JP2020123653A - 電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】回路基板および筐体で囲われた空間内に発熱体と冷媒を閉じ込める場合であっても、冷媒の漏洩を抑制すること。【解決手段】本発明の第１の実施の形態における電子機器１００は、回路基板１０と、筐体２０と、被覆層３０とを備えている。回路基板１０には、発熱体Ｈが取り付けられる。筐体２０は、第１の主面１１に取り付けられ、回路基板１０の第１の主面１１との間で発熱体Ｈおよび冷媒ＣＯＯを密閉する。被覆層３０は、少なくとも、第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈに囲われた領域に撥液性のコーティング剤により形成されている。【選択図】 図１

Description

本発明は、電子機器等に関し、たとえば、発熱体を冷却する電子機器等の技術に関する。

近年、クラウドサービス等の情報インフラの発展に伴って、情報処理量が増加している。この膨大な情報を処理するために、中央演算処理装置（Central Processing Unit：ＣＰＵ）や集積回路（Multi-chip Module：ＭＣＭ）などの発熱体の計算量が、増加する傾向にある。この発熱体の計算量の増加に伴って、発熱体の発熱量も増加する傾向にある。この傾向に対して、発熱体をより効率よく冷却しようとする試みが日々なされている。

発熱体の冷却技術として、冷媒を用いて発熱体を冷却する電子機器が知られている（たとえば、特許文献１、２）。

特許文献１に記載の技術では、発熱体が実装された基板を電子機器の筐体（容器）の中に収容するともに、冷媒を筐体内に密閉している。このとき、基板全体が発熱体ごと冷媒に浸けられる。これにより、基板全体を冷媒で冷却することができる。

しかし、特許文献１に記載の技術では、基板全体を冷媒に漬けるために、冷媒量が多くなるという問題があった。また、これに伴って電子機器の重量も重くなるという問題があった。

特許文献１に記載の技術に対して、特許文献２に記載の技術では、基板の一方の面上の一部の領域であって発熱体を含む領域のみを筐体で覆うことで、基板の一方の面と筐体との間で発熱体と冷媒とを密閉している。このように、基板の一部のみを筐体で覆って基板の一部のみを冷媒に浸ける構成を採用している。これにより、特許文献２に記載の技術では、特許文献１に記載の技術と比較して、冷媒量を低減でき、電子機器の重量と低減することができる。また、特許文献２に記載の技術では、基板には鉄心を用いることで、冷媒が基板を介して漏れ出すのを抑制していた。なお、特許文献２に記載の技術は、部分液浸漬冷却とも呼ばれている。

実開昭５８−２７９４６号公報 特開昭５９−１８８１９８号公報

前述の通り、特許文献２に記載の技術では、基板には鉄心を用いることで、冷媒が基板を介して漏れ出すのを抑制していた。

近年では、電子部品を搭載する回路基板は多層基板やビルドアップ基板などが主流となり、電子基板の材料にはフェノール樹脂やガラスエポキシ樹脂が広く用いられている。

しかしながら、特許文献２に記載の技術のように、回路基板および筐体で囲われた空間内に発熱体と冷媒を閉じ込める場合に、フェノール樹脂やガラスエポキシ樹脂を材料とする回路基板を用いると、冷媒が回路基板を透過して外部に漏れてしまう。冷媒が回路基板を透過して外部に漏れると、回路基板および筐体で囲われた空間内の冷媒量が減り、発熱体の冷却性能が下がってしまうという問題があった。

本発明は、このような事情を鑑みてなされたものであり、本発明の目的は、回路基板および筐体で囲われた空間内に発熱体と冷媒を閉じ込める場合であっても、冷媒の漏洩を抑制することができる電子機器等を提供することにある。

本発明の電子機器は、主面に発熱体が取り付けられた回路基板と、前記主面に取り付けられ、前記主面との間で前記発熱体および冷媒を密閉する筐体と、少なくとも前記筐体および前記発熱体に囲われた前記主面の領域に撥液性のコーティング剤により形成された被覆層と、を備えている。

本発明によれば、回路基板および筐体で囲われた空間内に発熱体と冷媒を閉じ込める場合であっても、冷媒の漏洩を抑制することができる。

本発明の第１の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図４のＡ−Ａ切断面における断面を示す図である。 本発明の第１の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図３のＢ−Ｂ切断面における断面を示す図である。 本発明の第１の実施の形態における電子機器の構成を示す側面図である。 本発明の第１の実施の形態における電子機器の構成を示す上面図である。 本発明の第１の実施の形態における電子装置の構成を示す断面図であって、図７のＣ−Ｃ切断面における断面を示す図である。 本発明の第１の実施の形態における電子装置の構成を示す側面図である。 本発明の第１の実施の形態における電子装置の構成を示す前面図である。 本発明の第１の実施の形態における収容ラックの構成を示す断面図であって、図９のＤ−Ｄ切断面における断面を示す図である。 本発明の第１の実施の形態における収容ラックの構成を示す前面図である。 本発明の第１の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す断面図であって、図１３のＥ−Ｅ切断面における断面を示す図である。 本発明の第１の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す断面図であって、図１２のＦ−Ｆ切断面における断面を示す図である。 本発明の第１の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す側面図である。 本発明の第１の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す上面図である。 本発明の第２の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図１７のＧ−Ｇ切断面における断面を示す図である。 本発明の第２の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図１６のＨ−Ｈ切断面における断面を示す図である。 本発明の第２の実施の形態における電子機器の構成を示す側面図である。 本発明の第２の実施の形態における電子機器の構成を示す上面図である。 本発明の第２の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す断面図である。 本発明の第３の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図２２のＪ−Ｊ切断面における断面を示す図である。 本発明の第３の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図２１のＫ−Ｋ切断面における断面を示す図である。 本発明の第３の実施の形態における電子機器の構成を示す側面図である。 本発明の第３の実施の形態における電子機器の構成を示す上面図である。 本発明の第３の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す断面図である。 本発明の第４の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図２７のＬ−Ｌ切断面における断面を示す図である。 本発明の第４の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図２６のＭ−Ｍ切断面における断面を示す図である。 本発明の第４の実施の形態における電子機器の構成を示す側面図である。 本発明の第４の実施の形態における電子機器の構成を示す上面図である。 本発明の第５の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図３１のＮ−Ｎ切断面における断面を示す図である。 本発明の第５の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図３０のＰ−Ｐ切断面における断面を示す図である。 本発明の第５の実施の形態における電子機器の構成を示す側面図である。 本発明の第５の実施の形態における電子機器の構成を示す上面図である。 本発明の第５の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す断面図であって、図３５のＱ−Ｑ切断面における断面を示す図である。 本発明の第５の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す断面図であって、図３４のＲ−Ｒ切断面における断面を示す図である。 本発明の第５の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す側面図である。 本発明の第５の実施の形態における電子機器の第１の変形例の構成を示す上面図である。 本発明の第６の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図３９のＳ−Ｓ切断面における断面を示す図である。 本発明の第６の実施の形態における電子機器の構成を示す断面図であって、図３８のＴ−Ｔ切断面における断面を示す図である。 本発明の第６の実施の形態における電子機器の構成を示す側面図である。 本発明の第６の実施の形態における電子機器の構成を示す上面図である。

＜第１の実施の形態＞
本発明の第１の実施の形態における電子機器１００の構成について、図に基づいて説明する。

図１は、電子機器１００の構成を示す断面図であって、図４のＡ−Ａ切断面における断面を示す図である。図２は、電子機器１００の構成を示す断面図であって、図３のＢ−Ｂ切断面における断面を示す図である。図３は、電子機器１００の構成を示す側面図である。図４は、電子機器１００の構成を示す上面図である。なお、図１および図３には、鉛直方向Ｇが示されている。

図１〜図４を参照して、電子機器１００は、回路基板１０と、筐体２０と、被覆層３０とを備えている。なお、電子機器１００は、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

回路基板１０は、平板状に形成されている。回路基板１０は、第１の主面１１と、第２の主面１２と、コネクタ部１３を有している。ここで、回路基板１０の主面とは、回路基板１０の主たる面をいい、たとえば電子部品が実装される面をいう。なお、第１の主面１１を回路基板の表面（おもて面）と呼び、第２の主面１２を回路基板の裏面とも呼ぶことがある。回路基板１０の第１の主面１１上には、発熱体Ｈが取り付けられている。

なお、発熱体Ｈは、稼働すると熱を発する部品であって、たとえば中央演算処理装置（Central Processing Unit：ＣＰＵ）や集積回路（Multi-chip Module：ＭＣＭ）などである。本実施形態の説明では、発熱体Ｈは１つであるとするが、複数の発熱体Ｈが設けられてもよい。また、回路基板１０の第１の主面１１および第２の主面１２には、発熱体Ｈ以外の電子部品が実装されてもよい。

回路基板１０は、たとえば、プリント配線基板である。プリント配線基板は、複数の絶縁体の基板および導体配線が積層されて構成されている。また、回路基板１０の第１の主面１１および第２の主面１２には、電子部品を実装するための導電性のパッドが形成されている。絶縁体の基板の材料には、たとえば、フェノール樹脂やガラスエポキシ樹脂が用いられる。導体配線やパッドは、たとえば銅箔により形成されている。

