JP2020003390A - Pressure-sensitive sensor manufacturing method and pressure-sensitive sensor - Google Patents

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Abstract

To provide a pressure-sensitive sensor with which the density of pressure detection points is heightened and a resolution is improved while suppressing the dispersion of sensitivity at a plurality of detection points from increasing.SOLUTION: A coating of ink that includes second conductive particles whose electrical conductivity is lower than first conductive particles is applied to the entire surface of a first region by screen printing and the ink is dried thereafter, and the second conductive particles electrically bound to each other by a polymer binder form a first pressure-sensitive layer that is in contact with the first conductive particles of a first electrode. First pattering is performed by which the first pressure-sensitive layer in a plurality of first insulating regions between mutually adjacent first electrodes among a plurality of first electrodes is cut off along a first direction using a pulse oscillation laser in wavelength of 2 μm or less to separate the first pressure-sensitive layer into a plurality of insulated first pressure-sensitive zones, and each of the plurality of first electrodes extended in the first direction is arranged adjoining one of the plurality of pressure-sensitive zones that corresponds.SELECTED DRAWING: Figure 7

Description

技術分野は、感圧センサの製造方法、特に複数の検出箇所を持つ抵抗膜式の感圧センサの製造方法及び、その製造方法により製造される感圧センサに関する。   The technical field relates to a method of manufacturing a pressure-sensitive sensor, and more particularly to a method of manufacturing a pressure-sensitive sensor of a resistive film type having a plurality of detection points, and a pressure-sensitive sensor manufactured by the manufacturing method.

従来から知られている感圧センサの中には、特許文献1(特開2011−133421号公報)に記載されているように、2つの電極に掛かる圧力の大きさと抵抗値の大きさとの関係を用いて、2つの電極に掛かる圧力の大きさを検出する圧力センサ(または感圧センサともいう)がある。2つの電極は、スクリーン印刷などを使って、銀ペーストなどの導電性ペーストが2枚のプラスチックフィルムにそれぞれ塗布されることによって形成される。また、2つの電極の相互に向かい合っている表面には、圧力の大きさを抵抗値の大きさに変換するために感圧層がそれぞれ形成されている。これら感圧層は、例えばカーボンペーストが電極表面に、スクリーン印刷などを使って塗布されることによって形成される。
このような感圧センサは、2つの電極間に圧力が掛かっていない状態で、互いの電極表面に設けられている感圧層が接触しないように、スペーサを備えている。
As described in Patent Document 1 (Japanese Patent Application Laid-Open No. 2011-133421), among the conventionally known pressure-sensitive sensors, a relationship between a magnitude of a pressure applied to two electrodes and a magnitude of a resistance value is described. There is a pressure sensor (or also referred to as a pressure-sensitive sensor) that detects the magnitude of the pressure applied to two electrodes by using. The two electrodes are formed by applying a conductive paste such as a silver paste to the two plastic films using screen printing or the like. In addition, pressure-sensitive layers are formed on surfaces of the two electrodes facing each other in order to convert the magnitude of pressure into the magnitude of resistance. These pressure-sensitive layers are formed, for example, by applying a carbon paste to the electrode surface using screen printing or the like.
Such a pressure-sensitive sensor is provided with a spacer so that the pressure-sensitive layers provided on the surfaces of the two electrodes do not come into contact with each other when no pressure is applied between the two electrodes.

特開2011−133421号公報JP 2011-133421 A

特許文献1に記載されている感圧インク部材が配置された複数の検出箇所をマトリックス状に配置するには、例えば、XY平面に平行に配置した2枚のプラスチックフィルムの一方にX軸に平行な複数の電極を形成し、他方にY軸に平行な複数の電極を形成する方法が考えられる。このように、マトリックス状に複数の検出箇所を配置すると、複数の検出箇所が広範囲に分布するため、スペーサを広範囲に配置することが考えられる。
このようなマトリックス状に検出箇所を配置する感圧センサにおいては、電極間隔を狭くして単位面積当たりに分布する検出箇所を増やそうとしても、スペーサの影響で検出箇所の感度にバラツキが生じたり、スペーサを設ける場所を確保するために検出箇所の密度を増やし難くなったりする。
In order to arrange a plurality of detection points in which the pressure-sensitive ink members described in Patent Document 1 are arranged in a matrix, for example, one of two plastic films arranged in parallel to the XY plane is parallel to the X axis. It is conceivable to form a plurality of electrodes in parallel with each other and to form a plurality of electrodes parallel to the Y axis on the other. As described above, when a plurality of detection locations are arranged in a matrix, the plurality of detection locations are distributed over a wide range.
In such a pressure-sensitive sensor in which the detection points are arranged in a matrix, even if the distance between the electrodes is reduced to increase the number of detection points distributed per unit area, the sensitivity of the detection points may vary due to the influence of the spacer. In addition, it is difficult to increase the density of the detection points in order to secure a place where the spacer is provided.

