JP2020068359A - 光電変換装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 複数の基板を積層している光電変換装置において、ある光電変換部を通過した光が、ある光電変換部とは異なる光電変換部に入射することを防ぐことを目的とする。【解決手段】 光入射面を有し、複数の光電変換部を含む第1基板と、前記第1基板の、前記光入射面とは反対側に配された光学部材と、前記光学部材の前記第1基板とは反対側に配された第2基板と、を備え、前記光学部材は、前記第1基板を透過した光の、前記第2基板の前記第1基板側の面への入射角を小さくするように光を屈折させる。【選択図】 図1
Description
本発明は、光電変換装置に関する。
光電変換部を含む基板と、該基板とは異なる基板を積層した光電変換装置が知られている。例えば、特許文献1には、光電変換部を含む第1基板と、第2基板とが積層されており、第1基板の第2基板側の面とは反対側の面にマイクロレンズが配された光電変換装置が開示されている。この光電変換装置において、光はマイクロレンズの第1基板側の面とは反対側の面から入射する。
第1基板に含まれる光電変換部を通過して第2基板に向かう光の中には、図2に示すように、広がりを持って第2基板に当たる光が含まれる。例えば、第2基板に向かう光の入射角が0°よりも90°に近い場合がある。このような場合は、光電変換部を通過した光が第2基板で反射して、第1基板に含まれる光電変換部のうち、光が通過した光電変換部とは異なる光電変換部に入射する比率が増える。
本発明の一形態に係る光電変換装置は、光入射面を有し、複数の光電変換部を含む第1基板と、前記第1基板の、前記光入射面とは反対側に配された光学部材と、前記光学部材の前記第1基板とは反対側に配された第2基板と、を備え、前記光学部材は、前記第1基板を透過した光の、前記第2基板の前記第1基板側の面への入射角を小さくするように光を屈折させる。
本発明の一形態に係る光電変換装置は、光入射面を有し、複数の光電変換部を含む第1基板と、前記第1基板の、前記光入射面とは反対側に配されたレンズと、前記レンズの前記第1基板とは反対側に、前記レンズに接して配され、前記レンズよりも屈折率の低い材料からなる透光部材と、前記透光部材の前記第1基板とは反対側に配された第2基板と、を備え、前記レンズは、前記第2基板に向かって凸状の曲面を有する。
本発明の一形態に係る光電変換装置は、光入射面を有し、複数の光電変換部を含む第1基板と、前記第1基板の、前記光入射面とは反対側に配されたシリコン酸化膜と、前記第1基板と前記シリコン酸化膜との間に配され、前記シリコン酸化膜よりも窒素の比率が高い膜と、前記シリコン酸化膜の前記第1基板とは反対側に配された第2基板と、を備え、前記シリコン酸化膜よりも窒素の比率が高い膜は、前記第2基板に向かって凸状の曲面を有する。
本発明によれば、複数の基板を積層している光電変換装置において、ある光電変換部を通過した光が、ある光電変換部とは異なる光電変換部に入射することを防ぐことができる。
以下、図面を参照し、本発明の実施例を説明する。図面の各部寸法は実際のものと異なる。また、本明細書で特に図示または記載されない部分に関しては、当該技術分野の周知または公知技術を適用する。
(実施例1)
図1に本実施例に係る光電変換装置004の断面図を示す。光電変換装置004は、複数の光電変換部111を含む基板101と、基板101の光入射面とは反対側の面に配された光学部材021と、光学部材021の基板101とは反対側の面に配された基板201と、を備える。光学部材021と基板201との間には、光学部材021に接して透光部材131、231が配されている。図1において光学部材021は3つのレンズ部を含んで構成されている。各レンズ部は平面視において複数の光電変換部111の少なくとも1つの光電変換部111に重なるように配されている。光学部材021は、光学部材021を通過した光の、基板201への入射角を小さくするように光を屈折させる。
図1に本実施例に係る光電変換装置004の断面図を示す。光電変換装置004は、複数の光電変換部111を含む基板101と、基板101の光入射面とは反対側の面に配された光学部材021と、光学部材021の基板101とは反対側の面に配された基板201と、を備える。光学部材021と基板201との間には、光学部材021に接して透光部材131、231が配されている。図1において光学部材021は3つのレンズ部を含んで構成されている。各レンズ部は平面視において複数の光電変換部111の少なくとも1つの光電変換部111に重なるように配されている。光学部材021は、光学部材021を通過した光の、基板201への入射角を小さくするように光を屈折させる。