また、コネクタ部１３は、他の電子部品（不図示）と接続するために、回路基板１０の第１の主面１１上に形成されている。コネクタ部１３は、例えば、回路基板１０の第１の主面１１に形成された複数の端子によって、構成されている。なお、コネクタ部１３は、第２の主面１２上にも形成されてもよい。この場合、第２の主面１２のうちで、第１の主面１１に形成されたコネクタ部１３の形成領域に対応する領域に、コネクタ部１３が形成される。なお、このコネクタ部１３は、本実施形態において、必須の構成ではない。

図１に示されるように、筐体２０は、第１の主面１１に取り付けられ、回路基板１０の第１の主面１１との間で発熱体Ｈおよび冷媒（Coolant）ＣＯＯを密閉する。筐体２０は、コネクタ部１３を被覆しないように、第１の主面１１に取り付けられている。

筐体２０は、回路基板１０との間で、冷媒ＣＯＯおよび発熱体Ｈを収容する。筐体２０の材料には、熱伝導性部材が用いられ、例えば銅や銅合金やアルミニウムやアルミニウム合金などが用いられる。

なお、筐体２０は、たとえば、接着剤やネジ止めなどにより、第１の主面１１に取り付けられる。このとき、筐体２０の回路基板側の端部と、回路基板１０の第１の主面１１とが、接着剤やネジ止めなどにより、接合される。

なお、筐体２０の回路基板側の端部と回路基板１０の第１の主面１１の間には、弾性部材として、ゴム状のパッキン等（不図示）が介在されてもよい。ゴム状のパッキン等の材料には、たとえば、天然ゴムや合成ゴムが用いられる。これにより、筐体２０の回路基板側の端部と回路基板１０の第１の主面１１との間に隙間が発生することを抑制できる。この結果、筐体２０の回路基板側の端部と回路基板１０の第１の主面１１との間から、冷媒ＣＯＯが漏れ出すのを抑制できる。

また、筐体２０の回路基板側の端部と回路基板１０の第１の主面１１との間に、グリースを介在させてもよい。これにより、ゴム状のパッキン等を介在させた場合と同様に、筐体２０の回路基板側の端部と回路基板１０の第１の主面１１との間に隙間が発生することを抑制できる。

冷媒ＣＯＯには、液相状態の冷媒（液相冷媒（Liquid-Phase Coolant）ＬＰ−ＣＯＯ）と気相状態の冷媒（気相冷媒（Gas-Phase Coolant）ＧＰ−ＣＯＯ）の間で相変化する冷媒が用いられている。

冷媒ＣＯＯには、低沸点の冷媒として、例えば、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ：Hydro Fluorocarbon）や、ハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ：Hydro Fluoroether）などのフッ素系溶剤や、水を用いることができる。また、冷媒ＣＯＯに、相変化しない物質を用いてもよい。相変化しない冷媒として、たとえば、ポリアルファオレフィン（ＰＡＯ：Poly Alpha Olefins）などの油を用いることができる。

冷媒ＣＯＯは、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に、密閉された状態で閉じこめられる。このため、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯを注入した後に真空排気することにより、筐体２０と回路基板１０との間の空間内を常に冷媒の飽和蒸気圧に維持する。なお、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する方法については、後述の電子機器１００の製造方法の説明の中で詳しく説明する。

被覆層３０は、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈに囲われた領域に設けられる。被覆層３０は、撥液性のコーティング剤（liquid-repellent coating agent）により形成される。ここで、撥液性とは、冷媒ＣＯＯをはじく性能や冷媒COOが湿りにくい性能をいう。撥液性のコーティング剤とは、冷媒ＣＯＯをはじく性能や冷媒COOが湿りにくい性能を有するコーティング剤をいう。

撥液性のコーティング剤の材料には、例えば、フッ素系の樹脂や、アクリル系の樹脂や、エポキシ系の樹脂や、ウレタン系の樹脂が用いられる。なお、冷媒ＣＯＯがハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）やハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）のようなフッ素系溶剤である場合、被覆層３０の材料にはアクリル系樹脂を用いる。これにより、フッ素系樹脂で形成された被覆層３０がフッ素系の冷媒ＣＯＯにより溶解することを抑制できる。

なお、被覆層３０は、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈに囲われた領域に設けられると説明した。一方、被覆層３０は、少なくとも、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈに囲われた領域に設けられればよい。被覆層３０は、少なくとも、回路基板１０の第１の主面１１上の領域であって、被覆層３０が形成されていない場合に冷媒ＣＯＯが接する領域に、設けられていればよい。

以上、電子機器１００の構成について説明した。

つぎに、電子機器１００の製造方法について、説明する。

まず、発熱体Ｈが取り付けられた回路基板１０を準備する。つぎに、筐体２０を接着剤やネジ止めなどにより回路基板１０の第１の主面１１上に取り付ける。このとき、筐体２０の上面（図１にて紙面上側の面）は、取り外し可能に形成されている。そして、筐体２０の上面を取り外した状態で、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈに囲われた領域にコーティング剤を塗布して、被覆層３０を形成する。

つぎに、筐体２０の上面（図１にて紙面上側の面）を取り付けて、筐体２０および回路基板１０の間の空間内に発熱体Ｈを密閉する。そして、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する。

筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する方法については、次の通りである。

筐体２０の上面（図１にて紙面上側の面）に予め設けられている冷媒注入孔（不図示）から、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを注入する。そして、冷媒注入孔を閉じる。また、筐体２０の上面（図１にて紙面上側の面）に予め設けられている空気排除用孔（不図示）を介して、真空ポンプ（不図示）などを用いて、筐体２０と回路基板１０との間の空間内から、空気を排除する。そして、空気排除用孔を閉じる。このようにして、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを密閉する。これにより、筐体２０と回路基板１０との間の空間内の圧力は冷媒ＣＯＯの飽和蒸気圧と等しくなり、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に密閉された冷媒ＣＯＯは気液平衡状態となる。なお、冷媒注入孔を空気排除用孔として共用してもよい。

以上の通り、電子機器１００の製造方法について、説明した。

次に、本発明の第１の実施の形態における電子装置１０００の構成について説明する。
図５は、電子装置１０００の構成を示す断面図であって、図７のＣ−Ｃ切断面における断面を示す図である。図６は、電子装置１０００の構成を示す側面図である。図７は、電子装置１０００の構成を示す前面図である。図５および図６において、左側が電子装置１０００の前面側で、右側が電子装置１０００の背面側である。なお、図５〜図７には、鉛直方向Ｇが示されている。

図５〜図７を参照して、電子装置１０００は、電子機器１００と、収容ラック２００とを備えている。なお、電子装置１０００は、たとえば、通信装置やサーバーなどである。電子装置１０００には、電子機器１００（電子モジュールなど）が組み込まれる。

図５に示されるように、収容ラック２００は、複数の電子機器１００を収容する。図５では、３つの電子機器１００が収容ラック２００に収容されている。しかしながら、３つに限らず、１または複数の電子機器１００が収容ラック２００に収容されてもよい。

なお、ここでは、図５および図７に示されるように、電子機器１００の回路基板１０のうち、コネクタ部１３と反対側の端部には、前面カバー１１０が取り付けられている。なお、前面カバー１１０は本実施形態の必須の構成要素ではない。

収容ラック２００の構成について、具体的に説明する。図８は、収容ラック２００の構成を示す断面図であって、図９のＤ−Ｄ切断面における断面を示す図である。図９は、収容ラック２００の構成を示す前面図である。なお、図８および図９には、鉛直方向Ｇが示されている。

図８および図９に示されるように、収容ラック２００は、筐体２１０と、回路基板２２０とを備えている。

筐体２１０は、内部を空洞とする箱状に形成されている。筐体２１０は、回路基板２２０を収容する。筐体２１０は、開口部２１１を有する。開口部２１１は、収容ラック２００の前面側に形成されている。回路基板２２０や電子機器１００は、開口部２１１を介して、筐体２１０内に収容される。筐体２１０の材料には、たとえば、アルミニウムや、アルミニウム合金や、ステンレス合金などが用いられる。

回路基板２２０は、筐体２１０の背面側の内部にネジ止め等により固定されている。回路基板２２０は、鉛直方向Ｇに沿って、配置される。また、図８に示されるように、回路基板２２０上には、収容ラック側コネクタ部２２３が実装されている。収容ラック側コネクタ部２２３は、コネクタ部１３と嵌り合うように設けられている。すなわち、コネクタ部１３が配置された位置における回路基板１０の厚みと、収容ラック側コネクタ部２２３のうちコネクタ部１３を収容する部分の幅は、ほぼ同じになるように設定されている。また、コネクタ部１３に設けられた端子（不図示）間のピッチ距離と、収容ラック側コネクタ部２２３の端子（不図示）間の距離が、ほぼ同じになるように設定されている。

以上、収容ラック２００の構成について説明した。

次に、電子装置１０００の動作説明をする。図５に示されるように、電子機器１００を収容ラック２００の筐体２１０内に収容する。このとき、電子機器１００のコネクタ部１３を、収容ラック２００の収容ラック側コネクタ部２２３に挿入する。これにより、コネクタ部１３が収容ラック側コネクタ部２２３に嵌合する。この結果、コネクタ部１３および収容ラック側コネクタ部２２３が電気的に接続される。そして、収容ラック２００の回路基板２２０と、電子機器１００の回路基板１０とが、コネクタ部１３および収容ラック側コネクタ部２２３を介して、電気的に接続される。

次に、電子装置１０００を起動すると、電源が、回路基板２２０から、収容ラック側コネクタ部２２３およびコネクタ部１３を介して、回路基板１０上の発熱体Ｈに供給される。これにより、発熱体Ｈが発熱する。

