JP2020069517A - Solder alloy - Google Patents

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英治 日野
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Abstract

To provide a novel lead-free solder alloy that can be used in a high-temperature range.SOLUTION: A solder alloy includes Sn, Bi and Cu, where Sn content is 0.60 to 0.99 mass%, Cu content is 0.05 to 0.19 mass% and the balance Bi with inevitable impurities. In the solder alloy, the Sn content and the Cu content satisfy the following formulae: Cu content (mass%)≤1.61×Sn content (mass%)-0.92; and Cu content (mass%)≥1.50×Sn content (mass%)-1.29.SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、はんだ合金に関する。   The present invention relates to solder alloys.

環境面の配慮から、鉛を含有しないはんだ合金の使用が推奨されている。はんだ合金は、その組成に応じてはんだとしての使用に適した温度域が変わってくる。   Due to environmental considerations, the use of lead-free solder alloys is recommended. The temperature range of the solder alloy suitable for use as solder changes depending on the composition thereof.

パワーデバイスは、電力変換用の素子として、ハイブリッド自動車、送変電など幅広い分野で使用されている。従来はSiチップのデバイスで対応できたが、高耐圧、大電流用途、高速動作が求められる分野では、Siよりもバンドギャップが大きいSiC、GaN等が近年注目を浴びている。   The power device is used as an element for power conversion in a wide range of fields such as hybrid vehicles and power transmission and transformation. Conventionally, Si chip devices could be used, but in fields where high breakdown voltage, large current applications, and high speed operation are required, SiC, GaN, etc., which have a larger band gap than Si, have been receiving attention in recent years.

従来のパワーモジュールでは動作温度が170℃程度までであったのが、次世代型のSiC、GaN等では200℃あるいはそれ以上の温度域となる可能性があるとされる。これに伴い、これらチップを搭載したモジュールに使用される各材料には耐熱性、放熱性が求められている。   The conventional power module has an operating temperature of up to about 170 ° C., but next-generation SiC, GaN, etc. may reach a temperature range of 200 ° C. or higher. Along with this, heat resistance and heat dissipation are required for each material used for a module mounting these chips.

接合材料に関して言えば、Pbフリーの観点からSn−3.0Ag−0.5Cuはんだが好ましいが、次世代型モジュールでは動作温度が200℃を超える可能性があるので、融点が220℃付近であるSn−3.0Ag−0.5Cuはんだよりも、さらに耐熱性が求められる。具体的にはラジエターの冷却およびエンジン回りの温度の許容性から、好ましくは250℃以上の融点を持つはんだが求められる。なお、はんだの組成は、特に断りがなければ質量%表示であり、上記Sn−3.0Ag−0.5Cuは、Ag:3.0質量%、Cu:0.5質量%、残部Snの組成のことである。RoHSの規制対象外ではあるものの、環境規制の観点から好ましくないPbはんだ(Pb−5Sn)であれば次世代型モジュールの動作温度には対応しうる。Pbはんだと同様に耐熱はんだとしてはAu系はんだ(Au−Ge、Au−Si、Au−Sn)が使用されている(非特許文献1〜3)。廉価なはんだとしてはSnベースのはんだが知られている(特許文献1、2)。   Speaking of the bonding material, Sn-3.0Ag-0.5Cu solder is preferable from the viewpoint of Pb-free, but since the operating temperature may exceed 200 ° C in the next-generation type module, the melting point is around 220 ° C. More heat resistance is required than Sn-3.0Ag-0.5Cu solder. Specifically, from the viewpoint of the cooling of the radiator and the tolerance of the temperature around the engine, solder having a melting point of 250 ° C. or higher is required. The composition of the solder is represented by mass% unless otherwise specified. The Sn-3.0Ag-0.5Cu is Ag: 3.0 mass%, Cu: 0.5 mass%, and the balance Sn composition. That is. Although not subject to RoHS regulation, Pb solder (Pb-5Sn), which is not preferable from the viewpoint of environmental regulations, can handle the operating temperature of the next-generation module. Similar to Pb solder, Au-based solder (Au-Ge, Au-Si, Au-Sn) is used as the heat-resistant solder (Non-Patent Documents 1 to 3). Sn-based solder is known as an inexpensive solder (Patent Documents 1 and 2).

そこで、近年次世代型モジュールの接合材料として注目されているのが金属微粉ペーストである。金属粉のサイズが小さいので、表面エネルギーが高く、その金属の融点よりもはるかに低い温度で焼結が始まる。そして、はんだとは異なり、いったん焼結すれば、その金属の融点近くまで昇温しないと再溶融しない。このような特性を生かし、Ag微粉ペーストで開発が進んでいる(特許文献3)。   Therefore, in recent years, a fine metal powder paste has attracted attention as a bonding material for next-generation modules. Due to the small size of the metal powder, the surface energy is high and sintering begins at temperatures well below the melting point of the metal. And, unlike solder, once sintered, it will not remelt unless the temperature is raised to near the melting point of the metal. Taking advantage of such characteristics, Ag fine powder paste is being developed (Patent Document 3).

Pb−5Snはんだは次世代型パワーモジュールの接合材料としての機能は十分であるが、有鉛であり、将来的な環境規制の観点からも使用しないことが望ましい。また、Au系はんだは機能、環境面からは接合材料としては望ましいが、材料価格の問題点を抱える。Snベースはんだは融点が低く例えば250℃のような高温環境下において、接合強度を低下させる恐れがある。また、Ag微粉ペーストは条件によっては十分な接合強度、耐熱性を接合層に付与することが可能であるが、材料価格の問題点を抱える。   Although Pb-5Sn solder has a sufficient function as a bonding material for the next-generation power module, it is lead-containing and is preferably not used from the viewpoint of future environmental regulations. Further, although Au-based solder is desirable as a bonding material from the viewpoint of function and environment, it has a problem of material cost. Sn-based solder has a low melting point, and there is a possibility that the joint strength may be reduced in a high temperature environment such as 250 ° C. Further, the Ag fine powder paste can give sufficient bonding strength and heat resistance to the bonding layer depending on the conditions, but it has a problem of material cost.

