JP2020102600A - Control circuit of light emitting and receiving device, position detecting device, imaging device, and control method - Google Patents

Control circuit of light emitting and receiving device, position detecting device, imaging device, and control method Download PDF

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Abstract

To reduce a drive current or improve an S/N ratio.SOLUTION: A light emitting and receiving device 810 includes a light emitting element 812, a first light receiving element PD1, and a second light receiving element PD2. A reference signal generator 910 generates a reference signal SREF including a component of a predetermined reference frequency ω0. A drive circuit 920 supplies a drive signal IDRV to the light emitting element 812 such that a feedback signal SFB corresponding to the output of the first light receiving element PD1 and the reference signal SREF match. A correlation detector 930 performs correlation detection on the output of the second light receiving element PD2 using the component of the reference frequency ω0.SELECTED DRAWING: Figure 43

Description

本開示は、受発光装置およびその制御に関する。 The present disclosure relates to a light emitting/receiving device and its control.

たとえば、電子機器等に接近する物体を検出するために、フォトリフレクタと称される受発光装置が用いられている。特許文献1には、従来の受発光装置の一例が開示されている。同文献に開示された受発光装置は、基板と、当該基板に搭載された発光素子および受光素子と、これらの発光素子および受光素子を覆う封止樹脂とを備える。封止樹脂は、発光素子からの光を透過する。発光素子からの光が物体によって反射されると、この反射光を受光素子が受光する。これにより、物体の接近を検出することができる。 For example, a light emitting/receiving device called a photo reflector is used to detect an object approaching an electronic device or the like. Patent Document 1 discloses an example of a conventional light emitting and receiving device. The light emitting and receiving device disclosed in the document includes a substrate, a light emitting element and a light receiving element mounted on the substrate, and a sealing resin that covers the light emitting element and the light receiving element. The sealing resin transmits the light from the light emitting element. When the light from the light emitting element is reflected by the object, the reflected light is received by the light receiving element. Thereby, the approach of the object can be detected.

特開2010−45108号公報JP, 2010-45108, A

本発明は係る状況においてされたものであり、そのある態様の例示的な目的のひとつは、受発光装置における駆動電流の減少あるいはS/N比の改善にある。また別の態様の例示的な目的のひとつは、より高精度な検出機能を果たすことが可能な受発光装置を提供にある。 The present invention has been made in such a situation, and one of the exemplary objects of an aspect thereof is to reduce the drive current or improve the S/N ratio in the light receiving and emitting device. Further, one of exemplary purposes of another aspect is to provide a light emitting and receiving device capable of performing a detection function with higher accuracy.

本発明のある態様は、発光素子、第1受光素子および第2受光素子を含む受発光装置の制御回路に関する。制御回路は、所定の基準周波数の成分を含む基準信号を生成する基準信号発生器と、第1受光素子の出力に応じたフィードバック信号と基準信号が一致するように、発光素子に駆動信号を供給する駆動回路と、第2受光素子の出力を、基準周波数の成分を用いて相関検波する検波回路と、を備える。 An aspect of the present invention relates to a control circuit for a light receiving and emitting device including a light emitting element, a first light receiving element and a second light receiving element. The control circuit supplies a drive signal to the light emitting element so that the reference signal generator that generates the reference signal including the component of the predetermined reference frequency and the feedback signal corresponding to the output of the first light receiving element match the reference signal. And a detection circuit that performs correlation detection on the output of the second light receiving element using the component of the reference frequency.

本発明の別の態様は、受発光装置に関する。受発光装置は、基材と、前記基材に形成された導電部と、前記基材に搭載され且つ光を発する第1素子と、前記基材に搭載され且つ前記第1素子から発せられた光を受光する第2素子と、前記第1素子および前記第2素子を覆い且つ前記第1素子から発せられた光を透過する封止樹脂と、を備えており、前記第1素子および前記第2素子は、前記基材の厚さ方向と直角である第1方向において互いに離間して配置されており、前記第1方向において前記第1素子を挟んで前記第2素子とは反対側に配置され且つ前記第1素子からの光を受光する第3素子と、前記封止樹脂のうち前記厚さ方向視において前記第3素子に重なる被覆部に形成され且つ前記封止樹脂よりも光の透過率が低い材質からなる遮光層と、を備える。 Another aspect of the present invention relates to a light emitting and receiving device. The light emitting and receiving device includes a base material, a conductive portion formed on the base material, a first element mounted on the base material and emitting light, and mounted on the base material and emitted from the first element. A second resin that receives light; and a sealing resin that covers the first element and the second element and that transmits the light emitted from the first element. The two elements are arranged apart from each other in a first direction that is perpendicular to the thickness direction of the base material, and are arranged on the opposite side of the second element with the first element sandwiched in the first direction. And a third element that receives light from the first element and a cover portion of the sealing resin that overlaps the third element when viewed in the thickness direction, and transmits light more than the sealing resin. A light shielding layer made of a material having a low rate.

本発明のある態様によれば、駆動電流を低減でき、あるいはS/N比を改善できる。また本発明のある態様によれば、より高精度な検出機能を果たすことが可能である。 According to one aspect of the present invention, the drive current can be reduced or the S/N ratio can be improved. Further, according to an aspect of the present invention, it is possible to perform a detection function with higher accuracy.

本開示のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。 Other features and advantages of the present disclosure will become more apparent from the detailed description given below with reference to the accompanying drawings.

本開示の第1実施形態に係る受発光装置を示す要部平面図である。FIG. 1 is a plan view of relevant parts showing a light emitting and receiving device according to a first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置を示す正面図である。FIG. 1 is a front view showing a light emitting/receiving device according to a first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置を示す背面図である。FIG. 3 is a rear view showing the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置を示す底面図および回路図である。FIG. 1 is a bottom view and a circuit diagram showing a light emitting and receiving device according to a first embodiment of the present disclosure. 図1のV−V線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VV line of FIG. 図1のVI−VI線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VI-VI line of FIG. 図1のVII−VII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VII-VII line of FIG. 図1のVIII−VIII線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the VIII-VIII line of FIG. 図1のIX−IX線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the IX-IX line of FIG. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置を示す要部拡大断面図である。FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a light emitting and receiving device according to a first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置を示す要部拡大断面図である。FIG. 1 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a light emitting and receiving device according to a first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置を示す要部拡大背面図である。FIG. 3 is an enlarged rear view of the essential parts showing the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第1素子を示す拡大断面斜視図である。FIG. 3 is an enlarged cross-sectional perspective view showing a first element of the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of the method for manufacturing the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。FIG. 5 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing an example of the method for manufacturing the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第1変形例を示す要部拡大断面図である。FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a first modified example of the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第2変形例を示す要部拡大断面図である。FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a second modified example of the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第3変形例を示す要部拡大断面図である。FIG. 8 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a third modified example of the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第4変形例を示す要部拡大断面図である。FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a fourth modified example of the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第5変形例を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the 5th modification of the light emitting and receiving device which concerns on 1st Embodiment of this indication. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第6変形例を示す要部拡大断面図である。It is a principal part expanded sectional view which shows the 6th modification of the light emitting and receiving device which concerns on 1st Embodiment of this indication. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第7変形例を示す要部拡大断面図である。FIG. 16 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a seventh modified example of the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第8変形例を示す要部平面図である。FIG. 20 is a plan view of a principal portion showing an eighth modified example of the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第9変形例を示す要部平面図である。FIG. 10 is a plan view of a main part showing a ninth modified example of the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第10変形例を示す要部平面図である。FIG. 20 is a main-portion plan view showing a tenth modified example of the light receiving and emitting device according to the first embodiment of the present disclosure; 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第10変形例の第1素子を示す拡大断面斜視図である。It is an expanded sectional perspective view showing the 1st element of the 10th modification of the light emitting and receiving device concerning a 1st embodiment of this indication. 本開示の第1実施形態に係る受発光装置の第10変形例の第1素子を示す要部拡大断面図である。FIG. 20 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing a first element of a tenth modified example of the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. 本開示の第2実施形態に係る受発光装置を示す要部平面図である。FIG. 4 is a plan view of a main part showing a light emitting and receiving device according to a second embodiment of the present disclosure. 本開示の第2実施形態に係る受発光装置を示す底面図である。It is a bottom view showing the light emitting and receiving device concerning a 2nd embodiment of this indication. 図28のXXX−XXX線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXX-XXX line of FIG. 図28のXXXI−XXXI線に沿う断面図である。FIG. 29 is a cross-sectional view taken along the line XXXI-XXXI in FIG. 28. 本開示の第3実施形態に係る受発光装置を示す要部平面図である。It is a principal part top view which shows the light emitting/receiving device which concerns on 3rd Embodiment of this indication. 本開示の第3実施形態に係る受発光装置を示す底面図である。It is a bottom view showing a light emitting and receiving device concerning a 3rd embodiment of this indication. 図32のXXXIV−XXXIV線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXXIV-XXXIV line of FIG. 図32のXXXV−XXXV線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXXV-XXXV line of FIG. 図32のXXXVI−XXXVI線に沿う断面図である。It is sectional drawing which follows the XXXVI-XXXVI line of FIG. 図32のXXXVII−XXXVII線に沿う断面図である。FIG. 33 is a cross-sectional view taken along the line XXXVII-XXXVII of FIG. 32. 本開示の第4実施形態に係る受発光装置を示す要部平面図である。It is a principal part top view which shows the light emitting/receiving device which concerns on 4th Embodiment of this indication. 本開示の第4実施形態に係る受発光装置の第1変形例を示す要部平面図である。FIG. 13 is a main part plan view showing a first modified example of the light emitting and receiving device according to the fourth embodiment of the present disclosure. 本開示の第4実施形態に係る受発光装置の第2変形例を示す要部平面図である。FIG. 20 is a plan view of a main part showing a second modified example of the light emitting and receiving device according to the fourth embodiment of the present disclosure. 位置検出システムのブロック図である。It is a block diagram of a position detection system. 図42(a)は、図41の位置検出システムの動作を説明する図であり、図42(b)は、位置zと第2検出信号Vs2の関係を示す図であり、図42(c)は、図41の位置検出システムの別の動作を説明する図である。42(a) is a diagram for explaining the operation of the position detection system of FIG. 41, FIG. 42(b) is a diagram showing the relationship between the position z and the second detection signal Vs2, and FIG. 42(c). FIG. 42 is a diagram for explaining another operation of the position detection system in FIG. 41. 実施の形態に係る制御回路を備える位置検出システムの回路図である。It is a circuit diagram of a position detection system including a control circuit according to an embodiment. 図43の位置検出システムの動作を説明する図である。It is a figure explaining operation|movement of the position detection system of FIG. フリッカノイズの周波数特性を示す図である。It is a figure which shows the frequency characteristic of flicker noise. 制御回路の一実施例を示す回路図である。It is a circuit diagram which shows one Example of a control circuit. 一実施例に係る受発光装置および制御回路のピン配置を示す図である。It is a figure which shows the pin arrangement of a light emitting and receiving device and a control circuit concerning one Example. 一実施例に係る受発光装置および制御回路のピン配置を示す図である。It is a figure which shows the pin arrangement of a light emitting and receiving device and a control circuit concerning one Example. 一実施例に係る受発光装置および制御回路のピン配置を示す図である。It is a figure which shows the pin arrangement of a light emitting and receiving device and a control circuit concerning one Example. 位置決めシステムのブロック図である。It is a block diagram of a positioning system. 変形例に係る遮光層が形成される封止樹脂の断面図である。It is sectional drawing of the sealing resin in which the light shielding layer which concerns on a modification is formed.

以下、本開示の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。 Hereinafter, preferred embodiments of the present disclosure will be specifically described with reference to the drawings.

本開示における「第1」、「第2」、「第3」等の用語は、単にラベルとして用いたものであり、それらの対象物に順列を付することを意図していない。 The terms "first", "second", "third" and the like in the present disclosure are merely used as labels and are not intended to permutate those objects.

<第1実施形態>
図1〜図15は、本開示の第1実施形態に係る受発光装置を示している。本実施形態の受発光装置A1は、基材1、導電部2、第1素子3、第2素子4、第3素子5、第1ワイヤ61、第2ワイヤ62、第3ワイヤ63、封止樹脂7および遮光層8を備えている。
<First Embodiment>
1 to 15 show the light emitting and receiving device according to the first embodiment of the present disclosure. The light emitting and receiving device A1 of this embodiment includes a base material 1, a conductive portion 2, a first element 3, a second element 4, a third element 5, a first wire 61, a second wire 62, a third wire 63, and a sealing. The resin 7 and the light shielding layer 8 are provided.

図1は、受発光装置A1を示す要部平面図である。図2は、受発光装置A1を示す正面図である。図3は、受発光装置A1を示す背面図である。図4は、受発光装置A1を示す底面図および回路図である。図5は、図1のV−V線に沿う断面図である。図6は、図1のVI−VI線に沿う断面図である。図7は、図1のVII−VII線に沿う断面図である。図8は、図1のVIII−VIII線に沿う断面図である。図9は、図1のIX−IX線に沿う断面図である。図10は、受発光装置A1を示す要部拡大断面図である。図11は、受発光装置A1を示す要部拡大断面図である。図12は、受発光装置A1を示す要部拡大背面図である。図14は、受発光装置A1の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。図15は、受発光装置A1の製造方法の一例を示す要部拡大断面図である。これらの図において、z方向は、基材1の厚さ方向である。x方向は、本開示の第1方向である。y方向は、x方向およびz方向に対して直角である方向である。また、図1においては、理解の便宜上封止樹脂7を省略しており、後述の第2部75を想像線およびハッチングによって示している。また、遮光層8にハッチングを付している。 FIG. 1 is a plan view of relevant parts showing a light emitting and receiving device A1. FIG. 2 is a front view showing the light emitting and receiving device A1. FIG. 3 is a rear view showing the light receiving and emitting device A1. FIG. 4 is a bottom view and a circuit diagram showing the light receiving and emitting device A1. FIG. 5 is a sectional view taken along the line VV of FIG. FIG. 6 is a sectional view taken along the line VI-VI of FIG. FIG. 7 is a sectional view taken along the line VII-VII in FIG. FIG. 8 is a sectional view taken along the line VIII-VIII of FIG. FIG. 9 is a sectional view taken along the line IX-IX in FIG. FIG. 10 is an enlarged cross-sectional view of a main part showing the light emitting and receiving device A1. FIG. 11 is an enlarged cross-sectional view of an essential part showing the light emitting and receiving device A1. FIG. 12 is an enlarged rear view of an essential part showing the light emitting and receiving device A1. FIG. 14 is an enlarged sectional view of an essential part showing an example of a method for manufacturing the light emitting and receiving device A1. FIG. 15 is an enlarged sectional view of an essential part showing an example of a method for manufacturing the light emitting and receiving device A1. In these figures, the z direction is the thickness direction of the substrate 1. The x direction is the first direction of the present disclosure. The y direction is the direction that is perpendicular to the x and z directions. Further, in FIG. 1, the sealing resin 7 is omitted for convenience of understanding, and a second portion 75 described later is shown by imaginary lines and hatching. Further, the light shielding layer 8 is hatched.

受発光装置A1の大きさは特に限定されない。受発光装置A1の大きさを例示すると、x方向寸法が、1.3mm〜3.5mm、y方向寸法が、0.4mm〜2.0mm、z方向寸法が、0.2mm〜0.8mmであり、図示された例においては、たとえばx方向寸法が1.5mm、y方向寸法が0.55mm、z方向寸法が0.3mmである。 The size of the light emitting and receiving device A1 is not particularly limited. As an example of the size of the light emitting and receiving device A1, the size in the x direction is 1.3 mm to 3.5 mm, the size in the y direction is 0.4 mm to 2.0 mm, and the size in the z direction is 0.2 mm to 0.8 mm. In the illustrated example, the dimension in the x direction is 1.5 mm, the dimension in the y direction is 0.55 mm, and the dimension in the z direction is 0.3 mm.

基材1は、第1素子3、第2素子4および第3素子5を支持している。基材1の材質は特に限定されず、たとえばガラスエポキシ樹脂等の絶縁性材料からなる。本実施形態においては、基材1は、z方向視においてx方向を長手方向とし、y方向を短手方向とする長矩形状である。基材1の厚さは、たとえば40μm〜50μmである。 The base material 1 supports the first element 3, the second element 4, and the third element 5. The material of the base material 1 is not particularly limited, and is made of, for example, an insulating material such as glass epoxy resin. In the present embodiment, the base material 1 has a long rectangular shape in which the x direction is the longitudinal direction and the y direction is the lateral direction when viewed in the z direction. The base material 1 has a thickness of, for example, 40 μm to 50 μm.

基材1は、主面11、裏面12、一対の側面13および一対の端面14を有する。主面11は、z方向を向いており、第1素子3、第2素子4および第3素子5が搭載される綿である。裏面12は、z方向において主面11とは反対側を向いている。本実施形態においては、裏面12は、受発光装置A1が回路基板等に実装される際の実装面として用いられる。一対の側面13は、y方向両側を向いており、それぞれが主面11と裏面12とを繋いでいる。一対の端面14は、x方向両側を向いており、それぞれが主面11と裏面12とを繋いでいる。 The base material 1 has a main surface 11, a back surface 12, a pair of side surfaces 13, and a pair of end surfaces 14. The main surface 11 faces the z direction and is cotton on which the first element 3, the second element 4, and the third element 5 are mounted. The back surface 12 faces the side opposite to the main surface 11 in the z direction. In the present embodiment, the back surface 12 is used as a mounting surface when the light emitting and receiving device A1 is mounted on a circuit board or the like. The pair of side surfaces 13 face both sides in the y direction, and each connect the main surface 11 and the back surface 12. The pair of end faces 14 face both sides in the x direction, and each connect the main surface 11 and the back surface 12.

導電部2は、基材1に形成されており、第1素子3、第2素子4および第3素子5への導通経路を構成している。導電部2の材質は特に限定されず、良好な導電性を有する金属が用いられ、具体例として、Cu,Ni,Ti,Ag,Au等が挙げられる。導電部2は、たとえばめっきによって形成される。導電部2の厚さは、たとえば30μm程度であり、たとえば、20μm程度のCu層に10μm程度のAu層が積層された構成である。 The conductive portion 2 is formed on the base material 1 and constitutes a conduction path to the first element 3, the second element 4 and the third element 5. The material of the conductive portion 2 is not particularly limited, and a metal having good conductivity is used, and specific examples thereof include Cu, Ni, Ti, Ag, Au and the like. The conductive portion 2 is formed by plating, for example. The conductive portion 2 has a thickness of, for example, about 30 μm, and has a structure in which a Cu layer of about 20 μm and an Au layer of about 10 μm are stacked.

本実施形態の導電部2は、第1ダイボンディング部211、第1延出部221、第1貫通部231、第2ボンディング部212、一対の第2延出部222、一対の第2貫通部232、第3ダイボンディング部213、一対の第3延出部223、一対の第3貫通部233、共通ワイヤボンディング部240、共通貫通部246、第1実装電極271、一対の第2実装電極272、一対の第3実装電極273および第4実装電極274を有する。 The conductive part 2 of the present embodiment includes a first die bonding part 211, a first extension part 221, a first penetrating part 231, a second bonding part 212, a pair of second extending parts 222, and a pair of second penetrating parts. 232, third die bonding portion 213, pair of third extending portions 223, pair of third penetrating portions 233, common wire bonding portion 240, common penetrating portion 246, first mounting electrode 271, pair of second mounting electrodes 272. , And has a pair of third mounting electrode 273 and fourth mounting electrode 274.

第1ダイボンディング部211は、基材1の主面11に形成されている。第1ダイボンディング部211は、第1素子3がダイボンディングされる部位である。本実施形態においては、第1ダイボンディング部211は、主面11のx方向略中央に配置されている。第1ダイボンディング部211の形状は特に限定されず、図示された例においては、z方向視において矩形状である。第1ダイボンディング部211は、一対の側面13から離間している。第1ダイボンディング部211は、y方向において図1の図中上側に偏って配置されている。 The first die bonding portion 211 is formed on the main surface 11 of the base material 1. The first die bonding portion 211 is a portion to which the first element 3 is die bonded. In the present embodiment, the first die bonding portion 211 is arranged on the main surface 11 substantially at the center in the x direction. The shape of the first die bonding portion 211 is not particularly limited, and in the illustrated example, it has a rectangular shape when viewed in the z direction. The first die bonding section 211 is separated from the pair of side surfaces 13. The first die bonding portion 211 is arranged so as to be biased toward the upper side in the drawing of FIG. 1 in the y direction.

第2ボンディング部212は、基材1の主面11に形成されている。第2ボンディング部212は、第2素子4がダイボンディングされる部位である。本実施形態においては、第2ボンディング部212は、第1ダイボンディング部211に対して図1におけるx方向右側に配置されている。第2ボンディング部212の形状は特に限定されず、図示された例においては、z方向視において矩形状である。第2ボンディング部212は、一対の側面13および端面14から離間している。第2ボンディング部212は、主面11のy方向略中央に配置されている。 The second bonding portion 212 is formed on the main surface 11 of the base material 1. The second bonding portion 212 is a portion where the second element 4 is die-bonded. In the present embodiment, the second bonding section 212 is arranged on the right side in the x direction in FIG. 1 with respect to the first die bonding section 211. The shape of the second bonding portion 212 is not particularly limited, and in the illustrated example, it is rectangular when viewed in the z direction. The second bonding portion 212 is separated from the pair of side surfaces 13 and the end surface 14. The second bonding portion 212 is arranged substantially at the center of the main surface 11 in the y direction.

第3ダイボンディング部213は、基材1の主面11に形成されている。第3ダイボンディング部213は、第3素子5がダイボンディングされる部位である。本実施形態においては、第3ダイボンディング部213は、第1ダイボンディング部211に対して図1におけるx方向左側に配置されている。言い換えると、第3ダイボンディング部213は、x方向において、第1ダイボンディング部211を挟んで第2ボンディング部212とは反対側に配置されている。第3ダイボンディング部213の形状は特に限定されず、図示された例においては、z方向視において矩形状である。第3ダイボンディング部213は、一対の側面13および端面14から離間している。第3ダイボンディング部213は、主面11のy方向略中央に配置されている。 The third die bonding portion 213 is formed on the main surface 11 of the base material 1. The third die bonding portion 213 is a portion to which the third element 5 is die bonded. In the present embodiment, the third die bonding portion 213 is arranged on the left side in the x direction in FIG. 1 with respect to the first die bonding portion 211. In other words, the third die bonding section 213 is arranged on the opposite side of the second bonding section 212 with the first die bonding section 211 in between in the x direction. The shape of the third die bonding portion 213 is not particularly limited, and in the illustrated example, it has a rectangular shape when viewed in the z direction. The third die bonding portion 213 is separated from the pair of side surfaces 13 and the end surface 14. The third die bonding portion 213 is arranged substantially at the center of the main surface 11 in the y direction.