液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯが、発熱体Ｈの表面で、発熱体Ｈの熱によって沸騰し、気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯに相変化する。これにより、気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯの気泡が発生する。この相変化に必要な潜熱（気化熱）を利用して、発熱体Ｈで生じる熱を吸熱する。この結果、発熱体Ｈが冷却される。

気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯは、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯ内を鉛直方向Ｇの上方へ上昇し、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯの液面上を抜けて、さらに鉛直方向Ｇの上方へ上昇する。そして、発熱体Ｈの熱によって沸騰した気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯは、筐体２０の内壁面と接触することにより冷却されると凝縮し、再び液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯに相変化する。この液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯは、筐体２０内を鉛直方向Ｇの下方へ下降し、回路基板１０側に溜まり、発熱体Ｈの冷却に再び用いられる。

つぎに、被覆層３０の作用について説明する。図１に示されるように、被覆層３０は、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈに囲われた領域に設けられる。このため、冷媒ＣＯＯは、被覆層３０および発熱体Ｈの上面に接するが、回路基板１０の第１の主面１１に接しない。

また、被覆層３０は、撥液性のコーティング剤により形成されている。このため、冷媒ＣＯＯが被覆層３０を透過することを抑制できるので、冷媒ＣＯＯが回路基板１０の第１の主面１１に到達することを抑制できる。

したがって、被覆層３０を設けることにより、冷媒ＣＯＯが回路基板１０を透過して、外部に漏れ出すことを抑制できる。

以上、被覆層３０の作用について説明した。

以上の通り、本発明の第１の実施の形態における電子機器１００は、回路基板１０と、筐体２０と、被覆層３０とを備えている。回路基板１０には、第１の主面１１に発熱体Ｈが取り付けられる。筐体２０は、第１の主面１１に取り付けられ、回路基板１０の第１の主面１１との間で発熱体Ｈおよび冷媒ＣＯＯを密閉する。被覆層３０は、少なくとも、筐体２０および発熱体Ｈに囲われた第１の主面１１の領域に撥液性のコーティング剤により形成されている。筐体２０および発熱体Ｈに囲われた第１の主面１１の領域とは、より具体的には、図２に示されるように、第１の主面１１の一部の領域であって、筐体２０の内面と発熱体の４枚の側面とに囲われた領域である。

このように、被覆層３０は、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈに囲われた領域に設けられる。このため、冷媒ＣＯＯは、被覆層３０および発熱体Ｈの上面に接するが、回路基板１０の第１の主面１１に接しない。

また、被覆層３０は、撥液性のコーティング剤により形成されている。このため、冷媒ＣＯＯが被覆層３０を透過することを抑制できるので、冷媒ＣＯＯが回路基板１０の第１の主面１１に到達することを抑制できる。

したがって、被覆層３０を設けることにより、冷媒ＣＯＯが回路基板１０を透過して、外部に漏れ出すことを抑制できる。

ゆえに、本発明の第１の実施の形態における電子機器１００によれば、回路基板１０および筐体２０で囲われた空間内に発熱体Ｈと冷媒ＣＯＯを閉じ込める場合であっても、冷媒ＣＯＯの漏洩を抑制することができる。このように、冷媒ＣＯＯが回路基板１０を透過して外部に漏れることが抑制できるので、回路基板１０および筐体２０で囲われた空間内の冷媒ＣＯＯの量が減ることも抑制できる。これにより、発熱体Ｈを冷却性能が下がってしまうことを抑制できる。

また、冷媒ＣＯＯに導電性の材料（たとえば、純水ではない水）を用いた場合であっても、被覆層３０を設けたことにより冷媒ＣＯＯが回路基板１０に接しないので、回路基板１０に形成された回路がショートすることを抑制できる。なお、一般的に、水などの導電性の冷媒は、非導電性の冷媒よりも比重が小さくコストも安い。非導電性の冷媒の比重は、導電性の冷媒の比重の１．５倍程度に達することもある。また、非導電性の冷媒のコストは、導電性の冷媒のコストの１００倍程度に達することもある。なお、非導電性の冷媒は、例えば、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）やハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）などのフッ素系溶剤やポリアルファオレフィン（ＰＡＯ）などの油である。

ここで、本発明の第１の実施の形態における電子機器１００と、特許文献２に記載の技術とを対比する。前述の通り、特許文献２に記載の技術では、基板には鉄心を用いることで、冷媒が基板を介して漏れ出すのを抑制していた。

これに対して、本発明の第１の実施の形態における電子機器１００では、回路基板１０に鉄心を用いずにフェノール樹脂やガラスエポキシ樹脂を材料とする基板を用いている。しかしながら、本発明の第１の実施の形態における電子機器１００では、被覆層３０が、少なくとも、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈに囲われた領域に撥液性のコーティング剤により形成されているので、フェノール樹脂やガラスエポキシ樹脂を材料とする基板を回路基板１０に用いても、冷媒ＣＯＯが回路基板１０を介して漏れ出すことを抑制することができる。

また、本発明の第１の実施の形態における電子機器１００において、冷媒ＣＯＯには、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯおよび気体冷媒ＧＰ−ＣＯＯに相変化することができるものを用いる。

これにより、冷媒ＣＯＯの温度変化による顕熱の移動だけでなく、相変化による潜熱の移動も利用しているので、相変化しない冷媒と比較して、発熱体Ｈの冷却効率を高めることができる。

また、相変化する冷媒ＣＯＯは、液相状態および気相状態の間での圧力差が大きい。とくに、相変化する冷媒ＣＯＯが液相冷媒ＧＰ−ＣＯＯから気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯへ相変化することにより、筐体２０と回路基板１０との間の密閉空間内の冷媒ＣＯＯの圧力は大きく上昇する。このため、相変化する冷媒ＣＯＯを用いた場合、冷媒ＣＯＯの自重に加えて、冷媒ＣＯＯの相変化時に生じる圧力が回路基板１０に加わる。

したがって、相変化する冷媒ＣＯＯを用いる場合、相変化しない冷媒を用いる場合と比較して、冷媒ＣＯＯが回路基板１０を介して漏れ出しやすくなる。一方で、上述の通り、電子機器１００では、被覆層３０を備えることで、冷媒ＣＯＯの相変化により生じる圧力が加わったとしても、冷媒ＣＯＯが回路基板１０を介して漏れ出すことを抑制することができる。

また、本発明の第１の実施の形態における電子機器１００において、コーティング剤の材料は、フッ素系の樹脂またはアクリル系の樹脂により構成されている。これにより、コーティング剤の材料を撥液性とすることができる。

また、本発明の第１の実施の形態における電子機器１００は、コネクタ部１３をさらに備えている。コネクタ部１３は、回路基板１０の端部の第１の主面１１上に設けられ、他の電子部品（たとえば、収容ラック側コネクタ部２２３）と接続される。また、筐体２０は、コネクタ部１３を被覆しないように、第１の主面１１に取り付けられている。すなわち、筐体２０は、第１の主面１１のうち、コネクタ部１３以外の場所に、取り付けられる。なお、コネクタ部１３は、第１の主面１１上に限らず、第２の主面１２上に設けられてもよい。

これにより、筐体２０は、コネクタ部１３と干渉しないように、回路基板１０の第１の主面１１上に取り付けられる。この結果、他の電子部品とコネクタ部１３を接続するのに、筐体２０が邪魔になることを防止できる。また、筐体２０を取り外すことなく、他の電子部品とコネクタ部１３を接続することができるので、回路基板１０上の電子部品を補修等の保守作業を容易に行うことができる。

また、本発明の第１の実施の形態における電子装置１０００は、電子機器１００と、収容ラック２００を備えている。収容ラック２００には、電子機器１００が取り付けられる。これにより、電子機器１００を組み込んだ電子装置１０００を構成でき、上述した電子機器１００の効果と同様の効果を奏することができる。

また、本発明の第１の実施の形態における電子装置１０００は、電子機器１００と、収容ラック２００を備えている。収容ラック２００には、電子機器１００が取り付けられる。さらに、収容ラック２００は、コネクタ部１３と接続する収容ラック側コネクタ部２２３をさらに備えている。これにより、電子機器１００および収容ラック２００の間を、コネクタ部１３および収容ラック側コネクタ部２２３を介して、電気的に接続することができる。また、電子機器１００を組み込んだ電子装置１０００を構成でき、上述した電子機器１００の効果と同様の効果を奏することができる。

なお、筐体２０の上面（図１の紙面の上側の面）の上に、放熱部（不図示）をさらに設けてもよい。この放熱部は、たとえば、フィン構造を有するヒートシンクにより構成される。これにより、放熱部が、筐体２０に伝達された発熱体Ｈの熱を外気に効率よく放熱することできる。また、放熱部を構成するヒートシンクに冷却風を送るファンがさらに設けられていてもよい。

また、筐体２０の内部に、ファン（不図示）やポンプ（不図示）を設けて、筐体２０の内部で冷媒ＣＯＯを強制的に対流させてもよい。これにより、筐体２０内部での冷媒ＣＯＯの循環をより効率よく促すことができる。この結果、発熱体Ｈの熱をより効率よく冷却することができる。
＜第１の実施の形態の第１の変形例＞
本発明の第１の実施の形態における電子機器の第１の変形例である電子機器１００Ａの構成について、図に基づいて説明する。

