JP2020047684A - Light source device and line beam homogenizer using the same - Google Patents

Light source device and line beam homogenizer using the same Download PDF

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Abstract

To provide a light source device that can emit a laser beam light with reduced coherence using a laser light source that emits a laser beam light with high coherence without the electric field intensity at the focal point reaching the intensity limit.SOLUTION: A light source device 100 having a laser light source 10 that emits laser beam light includes a diffusion optical system 12 that converts the laser beam light from the laser light source 10 into a diffusion laser beam light having a predetermined diffusion angle, and an emission optical system 13 that emits the diffusion laser beam light from the diffusion optical system 12 as the emission laser beam light from the light source device 100.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、レーザビーム光を出射するレーザ光源を備えた光源装置、及びその光源装置を用いたラインビームホモジェナイザに関する。   The present invention relates to a light source device provided with a laser light source that emits laser beam light, and a line beam homogenizer using the light source device.

従来、特許文献1に記載されたレーザアニール装置が知られている。このレーザアニール装置では、レーザビーム光を出射するレーザ光源(例えば、固体レーザ)と、このレーザ光源からのレーザビーム光の径を拡大するビームエクスパンダとを備えた光源装置が用いられている。そして、このような光源装置と、この光源装置から出射される所定スポットサイズのレーザビーム光から、長軸方向と該長軸方向に直交する短軸方向との双方においてエネルギー分布を均一化させた、前記長軸方向に延びるライン状レーザビーム光を生成するホモジェナイズ光学系(長軸用ホモジェナイザ、短軸用ホモジェナイザ)とによって、ラインビームホモジェナイザが構成されている。   Conventionally, a laser annealing apparatus described in Patent Document 1 is known. In this laser annealing apparatus, a light source device including a laser light source (for example, a solid-state laser) that emits a laser beam and a beam expander that enlarges the diameter of the laser beam from the laser light source is used. Then, from such a light source device and laser beam light of a predetermined spot size emitted from the light source device, the energy distribution was made uniform in both the major axis direction and the minor axis direction orthogonal to the major axis direction. A line beam homogenizer is constituted by the homogenizing optical system (long axis homogenizer, short axis homogenizer) for generating the linear laser beam light extending in the long axis direction.

上述したようなラインビームホモジェナイザを備えたレーザアニール装置では、前記ホモジェナイズ光学系により形成されるライン状レーザビーム光が非晶質半導体膜の表面を短軸方向に走査する。この非晶質半導体膜の表面を短軸方向に走査するライン状レーザビーム光の熱エネルギーにより、非晶質半導体膜の表面がアニール処理される。その結果、非晶質半導体膜表面が多結晶化される。   In the laser annealing apparatus having the above-described line beam homogenizer, the linear laser beam light formed by the homogenizing optical system scans the surface of the amorphous semiconductor film in the short axis direction. The surface of the amorphous semiconductor film is annealed by the thermal energy of the linear laser beam that scans the surface of the amorphous semiconductor film in the short axis direction. As a result, the surface of the amorphous semiconductor film is polycrystallized.

特開2009−16541号公報JP 2009-16541 A

前述したようなラインビームホモジェナイザに用いられる光源装置では、レーザ光源から出射されるレーザビーム光のコヒーレント性が高い。このようなコヒーレント性の高いレーザビーム光の高いエネルギーを利用して、アニーリング処理を効果的に行うことができる。   In the light source device used for the line beam homogenizer as described above, the coherency of the laser beam emitted from the laser light source is high. By utilizing such high energy of the laser beam light having high coherence, the annealing process can be effectively performed.

一方、このようにコヒーレント性の高いレーザビーム光は集光性が高い。このため、例えば、レーザ光源の後段に配置された光学系、例えば、ビームエクスパンダに含まれるテレスコープの球面凸レンズ等によってレーザビーム光が一点に集光されると、その集光点における電界強度が強度限界に達し(ブレークダウン)、レーザビーム光がそれ以上進まなくなってしまうという現象がおこり得る。   On the other hand, such a laser beam having high coherence has a high light-collecting property. For this reason, for example, when the laser beam is converged to one point by an optical system disposed downstream of the laser light source, for example, a spherical convex lens of a telescope included in the beam expander, the electric field intensity at the converging point May reach the intensity limit (breakdown), and the laser beam may not proceed any further.

また、ホモジェナイズ光学系では、例えば、レーザビーム光がレンズアレイの各レンズによって分散されて、その分散レーザビーム光を重ね合わせることにより、形成されるライン状レーザビーム光のエネルギー分布が均一化される(分散型ホモジェナイザ)。このようなホモジェナイズ光学系にコヒーレント性が極めて高いレーザビーム光が入射すると、干渉縞が発生する可能性があり、形成されるライン状レーザビーム光のエネルギー分布の均一性が、かえって阻害されてしまうおそれがある。   In the homogenizing optical system, for example, the laser beam light is dispersed by each lens of the lens array, and the dispersed laser beam light is superimposed, so that the energy distribution of the formed linear laser beam light is made uniform. (Dispersion type homogenizer). When a laser beam having extremely high coherence is incident on such a homogenizing optical system, interference fringes may occur, and the uniformity of the energy distribution of the formed linear laser beam is rather hindered. There is a risk.

本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、コヒーレント性の高いレーザビーム光を出射するレーザ光源を用いて、集光点での電界強度が強度限界に達することなく、干渉性を緩和させたレーザビーム光を出射することのできる光源装置を提供するものである。   The present invention has been made in view of such circumstances, and uses a laser light source that emits a laser beam with high coherence to reduce the coherence without causing the electric field intensity at the focal point to reach the intensity limit. An object of the present invention is to provide a light source device that can emit a laser beam light that has been relaxed.

また、本発明は、上記光源装置を用いたラインビームホモジェナイザを提供するものである。   The present invention also provides a line beam homogenizer using the above light source device.

本発明に係る光源装置は、レーザビーム光を出射するレーザ光源を有する光源装置であって、前記レーザ光源からのレーザビーム光を所定の拡散角をもった拡散レーザビーム光にする拡散光学系と、該拡散光学系からの拡散レーザビーム光を当該光源装置からの出射レーザビーム光にして出射する出射光学系と、を有する構成となる。   A light source device according to the present invention is a light source device having a laser light source that emits a laser beam light, and a diffusion optical system that converts the laser beam light from the laser light source into a diffusion laser beam light having a predetermined diffusion angle. And an emission optical system that emits the diffused laser beam from the diffusion optical system to the emitted laser beam from the light source device.

このような構成によれば、レーザ光源からのレーザビーム光は、拡散光学系によって、そのコヒーレント性が緩和されて、所定の拡散角をもった拡散レーザビーム光にされる。そして、前記拡散光学系からのコヒーレント性が緩和された拡散レーザビーム光が出射光学系を経て出射レーザビーム光として出射される。   According to such a configuration, the coherency of the laser beam from the laser light source is reduced by the diffusion optical system, and the laser beam is converted into a diffusion laser beam having a predetermined diffusion angle. Then, the diffused laser beam light having reduced coherence from the diffusion optical system is emitted as emission laser beam light via the emission optical system.

本発明に係る光源装置において、前記拡散レーザビーム光の前記拡散角は、前記レーザ光源から出射する前記レーザビーム光の拡散角より大きく、かつ、前記拡散光学系からの拡散レーザビーム光の全てが前記出射光学系に入射可能な最大拡散角以下とすることができ、更に具体的には、10±5ミリラジアンの範囲内の値にすることができる。   In the light source device according to the present invention, the diffusion angle of the diffused laser beam light is larger than the diffusion angle of the laser beam light emitted from the laser light source, and all of the diffused laser beam light from the diffusion optical system is used. The angle can be equal to or less than the maximum diffusion angle that can be incident on the emission optical system, and more specifically, can be set to a value within the range of 10 ± 5 mrad.

本発明に係る光源装置において、前記出射光学系は、前記拡散光学系からの前記拡散レーザビーム光の光径を拡大し、その拡大された光径のレーザビーム光を出射するビーム拡大光学系を含む、構成とすることができる。   In the light source device according to the aspect of the invention, the emission optical system may include a beam expansion optical system that expands a light diameter of the diffused laser beam light from the diffusion optical system and emits a laser beam light having the expanded light diameter. Including, can be a configuration.

このような構成によれば、出射光学系おいて、拡散光学系からの拡散レーザビーム光がビーム拡大光学系に入射すると、そのビーム拡大光学系によって、前記拡散レーザビームの光径が拡大され、その拡大された光径のレーザビーム光が前記ビーム拡大光学系から出射される。その出射ビーム光の光径が入射ビーム光(拡散レーザビーム光)の光径から拡大されることにより、結果として、その出射ビーム光の拡散角を入射ビーム光(拡散レーザビーム光)の拡散角から変える(小さくする)ことができる。   According to such a configuration, in the emission optical system, when the diffused laser beam light from the diffusion optical system enters the beam expansion optical system, the beam diameter of the diffusion laser beam is expanded by the beam expansion optical system, The laser beam having the enlarged light diameter is emitted from the beam expanding optical system. Since the light diameter of the outgoing beam light is enlarged from the light diameter of the incident beam light (diffusion laser beam light), as a result, the diffusion angle of the outgoing light beam becomes the diffusion angle of the incident beam light (diffusion laser beam light). Can be changed (smaller).

本発明に係る光源装置において、前記レーザ光源からの前記レーザビーム光のエネルギーの時間的変動を抑えてエネルギーを安定化させる光エネルギー安定化装置を有し、前記光エネルギー安定化装置を経たレーザビーム光が前記拡散光学系に入射する、構成とすることができる。   In the light source device according to the present invention, there is provided a light beam stabilizing device for stabilizing the energy by suppressing temporal fluctuation of the energy of the laser beam light from the laser light source, and the laser beam passing through the light energy stabilizing device. Light may be incident on the diffusion optical system.

このような構成によれば、レーザ光源からのレーザビーム光のエネルギーが安定化されることで、拡散光学系及び出射光学系を経たレーザビーム光のエネルギーを安定化させることができ、結果的に、この光源装置からの出射レーザビームのエネルギーを安定化させることができる。   According to such a configuration, the energy of the laser beam light from the laser light source is stabilized, so that the energy of the laser beam light that has passed through the diffusion optical system and the emission optical system can be stabilized. The energy of the laser beam emitted from the light source device can be stabilized.

本発明に係る光源装置において、前記光エネルギー安定化装置は、前記レーザ光源からの前記レーザビーム光を第1ビーム光と第2ビーム光とに分割するビーム分割器と、前記ビーム分割器により得られる前記第1ビーム光を遅延させる遅延光学系と、前記ビーム分割器により得られる前記第2ビーム光のエネルギー値を検出するエネルギー検出器と、前記エネルギー検出器により検出される前記第2ビーム光のエネルギー値に基づいて、前記遅延光学系からの前記第1ビーム光のエネルギーを安定化させる安定化器と、を有し、前記安定化器によってエネルギーが安定化された前記第1ビーム光が前記拡散光学系に入射する、構成とすることができる。   In the light source device according to the present invention, the light energy stabilizing device is obtained by a beam splitter that splits the laser beam from the laser light source into a first beam and a second beam, and the beam splitter. A delay optical system for delaying the first light beam, an energy detector for detecting an energy value of the second light beam obtained by the beam splitter, and the second light beam detected by the energy detector And stabilizing the energy of the first light beam from the delay optical system based on the energy value of the first light beam. The first light beam whose energy is stabilized by the stabilizer is The light may be incident on the diffusion optical system.