共通ワイヤボンディング部240は、第1ワイヤ61、第2ワイヤ62および第3ワイヤ63がボンディングされる部位である。本実施形態においては、共通ワイヤボンディング部240は、x方向において第2ボンディング部212と第3ダイボンディング部213との間に位置しており、y方向視において第1ダイボンディング部211と重なる。図示された例においては、第1ダイボンディング部211と共通ワイヤボンディング部240とは、x方向位置が同じである。共通ワイヤボンディング部240は、y方向において第1ダイボンディング部211と離間して配置されている。共通ワイヤボンディング部240の形状は特に限定されず、図示された例においては、z方向視においてx方向を長手方向とする長矩形状である。 The common wire bonding part 240 is a part to which the first wire 61, the second wire 62, and the third wire 63 are bonded. In the present embodiment, the common wire bonding section 240 is located between the second bonding section 212 and the third die bonding section 213 in the x direction and overlaps the first die bonding section 211 when viewed in the y direction. In the illustrated example, the first die bonding portion 211 and the common wire bonding portion 240 have the same position in the x direction. The common wire bonding section 240 is arranged apart from the first die bonding section 211 in the y direction. The shape of the common wire bonding portion 240 is not particularly limited, and in the illustrated example, the common wire bonding portion 240 has a long rectangular shape whose longitudinal direction is the x direction when viewed in the z direction.

図示された例においては、第2ボンディング部212および第3ダイボンディング部213のy方向寸法は、それぞれ寸法y1で同じである。第1ダイボンディング部211のy方向寸法は、寸法y1よりも小さい。また、図1において、第1ダイボンディング部211、第2ボンディング部212および第3ダイボンディング部213のy方向図中上端縁は、y方向における位置が互いに一致している。共通ワイヤボンディング部240のx方向寸法は、第1ダイボンディング部211のx方向寸法である寸法x1よりも大きい。図1において、第2ボンディング部212、第3ダイボンディング部213および共通ワ イヤボンディング部240のy方向図中下端縁は、y方向における位置が互いに一致している。 In the illustrated example, the y-direction dimensions of the second bonding portion 212 and the third die bonding portion 213 are the same as the dimension y1. The y-direction dimension of the first die bonding portion 211 is smaller than the dimension y1. Further, in FIG. 1, the upper ends of the first die bonding portion 211, the second bonding portion 212, and the third die bonding portion 213 in the y direction in the figure are aligned with each other in the y direction. The dimension of the common wire bonding portion 240 in the x direction is larger than the dimension x1 which is the dimension of the first die bonding portion 211 in the x direction. In FIG. 1, the lower end edges of the second bonding portion 212, the third die bonding portion 213, and the common wire bonding portion 240 in the y direction in the figure are aligned with each other in the y direction.

第1延出部221は、第1ダイボンディング部211に繋がっており、一方の側面13に向けてy方向に延びている。図示された例においては、第1延出部221は、一方の側面13に到達している。第1延出部221の形状は特に限定されず、図示された例においては、x方向寸法が第1ダイボンディング部211よりも小さい矩形状である。 The first extending portion 221 is connected to the first die bonding portion 211 and extends toward the one side surface 13 in the y direction. In the illustrated example, the first extending portion 221 reaches the one side surface 13. The shape of the first extending portion 221 is not particularly limited, and in the illustrated example, the first extending portion 221 has a rectangular shape having a dimension in the x direction smaller than that of the first die bonding portion 211.

一対の第2延出部222は、第2ボンディング部212に繋がっており、一対の側面13に向けてy方向両側に延びている。図示された例においては、一対の第2延出部222は、一対の側面13に個別に到達している。第2延出部222の形状は特に限定されず、図示された例においては、x方向寸法が第2ボンディング部212よりも小さい矩形状である。 The pair of second extending portions 222 are connected to the second bonding portion 212 and extend toward the pair of side surfaces 13 on both sides in the y direction. In the illustrated example, the pair of second extending portions 222 individually reach the pair of side surfaces 13. The shape of the second extending portion 222 is not particularly limited, and in the illustrated example, the second extending portion 222 has a rectangular shape in which the dimension in the x direction is smaller than that of the second bonding portion 212.

一対の第3延出部223は、第3ダイボンディング部213に繋がっており、一対の側面13に向けてy方向両側に延びている。図示された例においては、一対の第3延出部223は、一対の側面13に個別に到達している。第3延出部223の形状は特に限定されず、図示された例においては、x方向寸法が第3ダイボンディング部213よりも小さい矩形状である。 The pair of third extending portions 223 are connected to the third die bonding portion 213 and extend toward the pair of side surfaces 13 on both sides in the y direction. In the illustrated example, the pair of third extending portions 223 individually reach the pair of side surfaces 13. The shape of the third extending portion 223 is not particularly limited, and in the illustrated example, the third extending portion 223 has a rectangular shape whose x-direction dimension is smaller than that of the third die bonding portion 213.

共通延出部245は、共通ワイヤボンディング部240に繋がっており、他方の側面13に向けてy方向に延びている。図示された例においては、第1延出部221は、他方の側面13に到達している。共通延出部245の形状は特に限定されず、図示された例においては、x方向寸法が共通ワイヤボンディング部240よりも小さい矩形状である。 The common extension portion 245 is connected to the common wire bonding portion 240 and extends in the y direction toward the other side surface 13. In the illustrated example, the first extending portion 221 reaches the other side surface 13. The shape of the common extending portion 245 is not particularly limited, and in the illustrated example, the common extending portion 245 has a rectangular shape whose dimension in the x direction is smaller than that of the common wire bonding portion 240.

第1実装電極271は、基材1の裏面12に形成されている。図示された例においては、第1実装電極271は、一方の側面13に到達している。また、第1実装電極271は、裏面12のx方向略中央に配置されている。第1実装電極271の形状は特に限定されず、図示された例においては、矩形状である。図1に示すように、第1実装電極271は、z方向視において第1延出部221および第1ダイボンディング部211と重なっている。より詳しくは、第1実装電極271は、z方向視において第1延出部221のすべてと重なっており、第1ダイボンディング部211の一部と重なっている。 The first mounting electrode 271 is formed on the back surface 12 of the base material 1. In the illustrated example, the first mounting electrode 271 reaches the one side surface 13. Further, the first mounting electrode 271 is arranged on the back surface 12 substantially at the center in the x direction. The shape of the first mounting electrode 271 is not particularly limited, and is rectangular in the illustrated example. As shown in FIG. 1, the first mounting electrode 271 overlaps the first extending portion 221 and the first die bonding portion 211 when viewed in the z direction. More specifically, the first mounting electrode 271 overlaps with all of the first extending portion 221 and a part of the first die bonding portion 211 when viewed in the z direction.

一対の第2実装電極272は、基材1の裏面12に形成されている。図示された例においては、一対の第2実装電極272は、一対の側面13に個別に到達している。また、一対の第2実装電極272は、x方向において第1実装電極271に対して図4における図中右側に配置されている。第2実装電極272の形状は特に限定されず、図示された例においては、矩形状である。図1に示すように、一対の第2実装電極272は、z方向視において一対の第2延出部222および第2ボンディング部212と重なっている。より詳しくは、一対の第2実装電極272は、z方向視において一対の第2延出部222のすべてと重なっており、第2ボンディング部212の一部と重なっている。 The pair of second mounting electrodes 272 is formed on the back surface 12 of the base material 1. In the illustrated example, the pair of second mounting electrodes 272 individually reach the pair of side surfaces 13. Further, the pair of second mounting electrodes 272 is arranged on the right side in the drawing of FIG. 4 with respect to the first mounting electrode 271 in the x direction. The shape of the second mounting electrode 272 is not particularly limited and is rectangular in the illustrated example. As shown in FIG. 1, the pair of second mounting electrodes 272 overlaps the pair of second extending portions 222 and the second bonding portion 212 when viewed in the z direction. More specifically, the pair of second mounting electrodes 272 overlaps with all of the pair of second extending portions 222 and part of the second bonding portion 212 when viewed in the z direction.

一対の第3実装電極273は、基材1の裏面12に形成されている。図示された例においては、一対の第3実装電極273は、一対の側面13に個別に到達している。また、一対の第3実装電極273は、x方向において第1実装電極271に対して図4における図中左側に配置されている。第3実装電極273の形状は特に限定されず、図示された例においては、矩形状である。図1に示すように、一対の第3実装電極273は、z方向視において一対の第3延出部223および第3ダイボンディング部213と重なっている。より詳しくは、一対の第3実装電極273は、z方向視において一対の第3延出部223のすべてと重なっており、第3ダイボンディング部213の一部と重なっている。 The pair of third mounting electrodes 273 is formed on the back surface 12 of the base material 1. In the illustrated example, the pair of third mounting electrodes 273 individually reach the pair of side surfaces 13. Further, the pair of third mounting electrodes 273 is arranged on the left side in the drawing of FIG. 4 with respect to the first mounting electrode 271 in the x direction. The shape of the third mounting electrode 273 is not particularly limited and is rectangular in the illustrated example. As shown in FIG. 1, the pair of third mounting electrodes 273 overlaps the pair of third extending portions 223 and the third die bonding portion 213 when viewed in the z direction. More specifically, the pair of third mounting electrodes 273 overlaps with all of the pair of third extending portions 223 and part of the third die bonding portion 213 when viewed in the z direction.

第4実装電極274は、基材1の裏面12に形成されている。図示された例においては、第4実装電極274は、他方の側面13に到達している。また、第4実装電極274は、裏面12のx方向略中央に配置されている。第4実装電極274は、y方向において第1実装電極271と並べられている。第4実装電極274の形状は特に限定されず、図示された例においては、矩形状である。図1に示すように、第4実装電極274は、z方向視において共通延出部245および共通ワイヤボンディング部240と重なっている。より詳しくは、第4実装電極274は、z方向視において共通延出部245のすべてと重なっており、共通ワイヤボンディング部240の一部と重なっている。 The fourth mounting electrode 274 is formed on the back surface 12 of the base material 1. In the illustrated example, the fourth mounting electrode 274 has reached the other side surface 13. Further, the fourth mounting electrode 274 is arranged on the back surface 12 substantially at the center in the x direction. The fourth mounting electrode 274 is arranged with the first mounting electrode 271 in the y direction. The shape of the fourth mounting electrode 274 is not particularly limited, and is rectangular in the illustrated example. As shown in FIG. 1, the fourth mounting electrode 274 overlaps with the common extending portion 245 and the common wire bonding portion 240 when viewed in the z direction. More specifically, the fourth mounting electrode 274 overlaps with all of the common extending portion 245 and a part of the common wire bonding portion 240 when viewed in the z direction.

第1貫通部231は、基材1を貫通している。第1貫通部231は、第1延出部221と第1実装電極271とに繋がっており、z方向視において第1延出部221および第1実装電極271と重なる。図1、図3および図12に示すように、本実施形態においては、第1貫通部231は、第1露出面2311を有する。第1露出面2311は、基材1の側面13からy方向に露出した面である。第1露出面2311は、側面13と略面一である。本実施形態の第1貫通部231は、z方向視において半円形状である。 The first penetration part 231 penetrates the base material 1. The first penetrating part 231 is connected to the first extending part 221 and the first mounting electrode 271, and overlaps the first extending part 221 and the first mounting electrode 271 when viewed in the z direction. As shown in FIGS. 1, 3 and 12, in the present embodiment, the first penetrating part 231 has a first exposed surface 2311. The first exposed surface 2311 is a surface exposed from the side surface 13 of the base material 1 in the y direction. The first exposed surface 2311 is substantially flush with the side surface 13. The first penetrating part 231 of the present embodiment has a semicircular shape when viewed in the z direction.

図示された例においては、第1貫通部231は、底面2312および天面2313を有する。底面2312は、第1実装電極271からz方向下方に露出している。天面2313は、第1延出部221との境界面である。底面2312は、z方向上方に僅かに凹む曲面である。天面2313は、z方向上方に僅かに膨らむ曲面である。 In the illustrated example, the first penetrating part 231 has a bottom surface 2312 and a top surface 2313. The bottom surface 2312 is exposed downward from the first mounting electrode 271 in the z direction. The top surface 2313 is a boundary surface with the first extending portion 221. The bottom surface 2312 is a curved surface slightly recessed upward in the z direction. The top surface 2313 is a curved surface that bulges slightly upward in the z direction.

このような構成の第1貫通部231の製造方法の一例について説明する。まず、図14に示すように、基板材料10を用意する。次いで、基板材料10に第1延出部221および第1実装電極271を形成する。基板材料10は、複数の基材1を形成可能な大きさおよび形状であり、図14は、側面13となるべき面における断面図である。 An example of a method of manufacturing the first penetrating part 231 having such a configuration will be described. First, as shown in FIG. 14, a substrate material 10 is prepared. Next, the first extending portion 221 and the first mounting electrode 271 are formed on the substrate material 10. The substrate material 10 has a size and shape capable of forming a plurality of base materials 1, and FIG. 14 is a cross-sectional view of a surface to be the side surface 13.

次いで、第1実装電極271側から、たとえばレーザ光を照射することにより、貫通孔2310を形成する。レーザ光の照射により、まず第1実装電極271に貫通孔が形成され、引き続き基板材料10に貫通孔が形成される。そして、第1延出部221の一部が僅かに除去された時点で、レーザ光の照射を停止する。これにより、図示された形状の貫通孔2310が得られる。この際、第1延出部221には、僅かな凹曲面が形成される。 Next, the through holes 2310 are formed by irradiating, for example, laser light from the first mounting electrode 271 side. By irradiating with laser light, first, a through hole is formed in the first mounting electrode 271, and then a through hole is formed in the substrate material 10. Then, when a part of the first extending portion 221 is slightly removed, the laser light irradiation is stopped. As a result, the through hole 2310 having the illustrated shape is obtained. At this time, a slight concave curved surface is formed on the first extending portion 221.

ついで、めっき等の手法により、貫通孔2310を金属によって埋める。このめっきにより、第1貫通部231となるべき金属部分が形成される。この金属部分のz方向下面は、z方向上方に僅かに凹む曲面とすることが好ましい。そして、基板材料10、第1実装電極271、第1延出部221および金属部分を一括して切断することにより、基材1、第1延出部221、第1実装電極271および第1貫通部231が形成される。そして、基材1には側面13が形成され、第1貫通部231には、第1露出面2311が形成される。 Then, the through hole 2310 is filled with metal by a technique such as plating. By this plating, a metal portion to be the first penetrating portion 231 is formed. The lower surface of the metal portion in the z direction is preferably a curved surface slightly recessed upward in the z direction. Then, the substrate material 10, the first mounting electrode 271, the first extending portion 221, and the metal portion are collectively cut, so that the base material 1, the first extending portion 221, the first mounting electrode 271 and the first penetrating portion. The part 231 is formed. Then, the side surface 13 is formed on the base material 1, and the first exposed surface 2311 is formed on the first penetrating portion 231.

このような第1貫通部231の態様は、第1貫通部231の具体的形状の一例である。以降に述べる一対の第2貫通部232、一対の第3貫通部233および共通貫通部246は、第1貫通部231と同様の製造方法を経た場合等においては、同様の詳細形状となりうるが、異なる詳細形状であってもよい。 Such an aspect of the first penetrating part 231 is an example of a specific shape of the first penetrating part 231. The pair of second penetrating portions 232, the pair of third penetrating portions 233, and the common penetrating portion 246, which will be described below, may have the same detailed shape when subjected to the same manufacturing method as the first penetrating portion 231, but the like. It may have a different detailed shape.

一対の第2貫通部232は、基材1を貫通している。一対の第2貫通部232は、一対の第2延出部222と一対の第2実装電極272とに個別に繋がっており、z方向視において一対の第2延出部222および一対の第2実装電極272と重なる。図1〜図3に示すように、本実施形態においては、第2貫通部232は、第2露出面2321を有する。 第2露出面2321は、基材1の側面13からy方向に露出した面である。第2露出面2321は、側面13と略面一である。本実施形態の第2貫通部232は、z方向視において半円形状である。 The pair of second penetrating portions 232 penetrates the base material 1. The pair of second penetrating portions 232 are individually connected to the pair of second extending portions 222 and the pair of second mounting electrodes 272, and when viewed in the z direction, the pair of second extending portions 222 and the pair of second mounting portions 272 are formed. It overlaps with the mounting electrode 272. As shown in FIGS. 1 to 3, in the present embodiment, the second penetrating portion 232 has a second exposed surface 2321. The second exposed surface 2321 is a surface exposed in the y direction from the side surface 13 of the base material 1. The second exposed surface 2321 is substantially flush with the side surface 13. The second penetration portion 232 of the present embodiment has a semicircular shape when viewed in the z direction.

一対の第3貫通部233は、基材1を貫通している。一対の第3貫通部233は、一対の第3延出部223と一対の第3実装電極273とに個別に繋がっており、z方向視において一対の第3延出部223および一対の第3実装電極273と重なる。図1〜図3に示すように、本実施形態においては、第3貫通部233は、第3露出面2331を有する。第3露出面2331は、基材1の側面13からy方向に露出した面である。第3露出面2331は、側面13と略面一である。本実施形態の第3貫通部233は、z方向視において半円形状である。 The pair of third penetrating portions 233 penetrates the base material 1. The pair of third penetrating portions 233 are individually connected to the pair of third extending portions 223 and the pair of third mounting electrodes 273, and when viewed in the z direction, the pair of third extending portions 223 and the pair of third extending portions 223 are formed. It overlaps with the mounting electrode 273. As shown in FIGS. 1 to 3, in the present embodiment, the third penetrating portion 233 has a third exposed surface 2331. The third exposed surface 2331 is a surface exposed in the y direction from the side surface 13 of the base material 1. The third exposed surface 2331 is substantially flush with the side surface 13. The third penetration portion 233 of the present embodiment has a semicircular shape when viewed in the z direction.

共通貫通部246は、基材1を貫通している。共通貫通部246は、共通延出部245と第4実装電極274とに繋がっており、z方向視において共通延出部245および第4実装電極274と重なる。図1および図2に示すように、本実施形態においては、共通貫通部246は、共通露出面2461を有する。共通露出面2461は、基材1の側面13からy方向に露出した面である。共通露出面2461は、側面13と略面一である。本実施形態の共通貫通部246は、z方向視において半円形状である。 The common penetration portion 246 penetrates the base material 1. The common penetrating portion 246 is connected to the common extending portion 245 and the fourth mounting electrode 274, and overlaps with the common extending portion 245 and the fourth mounting electrode 274 when viewed in the z direction. As shown in FIGS. 1 and 2, in the present embodiment, the common penetrating portion 246 has a common exposed surface 2461. The common exposed surface 2461 is a surface exposed in the y direction from the side surface 13 of the base material 1. The common exposed surface 2461 is substantially flush with the side surface 13. The common penetration portion 246 of the present embodiment has a semicircular shape when viewed in the z direction.

第1素子3は、受発光装置A1における光源であり、所定の波長帯の光を発する。第1素子3は、第1ダイボンディング部211にダイボンディングされており、基材1の主面11に搭載されている。第1素子3は、たとえばLEDチップである。第1素子3から発せられる光は特に限定されず、その一例として赤外光が例示される。本実施形態の第1素子3は、第1電極31を有する。第1電極31は、第1素子3のz方向上面に形成されている。第1素子3は、z方向下面に形成された電極(図示略)を有する。第1素子3の第1ダイボンディング部211への接合は、第1導電接合材39によってなされている。第1導電接合材39は、Agペーストまたははんだ等であり、第1素子3の電極を第1ダイボンディング部211に導通させている。 The first element 3 is a light source in the light emitting and receiving device A1 and emits light in a predetermined wavelength band. The first element 3 is die-bonded to the first die bonding portion 211 and mounted on the main surface 11 of the base material 1. The first element 3 is, for example, an LED chip. The light emitted from the first element 3 is not particularly limited, and an example thereof is infrared light. The first element 3 of the present embodiment has the first electrode 31. The first electrode 31 is formed on the upper surface of the first element 3 in the z direction. The first element 3 has an electrode (not shown) formed on the lower surface in the z direction. The bonding of the first element 3 to the first die bonding portion 211 is performed by the first conductive bonding material 39. The first conductive bonding material 39 is Ag paste, solder, or the like, and electrically connects the electrode of the first element 3 to the first die bonding portion 211.

図13は、第1素子3としてのLEDチップの一例を示している。図示された例の第1素子3は、第1電極31、第4電極32、第1基板311、第1金属層312、第1半導体層313、第2半導体層314、発光層315および第3半導体層316を有する。なお、本例においては、第1電極31がn側電極であり、第4電極がp側電極である場合について説明するが、これらが逆性となった構成であってもよい。 FIG. 13 shows an example of an LED chip as the first element 3. The first element 3 of the illustrated example includes a first electrode 31, a fourth electrode 32, a first substrate 311, a first metal layer 312, a first semiconductor layer 313, a second semiconductor layer 314, a light emitting layer 315, and a third electrode. It has a semiconductor layer 316. In addition, in this example, the case where the first electrode 31 is the n-side electrode and the fourth electrode is the p-side electrode will be described, but a configuration in which these are reversed may be used.

第1基板311は、たとえば、シリコン基板で構成されている。むろん、第1基板311は、たとえば、GaAs(ガリウム砒素)、GaP(リン化ガリウム)等の半導体基板で構成されていてもよい。第1基板311は、本例においては平面視略正方形状に形成されているが、第1基板311の平面形状は特に制限されず、たとえば、平面視長方形状であってもよい。第1基板311の厚さは、たとえば150μm程度である。 The first substrate 311 is composed of, for example, a silicon substrate. Of course, the first substrate 311 may be formed of a semiconductor substrate such as GaAs (gallium arsenide) or GaP (gallium phosphide). Although the first substrate 311 is formed in a substantially square shape in a plan view in this example, the planar shape of the first substrate 311 is not particularly limited and may be, for example, a rectangular shape in a plan view. The thickness of the first substrate 311 is, for example, about 150 μm.

第1金属層312は、第1基板311を覆うように形成されている。第1金属層312は、たとえば、AuまたはAuを含む合金で構成されている。第1金属層312は、Au層およびAu合金層それぞれの単層であってもよいし、これらの層および他の金属層が複数積層された層であってもよい。第1金属層312は、複数の積層構造である場合、たとえば、Au/AuBeNi/Au/Mo/Au/Mo/Au/Tiで示される積層構造であってもよい。第1金属層312の厚さは、たとえば、0.5μm程度である。 The first metal layer 312 is formed so as to cover the first substrate 311. The first metal layer 312 is made of, for example, Au or an alloy containing Au. The first metal layer 312 may be a single layer of each of the Au layer and the Au alloy layer, or may be a layer in which a plurality of these layers and another metal layer are laminated. When the first metal layer 312 has a plurality of laminated structures, it may have a laminated structure represented by Au/AuBeNi/Au/Mo/Au/Mo/Au/Ti, for example. The thickness of the first metal layer 312 is, for example, about 0.5 μm.

