JP2020147463A - Method for Producing Cyclic Hydrogenated Silane Compound - Google Patents

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Abstract

To provide a method for efficiently producing a cyclic hydrogenated silane compound.SOLUTION: A method for producing a cyclic hydrogenated silane compound comprises a first reaction step of contacting and reacting a salt of a cyclic halosilane compound with a Lewis acid compound in the presence of a solvent to obtain a reaction liquid (A) containing the cyclic halosilane compound, a solid-liquid separation step of removing the salt of the Lewis acid compound contained in the reaction liquid (A) as a solid to obtain a solution containing the cyclic halosilane compound, and a second reaction step of contacting the solution containing the cyclic halosilane compound with a metal hydride to obtain a reaction liquid (B) containing the cyclic hydrogenated silane compound.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は環状水素化シラン化合物の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a cyclic hydrogenated silane compound.

太陽電池、半導体等には薄膜シリコンが用いられており、従来、該薄膜シリコンはモノシランを原料とする気相成長製膜法(CVD法)によって製造されている。近年、より簡便な薄膜シリコンの製造方法として、水素化ポリシラン溶液を塗布し、焼成する方法が注目されている。前記水素化ポリシランは、シクロペンタシラン、シクロヘキサシランなどの環状水素化シラン化合物から製造される(非特許文献1など)。 Thin-film silicon is used for solar cells, semiconductors, and the like, and conventionally, the thin-film silicon is produced by a vapor deposition film forming method (CVD method) using monosilane as a raw material. In recent years, as a simpler method for producing thin film silicon, a method of applying a hydrogenated polysilane solution and firing it has attracted attention. The hydrogenated polysilane is produced from a cyclic hydrogenated silane compound such as cyclopentasilane and cyclohexasilane (Non-Patent Document 1 and the like).

環状水素化シラン化合物の製造方法として、例えば、特許文献1には環状ハロシラン化合物の塩とルイス酸化合物とを接触させて環状ハロシラン化合物を得て、得られた環状ハロシラン化合物を金属水素化物と接触させて還元する方法が開示されている。該特許文献1には、より具体的には、テトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオンのホスホニウム塩を含む白色固体と塩化アルミニウムとをベンゼン中で4日間攪拌して反応させ、得られた反応液から減圧下でベンゼンを留去して、Si6Cl12を含む白色固体を得、この白色固体(Si6Cl12)をベンゼンに入れ、水素化リチウムアルミニウムを添加して還元し、シクロヘキサシランを製造することが記載されている。 As a method for producing a cyclic hydride silane compound, for example, in Patent Document 1, a salt of a cyclic halosilane compound and a Lewis acid compound are contacted to obtain a cyclic halosilane compound, and the obtained cyclic halosilane compound is contacted with a metal hydride. A method of allowing and reducing the amount is disclosed. More specifically, in Patent Document 1, a white solid containing a phosphonium salt of tetradecachlorocyclohexasilane dianion and aluminum chloride are reacted in benzene with stirring for 4 days, and the obtained reaction solution is used. Benzene was distilled off under reduced pressure to obtain a white solid containing Si 6 Cl 12 , and this white solid (Si 6 Cl 12 ) was added to benzene and reduced by adding lithium aluminum hydride to obtain cyclohexasilane. It is described to manufacture.

特開2017−95324号公報JP-A-2017-95324

T.Shimoda et al., "Solution-processed silicon films and transistors", Nature, vol.440, p783 (2006)T.Shimoda et al., "Solution-processed silicon films and transistors", Nature, vol.440, p783 (2006)

特許文献1においてテトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオンのホスホニウム塩を含む白色固体と塩化アルミニウムとをベンゼン中で反応させた後、減圧下でベンゼンを留去しているのは、ベンゼンと共に低分子量のケイ素化合物を除去し、最終生成物であるシクロヘキサシランの純度を高めるためである。しかし留去工程を設けると目的物の製造効率が低下する。またテトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオンの反応生成物(Si6Cl12)を、ベンゼン溶媒のまま水素化リチウムアルミニウムで還元すると、ベンゼンの融点が約6℃と高いために、反応温度を低くするのが難しくなる。 In Patent Document 1, a white solid containing a phosphonium salt of tetradecachlorocyclohexasilane dianion and aluminum chloride are reacted in benzene, and then benzene is distilled off under reduced pressure because of the low molecular weight together with benzene. This is to remove the silicon compound and increase the purity of the final product, cyclohexasilane. However, if the distillation step is provided, the production efficiency of the target product is lowered. Further, when the reaction product of tetradecachlorocyclohexasilane dianion (Si 6 Cl 12 ) is reduced with lithium aluminum hydride in a benzene solvent, the melting point of benzene is as high as about 6 ° C., so that the reaction temperature is lowered. Becomes difficult.

本発明は上記の様な事情に着目してなされたものであって、その目的は、環状水素化シラン化合物を効率よく製造できる方法を提供することにある。 The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a method capable of efficiently producing a cyclic hydrogenated silane compound.

本発明は、以下の発明を含む。
[1] 環状ハロシラン化合物の塩とルイス酸化合物とを溶媒の存在下で接触及び反応させて環状ハロシラン化合物を含む反応液(A)を得る第1反応工程、
前記反応液(A)に固体として含まれるルイス酸化合物の塩を除去し、環状ハロシラン化合物を含む溶液を得る固液分離工程、
環状ハロシラン化合物を含む前記溶液を、金属水素化物と接触させて環状水素化シラン化合物を含む反応液(B)を得る第2反応工程、
を含む環状水素化シラン化合物の製造方法。
[2] 前記第1反応工程での溶媒が、前記第2反応工程の溶媒の少なくとも1種である[1]に記載の環状水素化シラン化合物の製造方法。
[3] 第2反応工程での反応開始時の環状ハロシラン化合物の濃度が1質量%以上、60質量%以下である[1]又は[2]に記載の環状水素化シラン化合物の製造方法。
[4] 前記溶媒が炭化水素系溶媒である[1]〜[3]のいずれかに記載の環状水素化シラン化合物の製造方法。
The present invention includes the following inventions.
[1] The first reaction step of contacting and reacting a salt of a cyclic halosilane compound with a Lewis acid compound in the presence of a solvent to obtain a reaction solution (A) containing the cyclic halosilane compound.
A solid-liquid separation step of removing a salt of a Lewis acid compound contained as a solid in the reaction solution (A) to obtain a solution containing a cyclic halosilane compound.
The second reaction step of contacting the solution containing the cyclic halosilane compound with a metal hydride to obtain a reaction solution (B) containing the cyclic hydrogenated silane compound.
A method for producing a cyclic hydrogenated silane compound containing.
[2] The method for producing a cyclic hydrogenated silane compound according to [1], wherein the solvent in the first reaction step is at least one of the solvents in the second reaction step.
[3] The method for producing a cyclic hydrogenated silane compound according to [1] or [2], wherein the concentration of the cyclic halosilane compound at the start of the reaction in the second reaction step is 1% by mass or more and 60% by mass or less.
[4] The method for producing a cyclic hydrogenated silane compound according to any one of [1] to [3], wherein the solvent is a hydrocarbon solvent.

本発明によれば、環状ハロシラン化合物の塩から調製される環状ハロシラン化合物を含む反応液(A)を固液分離し、環状ハロシラン化合物を含む溶液を金属水素化物と接触させているため、環状水素化シラン化合物を効率よく製造できる。 According to the present invention, the reaction solution (A) containing the cyclic halosilane compound prepared from the salt of the cyclic halosilane compound is solid-liquid separated, and the solution containing the cyclic halosilane compound is brought into contact with the metal hydride. A silane compound can be efficiently produced.

本発明の製造方法は、環状ハロシラン化合物の塩を環状ハロシラン化合物にする工程(第1反応工程)と、環状ハロシラン化合物を環状水素化シラン化合物にする工程(第2反応工程)と、第1反応工程及び第2反応工程の間に実施され、第1反応工程の反応液に固体として含まれるルイス酸化合物の塩を除去する固液分離工程とを有する。即ち、第1反応工程、固液分離工程、および第2反応工程をこの順で連続して行う。 The production method of the present invention comprises a step of converting a salt of a cyclic halosilane compound into a cyclic halosilane compound (first reaction step), a step of converting a cyclic halosilane compound into a cyclic hydride silane compound (second reaction step), and a first reaction. It has a solid-liquid separation step which is carried out between the step and the second reaction step and removes a salt of a Lewis acid compound contained as a solid in the reaction solution of the first reaction step. That is, the first reaction step, the solid-liquid separation step, and the second reaction step are continuously performed in this order.

I.第1反応工程
前記第1反応工程は、より詳細には、環状ハロシラン化合物の塩とルイス酸化合物とを溶媒の存在下で接触及び反応させて環状ハロシラン化合物を含む反応液(A)を得る工程である。
I. First Reaction Step The first reaction step is, more specifically, a step of contacting and reacting a salt of a cyclic halosilane compound with a Lewis acid compound in the presence of a solvent to obtain a reaction solution (A) containing the cyclic halosilane compound. Is.

上記環状ハロシラン化合物の塩としては、ケイ素原子が連なって単素環を形成し、該単素環を構成する少なくとも1つのケイ素原子にハロゲン原子が結合した構造を有しており、塩を形成している化合物が挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。 The salt of the cyclic halosilane compound has a structure in which silicon atoms are connected to form a monoprime ring and a halogen atom is bonded to at least one silicon atom constituting the monoprime ring to form a salt. Examples of the compound. Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom.

上記単素環を構成するケイ素原子の数は特に限定されないが、3以上が好ましく、4以上がより好ましく、5以上がさらに好ましく、また8以下が好ましく、7以下がより好ましく、6以下がさらに好ましい。 The number of silicon atoms constituting the monoprime ring is not particularly limited, but 3 or more is preferable, 4 or more is more preferable, 5 or more is further preferable, 8 or less is more preferable, 7 or less is more preferable, and 6 or less is further preferable. preferable.

環状ハロシラン化合物は、単素環を構成しないケイ素原子を含むものであってもよく、例えば、単素環を構成するケイ素原子に、ケイ素原子を含む置換基(例えば、シリル基など)が結合していてもよい。但し、単素環を構成しないケイ素原子が含まれると、環状ハロシラン化合物の塩や環状ハロシラン化合物の保管時や、得られた環状ハロシラン化合物を還元して環状水素化シラン化合物を製造する工程において、シランガスの発生量が増加したり、環状水素化シラン化合物の収率が低下する傾向にあるので、単素環を構成しないケイ素原子は極力含まないことが好ましい。 The cyclic halosilane compound may contain a silicon atom that does not form a monoprime ring. For example, a substituent containing a silicon atom (for example, a silyl group) is bonded to the silicon atom that constitutes the monoprime ring. May be. However, if a silicon atom that does not form a monocyclic ring is contained, in the storage of the cyclic halosilane compound salt or the cyclic halosilane compound, or in the step of reducing the obtained cyclic halosilane compound to produce the cyclic hydride silane compound. Since the amount of silane gas generated tends to increase and the yield of the cyclic hydride silane compound tends to decrease, it is preferable that silicon atoms that do not form a monoelement ring are not contained as much as possible.

ケイ素原子から形成された単素環には、少なくとも1つのハロゲン原子が結合していることが好ましく、単素環を構成するケイ素原子のそれぞれにハロゲン原子が1つまたは2つ結合していることがより好ましく、単素環を構成するケイ素原子のそれぞれにハロゲン原子が2つ結合していることが更に好ましい。 It is preferable that at least one halogen atom is bonded to the monoelement ring formed from the silicon atom, and one or two halogen atoms are bonded to each of the silicon atoms constituting the monoelement ring. Is more preferable, and it is further preferable that two halogen atoms are bonded to each of the silicon atoms constituting the monoelement ring.