このような構成によれば、レーザ光源からのレーザビーム光は、ビーム分割器により第1ビーム光と第2ビーム光とに分割される。前記第1ビーム光が遅延光学系に入射する一方、第2ビーム光のエネルギー値がエネルギー検出器により検出される。そして、遅延光学系を経た前記第1ビーム光のエネルギーが、エネルギー検出器によって検出される前記第2ビーム光のエネルギー値に基づいて、安定化される。そして、そのエネルギーが安定化された前記第1ビーム光が拡散光学系に入射する。   According to such a configuration, the laser beam from the laser light source is split into the first beam and the second beam by the beam splitter. While the first light beam enters the delay optical system, the energy value of the second light beam is detected by an energy detector. Then, the energy of the first light beam having passed through the delay optical system is stabilized based on the energy value of the second light beam detected by an energy detector. Then, the first light beam whose energy is stabilized enters the diffusion optical system.

前記遅延光学系での光の遅延特性(例えば、遅延時間)は、少なくとも安定化器の時間的な動作特性に基づいて決めることができる。   The delay characteristic (for example, delay time) of the light in the delay optical system can be determined based at least on the temporal operation characteristic of the stabilizer.

本発明に係る光源装置において、前記安定化器は、減衰率が可変であって、前記遅延光学系からの前記第1ビーム光が通過する可変光減衰光学系と、前記エネルギー検出器にて検出されるエネルギー値が大きいほど、前記可変光減衰光学系での減衰率を大きくする制御器と、構成とすることができる。   In the light source device according to the present invention, the stabilizer includes a variable light attenuation optical system having a variable attenuation rate, through which the first light beam from the delay optical system passes, and the energy detector detects the variable light attenuation optical system. The controller may be configured to increase the attenuation value in the variable optical attenuation optical system as the energy value to be performed increases.

このような構成によれば、遅延光学系からの第1ビーム光は、エネルギー検出器にて検出される第2ビーム光のエネルギー値が大きいほど、可変光減衰光学系によって大きく減衰させられる。これにより、第2ビーム光とともにレーザ光源からのレーザビーム光を構成する第1ビーム光のエネルギーが安定化される。   According to such a configuration, the first light beam from the delay optical system is attenuated by the variable light attenuating optical system as the energy value of the second light beam detected by the energy detector increases. This stabilizes the energy of the first light beam constituting the laser light beam from the laser light source together with the second light beam.

本発明に係る光源装置は、レーザビーム光を出射するレーザ光源を備えた光源装置であって、前記レーザ光源からのレーザビーム光を第1ビーム光と第2ビーム光とに分割するビーム分割器と、前記ビーム分割器により得られる前記第1ビーム光を遅延させる遅延光学系と、前記ビーム分割器により得られる前記第2ビーム光のエネルギー値を検出するエネルギー検出器と、前記エネルギー検出器により検出される前記第2ビーム光のエネルギー値に基づいて、前記遅延光学系からの前記第1ビーム光のエネルギーを安定化させる安定化器と、を有し、前記安定化器によってエネルギーが安定化された前記第1ビーム光を出射する構成となる。   A light source device according to the present invention is a light source device including a laser light source that emits a laser beam light, wherein the beam splitter divides the laser beam light from the laser light source into a first beam light and a second beam light. A delay optical system for delaying the first light beam obtained by the beam splitter, an energy detector for detecting an energy value of the second light beam obtained by the beam splitter, and the energy detector A stabilizer for stabilizing the energy of the first light beam from the delay optical system based on the detected energy value of the second light beam, wherein the energy is stabilized by the stabilizer. The first light beam thus emitted is emitted.

このような構成によれば、レーザ光源からのレーザビーム光は、ビーム分割器により第1ビーム光と第2ビーム光とに分割され、第1ビーム光が遅延光学系に入射し、第2ビーム光のエネルギー値がエネルギー検出器により検出される。そして、遅延光学系を経た前記第1ビーム光については、エネルギー検出器によって検出される前記第2ビーム光のエネルギー値に基づいて、そのエネルギーの時間的変化が抑えられてエネルギーが安定化される。そのエネルギーが安定化された前記第1ビーム光が出射レーザビーム光として出射される。   According to such a configuration, the laser beam from the laser light source is split into the first beam and the second beam by the beam splitter, and the first beam enters the delay optical system, The energy value of the light is detected by an energy detector. Then, with respect to the first light beam that has passed through the delay optical system, a temporal change in the energy is suppressed based on the energy value of the second light beam detected by the energy detector, and the energy is stabilized. . The first beam light whose energy is stabilized is emitted as an emitted laser beam light.

本発明に係る光源装置において、前記安定化器は、減衰率が可変であって、前記遅延光学系からの前記第1ビーム光が通過する可変光減衰光学系と、前記エネルギー検出器にて検出されるエネルギー値が大きいほど、前記可変光減衰光学系での減衰率を大きくする制御器と、を有する構成とすることができる。   In the light source device according to the present invention, the stabilizer includes a variable light attenuation optical system having a variable attenuation rate, through which the first light beam from the delay optical system passes, and the energy detector detects the variable light attenuation optical system. A controller that increases the attenuation rate in the variable light attenuation optical system as the energy value to be performed is larger.

また、本発明に係るラインビームホモジェナイザは、前述したいずれかの光源装置と、前記光源装置から出射されるレーザビーム光から長軸方向と該長軸方向に直交する短軸方向との双方におけるエネルギー分布が均一化された前記長軸方向に延びるライン状レーザビーム光を生成するホモジェナイズ光学系と、を有する構成となる。   In addition, the line beam homogenizer according to the present invention includes any one of the light source devices described above, and both the long axis direction and the short axis direction orthogonal to the long axis direction from the laser beam emitted from the light source device. And a homogenizing optical system that generates a linear laser beam that extends in the long axis direction and has a uniform energy distribution.

このような構成によれば、拡散光学系によってコヒーレント性が緩和された光源装置からのレーザビーム光(出射レーザビーム光)から、長軸方向と短軸方向との双方におけるエネルギー分布がホモジェナイズ光学系により均一化されて、前記長軸方向に延びるライン状レーザビーム光が生成される。   According to such a configuration, the energy distribution in both the major axis direction and the minor axis direction is homogenized from the laser beam light (emission laser beam light) from the light source device whose coherence is reduced by the diffusion optical system. , And a linear laser beam extending in the long axis direction is generated.

本発明に係る光源装置によれば、レーザ光源から出射されるレーザビーム光のコヒーレント性が緩和されるので、集光点での電界強度が強度限界に達することなく、干渉性が緩和されたレーザビーム光(出射レーザビーム光)を出射することができるようになる。   According to the light source device of the present invention, since the coherence of the laser beam emitted from the laser light source is reduced, the intensity of the electric field at the focal point does not reach the intensity limit, and the coherence is reduced. Beam light (emitted laser beam light) can be emitted.

また、本発明に係るラインビームホモジェナイザによれば、集光点での電界強度が強度限界に達することなく、干渉性が緩和されたレーザビーム光から、長軸方向及び短軸方向の双方におけるエネルギー分布が均一化されたライン状レーザビーム光が形成される。これにより、より安定したライン状レーザビーム光を得ることができる。   Further, according to the line beam homogenizer according to the present invention, the electric field intensity at the focal point does not reach the intensity limit, and the laser beam light with reduced coherence is used in both the long axis direction and the short axis direction. , A linear laser beam having a uniform energy distribution is formed. Thereby, more stable linear laser beam light can be obtained.

図1は、本発明の実施の一形態に係るラインビームホモジェナイザの構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a line beam homogenizer according to one embodiment of the present invention. 図2は、図1に示すラインビームホモジェナイザにおける光源装置に含まれる拡散光学系(拡散板)を示す図である。FIG. 2 is a diagram showing a diffusion optical system (diffusion plate) included in the light source device in the line beam homogenizer shown in FIG. 図3は、図1に示すラインビームホモジェナイザにおける光源装置に含まれる拡大光学系を示す図である。FIG. 3 is a diagram showing an enlarged optical system included in the light source device in the line beam homogenizer shown in FIG. 図4は、図3に示す拡大光学系(出射光学系)による倍率(拡大率)と拡散角との関係を示す図である。FIG. 4 is a diagram showing the relationship between the magnification (magnification ratio) and the diffusion angle by the magnifying optical system (emission optical system) shown in FIG. 図5は、図1に示すラインビームホモジェナイザにおける光源装置に含まれる光エネルギー安定化装置の構成を示す図である。FIG. 5 is a diagram showing a configuration of a light energy stabilizing device included in the light source device in the line beam homogenizer shown in FIG. 図6は、図5に示す光エネルギー安定化装置おける可変光減衰光学系の構成を示す図である。FIG. 6 is a diagram showing a configuration of a variable light attenuation optical system in the light energy stabilizing device shown in FIG. 図7は、図6に示す可変光減衰光学系(高速光スイッチ素子(AOE))の時間的な動作特性を、パルス状の第1レーザビーム光の検出タイミングとの関係で示すタイミングチャートである。FIG. 7 is a timing chart showing the temporal operation characteristics of the variable optical attenuation optical system (high-speed optical switch element (AOE)) shown in FIG. 6 in relation to the detection timing of the pulsed first laser beam light. . 図8は、可変光減衰光学系の動作を、入射レーザビーム光のエネルギー値との関係で示す図である。FIG. 8 is a diagram showing the operation of the variable light attenuation optical system in relation to the energy value of the incident laser beam light. 図9は、長軸用ホモジェナイザの基本的な構成を示す図である。FIG. 9 is a diagram showing a basic configuration of a long axis homogenizer. 図10は、図9に示す長軸用ホモジェナイザによる長軸光強度の特性を示す図である。FIG. 10 is a diagram showing characteristics of long-axis light intensity by the long-axis homogenizer shown in FIG. 図11は、短軸用ホモジェナイザの基本的な構成を示す図である。FIG. 11 is a diagram showing a basic configuration of the short-axis homogenizer. 図12は、短軸縮小投影レンズ系の構成を示す図である。FIG. 12 is a diagram showing a configuration of a short axis reduction projection lens system.