第1半導体層313は、本例においてはp型半導体層であり、たとえばp型コンタクト層およびp型ウィンドウ層を含む。第1半導体層313の厚さは、たとえば1.5μm程度である。 The first semiconductor layer 313 is a p-type semiconductor layer in this example, and includes, for example, a p-type contact layer and a p-type window layer. The thickness of the first semiconductor layer 313 is, for example, about 1.5 μm.

第2半導体層314は、本例においてはp型半導体層であり、たとえばp型クラッド層を含む。第2半導体層第1電極314の厚さは、たとえば0.8μm程度である。 The second semiconductor layer 314 is a p-type semiconductor layer in this example, and includes, for example, a p-type clad layer. The thickness of the second semiconductor layer first electrode 314 is, for example, about 0.8 μm.

発光層315は、たとえばMQW(multiple-quantum well)構造(多重量子井戸構造) を有しており、電子と正孔とが再結合することによって光が発生し、その発生した光を増幅させるための層である。 The light emitting layer 315 has, for example, an MQW (multiple-quantum well) structure (multiple quantum well structure), and light is generated by recombination of electrons and holes, and the generated light is amplified. Layers.

第3半導体層316は、本例においてはn型半導体層であり、たとえばn型クラッド層、n型ウィンドウ層およびn型コンタクト層を含む。第3半導体層第1電極316の厚さは、たとえば3.0μm程度である。 The third semiconductor layer 316 is an n-type semiconductor layer in this example, and includes, for example, an n-type cladding layer, an n-type window layer, and an n-type contact layer. The thickness of the third semiconductor layer first electrode 316 is, for example, about 3.0 μm.

第1電極31は、n側電極であり、第3半導体層316上に形成されている。第1電極31は、たとえばAuまたはAuを含む合金で構成されている。具体的には、Au/Ge/Ni/Auで示される積層構造であってもよい。 The first electrode 31 is an n-side electrode and is formed on the third semiconductor layer 316. The first electrode 31 is made of, for example, Au or an alloy containing Au. Specifically, it may be a laminated structure represented by Au/Ge/Ni/Au.

第4電極32は、p側電極であり、第1基板311の裏面に形成されている。第4電極32は、たとえばAuまたはAuを含む合金で構成されている。具体的には、)Ti/Au/Mo/Auで示される積層構造であってもよい。 The fourth electrode 32 is a p-side electrode and is formed on the back surface of the first substrate 311. The fourth electrode 32 is made of, for example, Au or an alloy containing Au. Specifically, a laminated structure represented by )Ti/Au/Mo/Au may be used.

第2素子4は、第1素子3から発せられた波長帯の光を受光することにより電気信号を生じさせる光電変換機能を果たす素子である。第2素子4は、第1素子3から発せられた光が外部の物体によって反射された際の反射光を検出するために用いられる。第2素子4は、第2ボンディング部212にダイボンディングされており、基材1の主面11に搭載されている。第2素子4は、たとえばフォトダイオードやフォトトランジスタであり、図示された第2素子4は、フォトダイオードからなる場合である。本実施形態の第2素子4は、第2電極41および受光部42を有する。第2電極41は、第2素子4のz方向上面に形成されている。図示された例においては、第2電極41は、x方向において第1素子3寄りに配置されており、y方向において共通ワイヤボンディング部240寄りに配置されている。受光部42は、第2電極41と離間した領域に設けられており、光電変換機能における受光を行う部位である。第2素子4は、z方向下面に形成された電極(図示略)を有する。第2素子4の第2ボンディング部212への接合は、第2導電接合材49によってなされている。第2導電接合材49は、Agペーストまたははんだ等であり、第2素子4の電極を第2ボンディング部212に導通させている。 The second element 4 is an element that performs a photoelectric conversion function of generating an electric signal by receiving light in the wavelength band emitted from the first element 3. The second element 4 is used to detect the reflected light when the light emitted from the first element 3 is reflected by an external object. The second element 4 is die-bonded to the second bonding portion 212 and mounted on the main surface 11 of the base material 1. The second element 4 is, for example, a photodiode or a phototransistor, and the illustrated second element 4 is a photodiode. The second element 4 of the present embodiment has a second electrode 41 and a light receiving section 42. The second electrode 41 is formed on the upper surface of the second element 4 in the z direction. In the illustrated example, the second electrode 41 is arranged closer to the first element 3 in the x direction and closer to the common wire bonding portion 240 in the y direction. The light receiving portion 42 is provided in a region separated from the second electrode 41, and is a portion that receives light in the photoelectric conversion function. The second element 4 has an electrode (not shown) formed on the lower surface in the z direction. The second element 4 is bonded to the second bonding portion 212 by the second conductive bonding material 49. The second conductive bonding material 49 is Ag paste, solder or the like, and electrically connects the electrode of the second element 4 to the second bonding portion 212.

第3素子5は、第1素子3から発せられた波長帯の光を受光することにより電気信号を生じさせる光電変換機能を果たす素子である。第3素子5は、第1素子3から発せられた光のうち、外部に出射されず、受発光装置A1内部(封止樹脂7内部)を進行してきた光を検出するために用いられる。第3素子5は、第3ダイボンディング部213にダイボンディングされており、基材1の主面11に搭載されている。第3素子5は、たとえばフォトダイオードやフォトトランジスタであり、図示された第3素子5は、フォトダイオードからなる場合である。本実施形態の第3素子5は、第3電極51および受光部52を有する。第3電極51は、第3素子5のz方向上面に形成されている。図示された例においては、第3電極51は、x方向において第1素子3寄りに配置されており、y方向において共通ワイヤボンディング部240寄りに配置されている。受光部52は、第3電極51と離間した領域に設けられており、光電変換機能における受光を行う部位である。第3素子5は、z方向下面に形成された電極(図示略)を有する。第3素子5の第3ダイボンディング部213への接合は、第3導電接合材59によってなされている。第3導電接合材59は、Agペーストまたははんだ等であり、第3素子5の電極を第3ダイボンディング部 213に導通させている。 The third element 5 is an element that performs a photoelectric conversion function of generating an electric signal by receiving light in the wavelength band emitted from the first element 3. The third element 5 is used to detect, of the light emitted from the first element 3, the light that has not been emitted to the outside and has proceeded inside the light receiving/emitting device A1 (inside the sealing resin 7). The third element 5 is die-bonded to the third die-bonding portion 213 and mounted on the main surface 11 of the base material 1. The third element 5 is a photodiode or a phototransistor, for example, and the illustrated third element 5 is a photodiode. The third element 5 of the present embodiment has a third electrode 51 and a light receiving section 52. The third electrode 51 is formed on the upper surface of the third element 5 in the z direction. In the illustrated example, the third electrode 51 is arranged closer to the first element 3 in the x direction and closer to the common wire bonding portion 240 in the y direction. The light receiving portion 52 is provided in a region separated from the third electrode 51, and is a portion that receives light in the photoelectric conversion function. The third element 5 has an electrode (not shown) formed on the lower surface in the z direction. The third element 5 is joined to the third die bonding portion 213 by the third conductive joining material 59. The third conductive bonding material 59 is Ag paste, solder or the like, and connects the electrode of the third element 5 to the third die bonding portion 213.

図6に示す、第1素子3のz方向の高さH3、第2素子4のz方向の高さH4および第3素子5のz方向の高さH5は、様々に設定可能であり、高さH3〜H5がすべて同じでもよいし、すべてが互いに異なっていてもよいし、いずれか2つのみが同じであってもよい。図示された例においては、高さH3が、高さH4,H5よりも低い。また、高さH4と高さH5は、同じ高さである。高さH3は、たとえば0.10mm程度であり、高さH4および高さH5は、たとえば0.13mm程度である。 The height H3 of the first element 3 in the z direction, the height H4 of the second element 4 in the z direction, and the height H5 of the third element 5 in the z direction shown in FIG. 6 can be set in various ways. All of H3 to H5 may be the same, all may be different from each other, or only two of them may be the same. In the illustrated example, the height H3 is lower than the heights H4 and H5. Further, the height H4 and the height H5 are the same height. The height H3 is, for example, about 0.10 mm, and the height H4 and the height H5 are, for example, about 0.13 mm.

第1ワイヤ61は、第1素子3と導電部2とを導通させるものである。第1ワイヤ61は、たとえばAuからなる。第1ワイヤ61は、第1素子3の第1電極31と導電部2の共通ワイヤボンディング部240とにボンディングされている。ボンディング部611は、第1ワイヤ61のうち共通ワイヤボンディング部240にボンディングされた部分である。 The first wire 61 connects the first element 3 and the conductive portion 2 to each other. The first wire 61 is made of Au, for example. The first wire 61 is bonded to the first electrode 31 of the first element 3 and the common wire bonding portion 240 of the conductive portion 2. The bonding portion 611 is a portion of the first wire 61 that is bonded to the common wire bonding portion 240.

第2ワイヤ62は、第2素子4と導電部2とを導通させるものである。第2ワイヤ62は、たとえばAuからなる。第2ワイヤ62は、第2素子4の第2電極41と導電部2の共通ワイヤボンディング部240とにボンディングされている。ボンディング部621は、第2ワイヤ62のうち共通ワイヤボンディング部240にボンディングされた部分である。 The second wire 62 electrically connects the second element 4 and the conductive portion 2. The second wire 62 is made of Au, for example. The second wire 62 is bonded to the second electrode 41 of the second element 4 and the common wire bonding portion 240 of the conductive portion 2. The bonding portion 621 is a portion of the second wire 62 that is bonded to the common wire bonding portion 240.

第3ワイヤ63は、第3素子5と導電部2とを導通させるものである。第3ワイヤ63は、たとえばAuからなる。第3ワイヤ63は、第3素子5の第3電極51と導電部2の共通ワイヤボンディング部240とにボンディングされている。ボンディング部631は、第3ワイヤ63のうち共通ワイヤボンディング部240にボンディングされた部分である。 The third wire 63 connects the third element 5 and the conductive portion 2 to each other. The third wire 63 is made of Au, for example. The third wire 63 is bonded to the third electrode 51 of the third element 5 and the common wire bonding portion 240 of the conductive portion 2. The bonding portion 631 is a portion of the third wire 63 that is bonded to the common wire bonding portion 240.

図1に示すように、本実施形態においては、ボンディング部611、ボンディング部621およびボンディング部631のすべてが、y方向において第2ボンディング部212および第3ダイボンディング部213が存在する領域(寸法y1の領域)に存在している。また、ボンディング部611、ボンディング部621およびボンディング部631のすべてが、x方向において第1ダイボンディング部211が存在する領域(寸法x1の領域)に存在している。 As shown in FIG. 1, in the present embodiment, all of the bonding portion 611, the bonding portion 621, and the bonding portion 631 are regions (dimension y1) where the second bonding portion 212 and the third die bonding portion 213 exist in the y direction. Area). Further, all of the bonding portion 611, the bonding portion 621, and the bonding portion 631 are present in the area where the first die bonding portion 211 is present in the x direction (area of dimension x1).

図4の回路図に示すように、本実施形態においては、第1素子3の第1電極31が第1素子3のカソード電極であり、図示しない裏面電極がアノード電極である。また、第2素子4の第2電極41および第3素子5の第3電極51が、アノード電極であり、第2素子4および第3素子5の図示しない裏面電極がカソード電極である。これにより、第1実装電極271は、第1素子3のアノード電極と導通し、第2実装電極272は、第2素子4のカソード電極と導通し、第3実装電極273は、第3素子5のカソード電極と導通している。また、第4実装電極274は、第1ワイヤ61、第2ワイヤ62および第3ワイヤ63が共通ワイヤボンディング部240にボンディングされていることにより、第1素子3のカソード電極と第2素子4および第3素子5のアノード電極とに導通している。すなわち、第1素子3と第2素子4および第3素子5とは、逆極性の関係で接続されている。 As shown in the circuit diagram of FIG. 4, in the present embodiment, the first electrode 31 of the first element 3 is the cathode electrode of the first element 3, and the back electrode (not shown) is the anode electrode. The second electrode 41 of the second element 4 and the third electrode 51 of the third element 5 are anode electrodes, and the back electrodes (not shown) of the second element 4 and the third element 5 are cathode electrodes. As a result, the first mounting electrode 271 is electrically connected to the anode electrode of the first element 3, the second mounting electrode 272 is electrically connected to the cathode electrode of the second element 4, and the third mounting electrode 273 is connected to the third element 5. Is connected to the cathode electrode of. The fourth mounting electrode 274 has the first wire 61, the second wire 62, and the third wire 63 bonded to the common wire bonding portion 240, so that the cathode electrode of the first element 3 and the second element 4 It is electrically connected to the anode electrode of the third element 5. That is, the first element 3, the second element 4, and the third element 5 are connected in a relationship of opposite polarities.

封止樹脂7は、第1素子3、第2素子4および第3素子5を覆っており、基材1の主面11に形成されている。封止樹脂7は、第1素子3から発せられる波長帯の光を透過させる材質からなり、たとえば透光性を有するエポキシ樹脂やシリコーン樹脂からなる。本実施形態の封止樹脂7は、出射部71、入射部72、被覆部73、第1部74および第2部75を有する。 The sealing resin 7 covers the first element 3, the second element 4, and the third element 5, and is formed on the main surface 11 of the base material 1. The sealing resin 7 is made of a material that transmits light in the wavelength band emitted from the first element 3, and is made of, for example, a translucent epoxy resin or silicone resin. The encapsulating resin 7 of the present embodiment has an emitting part 71, an incident part 72, a covering part 73, a first part 74 and a second part 75.

出射部71は、第1素子3からの光を出射させる面であり、z方向視において第1素子3と重なっている。図示された例においては、出射部71は、平滑な平面である。 The emitting portion 71 is a surface for emitting light from the first element 3, and overlaps the first element 3 when viewed in the z direction. In the illustrated example, the emission part 71 is a smooth flat surface.

入射部72は、外部の物体によって反射された光を第3素子5に向けて入射させる面である。入射部72は、z方向視において第2素子4と重なっている。本実施形態においては、入射部72は、出射部71に対してx方向に並んで配置されている。図示された例においては、入射部72は、平滑な平面である。 The incident section 72 is a surface that allows the light reflected by an external object to enter the third element 5. The incident portion 72 overlaps the second element 4 when viewed in the z direction. In the present embodiment, the incident part 72 is arranged side by side in the x direction with respect to the emitting part 71. In the illustrated example, the entrance 72 is a smooth flat surface.

被覆部73は、x方向において出射部71に対して入射部72とは反対側に位置する面である。被覆部73は、z方向視において第3素子5と重なっている。図示された例においては、被覆部73は、平滑な平面である。 The covering portion 73 is a surface located on the side opposite to the incident portion 72 with respect to the emitting portion 71 in the x direction. The covering portion 73 overlaps the third element 5 when viewed in the z direction. In the illustrated example, the covering portion 73 is a smooth flat surface.

第1部74は、被覆部73の出射部71側の境界に位置しており、屈曲した形状の部分である。図示された例においては、図11に示すように、第1部74は、第1角部741、第2角部742および側面743を有する。側面743は、出射部71と被覆部73との間に位置する面である。図示された例においては、被覆部73は、出射部71よりもz方向において基材1の主面11から離間している。側面743は、たとえばz方向に平行な面である。第1角部741は、被覆部73と側面743との境界からなる。被覆部73と側面743とは、互いのなす角が180°を超えており、図示された例においては、270°程度である。第2角部742は、側面743と出射部71との境界からなる。側面743と出射部71とがなす角は、90°程度である。 The first portion 74 is located at the boundary of the covering portion 73 on the side of the emitting portion 71 and is a bent portion. In the illustrated example, as shown in FIG. 11, the first portion 74 has a first corner portion 741, a second corner portion 742 and a side surface 743. The side surface 743 is a surface located between the emitting portion 71 and the covering portion 73. In the illustrated example, the covering portion 73 is farther from the main surface 11 of the base material 1 in the z direction than the emitting portion 71. The side surface 743 is, for example, a surface parallel to the z direction. The first corner portion 741 includes the boundary between the covering portion 73 and the side surface 743. The angle formed between the covering portion 73 and the side surface 743 exceeds 180°, which is about 270° in the illustrated example. The second corner portion 742 includes the boundary between the side surface 743 and the emitting portion 71. The angle formed by the side surface 743 and the emitting portion 71 is about 90°.

第2部75は、出射部71および入射部72の間に位置しており、封止樹脂7の内部からの光の反射率が出射部71よりも低い部位である。図示された例においては、第2部75は、出射部71および入射部72からz方向に凹む溝状である。図10に示すように、第2部75は、底面752および一対の側面753を有する溝部751からなる。底面752は、z方向奥方に位置する面である。一対の側面753は、出射部71および入射部72と底面752とを繋いでいる。図示された例においては、底面752および一対の側面753は、出射部71および入射部72よりも表面粗さが粗い面である。第2部75は、たとえば樹脂材料を硬化させることにより封止樹脂7を形成し、封止樹脂7の一部をブレード等によって切削することにより形成される。なお、第2部75が金型によって形成される場合、底面752のみが表面粗さが粗い面によって構成され、側面753が出射部71や入射部72と同等の平滑な面によって構成されていてもよい。 The second portion 75 is located between the emitting portion 71 and the incident portion 72, and is a portion where the reflectance of light from the inside of the sealing resin 7 is lower than that of the emitting portion 71. In the illustrated example, the second portion 75 has a groove shape that is recessed from the emitting portion 71 and the incident portion 72 in the z direction. As shown in FIG. 10, the second portion 75 includes a groove portion 751 having a bottom surface 752 and a pair of side surfaces 753. The bottom surface 752 is a surface located at the back in the z direction. The pair of side surfaces 753 connect the emitting portion 71, the incident portion 72, and the bottom surface 752. In the illustrated example, the bottom surface 752 and the pair of side surfaces 753 are surfaces having a rougher surface than the emission portion 71 and the incidence portion 72. The second portion 75 is formed, for example, by forming a sealing resin 7 by curing a resin material and cutting a part of the sealing resin 7 with a blade or the like. When the second portion 75 is formed by a mold, only the bottom surface 752 is formed by a surface having a rough surface and the side surface 753 is formed by a smooth surface equivalent to the emitting portion 71 and the incident portion 72. Good.

図1に示すように、図示された例においては、第2部75は、z方向視における領域R1において第1ダイボンディング部211と重なっている。また、第2部75は、z方向における領域R2において第2ボンディング部212と重なっている。また、第2部75は、z方向視における領域R3において第1部74と重なっている。領域R1、領域R2および領域R3においては、底面752と第1ダイボンディング部211、第2ボンディング部212および共通ワイヤボンディング部240との距離である高さHが、底面752と主面11との距離よりも小さい。また、第2部75は、z方向視において第2ワイヤ62と重なっている。 As shown in FIG. 1, in the illustrated example, the second portion 75 overlaps the first die bonding portion 211 in the region R1 when viewed in the z direction. The second portion 75 overlaps the second bonding portion 212 in the region R2 in the z direction. In addition, the second portion 75 overlaps the first portion 74 in the region R3 when viewed in the z direction. In the regions R1, R2, and R3, the height H that is the distance between the bottom surface 752 and the first die bonding portion 211, the second bonding portion 212, and the common wire bonding portion 240 is the height between the bottom surface 752 and the main surface 11. Less than distance. The second portion 75 overlaps the second wire 62 when viewed in the z direction.

遮光層8は、封止樹脂7よりも光の透過率が低い材質からなり、たとえば黒色や濃色の塗料によって形成される。遮光層8は、封止樹脂7の被覆部73を覆っており、z方向視において第3素子5の少なくとも一部と重なる。図示された例においては、遮光層8は、z方向において第3素子5のすべてと重なっている。なお、遮光層8の材料としては、たとえば塗布可能な材料としてレジストインクやエポキシ樹脂が例示される。また、遮光層8の別の材料としては、接着等の手段によって形成可能なものとして光学フィルターや光学フィルム等が例示される。 The light shielding layer 8 is made of a material having a light transmittance lower than that of the sealing resin 7, and is formed of, for example, black or dark color paint. The light shielding layer 8 covers the covering portion 73 of the sealing resin 7, and overlaps at least a part of the third element 5 when viewed in the z direction. In the illustrated example, the light shielding layer 8 overlaps all of the third elements 5 in the z direction. The material of the light-shielding layer 8 is, for example, a resist ink or an epoxy resin as a coatable material. As another material of the light shielding layer 8, an optical filter, an optical film or the like is exemplified as a material that can be formed by means such as adhesion.

図11に示すように、遮光層8は、端縁80を有する。端縁80は、第1部74と一致しており、図示された例においては、第1部74の第1角部741と一致している。また、遮光層8は、曲面81を有する。曲面81は、端縁80に繋がっており、凸形状の曲面である。曲面81は、遮光層8を形成するための塗料を封止樹脂7の被覆部73に塗布した際に形成される。被覆部73から広がろうとする塗料が、第1角部741において接触角が大きくなることにより、表面張力の作用によって留められた状態で硬化することにより曲面81が形成される。なお、遮光層8は、曲面81を有していなくてもよい。また、遮光層8の端縁80は、第1部74と一致していなくてもよい。 As shown in FIG. 11, the light shielding layer 8 has an edge 80. The edge 80 coincides with the first portion 74, and in the example shown, coincides with the first corner portion 741 of the first portion 74. Further, the light shielding layer 8 has a curved surface 81. The curved surface 81 is connected to the edge 80 and is a convex curved surface. The curved surface 81 is formed when the coating material for forming the light shielding layer 8 is applied to the coating portion 73 of the sealing resin 7. The paint that is about to spread from the covering portion 73 has a large contact angle at the first corner portion 741 and is hardened in a state of being held by the action of the surface tension to form the curved surface 81. The light shielding layer 8 may not have the curved surface 81. Further, the edge 80 of the light shielding layer 8 does not have to match the first portion 74.

次に、受発光装置A1の作用について説明する。 Next, the operation of the light emitting and receiving device A1 will be described.

本実施形態によれば、遮光層8が設けられていることにより、受発光装置A1外から進行してくる光を、第3素子5が受光することを抑制することが可能である。これにより、第3素子5による第1素子3の状態監視をより正確に行うことが可能である。したがって、受発光装置A1は、より高精度な検出機能を果たすことができる。 According to the present embodiment, since the light shielding layer 8 is provided, it is possible to prevent the third element 5 from receiving the light traveling from the outside of the light emitting and receiving device A1. Thereby, it is possible to more accurately monitor the state of the first element 3 by the third element 5. Therefore, the light emitting and receiving device A1 can perform a more accurate detection function.

