JP7022512B2 - Cyclohexasilane with low halogen element content - Google Patents

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Description

本発明は、ハロゲン元素含有量の少ない環状水素化シランに関する。 The present invention relates to cyclic hydrides having a low halogen element content.

太陽電池や半導体等には、シリコン膜が用いられている。シリコン膜の製造方法としては、モノシランを原料とする気相成長製膜法(CVD法)が広く用いられている。また、シリコン膜の他の製造方法としては、一般式(SiH2)n(n=4,5,又は6)で表される環状シラン化合物を原料とするCVD法(特許文献1)、シクロヘキサシランを原料とするCVD法(特許文献2)、基板上にシクロペンタシランやシクロヘキサシランを溶質とする溶液層を形成し、光重合によりポリシランを作製する方法(特許文献3)などが報告されている。 Silicon films are used in solar cells, semiconductors, and the like. As a method for producing a silicon film, a vapor deposition film forming method (CVD method) using monosilane as a raw material is widely used. Further, as another method for producing the silicon film, a CVD method using a cyclic silane compound represented by the general formula (SiH 2 ) n (n = 4, 5, or 6) as a raw material (Patent Document 1), cyclohexaci. A CVD method using orchids as a raw material (Patent Document 2), a method of forming a solution layer containing cyclopentasilane or cyclohexasilane as a solute on a substrate, and producing polysilane by photopolymerization have been reported (Patent Document 3). ing.

環状水素化シランを製造する方法としては、特許文献4に、特定の配位化合物の存在下で、ハロシランの環化反応を行って環状ハロゲン化シラン中性錯体を得た後、これを還元することにより環状水素化シランを製造する方法が開示されている。 As a method for producing a cyclic hydride silane, Patent Document 4 describes that a cyclization reaction of halosilane is carried out in the presence of a specific coordinating compound to obtain a cyclic halogenated silane neutral complex, which is then reduced. Thereby, a method for producing a cyclic hydride silane is disclosed.

特開昭60-26664号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 60-26664 特表2013-537705号公報Special Table 2013-537705 Gazette 特開2013-187261号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2013-187261 特開2015-134755号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2015-134755

ところで、環状水素化シランはハロゲン元素を含有すると、保存中に、Si-Si結合を切断したり、Si-Si結合の切断等によってポリマー化することによって純度が低下することが今回わかった。こうした純度低下は、ガスクロマトグラフを用いて測定される検量線純度から把握できた。 By the way, it has been found this time that when the cyclic hydrogenated silane contains a halogen element, the purity is lowered by cleaving the Si—Si bond or polymerizing by cleaving the Si—Si bond during storage. Such a decrease in purity could be grasped from the calibration curve purity measured by using a gas chromatograph.

本発明は上記の様な事情に着目してなされたものであって、その目的は、保存中にSi-Si結合の切断等によって純度が低下することを抑制し、保存安定性が優れた環状水素化シランを提供することにある。 The present invention has been made by paying attention to the above circumstances, and an object of the present invention is to suppress a decrease in purity due to cleavage of a Si—Si bond or the like during storage, and a ring having excellent storage stability. The purpose is to provide silane hydride.

上記課題を解決できた本発明に係る環状水素化シランは、下記式(1)で示され、ハロゲン元素含有量が質量基準で100ppm以下(0ppmを含む)である点に要旨を有する。下記式(1)中、nは3~8である。
(SiH2n ・・・(1)
The cyclic hydrogenated silane according to the present invention, which has solved the above problems, is represented by the following formula (1) and has a gist that the halogen element content is 100 ppm or less (including 0 ppm) on a mass basis. In the following formula (1), n is 3 to 8.
(SiH 2 ) n ... (1)

前記ハロゲン元素は、例えば、塩素であればよい。前記環状水素化シランは、例えば、前記式(1)におけるnが6のシクロヘキサシランであればよい。 The halogen element may be, for example, chlorine. The cyclic hydrogenated silane may be, for example, cyclohexasilane in which n in the formula (1) is 6.

本発明の環状水素化シランは、ハロゲン元素含有量を質量基準で100ppm以下に低減しているため、保存中にSi-Si結合の切断等によって純度が低下することが抑制され、保存安定性を改善できる。 Since the cyclic hydride content of the cyclic hydride of the present invention is reduced to 100 ppm or less on a mass basis, it is suppressed that the purity is lowered due to the cleavage of Si—Si bond during storage, and the storage stability is improved. Can be improved.

本発明の環状水素化シランは、下記式(1)で表され、不純物であるハロゲン元素の含有量は、質量基準で100ppm以下(0ppmを含む)である。下記式(1)において、nは3~8である。ハロゲン元素含有量を上記範囲に低減することで、環状水素化シランの保存安定性を改善できる。また、環状水素化シランは、例えばステンレス製容器に保管され、半導体等の原料として用いられるが、環状水素化シランにハロゲン元素が含まれると、保管容器や半導体素子が腐食したり、半導体膜の電気特性(例えば、移動度など)が劣化する。しかし、ハロゲン元素含有量を上記範囲に低減することで、環状水素化シランを、例えばステンレス製容器に保管したり、半導体等の原料として用いても、腐食しにくくなるため、耐容器腐食性や半導体膜の電気特性を改善できる。
(SiH2n ・・・(1)
The cyclic hydrogenated silane of the present invention is represented by the following formula (1), and the content of the halogen element as an impurity is 100 ppm or less (including 0 ppm) on a mass basis. In the following formula (1), n is 3 to 8. By reducing the halogen element content to the above range, the storage stability of the cyclic hydride can be improved. Further, the cyclic hydrogenated silane is stored in, for example, a stainless steel container and used as a raw material for semiconductors and the like. However, if the cyclic hydride contains a halogen element, the storage container and the semiconductor element may corrode or the semiconductor film may be corroded. Electrical properties (eg, mobility, etc.) deteriorate. However, by reducing the halogen element content to the above range, even if the cyclic hydride silane is stored in a stainless steel container or used as a raw material for semiconductors, it is less likely to corrode. The electrical characteristics of the semiconductor film can be improved.
(SiH 2 ) n ... (1)

上記ハロゲン元素とは、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素であり、特に、塩素である。 The halogen elements are fluorine, chlorine, bromine and iodine, and in particular, chlorine.

上記環状水素化シランは、上記式(1)におけるnが3~8であり、具体的には、シクロトリシラン、シクロテトラシラン、シクロペンタシラン、シクロヘキサシラン、シクロヘプタシラン、シクロオクタシランなどの枝分れシリル基を有さない環状水素化シラン、シリルシクロトリシラン、シリルシクロテトラシラン、シリルシクロペンタシラン、シリルシクロヘキサシラン、シリルシクロヘプタシランなどの枝分れシリル基を有する環状水素化シランが挙げられ、枝別れシリル基を有さない環状水素化シランが好ましい。上記環状水素化シランの中でも、上記式(1)におけるnが6のシクロヘキサシランが有用である。 The cyclic hydride has n of 3 to 8 in the above formula (1), and specifically, cyclotrisilane, cyclotetrasilane, cyclopentasilane, cyclohexasilane, cycloheptasilane, cyclooctasilane and the like. Cyclic hydrogen having a branched silyl group such as cyclic hydride without a branched silyl group, silylcyclotrisilane, silylcyclotetrasilane, silylcyclopentasilane, silylcyclohexasilane, silylcycloheptasilane Examples thereof include silane hydride, and cyclic hydrides having no branched silyl group are preferable. Among the cyclic hydrogenated silanes, cyclohexasilane having n of 6 in the above formula (1) is useful.

上記環状水素化シラン中、ハロゲン元素含有量は、質量基準で、好ましくは50ppm以下、より好ましくは30ppm以下、特に好ましくは20ppm以下である。下限は、質量基準で、0ppbが最も好ましいが、1ppb程度、または3ppb程度であってもよい。 The halogen element content in the cyclic hydride is preferably 50 ppm or less, more preferably 30 ppm or less, and particularly preferably 20 ppm or less on a mass basis. The lower limit is, on a mass basis, 0 ppb is most preferable, but it may be about 1 ppb or about 3 ppb.

本発明の環状水素化シランの純度は、例えば、95%以上であることが好ましく、より好ましくは97%以上、特に好ましくは98%以上である。上記環状水素化シランの純度は、例えば、ガスクロマトグラフを用いて測定できる。 The purity of the cyclic hydrogenated silane of the present invention is, for example, preferably 95% or more, more preferably 97% or more, and particularly preferably 98% or more. The purity of the cyclic hydride can be measured using, for example, a gas chromatograph.

本発明の環状水素化シランは、種々の方法で得られた環状水素化シランから適切な方法でハロゲン元素含有量を低減することによって得ることができる。ハロゲン元素含有量が低減される前の環状水素化シラン自体の製造方法は特に限定されず、公知の種々の製造方法が採用できるが、好適にはハロシランを環化して、得られた環状ハロシランを還元する方法が採用される。 The cyclic hydrogenated silane of the present invention can be obtained from cyclic hydrides obtained by various methods by reducing the halogen element content by an appropriate method. The method for producing the cyclic hydride silane itself before the halogen element content is reduced is not particularly limited, and various known production methods can be adopted, but preferably, the cyclic halosilane obtained by cyclizing the halosilane can be obtained. The method of reduction is adopted.

上記ハロシラン(ハロゲン化シラン)としては、例えば、ジクロロシラン、ジブロモシラン、ジヨードシラン、ジフルオロシラン等のジハロシラン;トリクロロシラン、トリブロモシラン、トリヨードシラン、トリフルオロシラン等のトリハロシラン;テトラクロロシラン、テトラブロモシラン、テトラヨードシラン、テトラフルオロシラン等のテトラハロシラン;等を用いることができる。これらの中でも好ましくはトリハロシランであり、特に好ましくはトリクロロシランである。 Examples of the halosilane (halogenated silane) include dihalosilanes such as dichlorosilane, dibromosilane, diiodosilane, and difluorosilane; trihalosilanes such as trichlorosilane, tribromosilane, triiodosilane, and trifluorosilane; tetrachlorosilane and tetrabromo. Tetrahalosilanes such as silane, tetraiodosilane, and tetrafluorosilane; and the like can be used. Among these, trihalosilane is preferable, and trichlorosilane is particularly preferable.

上記ハロシランを環化する方法は特に制限されないが、例えば、下記(A)または(B)の方法が好ましい。
(A)ハロシラン(ハロゲン化モノシラン)と、ホスホニウム塩および/またはアンモニウム塩とを接触させる工程を含み、環状ハロシランの塩を得る方法[以下、方法Aという場合がある]。
(B)ハロシランと、下記(I)および(II)からなる群より選択される少なくとも1種の化合物とを接触させる工程を含み、環状ハロシラン中性錯体を得る方法[以下、方法Bという場合がある]。
The method for cyclizing the halosilane is not particularly limited, but for example, the method (A) or (B) below is preferable.
(A) A method for obtaining a cyclic halosilane salt, which comprises a step of contacting a halosilane (halogenated monosilane) with a phosphonium salt and / or an ammonium salt [hereinafter, may be referred to as method A].
(B) A method for obtaining a cyclic halosilane neutral complex, which comprises a step of contacting halosilane with at least one compound selected from the group consisting of the following (I) and (II) [hereinafter, may be referred to as method B]. be].

(I)XRnとして表される化合物[以下、化合物Iという場合がある]。XがPまたはP=Oのときはn=3であり、Rは同一または異なって置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。XがS、S=O、Oのときはn=2であり、Rは同一または異なって置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。XがCNのときはn=1であり、Rは置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。但し、XRn中のアミノ基の数は0または1である。 (I) A compound represented as XR n [hereinafter, may be referred to as compound I]. When X is P or P = O, n = 3, and R represents the same or different substituted or unsubstituted alkyl or aryl group. When X is S, S = O, O, n = 2, and R represents the same or different substituted or unsubstituted alkyl or aryl group. When X is CN, n = 1, and R represents a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. However, the number of amino groups in XR n is 0 or 1.