以下、本発明の実施の形態について図面に基づいて説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

本発明の実施の一形態に係るラインビームホモジェナイザは、図1に示すように構成される。図1において、このラインビームホモジェナイザは、レーザ光源としての固体UVパルスレーザ10を備えた光源装置100と、長軸用ホモジェナイザ14と、短軸用ホモジェナイザ15と、短軸縮小投影レンズ系16とを有している。長軸用ホモジェナイザ14は、光源装置100からの出射レーザビーム光LB4の長軸方向におけるエネルギー分布を均一化させる。短軸用ホモジェナイザ15は、長軸用ホモジェナイザ14を経たレーザビーム光LB5の前記長軸方向に直交する短軸方向におけるエネルギー分布を均一化させる。短軸縮小投影レンズ系16は、短軸用ホモジェナイザ15を経たレーザビーム光LB6のスポットサイズを短軸方向に縮小させる。このように、光源装置100からの出射レーザビーム光LB4が、長軸用ホモジェナイザ14及び短軸用ホモジェナイザ15(ホモジェナイズ光学系)と、短軸縮小投影レンズ系16とを経ることにより、長軸方向と短軸方向との双方におけるエネルギー分布が均一化された前記長軸方向に延びるライン状レーザビーム光LB7が生成される。   A line beam homogenizer according to one embodiment of the present invention is configured as shown in FIG. In FIG. 1, the line beam homogenizer includes a light source device 100 having a solid-state UV pulse laser 10 as a laser light source, a long-axis homogenizer 14, a short-axis homogenizer 15, and a short-axis reduction projection lens system 16 And The long axis homogenizer 14 makes the energy distribution in the long axis direction of the laser beam light LB4 emitted from the light source device 100 uniform. The short-axis homogenizer 15 equalizes the energy distribution of the laser beam LB5 passing through the long-axis homogenizer 14 in the short-axis direction orthogonal to the long-axis direction. The short axis reduction projection lens system 16 reduces the spot size of the laser beam LB6 that has passed through the short axis homogenizer 15 in the short axis direction. As described above, the laser beam light LB4 emitted from the light source device 100 passes through the long-axis homogenizer 14 and the short-axis homogenizer 15 (homogenizing optical system) and the short-axis reduction projection lens system 16, so that the long-axis direction is obtained. A linear laser beam LB7 extending in the long axis direction and having a uniform energy distribution in both the short axis direction and the short axis direction is generated.

光源装置100は、レーザ光源としての固体UVパルスレーザ10の他、光エネルギー安定化装置11と、拡散光学系12と、ビーム拡大光学系13(ビームエクスパンダ:出射光学系)とを有している。光エネルギー安定化装置11は、固体UVパルスレーザ10(レーザ光源)からパルス状に出射されるUV帯域(紫外線帯域)の周波数を有するレーザビーム光LB1のエネルギーの時間的変動を抑えて、エネルギーが安定化されたレーザビーム光LB2を出射する。拡散光学系12は、光エネルギー安定化装置11を経たレーザビーム光LB2を拡散させて所定の拡散角をもった拡散レーザビームLB3にする。ビーム拡大光学系13(出射光学系)は、拡散光学系11から入射される拡散レーザビーム光LB3の光径より拡大された光径のレーザビーム光を、光源装置100の出射レーザビーム光LB4として、長軸用ホモジェナイザ14(ホモジェナイズ光学系)に入射させる。   The light source device 100 includes, in addition to the solid-state UV pulse laser 10 as a laser light source, a light energy stabilizing device 11, a diffusion optical system 12, and a beam expanding optical system 13 (beam expander: emission optical system). I have. The light energy stabilizing device 11 suppresses the temporal fluctuation of the energy of the laser beam light LB1 having a frequency in a UV band (ultraviolet band) emitted in a pulse form from the solid-state UV pulse laser 10 (laser light source), and the energy is reduced. The stabilized laser beam light LB2 is emitted. The diffusion optical system 12 diffuses the laser beam light LB2 that has passed through the light energy stabilizing device 11 into a diffusion laser beam LB3 having a predetermined diffusion angle. The beam expanding optical system 13 (emission optical system) uses the laser beam light having a light diameter larger than the light diameter of the diffused laser beam light LB3 incident from the diffusion optical system 11 as the emitted laser beam light LB4 of the light source device 100. Into the long axis homogenizer 14 (homogenizing optical system).

光源装置100の各部の具体的な構成について説明する。   The specific configuration of each part of the light source device 100 will be described.

固体UVパルスレーザ10からのレーザビーム光LB1のエネルギーを安定化させる光エネルギー安定化装置11の具体的な構成については後述する。まず、拡散光学系11は、図2に示すように、拡散板121によって構成される。拡散板121は、例えば、エポキシ樹脂等の樹脂で形成された透明基板の表面に微細な凹凸パターン(ホログラフィックパターン)が形成された構造となっている。ビーム光径Φ1で入射する光エネルギー安定化装置11からのレーザビーム光LB2が、拡散板121によって拡散され、ビーム拡大光学系13の入射面S1に、ビーム光径Φ2(≧Φ1)の拡散レーザビーム光LB3となって入射する。   The specific configuration of the light energy stabilizing device 11 for stabilizing the energy of the laser beam light LB1 from the solid-state UV pulse laser 10 will be described later. First, the diffusion optical system 11 includes a diffusion plate 121 as shown in FIG. The diffusion plate 121 has a structure in which a fine concavo-convex pattern (holographic pattern) is formed on a surface of a transparent substrate formed of a resin such as an epoxy resin, for example. The laser beam light LB2 from the light energy stabilizing device 11 that is incident with the beam light diameter Φ1 is diffused by the diffusion plate 121 and is spread on the incident surface S1 of the beam expanding optical system 13 with the beam light diameter Φ2 (≧ Φ1). Light beam LB3 is incident.

前記拡散レーザビーム光LB3の拡散角は、光エネルギー安定化装置11から出射されるレーザビーム光LB2の拡散角より大きく、即ち、固体UVパルスレーザ10からのレーザビーム光LB1の拡散角(例えば、0.26度(4.5ミリラジアン))より大きく、かつ、拡散板121からの拡散レーザビーム光LB3の全てがビーム拡大光学系13の入射面S1に入射可能な最大拡散角以下となる。具体的には、前記拡散角は、レーザビーム光のエネルギー集中性を大きく損なうことなく、干渉性を抑える観点から、10±5ミリラジアンの範囲内の値にすることが好ましい。例えば、拡散角θ=0.5度(約9ミリラジアン)の場合、拡散板121にビーム光径Φ1=6ミリメートルで入射するレーザビーム光LB2は、拡散板121から45センチメートル(L=45cm)離れたビーム拡大光学系13の入射面S1にビーム光径Φ2≒10ミリメートルの拡散レーザビーム光LB3になって入射する。   The diffusion angle of the diffused laser beam LB3 is larger than the diffusion angle of the laser beam LB2 emitted from the light energy stabilizing device 11, that is, the diffusion angle of the laser beam LB1 from the solid-state UV pulse laser 10 (for example, The angle is larger than 0.26 degrees (4.5 milliradians), and all of the diffused laser beam LB3 from the diffuser plate 121 is smaller than the maximum diffusion angle that can be incident on the incident surface S1 of the beam expanding optical system 13. Specifically, the diffusion angle is preferably set to a value within a range of 10 ± 5 mrad from the viewpoint of suppressing coherence without significantly impairing the energy concentration of the laser beam. For example, when the diffusion angle θ is 0.5 degrees (about 9 milliradians), the laser beam LB2 that is incident on the diffusion plate 121 at a beam light diameter Φ1 of 6 mm is 45 centimeters (L = 45 cm) away from the diffusion plate 121. The divergent laser beam LB3 having a beam diameter of Φ2 ≒ 10 mm is incident on the incident surface S1 of the beam expanding optical system 13.

次に、ビーム拡大光学系13(ビームエクスパンダ:出射光学系)は、図3に示すように、それぞれが平行となって、光軸方向に直列に配置される2つの凸レンズ、第1凸レンズ131と第2凸レンズ132とからなるテレスコープによって構成される。前述した拡散板121からの拡散レーザビーム光LB3が、第1凸レンズ131(ビーム拡大光学系13の入射面S1)に入射して集光点P(焦点)に集光される。そして、この集光点Pから発散するレーザビーム光が、第2凸レンズ132に入射して、その第2凸レンズ132からレーザビームLB4(出射レーザビーム光)になって出射される。   Next, as shown in FIG. 3, the beam expanding optical system 13 (beam expander: emission optical system) includes two convex lenses and a first convex lens 131 which are parallel to each other and arranged in series in the optical axis direction. And a second convex lens 132. The diffused laser beam light LB3 from the above-described diffuser plate 121 is incident on the first convex lens 131 (the incident surface S1 of the beam expanding optical system 13) and is condensed on the converging point P (focal point). Then, the laser beam light diverging from the converging point P enters the second convex lens 132, and is emitted from the second convex lens 132 as a laser beam LB4 (emitted laser beam light).

前述したテレスコープを構成する第1凸レンズ131及び第2凸レンズ132の光学的特性(焦点距離等)に基づいた拡大機能よって、入射する拡散レーザビーム光LB3の入射面S1での光径が拡大され、その拡大された光径のレーザビーム光がビーム拡大光学系13から、当該光源装置100からの出射レーザビーム光LB4として出射される。このように出射ビーム光(レーザビーム光LB4)の光径が入射ビーム光(拡散レーザビーム光LB3)の光径から拡大されることにより、結果として、出射ビーム光(レーザビーム光LB4)の拡散角を入射ビーム光(拡散レーザビーム光LB3)の拡散角から変える(小さくする)ことができる。例えば、ビーム拡大光学系13(テレスコープ)による倍率と拡散角との関係は、図4に示すようになっている。即ち、倍率がn倍になれば、拡散角はn分の1になる。従って、ビーム拡大光学系13(テレスコープ)を構成する第1凸レンズ131及び第2凸レンズ132の光学的特性を選択することにより、出射レーザビーム光LB4の拡散角を、拡散板121(拡散光学系12)によって調整された拡散レーザビーム光LB3の拡散角から更に調整することができる。   By the enlargement function based on the optical characteristics (focal length and the like) of the first convex lens 131 and the second convex lens 132 constituting the telescope described above, the light diameter of the incident diffused laser beam LB3 on the incident surface S1 is enlarged. The laser beam having the enlarged light diameter is emitted from the beam expanding optical system 13 as the laser beam LB4 emitted from the light source device 100. As described above, the light diameter of the outgoing beam light (laser beam light LB4) is expanded from the light diameter of the incident beam light (diffused laser beam light LB3), and as a result, the outgoing beam light (laser beam light LB4) is diffused. The angle can be changed (decreased) from the divergence angle of the incident beam light (diffusion laser beam light LB3). For example, the relationship between the magnification and the diffusion angle by the beam expanding optical system 13 (telescope) is as shown in FIG. That is, if the magnification becomes n times, the diffusion angle becomes 1 / n. Therefore, by selecting the optical characteristics of the first convex lens 131 and the second convex lens 132 constituting the beam expanding optical system 13 (telescope), the diffusion angle of the output laser beam light LB4 can be adjusted by the diffusion plate 121 (diffusion optical system). Further adjustment can be made based on the diffusion angle of the diffused laser beam light LB3 adjusted by 12).

固体UVパルスレーザ10からのレーザビーム光LB1のエネルギーを安定化させて、レーザビーム光LB2として前述した拡散光学系12に入射させる光エネルギー安定化装置11は、図5に示すように構成される。   The light energy stabilizing device 11 that stabilizes the energy of the laser beam light LB1 from the solid-state UV pulse laser 10 and causes the laser beam light LB2 to enter the above-described diffusion optical system 12 is configured as shown in FIG. .