複数の検出箇所を持つ圧力センサには、複数の検出箇所における感度のバラツキが大きくなるのを抑制しつつ、圧力の検出箇所の密度を高めて解像度を向上させるという課題があり、そのような圧力センサの製造を容易にするという課題がある。   A pressure sensor having a plurality of detection points has a problem of improving the resolution by increasing the density of the pressure detection points while suppressing a variation in sensitivity at the plurality of detection points. There is a problem of facilitating the manufacture of the sensor.

以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。
一見地に係る感圧センサの製造方法は、センシングが行われる第1領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第1絶縁基板を準備し、第1領域に導電性ペーストをスクリーン印刷により塗布した後に乾燥して互いに電気的に結合された第1導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1電極を形成し、複数の第1電極の形成後に、第1導電性粒子よりも導電率が低い第2導電性粒子を含むインキをスクリーン印刷により第1領域の全面に塗布した後に乾燥して、高分子バインダにより互いに電気的に結合された第2導電性粒子が第1導電性粒子に接している第1感圧層を形成し、複数の第1電極の中の互いに隣接する第1電極の間の複数の第1絶縁領域にある第1感圧層を、波長2μm以下のパルス発振レーザを使って第1方向に沿って切断して第1感圧層を複数の第1感圧帯に分離して絶縁する第1のパターニングを行い、第1方向に延設されている複数の第1電極の各々を、複数の第1感圧帯のうちの対応するものに接して配置させ、第1方向に交差する第2方向に延設され且つ互いに電気的に結合された第3導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2電極と、第2方向に沿って複数の第2電極に接して延設され且つ第3導電性粒子よりも導電率が低い第4導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2感圧帯とが、センシングが行われる第2領域に形成されている、厚さ200μm以下の樹脂製の第2絶縁基板を準備し、第1領域と第2領域を重ね且つ複数の第1感圧帯と複数の第2感圧帯とを互いに接触可能な位置に対向させて配置し、第1導電性粒子及び第3導電性粒子よりも導電率が低い第2導電性粒子及び第4導電性粒子を用いて複数の第1感圧帯と複数の第2感圧帯の接触箇所の接触抵抗の抵抗値が接触箇所に加わる圧力によって変化するように、第1絶縁基板と第2絶縁基板とを組み合わせる。
このように構成された感圧センサの製造方法によれば、インキが第1領域の全面に塗布されることで、複数の第1感圧帯の縁部でインキが盛り上がる、ひいては第1感圧層が盛り上がるサドル現象を防止することができる。その結果、第1感圧帯が平坦化され、圧力検出の感度のバラツキを低減させることができる。
Hereinafter, a plurality of modes will be described as means for solving the problems. These embodiments can be arbitrarily combined as needed.
A manufacturing method of a pressure-sensitive sensor according to a first aspect includes preparing a first insulating substrate made of a resin including a first region where sensing is performed and having a thickness of 200 μm or less, and applying a conductive paste to the first region by screen printing. Forming a plurality of first electrodes containing first conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder, and forming a plurality of first electrodes. After forming the plurality of first electrodes, the plurality of first electrodes are more conductive than the first conductive particles. An ink containing the second conductive particles having a low ratio is applied to the entire surface of the first region by screen printing and then dried, and the second conductive particles electrically connected to each other by the polymer binder become the first conductive particles. Forming a first pressure-sensitive layer in contact with the first pressure-sensitive layer in a plurality of first insulating regions between adjacent first electrodes among the plurality of first electrodes; Cutting along the first direction using an oscillation laser The first pressure-sensitive layer is separated into a plurality of first pressure-sensitive zones, and a first patterning is performed to insulate the first pressure-sensitive layer. Each of the plurality of first electrodes extending in the first direction is connected to a plurality of first electrodes. A plurality of third conductive particles which are arranged in contact with a corresponding one of the one pressure-sensitive zones, extend in a second direction intersecting the first direction, and are electrically coupled to each other; And a plurality of fourth electrodes extending in contact with the plurality of second electrodes along the second direction and including fourth conductive particles having a lower conductivity than the third conductive particles in the polymer binder. A second insulating substrate made of a resin having a thickness of 200 μm or less and having two pressure-sensitive zones formed in a second region where sensing is performed is prepared, the first region and the second region are overlapped, and a plurality of first regions are provided. A pressure-sensitive zone and a plurality of second pressure-sensitive zones are arranged facing each other at positions where they can come into contact with each other, and the first conductive particles and the third The contact value of the contact resistance between the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones is determined by using the second conductive particles and the fourth conductive particles having lower conductivity than the conductive particles. The first insulating substrate and the second insulating substrate are combined so as to change according to the pressure applied to the first and second substrates.
According to the manufacturing method of the pressure-sensitive sensor configured as described above, the ink is applied to the entire surface of the first region, so that the ink swells at the edges of the plurality of first pressure-sensitive zones. It is possible to prevent the saddle phenomenon in which the layers rise. As a result, the first pressure-sensitive band is flattened, and variation in sensitivity of pressure detection can be reduced.

