JP2020131247A - Laser beam machining apparatus and laser beam machining method - Google Patents

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Abstract

To improve the machining quality without lowering the machining efficiency in laser beam machining in which a workpiece such as a printed circuit board is bored by using laser beam pulses.SOLUTION: A laser beam machining apparatus includes: a laser oscillator that oscillates laser beam pulses; a light deflection unit which the laser pulses from the laser oscillator enter and can emit laser pulses after changing the energy; a light deflection control unit that controls the operation of the light deflection unit; an optical scanner which the laser pulses emitted from the light deflection unit enter and is driven such that a machining position on a workpiece is projected with laser beam pulses according to machining data. The light deflection control unit has a first machining mode in which the light deflection unit is controlled so that a laser pulse which continues before and after the attenuation of the laser pulses incident from the laser oscillator is emitted from the light deflection unit only once.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、レーザパルスを用いてプリント基板のような被加工物に穴あけ等を行うレーザ加工装置及びレーザ加工方法に関するものである。 The present invention relates to a laser processing apparatus and a laser processing method for drilling or the like in a workpiece such as a printed circuit board using a laser pulse.

従来、例えば炭酸ガスレーザ発振器の如きレーザ発振器を用いたレーザ加工装置においては、例えば特許文献1の特に図6に開示されているように、レーザ照射位置を変えるためのガルバノスキャナによる位置決め動作の完了に基づいてレーザ発振器にレーザパルスを発振させ、超音波による回折格子を発生させるゲルマニウム等の結晶体を用いた音響光学素子(以下AOMと略す)を用いたAOM制御部により、レーザ発振器から出力されたレーザパルスを加工方向か非加工方向に偏向するようにしたものが知られている。 Conventionally, in a laser processing apparatus using a laser oscillator such as a carbon dioxide gas laser oscillator, for example, as disclosed in FIG. 6 of Patent Document 1, the positioning operation by a galvano scanner for changing the laser irradiation position is completed. Based on this, a laser pulse is oscillated in the laser oscillator to generate a diffraction grating by ultrasonic waves. It is known that the laser pulse is deflected in the machining direction or the non-machining direction.

上記の如きレーザ加工装置においては、被加工物に照射されるレーザパルスの強度やパルス幅等は、被加工物の材質や加工仕様に基づいた制御情報によりAOMにて制御されるようになっている。
レーザ発振器から被加工物に至る光学系は、被加工物に照射されるレーザパルスに1次以降の回折光により生じる傷が発生しないように工夫されているが、加工対象が加工エネルギーの閾値が低い樹脂層の場合、レーザパルスのピークエネルギーが高いと穴の周囲に1次以降の回折光により生じる傷が発生し、加工品質が低下する場合がある。
これに対し、従来、ピークエネルギーを落としたレーザパルスで複数回照射するバースト加工により加工品質の低下を防ぐようにしているが、この方法では、レーザ発振器の発振周期に基づき複数回照射するので、加工効率が悪くなる欠点がある。
In the above-mentioned laser processing apparatus, the intensity and pulse width of the laser pulse applied to the workpiece are controlled by AOM based on the control information based on the material and processing specifications of the workpiece. There is.
The optical system from the laser oscillator to the workpiece is devised so that the laser pulse applied to the workpiece does not cause scratches caused by the first and subsequent diffracted light, but the processing target has a threshold of processing energy. In the case of a low resin layer, if the peak energy of the laser pulse is high, scratches caused by the first and subsequent diffracted light may occur around the hole, and the processing quality may deteriorate.
On the other hand, conventionally, burst processing in which laser pulses with reduced peak energy are used multiple times is used to prevent deterioration of processing quality. However, in this method, irradiation is performed multiple times based on the oscillation cycle of the laser oscillator. There is a drawback that the processing efficiency deteriorates.