上記環状ハロシラン化合物の塩としては、下記式(1)で表される塩を用いることが好ましい。 As the salt of the cyclic halosilane compound, it is preferable to use a salt represented by the following formula (1).

Figure 2020147463
Figure 2020147463

上記式(1)において、X1とX2はそれぞれ独立してハロゲン原子を表し、Lはアニオン性配位子を表し、pは配位子Lの価数として−2〜−1の整数を表し、Kは対カチオンを表し、qは対カチオンKの価数として+1〜+2の整数を表し、nは0〜5の整数を表し、aとbとcはそれぞれ0〜2n+6の整数(ただし、a+b+c=2n+6であり、aとcは同時に0ではない)を表し、dは0〜3の整数(ただし、aとdは同時に0ではない)、eは0〜3の整数(ただし、d+e=3)を表し、mは1〜2であり、sは1以上の整数を表し、tは1以上の整数を表す。 In the above formula (1), X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom, L represents an anionic ligand, and p is an integer of -2 to -1 as the valence of the ligand L. Represented, K represents a counter cation, q represents an integer of +1 to +2 as the valence of the counter cation K, n represents an integer of 0 to 5, and a, b, and c are integers of 0 to 2n + 6, respectively. , A + b + c = 2n + 6, a and c are not 0 at the same time, d is an integer of 0 to 3 (however, a and d are not 0 at the same time), and e is an integer of 0 to 3 (however, d + e). = 3), m is 1 to 2, s represents an integer of 1 or more, and t represents an integer of 1 or more.

上記式(1)中、nは単素環を構成するケイ素原子の数を表し、その値は0〜5の整数であり、1以上が好ましく、2以上がより好ましく、また4以下が好ましく、3以下がより好ましい。nは特に3であることが好ましく、すなわち式(1)で表される化合物は6員のケイ素単素環であることが好ましい。 In the above formula (1), n represents the number of silicon atoms constituting the monoprime ring, and the value thereof is an integer of 0 to 5, preferably 1 or more, more preferably 2 or more, and preferably 4 or less. 3 or less is more preferable. n is particularly preferably 3, that is, the compound represented by the formula (1) is preferably a 6-membered silicon monoprime ring.

上記式(1)中、X1は環を構成するケイ素原子に結合するハロゲン原子を表し、X2は環を構成するケイ素原子に結合したシリル基のハロゲン原子を表す。X1とX2のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子または臭素原子であり、より好ましくは塩素原子である。上記X1が複数ある場合は、複数のX1は同一であっても異なっていてもよい。上記X2が複数ある場合は、複数のX2は同一であっても異なっていてもよい。 In the above formula (1), X 1 represents a halogen atom bonded to a silicon atom forming a ring, and X 2 represents a halogen atom of a silyl group bonded to a silicon atom forming a ring. Examples of the halogen atom of X 1 and X 2 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom, and more preferably a chlorine atom. If the plural X 1, a plurality of X 1 may be different even in the same. If the X 2 there is a plurality, the plurality of X 2 may be different even in the same.

上記式(1)中、aは環を構成するケイ素原子に結合するハロゲン原子の数を表し、bは環を構成するケイ素原子に結合する水素原子の数を表し、cは環を構成するケイ素原子に結合するシリル基の数を表す。また、dは環を構成するケイ素原子に結合したシリル基のハロゲン原子の数を表し、eは環を構成するケイ素原子に結合したシリル基の水素原子の数を表す。cが2以上のとき、環を構成するケイ素原子に結合した複数のシリル基は同一であっても異なっていてもよい。aとbとcは0〜2n+6の整数(ただし、a+b+c=2n+6であり、aとcは同時に0ではない)を表し、aは1〜2n+6の整数で、bとcは0〜n+5の整数であることが好ましく、aはn+6〜2n+6の整数で、bとcは0〜nの整数であることがより好ましい。 In the above formula (1), a represents the number of halogen atoms bonded to the silicon atoms constituting the ring, b represents the number of hydrogen atoms bonded to the silicon atoms constituting the ring, and c represents the silicon constituting the ring. Represents the number of silyl groups attached to an atom. Further, d represents the number of halogen atoms of the silyl group bonded to the silicon atom constituting the ring, and e represents the number of hydrogen atoms of the silyl group bonded to the silicon atom constituting the ring. When c is 2 or more, the plurality of silyl groups bonded to the silicon atoms forming the ring may be the same or different. a, b and c represent integers of 0 to 2n + 6 (where a + b + c = 2n + 6 and a and c are not 0 at the same time), a is an integer of 1 to 2n + 6 and b and c are integers of 0 to n + 5. It is preferable that a is an integer of n + 6 to 2n + 6, and b and c are integers of 0 to n.

なお、上記式(1)中、cが0であれば、ルイス酸化合物と反応させた際にカップリング反応等の副反応が起こることが抑えられたり、環状ハロシラン化合物の塩やそれから製造される環状ハロシラン化合物の保管安定性が向上したり、得られた環状ハロシラン化合物を還元して環状水素化シラン化合物を製造する工程においてシランガスの発生が抑制されたり、環状水素化シラン化合物の収率を高めることができる点で、さらに好ましい。また、aが2n+6であり、bとcが0であることが特に好ましい。 If c is 0 in the above formula (1), side reactions such as a coupling reaction can be suppressed when the compound is reacted with the Lewis acid compound, or a salt of a cyclic halosilane compound or a salt thereof can be produced. The storage stability of the cyclic halosilane compound is improved, the generation of silane gas is suppressed in the step of reducing the obtained cyclic halosilane compound to produce the cyclic hydride silane compound, and the yield of the cyclic hydride silane compound is increased. It is even more preferable in that it can be used. Further, it is particularly preferable that a is 2n + 6 and b and c are 0.

上記式(1)中、Lは環を構成するケイ素原子に配位したアニオン性の配位子を表し、pは配位子Lの価数(−2〜−1の整数)を表し、mは配位子Lの数(1〜2)を表す。上記アニオン性の配位子としては、ハロゲン化物イオン、硝酸イオン、シアン化物イオン等が挙げられる。 In the above formula (1), L represents an anionic ligand coordinated to a silicon atom constituting the ring, p represents the valence of the ligand L (an integer of -2 to -1), and m. Represents the number of ligands L (1-2). Examples of the anionic ligand include halide ions, nitrate ions, cyanide ions and the like.

上記式(1)中、Kは対カチオンを表し、qは対カチオンKの価数(+1〜+2の整数)を表し、配位子Lの価数と数および対カチオンKの価数に応じて、sとtの値がそれぞれ定められる。上記対カチオンKとしては、オニウム類(例えば、ホスホニウムイオンやアンモニウムイオンなど)、ポリアミン・SiH2Cl+(例えば、ペデタ・SiH2Cl+、テエダ・SiH2Cl+など)等が挙げられる。 In the above formula (1), K represents a counter cation, q represents the valence of the counter cation K (an integer of +1 to +2), and depends on the valence and number of the ligand L and the valence of the counter cation K. The values of s and t are determined respectively. Examples of the countercation K include oniums (for example, phosphonium ion and ammonium ion), polyamine / SiH 2 Cl + (for example, pedeta / SiH 2 Cl + , teeda / SiH 2 Cl +, etc.) and the like.

なお、上記対カチオンKがポリアミン・SiH2Cl+である場合は、ルイス酸化合物と反応させた際に自然発火性ガスであるシランガスが発生することから、このようなシランガスの発生を抑えるために、対カチオンKはオニウム類であることが好ましい。また、対カチオンKがオニウム類であれば、環状ハロシラン化合物の塩と接触させて環状ハロシラン化合物を製造するときの環状ハロシラン化合物の収率が向上する点からも好ましい。 When the counter cation K is polyamine / SiH 2 Cl + , silane gas, which is a pyrophoric gas, is generated when the compound is reacted with the Lewis acid compound. Therefore, in order to suppress the generation of such silane gas. , The counter cation K is preferably oniums. Further, when the countercation K is onium, it is preferable from the viewpoint that the yield of the cyclic halosilane compound is improved when the cyclic halosilane compound is produced by contacting with the salt of the cyclic halosilane compound.

上記対カチオンKのオニウム類としては、下記式(2)で表されるホスホニウムイオンまたは下記式(3)で表されるアンモニウムイオンが好ましい。 As the oniums of the counter cation K, a phosphonium ion represented by the following formula (2) or an ammonium ion represented by the following formula (3) is preferable.

Figure 2020147463
Figure 2020147463

Figure 2020147463
Figure 2020147463

上記式(2)におけるR1〜R4および上記式(3)におけるR5〜R8は、各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を表す。 R 1 to R 4 in the above formula (2) and R 5 to R 8 in the above formula (3) independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group, respectively.

上記式(2)において、R1〜R4は各々異なっていてもよいが、全て同じ基であることが好ましい。上記式(3)において、R5〜R8は各々異なっていてもよいが、全て同じ基であることが好ましい。上記R1〜R4および上記R5〜R8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロへキシル基等の炭素数1〜16のアルキル基が好ましく挙げられ、炭素数1〜8のアルキル基がより好ましい。上記R1〜R4および上記R5〜R8のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6〜18のアリール基が好ましく挙げられ、炭素数6〜12のアリール基がより好ましい。 In the above formula (2), R 1 to R 4 may be different from each other, but it is preferable that they are all the same group. In the above formula (3), R 5 to R 8 may be different from each other, but it is preferable that they are all the same group. The alkyl groups of R 1 to R 4 and R 5 to R 8 include methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, cyclohexyl group and the like. Alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms are preferably mentioned, and alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms are more preferable. As the aryl group of R 1 to R 4 and R 5 to R 8 , preferably an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group is preferable, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is more preferable. ..

上記式(1)で表される環状ハロシラン化合物の塩としては、具体的には、テトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオン錯体([Si6Cl14 2-])の塩や、テトラデカブロモシクロヘキサシラン・ジアニオン錯体([Si6Br14 2-])の塩等が挙げられる。また、その対イオンとしては、ホスホニウムイオンまたはアンモニウムイオンが好ましい。 Specific examples of the salt of the cyclic halosilane compound represented by the above formula (1) include a salt of a tetradecachlorocyclohexasilane dianion complex ([Si 6 Cl 14 2- ]) and a tetradecabromocyclohexaci. Examples thereof include salts of orchid dianion complex ([Si 6 Br 14 2- ]). Further, as the counter ion, a phosphonium ion or an ammonium ion is preferable.

上記式(1)で表される環状ハロシラン化合物の塩としては、下記式(4)または下記式(5)で表される化合物を用いることが好ましい。環状ハロシラン化合物の塩としてこのような化合物を用いれば、環状ハロシラン化合物の塩とルイス酸化合物と反応させる際に、副生物の生成や自然発火性ガスであるシランガスの生成が抑えられるため、環状ハロシラン化合物を容易に製造できる。また、得られた環状ハロシラン化合物を還元して環状水素化シラン化合物を効率よく製造できる。 As the salt of the cyclic halosilane compound represented by the above formula (1), it is preferable to use a compound represented by the following formula (4) or the following formula (5). When such a compound is used as the salt of the cyclic halosilane compound, the formation of by-products and the formation of silane gas, which is a pyrophoric gas, can be suppressed when the salt of the cyclic halosilane compound is reacted with the Lewis acid compound. The compound can be easily produced. Further, the obtained cyclic halosilane compound can be reduced to efficiently produce a cyclic hydrogenated silane compound.