また、第1領域の全面に形成された第1感圧層をパターニングする第1のパターニングが波長2μm以下のパルス発振レーザによって行われるため、レーザの出力を調整して切断する幅を小さくできるとともにレーザを照射する位置を精度よく設定できる。その結果、互いに隣接する第1感圧帯の間隔及び互いに隣接する第1電極の間隔を狭められるので、第2方向に沿って配置される複数の検出箇所の設置密度を大きくすることができる。
感圧センサの製造方法は、第1感圧層の形成後、第1感圧層の切断の前または切断の後に、第1絶縁領域にある第1感圧層の表面に複数のスペーサを形成する、ように構成されてもよい。
このように構成された感圧センサの製造方法によれば、第1感圧層の表面にスペーサが形成されるので、第1絶縁基板の表面に直接スペーサが形成される場合に比べて、スペーサの高さを小さくでき、スペーサの高さのバラツキを小さくして感度のバラツキを抑制することができる。
In addition, since the first patterning for patterning the first pressure-sensitive layer formed on the entire surface of the first region is performed by a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less, the cutting width can be reduced by adjusting the laser output. The position for irradiating the laser can be set accurately. As a result, the interval between the first pressure-sensitive zones adjacent to each other and the interval between the first electrodes adjacent to each other can be reduced, so that the installation density of a plurality of detection points arranged along the second direction can be increased.
The method of manufacturing the pressure-sensitive sensor includes forming a plurality of spacers on the surface of the first pressure-sensitive layer in the first insulating region after forming the first pressure-sensitive layer, before or after cutting the first pressure-sensitive layer. May be configured as follows.
According to the manufacturing method of the pressure-sensitive sensor configured as described above, since the spacer is formed on the surface of the first pressure-sensitive layer, the spacer is formed as compared with the case where the spacer is formed directly on the surface of the first insulating substrate. And the variation in height of the spacers can be reduced, and the variation in sensitivity can be suppressed.

感圧センサの製造方法は、複数の第2電極と複数の第2感圧帯とが第2領域に形成されている第2絶縁基板の準備は、厚さ200μm以下の樹脂製の第2絶縁基板を準備し、第2領域に第3導電性粒子を含む導電性ペーストをスクリーン印刷により塗布した後に乾燥して第2導電層を形成し、第2導電層の形成後に、第4導電性粒子を含むインキを第2領域の全面に塗布した後に乾燥して、第2導電層に接している第2感圧層を形成し、波長2μm以下のパルス発振レーザを使って第2方向に沿って第2感圧層を切断して第2感圧層を複数の第2感圧帯に分離して絶縁する第2のパターニングを行い、第2方向に延設されている複数の第2電極の各々を、複数の第2感圧帯のうちの対応するものに接して配置させる、ように構成されてもよい。
このように構成された感圧センサの製造方法によれば、インキが第2領域の全面に塗布されることで、複数の第2感圧帯の縁部でインキが盛り上がる、ひいては第2感圧層が盛り上がるサドル現象を防止することができる。その結果、第2感圧帯の中の第2電極に重なっている部分が平坦化され、圧力検出の感度のバラツキを低減させることができる。
また、第2領域の全面に形成された第2感圧層をパターニングする第2のパターニングが波長2μm以下のパルス発振レーザによって行われるため、レーザの出力を調整して切断する幅を小さくできるとともにレーザを照射する位置を精度よく設定できる。その結果、互いに隣接する第2感圧帯の間隔及び互いに隣接する第2電極の間隔を狭くできるので、第1方向に沿って配置される検出箇所の配置密度を大きくすることができる。
In the method of manufacturing a pressure-sensitive sensor, the preparation of the second insulating substrate in which the plurality of second electrodes and the plurality of second pressure-sensitive zones are formed in the second region is performed using a resin-made second insulating layer having a thickness of 200 μm or less. A substrate is prepared, a conductive paste containing third conductive particles is applied to the second region by screen printing, and then dried to form a second conductive layer. After the formation of the second conductive layer, the fourth conductive particles are formed. Is applied to the entire surface of the second region, and then dried to form a second pressure-sensitive layer in contact with the second conductive layer. The second pressure-sensitive layer is formed along the second direction using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less. A second patterning is performed by cutting the second pressure-sensitive layer to separate the second pressure-sensitive layer into a plurality of second pressure-sensitive zones and to insulate the second pressure-sensitive layer, and to form a plurality of second electrodes extending in the second direction. Each may be configured to be arranged in contact with a corresponding one of the plurality of second pressure-sensitive zones.
According to the method of manufacturing the pressure-sensitive sensor configured as described above, the ink is applied to the entire surface of the second region, so that the ink swells at the edges of the plurality of second pressure-sensitive zones. It is possible to prevent the saddle phenomenon in which the layers rise. As a result, the portion of the second pressure sensitive zone overlapping the second electrode is flattened, and the variation in sensitivity of pressure detection can be reduced.
Further, since the second patterning for patterning the second pressure-sensitive layer formed on the entire surface of the second region is performed by a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less, the width of cutting can be reduced by adjusting the output of the laser. The position for irradiating the laser can be set accurately. As a result, the interval between the second pressure-sensitive zones adjacent to each other and the interval between the second electrodes adjacent to each other can be reduced, so that the arrangement density of the detection points arranged along the first direction can be increased.