特開2017-51987号公報Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-51987

そこで本発明は、レーザパルスを用いてプリント基板のような被加工物に穴あけ等を行うレーザ加工において、加工効率を落とすことなく加工品質の低下を防ぐことを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to prevent deterioration of processing quality without deteriorating processing efficiency in laser processing in which a workpiece such as a printed circuit board is drilled by using a laser pulse.

上記課題を解決するため、本願において開示される発明のうち、代表的なレーザ加工装置においては、レーザパルスを発振させるレーザ発振器と、当該レーザ発振器からのレーザパルスが入射される光偏向部であってエネルギーを変えてレーザパルスを出射できるものと、当該光偏向部の動作を制御する光偏向制御部と、前記光偏向部から出射されるレーザパルスが入射される光走査器であって加工データに従って被加工物上の加工位置にレーザパルスを照射するように駆動させるものとを備えるレーザ加工装置において、前記光偏向制御部が前記レーザ発振器から入射されたレーザパルスの減衰前後に亘って継続するレーザパルスを1回だけ前記光偏向部から出射させるように当該光偏向部を制御する第一の加工モードを有することを特徴とする。 In order to solve the above problems, among the inventions disclosed in the present application, in a typical laser processing apparatus, a laser oscillator that oscillates a laser pulse and a light deflection unit into which a laser pulse from the laser oscillator is incident. Processing data includes a device that can emit a laser pulse by changing the energy, a light deflection control unit that controls the operation of the light deflection unit, and an optical scanner that receives a laser pulse emitted from the light deflection unit. In a laser processing apparatus including a device that drives a processing position on a workpiece to irradiate a laser pulse according to the above, the light deflection control unit continues before and after the attenuation of the laser pulse incident from the laser oscillator. It is characterized by having a first processing mode in which the light deflection unit is controlled so that the laser pulse is emitted from the light deflection unit only once.

また、本願において開示される代表的なレーザ加工方法は、レーザ発振器からのレーザパルスをエネルギーを変えて出射できる光偏向部に出射し、当該光偏向部から出射されるレーザパルスを加工データに従って被加工物上の加工位置にレーザパルスを照射するように駆動させる光走査器に出射するようにして前記被加工物の加工を行うようにしたレーザ加工方法において、前記レーザ発振器から入射されたレーザパルスの減衰前後に亘って継続するレーザパルスを1回だけ前記光偏向部からレーザパルスを出射させて加工を行うことを特徴とする。
Further, in a typical laser processing method disclosed in the present application, a laser pulse from a laser oscillator is emitted to a light deflecting portion capable of emitting by changing energy, and the laser pulse emitted from the light deflecting portion is subjected to processing data. In a laser processing method in which the workpiece is processed by emitting light to an optical scanner that drives the processing position on the workpiece to irradiate a laser pulse, the laser pulse incident from the laser oscillator It is characterized in that a laser pulse that continues before and after the attenuation of the above is emitted from the light deflection portion only once to perform processing.

なお、本願において開示される発明の代表的な特徴は以上の通りであるが、ここで説明していない特徴については、以下に説明する実施例に適用されており、また特許請求の範囲にも示した通りである。 The typical features of the invention disclosed in the present application are as described above, but the features not described here are applied to the examples described below, and are also included in the claims. As shown.

本発明によれば、レーザパルスを用いてプリント基板のような被加工物に穴あけ等を行うレーザ加工において、加工効率を落とすことなく加工品質の低下を防ぐことができる。 According to the present invention, in laser processing in which a workpiece such as a printed circuit board is drilled by using a laser pulse, deterioration of processing quality can be prevented without deteriorating processing efficiency.

本発明の一実施例となるレーザ加工装置のブロック図である。It is a block diagram of the laser processing apparatus which becomes one Example of this invention. 本発明の一実施例となるレーザ加工装置のタイミングチャートである。It is a timing chart of the laser processing apparatus which becomes one Example of this invention. 本発明の一実施例となるレーザ加工装置のタイミングチャートである。It is a timing chart of the laser processing apparatus which becomes one Example of this invention. 図1における制御テーブルの内容を示す図である。It is a figure which shows the contents of the control table in FIG. 図1における制御テーブルの内容を示す図である。It is a figure which shows the contents of the control table in FIG.