Figure 2020147463
Figure 2020147463

Figure 2020147463
Figure 2020147463

上記式(4)および上記式(5)において、X1、R1〜R4、R5〜R8、nおよびaは上記と同じ意味であり、X3はハロゲン原子を表す。なお、X3は、上記式(4)および上記式(5)ではイオンの形態で存在し、ハロゲン化物イオンとなっている。 In the above formula (4) and the above formula (5), X 1 , R 1 to R 4 , R 5 to R 8 , n and a have the same meanings as described above, and X 3 represents a halogen atom. In addition, X 3 exists in the form of an ion in the above formula (4) and the above formula (5), and is a halide ion.

上記X3のハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられ、好ましくは塩素原子または臭素原子であり、より好ましくは塩素原子である。上記X3が複数ある場合は、複数のX3は同一であっても異なっていてもよい。上記X1と上記X3は同一であっても異なっていてもよい。上記式(4)および上記式(5)において、X1とX3が全て塩素原子であれば、環状水素化シラン化合物を安価に製造できる。 Examples of the halogen atom of X 3 include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom and an iodine atom, preferably a chlorine atom or a bromine atom, and more preferably a chlorine atom. If the X 3 have more than one plurality of X 3 may be different even in the same. The above X 1 and the above X 3 may be the same or different. In the above formula (4) and the above formula (5), if X 1 and X 3 are all chlorine atoms, a cyclic hydrogenated silane compound can be produced at low cost.

上記式(4)および上記式(5)において、nは0〜5の整数を表し、aは1〜2n+6の整数を表すが、nは3であることが特に好ましく、この場合、aは6以上が好ましく、9以上がより好ましく、12が特に好ましい。 In the above formula (4) and the above formula (5), n represents an integer of 0 to 5, a represents an integer of 1 to 2n + 6, and n is particularly preferably 3, in which case a is 6 The above is preferable, 9 or more is more preferable, and 12 is particularly preferable.

上記環状ハロシラン化合物の塩は、ルイス酸化合物との反応に先立って、必要に応じて精製を行ってもよい。上記環状ハロシラン化合物の塩を精製して純度を高めることにより、ルイス酸化合物との反応で副生物の生成を抑えることができる。上記環状ハロシラン化合物の塩の精製は、固液分離、蒸留(溶媒留去)、晶析、抽出等の公知の精製方法を用いればよい。 The salt of the cyclic halosilane compound may be purified, if necessary, prior to the reaction with the Lewis acid compound. By purifying the salt of the cyclic halosilane compound to increase its purity, the formation of by-products can be suppressed by the reaction with the Lewis acid compound. The salt of the cyclic halosilane compound may be purified by a known purification method such as solid-liquid separation, distillation (solvent distilling), crystallization, and extraction.

第1反応工程では、上記環状ハロシラン化合物の塩をルイス酸化合物と反応させる。ルイス酸化合物の種類は特に限定されないが、金属ハロゲン化物を用いることが好ましい。 In the first reaction step, the salt of the cyclic halosilane compound is reacted with the Lewis acid compound. The type of the Lewis acid compound is not particularly limited, but it is preferable to use a metal halide.

上記金属ハロゲン化物を構成する金属元素としては、例えば、チタン、ジルコニウム等の4族元素、銅、銀、金等の11族元素、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等の13族元素、カルシウム、鉄、亜鉛等が挙げられ、これらの中でも13族元素が好ましく、アルミニウムがより好ましい。
上記金属ハロゲン化物としては、金属フッ化物、金属塩化物、金属臭化物、金属ヨウ化物等が挙げられるが、反応性や反応の制御の容易性の点から、金属塩化物を用いることが好ましい。
Examples of the metal elements constituting the metal halide include Group 4 elements such as titanium and zirconium, Group 11 elements such as copper, silver and gold, Group 13 elements such as boron, aluminum, gallium, indium and tarium, and calcium. , Iron, zinc and the like. Among these, Group 13 element is preferable, and aluminum is more preferable.
Examples of the metal halide include metal fluoride, metal chloride, metal bromide, and metal iodide, but it is preferable to use metal chloride from the viewpoint of reactivity and ease of control of the reaction.

上記ルイス酸化合物としては、具体的には、塩化チタン、臭化チタン等のハロゲン化チタン;塩化ジルコニウム、臭化ジルコニウムなどのハロゲン化ジルコニウム;塩化銅、臭化銅等のハロゲン化銅;塩化銀、臭化銀等のハロゲン化銀;塩化金、臭化金等のハロゲン化金;三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素;塩化アルミニウム、臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム;塩化ガリウム、臭化ガリウム等のハロゲン化ガリウム;塩化インジウム、臭化インジウム等のハロゲン化インジウム;塩化タリウム、臭化タリウム等のハロゲン化タリウム;塩化カルシウム、臭化カルシウム等のハロゲン化カルシウム;塩化鉄、臭化鉄等のハロゲン化鉄;塩化亜鉛、臭化亜鉛などのハロゲン化亜鉛;等が挙げられる。 Specific examples of the Lewis acid compound include titanium halides such as titanium chloride and titanium bromide; zirconium halides such as zirconium chloride and zirconium bromide; copper halides such as copper chloride and copper bromide; silver chloride. , Silver halides such as silver bromide; Gold halides such as gold chloride and gold bromide; Boron halides such as boron trifluoride, boron trichloride, boron tribromide; Halogenates such as aluminum chloride and aluminum bromide Aluminum bromide; gallium halide such as gallium chloride and gallium bromide; indium halide such as indium chloride and indium bromide; talium halide such as tallium chloride and talium bromide; calcium halide such as calcium chloride and calcium bromide ; Iron halide such as iron chloride and iron bromide; zinc halide such as zinc chloride and zinc bromide; and the like.

上記ルイス酸化合物の使用量は、環状ハロシラン化合物の塩とルイス酸化合物との反応性に応じて適宜調整すればよいが、例えば、環状ハロシラン化合物の塩1molに対して0.5mol以上が好ましく、1.5mol以上がより好ましく、また20mol以下が好ましく、10mol以下がより好ましい。 The amount of the Lewis acid compound used may be appropriately adjusted according to the reactivity between the salt of the cyclic halosilane compound and the Lewis acid compound. For example, 0.5 mol or more is preferable with respect to 1 mol of the salt of the cyclic halosilane compound. 1.5 mol or more is more preferable, 20 mol or less is preferable, and 10 mol or less is more preferable.

第1反応工程で使用する前記溶媒としては、有機溶媒が好ましく、例えば、炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル等のエーテル系溶媒;等が挙げられ、炭化水素系溶媒が好ましい。該炭化水素系溶媒としては、例えば、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどの脂肪族炭化水素系溶媒;ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素系溶媒;が挙げられ、脂肪族炭化水素系溶媒、トルエン、キシレンなどがより好ましく、脂肪族炭化水素系溶媒が特に好ましい。後述する様に、第1反応工程での溶媒が、第2反応工程の溶媒の少なくとも1種であることが好ましく、第2反応工程の溶媒を脂肪族炭化水素系溶媒にすると、反応系を効率よく冷却することができる。また本発明では第1反応工程の後、固体として含まれるルイス酸化合物の塩を除去する固液分離工程(ろ過工程など)を行うところ、第1反応工程に脂肪族炭化水素系溶媒を用いれば、前記固液分離工程で、第1反応工程での副生物(ルイス酸化合物の塩)の除去選択性を高めることができ、また第2反応工程においても使用する金属水素化物から生成する反応残渣(金属塩)を分離し易くなる。 The solvent used in the first reaction step is preferably an organic solvent, and examples thereof include a hydrocarbon solvent; an ether solvent such as diethyl ether, tetrahydrofuran, cyclopentyl methyl ether, diisopropyl ether, and methyl tertiary butyl ether; and the like. , A hydrocarbon solvent is preferable. Examples of the hydrocarbon-based solvent include aliphatic hydrocarbon-based solvents such as hexane, heptane, octane, nonane, and decane; aromatic hydrocarbon-based solvents such as benzene, toluene, and xylene; and aliphatic hydrocarbons. System solvents, toluene, xylene and the like are more preferable, and aliphatic hydrocarbon-based solvents are particularly preferable. As will be described later, the solvent in the first reaction step is preferably at least one of the solvents in the second reaction step, and when the solvent in the second reaction step is an aliphatic hydrocarbon solvent, the reaction system is made more efficient. Can be cooled well. Further, in the present invention, after the first reaction step, a solid-liquid separation step (filtration step or the like) for removing the salt of the Lewis acid compound contained as a solid is performed. If an aliphatic hydrocarbon-based solvent is used in the first reaction step, In the solid-liquid separation step, the removal selectivity of the by-product (salt of the Lewis acid compound) in the first reaction step can be enhanced, and the reaction residue generated from the metal hydrocarbon used in the second reaction step. (Metal salt) can be easily separated.

なお、上記反応溶媒は、その中に含まれる水や溶存酸素を取り除くため、事前に蒸留や脱水等の精製を施しておくことが好ましい。 The reaction solvent is preferably purified in advance by distillation, dehydration, or the like in order to remove water and dissolved oxygen contained therein.

上記反応溶媒の使用量は特に限定されないが、通常、環状ハロシラン化合物の塩の濃度が0.005mol/L以上、10mol/L以下となるように調整することが好ましく、より好ましい濃度は0.01mol/L以上、さらに好ましい濃度は0.10mol/L以上であり、より好ましい濃度は5mol/L以下、さらに好ましい濃度は1mol/L以下である。 The amount of the reaction solvent used is not particularly limited, but it is usually preferable to adjust the concentration of the salt of the cyclic halosilane compound to be 0.005 mol / L or more and 10 mol / L or less, and a more preferable concentration is 0.01 mol. / L or more, a more preferable concentration is 0.10 mol / L or more, a more preferable concentration is 5 mol / L or less, and a further preferable concentration is 1 mol / L or less.

上記反応溶媒中で環状ハロシラン化合物の塩とルイス酸化合物とを接触させる方法は特に限定されないが、例えば、(1)環状ハロシラン化合物の塩およびルイス酸化合物のそれぞれを予め溶媒中に溶解または分散させることによって、環状ハロシラン化合物の塩の溶液(または分散液)とルイス酸化合物の溶液(または分散液)を調製した後、これらの溶液(または分散液)を混合する方法、(2)溶媒に、環状ハロシラン化合物の塩とルイス酸化合物を同時にまたは順次加える方法、(3)環状ハロシラン化合物の塩の溶液(または分散液)にルイス酸化合物を加える方法、(4)環状ハロシラン化合物の塩とルイス酸化合物とを仕込み、そこに溶媒を加える方法;等が挙げられる。 The method for contacting the salt of the cyclic halosilane compound with the Lewis acid compound in the above reaction solvent is not particularly limited. For example, (1) the salt of the cyclic halosilane compound and the Lewis acid compound are each dissolved or dispersed in the solvent in advance. A method of preparing a solution (or dispersion) of a salt of a cyclic halosilane compound and a solution (or dispersion) of a Lewis acid compound, and then mixing these solutions (or dispersion), (2) in a solvent. A method of adding a salt of a cyclic halosilane compound and a Lewis acid compound simultaneously or sequentially, (3) a method of adding a Lewis acid compound to a solution (or dispersion) of a salt of a cyclic halosilane compound, (4) a method of adding a salt of a cyclic halosilane compound and Lewis acid. Examples thereof include a method in which a compound is charged and a solvent is added thereto.

上記環状ハロシラン化合物の塩と上記ルイス酸化合物とを接触させて反応を行うときの温度は、反応性に応じて適宜調整すればよいが、例えば、−80℃以上が好ましく、−50℃以上がより好ましく、−30℃以上がさらに好ましく、また200℃以下が好ましく、150℃以下がより好ましく、100℃以下がさらに好ましい。 The temperature at which the salt of the cyclic halosilane compound and the Lewis acid compound are brought into contact with each other to carry out the reaction may be appropriately adjusted according to the reactivity, but for example, -80 ° C or higher is preferable, and -50 ° C or higher is preferable. More preferably, it is more preferably −30 ° C. or higher, further preferably 200 ° C. or lower, further preferably 150 ° C. or lower, still more preferably 100 ° C. or lower.

