JP2020147479A - 誘電体組成物および電子部品 - Google Patents

Abstract

【課題】高周波領域において比誘電率εrおよび品質係数Ｑ値が高い誘電体組成物を提供すること。【解決手段】ビスマスと亜鉛とニオブとを含む複合酸化物を有する誘電体組成物であって、複合酸化物が、ビスマスと亜鉛とニオブとを含みパイロクロア型結晶構造を有する結晶相と、ビスマスと亜鉛とニオブとを含むアモルファス相と、を有し、複合酸化物を組成式ＢｉｘＺｎｙＮｂｚＯ１．７５＋δで表した場合、ｘ、ｙおよびｚは、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１．００、０．１０≦ｙ＜０．２０、３／５≦ｘ／ｚ＜１０／７である関係を満足する誘電体組成物である。【選択図】図２

Description

本発明は、誘電体組成物および電子部品に関する。

スマートフォンに代表される移動体通信機器の高性能化に対する要求は高く、たとえば、高速で大容量の通信を可能とするために、使用する周波数領域の数も増加している。使用する周波数領域はＧＨｚ帯のような高周波領域である。このような高周波領域において作動するバラン、カプラ、フィルタ、あるいは、フィルタを組み合わせたデュプレクサ、ダイプレクサ等の高周波部品のなかには、誘電体材料を共振器として利用しているものがある。このような誘電体材料には、高周波領域において、誘電損失が小さく、周波数の選択性が良好であることが求められる。

また、移動体通信機器の高性能化に伴い、１つの移動体通信機器に搭載される電子部品の数も増加する傾向にあり、移動体通信機器のサイズを維持するには、電子部品の小型化も同時に求められる。誘電体材料を用いる高周波部品を小型化するには、電極面積を小さくする必要があるため、これによる静電容量の低下を補うべく、高周波領域において、誘電体材料の比誘電率が高いことが求められる。

したがって、高周波領域において使用される高周波部品に適用される誘電体材料には、高周波領域において、誘電損失が小さく、比誘電率が高いことが要求される。誘電損失の逆数は、品質係数Ｑ値として表すことができるので、換言すれば、高周波領域において比誘電率および品質係数Ｑ値が高い誘電体材料が望まれている。

従来、高周波数領域において高い誘電率を持つ材料としてはＢｉ−Ｚｎ−Ｎｂ−Ｏ系酸化物が知られている。たとえば、特許文献１には、Ｂｉ_３ＮｂＯ_７相とＢｉ_２（Ｚｎ_２／３Ｎｂ_４／３）Ｏ_７相との混合物から構成される焼結体が開示されている。また、特許文献２には、パイロクロア型結晶構造の第１結晶相とβ−ＢｉＮｂＯ_４型結晶構造の第２結晶相との混合物から構成される誘電体薄膜が開示されている。また、非特許文献１には、組成式（Ｂｉ_３ｘＺｎ_２−３ｘ）（Ｚｎ_ｘＮｂ_２−ｘ）Ｏ_７で表され、ｘが０．５または２／３である誘電体薄膜が開示されている。

特表２００９−５３７４４４号公報 国際公開第２０１６／０１３４１６号

Wei Ren et al., "Bismuth zinc niobate pyrochlore dielectric thin films for capacitive applications", Journal of Applied Physics 89, 767 (2001)

特許文献１では、Ｂｉ_３ＮｂＯ_７相およびＢｉ_２（Ｚｎ_２／３Ｎｂ_４／３）Ｏ_７相が１：１で混合された焼結体について、比誘電率は１００未満、１ＧＨｚにおける誘電品質係数Ｑは１０００程度であることが記載されている。しかしながら、特許文献１に開示された誘電体は焼結体であり、これらの誘電特性を示すには、十分な体積を有する焼結体とする必要があり、高周波領域において使用される高周波部品に適用される誘電体材料としてはサイズが大きすぎるという問題があった。

また、特許文献２では、パイロクロア型結晶構造の第１結晶相とβ−ＢｉＮｂＯ_４型結晶構造の第２結晶相との混合物から構成される薄膜について、１Ｈｚ〜１００ｋＨｚにおける比誘電率は１５０程度であることが記載されている。しかしながら、特許文献２では、高周波領域におけるＱ値については何ら評価されておらず、高周波領域における誘電特性は十分ではなかった。

また、非特許文献１では、組成式（Ｂｉ_１．５Ｚｎ_０．５）（Ｚｎ_０．５Ｎｂ_１．５）Ｏ_７で表される薄膜と、組成式Ｂｉ_２（Ｚｎ_１／３Ｎｂ_２／３）_２Ｏ_７で表される薄膜とについて、１０ｋＨｚにおける比誘電率が１５０以下、Ｑ値が２５０程度であることが記載されている。しかしながら、非特許文献１では、高周波領域におけるＱ値については何ら評価されておらず、高周波領域における誘電特性は十分ではなかった。

