写法に用いるガラス転写用反射防止フィルムにおいて、多官能チオール化合物、活性エネルギー線硬化型樹脂、多官能エポキシ化合物をそれぞれ特定の含有量で組合せて用いた樹脂組成物の光硬化物の層を、転写機能とハードコート機能とを兼ね備えた転着ハードコート層とすることにより、上記の課題を解決することの知見を見出し、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は下記の〔1〕および〔2〕である。
As a result of intensive research to solve the above problems, the present inventors have selected a polyfunctional thiol compound, an active energy ray-curable resin, and a polyfunctional epoxy compound in the antireflection film for glass transfer used in the transfer method. It was found that the above-mentioned problems can be solved by forming a layer of a photocured material of a resin composition used in combination at a specific content as a transfer hard coat layer having both a transfer function and a hard coat function. We have found and completed the present invention.
That is, the present invention is the following [1] and [2].

〔1〕離型フィルム1上に、反射防止層、転着ハードコート層、離型フィルム2がこの順で積層されており、
前記転着ハードコート層は、転着ハードコート樹脂組成物(HAD)の光硬化物からなる層である、ガラス転写用反射防止フィルムであって、
前記転着ハードコート樹脂組成物(HAD)は下記の(a)〜(c)成分を含有し、(a)〜(c)成分の合計を100質量%として、(a)成分の含有量が1〜12質量%、(b)成分の含有量が15〜48質量%、および(c)成分の含有量が48〜81質量%である、ガラス転写用反射防止フィルム。
(a)多官能チオール化合物
(b)活性エネルギー線硬化型樹脂
(c)多官能エポキシ化合物
〔2〕ガラス面上に、前記の〔1〕に記載のガラス転写用反射防止フィルムの離型フィルム1及び2の剥離物からなる加熱成型物の層を有するガラス転写成型品。
[1] An antireflection layer, a transfer hard coat layer, and a release film 2 are laminated in this order on the release film 1.
The transfer hard coat layer is an antireflection film for glass transfer, which is a layer made of a photocured product of a transfer hard coat resin composition (HAD).
The transposed hard coat resin composition (HAD) contains the following components (a) to (c), and the content of the component (a) is 100% by mass as a total of the components (a) to (c). An antireflection film for glass transfer, which has 1 to 12% by mass, the content of the component (b) is 15 to 48% by mass, and the content of the component (c) is 48 to 81% by mass.
(A) Polyfunctional thiol compound (b) Active energy ray-curable resin (c) Polyfunctional epoxy compound [2] Release film 1 of the antireflection film for glass transfer according to the above [1] on the glass surface. A glass transfer molded product having a layer of a heat molded product composed of the peeled product and 2.

なお、本明細書中における「○○〜△△」の記載は、別途記載が無い場合、上限と下限とを含む数値範囲を意味する。すなわち、「○○〜△△」は「○○以上、△△以下」を意味する。 In addition, the description of "○○ to △△" in this specification means a numerical range including an upper limit and a lower limit unless otherwise described. That is, "○○ to △△" means "more than ○○, less than or equal to △△".

本発明のガラス転写用反射防止フィルムでは、気泡なくガラスへ転写可能である。本発明によって、ガラスへの転写性、密着性、表面硬度、視認性に優れるガラス転写用反射防止フィルムが提供される。 The antireflection film for glass transfer of the present invention can transfer to glass without bubbles. INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention provides an antireflection film for glass transfer, which is excellent in transferability, adhesion, surface hardness, and visibility to glass.

本発明のガラス転写用反射防止フィルムは、離型フィルム1上に、反射防止層、転着ハードコート層、離型フィルム2がこの順で積層された構成である。以下に、このガラス転写用反射防止フィルムの構成要素について順に説明する。 The antireflection film for glass transfer of the present invention has a structure in which an antireflection layer, a transfer hard coat layer, and a release film 2 are laminated in this order on a release film 1. The components of this antireflection film for glass transfer will be described in order below.

<離型フィルム>
離型フィルム1及び2の構成材料としては特に制限はないが、例えば、ポリプロピレン系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、アクリル系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、酢酸セルロース系樹脂、フッ素系樹脂等の樹脂シートを使用することができる。
<Release film>
The constituent materials of the release films 1 and 2 are not particularly limited, but for example, polypropylene resin, polyethylene resin, polyamide resin, polyester resin, polycarbonate resin, acrylic resin, polyvinyl chloride resin, acetic acid. Resin sheets such as cellulose-based resin and fluorine-based resin can be used.

なお、離型フィルム1及び2には、その離型性を向上するために、通常、離型面(反射防止層または転着ハードコート層との接合面)に離型材料が塗布される。離型材料としては、例えば、エポキシ樹脂系離型剤、エポキシメラミン樹脂系離型剤、メラミン樹脂系離型剤、アミノアルキド樹脂系離型剤、シリコーン樹脂系離型剤、フッ素樹脂系離型剤、セルロース誘導体系離型剤、尿素樹脂系離型剤、ポリオレフィン樹脂系離型剤、パラフィン系離型剤等の1種または2種以上を用いることができる。離型材料が予め塗布形成された市販品を使用することができる。たとえば、東洋紡(株)製、剥離処理フィルム、E7002、E7006、E7007、K1504、K1571、TN100、TN200、三菱ケミカルホールディングスグループ(株)製ダイアホイル、MR−、MRA、MRA(AA2)、MRF、MRV38(V04)、藤森工業(株)製フィルムバイナHTA、KF、BD、DG−2等が挙げられる。
離型フィルム1及び2の構成材料及び離型材料は、互いに同一であっても異なっていてもよい。
In addition, in order to improve the releasability of the release films 1 and 2, a release material is usually applied to the release surface (the joint surface with the antireflection layer or the transfer hard coat layer). Examples of the mold release material include an epoxy resin-based mold release agent, an epoxy melamine resin-based mold release agent, a melamine resin-based mold release agent, an aminoalkido resin-based mold release agent, a silicone resin-based mold release agent, and a fluorine resin-based mold release agent. One or more kinds of agents, cellulose derivative type release agents, urea resin type release agents, polyolefin resin type release agents, paraffin type release agents and the like can be used. A commercially available product on which the release material is previously applied and formed can be used. For example, Toyobo Co., Ltd., peeling film, E7002, E7006, E7007, K1504, K1571, TN100, TN200, Mitsubishi Chemical Holdings Group Co., Ltd. Diafoil, MR-, MRA, MRA (AA2), MRF, MRV38 (V04), film binar HTA, KF, BD, DG-2, etc. manufactured by Fujimori Kogyo Co., Ltd. can be mentioned.
The constituent materials and the release materials of the release films 1 and 2 may be the same as or different from each other.

離型フィルム1及び2の厚みは20〜200μmであることが好ましい。離型フィルムの厚みがこの範囲内であれば、離型フィルムの強度が十分に保たれるので転写後に離型フィルムを剥がす際に離型フィルムが破れるおそれがなく、剥離性も十分に保つことができる。
離型フィルム1及び2の厚みは、互いに同一であっても異なっていてもよい。
The thickness of the release films 1 and 2 is preferably 20 to 200 μm. If the thickness of the release film is within this range, the strength of the release film is sufficiently maintained, so that there is no risk of the release film being torn when the release film is peeled off after transfer, and the release property should be sufficiently maintained. Can be done.
The thicknesses of the release films 1 and 2 may be the same or different from each other.

<反射防止層>
反射防止層は、視認性を良好とする目的で反射防止機能を付与するための層である。反射防止層は、単層でも多層でもよいが、低屈折率層からなる単層、又は高屈折率層及び低屈折率層を含む多層であることが好ましく、中でも最小反射率を低くする観点から、高屈折率層及び低屈折率層からなる二層であることがより好ましい。反射防止層として、高屈折率層及び低屈折率層からなる二層のものを用いる場合は、離型フィルム1上に、低屈折率層、高屈折率層、転着ハードコート層、離型フィルム2がこの順に積層されたガラス転写用反射防止フィルムとすることが好ましい。
反射防止層は、目的とする視認性や物理特性およびコストを元に、適時設計できる。また、転着ハードコート層との界面密着性が重要であり、転着ハードコート層と密着するよう、組成を設計する必要がある。
<Anti-reflective layer>
The antireflection layer is a layer for imparting an antireflection function for the purpose of improving visibility. The antireflection layer may be a single layer or a multilayer, but is preferably a single layer composed of a low refractive index layer or a multilayer including a high refractive index layer and a low refractive index layer, and particularly from the viewpoint of lowering the minimum reflectance. It is more preferable that the two layers are composed of a high refractive index layer and a low refractive index layer. When a two-layer structure consisting of a high refractive index layer and a low refractive index layer is used as the antireflection layer, the low refractive index layer, the high refractive index layer, the transfer hard coat layer, and the release mold are placed on the release film 1. It is preferable that the film 2 is a glass transfer antireflection film laminated in this order.
The antireflection layer can be designed in a timely manner based on the desired visibility, physical properties and cost. Further, the interfacial adhesion with the transfer hard coat layer is important, and it is necessary to design the composition so as to adhere to the transfer hard coat layer.

<低屈折率層>
低屈折率層は、反射防止機能を付与するための層であり、反射防止層が低屈折率層単独で形成される場合、転着ハードコート層との密着機能が必要な層であり、低屈折率層用樹脂組成物(L)を乾燥・硬化することで形成される。低屈折率層の硬化後の膜厚は、50〜150nmの範囲内において、目的とする波長領域の最小反射率が最小となるように設定される。低屈折率層の厚みが上記の範囲内であれば、最小反射率が高くなり過ぎることがなく好適に使用できる。
<Low refractive index layer>
The low refractive index layer is a layer for imparting an antireflection function, and when the antireflection layer is formed by the low refractive index layer alone, it is a layer that requires an adhesion function with a transfer hard coat layer and is low. It is formed by drying and curing the resin composition (L) for a refractive index layer. The film thickness of the low refractive index layer after curing is set so that the minimum reflectance in the target wavelength region is minimized in the range of 50 to 150 nm. When the thickness of the low refractive index layer is within the above range, the minimum reflectance does not become too high and it can be preferably used.