特許文献4のソルダペーストでは、組成の異なる複数種の粉末がブレンドされていて、それが溶融後に合金となる設計となっているが、そのためにはそれぞれの粉末の融点を超える加熱が必要であり、例えばCu粉を用いるならばCuの融点1084.6℃以上に加熱しないと完全な溶融は期待できず、はんだ付け時の加熱操作に依存した不均一性の懸念がある。   In the solder paste of Patent Document 4, a plurality of kinds of powders having different compositions are blended and designed to be an alloy after melting, but for that purpose, heating exceeding the melting point of each powder is required. For example, if Cu powder is used, complete melting cannot be expected unless it is heated to a melting point of Cu of 1084.6 ° C. or higher, and there is a concern of nonuniformity depending on the heating operation during soldering.

特開平9−271981号公報JP-A-9-271981 特開2000−141079号公報JP 2000-141079 A 国際公開WO2011/155055号International publication WO2011 / 155055 国際公開WO2007/055308号International publication WO2007 / 055308

P.Alexandrov,W.Wright,M.Pan,M.Weiner,L.Jiao and J.H.Zhao,Solid−State Electron.,47(2003)p.263.P. Alexandrov, W.M. Wright, M .; Pan, M.M. Weiner, L .; Jiao and J. H. Zhao, Solid-State Electron. 47 (2003) p. 263. R.W.Johnson and L.Williams,Mater.Sci.Forum 483−485(2005)p.785.R. W. Johnson and L.A. Williams, Mater. Sci. Forum 483-485 (2005) p. 785. S.Tanimoto,K.Matsui,Y.Murakami,H.Yamaguchi and H.Okumura,Proceedings of IMAPS HiTEC 2010(May 11−13,2010、Albuquerque,New Mexico,USA),p32−39.S. Tanimoto, K .; Matsui, Y. Murakami, H .; Yamaguchi and H.M. Okumura, Proceedings of IMAPS HiTEC 2010 (May 11-13, 2010, Albuquerque, New Mexico, USA), p32-39.

このように、次世代型パワーモジュールの接合材料に求められる高温域、例えば250℃を超える温度域においても、優れた特性を有するはんだ合金が、求められていた。   As described above, there has been a demand for a solder alloy having excellent properties even in a high temperature range required for a bonding material for a next-generation power module, for example, a temperature range exceeding 250 ° C.

さらに、本発明者の検討によれば、優れた特性を有するはずのはんだ合金が、しばしば意図した特性を満たさないことがあることがわかった。このような現象は、製造上の大きな問題となる。   Further, according to the study by the present inventor, it has been found that a solder alloy which should have excellent properties often does not satisfy the intended properties. Such a phenomenon becomes a big problem in manufacturing.

したがって、本発明の目的は、鉛が添加されて含まれることなく、高温域において使用可能な、新規のはんだ合金であって、意図した特性を確実に発揮可能なはんだ合金を提供することにある。   Therefore, an object of the present invention is to provide a solder alloy that does not contain lead added and can be used in a high temperature range, and is a novel solder alloy that can reliably exhibit intended properties. .

本発明者は、鋭意研究の結果、後述するBiベースのはんだ合金によって、上記目的を達成できることを見いだして、本発明に到達した。   As a result of earnest research, the present inventor has found that the above-mentioned object can be achieved by a Bi-based solder alloy described later, and arrived at the present invention.

したがって、本発明は以下の(1)を含む。
(1)
Sn、Bi、及びCuを含有するはんだ合金であって、
Sn含有量が0.60〜0.99質量%であり、Cu含有量が0.05〜0.19質量%であり、残部がBi及び不可避不純物であり、Sn含有量とCu含有量が、以下の式を満たす、はんだ合金:
Cu含有量(質量%)≦1.61×Sn含有量(質量%)−0.92
Cu含有量(質量%)≧1.50×Sn含有量(質量%)−1.29
Therefore, the present invention includes the following (1).
(1)
A solder alloy containing Sn, Bi, and Cu,
The Sn content is 0.60 to 0.99% by mass, the Cu content is 0.05 to 0.19% by mass, the balance is Bi and inevitable impurities, and the Sn content and the Cu content are Solder alloy that satisfies the following formula:
Cu content (mass%) ≦ 1.61 × Sn content (mass%) − 0.92
Cu content (mass%) ≧ 1.50 × Sn content (mass%) − 1.29

本発明によれば、鉛が添加されて含まれることなく、次世代型パワーモジュールの接合材料に求められる高温域、例えば250℃を超える温度域においても、優れた特性を有するはんだ合金を得ることができる。   According to the present invention, it is possible to obtain a solder alloy having excellent characteristics even in a high temperature range required for a bonding material of a next-generation power module, for example, a temperature range exceeding 250 ° C., without adding lead and containing lead. You can

図1は、本願の実施例A及び実施例Bが同時に満たす式の範囲を図示した説明図である。FIG. 1 is an explanatory diagram illustrating a range of expressions that are simultaneously satisfied by Examples A and B of the present application.

以下に本発明を実施の態様をあげて詳細に説明する。本発明は以下にあげる具体的な実施の態様に限定されるものではない。   The present invention will be described in detail below with reference to embodiments. The present invention is not limited to the specific embodiments described below.

[はんだ合金]
本発明のはんだ合金は、Sn、Bi、及びCuを含有するはんだ合金であって、Sn含有量が0.60〜0.99質量%であり、Cu含有量が0.05〜0.19質量%であり、残部がBi及び不可避不純物であり、Sn含有量とCu含有量が、以下の式を満たす、はんだ合金にある:
Cu含有量(質量%)≦1.61×Sn含有量(質量%)−0.92
Cu含有量(質量%)≧1.50×Sn含有量(質量%)−1.29
[Solder alloy]
The solder alloy of the present invention is a solder alloy containing Sn, Bi, and Cu, in which the Sn content is 0.60 to 0.99 mass% and the Cu content is 0.05 to 0.19 mass. %, With the balance being Bi and unavoidable impurities, Sn content and Cu content in the solder alloy satisfying the following formula:
Cu content (mass%) ≦ 1.61 × Sn content (mass%) − 0.92
Cu content (mass%) ≧ 1.50 × Sn content (mass%) − 1.29