本発明は、このような実状に鑑みてなされ、高周波領域において比誘電率εrおよび品質係数Ｑ値が高い誘電体組成物を提供することを目的とする。

上記目的を達成するため、本発明の態様は、
［１］ビスマスと亜鉛とニオブとを含む複合酸化物を有する誘電体組成物であって、
複合酸化物が、ビスマスと亜鉛とニオブと酸素とを含みパイロクロア型結晶構造を有する結晶相と、ビスマスと亜鉛とニオブと酸素とを含むアモルファス相と、を有し、
複合酸化物を組成式Ｂｉ_ｘＺｎ_ｙＮｂ_ｚＯ_{１．７５＋δ}で表した場合、ｘ、ｙおよびｚは、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１．００、０．１０≦ｙ＜０．２０、３／５≦ｘ／ｚ＜１０／７である関係を満足する誘電体組成物である。

［２］ビスマスと亜鉛とニオブとを含む複合酸化物を有する誘電体組成物であって、
複合酸化物を、組成式Ｂｉ_ｘＺｎ_ｙＮｂ_ｚＯ_{１．７５＋δ}で表した場合、ｘ、ｙおよびｚは、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１．００、０．１０≦ｙ≦０．２０、３／５≦ｘ／ｚ≦１０／７である関係を満足し、
Ｃｕ−Ｋα線をＸ線源とするＸ線回折測定により得られる誘電体組成物のＸ線回折チャートにおいて、回折角２θが２７°以上３０°以下の範囲に現れる（２２２）面の回折ピークの半値幅が０．３５°以上２．０°以下である誘電体組成物である。

［３］誘電体組成物が、ビスマスと亜鉛とニオブと酸素とを含みパイロクロア型結晶構造を有する結晶相と、ビスマスと亜鉛とニオブと酸素とを含むアモルファス相と、を有する［２］に記載の誘電体組成物である。

［４］［１］から［３］のいずれかに記載の誘電体組成物を含む誘電体膜を備える電子部品である。

［５］誘電体膜が、誘電体堆積膜である［４］に記載の電子部品である。

本発明によれば、高周波領域において比誘電率εrおよび品質係数Ｑ値が高い誘電体組成物を提供することができる。

図１は、本実施形態に係る電子部品の一例としての薄膜コンデンサの模式的な断面図である。 図２は、本発明の実施例に係る試料のＴＥＭ観察像である。

以下、本発明を、具体的な実施形態に基づき、以下の順序で詳細に説明する。
１．薄膜コンデンサ
１．１．薄膜コンデンサの全体構成
１．２．誘電体膜
１．２．１．誘電体組成物
１．３．基板
１．４．下部電極
１．５．上部電極
２．薄膜コンデンサの製造方法
３．本実施形態における効果
４．変形例

（１．薄膜コンデンサ）
まず、本実施形態に係る電子部品として、誘電体層が薄膜状の誘電体膜から構成される薄膜コンデンサについて説明する。

（１．１．薄膜コンデンサの全体構成）
図１に示すように、本実施形態に係る電子部品の一例としての薄膜コンデンサ１０は、基板１と、下部電極３と、誘電体膜５と、上部電極４とがこの順序で積層された構成を有している。下部電極３と誘電体膜５と上部電極４とはコンデンサ部を形成しており、下部電極３および上部電極４が外部回路に接続されて電圧が印加されると、誘電体膜５が所定の静電容量を示し、コンデンサとしての機能を発揮することができる。各構成要素についての詳細な説明は後述する。

また、本実施形態では、基板１と下部電極３との間に、基板１と下部電極３との密着性を向上させるために下地層２が形成されている。下地層２を構成する材料は、基板１と下部電極３との密着性が十分に確保できる材料であれば特に制限されない。たとえば、下部電極３がＣｕで構成される場合には、下地層２はＣｒで構成され、下部電極３がＰｔで構成される場合には、下地層２はＴｉで構成することができる。

また、図１に示す薄膜コンデンサ１０において、誘電体膜５を外部雰囲気から遮断するための保護膜が形成されていてもよい。

なお、薄膜コンデンサの形状に特に制限はないが、通常、直方体形状とされる。またその寸法にも特に制限はなく、厚みや長さは用途に応じて適当な寸法とすればよい。

（１．２．誘電体膜）
誘電体膜５は、後述する本実施形態に係る誘電体組成物から構成されている。また、本実施形態では、誘電体膜５は、誘電体組成物の原料粉末を成形した成形体を焼成して得られる焼結体から構成されるのではなく、薄膜状であり公知の成膜法により形成された誘電体堆積膜であることが好ましい。すなわち、誘電体膜を構成する誘電体組成物としては、固相反応により得られる誘電体組成物は好ましくない。