上記環状ハロシラン化合物の塩と上記ルイス酸化合物との接触を行うときの時間は、反応温度、反応の進行の程度に応じて適宜設定すればよいが、例えば、1時間以上が好ましく、2時間以上がより好ましく、3時間以上がさらに好ましい。また上記反応時間は、48時間以下が好ましく、24時間以下がより好ましく、15時間以下がさらに好ましい。 The time for contacting the salt of the cyclic halosilane compound with the Lewis acid compound may be appropriately set according to the reaction temperature and the degree of progress of the reaction. For example, 1 hour or more is preferable, and 2 hours or more is preferable. Is more preferable, and 3 hours or more is further preferable. The reaction time is preferably 48 hours or less, more preferably 24 hours or less, and even more preferably 15 hours or less.

上記環状ハロシラン化合物の塩と上記ルイス酸化合物との反応を促進させるために、加熱および/または撹拌を行ってもよい。 Heating and / or stirring may be carried out in order to accelerate the reaction between the salt of the cyclic halosilane compound and the Lewis acid compound.

上記環状ハロシラン化合物の塩と上記ルイス酸化合物とを接触させて反応を行うときの雰囲気は特に限定されないが、環状ハロシラン化合物およびその塩の酸化を抑制するために、当該雰囲気の酸素濃度は9体積%以下が好ましく、5体積%以下がより好ましく、3体積%以下がさらに好ましく、1体積%以下が特に好ましい。 The atmosphere when the salt of the cyclic halosilane compound and the Lewis acid compound are brought into contact with each other to carry out the reaction is not particularly limited, but in order to suppress the oxidation of the cyclic halosilane compound and its salt, the oxygen concentration in the atmosphere is 9 volumes. % Or less is preferable, 5% by volume or less is more preferable, 3% by volume or less is further preferable, and 1% by volume or less is particularly preferable.

また、環状ハロシラン化合物およびその塩の加水分解を抑えるために、上記雰囲気の水分濃度は2000ppm(体積基準)以下が好ましく、1500ppm(体積基準)以下がより好ましく、1000ppm(体積基準)以下がさらに好ましく、500ppm(体積基準)以下がさらにより好ましく、150ppm(体積基準)以下が特に好ましく、10ppm(体積基準)以下が最も好ましい。 Further, in order to suppress the hydrolysis of the cyclic halosilane compound and its salt, the water concentration in the above atmosphere is preferably 2000 ppm (volume basis) or less, more preferably 1500 ppm (volume basis) or less, and further preferably 1000 ppm (volume basis) or less. , 500 ppm (volume basis) or less is even more preferable, 150 ppm (volume basis) or less is particularly preferable, and 10 ppm (volume basis) or less is most preferable.

上記環状ハロシラン化合物の塩と上記ルイス酸化合物との反応は、不活性ガス(例えば、窒素ガスやアルゴンガスなど)雰囲気下で行うことも好ましく、また遮光下で行うことも好ましい。 The reaction between the salt of the cyclic halosilane compound and the Lewis acid compound is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas (for example, nitrogen gas or argon gas), and is also preferably carried out in a light-shielded state.

第1反応工程では、例えば、上記式(1)で表される環状ハロシラン化合物の塩から下記式(6)で表される環状ハロシラン化合物を得ることができる。 In the first reaction step, for example, the cyclic halosilane compound represented by the following formula (6) can be obtained from the salt of the cyclic halosilane compound represented by the above formula (1).

Figure 2020147463
Figure 2020147463

上記式(6)において、X1、X2、a〜e、nは上記と同じ意味を表す。 In the above formula (6), X 1 , X 2 , a to e, and n have the same meanings as described above.

II.固液分離工程
上記の様にして調製された環状ハロシラン化合物を含む反応液(A)は、目的物である環状ハロシラン化合物が溶解している一方で、副生物であるルイス酸化合物の塩が固体として析出している。そこで固液分離工程によって、固体(ルイス酸化合物の塩)を除去し、液体(環状ハロシラン化合物が溶解している液)を回収する。この固液分離工程としては、ろ過、沈殿分離、遠心分離、デカンテーション等が挙げられ、ろ過が好ましい。ろ過によれば、固液分離を簡便かつ精度よく行うことができる。
II. Solid-liquid separation step In the reaction solution (A) containing the cyclic halosilane compound prepared as described above, the target cyclic halosilane compound is dissolved, while the salt of the Lewis acid compound, which is a by-product, is solid. It is precipitated as. Therefore, the solid (salt of the Lewis acid compound) is removed by the solid-liquid separation step, and the liquid (the liquid in which the cyclic halosilane compound is dissolved) is recovered. Examples of this solid-liquid separation step include filtration, precipitation separation, centrifugation, decantation, and the like, and filtration is preferable. According to filtration, solid-liquid separation can be performed easily and accurately.

前記固液分離工程では、分離された固体を適当な溶媒で洗浄し、この洗浄液をろ液と混合してもよい。洗浄液を加えることで、環状ハロシラン化合物の回収率を高めることができる。洗浄液に使用する溶媒は、第1反応工程で例示した反応溶媒と同様の範囲から選択でき、第1反応工程で使用した反応溶媒と同じであってもよい。好ましい洗浄溶媒は、脂肪族炭化水素系溶媒である。 In the solid-liquid separation step, the separated solid may be washed with an appropriate solvent, and the washing liquid may be mixed with the filtrate. By adding the cleaning liquid, the recovery rate of the cyclic halosilane compound can be increased. The solvent used in the washing liquid can be selected from the same range as the reaction solvent exemplified in the first reaction step, and may be the same as the reaction solvent used in the first reaction step. A preferred cleaning solvent is an aliphatic hydrocarbon solvent.

なお環状ハロシラン化合物を含む反応液(A)の調製後であって前記固液分離工程の前、及び/又は前記分離工程の後において、環状ハロシランの溶解状態を維持できる限り、第1反応工程で使用した反応溶媒を留去する工程(例えば、濃縮工程)を行ってもよい。また第1反応工程で使用した反応溶媒の留去前、留去中、及び留去後から選ばれる少なくとも1つの段階で、留去する溶媒と同じ溶媒又は異なる溶媒を追加してもよく、溶媒の留去と追加を組み合わせた工程は、濃度調整工程又は溶媒置換工程などと称される。これら濃縮工程、濃度調整工程、溶媒置換工程などを行った場合であっても、調製される環状ハロシラン化合物を含む溶液は、第1反応工程で用いた溶媒を含有していることが好ましい。 In the first reaction step, as long as the dissolved state of the cyclic halosilane can be maintained after the preparation of the reaction solution (A) containing the cyclic halosilane compound and before the solid-liquid separation step and / or after the separation step. A step of distilling off the used reaction solvent (for example, a concentration step) may be performed. Further, the same solvent as the solvent to be distilled off or a different solvent may be added at at least one step selected before, during the distillation, and after the distillation of the reaction solvent used in the first reaction step. The step of combining the distillation and addition of distillate is referred to as a concentration adjusting step or a solvent replacement step. Even when the concentration step, the concentration adjustment step, the solvent replacement step and the like are performed, it is preferable that the solution containing the cyclic halosilane compound to be prepared contains the solvent used in the first reaction step.

III.第2反応工程
第2反応工程は、第1反応工程及び固液分離工程で得られた環状ハロシラン化合物を含む溶液を金属水素化物と接触させて環状水素化シラン化合物を含む反応液(B)を得る工程である。
III. Second reaction step In the second reaction step, the solution containing the cyclic halosilane compound obtained in the first reaction step and the solid-liquid separation step is brought into contact with the metal hydride to prepare the reaction solution (B) containing the cyclic hydrogenated silane compound. This is the process of obtaining.

金属水素化物としては、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビス(2−メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム等の水素化アルミニウム化合物;水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム、水素化ホウ素ニッケル、水素化ホウ素亜鉛等の水素化ホウ素化合物;水素化トリブチルスズ等の水素化スズ化合物;水素化遷移金属化合物;等が挙げられる。これらの金属水素化物は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Examples of the metal hydride include aluminum hydride compounds such as lithium aluminum hydride, diisobutylaluminum hydride, and sodium bis (2-methoxyethoxy) borohydride; sodium borohydride, lithium triethylborohydride, and boron borohydride. Examples thereof include boron borohydride compounds such as nickel and zinc borohydride; tin hydride compounds such as tributyltin hydride; and transition metal compounds hydride. Only one kind of these metal hydrides may be used, or two or more kinds may be used in combination.

上記金属水素化物の使用量は適宜設定すればよく、例えば、環状ハロシラン化合物の有するケイ素−ハロゲン結合1個に対する金属水素化物のヒドリドの当量が0.5当量以上となることが好ましく、0.8当量以上がより好ましく、0.9当量以上がさらに好ましく、また15当量以下が好ましく、5当量以下がより好ましく、2当量以下がさらに好ましい。上記金属水素化物の使用量が少なすぎると、収率が低下する傾向にあるため好ましくない。一方、上記金属水素化物の使用量が多すぎると、後処理に時間を要し、生産性が低下する傾向にあるため好ましくない。 The amount of the metal hydride used may be appropriately set. For example, the equivalent of hydride of the metal hydride with respect to one silicon-halogen bond of the cyclic halosilane compound is preferably 0.5 equivalent or more, preferably 0.8. Equivalent or more is more preferable, 0.9 equivalent or more is further preferable, 15 equivalent or less is preferable, 5 equivalent or less is more preferable, and 2 equivalent or less is further preferable. If the amount of the metal hydride used is too small, the yield tends to decrease, which is not preferable. On the other hand, if the amount of the metal hydride used is too large, it takes time for post-treatment and the productivity tends to decrease, which is not preferable.

第2反応工程では、環状ハロシラン化合物を含む溶液が含有する溶媒をそのまま反応溶媒として使用することが好ましいが、必要により、前記第2反応工程の溶媒として第1反応工程で用いた溶媒以外の溶媒を含んでいてもよい。第1反応工程で用いた溶媒以外の溶媒は、第2反応工程の開始後に加えてもよく、金属水素化物を溶解又は分散させるための溶媒であってもよい。第2反応工程で使用する溶媒は、第1反応工程の溶媒として例示したものから適宜選択して使用できる。 In the second reaction step, it is preferable to use the solvent contained in the solution containing the cyclic halosilane compound as it is as the reaction solvent, but if necessary, a solvent other than the solvent used in the first reaction step as the solvent in the second reaction step. May include. The solvent other than the solvent used in the first reaction step may be added after the start of the second reaction step, or may be a solvent for dissolving or dispersing the metal hydride. The solvent used in the second reaction step can be appropriately selected from those exemplified as the solvent in the first reaction step.

第2反応工程で使用される全溶媒100質量%中、第1反応工程と共通する溶媒の量は、例えば、30質量%以上、好ましくは50質量%以上、より好ましくは80質量%以上であり、100質量%であってもよい。 The amount of the solvent common to the first reaction step is, for example, 30% by mass or more, preferably 50% by mass or more, and more preferably 80% by mass or more, based on 100% by mass of the total solvent used in the second reaction step. , 100% by mass.