低屈折率層用樹脂組成物(L)は、活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)、低屈折率微粒子、光開始剤を含有する樹脂組成物である。上記組成物中の各成分の配合量は、活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)、低屈折率微粒子、光開始剤の合計を100質量%として、その内通常、活性エネルギー線硬化型樹脂を30〜74質量%、低屈折率微粒子を25〜65質量%、光開始剤を1〜10質量%含有する組成物である。
低屈折率層用樹脂組成物(L)には、その他の成分を配合することができる。その他の成分としては、金属酸化物、光増感剤、安定化剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、密着性向上剤、防汚剤等が用いられる。
低屈折率層は、活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)と低屈折率微粒子との相対関係によって、屈折率が1.3〜1.45になるように調整されることが好ましい。なお、本明細書における屈折率は、アッベ屈折率計により測定することができる。
The resin composition (L) for a low refractive index layer is a resin composition containing an active energy ray-curable resin (Lb), low refractive index fine particles, and a photoinitiator. The blending amount of each component in the above composition is 100% by mass in total of the active energy ray-curable resin (Lb), the low refractive index fine particles, and the photoinitiator, of which 30 is usually the active energy ray-curable resin. It is a composition containing ~ 74% by mass, 25 to 65% by mass of low refractive index fine particles, and 1 to 10% by mass of a photoinitiator.
Other components can be blended in the resin composition (L) for a low refractive index layer. As other components, metal oxides, photosensitizers, stabilizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antioxidants, leveling agents, adhesion improvers, antifouling agents and the like are used.
The low refractive index layer is preferably adjusted so that the refractive index is 1.3 to 1.45 depending on the relative relationship between the active energy ray-curable resin (Lb) and the low refractive index fine particles. The refractive index in the present specification can be measured by an Abbe refractive index meter.

低屈折率層用樹脂組成物(L)は、活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)が含まれる。本明細書において、活性エネルギー線硬化型樹脂とは、紫外線や電子線などを照射することにより、架橋反応などを経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化型樹脂としては、例えば、ビニル基や(メタ)アクリロイル基などのエチレン性不飽和二重結合を有する単量体、オリゴマー、重合体などが挙げられる。
低屈折率層用樹脂組成物(L)で用いられる活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)としては、アクリレート化合物、ウレタンアクリレート化合物、エポキシアクリレート化合物等が挙げられ、単官能化合物、多官能化合物が適時選択して用いられる。特に、低屈折率の観点から、フッ素を含有した、アクリレート化合物、ウレタンアクリレート化合物、エポキシアクリレート化合物等が好ましい。
低屈折率層用樹脂組成物(L)における、活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)、低屈折率微粒子、光開始剤の合計100質量%に対して、活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)の配合量は通常、30〜74質量%であり、30〜45質量%が好ましい。活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)の含有量がこの範囲内であれば、塗膜強度は良好に保たれ、かつ、低屈折率微粒子の含有量を後述する範囲とすることにより、低屈折率層の屈折率も低くなり反射防止機能が向上する。
The resin composition (L) for a low refractive index layer contains an active energy ray-curable resin (Lb). In the present specification, the active energy ray-curable resin refers to a resin that is cured through a cross-linking reaction or the like when irradiated with ultraviolet rays, electron beams, or the like. Examples of the active energy ray-curable resin include monomers, oligomers, and polymers having an ethylenically unsaturated double bond such as a vinyl group and a (meth) acryloyl group.
Examples of the active energy ray-curable resin (Lb) used in the resin composition for a low refractive index layer (L) include acrylate compounds, urethane acrylate compounds, epoxy acrylate compounds, and monofunctional compounds and polyfunctional compounds in a timely manner. Selected and used. In particular, from the viewpoint of low refractive index, fluorine-containing acrylate compounds, urethane acrylate compounds, epoxy acrylate compounds and the like are preferable.
In the resin composition for a low refractive index layer (L), the active energy ray-curable resin (Lb), the low refractive index fine particles, and the photoinitiator total 100% by mass of the active energy ray-curable resin (Lb). The blending amount is usually 30 to 74% by mass, preferably 30 to 45% by mass. When the content of the active energy ray-curable resin (Lb) is within this range, the coating strength is kept good, and the content of the low refractive index fine particles is set within the range described later, so that the low refractive index is low. The refractive index of the layer is also lowered and the antireflection function is improved.

低屈折率層で用いられる低屈折率微粒子は、屈折率1.2〜1.45の微粒子であることが好ましく、例えば、中空シリカ微粒子、フッ化マグネシウム微粒子、フッ化カルシウム微粒子等が挙げられ、低屈折率の観点から、中空シリカ微粒子が特に好ましい。中空シリカ微粒子の屈折率は、1.2〜1.4が好ましい。
低屈折率層用樹脂組成物(L)における、活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)、低屈折率微粒子、光開始剤の合計100質量%に対して、中空シリカ微粒子の配合量は、通常は25〜65質量%であり、50〜65質量%であることが好ましい。配合量がこの範囲内であれば、低屈折率層の屈折率は低くなり、良好な反射防止機能得られるとともに、活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)の量を上記した範囲とすることにより、塗膜としての強度も維持することができる。
The low refractive index fine particles used in the low refractive index layer are preferably fine particles having a refractive index of 1.2 to 1.45, and examples thereof include hollow silica fine particles, magnesium fluoride fine particles, calcium fluoride fine particles, and the like. Hollow silica fine particles are particularly preferable from the viewpoint of low refractive index. The refractive index of the hollow silica fine particles is preferably 1.2 to 1.4.
The blending amount of the hollow silica fine particles is usually 100% by mass of the total of the active energy ray-curable resin (Lb), the low refractive index fine particles, and the photoinitiator in the low refractive index layer resin composition (L). It is 25 to 65% by mass, preferably 50 to 65% by mass. When the blending amount is within this range, the refractive index of the low refractive index layer becomes low, a good antireflection function can be obtained, and the amount of the active energy ray-curable resin (Lb) is set within the above range. The strength of the coating film can also be maintained.

中空シリカ微粒子の平均粒子径は、低屈折率層の厚みを大きく超えないことが好ましく、具体的には、中空シリカ微粒子の平均粒子径は0.1μm以下であることが好ましい。光の散乱が発生して曇った見栄えとなって視認性を低下させることを避けるためである。また、中空シリカ微粒子の平均粒子径は、通常は0.03μm以上である。 The average particle size of the hollow silica fine particles preferably does not greatly exceed the thickness of the low refractive index layer, and specifically, the average particle size of the hollow silica fine particles is preferably 0.1 μm or less. This is to avoid light scattering that results in a cloudy appearance and reduces visibility. The average particle size of the hollow silica fine particles is usually 0.03 μm or more.

さらに、中空シリカ微粒子は、(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤等により表面が修飾されることが好ましい。(メタ)アクリロイル基を有するシランカップリング剤等で中空シリカ微粒子表面を修飾することにより、活性エネルギー線硬化型樹脂との共有結合が形成され、塗膜強度が強くなる傾向が見られる。さらに、中空シリカ微粒子を多く配合した場合には、低屈折率層と、これに接するように形成される転着ハードコート樹脂組成物(HAD)からなる転着ハードコート層との界面、または低屈折率層と、これに接するように形成される高屈折率層用樹脂組成物(H)からなる高屈折率層との界面において、各々の層に含有される、中空シリカ微粒子表面に修飾された(メタ)アクリロイル基と、活性エネルギー線硬化型樹脂との共有結合が形成され、界面密着が強くなる傾向が見られる。 Further, it is preferable that the surface of the hollow silica fine particles is modified with a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group or the like. By modifying the surface of the hollow silica fine particles with a silane coupling agent having a (meth) acryloyl group or the like, a covalent bond with the active energy ray-curable resin is formed, and the coating film strength tends to be increased. Further, when a large amount of hollow silica fine particles are blended, the interface between the low refractive index layer and the transferred hard coat layer made of the transferred hard coat resin composition (HAD) formed in contact with the low refractive index layer, or low. At the interface between the refractive index layer and the high refractive index layer made of the resin composition (H) for a high refractive index layer formed in contact with the refractive index layer, the surface of the hollow silica fine particles contained in each layer is modified. A covalent bond is formed between the (meth) acryloyl group and the active energy ray-curable resin, and the interfacial adhesion tends to be stronger.

低屈折率層で用いられる光開始剤としては、光ラジカル重合開始剤が挙げられる。光ラジカル重合開始剤は、光カチオン重合開始剤や光アニオン重合開始剤に比べて、反応時間を短縮することができロールtoロールでの作製に好適である。低屈折率層用樹脂組成物(L)における、活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb)、低屈折率微粒子、光開始剤の合計100質量%に対して、光開始剤の配合量は、通常1〜10質量%であり、好ましくは2〜8質量%である。配合量がこの範囲内であれば、低屈折率層が硬化不良となったり屈折率が高くなり過ぎたりすることがなく好適に用いることができる。
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル等のベンゾインまたはベンゾインアルキルエーテル;ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸等の芳香族ケトン;ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール等のベンジルケタール;1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−1−プロパン−1−オン等のアセトフェノン;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)フェニルフォスフィンオキシド等のアシルフォスフィンオキシドが挙げられる。
Examples of the photoinitiator used in the low refractive index layer include a photoradical polymerization initiator. The photoradical polymerization initiator can shorten the reaction time as compared with the photocationic polymerization initiator and the photoanionic polymerization initiator, and is suitable for roll-to-roll production. In the resin composition for a low refractive index layer (L), the blending amount of the photoinitiator is usually 1 with respect to a total of 100% by mass of the active energy ray-curable resin (Lb), the low refractive index fine particles, and the photoinitiator. It is 10% by mass, preferably 2-8% by mass. When the blending amount is within this range, the low refractive index layer can be suitably used without being poorly cured or having an excessively high refractive index.
Examples of the photoradical polymerization initiator include benzoin or benzoin alkyl ether such as benzoin and benzoin methyl ether; aromatic ketones such as benzophenone and benzoylbenzoic acid; benzyl ketal such as benzyl dimethyl ketal and benzyl diethyl ketal; 1-hydroxycyclohexyl. Acetophenone such as phenyl ketone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenyl-1-propane-1-one; 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) Examples thereof include acylphosphine oxides such as phenylphosphine oxide.

低屈折率層用樹脂組成物は、系を均一にし、塗工を容易にするために有機溶媒で希釈して使用してもよい。そのような有機溶媒としては、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、エーテルエステル系溶剤、ケトン系溶剤、およびリン酸エステル系溶剤が挙げられる。 The resin composition for a low refractive index layer may be diluted with an organic solvent and used in order to make the system uniform and facilitate coating. Examples of such an organic solvent include alcohol-based solvents, aromatic hydrocarbon-based solvents, ether-based solvents, ester-based solvents, ether ester-based solvents, ketone-based solvents, and phosphoric acid ester-based solvents.