このような誘電体膜５を有する薄膜コンデンサは、高周波領域（たとえば、２ＧＨｚ）であっても、高い比誘電率εｒ（たとえば、１５０以上）および高いＱ値（たとえば、１０００以上）を示すことができる。

誘電体膜５の厚みは、好ましくは１０ｎｍ〜２０００ｎｍ、より好ましくは５０ｎｍ〜１０００ｎｍである。誘電体膜５の厚みが薄すぎると、誘電体膜５の絶縁破壊が生じやすい傾向にある。絶縁破壊が生じると、コンデンサとしての機能を発揮できない。一方、誘電体膜５の厚みが厚すぎると、コンデンサの静電容量を大きくするために電極面積を広くする必要があり、電子部品の設計によっては小型化および低背化が困難となる場合がある。

通常、Ｑ値は、誘電体の厚みが薄くなると低下する傾向にあることが知られている。そのため、高いＱ値を得るには、ある程度の厚みを有する誘電体、すなわち、バルク状の誘電体で構成する必要がある。しかしながら、本実施形態に係る誘電体組成物から構成される誘電体膜は、上記のように、厚みが非常に薄い場合であっても、高いＱ値を得ることができる。

なお、誘電体膜５の厚みは、誘電体膜５を含む薄膜コンデンサを、ＦＩＢ（集束イオンビーム）加工装置で掘削し、得られた断面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察して測定することができる。

（１．２．１．誘電体組成物）
本実施形態に係る誘電体組成物は、ビスマス（Ｂｉ）、亜鉛（Ｚｎ）およびニオブ（Ｎｂ）を含む複合酸化物（以降、Ｂｉ−ＺＮ−Ｎｂ−Ｏ系酸化物ともいう）を主成分として含有している。本実施形態では、主成分とは、誘電体組成物１００質量％に対して、９０質量％以上を占める成分である。

また、当該複合酸化物は、結晶相とアモルファス相とを有している。本実施形態では、結晶相およびアモルファス相はどちらも、少なくともビスマス、亜鉛、ニオブおよび酸素を含んでいる。

結晶相は、パイロクロア型結晶構造を有し、一般式Ａ_２Ｂ_２Ｏ_７で表される上記複合酸化物から構成されている。一方、アモルファス相は、一般式Ａ_２Ｂ_２Ｏ_７で表される上記複合酸化物を構成するべき原子がパイロクロア型結晶構造を形成するように配列されたものの、熱平衡状態に達しなかったため、パイロクロア型結晶構造に類似した短距離秩序を有しているが、その原子配列が結晶的な規則性を有していない不完全な結晶から構成される相である。

このアモルファス相は、完全に結晶化していないので、結晶相が結晶化する際に排出される元素を取り込むことがある。また、このアモルファス相は、完全に結晶化していないので、構成元素のイオン半径等による結晶構造上の制限を受けづらく、構成元素の比率がずれることがある。

したがって、アモルファス相と結晶相とは、ビスマス、亜鉛、ニオブおよび酸素を含むという点では、共通しているものの、アモルファス相における構成元素の比率と、結晶相における構成元素の比率とは、一致していてもよいし、少しずれていてもよい。

換言すれば、主成分であるＢｉ−ＺＮ−Ｎｂ−Ｏ系酸化物において、熱平衡状態に達している領域が上記の結晶相であり、熱平衡状態に達していないため、組成の揺らぎが存在する領域が上記のアモルファス相である。

本実施形態では、Ｘ線源としてＣｕ−Ｋα線を用いて、本実施形態に係る誘電体組成物に対してＸ線回折測定を行うことにより得られるＸ線回折チャートにおいて、回折角２θが２７°以上３０°以下の範囲に現れる（２２２）面の回折ピークの半値幅が０．３５以上２．０以下である。半値幅が上記の範囲内であることにより、品質係数Ｑ値が向上する。半値幅は、ピーク強度の半分の強度でのピークの広がりとして算出される。

また、Ｘ線回折により得られるピークの半値幅は、構造中の秩序の長さと相関があり、秩序が短いほど半値幅は大きく、秩序が長いほど半値幅は小さくなる。上記のピークの半値幅が０．３５以上２．０以下である誘電体組成物は、結晶相とアモルファス相とを有していることが好ましい 。

本実施形態では、Ｘ線源としてＣｕ−Ｋα線を用いて、誘電体組成物に対してＸ線回折測定を行うことにより得られるＸ線回折チャートにおいて、回折角２θが２７°以上３０°以下の範囲に現れる（２２２）面のピークの半値幅が０．３５以上２．０以下である場合に、誘電体組成物が、結晶相とアモルファス相との両方を有していると判断する。なお、半値幅が０．３５未満である場合には、誘電体組成物が結晶相単相であり、半値幅が２．０超である場合には、誘電体組成物がアモルファス相単相であると判断する。