感圧センサの製造方法は、第1のパターニングのときに、第1感圧層を分離して絶縁することにより複数のスペーサを支持する複数のスペーサ支持部を、複数の第1感圧帯から絶縁して第1絶縁領域に形成し、第2のパターニングのときに、第2感圧層を分離して絶縁することにより複数のスペーサに当接する複数の当接部を、複数の第2感圧帯から絶縁して、複数の第2電極の中の互いに隣接する第2電極の間の複数の第2絶縁領域に形成する、ように構成されてもよい。
このように構成された感圧センサの製造方法によれば、第2感圧層の表面である当接部の表面にスペーサが当接するので、第2絶縁基板の表面にスペーサが直接当接する場合に比べて、スペーサの高さを小さくでき、スペーサの高さのバラツキを小さくして感度のバラツキを抑制することができる。
感圧センサの製造方法は、複数のスペーサを、インキを用いて形成するように構成してもよい。
このように構成された感圧センサの製造方法によれば、複数のスペーサの形成に第1感圧層を形成するために用いるインキを用いることができるので、材料が共通化されてコストが削減される。
In the method of manufacturing the pressure-sensitive sensor, at the time of the first patterning, the plurality of spacer supporting portions that support the plurality of spacers by separating and insulating the first pressure-sensitive layer from the plurality of first pressure-sensitive zones. A plurality of abutting portions which are insulated and formed in the first insulating region and which abut on the plurality of spacers by separating and insulating the second pressure-sensitive layer during the second patterning are formed on the plurality of second sensing portions. It may be configured to be insulated from the band and formed in a plurality of second insulating regions between adjacent second electrodes among the plurality of second electrodes.
According to the manufacturing method of the pressure-sensitive sensor configured as described above, since the spacer abuts on the surface of the abutting portion, which is the surface of the second pressure-sensitive layer, the spacer directly abuts on the surface of the second insulating substrate. In comparison with the above, the height of the spacer can be reduced, and the variation in the height of the spacer can be reduced to suppress the variation in sensitivity.
The method of manufacturing the pressure-sensitive sensor may be configured such that the plurality of spacers are formed using ink.
According to the manufacturing method of the pressure-sensitive sensor configured as described above, the ink used for forming the first pressure-sensitive layer can be used for forming the plurality of spacers, so that the material is shared and the cost is reduced. Is done.