(II)環中に非共有電子対を有するN、O、SまたはPを含む置換または無置換の複素環化合物からなる群より選択される少なくとも1種の複素環化合物[以下、化合物IIという場合がある]。但し、複素環化合物が有する置換基としての第3級アミノ基の数は0または1である。 (II) At least one heterocyclic compound selected from the group consisting of substituted or unsubstituted heterocyclic compounds containing N, O, S or P having an unshared electron pair in the ring [hereinafter referred to as compound II]. There is]. However, the number of tertiary amino groups as substituents of the heterocyclic compound is 0 or 1.

まず、上記方法Aについて説明する。 First, the above method A will be described.

上記ホスホニウム塩は、第4級ホスホニウム塩であることが好ましく、下記式(11)で表される塩が好ましく挙げられる。下記式(11)において、R1~R4は各々異なっていてもよいが、全て同じ基であることが好ましい。 The phosphonium salt is preferably a quaternary phosphonium salt, and a salt represented by the following formula (11) is preferably mentioned. In the following formula (11), R 1 to R 4 may be different from each other, but it is preferable that they are all the same group.

Figure 0007022512000001
Figure 0007022512000001

また、上記アンモニウム塩は、第4級アンモニウム塩であることが好ましく、下記式(12)で表される塩が好ましく挙げられる。下記式(12)において、R5~R8は各々異なっていてもよいが、全て同じ基であることが好ましい。 Further, the ammonium salt is preferably a quaternary ammonium salt, and a salt represented by the following formula (12) is preferably mentioned. In the following formula (12), R 5 to R 8 may be different from each other, but it is preferable that they are all the same group.

Figure 0007022512000002
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上記式(11)、上記式(12)において、R1~R4およびR5~R8は各々独立して、水素原子、アルキル基、アリール基を表し、A-は1価のアニオンを示す。 In the above formula (11) and the above formula (12), R 1 to R 4 and R 5 to R 8 independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group, and A- represents a monovalent anion. ..

上記R1~R4およびR5~R8のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロへキシル基等の炭素数1~16のアルキル基が好ましく挙げられ、炭素数1~8のアルキル基がより好ましい。 The alkyl groups of R 1 to R 4 and R 5 to R 8 include carbons such as methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group and cyclohexyl group. Alkyl groups having the number 1 to 16 are preferably mentioned, and alkyl groups having 1 to 8 carbon atoms are more preferable.

上記R1~R4およびR5~R8のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6~18のアリール基が好ましく挙げられ、炭素数6~12のアリール基がより好ましい。 As the aryl group of R 1 to R 4 and R 5 to R 8 , an aryl group having 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group is preferable, and an aryl group having 6 to 12 carbon atoms is more preferable.

上記R1~R4およびR5~R8は、アルキル基またはアリール基であることが好ましく、アリール基がより好ましい。R1~R4およびR5~R8がアリール基であれば、後述するように、環状ハロシランの塩を製造する際に、環状ハロシランの塩が反応液中で沈殿生成して、環状ハロシランの塩を高純度で得ることが容易になる。また、同様の理由から、アンモニウム塩よりもホスホニウム塩を用いる方が好ましい。 The R 1 to R 4 and R 5 to R 8 are preferably an alkyl group or an aryl group, more preferably an aryl group. If R 1 to R 4 and R 5 to R 8 are aryl groups, as will be described later, when the salt of the cyclic halosilane is produced, the salt of the cyclic halosilane is precipitated and formed in the reaction solution to form the cyclic halosilane. It becomes easy to obtain the salt with high purity. Also, for the same reason, it is preferable to use a phosphonium salt rather than an ammonium salt.

上記式(11)、式(12)において、A-で示される1価のアニオンとしては、ハロゲン化物イオン(例えば、Cl-、Br-、I-等)、ボレートイオン(例えば、BF4-)、リン系アニオン(例えば、PF6-)等が挙げられる。これらの中でも入手の容易さの点からハロゲン化イオンが好ましく、より好ましくはCl-、Br-、I-、特に好ましくはCl-、Br-である。 In the above formulas (11) and (12), the monovalent anion represented by A- includes halide ions (for example, Cl- , Br- , I- , etc.) and borate ions (for example, BF 4- ). , Phylogen-based anions (eg, PF 6- ) and the like. Among these, halogenated ions are preferable from the viewpoint of easy availability, more preferably Cl- , Br-, I- , and particularly preferably Cl- , Br-.

上記ホスホニウム塩とアンモニウム塩は、どちらか一方のみ用いてもよく、両方用いてもよい。ホスホニウム塩は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。アンモニウム塩は、1種のみを用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 Either one of the phosphonium salt and the ammonium salt may be used, or both may be used. As the phosphonium salt, only one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination. Only one type of ammonium salt may be used, or two or more types may be used in combination.

上記ホスホニウム塩および/またはアンモニウム塩の使用量(2種以上を用いる場合はその合計使用量)は、ハロシラン1molに対して、好ましくは0.01mol以上、より好ましくは0.05mol以上、さらに好ましくは0.08mol以上、また好ましくは1.0mol以下、より好ましくは0.7mol以下、さらに好ましくは0.5mol以下である。ホスホニウム塩および/またはアンモニウム塩の使用量が上記範囲であると、環状ハロシランの塩の収率が向上する傾向にある。 The amount of the phosphonium salt and / or ammonium salt used (the total amount used when two or more kinds are used) is preferably 0.01 mol or more, more preferably 0.05 mol or more, still more preferably 0.05 mol or more with respect to 1 mol of halosilane. It is 0.08 mol or more, preferably 1.0 mol or less, more preferably 0.7 mol or less, still more preferably 0.5 mol or less. When the amount of the phosphonium salt and / or the ammonium salt used is in the above range, the yield of the cyclic halosilane salt tends to be improved.

上記方法Aは、ポリエーテル、ポリチオエーテル、多座ホスフィン等のキレート型配位子の存在下で行うことが好ましい。環化カップリング反応をキレート型配位子の存在下で行うことにより、環状ハロシランの塩を効率良く製造できる。また、用いるキレート型配位子の種類を適宜選択することにより、得られる環状ハロシラン中の水素数や組成比を調整できる。 The above method A is preferably performed in the presence of a chelated ligand such as a polyether, a polythioether, or a polydentate phosphine. By carrying out the cyclization coupling reaction in the presence of a chelate-type ligand, a salt of cyclic halosilane can be efficiently produced. Further, the number of hydrogens and the composition ratio in the obtained cyclic halosilane can be adjusted by appropriately selecting the type of chelate-type ligand to be used.

上記ポリエーテルとしては、例えば、1,1-ジメトキシエタン、1,2-ジメトキシエタン、1,2-ジエトキシエタン、1,2-ジプロポキシエタン、1,2-ジイソプロポキシエタン、1,2-ジブトキシエタン、1,2-ジフェノキシエタン、1,3-ジメトキシプロパン、1,3-ジエトキシプロパン、1,3-ジプロポキシプロパン、1,3-ジイソプロポキシプロパン、1,3-ジブトキシプロパン、1,3-ジフェノキシプロパン、1,4-ジメトキシブタン、1,4-ジエトキシブタン、1,4-ジプロポキシブタン、1,4-ジイソプロポキシブタン、1,4-ジブトキシブタン、1,4-ジフェノキシブタン等のジアルコキシアルカン類が挙げられる。これらの中でも、特に好ましくは1,2-ジメトキシエタンが挙げられる。 Examples of the polyether include 1,1-dimethoxyethane, 1,2-dimethoxyethane, 1,2-diethoxyethane, 1,2-dipropoxyetane, 1,2-diisopropoxyetane, 1,2. -Dibutoxyethane, 1,2-diphenoxyethane, 1,3-dimethoxypropane, 1,3-diethoxypropane, 1,3-dipropoxypropane, 1,3-diisopropoxypropane, 1,3-di Butoxypropane, 1,3-diphenoxypropane, 1,4-dimethoxybutane, 1,4-diethoxybutane, 1,4-dipropoxybutane, 1,4-diisopropoxybutane, 1,4-dibutoxybutane , 1,4-Dialkenyl alkanes such as diphenoxybutane and the like. Among these, 1,2-dimethoxyethane is particularly preferable.

上記ポリチオエーテルとしては、前記例示したポリエーテルの酸素原子を硫黄原子に置換したものが挙げられる。 Examples of the polythioether include those in which the oxygen atom of the above-exemplified polyether is replaced with a sulfur atom.

上記多座ホスフィンとしては、例えば、1,2-ビス(ジメチルホスフィノ)エタン、1,2-ビス(ジエチルホスフィノ)エタン、1,2-ビス(ジプロピルホスフィノ)エタン、1,2-ビス(ジブチルホスフィノ)エタン、1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタン、1,3-ビス(ジメチルホスフィノ)プロパン、1,3-ビス(ジエチルホスフィノ)プロパン、1,3-ビス(ジプロピルホスフィノ)プロパン、1,3-ビス(ジブチルホスフィノ)プロパン、1,3-ビス(ジフェニルホスフィノ)プロパン、1,4-ビス(ジメチルホスフィノ)ブタン、1,4-ビス(ジエチルホスフィノ)ブタン、1,4-ビス(ジプロピルホスフィノ)ブタン、1,4-ビス(ジブチルホスフィノ)ブタン、1,4-ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン等のビス(ジアルキルホスフィノ)アルカン類やビス(ジアリールホスフィノ)アルカン類が挙げられる。これらの中でも、特に好ましくは1,2-ビス(ジフェニルホスフィノ)エタンが挙げられる。 Examples of the polydentate phosphin include 1,2-bis (dimethylphosphino) ethane, 1,2-bis (diethylphosphino) ethane, 1,2-bis (dipropylphosphino) ethane, 1,2-. Bis (dibutylphosphino) ethane, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane, 1,3-bis (dimethylphosphino) propane, 1,3-bis (diethylphosphino) propane, 1,3-bis ( Dipropylphosphino) propane, 1,3-bis (dibutylphosphino) propane, 1,3-bis (diphenylphosphino) propane, 1,4-bis (dimethylphosphino) butane, 1,4-bis (diethyl) Bis (dialkylphosphino) alkanes such as phosphino) butane, 1,4-bis (dipropylphosphino) butane, 1,4-bis (dibutylphosphino) butane, 1,4-bis (diphenylphosphino) butane, etc. And bis (diarylphosphino) alkanes. Among these, 1,2-bis (diphenylphosphino) ethane is particularly preferable.

上記キレート型配位子の使用量は適宜設定すればよいが、例えば、ハロシラン1molに対して、好ましくは0.01mol以上、より好ましくは0.05mol以上、さらに好ましくは0.1mol以上、また好ましくは50mol以下、より好ましくは40mol以下、さらに好ましくは30mol以下である。 The amount of the chelate-type ligand used may be appropriately set, and for example, it is preferably 0.01 mol or more, more preferably 0.05 mol or more, still more preferably 0.1 mol or more, and more preferably 0.1 mol or more with respect to 1 mol of halosilane. Is 50 mol or less, more preferably 40 mol or less, still more preferably 30 mol or less.

上記方法Aで得られる環状ハロシランの塩は、例えば、下記式(13)で表されるものが好適である。 The salt of the cyclic halosilane obtained by the above method A is preferably represented by the following formula (13), for example.