図5において、光エネルギー安定化装置11は、固体UVパルスレーザ10からのパルス状のレーザビーム光LB1を第1ビーム光L1と第2ビーム光L2とに分割するビームスプリッタ111(ビーム分割器)を有するとともに、遅延光学系112、可変光減衰光学系113、エネルギー検出器114、比較回路115、及びAOE駆動回路116を有している。遅延光学系112は、ビームスプリッタ111からの第1ビーム光L1を所定時間だけ遅延させる。エネルギー検出器114は、ビームスプリッタ111からの第2ビーム光L2のエネルギー値を高速(例えば、応答速度:1ナノ秒)に検出し、そのエネルギー値に対応した検出電圧値を出力する。   In FIG. 5, a light energy stabilizing device 11 includes a beam splitter 111 (beam splitter) that splits a pulsed laser beam LB1 from the solid-state UV pulse laser 10 into a first beam L1 and a second beam L2. And a delay optical system 112, a variable optical attenuation optical system 113, an energy detector 114, a comparison circuit 115, and an AOE drive circuit 116. The delay optical system 112 delays the first light beam L1 from the beam splitter 111 by a predetermined time. The energy detector 114 detects the energy value of the second light beam L2 from the beam splitter 111 at a high speed (for example, response speed: 1 nanosecond) and outputs a detected voltage value corresponding to the energy value.

遅延光学系112を経た第1ビーム光L1が入射する可変光減衰光学系113は、図6に示すように構成される。   The variable light attenuation optical system 113 on which the first light beam L1 having passed through the delay optical system 112 is incident is configured as shown in FIG.

図6において、可変光減衰光学系113は、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)、第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)及び第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)を有している。各高速光スイッチ素子1131、1132、1133は、例えば、音響光学素子(AOE)で構成され、Lレベルの駆動信号(音響信号)が印加されたときにオフ状態となって、入射するビーム光をそのまま0次回折ビーム光として出射する一方、Hレベルの駆動信号が印加されたときにオン状態となって、入射ビーム光の、例えば、15%をそのまま0次回折ビーム光として出射しつつ、入射ビーム光の、例えば、85%を1次回折ビーム光として出射する。   In FIG. 6, the variable optical attenuation optical system 113 has a first high-speed optical switch element 1131 (AOE1), a second high-speed optical switch element 1132 (AOE2), and a third high-speed optical switch element 1133 (AOE3). Each of the high-speed optical switch elements 1131, 1132, and 1133 is formed of, for example, an acousto-optic element (AOE), and is turned off when an L-level drive signal (acoustic signal) is applied, and switches the incident light beam. While the light is emitted as it is as the 0th-order diffracted light beam, it is turned on when an H-level drive signal is applied, and, for example, 15% of the incident light beam is emitted as it is as the 0th-order diffracted light beam. For example, 85% of the light beam is emitted as a first-order diffracted light beam.

第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)の後方にプリズム1134aが配置されるとともに、このプリズム1134aを挟むように2つのプリズム1134b、1134cが配置されている。プリズム1134aは、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)からの1次回折ビーム光をプリズム1134bに導く一方、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)からの0次回折ビーム光をプリズム1134cに導く。プリズム1134bは、プリズム1134aから導かれたビーム光を、更に、第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)に導く。また、プリズム1134cは、プリズム1134aから導かれたビーム光を、更に、第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)に導く。   A prism 1134a is arranged behind the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1), and two prisms 1134b and 1134c are arranged so as to sandwich the prism 1134a. The prism 1134a guides the first-order diffracted beam light from the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1) to the prism 1134b, and guides the zero-order diffracted beam light from the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1) to the prism 1134c. . The prism 1134b further guides the light beam guided from the prism 1134a to the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2). The prism 1134c further guides the light beam guided from the prism 1134a to the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3).

第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)の後方にプリズム1135aが配置されるとともに、このプリズム1135aを挟むように2つのプリズム1135b、1135cが配置されている。プリズム1135aは、第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)からの1次回折ビーム光をプリズム1135bに導く一方、第2高速光スイッチ素子1132素子(AOE2)からの0次回折ビーム光をプリズム1135cに導く。また、第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)の後方にプリズム1136aが配置されるとともに、このプリズム1136aを挟むように2つのプリズム1136b、1136cが配置されている。プリズム1136aは、第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)からの1次回折ビーム光をプリズム1136bに導く一方、第3光高速スイッチ素子1133(AOE3)からの0次回折ビーム光をプリズム1136cに導く。   A prism 1135a is arranged behind the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2), and two prisms 1135b and 1135c are arranged so as to sandwich the prism 1135a. The prism 1135a guides the first-order diffracted beam light from the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2) to the prism 1135b, while the zero-order diffracted beam light from the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2) is transmitted to the prism 1135c. Lead. Further, a prism 1136a is arranged behind the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3), and two prisms 1136b and 1136c are arranged so as to sandwich the prism 1136a. The prism 1136a guides the first-order diffracted light beam from the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3) to the prism 1136b, and guides the zero-order diffracted light beam from the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3) to the prism 1136c. .

可変光減衰光学系113は、更に、第1プリズムアッテネータ1137a、第2プリズムアッテネータ1137b、第3プリズムアッテネータ1137c、及び第4プリズムアッテネータ1137dを有している。第1プリズムアッテネータ1137aは透過率T1を、第2プリズムアッテネータ1137bは透過率T2(>T1)を、第3プリズムアッテネータ1137cは透過率T3(>T2)を、第4プリズムアッテネータ1137dは透過率T4(>T3)を、それぞれ有している。即ち、最も小さい透過率T1の第1プリズムアッテネータ1137aの減衰率が最も大きく、順次、透過率T2の第2プリズムアッテネータ1137bの減衰率、透過率T3の第3プリズムアッテネータ1137bの減衰率が小さくなり、最も大きい透過率T4の第4プリズムアッテネータ1137dの減衰率が最も小さい。   The variable light attenuation optical system 113 further has a first prism attenuator 1137a, a second prism attenuator 1137b, a third prism attenuator 1137c, and a fourth prism attenuator 1137d. The first prism attenuator 1137a has a transmittance T1, the second prism attenuator 1137b has a transmittance T2 (> T1), the third prism attenuator 1137c has a transmittance T3 (> T2), and the fourth prism attenuator 1137d has a transmittance T4. (> T3). That is, the attenuation rate of the first prism attenuator 1137a having the smallest transmittance T1 is the largest, and the attenuation rate of the second prism attenuator 1137b having the transmittance T2 and the attenuation rate of the third prism attenuator 1137b having the transmittance T3 are sequentially reduced. , The attenuation rate of the fourth prism attenuator 1137d having the largest transmittance T4 is the smallest.

プリズム1135aによってプリズム1135bに導かれた第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)からの1次回折ビーム光は、プリズム1135bによって第1プリズムアッテネータ1137aに導かれる。第1プリズムアッテネータ1137aを通して減衰されたビーム光(エネルギーE01)は、混合器1138に入射する。また、プリズム1135aによってプリズム1135cに導かれた第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)からの0次回折ビーム光は、プリズム1135cによって第2プリズムアッテネータ1137bに導かれる。第2プリズムアッテネータ1137bを通して減衰されたビーム光(エネルギーE02)は、混合器1138に入射する。   The first-order diffracted beam light from the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2) guided to the prism 1135b by the prism 1135a is guided to the first prism attenuator 1137a by the prism 1135b. The light beam (energy E01) attenuated through the first prism attenuator 1137a enters the mixer 1138. Further, the 0th-order diffracted light beam from the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2) guided to the prism 1135c by the prism 1135a is guided to the second prism attenuator 1137b by the prism 1135c. The light beam (energy E02) attenuated through the second prism attenuator 1137b enters the mixer 1138.

また、プリズム1136aによってプリズム1136bに導かれた第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)からの1次回折ビーム光は、プリズム1136bによって第3プリズムアッテネータ1137aに導かれる。第3プリズムアッテネータ1137cを通して減衰されたビーム光(エネルギーE03)は、混合器1138に入射する。また、プリズム1136aによってプリズム1136cに導かれた第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)からの0次回折ビーム光は、プリズム1136cによって第4プリズムアッテネータ1137dに導かれる。第4プリズムアッテネータ1137aを通して減衰されたビーム光(エネルギーE04)は、混合器1138に入射する。そして、混合器1138は、入射する1または複数のビーム光を混合して、入射するビーム光のエネルギー値の総和のエネルギー値Eoを有するレーザビーム光を、この光エネルギー安定化装置11の出射レーザビーム光LB2として出射する。   The first-order diffracted light beam from the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3) guided to the prism 1136b by the prism 1136a is guided to the third prism attenuator 1137a by the prism 1136b. The light beam (energy E03) attenuated through the third prism attenuator 1137c enters the mixer 1138. The 0th-order diffracted light beam from the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3) guided to the prism 1136c by the prism 1136a is guided to the fourth prism attenuator 1137d by the prism 1136c. The light beam (energy E04) attenuated through the fourth prism attenuator 1137a enters the mixer 1138. Then, the mixer 1138 mixes one or a plurality of incident light beams, and outputs a laser beam light having an energy value Eo of the total energy value of the incident light beams to the output laser beam of the light energy stabilizing device 11. It is emitted as a light beam LB2.

上述したような構成の可変光減衰光学系113では、3つの高速光スイッチ素子1131、1132、1133それぞれをオン状態及びオフ状態のいずれかに切り換え制御することにより、入射する第1ビーム光L1に対する実質的な減衰率(透過率)を変えることができる。そして、可変光減衰光学系113は、その減衰率に応じたエネルギー値の出射ビームLB2を出射することができる。   In the variable light attenuating optical system 113 having the above-described configuration, the three high-speed optical switch elements 1131, 1132, and 1133 are controlled to be switched to either the ON state or the OFF state, so that the incident first beam light L1 is controlled. The substantial attenuation rate (transmittance) can be changed. Then, the variable light attenuation optical system 113 can emit the emission beam LB2 having an energy value according to the attenuation rate.

図5に戻って、遅延光学系112は、第1ビーム光L1を、可変光減衰光学系113の動作特性、例えば、各高速光スイッチ素子1131、1132、1133(AOE)の動作特性(応答時間)に応じた時間だけ遅延させる。例えば、図7に示すように、可変光減衰光学系113における各高速光スイッチ1131、1132、1133(AOE)の応答時間(toからt1までの時間)が、例えば、100ナノ秒である場合、第1光ビームL1のパルスを遅延させる時間(遅延時間)は、前記応答時間より大きい時間(toからt2までの時間)、例えば、160ナノ秒程度に設定される。これにより、実際にエネルギー検出された第1ビーム光L1のパルスそのものが、そのエネルギー値に基づいて駆動される各高速光スイッチ1131、1132、1133(AOE)を通過することができる。そして、遅延光学系112は、前記遅延時間に応じた長さの光路を含む。例えば、50メートルの光路によって167ナノ秒の遅延時間を得ることができる。   Returning to FIG. 5, the delay optical system 112 converts the first light beam L1 into the operation characteristics of the variable optical attenuation optical system 113, for example, the operation characteristics (response time) of each of the high-speed optical switch elements 1131, 1132, and 1133 (AOE). ). For example, as shown in FIG. 7, when the response time (time from to to t1) of each of the high-speed optical switches 1131, 1132, and 1133 (AOE) in the variable optical attenuation optical system 113 is, for example, 100 nanoseconds, The time for delaying the pulse of the first light beam L1 (delay time) is set to a time longer than the response time (time from to to t2), for example, about 160 nanoseconds. Thereby, the pulse itself of the first light beam L1 whose energy is actually detected can pass through each of the high-speed optical switches 1131, 1132, and 1133 (AOE) driven based on the energy value. The delay optical system 112 includes an optical path having a length corresponding to the delay time. For example, a 167 nanosecond delay can be obtained with a 50 meter optical path.