上述したように、パイロクロア型結晶構造は一般式Ａ_２Ｂ_２Ｏ_７で表される。パイロクロア型結晶構造においては、Ａサイトを占める元素（Ａサイト元素）に酸素が８配位しており、Ｂサイトを占める元素（Ｂサイト元素）に酸素が６配位している。そして、酸素から構成される八面体の中心にＢサイト元素が位置するＢＯ_６八面体が互いの頂点を共有した三次元ネットワークを構成し、このネットワークの間隙にＡサイト元素が位置し、かつＡサイト元素は、酸素から構成される六面体の中心に位置している。

本実施形態では、ビスマス、亜鉛およびニオブを含む複合酸化物は、組成式Ｂｉ_ｘＺｎ_ｙＮｂ_ｚＯ_{１．７５＋δ}で表すことができる。すなわち、上記の結晶相とアモルファス相とを含む複合酸化物は、組成式Ｂｉ_ｘＺｎ_ｙＮｂ_ｚＯ_{１．７５＋δ}で表される。この組成式において、「ｘ」、「ｙ」および「ｚ」は、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１．００である。

また、当該複合酸化物では、酸素（Ｏ）量が化学量論比であってもよいし、化学量論比から若干偏倚してもよい。化学量論比からの偏倚量は、置換する元素の種類およびそれらの置換量に応じて変化し、上記の組成式において「δ」で表される。

したがって、「ｘ」は、上記の複合酸化物（結晶相およびアモルファス相）の組成式における金属元素のうち、Ｂｉの含有割合を示し、「ｙ」は、上記の複合酸化物の組成式における金属元素のうち、Ｚｎの含有割合を示し、「ｚ」は、上記の複合酸化物の組成式における金属元素のうち、Ｎｂの含有割合を示す。

上記の一般式において、ＢｉはＡサイトを占め、ＮｂはＢサイトを占める。一方、Ｚｎは、上記の一般式において、ＡサイトおよびＢサイトのどちらも占めることができる。したがって、結晶相を構成するパイロクロア型結晶構造、および、アモルファス相を構成するパイロクロア型結晶構造に類似の構造においては、Ｂｉに酸素が８配位した六面体およびＮｂに酸素が６配位した八面体に加えて、Ｚｎに酸素が８配位した六面体およびＺｎに酸素が６配位した八面体が存在する。

Ｂｉ、ＺｎおよびＮｂを含む複合酸化物においては、Ｚｎに酸素が配位した多面体の割合が、パイロクロア型結晶構造およびその類似構造の安定性に影響している。そこで、本実施形態では、Ｚｎの含有割合を示す「ｙ」は、０．１０以上０．２０未満に制御している。また、「ｙ」は０．１５以上であることが好ましい。

「ｙ」を上記の範囲内とすることにより、複合酸化物（結晶相およびアモルファス相）において、Ｚｎに酸素が８配位した六面体およびＺｎに酸素が６配位した八面体の割合が比較的増加し、複合酸化物に含まれる多面体構造のバラツキが大きくなる。このバラツキが比誘電率εｒの向上に寄与するので、比誘電率εｒを良好にすることができる。

「ｙ」が小さすぎると、多面体構造のバラツキによる構造の不安定さにより比誘電率εｒの向上が少なくなるので、比誘電率εｒが悪化する傾向にある。一方、「ｙ」が大きすぎると、Ｚｎに酸素が配位した多面体の割合が多くなりすぎ、複合酸化物において比誘電率に寄与する成分が少なくなるため、比誘電率εｒが悪化する傾向にある。

また、本実施形態では、Ｎｂの含有割合（「ｚ」）に対するＢｉの含有割合（「ｘ」）を示す「ｘ／ｚ」は、３／５以上１０／７未満である。「ｘ／ｚ」を上記の範囲内とすることにより、Ｂｉの含有割合とＮｂの含有割合とが比較的に近づくため、複合酸化物（結晶相およびアモルファス相）における欠陥が少なくなり、品質係数Ｑ値を良好にすることができる。

「ｘ／ｚ」は、９／１０以上であることが好ましい。一方、「ｘ／ｚ」は、１１／１０以下であることが好ましい。

上記の組成式において、「ｘ」、「ｙ」および「ｚ」を上記の範囲内とすることにより、比誘電率εｒおよび品質係数Ｑ値を良好にすることができる。

また、本実施形態に係る誘電体組成物は、本発明の効果を奏する範囲内において、微量な不純物、副成分等を含んでいてもよい。このような成分としては、たとえば、Ｍｎ、Ｃａ、Ｂａが例示される。

