JP2020034052A - アクチュエータ、流体制御弁及び弁監視装置 - Google Patents

アクチュエータ、流体制御弁及び弁監視装置 Download PDF

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Abstract

【課題】設置スペースが小さくても、弁体の開閉状態を検知できるアクチュエータを提供する。【解決手段】弁体110を開方向又は閉方向に移動させる弁棒20と、弁棒20に固定され、駆動流体CAにより弁棒20を弁体110の開方向又は閉方向の一方に駆動するピストン30と、ピストン30による弁棒20の駆動方向とは反対の方向に弁棒20を付勢する弾性部材40と、を備える流体制御弁10用のアクチュエータ200であって、弁棒20は、弁体110の開方向又は閉方向において、駆動流体CAの圧力による外力の大きさに応じた信号を出力する圧電センサ50に当接するものである。【選択図】図4

Description

本発明は、アクチュエータ、流体制御弁及び弁監視装置に関する。
従来、半導体製造装置では複数種の処理ガスが使用されるため、流体制御弁及び流体回路を処理ガスの種類に応じて複数個設ける必要がある。そこで、これら複数の流体制御弁及び流体回路をまとめた集積化ガスシステムが用いられている。
半導体製造装置の一工程として、処理ガスを原子層の上に積層する積層工程があり、この積層工程では、パルス状の高速な制御信号により流体制御弁を開閉させることがあり、流体制御弁の開閉周期が短く、開閉回数が多くなってきている。そのため、集積化ガスシステムにおいて、流体制御弁の開閉状態を確認できることが要望されるとともに、小型化も要望されている。
流体制御弁の弁体又は弁体を操作するアクチュエータの動作(開度、開状態又は閉状態など)を作業者又は制御装置が検知できるようにするために、例えば、ピストンの上端部をケーシングから突出又は後退させるもの(特許文献1参照)、距離センサを用いてピストンの移動量を測定するもの(特許文献2参照)、あるいは、ピストンの位置を検知する接触又は非接触のセンサを用いて検知するものなどが知られている。
特開2011−233630号公報 特開2018−092622号公報
しかしながら、特許文献1にみられるような手段は、作業者が確認するため、クリーン度を必要とする半導体製造装置において、自動化や無人化に対応することができず、特許文献2にみられるような外付けセンサでは、更なる小型化や高速化が望めない。
そこで、本発明は以上の課題に鑑みてなされたものであり、設置スペースが小さくても、弁体の開閉状態を検知できるアクチュエータ、流体制御弁及び弁監視装置を提供することを目的とする。
(1)本発明に係る1つの態様は、弁体を開方向又は閉方向に移動させる弁棒と、前記弁棒に固定され、駆動流体により前記弁棒を弁体の開方向又は閉方向の一方に駆動するピストンと、前記ピストンによる前記弁棒の駆動方向とは反対の方向に前記弁棒を付勢する弾性部材と、を備える流体制御弁用のアクチュエータであって、前記弁棒は、前記弁体の開方向又は閉方向において、前記駆動流体の圧力による外力の大きさに応じた信号を出力する圧電センサに当接するものである。
(2)上記(1)の態様において、前記弁棒は、前記弁体の開方向又は閉方向の上死点で、圧電センサに当接してもよい。
(3)本発明に係る別の1つの態様は、流体制御弁であって、上記(1)又は(2)に記載のアクチュエータと、制御流体用の通路を有するボディと、前記制御流体用の通路を開閉する弁体と、を備えるものである。
(4)本発明に係る更に別の1つの態様は、弁監視装置であって、上記(3)に記載の流体制御弁と、前記駆動流体の供給又は停止を制御する制御装置と、を備え、前記制御装置は、前記圧電センサからの前記信号が入力されるものである。
(5)上記(4)の態様において、前記制御装置は、前記制御流体又は前記駆動流体の少なくとも一方の圧力変動による前記信号の変動を検出可能であってもよい。
(6)上記(4)又は(5)の態様において、前記制御装置は、前記信号に基づいて、前記弁棒の衝突速度を演算してもよい。