また、図5に戻って、比較回路115、AOE駆動回路116、及び前述した可変光減衰光学系113は、エネルギー検出器114により検出される第2ビーム光L2のエネルギー値に基づいて、遅延光学系112からの第1ビーム光L1のエネルギーを安定化させる安定化器を構成する。そして、この安定化器において、比較回路115及びAOE駆動回路116は、制御器であって、エネルギー検出器114にて検出される第2ビーム光L2のエネルギー値が大きいほど、可変光減衰光学系113での実質的な減衰率を大きくするように制御する。   Returning to FIG. 5, the comparison circuit 115, the AOE drive circuit 116, and the above-mentioned variable optical attenuation optical system 113 use the delay optical system based on the energy value of the second light beam L 2 detected by the energy detector 114. A stabilizer for stabilizing the energy of the first light beam L1 from the system 112 is configured. In this stabilizer, the comparison circuit 115 and the AOE drive circuit 116 are controllers, and as the energy value of the second light beam L2 detected by the energy detector 114 increases, the variable optical attenuation optical system Control is performed to increase the substantial attenuation rate at 113.

比較回路115は、3つの比較器(フラッシュコンパレータ)115a、115b、115cを有する。比較器115a、115b、115cは、エネルギー検出器114からの第2ビーム光L2のエネルギー値に対応した検出電圧値がそれぞれ対応する基準電圧値Ref1、Ref2、Ref3(Ref1>Ref2>Ref3)より大きいか否かを表す比較判定信号を出力する。3つの比較器115a、115b、115c(比較回路115)からの3つの比較判定信号により、エネルギー検出器114からの検出電圧値Vに対応した第2ビーム光L2のエネルギー値Ei(V)が、4つの段階、Ei(V)>E(Ref1)、E(Ref1)≧Ei(V)>E(Ref2)、E(Ref2)≧Ei(V)>E(Ref3)、Ei(V)≦E(Ref3)のいずれかであることを表すことができる。   The comparison circuit 115 has three comparators (flash comparators) 115a, 115b, and 115c. In the comparators 115a, 115b, and 115c, the detection voltage values corresponding to the energy value of the second light beam L2 from the energy detector 114 are larger than the corresponding reference voltage values Ref1, Ref2, and Ref3 (Ref1> Ref2> Ref3). And outputs a comparison determination signal indicating whether or not this is the case. The energy value Ei (V) of the second light beam L2 corresponding to the detected voltage value V from the energy detector 114 is determined by the three comparison determination signals from the three comparators 115a, 115b, and 115c (comparing circuit 115). Ei (V)> E (Ref1), E (Ref1) ≧ Ei (V)> E (Ref2), E (Ref2) ≧ Ei (V)> E (Ref3), Ei (V) ≦ E (Ref3).

AOE駆動回路116は、比較回路115からの3つの比較判定信号によって表される前記第2ビーム光L2の4つの段階のエネルギー値に応じた状態(HレベルまたはLレベル)の3つの駆動信号1、2、3を出力する。具体的には、3つの比較判定信号が、第2ビーム光L2のエネルギー値E(V)が最も高い段階(Ei(V)>E(Ref1))を表す場合、2つの駆動信号1、2をHレベルにし、残りの1つの駆動信号3をLレベルにする。3つの比較判定信号が、第2ビーム光L2のエネルギー値E(V)が2番目に高い段階(E(Ref1)≧Ei(V)>E(Ref2))を表す場合、駆動信号1をHレベルにし、残りの2つの駆動信号2、3をLレベルにする。3つの比較判定信号が、第2ビーム光L2のエネルギー値E(V)が3番目に高い段階(E(Ref2)≧Ei(V)>E(Ref3))を表す場合、駆動信号3をHレベルにし、残りの2つの駆動信号1、2をLレベルにする。また、3つの比較判定信号が、第2ビーム光L2のエネルギー値E(V)が最も低い段階(Ei(V)≦E(Ref1))を表す場合、全ての駆動信号1、2、3をLレベルにする。   The AOE drive circuit 116 has three drive signals 1 in a state (H level or L level) according to the energy values of the four stages of the second light beam L2 represented by the three comparison determination signals from the comparison circuit 115. 2, 3 are output. Specifically, when the three comparison determination signals indicate a stage where the energy value E (V) of the second light beam L2 is the highest (Ei (V)> E (Ref1)), the two drive signals 1, 2 Is set to the H level, and the remaining one drive signal 3 is set to the L level. When the three comparison determination signals indicate a stage where the energy value E (V) of the second light beam L2 is the second highest (E (Ref1) ≧ Ei (V)> E (Ref2)), the drive signal 1 is set to H. Level, and the remaining two drive signals 2 and 3 are set to L level. If the three comparison determination signals indicate a stage where the energy value E (V) of the second light beam L2 is the third highest (E (Ref2) ≧ Ei (V)> E (Ref3)), the drive signal 3 is set to H. Level, and the remaining two drive signals 1 and 2 are set to L level. In addition, when the three comparison determination signals indicate a stage where the energy value E (V) of the second light beam L2 is the lowest (Ei (V) ≦ E (Ref1)), all the drive signals 1, 2, and 3 are used. Set to L level.

AOE駆動回路116から出力される3つの駆動信号1、2、3は、可変光減衰光学系113における第1高速光スイッチ1131(AOE1)、第2高速光スイッチ1132(AOE2)、及び第3高速光スイッチ1133(AOE3)を切換駆動させるための信号として可変光減衰光学系113に供給される(図6参照)。具体的には、駆動信号1が第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)に、駆動信号2が第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)に、駆動信号3が第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)に、それぞれ供給される。   The three drive signals 1, 2, and 3 output from the AOE drive circuit 116 are output to the first high-speed optical switch 1131 (AOE1), the second high-speed optical switch 1132 (AOE2), and the third high-speed optical switch 113 in the variable optical attenuation optical system 113. The signal is supplied to the variable optical attenuation optical system 113 as a signal for switching the optical switch 1133 (AOE3) (see FIG. 6). Specifically, the drive signal 1 is applied to the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1), the drive signal 2 is applied to the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2), and the drive signal 3 is applied to the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3). ) Respectively.

上述した光エネルギー安定化装置11では、エネルギー検出器114による第2ビーム光L1(入射光)の検出エネルギー値Ei1、Ei2、Ei3、Ei4(Ei1>Ei2>Ei3>Ei4)に対する高速光スイッチ素子1131(AOE1)、1132(AOE2)、1133(AOE3)の駆動状態(オン状態、オフ状態)と、出射レーザビーム光LB2(出射光)のエネルギーとの関係は、図8に示すようになる。図8において、エネルギー値Ei1は、最も大きいエネルギー値であって、Ei1>E(Ref1)であり、エネルギー値Ei2は、2番目に大きいエネルギー値であって、E(Ref1)≧Ei2>E(Ref2)である。また、エネルギー値Ei3は、3番目に大きいエネルギー値であって、E(Ref2)≧Ei3>E(Ref3)であり、エネルギー値Ei4は、最も小さいエネルギー値であって、Ei4≦E(Ref3)である。   In the light energy stabilizing device 11 described above, the high-speed optical switching element 1131 for the energy values Ei1, Ei2, Ei3, and Ei4 (Ei1> Ei2> Ei3> Ei4) of the second light beam L1 (incident light) detected by the energy detector 114. FIG. 8 shows the relationship between the driving states (on state, off state) of (AOE1), 1132 (AOE2), and 1133 (AOE3) and the energy of the outgoing laser beam light LB2 (outgoing light). In FIG. 8, the energy value Ei1 is the largest energy value, Ei1> E (Ref1), and the energy value Ei2 is the second largest energy value, E (Ref1) ≧ Ei2> E ( Ref2). The energy value Ei3 is the third largest energy value, E (Ref2) ≧ Ei3> E (Ref3), and the energy value Ei4 is the smallest energy value, Ei4 ≦ E (Ref3). It is.

検出エネルギー値Ei1の場合、AOE駆動回路116からの駆動信号1、2がHレベルとなって、残りの駆動信号3がLレベルとなる。これにより、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)及び第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)がオン状態(ON)となって、第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)がオフ状(OFF)態になる。この場合、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)及び第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)のそれぞれからは、85%の1次回折ビーム光と15%の0次回折ビーム光とが出射され、第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)からは、100%の0次回折ビーム光が出射される。その結果、エネルギー値Ei1の入射ビーム光(第1ビーム光L1)は、第1プリズムアッテネータ1137a(透過率T1)を通るビーム光(Eo1)と、第2プリズムアッテネータ1137b(透過率T2)を通るビーム光(Eo2)と、第4プリズムアッテネータ1137d(透過率T4)を通るビーム光(Eo4)とに分かれて、混合器1138に入射する。それら3つのビーム光が混合器1138によって混合され、混合器1138からエネルギー値Eoの出射レーザビーム光LB2が出射される。この出射レーザビーム光LB2のエネルギー値Eoは、前記3つのビーム光のエネルギーEo1、Eo2、Eo4の総和であって、
Eo=Ei1×(0.852×T1+0.85×0.15×T2+0.15×T3)・・・(1)
となる。
In the case of the detected energy value Ei1, the drive signals 1 and 2 from the AOE drive circuit 116 go to H level, and the remaining drive signals 3 go to L level. As a result, the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1) and the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2) are turned on (ON), and the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3) is turned off (OFF). Be in a state. In this case, each of the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1) and the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2) emits 85% of the first-order diffracted light beam and 15% of the 0th-order diffracted light beam. From the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3), 100% of the 0th-order diffracted beam light is emitted. As a result, the incident light beam (the first light beam L1) having the energy value Ei1 passes through the first prism attenuator 1137a (the transmittance T1) and the light beam (Eo1) passing through the second prism attenuator 1137b (the transmittance T2). The light beam (Eo2) is split into a light beam (Eo4) passing through the fourth prism attenuator 1137d (transmittance T4) and is incident on the mixer 1138. The three light beams are mixed by the mixer 1138, and the output laser beam light LB2 having the energy value Eo is emitted from the mixer 1138. The energy value Eo of the emitted laser beam light LB2 is the sum of the energies Eo1, Eo2, and Eo4 of the three light beams,
Eo = Ei1 × (0.85 2 × T1 + 0.85 × 0.15 × T2 + 0.15 × T3) ··· (1)
Becomes

検出エネルギー値Ei2の場合、AOE駆動回路116からの駆動信号1がHレベルとなって、残りの2つの駆動信号2、3がLレベルとなる。これにより、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)がオン状態(ON)となって、2つの第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)及び第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)がオフ状態(OFF)になる。この場合、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)からは、85%の1次回折ビーム光と15%の0次回折ビーム光が出射され、第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)及び第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)のそれぞれからは、100%の0次回折ビーム光が出射される。その結果、エネルギー値Ei2の入射ビーム光(第1ビーム光L1)は、第2プリズムアッテネータ1137b(透過率T2)を通るビーム光(Eo2)と、第4プリズムアッテネータ1137d(透過率T4)を通るビーム光(Eo4)とに分かれて、混合器1138に入射する。それら2つのビーム光が混合器1138によって混合され、混合器1138からエネルギー値Eoの出射レーザビーム光LB2が出射される。この出射レーザビーム光LB2のエネルギー値Eoは、前記2つのビーム光のエネルギー値Eo2、Eo4の総和であって、
Eo=Ei2×(0.85×T2+0.15×T4) ・・・(2)
となる。
In the case of the detected energy value Ei2, the drive signal 1 from the AOE drive circuit 116 goes high, and the remaining two drive signals 2, 3 go low. As a result, the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1) is turned on (ON), and the two second high-speed optical switch elements 1132 (AOE2) and the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3) are turned off ( OFF). In this case, the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1) emits 85% of the first-order diffracted light beam and 15% of the 0th-order diffracted light beam, and outputs the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2) and the third. From each of the high-speed optical switch elements 1133 (AOE3), 100% 0th-order diffracted beam light is emitted. As a result, the incident light beam (the first light beam L1) having the energy value Ei2 passes through the light beam (Eo2) passing through the second prism attenuator 1137b (transmittance T2) and the light beam (Eo2) passing through the fourth prism attenuator 1137d (transmittance T4). The light is split into a light beam (Eo4) and incident on the mixer 1138. The two light beams are mixed by the mixer 1138, and the output laser beam light LB2 having the energy value Eo is emitted from the mixer 1138. The energy value Eo of the emitted laser beam light LB2 is the sum of the energy values Eo2 and Eo4 of the two light beams,
Eo = Ei2 × (0.85 × T2 + 0.15 × T4) (2)
Becomes