また、第1素子3および第2素子4に加えて、第3素子5が備えられている。第3素子5は、第1素子3から発せられた光のうち、封止樹脂7内を進行してきた光を受光する。このため、第3素子5の検出信号は、受発光装置A1の外部の状況に左右されにくく、経年変化等の第1素子3自体の状態が反映される。これにより、第1素子3の発光状態を継続的に監視することが可能である。したがって、第2素子4の検出信号の処理に、第3素子5の検出結果を反映させることにより、より長い期間において受発光装置A1を適切に機能させることができる。 A third element 5 is provided in addition to the first element 3 and the second element 4. Of the light emitted from the first element 3, the third element 5 receives the light traveling in the sealing resin 7. Therefore, the detection signal of the third element 5 is unlikely to be affected by the external condition of the light emitting and receiving device A1, and reflects the state of the first element 3 itself such as aging. As a result, it is possible to continuously monitor the light emitting state of the first element 3. Therefore, by reflecting the detection result of the third element 5 in the processing of the detection signal of the second element 4, the light emitting and receiving device A1 can properly function in a longer period.

封止樹脂7に入射部72が設けられていることにより、遮光層8を所望の領域により正確に形成することが可能である。また、遮光層8の曲面81が設けられていることは、遮光層8の当該部分の厚さが相対的に厚い構成となりやすい。この部分の厚さが厚いことは、遮光層8による遮光効果を高めるのに有利である。また、遮光層8が、z方向視において第3素子5のすべてと重なる構成は、遮光層8による遮光効果を高めるのに好ましい。 By providing the incident portion 72 on the sealing resin 7, the light shielding layer 8 can be formed more accurately in a desired region. In addition, the provision of the curved surface 81 of the light shielding layer 8 tends to result in a relatively thick configuration of the relevant portion of the light shielding layer 8. The large thickness of this portion is advantageous for enhancing the light shielding effect of the light shielding layer 8. Further, the configuration in which the light shielding layer 8 overlaps all the third elements 5 when viewed in the z direction is preferable in order to enhance the light shielding effect of the light shielding layer 8.

第2部75は、出射部71や入射部72よりも表面粗さが粗い。このような第2部75が設けられていることにより、第1素子3から発せられた光が、封止樹脂7の表面において反射され、第2素子4に意図せず受光されることを抑制することができる。これにより、第2素子4による誤検出を抑制することができる。 The second portion 75 has a rougher surface than the emitting portion 71 and the incident portion 72. By providing such a second portion 75, it is possible to prevent light emitted from the first element 3 from being reflected on the surface of the sealing resin 7 and being unintentionally received by the second element 4. can do. As a result, erroneous detection by the second element 4 can be suppressed.

第2部75が溝状であることにより、第2部75による反射抑制を促進することができる。また、図示された例においては、領域R1、領域R2および領域R3において、第2部75が第1ダイボンディング部211、第2ボンディング部212および共通ワイヤボンディング部240と重なる。これらの領域においては、図5および図6に示すように、底面752と第1ダイボンディング部211、第2ボンディング部212および共通ワイヤボンディング部240との距離である高さHが、底面752と主面11との距離よりも小さい。これは、第1素子3から発せられた光が封止樹脂7内を進行する経路を狭めることを意味しており、第2素子4による意図しない受光を抑制するのに好ましい。 Since the second portion 75 has the groove shape, the suppression of reflection by the second portion 75 can be promoted. In the illustrated example, the second portion 75 overlaps the first die bonding portion 211, the second bonding portion 212, and the common wire bonding portion 240 in the region R1, the region R2, and the region R3. In these areas, as shown in FIGS. 5 and 6, the height H, which is the distance between the bottom surface 752 and the first die bonding portion 211, the second bonding portion 212, and the common wire bonding portion 240, is equal to the bottom surface 752. It is smaller than the distance from the main surface 11. This means that the light emitted from the first element 3 narrows the path that travels in the sealing resin 7, and is preferable for suppressing unintended light reception by the second element 4.

図1に示すように、第2素子4の第2電極41が、x方向およびy方向において共通ワイヤボンディング部240寄りに設けられている。これにより、図5に示すように、第2ワイヤ62が、第2素子4の受光部42等と干渉することを回避しつつ、第2ワイヤ62の基材1からのz方向高さを抑制することが可能である。これは、受発光装置A1の薄型化に好ましい。同様に、図1に示すように、第3電極51は、x方向およびy方向において共通ワイヤボンディング部240寄りに設けられている。これにより、第3ワイヤ63の基材1からのz方向高さを抑制することが可能である。これは、受発光装置A1の薄型化に好ましい。 As shown in FIG. 1, the second electrode 41 of the second element 4 is provided near the common wire bonding portion 240 in the x direction and the y direction. As a result, as shown in FIG. 5, the height of the second wire 62 in the z direction from the base material 1 is suppressed while avoiding the interference of the second wire 62 with the light receiving portion 42 of the second element 4. It is possible to This is preferable for thinning the light emitting and receiving device A1. Similarly, as shown in FIG. 1, the third electrode 51 is provided near the common wire bonding portion 240 in the x direction and the y direction. This makes it possible to suppress the height of the third wire 63 from the base material 1 in the z direction. This is preferable for thinning the light emitting and receiving device A1.

図16〜図40は、本開示の他の実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。 16 to 40 show another embodiment of the present disclosure. Note that, in these drawings, the same or similar elements as those in the above embodiment are denoted by the same reference numerals as those in the above embodiment.

<第1実施形態 第1変形例>
図16は、受発光装置A1の第1変形例を示す要部拡大断面図である。本変形例の受発光装置A11においては、側面743と出射部71とのなす角度αが、90°よりも大きい。このような構成は、たとえば封止樹脂7を形成するための金型を、封止樹脂7からスムーズに離脱させるのに有利である。
<First Embodiment First Modification>
FIG. 16 is an enlarged sectional view of an essential part showing a first modified example of the light emitting and receiving device A1. In the light emitting and receiving device A11 of this modification, the angle α formed by the side surface 743 and the emitting portion 71 is larger than 90°. Such a configuration is advantageous, for example, for smoothly releasing the mold for forming the sealing resin 7 from the sealing resin 7.

<第1実施形態 第2変形例>
図17は、受発光装置A1の第2変形例を示す要部拡大断面図である。本変形例の受発光装置A12においては、出射部71がz方向において被覆部73よりも基材1の主面11から離間している。そして、第1部74は、被覆部73側から、第2角部742、側面743および第1角部741を有する構成となっている。すなわち、本変形例の第1角部741は、側面743と出射部71との境界からなる。側面743と出射部71とは、互いのなす角度が180°を超えており、たとえば270°程度である。このような変形例によっても、第1部74の第1角部741において、遮光層8を形成するための塗料を留まらせることが可能であり、所望の領域に遮光層8をより正確に形成することができる。
<First Embodiment Second Modification>
FIG. 17 is an enlarged sectional view of an essential part showing a second modified example of the light emitting and receiving device A1. In the light emitting and receiving device A12 of the present modification, the emitting portion 71 is farther from the main surface 11 of the base material 1 than the covering portion 73 in the z direction. Then, the first portion 74 is configured to have a second corner portion 742, a side surface 743, and a first corner portion 741 from the covering portion 73 side. That is, the first corner portion 741 of this modified example is composed of the boundary between the side surface 743 and the emitting portion 71. The side surface 743 and the emitting portion 71 form an angle of more than 180° with each other, for example, about 270°. Even with such a modification, the paint for forming the light shielding layer 8 can be retained in the first corner portion 741 of the first portion 74, and the light shielding layer 8 can be formed more accurately in a desired region. can do.

なお、封止樹脂7を金型により成形する際に、出射部71と被覆部73が同時に形成してもよいがその限りでない。金型による成形の段階では被覆部73を形成せずに、出射部71とフラットな面を形成しておき、その後、レーザ照射によって、遮光層8を塗布すべき領域を掘り下げ、被覆部73を形成してもよい。 It should be noted that when the sealing resin 7 is molded with a mold, the emitting portion 71 and the covering portion 73 may be formed at the same time, but the invention is not limited thereto. At the stage of molding with a die, the covering portion 73 is not formed, a flat surface is formed with the emitting portion 71, and then the region to be coated with the light shielding layer 8 is dug down by laser irradiation to form the covering portion 73. It may be formed.

<第1実施形態 第3変形例>
図18は、受発光装置A1の第3変形例を示す要部拡大断面図である。本変形例の受発光装置A13においては、出射部71と被覆部73とが、z方向において略同じ位置にある。また、第1部74は、底面744および一対の側面743と一対の第1角部741および一対の第2角部742を有する、溝状である。底面744は、z方向奥方に位置する面である。一対の側面743は、底面744と出射部71および入射部72とを個別に繋いでいる。一対の第1角部741は、一方の側面743と出射部71との境界、および他方の側面743と被覆部73との境界、によって構成されている。
<First Embodiment Third Modification>
FIG. 18 is an enlarged sectional view of an essential part showing a third modified example of the light emitting and receiving device A1. In the light emitting and receiving device A13 of this modification, the emitting part 71 and the covering part 73 are located at substantially the same position in the z direction. Further, the first portion 74 has a groove shape having a bottom surface 744, a pair of side surfaces 743, a pair of first corner portions 741 and a pair of second corner portions 742. The bottom surface 744 is a surface located at the back in the z direction. The pair of side surfaces 743 individually connect the bottom surface 744 to the emitting portion 71 and the incident portion 72. The pair of first corners 741 is configured by a boundary between the one side surface 743 and the emitting portion 71 and a boundary between the other side surface 743 and the covering portion 73.

このような変形例によっても、第1部74の第1角部741において、遮光層8を形成するための塗料を留まらせることが可能であり、所望の領域に遮光層8をより正確に形成することができる。また、第1部74が一対の第1角部741を有することにより、図中左方の第1角部741によって遮光層8を形成するための塗料が留まらない場合であっても、図中において想像線で示すように図中右方の第1角部741によってこの塗料を留まらせることができる。 Even with such a modification, the paint for forming the light shielding layer 8 can be retained in the first corner portion 741 of the first portion 74, and the light shielding layer 8 can be formed more accurately in a desired region. can do. Further, even when the first portion 74 has the pair of first corner portions 741 and the paint for forming the light shielding layer 8 is not retained by the first corner portion 741 on the left side in the drawing, The paint can be retained by the first corner portion 741 on the right side of the drawing as shown by the imaginary line in FIG.

<第1実施形態 第4変形例>
図19は、受発光装置A1の第4変形例を示す要部拡大断面図である。本変形例の受発光装置A14においては、出射部71と被覆部73とが、z方向において略同じ位置にある。また、第1部74は、頂面745および一対の側面743と一対の第1角部741および一対の第2角部742を有する、凸状である。頂面745は、z方向最上位に位置する面である。一対の側面743は、頂面745と出射部71および入射部72とを個別に繋いでいる。一対の第1角部741は、一方の側面743と頂面745との境界によって構成されている。
<First Embodiment Fourth Modification>
FIG. 19 is an enlarged sectional view of an essential part showing a fourth modified example of the light emitting and receiving device A1. In the light emitting and receiving device A14 of the present modification, the emitting part 71 and the covering part 73 are located at substantially the same position in the z direction. The first portion 74 has a convex shape having a top surface 745, a pair of side surfaces 743, a pair of first corner portions 741 and a pair of second corner portions 742. The top surface 745 is a surface located at the highest position in the z direction. The pair of side surfaces 743 individually connect the top surface 745 to the emitting portion 71 and the incident portion 72. The pair of first corners 741 is formed by the boundary between the one side surface 743 and the top surface 745.

このような変形例によっても、第1部74の第1角部741において、遮光層8を形成するための塗料を留まらせることが可能であり、所望の領域に遮光層8をより正確に形成することができる。また、第1部74が一対の第1角部741を有することにより、図中左方の第1角部741によって遮光層8を形成するための塗料が留まらない場合であっても、図中において想像線で示すように図中右方の第1角部741によってこの塗料を留まらせることができる。 Even with such a modification, the paint for forming the light shielding layer 8 can be retained in the first corner portion 741 of the first portion 74, and the light shielding layer 8 can be formed more accurately in a desired region. can do. Further, even when the first portion 74 has the pair of first corner portions 741 and the paint for forming the light shielding layer 8 is not retained by the first corner portion 741 on the left side in the drawing, The paint can be retained by the first corner portion 741 on the right side of the drawing as shown by the imaginary line in FIG.

<第1実施形態 第5変形例>
図20は、受発光装置A1の第5変形例を示す要部拡大断面図である。本変形例の受発光装置A15においては、出射部71と被覆部73とが、z方向において略同じ位置にある。また、出射部71と入射部72との間には、上述した第1部74が形成されていない。本変形例においては、遮光層8の形成では、たとえば出射部71となる領域をマスクした状態で、遮光層8の材料を塗布する。そして、当該マスクを除去することにより、遮光層8が得られる。
<First Embodiment Fifth Modification>
FIG. 20 is an enlarged sectional view of an essential part showing a fifth modified example of the light emitting and receiving device A1. In the light emitting and receiving device A15 of the present modification, the emitting part 71 and the covering part 73 are located at substantially the same position in the z direction. Further, the above-mentioned first portion 74 is not formed between the emitting portion 71 and the incident portion 72. In the present modification, when forming the light shielding layer 8, the material of the light shielding layer 8 is applied, for example, in a state where the region to be the emitting portion 71 is masked. Then, the light shielding layer 8 is obtained by removing the mask.

このような変形例から理解されるように、封止樹脂7が第1部74を有さない構成であっても、出射部71を露出させ、被覆部73を覆うように遮光層8が設けられることにより、より高度な検出機能を果たすことができる。 As can be understood from such a modified example, even if the sealing resin 7 does not have the first portion 74, the light shielding layer 8 is provided so as to expose the emitting portion 71 and cover the covering portion 73. As a result, a higher detection function can be achieved.

<遮光層に関する変形>
1. 遮光層8として、封止樹脂7よりも光の透過率が低い材質を用いたがその限りでない。たとえば、遮光層8として、反射膜を用いてもよい。この場合、反射膜としてはアルミニウムなどの金属材料を用いることができ、たとえばめっきにより被覆部73の上面に成膜してもよい。
<Deformation regarding the light shielding layer>
1. As the light-shielding layer 8, a material having a light transmittance lower than that of the sealing resin 7 is used, but the material is not limited thereto. For example, a reflective film may be used as the light shielding layer 8. In this case, a metal material such as aluminum can be used as the reflective film, and the reflective film may be formed on the upper surface of the covering portion 73 by plating, for example.

2. 封止樹脂7を変質させることにより遮光層8を形成してもよい。図17を参照してこの工法を説明する。はじめに、被覆部73を設けずに封止樹脂7を金型成形する。そして封止樹脂7の表面の、遮光層8を形成すべき領域に、レーザを照射し、透明の封止樹脂7を変質させ、透過率を低下させる。変質のメカニズムは特に限定されないが、熱的な反応を利用してもよいし、光学的な反応を利用してもよい。レーザはUVレーザが好適である。 2. The light shielding layer 8 may be formed by changing the quality of the sealing resin 7. This construction method will be described with reference to FIG. First, the sealing resin 7 is molded by molding without providing the covering portion 73. Then, a region of the surface of the sealing resin 7 where the light shielding layer 8 is to be formed is irradiated with a laser to change the quality of the transparent sealing resin 7 and reduce the transmittance. The alteration mechanism is not particularly limited, but a thermal reaction or an optical reaction may be used. The laser is preferably a UV laser.

図17や図19において、被覆部73をフラットとしたがその限りでない。図51(a)、(b)は、変形例に係る遮光層を備える受発光装置A1の断面図である。 Although the covering portion 73 is flat in FIGS. 17 and 19, it is not limited thereto. 51A and 51B are cross-sectional views of a light emitting and receiving device A1 including a light shielding layer according to a modification.

図51(a)、(b)において、被覆部73は、出射部71に近い第1部74、言い換えれば第1素子3と第3素子5の境界部分に、溝76を有し、溝76に遮光層8が充填される。図51(a)では断面が矩形の溝76が設けられ、図51(b)では、丸みを帯びた溝78が形成される。この溝76、78により、受発光装置A1外からの入射光L1が第3素子5に入射するのを抑制することが可能である。 In FIGS. 51A and 51B, the covering portion 73 has a groove 76 in the first portion 74 close to the emitting portion 71, in other words, in the boundary portion between the first element 3 and the third element 5, and the groove 76. Is filled with the light shielding layer 8. In FIG. 51A, a groove 76 having a rectangular cross section is provided, and in FIG. 51B, a rounded groove 78 is formed. The grooves 76 and 78 can prevent the incident light L1 from the outside of the light emitting/receiving device A1 from entering the third element 5.

<第1実施形態 第6変形例>
図21は、受発光装置A1の第6変形例を示している。本変形例の受発光装置A16においては、第2部75が曲面からなる溝部751によって構成されている。このような構成であっても、第1素子3から発せられた光が、封止樹脂7の表面において反射され、第2素子4に意図せず受光されることを抑制することができる。
<First Embodiment Sixth Modification>
FIG. 21 shows a sixth modification of the light emitting and receiving device A1. In the light emitting and receiving device A16 of this modification, the second portion 75 is configured by the groove portion 751 having a curved surface. Even with such a configuration, it is possible to prevent light emitted from the first element 3 from being reflected on the surface of the sealing resin 7 and being unintentionally received by the second element 4.

<第1実施形態 第7変形例>
図22は、受発光装置A1の第7変形例を示している。本変形例の受発光装置A17においては、第2部75は、平坦な形状の粗い面からなり、溝状や凸状の形状ではない。本変形例においても、第2部75は、出射部71および入射部72よりも表面粗さが粗い。このような構成であっても、第1素子3から発せられた光が、封止樹脂7の表面において反射され、第2素子4に意図せず受光されることを抑制することができる。また、第2部75における応力集中を緩和する効果が期待できる。
<Seventh Modification of First Embodiment>
FIG. 22 shows a seventh modified example of the light emitting and receiving device A1. In the light emitting and receiving device A17 of the present modification, the second portion 75 is made of a flat rough surface and is not in the shape of a groove or a protrusion. Also in this modification, the second portion 75 has a rougher surface than the emitting portion 71 and the incident portion 72. Even with such a configuration, it is possible to prevent light emitted from the first element 3 from being reflected on the surface of the sealing resin 7 and being unintentionally received by the second element 4. Further, the effect of relaxing the stress concentration in the second portion 75 can be expected.

<第1実施形態 第8変形例>
図23は、受発光装置A1の第8変形例を示している。本変形例の受発光装置A18においては、第2部75が、z方向視での領域R1において第1ダイボンディング部211と重なり、領域R3において共通ワイヤボンディング部240と重なる一方、第2ボンディング部212とは重なっていない。このような変形例によっても、領域R1および領域R3が設定されていることにより、意図しない第3素子5の受光を抑制する効果が高められる。
<First Embodiment Eighth Modification>
FIG. 23 shows an eighth modification of the light emitting/receiving device A1. In the light emitting and receiving device A18 of this modification, the second portion 75 overlaps with the first die bonding portion 211 in the region R1 when viewed in the z direction and overlaps with the common wire bonding portion 240 in the region R3, while the second bonding portion. It does not overlap with 212. Also in such a modification, the region R1 and the region R3 are set, so that the effect of suppressing unintended light reception of the third element 5 is enhanced.

<第1実施形態 第9変形例>
図24は、受発光装置A1の第9変形例を示している。本変形例の受発光装置A19においては、第2部75が、z方向視での領域R2において第2ボンディング部212と重なる一方、第1ダイボンディング部211および共通ワイヤボンディング部240とは重なっていない。このような変形例によっても、領域R2が設定されていることにより、意図しない第3素子5の受光を抑制する効果が高められる。
<First Embodiment Ninth Modification>
FIG. 24 shows a ninth modification of the light emitting and receiving device A1. In the light emitting and receiving device A19 of this modification, the second portion 75 overlaps with the second bonding portion 212 in the region R2 when viewed in the z direction, while overlapping with the first die bonding portion 211 and the common wire bonding portion 240. Absent. Even in such a modification, the effect of suppressing unintended light reception of the third element 5 is enhanced by setting the region R2.

<第1実施形態 第10変形例>
図25〜図27は、受発光装置A1の第10変形例を示している。本変形例の受発光装置A1aにおいては、第1素子3として、VCSEL素子が用いられている。
<First Modification of Tenth Embodiment>
25 to 27 show a tenth modified example of the light emitting and receiving device A1. In the light emitting and receiving device A1a of this modification, a VCSEL element is used as the first element 3.

図25に示すように、本例の第1素子3は、平面視において第1電極31と複数の発光領域360が設けられている。第1電極31は、y方向において共通ワイヤボンディング部240寄りに配置されている。複数の発光領域360は、第1素子3の平面視において第1電極31を除く領域に離散配置されている。 As shown in FIG. 25, the first element 3 of this example is provided with the first electrode 31 and a plurality of light emitting regions 360 in a plan view. The first electrode 31 is arranged near the common wire bonding portion 240 in the y direction. The plurality of light emitting regions 360 are discretely arranged in a region excluding the first electrode 31 in a plan view of the first element 3.

図26および図27に示すように、本例の第1素子3は、第1電極31、第4電極32、第2基板351、第4半導体層352、活性層353、第5半導体層354、電流狭窄層355、絶縁層356および導電層357を備え、複数の発光領域360が形成されている。なお、同図に示す構成例は、第1素子3としてのVCSEL素子の一例であり、本構成に限定されるものではない。図27は、1つの発光領域360を含む部分を拡大して示している。 As shown in FIG. 26 and FIG. 27, the first element 3 of this example includes the first electrode 31, the fourth electrode 32, the second substrate 351, the fourth semiconductor layer 352, the active layer 353, the fifth semiconductor layer 354, The current confinement layer 355, the insulating layer 356 and the conductive layer 357 are provided, and a plurality of light emitting regions 360 are formed. The configuration example shown in the figure is an example of the VCSEL element as the first element 3, and is not limited to this configuration. FIG. 27 is an enlarged view showing a portion including one light emitting region 360.

第2基板351は、半導体よりなる。第2基板351を構成する半導体は、たとえば、GaAsである。第2基板351を構成する半導体は、GaAs以外であってもよい。 The second substrate 351 is made of a semiconductor. The semiconductor forming the second substrate 351 is, for example, GaAs. The semiconductor forming the second substrate 351 may be other than GaAs.

活性層353は、自然放出および誘導放出によって、たとえば、980nm帯(以下、「λa」とする)の波長の光を放出する化合物半導体により構成されている。活性層353は、第4半導体層352と第5半導体層354との間に位置している。 The active layer 353 is composed of a compound semiconductor that emits light having a wavelength of, for example, a 980 nm band (hereinafter, referred to as “λa”) by spontaneous emission and stimulated emission. The active layer 353 is located between the fourth semiconductor layer 352 and the fifth semiconductor layer 354.