光電変換装置004によれば、基板201で光が反射されることを抑えることができるため、ある光電変換部111を透過した光であって基板201で反射された光が、ある光電変換部111とは異なる光電変換部に入射することを抑えることができる。
図2に、本実施例の効果を説明するための参考例を示す。参考例は、光学部材021が配されていない点で実施例1とは異なる。光電変換部111を通過した光はある程度広がりをもつ。広がった光は、基板201と透光部材231との界面において全反射されやすい。例えば、画素PIX1の光電変換部111を通過して基板201に到達した光のうち、一部の光は反射し、隣接する画素PIX2、PIX3の光電変換部111に入射するため、画素PIX1で行われるべき光電変換が、画素PIX2、PIX3で行われることになる。特に、画素PIX1に対応して配されるカラーフィルタが透過する波長と、画素PIX2、PIX3に対応して配されるカラーフィルタが透過する波長とが異なることがある。この場合は、混色が発生するためセンシング性が低下する。例えば、光電変換装置が画像を生成する装置である場合は、生成される画像の画質の低下が生じやすくなる。
これに対して、本実施例によれば、光学部材021で光の広がりを抑えている。つまり、基板201の基板101側の面に垂直な線と光電変換部111を通過した光とがなす角度Θ(以下「入射角Θ」」という。)を0°に近づけている。したがって、基板201と透光部材231との界面で光が反射することを抑えることができ、センシング性を向上させることができる。また、光電変換部111を通過した光を、光が通過した光電変換部111に戻すことができるため、感度を向上させることができる。
以下では、光電変換装置004に含まれる構成について説明する。光電変換装置004は基板101と基板201とが透光部材131、231を介して積層されている。
(基板101)
基板101は複数の光電変換部111を含む。図1は、光電変換装置全体のうちの一部分を拡大して示している。本実施例では、1つの画素PIXは、1つの光電変換部111により構成されている。図1では、3つの画素(PIX1、PIX2、PIX3)が図示されている。
基板101は複数の光電変換部111を含む。図1は、光電変換装置全体のうちの一部分を拡大して示している。本実施例では、1つの画素PIXは、1つの光電変換部111により構成されている。図1では、3つの画素(PIX1、PIX2、PIX3)が図示されている。
光電変換部111は、例えば、フォトダイオードやSPAD(single Photon avalache diode)である。なお、光電変換機能があれば、光電変換部111はこれらの構成に限られない。
基板101に入射した光は光電変換部111で電荷に変換され、データの生成に用いられる。入射光の多くは基板101の内部で光電変換されるが、一部は基板101を通過した後に基板201へと到達する。例えば、基板101が数μmのシリコンである場合における基板101を通過する率は、可視光において10〜30%であり、赤外波長になると40%を超えると考えられる。
(マイクロレンズ081、カラーフィルタ082、絶縁部材083)
被写体から各光電変換部111へと入射する光は、マイクロレンズ081で集光されて光電変換部111に入射する。
被写体から各光電変換部111へと入射する光は、マイクロレンズ081で集光されて光電変換部111に入射する。
マイクロレンズ081と基板101との間にはカラーフィルタ082が配されており、マイクロレンズ081を通過した光は、カラーフィルタ082で色分離されて光電変換部111に入射する。
マイクロレンズ081から基板101までの光路には、カラーフィルタ082を除き、透光性の絶縁部材083により形成される。なお、本明細書における透光性とは、入射した光の全部又は一部を透過させる性質を意味し、例えば、入射した光を50%以上透過させる性質を言う。絶縁部材083とは、例えば、シリコン酸化膜である。
(光学部材021)
光学部材021は1以上のレンズ部により構成されている。図1では、各レンズ部は離間しているが、繋がっていてもよい。
光学部材021は1以上のレンズ部により構成されている。図1では、各レンズ部は離間しているが、繋がっていてもよい。
光学部材021は、上述の通り、光学部材021を通過して基板201に入射する光の広がりが抑えられるように光を屈折させるものである。光学部材021は、透光部材131と接触しており、かつ、透光部材131よりも屈折率の高い材料で形成されている。そして、光学部材021を構成するレンズ部は、基板201に向かって弓なりとなった凸状の曲面を有している。これにより、光学部材021を通過した光の広がりを抑えることができる。光学部材021は、例えば、シリコン酸化膜よりも窒素の比率が高い膜で形成される。光学部材021は、典型的には、シリコン窒化膜、シリコン酸窒化膜で構成される。