図1は本発明の一実施例となるレーザ加工装置のブロック図である。各構成要素や接続線は、主に本実施例を説明するために必要と考えられるものを示してあり、レーザ加工装置として必要な全てを示している訳ではない。
図1において、1は図示しないテーブル上に載置された加工すべきプリント基板であり、この表面には樹脂層1Pが形成されている。2はレーザパルスL1を発振するレーザ発振器、3はレーザ発振器2から出力されたレーザパルスL1の各々をAOMを用いて加工方向と非加工方向の二通りに偏向させるAOM偏向部、4はAOM偏向部3において加工方向へ偏向されたレーザパルスL2のレーザ照射位置を変え、加工データに従ったプリント基板1の穴あけ位置に照射されるように回転駆動される光走査器としてのガルバノスキャナ、5はガルバノスキャナ4からのレーザパルスをプリント基板1の穴あけ位置に照射する集光(Fθ)レンズ、6はAOM偏向部3において非加工方向へ偏向されたレーザパルスL3を吸収するダンパである。
FIG. 1 is a block diagram of a laser processing apparatus according to an embodiment of the present invention. Each component and connecting line mainly shows what is considered necessary for explaining this embodiment, and does not show all necessary for a laser processing apparatus.
In FIG. 1, reference numeral 1 denotes a printed circuit board to be processed, which is placed on a table (not shown), and a resin layer 1P is formed on the surface thereof. 2 is a laser oscillator that oscillates the laser pulse L1, 3 is an AOM deflection unit that deflects each of the laser pulses L1 output from the laser oscillator 2 in two ways, a machining direction and a non-machining direction, and 4 is an AOM deflection. The galvano scanner 5 as an optical scanner that changes the laser irradiation position of the laser pulse L2 deflected in the processing direction in the unit 3 and is rotationally driven so as to irradiate the drilling position of the printed substrate 1 according to the processing data. The condensing (Fθ) lens that irradiates the laser pulse from the galvano scanner 4 to the drilling position of the printed substrate 1, 6 is a damper that absorbs the laser pulse L3 deflected in the non-processing direction in the AOM deflection unit 3.

7は装置全体の動作を制御するための全体制御部であり、その内部には、レーザ発振器2でのレーザパルスL1の発振と減衰を指令するためのレーザ発振指令信号Sを出力するレーザ発振制御部8、AOM偏向部3の動作を制御するためのAOM駆動信号Dを出力するAOM制御部9、ガルバノスキャナ4の駆動動作を制御するためのガルバノ制御信号Gを出力するガルバノ制御部10が設けられている。
AOM制御部9から出力されるAOM駆動信号DはRF信号から成り、AOM偏向部3の偏向角はこのRF信号の周波数によって変化させ、また出射エネルギーはこのRF信号の振幅レベルによって変化させる。
全体制御部7はここで説明するもの以外の制御機能を有し、図示されていないブロックにも接続されている。全体制御部7は、例えばプログラム制御の処理装置を中心にして構成され、その中の各構成要素や接続線は、論理的なものも含むものとする。また各構成要素の一部は全体制御部7と別個に設けられていてもよい。
Reference numeral 7 denotes an overall control unit for controlling the operation of the entire device, and inside the unit, laser oscillation control that outputs a laser oscillation command signal S for instructing oscillation and attenuation of the laser pulse L1 in the laser oscillator 2. AOM control unit 9 that outputs the AOM drive signal D for controlling the operation of the unit 8 and the AOM deflection unit 3, and the galvano control unit 10 that outputs the galvano control signal G for controlling the drive operation of the galvano scanner 4 are provided. Has been done.
The AOM drive signal D output from the AOM control unit 9 is composed of an RF signal, the deflection angle of the AOM deflection unit 3 is changed by the frequency of the RF signal, and the emission energy is changed by the amplitude level of the RF signal.
The overall control unit 7 has a control function other than that described here, and is also connected to a block (not shown). The overall control unit 7 is configured around a program control processing device, for example, and each component and connection line in the overall control unit 7 includes logical ones. Further, a part of each component may be provided separately from the overall control unit 7.