Figure 0007022512000003
Figure 0007022512000003

上記式(13)において、X1とX2はそれぞれ独立してハロゲン原子を表し、Lはアニオン性配位子を表し、pは配位子Lの価数として-2~0の整数を表し、Kは対カチオンを表し、qは対カチオンKの価数として0~2の整数を表し、nは0~5の整数を表し、aとbとcは0以上、“2n+6”以下の整数(ただし、a+b+c=2n+6であり、aとcは同時に0ではない)を表し、dは0~3の整数(ただし、aとdは同時に0ではない)、eは0~3の整数(ただし、d+e=3)を表し、mは1~2であり、sは1以上の整数を表し、tは1以上の整数を表す。 In the above formula (13), X 1 and X 2 each independently represent a halogen atom, L represents an anionic ligand, and p represents an integer of -2 to 0 as the valence of the ligand L. , K represents a counter cation, q represents an integer of 0 to 2 as the valence of the counter cation K, n represents an integer of 0 to 5, a, b and c are integers of 0 or more and “2n + 6” or less. (However, a + b + c = 2n + 6, and a and c are not 0 at the same time), d is an integer of 0 to 3 (however, a and d are not 0 at the same time), and e is an integer of 0 to 3 (provided that it is not 0 at the same time). , D + e = 3), m is 1 to 2, s represents an integer of 1 or more, and t represents an integer of 1 or more.

上記環状ハロシランの塩は、ルイス酸と接触させて反応させることにより、フリーの環状ハロシランとしても良い。フリーの環状ハロシランとは、例えば、Si5Cl10やSi6Cl12などの非錯体型の環状ハロシランを意味する。具体的には、環状ハロシランの塩をルイス酸と接触させると、ルイス酸が環状ハロシランの塩に含まれるアニオン性配位子に求電子的に作用して、環状ハロシランの塩からアニオン性配位子を引き抜くとともに対カチオンが遊離し、対応するフリーの環状ハロシランを得ることができる。 The salt of the cyclic halosilane may be made into a free cyclic halosilane by contacting it with Lewis acid and reacting it. The free cyclic halosilane means, for example, a non-complex type cyclic halosilane such as Si 5 Cl 10 or Si 6 Cl 12 . Specifically, when a salt of cyclic halosilane is brought into contact with Lewis acid, Lewis acid acts electrochomically on the anionic ligand contained in the salt of cyclic halosilane, and anionic coordination is performed from the salt of cyclic halosilane. As the offspring are withdrawn, the counter cation is liberated to give the corresponding free cyclic halosilane.

上記ルイス酸の種類は特に限定されないが、金属ハロゲン化物を用いることが好ましい。金属ハロゲン化物としては、例えば、金属塩化物、金属臭化物、金属ヨウ化物等が挙げられるが、反応性や反応の制御の容易性の点から、金属塩化物を用いることが好ましい。金属ハロゲン化物を構成する金属元素としては、ホウ素、アルミニウム、ガリウム、インジウム、タリウム等の13族元素、銅、銀、金等の11族元素、チタン、ジルコニウム等の4族元素、鉄、亜鉛、カルシウム等が挙げられる。ルイス酸としては、具体的に、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三臭化ホウ素等のハロゲン化ホウ素;塩化アルミニウム、臭化アルミニウム等のハロゲン化アルミニウム;塩化ガリウム、臭化ガリウム等のハロゲン化ガリウム;塩化インジウム、臭化インジウム等のハロゲン化インジウム;塩化タリウム、臭化タリウム等のハロゲン化タリウム;塩化銅、臭化銅等のハロゲン化銅;塩化銀、臭化銀等のハロゲン化銀;塩化金、臭化金等のハロゲン化金;塩化チタン、臭化チタン等のハロゲン化チタン;塩化ジルコニウム、臭化ジルコニウムなどのハロゲン化ジルコニウム;塩化鉄、臭化鉄等のハロゲン化鉄;塩化亜鉛、臭化亜鉛などのハロゲン化亜鉛;塩化カルシウム、臭化カルシウム等のハロゲン化カルシウム;等が挙げられる。 The type of Lewis acid is not particularly limited, but it is preferable to use a metal halide. Examples of the metal halide include metal chloride, metal bromide, and metal iodide, but it is preferable to use metal chloride from the viewpoint of reactivity and ease of control of the reaction. The metal elements constituting the metal halide include Group 13 elements such as boron, aluminum, gallium, indium and tarium, Group 11 elements such as copper, silver and gold, Group 4 elements such as titanium and zirconium, iron and zinc. Examples include calcium. Specific examples of the Lewis acid include boron halides such as boron trifluoride, boron trichloride and boron tribromide; aluminum halides such as aluminum chloride and aluminum bromide; halogenation of gallium chloride and gallium bromide. Gallium; Indium halide such as indium chloride and indium bromide; Talium halide such as tallium chloride and talium bromide; Copper halide such as copper chloride and copper bromide; Silver halide such as silver chloride and silver bromide; Halogenated gold such as gold chloride and gold bromide; Titanium halide such as titanium chloride and titanium bromide; Halogenated zirconium such as zirconium chloride and zirconium bromide; Iron halide such as iron chloride and iron bromide; Zinc chloride , Halogenated zinc such as zinc bromide; calcium halide, calcium halide such as calcium bromide; and the like.

上記ルイス酸の使用量は、環状ハロシランの塩とルイス酸との反応性に応じて適宜調整すればよいが、例えば、環状ハロシランの塩1molに対して、好ましくは0.5mol以上、より好ましくは1.5mol以上、また好ましくは20mol以下、より好ましくは10mol以下である。 The amount of the Lewis acid used may be appropriately adjusted according to the reactivity between the salt of the cyclic halosilane and the Lewis acid, and is preferably 0.5 mol or more, more preferably 0.5 mol or more, with respect to 1 mol of the salt of the cyclic halosilane, for example. It is 1.5 mol or more, preferably 20 mol or less, and more preferably 10 mol or less.

上記環状ハロシランの塩とルイス酸との反応は、溶媒または分散媒(これらを単に溶媒という)中で行うことが好ましい。反応において使用する溶媒(反応溶媒)としては、ヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル等のエーテル系溶媒等が挙げられる。これらの有機溶媒は1種のみを用いてもよいし2種以上を併用してもよい。なお反応溶媒は、その中に含まれる水や溶存酸素を取り除くため、反応前に蒸留や脱水等の精製を施しておくことが好ましい。 The reaction between the cyclic halosilane salt and Lewis acid is preferably carried out in a solvent or a dispersion medium (these are simply referred to as a solvent). Examples of the solvent (reaction solvent) used in the reaction include hydrocarbon solvents such as hexane and toluene; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, cyclopentyl methyl ether, diisopropyl ether and methyl tertiary butyl ether. Only one kind of these organic solvents may be used, or two or more kinds thereof may be used in combination. The reaction solvent is preferably purified by distillation, dehydration or the like before the reaction in order to remove water and dissolved oxygen contained therein.

上記環状ハロシランの塩とルイス酸との反応を行う際の反応温度は、反応性に応じて適宜調整すればよいが、例えば、好ましくは-80℃以上、より好ましくは-50℃以上、さらに好ましくは-30℃以上、また好ましくは200℃以下、より好ましくは150℃以下、さらに好ましくは100℃以下である。 The reaction temperature at the time of reacting the above cyclic halosilane salt with Lewis acid may be appropriately adjusted according to the reactivity, but for example, it is preferably −80 ° C. or higher, more preferably −50 ° C. or higher, still more preferable. Is −30 ° C. or higher, preferably 200 ° C. or lower, more preferably 150 ° C. or lower, still more preferably 100 ° C. or lower.

次に、上記方法Bについて説明する。 Next, the above method B will be described.

上記化合物IのXRnでは、Xが環状ハロシランに配位して環状ハロシラン中性錯体を形成する。XがPまたはP=Oである場合、Xは3価であり、Rの数を示すnは3である。Rは同一または異なって置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Rは置換または無置換のアリール基であることがより好ましい。Rがアルキル基の場合は、直鎖、分岐状または環状のアルキル基が挙げられ、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、オクチル基、シクロへキシル基等の炭素数1~16のアルキル基が好ましく挙げられる。また、Rがアリール基の場合は、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6~18程度のアリール基が好ましく挙げられる。 In XR n of the above compound I, X coordinates with the cyclic halosilane to form a cyclic halosilane neutral complex. When X is P or P = O, X is trivalent and n, which indicates the number of R, is 3. R represents the same or different substituted or unsubstituted alkyl or aryl group. More preferably, R is a substituted or unsubstituted aryl group. When R is an alkyl group, it may be a linear, branched or cyclic alkyl group, and may be a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a pentyl group, a hexyl group, a heptyl group, an octyl group or a cyclohexyl. Alkyl groups having 1 to 16 carbon atoms such as groups are preferably mentioned. When R is an aryl group, an aryl group having about 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group is preferably mentioned.

上記化合物IのXRnにおいて、XがNのときも、Xが環状ハロシランに配位して環状ハロシラン中性錯体を形成する。但し、XRn中のアミノ基の数は1である。XがNである場合、Xは3価であり、Rの数を示すnは3である。Rは同一または異なって置換または無置換のアルキル基またはアリール基を表す。Rは置換または無置換のアルキル基がより好ましい。Rがアルキル基の場合は、直鎖、分岐状または環状のアルキル基が挙げられ、炭素数1~16のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等の炭素数1~4のアルキル基がより好ましく、炭素数1~3のアルキル基がさらに好ましいものとして挙げられる。また、Rがアリール基の場合は、フェニル基、ナフチル基等の炭素数6~18程度のアリール基が好ましく挙げられる。 In XR n of the above compound I, even when X is N, X coordinates with the cyclic halosilane to form a cyclic halosilane neutral complex. However, the number of amino groups in XR n is 1. When X is N, X is trivalent and n, which indicates the number of R, is 3. R represents the same or different substituted or unsubstituted alkyl or aryl group. R is more preferably a substituted or unsubstituted alkyl group. When R is an alkyl group, a linear, branched or cyclic alkyl group is mentioned, and an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms is preferable, and an alkyl group having 1 to 16 carbon atoms such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group and a butyl group is preferable. The alkyl group of 4 is more preferable, and the alkyl group having 1 to 3 carbon atoms is further preferable. When R is an aryl group, an aryl group having about 6 to 18 carbon atoms such as a phenyl group and a naphthyl group is preferably mentioned.

上記XがP、P=Oのときや、XがNのときのXRnにおいて、上記アルキル基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基等が挙げられ、アリール基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アミノ基、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基等が挙げられる。アミノ基としては、ジメチルアミノ基やジエチルアミノ基が挙げられるが、アミノ基の数はXR3中1つ以下であり、第3級ポリアミンを除く趣旨である。なお、3個のRは、同一であっても、異なっていてもよい。 In XR n when X is P and P = O or when X is N, the substituents that the alkyl group may have include an alkoxy group, an amino group, a cyano group, a carbonyl group and a sulfonyl group. Examples of the substituent which the aryl group may have include an alkoxy group, an amino group, a cyano group, a carbonyl group, a sulfonyl group and the like. Examples of the amino group include a dimethylamino group and a diethylamino group, but the number of amino groups is one or less in XR 3 , and the purpose is to exclude tertiary polyamines. The three Rs may be the same or different.

上記XがS、S=O、Oのとき、Xは2価であり、Rの数を示すnは2である。Rは、XがP、P=Oである場合のRと同じ意味であり、置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Rは置換または無置換のアリール基であることがより好ましい。また、XがCNのとき、Xは1価であり、Rの数を示すnは1である。この場合も、Rは、XがP、P=Oである場合のRと同じ意味であり、置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Rは置換または無置換のアリール基であることがより好ましい。 When the above X is S, S = O, O, X is divalent and n indicating the number of R is 2. R has the same meaning as R when X is P, P = O, and is a substituted or unsubstituted alkyl group or aryl group. More preferably, R is a substituted or unsubstituted aryl group. Further, when X is CN, X is monovalent and n indicating the number of R is 1. Again, R has the same meaning as R when X is P, P = O, and is a substituted or unsubstituted alkyl or aryl group. More preferably, R is a substituted or unsubstituted aryl group.