<高屈折率層>
高屈折率層は、反射防止機能を付与し、転着ハードコート層との密着機能が必要な層であり、高屈折率層用樹脂組成物(H)を乾燥・硬化することで形成される。高屈折率層の硬化後の膜厚は、50〜150nmの範囲内において、目的とする波長領域の最小反射率が最小となるように設定される。高屈折率層の厚みが上記の範囲内であれば、最小反射率が高くなり過ぎることがなく好適に使用できる。
高屈折率層用樹脂組成物(H)は、活性エネルギー線硬化型樹脂(Hb)、高屈折率微粒子、光開始剤を含有する樹脂組成物である。上記各組成物の各成分の配合量は、活性エネルギー線硬化型樹脂(Hb)、高屈折率微粒子、光開始剤の合計を100質量%として、その内通常、活性エネルギー線硬化型樹脂(Hb)を19〜79質量%、高屈折率微粒子を20〜80質量%、光開始剤を1〜10質量%含有する組成物である。
<High refractive index layer>
The high refractive index layer is a layer that is provided with an antireflection function and needs to have an adhesion function with a transfer hard coat layer, and is formed by drying and curing the resin composition (H) for a high refractive index layer. .. The cured film thickness of the high refractive index layer is set so that the minimum reflectance in the target wavelength region is minimized in the range of 50 to 150 nm. When the thickness of the high refractive index layer is within the above range, the minimum reflectance does not become too high and it can be preferably used.
The resin composition (H) for a high refractive index layer is a resin composition containing an active energy ray-curable resin (Hb), high refractive index fine particles, and a photoinitiator. The blending amount of each component of each of the above compositions is usually 100% by mass of the total of the active energy ray-curable resin (Hb), the high refractive index fine particles, and the photoinitiator, among which the active energy ray-curable resin (Hb) is used. ) Is 19 to 79% by mass, high refractive index fine particles are 20 to 80% by mass, and the photoinitiator is 1 to 10% by mass.

高屈折率層用樹脂組成物(H)には、その他の成分を配合することができる。その他の成分としては、金属酸化物、光増感剤、安定化剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、レベリング剤、密着性向上剤等が用いられる。
高屈折率層の屈折率は、上記した低屈折率層の屈折率よりも高ければ特に限定されないが、通常は、1.5〜1.8である。
高屈折率層で用いられる、活性エネルギー線硬化型樹脂(Hb)としては、低屈折率層または転着ハードコート層との密着性を良好にするため、低屈折率層もしくは転着ハードコート層で使用する活性エネルギー線硬化型樹脂と同様の化合物が好ましく、例えば、アクリレート化合物、ウレタンアクリレート化合物、エポキシアクリレート化合物等が挙げられ、単官能化合物、多官能化合物が適時選択して用いられる。
Other components can be blended in the resin composition (H) for a high refractive index layer. As other components, metal oxides, photosensitizers, stabilizers, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, antioxidants, leveling agents, adhesion improvers and the like are used.
The refractive index of the high refractive index layer is not particularly limited as long as it is higher than the refractive index of the low refractive index layer described above, but is usually 1.5 to 1.8.
As the active energy ray-curable resin (Hb) used in the high refractive index layer, the low refractive index layer or the transferred hard coat layer is used in order to improve the adhesion to the low refractive index layer or the transferred hard coat layer. Compounds similar to the active energy ray-curable resin used in the above are preferable, and examples thereof include acrylate compounds, urethane acrylate compounds, and epoxy acrylate compounds, and monofunctional compounds and polyfunctional compounds are selected and used in a timely manner.

高屈折率層用樹脂組成物(H)における、活性エネルギー線硬化型樹脂(Hb)、高屈折率微粒子、光開始剤の合計100質量%に対して、活性エネルギー線硬化型樹脂(Hb)の配合量は、通常19〜79質量%であり、好ましくは30〜60質量%である。配合量がこの範囲内であれば、転着ハードコート層及び低屈折率層との密着性が向上し、かつ高屈折率微粒子を後述する含有量に調整することにより、高屈折率層の屈折率が高まり、反射防止機能を良好に発現させることができる。 In the resin composition for a high refractive index layer (H), the active energy ray-curable resin (Hb), the high refractive index fine particles, and the photoinitiator are 100% by mass in total, and the active energy ray-curable resin (Hb) is used. The blending amount is usually 19 to 79% by mass, preferably 30 to 60% by mass. When the blending amount is within this range, the adhesion to the transferred hard coat layer and the low refractive index layer is improved, and the high refractive index fine particles are adjusted to the content described later to refract the high refractive index layer. The rate is increased, and the antireflection function can be satisfactorily exhibited.

高屈折率層で用いられる高屈折率微粒子としては、酸化錫、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、ITO、ATO、アンチモン酸亜鉛等の微粒子等が挙げられる。高屈折率微粒子の屈折率は、上記した低屈折率微粒子よりも屈折率が高く、具体的には、1.5〜2.1の範囲である。
高屈折率層用樹脂組成物(H)における、活性エネルギー線硬化型樹脂(Hb)、高屈折率微粒子、光開始剤の合計100質量%に対して、高屈折率微粒子の配合量は、通常20〜80質量%であり、好ましくは30〜60質量%である。配合量がこの範囲内であれば、高屈折率層の屈折率が高まり、反射防止機能を良好に発現させることができ、かつ活性エネルギー線硬化型樹脂の量を上記した範囲とすることにより、塗膜としての強度も十分に高くなる。
Examples of the high refractive index fine particles used in the high refractive index layer include fine particles such as tin oxide, zinc oxide, titanium oxide, zirconium oxide, ITO, ATO, and zinc antimonate. The refractive index of the high refractive index fine particles is higher than that of the low refractive index fine particles described above, and specifically, it is in the range of 1.5 to 2.1.
In the resin composition for a high refractive index layer (H), the blending amount of the high refractive index fine particles is usually 100% by mass with respect to the total of 100% by mass of the active energy ray-curable resin (Hb), the high refractive index fine particles, and the photoinitiator. It is 20 to 80% by mass, preferably 30 to 60% by mass. When the blending amount is within this range, the refractive index of the high refractive index layer is increased, the antireflection function can be satisfactorily exhibited, and the amount of the active energy ray-curable resin is set within the above range. The strength as a coating film is also sufficiently high.

高屈折率微粒子の平均粒子径は、高屈折率層の厚みを大きく超えないことが好ましく、具体的には、高屈折率微粒子の平均粒子径は0.1μm以下であることが好ましい。光の散乱が発生して曇った見栄えとなって視認性を低下させることを避けるためである。高屈折微粒子の平均粒子径は、通常は0.01μm以上である。 The average particle size of the high refractive index fine particles does not greatly exceed the thickness of the high refractive index layer, and specifically, the average particle size of the high refractive index fine particles is preferably 0.1 μm or less. This is to avoid light scattering that results in a cloudy appearance and reduces visibility. The average particle size of the highly refracted fine particles is usually 0.01 μm or more.

高屈折率層で用いられる光開始剤としては、光ラジカル重合開始剤があげられる。光ラジカル重合開始剤は、反応時間を短縮する際に用いることが好ましく、光カチオン重合開始剤や光アニオン重合開始剤は、反応時間が長期間必要であるため、ロールtoロールでの作製を鑑みると好ましくない。高屈折率層用樹脂組成物(H)における、活性エネルギー線硬化型樹脂(Hb)、高屈折率微粒子、光開始剤の合計100質量%に対して、光開始剤の配合量は、通常1〜10質量%であり、好ましくは2〜8質量%である。配合量がこの範囲内であれば、高屈折率層の硬化性が良好になり、高屈折率層の屈折率を高く保つことができる。光ラジカル重合開始剤の具体例としては、上記した低屈折率層用樹脂組成物(L)に含有される光ラジカル重合開始剤と同様のものを挙げることができる。 Examples of the photoinitiator used in the high refractive index layer include a photoradical polymerization initiator. The photoradical polymerization initiator is preferably used to shorten the reaction time, and the photocationic polymerization initiator and the photoanionic polymerization initiator require a long reaction time, so that they should be prepared by roll-to-roll. Is not preferable. In the resin composition for a high refractive index layer (H), the blending amount of the photoinitiator is usually 1 with respect to a total of 100% by mass of the active energy ray-curable resin (Hb), high refractive index fine particles, and the photoinitiator. It is 10% by mass, preferably 2-8% by mass. When the blending amount is within this range, the curability of the high refractive index layer is good, and the refractive index of the high refractive index layer can be kept high. Specific examples of the photoradical polymerization initiator include the same photoradical polymerization initiator contained in the resin composition (L) for a low refractive index layer described above.

高屈折率層用樹脂組成物は、系を均一にし、塗工を容易にするために有機溶媒で希釈して使用してもよい。そのような有機溶媒としては、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、エーテルエステル系溶剤、ケトン系溶剤、およびリン酸エステル系溶剤が挙げられる。 The resin composition for a high refractive index layer may be diluted with an organic solvent and used in order to make the system uniform and facilitate coating. Examples of such an organic solvent include alcohol-based solvents, aromatic hydrocarbon-based solvents, ether-based solvents, ester-based solvents, ether ester-based solvents, ketone-based solvents, and phosphoric acid ester-based solvents.

<転着ハードコート層>
転着ハードコート層は、ハードコート性およびガラスへの接着性を付与するための層であり、転着ハードコート樹脂組成物(HAD)を乾燥・光硬化することで形成される。本発明に用いる転着ハードコート樹脂組成物(HAD)は、多官能チオール化合物(a)、活性エネルギー線硬化型樹脂(b)および多官能エポキシ化合物(c)を必須成分とし、必要に応じて、光開始剤、エポキシ硬化触媒を含有する。
<Transfer hard coat layer>
The transfer hard coat layer is a layer for imparting hard coat property and adhesiveness to glass, and is formed by drying and photocuring the transfer hard coat resin composition (HAD). The translocation hard coat resin composition (HAD) used in the present invention contains a polyfunctional thiol compound (a), an active energy ray-curable resin (b) and a polyfunctional epoxy compound (c) as essential components, and if necessary. , Photoinitiator, epoxy curing catalyst.

本発明に用いる転着ハードコート層は、多官能チオール化合物(a)と活性エネルギー線硬化型樹脂(b)の光硬化反応により、層内に最適なネットワーク構造が形成されることから、転着ハードコート層自体が塗膜としての強度を維持することが出来る。さらに、多官能エポキシ化合物(c)を含有することで適度なタック性が有り、ガラスへの貼合性に優れる。ガラスへの貼合後、熱硬化することにより、多官能チオール化合物(a)と多官能エポキシ化合物(c)からなる熱硬化反応により、接着層自体の硬度およびガラスへの接着性を付与することが可能となる。 The translocation hard coat layer used in the present invention is translocated because an optimum network structure is formed in the layer by the photocuring reaction of the polyfunctional thiol compound (a) and the active energy ray-curable resin (b). The hard coat layer itself can maintain the strength as a coating film. Further, by containing the polyfunctional epoxy compound (c), it has an appropriate tack property and is excellent in adhesiveness to glass. The hardness of the adhesive layer itself and the adhesiveness to the glass are imparted by a thermosetting reaction composed of the polyfunctional thiol compound (a) and the polyfunctional epoxy compound (c) by thermosetting after bonding to the glass. Is possible.