本発明のはんだ合金は、固相線温度及び液相線温度がともに高い温度帯であり、高温での長時間保持後にも十分な接合強度を維持するために、次世代型パワーモジュールの接合材料に求められる高温域、例えば250℃を超える温度域においても、優れた特性を有する。好適な実施の態様において、本発明のはんだ合金は、鉛が意図的添加されて含まれることがないために、将来の環境規制の観点からも有利であり、高価なAgを使用しないために材料価格の点からも有利である。   The solder alloy of the present invention is in a temperature range where both the solidus temperature and the liquidus temperature are high, and in order to maintain sufficient bonding strength even after holding for a long time at a high temperature, a bonding material for a next-generation power module. It has excellent properties even in a high temperature range required for the above, for example, a temperature range exceeding 250 ° C. In a preferred embodiment, the solder alloy of the present invention is advantageous from the viewpoint of future environmental regulations because lead is not intentionally added, and it is a material that does not use expensive Ag. It is also advantageous in terms of price.

不可避不純物とは、意図的に添加した成分ではなく、材料あるいは工程に由来して不可避的に混入した成分をいう。例えば、原料となる金属が4N品であれば、不可避不純物は最大0.01質量%含んでいることになる。好適な実施の態様において、本発明のはんだ合金は、いわゆる無鉛はんだ合金であるが、例えばRoHS指令によって規定されている鉛含有率1000ppm(0.1質量%)以下の範囲で不可避不純物として鉛を含有していてもよい。   The unavoidable impurities are not the components intentionally added, but the components unavoidably mixed due to the material or process. For example, if the raw material metal is a 4N product, the maximum amount of unavoidable impurities is 0.01% by mass. In a preferred embodiment, the solder alloy of the present invention is a so-called lead-free solder alloy. It may be contained.

本発明のはんだ合金は、意図した特性を確実に発揮可能なはんだ合金である。これまでの本発明者の検討によれば、優れた特性を有するはずのはんだ合金が、しばしば意図した特性を満たさないことがあることがわかった。このような現象は、製造上の大きな問題となる。この原因について、本発明者がさらに検討を行ったところ、はんだ合金の組成についてしばしば予定した組成からのズレが生じていることがわかった。すなわち、原料として準備した成分の比率から期待される組成とは必ずしも一致しないことがわかった。このような組成ズレを防ぐためには、製造工程による生成物を精密にモニタリングしてその製造条件をリアルタイムで機動的にフィードバックして変更するという対処が可能である。しかし、そのような手段は工程を複雑にしてしまうという問題がある。このような状況のもと、本発明者は、優れた特性を発揮しつつ、組成ズレが生じにくい組成の領域を発見して、本発明に到達した。すなわち、本発明のはんだ合金は、上述の組成範囲を備えることによって、優れた特性を、意図した通りに確実に発揮可能なはんだ合金となっている。この組成ズレの程度は、合金の製造時における仕込み組成の値と、得られた合金のICP分析値による組成の値とを対比することによって確認することができ、実施例において後述する組成比の値を算出することによって比較することができる。   The solder alloy of the present invention is a solder alloy that can reliably exhibit the intended properties. According to the studies conducted by the present inventors up to now, it has been found that a solder alloy that should have excellent properties often does not satisfy the intended properties. Such a phenomenon becomes a big problem in manufacturing. As a result of further study on the cause of this, it was found that the composition of the solder alloy often deviated from the planned composition. That is, it was found that the composition does not always match the composition expected from the ratio of the components prepared as raw materials. In order to prevent such compositional deviation, it is possible to precisely monitor the products produced by the manufacturing process and flexibly feed back and change the manufacturing conditions in real time. However, such a method has a problem that the process is complicated. Under these circumstances, the present inventor has arrived at the present invention by discovering a region of a composition that exhibits excellent properties and is less likely to cause compositional deviation. That is, the solder alloy of the present invention is a solder alloy that can surely exhibit excellent characteristics as intended by having the above composition range. The degree of the composition deviation can be confirmed by comparing the value of the composition charged during the production of the alloy with the value of the composition obtained by the ICP analysis value of the obtained alloy. It can be compared by calculating the value.

[Bi]
Bi(ビスマス)が、本発明のはんだ合金の主要な構成元素として、含有される。好適な実施の態様において、はんだ合金に対するBiの含有量は、例えば98.82〜99.35質量%、好ましくは98.82〜99.16質量%とすることができる。好適な実施の態様において、はんだ合金に対するBiの含有量は、例えば98.82質量%以上、あるいは例えば99.35質量%以下、好ましくは98.16質量%以下とすることができる。このような範囲とすることによって、250℃1000時間後のシェア強度をさらに高い範囲のものとすることができる。
[Bi]
Bi (bismuth) is contained as a main constituent element of the solder alloy of the present invention. In a preferred embodiment, the content of Bi with respect to the solder alloy can be, for example, 98.82 to 99.35% by mass, preferably 98.82 to 99.16% by mass. In a preferred embodiment, the content of Bi with respect to the solder alloy can be, for example, 98.82 mass% or more, or, for example, 99.35 mass% or less, preferably 98.16 mass% or less. With such a range, the shear strength after 1000 hours at 250 ° C. can be further increased.

[Sn]
はんだ合金に対するSnの含有量は、例えば0.60〜0.99質量%、好ましくは0.79〜0.99質量%とすることができる。好適な実施の態様において、はんだ合金に対するSnの含有量は、例えば0.60質量%以上、好ましくは0.79質量%以上、あるいは例えば0.99質量%以下とすることができる。このような範囲とすることによって、250℃1000時間後のシェア強度をさらに高い範囲のものとすることができる。
[Sn]
The Sn content with respect to the solder alloy may be, for example, 0.60 to 0.99% by mass, preferably 0.79 to 0.99% by mass. In a preferred embodiment, the Sn content with respect to the solder alloy can be, for example, 0.60 mass% or more, preferably 0.79 mass% or more, or, for example, 0.99 mass% or less. With such a range, the shear strength after 1000 hours at 250 ° C. can be further increased.