検出エネルギー値Ei3の場合、AOE駆動回路116からの駆動信号1、2がLレベルとなって、残りの駆動信号3がHレベルとなる。これにより、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)及び第2高速光スイッチ素子(AOE2)がオフ状態(OFF)となって、第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)がオン状態(ON)になる。この場合、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)からは、100%の0次回折ビーム光が出射され、入射光の無い第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)からはビーム光が出射されることはなく、また、第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)からは、85%の1次回折ビーム光と15%の0次回折光ビーム光とが出射される。その結果、エネルギー値Ei3の入射ビーム光(第1ビーム光L1)は、第3プリズムアッテネータ1137c(透過率T3)を通るビーム光と、第4プリズムアッテネータ1137d(透過率T4)を通るビーム光とに分かれて、混合器1138に入射する。それら2つのビーム光が混合器1138によって混合され、混合器1138からエネルギー値Eoの出射レーザビーム光LB2が出射される。この出射レーザビーム光LB2のエネルギー値Eoは、前記2つのビーム光のエネルギー値Eo3、Eo4の総和であって、
Eo=Ei3×(0.85×T3+0.15×T4) ・・・(3)
となる。
In the case of the detected energy value Ei3, the drive signals 1 and 2 from the AOE drive circuit 116 are at L level, and the remaining drive signals 3 are at H level. As a result, the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1) and the second high-speed optical switch element (AOE2) are turned off (OFF), and the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3) is turned on (ON). Become. In this case, 100% 0th-order diffracted beam light is emitted from the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1), and light beam is emitted from the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2) having no incident light. In addition, 85% of the first-order diffracted light beam and 15% of the 0th-order diffracted light beam are emitted from the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3). As a result, the incident light beam (the first light beam L1) having the energy value Ei3 is a light beam that passes through the third prism attenuator 1137c (transmittance T3) and a light beam that passes through the fourth prism attenuator 1137d (transmittance T4). And enters the mixer 1138. The two light beams are mixed by the mixer 1138, and the output laser beam light LB2 having the energy value Eo is emitted from the mixer 1138. The energy value Eo of the emitted laser beam light LB2 is the sum of the energy values Eo3 and Eo4 of the two light beams,
Eo = Ei3 × (0.85 × T3 + 0.15 × T4) (3)
Becomes

検出エネルギー値Ei4の場合、AOE駆動回路116からの3つの駆動信号1、2、3の全てがLレベルとなる。これにより、第1高速光スイッチ素子1131(AOE1)、第2高速光スイッチ1132(AOE2)及び第3高速光スイッチ1133(AOE3)のそれぞれがオフ状態(OFF)になる。この場合、第1高速光スイッチ1131(AOE1)からは、100%の0次回折ビーム光が出射され、入射光の無い第2高速光スイッチ素子1132(AOE2)からはビーム光が出射されることはなく、また、第3高速光スイッチ素子1133(AOE3)からも、100%の0次回折光ビーム光が出射される。その結果、エネルギー値Ei4の入射ビーム光(第1ビーム光L1)は、第4プリズムアッテネータ1137d(透過率T4)を通って混合器1138に入射する。混合器1138からは、第4プリズムアッテネータ1137dを通ってビーム光がそのままエネルギー値Eoの出射レーザビームLB2として出射される。この出射レーザビーム光LB2のエネルギー値Eoは、第4プリズムアッテネータ1137dを通ったビーム光のエネルギー値Eo4であって、
Eo=Ei4×T4 ・・・(4)
となる。
In the case of the detected energy value Ei4, all of the three drive signals 1, 2, and 3 from the AOE drive circuit 116 are at the L level. Thereby, each of the first high-speed optical switch element 1131 (AOE1), the second high-speed optical switch 1132 (AOE2), and the third high-speed optical switch 1133 (AOE3) is turned off. In this case, 100% 0th-order diffracted beam light is emitted from the first high-speed optical switch 1131 (AOE1), and beam light is emitted from the second high-speed optical switch element 1132 (AOE2) having no incident light. The 100% 0th-order diffracted light beam is also emitted from the third high-speed optical switch element 1133 (AOE3). As a result, the incident light beam (the first light beam L1) having the energy value Ei4 enters the mixer 1138 through the fourth prism attenuator 1137d (transmittance T4). From the mixer 1138, the light beam passes through the fourth prism attenuator 1137d and is emitted as it is as an emission laser beam LB2 having an energy value Eo. The energy value Eo of the emitted laser beam light LB2 is the energy value Eo4 of the light beam that has passed through the fourth prism attenuator 1137d,
Eo = Ei4 × T4 (4)
Becomes

上述したような光エネルギー安定化装置11では、入射するビーム光(第2ビーム光L2)の検出エネルギー値が大きいほど、より多くの量のビーム光(第1ビーム光L1)がより低い透過率(より高い減衰率)のプリズムアッテネータを通って出射されるようになる。このため、エネルギー値の変動が抑制されて、そのエネルギー値が安定化されたレーザビーム光LB2を出射することができる。   In the light energy stabilizing device 11 as described above, the larger the detected energy value of the incident light beam (second light beam L2), the lower the transmittance of a larger amount of light beam (first light beam L1). (Higher attenuation) through the prism attenuator. Therefore, the fluctuation of the energy value is suppressed, and the laser beam light LB2 whose energy value is stabilized can be emitted.

例えば、上述した例(図8参照)において、入射レーザビーム(第1ビーム光L1)の変動するエネルギー値が
Ei1=104
Ei2=102
Ei3=100
Ei4=98
であって(E(Ref1)=103、E(Ref2)=101、E(Ref3)=99)、
各プリズムアッテネータ1137a、1137b、1137c、1137dの減衰率が
T1=92%
T2=94%
T3=96%
T4=98%
である場合の出射レーザビーム光のエネルギー値Eoについて考察する。
For example, in the above-described example (see FIG. 8), the energy value of the incident laser beam (first light beam L1) that fluctuates is Ei1 = 104.
Ei2 = 102
Ei3 = 100
Ei4 = 98
(E (Ref1) = 103, E (Ref2) = 101, E (Ref3) = 99),
The attenuation rate of each prism attenuator 1137a, 1137b, 1137c, 1137d is T1 = 92%
T2 = 94%
T3 = 96%
T4 = 98%
Consider the energy value Eo of the emitted laser beam light in the case of

(1)Ei1=104(Ei1>E(Ref1))の場合
式(1)に従って演算される出射レーザビーム光LB2のエネルギー値Eoは、
Eo=104×(0.852×0.92+0.85×0.15×0.94+0.15×0.98)=99.63
となる。
(2)Ei2=102(E(Ref1)>Ei2≧E(Ref2))の場合
式(2)に従って演算される出射レーザビーム光LB2のエネルギー値Eoは、
Eo=102×(0.85×0.94+0.15×0.98)=96.49
となる。
(3)Ei3=100(E(Ref2>Ei3≧E(Ref3))の場合
式(3)に従って演算される出射レーザビームLB2のエネルギー値Eoは、
Eo=100×(0.85×0.96+0.15×0.98)=96.3
となる。
(4)Ei4=98(Ei4≦E(Ref3))の場合
式(4)に従って演算される出射レーザビーム光LB2のエネルギー値Eoは、
Eo=98×0.98=96.04
となる。
(1) In the case of Ei1 = 104 (Ei1> E (Ref1)) The energy value Eo of the emitted laser beam light LB2 calculated according to the equation (1) is:
Eo = 104 × (0.85 2 × 0.92 + 0.85 × 0.15 × 0.94 + 0.15 × 0.98) = 99.63
Becomes
(2) In the case of Ei2 = 102 (E (Ref1)> Ei2 ≧ E (Ref2)) The energy value Eo of the emitted laser beam light LB2 calculated according to the equation (2) is:
Eo = 102 × (0.85 × 0.94 + 0.15 × 0.98) = 96.49
Becomes
(3) When Ei3 = 100 (E (Ref2> Ei3 ≧ E (Ref3)) The energy value Eo of the output laser beam LB2 calculated according to the equation (3) is:
Eo = 100 × (0.85 × 0.96 + 0.15 × 0.98) = 96.3
Becomes
(4) When Ei4 = 98 (Ei4 ≦ E (Ref3)) The energy value Eo of the emitted laser beam LB2 calculated according to the equation (4) is:
Eo = 98 × 0.98 = 96.04
Becomes

上記考察によれば、入射レーザビーム光(第1ビーム光L1)のエネルギー値Eiが101±3(104〜98)であって、その変動率が約3%であるのに対し、出射レーザビーム光L2のエネルギー値Eoは、97.8±1.8(99.6〜96.0)であって、その変動率が約1.8%である。このように、エネルギー値の変動が抑制されて、そのエネルギー値が安定化されたレーザビーム光LB2が出射される。   According to the above consideration, the energy value Ei of the incident laser beam light (first beam light L1) is 101 ± 3 (104 to 98) and the variation rate is about 3%, The energy value Eo of the light L2 is 97.8 ± 1.8 (99.6 to 96.0), and its fluctuation rate is about 1.8%. Thus, the fluctuation of the energy value is suppressed, and the laser beam light LB2 whose energy value is stabilized is emitted.

上述したようにエネルギーが安定化されて光エネルギー安定化装置11から出射されるレーザビーム光LB2は、前述したように、拡散光学系12(拡散板121)を経て拡散レーザビーム光LB3になり、更に、その拡散レーザビーム光LB3がビーム拡大光学系13を経ることにより出射レーザビーム光LB4となって光源装置100から出される(図1〜図3参照)。   As described above, the laser beam light LB2 whose energy is stabilized and emitted from the light energy stabilizing device 11 becomes the diffused laser beam light LB3 via the diffusion optical system 12 (diffusion plate 121) as described above. Further, the diffused laser beam light LB3 passes through the beam expanding optical system 13 to be emitted laser beam light LB4 and is emitted from the light source device 100 (see FIGS. 1 to 3).