図１０は、電子機器１００Ａの構成を示す断面図であって、図１３のＥ−Ｅ切断面における断面を示す図である。図１１は、電子機器１００Ａの構成を示す断面図であって、図１２のＦ−Ｆ切断面における断面を示す図である。図１２は、電子機器１００Ａの構成を示す側面図である。図１３は、電子機器１００Ａの構成を示す上面図である。なお、図１０および図１２には、鉛直方向Ｇが示されている。また、図１０〜図１３では、図１〜図９で示した各構成要素と同等の構成要素には、図１〜図９に示した符号と同等の符号を付している。

図１０〜図１３を参照して、電子機器１００Ａは、回路基板１０Ａと、筐体２０と、被覆層３０とを備えている。電子機器１００Ａは、電子機器１００と同様に、収容ラック２００に取り付けることができる。なお、電子機器１００Ａは、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

ここで、電子機器１００と電子機器１００Ａとを比較する。図１０〜図１３に示されるように、電子機器１００Ａは、発熱体Ｈの他に電子部品Ｅが回路基板１０Ａの上に実装されている点で、電子機器１００と相違する。

電子部品Ｅは、回路基板１０Ａの第１の主面１１の上に実装されている。電子部品Ｅは、たとえば、コンデンサやコイルなどの発熱量が小さい素子である。電子部品Ｅの発熱量は、少なくとも、発熱体Ｈの発熱量よりも小さい。

なお、電子部品Ｅは、第２の主面１２の上に実装されてもよい。また、図１０〜図１３を参照して、２つの電子部品Ｅが回路基板１０Ａの上に実装されている。一方、１つまたは３以上の電子部品Ｅが回路基板１０Ａの上に実装されてもよい。

このように、発熱量が最大の発熱体Ｈのみを冷媒ＣＯＯに漬からせる構造にすることで、電子部品Ｅの全ておよび発熱体Ｈの双方を冷媒ＣＯＯに漬からせる構造と比較して、冷媒ＣＯＯの量を低減することができる。
＜第２の実施の形態＞
本発明の第２の実施の形態における電子機器１００Ｂの構成について、図に基づいて説明する。

図１４は、電子機器１００Ｂの構成を示す断面図であって、図１７のＧ−Ｇ切断面における断面を示す図である。図１５は、電子機器１００Ｂの構成を示す断面図であって、図１６のＨ−Ｈ切断面における断面を示す図である。図１６は、電子機器１００Ｂの構成を示す側面図である。図１７は、電子機器１００Ｂの構成を示す上面図である。なお、図１４および図１６には、鉛直方向Ｇが示されている。また、図１４〜図１７では、図１〜図１３で示した各構成要素と同等の構成要素には、図１〜図１３に示した符号と同等の符号を付している。

図１４〜図１７を参照して、電子機器１００Ｂは、回路基板１０と、筐体２０と、被覆層３０Ａと、補強部材４０と、接着層５０とを備えている。電子機器１００Ｂは、電子機器１００と同様に、収容ラック２００に取り付けることができる。なお、電子機器１００Ｂは、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

ここで、電子機器１００と電子機器１００Ｂとを比較する。図１４〜図１７を参照して、電子機器１００Ｂは、補強部材４０と接着層５０をさらに備えている点で、電子機器１００と相違する。

図１４〜図１７を参照して、補強部材４０は、筐体２０と回路基板１０の第１の主面１１の間に設けられている。また、補強部材４０は、板状に形成されるとともに、枠状または額縁形状に形成されている。補強部材４０の材料には、たとえば、銅や銅合金が用いられている。補強部材４０は、スティフナ（stiffener）とも呼ばれている。補強部材４０を設けることにより、回路基板１０の変形を抑制できる。補強部材４０は、接着剤を用いて、第１の主面１１に固定される。

図１４を参照して、筐体２０は、補強部材４０を介して回路基板１０の第１の主面１１に取り付けられ、回路基板１０の第１の主面１１との間で発熱体Ｈおよび冷媒ＣＯＯを密閉する。

接着層５０は、補強部材４０および第１の主面１１の間に形成されている。接着層５０は、補強部材４０および第１の主面１１を接着するための接着剤（例えば、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコン系樹脂）が硬化されることにより、形成される。なお、冷媒ＣＯＯが水の場合に限り、シリコン系樹脂の接着剤を用いることができる。

図１５を参照して、被覆層３０Ａは、少なくとも、第１の主面１１上であって補強部材４０および発熱体Ｈに囲われた領域に撥液性のコーティング剤により形成されている。ここでは、図１４に示されるように、被覆層３０Ａの高さは、補強部材４０の高さに合わせて設定されている。一方、被覆層３０Ａの高さを、補強部材４０の高さ以上にしてもよいし、補強部材４０の高さ以下にしてもよい。

以上、電子機器１００Ｂの構成について説明した。

つぎに、電子機器１００Ｂの製造方法について、説明する。

まず、発熱体Ｈが取り付けられた回路基板１０を準備する。つぎに、接着剤を用いて補強部材４０を回路基板１０の第１の主面１１の上に取り付ける。次に、筐体２０を接着剤やネジ止めなどにより補強部材４０に取り付ける。このとき、筐体２０の上面（図１４にて紙面上側の面）は、取り外し可能に形成されている。そして、筐体２０の上面を取り外した状態で、回路基板１０の第１の主面１１上であって補強部材４０および発熱体Ｈに囲われた第１の主面１１の領域にコーティング剤を塗布して、被覆層３０Ａを形成する。補強部材４０および発熱体Ｈに囲われた第１の主面１１の領域とは、図１５に示されるように、筐体２０の上面を取り外した状態で、回路基板１０の第１の主面１１上の領域で、補強部材４０および発熱体Ｈに囲われた領域をいう。

つぎに、筐体２０の上面（図１４にて紙面上側の面）を取り付けて、筐体２０および回路基板１０の間の空間内に発熱体Ｈを密閉する。そして、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する。筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する方法については、第１の実施の形態で説明した通りである。

以上の通り、電子機器１００Ｂの製造方法について、説明した。

なお、電子機器１００Ｂの動作については、第１の実施の形態における電子機器１００と同様である。

以上の通り、本発明の第２の実施の形態における電子機器１００Ｂは、補強部材４０をさらに備えている。補強部材４０は、筐体２０と第１の主面１１の間に設けられる。筐体２０は、補強部材４０を介して第１の主面１１に取り付けられ、第１の主面１１との間で発熱体Ｈおよび冷媒ＣＯＯを密閉する。被覆層３０Ａは、少なくとも、補強部材４０および発熱体Ｈに囲われた第１の主面１１の領域に撥液性のコーティング剤により形成されている。

補強部材４０を設けたことにより、回路基板１０の剛性を高めることができ、回路基板１０の変形を抑制できる。
＜第２の実施の形態の第１の変形例＞
本発明の第２の実施の形態における電子機器の第１の変形例である電子機器１００Ｃの構成について、図に基づいて説明する。

図１８は、電子機器１００Ｃの構成を示す断面図である。図１８は、図１と同等の方向で電子機器１００Ｃを切断した断面図である。なお、図１８には、鉛直方向Ｇが示されている。また、図１８では、図１〜図１７で示した各構成要素と同等の構成要素には、図１〜図１７に示した符号と同等の符号を付している。

図１８を参照して、電子機器１００Ｃは、回路基板１０と、筐体２０と、被覆層３０Ｂと、補強部材４０とを備えている。電子機器１００Ｃは、電子機器１００と同様に、収容ラック２００に取り付けることができる。なお、電子機器１００Ｃは、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

ここで、電子機器１００Ｂと電子機器１００Ｃとを比較する。電子機器１００Ｂでは、図１４に示されるように、補強部材４０と第１の主面１１の間には接着層５０が介在されていた。これに対して、電子機器１００Ｃでは、図１８に示されるように、補強部材４０と第１の主面１１の間には被覆層３０Ｂが介在されている。すなわち、電子機器１００Ｃでは、電子機器１００Ｂの接着層５０に代えて被覆層３０Ｂが設けられている。この点で両者は互いに相違する。

図１８を参照して、被覆層３０Ｂは、少なくとも、補強部材４０および発熱体Ｈに囲われた第１の主面１１の領域に撥液性のコーティング剤により形成されている。また、補強部材４０は接着剤を用いて第１の主面１１に固定される。また、この接着剤の材料は、被覆層３０Ｂに用いる撥液性のコーティング剤の材料と同じである。言い換えると、被覆層３０Ｂに用いる撥液性のコーティング剤に、接着性を有する材料を用いる。このとき、撥液性のコーティング剤の材料には、たとえば、撥液性のエポキシ系樹脂、撥液性のウレタン系樹脂を用いる。なお、撥液性のエポキシ系樹脂にフッ素化合物が含有され、かつ、冷媒ＣＯＯがフッ素系冷媒である場合には、被覆層３０Ｂに撥液性のエポキシ系樹脂を使用できない。この場合には、被覆層３０Ｂに撥液性のウレタン系樹脂を使用する。このように、接着剤に使用される材料を被覆層３０Ｂに用いることにより、図１８に示されるように、補強部材４０および第１の主面１１の間にも、被覆層３０Ｂが形成される。したがって、電子機器１００Ｂと比較して、部材や材料を低減するこことができ、より簡単な構造とすることができる。
＜第３の実施の形態＞
本発明の第３の実施の形態における電子機器１００Ｄの構成について、図に基づいて説明する。