第2反応工程の溶媒としては、飽和脂肪族炭化水素が特に好ましく、飽和脂肪族炭化水素の量は、第2反応工程の反応終了時の全溶媒100質量%中、例えば、30質量%以上、好ましくは40質量%以上、より好ましくは50質量%以上である。第2反応工程での飽和脂肪族炭化水素の量が多いほど、第2反応工程での副生物(金属水素化物の反応残渣である金属塩)を固液分離で除去することが容易になり、好ましい。 As the solvent in the second reaction step, saturated aliphatic hydrocarbons are particularly preferable, and the amount of saturated aliphatic hydrocarbons is, for example, 30% by mass or more in 100% by mass of the total solvent at the end of the reaction in the second reaction step. It is preferably 40% by mass or more, more preferably 50% by mass or more. The larger the amount of saturated aliphatic hydrocarbon in the second reaction step, the easier it is to remove by-products (metal salts that are the reaction residue of the metal hydride) in the second reaction step by solid-liquid separation. preferable.

反応開始時の環状ハロシラン化合物の濃度(すなわち、前記環状ハロシラン化合物を含む溶液における環状ハロシラン化合物の濃度)は、環状ハロシラン化合物が溶解する範囲で設定でき、例えば、1質量%以上、好ましくは3質量%以上、より好ましくは5質量%以上であり、例えば、80質量%以下、好ましくは70質量%以下、より好ましくは50質量%以下である。 The concentration of the cyclic halosilane compound at the start of the reaction (that is, the concentration of the cyclic halosilane compound in the solution containing the cyclic halosilane compound) can be set within a range in which the cyclic halosilane compound dissolves, and is, for example, 1% by mass or more, preferably 3% by mass. % Or more, more preferably 5% by mass or more, for example, 80% by mass or less, preferably 70% by mass or less, more preferably 50% by mass or less.

環状ハロシラン化合物を含む溶液と金属水素化物とを接触させる方法は特に限定されないが、例えば、(1)環状ハロシラン化合物の溶液と金属水素化物の一方を他方に加える方法、(2)環状ハロシラン化合物の溶液と、金属水素化物及び溶媒を含む溶液又は分散液とを調製し、適当な手順で両者を混合する方法;等が挙げられ、上記(2)の態様が好ましい。 The method of contacting the solution containing the cyclic halosilane compound with the metal hydride is not particularly limited, and for example, (1) a method of adding one of the solution of the cyclic halosilane compound and the metal hydride to the other, and (2) the cyclic halosilane compound. A method of preparing a solution and a solution or dispersion containing a metal hydride and a solvent and mixing the two in an appropriate procedure; and the like are mentioned, and the aspect (2) above is preferable.

上記(2)の態様としては、(A)反応容器内に環状ハロシラン化合物の溶液を仕込んでおき、これに金属水素化物の溶液または分散液を添加する態様、(B)反応器内に金属水素化物の溶液または分散液を仕込んでおき、これに環状ハロシラン化合物の溶液を添加する態様、(C)必要に応じて溶媒を仕込んでおいた反応器内に、環状ハロシラン化合物の溶液と金属水素化物の溶液または分散液とを同時または順次添加する態様が挙げられる。 As the aspect of (2) above, (A) a solution of a cyclic halosilane compound is charged in a reaction vessel, and a solution of a metal hydride or a dispersion is added thereto, and (B) metal hydrogen in a reactor. A mode in which a solution or dispersion of a compound is charged and a solution of a cyclic halosilane compound is added thereto. (C) A solution of the cyclic halosilane compound and a metal hydride are placed in a reactor in which a solvent is charged if necessary. Examples thereof include a mode in which the solution or dispersion of the above is added simultaneously or sequentially.

上記環状ハロシラン化合物の溶液と金属水素化物の溶液又は分散液とを混合する場合、金属水素化物の濃度は、例えば、0.1mol/L以上、好ましくは0.3mol/L以上、より好ましくは0.5mol/L以上であり、例えば、20mol/L以下、好ましくは10mol/L以下、より好ましくは5mol/L以下である。 When the solution of the cyclic halosilane compound and the solution or dispersion of the metal hydride are mixed, the concentration of the metal hydride is, for example, 0.1 mol / L or more, preferably 0.3 mol / L or more, more preferably 0. It is .5 mol / L or more, for example, 20 mol / L or less, preferably 10 mol / L or less, and more preferably 5 mol / L or less.

第2反応工程の反応温度は、例えば、−50℃以上が好ましく、−30℃以上がより好ましく、−20℃以上がさらに好ましく、また80℃以下が好ましく、70℃以下がより好ましく、60℃以下がさらに好ましく、50℃以下が特に好ましい。第2反応工程の反応時間は、反応の進行の程度に応じて適宜調整すればよく、例えば、10分以上が好ましく、1時間以上がより好ましく、2時間以上がさらに好ましく、また72時間以下が好ましく、48時間以下がより好ましく、24時間以下がさらに好ましい。 The reaction temperature in the second reaction step is, for example, preferably −50 ° C. or higher, more preferably −30 ° C. or higher, further preferably −20 ° C. or higher, further preferably 80 ° C. or lower, more preferably 70 ° C. or lower, and more preferably 60 ° C. The following is more preferable, and 50 ° C. or lower is particularly preferable. The reaction time of the second reaction step may be appropriately adjusted according to the degree of progress of the reaction. For example, 10 minutes or more is preferable, 1 hour or more is more preferable, 2 hours or more is further preferable, and 72 hours or less is preferable. It is preferably 48 hours or less, more preferably 24 hours or less.

上記環状水素化シラン化合物は、禁酸素性物質である。そのため上記第2反応工程は、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス雰囲気下で行うことが好ましい。 The cyclic hydride silane compound is an oxygen-free substance. Therefore, the second reaction step is preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas.

上記第2反応工程で得られた環状水素化シラン化合物は、純度を高めるために精製を行ってもよい。環状水素化シラン化合物の精製方法としては、固液分離、蒸留、晶析、抽出等の公知の精製方法を採用できる。例えば固液分離を行えば、金属水素化物の反応残渣である金属塩を簡便に除去できる。 The cyclic hydrogenated silane compound obtained in the second reaction step may be purified in order to increase the purity. As a method for purifying the cyclic hydrogenated silane compound, known purification methods such as solid-liquid separation, distillation, crystallization, and extraction can be adopted. For example, solid-liquid separation can be performed to easily remove the metal salt which is the reaction residue of the metal hydride.

また蒸留を行えば、環状水素化シラン化合物よりも低沸点の軽沸不純物や、環状水素化シラン化合物よりも高沸点の高沸不純物を除去できる。本発明では、第1反応工程で環状ハロシラン化合物を溶解する反応液(A)を得た後、環状ハロシラン化合物を濃縮固化することなく第2反応工程で使用しているため、反応液(A)に溶解する低沸点不純物(低分子量のケイ素化合物など)を第2反応工程の不純物として含んでおり、こうした低沸点不純物は、第2反応工程後の蒸留によって除去できる。 Further, by performing distillation, light boiling impurities having a lower boiling point than the cyclic hydride silane compound and high boiling impurities having a higher boiling point than the cyclic hydride silane compound can be removed. In the present invention, after obtaining the reaction solution (A) in which the cyclic halosilane compound is dissolved in the first reaction step, the cyclic halosilane compound is used in the second reaction step without being concentrated and solidified. Therefore, the reaction solution (A) It contains low boiling point impurities (such as low molecular weight silicon compounds) that dissolve in the second reaction step, and these low boiling point impurities can be removed by distillation after the second reaction step.

前記蒸留としては、短行程蒸留、薄膜式蒸留、分子蒸留などの精密蒸留、蒸留塔での蒸留などが挙げられ、これら蒸留を適宜組み合わせて行ってもよい。特に前記精密蒸留を行った後、蒸留塔で蒸留することが好ましい。 Examples of the distillation include short-stroke distillation, thin-film distillation, precision distillation such as molecular distillation, and distillation in a distillation column, and these distillations may be appropriately combined. In particular, it is preferable to perform the precision distillation and then distill in a distillation column.

精密蒸留での圧力は、例えば、3kPa以下の減圧度(絶対圧力)で行うことが好ましく、より好ましくは1kPa以下、さらに好ましくは500Pa以下、特に好ましくは200Pa以下の減圧度(絶対圧力)である。精密蒸留での減圧度(絶対圧力)の下限は特に限定されないが、実操業上、1Pa以上が好ましく、10Pa以上がより好ましい。精密蒸留での蒸留温度は、例えば、25〜80℃、好ましくは30〜70℃、より好ましくは35〜65℃である。 The pressure in precision distillation is, for example, preferably performed at a decompression degree (absolute pressure) of 3 kPa or less, more preferably 1 kPa or less, still more preferably 500 Pa or less, and particularly preferably 200 Pa or less (absolute pressure). .. The lower limit of the degree of decompression (absolute pressure) in precision distillation is not particularly limited, but in actual operation, 1 Pa or more is preferable, and 10 Pa or more is more preferable. The distillation temperature in precision distillation is, for example, 25 to 80 ° C, preferably 30 to 70 ° C, and more preferably 35 to 65 ° C.

蒸留塔での蒸留は、5kPa以下の減圧度(絶対圧力)で行うことが好ましく、より好ましくは2kPa以下、さらに好ましくは1kPa以下、特に好ましくは200Pa以下の減圧度(絶対圧力)である。減圧度(絶対圧力)の下限は特に限定されないが、実操業上、5Pa以上が好ましく、10Pa以上がより好ましい。蒸留塔での蒸留の温度は、例えば、30〜100℃であり、好ましくは35〜90℃であり、さらに好ましくは40〜85℃である。精密蒸留で採用した温度よりも高い温度に設定しておくことが好ましい。 Distillation in the distillation column is preferably performed at a decompression degree (absolute pressure) of 5 kPa or less, more preferably 2 kPa or less, still more preferably 1 kPa or less, and particularly preferably 200 Pa or less. The lower limit of the degree of decompression (absolute pressure) is not particularly limited, but in actual operation, 5 Pa or more is preferable, and 10 Pa or more is more preferable. The temperature of distillation in the distillation column is, for example, 30 to 100 ° C., preferably 35 to 90 ° C., and more preferably 40 to 85 ° C. It is preferable to set the temperature higher than the temperature used in precision distillation.

第2反応工程で得られる環状水素化シラン化合物は、ケイ素原子が連なって構成される単素環を有し、ケイ素原子と水素原子から構成される化合物である。環状水素化シラン化合物は、単素環を構成するケイ素原子の全ての置換位置に水素原子が結合してもよく、単素環を構成するケイ素原子に無置換のシリル基が結合しているものであってもよい。ただし、保存安定性の観点から、単素環を構成するケイ素原子以外のケイ素原子を含まないことが好ましい。環状ハロシラン化合物の塩ではなく環状ハロシラン化合物を還元することによって、当該塩の対カチオンに由来するシランガスの発生がなく、全体としてシランガスの発生を抑制できるため、環状水素化シラン化合物を高収率かつ簡便に得ることができる。 The cyclic hydride silane compound obtained in the second reaction step is a compound having a monoprime ring composed of a series of silicon atoms and composed of a silicon atom and a hydrogen atom. The cyclic hydrogenated silane compound may have a hydrogen atom bonded to all the substitution positions of the silicon atom constituting the monoelement ring, and an unsubstituted silyl group is bonded to the silicon atom constituting the monoelement ring. It may be. However, from the viewpoint of storage stability, it is preferable that the silicon atom other than the silicon atom constituting the monoprime ring is not contained. By reducing the cyclic halosilane compound instead of the salt of the cyclic halosilane compound, the generation of silane gas derived from the countercation of the salt is not generated, and the generation of silane gas can be suppressed as a whole. Therefore, the cyclic hydrogenated silane compound can be produced in high yield. It can be easily obtained.