光学部材021は、光電変換部111を通過した光が光学部材021へ入射されるように、基板101にできるだけ近づけて配されることが好ましい。なお、基板101の材料及び光学部材021の材料次第では、基板101と光学部材021とが接すると、センシング性が低下する可能性がある。例えば、基板101の材料をシリコンとし、光学部材021の材料をシリコン窒化膜とした場合は、基板101と光学部材021が接すると、暗電流が発生し、センシング性の低下につながる可能性がある。したがって、このような組み合わせにおいては、光学部材021と基板101との間に、シリコン酸化膜等のバッファ層を配することが好ましい。
上記の通り、光学部材021は、光学部材021を通過した光が基板201で反射しても所定の光電変換部111以外の光電変換部111に入射しないよう、光学部材021を通過して基板201へ入射する光の入射角Θを小さくするように配される。より好適には入射角Θが0°に近づくように設計することが好ましい。光学部材021の構造設計は、次のように考えればよい。
まず、反射面の位置と光電変換部の配置とを勘案して、隣接する光電変換部に反射光が入射しない入射角Θの許容範囲を求める。本実施例において反射面とは、基板201の基板101側の面である。次に、光電変換部111を通過した光がその許容範囲に含まれるように光学部材021の設計を行う。これにより、光電変換部111を通過した光が、反射または屈折して、隣接する光電変換部へと入射することを防ぐことができる。
光学部材021と基板201との距離はできるだけ短いことが好ましい。光学部材021を通過した光の中には、基板201の基板101側の面に対して垂直に入射せず、わずかに傾きをもつ光が含まれる。この場合に、光学部材021から基板201までの距離が長いと、反射された光が隣の光電変換部に入射する可能性がある。光学部材021から基板201までの距離Lを短くすることにより、光電変換部111に光を再入射させやすくなる。
距離L、入射角θ、平面距離dを式で表現すると以下のようになる。
2L≦d/tanΘ
2L≦d/tanΘ
ここで、
d・・・光学部材の屈折点と隣の画素との平面距離
θ・・・入射角
L・・・光学部材と反射面との距離
である。
d・・・光学部材の屈折点と隣の画素との平面距離
θ・・・入射角
L・・・光学部材と反射面との距離
である。
この式について図14(A)〜図14(C)を参照しながら説明する。図14(A)は、2L<d/tanΘを示す図であり、図14(B)は、2L=d/tanΘを示す図であり、図14(C)は、2L>d/tanΘを示す図である。図14(A)及び図14(B)においては、基板201で反射された光は画素PIX3の光電変換部111へ入射しにくい。一方で、図14(C)に示すように、距離Lが長くなると、基板201で反射された光は画素PIX3の光電変換部111へ入射する。したがって、2L≦d/tanΘの関係を満たす場合に、隣接する光電変換部に反射した光が入射しにくくなる。
(基板201)
光学部材021によって発散が抑えられるように屈折された光は、透光部材131、231を経て、基板201へと到達する。
光学部材021によって発散が抑えられるように屈折された光は、透光部材131、231を経て、基板201へと到達する。
基板201は、透光部材131、231よりも透過率の低い材料により構成されている。基板201は、例えば、シリコンや金属により構成されている。
(透光部材131、231)
基板101と基板201との間には、透光部材131、231が配されている。透光部材131は、光学部材021よりも屈折率の低い材料で構成されている。透光部材131、231は、同じ材料から構成されることが好ましい。透光部材131、231の材料は、例えば、シリコン酸化膜である。
基板101と基板201との間には、透光部材131、231が配されている。透光部材131は、光学部材021よりも屈折率の低い材料で構成されている。透光部材131、231は、同じ材料から構成されることが好ましい。透光部材131、231の材料は、例えば、シリコン酸化膜である。
透光部材231の屈折率は、基板201の屈折率よりも高い。このような場合に、基板201で光が全反射されて異なる光電変換部に光が入射しやすくなるところ、本実施例によれば光学部材021により全反射を起こしにくくすることができる。
光電変換装置004は、基板101と透光部材131とを含む基部100と、基板201と透光部材231とを含む基部200と、を各透光部材131、231が接するように接合して形成されている。透光部材131及び透光部材231の接合面300において、透光部材131、231だけではなく透光部材131に配された配線と透光部材231に配された配線とが接合されていてもよい。
(実施例2)