第4半導体層352は、典型的にはDBR(Distributed Bragg Reflector)層であり、第2基板351に形成されている。第4半導体層352は第1導電型を有する半導体よりなる。本例では第1導電型はn型である。第4半導体層352は、活性層353から発せられる光を効率よく反射させるためのDBRとして構成されている。より具体的には、活性層353は、厚さλa/4のAlGaAs層であってそれぞれ反射率が異なる2層からなるペアを、複数段重ね合わせることにより構成されている。 The fourth semiconductor layer 352 is typically a DBR (Distributed Bragg Reflector) layer, and is formed on the second substrate 351. The fourth semiconductor layer 352 is made of a semiconductor having the first conductivity type. In this example, the first conductivity type is n-type. The fourth semiconductor layer 352 is configured as a DBR for efficiently reflecting the light emitted from the active layer 353. More specifically, the active layer 353 is formed by stacking a plurality of pairs of pairs of two AlGaAs layers each having a thickness λa/4 and having different reflectances.

第5半導体層354は、典型的にはDBR層であり、第2導電型を有する半導体よりなる。本例では第2導電型はp型である。本実施形態とは異なり、第1導電型がp型であり、第2導電型がn型であってもよい。第5半導体層354および第2基板351の間に、第4半導体層352が位置している。第5半導体層354は、活性層353から発せられる光を効率よく反射させるためのDBRとして構成されている。より具体的には、第5半導体層354は、厚さλa/4のAlGaAs層であってそれぞれ反射率が異なる2層からなるペアを、複数段重ね合わせることにより構成されている。 The fifth semiconductor layer 354 is typically a DBR layer and is made of a semiconductor having the second conductivity type. In this example, the second conductivity type is p-type. Unlike the present embodiment, the first conductivity type may be p-type and the second conductivity type may be n-type. The fourth semiconductor layer 352 is located between the fifth semiconductor layer 354 and the second substrate 351. The fifth semiconductor layer 354 is configured as a DBR for efficiently reflecting the light emitted from the active layer 353. More specifically, the fifth semiconductor layer 354 is formed by stacking a plurality of pairs of pairs of two AlGaAs layers each having a thickness λa/4 and having different reflectances.

電流狭窄層355は、第5半導体層354内に位置している。電流狭窄層355はたとえばAlを多く含み、酸化しやすい層からなる。電流狭窄層355は、この酸化しやすい層を酸化することにより形成される。電流狭窄層355は、酸化によって形成される必要は必ずしもなく、その他の方法(たとえばイオン注入)によって形成されてもよい。電流狭窄層355には開口3551が形成されている。開口3551を電流が流れる。 The current confinement layer 355 is located in the fifth semiconductor layer 354. The current confinement layer 355 is made of a layer containing a large amount of Al and easily oxidized. The current confinement layer 355 is formed by oxidizing this easily oxidized layer. The current confinement layer 355 does not necessarily have to be formed by oxidation, but may be formed by another method (for example, ion implantation). An opening 3551 is formed in the current constriction layer 355. A current flows through the opening 3551.

絶縁層356は第5半導体層354に形成されている。絶縁層356は、たとえば、SiO2よりなる。絶縁層356には、開口3561が形成されている。 The insulating layer 356 is formed on the fifth semiconductor layer 354. The insulating layer 356 is made of, for example, SiO2. An opening 3561 is formed in the insulating layer 356.

導電層357は、絶縁層356に形成されている。導電層357は導電材料(たとえば金属)よりなる。導電層357は、絶縁層356の開口3561を通じて第5半導体層354に導通している。導電層357は、開口3571を有する。 The conductive layer 357 is formed on the insulating layer 356. The conductive layer 357 is made of a conductive material (for example, metal). The conductive layer 357 is electrically connected to the fifth semiconductor layer 354 through the opening 3561 of the insulating layer 356. The conductive layer 357 has an opening 3571.

発光領域360は、活性層353からの光が直接または反射の後に出射される領域である。本例においては、発光領域360は、平面視円環形状であるが、その形状は特に限定されない。発光領域360は、上述した第5半導体層354、電流狭窄層355、絶縁層356および導電層357が積層され、電流狭窄層355の開口3551、絶縁層356の開口3561および導電層357の開口3571等が形成されることにより設けられている。発光領域600においては、活性層353からの光が、導電層357の開口3571を通じて出射される。 The light emitting region 360 is a region where the light from the active layer 353 is emitted directly or after being reflected. In the present example, the light emitting region 360 has an annular shape in plan view, but the shape is not particularly limited. In the light emitting region 360, the fifth semiconductor layer 354, the current confinement layer 355, the insulating layer 356 and the conductive layer 357 described above are stacked, and the opening 3551 of the current constriction layer 355, the opening 3561 of the insulating layer 356 and the opening 3571 of the conductive layer 357 are stacked. And the like are provided. In the light emitting region 600, light from the active layer 353 is emitted through the opening 3571 of the conductive layer 357.

第1電極31は、たとえば金属からなり、第5半導体層354に導通している。第4電極32は、第2基板351の裏面に形成されており、たとえば金属からなる。 The first electrode 31 is made of, for example, a metal and is electrically connected to the fifth semiconductor layer 354. The fourth electrode 32 is formed on the back surface of the second substrate 351, and is made of, for example, a metal.

本変形例によれば、いわゆる表面発光デバイスであるVCSELを第1素子3として用いることにより、高輝度化や照射面積の拡大を図ることができる。本変形例から理解されるように、第1素子3は、検出を実現しうる発光機能を果たすものであれば、その具体的構成は特に限定されない。 According to this modification, by using a VCSEL, which is a so-called surface light emitting device, as the first element 3, it is possible to increase the brightness and increase the irradiation area. As understood from this modification, the specific configuration of the first element 3 is not particularly limited as long as it has a light emitting function capable of realizing detection.

<第2実施形態>
図28〜図31は、本開示の第2実施形態に係る受発光装置を示している。図28は、本実施形態の受発光装置A2を示す要部平面図である。図29は、受発光装置A2を示す底面図である。図30は、図28のXXX−XXX線に沿う断面図である。図31は、図28のXXXI−XXXI線に沿う断面図である。
<Second Embodiment>
28 to 31 show a light emitting and receiving device according to the second embodiment of the present disclosure. FIG. 28 is a main-portion plan view showing the light-receiving and emitting device A2 of the present embodiment. FIG. 29 is a bottom view showing the light receiving and emitting device A2. FIG. 30 is a sectional view taken along line XXX-XXX in FIG. 31 is a cross-sectional view taken along line XXXI-XXXI of FIG. 28.

本実施形態においては、共通ワイヤボンディング部240が、共通第1部241、共通第2部242、共通第3部243および共通第4部244を有する。共通第1部241は、x方向において第1ダイボンディング部211と第3ダイボンディング部213との間に位置している。図示された例においては、共通第1部241は、y方向に長く延びる形状である。本実施形態においては、第1ワイヤ61のボンディング部611と第3ワイヤ63のボンディング部631とが、共通第1部241に形成されている。 In the present embodiment, the common wire bonding section 240 has a common first section 241, a common second section 242, a common third section 243, and a common fourth section 244. The common first portion 241 is located between the first die bonding portion 211 and the third die bonding portion 213 in the x direction. In the illustrated example, the common first portion 241 has a shape that extends in the y direction. In the present embodiment, the bonding portion 611 of the first wire 61 and the bonding portion 631 of the third wire 63 are formed in the common first portion 241.

共通第2部242は、第1ダイボンディング部211に対してy方向に離間した位置に配置されている。また、共通第2部242は、x方向において第1ダイボンディング部211の中心よりも第2ボンディング部212側に配置されている。図示された例においては、共通第2部242は、x方向を長軸とする略楕円形状である。本実施形態においては、第2ワイヤ62のボンディング部621が、共通第2部242に形成されている。 The common second portion 242 is arranged at a position separated from the first die bonding portion 211 in the y direction. Further, the common second portion 242 is arranged closer to the second bonding portion 212 side than the center of the first die bonding portion 211 in the x direction. In the illustrated example, the common second portion 242 has a substantially elliptical shape whose major axis is in the x direction. In the present embodiment, the bonding portion 621 of the second wire 62 is formed on the common second portion 242.

共通第3部243は、共通第1部241のy方向一端に繋がっている。共通第1部241は、共通第2部242よりも面積が大きい部位であり、図示された例においては、円形状である。z方向視において、共通第3部243は、共通貫通部246と重なっている。共通第4部244は、共通第2部242と共通第3部243とを繋いでいる。図示された例においては、共通第4部244は、x方向に長く延びる帯状である。 The common third portion 243 is connected to one end of the common first portion 241 in the y direction. The common first part 241 has a larger area than the common second part 242, and has a circular shape in the illustrated example. The common third portion 243 overlaps with the common penetrating portion 246 when viewed in the z direction. The common fourth part 244 connects the common second part 242 and the common third part 243. In the illustrated example, the common fourth portion 244 has a strip shape extending in the x direction.

本実施形態においては、共通ワイヤボンディング部240がz方向視においてL字状とされている。第1ダイボンディング部211は、共通ワイヤボンディング部240に対して、x方向一方側およびy方向一方側においてそれぞれ対向している。また、第1ダイボンディング部211には、凹部2111が形成されている。凹部2111は、第1ダイボンディング部211のうち共通ワイヤボンディング部240の共通第3部243に対向する部位であり、z方向視において凹んでいる。 In the present embodiment, the common wire bonding section 240 is L-shaped when viewed in the z direction. The first die bonding section 211 faces the common wire bonding section 240 on one side in the x direction and one side in the y direction, respectively. A recess 2111 is formed in the first die bonding section 211. The recessed portion 2111 is a portion of the first die bonding portion 211 that faces the common third portion 243 of the common wire bonding portion 240, and is recessed when viewed in the z direction.

図29に示すように、本実施形態においては、導電部2は、第1実装電極271、第2実装電極272、第3実装電極273および第4実装電極274を有する。第1実装電極271、第2実装電極272、第3実装電極273および第4実装電極274は、いずれも基材1の一対の側面13および一対の端面14から離間している。本実施形態においては、第1貫通部231、第2貫通部232、第3貫通部233および共通貫通部246は、基材1を貫通する貫通孔に形成されており、z方向視において円形状である。また、図示された例においては、第1貫通部231の中心を通るx方向に平行な中心線O231と、第2貫通部232の中心を通るx方向に平行な中心線O232および第3貫通部233の中心を通るx方向に平行な中心線O233と、共通貫通部246の中心を通るx方向に平行な中心線O246とは、y方向における位置が互いに異なっている。また、中心線O232と中心線O233とは、y方向における位置が同じである。ただし、これらの中心線の位置関係は図示された関係に限定されるものではない。 As shown in FIG. 29, in the present embodiment, the conductive portion 2 has a first mounting electrode 271, a second mounting electrode 272, a third mounting electrode 273, and a fourth mounting electrode 274. The first mounting electrode 271, the second mounting electrode 272, the third mounting electrode 273, and the fourth mounting electrode 274 are all separated from the pair of side surfaces 13 and the pair of end surfaces 14 of the base material 1. In the present embodiment, the first penetrating part 231, the second penetrating part 232, the third penetrating part 233, and the common penetrating part 246 are formed in through holes penetrating the base material 1 and have a circular shape when viewed in the z direction. Is. In the illustrated example, the center line O231 passing through the center of the first penetrating part 231 and parallel to the x direction, the center line O232 passing through the center of the second penetrating part 232, and the third penetrating part are parallel to the x direction. The center line O233 passing through the center of the 233 and parallel to the x direction and the center line O246 passing through the center of the common penetrating portion 246 and parallel to the x direction are different in position in the y direction. Further, the center line O232 and the center line O233 have the same position in the y direction. However, the positional relationship of these center lines is not limited to the illustrated relationship.

図示された例においては、第2部75は、z方向視における領域R1および領域R2において第1ダイボンディング部211および第2ボンディング部212と重なっており、共通ワイヤボンディング部240とは重なっていない。ただし、第2部75が共通ワイヤボンディング部240と重なる構成であってもよい。また、第2部75は、z方向視において第2ワイヤ62と重なっている。 In the illustrated example, the second portion 75 overlaps the first die bonding portion 211 and the second bonding portion 212 in the region R1 and the region R2 when viewed in the z direction, and does not overlap the common wire bonding portion 240. .. However, the second portion 75 may overlap the common wire bonding portion 240. The second portion 75 overlaps the second wire 62 when viewed in the z direction.

本実施形態においては、遮光層8は、共通ワイヤボンディング部240と重なっている。さらに、遮光層8は、共通ワイヤボンディング部240の共通第1部241のすべてと重なっている。 In the present embodiment, the light shielding layer 8 overlaps the common wire bonding section 240. Further, the light shielding layer 8 overlaps all of the common first portion 241 of the common wire bonding portion 240.

図示された例においては、第2素子4は、受光部42を有する。受光部42は、第2電極41と離間した領域に設けられており、光電変換機能における受光を行う部位である。また、第3素子5は、受光部52を有する。受光部52は、第3電極51と離間した領域に設けられており、光電変換機能における受光を行う部位である。なお、上述した実施形態においても、受光部42および受光部52に相当する部位が第2素子4および第3素子5に設けられている。 In the illustrated example, the second element 4 has a light receiving section 42. The light receiving portion 42 is provided in a region separated from the second electrode 41, and is a portion that receives light in the photoelectric conversion function. Further, the third element 5 has a light receiving section 52. The light receiving portion 52 is provided in a region separated from the third electrode 51, and is a portion that receives light in the photoelectric conversion function. Also in the above-described embodiment, the portions corresponding to the light receiving portion 42 and the light receiving portion 52 are provided in the second element 4 and the third element 5.

ボンディング部611、ボンディング部621、およびボンディング部631は、いずれもy方向において寸法y1の領域に存在している。また、y方向視において第1ダイボンディング部211は、ボンディング部621と重なり、ボンディング部611およびボンディング部631と重なっていない。ボンディング部611およびボンディング部631は、x方向において第1素子3と第3素子5との間に位置している。 The bonding portion 611, the bonding portion 621, and the bonding portion 631 are all present in the region of the dimension y1 in the y direction. The first die bonding portion 211 overlaps with the bonding portion 621 and does not overlap with the bonding portions 611 and 631 when viewed in the y direction. The bonding portion 611 and the bonding portion 631 are located between the first element 3 and the third element 5 in the x direction.

本実施形態によっても、より高精度な検出機能を果たすことができる。また、第1素子3と第3素子5との間に共通ワイヤボンディング部240の共通第1部241が配置されていることにより、第1素子3と第3素子5との距離が拡大されている。この拡大された領域に遮光層8を設けることにより、外部から進行してきた光が、第3素子5に意図せず入射することを抑制することができる。 Also according to this embodiment, a more highly accurate detection function can be achieved. Further, since the common first portion 241 of the common wire bonding portion 240 is arranged between the first element 3 and the third element 5, the distance between the first element 3 and the third element 5 is increased. There is. By providing the light-shielding layer 8 in this enlarged region, it is possible to prevent light that has traveled from the outside from unintentionally entering the third element 5.

<第3実施形態>
図32〜図37は、本開示の第3実施形態に係る受発光装置を示している。本実施形態の受発光装置A3は、主に導電部2の構成が上述した実施形態と異なっている。図32は、受発光装置A3を示す要部平面図である。図33は、受発光装置A3を示す底面図である。図34は、図32のXXXIV−XXXIV線に沿う断面図である。図35は、図32のXXXV−XXXV線に沿う断面図である。図36は、図32のXXXVI−XXXVI線に沿う断面図である。図37は、図32のXXXVII−XXXVII線に沿う断面図である。
<Third Embodiment>
32 to 37 show a light emitting and receiving device according to a third embodiment of the present disclosure. The light emitting and receiving device A3 of the present embodiment is different from the above-described embodiment mainly in the configuration of the conductive portion 2. FIG. 32 is a main-portion plan view showing the light-receiving and emitting device A3. FIG. 33 is a bottom view showing the light emitting and receiving device A3. 34 is a cross-sectional view taken along the line XXXIV-XXXIV in FIG. 32. FIG. 35 is a sectional view taken along line XXXV-XXXV in FIG. 36 is a sectional view taken along line XXXVI-XXXVI of FIG. FIG. 37 is a sectional view taken along line XXXVII-XXXVII in FIG.

図32に示すように、本実施形態の導電部2は、第1ダイボンディング部211、第2ボンディング部212、第3ダイボンディング部213、第1ワイヤボンディング部25 1、第2ワイヤボンディング部252および第3ワイヤボンディング部253を有している。これらは、基材1の主面11に形成されている。 As shown in FIG. 32, the conductive portion 2 of this embodiment includes a first die bonding portion 211, a second bonding portion 212, a third die bonding portion 213, a first wire bonding portion 25 1, and a second wire bonding portion 252. And a third wire bonding portion 253. These are formed on the main surface 11 of the base material 1.

第1ワイヤボンディング部251は、第1ダイボンディング部211に対してy方向一方側に並んで配置されている。第2ワイヤボンディング部252は、第2ボンディング部212に対してy方向一方側に並んで配置されている。第3ワイヤボンディング部253は、第3ダイボンディング部213に対してy方向一方側に並んで配置されている。第1ワイヤボンディング部251、第2ワイヤボンディング部252および第3ワイヤボンディング部253は、いずれも側面13および端面14から離間している。第1ワイヤボンディング部251、第2ワイヤボンディング部252および第3ワイヤボンディング部253の形状は特に限定されず、図示された例においては、略矩形状である。 The first wire bonding section 251 is arranged side by side on the one side in the y direction with respect to the first die bonding section 211. The second wire bonding portion 252 is arranged side by side on the one side in the y direction with respect to the second bonding portion 212. The third wire bonding portion 253 is arranged side by side on the one side in the y direction with respect to the third die bonding portion 213. The first wire bonding portion 251, the second wire bonding portion 252, and the third wire bonding portion 253 are all separated from the side surface 13 and the end surface 14. The shapes of the first wire bonding portion 251, the second wire bonding portion 252, and the third wire bonding portion 253 are not particularly limited, and are substantially rectangular in the illustrated example.

図33に示すように、本実施形態の導電部2は、第1実装電極271、第2実装電極272、第3実装電極273、第4実装電極274、第5実装電極275および第6実装電極276を有する。これらは、基材1の裏面12に形成されている。 As shown in FIG. 33, the conductive portion 2 of the present embodiment includes a first mounting electrode 271, a second mounting electrode 272, a third mounting electrode 273, a fourth mounting electrode 274, a fifth mounting electrode 275, and a sixth mounting electrode. Has 276. These are formed on the back surface 12 of the base material 1.

第1実装電極271、第2実装電極272および第3実装電極273は、x方向に並んで配置されている。第4実装電極274、第5実装電極275および第6実装電極276は、x方向に並んで配置されている。第1実装電極271、第2実装電極272、第3実装電極273、第4実装電極274、第5実装電極275および第6実装電極276は、いずれも側面13および端面14から離間している。図32に示すように、第1実装電極271、第2実装電極272、第3実装電極273、第4実装電極274、第5実装電極275および第6実装電極276は、z方向視において第1ダイボンディング部211、第2ボンディング部212、第3ダイボンディング部213、第1ワイヤボンディング部251、第2ワイヤボンディング部252および第3ワイヤボンディング部253と、個別に重なっている。 The first mounting electrode 271, the second mounting electrode 272, and the third mounting electrode 273 are arranged side by side in the x direction. The fourth mounting electrode 274, the fifth mounting electrode 275, and the sixth mounting electrode 276 are arranged side by side in the x direction. The first mounting electrode 271, the second mounting electrode 272, the third mounting electrode 273, the fourth mounting electrode 274, the fifth mounting electrode 275, and the sixth mounting electrode 276 are all separated from the side surface 13 and the end surface 14. As shown in FIG. 32, the first mounting electrode 271, the second mounting electrode 272, the third mounting electrode 273, the fourth mounting electrode 274, the fifth mounting electrode 275, and the sixth mounting electrode 276 are the first when viewed in the z direction. The die bonding portion 211, the second bonding portion 212, the third die bonding portion 213, the first wire bonding portion 251, the second wire bonding portion 252, and the third wire bonding portion 253 are individually overlapped.

本実施形態においては、導電部2は、第1貫通部231、第2貫通部232、第3貫通部233、第4貫通部261、第5貫通部262および第6貫通部263を有する。これらは、基材1をz方向に貫通している。 In the present embodiment, the conductive part 2 has a first penetrating part 231, a second penetrating part 232, a third penetrating part 233, a fourth penetrating part 261, a fifth penetrating part 262 and a sixth penetrating part 263. These penetrate the base material 1 in the z direction.

第1貫通部231は、第1ダイボンディング部211と第1実装電極271とに繋がっている。第2貫通部232は、第2ボンディング部212と第2実装電極272とに繋がっている。第3貫通部233は、第3ダイボンディング部213と第3実装電極273とに繋がっている。第4貫通部261は、第1ワイヤボンディング部251と第1実装電極271とに繋がっている。第5貫通部262は、第2ワイヤボンディング部252と第2実装電極272とに繋がっている。第6貫通部263は、第3ワイヤボンディング部253と第3実装電極273とに繋がっている。また、図示された例においては、第1貫通部231の中心を通るy方向に平行な中心線O231と、第4貫通部261の中心を通るy方向に平行な中心線O261と、第2貫通部232の中心を通るy方向に平行な中心線O232および第5実装電極275の中心を通るy方向に平行な中心線O275と、第3貫通部233の中心を通るy方向に平行な中心線O233および第6実装電極276の中心を通るy方向に平行な中心線O276とは、x方向における位置が互いに異なっている。また、中心線O232と中心線O275とは、x方向における位置が同じである。また、中心線O233と、中心線O276とは、x方向における位置が同じである。ただし、これらの中心線の位置関係は図示された関係に限定されるものではない。 The first penetrating part 231 is connected to the first die bonding part 211 and the first mounting electrode 271. The second penetrating portion 232 is connected to the second bonding portion 212 and the second mounting electrode 272. The third penetrating part 233 is connected to the third die bonding part 213 and the third mounting electrode 273. The fourth penetrating portion 261 is connected to the first wire bonding portion 251 and the first mounting electrode 271. The fifth penetrating portion 262 is connected to the second wire bonding portion 252 and the second mounting electrode 272. The sixth penetrating portion 263 is connected to the third wire bonding portion 253 and the third mounting electrode 273. Further, in the illustrated example, a center line O231 passing through the center of the first penetrating portion 231 and parallel to the y direction, a center line O261 passing through the center of the fourth penetrating portion 261 and parallel to the y direction, and the second penetrating portion A center line O232 passing through the center of the portion 232 and a center line O275 passing through the center of the fifth mounting electrode 275 and a center line O275 passing through the center of the fifth mounting electrode 275 and a center line parallel to the y direction passing through the center of the third penetrating portion 233. The position in the x direction is different from the center line O276 that is parallel to the y direction and passes through the centers of O233 and the sixth mounting electrode 276. Further, the center line O232 and the center line O275 have the same position in the x direction. Further, the center line O233 and the center line O276 have the same position in the x direction. However, the positional relationship of these center lines is not limited to the illustrated relationship.