[Cu]
好適な実施の態様において、はんだ合金に対するCuの含有量は、例えば0.05〜0.19質量%とすることができる。このような範囲とすることによって、250℃1000時間後のシェア強度をさらに高い範囲のものとすることができる。
[Cu]
In a preferred embodiment, the Cu content with respect to the solder alloy can be, for example, 0.05 to 0.19 mass%. With such a range, the shear strength after 1000 hours at 250 ° C. can be further increased.

[Cu含有量とSn含有量の関係]
好適な実施の態様において、Cu含有量とSn含有量は次の式を満たす:
Cu含有量(質量%)≦1.61×Sn含有量(質量%)−0.92
Cu含有量(質量%)≧1.50×Sn含有量(質量%)−1.29
好適な実施の態様において、Cu含有量とSn含有量は次の式を満たす:
Cu含有量(質量%)≦1.50×Sn含有量(質量%)−1.14
Cu含有量(質量%)≧1.50×Sn含有量(質量%)−1.29
[Relationship between Cu content and Sn content]
In a preferred embodiment, the Cu and Sn contents satisfy the following formula:
Cu content (mass%) ≦ 1.61 × Sn content (mass%) − 0.92
Cu content (mass%) ≧ 1.50 × Sn content (mass%) − 1.29
In a preferred embodiment, the Cu and Sn contents satisfy the following formula:
Cu content (mass%) ≦ 1.50 × Sn content (mass%)-1.14
Cu content (mass%) ≧ 1.50 × Sn content (mass%) − 1.29

[固相線温度]
固相線温度は、例えば243℃以上、あるいは245℃以上とすることができる。固相線温度が高い(例えば243℃以上)はんだ合金の場合250℃環境下で、1000時間後のシェア強度が30MPa以上あるので、高温域で十分使用できる。
[Solidus temperature]
The solidus temperature can be, for example, 243 ° C. or higher, or 245 ° C. or higher. In the case of a solder alloy having a high solidus temperature (for example, 243 ° C. or higher), the shear strength after 1000 hours in a 250 ° C. environment is 30 MPa or higher, so that it can be sufficiently used in a high temperature range.

[液相線温度]
液相線温度は、例えば271℃以下とすることができる。
[Liquid line temperature]
The liquidus temperature can be, for example, 271 ° C. or lower.

[液相線温度と固相線温度]
好適な実施の態様において、次の式: [液相線温度]−[固相線温度]の値(固相液相温度差:PR)を、28℃以下、あるいは19℃以下とすることができる。
[Liquid and solidus temperature]
In a preferred embodiment, the value of the following formula: [liquidus temperature]-[solidus temperature] (solidus liquidus temperature difference: PR) may be 28 ° C or lower, or 19 ° C or lower. it can.

[好適な組成]
好適な実施の態様において、はんだ合金の組成は、例えば以下とすることができる。
Sn:Bi:Cu=0.60〜0.99質量%:98.82〜99.35質量%:0.05〜0.19質量%であって、次の式を満たす組成:
Cu含有量(質量%)≦1.61×Sn含有量(質量%)−0.92
Cu含有量(質量%)≧1.50×Sn含有量(質量%)−1.29
Sn:Bi:Cu=0.79〜0.99質量%:98.82〜99.16質量%:0.05〜0.19質量%であって、次の式を満たす組成:
Cu含有量(質量%)≦1.50×Sn含有量(質量%)−1.14
Cu含有量(質量%)≧1.50×Sn含有量(質量%)−1.29
[Preferable composition]
In a preferred embodiment, the composition of the solder alloy can be, for example:
Sn: Bi: Cu = 0.60-0.99% by mass: 98.82-99.35% by mass: 0.05-0.19% by mass and satisfying the following formula:
Cu content (mass%) ≦ 1.61 × Sn content (mass%) − 0.92
Cu content (mass%) ≧ 1.50 × Sn content (mass%) − 1.29
Sn: Bi: Cu = 0.79 to 0.99 mass%: 98.82 to 99.16 mass%: 0.05 to 0.19 mass% and a composition satisfying the following formula:
Cu content (mass%) ≦ 1.50 × Sn content (mass%)-1.14
Cu content (mass%) ≧ 1.50 × Sn content (mass%) − 1.29

[接合強度]
はんだ合金の接合強度は、実施例に記載の手段によって、測定することができる。好適な実施の態様において、接合強度は、リフロー1回もしくは3回後のシェア強度として、例えばリフロー1回処理後のシェア強度として例えば47MPa以上、あるいは49MPa以上、好ましくは52MPa以上とすることができる。リフロー3回後とは、リフロー処理を3回実施する処理を行ったことをいう。またリフロー3回後のシェア強度として、例えば49MPa以上、あるいは52MPa以上、好ましくは55MPa以上とすることができる。好適な実施の態様において、接合強度は、空気雰囲気下250℃で1000時間保持した後に測定したシェア強度として、例えば30MPa以上、あるいは42MPa以上、好ましくは45MPa以上とすることができる。
[Joint strength]
The joint strength of the solder alloy can be measured by the means described in the examples. In a preferred embodiment, the bonding strength can be, for example, 47 MPa or more, or 49 MPa or more, preferably 52 MPa or more, as shear strength after one or three reflow treatments, for example, shear strength after one reflow treatment. .. “After three times of reflow” means that the process of performing the reflow process three times has been performed. Further, the shear strength after three times of reflow can be, for example, 49 MPa or more, or 52 MPa or more, preferably 55 MPa or more. In a preferred embodiment, the joint strength can be, for example, 30 MPa or more, or 42 MPa or more, and preferably 45 MPa or more, as the shear strength measured after holding for 1000 hours at 250 ° C. in an air atmosphere.