感圧センサの製造方法は、第1領域及び第2領域の周囲にスペーサとして兼用される接着枠が第1方向に沿って延びていて且つ互いに対向する第1の縁と第2の縁を持ち、第1の縁と第2の縁の間隔が50mm以下に設定され、接着枠を第1絶縁基板及び第2絶縁基板のうちの少なくとも一方にスクリーン印刷して、第1絶縁基板と第2絶縁基板とを組み合わせるときに接着枠によって第1絶縁基板と第2絶縁基板とを貼り合せる、ように構成されてもよい。
このように構成された感圧センサの製造方法によれば、接着枠がスペーサとして兼用され、互いに隣接する第1電極の間及び互いに隣接する第2電極の間にスペーサが配置されないことから、複数の第1電極及び複数の第2電極を配置する間隔を狭めることができ、複数の検出箇所の設置密度を大きくすることができる。
感圧センサの製造方法は、スクリーン印刷によって第1領域の全面に第1導電層を形成し、波長2μm以下のパルス発振レーザを使って第1方向に沿って第1導電層を切断して第1導電層を複数の第1電極に分離して絶縁する第3のパターニングを行うことにより、複数の第1電極を形成する、ように構成されてもよい。
このように構成された感圧センサの製造方法によれば、第1領域の全面に形成された第1導電層をパターニングする第3のパターニングが波長2μm以下のパルス発振レーザによって行われるため、レーザの出力を調整して切断する幅を小さくできるとともにレーザを照射する位置を精度よく設定できる。その結果、互いに隣接する第1電極の幅を狭めて第1電極を細く形成できるので、第2方向に沿って配置される複数の検出箇所の設置密度を大きくすることができる。
In the method of manufacturing a pressure-sensitive sensor, an adhesive frame also serving as a spacer extends around the first region and the second region along the first direction and has a first edge and a second edge facing each other. The distance between the first and second edges is set to 50 mm or less, and an adhesive frame is screen-printed on at least one of the first and second insulating substrates, so that the first and second insulating substrates are separated from each other. When combining with a board | substrate, you may comprise so that a 1st insulating substrate and a 2nd insulating substrate may be bonded together with an adhesive frame.
According to the manufacturing method of the pressure-sensitive sensor configured as described above, the bonding frame is also used as the spacer, and the spacer is not arranged between the first electrodes adjacent to each other and between the second electrodes adjacent to each other. The interval at which the first electrode and the plurality of second electrodes are arranged can be reduced, and the installation density of the plurality of detection locations can be increased.
The method of manufacturing the pressure-sensitive sensor is such that a first conductive layer is formed on the entire first region by screen printing, and the first conductive layer is cut along a first direction using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less. A third patterning that separates one conductive layer into a plurality of first electrodes and insulates the plurality of first electrodes may be performed to form a plurality of first electrodes.
According to the manufacturing method of the pressure-sensitive sensor thus configured, the third patterning for patterning the first conductive layer formed on the entire surface of the first region is performed by the pulse oscillation laser having a wavelength of 2 μm or less. By adjusting the output of the laser beam, the width of cutting can be reduced, and the position to be irradiated with the laser can be set accurately. As a result, the width of the first electrodes adjacent to each other can be reduced and the first electrodes can be formed thin, so that the installation density of a plurality of detection points arranged along the second direction can be increased.

一見地に係る感圧センサは、センシングが行われる第1領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第1絶縁基板と、センシングが行われる第2領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第2絶縁基板と、第1方向に沿って第1領域に延設され、互いに電気的に結合された第1導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1電極と、第1方向に沿って延設されて複数の第1電極の中の対応するものにそれぞれ接し、互いに電気的に結合された第2導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1感圧帯と、第1方向に交差する第2方向に沿って第2領域に延設され、互いに電気的に結合された第3導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2電極と、第2方向に沿って延設されて複数の第2電極の中の対応するものにそれぞれ接し、互いに電気的に結合された第4導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2感圧帯と、複数の第1電極の中の互いに隣接する第1電極の間の少なくとも一つの第1絶縁領域に配置され、複数の第1感圧帯と同じ構成を持つ第1感圧層を含む少なくとも一つのスペーサ支持部と、スペーサ支持部の表面に配置されている複数のスペーサと、を備え、第1領域と第2領域を重ね且つ複数の第1感圧帯と複数の第2感圧帯とを互いに接触可能な位置に対向させて配置し、第1絶縁基板と第2絶縁基板の間に圧力が加わらない状態では複数のスペーサによって複数の第1感圧帯と複数の第2感圧帯との間の隙間が維持され、第1導電性粒子及び第3導電性粒子よりも導電率が低い第2導電性粒子及び第4導電性粒子を用いて複数の第1感圧帯と複数の第2感圧帯の接触箇所の接触抵抗の抵抗値が接触箇所に加わる圧力によって変化するように、第1絶縁基板と第2絶縁基板とを組み合わせている、ものである。
このように構成された感圧センサによれば、複数の第1感圧帯と同じ構成を持つ第1感圧層を含むスペーサ支持部によってスペーサが支持されるので、第1絶縁基板の表面に直接スペーサが形成される場合に比べて、スペーサの高さを小さくでき、スペーサの高さのバラツキを小さくして感度のバラツキを抑制することができる。
A pressure-sensitive sensor according to a first aspect includes a first insulating substrate made of a resin having a thickness of 200 μm or less and a first insulating substrate made of a resin having a thickness of 200 μm or less, and a resin made of a resin having a thickness of 200 μm or less containing a second region where the sensing is performed. A second insulating substrate, a plurality of first electrodes extending in the first region along the first direction and including first conductive particles electrically coupled to each other in the polymer binder; A plurality of first pressure-sensitive zones extending along and in contact with corresponding ones of the plurality of first electrodes, respectively, and including, in the polymer binder, second conductive particles electrically coupled to each other; A plurality of second electrodes extending in a second region along a second direction intersecting the first direction and including third conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder; Extending along and contacting corresponding ones of the plurality of second electrodes, respectively. A plurality of second pressure-sensitive zones including electrically conductive fourth conductive particles in a polymer binder and at least one first pressure-sensitive zone between adjacent first electrodes among the plurality of first electrodes. At least one spacer support including a first pressure-sensitive layer disposed in one insulating region and having the same configuration as the plurality of first pressure-sensitive zones, and a plurality of spacers disposed on a surface of the spacer support. A first insulating substrate and a second insulating substrate, wherein the first region and the second region overlap each other, and the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones are arranged so as to face each other at positions where they can come into contact with each other; In a state in which no pressure is applied between the first and second pressure-sensitive zones, the gap between the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones is maintained by the plurality of spacers. A plurality of first pressure-sensitive zones and a plurality of first pressure-sensitive zones using second conductive particles and fourth conductive particles having low electrical conductivity; As the resistance value of the contact resistance of the contact portion of the second pressure sensing cuff is changed by pressure applied to the contact portion, and combining the first insulating substrate and the second insulating substrate is intended.
According to the pressure sensor configured as described above, since the spacer is supported by the spacer supporting portion including the first pressure-sensitive layer having the same configuration as the plurality of first pressure-sensitive zones, the spacer is supported on the surface of the first insulating substrate. Compared to the case where the spacer is directly formed, the height of the spacer can be reduced, and the variation in the height of the spacer can be reduced to suppress the variation in sensitivity.