第1ワイヤ61は、第1素子3の第1電極31と第1ワイヤボンディング部251とにボンディングされている。第2ワイヤ62は、第2素子4の第2電極41と第2ワイヤボンディング部252とにボンディングされている。第3ワイヤ63は、第3素子5の第3 電極51と第3ワイヤボンディング部253とにボンディングされている。第1電極31の中心を通るy方向に平行な中心線O31とボンディング部611の中心を通るy方向に平行な中心線O611とは、互いのx方向における位置が異なっている。ただし、これらの中心線の位置関係は図示された関係に限定されるものではない。 The first wire 61 is bonded to the first electrode 31 of the first element 3 and the first wire bonding portion 251. The second wire 62 is bonded to the second electrode 41 of the second element 4 and the second wire bonding portion 252. The third wire 63 is bonded to the third electrode 51 of the third element 5 and the third wire bonding portion 253. The center line O31 passing through the center of the first electrode 31 and parallel to the y direction and the center line O611 passing through the center of the bonding portion 611 and parallel to the y direction are different in position in the x direction from each other. However, the positional relationship of these center lines is not limited to the illustrated relationship.

第2部75は、z方向視での領域R1および領域R2において第1ダイボンディング部211および第2ボンディング部212と重なっているが、第2部75の配置はこれに限定されない。図34に示すように、第2部75は、底面752および一対の側面753を有している。底面752は、第1素子3および第2素子4のz方向上面よりもz方向において基材1の主面11に近く、たとえば第2素子4のz方向上面よりも高さH’だけ低い位置にある。 The second portion 75 overlaps the first die bonding portion 211 and the second bonding portion 212 in the region R1 and the region R2 when viewed in the z direction, but the arrangement of the second portion 75 is not limited to this. As shown in FIG. 34, the second portion 75 has a bottom surface 752 and a pair of side surfaces 753. The bottom surface 752 is closer to the main surface 11 of the substrate 1 in the z direction than the top surfaces of the first element 3 and the second element 4 in the z direction, and is lower than the top surface of the second element 4 in the z direction by a height H′. It is in.

本実施形態によっても、より高精度な検出機能を果たすことができる。また、本実施形態から理解されるように、第1素子3、第2素子4および第3素子5を含む回路構成は、第1素子3、第2素子4および第3素子5が適切に機能するものであれば、その具体的な構成は何ら限定されない。また、第2部75が第1ワイヤ61、第2ワイヤ62および第3ワイヤ63のいずれともz方向視において交差しない。これにより、第2部75が溝状である場合に、第2部75をより深い位置まで形成することができる。これは、第2素子4に意図せず受光されることを抑制するのに好ましい。 Also according to this embodiment, a more highly accurate detection function can be achieved. Further, as understood from the present embodiment, in the circuit configuration including the first element 3, the second element 4 and the third element 5, the first element 3, the second element 4 and the third element 5 properly function. If it does, the specific configuration is not limited at all. Further, the second portion 75 does not intersect with any of the first wire 61, the second wire 62, and the third wire 63 when viewed in the z direction. Thereby, when the second portion 75 has a groove shape, the second portion 75 can be formed to a deeper position. This is preferable to prevent the second element 4 from unintentionally receiving light.

<第4実施形態>
図38は、本開示の第4実施形態に係る受発光装置を示す要部平面図である。本実施形態の受発光装置A4は、第3素子5および遮光層8を備えていない点が、上述した実施形態と異なる。第1素子3および第2素子4の構成や、第1素子3および第2素子4と導電部2の各構成要素との関係は、上述した受発光装置A3と同様である。
<Fourth Embodiment>
FIG. 38 is a main-portion plan view showing the light-receiving and emitting device according to the fourth embodiment of the present disclosure. The light emitting and receiving device A4 of the present embodiment is different from the above-described embodiments in that the third element 5 and the light shielding layer 8 are not provided. The configurations of the first element 3 and the second element 4 and the relationship between the first element 3 and the second element 4 and the respective constituent elements of the conductive portion 2 are the same as those of the above-described light emitting and receiving device A3.

また、図示された例においては、第1貫通部231の中心を通るy方向に平行な中心線O231と、第4貫通部261の中心を通るy方向に平行な中心線O261と、第2貫通部232の中心を通るy方向に平行な中心線O232および第5貫通部262の中心を通るy方向に平行な中心線O262とは、x方向における位置が互いに異なっている。また、中心線O232と中心線O262とは、x方向における位置が同じである。ただし、これらの中心線の位置関係は図示された関係に限定されるものではない。 Further, in the illustrated example, a center line O231 passing through the center of the first penetrating portion 231 and parallel to the y direction, a center line O261 passing through the center of the fourth penetrating portion 261 and parallel to the y direction, and the second penetrating portion The center line O232 passing through the center of the portion 232 and parallel to the y direction and the center line O262 passing through the center of the fifth penetrating portion 262 and parallel to the y direction have different positions in the x direction. Further, the center line O232 and the center line O262 have the same position in the x direction. However, the positional relationship of these center lines is not limited to the illustrated relationship.

このような実施形態によっても、第1素子3から発せられた光が、封止樹脂7の表面において反射され、第2素子4に意図せず受光されることを抑制することができる。 Also by such an embodiment, it is possible to prevent the light emitted from the first element 3 from being reflected on the surface of the sealing resin 7 and being unintentionally received by the second element 4.

<第4実施形態 第1変形例>
図39は、受発光装置A4の第1変形例を示している。本変形例の受発光装置A41においては、導電部2が共通ワイヤボンディング部240を有している。第1ワイヤ61および第2ワイヤ62は、共通ワイヤボンディング部240にボンディングされている。また、第2部75は、z方向視において第2ワイヤ62と重なっている。
<Fourth Embodiment First Modification>
FIG. 39 shows a first modification of the light emitting and receiving device A4. In the light emitting and receiving device A41 of the present modification, the conductive portion 2 has the common wire bonding portion 240. The first wire 61 and the second wire 62 are bonded to the common wire bonding section 240. The second portion 75 overlaps the second wire 62 when viewed in the z direction.

また、図示された例においては、第1貫通部231の中心を通るy方向に平行な中心線O231と、共通貫通部246の中心を通るy方向に平行な中心線O246とは、x方向における位置が互いに異なっている。ただし、これらの中心線の位置関係は図示された関係に限定されるものではない。 In the illustrated example, the center line O231 passing through the center of the first penetrating portion 231 and parallel to the y direction and the center line O246 passing through the center of the common penetrating portion 246 and parallel to the y direction are in the x direction. The positions are different from each other. However, the positional relationship of these center lines is not limited to the illustrated relationship.

<第4実施形態 第2変形例>
図40は、受発光装置A4の第1変形例を示している。本変形例の受発光装置A42においては、共通ワイヤボンディング部240がz方向視において第2部75と交差しており、第2部75のx方向両側に設けられている。ボンディング部611およびボンディング部621は、それぞれ第2部75のx方向両側に配置されている。第2部75は、z方向視において第1ワイヤ61および第2ワイヤ62と交差していない。
<Fourth Embodiment Second Modification>
FIG. 40 shows a first modification of the light emitting and receiving device A4. In the light emitting and receiving device A42 of this modification, the common wire bonding portion 240 intersects the second portion 75 when viewed in the z direction, and is provided on both sides of the second portion 75 in the x direction. The bonding portion 611 and the bonding portion 621 are arranged on both sides of the second portion 75 in the x direction, respectively. The second portion 75 does not intersect the first wire 61 and the second wire 62 when viewed in the z direction.

また、図示された例においては、第1貫通部231の中心を通るy方向に平行な中心線O231と、共通貫通部246の中心を通るy方向に平行な中心線O246と、第2貫通部232の中心を通るy方向に平行な中心線O232および共通貫通部246の中心を通るO246とは、x方向における位置が互いに異なっている。また、中心線O232と中心線O246とは、互いのx方向における位置が同じである。ただし、これらの中心線の位置関係は図示された関係に限定されるものではない。 In the illustrated example, the center line O231 passing through the center of the first penetrating part 231 and parallel to the y direction, the center line O246 passing through the center of the common penetrating part 246 and parallel to the y direction, and the second penetrating part. The center line O232 passing through the center of the 232 and parallel to the y direction and the center line O246 passing through the center of the common penetrating portion 246 are different in position in the x direction from each other. Further, the center line O232 and the center line O246 have the same position in the x direction. However, the positional relationship of these center lines is not limited to the illustrated relationship.

本開示に係る受発光装置は、上述した実施形態に限定されるものではない。本開示に係る受発光装置の各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。 The light emitting and receiving device according to the present disclosure is not limited to the above embodiment. The specific configuration of each part of the light emitting and receiving device according to the present disclosure can be modified in various ways.

以上に述べた実施形態および変形例における各要素の部分的構成は、それぞれが独立して採用されてもよいし、様々に組み合わせて採用されてもよい。部分的構成としては、たとえば、遮光層8の有無および具体的構成、第1部74の有無および第1部74の具体的構成、第2部75の有無および具体的構成、基材1および導電部2の具体的構成、等が挙げられる。 The partial configurations of the respective elements in the above-described embodiments and modified examples may be employed independently or in various combinations. As the partial configuration, for example, the presence/absence and specific configuration of the light shielding layer 8, the presence/absence of the first portion 74 and the specific configuration of the first portion 74, the presence/absence and specific configuration of the second portion 75, the base material 1 and the conductivity. The specific configuration of the part 2 and the like can be mentioned.

<駆動回路>
続いて、上述の実施形態や変形例に係る受発光装置、もしくはその他の受発光装置を駆動するための制御回路について説明する。
<Drive circuit>
Subsequently, a control circuit for driving the light emitting/receiving device according to the above-described embodiment or modification, or another light receiving/emitting device will be described.

図41は、位置検出システム800のブロック図である。位置検出システム800は、位置検出の対象物OBJの位置zを示す位置検出信号PDETを生成する。 FIG. 41 is a block diagram of the position detection system 800. The position detection system 800 generates a position detection signal P DET indicating the position z of the object OBJ for position detection.

位置検出システム800は、受発光装置810、制御回路820を備える。受発光装置810は、発光素子812、第1受光素子PD1、第2受光素子PD2、を含む。発光素子812の出射光は、対象物OBJに照射される。第1受光素子PD1には、発光素子812から直接光のみが入射可能であり、対象物OBJの反射光は入射しないように遮蔽されている。第1受光素子PD1の出力信号(検出電流)は、対象物OBJの位置zに依存せず、発光素子812の出力強度に依存する。 The position detection system 800 includes a light emitting/receiving device 810 and a control circuit 820. The light receiving and emitting device 810 includes a light emitting element 812, a first light receiving element PD1, and a second light receiving element PD2. The light emitted from the light emitting element 812 is applied to the object OBJ. Only light can be directly incident on the first light receiving element PD1 from the light emitting element 812, and the first light receiving element PD1 is shielded so that reflected light of the object OBJ does not enter. The output signal (detection current) of the first light receiving element PD1 does not depend on the position z of the object OBJ but depends on the output intensity of the light emitting element 812.

制御回路820は、受発光装置810を制御し、対象物OBJの位置zを検出する。制御回路820は、電流ドライバ822、センスアンプ824、エラーアンプ826、センスアンプ828を備える。 The control circuit 820 controls the light emitting and receiving device 810 and detects the position z of the object OBJ. The control circuit 820 includes a current driver 822, a sense amplifier 824, an error amplifier 826, and a sense amplifier 828.

電流ドライバ822は、発光素子812に直流の駆動電流IDRVを供給することにより、発光素子812を駆動電流IDRVに応じた輝度で発光させる。 The current driver 822 supplies a direct current drive current I DRV to the light emitting element 812 to cause the light emitting element 812 to emit light with a brightness according to the drive current I DRV .

センスアンプ824は、第1受光素子PD1の出力信号に応じた第1検出信号Vs1を生成する。第1検出信号Vs1は、発光素子812の発光輝度を表す。 The sense amplifier 824 generates the first detection signal Vs1 according to the output signal of the first light receiving element PD1. The first detection signal Vs1 represents the emission brightness of the light emitting element 812.

エラーアンプ826には、発光素子812の発光輝度の目標値SREFが入力される。エラーアンプ826は、第1検出信号Vs1が目標値SREFに近づくように、電流ドライバ822の出力IDRVをフィードバック制御する。 The target value S REF of the emission brightness of the light emitting element 812 is input to the error amplifier 826. The error amplifier 826 feedback-controls the output I DRV of the current driver 822 so that the first detection signal Vs1 approaches the target value S REF .

第2受光素子PD2には、対象物OBJの反射光のみが入射可能となっており、第2受光素子PD2の受光量は、対象物OBJの位置zに応じて変化する。つまり第2受光素子PD2の出力信号は、対象物OBJの位置zを示す。センスアンプ828は、第2受光素子PD2の出力信号に応じた第2検出信号Vs2を生成する。かくして制御回路820は、第2検出信号Vs2に応じて位置検出信号PDETを出力することができる。 Only the reflected light of the object OBJ can enter the second light receiving element PD2, and the amount of light received by the second light receiving element PD2 changes according to the position z of the object OBJ. That is, the output signal of the second light receiving element PD2 indicates the position z of the object OBJ. The sense amplifier 828 generates the second detection signal Vs2 according to the output signal of the second light receiving element PD2. Thus the control circuit 820 can output a position detection signal P DET in response to the second detection signal Vs2.

図42(a)は、図41の位置検出システム800の動作を説明する図である。駆動電流IDRVは、826および電流ドライバ822によるフィードバック制御によって、目標値SREFに応じた目標量IREF(たとえば30mA程度)に安定化され、発光素子812の発光輝度も一定に保たれる。この状態で対象物OBJの位置zが変化すると、第2受光素子PD2に入射する対象物OBJの反射光の量が変化するため、第2検出信号Vs2が変化する。図42(b)は、位置zと第2検出信号Vs2の関係を示す図である。位置zのある範囲z〜zにおいて、第2検出信号Vs2は単調変化しており、したがって第2検出信号Vs2は、位置zと1対1で対応付けることができる。 42A is a diagram for explaining the operation of the position detection system 800 of FIG. The drive current I DRV is stabilized to a target amount I REF (for example, about 30 mA) according to the target value S REF by feedback control by the 826 and the current driver 822, and the light emission brightness of the light emitting element 812 is also kept constant. When the position z of the object OBJ changes in this state, the amount of reflected light of the object OBJ incident on the second light receiving element PD2 changes, so the second detection signal Vs2 changes. FIG. 42B is a diagram showing the relationship between the position z and the second detection signal Vs2. The second detection signal Vs2 monotonously changes in a certain range z 1 to z 2 of the position z, and therefore the second detection signal Vs2 can be associated with the position z in a one-to-one correspondence.

図41の位置検出システム800において、位置検出のS/N比は、駆動電流IDRVの量に応じて決まる。したがってS/N比を高く取るためには、駆動電流IDRVを大きくすればよいが、駆動電流IDRVを大きくしすぎると、消費電力が増大する。また発熱量が増加するため、放熱対策のコストが高くなる。 In the position detection system 800 of FIG. 41, the S/N ratio for position detection is determined according to the amount of drive current I DRV . Therefore, in order to obtain a high S/N ratio, the drive current I DRV may be increased, but if the drive current I DRV is increased too much, power consumption will increase. Moreover, since the amount of heat generation increases, the cost of heat dissipation measures increases.

図42(c)は、図41の位置検出システム800の別の動作を説明する図である。この動作では、駆動電流IDRVが時分割でオン、オフされ、オンである検出期間の間に対象物OBJの位置zが検出される。駆動電流IDRVの平均量を小さく維持しつつ、オン区間における電流量を増大させることができるため、S/N比を高めることができる。ただし、駆動電流IDRVのオフ区間TOFFは、位置を検出不能であるため、時間的な分解能が低下する。 42(c) is a diagram for explaining another operation of the position detection system 800 of FIG. In this operation, the drive current I DRV is turned on and off in a time division manner, and the position z of the object OBJ is detected during the detection period in which the drive current I DRV is on. Since the current amount in the ON section can be increased while keeping the average amount of the drive current I DRV small, the S/N ratio can be increased. However, since the position cannot be detected in the off section T OFF of the drive current I DRV , the temporal resolution is reduced.

以下では、駆動電流IDRVを小さく維持しつつ、高S/N比が得られる制御回路および制御方法について説明する。 Hereinafter, a control circuit and a control method that can obtain a high S/N ratio while keeping the drive current I DRV small will be described.

図43は、実施の形態に係る制御回路900を備える位置検出システム800の回路図である。位置検出システム800は、受発光装置810および制御回路900を備える。受発光装置810の構成は、図41のそれと同様である。 FIG. 43 is a circuit diagram of a position detection system 800 including the control circuit 900 according to the embodiment. The position detection system 800 includes a light emitting/receiving device 810 and a control circuit 900. The configuration of the light emitting and receiving device 810 is the same as that of FIG.

制御回路900は、基準信号発生器910、駆動回路920、相関検波器930、第1検出回路940、第2検出回路950を備え、ひとつの半導体基板(チップ、ダイ)に集積化された機能ICである。 The control circuit 900 includes a reference signal generator 910, a drive circuit 920, a correlation detector 930, a first detection circuit 940, and a second detection circuit 950, and is a functional IC integrated on one semiconductor substrate (chip, die). Is.

制御回路900は、出力(OUT)ピン、接地(GND)ピン、フィードバック(PD1)ピン、センス(PD2)ピンを備える。OUTピンは、受発光装置810の発光素子812のアノードピン(LED)と接続され、GNDピンは接地され、PD1ピンは受発光装置810の第1受光素子PD1のカソードピンPD(F)と接続され、第2受光素子PD2ピンは、受発光装置810の第2受光素子PD2のカソードピンPD(S)と接続される。 The control circuit 900 includes an output (OUT) pin, a ground (GND) pin, a feedback (PD1) pin, and a sense (PD2) pin. The OUT pin is connected to the anode pin (LED) of the light emitting element 812 of the light receiving and emitting device 810, the GND pin is grounded, and the PD1 pin is connected to the cathode pin PD(F) of the first light receiving element PD1 of the light receiving and emitting device 810. The second light receiving element PD2 pin is connected to the cathode pin PD(S) of the second light receiving element PD2 of the light receiving and emitting device 810.

基準信号発生器910は、所定の基準周波数ωの成分を含む基準信号SREFを生成する。基準周波数f(=ω/2π)、サーボ帯域の10倍より大きいことが好ましい。第1検出回路940は、第1受光素子PD1の出力電流IPD1に応じた第1検出信号(フィードバック信号)SFBを生成する。また第2検出回路950は、第2受光素子PD2の出力電流IPD2に応じた第2検出信号SDETを生成する。第1検出回路940および第2検出回路950は、電流信号を電圧信号に変換するI/V変換器(トランスインピーダンスアンプ)を含んでもよい。 The reference signal generator 910 generates a reference signal S REF including a component of a predetermined reference frequency ω 0 . The reference frequency f 0 (=ω 0 /2π) is preferably larger than 10 times the servo band. The first detection circuit 940 generates a first detection signal (feedback signal) S FB according to the output current I PD1 of the first light receiving element PD1. The second detection circuit 950 also generates a second detection signal S DET according to the output current I PD2 of the second light receiving element PD2. The first detection circuit 940 and the second detection circuit 950 may include an I/V converter (transimpedance amplifier) that converts a current signal into a voltage signal.

駆動回路920は、第1受光素子PD1の出力IPD1に応じたフィードバック信号SFBと基準信号SREFが一致するように駆動信号IDRVを生成し、発光素子812に供給する。駆動回路920は、電流ドライバ922およびフィードバック回路924を含む。フィードバック回路924は、フィードバック信号SFBと基準信号SREFの誤差がゼロに近づくように、電流ドライバ922を調節する。これにより、発光素子812の発光輝度は、基準信号SREFに応じて変化する。フィードバック回路924は、アナログ回路で実装する場合、エラーアンプ(オペアンプ)で構成することができる。またデジタル回路で実装する場合、フィードバック信号SFBと基準信号SREFの誤差を生成する減算器と、誤差を処理するPI(比例・積分)制御器やPID(比例・積分・微分)制御器と、で構成することができる。 The drive circuit 920 generates the drive signal I DRV so that the feedback signal S FB corresponding to the output I PD1 of the first light receiving element PD1 and the reference signal S REF match, and supplies the drive signal I DRV to the light emitting element 812. The drive circuit 920 includes a current driver 922 and a feedback circuit 924. The feedback circuit 924 adjusts the current driver 922 so that the error between the feedback signal S FB and the reference signal S REF approaches zero. As a result, the emission brightness of the light emitting element 812 changes according to the reference signal S REF . When the feedback circuit 924 is implemented by an analog circuit, it can be formed by an error amplifier (op amp). When implemented by a digital circuit, a subtracter that generates an error between the feedback signal S FB and the reference signal S REF , a PI (proportional/integral) controller or a PID (proportional/integral/derivative) controller that processes the error. , Can be configured.

相関検波器930は、第2検出回路950が生成する第2検出信号SDETを、基準信号SREFに含まれる基準周波数ωの成分を用いて相関検波し、位置検出信号PDETを生成する。 The correlation detector 930 performs the correlation detection of the second detection signal S DET generated by the second detection circuit 950 using the component of the reference frequency ω 0 included in the reference signal S REF , and generates the position detection signal P DET . ..

以上が制御回路900の構成である。続いてその動作を説明する。 The above is the configuration of the control circuit 900. Next, the operation will be described.

図44は、図43の位置検出システム800の動作を説明する図である。基準信号SREFは、直流のベースラインに所定の周波数の正弦波が重畳された波形を有する。駆動回路920によるフィードバックによって、発光素子812の発光輝度は、基準信号SREFに応じた波形を有する。 FIG. 44 is a diagram for explaining the operation of the position detection system 800 of FIG. The reference signal S REF has a waveform in which a sine wave having a predetermined frequency is superimposed on a DC baseline. The light emission luminance of the light emitting element 812 has a waveform corresponding to the reference signal S REF by the feedback from the drive circuit 920.

