JP2020075828A - 銀/酸化グラフェン複合体およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
Description
次に、本発明に係る銀/酸化グラフェン複合体について、実施例を用いて説明する。実施例1では、銀/酸化グラフェン複合体である銀/酸化グラフェンナノスクロールを製造した。詳細は、以下のとおりである。なお、以下で使用するグラファイトフレークは、Alfa Aesar社から購入したものである。また、以下で使用する硫酸、過マンガン酸カリウム、過酸化水素、塩酸、硝酸銀、クエン酸ナトリウム、および2−ジメチルアミノエタノール(DMAE)は、富士フイルム和光純薬株式会社から購入したものである。
本発明に係る実施例1における酸化グラフェンの形態を、走査型電子顕微鏡(SEM、株式会社日立ハイテクノロジーズ製、S−3000N)により観察した。結果を図2に示す。
本発明に係る実施例1における銀/酸化グラフェンナノスクロールの形態を、電界放出走査型電子顕微鏡(FE−SEM、株式会社日立ハイテクノロジーズ製、S−5000)、および透過型電子顕微鏡(TEM、日本電子株式会社製、JEM−2010)により観察した。結果を図3および図4に示す。
本発明に係る実施例1における銀/酸化グラフェンナノスクロールの構造を、エネルギー分散型X線分光器(EDS)により分析した。結果を図5に示す。なお、EDS分析は、EX−200を備えたS−3000N(株式会社日立ハイテクノロジーズ製)を用いて行った。
本発明に係る実施例1における酸化グラフェンおよび銀/酸化グラフェンナノスクロールの構造を、フーリエ変換赤外分光法(FTIR)により分析した。結果を図6に示す。なお、FTIR分析は、IR Prestige−21(株式会社島津製作所製)を用いて行った。
本発明に係る実施例1における酸化グラフェンおよび銀/酸化グラフェンナノスクロールの構造を、X線回折(XRD)により分析した。結果を図7に示す。なお、XRD測定は、MiniFlex300(株式会社リガク製)を用いて、CuKα線を使用して行った。
本発明に係る実施例1における銀/酸化グラフェンナノスクロールの電気伝導度を測定した。なお、電気伝導度の測定は、抵抗率計MCT−T610(株式会社三菱ケミカルアナリテック製)を用いて、下記試料1〜6について行った。
Claims (8)
- 銀ナノ粒子が酸化グラフェンの層間にインターカレーションされたシート状の銀/酸化グラフェン複合体であって、
前記銀/酸化グラフェン複合体の少なくとも片面に前記銀ナノ粒子を担持した銀/酸化グラフェン複合体。 - 前記銀ナノ粒子の直径が、3nm〜10nmであることを特徴とする請求項1に記載の銀/酸化グラフェン複合体。
- 前記銀/酸化グラフェン複合体が、ナノスクロールに巻き上げられたものであることを特徴とする請求項1または2に記載の銀/酸化グラフェン複合体。
- 前記銀/酸化グラフェン複合体の単体の直径が、60nm〜280nmであることを特徴とする請求項3に記載の銀/酸化グラフェン複合体。
- 前記銀/酸化グラフェン複合体の単体の長さが、140nm〜2000nmであることを特徴とする請求項3または4に記載の銀/酸化グラフェン複合体。
- 体積抵抗率が、1.897×10−5Ω・cm〜2.210×102Ω・cmであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載の銀/酸化グラフェン複合体。
- 請求項1〜6のいずれか1項に記載の銀/酸化グラフェン複合体を含むことを特徴とする導電性材料。
- 黒鉛を酸化させて酸化グラフェンを製造する工程と、
前記酸化グラフェンの溶液中で硝酸銀をクエン酸ナトリウムで還元する酸化還元工程とを有する銀/酸化グラフェン複合体の製造方法。
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