[はんだ合金の形状]
本発明のはんだ合金の形状は、はんだとして使用するために必要に応じた形状を、適宜採用することができる。実施例に記載のようにシート形状の部材とすることができ、さらに、例えばワイヤー、粉、ボール、板、棒などの形状の部材とすることができる。はんだ合金の形状は、粉体の形状、はんだボールの形状(ボール状)、又はシート状とすることが特に好ましい。はんだボールは、例えば直径50μm〜500μmのボールをいう。好適な実施の態様において、粉体とはんだボールとを包含して、はんだ粉と称することがある。はんだ粉は、はんだペースト用に使用することができ、この場合は、例えば粒径50μm未満のものを用いることができる。
[Shape of solder alloy]
As the shape of the solder alloy of the present invention, a shape suitable for use as solder can be appropriately adopted. It may be a sheet-shaped member as described in the examples, and further may be a member in the shape of, for example, a wire, a powder, a ball, a plate or a rod. It is particularly preferable that the shape of the solder alloy is a powder shape, a solder ball shape (ball shape), or a sheet shape. The solder ball refers to a ball having a diameter of 50 μm to 500 μm, for example. In a preferred embodiment, the powder and the solder balls are collectively referred to as solder powder. The solder powder can be used for a solder paste, and in this case, for example, one having a particle size of less than 50 μm can be used.

[好適な実施の態様]
好適な実施の態様において、本願発明は、次の(1)以下を含む。
(1)
Sn、Bi、及びCuを含有するはんだ合金であって、
Sn含有量が0.60〜0.99質量%であり、Cu含有量が0.05〜0.19質量%であり、残部がBi及び不可避不純物であり、Sn含有量とCu含有量が、以下の式を満たす、はんだ合金:
Cu含有量(質量%)≦1.61×Sn含有量(質量%)−0.92
Cu含有量(質量%)≧1.50×Sn含有量(質量%)−1.29
(2)
Bi含有量が98.82〜99.35質量%である、(1)に記載のはんだ合金。
(3)
固相線温度が243℃以上である、(1)〜(2)はんだ合金。
(4)
液相線温度が271℃以下である、(1)〜(3)はんだ合金。
(5)
次の式: [液相線温度]−[固相線温度]
の値が、28℃以下である、(1)〜(4)はんだ合金。
(6)
リフロー1回処理後の接合強度が47MPa以上である、(1)〜(5)はんだ合金。
(7)
リフロー3回処理後の接合強度が49MPa以上である、(1)〜(6)はんだ合金。
(8)
250℃1000時間の高温保持後の接合強度が30MPa以上である、(1)〜(7)はんだ合金。
(9)
はんだ合金の形状が、粉状、ボール状、又はシート状である、(1)〜(8)はんだ合金。
(10)
(1)〜(8)はんだ合金を材料とした部材。
(11)
(1)〜(8)はんだ合金ではんだ付けされた電子部品の内部接合はんだ継手。
(12)
(1)〜(8)はんだ合金ではんだ付けされたパワートランジスタのはんだ継手。
(13)
(1)〜(8)はんだ合金を有するプリント回路板。
(14)
(1)〜(8)はんだ合金を有する電子部品。
(15)
(1)〜(8)はんだ合金を有するパワートランジスタ。
(16)
(11)または(12)に記載のはんだ継手又は(13)に記載のプリント回路板または(14)に記載の電子部品または(15)に記載のパワートランジスタを有する電子機器。
(17)
(11)または(12)に記載のはんだ継手を有するパワーデバイス。
[Preferred Embodiment]
In a preferred embodiment, the present invention includes the following (1) and the like.
(1)
A solder alloy containing Sn, Bi, and Cu,
The Sn content is 0.60 to 0.99% by mass, the Cu content is 0.05 to 0.19% by mass, the balance is Bi and inevitable impurities, and the Sn content and the Cu content are Solder alloy that satisfies the following formula:
Cu content (mass%) ≦ 1.61 × Sn content (mass%) − 0.92
Cu content (mass%) ≧ 1.50 × Sn content (mass%) − 1.29
(2)
The solder alloy according to (1), wherein the Bi content is 98.82 to 99.35% by mass.
(3)
(1)-(2) solder alloy whose solidus temperature is 243 degreeC or more.
(4)
(1)-(3) solder alloy whose liquidus temperature is 271 degreeC or less.
(5)
The following formula: [Liquid line temperature]-[Solid line temperature]
(1)-(4) solder alloy whose value of is 28 degrees C or less.
(6)
Solder alloys (1) to (5) having a joint strength of 47 MPa or more after one reflow treatment.
(7)
Solder alloys (1) to (6) having a joint strength of 49 MPa or more after three reflow treatments.
(8)
Solder alloys (1) to (7), which have a bonding strength of 30 MPa or more after being kept at a high temperature of 250 ° C. for 1000 hours.
(9)
(1) to (8) the solder alloy in which the shape of the solder alloy is powder, ball, or sheet.
(10)
(1) to (8) A member made of a solder alloy.
(11)
(1) to (8) Internal joint solder joints for electronic components soldered with a solder alloy.
(12)
(1) to (8) A power transistor solder joint soldered with a solder alloy.
(13)
(1) to (8) A printed circuit board having a solder alloy.
(14)
(1) to (8) An electronic component having a solder alloy.
(15)
(1) to (8) A power transistor having a solder alloy.
(16)
An electronic device having the solder joint according to (11) or (12), the printed circuit board according to (13), the electronic component according to (14), or the power transistor according to (15).
(17)
A power device having the solder joint according to (11) or (12).

好適な実施の態様において、本願発明は、上記はんだ合金を材料とした部材、上記はんだ合金ではんだ付けされた電子部品の内部接合はんだ継手、上記はんだ合金ではんだ付けされたパワートランジスタのはんだ継手、上記はんだ合金を有するプリント回路板、上記はんだ合金を有する電子部品、上記はんだ合金を有するパワートランジスタを含む。また、好適な実施の態様において、本願発明は、上記のはんだ継手、プリント回路板、電子部品、パワートランジスタを有する電子機器を含み、上記のはんだ継手を有するパワーデバイスを含む。   In a preferred embodiment, the present invention is a member made of the solder alloy, an internal joint solder joint of an electronic component soldered with the solder alloy, a solder joint of a power transistor soldered with the solder alloy, It includes a printed circuit board having the solder alloy, an electronic component having the solder alloy, and a power transistor having the solder alloy. In a preferred embodiment, the present invention includes an electronic device including the above solder joint, printed circuit board, electronic component, and power transistor, and includes a power device including the above solder joint.

以下に実施例をあげて、本発明を詳細に説明する。本発明は、以下に例示する実施例に限定されるものではない。   Hereinafter, the present invention will be described in detail with reference to examples. The present invention is not limited to the examples illustrated below.