環状水素化シラン化合物は、下記式(7)で表される化合物が好ましい。
Siz2z (7)
The cyclic hydrogenated silane compound is preferably a compound represented by the following formula (7).
Si z H 2z (7)

上記式(7)中、zは単素環を構成するケイ素原子の数を表し、zは3以上が好ましく、4以上がより好ましく、5以上がさらに好ましく、また8以下が好ましく、7以下がより好ましく、6以下がさらに好ましい。
なお、薄膜シリコンの形成に有用となる点から、単素環を構成するケイ素原子の数は6(すなわちz=6)が特に好ましい。また、同様の観点から、第2反応工程に供する環状ハロシラン化合物は、下記式(8)で表される化合物が好ましく、下記式(9)で表される化合物がより好ましい。
Siz1 a(2z-a) (8)
Siz1 2z (9)
In the above formula (7), z represents the number of silicon atoms constituting the monoprime ring, and z is preferably 3 or more, more preferably 4 or more, further preferably 5 or more, still preferably 8 or less, and preferably 7 or less. More preferably, 6 or less is further preferable.
The number of silicon atoms constituting the monoprime ring is particularly preferably 6 (that is, z = 6) from the viewpoint of being useful for forming thin film silicon. From the same viewpoint, the cyclic halosilane compound to be used in the second reaction step is preferably a compound represented by the following formula (8), and more preferably a compound represented by the following formula (9).
Si z X 1 a H (2z-a) (8)
Si z X 1 2z (9)

上記式(8)および上記式(9)中、X1とaの態様や好ましい態様は、特に言及する場合を除き、上記式(1)におけるX1とaとそれぞれ同じであり、zの態様や好ましい態様は、特に言及する場合を除き、上記式(7)におけるzと同じ意味を表す。 In the above formula (8) and the above formula (9), the modes of X 1 and a and the preferred modes are the same as those of X 1 and a in the above formula (1), respectively, unless otherwise specified, and the mode of z. And a preferred embodiment have the same meaning as z in the above formula (7), unless otherwise specified.

IV.環状ハロシラン化合物の塩の製造工程
なお、本発明の第1反応工程の原料である環状ハロシラン化合物の塩の製造方法は公知の方法を適宜採用でき、例えば、ハロシラン化合物と、第三級ポリアミンとを接触させたり、ハロシラン化合物と、ホスホニウム塩およびアンモニウム塩の少なくとも一方とを接触させることによって製造でき、ハロシラン化合物と、ホスホニウム塩およびアンモニウム塩の少なくとも一方とを接触させることによって製造することが好ましい。ハロシラン化合物と、ホスホニウム塩およびアンモニウム塩の少なくとも一方とを接触させると、ハロシラン化合物の環化カップリング反応が起こり、ハロシラン化合物のケイ素原子が連なって形成された環を含む環状ハロシラン化合物と、ホスホニウムイオンまたはアンモニウムイオンとの塩が得られる(以下、環化カップリング工程ということがある)。
IV. Step for Producing Salt of Cyclic Halosilane Compound In addition, a known method can be appropriately adopted as a method for producing a salt of the cyclic halosilane compound which is a raw material of the first reaction step of the present invention. For example, a halosilane compound and a tertiary polyamine are used. It can be produced by contacting or by contacting the halosilane compound with at least one of the phosphonium salt and the ammonium salt, and preferably by contacting the halosilane compound with at least one of the phosphonium salt and the ammonium salt. When the halosilane compound is brought into contact with at least one of the phosphonium salt and the ammonium salt, a cyclization coupling reaction of the halosilane compound occurs, and the cyclic halosilane compound containing a ring formed by connecting the silicon atoms of the halosilane compound and the phosphonium ion. Alternatively, a salt with ammonium ion can be obtained (hereinafter, may be referred to as a cyclization coupling step).

上記ハロシラン化合物としては、ヘキサクロロジシラン、ヘキサブロモジシラン、ヘキサヨードジシラン等のハロゲン化ジシランや、ハロゲン化モノシラン化合物を用いることができ、ハロゲン化モノシラン化合物を用いることが好ましい。ハロゲン化モノシラン化合物を用いると、環構造を形成するケイ素原子以外にはケイ素原子を含まない環状ハロシラン化合物の塩を製造することができ、保存時や後反応でのシランガスの発生を抑制できる。 As the halosilane compound, a halogenated disilane such as hexachlorodisilane, hexabromodisilane, or hexaiododisilane, or a halogenated monosilane compound can be used, and it is preferable to use a halogenated monosilane compound. When the halogenated monosilane compound is used, a salt of a cyclic halosilane compound containing no silicon atom other than the silicon atom forming the ring structure can be produced, and the generation of silane gas during storage or post-reaction can be suppressed.

上記ハロゲン化モノシラン化合物としては、例えば、トリクロロシラン、トリブロモシラン、トリヨードシラン、トリフルオロシラン等のトリハロゲン化シラン;ジクロロシラン、ジブロモシラン、ジヨードシラン、ジフルオロシラン等のジハロゲン化シラン;テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラヨードシラン、テトラフルオロシラン等のテトラハロゲン化シラン;等が挙げられ、これらの中でもトリハロゲン化シランが好ましく、トリクロロシランがより好ましい。 Examples of the halogenated monosilane compound include trihalogenated silanes such as trichlorosilane, tribromosilane, triiodosilane and trifluorosilane; dihalogenated silanes such as dichlorosilane, dibromosilane, diiodosilane and difluorosilane; tetrachlorosilane, Tetrahalogenated silanes such as tetrabromosilane, tetraiodosilane, and tetrafluorosilane; and the like are mentioned, and among these, trihalogenated silane is preferable, and trichlorosilane is more preferable.

上記ホスホニウム塩は、第四級ホスホニウム塩であることが好ましく、下記式(10)で表される塩が好ましく挙げられる。また、上記アンモニウム塩は、第四級アンモニウム塩であることが好ましく、下記式(11)で表される塩が好ましく挙げられる。 The phosphonium salt is preferably a quaternary phosphonium salt, and a salt represented by the following formula (10) is preferably mentioned. Further, the ammonium salt is preferably a quaternary ammonium salt, and a salt represented by the following formula (11) is preferably mentioned.

Figure 2020147463
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Figure 2020147463
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上記式(10)におけるR1〜R4および上記式(11)におけるR5〜R8の態様や好ましい態様は、特に言及する場合を除き、上記式(2)および上記式(3)と同じ意味であり、A-は1価のアニオンを示す。 The embodiments and preferred embodiments of R 1 to R 4 in the above formula (10) and R 5 to R 8 in the above formula (11) are the same as those in the above formula (2) and the above formula (3) unless otherwise specified. have the meanings, a - represents a monovalent anion.

上記式(10)および上記式(11)において、A-で示される1価のアニオンとしては、ハロゲン化物イオン(例えば、Cl-、Br-、I-等)、ボレートイオン(例えば、BF4 -)、リン系アニオン(例えば、PF6 -)等が挙げられる。これらの中でも、入手の容易さの点から、Cl-、Br-、I-が好ましく、Cl-またはBr-が特に好ましい。 In the above formula (10) and the formula (11), A - Examples of the monovalent anion represented by the halide ion (e.g., Cl -, Br -, I - , etc.), borate ions (e.g., BF 4 - ), phosphorus-based anions (e.g., PF 6 -) and the like. Among these, Cl , Br , and I are preferable, and Cl or Br is particularly preferable from the viewpoint of easy availability.

上記環化カップリング工程において、ホスホニウム塩とアンモニウム塩は、どちらか一方のみ用いてもよく、両方用いてもよい。上記ホスホニウム塩は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。上記アンモニウム塩は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 In the cyclization coupling step, only one of the phosphonium salt and the ammonium salt may be used, or both may be used. As the phosphonium salt, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination. As the ammonium salt, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

上記式(10)において、R1〜R4は各々異なっていてもよいが、全て同じ基であることが好ましい。上記式(11)において、R5〜R8は各々異なっていてもよいが、全て同じ基であることが好ましい。 In the above formula (10), R 1 to R 4 may be different from each other, but it is preferable that they are all the same group. In the above formula (11), R 5 to R 8 may be different from each other, but it is preferable that they are all the same group.

上記式(10)で表されるホスホニウム塩や上記式(11)で表されるアンモニウム塩を用いることによって、上記式(4)や上記式(5)で表される環状ハロシラン化合物の塩を得ることができ、特に、6員のケイ素単素環を含み、この単素環を形成するケイ素原子以外にケイ素原子を含まない環状ハロシラン化合物の塩を容易に得ることができる。 By using the phosphonium salt represented by the above formula (10) or the ammonium salt represented by the above formula (11), a salt of the cyclic halosilane compound represented by the above formula (4) or the above formula (5) can be obtained. In particular, a salt of a cyclic halosilane compound containing a 6-membered silicon monoelement ring and containing no silicon atom other than the silicon atom forming the monoelement ring can be easily obtained.

例えば、ハロシラン化合物としてトリクロロシランを用い、ホスホニウム塩として上記式(10)中のA-が塩素イオン(Cl-)であり、R1〜R4がフェニル基である化合物を用いた場合には、ドデカクロロジヒドロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩(例えば、[Ph4+2[Si62Cl122-)、トリデカクロロヒドロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩(例えば、[Ph4+2[Si6HCl132-)、テトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩(例えば、[Ph4+2[Si6Cl142-)等の、環状ハロシラン化合物のジアニオンとホスホニウムイオンとからなる塩が得られる。 For example, when trichlorosilane is used as the halosilane compound and a compound in which A in the above formula (10) is a chlorine ion (Cl ) and R 1 to R 4 are phenyl groups is used as the phosphonium salt, Dodecachlorodihydrocyclohexasilane dianion salt (eg, [Ph 4 P + ] 2 [Si 6 H 2 Cl 12 ] 2- ), tridecachlorohydrocyclohexasilane dianion salt (eg, [Ph 4 P + ]] Dianions and phosphonium ions of cyclic halosilane compounds such as 2 [Si 6 HCl 13 ] 2- ), tetradecachlorocyclohexasilane dianion salts (eg [Ph 4 P + ] 2 [Si 6 Cl 14 ] 2- ) A salt consisting of is obtained.

また、ハロシラン化合物としてトリクロロシランを用い、アンモニウム塩として上記式(11)中のA-が臭素イオン(Br-)であり、R5〜R8がエチル基である化合物を用いた場合には、ドデカクロロジヒドロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩(例えば、[Et4+2[Si62Cl122-)、トリデカクロロヒドロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩(例えば、[Et4+2[Si6HCl132-)、テトラデカクロロシクロヘキサシラン・ジアニオン塩(例えば、[Et4+2[Si6Cl142-)等の、環状ハロシラン化合物のジアニオンとアンモニウムイオンとからなる塩が得られる。 Further, using trichlorosilane as a halosilane compound, A in the formula (11) in the ammonium salt - bromine ion (Br -) is, in the case of using a compound R 5 to R 8 is an ethyl group, Dodecachlorodihydrocyclohexasilane dianion salt (eg, [Et 4 N + ] 2 [Si 6 H 2 Cl 12 ] 2- ), tridecachlorohydrocyclohexasilane dianion salt (eg, [Et 4 N + ]] Dianions and ammonium ions of cyclic halosilane compounds such as 2 [Si 6 HCl 13 ] 2- ), tetradecachlorocyclohexasilane dianion salt (eg [Et 4 N + ] 2 [Si 6 Cl 14 ] 2- ) A salt consisting of is obtained.