(7)上記(4)から(6)までのいずれか1つの態様において、前記流体制御弁は、複数個備えられてもよい。
本発明によれば、設置スペースが小さくても、弁体の開閉状態を検知できるアクチュエータ、流体制御弁及び弁監視装置を提供することができる。
弁監視装置を示すブロック図である。 集積化ガスシステムの概略を示すガスフロー図である。 本発明に係る実施形態の流体制御弁における閉状態を示す断面図である。 本発明に係る実施形態の流体制御弁における開状態を示す断面図である。 流体制御弁の開閉状態と圧電センサの電圧信号との関係を示すグラフである。
以下、本発明の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、本明細書の実施形態においては、全体を通じて、同一の部材には同一の符号を付している。
まず、本発明に係る実施形態のアクチュエータ200を説明する前に、弁監視装置300及び集積化ガスシステム310について説明する。図1は、弁監視装置300を示すブロック図である。図2は、集積化ガスシステム310の概略を示す説明図である。
弁監視装置300は、各種の流体制御弁10を複数個集積した集積化ガスシステム310と、集積化ガスシステム310を制御する制御装置320と、を備えている。
図2に示すように、集積化ガスシステム310は、図示されない半導体製造装置で使用される各種の処理ガス(以降、「制御流体G」という。)を、取り扱うものであり、制御装置320は、複数の流体制御弁10を用いて制御流体Gの供給又は停止を制御したり、減圧弁RGやマスフローコントローラMFCを用いて、それぞれ流量や圧力を調整したりする。集積化ガスシステム310は、ハンドバルブHVやフィルターF,圧力計PTなども含んでいる。集積化ガスシステム310は、これらの流体制御弁10などをベースプレートに一体化し、半導体製造装置のパネルに設置されたり、ボックス内に設置されたりする。なお、制御流体Gは、最大1.0MPaの圧力で供給される。
制御装置320について説明する前に、まず、流体制御弁10について説明する。図3は、本発明に係る実施形態の流体制御弁10における閉状態を示す断面図である。図4は、本発明に係る実施形態の流体制御弁10における開状態を示す断面図である。
本発明に係る実施形態の流体制御弁10は、例えば、ノーマルクローズ型のエアオペレートバルブである。
図3及び図4に示すように、流体制御弁10は、弁部100と、アクチュエータ200と、を備えている。
弁部100は、制御流体G用の通路130を開閉する弁体110と、制御流体G用の通路130を有するボディ120と、を備えており、通路130は、流入通路131と流出通路132とで構成されている。
弁体110は、円板状に形成されたダイヤフラムであり、フッ素系樹脂やステンレス、Ni-Co系合金等の金属から形成されている。
ボディ120は、逆T字状のもので、第1ボディ121と、第1ボディ121と対向する第2ボディ122と、アクチュエータ200が装着される上部ボディ123と、で形成されている。
上部ボディ123は、アクチュエータ200(より詳細には後述する弁棒20及びボンネット220)及び弁体110を収容する円筒状の収容空間123cを有し、収容空間123cには、弁体110が着座し、流体制御弁10を閉状態にする弁座111が設けられている。
また、上部ボディ123は、管用雄ねじ部123aが外周面に形成されている。この管用雄ねじ部123aには、雌ねじ部201aを有し、弁部100とアクチュエータ200とを連結する袋ナット201が取り付けられる。
そして、流入通路131は、第1ボディ121から上部ボディ123に向かうように、例えば、L字状に形成され、第1ボディ121の端面と環状の弁座111の内側とを連通している。
一方、流出通路132は、上部ボディ123から第2ボディ122に向かうように、例えば、L字状に形成され、第2ボディ122の端面と環状の弁座111の外側とを連通している。なお、第1ボディ121及び第2ボディ122は、それぞれ管用雄ねじ部121a,122aが外周面に形成されている。