図１９は、電子機器１００Ｄの構成を示す断面図であって、図２２のＪ−Ｊ切断面における断面を示す図である。図２０は、電子機器１００Ｄの構成を示す断面図であって、図２１のＫ−Ｋ切断面における断面を示す図である。図２１は、電子機器１００Ｄの構成を示す側面図である。図２２は、電子機器１００Ｄの構成を示す上面図である。なお、図１９および図２１には、鉛直方向Ｇが示されている。また、図１９〜図２２では、図１〜図１８で示した各構成要素と同等の構成要素には、図１〜図１８に示した符号と同等の符号を付している。

図１９〜図２２を参照して、電子機器１００Ｄは、回路基板１０Ｂと、筐体２０と、被覆層３０、封止層６０とを備えている。電子機器１００Ｄは、電子機器１００と同様に、収容ラック２００に取り付けることができる。なお、電子機器１００Ｄは、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

ここで、電子機器１００と電子機器１００Ｄとを比較する。図１９〜図２２を参照して、電子機器１００Ｄは、封止層６０をさらに備えている点で、電子機器１００と相違する。また、電子機器１００Ｄでは、回路基板１０Ｂに実装されている発熱体Ｈ１が、たとえば、ワイヤーボンディング、フリップチップボンディング等を用いて実装される集積回路である点で、電子機器１００と相違する。

図１９および図２０を参照して、封止層６０は、第１の主面１１の上でアンダーフィルを用いて発熱体Ｈ１を封止する。ここでアンダーフィルとは、集積回路の封止に用いられる液状硬化性樹脂の総称である。また、封止層６０の材料には、撥液性の樹脂であって接着性を有するものをもちいることができる（たとえば、撥液性のエポキシ系樹脂、撥液性のウレタン系樹脂）。封止層６０の材料には、被覆層３０を形成するコーティング剤と同じ材料を用いる。なお、撥液性のエポキシ系樹脂にフッ素化合物が含有され、かつ、冷媒ＣＯＯがフッ素系冷媒である場合には、封止層６０に撥液性のエポキシ系樹脂を使用できない。この場合には、封止層６０に撥液性のウレタン系樹脂を使用する。

以上、電子機器１００Ｄの構成について説明した。

つぎに、電子機器１００Ｄの製造方法について、説明する。

まず、発熱体Ｈ１が取り付けられた回路基板１０を準備する。このとき、発熱体Ｈ１は、封止層６０により封止されている。つぎに、筐体２０を接着剤やネジ止めなどにより回路基板１０の第１の主面１１上に取り付ける。このとき、筐体２０の上面（図１にて紙面上側の面）は、取り外し可能に形成されている。そして、筐体２０の上面を取り外した状態で、回路基板１０Ｂの第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈ１に囲われた領域にコーティング剤を塗布して、被覆層３０を形成する。

つぎに、筐体２０の上面（図１にて紙面上側の面）を取り付けて、筐体２０および回路基板１０Ｂの間の空間内に発熱体Ｈを密閉する。そして、筐体２０と回路基板１０Ｂとの間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する。

筐体２０と回路基板１０Ｂとの間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する方法については、第１の実施の形態で説明した通りである。

以上の通り、電子機器１００Ｄの製造方法について、説明した。

なお、電子機器１００Ｄの動作については、第１の実施の形態における電子機器１００と同様である。

以上の通り、本発明の第３の実施の形態における電子機器１００Ｄは、封止層６０をさらに備えている。封止層６０は、前記第１の主面上でアンダーフィルを用いて前記発熱体を封止する。このように、回路基板１０Ｂに実装されている発熱体Ｈ１が、たとえば、ワイヤーボンディング、フリップチップボンディング等を用いて実装される集積回路であっても、被覆層３０を形成することができる。また、アンダーフィルの材料は、被覆層３０の材料と同じである。すなわち、アンダーフィルの材料には、被覆層３０の材料を形成するコーティング剤と同じものを用いる。

このように、封止層６０（アンダーフィル）の材料を、被覆層３０を形成するコーティング剤の材料と同じにすることにより、アンダーフィルを介して、冷媒ＣＯＯが回路基板１０Ｂを透過して、外部に漏れ出すことを抑制できる。これにより、回路基板１０Ｂに実装されている発熱体Ｈ１が、たとえば、ワイヤーボンディング、フリップチップボンディング等を用いて実装される集積回路であっても、第１の実施の形態における電子機器１００と同様に、冷媒ＣＯＯの漏洩を抑制することができる。
＜第３の実施の形態の第１の変形例＞
本発明の第３の実施の形態における電子機器の第１の変形例である電子機器１００Ｅの構成について、図に基づいて説明する。

図２３は、電子機器１００Ｅの構成を示す断面図である。図２３は、図１９と同等の方向で電子機器１００Ｅを切断した断面図である。なお、図２３には、鉛直方向Ｇが示されている。また、図２３では、図１〜図２２で示した各構成要素と同等の構成要素には、図１〜図２２に示した符号と同等の符号を付している。

図２３を参照して、電子機器１００Ｅは、回路基板１０Ｂと、筐体２０と、被覆層３０Ｃとを備えている。電子機器１００Ｅは、電子機器１００と同様に、収容ラック２００に取り付けることができる。なお、電子機器１００Ｅは、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

ここで、電子機器１００Ｄと電子機器１００Ｅとを比較する。電子機器１００Ｄでは、図１９に示されるように、封止層６０と被覆層３０を別々に形成していた。これに対して、電子機器１００Ｅでは、図２３に示されるように、被覆層３０Ｃを封止層も含めて一体で形成している。この点で両者は互いに相違する。

このように、電子機器１００Ｅでは、封止層および被覆層は一体で形成されているので、より簡単な構成とすることができ、より簡素に製造することができる。
＜第４の実施の形態＞
本発明の第４の実施の形態における電子機器１００Ｆの構成について、図に基づいて説明する。

図２４は、電子機器１００Ｆの構成を示す断面図であって、図２７のＬ−Ｌ切断面における断面を示す図である。図２５は、電子機器１００Ｆの構成を示す断面図であって、図２６のＭ−Ｍ切断面における断面を示す図である。図２６は、電子機器１００Ｆの構成を示す側面図である。図２７は、電子機器１００Ｆの構成を示す上面図である。なお、図２４および図２６には、鉛直方向Ｇが示されている。また、図２４〜図２７では、図１〜図２３で示した各構成要素と同等の構成要素には、図１〜図２３に示した符号と同等の符号を付している。

図２４〜図２７を参照して、電子機器１００Ｆは、回路基板１０と、筐体２０と、被覆層３０、金属層７０とを備えている。電子機器１００Ｆは、電子機器１００と同様に、収容ラック２００に取り付けることができる。なお、電子機器１００Ｆは、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

ここで、電子機器１００Ｆと電子機器１００とを比較する。図２４〜図２７を参照して、電子機器１００Ｆは、金属層７０をさらに備えている点で、電子機器１００と相違する。

金属層７０は、被覆層３０のうち、第１の主面１１と反対側の面上の少なくとも一部に設けられている。金属層７０の材料には、たとえば、銅や銅合金などの金属で形成された箔材や板材を用いる。なお、図２４および図２５では、金属層７０は、被覆層３０の全面に設けられている例を示す。

以上、電子機器１００Ｆの構成について説明した。

つぎに、電子機器１００Ｆの製造方法について、説明する。

まず、発熱体Ｈが取り付けられた回路基板１０を準備する。つぎに、筐体２０を接着剤やネジ止めなどにより回路基板１０の第１の主面１１上に取り付ける。このとき、筐体２０の上面（図２４にて紙面上側の面）は、取り外し可能に形成されている。そして、筐体２０の上面を取り外した状態で、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０および発熱体Ｈに囲われた領域にコーティング剤を塗布して、被覆層３０を形成する。

つぎに、金属層７０を被覆層３０の上面（図２４にて紙面上側の面）の上に接着剤などにより貼り付ける。これにより、金属層７０が被覆層３０の上面に形成される。

つぎに、筐体２０の上面（図２４にて紙面上側の面）を取り付けて、筐体２０および回路基板１０の間の空間内に発熱体Ｈを密閉する。そして、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する。

筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する方法については、第１の実施の形態で説明した通りである。

以上の通り、電子機器１００Ｆの製造方法について、説明した。

なお、電子機器１００Ｆの動作については、第１の実施の形態における電子機器１００と同様である。

以上の通り、本発明の第４の実施の形態における電子機器１００Ｆは、金属層７０がさらに設けられている。金属層７０は、被覆層３０のうち、第１の主面１１と反対側の面上の少なくとも一部に設けられている。

一般的に、金属層７０の材料である金属の方が、被覆層３０の材料である樹脂と比較して冷媒ＣＯＯの透過率は低い。したがって、金属層７０を被覆層３０の上に設けたことにより、第１の実施の形態における電子機器１００と比較して、より効率よく、冷媒ＣＯＯが回路基板１０を透過して、外部に漏れ出すことを抑制できる。

ゆえに、本発明の第３の実施の形態における電子機器１００Ｆによれば、回路基板１０および筐体２０で囲われた空間内に発熱体Ｈと冷媒ＣＯＯを閉じ込める場合であっても、冷媒ＣＯＯの漏洩をさらに効率よく抑制することができる。

なお、回路基板１０および金属層７０の間には被覆層３０が介在されるので、金属層７０が回路基板１０の回路とショートすることはない。また、金属層７０は、たとえば、金属板や金属箔により形成することができる。この場合、特許文献１に記載の技術で示された鉄心よりも重量を軽減することができる。
＜第５の実施の形態＞
本発明の第５の実施の形態における電子機器１００Ｇの構成について、図に基づいて説明する。