上記転着ハードコート樹脂組成物(HAD)は、多官能チオール化合物(a)、活性エネルギー線硬化型樹脂(b)、多官能エポキシ化合物(c)の合計を100質量%(以下、単に(a)〜(c)の合計100質量%ともいう)として、その内通常、多官能チオール化合物(a)を1〜12質量%、活性エネルギー線硬化型樹脂(b)を15〜48質量%、多官能エポキシ化合物(c)を48〜81質量%含有する組成物である。 In the translocation hard coat resin composition (HAD), the total of the polyfunctional thiol compound (a), the active energy ray-curable resin (b), and the polyfunctional epoxy compound (c) is 100% by mass (hereinafter, simply (a). ) To (c), which is usually 1 to 12% by mass of the polyfunctional thiol compound (a) and 15 to 48% by mass of the active energy ray-curable resin (b). It is a composition containing 48 to 81% by mass of the functional epoxy compound (c).

転着ハードコート樹脂組成物(HAD)に含有される、多官能チオール化合物(a)は、分子内にメルカプト基(チオール基)を2以上有する化合物であり、分子内にメルカプト基を2〜6個有する化合物であることが好ましい。層内に最適なネットワーク構造が形成され、ガラスへの接着性を付与する観点から、多官能チオール化合物(a)は、分子内にメルカプト基を3〜6個有する化合物であることが好ましく、より好ましくは分子内にメルカプト基を4〜6個有する化合物である。
多官能チオール化合物(a)として、具体的には、トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)、トリス−[(3−メルカプトプロピオニルオキシ)−エチル]−イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラキス(3−メルカプトプロピオネート)、テトラエチレングリコールビス(3−メルカプトプロピオネート)、ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)等が挙げられる。転着ハードコート樹脂組成物(HAD)における、(a)〜(c)の合計100質量%に対する多官能チオール化合物(a)の配合量は、1〜12質量%である。1質量%より少ない場合は、多官能チオール化合物(a)と活性エネルギー線硬化型樹脂の光硬化反応による、層内での最適なネットワーク構造が形成されず、接着層として塗膜が保持されない傾向にあり、好ましくない。一方、12質量%より多い場合は、塗膜硬度が弱くなる傾向があるため相応しくない。(a)〜(c)の合計100質量%に対する多官能チオール化合物(a)の配合量は、好ましくは1〜10質量%であり、より好ましくは2〜6質量%である。
The polyfunctional thiol compound (a) contained in the translocation hard coat resin composition (HAD) is a compound having two or more mercapto groups (thiol groups) in the molecule, and has 2 to 6 mercapto groups in the molecule. It is preferably a compound having an individual. From the viewpoint of forming an optimum network structure in the layer and imparting adhesion to glass, the polyfunctional thiol compound (a) is preferably a compound having 3 to 6 mercapto groups in the molecule, more preferably. It is preferably a compound having 4 to 6 mercapto groups in the molecule.
Specific examples of the polyfunctional thiol compound (a) include trimethylolpropanthris (3-mercaptopropionate), tris-[(3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] -isocyanurate, and pentaerythritol tetrakis (3-mercaptopropionate). Mercaptopropionate), tetraethylene glycol bis (3-mercaptopropionate), dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate) and the like. The blending amount of the polyfunctional thiol compound (a) with respect to the total 100% by mass of (a) to (c) in the translocation hard coat resin composition (HAD) is 1 to 12% by mass. When it is less than 1% by mass, the optimum network structure in the layer is not formed due to the photocuring reaction of the polyfunctional thiol compound (a) and the active energy ray-curable resin, and the coating film tends not to be retained as an adhesive layer. It is not preferable. On the other hand, if it is more than 12% by mass, the hardness of the coating film tends to be weak, which is not suitable. The blending amount of the polyfunctional thiol compound (a) with respect to the total 100% by mass of (a) to (c) is preferably 1 to 10% by mass, and more preferably 2 to 6% by mass.

転着ハードコート樹脂組成物(HAD)に含有される、活性エネルギー線硬化型樹脂(b)は、低屈折率層もしくは、高屈折率層との密着性を良好にするために用いられ、単官能化合物、多官能化合物が適時選択して用いられる。活性エネルギー線硬化型樹脂(b)としては、例えば、ポリオール(メタ)アクリレート、ウレタン(メタ)アクリレート化合物、エポキシ(メタ)アクリレート化合物等の(メタ)アクリレート化合物が挙げられ、(メタ)アクリロイル基の官能基数としては、2官能以上が好ましく、2〜6官能がより好ましく用いられる。表面硬度を向上する目的では、ポリオール(メタ)アクリレートを主成分として選択することが好ましく、ガラスへの転写性を向上する目的では、ウレタン(メタ)アクリレート化合物を主成分として選択することが好ましく、ガラスへの密着性を向上する目的では、エポキシ(メタ)アクリレート化合物を主成分として選択することが好ましい。
活性エネルギー線硬化型樹脂(b)の配合量は、(a)〜(c)の合計100質量%に対して、15〜48質量%であり、好ましくは16〜45質量%であり、より好ましくは18〜40質量%である。少な過ぎる場合は、多官能チオール化合物(a)と活性エネルギー線硬化型樹脂(b)の光硬化反応による、層内での最適なネットワーク構造が形成されず、転着ハードコート層として塗膜が保持されない。一方、多過ぎる場合は、ガラスとの接着性の低下を招く。
The active energy ray-curable resin (b) contained in the translocation hard coat resin composition (HAD) is used to improve the adhesion to the low refractive index layer or the high refractive index layer, and is simply used. Functional compounds and polyfunctional compounds are selected and used in a timely manner. Examples of the active energy ray-curable resin (b) include (meth) acrylate compounds such as polyol (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate compound, and epoxy (meth) acrylate compound, which have a (meth) acryloyl group. The number of functional groups is preferably bifunctional or higher, and more preferably 2 to 6 functional. For the purpose of improving the surface hardness, it is preferable to select polyol (meth) acrylate as a main component, and for the purpose of improving transferability to glass, it is preferable to select a urethane (meth) acrylate compound as a main component. For the purpose of improving the adhesion to glass, it is preferable to select an epoxy (meth) acrylate compound as a main component.
The blending amount of the active energy ray-curable resin (b) is 15 to 48% by mass, preferably 16 to 45% by mass, more preferably, based on 100% by mass of the total of (a) to (c). Is 18-40% by mass. If the amount is too small, the optimum network structure in the layer is not formed by the photocuring reaction of the polyfunctional thiol compound (a) and the active energy ray-curable resin (b), and the coating film is formed as a transfer hard coat layer. Not retained. On the other hand, if the amount is too large, the adhesiveness with the glass is deteriorated.

転着ハードコート樹脂組成物(HAD)に含有される多官能エポキシ化合物(c)は、2個以上のエポキシ基(オキシラン環)を有する有機化合物である。多官能エポキシ樹脂の分子量は200〜50000、好ましくは200〜48000、より好ましくは200〜46000である。分子量がこの範囲内であれば、多官能エポキシ樹脂の揮発性が高くなって臭気が強くなることもなく、他の成分に対する溶解性とガラスに対する密着性が良好となる。 The polyfunctional epoxy compound (c) contained in the translocation hard coat resin composition (HAD) is an organic compound having two or more epoxy groups (oxylan rings). The molecular weight of the polyfunctional epoxy resin is 200 to 50,000, preferably 200 to 48,000, and more preferably 200 to 46,000. When the molecular weight is within this range, the volatility of the polyfunctional epoxy resin does not increase and the odor does not become strong, and the solubility in other components and the adhesion to glass are good.

多官能エポキシ化合物(c)としては、例えばグリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、または二重結合含有化合物の二重結合を過酸化物で酸化して得られる酸化型エポキシ樹脂などが挙げられる。これら中でも、室温での反応性が遅く可使用時間が長くなることから、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂やグリシジルエステル型エポキシ樹脂が好ましい。なお、多官能エポキシ樹脂は、1種のみを単独で使用することもできるし、2種以上を混合使用することもできる。多官能エポキシ化合物(c)の配合量は、(a)〜(c)の合計100質量%に対して、48〜81質量%である。48質量%より少ない場合は、ガラスとの接着性の低下をまねくため相応しくない。一方、81質量%より多い場合は、多官能チオール化合物(a)もしくは活性エネルギー線硬化型樹脂(b)の配合量が少なくなり、接着層として塗膜が保持されない傾向にあり、好ましくない。(a)〜(c)の合計100質量%に対する多官能エポキシ化合物(c)の配合量は、好ましくは50〜80質量%であり、より好ましくは55〜79質量%である。 Examples of the polyfunctional epoxy compound (c) include oxidation obtained by oxidizing the double bond of a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, or a double bond-containing compound with a peroxide. Examples include type epoxy resins. Among these, glycidyl ether type epoxy resin and glycidyl ester type epoxy resin are preferable because the reactivity at room temperature is slow and the usable time is long. As the polyfunctional epoxy resin, only one type may be used alone, or two or more types may be mixed and used. The blending amount of the polyfunctional epoxy compound (c) is 48 to 81% by mass with respect to the total of 100% by mass of (a) to (c). If it is less than 48% by mass, it is not suitable because it causes a decrease in adhesiveness with glass. On the other hand, when it is more than 81% by mass, the amount of the polyfunctional thiol compound (a) or the active energy ray-curable resin (b) is small, and the coating film tends not to be retained as an adhesive layer, which is not preferable. The blending amount of the polyfunctional epoxy compound (c) with respect to the total 100% by mass of (a) to (c) is preferably 50 to 80% by mass, and more preferably 55 to 79% by mass.

転着ハードコート樹脂組成物(HAD)に、必要に応じて含有される光開始剤としては、光ラジカル重合開始剤が好ましい。光ラジカル重合開始剤は、反応時間を短縮する際に用いることが好ましく、光カチオン重合開始剤や光アニオン重合開始剤は、反応時間が長期間必要であるため、ロールtoロールでの作製を鑑みると好ましくない。光ラジカル重合開始剤の具体例としては、上記した低屈折率層用樹脂組成物(L)に含有される光ラジカル重合開始剤と同様のものを挙げることができる。
(a)〜(c)の合計100質量%に対する光開始剤の配合量は、1〜10質量%である。10質量%より多い場合は、ガラスへの密着性が低下する傾向にあり好ましくない。(a)〜(c)の合計100質量%に対する光開始剤の配合量は、好ましくは1〜5質量%である。
As the photoinitiator contained in the translocation hard coat resin composition (HAD) as required, a photoradical polymerization initiator is preferable. The photoradical polymerization initiator is preferably used when shortening the reaction time, and the photocationic polymerization initiator and the photoanionic polymerization initiator require a long reaction time, so that the preparation by roll-to-roll is considered. Is not preferable. Specific examples of the photoradical polymerization initiator include the same photoradical polymerization initiator contained in the resin composition (L) for a low refractive index layer described above.
The blending amount of the photoinitiator with respect to the total 100% by mass of (a) to (c) is 1 to 10% by mass. If it is more than 10% by mass, the adhesion to the glass tends to decrease, which is not preferable. The blending amount of the photoinitiator with respect to the total 100% by mass of (a) to (c) is preferably 1 to 5% by mass.