つぎに、アクチュエータ200について説明する。
アクチュエータ200は、ケーシング210内に、弁棒20と、ピストン30と、を備えており、ケーシング210に固定されたボンネット220内に、弁体110を閉方向に付勢するための弾性部材40を備えている。
弁棒20は、弁体110を開方向又は閉方向に移動させる円柱状のものであり、先端部21が拡径されている。先端部21には、凹所21aが形成されており、この凹所21aには、弁閉状態とする場合に、弁体110を弁座111に向かって押し付ける弁体押さえ23が装着されている。
弁棒20の中間部から後端部22側には、第1収容空間211c内の駆動流体CA及び第2収容空間212c内の駆動流体CAを相互に流通させる流通穴24が設けられている。なお、後端部22側から穿孔される流通穴24は、例えば、金属ボールなどが溶接されて閉止されている。
ピストン30は、駆動流体CAにより弁棒20を駆動するものであり、弁棒20に固定されている。本実施形態では、ピストン30は、第1ピストン31及び第2ピストン32の2段構造で構成されているが、1段又は3段以上の構造であってもよい。
第1ピストン31及び第2ピストン32は、弁棒20に取り付けられた上下の止め輪などの間にそれぞれ挟持されて、固定されている。
ケーシング210は、弁棒20及びピストン30を収容する収容空間210cを、略円筒状の上部ケーシング211及び下部ケーシング212で形成している。具体的には、上部ケーシング211の第1収容空間211cに、第1ピストン31が上下移動可能に収容され、また、下部ケーシング212の第2収容空間212cに、第2ピストン32が上下移動可能に収容されている。
さらに、上部ケーシング211と下部ケーシング212との間には、カウンタプレート33が挟持されており、このカウンタプレート33は、収容空間210cを第1収容空間211cと第2収容空間212cとに仕切っている。
上部ケーシング211は、弁棒20を上昇させる弁開時に、第1収容空間211c内の空気を排出し、また、弁棒20を下降させる弁閉時に、第1収容空間211c内に外気を供給する給排通路211eが形成されている。
下部ケーシング212は、駆動流体CAを供給する供給口212d及び供給通路212eが形成されている。ピストン30を上昇駆動する駆動流体CAは、制御装置320からの制御信号により、電磁弁EVが開閉されて、供給口212dから供給又は停止(大気開放)される(図1参照)。駆動流体CAは、0.4MPaから0.6MPa程度の範囲で供給される。
また、下部ケーシング212には、弁棒20及び弾性部材40を収容する略円筒状のボンネット220が挿着され、固定されている。
ボンネット220は、先端に弁体ホルダ222が取り付けられている。この弁体ホルダ222は、アクチュエータ200を弁部100に装着した際に、弁体110を上部ボディ123と挟持し、固定するようになっている。なお、ボンネット220には、弁棒20を上昇させる弁開時に、内部の空気を排出し、また、弁棒20を下降させる弁閉時に、内部に外気を供給する第3給排通路が形成されている。
弾性部材40は、ピストン30の駆動流体CAによる駆動方向(弁体110の開方向)とは反対の弁体110の閉方向に弁棒20を付勢するもので、圧縮コイルバネで構成されている。この弾性部材40は、弁棒20の先端部21とボンネット220の後端部221との間に挟持されて、設けられている。ただし、弾性部材40は、圧縮コイルバネだけでなく、例えば、皿バネ、板バネなど弾性による付勢力を発揮するものであってもよい。
なお、アクチュエータ200において、弁棒20の外周面と、第1ピストン31、第2ピストン32及びカウンタプレート33との間、第1ピストン31及び第2ピストン32の外周面、弁棒20の外周面とボンネット220との外周面、ボンネット220と下部ケーシング212との間には、シール部材が設けられている。
ところで、上部ケーシング211の凹所211fには、圧電センサ50が、ボルトなどで取り付けられたキャップ230で挟持されて、収容されている。なお、凹所211fには、弁棒20の後端部22が通過可能な開口が形成されている。