図3(A)に本実施例に係る光学部材021及びその周辺の平面図を示し、図3(B)に図3(A)のA−A’断面図を示す。本実施例に係る光電変換装置004は、光学部材021と光電変換部111との間に絶縁膜113が配されている点で実施例1に係る光電変換装置と異なる。なお、図3(B)は、図1とは上下反転している。つまり、図3(B)の下側から光は入射する。
図3(A)に本実施例に係る光学部材021及びその周辺の平面図を示し、図3(B)に図3(A)のA−A’断面図を示す。本実施例に係る光電変換装置004は、光学部材021と光電変換部111との間に絶縁膜113が配されている点で実施例1に係る光電変換装置と異なる。なお、図3(B)は、図1とは上下反転している。つまり、図3(B)の下側から光は入射する。
図3(B)に示すように、ゲート電極114は、平面視において光電変換部111と浮遊拡散部112の間であって、ゲート絶縁膜113の基板101とは反対側の面に配される。ゲート電極114に電圧を印加することにより、光電変換部111に蓄積された電荷が浮遊拡散部112へと転送される。
実施例1で述べたように、光学部材021と基板101とはできるだけ近づけて配されることが好ましいが、光学部材021と基板101とが直接接すると基板101と光学部材021との界面が劣化する可能性がある。本実施例のように、ゲート電極114と光学部材021とをゲート絶縁膜113を介して同一平面に配することにより、基板101と光学部材021との距離を小さくしながら、基板101と光学部材021との界面の劣化を抑制することができる。
ゲート絶縁膜113は、例えば、1nm以上10nm以下の範囲内の厚みとする。ゲート絶縁膜113の材料としては、主として酸化ケイ素や酸化ハフニウムを含むもの等が用いられる。また、ゲート絶縁膜113には、窒素が含まれていてもよい。ゲート絶縁膜113に窒素が含まれる場合は、ゲート絶縁膜113の窒素の含有量は、光学部材021における窒素の含有量よりも少ないことが好ましい。
図4(A)〜図4(C)に実施例2に係る光電変換装置の製造方法を示す。
まず、図4(A)に示すように、光電変換部111及び浮遊拡散部112を含む基板101にゲート絶縁膜113を形成し、ゲート絶縁膜113の基板101とは反対側の面にゲート電極114を形成する。
次に、図4(B)に示すように、ゲート電極114が配されている側の面に光学部材021の材料となるシリコン窒化膜を成膜する。その後、光学部材形成部にフォトレジスト071をパターニングする。
次に、フォトレジスト071をマスクにしてシリコン窒化膜をエッチングし、余ったフォトレジストを除去する。これにより、図4(C)に示すように光学部材021を形成することができる。その後、絶縁部材031を成膜し、配線142およびプラグ141を形成することで、図3(B)に示す構造が作成できる。
本実施例に示す製造方法によれば、次に説明する実施例3と比較して工程数を少なくすることができる。
なお、シリコン窒化膜を成膜する前に、シリコン酸化膜(SiO)やシリコン酸窒化膜(SiON)等の各種絶縁部材を成膜してもよい。これらの材料は、エッチング時のエッチストップ層として機能させることができる。この点は、以降に示す実施例3や4においても同様である。
(実施例3)
図5(A)に本実施例に係る光学部材021及びその周辺の平面図を示し、図5(B)に図5(A)のB−B’断面図を示す。本実施例に係る光電変換装置は、平面視においてゲート電極114の一部に光学部材021が重なるように配されている点で実施例2の光電変換装置と異なる。
図5(A)に本実施例に係る光学部材021及びその周辺の平面図を示し、図5(B)に図5(A)のB−B’断面図を示す。本実施例に係る光電変換装置は、平面視においてゲート電極114の一部に光学部材021が重なるように配されている点で実施例2の光電変換装置と異なる。
図5(A)に示すように、本実施例では、平面視において光学部材021の外縁よりも内側においてゲート電極114の一部が重なっている。
本実施例によれば、平面視において基板101と光学部材021とが重なる領域の面積を増やすことができる。したがって、光電変換部111を通過して広がりをもった光を光学部材021へと入射させすくなるため、迷光を抑制しやすくできる。
図6(A)〜図6(D)に実施例3に係る光電変換装置の製造方法を示す。ゲート電極114を形成し、シリコン窒化膜021を成膜するまでは実施例2と同様である。
