JP2020120035A - 温度制御装置および細胞培養装置 - Google Patents
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- Apparatus Associated With Microorganisms And Enzymes (AREA)
Abstract
Description
<温度制御装置>
以下、本実施の形態の温度制御装置について、図1〜図4を用いて説明する。
図4〜図9を用いて、本実施の形態の温度制御装置の製造方法を説明する。図5〜図9は、本実施の形態の温度制御装置の製造工程中の断面図である。前述のとおり、図4は、セルCLの断面図であり、図5〜図9もセルCLの製造工程中の断面図である。
以下、本実施の形態の温度制御装置TCDの適用例である細胞培養装置CCDについて図10〜図14を用いて説明する。図10は、本実施の形態に係る細胞培養装置の平面図、図11は、図10のC−C線に沿う断面図、図12は、本実施の形態に係る細胞培養装置の要部断面図、図13および図14は、本実施の形態に係る細胞培養装置において、培養された細胞を示す平面模式図である。なお、図12では、図4の絶縁膜IF1〜IF6を纏めて絶縁膜IFとしている。
CE 列電極(第2電極)
CEL 細胞
CF 培養液
CL セル
CLA セルアレイ領域
COM 共通電極(第3電極)
COMa 主面
COMb 裏面
IF、IF1〜IF6 絶縁膜
IF5a、IF6a 主面
MF 単分子膜
ML 金属膜
NS n型半導体
OP1〜OP5 開口
PL 保護膜
PS p型半導体
RE 行電極(第1電極)
RS 容器
SB 基板
SBa 主面
TA 端子
TCD 温度制御装置
TRM 温度応答性材料
WR 配線
Claims (11)
- 基板と、
前記基板上に配置され、平面視において第1方向に延在する複数の第1電極と、
前記基板上に配置され、平面視において前記第1方向と直交する第2方向に延在する複数の第2電極と、
前記複数の第1電極と前記複数の第2電極との交叉部に配置された複数のセルと、
を備え、
前記複数のセルの各々は、
第1端部と第2端部とを含み、前記第1端部を前記複数の第1電極の内の1本の第1電極に接続されたp型半導体と、
第3端部と第4端部とを含み、前記第3端部を前記複数の第2電極の内の1本の第2電極に接続されたn型半導体と、
前記第2端部と前記第4端部とを接続する第3電極と、
を有する、温度制御装置。 - 請求項1記載の温度制御装置において、
前記複数のセルの各々は、ペルチェ素子である、温度制御装置。 - 請求項1記載の温度制御装置において、
前記p型半導体は、前記1本の第1電極上に配置されており、
前記n型半導体は、前記1本の第2電極上に配置されている、温度制御装置。 - 請求項1記載の温度制御装置において、
前記複数の第1電極は、複数の第1銅配線からなり、
前記複数の第2電極は、複数の第2銅配線からなる、温度制御装置。 - 請求項4記載の温度制御装置において、
前記第3電極は、第3銅配線からなる、温度制御装置。 - 請求項1記載の温度制御装置において、
さらに、
前記基板上に配置され、前記複数の第1電極に電気的に接続された複数の第1端子と、
前記基板上に配置され、前記複数の第2電極に電気的に接続された複数の第2端子と、
を備えた、温度制御装置。 - 基板と、
前記基板上に配置され、平面視において第1方向に延在する複数の第1電極と、
前記基板上に配置され、平面視において前記第1方向と直交する第2方向に延在する複数の第2電極と、
前記複数の第1電極と前記複数の第2電極との交叉部に配置された複数のセルと、
前記複数のセルの上部に配置され、細胞を含む培養液を保持する容器と、
を備え、
前記複数のセルの各々は、
第1端部と第2端部とを含み、前記第1端部を前記複数の第1電極の内の1本の第1電極に接続されたp型半導体と、
第3端部と第4端部とを含み、前記第3端部を前記複数の第2電極の内の1本の第2電極に接続されたn型半導体と、
前記第2端部と前記第4端部に接続された第3電極と、
を有し、
前記第3電極上には、温度応答性材料が設けられている、細胞培養装置。 - 請求項7記載の細胞培養装置において、
さらに、
前記第3電極と前記温度応答性材料との間に配置された保護層、を有する、細胞培養装置。 - 請求項8記載の細胞培養装置において、
前記保護層は、金または白金からなる、細胞培養装置。 - 請求項8記載の細胞培養装置において、
さらに、
前記保護層と前記温度応答性材料との間に配置された単分子膜、を有する、細胞培養装置。 - 請求項10記載の細胞培養装置において、
前記単分子膜は、チオール化合物からなる、細胞培養装置。
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JP2013534722A (ja) * | 2010-06-18 | 2013-09-05 | サンディスク スリーディー,エルエルシー | 抵抗スイッチング層と横方向配置を有するメモリセル |
US20160329491A1 (en) * | 2015-05-06 | 2016-11-10 | SK Hynix Inc. | Electronic device and operation method thereof |
JP2018147924A (ja) * | 2017-03-01 | 2018-09-20 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2004534386A (ja) * | 2001-04-09 | 2004-11-11 | リサーチ・トライアングル・インスティチュート | Dnaゲノムチップ、プロテオームチップ、熱光スイッチング回路および赤外線タグ用薄膜熱電加熱冷却装置 |
JP2013534722A (ja) * | 2010-06-18 | 2013-09-05 | サンディスク スリーディー,エルエルシー | 抵抗スイッチング層と横方向配置を有するメモリセル |
US20160329491A1 (en) * | 2015-05-06 | 2016-11-10 | SK Hynix Inc. | Electronic device and operation method thereof |
JP2018147924A (ja) * | 2017-03-01 | 2018-09-20 | 株式会社東芝 | 半導体記憶装置 |
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