上記化合物Iの具体例としては、トリフェニルホスフィン(PPh3)、トリフェニルホスフィンオキシド(Ph3P=O)、トリス(4-メトキシフェニル)ホスフィン(P(MeOPh)3)等のXがPまたはP=Oの化合物;ジメチルスルホキシド等のXがS=Oの化合物;p-トルニトリル(p-メチルベンゾニトリルともいう)等のXがCNの化合物等が挙げられる。 As specific examples of the above-mentioned compound I, X such as triphenylphosphine (PPh 3 ), triphenylphosphine oxide (Ph 3 P = O), tris (4-methoxyphenyl) phosphine (P (MeOPh) 3 ) is P or Examples thereof include compounds having P = O; compounds having X of S = O such as dimethyl sulfoxide; compounds having X of CN such as p-tolunitrile (also referred to as p-methylbenzonitrile).

上記(II)の複素環化合物(化合物II)においては、環中に非共有電子対を有していることが必要であり、この非共有電子対が環状ハロシランに配位して環状ハロシラン中性錯体を形成する。このような複素環化合物としては、環中にローンペアを有するN,O,SまたはPを含む置換または無置換の複素環化合物1種以上が挙げられる。複素環化合物が有していてもよい置換基は、上記Rがアリール基の場合に有していてもよい置換基と同じである。複素環化合物としては、ピリジン類、イミダゾール類、ピラゾール類、オキサゾール類、チアゾール類、イミダゾリン類、ピラジン類、チオフェン類、フラン類等が挙げられる。具体例としては、N,N-ジメチル-4-アミノピリジン、テトラヒドロチオフェン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。 The heterocyclic compound (Compound II) of (II) above needs to have an unshared electron pair in the ring, and the unshared electron pair is coordinated to the cyclic halosilane to be neutral to the cyclic halosilane. Form a complex. Examples of such a heterocyclic compound include one or more substituted or unsubstituted heterocyclic compounds containing N, O, S or P having a lone pair in the ring. The substituent which the heterocyclic compound may have is the same as the substituent which may have when R is an aryl group. Examples of the heterocyclic compound include pyridines, imidazoles, pyrazoles, oxazoles, thiazoles, imidazolines, pyrazines, thiophenes, furans and the like. Specific examples include N, N-dimethyl-4-aminopyridine, tetrahydrothiophene, tetrahydrofuran and the like.

上記化合物Iおよび化合物IIのうち、反応温度において液体である化合物は溶媒の役目も兼ねることができる。 Of the above compounds I and II, the compound which is liquid at the reaction temperature can also serve as a solvent.

上記化合物Iおよび上記化合物IIの使用量は適宜決定すればよく、ハロシラン6molに対し、上記化合物を、例えば、0.1~50mol用いてもよく、0.5~3mol用いることが好ましい。 The amounts of the above-mentioned compound I and the above-mentioned compound II to be used may be appropriately determined, and the above-mentioned compound may be used, for example, 0.1 to 50 mol, preferably 0.5 to 3 mol, with respect to 6 mol of halosilane.

上記方法Bで得られる上記環状ハロシラン中性錯体は、原料とするハロシランのケイ素原子が3~8個(好ましくは5個または6個、特に6個)から形成され、ケイ素原子が連なった環を含む錯体であり、一般式[Y]l[Sim2m-aa]で表すことができる。上記一般式で、Yは上記化合物Iまたは上記化合物IIであり、Zは、同一または異なって、Cl、Br、I、Fのいずれかのハロゲン原子を表し、lは1または2、mは3~8、好ましくは5または6、特に好ましくは6、aは0~2m-1、好ましくは0~mである。 The cyclic halosilane neutral complex obtained by the above method B is formed of 3 to 8 (preferably 5 or 6, particularly 6) silicon atoms of the halosilane used as a raw material, and has a ring in which silicon atoms are connected. It is a complex containing, and can be represented by the general formula [Y] l [Si m Z 2m-a Ha ]. In the above general formula, Y is the compound I or the compound II, Z represents the same or different halogen atom of Cl, Br, I, F, l is 1 or 2, m is 3. -8, preferably 5 or 6, particularly preferably 6, a is 0 to 2 m-1, preferably 0 to m.

上記方法A、方法Bにおけるハロシランの環化反応は、第3級アミンを添加して行うことが好ましい。第3級アミンを添加することにより生成する塩酸を中和することができる。 The cyclization reaction of halosilane in the above methods A and B is preferably carried out by adding a tertiary amine. Hydrochloric acid produced by adding a tertiary amine can be neutralized.

上記環化反応で用いられる第3級アミンとしては、例えば、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリオクチルアミン、トリイソブチルアミン、トリイソペンチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン(DIPEA)、ジメチルブチルアミン、ジメチル-2-エチルヘキシルアミン、ジイソプロピル-2-エチルヘキシルアミン、メチルジオクチルアミン等が好ましく挙げられる。 Examples of the tertiary amine used in the cyclization reaction include triethylamine, tripropylamine, tributylamine, trioctylamine, triisobutylamine, triisopentylamine, diethylmethylamine, diisopropylethylamine (DIPEA), and dimethylbutylamine. , Dimethyl-2-ethylhexylamine, diisopropyl-2-ethylhexylamine, methyldioctylamine and the like are preferably mentioned.

上記第3級アミンは、1種を用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。また、第3級アミンには、環状ハロシランに配位するものも含まれ、例えば、ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン等の、比較的嵩高くなく、対称性の高いアミン等は、比較的効率よく配位すると考えられる。しかし、前記化合物IのXRnで表される第3級アミンだけでは、環状ハロシラン中性錯体の収率が低くなる傾向にあるため、第3級アミン以外の化合物Iを併用することが好ましい。 As the tertiary amine, one kind may be used, or two or more kinds may be used in combination. In addition, tertiary amines include those that coordinate to cyclic halosilanes. For example, amines that are not relatively bulky and have high symmetry, such as diethylmethylamine and triethylamine, are coordinated relatively efficiently. It is thought that. However, since the yield of the cyclic halosilane neutral complex tends to be low only with the tertiary amine represented by XR n of the compound I, it is preferable to use the compound I other than the tertiary amine in combination.

上記第3級アミンは、ハロシラン1molに対して、0.5~4mol用いることが好ましく、同molとすることが特に好ましい。 The tertiary amine is preferably 0.5 to 4 mol with respect to 1 mol of halosilane, and is particularly preferably the same mol.

なお、本発明では、限定はされないが、炭素原子を2個以上有し、アミノ基を3個以上有する第3級ポリアミンは用いないことが好ましい。上記第3級ポリアミンを用いると、対カチオンにケイ素を含む環状ハロシランの塩が生成し、保管時や還元反応時にシランガスが発生するため、安全性の観点から好ましくない。 In the present invention, although not limited, it is preferable not to use a tertiary polyamine having two or more carbon atoms and three or more amino groups. When the above tertiary polyamine is used, a salt of cyclic halosilane containing silicon as a counter cation is generated, and silane gas is generated during storage or reduction reaction, which is not preferable from the viewpoint of safety.

上記方法A、方法Bにおける上記ハロシランの環化反応は、必要に応じて有機溶媒中で実施できる。この有機溶媒としては、環化反応を妨げない溶媒が好ましく、例えば、炭化水素系溶媒(例えば、ヘキサン、ヘプタン、ベンゼン、トルエン等)、ハロゲン化炭化水素系溶媒(例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン等)、エーテル系溶媒(例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル等)、アセトニトリル等の非プロトン性極性溶媒が好ましく挙げられる。これらの中でも、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタン等の塩素化炭化水素系溶媒が好ましく、特に1,2-ジクロロエタンが好ましい。なお、これら有機溶媒は、1種を用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 The cyclization reaction of the halosilane in the above methods A and B can be carried out in an organic solvent, if necessary. As the organic solvent, a solvent that does not interfere with the cyclization reaction is preferable, and for example, a hydrocarbon solvent (for example, hexane, heptane, benzene, toluene, etc.) and a halogenated hydrocarbon solvent (for example, chloroform, dichloromethane, 1, 2-Dichloroethane, etc.), ether solvents (eg, diethyl ether, tetrahydrofuran, cyclopentylmethyl ether, diisopropyl ether, methyl tertiary butyl ether, etc.), acetonitrile and other aprotonic polar solvents are preferable. Among these, chlorinated hydrocarbon solvents such as chloroform, dichloromethane and 1,2-dichloroethane are preferable, and 1,2-dichloroethane is particularly preferable. In addition, these organic solvents may use 1 type or may use 2 or more types in combination.

上記有機溶媒の使用量は、特に制限されないが、通常、ハロシランの濃度が0.5~10mol/Lとなるように調整することが好ましく、より好ましい濃度は0.8~8mol/L、さらに好ましい濃度は1~5mol/Lである。 The amount of the organic solvent used is not particularly limited, but it is usually preferable to adjust the concentration of halosilane to be 0.5 to 10 mol / L, more preferably 0.8 to 8 mol / L, still more preferable. The concentration is 1 to 5 mol / L.

環化反応における反応温度は、反応性に応じて適宜設定でき、例えば0~120℃程度、好ましくは15~70℃程度である。また環化反応は、窒素等の不活性ガス雰囲気下で行うことが推奨される。 The reaction temperature in the cyclization reaction can be appropriately set according to the reactivity, and is, for example, about 0 to 120 ° C., preferably about 15 to 70 ° C. It is also recommended that the cyclization reaction be carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen.

環化反応後は、環状ハロシランを含む反応液を非ハロゲン溶媒で洗浄する工程を含むことが好ましい。即ち、環化反応が終われば、環状ハロシラン(環状ハロシランの塩、フリーの環状ハロシラン、環状ハロシラン中性錯体等)の溶液あるいは分散液が生成する。これを濃縮あるいは濾過し、得られた固体を例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、1,2-ジクロロエタンなどのハロゲン溶媒やアセトニトリル、ヘキサンなどの非ハロゲン溶媒等で洗浄することで、精製しても良い。環状ハロシランを、非ハロゲン溶媒を用いて洗浄する工程を含むことにより、環状水素化シランに含まれるハロゲン元素含有量が顕著に低減される傾向にある。 After the cyclization reaction, it is preferable to include a step of washing the reaction solution containing the cyclic halosilane with a non-halogen solvent. That is, when the cyclization reaction is completed, a solution or dispersion of cyclic halosilane (salt of cyclic halosilane, free cyclic halosilane, cyclic halosilane neutral complex, etc.) is produced. This may be concentrated or filtered, and the obtained solid may be purified by washing with, for example, a halogen solvent such as chloroform, dichloromethane or 1,2-dichloroethane or a non-halogen solvent such as acetonitrile or hexane. By including the step of washing the cyclic halosilane with a non-halogen solvent, the content of the halogen element contained in the cyclic hydride tends to be significantly reduced.

上記非ハロゲン溶媒で洗浄するに先立って、ハロゲン溶媒で洗浄する工程を含むことが好ましい。ハロゲン溶媒で洗浄することによりアミン塩酸塩を除去でき、非ハロゲン溶媒で洗浄することによりハロゲン溶媒を除去できる。 Prior to cleaning with the non-halogen solvent, it is preferable to include a step of cleaning with a halogen solvent. The amine hydrochloride can be removed by washing with a halogen solvent, and the halogen solvent can be removed by washing with a non-halogen solvent.

上記ハロゲン溶媒を用いた洗浄、および上記非ハロゲン溶媒を用いた洗浄は、それぞれ1回ずつでもよいし、それぞれ2回以上であってもよい。 The cleaning using the halogen solvent and the cleaning using the non-halogen solvent may be performed once or twice or more.