フィードバックループの安定化のために、発光素子812を、駆動電流IDRVに対する発光輝度のリニアリティが高い領域で動作させることが望ましい。この観点において、発光素子812は、駆動電流IDRVがあるしきい値を下回ると消灯する。そこで駆動電流IDRVのボトムが非ゼロとなるように、依り好ましくは発光しきい値より高くなるように、基準信号SREFを生成するとよい。たとえば発光素子812の発光しきい値が0.5mAである場合、マージンを考慮して、駆動電流IDRVのボトムを1mAとしてもよく、駆動電流IDRVを2mAをセンターとして1mA〜3mAの範囲で変化させてもよい。これは図42(a)のIREF=30mAの1/10倍程度であることに留意されたい。 In order to stabilize the feedback loop, it is desirable to operate the light emitting element 812 in a region where the linearity of the light emission luminance with respect to the drive current I DRV is high. From this viewpoint, the light emitting element 812 is turned off when the drive current I DRV falls below a certain threshold value. Therefore, it is preferable to generate the reference signal S REF so that the bottom of the drive current I DRV becomes non-zero, preferably higher than the light emission threshold value. For example, when the light emitting threshold of the light emitting element 812 is 0.5 mA, considering a margin, it may be a 1mA bottom of the drive current I DRV, a range of 1mA~3mA driving current I DRV as the center of 2mA You may change it. Note that this is about 1/10 of I REF =30 mA in FIG. 42(a).

第2受光素子PD2に入射する光強度I(t)は、以下の式で表すことができる。
(t)=A(z)×I(t)
(t)は、発光素子812の出射強度であり、I=I+cos(ωt)で表される。A(z)は、位置zに依存する変調信号であり、第2受光素子PD2の入射光強度I(t)は、cos(ωt)をキャリアとするAM(振幅変調)波と把握される。f=ω/2πは、サーボ帯域に応じて規定すればよく、サーボ帯域の10倍以上、より好ましくは20倍以上とするとよい。サーボ帯域を200Hzがであるとき、f=10kHzとしてもよい。
The light intensity I 2 (t) incident on the second light receiving element PD2 can be expressed by the following formula.
I 2 (t)=A(z)×I 1 (t)
I 1 (t) is the emission intensity of the light emitting element 812 and is represented by I 1 =I 0 +cos(ω 0 t). A(z) is a modulation signal dependent on the position z, and the incident light intensity I 2 (t) of the second light receiving element PD2 is grasped as an AM (amplitude modulation) wave whose carrier is cos(ω 0 t). To be done. The f 00 /2π may be defined according to the servo band, and may be 10 times or more, and more preferably 20 times or more the servo band. When the servo band is 200 Hz, f 0 =10 kHz may be set.

相関検波器930は、第2検出信号SDETを、基準信号SDETに含まれる所定基準周波数ωの成分を用いて相関検波し、振幅変調成分A(z)を示す位置検出信号PDETを生成する。 The correlation detector 930 performs the correlation detection of the second detection signal S DET using the component of the predetermined reference frequency ω 0 included in the reference signal S DET and outputs the position detection signal P DET indicating the amplitude modulation component A(z). To generate.

以上が制御回路900の動作である。この制御回路900によれば、駆動電流IDRVに正弦波を用いることで、駆動電流IDRVの平均値を低減できる。 The above is the operation of the control circuit 900. According to the control circuit 900, by using the sine wave drive current I DRV, thereby reducing the average value of the driving current I DRV.

加えて、図44に示すように、第2検出信号SDETにノイズNが混入する場合がある。多くの場合ノイズNの周波数は、ωと異なっているため、相関検波器930によって好適に除去することができる。この制御回路900によれば、相関検波を利用することによりS/N比を高めることができる。 In addition, as shown in FIG. 44, noise N may be mixed into the second detection signal S DET . In many cases, the frequency of the noise N is different from ω 0, and can be suitably removed by the correlation detector 930. According to this control circuit 900, the S/N ratio can be increased by utilizing the correlation detection.

別の観点から見ると、同じS/N比を得るために必要な駆動電流IDRVの量を、従来より小さくすることができ、低消費電力化を図ることができる。 From another point of view, the amount of drive current I DRV required to obtain the same S/N ratio can be made smaller than in the past, and low power consumption can be achieved.

また制御回路900は、フリッカノイズの耐性が高いという利点を有する。図45は、フリッカノイズの周波数特性を示す図である。フリッカノイズは、1/fノイズとも称され、パワーが周波数fに反比例する。図42(a)、(b)に示す方式では、図45の破線で囲む領域で動作するため、フリッカノイズの影響を受けやすい。これに対して本実施の形態では、周波数f=ω/2πに対応する実線で囲む周波数領域で動作するため、フリッカノイズを低減できる。フリッカノイズの低減を考慮すると、動作周波数f=ω/2πを、1/fコーナー周波数fcに近づけることが望ましい。 Further, the control circuit 900 has an advantage of high resistance to flicker noise. FIG. 45 is a diagram showing frequency characteristics of flicker noise. Flicker noise is also called 1/f noise, and its power is inversely proportional to the frequency f. The systems shown in FIGS. 42(a) and 42(b) operate in the region surrounded by the broken line in FIG. 45, and are therefore easily affected by flicker noise. On the other hand, in the present embodiment, the flicker noise can be reduced because the operation is performed in the frequency region surrounded by the solid line corresponding to the frequency f 00 /2π. Considering the reduction of flicker noise, it is desirable to bring the operating frequency f 00 /2π close to the 1/f corner frequency fc.

図46は、制御回路900の一実施例を示す回路図である。制御回路900は、フロントエンドのアナログ回路とバックエンドのデジタル回路のハイブリッドで構成される。 FIG. 46 is a circuit diagram showing an example of the control circuit 900. The control circuit 900 is composed of a hybrid of a front end analog circuit and a back end digital circuit.

第1検出回路940および第2検出回路950は、トランスインピーダンスアンプで構成され、オペアンプOP1、抵抗R1、キャパシタC1を含む。 The first detection circuit 940 and the second detection circuit 950 are configured by a transimpedance amplifier and include an operational amplifier OP1, a resistor R1, and a capacitor C1.

基準信号発生器910は、波形発生器912、ゲイン回路914、オフセット回路916、D/Aコンバータ918を含む。波形発生器912は、所定の周波数ωを有する正弦波sinωtおよび余弦波cosωtを生成し、一方(この例ではcosωt)が基準信号SREFの生成に使用される。ゲイン回路914は、余弦波cosωtの振幅を設定する。オフセット回路916は、余弦波ωtにオフセットOFS1を加算し、D/Aコンバータ918はオフセット回路916の出力をアナログの基準信号SREFに変換する。 The reference signal generator 910 includes a waveform generator 912, a gain circuit 914, an offset circuit 916, and a D/A converter 918. Waveform generator 912 generates a sine wave sin .omega 0 t and cosine wave cos .omega 0 t having a predetermined frequency omega 0, whereas (cos .omega in this example 0 t) is used to generate the reference signal S REF. The gain circuit 914 sets the amplitude of the cosine wave cosω 0 t. The offset circuit 916 adds the offset OFS1 to the cosine wave ω 0 t, and the D/A converter 918 converts the output of the offset circuit 916 into an analog reference signal S REF .

駆動回路920は、電流出力型のオペアンプOP2を含む。オペアンプOP2は、図43の電流ドライバ922とフィードバック回路924が一体化された回路であり、その出力電流IDRVは、フィードバック信号SFBと基準信号SREFの誤差がゼロに近づくように調節される。 The drive circuit 920 includes a current output type operational amplifier OP2. The operational amplifier OP2 is a circuit in which the current driver 922 and the feedback circuit 924 of FIG. 43 are integrated, and its output current I DRV is adjusted so that the error between the feedback signal S FB and the reference signal S REF approaches zero. ..

相関検波器930は、ローパスフィルタ932、A/Dコンバータ934、減算器936、ゲイン回路938、乗算器960、乗算器962、フィルタ964、演算器966を備える。ローパスフィルタ932は、アンチエイリアシングフィルタであり、第2検出信号SDETから不要な周波数帯域(サンプリング周波数の1/2倍以上)の成分を除去する。A/Dコンバータ934は、ローパスフィルタ932の出力をデジタル値の検出信号DDETに変換する。オフセット回路936は、検出信号DDETからオフセットOFS2を減算する。ゲイン回路938は、オフセット回路936の出力にゲインを乗算する。乗算器960,962はそれぞれ、ゲイン回路938の出力に余弦波cosωt、正弦波sinωtを乗算する。フィルタ964は、乗算器960,962の出力それぞれのDC成分α,βを抽出する。演算器966は、√(α+β)を計算し、位置検出信号PDETとして出力する。√(α+β)は、振幅成分A(z)を表す。 The correlation detector 930 includes a low-pass filter 932, an A/D converter 934, a subtractor 936, a gain circuit 938, a multiplier 960, a multiplier 962, a filter 964, and a calculator 966. The low-pass filter 932 is an anti-aliasing filter, and removes unnecessary frequency band components (1/2 or more times the sampling frequency) from the second detection signal S DET . The A/D converter 934 converts the output of the low-pass filter 932 into a detection signal D DET having a digital value. The offset circuit 936 subtracts the offset OFS2 from the detection signal D DET . The gain circuit 938 multiplies the output of the offset circuit 936 by a gain. Multipliers 960 and 962, respectively, multiplied by the cosine wave cos .omega 0 t, sine wave sin .omega 0 t at the output of the gain circuit 938. The filter 964 extracts the DC components α and β of the outputs of the multipliers 960 and 962, respectively. The calculator 966 calculates √(α 22 ) and outputs it as the position detection signal P DET . √(α 22 ) represents the amplitude component A(z).

当業者によれば、制御回路900の構成が図46のそれに限定されないことが理解される。
変形例1. たとえば制御回路900は、フルアナログ回路で実装してもよい。
変形例2. 駆動回路920に関して、電流ドライバ922をデジタルの電流DACで構成し、電流ドライバ922をデジタルのフィードバックコントローラで構成してもよい。
Those skilled in the art will understand that the configuration of the control circuit 900 is not limited to that of FIG.
Modification 1. For example, the control circuit 900 may be implemented as a full analog circuit.
Modification 2. Regarding the drive circuit 920, the current driver 922 may be configured by a digital current DAC and the current driver 922 may be configured by a digital feedback controller.

制御回路900、受発光装置810のピン配置ならびに位置検出システム800のレイアウトの好ましい実施例を説明する。 A preferred embodiment of the control circuit 900, the pin arrangement of the light emitting and receiving device 810, and the layout of the position detection system 800 will be described.

図47は、一実施例に係る受発光装置810および制御回路900のピン配置を示す図である。 FIG. 47 is a diagram showing the pin arrangement of the light emitting/receiving device 810 and the control circuit 900 according to the embodiment.

受発光装置810のピン配置を説明する。第1受光素子PD1は、発光素子812の出射光を直接受光するのに対して、第2受光素子PD2は、対象物OBJの反射光を受光する。そのため、第2受光素子PD2が生成する第2検出信号IPD2の信号強度は微弱であり、PD(S)ピンのノイズ耐性は低いと言える。したがってPD(S)ピンに対するノイズの混入を極力小さくすることが好ましく、特に、第1検出電流IPD1と第2検出電流IPD2間の結合をなるべく小さくすることが有効である。 The pin arrangement of the light emitting and receiving device 810 will be described. The first light receiving element PD1 directly receives the emitted light of the light emitting element 812, while the second light receiving element PD2 receives the reflected light of the object OBJ. Therefore, the signal strength of the second detection signal I PD2 generated by the second light receiving element PD2 is weak, and it can be said that the noise resistance of the PD(S) pin is low. Therefore, it is preferable to minimize the mixing of noise into the PD(S) pin, and it is particularly effective to reduce the coupling between the first detection current I PD1 and the second detection current I PD2 as much as possible.

受発光装置810のピン配置に関して、PD(F)とPD(S)の間にGNDピンを挿入している。さらにPD(F)ピンとPD(S)ピンの間には、LEDピンを挿入し、PD(F)ピンとPD(S)ピンを最も遠ざけている。 Regarding the pin arrangement of the light emitting and receiving device 810, a GND pin is inserted between PD(F) and PD(S). Further, an LED pin is inserted between the PD(F) pin and the PD(S) pin, and the PD(F) pin and the PD(S) pin are placed farthest from each other.

制御回路900は8ピンパッケージであり、制御回路900と受発光装置810は、長辺同士が平行となるように配置される。そして受発光装置810のPD(F),GND,LED,PD(S)ピンと接続されるべきPD1,GND,OUT,PD2を、実装時において受発光装置810と対向する1辺E1に沿って配置している。これにより、対応するピン同士の配線距離を最端にすることができる。 The control circuit 900 is an 8-pin package, and the control circuit 900 and the light emitting and receiving device 810 are arranged such that their long sides are parallel to each other. PD1, GND, OUT, and PD2 to be connected to the PD(F), GND, LED, and PD(S) pins of the light emitting/receiving device 810 are arranged along one side E1 facing the light receiving/emitting device 810 when mounted. doing. Thereby, the wiring distance between the corresponding pins can be set to the end.

制御回路900の別の一辺E2には、ホストプロセッサとの通信用のピンや、電源ピンVCCなどが割り当てられる。通信用のピンは、たとえばIC(Inter IC)インタフェースの場合、クロック(SCL)ピンとデータ(SDA)ピン)が含まれる。 A pin for communication with the host processor, a power supply pin VCC, and the like are assigned to another side E2 of the control circuit 900. Communication pins include, for example, a clock (SCL) pin and a data (SDA) pin in the case of an I 2 C (Inter IC) interface.

制御回路900および受発光装置810は、プリント基板上に実装される。図中、PTN1〜PTN4は、プリント基板上の配線パターンを示す。グランドパターンPTN1は、グランド用のパターンであり、制御回路900のGNDピンと受発光装置810のGNDピンを接続する第1部分PTN1aを含む。 The control circuit 900 and the light emitting and receiving device 810 are mounted on a printed board. In the figure, PTN1 to PTN4 indicate wiring patterns on the printed circuit board. The ground pattern PTN1 is a pattern for ground and includes a first portion PTN1a that connects the GND pin of the control circuit 900 and the GND pin of the light emitting and receiving device 810.

パターンPTN2は、受発光装置810のPD(F)ピンと制御回路900のPD1ピンを接続する。パターンPTN3は、受発光装置810のLEDピンと制御回路900のOUTピンを接続する。パターンPTN4は、受発光装置810のPD(S)ピンと制御回路900のPD2ピンを接続する。 The pattern PTN2 connects the PD(F) pin of the light emitting/receiving device 810 and the PD1 pin of the control circuit 900. The pattern PTN3 connects the LED pin of the light emitting and receiving device 810 and the OUT pin of the control circuit 900. The pattern PTN4 connects the PD(S) pin of the light emitting/receiving device 810 and the PD2 pin of the control circuit 900.

グランドパターンPTN1は、OUTピンとPD2ピンの間を分離する第2部分PTN1bを含む。さらにグランドパターンPTN1は、GNDピンとPD1ピンの間を分離する第3部分PTN1cを含む。さらにグランドパターンPTN1は、長辺E1に沿うピン群(PD1,GND,OUT,PD2)と、長辺E2に沿うピン群の間を分離する第4部分PTN1dを含む。これにより、望ましくないクロストークを抑制でき、S/N比を改善できる。 The ground pattern PTN1 includes a second portion PTN1b that separates the OUT pin from the PD2 pin. Further, the ground pattern PTN1 includes a third portion PTN1c that separates the GND pin and the PD1 pin. Further, the ground pattern PTN1 includes a pin group (PD1, GND, OUT, PD2) along the long side E1 and a fourth portion PTN1d separating the pin group along the long side E2. Thereby, undesired crosstalk can be suppressed and the S/N ratio can be improved.

図48は、一実施例に係る受発光装置810および制御回路900のピン配置を示す図である。受発光装置810のピン配置は図47と同様である。制御回路900においてPD1ピンとPD2ピンは、異なる長辺E1,E2に設けられる。この例では、OUT,PD1,GNDピンが、第1の長辺E1に沿って設けられ、PD2ピンを含む残りのピンが、第2の長辺E2に沿って設けられる。図47と同様に、グランドパターンPTN1は第1辺E1に沿うピン群と、第2辺E2に沿うピン群を分離する部分PTN1dを含む。これにより、PD2ピンに対するノイズの混入を防止できる。 FIG. 48 is a diagram showing the pin arrangement of the light emitting/receiving device 810 and the control circuit 900 according to the embodiment. The pin arrangement of the light emitting and receiving device 810 is the same as in FIG. In the control circuit 900, the PD1 pin and the PD2 pin are provided on different long sides E1 and E2. In this example, OUT, PD1, and GND pins are provided along the first long side E1, and the remaining pins including the PD2 pin are provided along the second long side E2. Similar to FIG. 47, the ground pattern PTN1 includes a portion PTN1d that separates the pin group along the first side E1 and the pin group along the second side E2. This can prevent noise from entering the PD2 pin.

また、微弱な電流信号IPD2が伝搬するパターンPTN4と、ノイズ源となりうる電流信号IPD1(あるいはIDRV)が伝搬するパターンPTN2(PTN3)は、グランドパターンPTN1の第1部分PTN1aによって分離されるため、S/N比を改善できる。 Further, the pattern PTN4 in which the weak current signal I PD2 propagates and the pattern PTN2 (PTN3) in which the current signal I PD1 (or I DRV ) that can be a noise source propagates are separated by the first portion PTN1a of the ground pattern PTN1. Therefore, the S/N ratio can be improved.

図49は、一実施例に係る受発光装置810および制御回路900のピン配置を示す図である。受発光装置810のピン配置は図47と同様である。この実施例においてもPD1ピンとPD2ピンは、異なる長辺E1,E2に設けられる。この例では、PD1,GNDピンが、第1の長辺E1に沿って設けられ、PD2ピンおよびOUTピンが、第2の長辺E2に沿って設けられる。図48と同様に、グランドパターンPTN1は第1辺E1に沿うピン群と、第2辺E2に沿うピン群を分離する部分PTN1dを含む。これにより、PD2ピンに対するノイズの混入を防止できる。 FIG. 49 is a diagram showing the pin arrangement of the light emitting/receiving device 810 and the control circuit 900 according to the embodiment. The pin arrangement of the light emitting and receiving device 810 is the same as in FIG. Also in this embodiment, the PD1 pin and the PD2 pin are provided on different long sides E1 and E2. In this example, the PD1 and GND pins are provided along the first long side E1, and the PD2 pin and the OUT pin are provided along the second long side E2. Similar to FIG. 48, the ground pattern PTN1 includes a portion PTN1d that separates the pin group along the first side E1 and the pin group along the second side E2. This can prevent noise from entering the PD2 pin.

また、グランドパターンPTN1は、PD2ピンとOUTピンを分離する部分PTN1bを含む。これにより、駆動信号IDRVが流れるOUTピンから、PD2ピンへのノイズを遮蔽でき、S/N比を改善できる。 The ground pattern PTN1 also includes a portion PTN1b that separates the PD2 pin and the OUT pin. As a result, noise from the OUT pin through which the drive signal I DRV flows to the PD2 pin can be shielded and the S/N ratio can be improved.

(用途)
位置検出システム800の用途を説明する。位置検出システム800は、位置決めシステムに用いることができる。図50は、位置決めシステム700のブロック図である。たとえば位置決めシステム700は、カメラ付きの電子機器に搭載され、レンズ702の位置決めに用いることができる。レンズ702は、撮像素子703への入射光路上に設けられている。
(Use)
The usage of the position detection system 800 will be described. The position detection system 800 can be used in a positioning system. FIG. 50 is a block diagram of positioning system 700. For example, the positioning system 700 can be mounted on an electronic device with a camera and used for positioning the lens 702. The lens 702 is provided on the incident optical path to the image sensor 703.

位置決めシステム700は、対象物OBJであるレンズ702、レンズ702を位置決めするアクチュエータ704と、アクチュエータ704を制御するアクチュエータドライバ710を備える。 The positioning system 700 includes a lens 702 that is an object OBJ, an actuator 704 that positions the lens 702, and an actuator driver 710 that controls the actuator 704.

位置決め対象のレンズ702は、AF用のレンズであってもよく、この場合、アクチュエータドライバ710は、レンズ702をz軸方向に位置決めする。受発光装置810および制御回路900からなる位置検出システム800は、レンズ702のz軸方向の位置を検出する。 The lens 702 to be positioned may be an AF lens, and in this case, the actuator driver 710 positions the lens 702 in the z-axis direction. The position detection system 800 including the light emitting and receiving device 810 and the control circuit 900 detects the position of the lens 702 in the z-axis direction.

レンズ702は、手振れ補正用のレンズであってもよい。この場合、アクチュエータドライバ710は、レンズ702をx軸方向(あるいはy軸方向)に位置決めする。受発光装置810および制御回路900からなる位置検出システム800は、レンズ702のx軸方向(あるいはy軸方向)の位置を検出する。 The lens 702 may be a lens for camera shake correction. In this case, the actuator driver 710 positions the lens 702 in the x-axis direction (or the y-axis direction). The position detection system 800 including the light emitting and receiving device 810 and the control circuit 900 detects the position of the lens 702 in the x-axis direction (or the y-axis direction).

アクチュエータドライバ710は、駆動回路720と、フィードバックコントローラ730と、上述の制御回路900を含む。制御回路900は、レンズ702の位置を示す位置検出信号PDETを生成する。アクチュエータドライバ710には、外部のプロセッサから、レンズ702の目標位置を示す信号PREFが与えられる。フィードバックコントローラ730は、位置検出信号PDETと位置目標信号PREFの誤差がゼロに近づくように、駆動制御信号を生成する。駆動回路720は、駆動制御信号に応じた駆動電流をアクチュエータ704に供給する。 The actuator driver 710 includes a drive circuit 720, a feedback controller 730, and the control circuit 900 described above. The control circuit 900 generates a position detection signal P DET indicating the position of the lens 702. A signal P REF indicating the target position of the lens 702 is given to the actuator driver 710 from an external processor. The feedback controller 730 generates a drive control signal so that the error between the position detection signal P DET and the position target signal P REF approaches zero. The drive circuit 720 supplies a drive current according to the drive control signal to the actuator 704.

従来のAFシステムやOIS(手ブレ補正)システムでは、レンズ702の位置検出に、磁気的手段を用いていたが、微弱な磁気信号を用いるため、S/N比が低く、またバラツキの影響を受けやすいという問題があった。その代替として、本実施の形態に係る位置検出システム800を用いることで、レンズ702の位置を高速かつ正確に検出でき、AFやOISの制御速度を高めることができる。 In the conventional AF system and OIS (camera shake correction) system, a magnetic means is used to detect the position of the lens 702, but since a weak magnetic signal is used, the S/N ratio is low, and the influence of variations is also caused. There was a problem that it was easy to receive. Alternatively, by using the position detection system 800 according to this embodiment, the position of the lens 702 can be detected accurately at high speed and the control speed of AF and OIS can be increased.