他の見地に係る感圧センサは、センシングが行われる第1領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第1絶縁基板と、センシングが行われる第2領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第2絶縁基板と、第1方向に沿って第1領域に延設され、互いに電気的に結合された第1導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1電極と、第1方向に沿って延設されて複数の第1電極の中の対応するものにそれぞれ接し、互いに電気的に結合された第2導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1感圧帯と、第1方向に交差する第2方向に沿って第2領域に延設され、互いに電気的に結合された第3導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2電極と、第2方向に沿って延設されて複数の第2電極の中の対応するものにそれぞれ接し、互いに電気的に結合された第4導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2感圧帯と、第1絶縁基板と第2絶縁基板とを接着しており、間隔が50mm以下の互いに対向する第1の縁及び第2の縁を持ち且つ第1領域及び第2領域の周囲にスペーサとして兼用されている接着枠と、を備え、第1領域と第2領域を重ね且つ複数の第1感圧帯と複数の第2感圧帯とを互いに接触可能な位置に対向させて配置し、第1絶縁基板と第2絶縁基板の間に圧力が加わらない状態では接着枠によって複数の第1感圧帯と複数の第2感圧帯との間の隙間が維持され、第1導電性粒子及び第3導電性粒子よりも導電率が低い第2導電性粒子及び第4導電性粒子を用いて複数の第1感圧帯と複数の第2感圧帯の接触箇所の接触抵抗の抵抗値が接触箇所に加わる圧力によって変化するように、第1絶縁基板と第2絶縁基板とを組み合わせている、ものである。
このように構成された感圧センサの製造方法によれば、接着枠がスペーサとして兼用され、互いに隣接する第1電極の間及び互いに隣接する第2電極の間にスペーサが配置されないことから、複数の第1電極及び複数の第2電極を配置する間隔を狭めることができ、複数の検出箇所の設置密度を大きくすることができる。
感圧センサは、第1絶縁基板は、第1領域の周囲に第3領域を含み、第3領域に配置されていて複数の第1電極に接続され且つ複数の第1電極の電極幅の2倍以上の配線幅を持つ複数の第1引出配線を有する、ように構成されてもよい。
このように構成された感圧センサによれば、第1引出配線の配線幅が第1電極の電極幅の2倍以上であるので、第1電極を細くして複数の検出箇所の設置密度を高くしつつ第1引出配線での抵抗値を低くして電圧降下を減らすことができ、検出精度を向上させ易くなる。
A pressure-sensitive sensor according to another aspect includes a first insulating substrate made of a resin having a thickness of 200 μm or less and a first insulating substrate made of a resin having a thickness of 200 μm or less. A second insulating substrate, a plurality of first electrodes extending in the first direction along the first direction and including first conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder; A plurality of first pressure-sensitive zones extending in a direction, contacting with corresponding ones of the plurality of first electrodes, and including, in the polymer binder, second conductive particles electrically coupled to each other; A plurality of second electrodes extending in a second region along a second direction intersecting the first direction, the second electrodes including third conductive particles in the polymer binder electrically coupled to each other; Extending along and in contact with corresponding ones of the plurality of second electrodes, respectively. A plurality of second pressure-sensitive zones each including a fourth conductive particle electrically connected to each other in a polymer binder, and a first insulating substrate and a second insulating substrate are adhered to each other, and a distance between each other is 50 mm or less. An adhesive frame having opposing first and second edges and also serving as a spacer around the first and second regions, wherein the first region and the second region are overlapped and a plurality of The first pressure-sensitive zone and the plurality of second pressure-sensitive zones are arranged so as to face each other at positions where they can come into contact with each other, and when no pressure is applied between the first insulating substrate and the second insulating substrate, the plurality of second pressure-sensitive zones are bonded by an adhesive frame. A gap between the first pressure sensitive zone and the plurality of second pressure sensitive zones is maintained, and the second conductive particles and the fourth conductive particles having a lower conductivity than the first conductive particles and the third conductive particles. The resistance value of the contact resistance at the contact point between the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones is applied to the contact point. So as to change the pressure, and combining the first insulating substrate and the second insulating substrate is intended.
According to the manufacturing method of the pressure-sensitive sensor configured as described above, the bonding frame is also used as the spacer, and the spacer is not arranged between the first electrodes adjacent to each other and between the second electrodes adjacent to each other. The interval at which the first electrode and the plurality of second electrodes are arranged can be reduced, and the installation density of the plurality of detection locations can be increased.
In the pressure-sensitive sensor, the first insulating substrate includes a third region around the first region, the first insulating substrate is arranged in the third region, is connected to the plurality of first electrodes, and has a width of 2 times the electrode width of the plurality of first electrodes. It may be configured to have a plurality of first extraction wirings having a wiring width twice or more.
According to the pressure sensor configured as described above, the wiring width of the first extraction wiring is twice or more the electrode width of the first electrode. It is possible to reduce the voltage drop by lowering the resistance value of the first lead wiring while increasing the resistance, and it is easy to improve the detection accuracy.

