JP2020105576A - Substrate holder and plating apparatus - Google Patents

Substrate holder and plating apparatus Download PDF

Info

Publication number
JP2020105576A
JP2020105576A JP2018244845A JP2018244845A JP2020105576A JP 2020105576 A JP2020105576 A JP 2020105576A JP 2018244845 A JP2018244845 A JP 2018244845A JP 2018244845 A JP2018244845 A JP 2018244845A JP 2020105576 A JP2020105576 A JP 2020105576A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
holding member
leaf spring
holder
seal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2018244845A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
松太郎 宮本
Matsutaro Miyamoto
松太郎 宮本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ebara Corp
Original Assignee
Ebara Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ebara Corp filed Critical Ebara Corp
Priority to JP2018244845A priority Critical patent/JP2020105576A/en
Publication of JP2020105576A publication Critical patent/JP2020105576A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Abstract

To provide a substrate holder having a centering member.SOLUTION: The present invention discloses, as one embodiment, a substrate holder comprising a first holding member, a second holding member, and a centering member, in which the centering member comprises an inner plate spring and an outer plate spring, and the substrate holder is configured to center the substrate by the outer plate spring pressing the substrate through the inner plate spring when the substrate is sandwiched between the first holding member and the second holding member.SELECTED DRAWING: Figure 3

Description

本発明は、基板ホルダおよびめっき装置に関する。 The present invention relates to a substrate holder and a plating device.

従来から、基板をめっきするためのめっき装置が知られている。一般的に、基板は基板ホルダによって保持される。特許文献1(特開2004−52059号公報)には基板ホルダと基板の位置合わせ(センタリング)を行うためのセンタリング機構を備える基板ホルダが開示されている。 Conventionally, a plating apparatus for plating a substrate is known. Generally, the substrate is held by the substrate holder. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-52059 discloses a substrate holder including a substrate holder and a centering mechanism for aligning (centering) the substrate.

特開2004−52059号公報JP, 2004-52059, A 特開2004−76022号公報JP, 2004-76022, A

本願は、センタリング機構を備える基板ホルダを提供することを一つの目的とする。 One object of the present application is to provide a substrate holder having a centering mechanism.

本願は、一実施形態として、第1保持部材と、第2保持部材と、センタリング部材と、を備える、基板ホルダであって、センタリング部材は、内側板バネと、外側板バネと、を有し、基板ホルダは基板が第1保持部材と第2保持部材の間に挟み込まれる際に外側板バネが内側板バネを介して基板を押すことにより基板をセンタリングするよう構成されている、基板ホルダを開示する。 The present application is, as one embodiment, a substrate holder including a first holding member, a second holding member, and a centering member, the centering member having an inner leaf spring and an outer leaf spring. The substrate holder is configured to center the substrate by pushing the substrate through the inner leaf spring when the substrate is sandwiched between the first holding member and the second holding member. Disclose.

めっき装置の上面図である。It is a top view of a plating apparatus. めっき装置の側面図である。It is a side view of a plating apparatus. 基板ホルダの斜視図である。It is a perspective view of a substrate holder. 基板ホルダの基板乗せ部の位置における断面図である。It is sectional drawing in the position of the board|substrate mounting part of a board|substrate holder. 外側板バネが取り付けられていない外側ベースの斜視図である。It is a perspective view of the outer base to which the outer leaf spring is not attached. 外側板バネの斜視図である。It is a perspective view of an outer leaf spring. 外側板バネが取り付けられた外側ベースの斜視図である。It is a perspective view of the outer side base to which the outer side leaf spring was attached. 内側板バネが取り付けられた内側ベースの斜視図である。It is a perspective view of the inside base with which the inside leaf spring was attached. 内側板バネが取り付けられていない内側ベースの斜視図である。It is a perspective view of an inside base to which an inside leaf spring is not attached. 内側板バネの斜視図である。It is a perspective view of an inner leaf spring. 第2保持部材が閉じられた場合の基板ホルダの断面図である。It is sectional drawing of a board|substrate holder when a 2nd holding member is closed. 内側板バネが取り付けられた、他の例にかかる内側ベースの斜視図である。FIG. 9 is a perspective view of another example of an inner base to which an inner leaf spring is attached. 両面ホルダの正面図である。It is a front view of a double-sided holder. 図12の両面ホルダの断面図である。It is sectional drawing of the double-sided holder of FIG. 図12のホルダの、センタリング部材の周囲の断面図である。FIG. 13 is a cross-sectional view of the holder of FIG. 12 around the centering member. 図14のフック本体がクローに引っ掛けられた場合の図である。It is a figure when the hook main body of FIG. 14 is hooked on the claw. 基板ベースを説明するための、両面ホルダの断面図である。It is sectional drawing of a double-sided holder for demonstrating a board|substrate base.

<めっき装置について>
図1は一実施形態にかかるめっき装置100の模式図である。図1Aはめっき装置10
0の上面図である。図1Bはめっき装置100の側面図である。一実施形態にかかるめっき装置100は、ロードポート110と、基板搬送ロボット120と、ドライヤ130と、基板着脱装置140と、めっき処理部150と、トランスポータ160と、ストッカ170と、を備える。めっき装置100はさらに、めっき装置100の各部を制御するための制御部180を備えてよい。
<About plating equipment>
FIG. 1 is a schematic diagram of a plating apparatus 100 according to one embodiment. FIG. 1A shows a plating apparatus 10.
It is a top view of 0. FIG. 1B is a side view of the plating apparatus 100. The plating apparatus 100 according to the embodiment includes a load port 110, a substrate transfer robot 120, a dryer 130, a substrate attaching/detaching device 140, a plating processing unit 150, a transporter 160, and a stocker 170. The plating apparatus 100 may further include a control unit 180 for controlling each unit of the plating apparatus 100.

ロードポート110はめっき装置100に基板をロードするため、および、めっき装置100から基板をアンロードするために設けられている。ロードポート110はFOUP等の機構を置くことができるように、または、FOUP等の機構との間で基板を搬送可能であるように構成されていてよい。 The load port 110 is provided for loading the substrate on the plating apparatus 100 and for unloading the substrate from the plating apparatus 100. The load port 110 may be configured so that a mechanism such as a FOUP can be placed on the load port 110 or a substrate can be transferred to and from the mechanism such as a FOUP.

ロードポート110によりロードされた基板は基板搬送ロボット120により搬送される。基板搬送ロボット120は、ロードポート110、ドライヤ130および基板着脱装置140の間で基板を搬送可能に構成されている。ただし、基板搬送ロボット120以外の搬送機構が用いられてもよい。本明細書における「ロードポート110に基板を搬送すること」は「ロードポート110に置かれたFOUP等の機構に基板を搬送すること」を含む。ドライヤ130は基板を乾燥させるための部材である。 The substrate loaded by the load port 110 is transported by the substrate transport robot 120. The substrate transfer robot 120 is configured to transfer a substrate between the load port 110, the dryer 130, and the substrate attaching/detaching device 140. However, a transfer mechanism other than the substrate transfer robot 120 may be used. In this specification, "transporting a substrate to the load port 110" includes "transporting a substrate to a mechanism such as a FOUP placed in the load port 110". The dryer 130 is a member for drying the substrate.

基板着脱装置140は、基板ホルダに基板を取り付けるため、および/または、基板ホルダから基板を取り外すための装置である。基板着脱装置140には基板および基板ホルダの双方が搬入される必要がある。そこで、基板着脱装置140は、基板搬送ロボット120およびトランスポータ160の双方がアクセス可能な位置に位置付けられる。 The substrate attaching/detaching device 140 is a device for attaching the substrate to the substrate holder and/or removing the substrate from the substrate holder. Both the substrate and the substrate holder need to be carried into the substrate attaching/detaching device 140. Therefore, the substrate attaching/detaching device 140 is positioned so that both the substrate transfer robot 120 and the transporter 160 can access it.

めっき処理部150は基板に対してめっき処理(めっき加工)を行うために設けられている。めっき処理部150は1つまたは複数の処理槽を備える。1つまたは複数の処理槽のうち少なくとも1つはめっき槽である。一例として、図1のめっき処理部150は8つの処理槽、すなわち前水洗槽151、前処理槽152、第1のリンス槽153、第1のめっき槽154、第2のリンス槽155、第2のめっき槽156、第3のリンス槽157およびブロー槽158を備える。めっき装置100は、各処理槽にて所定の処理を順番に行うことができる。 The plating processing unit 150 is provided to perform plating processing (plating processing) on the substrate. The plating processing unit 150 includes one or more processing baths. At least one of the one or more processing baths is a plating bath. As an example, the plating treatment unit 150 of FIG. 1 has eight treatment tanks, namely a pre-water washing tank 151, a pre-treatment tank 152, a first rinse tank 153, a first plating tank 154, a second rinse tank 155, and a second rinse tank 155. The plating tank 156, the third rinse tank 157, and the blow tank 158 are provided. The plating apparatus 100 can sequentially perform predetermined processing in each processing tank.

トランスポータ160は基板着脱装置140、めっき処理部150およびストッカ170との間で基板ホルダを搬送するよう構成されている。さらに、トランスポータ160は各処理槽(前水洗槽151〜ブロー槽158)の間で基板ホルダを搬送するように構成されている。トランスポータ160は、基板ホルダを懸架するためのトランスポータアーム161と、トランスポータアーム161を上下動させるためのアーム上下動機構162と、アーム上下動機構162を処理槽の並びに沿って水平移動させるための水平移動機構163と、を備える。水平移動機構163はトランスポータアーム161を水平移動させるための機構と表現されてもよい。トランスポータ160の構成は例示に過ぎないことに留意されたい。 The transporter 160 is configured to convey the substrate holder between the substrate attaching/detaching device 140, the plating processing unit 150, and the stocker 170. Further, the transporter 160 is configured to convey the substrate holder among the processing tanks (pre-water washing tank 151 to blowing tank 158). The transporter 160 horizontally moves the transporter arm 161 for suspending the substrate holder, the arm up-and-down moving mechanism 162 for vertically moving the transporter arm 161, and the arm up-and-down moving mechanism 162 along the line of the processing tank. And a horizontal movement mechanism 163 for. The horizontal movement mechanism 163 may be expressed as a mechanism for horizontally moving the transporter arm 161. It should be noted that the configuration of transporter 160 is exemplary only.

ストッカ170は基板ホルダを少なくとも1枚、好ましくは複数枚保管可能に構成されている。好ましくは、基板を保持していない基板ホルダがストッカ170に保管される。一方で、基板を保持している基板ホルダがストッカ170に保管されてもよい。ストッカ170への基板ホルダの搬入およびストッカ170からの基板ホルダの搬出はトランスポータ160によって行われてよい。 The stocker 170 is configured to store at least one substrate holder, preferably a plurality of substrate holders. Preferably, the substrate holder that does not hold the substrate is stored in the stocker 170. On the other hand, the substrate holder holding the substrate may be stored in the stocker 170. The transporter 160 may carry the substrate holder in and out of the stocker 170.