（１．３．基板）
図１に示す基板１は、その上に形成される下地層２、下部電極３、誘電体膜５および上部電極４を支持できる程度の機械的強度を有する材料で構成されていれば特に限定されない。たとえば、Ｓｉ単結晶、ＳｉＧｅ単結晶、ＧａＡｓ単結晶、ＩｎＰ単結晶、ＳｒＴｉＯ_３単結晶、ＭｇＯ単結晶、ＬａＡｌＯ_３単結晶、ＺｒＯ_２単結晶、ＭｇＡｌ_２Ｏ_４単結晶、ＮｄＧａＯ_３単結晶等から構成される単結晶基板、Ａｌ_２Ｏ_３多結晶、ＺｎＯ多結晶、ＳｉＯ_２多結晶等から構成されるセラミック多結晶基板、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｗ、Ｍｏ、Ａｌ、Ｐｔ等の金属、それらの合金等から構成される金属基板等が例示される。本実施形態では、低コスト、加工性等の観点から、Ｓｉ単結晶を基板として用いる。

基板１の厚みは、たとえば、１０μｍ〜５０００μｍに設定される。厚みが小さすぎると、機械的強度が確保できない場合が生じることがあり、厚みが大きすぎると、電子部品の小型化に寄与できないといった問題が生じる場合がある。

上記の基板１は、基板の材質によってその抵抗率が異なる。抵抗率が低い材料で基板を構成する場合、薄膜コンデンサの作動時に基板側への電流のリークが生じ、薄膜コンデンサの電気特性に影響を及ぼすことがある。そのため、基板１の抵抗率が低い場合には、その表面に絶縁処理を施し、コンデンサ作動時の電流が基板１へ流れないようにすることが好ましい。

たとえば、Ｓｉ単結晶を基板１として使用する場合においては、基板１の表面に絶縁層が形成されていることが好ましい。基板１とコンデンサ部との絶縁が十分に確保されていれば、絶縁層を構成する材料およびその厚みは特に限定されない。本実施形態では、絶縁層を構成する材料として、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、Ｓｉ_３Ｎ_ｘ等が例示される。また、絶縁層の厚みは、０．０１μｍ以上であることが好ましい。

（１．４．下部電極）
図１に示すように、基板１の上には、下地層２を介して、下部電極３が薄膜状に形成されている。下部電極３は、後述する上部電極４とともに誘電体膜５を挟み、コンデンサとして機能させるための電極である。下部電極３を構成する材料は、導電性を有する材料であれば特に制限されない。たとえば、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等の金属、それらの合金、又は、導電性酸化物等が例示される。

下部電極３の厚みは、電極として機能する程度の厚みであれば特に制限されない。本実施形態では、厚みは０．０１μｍ以上であることが好ましい。

（１．５．上部電極）
図１に示すように、誘電体膜５の表面には、上部電極４が薄膜状に形成されている。上部電極４は、上述した下部電極３とともに、誘電体膜５を挟み、コンデンサとして機能させるための電極である。したがって、上部電極４は、下部電極３とは異なる極性を有している。

上部電極４を構成する材料は、下部電極３と同様に、導電性を有する材料であれば特に制限されない。たとえば、Ｐｔ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ等の金属、それらの合金、又は、導電性酸化物等が例示される。

（２．薄膜コンデンサの製造方法）
次に、図１に示す薄膜コンデンサ１０の製造方法の一例について以下に説明する。

まず、基板１を準備する。基板１として、たとえば、Ｓｉ単結晶基板を用いる場合、当該基板の一方の主面に絶縁層を形成する。絶縁層を形成する方法としては、熱酸化法、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等の公知の成膜法を用いればよい。

続いて、形成された絶縁層上に、公知の成膜法を用いて下地層を構成する材料の薄膜を形成して下地層２を形成する。

下地層２を形成した後、当該下地層２上に、公知の成膜法を用いて下部電極を構成する材料の薄膜を形成して下部電極３を形成する。

続いて、下部電極３上に誘電体膜５を形成する。本実施形態では、公知の成膜法により、誘電体膜５を構成する材料を下部電極３上に薄膜状に堆積させた堆積膜としての誘電体膜５を形成する。

公知の成膜法としては、たとえば、真空蒸着法、スパッタリング法、ＰＬＤ（パルスレーザー蒸着法）、ＭＯ−ＣＶＤ（有機金属化学気相成長法）、ＭＯＤ（有機金属分解法）、ゾルゲル法、ＣＳＤ（化学溶液堆積法）等が例示される。なお、成膜時に使用する原料（蒸着材料、各種ターゲット材料、有機金属材料等）には微量の不純物、副成分等が含まれている場合があるが、所望の誘電特性が得られれば、特に問題はない。

たとえば、ＰＬＤ法を用いる場合、所望の組成のターゲットを用いて、下部電極３上に誘電体薄膜５を形成する。本実施形態では、成膜条件は、以下のようにすることが好ましい。酸素圧は０．１〜１０Ｐａとすることが好ましい。また、成膜は室温で行うことが好ましい。レーザーのパワーは３〜５Ｊ／ｃｍ^２であることが好ましく、パルス周波数は１〜２０Ｈｚとすることが好ましい。