上記環状ハロシランは、精製により、高純度な固体として得ることが可能である。しかし、所望により、不純物を含む環状ハロシランを含む組成物として得ることも可能である。環状ハロシランを含む組成物は、環状ハロシランを80質量%以上含むことが好ましく、90質量%以上がより好ましく、95質量%以上がさらに好ましい。上限は例えば99.99質量%である。上記不純物としては、溶剤や上記化合物Iまたは上記化合物IIの残渣、環状ハロシランの分解物やハロシランポリマー等である。環状ハロシランを含む組成物における上記不純物の含有量は、20質量%以下であることが好ましく、10質量%以下であることがより好ましく、5質量%以下がさらに好ましく、下限は例えば0.01質量%である。 The cyclic halosilane can be obtained as a high-purity solid by purification. However, if desired, it can also be obtained as a composition containing a cyclic halosilane containing impurities. The composition containing the cyclic halosilane preferably contains 80% by mass or more of the cyclic halosilane, more preferably 90% by mass or more, still more preferably 95% by mass or more. The upper limit is, for example, 99.99% by mass. Examples of the impurities include a solvent, the residue of the compound I or the compound II, a decomposition product of cyclic halosilane, a halosilane polymer, and the like. The content of the impurities in the composition containing the cyclic halosilane is preferably 20% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, further preferably 5% by mass or less, and the lower limit is, for example, 0.01% by mass. %.

上記環状ハロシラン(環状ハロシランの塩、フリーの環状ハロシラン、環状ハロシラン中性錯体等)を、還元する工程(還元工程)を含むことにより、環状水素化シランを製造できる。上記還元工程は、好ましくは還元剤の存在下で行われる。 Cyclic hydride can be produced by including a step (reduction step) of reducing the cyclic halosilane (salt of cyclic halosilane, free cyclic halosilane, cyclic halosilane neutral complex, etc.). The reduction step is preferably carried out in the presence of a reducing agent.

上記還元工程で用いることのできる還元剤は特に制限されないが、アルミニウム系還元剤、ホウ素系還元剤からなる群より選ばれる1種以上を用いることが好ましい。アルミニウム系還元剤としては、例えば、水素化リチウムアルミニウム(LiAlH4;LAH)、水素化ジイソブチルアルミニウム(DIBAL)、水素化ビス(2-メトキシエトキシ)アルミニウムナトリウム[「Red-Al」(シグマアルドリッチ社の登録商標)]等の金属水素化物等が挙げられる。ホウ素系還元剤としては、例えば、水素化ホウ素ナトリウム、水素化トリエチルホウ素リチウム等の金属水素化物や、ジボラン等が挙げられ、金属水素化物を用いることが好ましい。なお、還元剤は1種を用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 The reducing agent that can be used in the reduction step is not particularly limited, but it is preferable to use one or more selected from the group consisting of an aluminum-based reducing agent and a boron-based reducing agent. Examples of the aluminum-based reducing agent include lithium aluminum hydride (LiAlH 4 ; LAH), diisobutylaluminum hydride (DIBAL), and bis (2-methoxyethoxy) aluminum sodium hydride [“Red-Al” (Sigma Aldrich). Metal hydrides such as [registered trademark)] and the like can be mentioned. Examples of the boron-based reducing agent include metal hydrides such as sodium borohydride and lithium triethylborohydride, diborane and the like, and it is preferable to use metal hydrides. One type of reducing agent may be used, or two or more types may be used in combination.

上記還元工程における還元剤の使用量は、適宜設定すればよく、例えば、環状ハロシランのケイ素-ハロゲン結合1個に対する還元剤中のヒドリドの当量を、少なくとも0.9当量以上とすることが好ましい。上記還元剤の使用量は、より好ましくは1.0~50当量、さらに好ましくは1.0~30当量、特に好ましくは1.0~15当量、最も好ましくは1.0~2当量である。還元剤の使用量が多すぎると、後処理に時間を要し生産性が低下する傾向がある。一方、還元剤の使用量が少なすぎると、ハロゲンが還元されずに残り、収率が低下する傾向がある。 The amount of the reducing agent used in the reducing step may be appropriately set, and for example, the equivalent of hydride in the reducing agent to one silicon-halogen bond of cyclic halosilane is preferably at least 0.9 equivalent or more. The amount of the reducing agent used is more preferably 1.0 to 50 equivalents, still more preferably 1.0 to 30 equivalents, particularly preferably 1.0 to 15 equivalents, and most preferably 1.0 to 2 equivalents. If the amount of the reducing agent used is too large, the post-treatment takes time and the productivity tends to decrease. On the other hand, if the amount of the reducing agent used is too small, the halogen remains unreduced and the yield tends to decrease.

上記還元工程では、還元助剤としてルイス酸触媒を上記還元剤と併用してもよい。ルイス酸触媒としては、塩化アルミニウム、塩化チタン、塩化亜鉛、塩化スズ、塩化鉄等の塩化物;臭化アルミニウム、臭化チタン、臭化亜鉛、臭化スズ、臭化鉄等の臭化物;ヨウ化アルミニウム、ヨウ化チタン、ヨウ化亜鉛、ヨウ化スズ、ヨウ化鉄等のヨウ化物;フッ化アルミニウム、フッ化チタン、フッ化亜鉛、フッ化スズ、フッ化鉄等のフッ化物;等のハロゲン化金属化合物が挙げられる。これらは1種を用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。 In the reduction step, a Lewis acid catalyst may be used in combination with the reducing agent as a reducing aid. As the Lewis acid catalyst, chlorides such as aluminum chloride, titanium chloride, zinc chloride, tin chloride and iron chloride; bromides such as aluminum bromide, titanium bromide, zinc bromide, tin bromide and iron bromide; iodide Iodides such as aluminum, titanium iodide, zinc iodide, tin iodide, iron iodide; fluorides such as aluminum fluoride, titanium fluoride, zinc fluoride, tin fluoride, iron fluoride; Examples include metal compounds. These may be used alone or in combination of two or more.

上記還元工程における反応は、必要に応じて、有機溶媒の存在下で行うことができる。上記有機溶媒としては、例えば、ヘキサン、トルエン等の炭化水素系溶媒;ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、シクロペンチルメチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチルターシャリーブチルエーテル等のエーテル系溶媒;等が挙げられる。これら有機溶媒は1種を用いてもよいし2種以上を併用してもよい。また、環状ハロシランを製造するときに得られた有機溶媒溶液を、そのまま還元工程における有機溶媒溶液として用いてもよいし、環状ハロシランを含む有機溶媒溶液から、有機溶媒を留去して、新たな有機溶媒を添加して還元工程を行ってもよい。なお、還元工程における反応に用いる有機溶媒は、その中に含まれる水や溶存酸素を取り除くため、反応前に蒸留や脱水等の精製を行っておくことが好ましい。 The reaction in the reduction step can be carried out in the presence of an organic solvent, if necessary. Examples of the organic solvent include hydrocarbon solvents such as hexane and toluene; ether solvents such as diethyl ether, tetrahydrofuran, cyclopentyl methyl ether, diisopropyl ether and methyl tertiary butyl ether; and the like. One type of these organic solvents may be used, or two or more types may be used in combination. Further, the organic solvent solution obtained when producing the cyclic halosilane may be used as it is as the organic solvent solution in the reduction step, or the organic solvent is distilled off from the organic solvent solution containing the cyclic halosilane to obtain a new solution. The reduction step may be carried out by adding an organic solvent. The organic solvent used in the reaction in the reduction step is preferably purified by distillation, dehydration or the like before the reaction in order to remove water and dissolved oxygen contained therein.

還元反応に用いる有機溶媒の使用量としては、環状ハロシランの濃度が0.01~1mol/Lとなるように調整することが好ましく、より好ましくは0.02~0.7mol/L、さらに好ましくは0.03~0.5mol/Lである。上記範囲で反応を行うことにより、環状水素化シランに含まれるハロゲン元素含有量が顕著に低減される傾向にある。 The amount of the organic solvent used in the reduction reaction is preferably adjusted so that the concentration of cyclic halosilane is 0.01 to 1 mol / L, more preferably 0.02 to 0.7 mol / L, and even more preferably 0.02 to 0.7 mol / L. It is 0.03 to 0.5 mol / L. By carrying out the reaction in the above range, the content of the halogen element contained in the cyclic hydride tends to be remarkably reduced.

還元は、環状ハロシランと還元剤とを接触させることにより行うことができる。環状ハロシランと還元剤との接触に際しては、溶媒の存在下で接触させることが好ましい。溶媒の存在下で環状ハロシランと還元剤とを接触させるには、例えば、(a)環状ハロシランの溶液または分散液に、還元剤をそのまま加える、(b)環状ハロシランの溶液または分散液に、還元剤を溶媒に溶解または分散させた溶液または分散液を加える、(c)溶媒中に環状ハロシランと還元剤を同時にもしくは順次加える、などの混合手順を採用すればよい。これらの中で特に好ましいのは上記(b)の態様である。 The reduction can be carried out by contacting the cyclic halosilane with the reducing agent. When the cyclic halosilane is brought into contact with the reducing agent, it is preferable to bring them into contact with each other in the presence of a solvent. To bring the cyclic halosilane into contact with the reducing agent in the presence of a solvent, for example, (a) the reducing agent is added as it is to the solution or dispersion of the cyclic halosilane, and (b) the cyclic halosilane is reduced to the solution or dispersion. A mixing procedure such as adding a solution or dispersion in which the agent is dissolved or dispersed in a solvent, or (c) adding the cyclic halosilane and the reducing agent to the solvent simultaneously or sequentially may be adopted. Of these, the aspect (b) above is particularly preferable.

また環状ハロシランと還元剤との接触に際しては、還元を行う反応系内に、環状ハロシランの溶液または分散液と、還元剤の溶液または分散液との少なくともいずれか一方を滴下することが好ましい。このように環状ハロシランおよび還元剤の一方または両方を滴下することにより、還元反応で生じる発熱を滴下速度等でコントロールすることができるので、例えばコンデンサー等の小型化が可能になるなど、生産性の向上に繋がる効果が得られる。 Further, when the cyclic halosilane is brought into contact with the reducing agent, it is preferable to drop at least one of the cyclic halosilane solution or dispersion and the reducing agent solution or dispersion into the reaction system for reduction. By dropping one or both of the cyclic halosilane and the reducing agent in this way, the heat generated by the reduction reaction can be controlled by the dropping speed, etc. The effect that leads to improvement can be obtained.

環状ハロシランと還元剤の一方または両方を滴下する場合の好ましい態様としては、以下の3つの態様がある。即ち、A)反応器内に環状ハロシランの溶液または分散液を仕込んでおき、これに還元剤の溶液または分散液を滴下する態様、B)反応器内に還元剤の溶液または分散液を仕込んでおき、これに環状ハロシランの溶液または分散液を滴下する態様、C)反応器内に、環状ハロシランの溶液または分散液と還元剤の溶液または分散液とを同時または順次滴下する態様である。これらの中でも上記A)の態様が好ましい。 When one or both of the cyclic halosilane and the reducing agent are added dropwise, there are the following three embodiments. That is, A) a solution or dispersion of cyclic halosilane is charged in the reactor, and the solution or dispersion of the reducing agent is dropped onto the solution, B) the solution or dispersion of the reducing agent is charged in the reactor. A mode in which a solution or dispersion of cyclic halosilane is dropped onto the solution, and a mode in which the solution or dispersion of cyclic halosilane and a solution or dispersion of a reducing agent are simultaneously or sequentially dropped into the reactor. Among these, the aspect of A) above is preferable.

環状ハロシランと還元剤の一方または両方を上記A)~C)の態様で滴下する場合、環状ハロシランの溶液または分散液の濃度は、好ましくは0.01mol/L以上、より好ましくは0.02mol/L以上、さらに好ましくは0.04mol/L以上、特に好ましくは0.05mol/L以上である。環状ハロシランの濃度が低すぎると、目的生成物を単離する際に留去しなければいけない溶媒量が増えるので、生産性が低下する傾向がある。一方、環状ハロシランの溶液または分散液の濃度の上限は、好ましくは1mol/L以下、より好ましくは0.8mol/L以下、さらに好ましくは0.5mol/L以下である。 When one or both of the cyclic halosilane and the reducing agent are added dropwise in the manners A) to C) above, the concentration of the cyclic halosilane solution or dispersion is preferably 0.01 mol / L or more, more preferably 0.02 mol / L. It is L or more, more preferably 0.04 mol / L or more, and particularly preferably 0.05 mol / L or more. If the concentration of cyclic halosilane is too low, the amount of solvent that must be distilled off when isolating the desired product increases, which tends to reduce productivity. On the other hand, the upper limit of the concentration of the cyclic halosilane solution or dispersion is preferably 1 mol / L or less, more preferably 0.8 mol / L or less, still more preferably 0.5 mol / L or less.