[組成ズレの検討:実施例A]
[実施例A1]
黒鉛るつぼにBi、Cu、Snのチップ原料を所定量投入し、黒鉛るつぼをアトマイズ装置にセットし、不活性ガス雰囲気とし、均一に原料が溶解するまで一定時間保持して溶湯を得た。
その後、黒鉛るつぼの底部に設置されたストッパーを引き上げ、溶湯を下部に投下した。その時不活性ガスを溶湯に吹き付け、はんだ粉を製造した。
はんだ粉は0.5g正確に秤量し、酸に溶解した後、ICP発光分光分析器で濃度を測定し、得られた組成値の結果を表1に記載した。
原料として投入したBi、Cu、Snの投入量から算出される比率を、仕込み組成として、表1に記載した。
仕込み組成とICP分析値から、次の式:
組成比[%]={[ICP分析値(質量%)]/[仕込み組成値(質量%)]}×100
によって組成比[%]の値を求めた。この組成比(ICP・仕込み組成比)の値が100%の時、組成ズレが無いことを意味する。この結果をあわせて表1に記載した。
[Study on Composition Deviation: Example A]
[Example A1]
A predetermined amount of Bi, Cu, and Sn chip raw materials were put into the graphite crucible, the graphite crucible was set in an atomizing device, and the atmosphere was maintained under an inert gas atmosphere for a certain period of time until the raw materials were uniformly dissolved to obtain a molten metal.
Then, the stopper installed at the bottom of the graphite crucible was pulled up, and the molten metal was dropped below. At that time, an inert gas was sprayed on the molten metal to produce solder powder.
0.5 g of solder powder was accurately weighed and dissolved in an acid, and then the concentration was measured by an ICP emission spectrophotometer. The results of the obtained composition values are shown in Table 1.
The ratio calculated from the amounts of Bi, Cu, and Sn charged as the raw materials is shown in Table 1 as the charged composition.
From the composition and the ICP analysis value, the following formula:
Composition ratio [%] = {[ICP analysis value (mass%)] / [prepared composition value (mass%)] × 100
The value of the composition ratio [%] was determined by. When the value of this composition ratio (ICP / prepared composition ratio) is 100%, it means that there is no composition deviation. The results are also shown in Table 1.

[実施例A2〜A12]
実施例A1と同様にして、原料からはんだ粉を製造した。その仕込み組成値とICP分析による組成値を、表1に示す。
[Examples A2 to A12]
Solder powder was produced from the raw materials in the same manner as in Example A1. Table 1 shows the charged composition value and the composition value by ICP analysis.

[比較例A1〜A10]
実施例A1と同様にして、原料からはんだ粉を製造した。その仕込み組成値とICP分析による組成値を、表1に示す。
[Comparative Examples A1 to A10]
Solder powder was produced from the raw materials in the same manner as in Example A1. Table 1 shows the charged composition value and the composition value by ICP analysis.

Figure 2020069517
Figure 2020069517

[実施例Aの結果]
実施例では、仕込み組成と、製造された合金粉末のICP分析値の差は数%程度とごく小さなものであった。これに対して、比較例ではこれらの差が数十%程度と非常に大きくなっていた。
[Results of Example A]
In the examples, the difference between the charged composition and the ICP analysis value of the produced alloy powder was as small as about several percent. On the other hand, in the comparative example, these differences were very large, about several tens of percent.

[シェア強度の検討:実施例B]
[実施例B1]
黒鉛るつぼにBi、Cu、Snのチップ原料を所定量投入し、黒鉛るつぼをアトマイズ装置にセットし、不活性ガス雰囲気とし、均一に原料が溶解するまで一定時間保持して溶湯を得た。
その後、黒鉛るつぼの底部に設置されたストッパーを引き上げ、溶湯を下部に投下した。その時不活性ガスを溶湯に吹き付け、はんだ粉を製造した。
はんだ粉は0.5g正確に秤量し、酸に溶解した後、ICP発光分光分析器で濃度を測定し、その結果を表2に記載した。
[Examination of shear strength: Example B]
[Example B1]
A predetermined amount of Bi, Cu, and Sn chip raw materials were put into the graphite crucible, the graphite crucible was set in an atomizing device, and the atmosphere was maintained under an inert gas atmosphere for a certain period of time until the raw materials were uniformly dissolved to obtain a molten metal.
Then, the stopper installed at the bottom of the graphite crucible was pulled up, and the molten metal was dropped below. At that time, an inert gas was sprayed on the molten metal to produce solder powder.
0.5 g of solder powder was accurately weighed, dissolved in an acid, and then the concentration was measured by an ICP emission spectrophotometer. The results are shown in Table 2.

[固相線温度、液相線温度、融点の測定]
はんだ合金の固相線温度(SPT)、液相線温度(LPT)及び融点(MP)の測定は、JIS Z3198−1:2014に準拠し、示差走査熱量測定(DSC:Differential Scanning Calorimetry)による方法で実施した。これらの結果をまとめて表2に示す。
[Measurement of solidus temperature, liquidus temperature, melting point]
The solidus temperature (SPT), the liquidus temperature (LPT) and the melting point (MP) of the solder alloy are measured according to JIS Z3198-1: 2014, and the method is based on differential scanning calorimetry (DSC). It was carried out in. The results are summarized in Table 2.