なお位置検出システム800の用途は、レンズの位置決めには限定されない。 Note that the use of the position detection system 800 is not limited to lens positioning.

〔付記1〕
基材と、
前記基材に形成された導電部と、
前記基材に搭載され且つ光を発する第1素子と、
前記基材に搭載され且つ前記第1素子から発せられた光を受光する第2素子と、
前記第1素子および前記第2素子を覆い且つ前記第1素子から発せられた光を透過する封止樹脂と、を備えており、
前記第1素子および前記第2素子は、前記基材の厚さ方向と直角である第1方向において互いに離間して配置されており、
前記第1方向において前記第1素子を挟んで前記第2素子とは反対側に配置され且つ前記第1素子からの光を受光する第3素子と、
前記封止樹脂のうち前記厚さ方向視において前記第3素子に重なる被覆部に形成され且つ前記封止樹脂よりも光の透過率が低い材質からなる遮光層と、を備える、受発光装置。
〔付記2〕
前記遮光層は、前記厚さ方向視において前記第3素子のすべてと重なる、付記1に記載の受発光装置。
〔付記3〕
前記被覆部は、平坦な面である、付記1または2に記載の受発光装置。
〔付記4〕
前記導電部は、前記第3素子が搭載された第3ダイボンディング部を有しており、
前記遮光層は、前記厚さ方向視において、前記第3ダイボンディング部と重なる、付記1ないし3のいずれかに記載の受発光装置。
〔付記5〕
前記封止樹脂は、前記第1素子からの光を出射させる出射部と、前記被覆部の前記出射部側の境界に位置する第1部と、を有している、付記1ないし4のいずれかに記載の受発光装置。
〔付記6〕
前記遮光層は、前記第1部と一致する端縁を有する、付記5に記載の受発光装置。
〔付記7〕
前記遮光層は、前記端縁に繋がる凸形状の曲面を有する、付記6に記載の受発光装置。
〔付記8〕
前記第1部は、互いのなす角が180°を超える面の境界からなる第1角部を含む、付記5ないし7のいずれかに記載の受発光装置。
〔付記9〕
前記第1部は、複数の前記第1角部を含む、付記8に記載の受発光装置。
〔付記10〕
前記封止樹脂は、前記第1素子からの光を出射させる出射部と、前記第2素子への光を入射させる入射部と、前記出射部および前記入射部の間に位置し且つ内部からの光の反射率が前記出射部よりも低い第2部と、を有する、付記1に記載の受発光装置。
〔付記11〕
前記導電部は、前記第1素子が搭載された第1ダイボンディング部と、前記第2素子が搭載された第2ボンディング部と、を有しており、
前記第2部は、前記厚さ方向視において前記第1ダイボンディング部および前記第2ボンディング部の少なくともいずれかと重なる、付記10に記載の受発光装置。
〔付記12〕
前記第2部は、前記厚さ方向視において前記第1ダイボンディング部および前記第2ボンディング部の双方に重なる、付記11に記載の受発光装置。
〔付記13〕
前記第2素子に接続された第2ワイヤを備え、
前記導電部は、前記第2ワイヤがボンディングされたワイヤボンディング部を有しており、
前記第2部は、前記厚さ方向視において前記第2ワイヤと重なる、付記10ないし12のいずれかに記載の受発光装置。
〔付記14〕
前記第2部は、前記厚さ方向視において前記ワイヤボンディング部と重なる、付記13に記載の受発光装置。
〔付記15〕
前記第2部は、前記出射部および前記入射部から前記厚さ方向に凹む溝状である、付記10ないし14のいずれかに記載の受発光装置。
〔付記16〕
前記第2部は、前記出射部および前記入射部よりも粗い面である、付記10ないし15のいずれかに記載の受発光装置。
〔付記17〕
前記第2部は、前記厚さ方向および前記第1方向と直角である第2方向において前記封止樹脂の両端に到達している、付記10ないし16のいずれかに記載の受発光装置。
[Appendix 1]
Base material,
A conductive portion formed on the base material,
A first element mounted on the base material and emitting light;
A second element that is mounted on the base material and receives light emitted from the first element;
A sealing resin which covers the first element and the second element and transmits the light emitted from the first element,
The first element and the second element are arranged apart from each other in a first direction that is perpendicular to the thickness direction of the base material,
A third element which is arranged on the opposite side of the second element with the first element sandwiched in the first direction and which receives light from the first element;
A light emitting and receiving device, comprising: a light shielding layer formed of a material of the sealing resin, which is overlapped with the third element when viewed in the thickness direction, and has a light transmittance lower than that of the sealing resin.
[Appendix 2]
The light emitting and receiving device according to appendix 1, wherein the light shielding layer overlaps all of the third elements when viewed in the thickness direction.
[Appendix 3]
3. The light emitting and receiving device according to appendix 1 or 2, wherein the covering portion is a flat surface.
[Appendix 4]
The conductive portion has a third die bonding portion on which the third element is mounted,
4. The light emitting and receiving device according to any one of appendices 1 to 3, wherein the light shielding layer overlaps the third die bonding portion when viewed in the thickness direction.
[Appendix 5]
Any of Appendices 1 to 4, wherein the sealing resin has an emitting portion that emits light from the first element and a first portion that is located at a boundary of the covering portion on the emitting portion side. The light emitting and receiving device as described in 1.
[Appendix 6]
6. The light emitting and receiving device according to appendix 5, wherein the light shielding layer has an edge matching the first portion.
[Appendix 7]
7. The light emitting and receiving device according to appendix 6, wherein the light shielding layer has a convex curved surface connected to the edge.
[Appendix 8]
8. The light emitting and receiving device according to any one of appendices 5 to 7, wherein the first portion includes a first corner portion that is a boundary between surfaces that form an angle of more than 180°.
[Appendix 9]
The light emitting and receiving device according to appendix 8, wherein the first part includes a plurality of the first corners.
[Appendix 10]
The sealing resin is located between the emitting portion that emits the light from the first element, the incident portion that allows the light to enter the second element, and the emitting portion and the incident portion. The light emitting and receiving device according to appendix 1, further comprising: a second portion having a light reflectance lower than that of the emitting portion.
[Appendix 11]
The conductive portion has a first die bonding portion on which the first element is mounted and a second bonding portion on which the second element is mounted,
11. The light emitting and receiving device according to appendix 10, wherein the second portion overlaps at least one of the first die bonding portion and the second bonding portion when viewed in the thickness direction.
[Appendix 12]
12. The light emitting and receiving device according to appendix 11, wherein the second portion overlaps both the first die bonding portion and the second bonding portion when viewed in the thickness direction.
[Appendix 13]
A second wire connected to the second element,
The conductive portion has a wire bonding portion to which the second wire is bonded,
13. The light emitting and receiving device according to any one of appendices 10 to 12, wherein the second portion overlaps the second wire when viewed in the thickness direction.
[Appendix 14]
14. The light emitting and receiving device according to appendix 13, wherein the second portion overlaps with the wire bonding portion when viewed in the thickness direction.
[Appendix 15]
15. The light emitting and receiving device according to any one of appendices 10 to 14, wherein the second portion has a groove shape that is recessed in the thickness direction from the emitting portion and the incident portion.
[Appendix 16]
16. The light emitting and receiving device according to any one of appendices 10 to 15, wherein the second portion is a surface that is rougher than the emitting portion and the incident portion.
[Appendix 17]
17. The light emitting and receiving device according to any one of appendices 10 to 16, wherein the second portion reaches both ends of the sealing resin in a second direction that is perpendicular to the thickness direction and the first direction.

A1,A11,A12,A13,A14,A16,A17,A18,A19,A1a,A2,A3,A4,A41,A42:受発光装置
1 :基材
2 :導電部
3 :第1素子
4 :第2素子
5 :第3素子
7 :封止樹脂
8 :遮光層
10 :基板材料
11 :主面
12 :裏面
13 :側面
14 :端面
31 :第1電極
32 :第4電極
39 :第1導電接合材
41 :第2電極
42 :受光部
49 :第2導電接合材
51 :第3電極
52 :受光部
59 :第3導電接合材
61 :第1ワイヤ
62 :第2ワイヤ
63 :第3ワイヤ
71 :出射部
72 :入射部
73 :被覆部
74 :第1部
75 :第2部
80 :端縁
81 :曲面
211 :第1ダイボンディング部
212 :第2ボンディング部
213 :第3ダイボンディング部
221 :第1延出部
222 :第2延出部
223 :第3延出部
231 :第1貫通部
232 :第2貫通部
233 :第3貫通部
240 :共通ワイヤボンディング部
241 :共通第1部
242 :共通第2部
243 :共通第3部
244 :共通第4部
245 :共通延出部
246 :共通貫通部
251 :第1ワイヤボンディング部
252 :第2ワイヤボンディング部
253 :第3ワイヤボンディング部
261 :第4貫通部
262 :第5貫通部
263 :第6貫通部
271 :第1実装電極
272 :第2実装電極
273 :第3実装電極
274 :第4実装電極
275 :第5実装電極
276 :第6実装電極
311 :第1基板
312 :第1金属層
313 :第1半導体層
314 :第2半導体層第1電極
314 :第2半導体層
315 :発光層
316 :第3半導体層
316 :第3半導体層第1電極
351 :第2基板
352 :第4半導体層
353 :活性層
354 :第5半導体層
355 :電流狭窄層
356 :絶縁層
357 :導電層
360 :発光領域
611,621,631:ボンディング部
741 :第1角部
742 :第2角部
743 :側面
744 :底面
745 :頂面
751 :溝部
752 :底面
753 :側面
2111 :凹部
2310 :貫通孔
2311 :第1露出面
2312 :底面
2313 :天面
2321 :第2露出面
2331 :第3露出面
2461 :共通露出面
3551,3561,3571:開口
H,H’,H3,H4,H5:高さ
O231,O232,O233,O246,O261,O262,O275,O276,O31,O611:中心線
R1,R2,R3:領域
x1,y1:寸法
α :角度
800 :位置検出システム
OBJ :対象物
802 :アクチュエータ
810 :受発光装置
812 :発光素子
PD1 :第1受光素子
PD2 :第2受光素子
820 :制御回路
822 :電流ドライバ
824 :センスアンプ
826 :エラーアンプ
828 :センスアンプ
900 :制御回路
910 :基準信号発生器
912 :波形発生器
914 :ゲイン回路
916 :オフセット回路
918 :D/Aコンバータ
920 :駆動回路
922 :電流ドライバ
924 :フィードバック回路
930 :相関検波器
932 :ローパスフィルタ
934 :A/Dコンバータ
936 :オフセット回路
938 :ゲイン回路
960 :乗算器
962 :乗算器
964 :フィルタ
966 :演算器
940 :第1検出回路
950 :第2検出回路
A1, A11, A12, A13, A14, A16, A17, A18, A19, A1a, A2, A3, A4, A41, A42: Light emitting/receiving device 1: Base material 2: Conductive part 3: First element 4: Second Element 5: Third element 7: Sealing resin 8: Light-shielding layer 10: Substrate material 11: Main surface 12: Back surface 13: Side surface 14: End surface 31: First electrode 32: Fourth electrode 39: First conductive bonding material 41 : Second electrode 42: light receiving part 49: second conductive bonding material 51: third electrode 52: light receiving part 59: third conductive bonding material 61: first wire 62: second wire 63: third wire 71: emitting part 72: incident part 73: coating part 74: first part 75: second part 80: edge 81: curved surface 211: first die bonding part 212: second bonding part 213: third die bonding part 221: first extension Output part 222: Second extension part 223: Third extension part 231: First penetrating part 232: Second penetrating part 233: Third penetrating part 240: Common wire bonding part 241: Common first part 242: Common first 2nd part 243: common 3rd part 244: common 4th part 245: common extension part 246: common penetration part 251: 1st wire bonding part 252: 2nd wire bonding part 253: 3rd wire bonding part 261: 4th Penetration part 262: Fifth penetration part 263: Sixth penetration part 271: First mounting electrode 272: Second mounting electrode 273: Third mounting electrode 274: Fourth mounting electrode 275: Fifth mounting electrode 276: Sixth mounting electrode 276 311: first substrate 312: first metal layer 313: first semiconductor layer 314: second semiconductor layer first electrode 314: second semiconductor layer 315: light emitting layer 316: third semiconductor layer 316: third semiconductor layer first Electrode 351: Second substrate 352: Fourth semiconductor layer 353: Active layer 354: Fifth semiconductor layer 355: Current constriction layer 356: Insulating layer 357: Conductive layer 360: Light emitting region 611, 621, 631: Bonding portion 741: Bonding portion 741: First corner 742: Second corner 743: Side surface 744: Bottom surface 745: Top surface 751: Groove portion 752: Bottom surface 753: Side surface 2111: Recessed portion 2310: Through hole 2311: First exposed surface 2312: Bottom surface 2313: Top surface 2321: Second exposed surface 2331: Third exposed surface 2461: Common exposed surface 3551, 3561, 3571: Openings H, H', H3, H4, H5: Heights O231, O232, O233, O246, O261, O 262, O275, O276, O31, O611: Center lines R1, R2, R3: Regions x1, y1: Dimension α: Angle 800: Position detection system OBJ: Object 802: Actuator 810: Light emitting/receiving device 812: Light emitting element PD1: First light receiving element PD2: Second light receiving element 820: Control circuit 822: Current driver 824: Sense amplifier 826: Error amplifier 828: Sense amplifier 900: Control circuit 910: Reference signal generator 912: Waveform generator 914: Gain circuit 916 : Offset circuit 918 :D/A converter 920 :Drive circuit 922 :Current driver 924 :Feedback circuit 930 :Correlation detector 932 :Low pass filter 934 :A/D converter 936 :Offset circuit 938 :Gain circuit 960 :Multiplier 962: Multiplier 964: filter 966: calculator 940: first detection circuit 950: second detection circuit

Claims (16)

発光素子、第1受光素子および第2受光素子を含む受発光装置の制御回路であって、
所定の基準周波数の成分を含む基準信号を生成する基準信号発生器と、
前記第1受光素子の出力に応じたフィードバック信号と前記基準信号が一致するように、前記発光素子に駆動信号を供給する駆動回路と、
前記第2受光素子の出力を、前記基準周波数の成分を用いて相関検波する検波回路と、
を備えることを特徴とする制御回路。
A control circuit for a light emitting and receiving device including a light emitting element, a first light receiving element and a second light receiving element,
A reference signal generator for generating a reference signal including a component of a predetermined reference frequency;
A drive circuit that supplies a drive signal to the light emitting element so that the feedback signal corresponding to the output of the first light receiving element and the reference signal match.
A detection circuit that performs correlation detection on the output of the second light receiving element using the component of the reference frequency;
A control circuit comprising:
前記駆動信号のレベルは、前記発光素子の輝度が非ゼロとなる範囲で規定されることを特徴とする請求項1に記載の制御回路。 The control circuit according to claim 1, wherein the level of the drive signal is defined in a range in which the brightness of the light emitting element is non-zero. 前記基準周波数は、サーボ帯域の10倍より大きいことを特徴とする請求項1または2に記載の制御回路。 The control circuit according to claim 1, wherein the reference frequency is greater than 10 times a servo band. 前記第1受光素子の出力を電圧信号の前記フィードバック信号に変換する第1トランスインピーダンスアンプを含む第1検出回路と、
前記第2受光素子の出力電流を電圧信号に変換する第2トランスインピーダンスアンプを含む第2検出回路と、
をさらに備えることを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の制御回路。
A first detection circuit including a first transimpedance amplifier for converting the output of the first light receiving element into the feedback signal of a voltage signal;
A second detection circuit including a second transimpedance amplifier for converting an output current of the second light receiving element into a voltage signal;
The control circuit according to claim 1, further comprising:
前記駆動回路は、非反転入力端子に前記基準信号を受け、反転入力端子に前記フィードバック信号を受け、出力端子と前記反転入力端子の間にキャパシタが接続されたオペアンプを含むことを特徴とする請求項1から4のいずれかに記載の制御回路。 The driving circuit includes an operational amplifier in which a non-inverting input terminal receives the reference signal, an inverting input terminal receives the feedback signal, and a capacitor is connected between an output terminal and the inverting input terminal. 5. The control circuit according to any one of items 1 to 4. 前記駆動回路は、前記基準信号のDCレベルを調節可能に構成されることを特徴とする請求項1から5のいずれかに記載の制御回路。 The control circuit according to claim 1, wherein the drive circuit is configured to be able to adjust the DC level of the reference signal. 前記検波回路は、
前記電圧信号をデジタル値に変換するA/Dコンバータと、
前記A/Dコンバータの出力にオフセットを与えるオフセット回路と、
前記オフセット回路の出力に、前記基準周波数を有する正弦波、余弦波を乗算する2個の乗算器と、
前記2個の乗算器の出力を処理する演算器と、
を含むことを特徴とする請求項4に記載の制御回路。
The detection circuit is
An A/D converter for converting the voltage signal into a digital value,
An offset circuit for giving an offset to the output of the A/D converter,
Two multipliers that multiply the output of the offset circuit by a sine wave and a cosine wave having the reference frequency;
An arithmetic unit that processes the outputs of the two multipliers;
The control circuit according to claim 4, further comprising:
前記制御回路は、
前記発光素子と接続されるべき出力ピンと、
前記第1受光素子と接続されるべき第1ピンと、
前記第2受光素子と接続されるべき第2ピンと、
接地されるべき接地ピンと、
を有し、
前記第1ピンと前記第2ピンは、前記制御回路のパッケージの同一の辺に隣接しないように設けられることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の制御回路。
The control circuit is
An output pin to be connected to the light emitting device,
A first pin to be connected to the first light receiving element,
A second pin to be connected to the second light receiving element,
A ground pin to be grounded,
Have
8. The control circuit according to claim 1, wherein the first pin and the second pin are provided so as not to be adjacent to the same side of the package of the control circuit.
前記制御回路は、
前記発光素子と接続されるべき出力ピンと、
前記第1受光素子と接続されるべき第1ピンと、
前記第2受光素子と接続されるべき第2ピンと、
接地されるべき接地ピンと、
を有し、
前記第1ピンと前記第2ピンは、前記制御回路のパッケージの対向する異なる辺に設けられることを特徴とする請求項1から7のいずれかに記載の制御回路。
The control circuit is
An output pin to be connected to the light emitting device,
A first pin to be connected to the first light receiving element,
A second pin to be connected to the second light receiving element,
A ground pin to be grounded,
Have
8. The control circuit according to claim 1, wherein the first pin and the second pin are provided on different sides facing each other of a package of the control circuit.
受発光装置と、
請求項1から9のいずれかに記載の制御回路と、
を備え、
前記受発光装置は、
基材と、
前記基材に形成された導電部と、
前記基材に搭載され且つ光を発する第1素子と、
前記基材に搭載され且つ前記第1素子から発せられた光を受光する第2素子と、
前記第1素子および前記第2素子を覆い且つ前記第1素子から発せられた光を透過する封止樹脂と、を備えており、
前記第1素子および前記第2素子は、前記基材の厚さ方向と直角である第1方向において互いに離間して配置されており、
前記第1方向において前記第1素子を挟んで前記第2素子とは反対側に配置され且つ前記第1素子からの光を受光する第3素子と、
前記封止樹脂のうち前記厚さ方向視において前記第3素子に重なる被覆部に形成され且つ前記封止樹脂よりも光の透過率が低い材質からなる遮光層と、を備える、位置検出装置。
A light emitting and receiving device,
A control circuit according to any one of claims 1 to 9,
Equipped with
The light emitting and receiving device,
Base material,
A conductive portion formed on the base material,
A first element mounted on the base material and emitting light;
A second element that is mounted on the base material and receives light emitted from the first element;
A sealing resin which covers the first element and the second element and transmits the light emitted from the first element,
The first element and the second element are arranged apart from each other in a first direction that is perpendicular to the thickness direction of the base material,
A third element which is arranged on the opposite side of the second element with the first element sandwiched in the first direction and which receives light from the first element;
A position detection device, comprising: a light-shielding layer formed of a material of the sealing resin that overlaps the third element when viewed in the thickness direction and has a light transmittance lower than that of the sealing resin.
前記遮光層は、前記厚さ方向視において前記第3素子のすべてと重なる、請求項10に記載の位置検出装置。 The position detection device according to claim 10, wherein the light shielding layer overlaps all of the third elements when viewed in the thickness direction. 前記被覆部は、平坦な面である、請求項10または11に記載の位置検出装置。 The position detecting device according to claim 10, wherein the covering portion is a flat surface. 前記導電部は、前記第3素子が搭載された第3ダイボンディング部を有しており、
前記遮光層は、前記厚さ方向視において、前記第3ダイボンディング部と重なる、請求項10から12のいずれかに記載の位置検出装置。
The conductive portion has a third die bonding portion on which the third element is mounted,
The position detection device according to claim 10, wherein the light shielding layer overlaps the third die bonding portion when viewed in the thickness direction.
前記封止樹脂は、前記第1素子からの光を出射させる出射部と、前記被覆部の前記出射部側の境界に位置する第1部と、を有している、請求項10から13のいずれかに記載の位置検出装置。 14. The encapsulating resin has an emitting portion that emits light from the first element and a first portion that is located at a boundary of the covering portion on the emitting portion side. The position detection device according to any one of claims. 撮像素子と、
前記撮像素子の入射光路上に設けられたレンズと、
前記レンズを位置決めするアクチュエータと、
前記アクチュエータを制御するアクチュエータドライバと、
受発光装置と、
を備え、
前記アクチュエータドライバは、前記受発光装置を制御する請求項1から9のいずれかに記載の制御回路を含むことを特徴とする撮像装置。
An image sensor,
A lens provided on the incident optical path of the image sensor,
An actuator for positioning the lens,
An actuator driver for controlling the actuator,
A light emitting and receiving device,
Equipped with
The image pickup device, wherein the actuator driver includes the control circuit according to any one of claims 1 to 9, which controls the light receiving and emitting device.
発光素子、第1受光素子および第2受光素子を含む受発光装置の制御方法であって、
所定の周波数成分を含む基準信号を生成するステップと、
前記第1受光素子の出力が前記基準信号に近づくように、前記発光素子に供給する駆動信号をフィードバック制御するステップと、
前記第2受光素子の出力を、前記基準信号を用いて相関検波するステップと、
を備えることを特徴とする制御方法。
A method for controlling a light emitting and receiving device including a light emitting element, a first light receiving element and a second light receiving element,
Generating a reference signal containing a predetermined frequency component;
Feedback controlling a drive signal supplied to the light emitting element so that the output of the first light receiving element approaches the reference signal;
Correlating the output of the second light receiving element with the reference signal;
A control method comprising:
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