上記ホスホニウム塩および/またはアンモニウム塩の使用量(2種以上を用いる場合はその合計使用量)は、ハロシラン化合物1molに対して、0.01mol以上が好ましく、0.05mol以上がより好ましく、0.08mol以上がさらに好ましく、また1.0mol以下が好ましく、0.7mol以下がより好ましく、0.5mol以下がさらに好ましい。上記ホスホニウム塩および/または上記アンモニウム塩の使用量が少なすぎると、ハロシラン化合物が未反応となり、環状ハロシラン化合物の塩の収率が低下するおそれがある。一方、上記ホスホニウム塩および/または上記アンモニウム塩の使用量が多すぎると、環状ハロシラン化合物の塩の純度が低下するおそれがある。 The amount of the phosphonium salt and / or ammonium salt used (the total amount used when two or more kinds are used) is preferably 0.01 mol or more, more preferably 0.05 mol or more, and 0. 08 mol or more is further preferable, 1.0 mol or less is more preferable, 0.7 mol or less is more preferable, and 0.5 mol or less is further preferable. If the amount of the phosphonium salt and / or the ammonium salt used is too small, the halosilane compound may not react and the yield of the salt of the cyclic halosilane compound may decrease. On the other hand, if the amount of the phosphonium salt and / or the ammonium salt used is too large, the purity of the salt of the cyclic halosilane compound may decrease.

上記環化カップリング工程は、キレート型配位子の存在下で行ってもよい。環化カップリング反応をキレート型配位子の存在下で行うことによって、環状ハロシラン化合物の塩を効率良く製造できる。また、用いるキレート型配位子の種類を適宜選択することによって、得られる環状ハロシラン化合物中の水素数や組成比を調整できる。上記キレート型配位子としては、例えば、ポリエーテル化合物、ポリチオエーテル化合物、多座ホスフィン化合物等を用いることができる。 The cyclization coupling step may be carried out in the presence of a chelated ligand. By carrying out the cyclization coupling reaction in the presence of a chelate-type ligand, a salt of the cyclic halosilane compound can be efficiently produced. In addition, the number of hydrogens and the composition ratio in the obtained cyclic halosilane compound can be adjusted by appropriately selecting the type of chelate-type ligand to be used. As the chelate-type ligand, for example, a polyether compound, a polythioether compound, a polydentate phosphine compound and the like can be used.

上記ポリエーテル化合物としては、例えば、1,1−ジメトキシエタン、1,2−ジメトキシエタン、1,2−ジエトキシエタン、1,2−ジプロポキシエタン、1,2−ジイソプロポキシエタン、1,2−ジブトキシエタン、1,2−ジフェノキシエタン、1,3−ジメトキシプロパン、1,3−ジエトキシプロパン、1,3−ジプロポキシプロパン、1,3−ジイソプロポキシプロパン、1,3−ジブトキシプロパン、1,3−ジフェノキシプロパン、1,4−ジメトキシブタン、1,4−ジエトキシブタン、1,4−ジプロポキシブタン、1,4−ジイソプロポキシブタン、1,4−ジブトキシブタン、1,4−ジフェノキシブタン等のジアルコキシアルカン類が挙げられる。これらの中でも、特に好ましくは1,2−ジメトキシエタンが挙げられる。 Examples of the polyether compound include 1,1-dimethoxyethane, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, 1,2-dipropoxyethane, 1,2-diisopropoxyethane, 1, 2-Dibutoxyethane, 1,2-Diphenoxyethane, 1,3-dimethoxypropane, 1,3-diethoxypropane, 1,3-dipropoxypropane, 1,3-diisopropoxypropane, 1,3- Dibutoxypropane, 1,3-diphenoxypropane, 1,4-dimethoxybutane, 1,4-diethoxybutane, 1,4-dipropoxybutane, 1,4-diisopropoxybutane, 1,4-dibutoxy Examples thereof include dialkoxyalcans such as butane and 1,4-diphenoxybutane. Among these, 1,2-dimethoxyethane is particularly preferable.

上記ポリチオエーテル化合物としては、前記例示したポリエーテル化合物の酸素原子を硫黄原子に置換したものが挙げられる。 Examples of the polythioether compound include those in which the oxygen atom of the above-exemplified polyether compound is replaced with a sulfur atom.

上記多座ホスフィン化合物としては、例えば、1,2−ビス(ジメチルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジエチルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジプロピルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジブチルホスフィノ)エタン、1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3−ビス(ジメチルホスフィノ)プロパン、1,3−ビス(ジエチルホスフィノ)プロパン、1,3−ビス(ジプロピルホスフィノ)プロパン、1,3−ビス(ジブチルホスフィノ)プロパン、1,3−ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4−ビス(ジメチルホスフィノ)ブタン、1,4−ビス(ジエチルホスフィノ)ブタン、1,4−ビス(ジプロピルホスフィノ)ブタン、1,4−ビス(ジブチルホスフィノ)ブタン、1,4−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン等のビス(ジアルキルホスフィノ)アルカン類やビス(ジアリールホスフィノ)アルカン類が挙げられる。これらの中でも、特に好ましくは1,2−ビス(ジフェニルホスフィノ)エタンが挙げられる。 Examples of the polydentate phosphine compound include 1,2-bis (dimethylphosphino) ethane, 1,2-bis (diethylphosphino) ethane, 1,2-bis (dipropylphosphino) ethane, 1,2. -Bis (dibutylphosphino) ethane, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1,3-bis (dimethylphosphino) propane, 1,3-bis (diethylphosphino) propane, 1,3-bis (Dipropylphosphino) propane, 1,3-bis (dibutylphosphino) propane, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (dimethylphosphino) butane, 1,4-bis ( Bis (dialkylphosphino) such as diethylphosphino) butane, 1,4-bis (dipropylphosphino) butane, 1,4-bis (dibutylphosphino) butane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, etc. Examples include alkanes and bis (diarylphosphino) alkanes. Among these, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane is particularly preferable.

上記キレート型配位子の使用量は適宜設定すればよいが、例えば、ハロシラン化合物1molに対して0.01mol以上が好ましく、0.05mol以上がより好ましく、0.1mol以上がさらに好ましく、また50mol以下が好ましく、40mol以下がより好ましく、30mol以下がさらに好ましい。 The amount of the chelate-type ligand used may be appropriately set. For example, 0.01 mol or more is preferable, 0.05 mol or more is more preferable, 0.1 mol or more is more preferable, and 50 mol or more is preferable with respect to 1 mol of the halosilane compound. The following is preferable, 40 mol or less is more preferable, and 30 mol or less is further preferable.

上記環化カップリング工程は、塩基性化合物の存在下で行うことが好ましい。上記塩基性化合物としては、例えば、(モノ−、ジ−、トリ−、ポリ−)アミン化合物が挙げられるが、中でもモノアミン化合物が好ましく用いられる。具体的には、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、トリイソブチルアミン、トリイソペンチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ジメチルブチルアミン、ジメチル−2−エチルヘキシルアミン、ジイソプロピル−2−エチルヘキシルアミン、メチルジオクチルアミン等が好ましく、トリブチルアミンが特に好ましい。上記塩基性化合物は、1種のみを使用してもよいし、2種以上を併用してもよい。 The cyclization coupling step is preferably carried out in the presence of a basic compound. Examples of the basic compound include (mono-, di-, tri-, poly-) amine compounds, and among them, monoamine compounds are preferably used. Specifically, for example, triethylamine, tripropylamine, tributylamine, trioctylamine, triisobutylamine, triisopentylamine, diethylmethylamine, diisopropylethylamine, dimethylbutylamine, dimethyl-2-ethylhexylamine, diisopropyl-2- Ethylhexylamine, methyldioctylamine and the like are preferable, and tributylamine is particularly preferable. As the basic compound, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination.

上記塩基性化合物の使用量(2種以上を用いる場合はその合計使用量)は、その種類等に応じて適宜設定すればよいが、例えば、モノアミン化合物であれば、ハロシラン化合物1molに対して、0.1mol以上が好ましく、0.2mol以上がより好ましく、0.4mol以上がさらに好ましく、また2mol以下が好ましく、1.8mol以下がより好ましく、1.5mol以下がさらに好ましい。上記塩基性化合物(モノアミン化合物)の量が少なすぎると、ハロシラン化合物が未反応となり、環状ハロシラン化合物の塩の収率が低下するおそれがある。一方、上記塩基性化合物(モノアミン化合物)の量が多すぎると、環状ハロシラン化合物の塩の収率低下や純度低下を引き起こすおそれがある。 The amount of the basic compound used (when two or more types are used, the total amount used) may be appropriately set according to the type and the like. For example, in the case of a monoamine compound, 1 mol of the halosilane compound is used. 0.1 mol or more is preferable, 0.2 mol or more is more preferable, 0.4 mol or more is further preferable, 2 mol or less is preferable, 1.8 mol or less is more preferable, and 1.5 mol or less is further preferable. If the amount of the basic compound (monoamine compound) is too small, the halosilane compound may not react and the yield of the salt of the cyclic halosilane compound may decrease. On the other hand, if the amount of the basic compound (monoamine compound) is too large, the yield or purity of the salt of the cyclic halosilane compound may decrease.

なお、上記塩基性化合物としてジアミン化合物、トリアミン化合物、ポリアミン化合物を用いることもできるが、その場合、それら塩基性化合物(ジ−、トリ−、ポリ−アミン)の使用量(合計使用量)は、ポリアミンに由来する不純物の副生を抑制するうえで、ハロシラン化合物1molに対して0.5mol以下が好ましく、より好ましくは0.4mol以下、さらに好ましくは0.3mol以下である。 Diamine compounds, triamine compounds, and polyamine compounds can also be used as the basic compounds, but in that case, the amount (total amount) of these basic compounds (di-, tri-, poly-amine) used is determined. In order to suppress the by-production of impurities derived from polyamines, the amount is preferably 0.5 mol or less, more preferably 0.4 mol or less, still more preferably 0.3 mol or less, based on 1 mol of the halosilane compound.

上記環化カップリング工程は、溶媒中で行うことが好ましい。ここで用いる溶媒(以下、反応溶媒ということがある)としては、有機溶媒が好ましい。上記有機溶媒としては、環化カップリング反応を妨げない溶媒が好ましく、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル等のエーテル系溶媒;アセトニトリル、N,N−ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒;等が好ましく挙げられる。これらの中でも、ハロゲン化炭化水素系溶媒がより好ましく、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2−ジクロロエタン等の塩素化炭化水素系溶媒が好ましく用いられ、ジクロロメタンが特に好ましい。 The cyclization coupling step is preferably carried out in a solvent. As the solvent used here (hereinafter, may be referred to as a reaction solvent), an organic solvent is preferable. As the organic solvent, a solvent that does not interfere with the cyclization coupling reaction is preferable, and for example, a halogenated hydrocarbon solvent such as chloroform, dichloromethane, 1,2-dichloroethane; diethyl ether, tetrahydrofuran, cyclopentyl methyl ether, diisopropyl ether, etc. Ether-based solvents such as methyl tertiary butyl ether; aprotonic polar solvents such as acetonitrile and N, N-dimethylformamide; and the like are preferably used. Among these, halogenated hydrocarbon solvents are more preferable, chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane and 1,2-dichloroethane are preferably used, and dichloromethane is particularly preferable.

上記環化カップリング工程に用いる溶媒の使用量は特に制限されないが、通常、ハロシラン化合物の濃度が0.5mol/L以上、10mol/L以下となるように調整することが好ましく、より好ましい濃度は0.8mol/L以上、さらに好ましい濃度は1mol/L以上であり、より好ましい濃度は8mol/L以下、さらに好ましい濃度は5mol/L以下である。 The amount of the solvent used in the cyclization coupling step is not particularly limited, but it is usually preferable to adjust the concentration of the halosilane compound to be 0.5 mol / L or more and 10 mol / L or less, and the more preferable concentration is 0.8 mol / L or more, a more preferable concentration is 1 mol / L or more, a more preferable concentration is 8 mol / L or less, and a further preferable concentration is 5 mol / L or less.