<基板ホルダの概観について>
図2は一実施形態にかかる基板ホルダ200の斜視図である。基板ホルダ200は、おおよそ平板状の第1保持部材210と、第2保持部材220と、を有している。図2の基
板ホルダ200は円形の基板を保持するためのホルダである。しかし、基板の形状は円形に限らず、たとえば矩形であってもよい。円形以外の基板が用いられる場合、基板ホルダ200の部材の形状は適宜変更されてよい。
<About the board holder>
FIG. 2 is a perspective view of the substrate holder 200 according to the embodiment. The substrate holder 200 has a substantially plate-shaped first holding member 210 and a second holding member 220. The substrate holder 200 shown in FIG. 2 is a holder for holding a circular substrate. However, the shape of the substrate is not limited to the circular shape, and may be, for example, a rectangular shape. If a substrate other than a circular substrate is used, the shape of the member of the substrate holder 200 may be changed as appropriate.

<第1保持部材について>
第1保持部材210の略中央部には、基板を乗せるための基板乗せ部212が設けられている。基板乗せ部212は面状である。ここにいう「基板乗せ部212が面状であること」とは、平らな基板と基板乗せ部が事実上面接触することを意味する。したがって、基板乗せ部212はたとえば円環状または角環状であってもよい。他の例として、基板乗せ部212に凹部、たとえば穴が存在してもよい。基板乗せ部212の外周には複数のクランパ213が設けられている。クランパ213は基板乗せ部212の周囲に沿っておよそ等間隔に並べられている。クランパ213は内方に突出する逆L字状である。
<About the first holding member>
A substrate mounting portion 212 for mounting a substrate is provided at a substantially central portion of the first holding member 210. The board mounting portion 212 is planar. The phrase “the substrate mounting portion 212 is planar” as used herein means that the flat substrate and the substrate mounting portion are in fact in contact with each other on the upper surface. Therefore, the substrate mounting portion 212 may be, for example, an annular shape or a square annular shape. As another example, a recess, such as a hole, may be present in the substrate mounting portion 212. A plurality of clampers 213 are provided on the outer periphery of the board mounting portion 212. The clampers 213 are arranged along the circumference of the board mounting portion 212 at approximately equal intervals. The clamper 213 has an inverted L shape protruding inward.

第1保持部材210の端部には一対のハンド214が設けられている。ハンド214はたとえばトランスポータアーム161に引っ掛けられる。ハンド214はたとえば前水洗槽151〜ブロー槽158の各槽およびストッカ170の一部、一つの例では槽の側壁、他の例ではハンド受け(図示せず)、などにも引っ掛けられ得る。 A pair of hands 214 is provided at the end of the first holding member 210. The hand 214 is hooked on the transporter arm 161, for example. The hand 214 may be hooked on, for example, each tank of the pre-water washing tank 151 to the blow tank 158 and a part of the stocker 170, a tank side wall in one example, a hand receiver (not shown) in another example, and the like.

ハンド214は電極(図示せず)を備えてよい。ハンド214の電極は、後述する接点310および中継接点311などを介して基板と電気的に接続される。めっき加工に必要な電流は、基板ホルダ200の外部から(たとえばめっき装置100から)供給される。 The hand 214 may include electrodes (not shown). The electrode of the hand 214 is electrically connected to the substrate via a contact 310, a relay contact 311 and the like which will be described later. The current required for the plating process is supplied from the outside of the substrate holder 200 (for example, from the plating apparatus 100).

<第2保持部材について>
第2保持部材220は、基板乗せ部212と第2保持部材220との間に基板を挟み込むための部材である。図2の第2保持部材220は第1保持部材210に開閉可能に取付けられている。具体的には、図2の第2保持部材220は、ヒンジ211を中心に枢動するよう構成されている。これに代え、第1保持部材210に対して単に取り付けられることおよび第1保持部材210から単に取り外されることが可能な第2保持部材220を用いることもできる。ヒンジ211などの有無に関わらず、本明細書における「第2保持部材220を閉じること」は、「第2保持部材220を第1保持部材210に向かって移動させて、第2保持部材220と基板乗せ部212との間に基板WFを挟み込むこと」または「基板WFを挟み込もうとする動作」であると理解されたい。同様に、本明細書における「第2保持部材220を開くこと」は、「第2保持部材220を第1保持部材210から離れるように移動させて、基板WFの保持を解除すること」または「基板WFの保持を解除しようとする動作」であると理解されたい。
<About the second holding member>
The second holding member 220 is a member for sandwiching the substrate between the substrate mounting portion 212 and the second holding member 220. The second holding member 220 of FIG. 2 is attached to the first holding member 210 so as to be openable and closable. Specifically, the second holding member 220 of FIG. 2 is configured to pivot about the hinge 211. Alternatively, a second holding member 220 that can be simply attached to and removed from the first holding member 210 can be used. Regardless of the presence or absence of the hinge 211 or the like, “closing the second holding member 220 ”in the present specification means “moving the second holding member 220 toward the first holding member 210 to cause the second holding member 220 to move”. It should be understood that it is “sandwiching the substrate WF with the substrate rest part 212” or “an operation of sandwiching the substrate WF”. Similarly, "opening the second holding member 220" in the present specification means "moving the second holding member 220 away from the first holding member 210 to release the holding of the substrate WF" or ". The operation of trying to release the holding of the substrate WF”.

第2保持部材220は、基板の被めっき面を露出するための開口部220OPを有している。図2の第2保持部材220は全体としておおよそ円環状の部材である。第2保持部材220は、ヒンジ211に固定された基部221と、基部221に固定されたリング状のシールホルダ222とを備えている。シールホルダ222は給電経路(後述する接点310、中継接点311など)をシールするためのシール部材(図3参照)を備える。シールホルダ222は、シールホルダ222を第1保持部材210に固定するための押さえリング223を備える。押さえリング223は、その外周部において外方に突出する複数の突条部223aを有している。突条部223aの位置及び個数はクランパ213の位置及び個数に応じて決定されてよい。突条部223aがクランパ213に引っ掛けられることで、第2保持部材220が開くことが制限される。 The second holding member 220 has an opening 220OP for exposing the plated surface of the substrate. The second holding member 220 shown in FIG. 2 is a generally annular member as a whole. The second holding member 220 includes a base 221 fixed to the hinge 211 and a ring-shaped seal holder 222 fixed to the base 221. The seal holder 222 includes a seal member (see FIG. 3) for sealing a power feeding path (contact 310, relay contact 311 described later, etc.). The seal holder 222 includes a pressing ring 223 for fixing the seal holder 222 to the first holding member 210. The pressing ring 223 has a plurality of ridges 223a protruding outward on its outer peripheral portion. The position and the number of the protrusions 223a may be determined according to the position and the number of the clampers 213. The protruding portion 223a is hooked on the clamper 213, so that the opening of the second holding member 220 is restricted.

<基板の取り付けおよび取り外しについて>
基板が基板ホルダ200に取り付けられる場合は、まず、第1保持部材210の基板乗せ部212に基板が乗せられる。次に、第2保持部材220が閉じられる。これにより、
基板乗せ部212と第2保持部材220との間に基板が挟み込まれる。第2保持部材220を閉じることは基板着脱装置140によって実行されてよく、他の装置またはユーザによって実行されてもよい。第2保持部材220を閉じる際には、突条部223aはクランパ213と衝突しないように位置付けられている。シール部材(図3参照)に十分なシール圧が印加されるよう、第2保持部材220は適切な強さで基板乗せ部212に向かって押し付けられる。
<Installation and removal of the board>
When the substrate is attached to the substrate holder 200, first, the substrate is placed on the substrate placing portion 212 of the first holding member 210. Then, the second holding member 220 is closed. This allows
The substrate is sandwiched between the substrate mounting portion 212 and the second holding member 220. Closing the second holding member 220 may be performed by the substrate attaching/detaching device 140, and may be performed by another device or a user. When the second holding member 220 is closed, the ridge portion 223a is positioned so as not to collide with the clamper 213. The second holding member 220 is pressed toward the substrate mounting portion 212 with appropriate strength so that a sufficient sealing pressure is applied to the sealing member (see FIG. 3).

続いて、突条部223aがクランパ213に引っ掛けられるように押さえリング223が回転させられる。これにより、第2保持部材220が開くことが制限される。基板ホルダ200に保持された基板の一方の面は開口部220OPを介して外部に露出される。めっき装置100によるめっき加工は、基板の外部に露出した面になされる。 Subsequently, the pressing ring 223 is rotated so that the protruding portion 223a is hooked on the clamper 213. This limits the opening of the second holding member 220. One surface of the substrate held by the substrate holder 200 is exposed to the outside through the opening 220OP. The plating process by the plating apparatus 100 is performed on the surface exposed to the outside of the substrate.

基板を基板ホルダ200から取り外す場合は、突条部223aがクランパ213から外れるように押さえリング223が回転させられる。その後、第2保持部材220が開けられる。 When the substrate is removed from the substrate holder 200, the pressing ring 223 is rotated so that the protruding portion 223a comes off the clamper 213. Then, the second holding member 220 is opened.

<基板ホルダの断面について>
図3は基板ホルダ200の基板乗せ部212の位置における断面図である。図3には基板WFが想像線で示されている。図3では、第2保持部材220は完全に閉じられてはいない。図3は断面図であるが、各部品へのハッチングは省略されている。
<Cross section of substrate holder>
FIG. 3 is a sectional view of the substrate holder 200 at the position of the substrate mounting portion 212. The substrate WF is shown in phantom in FIG. In FIG. 3, the second holding member 220 is not completely closed. Although FIG. 3 is a cross-sectional view, hatching to each component is omitted.

図3に示されるように、第1保持部材210は可動ベース330を有してよい。可動ベース330が設けられている場合、基板乗せ部212は可動ベース330に形成される。可動ベース330は基板乗せ部212の位置する平面と垂直な方向、すなわち基板WFの被めっき面に垂直な方向に移動可能である。可動ベース330は図示しないスプリングなどによって保持されている。スプリングは可動ベース330を弾性的に保持する。スプリングの弾性力により、基板シール300およびホルダシール301(それぞれ後述)への十分なシール圧の印加が容易になる。可動ベース330が第1保持部材210に弾性的に取り付けられていることによって、基板WFの様々な厚さの基板WFに対して十分なシール圧の印加が可能になる。 As shown in FIG. 3, the first holding member 210 may have a movable base 330. When the movable base 330 is provided, the substrate mounting portion 212 is formed on the movable base 330. The movable base 330 is movable in a direction perpendicular to the plane on which the substrate mounting portion 212 is located, that is, in a direction perpendicular to the surface to be plated of the substrate WF. The movable base 330 is held by a spring or the like (not shown). The spring elastically holds the movable base 330. The elastic force of the spring facilitates application of sufficient sealing pressure to the substrate seal 300 and the holder seal 301 (each of which will be described later). Since the movable base 330 is elastically attached to the first holding member 210, sufficient sealing pressure can be applied to the substrates WF having various thicknesses.