転着ハードコート樹脂組成物(HAD)に、必要に応じて含有されるエポキシ硬化触媒としては、アミン化合物等が用いられる。エポキシ硬化触媒は、チオール基とエポキシ基との反応を促進(触媒)するために添加される。アミン化合物としては、分子量が90〜700、好ましくは100〜690、より好ましくは110〜680の、単官能アミンや複数個のアミノ基とを有するポリアミンが挙げられる。また、アミン化合物は、触媒活性を調整するために予め有機酸との塩を形成していても良い。アミン化合物と予め反応させる有機酸としては、炭素数1〜20でカルボキシル基を分子中に1〜5個有するステアリン酸や2−エチルヘキサン酸等の脂肪族カルボン酸、炭素数1〜20でカルボキシル基を分子中に1〜10個有するピロメリット酸、トリメリット酸、安息香酸等の芳香族カルボン酸、またはイソシアヌル酸が挙げられる。
転着ハードコート樹脂組成物(HAD)中のエポキシ硬化触媒の含有量は、多官能エポキシ化合物(c)100質量部に対して、好ましくは0.1〜10質量部であり、より好ましくは1〜5質量部である。
An amine compound or the like is used as the epoxy curing catalyst contained in the translocation hard coat resin composition (HAD) as needed. The epoxy curing catalyst is added to accelerate (catalyst) the reaction between the thiol group and the epoxy group. Examples of the amine compound include monofunctional amines having a molecular weight of 90 to 700, preferably 100 to 690, and more preferably 110 to 680, and polyamines having a plurality of amino groups. Moreover, the amine compound may form a salt with an organic acid in advance in order to adjust the catalytic activity. Organic acids to be reacted with the amine compound in advance include aliphatic carboxylic acids such as stearic acid and 2-ethylhexanoic acid having 1 to 5 carbon atoms and 1 to 5 carboxyl groups in the molecule, and carboxyls having 1 to 20 carbon atoms. Examples thereof include aromatic carboxylic acids such as pyromellitic acid, trimellitic acid and benzoic acid having 1 to 10 groups in the molecule, or isocyanuric acid.
The content of the epoxy curing catalyst in the translocation hard coat resin composition (HAD) is preferably 0.1 to 10 parts by mass, more preferably 1 part by mass with respect to 100 parts by mass of the polyfunctional epoxy compound (c). ~ 5 parts by mass.

転着ハードコート層の硬化後の膜厚は、1〜50μm、好ましくは、1〜15μmの範囲内において設定される。膜厚が1μmよりも薄い場合、ガラスへ転写する際に気泡が噛みこみ、欠点となり好ましくない。一方、膜厚が50μmよりも厚い場合、ハードコート機能が低下する傾向があり好ましくない。 The film thickness of the transferred hard coat layer after curing is set within the range of 1 to 50 μm, preferably 1 to 15 μm. If the film thickness is thinner than 1 μm, air bubbles will be caught when the film is transferred to the glass, which is a drawback and is not preferable. On the other hand, when the film thickness is thicker than 50 μm, the hard coat function tends to deteriorate, which is not preferable.

転着ハードコート樹脂組成物(HAD)は、系を均一にし、塗工を容易にするために有機溶媒で希釈して使用してもよい。そのような有機溶媒としては、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤、エーテルエステル系溶剤、ケトン系溶剤、およびリン酸エステル系溶剤が挙げられる。 The translocation hard coat resin composition (HAD) may be used diluted with an organic solvent in order to make the system uniform and facilitate coating. Examples of such an organic solvent include alcohol-based solvents, aromatic hydrocarbon-based solvents, ether-based solvents, ester-based solvents, ether ester-based solvents, ketone-based solvents, and phosphoric acid ester-based solvents.

<ガラス転写用反射防止フィルムの形成>
反射防止層は、低屈折率層からなる単層、もしくは低屈折率層及び高屈折率層からなる二層から形成されることが好ましい。
反射防止層が、低屈折率層で形成される場合、該反射防止層は、低屈折率層用樹脂組成物を離型フィルム1上へ塗布し、必要に応じて乾燥した後に、活性エネルギー線照射により硬化することで形成され、これにより離型フィルム1上に低屈折率層単層からなる反射防止層が積層された積層体X1が得られる。離型フィルム1の離型面には、離型性を向上するために、離型材料を塗布することもできる。
反射防止層が、低屈折率層及び高屈折率層からなる二層で形成される場合、該反射防止層は、上記低屈折率層上に、高屈折率層用樹脂組成物を塗布し、必要に応じて乾燥した後に、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。これにより離型フィルム1上に反射防止層が積層された積層体X2が得られる。該積層体X2は、離型フィルム1、低屈折率層、高屈折率層がこの順に積層された積層体X2である。
<Formation of antireflection film for glass transfer>
The antireflection layer is preferably formed of a single layer composed of a low refractive index layer or two layers composed of a low refractive index layer and a high refractive index layer.
When the antireflection layer is formed of a low refractive index layer, the antireflection layer is formed by applying a resin composition for a low refractive index layer onto the release film 1, drying it if necessary, and then using active energy rays. It is formed by curing by irradiation, thereby obtaining a laminated body X1 in which an antireflection layer composed of a single layer having a low refractive index is laminated on the release film 1. A release material may be applied to the release surface of the release film 1 in order to improve the release property.
When the antireflection layer is formed of two layers consisting of a low refractive index layer and a high refractive index layer, the antireflection layer is obtained by applying a resin composition for a high refractive index layer on the low refractive index layer. It is formed by drying, if necessary, and then curing by irradiation with active energy rays. As a result, the laminated body X2 in which the antireflection layer is laminated on the release film 1 is obtained. The laminate X2 is a laminate X2 in which a release film 1, a low refractive index layer, and a high refractive index layer are laminated in this order.

転着ハードコート層は、上記積層体X1又はX2の反射防止層上に、転着ハードコート樹脂組成物を塗布し、必要に応じて乾燥した後に、活性エネルギー線照射により硬化することで形成される。これにより、上記積層体X1又はX2の反射防止層上に転着ハードコート層が形成された積層体Yが得られる。
次いで、最終工程として、積層体Yの転着ハードコート層上に離型フィルム2を貼合することで、ガラス転写用反射防止フィルムが得られる。
The transfer hard coat layer is formed by applying a transfer hard coat resin composition on the antireflection layer of the laminate X1 or X2, drying it if necessary, and then curing it by irradiation with active energy rays. To. As a result, the laminated body Y in which the transfer hard coat layer is formed on the antireflection layer of the laminated body X1 or X2 is obtained.
Next, as a final step, the release film 2 is bonded onto the transfer hard coat layer of the laminated body Y to obtain an antireflection film for glass transfer.

なお、ガラス転写用反射防止フィルムをガラスへ転写する際は、離型フィルム2を剥離した後、転着ハードコート層面をガラスへ貼合する。その後、加熱処理を行い、離型フィルム1を剥離することで、ガラス上へ各種機能を転写することが可能となる。その為、離型フィルム1と低屈折率層界面の剥離力をR1、離型フィルム2と転着ハードコート層界面の剥離力をR2とした場合、R1>R2の関係となることが好ましい。 When transferring the antireflection film for glass transfer to glass, the release film 2 is peeled off, and then the transfer hard coat layer surface is bonded to the glass. After that, heat treatment is performed to peel off the release film 1, so that various functions can be transferred onto the glass. Therefore, when the peeling force at the interface between the release film 1 and the low refractive index layer is R1 and the peeling force at the interface between the release film 2 and the transfer hard coat layer is R2, it is preferable that the relationship is R1> R2.

また、離型フィルム2を剥離した際、転着ハードコート層の層内ネットワークが不十分な場合、離型フィルム2へ転着ハードコート層成分が残る可能性があるため、転着ハードコート樹脂組成物は、適切に設計する必要がある。 Further, when the release film 2 is peeled off, if the intra-layer network of the transfer hard coat layer is insufficient, the transfer hard coat layer component may remain on the release film 2, so that the transfer hard coat resin The composition needs to be properly designed.

低屈折率層用樹脂組成物、高屈折率層用樹脂組成物および転着ハードコート樹脂組成物の塗布方法としては、特に制限されず、例えば、ロールコート法、スピンコート法、ディップコート法、スプレーコート法、バーコート法、ナイフコート法、ダイコート法、インクジェット法、グラビアコート法等、公知のいかなる塗布方法も採用できる。 The coating method of the resin composition for a low refractive index layer, the resin composition for a high refractive index layer, and the transfer hard coat resin composition is not particularly limited, and for example, a roll coating method, a spin coating method, a dip coating method, etc. Any known coating method such as a spray coating method, a bar coating method, a knife coating method, a die coating method, an inkjet method, and a gravure coating method can be adopted.

転着ハードコート層上に離型フィルム2を貼合する方法としては、公知の技術の使用で問題ないが、特にローラーの押圧で貼合する方法が好ましい。転着ハードコート層の層内ネットワークが不十分な場合、貼合時、または、ロールtoロールで巻形状として保管する際、接着層のはみ出しが生じる可能性があるため、転着ハードコート樹脂組成物は、適切に設計する必要がある。 As a method of laminating the release film 2 on the transfer hard coat layer, there is no problem in using a known technique, but a method of laminating by pressing a roller is particularly preferable. If the intra-layer network of the transfer hard coat layer is insufficient, the adhesive layer may protrude when bonded or stored as a roll-to-roll shape. Therefore, the transfer hard coat resin composition Things need to be designed properly.

活性エネルギー線としては、UV(紫外線)やEB(電子線)などが挙げられる。光照射量は、150〜1000mJ/cm程度必要であり、窒素雰囲気下においては、光照射量を、100mJ/cm程度まで少なくすることが可能となる。 Examples of the active energy ray include UV (ultraviolet ray) and EB (electron beam). Light irradiation amount is required about 150~1000mJ / cm 2, in a nitrogen atmosphere, the light irradiation amount, it is possible to reduce to about 100 mJ / cm 2.