[シェア強度の測定(リフロー1回もしくは3回後)]
Siウエハの片面にスパッタリングにより、Al面(厚さ3μm)を作製し、更に塗布によりポリイミド膜を形成その後露光現像によりポリイミド膜に300μm直径の開口部のランドを形成した。
さらに無電解めっきによりランド部の上に、Ni層(厚さ2.5μm)、Pd層(厚さ0.05μm)、Au層(厚さ0.02μm)を順次形成してUBMを設けた。
UBMの上にフラックスを塗布し、さらにその上に300μmΦのはんだ粉を搭載し、リフロー処理を行って、加熱接合させた。リフロー処理の条件は、リフロー温度290℃×1分間で行い、これを1回だけ行うか、あるいは3回くり返した。
その後接合強度(シェア強度)を以下の条件により測定した。
接合強度は、MIL STD−883Gに準じて測定した。荷重センサに取り付けられたツールが基板面まで下降し、装置が基板面を検出し下降を停止し、検出した基板面から設定された高さまでツールが上昇し、ツールで接合部を押して破壊時の荷重を計測した。これらの結果をまとめて表2に示す。
<測定条件>
装置:dage社製 dage series 4000
方法:ダイシェアテスト
テストスピード:100μm/s
テスト高さ:20.0μm
ツール移動量:0.9mm
[Measurement of shear strength (1 or 3 times of reflow)]
An Al surface (thickness: 3 μm) was formed on one surface of the Si wafer by sputtering, and a polyimide film was further formed by coating, and then a land having a 300 μm diameter opening was formed in the polyimide film by exposure and development.
Further, a Ni layer (thickness 2.5 μm), a Pd layer (thickness 0.05 μm), and an Au layer (thickness 0.02 μm) were sequentially formed on the land portion by electroless plating to provide the UBM.
Flux was applied on the UBM, solder powder of 300 μmΦ was further mounted on the UBM, reflow treatment was performed, and heat bonding was performed. The conditions for the reflow treatment were that the reflow temperature was 290 ° C. × 1 minute, and this was performed only once or repeated three times.
After that, the bonding strength (shear strength) was measured under the following conditions.
The bonding strength was measured according to MIL STD-883G. The tool attached to the load sensor descends to the board surface, the device detects the board surface and stops descending, the tool rises to the set height from the detected board surface, and the tool pushes the joint to destroy the board. The load was measured. The results are summarized in Table 2.
<Measurement conditions>
Device: dage series 4000 manufactured by dage
Method: Die shear test Test speed: 100 μm / s
Test height: 20.0 μm
Tool movement amount: 0.9 mm

[シェア強度の測定(高温試験後)]
リフロー処理後(リフロー処理1回)に、高温試験として、空気雰囲気下で、250℃で1000時間保持した後、上記と同様にシェア強度を測定した。これらの結果をまとめて、表2に示す。
[Measurement of shear strength (after high temperature test)]
After the reflow treatment (one time of the reflow treatment), as a high temperature test, after holding at 250 ° C. for 1000 hours in an air atmosphere, the shear strength was measured in the same manner as above. The results are summarized in Table 2.

[実施例B2〜B5]
実施例B1と同様の手順で、はんだ粉を作製し、ICP発光分光分析器で濃度を測定し、示差走査熱量測定によって固相線温度、液相線温度及び融点を測定し、さらにリフロー1回後、リフロー3回後、及び高温試験後のシェア強度を測定した。これらの結果をまとめて表2に示す。
[Examples B2 to B5]
Solder powder was prepared in the same procedure as in Example B1, the concentration was measured with an ICP emission spectrophotometer, and the solidus temperature, liquidus temperature and melting point were measured by differential scanning calorimetry, and one reflow was performed. Then, the shear strength was measured after three reflows and after the high temperature test. The results are summarized in Table 2.

[比較例B1〜B8]
実施例1と同様の手順で、はんだ粉を作製し、ICP発光分光分析器で濃度を測定し、示差走査熱量測定によって固相線温度、液相線温度及び融点を測定し、さらにリフロー1回もしくは3回後と高温試験後のシェア強度を測定した。これらの結果をまとめて表2に示す。
[Comparative Examples B1 to B8]
In the same procedure as in Example 1, solder powder was prepared, the concentration was measured with an ICP emission spectrophotometer, and the solidus temperature, liquidus temperature and melting point were measured by differential scanning calorimetry, and one reflow was performed. Alternatively, the shear strength was measured after three times and after the high temperature test. The results are summarized in Table 2.

Figure 2020069517
Figure 2020069517

[実施例Bの結果]
表2から示されるように、実施例B1〜B5のはんだ合金は、250℃で1000時間経過後においても、十分なシェア強度を維持していた。
[Results of Example B]
As shown in Table 2, the solder alloys of Examples B1 to B5 maintained sufficient shear strength even after 1000 hours at 250 ° C.

表2において、比較例B2、B4、B6、B8はすでにリフロー3回後のシェア強度が低すぎるものであった。
比較例B1、B3、B5、B7は固相温度が低すぎるものであった。そのために、はんだ合金としては不十分であると考えて、シェア強度測定は行わなかった。
In Table 2, Comparative Examples B2, B4, B6 and B8 were already too low in shear strength after 3 times of reflow.
Comparative Examples B1, B3, B5, and B7 had solid phase temperatures that were too low. Therefore, the shear strength was not measured because it was considered insufficient as a solder alloy.

実施例B1、B2は、比較例B2と比較すると、Cu含有量がほぼ同程度であるがSn含有量が異なることによって、リフロー1回後とリフロー3回後のシェア強度が大きく向上したものとなっていた。同様に、実施例B3は比較例B4と比較すると、実施例B4、B5は比較例B6と比較すると、Cu含有量がほぼ同程度であるがSn含有量が異なることによって、リフロー1回後とリフロー3回後のシェア強度が大きく向上したものとなっていた。   Compared with Comparative Example B2, Examples B1 and B2 had substantially the same Cu content but different Sn contents, so that the shear strength after one reflow and after three reflows was significantly improved. Was becoming. Similarly, Example B3 was compared with Comparative Example B4, and Examples B4 and B5 were compared with Comparative Example B6, but the Cu content was almost the same, but the Sn content was different. The share strength after three reflows was greatly improved.

[実施例Aと実施例Bの結果のまとめ]
表2から示されるように、実施例B1〜B5のはんだ合金は、その組成について、一定の規則性ある範囲を満たすようなものとなっていた。この範囲を示す式を以下に示す。以下の式によって示される範囲を、図1に示す。この図1に示される範囲は、表1と表2の結果、すなわち実施例Aと実施例Bから明らかになった好適な範囲を、同時に満たすものとなっている。
[Summary of Results of Example A and Example B]
As shown in Table 2, the solder alloys of Examples B1 to B5 were such that the composition thereof had a certain regular range. The formula showing this range is shown below. The range represented by the following equation is shown in FIG. The range shown in FIG. 1 simultaneously satisfies the results shown in Tables 1 and 2, that is, the preferable ranges clarified from Example A and Example B.