<シールホルダについて>
シールホルダ222は基板シール300およびホルダシール301を備える。基板シール300は第2保持部材220が閉じられた場合に基板WFと接触する。より具体的には、基板シール300は基板WFの被めっき面の縁部に接触する。基板シール300は基板WFとシールホルダ222との間の隙間をシールする。ホルダシール301は第2保持部材220が閉じられた場合に第1保持部材210と接触する。ホルダシール301は第1保持部材210とシールホルダ222との間の隙間をシールする。図3の例では、シールホルダ222は、基板シール300およびホルダシール301を固定するためのインナリング340を有する。ただし、インナリング340以外の部材または手法によって基板シール300およびホルダシール301が固定されてもよい。
<About the seal holder>
The seal holder 222 includes a substrate seal 300 and a holder seal 301. The substrate seal 300 contacts the substrate WF when the second holding member 220 is closed. More specifically, the substrate seal 300 makes contact with the edge of the plated surface of the substrate WF. The substrate seal 300 seals the gap between the substrate WF and the seal holder 222. The holder seal 301 contacts the first holding member 210 when the second holding member 220 is closed. The holder seal 301 seals the gap between the first holding member 210 and the seal holder 222. In the example of FIG. 3, the seal holder 222 has an inner ring 340 for fixing the substrate seal 300 and the holder seal 301. However, the substrate seal 300 and the holder seal 301 may be fixed by a member or method other than the inner ring 340.

シールホルダ222はさらに接点310を備える。接点310はシールされる領域(シールされるべき領域)内に位置付けられている。接点310の一端は第2保持部材220が閉じられた場合に基板WFの被めっき面に電気的に接触する。接点310の他端は第2保持部材220が閉じられた場合に中継接点311に接触する。中継接点311は第1保持部材210に設けられた接点である。中継接点311は前述のハンド214の電極と電気的に接続されている。したがって、電流は基板ホルダ200の外部から中継接点311および接点310を介して基板WFに供給される。接点310はステンレス材などからなる板ばねであることが好ましい。弾性を有する接点310は電気的な接触を確実にする。
また、弾性を有する接点310は、多様な厚みを有する基板WFを受け入れることを可能にする。図3では、第2保持部材220が開かれている場合の接点310の形状が実線で(符号「310a」)示されている。第2保持部材220が閉じられた状態の接点310の形状が想像線で(符号「310」)示されている。
The seal holder 222 further comprises contacts 310. The contacts 310 are located within the area to be sealed (the area to be sealed). One end of the contact 310 electrically contacts the plated surface of the substrate WF when the second holding member 220 is closed. The other end of the contact 310 comes into contact with the relay contact 311 when the second holding member 220 is closed. The relay contact 311 is a contact provided on the first holding member 210. The relay contact 311 is electrically connected to the electrode of the hand 214 described above. Therefore, the current is supplied to the substrate WF from the outside of the substrate holder 200 via the relay contact 311 and the contact 310. The contact point 310 is preferably a leaf spring made of stainless steel or the like. Elastic contacts 310 ensure electrical contact.
In addition, the elastic contacts 310 allow the substrates WF having various thicknesses to be received. In FIG. 3, the shape of the contact point 310 when the second holding member 220 is opened is shown by a solid line (reference numeral “310a”). The shape of the contact point 310 in the state where the second holding member 220 is closed is shown by an imaginary line (reference numeral “310”).

<センタリング部材について>
基板WFと基板シール300との位置関係、基板WFと接点310との位置関係または基板WFとめっき槽との位置関係にずれがあると、めっき装置100の性能に影響を及ぼす可能性がある。したがって、基板WFは基板ホルダ200に対して位置決め(センタリング)されることが好ましい。一実施例にかかる基板ホルダ200は、基板WFをセンタリングするためのセンタリング部材320を有する。図3には1つのセンタリング部材320のみが示されているが、センタリング部材320は基板WFの外周に沿って少なくとも2つ、好ましくは3つ以上設けられている。基板ホルダ200が複数のセンタリング部材320を有する場合、センタリング部材320のそれぞれは等間隔で(等角度で)配列されていることが好ましい。ただし、不等間隔(不等角度)でセンタリング部材320を配列することは排除されない。センタリング部材320の少なくとも一部、好ましくは全部はシールされた領域の内部に配置されている。センタリング部材320は、外側板バネ321と、内側板バネ322と、を有する。外側板バネ321および内側板バネ322は、基板載せ部212に向かう方向/から離れる方向に弾性的に変形可能である。換言すれば、外側板バネ321および内側板バネ322は、基板WFのエッジ部分に近づく/から離れる方向に変形可能である。
<About centering members>
If the positional relationship between the substrate WF and the substrate seal 300, the positional relationship between the substrate WF and the contact point 310, or the positional relationship between the substrate WF and the plating bath is misaligned, the performance of the plating apparatus 100 may be affected. Therefore, the substrate WF is preferably positioned (centered) with respect to the substrate holder 200. The substrate holder 200 according to the embodiment has a centering member 320 for centering the substrate WF. Although only one centering member 320 is shown in FIG. 3, at least two, preferably three or more, centering members 320 are provided along the outer periphery of the substrate WF. When the substrate holder 200 has a plurality of centering members 320, it is preferable that the centering members 320 are arranged at equal intervals (equal angles). However, arranging the centering members 320 at unequal intervals (unequal angles) is not excluded. At least a portion, and preferably all of the centering member 320 is located within the sealed area. The centering member 320 has an outer leaf spring 321 and an inner leaf spring 322. The outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 are elastically deformable in a direction toward/away from the substrate mounting portion 212. In other words, the outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 can be deformed in a direction toward/away from the edge portion of the substrate WF.

図3および図10(後述)は断面図であるので、図3および図10を一見すると接点310と外側板バネ321および内側板バネ322とが接触、干渉し得るようにも思える。しかし、実際には、接点310と外側板バネ321、内側板バネ322は、基板周上のずれた角度位置に設置されることが望ましい。 Since FIG. 3 and FIG. 10 (described later) are cross-sectional views, it may seem that the contact point 310 may come into contact with and interfere with the outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 at first glance. However, in practice, it is desirable that the contact 310, the outer leaf spring 321, and the inner leaf spring 322 are installed at angular positions deviated on the circumference of the substrate.

<外側板バネについて>
外側板バネ321は外側ベース323を介して第2保持部材220に固定されている。図3の例では、外側板バネ321は外側ベース323に取り付けられている。外側ベース323はインナリング340に取り付けられている。そして、インナリング340は第2保持部材220の一部であるシールホルダ222に取り付けられている。ただし、外側ベース323はインナリング340ではなくシールホルダ222または第2保持部材220の他の部品に直接取り付けられていてもよい。外側ベース323はインナリング340、シールホルダ222および第2保持部材220のいずれかの一部であってもよい。外側板バネ321は、インナリング340、シールホルダ222および第2保持部材220のいずれか1つに取り付けられていても良い。
<About outer leaf springs>
The outer leaf spring 321 is fixed to the second holding member 220 via the outer base 323. In the example of FIG. 3, the outer leaf spring 321 is attached to the outer base 323. The outer base 323 is attached to the inner ring 340. The inner ring 340 is attached to the seal holder 222 which is a part of the second holding member 220. However, the outer base 323 may be directly attached to the seal holder 222 or another component of the second holding member 220 instead of the inner ring 340. The outer base 323 may be a part of any one of the inner ring 340, the seal holder 222, and the second holding member 220. The outer leaf spring 321 may be attached to any one of the inner ring 340, the seal holder 222, and the second holding member 220.

図4は外側板バネ321が取りつけられていない外側ベース323の斜視図である。図5は外側板バネ321の斜視図である。図6は外側板バネ321が取り付けられた外側ベース323の斜視図である。外側ベース323は、第1の面400と、第2の面401と、を有する。第1の面400は、第2保持部材220が閉じられている最中に、外側板バネ321を介して内側板バネ322を基板乗せ部212に向かって押すよう傾斜している。端的に言えば、第1の面400は、基板WFのエッジ部分に対向し得る面であって、図3の上部に向かうほど基板WFの中央に近づくよう傾斜している。ただし、第2保持部材220が閉じられる動作の初期において、外側板バネ321ではなく外側ベース323、インナリング340または第2保持部材220の一部が内側板バネ322を押すよう基板ホルダ200が構成されていてもよい。外側ベース323は、第1の面400が内側板バネ322を押すことが可能になるように位置付けられる。たとえば図3では、内側板バネ322の先端が第1の面400の下部に位置するように外側ベース323がインナリング
340に取り付けられている。
FIG. 4 is a perspective view of the outer base 323 to which the outer leaf spring 321 is not attached. FIG. 5 is a perspective view of the outer leaf spring 321. FIG. 6 is a perspective view of the outer base 323 to which the outer leaf spring 321 is attached. The outer base 323 has a first surface 400 and a second surface 401. The first surface 400 is inclined so as to push the inner leaf spring 322 through the outer leaf spring 321 toward the substrate mounting portion 212 while the second holding member 220 is closed. In short, the first surface 400 is a surface that can face the edge portion of the substrate WF, and is inclined so as to approach the center of the substrate WF toward the upper portion of FIG. However, in the initial stage of the operation of closing the second holding member 220, the substrate holder 200 is configured such that the outer base 323, the inner ring 340, or a part of the second holding member 220 pushes the inner leaf spring 322 instead of the outer leaf spring 321. It may have been done. The outer base 323 is positioned to allow the first surface 400 to push the inner leaf spring 322. For example, in FIG. 3, the outer base 323 is attached to the inner ring 340 so that the tip of the inner leaf spring 322 is located below the first surface 400.

第2の面401は第1の面400と連続した面であって、第1の面400より第1保持部材210から離れて位置付けられている。端的に言えば、第2の面401は第1の面400より「上部に」位置する面である。ただし、ここにいう「上」とは図3を基準にした方向であり、鉛直上方向と一致するとは限らない。第2の面401は、第2保持部材220が完全に閉じられた場合かつ基板WFが基板乗せ部212に乗せられている場合に基板WFのエッジ部分に対向する。ただし、本明細書において「AはBに対向する」と説明された場合、AとBの間に他の部品または部分が存在してもよい。第2の面401は基板乗せ部212の位置する平面と垂直に延びている。代替として、第2の面401は基板載せ部212の位置する平面に対して傾斜していてもよい。第2の面401は、図3の上部に向かうほど基板WFの中央から離れるよう傾斜していてもよい。好ましくは、第1の面400同様に、第2の面401もまた図3の上部に向かうほど基板WFの中央に近づくよう傾斜している。最も好ましくは、第2の面401の傾斜角は0度またはほぼ0度である(ただし、第2の面401が基板乗せ部212の位置する平面と垂直に延びている場合の傾斜角を0度とする)。第2の面401の傾斜角の範囲は、第2保持部材220が閉じられた場合(後述の図10参照)に基板ホルダ200が基板WFを保持することが可能であるように定められる。各種部品の材質、大きさ、剛性、摩擦係数、位置関係など種々の要因にもよるが、一つの例では第2の面401の傾斜角は0度以上であり、第1の面400の傾斜角より小さい。さらなる他の例では、第2の面401の傾斜角は0度以上5度以下の範囲である。 The second surface 401 is a surface continuous with the first surface 400, and is positioned farther from the first holding member 210 than the first surface 400. In short, the second surface 401 is the surface that is “above” the first surface 400. However, the "upper" referred to here is a direction based on FIG. 3, and does not always coincide with the vertically upward direction. The second surface 401 faces the edge portion of the substrate WF when the second holding member 220 is completely closed and when the substrate WF is placed on the substrate placing portion 212. However, when it is described in the present specification that “A faces B”, other parts or portions may exist between A and B. The second surface 401 extends perpendicularly to the plane on which the substrate mounting portion 212 is located. Alternatively, the second surface 401 may be inclined with respect to the plane where the substrate mounting portion 212 is located. The second surface 401 may be inclined so as to move away from the center of the substrate WF toward the upper portion of FIG. Preferably, like the first surface 400, the second surface 401 is also inclined so as to approach the center of the substrate WF toward the upper portion of FIG. Most preferably, the inclination angle of the second surface 401 is 0 degree or substantially 0 degrees (provided that the inclination angle when the second surface 401 extends perpendicularly to the plane on which the substrate mounting portion 212 is located is 0 degrees). Degree). The range of the inclination angle of the second surface 401 is determined so that the substrate holder 200 can hold the substrate WF when the second holding member 220 is closed (see FIG. 10 described later). Although it depends on various factors such as material, size, rigidity, friction coefficient, and positional relationship of various parts, in one example, the inclination angle of the second surface 401 is 0 degree or more, and the inclination of the first surface 400 is Smaller than a corner. In still another example, the inclination angle of the second surface 401 is in the range of 0 degree or more and 5 degrees or less.