図6(B)に示すように、シリコン窒化膜021を形成した後は、シリコン窒化膜021に段差が生じている。実施例2と同様の方法により光学部材021をゲート電極114に重なるように形成すると、ゲート電極114の段差が原因となりレンズ形状が崩れてしまう。そこで、本実施例では、段差の段が低い領域にフォトレジスト072をパターニングした後に、フォトレジスト072をマスクにしてシリコン窒化膜021の段が高い領域をエッチングし、次いでCMP処理を行う。これにより、シリコン窒化膜は平坦化される。こうして平坦化した後に、図6(C)に示すように、レンズ形成部にフォトレジスト071を形成する。次に、これをエッチングし、余ったフォトレジストを除去することで、図6(D)に示すように、平面視において、ゲート電極114と光学部材021とを重ねることができる。この後に、絶縁部材031を成膜し、配線およびプラグを形成することで、図5(B)に示すような光電変換装置を作製できる。
(実施例4)
図7(A)に本実施例に係る光学部材021及びその周辺の平面図を示し、図7(B)に図7(A)のC−C’断面図を示す。本実施例に係る光電変換装置は、光学部材021と基板101との間に配される絶縁部材の厚みが大きい点及び平面視において光学部材021と基板101とが重なる領域が広い点で実施例2の光電変換装置と異なる。
図7(A)に本実施例に係る光学部材021及びその周辺の平面図を示し、図7(B)に図7(A)のC−C’断面図を示す。本実施例に係る光電変換装置は、光学部材021と基板101との間に配される絶縁部材の厚みが大きい点及び平面視において光学部材021と基板101とが重なる領域が広い点で実施例2の光電変換装置と異なる。
図7(B)に示すように、光電変換装置が複数の配線142を含む場合は、一般的に、配線141を形成する際に表面を平坦化する。この平坦化された面に光学部材021を配することにより、製造コストをかけず面積の大きいレンズを形成することができる。
図8(A)〜図8(C)に、本実施例における製造方法を示す。ゲート電極114を形成するまでは実施例2と同様である。本実施例では、ゲート電極114を形成した後、配線142及びプラグ141を形成する。その後、図8(B)に示すように、光学部材021の材料となるシリコン窒化膜を成膜し、光学部材の形成部にフォトレジスト071をパターニングする。次に、フォトレジスト071をマスクにしてシリコン窒化膜をエッチングし、余ったフォトレジストを除去することにより、図8(C)に示す光学部材021が形成される。次に、光学部材021が埋まるように絶縁部材031を配する。次に、絶縁部材031の基板101の側とは反対側の面をCMP処理し、プラグ141および配線142を形成する。
本実施例によれば、製造工程をあまり増やさずに、平面視において、基板101と光学部材021とが重なる領域の面積を大きくすることができる。
(実施例5)
図9(A)に本実施例に係る光電変換装置004を示す。本実施例に係る光電変換装置004は、基板201が複数の光電変換部を含む点で実施例1に記載の光電変換装置とは異なる。
図9(A)に本実施例に係る光電変換装置004を示す。本実施例に係る光電変換装置004は、基板201が複数の光電変換部を含む点で実施例1に記載の光電変換装置とは異なる。
本実施例では、平面視において、1つのマイクロレンズに重なるように1つの光電変換部が基板101に配されている。また、平面視において、1つのマイクロレンズに重なるように複数の光電変換部211A、211Bが基板201に配されている。本実施例によれば、光電変換部211Aで生成される電荷に基づくデータと、光電変換部211Bで生成される電荷に基づくデータとを得ることができる。このデータの差分の大きさから距離情報を得ることができる。
図9(B)に、平面視において、1つのマイクロレンズに重なる領域における基板201の平面図を示す。図9(B)に示すように、光電変換部211A及び光電変換部211Bが、平面視において、1つのマイクロレンズに重なるように配されている。光電変換部211Aと浮遊拡散部212Aとの間には、ゲート電極214Aが配されており、光電変換部211Bと浮遊拡散部212Bとの間には、ゲート電極214Bが配されている。
ゲート電極214A、214Bに電圧を印加すると、各光電変換部に蓄積された電荷が対応する浮遊拡散部212A、212Bに転送される。例えば、光電変換装置が画像を生成する装置である場合は、これにより、同時刻における被写体の画像情報と距離情報とを取得することができる。
ゲート電極214A、214Bは、配線及びプラグにより直線的に接続されていることが好ましい。これにより、タイムラグの発生を抑えることができるため、被写体の画像情報と距離情報との同時性を高めることができる。
なお、本実施例では、基板201の光電変換部211A、211Bを距離情報の取得に用いているが、赤外線情報を取得することも可能である。基板201に到達する光は、可視光に比べて赤外線波長の光が多い。したがって、基板201では赤外光の多い情報が得られる。このように、基板101の光電変換部111において可視光の情報を得るとともに、基板201の光電変換部211において赤外光による情報も同時に取得することができる。
(実施例6)