本実施形態では、誘電体膜を形成した後、当該誘電体膜に対し、急速加熱アニール処理（Rapid Thermal Anneal：ＲＴＡ）を施す。ＲＴＡを施す条件を制御することにより、誘電体膜を構成する複合酸化物の構成相として、結晶相とアモルファス相との混相を容易に得ることができる。また、半値幅が上述した範囲内である誘電体組成物を容易に得ることができる。本実施形態では、ＲＴＡを施す条件として、雰囲気は酸素雰囲気であることが好ましく、昇温速度を１０００℃／分以上とすることが好ましく、アニール時間は１〜３０分とすることが好ましく、アニール温度を３００℃以上７５０℃以下とすることが好ましい。なお、アニール温度が低すぎる場合には、複合酸化物の構成相がアモルファス相単相となる傾向にあり、アニール温度が高すぎる場合には、複合酸化物の構成相が結晶相単相になる傾向にある。

次に、形成した誘電体膜５上に、公知の成膜法を用いて上部電極を構成する材料の薄膜を形成して上部電極４を形成する。

以上の工程を経て、図１に示すように、基板１上に、コンデンサ部（下部電極３、誘電体膜５および上部電極４）が形成された薄膜コンデンサ１０が得られる。なお、誘電体膜５を保護する保護膜は、少なくとも誘電体膜５が外部に露出している部分を覆うように公知の成膜法により形成すればよい。

（３．本実施形態のまとめ）
本実施形態では、ビスマス、亜鉛およびニオブを含む複合酸化物が、結晶相およびアモルファス相を有している。結晶相およびアモルファス相は、どちらもビスマス、亜鉛およびニオブを含んでおり、短距離秩序の範囲では、類似の構造を有している。すなわち、アモルファス相における原子配列は、結晶相における原子配列に近い。結晶相はパイロクロア型結晶構造を有しているので、アモルファス相はパイロクロア型結晶構造に類似する構造を有している。

複合酸化物が、上記の構造を有する結晶相とアモルファス相とを含むことにより、比誘電率εｒおよび品質係数Ｑ値を良好にすることができる。

また、このパイロクロア型結晶構造およびパイロクロア型結晶構造に類似する構造においては、亜鉛は、ＡサイトおよびＢサイトのどちらも占めることができ、２種類の多面体を形成する。この２種類の多面体の割合を制御することにより、多面体構造のバラツキが生じて、分極に寄与する。

そこで、本実施形態では、ビスマス、亜鉛およびニオブを含む複合酸化物において、上記の構造を有する結晶相とアモルファス相とが共存し、複合酸化物中の亜鉛の含有割合を上記の範囲内とすることにより、良好な比誘電率εｒが得られる。

また、Ａサイトを占めるビスマスの含有割合と、Ｂサイトを占めるニオブの含有割合とを比較的に近づけることにより、結晶相およびアモルファス相を構成する複合酸化物の欠陥が減少する。その結果、良好な品質係数Ｑ値が得られる。また、結晶相とアモルファス相とが共存することにより、結晶粒界が減るので、コンデンサにおけるリーク電流を抑制することができる。その結果、品質係数Ｑ値がさらに向上する。

具体的には、本実施形態に係る誘電体組成物は、薄膜状の誘電体膜として形成されていても、２ＧＨｚ以上の高周波領域において１５０以上の高い比誘電率εｒと、１０００以上の高い品質係数Ｑ値を示すことができる。

（４．変形例）
上述した実施形態では、誘電体膜が本実施形態に係る誘電体組成物のみで構成される場合を説明したが、本実施形態に係る誘電体組成物から構成される誘電体膜と別の誘電体組成物から構成される膜とを組み合わせた積層構造を有する電子部品でもよい。たとえば、既存のＳｉ_３Ｎ_ｘ、ＳｉＯ_ｘ、Ａｌ_２Ｏ_ｘ、ＺｒＯ_ｘ、Ｔａ_２Ｏ_ｘ等のアモルファス誘電体膜や結晶膜との積層構造とすることで、誘電体膜５のインピーダンスや比誘電率の温度変化を調整することが可能となる。

また、本実施形態に係る誘電体組成物で構成される誘電体膜を複数有する積層キャパシタであってもよい。

上述した実施形態では、基板と下部電極との密着性を向上させるために、下地層を形成しているが、基板と下部電極との密着性が十分確保できる場合には、下地層は省略することができる。また、基板を構成する材料として、電極として使用可能なＣｕ、Ｐｔ等の金属、それらの合金、酸化物導電性材料等を用いる場合には、下地層および下部電極は省略することができる。