外側板バネ321は第1の面400に沿って外側ベース323に取り付けられている。外側板バネ321の一端は第1の面400を超えて延びており、外側板バネ321と第2の面401との間には空隙が形成されている。したがって、外側板バネ321の一部は、基板WFの端面と第2の面401との間で弾性的に変形可能である。 The outer leaf spring 321 is attached to the outer base 323 along the first surface 400. One end of the outer leaf spring 321 extends beyond the first surface 400, and a gap is formed between the outer leaf spring 321 and the second surface 401. Therefore, a part of the outer leaf spring 321 can be elastically deformed between the end surface of the substrate WF and the second surface 401.

外側板バネ321の先端は、第2保持部材220が開かれた状態では、基板乗せ部212の位置する平面と垂直な面に対して傾斜した角度を有している。また、外側板バネ321の先端は、基板乗せ部212に載置される基板のエッジ部分が位置するであろう位置(想定位置)よりも基板の中心側に突出している。 The tip of the outer leaf spring 321 has an angle inclined with respect to a plane perpendicular to the plane on which the substrate mounting portion 212 is located when the second holding member 220 is opened. Further, the tip of the outer leaf spring 321 projects toward the center side of the substrate from a position (assumed position) where the edge portion of the substrate placed on the substrate mounting portion 212 will be located.

たとえば図3において所定の径の基板WFが所定の位置より右側にあった場合に、第2保持部材220が閉じられると、外側板バネ321と基板WFのエッジ部分が接触する。ここにいう「外側板バネ321と基板WFとの接触」は、内側板バネ322を介した間接的な接触である。そして、第1の面400が外側板バネ321および内側板バネ322を介して基板WFを(この例では左側に)押す。このことは「外側板バネ321が内側板バネ322を介して基板WFを押す」と表現されてもよい。 For example, in FIG. 3, when the second holding member 220 is closed when the substrate WF having a predetermined diameter is on the right side of the predetermined position, the outer leaf spring 321 and the edge portion of the substrate WF come into contact with each other. The “contact between the outer leaf spring 321 and the substrate WF” mentioned here is an indirect contact through the inner leaf spring 322. Then, the first surface 400 pushes the substrate WF (to the left in this example) via the outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322. This may be expressed as “the outer leaf spring 321 pushes the substrate WF via the inner leaf spring 322”.

第2保持部材220が完全にまたはほぼ完全に閉じられると、外側板バネ321および内側板バネ322を介して、第2の面401が基板WFを押す。これにより、四者(基板WF(のエッジ部分)、内側板バネ322、外側板バネ321および外側ベース323(の第2の面401))の間にある隙間が実質的に無くなるまたは極小化されることが望ましい。外側板バネ321の端部付近は第2の面401に向かって弾性変形しようとする。一方で、基板WFは外側板バネ321から図3の左側に向かって力を受ける。弾性のある部材を用いることで、基板WFの径に誤差があった場合または基板WFが反っている場合(基板の反りについては後述)であっても基板WFをセンタリングすることが容易になる。また、弾性体と基板WFとの接触はソフトな接触になるので、センタリング部材320が基板WFへ与え得るダメージは小さくなり得る。 When the second holding member 220 is completely or almost completely closed, the second surface 401 pushes the substrate WF through the outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322. As a result, the gap between the four members (the substrate WF (the edge portion thereof), the inner leaf spring 322, the outer leaf spring 321 and the outer base 323 (the second surface 401 thereof)) is substantially eliminated or minimized. Is desirable. The vicinity of the end of the outer leaf spring 321 tends to elastically deform toward the second surface 401. On the other hand, the substrate WF receives a force from the outer leaf spring 321 toward the left side in FIG. By using the elastic member, it becomes easy to center the substrate WF even when there is an error in the diameter of the substrate WF or when the substrate WF is warped (the warpage of the substrate will be described later). Further, since the elastic body and the substrate WF are in soft contact, the damage that the centering member 320 can give to the substrate WF can be reduced.

なお、図3において基板WFが所定の位置より左側にあった場合は、図3のセンタリング部材320とは反対側に位置する別のセンタリング部材320(図示せず)が基板WFを押す。 When the substrate WF is on the left side of the predetermined position in FIG. 3, another centering member 320 (not shown) located on the opposite side of the centering member 320 of FIG. 3 pushes the substrate WF.

何らかの物体を弾性保持する場合または何らかの物体を弾性体によって押す場合、弾性体の変形量が多ければ多いほど、物体を保持する位置または物体の移動量の誤差が大きくなると考えられる。本実施形態にかかるセンタリング部材320では、外側板バネ321は途中まで第1の面400によって支えられている。そして、外側板バネ321の変形量の最大値は第2の面401によって制限される。したがって、本実施形態における外側板バネ321の変形量は一定の範囲に制限されている。よって、本実施形態にかかるセンタリング部材320は基板WFを精度良くセンタリングすることができる。 When an object is held elastically or when an object is pushed by an elastic body, the larger the amount of deformation of the elastic body, the larger the error in the position of holding the object or the amount of movement of the object. In the centering member 320 according to this embodiment, the outer leaf spring 321 is partially supported by the first surface 400. The maximum deformation amount of the outer leaf spring 321 is limited by the second surface 401. Therefore, the deformation amount of the outer leaf spring 321 in the present embodiment is limited to a certain range. Therefore, the centering member 320 according to the present embodiment can accurately center the substrate WF.

基板WFと第2の面401との間の距離が短ければ短いほど外側板バネ321の変形量は制限されると考えられる。たとえば、第2保持部材220が完全にまたはほぼ完全に閉じられた状態においては、基板WF(のエッジ部分)と外側ベース323(の第2の面401)との間に内側板バネ322と外側板バネ321が挟まれていてよい。この場合において、四者(基板WF(のエッジ部分)、内側板バネ322、外側板バネ321および外側ベース323(の第2の面401))の間の隙間はほとんどないことが望ましい。一つの実施形態では、第2保持部材220が完全にまたはほぼ完全に閉じられた状態における、基板WFと第2の面401との間の距離は1mm以下であってよい。ただし、ここにいう「距離」とは、まったく誤差のない基板ホルダ200に所定の径の基板がまったく誤差なく置かれた場合の距離、すなわち設計上の距離(estimatedまたはdesigned length)を指す。なお、外側板バネ321および内側板バネ322の厚みは、たとえばそれぞれ0.05mm以上0.5mm以下である。 It is considered that the shorter the distance between the substrate WF and the second surface 401 is, the more the deformation amount of the outer leaf spring 321 is limited. For example, in the state where the second holding member 220 is completely or almost completely closed, the inner leaf spring 322 and the outer side are provided between the substrate WF (the edge portion thereof) and the outer base 323 (the second surface 401 thereof). The leaf spring 321 may be sandwiched. In this case, it is desirable that there is almost no gap between the four members (the substrate WF (the edge portion thereof), the inner leaf spring 322, the outer leaf spring 321 and the outer base 323 (the second surface 401 thereof)). In one embodiment, the distance between the substrate WF and the second surface 401 when the second holding member 220 is completely or almost completely closed may be 1 mm or less. However, the “distance” mentioned here means a distance when a substrate having a predetermined diameter is placed on the substrate holder 200 having no error, that is, a designed distance (estimated or designed length). The thickness of each of the outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 is, for example, 0.05 mm or more and 0.5 mm or less.

一方で、基板WFの径が所定の径より大きい場合、基板WFのエッジ部分が第1の面400または第2の面401と干渉し得る。そこで、さらなる弾性を得るために、外側ベース323は、外側ベース323が基板乗せ部212に近づく/端面から離れる方向に弾性変形することを可能にするスリット324を有してもよい。スリット324の具体的な形状、位置などは適宜決定されてよい。外側ベース323自体が変形することで、大径の基板WFを保持することが容易になる。 On the other hand, when the diameter of the substrate WF is larger than the predetermined diameter, the edge portion of the substrate WF may interfere with the first surface 400 or the second surface 401. Therefore, in order to obtain further elasticity, the outer base 323 may have a slit 324 that allows the outer base 323 to elastically deform in a direction toward/away from the substrate mounting portion 212. The specific shape, position, etc. of the slit 324 may be appropriately determined. The deformation of the outer base 323 itself facilitates holding the large-diameter substrate WF.

<内側板バネについて>
内側板バネ322は可動ベース330に固定されている。具体的には、内側板バネ322は内側ベース325に取り付けられている。内側ベース325は可動ベース330の外縁部に取り付けられている。内側板バネ322は、図3の下部から上方に向かって延びている。図7は内側板バネ322が取り付けられた内側ベース325の一つの例の斜視図である。図8は図7の内側ベース325単独の斜視図である。図9は図7の内側板バネ322単独の斜視図である。
<About inner leaf springs>
The inner leaf spring 322 is fixed to the movable base 330. Specifically, the inner leaf spring 322 is attached to the inner base 325. The inner base 325 is attached to the outer edge of the movable base 330. The inner leaf spring 322 extends upward from the lower portion of FIG. FIG. 7 is a perspective view of an example of the inner base 325 to which the inner leaf spring 322 is attached. FIG. 8 is a perspective view of the inner base 325 of FIG. 7 alone. FIG. 9 is a perspective view of the inner leaf spring 322 of FIG. 7 alone.

内側ベース325は側壁700を有してよい。側壁700は、第2保持部材220が閉められた場合に外側ベース323の一部を受けて、外側ベース323を位置決めするように構成される。外側ベース323はシールホルダ222の一部である。シールホルダ222は第2保持部材220の一部である。したがって、外側ベース323を位置決めすることは、シールホルダ222および第2保持部材220を位置決めすることであるといえる。側壁700は、外側ベース323に代えてシールホルダ222または第2保持部材220を直接受けるように構成されていてもよい。図7および図8では側壁700は内側板バネ322の近傍に設けられている。しかし、外側ベース323、シールホルダ222および/または第2保持部材220の位置決めに資する限り、側壁700の位置に限定はない。同様に、側壁700の形状に限定はなく、壁状以外の形状の部材(部分)が用いられて
もよい。
Inner base 325 may have sidewall 700. The sidewall 700 is configured to receive a portion of the outer base 323 and position the outer base 323 when the second holding member 220 is closed. The outer base 323 is a part of the seal holder 222. The seal holder 222 is a part of the second holding member 220. Therefore, it can be said that positioning the outer base 323 is positioning the seal holder 222 and the second holding member 220. The side wall 700 may be configured to directly receive the seal holder 222 or the second holding member 220 instead of the outer base 323. In FIGS. 7 and 8, the side wall 700 is provided near the inner leaf spring 322. However, the position of the side wall 700 is not limited as long as it contributes to the positioning of the outer base 323, the seal holder 222 and/or the second holding member 220. Similarly, the shape of the side wall 700 is not limited, and a member (portion) having a shape other than the wall shape may be used.