このような光源装置100によれば、レーザ光源としての固体UVパルスレーザ10からのレーザビーム光LB1に対して、光エネルギー安定化装置11がエネルギーの時間的変動を抑制してエネルギーの安定化を図り、かつ、拡散光学系12(拡散板121)がそのコヒーレント性を緩和させるようにしているので、エネルギー安定性に優れ、集光点で電界強度が強度限界に達することなく、干渉性が緩和されたレーザビーム光(出射レーザビーム光)を出射することができるようになる。   According to such a light source device 100, the laser beam light LB1 from the solid-state UV pulse laser 10 as a laser light source allows the light energy stabilizing device 11 to suppress temporal fluctuation of energy and stabilize energy. Since the coherence is reduced by the diffusion optical system 12 (diffusion plate 121), the coherence is improved, so that the energy stability is excellent, and the coherence is reduced without the electric field intensity reaching the intensity limit at the focal point. The emitted laser beam light (emitted laser beam light) can be emitted.

前述したようにレーザビーム光LB4を出射する光源装置100とともに、ラインビームホモジェナイザ(図1参照)を構成する長軸用ホモジェナイザ14、短軸用ホモジェナイザ15及び短軸縮小投影レンズ系16は、次のように構成される。   As described above, together with the light source device 100 that emits the laser beam light LB4, the long-axis homogenizer 14, the short-axis homogenizer 15, and the short-axis reduction projection lens system 16, which constitute the line beam homogenizer (see FIG. 1), It is configured as follows.

まず、長軸用ホモジェナイザ14は、図9に示すように構成される。   First, the long axis homogenizer 14 is configured as shown in FIG.

図9において、長軸用ホモジェナイザ14は、それぞれが長軸方向DL(紙面に平行な方向)に配列された複数のシリンドリカルレンズ(各シリンドリカルレンズは長軸方向DLに直交する短軸方向DMに延びる)で構成される第1長軸レンズアレイ141a及び第2長軸レンズアレイ141bと、第2長軸レンズアレイ141bに隣接して配置される長軸コンデンサレンズ142とを備えている。第1長軸レンズアレイ141aに入射する光源装置100からのレーザビーム光LB4は、第1長軸レンズアレイ141a及び第2長軸レンズアレイ141bの各対応するシリンドリカルレンズ対によって分割及び拡散されて、その分割拡散レーザビーム光が長軸コンデンサレンズ142を通して長軸方向DLに拡大されるように長軸投影面S2に拡大投影される。そして、長軸投影面S2において、各シリンドリカルレンズ対からの複数の分割拡散レーザビーム光が多重化されて、長軸方向DLに延びる所定長(例えば、50ミリメートル程度)のビームスポットが形成される。このように、複数の分割拡散レーザビーム光が長軸投影面S2において多重化されることにより、その長軸投影面S2上に形成されるビームスポットの長軸方向DLにおけるエネルギー分布(強度分布)が、例えば、図10に示すように、均一化される。   9, a long axis homogenizer 14 has a plurality of cylindrical lenses (each cylindrical lens extends in a short axis direction DM orthogonal to the long axis direction DL) arranged in a long axis direction DL (a direction parallel to the paper surface). ), A first long-axis lens array 141a and a second long-axis lens array 141b, and a long-axis condenser lens 142 arranged adjacent to the second long-axis lens array 141b. The laser beam light LB4 from the light source device 100 incident on the first long-axis lens array 141a is split and diffused by the corresponding pair of cylindrical lenses of the first long-axis lens array 141a and the second long-axis lens array 141b. The split diffused laser beam is enlarged and projected on the long axis projection surface S2 so as to be enlarged in the long axis direction DL through the long axis condenser lens 142. Then, on the long axis projection surface S2, the plurality of divided diffused laser beam lights from each pair of cylindrical lenses are multiplexed to form a beam spot of a predetermined length (for example, about 50 mm) extending in the long axis direction DL. . In this manner, a plurality of divided diffused laser beam lights are multiplexed on the long axis projection plane S2, so that an energy distribution (intensity distribution) in the long axis direction DL of a beam spot formed on the long axis projection plane S2. However, for example, as shown in FIG.

次に、短軸用ホモジェナイザ15は、図11に示すように構成される。   Next, the short axis homogenizer 15 is configured as shown in FIG.

図11において、短軸用ホモジェナイザ15は、それぞれが前記長軸方向DLと直交する短軸方向DM(紙面に平行な方向)に配列された複数のシリンドリカルレンズ(各シリンドリカルレンズは短軸方向DMに直交する長軸方向DLに延びる)で構成される第1短軸レンズアレイ151a及び第2短軸レンズアレイ152bと、第2短軸レンズアレイ151bに隣接して配置される短軸コンデンサレンズ152とを備えている。この短軸用ホモジェナイザ15は、第1短軸レンズアレイ151aのレーザビーム光の入射面が前述した長軸投影面S2(図5参照)に合致するように、長軸用ホモジェナイザ14に対して配置されている。これにより、長軸用ホモジェナイザ14からのレーザビーム光LB5は、前述した長軸方向DLに延びるビームスポットが長軸投影面S2としての第1短軸レンズアレイ151aの表面に投影されるように、当該第1短軸レンズアレイ151aに入射する。このように第1短軸レンズアレイ151aに入射するレーザビーム光LB5は、第1短軸レンズアレイ151a及び第2短軸レンズアレイ151bの各対応するシリンドリカルレンズ対によって分割されて(わずかに拡散されてもよい)、その分割レーザビーム光LB6が短軸コンデンサレンズ152によって短軸投影面S3に投影される。そして、短軸投影面S3上において各シリンドリカルレンズ対からの複数の分割レーザビーム光が多重化されて、ビームスポットが形成される。このように、複数の分割レーザビーム光LB6が短軸投影面S3に多重化されることにより、その短軸投影面S3上に形成されるビームスポットの短軸方向DMにおけるエネルギー分布(強度分布)が均一化される。   In FIG. 11, the short-axis homogenizer 15 includes a plurality of cylindrical lenses (each cylindrical lens is arranged in the short-axis direction DM) arranged in a short-axis direction DM (a direction parallel to the paper surface) orthogonal to the long-axis direction DL. A first short-axis lens array 151a, a second short-axis lens array 152b, and a short-axis condenser lens 152 disposed adjacent to the second short-axis lens array 151b. It has. The short-axis homogenizer 15 is arranged with respect to the long-axis homogenizer 14 such that the laser beam light incident surface of the first short-axis lens array 151a matches the long-axis projection surface S2 (see FIG. 5). Have been. Thereby, the laser beam light LB5 from the long axis homogenizer 14 is applied so that the beam spot extending in the long axis direction DL is projected onto the surface of the first short axis lens array 151a as the long axis projection plane S2. The light enters the first short-axis lens array 151a. As described above, the laser beam light LB5 incident on the first short-axis lens array 151a is split (slightly diffused) by the corresponding pair of cylindrical lenses of the first short-axis lens array 151a and the second short-axis lens array 151b. The divided laser beam LB6 is projected on the short-axis projection surface S3 by the short-axis condenser lens 152. Then, on the short axis projection surface S3, a plurality of divided laser beam lights from each pair of cylindrical lenses are multiplexed to form a beam spot. As described above, by multiplexing the plurality of divided laser beam lights LB6 on the short-axis projection surface S3, the energy distribution (intensity distribution) of the beam spot formed on the short-axis projection surface S3 in the short-axis direction DM. Is made uniform.

また、短軸用ホモジェナイザ15の後段に配置される短軸縮小投影レンズ系16は、図12に示すように構成される。   The short-axis reduction projection lens system 16 arranged downstream of the short-axis homogenizer 15 is configured as shown in FIG.

図12において、短軸縮小投影レンズ系15は、2つのシリンドリカル平凸レンズ161、162を含む。前述したように短軸ホモジェナイザ15からの複数の分割レーザビーム光が短軸投影面S3で多重化され、更に、短軸投影面S3から発散するレーザビーム光LB6は、2つのシリンドリカル平凸レンズ161、162によって、焦点投影面S4において集光されて短軸方向DMに縮小される(例えば、幅0.5ミリメートル)。焦点投影面S4において短軸方向DMに縮小されて形成されるビームスポットでは、短軸ホモジェナイザ15からの複数の分割レーザビーム光の短軸投影面S3での多重化により形成されるレーザビーム光LB6の短軸方向DMにおけるエネルギーの均一性が維持される。   12, the short axis reduction projection lens system 15 includes two cylindrical plano-convex lenses 161 and 162. As described above, the plurality of split laser beam lights from the short-axis homogenizer 15 are multiplexed on the short-axis projection surface S3, and further, the laser beam light LB6 diverging from the short-axis projection surface S3 is divided into two cylindrical plano-convex lenses 161, By 162, the light is condensed on the focal projection plane S4 and reduced in the short-axis direction DM (for example, 0.5 mm in width). In the beam spot formed by being reduced in the short-axis direction DM on the focal projection plane S4, the laser beam LB6 formed by multiplexing the plurality of divided laser beam lights from the short-axis homogenizer 15 on the short-axis projection plane S3. Is maintained in the short-axis direction DM.

上述したように長軸ホモジェナイザ14、短軸ホモジェナイザ15及び短軸縮小投影レンズ系16によって、前記焦点投影面S4において長軸方向DM方向に延びるライン状スポット(例えば、50ミリメートル×0.5ミリメートル)として形成されるライン状レーザビーム光LB7がラインビームホモジェナイザからの出射レーザビーム光として得られる。   As described above, the long axis homogenizer 14, the short axis homogenizer 15, and the short axis reduction projection lens system 16 form a linear spot (for example, 50 mm × 0.5 mm) extending in the long axis direction DM on the focal projection plane S4. The obtained linear laser beam LB7 is obtained as a laser beam emitted from the line beam homogenizer.

上述したようなラインビームホモジェナイザは、例えば、半導体基板のアニーリング処理において使用することができる。その場合、前記焦点投影面S4(図12参照)に処理面が合致するように半導体基板を配置させ、ラインビームホモジェナイザから出射されるライン状レーザビーム光LB7を前記処理面に照射する。この状態で、半導体基板とラインビームホモジェナイザとを短軸方向DMに相対的に移動させることにより、半導体基板の処理面がライン状レーザビーム光によって走査される。このように半導体基板の処理面を短軸方向DMに走査するライン状レーザビーム光LB7の熱エネルギーにより、前記処理面がアニール処理される。   The line beam homogenizer as described above can be used, for example, in an annealing process for a semiconductor substrate. In that case, the semiconductor substrate is arranged so that the processing surface coincides with the focal projection surface S4 (see FIG. 12), and the processing surface is irradiated with the linear laser beam LB7 emitted from the line beam homogenizer. In this state, the processing surface of the semiconductor substrate is scanned by the linear laser beam light by relatively moving the semiconductor substrate and the line beam homogenizer in the short axis direction DM. In this manner, the processing surface is annealed by the thermal energy of the linear laser beam LB7 that scans the processing surface of the semiconductor substrate in the short-axis direction DM.

上述したようなラインビームホモジェナイザによれば、エネルギー安定性に優れ、集光点での電界強度が強度限界に達することなく、干渉性が緩和されたレーザビーム光から、長軸方向及び短軸方向の双方におけるエネルギー分布が均一化されたライン状レーザビーム光が形成される。これにより、より安定したライン状レーザビーム光を得ることができる。そのため、このようなラインビームホモジェナイザを半導体基板の表面のアニール処理に適用すれば、その半導体基板の表面をより精度よく均一的にアニール処理することができる。   According to the line beam homogenizer as described above, the energy stability is excellent, and the electric field intensity at the focal point does not reach the intensity limit. A linear laser beam light having a uniform energy distribution in both axial directions is formed. Thereby, more stable linear laser beam light can be obtained. Therefore, if such a line beam homogenizer is applied to the annealing of the surface of a semiconductor substrate, the surface of the semiconductor substrate can be more accurately and uniformly annealed.