本発明のガラス転写用反射防止フィルムを製造する各工程は、生産性が大幅に向上するロールtoロール方式であることが好ましい。ロールtoロール方式とは、枚葉式のように個別に切り離された支持体を用いるのではなく、ロール状に巻いた長尺のフィルム支持体を繰り出しながら、塗布や乾燥、硬化、貼合を連続的に行い、再びロールに巻き取る搬送方式をいう。すべての工程をつなげてもよいが、工程ごとの加工時間が異なる場合は必要に応じて工程ごとに繰り出し、巻き取りをした方が生産性が高くなる。 Each step of producing the antireflection film for glass transfer of the present invention is preferably a roll-to-roll method in which productivity is significantly improved. The roll-to-roll method does not use individually separated supports as in the single-wafer method, but applies, dries, cures, and bonds while feeding out a long film support wound in a roll shape. A transport method in which the film is continuously wound up on a roll. All the processes may be connected, but if the processing time for each process is different, it is more productive to unwind and wind each process as needed.

本発明のガラス転写成型品は、ガラス基材のガラス面上に離型フィルム1および2の剥離物からなる加熱成型物の層を有する。加熱成型物は、反射防止層及び転着ハードコート層とからなる加熱された積層体である。具体的に本発明のガラス転写成型品を得る方法としては、本発明のガラス転写用反射防止フィルムから離型フィルム2を剥離した後、該離型フィルム2が剥離されたガラス転写用反射防止フィルムを、転着ハードコート層とガラス面とを対向させて、ガラス面に転写し、ベースフィルムである離型フィルム1を剥離する手法が挙げられる。転写法としては、例えば、熱プレスが使用できる。より具体的には、転着ハードコート層表面を、ガラス基材のガラス面に接触させ、加熱をすることでガラス基材と接着させる。その後離型フィルム1を剥離する。熱プレスに用いる装置は、連続式又は枚葉式のいずれでも構わないが、気泡混入による歩留まり低下を回避するため、枚葉式の真空熱プレス機を用いることが好ましく、生産性を向上させるためには大気圧下でのロールラミネータ―が使用できる。 The glass transfer molded product of the present invention has a layer of a heat-molded product made of a release product of the release films 1 and 2 on the glass surface of the glass base material. The heat-molded product is a heated laminate composed of an antireflection layer and a transfer hard coat layer. Specifically, as a method for obtaining the glass transfer molded product of the present invention, the release film 2 is peeled from the antireflection film for glass transfer of the present invention, and then the release film 2 is peeled off from the antireflection film for glass transfer. Is transferred to the glass surface with the transferred hard coat layer and the glass surface facing each other, and the release film 1 which is the base film is peeled off. As the transfer method, for example, a hot press can be used. More specifically, the surface of the transferred hard coat layer is brought into contact with the glass surface of the glass base material and heated to adhere to the glass base material. After that, the release film 1 is peeled off. The device used for the hot press may be either a continuous type or a single-wafer type, but in order to avoid a decrease in yield due to air bubble mixing, it is preferable to use a single-wafer type vacuum heat press machine to improve productivity. A roll laminator under atmospheric pressure can be used for.

加熱温度としては、100℃〜180℃が好ましい。この温度範囲内であれば、多官能チオール化合物と多官能エポキシ化合物がうまく結合し、離型フィルムの軟化は問題とならない。さらに、加熱が必要な場合は、離型フィルム1を剥離した後、再度加熱することも可能である。その際の加熱温度としては、100℃〜250℃が好ましい。
被着体である、ガラス基材としては、例えば、アルカリガラス、無アルカリガラス、熱強化ガラス又は化学強化ガラスが挙げられるが、タッチパネルのカバーガラスとして広く用いられている、化学強化ガラスが好ましい。ここで化学強化ガラスとは、化学的な処理によってガラス表面のナトリウムイオンをカリウムイオンに置き換える等して、硬度等の機械的物性を向上させたガラスをいう。
The heating temperature is preferably 100 ° C. to 180 ° C. Within this temperature range, the polyfunctional thiol compound and the polyfunctional epoxy compound are well bonded, and the softening of the release film does not matter. Further, when heating is required, it is also possible to peel off the release film 1 and then heat it again. The heating temperature at that time is preferably 100 ° C. to 250 ° C.
Examples of the glass substrate as the adherend include alkaline glass, non-alkali glass, heat-tempered glass, and chemically tempered glass, and chemically strengthened glass, which is widely used as a cover glass for a touch panel, is preferable. Here, the chemically strengthened glass refers to glass whose mechanical properties such as hardness are improved by replacing sodium ions on the glass surface with potassium ions by chemical treatment.

以下に、実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。
〔低屈折率層用樹脂組成物の調製〕
低屈折率層用樹脂組成物(L−1〜L−5)を、表1に示す種類及び量の各成分を混合して得た。次いで、各組成物に対して、固形分濃度が5質量%となるようにMEK(メチルエチルケトン)を混合して低屈折率層用塗液を得た。表1中に示す各成分の種類は、次の通りである。
Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to Examples and Comparative Examples.
[Preparation of resin composition for low refractive index layer]
A resin composition for a low refractive index layer (L-1 to L-5) was obtained by mixing each component of the type and amount shown in Table 1. Next, MEK (methyl ethyl ketone) was mixed with each composition so that the solid content concentration was 5% by mass to obtain a coating liquid for a low refractive index layer. The types of each component shown in Table 1 are as follows.

(活性エネルギー線硬化型樹脂(Lb))
α−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
α−2:ウレタンアクリレート化合物、日本合成化学工業(株)製「UV−7630B」(商品名)、分子量(Mw)2200、官能基数6、
α―3:フッ素含有アクリレート化合物、共栄社化学(株)製「LINK−162A」(商品名)、官能基数2、
α―4:エポキシアクリレート化合物、共栄社化学(株)製「エポキシエステル200PA」(商品名)、官能基数2、
(中空微粒子)
β−1:粒子径60nmのシランカップリング処理済み中空シリカ微粒子、日揮触媒化成(株)製「スルーリア4320」(商品名)、屈折率1.25
β−2:粒子径70nmのシランカップリング処理済中空シリカ微粒子、日揮触媒化成(株)製「スルーリア5320」(商品名)、屈折率1.20
(光開始剤)
γ−1:1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「IRGACURE184」(商品名)
(Active energy ray-curable resin (Lb))
α-1: Dipentaerythritol hexaacrylate α-2: Urethane acrylate compound, "UV-7630B" (trade name) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight (Mw) 2200, number of functional groups 6,
α-3: Fluorine-containing acrylate compound, "LINK-162A" (trade name) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., number of functional groups 2,
α-4: Epoxy acrylate compound, "Epoxy ester 200PA" (trade name) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., number of functional groups 2,
(Hollow fine particles)
β-1: Hollow silica fine particles with a particle diameter of 60 nm and silane coupling treatment, "Thruria 4320" (trade name) manufactured by Nikki Catalyst Kasei Co., Ltd., refractive index 1.25
β-2: Silane-coupled hollow silica fine particles with a particle diameter of 70 nm, "Thruria 5320" (trade name) manufactured by Nikki Catalyst Kasei Co., Ltd., refractive index 1.20
(Light initiator)
γ-1: 1-Hydroxycyclohexyl-phenylketone, "IRGACURE184" manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. (trade name)

〔高屈折率層用樹脂組成物の調製〕
高屈折率層用樹脂組成物(H−1、H−2)を、表2に示す種類及び量の各成分を混合して得た。次いで、各組成物に対して、固形分濃度が5質量%となるようにMEKを混合して高屈折率層用塗液得た。表2中に示す各具体的材料は、次の通りである。
(活性エネルギー線硬化型樹脂(Hb))
α−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート
α−2:ウレタンアクリレート、日本合成化学工業(株)製「UV−7630B」、分子量(Mw)2200、官能基数6
(高屈折率微粒子)
ε−1:ITO微粒子、屈折率1.8(平均粒子径:0.06μm)
(光開始剤)
γ−1:1−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「IRGACURE184」(商品名)
[Preparation of resin composition for high refractive index layer]
A resin composition for a high refractive index layer (H-1, H-2) was obtained by mixing each component of the type and amount shown in Table 2. Next, MEK was mixed with each composition so that the solid content concentration was 5% by mass to obtain a coating liquid for a high refractive index layer. The specific materials shown in Table 2 are as follows.
(Active energy ray-curable resin (Hb))
α-1: Dipentaerythritol hexaacrylate α-2: Urethane acrylate, "UV-7630B" manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight (Mw) 2200, number of functional groups 6
(High refractive index fine particles)
ε-1: ITO fine particles, refractive index 1.8 (average particle diameter: 0.06 μm)
(Light initiator)
γ-1: 1-Hydroxycyclohexyl-phenylketone, "IRGACURE184" manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. (trade name)

〔転着ハードコート樹脂組成物の調製〕
転着ハードコート樹脂組成物(HAD−1〜HAD−9、HAD’−1〜HAD’−8)を、表3、4に示す種類及び量の各成分を混合して得た。次いで、各組成物に対して、固形分濃度が20質量%となるようにメチルイソブチルケトン(MIBK)を混合して転着ハードコート層用塗液を得た。表3、4中に示す各具体的材料は、次の通りである。
(多官能チオール化合物(a))
a−1:ジペンタエリスリトールヘキサキス(3−メルカプトプロピオネート)
a−2:トリメチロールプロパントリス(3−メルカプトプロピオネート)
a−3:トリス−[(3−メルカプトプロピオニルオキシ)−エチル]−イソシアヌレート
[Preparation of Transfer Hard Coat Resin Composition]
A translocation hard coat resin composition (HAD-1 to HAD-9, HAD'-1 to HAD'-8) was obtained by mixing the components of the types and amounts shown in Tables 3 and 4. Next, methyl isobutyl ketone (MIBK) was mixed with each composition so that the solid content concentration was 20% by mass to obtain a coating liquid for a transfer hard coat layer. The specific materials shown in Tables 3 and 4 are as follows.
(Polyfunctional thiol compound (a))
a-1: Dipentaerythritol hexakis (3-mercaptopropionate)
a-2: Trimethylolpropane tris (3-mercaptopropionate)
a-3: Tris-[(3-mercaptopropionyloxy) -ethyl] -isocyanurate