圧電センサ50は、圧電体に加えられた力を電圧に変換するもので、すなわち、駆動流体CAの圧力により作動される弁棒20の当接力(外力)の大きさに応じた電圧信号を、信号線51を介して外部装置(例えば、制御装置320)に出力可能なものである。なお、キャップ230には、信号線51用の穴が設けられている。
圧電センサ50は、厚さが0.5mmから5mm程度のものを適宜選択するとよい。そして、圧電センサ50は、弁棒20の後端部22が、弁体110の開方向の全開位置、つまり、弁棒20が移動する上死点か上死点よりも手前の地点で当接するように配置されている。なお、駆動される弁棒20の上死点の方向は、弁体110の設置位置とは反対の反弁体側方向と言い換えることができ、この場合、弁棒20の下死点の方向は、弁体110の設置位置の方向となる。
流体制御弁10は、上述のような単動駆動の構成により、駆動流体CAが供給されていない状態では、弁棒20は、弾性部材40の付勢力によって、弁体110を弁座111に着座させ、制御流体Gの流れを閉止する閉位置(下方位置)に位置し、このとき、ピストン30も下方位置に位置する。
一方、駆動流体CAが供給されると、弁棒20は、弾性部材40の付勢力に抗して、ピストン30に作用する圧力によって、弁体110の開状態を可能にする開位置(上方位置)に移動させられる。そして、弁体110は、制御流体Gの圧力によって、弁座111から離され、制御流体Gが流入通路131から流出通路132へ流れるようになる。
また、弁棒20が開位置に移動すると、後端部22が圧電センサ50に当接する。また、流体制御弁10の開弁中は、弁棒20が圧電センサ50に接触し続ける。なお、アクチュエータ200のピストン30による弁棒20のストロークは、本実施形態では0.7mmであるが、0.5mmから1mmの範囲で設定されるとよい。
ここで、図1に戻って弁監視装置300の制御装置320について説明する。図5は、流体制御弁10の開閉状態と圧電センサ50の電圧信号との関係を示すグラフである。
図1に示すように、制御装置320は、複数の流体制御弁10の圧電センサ50、各流体制御弁10に駆動流体CAを供給する電磁弁EV、マスフローコントローラMFC、圧力計PT、半導体製造装置の上位制御盤などが接続されており、各種信号をこれらから及び/又はこれらへ送受信可能になっている。
流体制御弁10の開閉状態と圧電センサ50の電圧信号との関係について説明すると、弁棒20が開位置に移動し、後端部22が圧電センサ50に当接(衝突)すると、当接した瞬間に圧電センサ50からパルス状の電圧(信号)が出力され、制御装置320に入力される。その後、流体制御弁10が開状態の間において、弁棒20は圧電センサ50に接触したままになるため、所定の電圧(0V)に戻ることになる。
そのため、弁棒20が圧電センサ50に当接していても、圧電センサ50から電圧信号が出力されないことになり、開状態であるのか検知できないことになる。
しかしながら、本実施形態の流体制御弁10では、弁体110の開閉に、駆動流体CA及び弾性部材40が用いられている。駆動流体CAや制御流体Gは、±5%から10%程度の圧力変動や流量変動で供給されるため、圧電センサ50に対する弁棒20の当接力は、駆動流体CAや制御流体Gの変動に、弾性部材40による弾性付勢による変動も加わり、弁棒20が圧電センサ50に当接している間、圧電センサ50から出力される電圧値は0Vの一定にはならず、微小に変動(振動)するようになる(図5参照)。
ただし、圧電センサ50に弁棒20が衝突したときは、高電圧の信号が出力されるが、圧電センサ50に弁棒20が当接状態のときに出力される電圧信号は、変動幅が小さいものである。そのため、制御装置320は、制御流体G又は駆動流体CAの少なくとも一方の圧力変動による電圧信号の微小な変動を検出可能に設計されていると、流体制御弁10の開閉状態を、より確実に検知することができる。
また、制御装置320は、出力される電圧信号に基づいて、弁棒20の衝突速度を演算してもよい。例えば、電圧信号(電位)と、弁棒20の衝突速度との関係をあらかじめ記憶したデータに基づいて、出力された電圧信号から弁棒20の衝突速度を求めることができる。