なお、前述した光源装置100は、ラインビームホモジェナイザ以外の光学装置に適用することができる。この場合、当該他の光学装置においても、エネルギー安定性に優れ、集光点での電界強度が強度限界に達することなく、干渉性が緩和されたレーザビーム光を利用することができる。   The light source device 100 described above can be applied to an optical device other than the line beam homogenizer. In this case, also in the other optical device, it is possible to use laser beam light having excellent energy stability and having reduced coherence without the electric field intensity at the focal point reaching the intensity limit.

また、前述した光源装置100では、利用する光学装置におけるエネルギーの安定性の要求性能により、光エネルギー安定化装置11を省くことができる。また、エネルギーの安定性が重要な要求性能となる光学装置において利用する場合、拡散光学系12及びビーム拡大光学系13(出射光学系)のうち少なくとも拡散光学系12を省くこともできる。   In the light source device 100 described above, the light energy stabilizing device 11 can be omitted depending on the required performance of energy stability in the optical device to be used. Further, in the case of using in an optical device in which energy stability is an important required performance, at least the diffusion optical system 12 among the diffusion optical system 12 and the beam expansion optical system 13 (emission optical system) can be omitted.

更に、前述した光源装置100では、その光源装置100が適用される光学装置に応じて、レーザ光源は、固体UVパルスレーザ10に限られることなく、例えば、気体レーザ、半導体レーザ等の他の種のレーザ光源を用いることもできる。   Further, in the light source device 100 described above, the laser light source is not limited to the solid-state UV pulse laser 10 depending on the optical device to which the light source device 100 is applied. Can be used.

出射光学系としてのビーム拡大光学系13に代えて他の種の出射光学系、例えば、コリメータや他のビーム整形に係る光学系を用いることもできる。   Instead of the beam expanding optical system 13 as the output optical system, another type of output optical system such as a collimator or another optical system related to beam shaping can be used.

なお、本発明は、前述した実施の形態及びその変形例に限定されるものではない。本発明の趣旨に基づいて種々変形することが可能であり、これらを本発明の範囲から除外するものではない。   Note that the present invention is not limited to the above-described embodiment and its modifications. Various modifications can be made based on the spirit of the present invention, and these are not excluded from the scope of the present invention.

10 固体UVパルスレーザ(レーザ光源)
11 光エネルギー安定化装置
12 拡散光学系
13 ビーム拡大光学系(出射光学系)
14 長軸用ホモジェナイザ
15 短軸用ホモジェナイザ
16 短軸縮小レンズ系
100 光源装置
111 ビームスプリッタ
112 遅延光学系
113 可変光減衰光学系
114 エネルギー検出器
115 比較回路
115a、115b、115c 比較器
116 AOE駆動回路
121 拡散板
131 第1凸レンズ
132 第2凸レンズ
141a 第1長軸レンズアレイ
141b 第2長軸レンズアレイ
142 長軸コンデンサレンズ
151a 第1短軸レンズアレイ
151b 第2短軸レンズアレイ
152 短軸コンデンサレンズ
161、162 シリンドリカル平凸レンズ
1131 第1高速光スイッチ素子(AOE1)
1132 第2高速光スイッチ素子(AOE2)
1133 第3高速光スイッチ素子(AOE3)
1134a、1134b、1134c、1135a、1135b、1135c、
1136a、1136b、1136c プリズム
1137a 第1プリズムアッテネータ
1137b 第2プリアズムアッテネータ
1137c 第3プリズムアッテネータ
1137d 第4プリズムアッテネータ
10. Solid-state UV pulse laser (laser light source)
11 Light Energy Stabilizer 12 Diffusion Optical System 13 Beam Expansion Optical System (Emission Optical System)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 14 Long axis homogenizer 15 Short axis homogenizer 16 Short axis reduction lens system 100 Light source device 111 Beam splitter 112 Delay optical system 113 Variable light attenuation optical system 114 Energy detector 115 Comparison circuit 115a, 115b, 115c Comparator 116 AOE drive circuit 121 Diffusion plate 131 First convex lens 132 Second convex lens 141a First long axis lens array 141b Second long axis lens array 142 Long axis condenser lens 151a First short axis lens array 151b Second short axis lens array 152 Short axis condenser lens 161 , 162 Cylindrical plano-convex lens 1131 First high-speed optical switch element (AOE1)
1132 Second high-speed optical switch element (AOE2)
1133 Third high speed optical switch element (AOE3)
1134a, 1134b, 1134c, 1135a, 1135b, 1135c,
1136a, 1136b, 1136c Prism 1137a First prism attenuator 1137b Second preism attenuator 1137c Third prism attenuator 1137d Fourth prism attenuator

Claims (10)

レーザビーム光を出射するレーザ光源を有する光源装置であって、
前記レーザ光源からのレーザビーム光を所定の拡散角をもった拡散レーザビーム光にする拡散光学系と、
該拡散光学系からの拡散レーザビーム光を当該光源装置からの出射レーザビーム光にして出射する出射光学系と、を有する光源装置。
A light source device having a laser light source that emits a laser beam light,
A diffusion optical system that converts the laser beam light from the laser light source into a diffused laser beam light having a predetermined diffusion angle,
An emission optical system that converts the diffused laser beam from the diffusion optical system into an emitted laser beam from the light source device and emits the emitted laser beam.
前記拡散レーザビーム光の前記拡散角は、前記レーザ光源から出射する前記レーザビーム光の拡散角より大きく、かつ、前記拡散光学系からの拡散レーザビーム光の全てが前記出射光学系に入射可能な最大拡散角以下である、請求項1記載の光源装置。   The diffusion angle of the diffused laser beam light is larger than the diffusion angle of the laser beam light emitted from the laser light source, and all of the diffused laser beam light from the diffusion optical system can enter the emission optical system. The light source device according to claim 1, wherein the light source device has a maximum diffusion angle or less. 前記拡散レーザビーム光の前記拡散角は、10±5ミリラジアンの範囲内である、請求項2記載の光源装置。   3. The light source device according to claim 2, wherein the divergence angle of the divergent laser beam light is within a range of 10 ± 5 milliradians. 前記出射光学系は、
前記拡散光学系からの前記拡散レーザビーム光の光径を拡大し、その拡大された光径のレーザビーム光を出射するビーム拡大光学系を含む、請求項1乃至3のいずれかに記載の光源装置。
The output optical system includes:
The light source according to any one of claims 1 to 3, further comprising a beam expanding optical system that expands the diameter of the diffused laser beam from the diffusion optical system and emits the laser beam having the expanded diameter. apparatus.
前記レーザ光源からの前記レーザビーム光のエネルギーの時間的変動を抑えてエネルギーを安定化させる光エネルギー安定化装置を有し、
前記光エネルギー安定化装置を経たレーザビーム光が前記拡散光学系に入射する、請求項1乃至4のいずれかに記載の光源装置。
A light energy stabilizing device that stabilizes energy by suppressing temporal fluctuation of the energy of the laser beam light from the laser light source,
The light source device according to claim 1, wherein the laser beam light having passed through the light energy stabilizing device is incident on the diffusion optical system.
前記光エネルギー安定化装置は、
前記レーザ光源からの前記レーザビーム光を第1ビーム光と第2ビーム光とに分割するビーム分割器と、
前記ビーム分割器により得られる前記第1ビーム光を遅延させる遅延光学系と、
前記ビーム分割器により得られる前記第2ビーム光のエネルギー値を検出するエネルギー検出器と、
前記エネルギー検出器により検出される前記第2ビーム光のエネルギー値に基づいて、前記遅延光学系からの前記第1ビーム光のエネルギーを安定化させる安定化器と、を有し、
前記安定化器によってエネルギーが安定化された前記第1ビーム光が前記拡散光学系に入射する、請求項5記載の光源装置。
The light energy stabilizer,
A beam splitter that splits the laser beam from the laser light source into a first beam and a second beam;
A delay optical system for delaying the first light beam obtained by the beam splitter;
An energy detector that detects an energy value of the second light beam obtained by the beam splitter;
A stabilizer for stabilizing the energy of the first light beam from the delay optical system based on the energy value of the second light beam detected by the energy detector,
The light source device according to claim 5, wherein the first light beam whose energy is stabilized by the stabilizer is incident on the diffusion optical system.
前記安定化器は、減衰率が可変であって、前記遅延光学系からの前記第1ビーム光が通過する可変光減衰光学系と、
前記エネルギー検出器にて検出されるエネルギー値が大きいほど、前記可変光減衰光学系での減衰率を大きくする制御器と、を有する請求項6記載の光源装置。
The stabilizer has a variable attenuation factor, and a variable light attenuation optical system through which the first light beam from the delay optical system passes;
7. The light source device according to claim 6, further comprising: a controller configured to increase an attenuation rate in the variable light attenuation optical system as an energy value detected by the energy detector increases.
レーザビーム光を出射するレーザ光源を備えた光源装置であって、
前記レーザ光源からのレーザビーム光を第1ビーム光と第2ビーム光とに分割するビーム分割器と、
前記ビーム分割器により得られる前記第1ビーム光を遅延させる遅延光学系と、
前記ビーム分割器により得られる前記第2ビーム光のエネルギー値を検出するエネルギー検出器と、
前記エネルギー検出器により検出される前記第2ビーム光のエネルギー値に基づいて、前記遅延光学系からの前記第1ビーム光のエネルギーを安定化させる安定化器と、を有し、
前記安定化器によってエネルギーが安定化された前記第1ビーム光を出射する光源装置。
A light source device including a laser light source that emits a laser beam light,
A beam splitter for splitting a laser beam from the laser light source into a first beam and a second beam;
A delay optical system for delaying the first light beam obtained by the beam splitter;
An energy detector that detects an energy value of the second light beam obtained by the beam splitter;
A stabilizer for stabilizing the energy of the first light beam from the delay optical system based on the energy value of the second light beam detected by the energy detector,
A light source device that emits the first light beam whose energy is stabilized by the stabilizer.
前記安定化器は、減衰率が可変であって、前記遅延光学系からの前記第1ビーム光が通過する可変光減衰光学系と、
前記エネルギー検出器にて検出されるエネルギー値が大きいほど、前記可変光減衰光学系での減衰率を大きくする制御器と、を有する請求項8記載の光源装置。
The stabilizer has a variable attenuation factor, and a variable light attenuation optical system through which the first light beam from the delay optical system passes;
The light source device according to claim 8, further comprising: a controller configured to increase an attenuation rate in the variable light attenuation optical system as an energy value detected by the energy detector increases.
請求項1乃至9のいずれかに記載の光源装置と、
前記光源装置から出射されるレーザビーム光から長軸方向と該長軸方向に直交する短軸方向との双方におけるエネルギー分布が均一化された前記長軸方向に延びるライン状レーザビーム光を生成するホモジェナイズ光学系と、を有するラインビームホモジェナイザ。
A light source device according to any one of claims 1 to 9,
Generating a linear laser beam extending in the long axis direction in which the energy distribution in both the long axis direction and the short axis direction orthogonal to the long axis direction is made uniform from the laser beam emitted from the light source device; And a homogenizing optical system.
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