本開示の感圧センサの製造方法によれば、感圧センサの複数の検出箇所における感度のバラツキが大きくなるのを抑制しつつ、圧力の検出箇所の密度を高めて解像度を向上させることができる。本開示の感圧センサによれば、複数の検出箇所における感度のバラツキを小さくしつつ解像度を向上させることができる。   According to the method of manufacturing a pressure-sensitive sensor according to the present disclosure, it is possible to increase the density of pressure-detecting points and improve resolution while suppressing a variation in sensitivity at a plurality of detecting points of the pressure-sensitive sensor. . According to the pressure-sensitive sensor of the present disclosure, it is possible to improve resolution while reducing variation in sensitivity at a plurality of detection points.

感圧センサが用いられている圧力検出装置の構成の一例を示す模式図。FIG. 2 is a schematic diagram illustrating an example of a configuration of a pressure detection device using a pressure-sensitive sensor. 圧力検出装置の動作を説明するための圧力検出装置の模式図。FIG. 4 is a schematic diagram of the pressure detection device for explaining the operation of the pressure detection device. 圧力検出装置の分解斜視図。FIG. 2 is an exploded perspective view of the pressure detection device. 感圧センサの検出箇所の構成を説明するための模式図。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a configuration of a detection portion of a pressure-sensitive sensor. 感圧センサの検出箇所を拡大した模式的な断面図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view in which a detection position of a pressure-sensitive sensor is enlarged. ドットスペーサの周辺を拡大した模式的な断面図。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view enlarging the periphery of a dot spacer. 感圧センサの製造フローの一例を示すフローチャート。5 is a flowchart illustrating an example of a manufacturing flow of a pressure-sensitive sensor. レーザによる第1のパターニングを説明するための第1絶縁基板の模式的な平面図。FIG. 4 is a schematic plan view of a first insulating substrate for describing first patterning by a laser. レーザによる第2のパターニングを説明するための第2絶縁基板の模式的な平面図。FIG. 4 is a schematic plan view of a second insulating substrate for explaining second patterning by laser. 貼合された第1絶縁基板と第2絶縁基板を説明するための模式的な平面図。The typical top view for explaining the 1st insulating substrate and the 2nd insulating substrate which were stuck. サドル現象が生じている感圧帯の模式的な断面図。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a pressure-sensitive band in which a saddle phenomenon has occurred. 種々の製造条件におけるドットスペーサの径とドットスペーサの高さの関係を示すグラフ。6 is a graph showing the relationship between the diameter of the dot spacer and the height of the dot spacer under various manufacturing conditions. 変形例1Aに係る感圧センサの構成の一例を示す模式的な平面図。FIG. 9 is a schematic plan view illustrating an example of a configuration of a pressure-sensitive sensor according to Modification Example 1A. 変形例1Bに係る感圧センサの構成の一例を示す模式的な平面図。FIG. 13 is a schematic plan view illustrating an example of a configuration of a pressure-sensitive sensor according to Modification Example 1B. 変形例1Cに係る感圧センサを説明するための第1絶縁基板の模式的な平面図。FIG. 13 is a schematic plan view of a first insulating substrate for describing a pressure-sensitive sensor according to Modification Example 1C. 変形例1Cに係る感圧センサを説明するための第2絶縁基板の模式的な平面図。FIG. 9 is a schematic plan view of a second insulating substrate for describing a pressure-sensitive sensor according to Modification Example 1C. 