このレーザ加工装置においては、AOM偏向部3によるレーザパルスL2の取出しに関して2つの加工モードAとBを有する。
図2は加工モードAにおいて、レーザ発振器2からレーザパルスL1が発振される時のタイミングチャートである。図2において、ガルバノ動作制御信号Gがオフとなってガルバノスキャナ4が目標の位置で停止して位置決め動作が完了すると、レーザ発振指令信号SがオンとなってレーザパルスL1の発振がレーザ発振器2に指令され、レーザ発振器2のレーザ出力が徐々に上がっていく。レーザ発振指令信号Sは所定の時間T1だけオンとなり、レーザ発振指令信号SがオフになるとレーザパルスL1の減衰が始まりレーザ出力が徐々に下がっていく。
レーザ発振指令信号Sがオンとなってから時間T2の後に所定時間T3だけAOM駆動信号Dがオンとなり、レーザパルスL1の減衰が始まるまでの期間において加工用のレーザパルスL2が1回取出される。
なお、レーザ発振指令信号Sがオンとなってから所定時間T4の後にガルバノ動作制御信号Gがオンとなってガルバノスキャナ4が次の目標位置に向かって位置決め動作を開始する。
This laser processing apparatus has two processing modes A and B for extracting the laser pulse L2 by the AOM deflection unit 3.
FIG. 2 is a timing chart when the laser pulse L1 is oscillated from the laser oscillator 2 in the processing mode A. In FIG. 2, when the galvano operation control signal G is turned off and the galvano scanner 4 stops at the target position to complete the positioning operation, the laser oscillation command signal S is turned on and the laser pulse L1 is oscillated by the laser oscillator 2. Is commanded to, and the laser output of the laser oscillator 2 gradually increases. The laser oscillation command signal S is turned on for a predetermined time T1, and when the laser oscillation command signal S is turned off, the laser pulse L1 starts to be attenuated and the laser output gradually decreases.
After the laser oscillation command signal S is turned on, the AOM drive signal D is turned on for a predetermined time T3 after the time T2, and the laser pulse L2 for processing is taken out once in the period until the laser pulse L1 starts to be attenuated. ..
After a predetermined time T4 after the laser oscillation command signal S is turned on, the galvano operation control signal G is turned on and the galvano scanner 4 starts the positioning operation toward the next target position.

加工モードAは、従来通り、レーザ発振器2からレーザパルスL1の減衰が始まるまでの期間において加工用のレーザパルスL2を1回取出すものであり、加工エネルギーの閾値が高い場合に適する。
一方、図3は加工モードBにおいて、レーザ発振器2からレーザパルスL1が発振される時のタイミングチャートである。
加工モードBがタイミングに関して加工モードAと異なる点は、レーザ発振指令信号Sがオンとなってから時間T5の後に所定時間T6だけAOM駆動信号Dをオンとして、レーザパルスL2の1回の取出し期間をレーザパルスL1の減衰が始まった後までの期間として時間を延長したことと、AOM駆動信号Dの振幅レベルV2を加工モードAの際の振幅レベルV1よりも低くしてレーザパルスL2のピークエネルギーを下げたことである。この加工モードBは、加工エネルギーの閾値が低い場合に適する。
The processing mode A takes out the laser pulse L2 for processing once in the period from the laser oscillator 2 until the attenuation of the laser pulse L1 starts, and is suitable when the threshold value of the processing energy is high.
On the other hand, FIG. 3 is a timing chart when the laser pulse L1 is oscillated from the laser oscillator 2 in the processing mode B.
The processing mode B differs from the processing mode A in terms of timing in that the AOM drive signal D is turned on for a predetermined time T6 after the time T5 after the laser oscillation command signal S is turned on, and one extraction period of the laser pulse L2 is performed. The time was extended as the period until the decay of the laser pulse L1 started, and the amplitude level V2 of the AOM drive signal D was made lower than the amplitude level V1 in the machining mode A to make the peak energy of the laser pulse L2. Is lowered. This machining mode B is suitable when the threshold value of machining energy is low.