(活性エネルギー線硬化型樹脂(b))
b−1:ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、官能基数6
b−2:ウレタンアクリレート、日本合成化学工業(株)製「UV−7630B」(商品名)、分子量(Mw)2200、官能基数6
b―3:アクリル酸変性トリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、共栄社化学(株)製「エポキシエステル200PA」(商品名)、官能基数2
b―4:ジエチレングルコールジメタクリレート、共栄社化学(株)製「ライトエステル2EG」(商品名)、官能基数2
(活性エネルギー線硬化型樹脂以外の樹脂)
b’−1:スチレン・メタアクリルポリマー、三菱レイヨン(株)製「ダイヤナール BR−50」(商品名)、重量平均分子量65,000
(多官能エポキシ化合物(c))
c−1:リン酸変性ビスフェノールA型エポキシ樹脂、(株)ADEKA製「アデカレジン EP−49−10N」(商品名)、エポキシ当量220g/eq
c−2:ビスフェノールA型液状エポキシ樹脂、三菱化学(株)製「jER 828EL」(商品名)、エポキシ当量190g/eq
(光開始剤)
d−1:1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、チバ・スペシャリティ・ケミカルズ(株)製「IRGACURE184」(商品名)
(エポキシ硬化触媒)
e−1:イミダゾール/アルキル尿素変性物、(株)ADEKA製「アデカハードナーEH−3366S」(商品名)
(Active energy ray-curable resin (b))
b-1: Dipentaerythritol hexaacrylate, number of functional groups 6
b-2: Urethane acrylate, "UV-7630B" (trade name) manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd., molecular weight (Mw) 2200, number of functional groups 6
b-3: Acrylic acid-modified tripropylene glycol diglycidyl ether, "Epoxy ester 200PA" (trade name) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., number of functional groups 2
b-4: Diethylene glycol dimethacrylate, "Light Ester 2EG" (trade name) manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., number of functional groups 2
(Resin other than active energy ray-curable resin)
b'-1: Styrene / methacrylic polymer, "Dianal BR-50" (trade name) manufactured by Mitsubishi Rayon Co., Ltd., weight average molecular weight 65,000
(Polyfunctional epoxy compound (c))
c-1: Phosphoric acid-modified bisphenol A type epoxy resin, "ADEKA RESIN EP-49-10N" (trade name) manufactured by ADEKA Corporation, epoxy equivalent 220 g / eq
c-2: Bisphenol A type liquid epoxy resin, "jER 828EL" (trade name) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation, epoxy equivalent 190 g / eq
(Light initiator)
d-1: 1-Hydroxycyclohexylphenylketone, "IRGACURE184" manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. (trade name)
(Epoxy curing catalyst)
e-1: Imidazole / alkylurea modified product, "ADEKA Hardener EH-3366S" manufactured by ADEKA Corporation (trade name)

<ガラス転写用反射防止フィルムの製造>
(実施例1)
<Manufacturing of antireflection film for glass transfer>
(Example 1)

離型フィルム1(PET1)[商品名:E7002,膜厚:50μm,東洋紡(株)製]の離型層面に、低屈折率用樹脂組成物(L−1)を溶媒(メチルエチルケトン)で5質量%に希釈した低屈折率層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が90nmとなるように塗布し、120W高圧水銀灯にて50mJの紫外線を照射して硬化させることにより離型フィルム1上に反射防止層(低屈折率層)が形成された積層体X1を得た。 On the release layer surface of the release film 1 (PET1) [trade name: E7002, film thickness: 50 μm, manufactured by Toyo Boseki Co., Ltd.], 5 mass of the resin composition for low refractive index (L-1) was added to the solvent (methyl ethyl ketone). A coating liquid for a low refractive index layer diluted to% is applied with a bar coater so that the film thickness after curing is 90 nm, and the release film 1 is cured by irradiating with ultraviolet rays of 50 mJ with a 120 W high-pressure mercury lamp. A laminate X1 having an antireflection layer (low refractive index layer) formed on it was obtained.

続いて、前記積層体X1の反射防止層(低屈折率層)上に、転着ハードコート樹脂組成物(HAD−1)を溶媒(メチルイソブチルケトン)で20質量%に希釈した転着ハードコート層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が5μmとなるように塗布し、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させて、上記積層体X1の反射防止層上に転着ハードコート層が形成された積層体Yを得た。ついで、離型フィルム2[商品名:E7002,膜厚:50μm,東洋紡(株)製]の離型層面が転着ハードコート層面と対向するように貼合することにより実施例1のガラス転写用反射防止フィルムを作製した。 Subsequently, a transfer hard coat resin composition (HAD-1) diluted to 20% by mass with a solvent (methyl isobutyl ketone) on the antireflection layer (low refractive index layer) of the laminate X1. The layer coating liquid is applied with a bar coater so that the film thickness after curing is 5 μm, and is cured by irradiating 400 mJ of ultraviolet rays with a 120 W high-pressure mercury lamp, and then transferred onto the antireflection layer of the laminate X1. A laminate Y on which a wearing hard coat layer was formed was obtained. Then, the release layer surface of the release film 2 [trade name: E7002, film thickness: 50 μm, manufactured by Toyobo Co., Ltd.] is bonded so as to face the transfer hard coat layer surface for glass transfer of Example 1. An antireflection film was prepared.

(実施例2〜9、比較例1〜8)
低屈折率用樹脂組成物および転着ハードコート樹脂組成物の種類、各層の膜厚を表5、6に記載した材料、膜厚とした以外は、実施例1と同様にして、ガラス転写用反射防止フィルムを作製した。
(Examples 2-9, Comparative Examples 1-8)
For glass transfer in the same manner as in Example 1 except that the types of the resin composition for low refractive index and the transfer hard coat resin composition and the film thickness of each layer are the materials and film thicknesses shown in Tables 5 and 6. An antireflection film was prepared.

(実施例10)
低屈折率層用樹脂組成物(L−1)を用いて硬化後の膜厚が100nmになるように調整した以外は、実施例1と同様にして、離型フィルム1上に、低屈折率層からなる反射防止層が形成された積層体X1を得た。次いで該積層体X1の低屈折率層上に高屈折率層用樹脂組成物(H−1)を溶媒(メチルエチルケトン)で5質量%に希釈した高屈折率層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が90nmになるように塗布し、120W高圧水銀灯にて50mJの紫外線を照射して硬化させることにより高屈折率層を作製し、離型フィルム1上に、低屈折率層及び高屈折率層からなる反射防止層が形成された積層体X2を得た。
(Example 10)
The low refractive index was placed on the release film 1 in the same manner as in Example 1 except that the film thickness after curing was adjusted to 100 nm using the resin composition for a low refractive index layer (L-1). A laminated body X1 having an antireflection layer composed of layers was obtained. Next, a coating liquid for a high refractive index layer obtained by diluting the resin composition for a high refractive index layer (H-1) with a solvent (methyl ethyl ketone) to 5% by mass on the low refractive index layer of the laminate X1 was cured with a bar coater. A high refractive index layer is prepared by applying the film so that the subsequent film thickness is 90 nm and irradiating with an ultraviolet ray of 50 mJ with a 120 W high-pressure mercury lamp to cure the film, and the low refractive index layer and the high refractive index layer are formed on the release film 1. A laminated body X2 having an antireflection layer composed of a refractive index layer was obtained.

続いて、前記積層体X2の反射防止層上に、転着ハードコート樹脂組成物(HAD−1)を溶媒(メチルイソブチルケトン)で20質量%に希釈した転着ハードコート層用塗液をバーコーターにて硬化後の膜厚が1μmとなるように塗布し、120W高圧水銀灯にて400mJの紫外線を照射して硬化させて、上記積層体X2の反射防止層上に転着ハードコート層が形成された積層体Yを得た。ついで、離型フィルム2[商品名:E7002,膜厚:50μm,東洋紡(株)製]の離型層面が転着ハードコート層面と対向するように貼合することにより実施例10のガラス転写用反射防止フィルムを作製した。 Subsequently, on the antireflection layer of the laminate X2, a coating liquid for a transfer hard coat layer obtained by diluting the transfer hard coat resin composition (HAD-1) with a solvent (methyl isobutyl ketone) to 20% by mass is applied. It is applied with a coater so that the film thickness after curing is 1 μm, and is cured by irradiating 400 mJ of ultraviolet rays with a 120 W high-pressure mercury lamp to form a transfer hard coat layer on the antireflection layer of the laminate X2. The laminated body Y was obtained. Then, the release layer surface of the release film 2 [trade name: E7002, film thickness: 50 μm, manufactured by Toyobo Co., Ltd.] is bonded so as to face the transfer hard coat layer surface for glass transfer of Example 10. An antireflection film was prepared.

(実施例11)
低屈折率層用樹脂組成物、高屈折率層用樹脂組成物および転着ハードコート樹脂組成物の種類、各層の膜厚を表5に記載した材料、膜厚とした以外は、実施例10と同様にして、ガラス転写用反射防止フィルムを作製した。
(Example 11)
Example 10 except that the types of the resin composition for a low refractive index layer, the resin composition for a high refractive index layer, and the transposed hard coat resin composition, and the film thickness of each layer are the materials and film thicknesses shown in Table 5. In the same manner as above, an antireflection film for glass transfer was produced.

上記の通り得られた各実施例及び比較例のガラス転写用反射防止フィルムについて、剥離性、転着ハードコート層はみだし評価を下記方法で実施した。 The antireflection film for glass transfer of each of the examples and the comparative examples obtained as described above was evaluated for peelability and transfer hard coat layer protrusion by the following method.

[剥離性評価]
ガラス転写用反射防止フィルムから離型フィルム2を剥離し、離型フィルム2の離型面における、転着ハードコート樹脂組成物の転写物の有無を目視で評価した。
○:転着ハードコート樹脂組成物の転写物が目視できない。
×:転着ハードコート樹脂組成物の転写物が目視できる。
[転着ハードコート層はみだし評価]
縦3cm、横3cmの正方形にカットしたガラス転写用反射防止フィルムを20枚重ね、ガラス板上に設置した。その後、転写フィルム上にガラス板を設置し、さらに、ガラス板上に、1kgの荷重を設置し、60℃23日間静置した。
○:端部より転着ハードコート層のはみ出しが観察されない。
×:端部に転着ハードコート層のはみ出しが観測される。
[Evaluation of peelability]
The release film 2 was peeled off from the antireflection film for glass transfer, and the presence or absence of a transferred product of the transferred hard coat resin composition on the release surface of the release film 2 was visually evaluated.
◯: The transferred product of the transferred hard coat resin composition cannot be visually recognized.
X: The transferred product of the transferred hard coat resin composition can be visually recognized.
[Evaluation of the transfer hard coat layer protruding]
Twenty antireflection films for glass transfer cut into squares having a length of 3 cm and a width of 3 cm were stacked and installed on a glass plate. Then, a glass plate was placed on the transfer film, a load of 1 kg was placed on the glass plate, and the mixture was allowed to stand at 60 ° C. for 23 days.
◯: No protrusion of the transferred hard coat layer is observed from the end.
X: Overhang of the transferred hard coat layer is observed at the end.