内側板バネ322は、所定の径の基板WFのエッジ部分が位置すべき位置より外側において基板乗せ部212の位置する平面を超えて突出する。第2保持部材220が閉じられると、内側板バネ322は第1の面400により基板乗せ部212に近づく方向に押される。「内側板バネ322は外側板バネ321により押される」と表現されてもよい。好ましい実施形態では、可動ベース330が移動した場合であっても、内側板バネ322と基板WFの上下方向の位置関係は変化しない。したがって、好ましい実施形態では、第2保持部材220が開け閉めされる際の基板WFとセンタリング部材320との擦れあいが防止される。 The inner leaf spring 322 protrudes beyond the plane where the substrate mounting portion 212 is located outside the position where the edge portion of the substrate WF having a predetermined diameter should be located. When the second holding member 220 is closed, the inner leaf spring 322 is pushed by the first surface 400 in the direction toward the board mounting portion 212. It may be expressed as “the inner leaf spring 322 is pushed by the outer leaf spring 321”. In the preferred embodiment, the vertical positional relationship between the inner leaf spring 322 and the substrate WF does not change even when the movable base 330 moves. Therefore, in the preferred embodiment, rubbing between the substrate WF and the centering member 320 when the second holding member 220 is opened and closed is prevented.

内側板バネ322が基板乗せ部212の位置する平面を超えて突出していることによって、基板WFの位置が制限される。したがって、内側板バネ322は基板乗せ部212に基板WFを乗せるためのガイドとしても働き得る。 The position of the substrate WF is limited by the inner leaf spring 322 projecting beyond the plane where the substrate placing portion 212 is located. Therefore, the inner leaf spring 322 can also serve as a guide for placing the substrate WF on the substrate placing portion 212.

基板シール300は基板WFに押し付けられた状態でめっき液に浸漬される。したがって、基板シール300は基板WFにくっつく(スティッキングする)可能性がある。内側板バネ322が存在しない場合、外側板バネ321は基板WFの端面を弾性保持したまま第2保持部材220とともに上下動し得る。したがって、内側板バネ322が存在しない場合、第2保持部材220とともに基板WFも持ち上げられてしまう可能性がある。ただし、ここにいう「上下」とは図3を基準にした方向であって、鉛直上下方向と一致しているとは限らない。一実施形態にかかるセンタリング部材320では、内側板バネ322は可動ベース330に固定されており、内側板バネ322と基板WFの上下方向の位置関係は変化しない。また、第2保持部材220が開け閉めされる際、内側板バネ322が外側板バネ321によって基板乗せ部212に向かって押される。これにより、内側板バネ322の上部先端が基板WFの中心部に向かって変形する。結果として、内側板バネ322が基板WF(のエッジ部)を一時的に保持し得る。したがって、一実施形態にかかるセンタリング部材320は、第2保持部材220とともに基板WFが持ち上げられてしまうことを防止し得る。さらなる一実施形態として、内側板バネの先端をわずかに内側に向けて曲げておき、持ち上がろうとする基板をより積極的に下向きに押さえてもよい。 The substrate seal 300 is immersed in the plating solution while being pressed against the substrate WF. Therefore, the substrate seal 300 may stick (stick) to the substrate WF. When the inner leaf spring 322 does not exist, the outer leaf spring 321 can move up and down together with the second holding member 220 while elastically holding the end surface of the substrate WF. Therefore, if the inner leaf spring 322 does not exist, the substrate WF may be lifted together with the second holding member 220. However, the “up and down” mentioned here is a direction with reference to FIG. 3, and does not always coincide with the vertical up and down direction. In the centering member 320 according to the embodiment, the inner leaf spring 322 is fixed to the movable base 330, and the vertical positional relationship between the inner leaf spring 322 and the substrate WF does not change. When the second holding member 220 is opened and closed, the inner leaf spring 322 is pushed by the outer leaf spring 321 toward the board mounting portion 212. As a result, the top end of the inner leaf spring 322 is deformed toward the center of the substrate WF. As a result, the inner leaf spring 322 can temporarily hold the (edge portion of) the substrate WF. Therefore, the centering member 320 according to the embodiment can prevent the substrate WF from being lifted together with the second holding member 220. As a further embodiment, the tip of the inner leaf spring may be bent slightly inward to more positively press the substrate to be lifted downward.

<センタリング部材の具体的な動作について>
第2保持部材220が閉じられた場合の基板ホルダ200の断面を図10に示す。第2保持部材220が閉じられることによって、内側板バネ322の先端が第1の面400または外側板バネ321によって押され、基板乗せ部212に向かって変形してゆく。結果、内側板バネ322が基板WFを押す。
<Specific operation of the centering member>
FIG. 10 shows a cross section of the substrate holder 200 when the second holding member 220 is closed. When the second holding member 220 is closed, the tip of the inner leaf spring 322 is pushed by the first surface 400 or the outer leaf spring 321, and is deformed toward the board mounting portion 212. As a result, the inner leaf spring 322 pushes the substrate WF.

接点310と基板シール300が基板WFと順次接触し、ホルダシール301が第1保持部材210と接触する。その結果、接点310などが存在する領域がシールされる。接点310と基板シール300が基板WFを押すので、可動ベース330も下降する。スプリング(図示せず)などが可動ベース330を上方に押すので、基板シール300およびホルダシール301のシール圧が確保される。ただし、ここでいう「上方」および「下方」という言葉は図10を基準にして定められた方向であり、鉛直上下方向と一致しているとは限らない。 The contact point 310 and the substrate seal 300 sequentially contact the substrate WF, and the holder seal 301 contacts the first holding member 210. As a result, the area where the contact 310 and the like are present is sealed. Since the contact 310 and the substrate seal 300 push the substrate WF, the movable base 330 also descends. Since a spring (not shown) or the like pushes the movable base 330 upward, the sealing pressure of the substrate seal 300 and the holder seal 301 is secured. However, the terms “upper” and “lower” as used herein are directions determined with reference to FIG. 10, and do not necessarily match the vertical up and down directions.

一見すると、可動ベース330と第1保持部材210の間の空隙(図10の左端参照:符号「330」と符号「210」の間の空隙)がシールされていないようにも思える。しかし、基板シール300およびホルダシール301のそれぞれは、基板WFの全周および第1保持部材210の可動ベース330を設置する部分の周辺のそれぞれにわたって配置されているので、そのような問題は生じない。 At first glance, it seems that the gap between the movable base 330 and the first holding member 210 (see the left end of FIG. 10: the gap between reference numerals “330” and “210”) is not sealed. However, since each of the substrate seal 300 and the holder seal 301 is arranged over the entire circumference of the substrate WF and the periphery of the portion where the movable base 330 of the first holding member 210 is installed, such a problem does not occur. ..

接点310の一端が基板WFに接触し、弾性変形する(図3の符号「310a」の箇所から変形する)。接点310の他端は中継接点311に接触する。その結果、ハンド214の電極から基板WFまでの導電路が形成される。 One end of the contact point 310 comes into contact with the substrate WF and elastically deforms (deforms from the portion indicated by reference numeral “310a” in FIG. 3). The other end of the contact 310 contacts the relay contact 311. As a result, a conductive path from the electrode of the hand 214 to the substrate WF is formed.

基板シール300と接点310の接触よりも先に、外側板バネと基板の接触(反りの矯正:反りについては後述)または内側板バネと基板の接触(センタリング)が先に開始されることが望ましい。基板シール300あるいは接点310から基板に対して強い押付力が加えられた状態では、摩擦により基板をセンタリングする(基板を水平方向に動かす)ことは難しくなる可能性がある。よって、基板のセンタリングが行われてから基板シール300と接点310の接触がなされることが望ましい。 It is preferable that the contact between the outer leaf spring and the substrate (correction of warpage: warpage will be described later) or the contact between the inner leaf spring and the substrate (centering) be started before the contact between the substrate seal 300 and the contact point 310. .. When a strong pressing force is applied to the substrate from the substrate seal 300 or the contact 310, it may be difficult to center the substrate (move the substrate in the horizontal direction) due to friction. Therefore, it is desirable that the contact between the substrate seal 300 and the contact 310 is made after the substrate is centered.

一実施形態では、第2保持部材220が開いているとき接点310は基板シール300より基板乗せ部212の近くに位置する(図3の符号「310a」参照)。したがって、基板ホルダ200が閉じられる際には、まず接点310が基板WFに接触し、次に基板シール300が基板WFに接触する。その後、十分なシール圧力が得られるまで第2保持部材220は閉じられる。 In one embodiment, the contact 310 is located closer to the substrate rest 212 than the substrate seal 300 when the second holding member 220 is open (see reference numeral “310a” in FIG. 3). Therefore, when the substrate holder 200 is closed, the contacts 310 first contact the substrate WF and then the substrate seal 300 contacts the substrate WF. After that, the second holding member 220 is closed until a sufficient sealing pressure is obtained.

一実施形態にかかる基板ホルダ200においては、外側板バネ321と内側板バネ322により基板WFのエッジ部分をガイドするためのガイド面が形成されている。より具体的には、ガイド面は、外側板バネ321の先端から、外側板バネ321と内側板バネ322の接触部を経て、内側板バネの基板乗せ部212と同一の高さの部分まで延びている。外側板バネ321と内側板バネ322により形成されるガイド面は、基板WFのセンタリングおよび/または後述する基板WFの反りの矯正の際に基板WF(のエッジ部分)をガイドする。 In the substrate holder 200 according to the embodiment, the outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 form a guide surface for guiding the edge portion of the substrate WF. More specifically, the guide surface extends from the tip of the outer leaf spring 321 through the contact portion between the outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 to the same height as the board rest portion 212 of the inner leaf spring. ing. The guide surface formed by the outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 guides (the edge portion of) the substrate WF when centering the substrate WF and/or correcting the warp of the substrate WF described later.

<基板の反りについて>
前述のように、内側板バネ322は基板乗せ部212を超えて突出する。しかし、内側板バネ322の突出量があまりに大きいとシールホルダ222の大きさが巨大になり得る。したがって、実用上は、内側板バネ322の基板乗せ部212が位置する平面からの最大突出量は、想定される基板WFの厚みと同程度かそれより多少長い程度である。複数の基板WFが用いられる場合は、最も厚い基板WFが基準にされてもよい。たとえば基板WFの厚みが1mmである場合、内側板バネ322の最大突出量は2mm以下であってよい。
<About warpage of substrate>
As described above, the inner leaf spring 322 projects beyond the substrate rest portion 212. However, if the protrusion amount of the inner leaf spring 322 is too large, the size of the seal holder 222 may become huge. Therefore, in practice, the maximum amount of protrusion of the inner leaf spring 322 from the plane on which the substrate mounting portion 212 is located is the same as or slightly longer than the expected thickness of the substrate WF. When a plurality of substrates WF are used, the thickest substrate WF may be used as a reference. For example, when the thickness of the substrate WF is 1 mm, the maximum protrusion amount of the inner leaf spring 322 may be 2 mm or less.