AOM駆動信号Dの出力開始時期、出力時間、出射エネルギーを決めるRF信号の振幅レベル等を制御するための情報は、AOM制御部9内の記憶部12に制御テーブル11、12として記憶されている。AOM制御部8はこの制御テーブル11A、11B内の制御情報に従ってAOM駆動信号Dの出力開始時期、出力時間、振幅レベル等を決定する。
制御テーブル11A、11Bはそれぞれ加工モードA、Bのためのものである。
図4は加工モードAのための制御テーブル11Aの内容を示している。例えば、制御メニューNo.1Aに従ってAOM駆動信号Dを決定する時は、レーザ発振指令信号Sがオンとなってから時間T21Aの後に所定時間T31AだけAOM駆動信号Dがオンとなり、AOM駆動信号Dの振幅レベルをV11Aとなって、AOM偏向部3は加工モードAで動作する。
Information for controlling the output start time of the AOM drive signal D, the output time, the amplitude level of the RF signal that determines the output energy, and the like is stored as control tables 11 and 12 in the storage unit 12 in the AOM control unit 9. .. The AOM control unit 8 determines the output start time, output time, amplitude level, etc. of the AOM drive signal D according to the control information in the control tables 11A and 11B.
The control tables 11A and 11B are for machining modes A and B, respectively.
FIG. 4 shows the contents of the control table 11A for the machining mode A. For example, control menu No. When determining the AOM drive signal D according to 1A, the AOM drive signal D is turned on for a predetermined time T31A after the time T21A after the laser oscillation command signal S is turned on, and the amplitude level of the AOM drive signal D is set to V11A. The AOM deflection unit 3 operates in the machining mode A.

また、図4は加工モードBのための制御テーブル11Bの内容を示している。例えば、制御メニューNo.1Bに従ってAOM駆動信号Dを制御する時は、レーザ発振指令信号Sがオンとなってから時間T51Bの後に所定時間T61BだけAOM駆動信号Dがオンとなり、AOM駆動信号Dの振幅レベルをV21Aとなって、AOM偏向部3は加工モードBで動作する。
制御テーブル11A、11B内の各情報は、加工すべきプリント基板の材質や加工仕様に応じて最適なタイミングになるように、実験、装置の調整等により求め、予めて登録しておくものとする。そして、いずれの制御メニューでAOM駆動信号Dを決定するかは、加工すべきプリント基板の材質や加工仕様に基づき、制御テーブル11Aあるいは11B内の一つの制御メニューが全体制御部7の制御の下で選択されるようになっている。
Further, FIG. 4 shows the contents of the control table 11B for the machining mode B. For example, control menu No. When controlling the AOM drive signal D according to 1B, the AOM drive signal D is turned on for a predetermined time T61B after the time T51B after the laser oscillation command signal S is turned on, and the amplitude level of the AOM drive signal D is set to V21A. The AOM deflection unit 3 operates in the machining mode B.
Each information in the control tables 11A and 11B shall be obtained by experiments, adjustment of equipment, etc. so as to be at the optimum timing according to the material and processing specifications of the printed circuit board to be processed, and shall be registered in advance. .. Then, which control menu determines the AOM drive signal D is determined by one control menu in the control table 11A or 11B under the control of the overall control unit 7 based on the material and processing specifications of the printed circuit board to be processed. It is designed to be selected with.