図10に本実施例に係る光電変換装置004の断面図を示す。本実施例に係る光電変換装置004は、平面視において、1つのマイクロレンズに重なる領域に1つの光電変換部が基板201に配されている点で実施例5に記載の光電変換装置とは異なる。また、本実施例に係る光電変換装置は、平面視において、光電変換部の一部に重なるように遮光部材が配されている点で実施例5に係る光電変換装置とは異なる。
図10に本実施例に係る光電変換装置004の断面図を示す。本実施例に係る光電変換装置004は、平面視において、1つのマイクロレンズに重なる領域に1つの光電変換部が基板201に配されている点で実施例5に記載の光電変換装置とは異なる。また、本実施例に係る光電変換装置は、平面視において、光電変換部の一部に重なるように遮光部材が配されている点で実施例5に係る光電変換装置とは異なる。
遮光部材041は、光学部材021と光電変換部211との間の一部に配されている。光学部材021を通過する光の一部は、遮光部材041によって遮られる。具体的には、遮光部材041は、1つの光電変換部の約半分が遮光されるようになっている。このとき遮光部材041は、連続して配された2つの光電変換部を結ぶ線に垂直な線に対して線対称に配されていることが好ましい。
本実施例によれば、光電変換装置が画像を生成する装置である場合に、実施例5と同様に、同時刻における、被写体の画像情報と距離情報とを得ることができる。
図10では、接合面300と基板101との間に遮光部材041が配されているが、遮光部材041は、接合面300と基板201との間に配されていてもよい。
また、本実施例では隣接する2つの光電変換部に対応して遮光部材041を配しているが、離れた位置にある複数の光電変換部をペアとしてもよい。
(実施例7)
図11に本実施例に係る光電変換装置004を示す。本実施例に係る光電変換装置004は、光学部材021と基板201との間に金属部材が配されている点で実施例1に記載の光電変換装置とは異なる。
図11に本実施例に係る光電変換装置004を示す。本実施例に係る光電変換装置004は、光学部材021と基板201との間に金属部材が配されている点で実施例1に記載の光電変換装置とは異なる。
本実施例では、光学部材021と基板201との間に配される金属部材は、配線141、241である。金属部材が配される場合には、基板101を通過して金属部材に到達して反射される光が実施例1に比べて多くなる。本実施例のように、光学部材021を配することにより、金属部材で反射された光を、光が通過した光学部材021に向けて反射させることができる。
金属部材は光学部材021にできるだけ近づけて配されることが望ましい。例えば、配線141は、接合面300と基板101との間に配される透光部材131に配されることが好ましい。
(実施例8)
図12は、実施例8に係る光電変換システム001の概略構成図である。光電変換システム001は、種々の光電変換システムに適用可能である。光電変換システムの例としては、デジタルスチルカメラ、デジタルカムコーダ、監視カメラ、複写機、ファックス、携帯電話、車載カメラ、衛星観測等が挙げられる。また、レンズなどの光学系と光電変換装置とを備えるカメラモジュールも、光電変換システムに含まれる。
図12は、実施例8に係る光電変換システム001の概略構成図である。光電変換システム001は、種々の光電変換システムに適用可能である。光電変換システムの例としては、デジタルスチルカメラ、デジタルカムコーダ、監視カメラ、複写機、ファックス、携帯電話、車載カメラ、衛星観測等が挙げられる。また、レンズなどの光学系と光電変換装置とを備えるカメラモジュールも、光電変換システムに含まれる。
光電変換システム001は、被写体002からの光を、装置付属レンズ003を介して集束し、光電変換装置004へ入射させる。ここで、光電変換装置004は複数の光電変換部が連続的に配された画素エリア005と、周辺回路エリア006に分割されている。入射してきた光は、画素エリア005で電子に変換され、次に周辺回路エリア006で電気信号として集計される。この集計データは、信号処理部007で光電変換装置004が出力するアナログ信号をデジタル信号に変換するAD変換処理をされる。その後、画像処理部008で必要に応じて各種の補正、圧縮を行って画像データに転換され、メモリ部009に保存される。光電変換装置004としては、実施例1乃至7のいずれかに記載の光電変換装置を用いることができる。
(実施例9)
本実施例による光電変換システム及び移動体について、図13を用いて説明する。
本実施例による光電変換システム及び移動体について、図13を用いて説明する。