滴下時の温度(詳しくは、滴下用の溶液または分散液の温度)の下限は、好ましくは-198℃以上、より好ましくは-160℃以上、さらに好ましくは-100℃以上である。また、滴下時の温度の上限は、好ましくは+150℃以下、より好ましくは+100℃以下、さらに好ましくは+80℃以下、特に好ましくは+40℃以下である。なお、反応容器の温度(反応温度)は、環状ハロシランや還元剤の種類に応じて適宜設定すればよく、通常、下限を-198℃以上とすることが好ましく、より好ましくは-160℃以上、さらに好ましくは-100℃以上である。反応容器(反応溶液)の温度の上限は、+150℃以下が好ましく、より好ましくは+100℃以下、さらに好ましくは+80℃以下、特に好ましくは+40℃以下である。反応温度が低いと、中間生成物や目的物の分解や重合を抑制できるので、収量が向上する。反応時間は、反応の進行の程度に応じて適宜決定すればよく、通常、10分以上72時間以下、好ましくは1時間以上48時間以下、より好ましくは2時間以上24時間以下である。 The lower limit of the temperature at the time of dropping (specifically, the temperature of the solution or dispersion for dropping) is preferably −198 ° C. or higher, more preferably −160 ° C. or higher, still more preferably −100 ° C. or higher. The upper limit of the temperature at the time of dropping is preferably + 150 ° C. or lower, more preferably + 100 ° C. or lower, still more preferably + 80 ° C. or lower, and particularly preferably + 40 ° C. or lower. The temperature of the reaction vessel (reaction temperature) may be appropriately set according to the type of cyclic halosilane or reducing agent, and the lower limit is usually preferably −198 ° C. or higher, more preferably −160 ° C. or higher. More preferably, it is −100 ° C. or higher. The upper limit of the temperature of the reaction vessel (reaction solution) is preferably + 150 ° C. or lower, more preferably + 100 ° C. or lower, still more preferably + 80 ° C. or lower, and particularly preferably + 40 ° C. or lower. When the reaction temperature is low, decomposition and polymerization of intermediate products and target products can be suppressed, so that the yield is improved. The reaction time may be appropriately determined depending on the degree of progress of the reaction, and is usually 10 minutes or more and 72 hours or less, preferably 1 hour or more and 48 hours or less, and more preferably 2 hours or more and 24 hours or less.

なお、環状水素化シラン中のハロゲン元素含有量の低減を目的とする場合は、反応温度を高めにすることもハロゲン元素含有量低減の一手法になる。この場合、反応温度は、例えば、-60℃以上、好ましくは-50℃以上とすることが推奨される。 If the purpose is to reduce the halogen element content in the cyclic hydrogenated silane, raising the reaction temperature is also a method for reducing the halogen element content. In this case, it is recommended that the reaction temperature be, for example, −60 ° C. or higher, preferably −50 ° C. or higher.

一例として、上記方法Bにおいて、ハロシランとしてトリクロロシラン、化合物Iとしてトリフェニルホスフィン(PPh3)、第3級アミンとしてN,N-ジイソプロピルエチルアミン(DIPEA)を用いたスキーム例を下記に示す。 As an example, a scheme example using trichlorosilane as the halosilane, triphenylphosphine (PPh 3 ) as the compound I, and N, N-diisopropylethylamine (DIPEA) as the tertiary amine in the above method B is shown below.

Figure 0007022512000004
Figure 0007022512000004

トリクロロシランを出発原料とし、上記化合物Iをトリフェニルホスフィン(PPh3)とすると、通常、上記スキームのように6員環のドデカクロロシクロヘキサシランを含む錯体(ドデカクロロシクロヘキサシランにトリフェニルホスフィンが配位した中性錯体([PPh32[Si6Cl12]))となる。この環状ハロシラン中性錯体は環構造を形成するケイ素原子以外にケイ素原子を含まないため、還元やアルキル化もしくはアリール化した際にシランガスや有機モノシランが発生しないか、発生してもその量を低く抑えることができる。 When trichlorosilane is used as a starting material and the compound I is triphenylphosphine (PPh 3 ), a complex containing a 6-membered ring dodecachlorocyclohexasilane (dodecachlorocyclohexasilane and triphenylphosphine) is usually used as in the above scheme. Is a coordinated neutral complex ([PPh 3 ] 2 [Si 6 Cl 12 ])). Since this cyclic halosilane neutral complex contains no silicon atom other than the silicon atom forming the ring structure, silane gas or organic monosilane is not generated during reduction, alkylation or arylation, or even if it is generated, its amount is low. It can be suppressed.

この環化反応で生じた環状ハロシラン中性錯体の収量・収率は、錯体が定量的に反応する下記スキームで表されるメチル化反応を利用して算出できる。 The yield and yield of the cyclic halosilane neutral complex generated in this cyclization reaction can be calculated by using the methylation reaction represented by the following scheme in which the complex reacts quantitatively.

Figure 0007022512000005
Figure 0007022512000005

上記環状ハロシラン中性錯体(例えば、[PPh32[Si6Cl12])を還元して環状水素化シラン(例えば、シクロヘキサシラン)を得る方法は、例えば、還元剤としてLiAlH4を用いた場合は、以下のスキームで表される。 As a method for reducing a cyclic halosilane neutral complex (for example, [PPh 3 ] 2 [Si 6 Cl 12 ]) to obtain a cyclic hydrogenated silane (for example, cyclohexasilane), for example, LiAlH 4 is used as a reducing agent. If so, it is represented by the following scheme.

Figure 0007022512000006
Figure 0007022512000006

以下、ハロゲン元素含有量低減手法を、上記手法を含め、複数提示するが、これら手法はハロゲン元素の除去達成度を参考に、適宜、組み合わせることが推奨される。即ち一の手法でハロゲン元素含有量を目的の量まで低減できない場合は、複数の手法を組み合わせて、目的の量まで低減すればよい。 Hereinafter, a plurality of halogen element content reduction methods including the above methods will be presented, and it is recommended to combine these methods as appropriate with reference to the achievement level of halogen element removal. That is, if the halogen element content cannot be reduced to the target amount by one method, a plurality of methods may be combined to reduce the halogen element content to the target amount.

還元反応は、通常、例えば、窒素ガス、アルゴンガス等の不活性ガスの雰囲気下で行うことが好ましい。 The reduction reaction is usually preferably carried out in an atmosphere of an inert gas such as nitrogen gas or argon gas.

前記還元反応で生成した環状水素化シランは、例えば、還元後に得られた反応液から固体(副生した塩等の不純物)を固液分離した後、溶媒を減圧蒸留させるなどして、単離する。 The cyclic hydrogenated silane produced in the reduction reaction is isolated by, for example, solid-liquid separation of a solid (impurities such as by-produced salts) from the reaction solution obtained after the reduction, and then distillation of the solvent under reduced pressure. do.

上記固液分離の手法は、濾過が簡便であるため好ましく採用できるが、これに限定されるものではなく、例えば、遠心分離やデカンテーションなど公知の固液分離の手法を適宜採用できる。 The above-mentioned solid-liquid separation method can be preferably adopted because of its simple filtration, but is not limited to this, and for example, a known solid-liquid separation method such as centrifugation or decantation can be appropriately adopted.

環状水素化シラン中のハロゲン元素含有量を低減するための手法としては、上述したように、還元反応で得られた環状ハロシランを、非ハロゲン溶媒を用いて洗浄する方法の他、上記固液分離を少なくとも2回行うことが挙げられる。即ち、環状ハロシランを還元した後は、固液分離を少なくとも2回行う工程を含むことが好ましい。例えば、環状水素化シランを含む液と固体とを一度固液分離した後(第1分離)、環状水素化シランを含む液を好ましくは濃縮して炭化水素系溶媒(ヘキサンなど)を希釈溶媒として加えた後、好ましくは濃縮して析出してきた固体を再度分離し(第2分離)、必要に応じて第1分離から第2分離までの操作を繰り返してもよい。第1分離後に、溶媒希釈、濃縮、固液分離を1回以上行うことがより好ましく、複数回繰り返しても良い。この様に固液分離を少なくとも2回行うことによって、副生した塩等に含まれるハロゲンを除去でき、環状水素化シラン中のハロゲン元素含有量を低減できる。上記固液分離は、2回でもよいし、3回以上でもよい。上記固液分離の回数は特に限定されないが、生産性を考慮すると、上限は、5回程度以下である。 As a method for reducing the halogen element content in the cyclic hydrogenated silane, as described above, in addition to the method of washing the cyclic halosilane obtained by the reduction reaction with a non-halogen solvent, the above solid-liquid separation is performed. At least twice. That is, it is preferable to include a step of performing solid-liquid separation at least twice after reducing the cyclic halosilane. For example, after the liquid containing cyclic hydride and the solid are once solid-liquid separated (first separation), the liquid containing cyclic hydride is preferably concentrated and a hydrocarbon solvent (hexane or the like) is used as a diluting solvent. After the addition, the solid preferably concentrated and precipitated may be separated again (second separation), and the operation from the first separation to the second separation may be repeated as necessary. After the first separation, solvent dilution, concentration, and solid-liquid separation are more preferably performed once or more, and may be repeated a plurality of times. By performing the solid-liquid separation at least twice in this way, the halogen contained in the by-produced salt or the like can be removed, and the halogen element content in the cyclic hydride can be reduced. The solid-liquid separation may be performed twice or three times or more. The number of times of the solid-liquid separation is not particularly limited, but in consideration of productivity, the upper limit is about 5 times or less.

次に、上記固液分離により得られた環状水素化シランを含む溶液を必要によって濃縮した後、高濃度化した環状水素化シランを蒸留する。この蒸留は、減圧蒸留であるのが好ましい。減圧蒸留する方法は特に限定されず、公知の蒸留塔で行えばよい。上記蒸留は、留分を複数に分けて行うことが好ましく、得られた留分のうち、ハロゲン元素含有量を考慮して適切な留分のみを選択してもよい。 Next, the solution containing the cyclic hydride obtained by the solid-liquid separation is concentrated as necessary, and then the concentrated cyclic hydride is distilled. This distillation is preferably vacuum distillation. The method of distillation under reduced pressure is not particularly limited, and the distillation may be carried out using a known distillation column. The above distillation is preferably carried out by dividing the fraction into a plurality of fractions, and among the obtained fractions, only an appropriate fraction may be selected in consideration of the halogen element content.

特に環状水素化シラン中のハロゲン元素の含有量を低減するための一つの手法として、前記蒸留(特に減圧蒸留)を2回以上行うことが挙げられる。例えば、環状水素化シランを含む溶液を減圧蒸留し、ハロゲン元素含有量が適切な留分を回収した後(第1蒸留)、この回収留分を再度減圧蒸留してハロゲン元素含有量が適切な留分を回収し(第2蒸留)、さらに必要に応じて第2蒸留を繰り返す操作を行ってもよい。 In particular, as one method for reducing the content of the halogen element in the cyclic hydride silane, the distillation (particularly vacuum distillation) may be performed twice or more. For example, a solution containing cyclic hydride silane is distilled under reduced pressure to recover a fraction having an appropriate halogen element content (first distillation), and then the recovered fraction is distilled again under reduced pressure to have an appropriate halogen element content. The distillate may be recovered (second distillation), and if necessary, the second distillation may be repeated.