以上の実施例によれば、加工エネルギーの閾値が高い加工を行う場合はピークエネルギーが高い従来の加工モードAで、加工エネルギーが低い場合はピークエネルギーを下げた加工モードBで行うことができる。
特に、加工モードBにより加工エネルギーが低い閾値の樹脂層を加工する場合においては、レーザパルスL1の減衰前と減衰後までの長い期間で加工用のレーザパルスL2を1回取出すようになる。これにより、レーザパルスL2の全体としての加工エネルギーを確保し、その代わりにレーザパルスL2のピークエネルギーを落とすことができるので、穴の周囲に1次以降の回折光により生じる傷が発生しないようにすることができ、加工品質を向上させることができる。
また、加工モードBにおいては、一つの加工用のレーザパルスL2で全体としての加工エネルギーは確保できるので、照射回数を増やすことなく、言い換えると加工効率を落とすことなく加工を完了することが可能となる。
従って、被加工物の加工エネルギーの閾値の高低に合わせて幅広く対応し、加工効率を落とすことなく加工品質を向上させることができる利便性のあるレーザ加工装置を得ることができる。
According to the above embodiment, when machining with a high machining energy threshold value, the conventional machining mode A having a high peak energy can be performed, and when the machining energy is low, the machining mode B with a lowered peak energy can be performed.
In particular, when the resin layer having a low processing energy threshold is processed by the processing mode B, the laser pulse L2 for processing is taken out once in a long period before and after the attenuation of the laser pulse L1. As a result, the processing energy of the laser pulse L2 as a whole can be secured, and the peak energy of the laser pulse L2 can be reduced instead, so that scratches caused by the first and subsequent diffracted light are not generated around the hole. It is possible to improve the processing quality.
Further, in the processing mode B, since the processing energy as a whole can be secured by one laser pulse L2 for processing, it is possible to complete the processing without increasing the number of irradiations, in other words, without lowering the processing efficiency. Become.
Therefore, it is possible to obtain a convenient laser processing apparatus that can respond widely according to the high and low thresholds of the processing energy of the workpiece and can improve the processing quality without lowering the processing efficiency.

なお、上記実施例においては、加工モードA、B毎にそれぞれ制御テーブル11A、11Bを設けたが、一つの制御テーブル内に加工モードA、Bの制御メニューが登録されていてもよい。
また、上記実施例においては、加工モードAとBの両方を行うレーザ加工装置の場合であるが、加工モードBだけ行うものであってもよい。
In the above embodiment, the control tables 11A and 11B are provided for each of the machining modes A and B, respectively, but the control menus of the machining modes A and B may be registered in one control table.
Further, in the above embodiment, the laser processing apparatus that performs both the processing modes A and B is used, but only the processing mode B may be performed.

1:プリント基板 2:レーザ発振器 3:AOM偏向部 4:ガルバノスキャナ、5:集光(Fθ)レンズ 7:ダンパ 7:全体制御部 8:レーザ発振制御部、9:AOM制御部 10:ガルバノ制御部 11A、11B:制御テーブル
12:記憶部
1: Printed circuit board 2: Laser oscillator 3: AOM deflection unit 4: Galvano scanner, 5: Condensing (Fθ) lens 7: Damper 7: Overall control unit 8: Laser oscillation control unit, 9: AOM control unit 10: Galvano control Units 11A and 11B: Control table 12: Storage unit

Claims (4)