図２８は、電子機器１００Ｇの構成を示す断面図であって、図３１のＮ−Ｎ切断面における断面を示す図である。図２９は、電子機器１００Ｇの構成を示す断面図であって、図３０のＰ−Ｐ切断面における断面を示す図である。図３０は、電子機器１００Ｇの構成を示す側面図である。図３１は、電子機器１００Ｇの構成を示す上面図である。なお、図２８および図３０には、鉛直方向Ｇが示されている。また、図２８〜図３１では、図１〜図２７で示した各構成要素と同等の構成要素には、図１〜図２７に示した符号と同等の符号を付している。

図２８〜図３１を参照して、電子機器１００Ｇは、回路基板１０と、筐体２０と、被覆層３０、沸騰促進部８０とを備えている。電子機器１００Ｇは、電子機器１００と同様に、収容ラック２００に取り付けることができる。なお、電子機器１００Ｇは、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

ここで、電子機器１００Ｇと電子機器１００とを比較する。図２８〜図３１を参照して、電子機器１００Ｇは、沸騰促進部８０をさらに備えている点で、電子機器１００と相違する。

図２８を参照して、電子機器１００Ｇは、沸騰促進部８０をさらに備えている。沸騰促進部８０は、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９（図２８の紙面にて上側の面）の上に設けられている。発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９は、発熱体Ｈの外面のうち第１の主面１１側の面に対して反対側の面である。沸騰促進部８０は、第１の発熱体外面９９の周辺の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯが発熱体Ｈの熱によって気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯに相変化することを促進する。

ここで、沸騰促進部８０は、たとえば、複数の溝や多孔質体を有する。なお、図２８では、沸騰促進部８０の一例として、複数の溝を有するものが示されている。また、図２８では、沸騰促進部８０は、被覆層３０を介して、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９に、被覆層３０の材料であるコーティング剤の接着により取り付けられている。なお、沸騰促進部８０は、被覆層３０を介さずに、別の接着剤やねじ止めなどにより、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９に取り付けられてもよい。

沸騰促進部８０は、第１の発熱体外面９９の上に形成された溝または多孔質体であってもよい。すなわち、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９を切削加工や樹脂成形することで形成された溝または多孔質体を、沸騰促進部８０とすることもできる。このように、沸騰促進部８０は、別体によって第１の発熱体外面９９に接着されるものであっても、発熱体Ｈと一体となるように第１の発熱体外面９９を加工するものであってもよい。なお、多孔質体とは、複数の微細な孔が形成されたものである。

多孔質体は、たとえば、焼結体やメッシュで構成されてもよい。焼結体は、固体粉末の集合体が固められた物体で、固体粉末の粒子間が結合することによって複数の微細な孔が固体粉末間に形成されたものである。この焼結体は、発熱体Ｈの上面上で、固体粉末を焼結することにより、形成される。焼結とは、固体粉末の集合体を当該固体粉末の融点よりも低い温度で加熱して、固体粉末を固めることをいう。メッシュは、たとえば、網の目を有する金属シートによって形成される。

なお、焼結体の材料には、たとえば、セラミック、アルミニウム、ステンレス、銅、黄銅、ブロンズなどが用いられる。セラミックの主成分には、たとえば、アルミナ、イットリア（酸化イットリウム）、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、炭化珪素、窒化珪素等が用いられる。メッシュの材料には、たとえば、アルミニウム、アルミニウム合金、銅、銅合金などの金属が用いられる。

また、被覆層３０と同じコーティング剤を硬化したものを加工して、沸騰促進部８０を形成してもよい。この場合、沸騰促進部８０は、被覆層３０と一体に形成される。

ただし、好ましくは、沸騰促進部８０は、別体によって第１の発熱体外面９９に接着されるものではなく、発熱体Ｈと一体となるように第１の発熱体外面９９を加工するものである。別体によって第１の発熱体外面９９に接着されるもので沸騰促進部８０を構成する場合、沸騰促進部８０と発熱体Ｈの間に隙間が生じ、発熱体Ｈの熱が沸騰促進部８０に十分に伝わらない場合がある。これに対して、発熱体Ｈと一体となるように第１の発熱体外面９９を加工するもので、沸騰促進部８０を構成する場合、沸騰促進部８０と発熱体Ｈの間に隙間が生じず、発熱体Ｈの熱を沸騰促進部８０により効率よく伝えることができる。

沸騰促進部８０を発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９上に設けることにより、沸騰核（＝沸騰が起きるきっかけ）を発熱体Ｈ上に形成することができ、過熱状態（＝沸点を超えても沸騰が起きない状態）を抑制することができる。このため、第１の発熱体外面９９の周辺の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯに発熱体Ｈの熱がより効率良く伝達される。この結果、沸騰促進部８０を設けない場合と比較して、より効率よく、第１の発熱体外面９９の周辺の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯを気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯに相変化することができる。とくに、沸騰促進部８０を設けることで、冷媒ＣＯＯとの熱交換面積を大きくすることができる。すなわち、沸騰促進部８０を設けない場合、冷媒ＣＯＯとの熱交換面積は、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９の面積となる。ここで、沸騰促進部８０の溝や多孔質体を含めた表面積は、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９の表面積よりも大きくなる。したがって、沸騰促進部８０を設けた場合、冷媒ＣＯＯとの熱交換面積は、沸騰促進部８０を設けない場合と比較して、大きくなる。このため、より効率よく発熱体Ｈの熱を冷媒ＣＯＯに伝達することができる。

以上、電子機器１００Ｇの構成について説明した。

つぎに、電子機器１００Ｇの製造方法について、説明する。

まず、発熱体Ｈが取り付けられた回路基板１０を準備する。つぎに、筐体２０を接着剤やネジ止めなどにより回路基板１０の第１の主面１１上に取り付ける。このとき、筐体２０の上面（図２８にて紙面上側の面）は、取り外し可能に形成されている。そして、筐体２０の上面を取り外した状態で、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０の内壁に囲われた領域にコーティング剤を塗布して、被覆層３０を形成する。つぎに、沸騰促進部８０を発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９上に取り付ける。なお、沸騰促進部８０を発熱体Ｈと一体に構成する場合や、予め沸騰促進部８０を発熱体Ｈに取り付けている場合では、沸騰促進部８０が形成された発熱体Ｈを用意する点で第１の実施の形態における電子機器１００の製造方法と異なるが、それ以外の処理は第１の実施の形態における電子機器１００の製造方法と同様である。

つぎに、筐体２０の上面（図２８にて紙面上側の面）を取り付けて、筐体２０および回路基板１０の間の空間内に発熱体Ｈを密閉する。そして、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する。

筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する方法については、第１の実施の形態で説明した通りである。

以上の通り、電子機器１００Ｇの製造方法について、説明した。

なお、電子機器１００Ｇの動作について説明する。

回路基板１０上の発熱体Ｈが動作すると、発熱体Ｈが発熱する。ここで、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９の上に設けられた沸騰促進部８０は、筐体２０内の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯに接触している。このため、筐体２０の鉛直方向Ｇの下側に貯留されている液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯが、沸騰促進部８０で、発熱体Ｈの熱によって沸騰し、気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯに相変化する。これにより、気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯの気泡が発生する。この相変化により生じる気化熱（潜熱）によって、発熱体Ｈが冷却される。

気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯは、筐体２０内の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯ内を鉛直方向Ｇの上方へ上昇し、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯの液面上を抜けて、さらに鉛直方向Ｇの上方へ上昇する。そして、発熱体Ｈの熱によって沸騰した気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯは、筐体２０の内壁面と接触することにより冷却されると、再び液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯに相変化する。この液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯは、筐体２０内を鉛直方向Ｇの下方へ下降し、回路基板１０側に溜まり、発熱体Ｈの冷却に再び用いられる。

以上、電子機器１００Ｇの動作について説明した。

以上の通り、第５の実施の形態における電子機器１００Ｇは、沸騰促進部８０をさらに備えている。沸騰促進部８０は、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９上に設けられている。発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９は、発熱体Ｈの外面のうち第１の主面１１側の面に対して反対側の面である。沸騰促進部８０は、第１の発熱体外面９９の周辺の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯが発熱体Ｈの熱によって気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯに相変化することを促進する。

このように、沸騰促進部８０を発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９上に設けることにより、沸騰核（＝沸騰が起きるきっかけ）を発熱体Ｈ上に形成することができ、過熱状態（＝沸点を超えても沸騰が起きない状態）を抑制することができる。このため、第１の発熱体外面９９の周辺の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯに発熱体Ｈの熱がより効率良く伝達される。この結果、沸騰促進部８０を設けない場合と比較して、より効率よく、第１の発熱体外面９９の周辺の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯを気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯに相変化することができる。とくに、沸騰促進部８０を設けることで、冷媒ＣＯＯとの熱交換面積を大きくすることができる。すなわち、沸騰促進部８０を設けない場合、冷媒ＣＯＯとの熱交換面積は、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９の面積となる。ここで、沸騰促進部８０の溝や多孔質体を含めた表面積は、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９の表面積よりも大きくなる。したがって、沸騰促進部８０を設けた場合、冷媒ＣＯＯとの熱交換面積は、沸騰促進部８０を設けない場合と比較して、大きくなる。このため、より効率よく発熱体Ｈの熱を冷媒ＣＯＯに伝達することができる。