減圧蒸留を2回以上行う場合は、先の減圧蒸留での液温(内温)は、好ましくは25~80℃、より好ましくは30~70℃で行うのがよく、後の減圧蒸留での液温(内温)は、好ましくは20~75℃、より好ましくは30~65℃で行うのがよい。先の減圧蒸留における液温と後の減圧蒸留における液温は同じでもよい。 When the vacuum distillation is performed twice or more, the liquid temperature (internal temperature) in the previous vacuum distillation is preferably 25 to 80 ° C, more preferably 30 to 70 ° C, and later in the vacuum distillation. The liquid temperature (internal temperature) is preferably 20 to 75 ° C, more preferably 30 to 65 ° C. The liquid temperature in the previous vacuum distillation and the liquid temperature in the subsequent vacuum distillation may be the same.

減圧蒸留を2回以上行う場合は、先の減圧蒸留は、好ましくは5~400Pa、より好ましくは10~300Paで行うのがよく、後の減圧蒸留は、好ましくは5~300Pa、より好ましくは10~200Paで行うのがよい。先の減圧蒸留における圧力と後の減圧蒸留における圧力は同じでもよい。 When the vacuum distillation is performed twice or more, the first vacuum distillation is preferably performed at 5 to 400 Pa, more preferably 10 to 300 Pa, and the subsequent vacuum distillation is preferably performed at 5 to 300 Pa, more preferably 10 It is better to do it at ~ 200 Pa. The pressure in the previous vacuum distillation and the pressure in the subsequent vacuum distillation may be the same.

上記減圧蒸留は、環状水素化シランよりも高沸点の不純物および低沸点の不純物を分けるため、また環状水素化シラン中のハロゲン元素含有量を低減させるために、バッチ式で行ってもよい。 The vacuum distillation may be carried out in a batch manner in order to separate impurities having a higher boiling point and impurities having a lower boiling point than the cyclic hydrogenated silane and to reduce the halogen element content in the cyclic hydride silane.

環状水素化シランの水素の一部が-SiH3で置換された化合物(例えば、シリルシクロペンタシランなど)は、例えば、質量基準で10ppb以上含有してもよい。上限は、例えば、質量基準で1%以下が好ましい。 A compound in which a part of hydrogen of the cyclic hydrogenated silane is substituted with —SiH 3 (for example, silylcyclopentasilane) may be contained, for example, in an amount of 10 ppb or more on a mass basis. The upper limit is, for example, preferably 1% or less on a mass basis.

以上、減圧蒸留して得られた環状水素化シランは、ハロゲン元素含有量が100ppm以下に低減されている。よって保存中にSi-Si結合の切断等によって純度が低下することが抑制されるため保存安定性を改善でき、耐容器腐食性や半導体電気特性なども改善できる。 As described above, the halogen element content of the cyclic hydrogenated silane obtained by vacuum distillation is reduced to 100 ppm or less. Therefore, since the decrease in purity due to the breaking of the Si—Si bond during storage is suppressed, the storage stability can be improved, and the container corrosion resistance and the semiconductor electrical characteristics can also be improved.

以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記実施例によって制限を受けるものではなく、前記および後記の趣旨に適合し得る範囲で変更を加えて実施することも勿論可能であり、それらはいずれも本発明の技術的範囲に包含される。 Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to examples, but the present invention is not limited by the following examples, and the present invention shall be carried out with modifications to the extent that it can be adapted to the above-mentioned and the purposes described below. Of course, they are all possible, and they are all included in the technical scope of the present invention.

下記実験1では、環状ハロシランであるビス(トリフェニルホスフィン)ドデカクロロシクロヘキサシランを製造し、下記実験2では、実験1で得られたビス(トリフェニルホスフィン)ドデカクロロシクロヘキサシランを用い、環状水素化シランであるシクロヘキサシランを製造した。下記実験3では、実験2で得られたシクロヘキサシランに含まれるハロゲン元素量を測定した。下記実験4では、実験2で得られたシクロヘキサシランのうち、本蒸留品として得られた留分4のシクロヘキサシランの保存安定性を評価した。 In Experiment 1 below, bis (triphenylphosphine) dodecachlorocyclohexasilane which is a cyclic halosilane is produced, and in Experiment 2 below, the bis (triphenylphosphine) dodecachlorocyclohexasilane obtained in Experiment 1 is used and cyclic. Cyclohexasilane, which is a hydrogenated silane, was produced. In Experiment 3 below, the amount of halogen elements contained in the cyclohexasilane obtained in Experiment 2 was measured. In Experiment 4 below, among the cyclohexasilanes obtained in Experiment 2, the storage stability of the cyclohexasilane fraction 4 obtained as the present distilled product was evaluated.

(1)実験1(環状ハロシランの製造)
温度計、コンデンサー、滴下ロート、および撹拌装置を備えた容量3Lの四つ口フラスコ内を窒素ガスで置換した後、該フラスコ内に、上記化合物Iとしてトリフェニルホスフィン155g(0.591mol)と、第3級アミンとしてジイソプロピルエチルアミン458g(3.54mol)と、溶媒として1,2-ジクロロエタン1789g(18.2mol)とを入れた。
(1) Experiment 1 (Production of cyclic halosilane)
After replacing the inside of a 4-necked flask having a capacity of 3 L equipped with a thermometer, a condenser, a dropping funnel, and a stirrer with nitrogen gas, 155 g (0.591 mol) of triphenylphosphine as the above-mentioned compound I was added to the flask. 458 g (3.54 mol) of diisopropylethylamine was added as a tertiary amine, and 1789 g (18.2 mol) of 1,2-dichloroethane was added as a solvent.

続いて、フラスコ内の溶液を撹拌しながら、25℃条件下で、滴下ロートからハロシランとしてトリクロロシラン481g(3.54mol)をゆっくりと滴下した。滴下終了後、そのまま2時間撹拌し、続いて60℃で8時間加熱撹拌して環化カップリング反応を行い、均一な反応液を得た。得られた反応液を濃縮し、クロロホルム7200gを加えて室温で1時間撹拌して洗浄した後、濾過し、濾過残渣を減圧下で乾燥することにより、白色固形物の粗製品を得た。 Subsequently, 481 g (3.54 mol) of trichlorosilane as halosilane was slowly added dropwise from the dropping funnel under the condition of 25 ° C. while stirring the solution in the flask. After completion of the dropping, the mixture was stirred as it was for 2 hours, and then heated and stirred at 60 ° C. for 8 hours to carry out a cyclization coupling reaction to obtain a uniform reaction solution. The obtained reaction solution was concentrated, 7200 g of chloroform was added, the mixture was stirred and washed at room temperature for 1 hour, filtered, and the filtered residue was dried under reduced pressure to obtain a crude white solid product.

次に、得られた白色固形物(粗製品)に、質量基準で5倍量のヘキサンを加えて室温で24時間撹拌し洗浄した後、濾過した。得られた濾過残渣に対し、上記と同じ手順で、ヘキサンで洗浄、濾過を再度行い、得られた濾過残渣を減圧下で乾燥して、環状ハロシラン中性錯体[ビス(トリフェニルホスフィン)ドデカクロロシクロヘキサシラン、[Ph3P]2[Si6Cl12]]の精製品を得た。洗浄から乾燥までの工程は全て窒素雰囲気下で行った。 Next, 5 times the amount of hexane was added to the obtained white solid (crude product), stirred at room temperature for 24 hours, washed, and then filtered. The obtained filtered residue was washed with hexane and filtered again in the same procedure as above, and the obtained filtered residue was dried under reduced pressure to obtain a cyclic halosilane neutral complex [bis (triphenylphosphine) dodecachloro. A refined product of cyclohexasilane, [Ph 3 P] 2 [Si 6 Cl 12 ]] was obtained. All the steps from washing to drying were performed in a nitrogen atmosphere.

得られた精製品に含まれる成分をガスクロマトグラフ(島津製作所製「GC2014」)で分析したところ、ハロゲン化炭化水素としてクロロホルムが1質量%、アミン塩(アミン塩酸塩)が1質量%含まれていた。 When the components contained in the obtained refined product were analyzed by a gas chromatograph (“GC2014” manufactured by Shimadzu Corporation), 1% by mass of chloroform and 1% by mass of an amine salt (amine hydrochloride) were contained as halogenated hydrocarbons. rice field.

(2)実験2(環状水素化シランの製造)
窒素雰囲気下で、容量10Lのフラスコに上記実験1と同様にして得られた環状ハロシラン中性錯体の精製品1099gとジエチルエーテル5281gを入れ、―40℃で撹拌した。この中に、LiAlH4の1Mジエチルエーテル溶液2004gを滴下ロートから滴下した。環状ハロシラン中性錯体のケイ素-ハロゲン結合1個に対する還元剤中のヒドリドの当量は1.01当量である。滴下終了後、―40℃で3時間撹拌して還元反応を行った(還元工程)。3時間撹拌後、反応液を室温まで昇温した後、窒素雰囲気下で、デカンテーションにより固液分離(第1分離)し、得られた液体分6350gからジエチルエーテルを減圧下で留去し、液量が1100gになるまで濃縮した後、脱水ヘキサン3455gを加えた。その後、残存しているジエチルエーテルおよびヘキサンを再度減圧下にて留去し、液量が1180gになるまで濃縮した後、濾過により固液分離(第2分離)して析出固体を取り除いた。得られた濾液から溶媒をさらに留去し、液量が420gになるまで濃縮した後、濾過し、濾液として環状水素化シランであるシクロヘキサシランの粗製品169gを得た。上記操作を2バッチ行い、合計でシクロヘキサシランの粗製品426gを製造した。
(2) Experiment 2 (Production of cyclic hydride)
Under a nitrogen atmosphere, 1099 g of the purified product of the cyclic halosilane neutral complex obtained in the same manner as in Experiment 1 above and 5281 g of diethyl ether were placed in a flask having a capacity of 10 L, and the mixture was stirred at −40 ° C. To this, 2004 g of a 1M diethyl ether solution of LiAlH 4 was added dropwise from the dropping funnel. The equivalent of hydride in the reducing agent to one silicon-halogen bond of the cyclic halosilane neutral complex is 1.01 equivalent. After completion of the dropping, the mixture was stirred at −40 ° C. for 3 hours to carry out a reduction reaction (reduction step). After stirring for 3 hours, the reaction solution was heated to room temperature, and then solid-liquid separation (first separation) was performed by decantation under a nitrogen atmosphere, and diethyl ether was distilled off under reduced pressure from 6350 g of the obtained liquid content. After concentrating until the liquid volume reached 1100 g, 3455 g of dehydrated hexane was added. Then, the remaining diethyl ether and hexane were distilled off again under reduced pressure, concentrated until the liquid volume reached 1180 g, and then solid-liquid separation (second separation) was performed by filtration to remove the precipitated solid. The solvent was further distilled off from the obtained filtrate, concentrated to a liquid volume of 420 g, and then filtered to obtain 169 g of a crude product of cyclohexasilane which is a cyclic hydrogenated silane as a filtrate. The above operation was performed in two batches to produce a total of 426 g of a crude cyclohexasilane product.

次に、得られたシクロヘキサシランの粗製品を減圧蒸留した。上記減圧蒸留は、内液温42~55℃、圧力130~200Paの条件で行い、留分は5つ(留分1~5)とした。減圧蒸留して得られたシクロヘキサシランの粗蒸留品は合計で118gであり、各留分のGC純度(収率)を、キャピラリーカラム(J&W SCIENTIFIC製「DB-1MS」、0.25mm×50m)を装着したガスクロマトグラフ(島津製作所製「GC2014」)を用い、面積百分率法にて測定した。その結果、シクロヘキサシランの粗蒸留品のGC純度は、96.4~98.9面積%であった。 Next, the obtained crude product of cyclohexasilane was distilled under reduced pressure. The vacuum distillation was carried out under the conditions of an internal liquid temperature of 42 to 55 ° C. and a pressure of 130 to 200 Pa, and the fraction was 5 (fractions 1 to 5). The crude product of cyclohexasilane obtained by vacuum distillation weighs 118 g in total, and the GC purity (yield) of each fraction is determined by the capillary column (“DB-1MS” manufactured by J & W SCIENTIFIC, 0.25 mm × 50 m). Was measured by the area percentage method using a gas chromatograph (“GC2014” manufactured by Shimadzu Corporation) equipped with the above. As a result, the GC purity of the crude distilled product of cyclohexasilane was 96.4 to 98.9 area%.