以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は上記の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の範囲内において種々の態様で改変しても良い。

以下、実施例および比較例を用いて、本発明をさらに詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。

（実験例１）
まず、誘電体膜の形成に必要なターゲットを以下のようにして作製した。

ターゲット作製用の原料粉末として、Ｂｉ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、Ｎｂ_２Ｏ_５の粉末を準備した。これらの粉末を、表１に示す実施例１〜１０および比較例１〜９の組成となるように秤量した。秤量した原料粉末と水とφ２ｍｍのＺｒＯ_２ビーズとを、容積が１Ｌのポリプロピレン製広口ポットに入れて湿式混合を２０時間行った。その後、混合粉末スラリーを１００℃で２０時間乾燥させ、得られた混合粉末をＡｌ_２Ｏ_３坩堝に入れ、大気中８００℃で５時間保持する焼成条件で仮焼を行い、仮焼粉末を得た。

得られた仮焼粉末を乳鉢に入れ、バインダとして濃度６ｗｔ％のＰＶＡ（ポリビニルアルコール）水溶液を、仮焼粉末に対して４ｗｔ％となるように添加し、乳棒を使用して造粒粉を作製した。作製した造粒粉を、厚みが５ｍｍ程度となるようにφ２０ｍｍの金型に投入し、一軸加圧プレス機を使用して加圧成形を行い成形体を得た。成形条件は、圧力を２．０×１０^８Ｐａ、温度を室温とした。

その後、得られた成形体について、昇温速度を１００℃／時間、保持温度を４００℃、温度保持時間を４時間とし、常圧の大気中で脱バインダ処理を行った。続いて、昇温速度を２００℃／時間、保持温度を１０００℃〜１２００℃、温度保持時間を１２時間とし、常圧の大気中で焼成を行い、焼結体を得た。

得られた焼結体の厚さが４ｍｍとなるように、円筒研磨機で両面を研磨し、誘電体膜を形成するためのターゲットを得た。

続いて、３５０μｍ厚のＳｉ単結晶基板の表面に０．５μｍ厚の絶縁層としてのＳｉＯ_２を備えた１０ｍｍ×１０ｍｍ角の基板を準備した。この基板の表面に、下地層としてのＴｉ薄膜を２０ｎｍの厚さとなるようにスパッタリング法で形成した。

次いで、上記で形成したＴｉ薄膜上に下部電極としてのＰｔ薄膜を４μｍの厚さとなるようにスパッタリング法で形成した。

上記のＴｉ／Ｐｔ薄膜上に誘電体膜を形成した。本実施例では、上記で作製したターゲットを用いて、下部電極上に４００ｎｍの厚さとなるようにＰＬＤ法で誘電体膜を形成した。ＰＬＤ法による成膜条件は、酸素圧を１Ｐａとし、レーザーパワーを３Ｊ／ｃｍ^２とし、レーザーパルス周波数を１０Ｈｚとし、成膜温度は室温とした。また、下部電極の一部を露出させるために、メタルマスクを使用して、誘電体膜が成膜されない領域を形成した。誘電体膜を形成した後、当該誘電体膜に対し、酸素雰囲気下で昇温速度を１０００℃／分とし表１に示した温度で１分保持する急速加熱アニール処理（Rapid Thermal Anneal：ＲＴＡ）を施した。

次いで、得られた誘電体膜上に、蒸着装置を使用して上部電極であるＡｇ薄膜を形成した。上部電極の形状を、メタルマスクを使用して直径１００μｍ、厚さ１００ｎｍとなるように形成することで、図１に示す構成を有する薄膜コンデンサの試料（実施例１〜９および比較例１〜１０）を得た。

なお、誘電体膜の組成は、すべての試料について、ＷＤ−ＸＲＦ（波長分散型蛍光Ｘ線元素分析）装置（リガク社製ＺＳＸ−１００ｅ）を用いて、室温において分析を行い、表１に記載の組成と一致していることを確認した。また、誘電体膜の厚みは、薄膜コンデンサをＦＩＢで掘削し、得られた断面をＳＥＭ（走査型電子顕微鏡）で観察して測長した値とした。

得られたすべての薄膜コンデンサ試料について、比誘電率εｒおよびＱ値の測定を、下記に示す方法によって行った。また、誘電体膜を構成する誘電体組成物の構成相の同定を下記に示す方法によって行った。

（比誘電率およびＱ値）
比誘電率およびＱ値は、薄膜コンデンサ試料に対し、基準温度２５℃において、ＲＦインピーダンス／マテリアル・アナライザ（Ａｇｉｌｅｎｔ社製４９９１Ａ）にて、周波数２ＧＨｚ、入力信号レベル（測定電圧）０．５Ｖｒｍｓの条件下で測定された静電容量と、上記で得られた誘電体膜の厚みと、から算出した（単位なし）。本実施例では、比誘電率は高い方が好ましく、比誘電率が１５０以上である試料を良好であると判断した。また、Ｑ値は高い方が好ましく、Ｑ値が１０００以上である試料を良好であると判断した。結果を表１に示す。