そして、制御装置320は、弁棒20の衝突速度を、図示されない記憶部に記憶し、蓄積していくことで、ある流体制御弁10に関して、経時的に弁棒20の衝突速度を比較したり、複数の流体制御弁10同士の弁棒20の衝突速度を比較したりすることができ、応答性の悪化や故障の予兆などを確認することできる。なお、衝突速度に代えて、衝突エネルギーを演算してもよい。
以上説明したとおり、本発明に係る実施形態のアクチュエータ200は、弁棒20に固定され、駆動流体CAにより弁体110を開方向(又は閉方向の一方)に駆動するピストン30と、ピストン30による弁棒20の駆動方向とは反対の方向に弁棒20を付勢する弾性部材40と、を備える流体制御弁10用のアクチュエータ200であって、弁棒20は、弁体110の開方向又は閉方向において、駆動流体CAの圧力による外力の大きさに応じた信号を出力する圧電センサ50に当接するものである。圧電センサ50は、弁棒20の当接力を変換した(電圧)信号を外部装置に出力可能である。これにより、流体制御弁10(弁体110)の開閉状態を検知することができる。
特に、圧電センサ50は、リミットスイッチや光ファイバーセンサなどに比較して、小型化及び薄型化が容易である。そのため、流体制御弁10の直径を、例えば、28mmから10mm程度まで小型化することができる。また、圧電センサ50自体が、起電(発電)するため、外部から電力を供給する必要がない。
実施形態では、弁棒20は、弁体110の開方向(又は閉方向)の上死点で、圧電センサ50に当接する。これにより、圧電センサ50に対する弁棒20の当接による衝撃力を緩和することができる。
実施形態では、弁体110は、ダイヤフラムである。ダイヤフラムは、制御流体Gの圧力を受ける受圧面が比較的大きいため、制御流体Gの圧力変動による電圧信号の変動が大きくなる。
実施形態では、弁監視装置300は、駆動流体CAの供給又は停止を制御する制御装置320と、を備え、制御装置320は、圧電センサ50からの信号が入力される。これにより、流体制御弁10(弁体110)の開閉状態を監視することができる。
実施形態では、制御装置320は、制御流体G又は駆動流体CAの少なくとも一方の圧力変動による信号の変動を検出可能である。これにより、流体制御弁10の弁開時に、弁棒20の後端部22が圧電センサ50に当接したままであっても、圧電センサ50ことができる。弁体110の開閉動作に、一定の付勢力を維持できる電気や磁力を用いた操作手段でなく、あえて駆動流体CAや弾性部材40のように付勢力が不安定なアクチュエータ200を備えているため、圧電センサ50を用いた場合でも、流体制御弁10の弁開状態を検知することができる。
実施形態では、制御装置320は、信号に基づいて、弁棒20の衝突速度を演算する。これにより、流体制御弁10の応答性の悪化や故障の予兆などを確認することできる。
実施形態では、弁監視装置300は、流体制御弁10を複数備えものである。圧縮空気供給源からの駆動流体CAを、分岐させて複数の流体制御弁10に供給するなど、駆動流体CAの圧力の変動(又は流量の変動)が大きくなる場合に、複数の流体制御弁10の開閉が適切に行われない可能性が高くなるため、複数の流体制御弁10の開閉状態をそれぞれ検知することは、有用である。
以上、本発明の好ましい実施形態について詳述したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、変更が可能である。
上記実施形態では、弁体110は、ダイヤフラムであり、弁棒20に固定されておらず、弁開時に制御流体Gの圧力で、弁体110が弁座111から離れるようになっていたが、弁棒20の開閉(上下)動作に追従するように、弁体110が弁棒20に固定されていてもよい。また、弁体110は、ダイヤフラムであったが、弁体110が制御流体G用の通路130に対して略直交方向に移動する、いわゆる、ゲート弁、リフト弁、ニードル弁などであってもよい。