一つの例では、基板WFの厚みは約0.2mmから約2mm程度であり、基板WFの直径は約200mmから約500mm程度である。したがって、基板WFは反り、撓み、捻れ(以下では「反り」と総称する)などを有し得る。図3において基板が凹状(V字状またはU字状)に反っている場合、基板WFのエッジ部分が基板乗せ部212から高く位置付けられ得る。一方で、前述のとおり、内側板バネ322の最大突出量には限界があり得る。その結果、基板WFと内側板バネ322が接触しなくなる可能性がある。よって、外側板バネ321を有さないセンタリング機構を用いて大きな反りを有する基板WFをセンタリングすることは困難であった。なお、内側板バネ322が基板WFのエッジ部分の想定位置より中心寄りに張り出せる(内側板バネが内側に向いて傾斜している)ならば内側板バネ322によって基板WFの反りを修正し得る。しかし、内側板バネ322をそのように構成すると基板乗せ部212に基板WFを乗せることが不可能または困難となる。そこで、一実施形態にかかる基板ホルダ200は、外側板バネ321によって基板WFの反りを修正する。 In one example, the substrate WF has a thickness of about 0.2 mm to about 2 mm, and the substrate WF has a diameter of about 200 mm to about 500 mm. Therefore, the substrate WF may have warp, flexure, twist (hereinafter collectively referred to as “warp”), and the like. When the substrate is warped in a concave shape (V-shape or U-shape) in FIG. 3, the edge portion of the substrate WF can be positioned higher than the substrate rest portion 212. On the other hand, as described above, the maximum amount of protrusion of the inner leaf spring 322 may be limited. As a result, the substrate WF and the inner leaf spring 322 may not come into contact with each other. Therefore, it is difficult to center the substrate WF having a large warp by using the centering mechanism that does not have the outer leaf spring 321. If the inner leaf spring 322 can be projected toward the center from the assumed position of the edge portion of the substrate WF (the inner leaf spring is inclined toward the inner side), the inner leaf spring 322 can correct the warp of the substrate WF. .. However, if the inner leaf spring 322 is configured in this way, it becomes impossible or difficult to place the substrate WF on the substrate placing portion 212. Therefore, in the substrate holder 200 according to the embodiment, the outer leaf spring 321 corrects the warp of the substrate WF.

図3からわかるように、外側板バネ321は基板WFのエッジ部分の想定位置より中心
寄りに張り出している。したがって、外側板バネ321は反りを有する基板WFとも接触し得る。第2保持部材220が閉じられるにつれ、基板WFの反りは第2保持部材220により矯正される。基板WFの反りが矯正されると、基板WFと内側板バネ322が接触し得るようになり得る。よって、一実施形態にかかる基板ホルダ200は、大きな反りを有する基板WFのセンタリングを可能にし得る。なお、外側板バネ321および内側板バネ322は弾性体であり、かつ、外側板バネ321および内側板バネ322の板厚は一般的に薄い(たとえば0.05mm以上0.5mm以下)ので、外側板バネ321および内側板バネ322の間に生じる段差は問題とならない。
As can be seen from FIG. 3, the outer leaf spring 321 projects toward the center from the assumed position of the edge portion of the substrate WF. Therefore, the outer leaf spring 321 can also contact the warped substrate WF. As the second holding member 220 is closed, the warp of the substrate WF is corrected by the second holding member 220. When the warp of the substrate WF is corrected, the substrate WF and the inner leaf spring 322 may come into contact with each other. Therefore, the substrate holder 200 according to the embodiment may enable centering of the substrate WF having a large warp. The outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 are elastic bodies, and the outer leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 are generally thin (for example, 0.05 mm or more and 0.5 mm or less). The step generated between the leaf spring 321 and the inner leaf spring 322 does not pose a problem.

一実施形態にかかるセンタリング部材320は弾性体によって基板WFをセンタリングする。したがって、剛体のみによって基板WFをセンタリングする部材または剛体のみによって基板WFの反りを強制する部材と比較して、一実施形態にかかるセンタリング部材320は基板WFとソフトに接触する。したがって、一実施形態にかかるセンタリング部材320は、基板WFへ与え得るダメージを小さくすることができる。 The centering member 320 according to an exemplary embodiment centers the substrate WF with an elastic body. Therefore, the centering member 320 according to the embodiment softly contacts the substrate WF as compared with a member that centers the substrate WF only by the rigid body or a member that forces the warpage of the substrate WF by only the rigid body. Therefore, the centering member 320 according to the embodiment can reduce damage that can be applied to the substrate WF.

<他の例にかかるセンタリング部材について>
上述のセンタリング部材320は一例に過ぎない。センタリング部材320の各部材の形状、配置などは適宜決定されてよい。図11は他の例にかかる内側ベース325を示す斜視図である。図7および図8の内側ベース325は側壁700を有するが、図11の内側ベース325は側壁700を有しない点で異なる。
<Regarding the centering member according to another example>
The centering member 320 described above is merely an example. The shape and arrangement of each member of the centering member 320 may be appropriately determined. FIG. 11 is a perspective view showing an inner base 325 according to another example. The inner base 325 of FIGS. 7 and 8 has side walls 700, whereas the inner base 325 of FIG. 11 does not have side walls 700.

さらなる変形例として、接点310の機能を有するセンタリング部材320が用いられてもよい。具体的には、外側板バネ321および/または内側板バネ322が中継接点311と基板WFとを電気的に接続するようセンタリング部材320が構成されていてよい。外側板バネ321および/または内側板バネ322は、基板WFのエッジ部分、ベベル部分、被めっき面のうちエッジに近接した部分などに接触していてよい。センタリング部材320が接点310として働く場合、基板ホルダ200はセンタリング部材320と独立した他の接点310を有してもよく、有さなくてもよい。 As a further modification, a centering member 320 having the function of the contact 310 may be used. Specifically, the centering member 320 may be configured so that the outer leaf spring 321 and/or the inner leaf spring 322 electrically connects the relay contact 311 and the substrate WF. The outer leaf spring 321 and/or the inner leaf spring 322 may be in contact with an edge portion of the substrate WF, a bevel portion, a portion of the surface to be plated, which is close to the edge, or the like. When the centering member 320 acts as the contact 310, the substrate holder 200 may or may not have another contact 310 independent of the centering member 320.

<両面ホルダについて>
上述の基板ホルダ200では、基板WFの片面のみが露出されている。以下では、基板WFの両面を露出して保持するための基板ホルダ200について説明する。図12は一実施形態にかかる基板ホルダ200の正面図である。図13は図12の基板ホルダ200の断面図である。図12の基板ホルダ200は角型の基板WFのためのホルダである。基板ホルダ200は円形の基板WFを保持するように構成されていてもよい。
<About double-sided holder>
In the substrate holder 200 described above, only one surface of the substrate WF is exposed. The substrate holder 200 for exposing and holding both surfaces of the substrate WF will be described below. FIG. 12 is a front view of the substrate holder 200 according to the embodiment. FIG. 13 is a sectional view of the substrate holder 200 of FIG. The substrate holder 200 of FIG. 12 is a holder for a rectangular substrate WF. The substrate holder 200 may be configured to hold the circular substrate WF.

図12の基板ホルダ200は、第1保持部材210と、第2保持部材220と、を備える。第1保持部材210は「フロントフレーム」と呼ばれてもよく、第2保持部材220は「リアフレーム」と呼ばれてもよい。ただし、「フロントフレーム」および「リアフレーム」という名称は区別のために用いられているものに過ぎない。すなわち、フロントフレームとリアフレームのどちらが正面を向いていてもよい。本明細書で両面ホルダについて説明する際には、「内側板バネが取り付けられている保持部材」を「第1保持部材」とし、「外側板バネが取り付けられている保持部材」を「第2保持部材」とする。基板WFは、第1保持部材210と第2保持部材220との間に挟まれて保持される(図13参照)。第1保持部材210および第2保持部材220のそれぞれは開口部220OPを有する。基板WFのそれぞれの面は、開口部220OPのそれぞれを介して露出する。第1保持部材210および/または第2保持部材220は電極280を有してもよい。電極280は、基板ホルダ200内部の導電経路(図示せず)と電気的に接続されていてよい。 The substrate holder 200 of FIG. 12 includes a first holding member 210 and a second holding member 220. The first holding member 210 may be referred to as a “front frame”, and the second holding member 220 may be referred to as a “rear frame”. However, the names "front frame" and "rear frame" are merely used for distinction. That is, either the front frame or the rear frame may face the front. When describing the double-sided holder in this specification, the "holding member to which the inner leaf spring is attached" is referred to as the "first holding member" and the "holding member to which the outer leaf spring is attached" is referred to as the "second holding member". "Holding member". The substrate WF is sandwiched and held between the first holding member 210 and the second holding member 220 (see FIG. 13). Each of the first holding member 210 and the second holding member 220 has an opening 220OP. Each surface of the substrate WF is exposed through each of the openings 220OP. The first holding member 210 and/or the second holding member 220 may have an electrode 280. The electrode 280 may be electrically connected to a conductive path (not shown) inside the substrate holder 200.

図12および図13のクランパ213は、フック部250と、クロー271を有するプ
レート270と、を備える。なお、クランパ213の数、配置、大きさ等は例示に過ぎない。フック部250はフックベース251と、フック本体252と、を備える。フック本体252はシャフト253を介してフックベース251に枢動可能に取り付けられている。フック本体252の枢動のため、フック部250はレバー254をさらに備えてもよい。フック本体252がクロー271に引っ掛けられることで、第1保持部材210と第2保持部材220との位置関係が固定される。図12および図13では、第1保持部材210がフック部250を備え、第2保持部材220がプレート270を備える。しかし、第2保持部材220がフック部250を備え、第1保持部材210がプレート270を備えていてもよい。第1保持部材210および第2保持部材220にフック部250およびプレート270の双方が取り付けられていてもよい。
The clamper 213 of FIGS. 12 and 13 includes a hook portion 250 and a plate 270 having a claw 271. Note that the number, arrangement, size, etc. of the clampers 213 are merely examples. The hook part 250 includes a hook base 251 and a hook body 252. The hook body 252 is pivotally attached to the hook base 251 via a shaft 253. The hook portion 250 may further include a lever 254 for pivoting the hook body 252. When the hook main body 252 is hooked on the claw 271, the positional relationship between the first holding member 210 and the second holding member 220 is fixed. In FIGS. 12 and 13, the first holding member 210 includes the hook portion 250, and the second holding member 220 includes the plate 270. However, the second holding member 220 may include the hook portion 250 and the first holding member 210 may include the plate 270. Both the hook portion 250 and the plate 270 may be attached to the first holding member 210 and the second holding member 220.

図14は、図12の基板ホルダ200の、センタリング部材320の周囲の断面図である。図14ではクランパ213が簡略化されて図示されている。たとえば、図14ではシャフト253が図示されていない。 FIG. 14 is a cross-sectional view of the substrate holder 200 of FIG. 12 around the centering member 320. In FIG. 14, the clamper 213 is illustrated in a simplified manner. For example, shaft 253 is not shown in FIG.