図13(a)は、車戴カメラに関する光電変換システムの一例を示したものである。光電変換システム300は、光電変換装置004を有する。具体的には、図13(a)の撮像装置310が上記実施例1乃至7のいずれかに記載の光電変換装置である。光電変換システム300は、光電変換装置004により取得された複数の画像データに対し、画像処理を行う画像処理部312と、光電変換システム300により取得された複数の画像データから視差(視差画像の位相差)の算出を行う視差算出部314を有する。また、光電変換システム300は、算出された視差に基づいて対象物までの距離を算出する距離計測部316と、算出された距離に基づいて衝突可能性があるか否かを判定する衝突判定部318と、を有する。ここで、視差算出部314や距離計測部316は、対象物までの距離情報を取得する距離情報取得手段の一例である。すなわち、距離情報とは、視差、デフォーカス量、対象物までの距離等に関する情報である。衝突判定部318はこれらの距離情報のいずれかを用いて、衝突可能性を判定してもよい。距離情報取得手段は、専用に設計されたハードウェアによって実現されてもよいし、ソフトウェアモジュールによって実現されてもよい。また、FPGA(Field Programmable Gate Array)やASIC(Application Specific Integrated circuit)等によって実現されてもよいし、これらの組合せによって実現されてもよい。
光電変換システム300は車両情報取得装置320と接続されており、車速、ヨーレート、舵角などの車両情報を取得することができる。また、光電変換システム300は、衝突判定部318での判定結果に基づいて、車両に対して制動力を発生させる制御信号を出力する制御装置である制御ECU330が接続されている。また、光電変換システム300は、衝突判定部318での判定結果に基づいて、ドライバーへ警報を発する警報装置340とも接続されている。例えば、衝突判定部318の判定結果として衝突可能性が高い場合、制御ECU330はブレーキをかける、アクセルを戻す、エンジン出力を抑制するなどして衝突を回避、被害を軽減する車両制御を行う。警報装置340は音等の警報を鳴らす、カーナビゲーションシステムなどの画面に警報情報を表示する、シートベルトやステアリングに振動を与えるなどしてユーザに警告を行う。
本実施例では、車両の周囲、例えば前方又は後方を光電変換システム300で撮像する。図13(b)に、車両前方(撮像範囲350)を撮像する場合の光電変換システムを示した。車両情報取得装置320が、所定の動作を行うように光電変換システム300ないしは光電変換装置004に指示を送る。このような構成により、測距の精度をより向上させることができる。
上記では、他の車両と衝突しないように制御する例を説明したが、他の車両に追従して自動運転する制御や、車線からはみ出さないように自動運転する制御などにも適用可能である。さらに、光電変換システムは、自車両等の車両に限らず、例えば、船舶、航空機あるいは産業用ロボットなどの移動体(移動装置)に適用することができる。加えて、移動体に限らず、高度道路交通システム(ITS)等、広く物体認識を利用する機器に適用することができる。
[変形実施例]
本発明は、上記実施例に限らず種々の変形が可能である。例えば、いずれかの実施例の一部の構成を他の実施例に追加した例や、他の実施例の一部の構成と置換した例も、本発明の実施例である。
本発明は、上記実施例に限らず種々の変形が可能である。例えば、いずれかの実施例の一部の構成を他の実施例に追加した例や、他の実施例の一部の構成と置換した例も、本発明の実施例である。
なお、上記実施例は、何れも本発明を実施するにあたっての具体化の例を示したものに過ぎず、これらによって本発明の技術的範囲が限定的に解釈されてはならないものである。すなわち、本発明はその技術思想、又はその主要な特徴から逸脱することなく、様々な形で実施することができる。
101 第1基板
111 光電変換部
021 光学部材
131 透光部材
201 第2基板
111 光電変換部
021 光学部材
131 透光部材
201 第2基板
Claims (14)
- 光入射面を有し、複数の光電変換部を含む第1基板と、
前記第1基板の、前記光入射面とは反対側に配された光学部材と、
前記光学部材の前記第1基板とは反対側に配された第2基板と、を備え、
前記光学部材は、前記第1基板を透過した光の、前記第2基板の前記第1基板側の面への入射角を小さくするように光を屈折させることを特徴とする光電変換装置。 - 前記光学部材と前記第2基板との間には、前記光学部材の前記第2基板側の面から前記第2基板の前記光学部材側の面まで連続的に配された透光部材を有することを特徴とする請求項1に記載の光電変換装置。
- 光入射面を有し、複数の光電変換部を含む第1基板と、
前記第1基板の、前記光入射面とは反対側に配されたレンズと、
前記レンズの前記第1基板とは反対側に、前記レンズに接して配され、前記レンズよりも屈折率の低い材料からなる透光部材と、
前記透光部材の前記第1基板とは反対側に配された第2基板と、を備え、