上記実施形態の流体制御弁体10では、弁体110が(通常時)閉方向で弁座111に着座するノーマルクローズ型のものであったが、逆に、弁体110が(通常時)開方向で弁座111から離間するノーマルオープン型のものであってもよい。このとき、弁体110にダイヤフラムではなく、リフト弁やニードル弁などを採用する場合には、弁棒20は、弁体110の閉方向である上死点側に駆動流体CAにより駆動され、弾性部材40により弁体110の開方向に付勢されるとよい。つまり、アクチュエータ200としての構造は実施形態のままで、弁部100における弁体110と弁座111との関係を逆にして、弁棒20が上死点側に駆動されるときに、弁体110を弁座111に着座させるとよい。
また、弁体110にダイヤフラムを採用する場合は、アクチュエータ100の構造を逆にして、弁体110が(通常時)開方向で弁座111から離間するように、弾性部材40により弁棒20が付勢され、駆動流体CAにより弁棒20が、弁体110の閉方向に駆動されるように構成するとよい。これらの形態であっても、流体制御弁10(弁体110)の開閉状態を検知することができる。
上記実施形態において、駆動流体CAは、圧縮空気でなく、液体であってもよい。
上記実施形態において、制御流体Gは、ガス(気体)でなく、液体、粉体、蒸気(エアロゾル)などであってもよい。
上記実施形態において、圧電センサ50の電圧信号は、制御装置320のみに伝達されたが、コンデンサを有する蓄電回路を設けて、電力エネルギーを蓄積し、他の機器やセンサなどの駆動電力として用いてもよい。
10 流体制御弁
20 弁棒、21 先端部、22 後端部、23 弁体押さえ、
30 ピストン、31 第1ピストン、32 第2ピストン、33 カウンタプレート
40 コイルスプリング(弾性部材)
50 圧電センサ、51 信号線
100 弁部
110 ダイヤフラム(弁体)、111 弁座
120 ボディ、121 第1ボディ、122 第2ボディ、123 上部ボディ
130 通路、131 流入通路、132 流出通路
200 アクチュエータ、201 袋ナット
210 ケーシング、211 上部ケーシング、212 下部ケーシング、
220 ボンネット、221 後端部、222 弁体ホルダ
230 キャップ
300 弁監視装置
310 集積化ガスシステム
320 制御装置

Claims (7)

  1. 弁体を開方向又は閉方向に移動させる弁棒と、
    前記弁棒に固定され、駆動流体により前記弁棒を前記弁体の開方向又は閉方向の一方に駆動するピストンと、
    前記ピストンによる前記弁棒の駆動方向とは反対の方向に前記弁棒を付勢する弾性部材と、を備える流体制御弁用のアクチュエータであって、
    前記弁棒は、前記弁体の開方向又は閉方向において、前記駆動流体の圧力による外力の大きさに応じた信号を出力する圧電センサに当接する、
    ことを特徴とするアクチュエータ。
  2. 前記弁棒は、前記弁体の開方向又は閉方向の上死点で、圧電センサに当接する、
    ことを特徴とする請求項1に記載のアクチュエータ。
  3. 請求項1又は2に記載のアクチュエータと、
    制御流体用の通路を有するボディと、
    前記制御流体用の通路を開閉する弁体と、を備える、
    ことを特徴とする流体制御弁。
  4. 請求項3に記載の流体制御弁と、
    前記駆動流体の供給又は停止を制御する制御装置と、を備え、
    前記制御装置は、前記圧電センサからの前記信号が入力される、
    ことを特徴とする弁監視装置。
  5. 前記制御装置は、前記制御流体又は前記駆動流体の少なくとも一方の圧力変動による前記信号の変動を検出可能である、
    ことを特徴とする請求項4に記載の弁監視装置。
  6. 前記制御装置は、前記信号に基づいて、前記弁棒の衝突速度を演算する、
    ことを特徴とする請求項4又は5に記載の弁監視装置。
  7. 前記流体制御弁は、複数個備えられる、
    ことを特徴とする請求項4から6までのいずれか1項に記載の弁監視装置。
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