第1保持部材210は基板シール300、内側板バネ322および内側ベース325を備える。第2保持部材220は基板シール300、ホルダシール301、外側ベース323および外側板バネ321を備える。追加または代替として、第1保持部材210がホルダシール301を備えてもよい。基板シール300は「インナシール」と呼ばれてもよく、ホルダシール301は「アウタシール」と呼ばれてもよい。基板WFは基板シール300の上に置かれる。したがって、「図14の基板シール300は基板乗せ部212となり得る」と説明されてよい。 The first holding member 210 includes a substrate seal 300, an inner leaf spring 322 and an inner base 325. The second holding member 220 includes a substrate seal 300, a holder seal 301, an outer base 323 and an outer leaf spring 321. Additionally or alternatively, the first retaining member 210 may include a holder seal 301. The substrate seal 300 may be called an “inner seal”, and the holder seal 301 may be called an “outer seal”. The substrate WF is placed on the substrate seal 300. Therefore, it may be described that “the substrate seal 300 of FIG. 14 can serve as the substrate mounting portion 212 ”.

図15に示されるようにフック本体252がクロー271に引っ掛けられると、基板シール300およびホルダシール301が圧縮され、基板シール300およびホルダシール301により区画される空間がシールされる。「フック本体252がクロー271に引っ掛けられる」ことは、「第2保持部材220が第1保持部材210に取り付けられる」、「第1保持部材210が第2保持部材220に取り付けられる」、「第2保持部材220/第1保持部材210/基板ホルダ200が閉じられる」、「第2保持部材220/第1保持部材210/基板ホルダ200が固定(フィキシング)される」などと表現されてもよい。なお、図示の便宜上、図15ではいくつかの符号は省略されていることに留意されたい(図14を参照のこと)。片面ホルダの場合と同様、内側板バネ322は外側板バネ321と接触し、内側板バネ322は外側板バネ321によって押される。結果として、基板WFのセンタリングが実現される。 As shown in FIG. 15, when the hook main body 252 is hooked on the claw 271, the substrate seal 300 and the holder seal 301 are compressed, and the space defined by the substrate seal 300 and the holder seal 301 is sealed. "The hook body 252 is hooked on the claw 271" means "the second holding member 220 is attached to the first holding member 210", "the first holding member 210 is attached to the second holding member 220", " 2 holding member 220/first holding member 210/substrate holder 200 is closed”, “second holding member 220/first holding member 210/substrate holder 200 is fixed (fixed)”, and the like. .. It should be noted that some symbols are omitted in FIG. 15 for convenience of illustration (see FIG. 14). As in the case of the single-sided holder, the inner leaf spring 322 contacts the outer leaf spring 321, and the inner leaf spring 322 is pushed by the outer leaf spring 321. As a result, centering of the substrate WF is realized.

図16に示されるように、第1保持部材210は基板ベース1600を有してもよい。基板ベース1600は基板シール300とホルダシール301によりシールされるべき領域の内部であって、基板WFのエッジ部分またはエッジ部分の近傍を支持できる位置に配置される。基板ベース1600は基板シール300に代え、または基板シール300とともに基板乗せ部212として機能し得る。基板ベース1600は局所的に配置され得る。たとえば、基板ホルダ200は1個、4個、6個、8個、12個、などの基板ベース1600を有してよい。追加または代替として、第2保持部材220が基板ベース1600を有してもよい。基板シール300によるシールと基板ベース1600による支持を両立することを容易にするため、好ましくは、基板ベース1600は図示しないバネなどにより昇降可能に構成されている。 As shown in FIG. 16, the first holding member 210 may have a substrate base 1600. The substrate base 1600 is arranged inside the region to be sealed by the substrate seal 300 and the holder seal 301, and at a position that can support the edge portion of the substrate WF or the vicinity of the edge portion. The substrate base 1600 may replace the substrate seal 300 or may function as the substrate mounting portion 212 together with the substrate seal 300. The substrate base 1600 can be locally located. For example, the substrate holder 200 may have one, four, six, eight, twelve, etc. substrate bases 1600. Additionally or alternatively, the second holding member 220 may have a substrate base 1600. In order to facilitate both the sealing by the substrate seal 300 and the support by the substrate base 1600, the substrate base 1600 is preferably configured to be movable up and down by a spring or the like (not shown).

以上、いくつかの本発明の実施形態について説明してきた。しかし、上記の実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定するものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更、改良され得るとともに、本発明にはその等価物が含まれることは勿論である。また、上述した課題の少なくとも一部を解決できる範囲、
または、効果の少なくとも一部を奏する範囲において、特許請求の範囲および明細書に記載された各構成要素の任意の組み合わせ、または、省略が可能である。
The foregoing has described some embodiments of the present invention. However, the above embodiments are for the purpose of facilitating the understanding of the present invention, and do not limit the present invention. The present invention can be modified and improved without departing from the spirit thereof, and it goes without saying that the present invention includes equivalents thereof. Further, a range in which at least a part of the above-mentioned problems can be solved,
Alternatively, any combination of the constituent elements described in the claims and the specification or omission is possible within a range in which at least a part of the effect is exhibited.

本願は、一実施形態として、第1保持部材と、第1保持部材との間に基板を挟みこむための第2保持部材と、基板の位置決めのためのセンタリング部材と、を備える、基板ホルダであって、センタリング部材は、第1保持部材に固定されており、基板が位置するであろう平面を超えて突出し、保持されるであろう基板の中心に向かって弾性変形可能に構成された内側板バネと、第2保持部材に固定されている外側板バネであって、外側板バネは、基板が位置するであろう平面と垂直な面に対して傾斜した傾斜部を有し、外側板バネの先端は基板のエッジ部分の想定位置よりも内側に張り出している、外側板バネと、を有し、基板が第1保持部材と第2保持部材の間に挟み込まれる際に外側板バネが内側板バネを介して基板を押すことにより基板をセンタリングするよう構成された、基板ホルダを開示する。 The present application is, as an embodiment, a substrate holder including a first holding member, a second holding member for sandwiching the substrate between the first holding member, and a centering member for positioning the substrate. The centering member is fixed to the first holding member, protrudes beyond the plane where the substrate will be located, and is elastically deformable toward the center of the substrate that will be held. A leaf spring and an outer leaf spring fixed to the second holding member, wherein the outer leaf spring has an inclined portion that is inclined with respect to a plane perpendicular to a plane on which the substrate is located. The tip of the spring has an outer leaf spring protruding inward from an assumed position of the edge portion of the substrate, and the outer leaf spring is provided when the substrate is sandwiched between the first holding member and the second holding member. Disclosed is a substrate holder configured to center the substrate by pushing it through an inner leaf spring.

この基板ホルダは、基板を精度よくセンタリングし得るという効果を一例として奏する。この基板ホルダは、さらに、センタリング部材と基板の端面の擦れあいを防止し得るという効果を一例として奏する。この基板ホルダは、さらに、基板のスティッキングを防止し得るという効果を一例として奏する。この基板ホルダは、さらに、大きな反りを有する基板のセンタリングを可能にし得るという効果を一例として奏する。 As an example, this substrate holder has the effect of accurately centering the substrate. This substrate holder further exhibits the effect of preventing friction between the centering member and the end surface of the substrate as an example. The substrate holder further exhibits the effect of preventing sticking of the substrate as an example. This substrate holder further exhibits the effect of enabling centering of a substrate having a large warp as an example.

さらに本願は、一実施形態として、第1保持部材および/または第2保持部材は、基板の少なくとも一方の面を露出するための開口部を備え、内側板バネは開口部の中心に向かって弾性変形可能である、基板ホルダを開示する。 Further, in the present application, as one embodiment, the first holding member and/or the second holding member includes an opening for exposing at least one surface of the substrate, and the inner leaf spring is elastic toward the center of the opening. A deformable substrate holder is disclosed.

さらに本願は、一実施形態として、第1保持部材は、面状の基板乗せ部を有し、センタリング部材は、外側板バネを第2保持部材に固定するための外側ベースを備え、外側ベースは、外側板バネを介して内側板バネを基板乗せ部に向かう方向に押すよう傾斜している第1の面と、第1の面と連続した第2の面であって、第1の面より第1保持部材から離れて位置付けられており、基板乗せ部の位置する平面とほぼ垂直に延びる第2の面と、を備え、外側板バネは、第1の面に沿ってかつ第2の面との間に空隙が形成されるように外側ベースに取り付けられている、基板ホルダを開示する。 Further, in the present application, as one embodiment, the first holding member has a planar substrate mounting portion, the centering member includes an outer base for fixing the outer leaf spring to the second holding member, and the outer base is A first surface inclined so as to push the inner leaf spring through the outer leaf spring in a direction toward the substrate mounting portion, and a second surface continuous with the first surface, A second surface that is positioned away from the first holding member and that extends substantially perpendicularly to the plane in which the substrate mounting portion is located; and the outer leaf spring is along the first surface and the second surface. Disclosed is a substrate holder attached to an outer base such that a void is formed therebetween.

さらに本願は、一実施形態として、第1保持部材は、基板乗せ部が形成された可動ベースであって、基板乗せ部の位置する平面と垂直な方向に移動可能な可動ベースを備え、内側板バネは可動ベースに固定されている、基板ホルダを開示する。 Further, in the present application, as one embodiment, the first holding member includes a movable base having a substrate mounting portion formed thereon, and the movable base is movable in a direction perpendicular to a plane on which the substrate mounting portion is located. A substrate holder is disclosed in which the spring is fixed to the movable base.

さらに本願は、一実施形態として、外側ベースは、外側ベースが基板乗せ部に近づく方向および基板乗せ部から離れる方向に弾性的に変形することを可能にするスリットを有する、基板ホルダを開示する。 Further, the present application discloses, as an embodiment, a substrate holder in which the outer base has a slit that allows the outer base to be elastically deformed in a direction toward the substrate rest portion and in a direction away from the substrate rest portion.

さらに本願は、一実施形態として、外側ベースは第2保持部材から別個独立した部材である、基板ホルダを開示する。 Further, the present application discloses, as an embodiment, a substrate holder in which the outer base is a member independent of the second holding member.

さらに本願は、一実施形態として、基板が第1保持部材と第2保持部材との間に挟み込まれた場合に、当該基板と外側ベースの第2の面との間に、内側板バネおよび/または外側板バネがほぼ隙間なく挟み込まれるよう構成されている、基板ホルダを開示する。 Further, according to one embodiment of the present application, when the substrate is sandwiched between the first holding member and the second holding member, the inner leaf spring and/or the inner leaf spring is provided between the substrate and the second surface of the outer base. Alternatively, a substrate holder is disclosed in which an outer leaf spring is configured to be sandwiched with almost no space.

さらに本願は、一実施形態として、第2保持部材は、基板の一方の面を露出するための開口部と、基板シールと、ホルダシールと、基板シールおよびホルダシールによってシールされる領域内に配置される接点であって、基板の露出した面に電流を供給するための接
点と、を備える、基板ホルダを開示する。
Further, according to the present application, as one embodiment, the second holding member is arranged in an opening for exposing one surface of the substrate, a substrate seal, a holder seal, and a region sealed by the substrate seal and the holder seal. A contact for supplying an electric current to the exposed surface of the substrate.