上記環化カップリング工程の反応温度は、反応性に応じて適宜調整すればよく、例えば、0〜120℃程度、好ましくは15〜70℃程度である。ここで反応温度とは、反応器内の液温を意味する。 The reaction temperature of the cyclization coupling step may be appropriately adjusted according to the reactivity, and is, for example, about 0 to 120 ° C, preferably about 15 to 70 ° C. Here, the reaction temperature means the liquid temperature in the reactor.

上記環化カップリング反応の反応時間は、反応温度、反応の進行の程度に応じて適宜設定すればよく、例えば、1時間以上が好ましく、2時間以上がより好ましく、3時間以上がさらに好ましく、また48時間以下が好ましく、24時間以下がより好ましく、12時間以下が特に好ましい。さらに、反応中に、反応を促進させるために、加熱と同時に撹拌を行ってもよい。 The reaction time of the cyclization coupling reaction may be appropriately set according to the reaction temperature and the degree of progress of the reaction. For example, 1 hour or more is preferable, 2 hours or more is more preferable, and 3 hours or more is further preferable. Further, 48 hours or less is preferable, 24 hours or less is more preferable, and 12 hours or less is particularly preferable. Further, during the reaction, stirring may be performed at the same time as heating in order to accelerate the reaction.

上記環化カップリング反応は、実質的に無水条件下で行うことが望ましく、例えば、乾燥ガス(特に窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガス)雰囲気下で行うことが好ましい。 The cyclization coupling reaction is preferably carried out under substantially anhydrous conditions, and is preferably carried out in a dry gas (particularly an inert gas such as nitrogen gas or argon gas) atmosphere.

第1反応工程の原料となる環状ハロシラン化合物の塩は、固液分離、蒸留、晶析、抽出等の公知の手段によって適宜精製してもよい。この際の固液分離手段は特に限定されず、ろ過、沈殿分離、遠心分離、デカンテーション等の公知の固液分離手段を用いることができる。 The salt of the cyclic halosilane compound which is the raw material of the first reaction step may be appropriately purified by known means such as solid-liquid separation, distillation, crystallization and extraction. The solid-liquid separation means at this time is not particularly limited, and known solid-liquid separation means such as filtration, precipitation separation, centrifugation, and decantation can be used.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例によって制限を受けるものではなく、前記および後記の趣旨に適合し得る範囲で変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited by the following Examples, and the present invention shall be carried out with modifications to the extent that it can be adapted to the above and the purposes described below. Of course, they are also possible, and they are all included in the technical scope of the present invention.

(1)環状ハロシラン化合物の塩の調製
温度計、コンデンサー、滴下ロートおよび撹拌装置を備えた2L四つ口フラスコ内を窒素ガスで置換した後、このフラスコ内に、テトラエチルアンモニウムブロミド123.5g(0.59mol)と、トリブチルアミン490.0g(2.64mol)と、ジクロロメタン702.7gとを入れた。次いでフラスコ内の溶液を撹拌しながら、25℃条件下において、滴下ロートよりトリクロロシラン238.1g(1.76mol)とジクロロメタン117.2gからなる溶液をゆっくりと滴下した。滴下終了後、そのまま2時間撹拌し、引き続き50℃で6時間加熱還流しながら撹拌することにより、環化カップリング反応を行った。反応後、得られた固体をろ過および精製して、環状ハロシラン化合物の塩([Et4N]2[Si6Cl14])(分子量925)102.7gを含む白色固体を得た(収率38%)。
(1) Preparation of Salt of Cyclic Halosilane Compound After replacing the inside of a 2L four-necked flask equipped with a thermometer, a condenser, a dropping funnel and a stirrer with nitrogen gas, 123.5 g (0) of tetraethylammonium bromide was placed in this flask. .59 mol), 490.0 g (2.64 mol) of tributylamine, and 702.7 g of dichloromethane were added. Then, while stirring the solution in the flask, a solution consisting of 238.1 g (1.76 mol) of trichlorosilane and 117.2 g of dichloromethane was slowly added dropwise from the dropping funnel under 25 ° C. conditions. After completion of the dropping, the mixture was stirred as it was for 2 hours, followed by stirring at 50 ° C. for 6 hours while heating and refluxing to carry out a cyclization coupling reaction. After the reaction, the obtained solid was filtered and purified to obtain a white solid containing 102.7 g of a salt of a cyclic halosilane compound ([Et 4 N] 2 [Si 6 Cl 14 ]) (molecular weight 925) (yield). 38%).

(2)環状ハロシラン化合物を含む溶液の調製
窒素雰囲気下、撹拌装置を備えた300mL三つ口フラスコに、上記(1)で得られた環状ハロシラン化合物の塩15.0gと粉末状の塩化アルミニウム(AlCl3)4.6g(粒径2.0mm以下)を入れ、さらにノルマルヘキサン98.7gを加えた。窒素雰囲気下、遮光した状態で、24℃条件下、3時間反応させた後、ろ過を行い、環状ハロシラン化合物(Si6Cl12)(分子量594)を含んだ溶液115.7g(濃度:4.8質量%)を得た(収率58%)。尚、収率は得られた溶液の一部を濃縮し、質量から算出した。
(2) Preparation of Solution Containing Cyclic Halosilane Compound Under a nitrogen atmosphere, 15.0 g of the cyclic halosilane compound salt obtained in (1) above and powdered aluminum chloride (aluminum chloride) were placed in a 300 mL three-necked flask equipped with a stirrer. 4.6 g (particle size 2.0 mm or less) of AlCl 3 ) was added, and 98.7 g of normal hexane was further added. After reacting under 24 ° C. conditions for 3 hours in a nitrogen atmosphere and in a light-shielded state, filtration was performed, and 115.7 g (concentration: 4.) of a solution containing a cyclic halosilane compound (Si 6 Cl 12 ) (molecular weight 594). 8% by mass) was obtained (yield 58%). The yield was calculated from the mass of a part of the obtained solution concentrated.

(3)環状水素化シラン化合物の調製
滴下ロートおよび撹拌装置を備えた100mL三つ口フラスコに、上記(2)で得られた環状ハロシラン化合物含有溶液100.0gを入れた。フラスコ内を窒素ガスで置換した後、フラスコ内の溶液を撹拌しながら、0℃条件下において、滴下ロートより還元剤として水素化リチウムアルミニウムのジエチルエーテル溶液(濃度:約1.0mol/L)38mLを徐々に滴下し、次いで20℃で3時間撹拌することによって還元反応を行った。反応後、得られた反応液を窒素雰囲気下においてろ過し、生成した塩を取り除き、得られたろ液についてガスクロマトグラフィー(GC)を用いて分析したところ、シクロヘキサシラン(Si612)が生成していることを確認した(収率90%)。また、得られたろ液を減圧下で濃縮した後、蒸留精製を行うことで、高純度のシクロヘキサシランを無色透明の液体として得た。
(3) Preparation of Cyclic Hydrogenated Silane Compound 100.0 g of the cyclic halosilane compound-containing solution obtained in (2) above was placed in a 100 mL three-necked flask equipped with a dropping funnel and a stirrer. After replacing the inside of the flask with nitrogen gas, while stirring the solution in the flask, under 0 ° C. conditions, 38 mL of a diethyl ether solution of lithium aluminum hydride (concentration: about 1.0 mol / L) as a reducing agent from the dropping funnel. Was gradually added dropwise, and then the reduction reaction was carried out by stirring at 20 ° C. for 3 hours. After the reaction, the obtained reaction solution was filtered under a nitrogen atmosphere to remove the produced salt, and the obtained filtrate was analyzed by gas chromatography (GC). As a result, cyclohexasilane (Si 6 H 12 ) was found. It was confirmed that it was produced (yield 90%). Further, the obtained filtrate was concentrated under reduced pressure and then purified by distillation to obtain high-purity cyclohexasilane as a colorless and transparent liquid.

本発明によれば、環状水素化シラン化合物を製造できる。環状水素化シラン化合物は、例えば、太陽電池や半導体等に用いられるシリコン原料として有用である。また半導体分野では、Ge化合物と混合または反応させることにより、SiGe化合物の製造や、SiGe膜の製造にも利用できる。 According to the present invention, a cyclic silane hydride compound can be produced. The cyclic hydride silane compound is useful as a silicon raw material used in, for example, solar cells and semiconductors. Further, in the semiconductor field, it can be used for producing a SiGe compound or a SiGe film by mixing or reacting with a Ge compound.

Claims (4)

環状ハロシラン化合物の塩とルイス酸化合物とを溶媒の存在下で接触及び反応させて環状ハロシラン化合物を含む反応液(A)を得る第1反応工程、
前記反応液(A)に固体として含まれるルイス酸化合物の塩を除去し、環状ハロシラン化合物を含む溶液を得る固液分離工程、
環状ハロシラン化合物を含む前記溶液を、金属水素化物と接触させて環状水素化シラン化合物を含む反応液(B)を得る第2反応工程、
を含む環状水素化シラン化合物の製造方法。
The first reaction step of contacting and reacting a salt of a cyclic halosilane compound with a Lewis acid compound in the presence of a solvent to obtain a reaction solution (A) containing the cyclic halosilane compound.
A solid-liquid separation step of removing a salt of a Lewis acid compound contained as a solid in the reaction solution (A) to obtain a solution containing a cyclic halosilane compound.
The second reaction step of contacting the solution containing the cyclic halosilane compound with a metal hydride to obtain a reaction solution (B) containing the cyclic hydrogenated silane compound.
A method for producing a cyclic hydrogenated silane compound containing.
前記第1反応工程での溶媒が、前記第2反応工程の溶媒の少なくとも1種である請求項1に記載の環状水素化シラン化合物の製造方法。 The method for producing a cyclic hydrogenated silane compound according to claim 1, wherein the solvent in the first reaction step is at least one of the solvents in the second reaction step. 第2反応工程での反応開始時の環状ハロシラン化合物の濃度が1質量%以上、60質量%以下である請求項1又は2に記載の環状水素化シラン化合物の製造方法。 The method for producing a cyclic hydrogenated silane compound according to claim 1 or 2, wherein the concentration of the cyclic halosilane compound at the start of the reaction in the second reaction step is 1% by mass or more and 60% by mass or less. 前記溶媒が炭化水素系溶媒である請求項1〜3のいずれかに記載の環状水素化シラン化合物の製造方法。 The method for producing a cyclic hydrogenated silane compound according to any one of claims 1 to 3, wherein the solvent is a hydrocarbon solvent.
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Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005029428A (en) * 2003-07-14 2005-02-03 Tokuyama Corp Recovery method of chlorosilanes
JP2014012647A (en) * 2012-07-04 2014-01-23 Nippon Shokubai Co Ltd Producing method of cyclohexasilanes
JP2017095324A (en) * 2015-11-26 2017-06-01 株式会社日本触媒 Production method of cyclic hydrogenated silane compound
JP2018150182A (en) * 2017-03-09 2018-09-27 株式会社日本触媒 Cyclic hydrogenated silane with low content of halogen element
JP2019006623A (en) * 2017-06-22 2019-01-17 株式会社日本触媒 Hydrogenated silane and deactivation treatment method of aluminum-containing residue

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005029428A (en) * 2003-07-14 2005-02-03 Tokuyama Corp Recovery method of chlorosilanes
JP2014012647A (en) * 2012-07-04 2014-01-23 Nippon Shokubai Co Ltd Producing method of cyclohexasilanes
JP2017095324A (en) * 2015-11-26 2017-06-01 株式会社日本触媒 Production method of cyclic hydrogenated silane compound
JP2018150182A (en) * 2017-03-09 2018-09-27 株式会社日本触媒 Cyclic hydrogenated silane with low content of halogen element
JP2019006623A (en) * 2017-06-22 2019-01-17 株式会社日本触媒 Hydrogenated silane and deactivation treatment method of aluminum-containing residue

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