図1に示されるはんだ合金の組成の範囲は、以下の範囲を満たすものとなっていた:
0.60≦Sn含有量(質量%)≦0.99
0.05≦Cu含有量(質量%)≦0.19
Cu含有量(質量%)≦1.61×Sn含有量(質量%)−0.92
Cu含有量(質量%)≧1.50×Sn含有量(質量%)−1.29
The composition range of the solder alloy shown in FIG. 1 satisfied the following ranges:
0.60 ≦ Sn content (mass%) ≦ 0.99
0.05 ≦ Cu content (mass%) ≦ 0.19
Cu content (mass%) ≦ 1.61 × Sn content (mass%) − 0.92
Cu content (mass%) ≧ 1.50 × Sn content (mass%) − 1.29

なお、実施例A及び実施例Bにおいて、以下の組みあわせは、ICP分析値が同一である:
実施例A2 =実施例B1
実施例A3 =実施例B2
実施例A6 =実施例B3
実施例A9 =実施例B4
実施例A10=実施例B5
実施例A1 =比較例B2
実施例A4 =比較例B3
実施例A5 =比較例B4
実施例A7 =比較例B5
実施例A8 =比較例B6
実施例A11=比較例B7
実施例A12=比較例B8
In Examples A and B, the following combinations have the same ICP analysis values:
Example A2 = Example B1
Example A3 = Example B2
Example A6 = Example B3
Example A9 = Example B4
Example A10 = Example B5
Example A1 = Comparative example B2
Example A4 = Comparative Example B3
Example A5 = Comparative example B4
Example A7 = Comparative example B5
Example A8 = Comparative example B6
Example A11 = Comparative Example B7
Example A12 = Comparative Example B8

本発明は、高温域において、優れた特性を有するはんだ合金を提供する。本発明は産業上有用な発明である。   The present invention provides a solder alloy having excellent properties in a high temperature range. The present invention is an industrially useful invention.

Claims (17)

Sn、Bi、及びCuを含有するはんだ合金であって、
Sn含有量が0.60〜0.99質量%であり、Cu含有量が0.05〜0.19質量%であり、残部がBi及び不可避不純物であり、Sn含有量とCu含有量が、以下の式を満たす、はんだ合金:
Cu含有量(質量%)≦1.61×Sn含有量(質量%)−0.92
Cu含有量(質量%)≧1.50×Sn含有量(質量%)−1.29。
A solder alloy containing Sn, Bi, and Cu,
The Sn content is 0.60 to 0.99% by mass, the Cu content is 0.05 to 0.19% by mass, the balance is Bi and inevitable impurities, and the Sn content and the Cu content are Solder alloy that satisfies the following formula:
Cu content (mass%) ≦ 1.61 × Sn content (mass%) − 0.92
Cu content (mass%) ≧ 1.50 × Sn content (mass%) − 1.29.
Bi含有量が98.82〜99.35質量%である、請求項1に記載のはんだ合金。   The solder alloy according to claim 1, wherein the Bi content is 98.82 to 99.35% by mass. 固相線温度が243℃以上である、請求項1〜2のいずれかに記載のはんだ合金。   The solidus temperature is 243 degreeC or more, The solder alloy in any one of Claims 1-2. 液相線温度が271℃以下である、請求項1〜3のいずれかに記載のはんだ合金。   The solder alloy according to claim 1, which has a liquidus temperature of 271 ° C. or lower. 次の式: [液相線温度]−[固相線温度]
の値が、28℃以下である、請求項1〜4のいずれかに記載のはんだ合金。
The following formula: [Liquid line temperature]-[Solid line temperature]
The solder alloy according to any one of claims 1 to 4, which has a value of 28 ° C or less.
リフロー1回処理後の接合強度が47MPa以上である、請求項1〜5のいずれかに記載のはんだ合金。   The solder alloy according to any one of claims 1 to 5, which has a bonding strength of 47 MPa or more after one reflow treatment. リフロー3回処理後の接合強度が49MPa以上である、請求項1〜6のいずれかに記載のはんだ合金。   The solder alloy according to any one of claims 1 to 6, which has a bonding strength of 49 MPa or more after three reflow treatments. 250℃1000時間の高温保持後の接合強度が30MPa以上である、請求項1〜7のいずれかに記載のはんだ合金。   The solder alloy according to any one of claims 1 to 7, which has a bonding strength of 30 MPa or more after being kept at a high temperature of 250 ° C for 1000 hours. はんだ合金の形状が、粉状、ボール状、又はシート状である、請求項1〜8のいずれかに記載のはんだ合金。   The solder alloy according to any one of claims 1 to 8, wherein the solder alloy has a powder shape, a ball shape, or a sheet shape. 請求項1〜8のいずれかに記載のはんだ合金を材料とした部材。   A member made of the solder alloy according to claim 1. 請求項1〜8のいずれかに記載のはんだ合金ではんだ付けされた電子部品の内部接合はんだ継手。   An internal joint solder joint of an electronic component soldered with the solder alloy according to claim 1. 請求項1〜8のいずれかに記載のはんだ合金ではんだ付けされたパワートランジスタのはんだ継手。   A solder joint for a power transistor soldered with the solder alloy according to claim 1. 請求項1〜8のいずれかに記載のはんだ合金を有するプリント回路板。   A printed circuit board comprising the solder alloy according to claim 1. 請求項1〜8のいずれかに記載のはんだ合金を有する電子部品。   An electronic component comprising the solder alloy according to claim 1. 請求項1〜8のいずれかに記載のはんだ合金を有するパワートランジスタ。   A power transistor comprising the solder alloy according to claim 1. 請求項11または12に記載のはんだ継手又は請求項13に記載のプリント回路板または請求項14に記載の電子部品または請求項15に記載のパワートランジスタを有する電子機器。   An electronic device comprising the solder joint according to claim 11 or 12, the printed circuit board according to claim 13, the electronic component according to claim 14, or the power transistor according to claim 15. 請求項11または12に記載のはんだ継手を有するパワーデバイス。   A power device having the solder joint according to claim 11.
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