さらに本願は、一実施形態として、センタリング部材はシールされる領域内に配置されている、基板ホルダを開示する。 Further, the present application discloses, as an embodiment, a substrate holder in which the centering member is disposed within the area to be sealed.

さらに本願は、一実施形態として、接点は、内側板バネおよび外側板バネから別個独立した部材である、基板ホルダを開示する。 Further, the present application discloses, as an embodiment, a substrate holder in which the contacts are members independent of the inner leaf spring and the outer leaf spring.

さらに本願は、一実施形態として、いずれかの実施形態にかかる基板ホルダと、少なくとも1つのめっき槽を有するめっき処理部と、を備える、めっき装置を開示する。 Further, the present application discloses, as an embodiment, a plating apparatus including a substrate holder according to any one of the embodiments and a plating processing unit having at least one plating tank.

100…めっき装置
110…ロードポート
120…基板搬送ロボット
130…ドライヤ
140…基板着脱装置
150…めっき処理部
151…前水洗槽
152…前処理槽
153…第1のリンス槽
154…第1のめっき槽
155…第2のリンス槽
156…第2のめっき槽
157…第3のリンス槽
158…ブロー槽
160…トランスポータ
161…トランスポータアーム
162…アーム上下動機構
163…水平移動機構
170…ストッカ
180…制御部
200…基板ホルダ
210…第1保持部材
211…ヒンジ
212…基板乗せ部
213…クランパ
214…ハンド
220…第2保持部材
220OP…開口部
221…基部
222…シールホルダ
223…押さえリング
223a…突条部
300…基板シール
301…ホルダシール
310…接点
311…中継接点
320…センタリング部材
321…外側板バネ
322…内側板バネ
323…外側ベース
324…スリット
325…内側ベース
330…可動ベース
340…インナリング
400…第1の面
401…第2の面
700…側壁
1600…基板ベース
WF…基板
100... Plating device 110... Load port 120... Substrate transfer robot 130... Dryer 140... Substrate attachment/detachment device 150... Plating treatment part 151... Pre-washing bath 152... Pre-treatment bath 153... First rinse bath 154... First plating bath 155... Second rinse tank 156... Second plating tank 157... Third rinse tank 158... Blow tank 160... Transporter 161... Transporter arm 162... Arm vertical movement mechanism 163... Horizontal movement mechanism 170... Stocker 180... Control unit 200... Substrate holder 210... First holding member 211... Hinge 212... Substrate placing part 213... Clamper 214... Hand 220... Second holding member 220OP... Opening part 221, Base part 222... Seal holder 223... Pressing ring 223a... Projection Strip portion 300... Board seal 301... Holder seal 310... Contact point 311... Relay contact point 320... Centering member 321... Outer leaf spring 322... Inner leaf spring 323... Outer base 324... Slit 325... Inner base 330... Movable base 340... Inner ring 400... 1st surface 401... 2nd surface 700... Side wall 1600... Substrate base WF... Substrate

Claims (11)

第1保持部材と、
前記第1保持部材との間に基板を挟みこむための第2保持部材と、
前記基板の位置決めのためのセンタリング部材と、
を備える、基板ホルダであって、
前記センタリング部材は、
前記第1保持部材に固定されており、基板が位置するであろう平面を超えて突出し、保持されるであろう基板の中心に向かって弾性変形可能に構成された内側板バネと、
前記第2保持部材に固定されている外側板バネであって、前記外側板バネは、基板が位置するであろう平面と垂直な面に対して傾斜した傾斜部を有し、前記外側板バネの先端は基板のエッジ部分の想定位置よりも内側に張り出している、外側板バネと、
を有し、
基板が前記第1保持部材と前記第2保持部材の間に挟み込まれる際に前記外側板バネが前記内側板バネを介して基板を押すことにより基板をセンタリングするよう構成された、基板ホルダ。
A first holding member,
A second holding member for sandwiching the substrate with the first holding member;
A centering member for positioning the substrate,
A substrate holder comprising:
The centering member is
An inner leaf spring that is fixed to the first holding member, protrudes beyond a plane where the substrate will be located, and is elastically deformable toward the center of the substrate that will be held;
An outer leaf spring fixed to the second holding member, wherein the outer leaf spring has an inclined portion that is inclined with respect to a plane perpendicular to a plane on which the substrate is located. The outer edge of the outer edge of the board extends beyond the assumed position of the edge of the board,
Have
A substrate holder configured to center the substrate by pushing the substrate through the inner leaf spring when the substrate is sandwiched between the first holding member and the second holding member.
前記第1保持部材および/または前記第2保持部材は、基板の少なくとも一方の面を露出するための開口部を備え、
前記内側板バネは前記開口部の中心に向かって弾性変形可能である、
請求項1に記載の基板ホルダ。
The first holding member and/or the second holding member has an opening for exposing at least one surface of the substrate,
The inner leaf spring is elastically deformable toward the center of the opening,
The substrate holder according to claim 1.
前記第1保持部材は、面状の基板乗せ部を有し、
前記センタリング部材は、前記外側板バネを前記第2保持部材に固定するための外側ベースを備え、
前記外側ベースは、
前記外側板バネを介して前記内側板バネを前記基板乗せ部に向かう方向に押すよう傾斜している第1の面と、
前記第1の面と連続した第2の面であって、前記第1の面より前記第1保持部材から離れて位置付けられており、前記基板乗せ部の位置する平面とほぼ垂直に延びる第2の面と、
を備え、
前記外側板バネは、前記第1の面に沿ってかつ前記第2の面との間に空隙が形成されるように前記外側ベースに取り付けられている、
請求項1または2に記載の基板ホルダ。
The first holding member has a planar substrate mounting portion,
The centering member includes an outer base for fixing the outer leaf spring to the second holding member,
The outer base is
A first surface inclined so as to push the inner leaf spring through the outer leaf spring in a direction toward the substrate mounting portion;
A second surface continuous with the first surface, the second surface being positioned farther from the first holding member than the first surface, and extending substantially perpendicular to the plane in which the substrate mounting portion is located. Face of
Equipped with
The outer leaf spring is attached to the outer base such that a gap is formed along the first surface and between the outer surface and the second surface.
The substrate holder according to claim 1 or 2.
前記第1保持部材は、前記基板乗せ部が形成された可動ベースであって、前記基板乗せ部の位置する平面と垂直な方向に移動可能な可動ベースを備え、
前記内側板バネは前記可動ベースに固定されている、
請求項3に記載の基板ホルダ。
The first holding member includes a movable base on which the substrate mounting portion is formed, and the movable base is movable in a direction perpendicular to a plane on which the substrate mounting portion is located,
The inner leaf spring is fixed to the movable base,
The substrate holder according to claim 3.
前記外側ベースは、前記外側ベースが前記基板乗せ部に近づく方向および前記基板乗せ部から離れる方向に弾性的に変形することを可能にするスリットを有する、請求項3または4に記載の基板ホルダ。 The substrate holder according to claim 3, wherein the outer base has a slit that allows the outer base to be elastically deformed in a direction toward the substrate mounting portion and in a direction away from the substrate mounting portion. 前記外側ベースは前記第2保持部材から別個独立した部材である、請求項3から5のいずれか一項に記載の基板ホルダ。 The substrate holder according to claim 3, wherein the outer base is a member independent of the second holding member. 基板が前記第1保持部材と前記第2保持部材との間に挟み込まれた場合に、当該基板と前記外側ベースの前記第2の面との間に、前記内側板バネおよび/または前記外側板バネ
がほぼ隙間なく挟み込まれるよう構成されている、請求項3から6の何れか一項に記載の基板ホルダ。
When the substrate is sandwiched between the first holding member and the second holding member, the inner leaf spring and/or the outer leaf plate is provided between the substrate and the second surface of the outer base. The substrate holder according to any one of claims 3 to 6, wherein the spring is configured to be sandwiched with substantially no space.
前記第2保持部材は、
前記基板の一方の面を露出するための開口部と、
基板シールと、
ホルダシールと、
前記基板シールおよびホルダシールによってシールされる領域内に配置される接点であって、前記基板の露出した面に電流を供給するための接点と、
を備える、請求項1から7のいずれか一項に記載の基板ホルダ。
The second holding member,
An opening for exposing one surface of the substrate,
Board seal,
Holder seal,
A contact arranged in a region sealed by the substrate seal and the holder seal, the contact for supplying an electric current to the exposed surface of the substrate;
The substrate holder according to any one of claims 1 to 7, further comprising:
前記センタリング部材は前記シールされる領域内に配置されている、請求項8に記載の基板ホルダ。 The substrate holder according to claim 8, wherein the centering member is arranged in the sealed region. 前記接点は、前記内側板バネおよび前記外側板バネから別個独立した部材である、請求項8または9に記載の基板ホルダ。 10. The substrate holder according to claim 8, wherein the contact point is a member independent of the inner leaf spring and the outer leaf spring. 請求項1から10のいずれか一項に記載の基板ホルダと、
少なくとも1つのめっき槽を有するめっき処理部と、
を備える、めっき装置。
A substrate holder according to any one of claims 1 to 10,
A plating treatment section having at least one plating tank;
A plating apparatus comprising:
JP2018244845A 2018-12-27 2018-12-27 Substrate holder and plating apparatus Pending JP2020105576A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018244845A JP2020105576A (en) 2018-12-27 2018-12-27 Substrate holder and plating apparatus

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2018244845A JP2020105576A (en) 2018-12-27 2018-12-27 Substrate holder and plating apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2020105576A true JP2020105576A (en) 2020-07-09

Family

ID=71448376

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2018244845A Pending JP2020105576A (en) 2018-12-27 2018-12-27 Substrate holder and plating apparatus

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2020105576A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230038606A (en) * 2021-03-03 2023-03-20 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Substrate holder, plating device, and manufacturing method of the plating device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20230038606A (en) * 2021-03-03 2023-03-20 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Substrate holder, plating device, and manufacturing method of the plating device
KR102553048B1 (en) 2021-03-03 2023-07-10 가부시키가이샤 에바라 세이사꾸쇼 Substrate holder, plating device, and manufacturing method of the plating device

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6739295B2 (en) Substrate holder, plating apparatus, and method for holding a substrate
KR101489051B1 (en) Substrate holder and plating apparatus
CN109072475B (en) Substrate holder and plating device
US10577713B2 (en) Substrate holder, plating apparatus, and method for manufacturing substrate holder
KR20140109319A (en) Plating apparatus
JP2023099530A (en) Substrate holder and plating device including substrate holder
WO2015199047A1 (en) Plating jig
US11434580B2 (en) Plating apparatus
JP2020105576A (en) Substrate holder and plating apparatus
US11232972B2 (en) Substrate holder, plating device, and plating method of substrate
JP2015050417A (en) Load port device and substrate processing apparatus
JP6430195B2 (en) Substrate storage container
US9401295B2 (en) Load port apparatus and clamping device to be used for the same
KR100989241B1 (en) Device of clamping front opening shipping box
JP2011253960A (en) Substrate storage container
TWI833898B (en) Substrate holder and plating device provided with same
JP7256728B2 (en) Substrate holder and substrate processing equipment
JP2002033379A (en) Wafer carrier and semiconductor-manufacturing apparatus using the same
KR20200073997A (en) Seal used for substrate holder
JP2020084215A (en) Substrate holder and plating apparatus
KR20070076208A (en) Wafer carrier