また、第５の実施の形態における電子機器１００Ｇにおいて、沸騰促進部８０の材料は、被覆層３０と同じ材料と同じであり、沸騰促進部８０および被覆層３０は一体で形成してもよい。すなわち、沸騰促進部８０の材料には、被覆層３０と同じコーティング剤を用いる。これにより、部品点数を低減できる。また、沸騰促進部８０および被覆層３０を同じコーティング剤で同時に形成できるので、製造工程を少なくすることができ、より効率よく電子機器１００Ｇを製造できる。

また、第５の実施の形態における電子機器１００Ｇにおいて、沸騰促進部８０は、第１の発熱体外面９９に形成された溝または多孔質体である。これにより、沸騰促進部８０を容易に形成することができる。
＜第５の実施の形態の第１の変形例＞
本発明の第５の実施の形態における電子機器の第１の変形例である電子機器１００Ｈの構成について、図に基づいて説明する。

図３２は、電子機器１００Ｈの構成を示す断面図であって、図３５のＱ−Ｑ切断面における断面を示す図である。図３３は、電子機器１００Ｈの構成を示す断面図であって、図３４のＲ−Ｒ切断面における断面を示す図である。図３４は、電子機器１００Ｈの構成を示す側面図である。図３５は、電子機器１００Ｈの構成を示す上面図である。なお、図３２および図３４には、鉛直方向Ｇが示されている。また、図３２〜図３５では、図１〜図３１で示した各構成要素と同等の構成要素には、図１〜図３１に示した符号と同等の符号を付している。

図３２〜図３５を参照して、電子機器１００Ｈは、回路基板１０と、筐体２０と、被覆層３０、沸騰促進部８０Ａとを備えている。電子機器１００Ｈは、電子機器１００と同様に、収容ラック２００に取り付けることができる。なお、電子機器１００Ｈは、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

ここで、電子機器１００Ｈと電子機器１００Ｇとを比較する。図２８〜図３１を参照して、電子機器１００Ｇの沸騰促進部８０は、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９の上のみに取り付けられていた。これに対して、図３２〜図３５を参照して、電子機器１００Ｈの沸騰促進部８０Ａは、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９の上を含めて、筐体２０の内壁に囲われた領域全体に取り付けられる。この点で、電子機器１００Ｈと電子機器１００Ｇは互いに相違する。

以上、電子機器１００Ｈの構成について説明した。

なお、電子機器１００Ｈの製造方法や動作は、電子機器１００Ｇと同様である。

以上の通り、第５の実施の形態における電子機器の第１の変形例である電子機器１００Ｈにおいて、沸騰促進部８０Ａは、筐体２０の内壁に囲われた領域に設けられている。これにより、冷媒ＣＯＯが沸騰促進部８０Ａに接する面積を、電子機器１００Ｇの場合と比較して、大きくすることができる。この結果、より効率よく発熱体Ｈの熱を冷媒ＣＯＯに伝達することができる。また、沸騰促進部８０Ａが被覆層３０と別体で、かつ金属製（例えば金属製のヒートシンク）である場合、本発明の第４の実施の形態における電子機器１００Ｆと同様に冷媒ＣＯＯが漏れ出すことを抑制する効果を奏する。
＜第６の実施の形態＞
本発明の第６の実施の形態における電子機器１００Ｊの構成について、図に基づいて説明する。

図３６は、電子機器１００Ｊの構成を示す断面図であって、図３９のＳ−Ｓ切断面における断面を示す図である。図３７は、電子機器１００Ｊの構成を示す断面図であって、図３８のＴ−Ｔ切断面における断面を示す図である。図３８は、電子機器１００Ｊの構成を示す側面図である。図３９は、電子機器１００Ｊの構成を示す上面図である。なお、図３６および図３８には、鉛直方向Ｇが示されている。また、図３６〜図３９では、図１〜図３５で示した各構成要素と同等の構成要素には、図１〜図３５に示した符号と同等の符号を付している。

図３６〜図３９を参照して、電子機器１００Ｊは、回路基板１０と、筐体２０と、被覆層３０、冷媒流路９０とを備えている。電子機器１００Ｊは、電子機器１００と同様に、収容ラック２００に取り付けることができる。なお、電子機器１００Ｊは、たとえば、通信装置やサーバーなどに組み込まれる電子モジュールに用いることができる。

ここで、電子機器１００と電子機器１００Ｊとを比較する。図３６に示されるように、電子機器１００Ｊでは、冷媒流路９０をさらに有する点で、電子機器１００と相違する。

図３６を参照して、冷媒流路９０は、筐体２０の内面の側面（図１１の紙面上にて左側の面と右側の面）と、被覆層３０の上とに形成されている。より具体的には、冷媒流路９０は、筐体１０の内面であって第１の主面１１側から液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯの液面の鉛直方向Ｇの上方に亘る面上と、被覆層３０上に設けられている。また、冷媒流路９０は、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯが発熱体Ｈに向けて流れるように形成されている。

冷媒流路９０の下端は、発熱体Ｈに接する。冷媒流路９０上端は、筐体２０内の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯが最も少ない際の当該液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯの液面よりも、鉛直方向Ｇの上方に設定されている。したがって、図３６の例では、冷媒流路９０の上端は筐体２０の側面内に設定されているが、冷媒流路９０の上端を筐体２０の底面側に設定してもよい。

ここで、冷媒流路９０は、上述の通り、筐体２０内の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯが発熱体Ｈに向けて流れるように形成されている。冷媒流路９０は、たとえば、毛細管現象により液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯを発熱体Ｈへ導く多孔質体や微細な溝によって形成されている。なお、毛細管現象とは、細い管状物体（毛細管）の内側の液体が管の中を上昇（場合によっては下降）する物理現象である。毛管現象とも呼ばれる。なお、多孔質体とは、前述の通り、複数の微細な孔が形成されたものである。

前述の沸騰促進部８０と同様に、多孔質体を、たとえば、焼結体やメッシュで構成してもよい。

微細な溝は、発熱体Ｈを中心に外方に向かうように形成されている。この溝は、筐体２０の内面を切削するか、筐体２０の内面に微細な突起状の部材を取り付けることにより、形成することができる。

なお、多孔質体および微細な溝は、筐体２０の底面や側面の全面に形成されてもよいし、部分的に形成されてもよい。

また、被覆層３０と同じコーティング剤を硬化したものを加工して、冷媒流路９０を形成してもよい。この場合、冷媒流路９０は、被覆層３０と一体に形成される。

以上、電子機器１００Ｊの構成について説明した。

つぎに、電子機器１００Ｊの製造方法について、説明する。

まず、発熱体Ｈが取り付けられた回路基板１０を準備する。つぎに、筐体２０を接着剤やネジ止めなどにより回路基板１０の第１の主面１１上に取り付ける。このとき、筐体２０の上面（図２８にて紙面上側の面）は、取り外し可能に形成されている。そして、筐体２０の上面を取り外した状態で、回路基板１０の第１の主面１１上であって筐体２０の内壁に囲われた領域にコーティング剤を塗布して、被覆層３０を形成する。つぎに、冷媒流路９０を筐体２０の内面上と被覆層３０上に設ける。

つぎに、筐体２０の上面（図３６にて紙面上側の面）を取り付けて、筐体２０および回路基板１０の間の空間内に発熱体Ｈを密閉する。そして、筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する。

筐体２０と回路基板１０との間の空間内に冷媒ＣＯＯを充填する方法については、第１の実施の形態で説明した通りである。

以上の通り、電子機器１００Ｊの製造方法について、説明した。

つぎに、電子機器１００Ｊの動作について説明する。

電源が、回路基板１０上の発熱体Ｈに供給されると、発熱体Ｈが発熱する。

ここで、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９の中央部は、筐体２０内の液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯに接触している。このため、筐体２０の鉛直方向Ｇの下側に貯留されている液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯが、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９で、発熱体Ｈの熱によって沸騰し、気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯに相変化する。これにより、気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯの気泡が発生する。この相変化により生じる気化熱（潜熱）によって、発熱体Ｈが冷却される。

気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯは、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯ内を鉛直方向Ｇの上方へ上昇し、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯの液面上を抜けて、さらに鉛直方向Ｇの上方へ上昇する。そして、発熱体Ｈの熱によって沸騰した気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯは、筐体２０の内壁面と接触することにより冷却されると、再び液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯに相変化する。この液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯは、筐体２０内を鉛直方向Ｇの下方へ下降し、回路基板１０側に溜まり、発熱体Ｈの冷却に再び用いられる。

このとき、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯは、冷媒流路９０内を発熱体Ｈへ向けて流れる。とくに、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯは、冷媒流路９０内の毛細管現象により、発熱体Ｈへ導かれる。

そして、再び、筐体２０の鉛直方向Ｇの下側に貯留されている液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯが、発熱体Ｈの第１の発熱体外面９９で、発熱体Ｈの熱によって沸騰し、気相冷媒ＧＰ−ＣＯＯに相変化する。以降、上述の動作を繰り返して、冷媒ＣＯＯが筐体２０内で循環する。

以上、電子機器１００Ｊの動作について説明した。

以上のように、第６の実施の形態における電子機器１００Ｊは、冷媒流路９０をさらに備えている。冷媒流路９０は、筐体２０の内面であって第１の主面１１側から液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯの液面の鉛直方向Ｇの上方に亘る面上と、被覆層３０上に設けられている。冷媒流路９０は、液相冷媒ＬＰ-ＣＯＯが発熱体Ｈに向けて流れるように形成されている。