レーザパルスを発振させるレーザ発振器と、当該レーザ発振器からのレーザパルスが入射される光偏向部であってエネルギーを変えてレーザパルスを出射できるものと、当該光偏向部の動作を制御する光偏向制御部と、前記光偏向部から出射されるレーザパルスが入射される光走査器であって加工データに従って被加工物上の加工位置にレーザパルスを照射するように駆動させるものとを備えるレーザ加工装置において、前記光偏向制御部が前記レーザ発振器から入射されたレーザパルスの減衰前後に亘って継続するレーザパルスを1回だけ前記光偏向部から出射させるように当該光偏向部を制御する第一の加工モードを有することを特徴とするレーザ加工装置。 A laser oscillator that oscillates a laser pulse, a light deflection unit that receives a laser pulse from the laser oscillator that can emit a laser pulse by changing the energy, and an optical deflection control that controls the operation of the light deflection unit. A laser processing apparatus including a unit and an optical scanner into which a laser pulse emitted from the light deflection unit is incident, which is driven so as to irradiate a processing position on a workpiece according to processing data. In the first, the light deflection control unit controls the light deflection control unit so that the laser pulse that continues before and after the attenuation of the laser pulse incident from the laser oscillator is emitted from the light deflection unit only once. A laser processing apparatus characterized by having a processing mode. 請求項1に記載のレーザ加工装置において、前記光偏向制御部が前記レーザ発振器から入射されたレーザパルスの減衰前の期間においてレーザパルスを1回だけ前記光偏向部から出射させるように当該光偏向部を制御する第二の加工モードを有し、前記光偏向制御部は、前記第一の加工モードにおいては、前記光偏向部から出射されるレーザパルスのピークエネルギーが前記第二の加工モードにおいて前記光偏向部から出射されるレーザパルスのピークエネルギーより低くなるように前記光偏向部を制御することを特徴とするレーザ加工装置。 In the laser processing apparatus according to claim 1, the light deflection control unit emits the laser pulse only once from the light deflection unit in the period before the attenuation of the laser pulse incident from the laser oscillator. The light deflection control unit has a second processing mode for controlling the unit, and in the first processing mode, the peak energy of the laser pulse emitted from the light deflection unit is the peak energy of the laser pulse in the second processing mode. A laser processing apparatus characterized in that the light deflection unit is controlled so as to be lower than the peak energy of a laser pulse emitted from the light deflection unit. 請求項2に記載のレーザ加工装置において、前記光偏向制御部は当該光偏向制御部を制御するための第一の制御情報と第二の制御情報を記憶する記憶手段を有し、前記光偏向制御部は、前記第一の加工モードにおいては第一の制御情報により、前記第二の加工モードにおいては第二の制御情報により、それぞれ制御されるようにしたことを特徴とするレーザ加工装置。 In the laser processing apparatus according to claim 2, the light deflection control unit has a storage means for storing a first control information and a second control information for controlling the light deflection control unit, and the light deflection control unit has a storage means for storing the second control information. The laser processing apparatus is characterized in that the control unit is controlled by the first control information in the first processing mode and by the second control information in the second processing mode. レーザ発振器からのレーザパルスをエネルギーを変えて出射できる光偏向部に出射し、当該光偏向部から出射されるレーザパルスを加工データに従って被加工物上の加工位置にレーザパルスを照射するように駆動させる光走査器に出射するようにして前記被加工物の加工を行うようにしたレーザ加工方法において、前記レーザ発振器から入射されたレーザパルスの減衰前後に亘って継続するレーザパルスを1回だけ前記光偏向部からレーザパルスを出射させて加工を行うことを特徴とするレーザ加工方法。
The laser pulse from the laser oscillator is emitted to the light deflection part that can emit by changing the energy, and the laser pulse emitted from the light deflection part is driven so as to irradiate the processing position on the workpiece according to the processing data. In the laser processing method in which the workpiece is processed by emitting light to the optical scanner, the laser pulse that continues before and after the attenuation of the laser pulse incident from the laser oscillator is generated only once. A laser processing method characterized in that processing is performed by emitting a laser pulse from a light deflection portion.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003053579A (en) * 2001-08-20 2003-02-26 Sumitomo Heavy Ind Ltd Device and method for laser beam machining
JP2016087676A (en) * 2014-11-10 2016-05-23 パナソニックIpマネジメント株式会社 Laser processing apparatus and laser processing method

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003053579A (en) * 2001-08-20 2003-02-26 Sumitomo Heavy Ind Ltd Device and method for laser beam machining
JP2016087676A (en) * 2014-11-10 2016-05-23 パナソニックIpマネジメント株式会社 Laser processing apparatus and laser processing method

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