前記レンズは、前記第2基板に向かって凸状の曲面を有することを特徴とする光電変換装置。 - 光入射面を有し、複数の光電変換部を含む第1基板と、
前記第1基板の、前記光入射面とは反対側に配されたシリコン酸化膜と、
前記第1基板と前記シリコン酸化膜との間に配され、前記シリコン酸化膜よりも窒素の比率が高い膜と、
前記シリコン酸化膜の前記第1基板とは反対側に配された第2基板と、を備え、
前記シリコン酸化膜よりも窒素の比率が高い膜は、前記第2基板に向かって凸状の曲面を有することを特徴とする光電変換装置。 - 前記第2基板は、前記透光部材の屈折率よりも屈折率の高い第1部分を含み、
前記第1部分と前記透光部材とが接していることを特徴とする請求項2又は3に記載の光電変換装置。 - 前記第2基板はシリコンを含むことを特徴とする請求項1乃至5のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 前記透光部材はシリコン酸化膜からなることを特徴とする請求項5に記載の光電変換装置。
- 前記第1基板の前記光入射面の側には、第1カラーフィルタと、前記第1カラーフィルタと隣り合って配され、前記第1カラーフィルタとは異なる色を透過する第2カラーフィルタと、が配され、
前記複数の光電変換部は、平面視において、前記第1カラーフィルタに重なるように配された光電変換部と、前記第2カラーフィルタに重なるように配された光電変換部と、を有することを特徴とする請求項1乃至7のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記第2基板は複数の第2光電変換部を含み、
前記複数の第2光電変換部は、平面視において前記複数の光電変換部のそれぞれに少なくとも1つの前記第2光電変換部が重なるように配されることを特徴とする請求項1乃至8のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記複数の第2光電変換部は、平面視において前記複数の光電変換部のそれぞれに複数の光電変換部が重なるように配されることを特徴とする請求項9に記載の光電変換装置。
- 前記第1基板の、前記光入射面とは反対側の面には絶縁膜を介してゲート電極が配されており、
前記光学部材は、前記ゲート電極と同一平面に配されることを特徴とする請求項1乃至10のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記第1基板の、前記光入射面とは反対側の面には絶縁膜を介してゲート電極が配されており、
平面視において前記光学部材の外縁よりも内側に前記ゲート電極の少なくとも一部が重なることを特徴とする請求項1乃至11のいずれか1項に記載の光電変換装置。 - 前記第1基板と前記第2基板との間には、平面視において、前記光電変換部の一部と重なるように金属部材が配されていることを特徴とする請求項1乃至12のいずれか1項に記載の光電変換装置。
- 前記光学部材は、第1レンズ部と、前記第1レンズ部に隣り合って配された第2レンズ部と、を有し、
前記金属部材は、前記第1レンズ部の前記第2レンズ部から遠い側の一部、及び前記第2レンズ部の前記第1レンズ部から遠い側の一部と重なるように配されていることを特徴とする請求項13に記載の光電変換装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2018201987A JP2020068359A (ja) | 2018-10-26 | 2018-10-26 | 光電変換装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2018201987A JP2020068359A (ja) | 2018-10-26 | 2018-10-26 | 光電変換装置 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2020068359A true JP2020068359A (ja) | 2020-04-30 |
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ID=70390562
Family Applications (1)
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JP2018201987A Pending JP2020068359A (ja) | 2018-10-26 | 2018-10-26 | 光電変換装置 |
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2018
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