<ガラス転写成型品の製造>
上記の通り製造した実施例および比較例のガラス転写用反射防止フィルムについて、離型フィルム2を剥離し、転着ハードコート層面をハンドローラーにてガラスへ貼合した。その後、150℃60分加熱し、離型フィルム1を剥離することで、ガラス面上に、ガラス転写用反射防止フィルムの離型フィルム1、2の剥離物からなる加熱成型物の層を有するガラス転写成型品を作製した。
なお、比較例1,2,4,7,8については、剥離性が悪くガラス転写成型品の作製に至らなかった。
<Manufacturing of glass transfer molded products>
With respect to the antireflection films for glass transfer of Examples and Comparative Examples manufactured as described above, the release film 2 was peeled off, and the transfer hard coat layer surface was bonded to the glass with a hand roller. Then, by heating at 150 ° C. for 60 minutes and peeling off the release film 1, a glass having a layer of a heat-molded product composed of peeled materials of the release films 1 and 2 of the antireflection film for glass transfer on the glass surface. A transfer molded product was produced.
In Comparative Examples 1, 2, 4, 7, and 8, the peelability was poor and a glass transfer molded product could not be produced.

(比較例9)
本比較例では、粘着層付き反射防止フィルムを、本発明のガラス転写用反射防止フィルムに代えて用いて、ガラス貼合成型品を作製した。
低屈折率層用樹脂組成物(L−1)を溶媒(メチルエチルケトン)で5質量%に希釈した低屈折率層用塗液を、透明基材フィルムとして厚み100μmのポリエチレンテレフタレート(PET)フィルム上にバーコーターにて硬化後の膜厚が90nmとなるように塗布し、120W高圧水銀灯にて500mJの紫外線を照射して硬化させることにより低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
次に、反射防止フィルムの低屈折率層とは反対側の面に、厚み25μの粘着層を形成し、粘着層を介してガラスへ貼合し、ガラス貼合成型品を作製した。
得られたガラス転写成型品およびガラス貼合成型品について、ゆがみ評価、最小反射率、鉛筆硬度、密着性、転写性を下記方法で評価した。
(Comparative Example 9)
In this comparative example, an antireflection film with an adhesive layer was used in place of the antireflection film for glass transfer of the present invention to prepare a glass-coated synthetic type product.
A coating liquid for a low refractive index layer obtained by diluting the resin composition for a low refractive index layer (L-1) with a solvent (methyl ethyl ketone) to 5% by mass is applied as a transparent base film on a polyethylene terephthalate (PET) film having a thickness of 100 μm. A low refractive index layer was formed by applying a bar coater so that the film thickness after curing was 90 nm and irradiating with an ultraviolet ray of 500 mJ with a 120 W high-pressure mercury lamp to cure the film, thereby producing an antireflection film.
Next, an adhesive layer having a thickness of 25 μm was formed on the surface of the antireflection film opposite to the low refractive index layer, and bonded to glass via the adhesive layer to prepare a glass-bonded synthetic product.
The obtained glass transfer molded product and glass-pasted synthetic type product were evaluated for distortion, minimum reflectance, pencil hardness, adhesion, and transferability by the following methods.

[ゆがみ評価]
ガラス転写成型品およびガラス貼合成型品を目視で確認し、歪みの有無を評価した。
○:歪みが確認出来ない。
×:歪みが確認出来る。
[最小反射率]
ガラス転写成型品およびガラス貼合成型品の裏面反射を防ぐため、裏面を黒色塗料で塗り潰したものを分光光度計[日本分光(株)製、商品名:U−best560]により、光の波長380nm〜780nmの5°、−5°正反射スペクトルを測定した。得られた反射スペクトルより、最小反射率(%)を読み取った。
[Distortion evaluation]
The glass transfer molded product and the glass-pasted synthetic type product were visually confirmed and the presence or absence of distortion was evaluated.
◯: Distortion cannot be confirmed.
×: Distortion can be confirmed.
[Minimum reflectance]
In order to prevent backside reflection of glass transfer molded products and glass-pasted synthetic products, the back side is painted with black paint and the wavelength of light is 380 nm using a spectrophotometer [manufactured by JASCO Corporation, trade name: U-best560]. 5 ° and −5 ° specular spectra at ~ 780 nm were measured. The minimum reflectance (%) was read from the obtained reflection spectrum.

[鉛筆硬度]
JISK5600に準拠して鉛筆で引っかき試験を行った。なお、鉛筆硬度における硬度は、硬度が高い順に3H、2H、H、F、HBである。
[密着性]
JIS D0202−1998に準拠して碁盤目剥離テープ試験を行った。評価は、ガラスから剥がれが生じなかったマス目の割合により評価した。例えば100/100は100マス目のうちのすべてが剥がれなかったことを示し、0/100は100マス目にうちすべてが剥がれたことを意味する。
[転写性]
ガラス転写成型品を目視で確認し、転写不良および気泡の有無を確認した。
○:転写不良および気泡がいずれも確認出来ない。
×:転写不良および気泡のいずれかが確認出来る。
[Pencil hardness]
A scratch test was conducted with a pencil in accordance with JIS K5600. The hardness of the pencil is 3H, 2H, H, F, and HB in descending order of hardness.
[Adhesion]
A grid peeling tape test was performed in accordance with JIS D0202-1998. The evaluation was based on the percentage of squares that did not peel off from the glass. For example, 100/100 means that all of the 100th squares were not peeled off, and 0/100 means that all of the 100th squares were peeled off.
[Transferability]
The glass transfer molded product was visually confirmed to confirm transfer defects and the presence or absence of air bubbles.
◯: No transfer failure or air bubbles can be confirmed.
X: Either transfer failure or air bubbles can be confirmed.

表5の結果から、実施例1〜11について、本発明に用いる転着ハードコート樹脂組成物は、剥離性に異常なく、荷重をかけた場合においても、転着ハードコート層のはみだしはないことを確認出来た。さらに本発明に用いる転着ハードコート樹脂組成物を用いて得られたガラス転写成型品は、ゆがみ、最小反射率、鉛筆硬度、密着性、転写性に優れる結果となった。 From the results in Table 5, regarding Examples 1 to 11, the transferable hard coat resin composition used in the present invention has no abnormality in peelability, and even when a load is applied, the transfer hard coat layer does not protrude. I was able to confirm. Further, the glass transfer molded product obtained by using the translocation hard coat resin composition used in the present invention was excellent in distortion, minimum reflectance, pencil hardness, adhesion and transferability.

一方、表6の結果から、比較例1、2では、転着ハードコート樹脂組成物中の多官能チオール化合物の含有量が少なく、剥離性、接着層はみだし評価が悪い結果となった。比較例4は、転着ハードコート樹脂組成物中の活性エネルギー線硬化型樹脂の含有量が少なく、剥離性、接着層はみだし評価が悪い結果となった。比較例7は、転着ハードコート樹脂組成物中の多官能エポキシ化合物(c)の含有量が多く、剥離性、接着層はみだし評価が悪い結果となった。比較例8は、転着ハードコート樹脂組成物として、活性エネルギー線硬化型樹脂の代わりにアクリルポリマーを使用した結果、剥離性、接着層はみだし評価が悪い結果となった。 On the other hand, from the results in Table 6, in Comparative Examples 1 and 2, the content of the polyfunctional thiol compound in the transposed hard coat resin composition was small, and the peelability and the adhesive layer were poorly evaluated. In Comparative Example 4, the content of the active energy ray-curable resin in the translocation hard coat resin composition was small, and the peelability and the adhesive layer were poorly evaluated. In Comparative Example 7, the content of the polyfunctional epoxy compound (c) in the translocated hard coat resin composition was large, and the results were poor in peelability and adhesion layer protrusion evaluation. In Comparative Example 8, as a result of using an acrylic polymer instead of the active energy ray-curable resin as the translocation hard coat resin composition, the peelability and the adhesive layer protruding were poorly evaluated.

さらに、比較例3では、転着ハードコート樹脂組成物中の多官能チオール化合物の含有量が多いため、鉛筆硬度が悪い結果となった。比較例5では、転着ハードコート樹脂組成物中の活性エネルギー線硬化型樹脂の含有量が多く、ガラスへの密着性が悪い結果となった。比較例6は、転着ハードコート樹脂組成物中の多官能エポキシ化合物(c)の含有量が少なく、ガラスへの密着性が悪い結果となった。比較例9では、本発明のガラス転写用反射防止フィルムに代えて、粘着層付き反射防止フィルムを用いたガラス貼合成型品では、粘着層に起因した歪みが発生し、視認性が悪い結果となった。 Further, in Comparative Example 3, since the content of the polyfunctional thiol compound in the translocated hard coat resin composition was large, the pencil hardness was poor. In Comparative Example 5, the content of the active energy ray-curable resin in the translocation hard coat resin composition was high, resulting in poor adhesion to glass. In Comparative Example 6, the content of the polyfunctional epoxy compound (c) in the translocated hard coat resin composition was small, resulting in poor adhesion to glass. In Comparative Example 9, in the glass-coated synthetic type product using the antireflection film with an adhesive layer instead of the antireflection film for glass transfer of the present invention, distortion due to the adhesive layer occurs, resulting in poor visibility. became.

Claims (2)

離型フィルム1上に、反射防止層、転着ハードコート層、離型フィルム2がこの順で積層されており、
前記転着ハードコート層は、転着ハードコート樹脂組成物(HAD)の光硬化物からなる層である、ガラス転写用反射防止フィルムであって、
前記転着ハードコート樹脂組成物(HAD)は下記の(a)〜(c)成分を含有し、(a)〜(c)成分の合計を100質量%として、(a)成分の含有量が1〜12質量%、(b)成分の含有量が15〜48質量%、および(c)成分の含有量が48〜81質量%である、ガラス転写用反射防止フィルム。
(a)多官能チオール化合物
(b)活性エネルギー線硬化型樹脂
(c)多官能エポキシ化合物
An antireflection layer, a transfer hard coat layer, and a release film 2 are laminated in this order on the release film 1.
The transfer hard coat layer is an antireflection film for glass transfer, which is a layer made of a photocured product of a transfer hard coat resin composition (HAD).
The transposed hard coat resin composition (HAD) contains the following components (a) to (c), and the content of the component (a) is 100% by mass as a total of the components (a) to (c). An antireflection film for glass transfer, which comprises 1 to 12% by mass, the content of the component (b) is 15 to 48% by mass, and the content of the component (c) is 48 to 81% by mass.
(A) Polyfunctional thiol compound (b) Active energy ray-curable resin (c) Polyfunctional epoxy compound
ガラス面上に、請求項1に記載のガラス転写用反射防止フィルムの離型フィルム1及び2の剥離物からなる加熱成型物の層を有するガラス転写成型品。 A glass transfer molded product having a layer of a heat-molded product composed of a release product of the release films 1 and 2 of the antireflection film for glass transfer according to claim 1 on a glass surface.
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