次に、留分1~5で得られたシクロヘキサシランの粗蒸留品を1つに集めて再度減圧蒸留した。上記減圧蒸留は、内液温39~50℃、圧力63~130Paの条件で行い、留分は5つ(留分1~5)とした。 Next, the crude distilled products of cyclohexasilane obtained from the fractions 1 to 5 were collected into one and distilled again under reduced pressure. The vacuum distillation was carried out under the conditions of an internal liquid temperature of 39 to 50 ° C. and a pressure of 63 to 130 Pa, and the fraction was 5 (fractions 1 to 5).

減圧蒸留して得られたシクロヘキサシランの本蒸留品は合計で106gであり、各留分のGC純度を上記シクロヘキサシランの粗蒸留品と同じ条件で測定した。その結果、シクロヘキサシランの本蒸留品のGC純度は、98.3~99.6面積%であった。 The total amount of the main distilled product of cyclohexasilane obtained by vacuum distillation was 106 g, and the GC purity of each fraction was measured under the same conditions as the crude product of cyclohexasilane. As a result, the GC purity of this distilled product of cyclohexasilane was 98.3 to 99.6 area%.

(3)実験3(環状水素化シランに含まれるハロゲン元素量)
上記実験2で得られたシクロヘキサシランの粗蒸留品および本蒸留品に前処理を行った後、イオンクロマトグラフ装置でハロゲン元素量を測定した。ハロゲン元素量は、塩素量を測定した。
(3) Experiment 3 (Amount of halogen element contained in cyclic hydride)
After pretreating the crude cyclohexasilane product and the present distilled product obtained in Experiment 2, the amount of halogen element was measured by an ion chromatograph device. For the amount of halogen element, the amount of chlorine was measured.

上記前処理は次の手順で行った。まず、窒素雰囲気下のグローブボックス内で、容量20mLのPFA容器にシクロヘキサシランを100μL入れた。次に、非加熱蒸留したイソプロピルアルコール(IPA)1000μLを入れた。次に、非加熱蒸留したジメチルアミノエタノール1000μLを入れた後、蓋を軽く閉めて1晩静置し、失活させた。1晩静置後、超純水で15倍に希釈し、更に1晩静置して前処理を終了した。前処理したシクロヘキサシランの各留分に含まれる塩素量を、イオンクロマトグラフ装置(DIONEX製、「ICS-2000」)で測定した。測定結果を下記表1に示す。 The above pretreatment was performed by the following procedure. First, 100 μL of cyclohexasilane was placed in a PFA container having a capacity of 20 mL in a glove box under a nitrogen atmosphere. Next, 1000 μL of unheated distilled isopropyl alcohol (IPA) was added. Next, 1000 μL of unheated distilled dimethylaminoethanol was added, and then the lid was lightly closed and allowed to stand overnight to inactivate. After allowing to stand overnight, the mixture was diluted 15-fold with ultrapure water and allowed to stand overnight to complete the pretreatment. The amount of chlorine contained in each fraction of the pretreated cyclohexasilane was measured with an ion chromatograph device (manufactured by DIONEX, "ICS-2000"). The measurement results are shown in Table 1 below.

Figure 0007022512000007
Figure 0007022512000007

(4)実験4(環状水素化シランの保存安定性)
上記表1に示したシクロヘキサシランの本蒸留品のうち、留分4について、上記ガスクロマトグラフを用い、GC純度を面積百分率法と検量線法で測定した。面積百分率法では、ガスクロマトグラフで気化しないポリマー成分を正しく分析、評価できないため、本実施例では、面積百分率法と検量線法の2パターンで評価する。2ヶ月経過後にも同様の測定を行い、保存安定性を評価した。検量線法では内部標準物質としてメシチレンを用い、検量線純度を測定した。尚、検量線の作成に用いるシクロヘキサシランは、別の実験で得られた面積百分率法によるGC純度が98%以上の本蒸留品を用い、用いた本蒸留品の面積百分率法で測定したGC純度で補正して検量線を作成した。その結果、GC純度は面積百分率法で99.6面積%、検量線法で99.6%であった。
(4) Experiment 4 (storage stability of cyclic hydride)
Of the present distilled products of cyclohexasilane shown in Table 1 above, the GC purity of the fraction 4 was measured by the area percentage method and the calibration curve method using the above gas chromatograph. Since the area percentage method cannot correctly analyze and evaluate the polymer component that is not vaporized by the gas chromatograph, in this example, the area percentage method and the calibration curve method are used for evaluation. The same measurement was performed after 2 months, and the storage stability was evaluated. In the calibration curve method, mesitylene was used as an internal standard substance, and the purity of the calibration curve was measured. As the cyclohexasilane used for preparing the calibration curve, the present distilled product having a GC purity of 98% or more obtained by the area percentage method obtained in another experiment was used, and the GC measured by the area percentage method of the present distilled product used was used. A calibration curve was prepared by correcting with purity. As a result, the GC purity was 99.6 area% by the area percentage method and 99.6% by the calibration curve method.

次に、上記留分4を窒素雰囲気下のグローブボックス内でステンレス製(SUS製)耐圧容器に入れ、室温(20℃)で保管した。2か月経過時点で、上記留分4のGC純度を面積百分率法と検量線法で同様に測定した。その結果、GC純度は面積百分率法で99.0面積%、検量線法で99.5%であった。 Next, the fraction 4 was placed in a stainless steel (SUS) pressure-resistant container in a glove box under a nitrogen atmosphere and stored at room temperature (20 ° C.). After 2 months, the GC purity of the fraction 4 was measured in the same manner by the area percentage method and the calibration curve method. As a result, the GC purity was 99.0 area% by the area percentage method and 99.5% by the calibration curve method.

上記表1から明らかなように、本発明によれば、減圧蒸留を1回行って得られた粗蒸留品でも、減圧蒸留を2回行って得られた本蒸留品でも、ハロゲン元素含有量が100ppm以下のシクロヘキサシランが得られた。 As is clear from Table 1 above, according to the present invention, both the crude distilled product obtained by performing vacuum distillation once and the distilled product obtained by performing vacuum distillation twice have a halogen element content. Cyclohexasilane of 100 ppm or less was obtained.

また、上記(4)の結果から明らかなように、本発明で得られたシクロヘキサシランは、良好な保存安定性を有していた。このシクロヘキサシランは、耐容器腐食性や半導体電気特性なども改善できると考えられる。 Further, as is clear from the result of (4) above, the cyclohexasilane obtained in the present invention had good storage stability. It is considered that this cyclohexasilane can improve the corrosion resistance of the container and the electrical characteristics of the semiconductor.

(5)実験5(比較例)
上記実験1と同様にして得られた環状ハロシラン中性錯体[ビス(トリフェニルホスフィン)ドデカクロロシクロヘキサシラン]の精製品を用い、上記第2分離を行わない点以外は、上記実験2と同じ条件でシクロヘキサシランの本蒸留品を製造した。具体的には、上記フラスコに上記環状ハロシラン中性錯体の精製品906gとジエチルエーテル4320gを入れ、撹拌し、この中に上記ジエチルエーテル溶液1649gを滴下した。滴下終了後、撹拌して還元反応を行った。撹拌後、反応液を室温まで昇温し、デカンテーションにより固液分離(第1分離)し、得られた液体分5372gからジエチルエーテルを減圧下で留去し、液量が950gになるまで濃縮した後、脱水ヘキサン3000gを加えた。その後、残存しているジエチルエーテルおよびヘキサンを留去して濃縮した後、固液分離(第2分離)せずに環状水素化シランであるシクロヘキサシランの粗製品を255g得た。
(5) Experiment 5 (Comparative example)
Same as Experiment 2 except that the second separation is not performed using the purified product of the cyclic halosilane neutral complex [bis (triphenylphosphine) dodecachlorocyclohexasilane] obtained in the same manner as in Experiment 1. The present distilled product of cyclohexasilane was produced under the conditions. Specifically, 906 g of the purified product of the cyclic halosilane neutral complex and 4320 g of diethyl ether were placed in the flask and stirred, and 1649 g of the above diethyl ether solution was added dropwise thereto. After completion of the dropping, the mixture was stirred to carry out a reduction reaction. After stirring, the reaction solution was heated to room temperature, solid-liquid separated (first separation) by decantation, diethyl ether was distilled off from the obtained liquid content of 5372 g under reduced pressure, and the solution was concentrated until the liquid volume reached 950 g. After that, 3000 g of dehydrated hexane was added. Then, the remaining diethyl ether and hexane were distilled off and concentrated, and then 255 g of a crude product of cyclohexasilane, which is a cyclic hydrogenated silane, was obtained without solid-liquid separation (second separation).

次に、得られたシクロヘキサシランの粗製品を上記実験2と同様、2回減圧蒸留し、シクロヘキサシランの本蒸留品を得た。1回目の減圧蒸留は、内液温45~80℃、圧力100~170Paの条件で行い、2回目の減圧蒸留は、内液温40~75℃、圧力70~170Paの条件で行った。 Next, the obtained crude cyclohexasilane product was distilled under reduced pressure twice in the same manner as in Experiment 2 above to obtain the present distilled product of cyclohexasilane. The first vacuum distillation was carried out under the conditions of an internal liquid temperature of 45 to 80 ° C. and a pressure of 100 to 170 Pa, and the second vacuum distillation was carried out under the conditions of an internal liquid temperature of 40 to 75 ° C. and a pressure of 70 to 170 Pa.

得られたシクロヘキサシランの本蒸留品について、各留分のGC純度を上記条件で測定した。その結果、GC純度は98.1~98.9面積%であった。 The GC purity of each distillate of the obtained distilled product of cyclohexasilane was measured under the above conditions. As a result, the GC purity was 98.1 to 98.9 area%.

また、得られたシクロヘキサシランの本蒸留品のうち、留分4(GC純度は98.9面積%)に上記実験3に示した条件で前処理した後、シクロヘキサシランに含まれる塩素量を測定した。その結果、留分4の塩素量は346ppmであった。 Further, of the obtained distilled product of cyclohexasilane, the amount of chlorine contained in cyclohexasilane after pretreating the fraction 4 (GC purity is 98.9 area%) under the conditions shown in Experiment 3 above. Was measured. As a result, the amount of chlorine in the fraction 4 was 346 ppm.

次に、上記実験4と同じ条件で、得られたシクロヘキサシランの本蒸留品のうち、留分4のGC純度を面積百分率法と検量線法で測定し、保存安定性を評価した。その結果、上記本蒸留品のうち、上記留分4のGC純度は面積百分率法で98.9面積%、検量線法で98.3%であった。また、2か月経過時点では、GC純度は面積百分率法で98.0面積%、検量線法で96.3%であった。 Next, under the same conditions as in Experiment 4, the GC purity of the fraction 4 of the obtained distilled product of cyclohexasilane was measured by the area percentage method and the calibration curve method, and the storage stability was evaluated. As a result, among the distilled products, the GC purity of the fraction 4 was 98.9 area% by the area percentage method and 98.3% by the calibration curve method. At the time of 2 months, the GC purity was 98.0 area% by the area percentage method and 96.3% by the calibration curve method.

Claims (2)

ハロゲン元素含有量が質量基準で100ppm以下(0ppmを含む)であり、
純度が95%以上であることを特徴とする下記式(1)で表されるシクロヘキサシラン
(SiH2n ・・・(1)
[式(1)中、nはである。]
The halogen element content is 100 ppm or less (including 0 ppm) on a mass basis.
A cyclohexasilane represented by the following formula (1), which is characterized by having a purity of 95% or more .
(SiH 2 ) n ... (1)
[In equation (1), n is 6 . ]
前記ハロゲン元素が塩素である請求項1に記載のシクロヘキサシランThe cyclohexasilane according to claim 1, wherein the halogen element is chlorine.
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