（構成相の同定）
誘電体組成物の構成相の同定は、誘電体薄膜に対してＸ線回折を行い、得られるＸ線回折チャートにおいて、回折角２θが２７°以上３０°以下の範囲に現れる（２２２）面の回折ピークの半値幅を算出することにより行った。Ｘ線回折は、Ｘ線源としてＣｕ−Ｋα線を用い、その測定条件は、電圧が４５ｋＶ、電流が２００ｍＡで、走査速度が２０ｄｅｇ／ｍｉｎであった。本実施例では、半値幅が０．３５°未満である場合には、誘電体組成物が結晶相単相であると判断し、半値幅が０．３５°以上２．０°以下である場合には、誘電体組成物が結晶相とアモルファス相との混相であると判断し、半値幅が２．０°超である場合には、誘電体組成物がアモルファス相単相であると判断した。結果を表１に示す。

また、実施例８の試料に対してＴＥＭ観察を行った。得られた複合酸化物のＴＥＭ像を図２に示す。なお、図２において、白線で囲まれた領域がアモルファス相２０であり、それ以外の領域が結晶相３０である。図２において、アモルファス相２０を示す白線は、アモルファス相２０を明確に示すために追加した線であり、ＴＥＭ像において、アモルファス相２０と結晶相３０との境界が白線として現れる訳ではない。

表１より、Ｂｉ、ＺｎおよびＮｂを含む複合酸化物において、「ｘ」、「ｙ」および「ｚ」の関係が上述した範囲内であり、かつ結晶相と、アモルファス相と、の混相である試料は、厚みが４００ｎｍの薄膜であるにもかかわらず、高周波領域（２ＧＨｚ）において高い比誘電率εｒ（１５０以上）および高い品質係数Ｑ値（１０００以上）を有することが確認できた。

また、図２より、半値幅の値により結晶相とアモルファス相との混相であると判断された試料について、ＴＥＭ観察により、複合酸化物が結晶相とアモルファス相との混相を有していることが視覚的に確認できた。

本発明によれば、高周波領域において比誘電率およびＱ値が高い誘電体組成物が得られる。このような誘電体組成物は、薄膜状の誘電体膜として好適であり、高周波用の電子部品、たとえば、バラン、カプラ、フィルタ、あるいは、フィルタを組み合わせたデュプレクサ、ダイプレクサ等に好適である。

１０… 薄膜コンデンサ
１… 基板
２… 下地層
３… 下部電極
４… 上部電極
５… 誘電体膜

Claims (5)

1. ビスマスと亜鉛とニオブとを含む複合酸化物を有する誘電体組成物であって、
   前記複合酸化物が、前記ビスマスと前記亜鉛と前記ニオブと酸素とを含みパイロクロア型結晶構造を有する結晶相と、前記ビスマスと前記亜鉛と前記ニオブと酸素とを含むアモルファス相と、を有し、
   前記複合酸化物を組成式Ｂｉ_ｘＺｎ_ｙＮｂ_ｚＯ_{１．７５＋δ}で表した場合、前記ｘ、ｙおよびｚは、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１．００、０．１０≦ｙ＜０．２０、３／５≦ｘ／ｚ＜１０／７である関係を満足する誘電体組成物。
2. ビスマスと亜鉛とニオブとを含む複合酸化物を有する誘電体組成物であって、
   前記複合酸化物を、組成式Ｂｉ_ｘＺｎ_ｙＮｂ_ｚＯ_{１．７５＋δ}で表した場合、前記ｘ、ｙおよびｚは、ｘ＋ｙ＋ｚ＝１．００、０．１０≦ｙ≦０．２０、３／５≦ｘ／ｚ≦１０／７である関係を満足し、
   Ｃｕ−Ｋα線をＸ線源とするＸ線回折測定により得られる前記誘電体組成物のＸ線回折チャートにおいて、回折角２θが２７°以上３０°以下の範囲に現れる（２２２）面の回折ピークの半値幅が０．３５°以上２．０°以下であることを特徴とする誘電体組成物。
3. 前記誘電体組成物が、前記ビスマスと前記亜鉛と前記ニオブと酸素とを含みパイロクロア型結晶構造を有する結晶相と、前記ビスマスと前記亜鉛と前記ニオブと酸素とを含むアモルファス相と、を有することを特徴とする請求項２に記載の誘電体組成物。
4. 請求項１から３のいずれかに記載の誘電体組成物を含む誘電体膜を備える電子部品。
5. 前記誘電体膜が、誘電体堆積膜である請求項４に記載の電子部品。

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