このように、冷媒流路９０は、筐体２０の内面であって第１の主面１１側から液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯの液面の鉛直方向Ｇの上方に亘る面上と、被覆層３０上に設けられている。冷媒流路９０は、液相冷媒ＬＰ-ＣＯＯが発熱体Ｈに向けて流れるように形成されている。このため、筐体２０内の鉛直方向Ｇの上方で発生する液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯは、冷媒流路９０を通って、発熱体Ｈに向けて流れる。したがって、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯをより速く円滑に発熱体Ｈに供給することができる。この結果、冷媒流路９０を設けない場合を比較して、発熱体Ｈの熱をより効率よく冷却することができる。

また、第６の実施の形態における電子機器１００Ｊにおいて、 冷媒流路９０の材料は、被覆層３０の材料と同じであり、冷媒流路９０および被覆層３０は一体で形成されている。すなわち、冷媒流路９０は、被覆層３０を構成する撥液性のコーティング剤を用いて形成された溝または多孔質体により構成される。これにより、部品点数を低減できる。また、冷媒流路９０および被覆層３０を同じコーティング剤で同時に形成できるので、製造工程を少なくすることができ、より効率よく電子機器１００Ｊを製造できる。

また、第６の実施の形態における電子機器１００Ｊにおいて、冷媒流路９０は、毛細管現象により液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯを導く。このように、毛細管現象を用いて、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯを発熱体Ｈへ導くことができるので、さらに、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯをより速く円滑に発熱体Ｈに供給することができる。この結果、冷媒流路９０を設けない場合を比較して、発熱体Ｈの熱をさらに効率よく冷却することができる。また、冷媒流路９０は、毛細管現象により液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯを導くので、図３６において、電子機器１００Ｊが天地逆転して配置された場合や、電子機器１００Ｊが縦置きにされた場合であっても、重力に逆らって、液相冷媒ＬＰ−ＣＯＯを発熱体Ｈへ導くことができる。なお、電子機器１００Ｊが縦置きにされた場合とは、たとえば、回路基板１０の第１の主面１１が鉛直方向Ｇに対して平行に配置された場合をいう。

また、第６の実施の形態における電子機器１００Ｊにおいて、冷媒流路９０は、溝または多孔質体によって形成されている。これにより、毛細管現象を生じさせる冷媒流路９０を容易に形成することができる。

なお、この第６の実施の形態では、電子機器１００Ｊに冷媒流路９０を追加した態様を説明したが、冷媒流路９０を電子機器１００Ａ〜１００Ｈに追加することもできる。

また、前述の各実施の形態の一部または全部は、以下のようにも記載されうるが、以下に限定されない。
（付記１）
主面に発熱体が取り付けられた回路基板と、
前記主面に取り付けられ、前記主面との間で前記発熱体および冷媒を密閉する筐体と、
少なくとも前記筐体および前記発熱体に囲われた前記主面の領域に撥液性のコーティング剤により形成された被覆層と、を備えた電子機器。
（付記２）
前記主面上でアンダーフィルを用いて前記発熱体を封止する封止層をさらに備え、
前記アンダーフィルの材料は、前記被覆層の材料と同じであり、前記封止層および前記被覆層は一体で形成されている付記１に記載の電子機器。
（付記３）
前記筐体と前記主面の間に設けられる補強部材をさらに備え、
前記筐体は、前記補強部材を介して前記主面に取り付けられ、前記主面との間で前記発熱体および冷媒を密閉し、
前記被覆層は、少なくとも、前記補強部材および前記発熱体に囲われた前記主面の領域に撥液性のコーティング剤により形成されている付記１または２に記載の電子機器。
（付記４）
前記補強部材は接着剤を用いて前記主面に固定され、前記接着剤の材料は、前記被覆層の材料と同じである付記３に記載の電子機器。
（付記５）
前記被覆層のうち、前記主面と反対側の面上の少なくとも一部に金属層が設けられている付記１〜４のいずれか１項に記載の電子機器。
（付記６）
前記冷媒は、液相冷媒および気体冷媒に相変化することができる付記１〜５のいずれか１項に記載の電子機器。
（付記７）
前記発熱体の外面のうち前記主面側の面に対して反対側の面である第１の発熱体外面の上に設けられ、前記第１の発熱体外面の周辺の液相冷媒が前記発熱体の熱によって気相冷媒に相変化することを促進する沸騰促進部をさらに備えた付記６に記載の電子機器。
（付記８）
前記沸騰促進部の材料は、前記被覆層の材料と同じであり、前記沸騰促進部および前記被覆層は一体で形成されている付記７に記載の電子機器。
（付記９）
前記沸騰促進部は、前記第１の発熱体外面に形成された溝または多孔質体により形成されている付記７に記載の電子機器。
（付記１０）
前記筐体の内面であって前記主面側から前記液相冷媒の液面の鉛直方向の上方に亘る面上と、前記被覆層上に設けられ、前記液相冷媒が前記発熱体に向けて流れるように形成された冷媒流路をさらに備えた付記６に記載の電子機器。
（付記１１）
前記冷媒流路の材料は、前記被覆層の材料と同じであり、前記冷媒流路および前記被覆層は一体で形成されている付記１０に記載の電子機器。
（付記１２）
前記冷媒流路は、溝または多孔質体によって形成されている付記１０または１１に記載の電子機器。
（付記１３）
前記冷媒流路は、毛細管現象により前記液相冷媒を前記発熱体へ導く付記１１〜１２のいずれか１項に記載の電子機器。
（付記１４）
前記回路基板上に設けられ、他の電子部品と接続されるコネクタ部をさらに備え、
前記筐体は、前記コネクタ部を被覆しないように、前記主面に取り付けられている付記１〜１３のいずれか１項に記載の電子機器。
（付記１５）
付記１４に記載の電子機器と、
前記コネクタ部と接続する収容ラック側コネクタ部を備え、前記電子機器が取り付けられる収容ラックと、を備えた電子装置。
（付記１６）
前記コーティング剤の材料は、フッ素系の樹脂、アクリル系の樹脂、エポキシ系の樹脂、またはウレタン系の樹脂により構成されている付記１に記載の電子機器。
（付記１７）
前記アンダーフィルの材料は、エポキシ系の樹脂、またはウレタン系の樹脂により構成されている付記２に記載の電子機器。
（付記１８）
前記接着剤の材料は、エポキシ系の樹脂、またはウレタン系の樹脂により構成されている付記４に記載の電子機器。

以上、実施形態を参照して本願発明を説明したが、本願発明は上記実施形態に限定されものではない。本願発明の構成や詳細には、本願発明のスコープ内で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。

１０、１０Ａ、１０Ｂ 回路基板
１１ 第１の主面
１２ 第２の主面
１３ コネクタ部
２０ 筐体
３０、３０Ａ、３０Ｂ、３０Ｃ 被覆層
４０ 補強部材
５０ 接着層
６０ 封止層
７０ 金属層
８０、８０Ａ 沸騰促進部
９０ 冷媒流路
９９ 第１の発熱体外面
１００、１００Ａ、１００Ｂ、１００Ｃ、１００Ｄ、１００Ｄ 電子機器
１００Ｆ、１００Ｇ、１００Ｈ、１００Ｊ 電子機器
１１０ 前面カバー ２００ 収容ラック
２１０ 筐体
２２０ 回路基板
２２３ 収容ラック側コネクタ部
１０００ 電子装置
Ｈ 発熱体
Ｅ 電子部品

Claims (10)

1. 主面に発熱体が取り付けられた回路基板と、
   前記主面に取り付けられ、前記主面との間で前記発熱体および冷媒を密閉する筐体と、
   少なくとも前記筐体および前記発熱体に囲われた前記主面の領域に撥液性のコーティング剤により形成された被覆層と、を備えた電子機器。
2. 前記主面上でアンダーフィルを用いて前記発熱体を封止する封止層をさらに備え、
   前記アンダーフィルの材料は、前記被覆層の材料と同じであり、前記封止層および前記被覆層は一体で形成されている請求項１に記載の電子機器。
3. 前記筐体と前記主面の間に設けられる補強部材をさらに備え、
   前記筐体は、前記補強部材を介して前記主面に取り付けられ、前記主面との間で前記発熱体および冷媒を密閉し、
   前記被覆層は、少なくとも、前記補強部材および前記発熱体に囲われた前記主面の領域に撥液性のコーティング剤により形成されている請求項１または２に記載の電子機器。
4. 前記補強部材は接着剤を用いて前記主面に固定され、前記接着剤の材料は、前記被覆層の材料と同じである請求項３に記載の電子機器。
5. 前記被覆層のうち、前記主面と反対側の面上の少なくとも一部に金属層が設けられている請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子機器。
6. 前記冷媒は、液相冷媒および気体冷媒に相変化することができる請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子機器。
7. 前記発熱体の外面のうち前記主面側の面に対して反対側の面である第１の発熱体外面の上に設けられ、前記第１の発熱体外面の周辺の液相冷媒が前記発熱体の熱によって気相冷媒に相変化することを促進する沸騰促進部をさらに備えた請求項６に記載の電子機器。
8. 前記沸騰促進部の材料は、前記被覆層の材料と同じであり、前記沸騰促進部および前記被覆層は一体で形成されている請求項７に記載の電子機器。
9. 前記沸騰促進部は、前記第１の発熱体外面に形成された溝または多孔質体により形成されている請求項７に記載の電子機器。
10. 前記筐体の内面であって前記主面側から前記液相冷媒の液面の鉛直方向の上方に亘る面上と、前記被覆層上に設けられ、前記液相冷媒が前記発熱体に向けて流れるように形成された冷媒流路をさらに備えた請求項６に記載の電子機器。

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