変形例1Eに係る感圧センサの製造フローの一例を示すフローチャート。13 is a flowchart showing an example of the flow of manufacturing a pressure-sensitive sensor according to Modification Example 1E. レーザによる第3のパターニングを説明するための第1導電層の平面図。FIG. 4 is a plan view of a first conductive layer for describing third patterning by laser. レーザによる第1のパターニングを説明するための第1絶縁基板の模式的な平面図。FIG. 4 is a schematic plan view of a first insulating substrate for describing first patterning by a laser. レーザによる第1のパターニングを説明するための第1絶縁基板の模式的な断面図。FIG. 4 is a schematic cross-sectional view of a first insulating substrate for describing first patterning by a laser. 第2実施形態におけるレーザによる第1のパターニングを説明するための第1絶縁基板の模式的な平面図。FIG. 9 is a schematic plan view of a first insulating substrate for explaining first patterning by a laser according to a second embodiment. 第2実施形態におけるレーザによる第2のパターニングを説明するための第1絶縁基板の模式的な平面図。FIG. 9 is a schematic plan view of a first insulating substrate for describing second patterning by a laser according to the second embodiment. 貼合された第1絶縁基板と第2絶縁基板を説明するための模式的な平面図。The typical top view for explaining the 1st insulating substrate and the 2nd insulating substrate which were stuck. 感圧センサの検出箇所を拡大した模式的な断面図。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view in which a detection position of a pressure-sensitive sensor is enlarged. 第1電極または第2電極と第1引出配線または第2引出配線の接続部分を拡大した模式的な平面図。FIG. 4 is a schematic plan view in which a connection portion between a first electrode or a second electrode and a first extraction wiring or a second extraction wiring is enlarged.

〈第1実施形態〉
(1)圧力検出装置の概要
図1には、感圧センサ10を使った圧力検出装置1の構成の概要が示されている。圧力検出装置1は、感圧センサ10と、感圧センサ10に掛かる圧力を検出するための集積回路2(以下、ICという場合もある。)と、感圧センサ10とIC2とを電気的に接続するためのフレキシブルプリント基板3(以下、FPCという場合もある。)とを備えている。
圧力検出装置1は、例えば、測定装置または機器の入力装置として用いることができる。測定装置としては、人間の足裏に掛かる圧力の分布またはプレス機械のプレス圧力の分布などを測定する圧力分布測定装置がある。入力装置としては、例えば、音楽機器のキーボードなどの操作モジュールがある。人間の足裏に掛かる圧力の分布を測定する場合には、感圧センサ10の上に人間が立って、複数の検出箇所DSに掛かる圧力を測定することによって足裏に掛かる圧力の分布が測定される。検出箇所DSは、X軸方向(第1方向)に沿って延びる複数の第1電極FEと、Y軸方向(第2方向)に沿って延びる複数の第2電極SEとの交差部分に配置される。複数の第1電極FEのそれぞれを区別する場合には、第1電極X1,X2,X3,X4,X5のように異なる符号を付して示し、複数の第2電極SEのそれぞれを区別する場合には、第2電極Y1,Y2,Y3,Y4,Y5,Y6,Y7のように異なる符号を付して示す。ここでは、感圧センサ10に、5本の第1電極X1〜X5と7本の第2電極Y1〜Y7が含まれ、その結果検出箇所DSが35個ある場合について説明しているが、これは1例であって第1電極X1〜X5と第2電極Y1〜Y7からなる構成に限られるものではない。
<First embodiment>
(1) Outline of Pressure Detector FIG. 1 shows an outline of a configuration of a pressure detector 1 using a pressure-sensitive sensor 10. The pressure detecting device 1 electrically connects the pressure-sensitive sensor 10, an integrated circuit 2 (hereinafter, also referred to as an IC) for detecting a pressure applied to the pressure-sensitive sensor 10, and the pressure-sensitive sensor 10 and the IC2. A flexible printed circuit board 3 (hereinafter, also referred to as FPC) for connection.
The pressure detecting device 1 can be used, for example, as a measuring device or an input device of an apparatus. As a measuring device, there is a pressure distribution measuring device which measures a distribution of a pressure applied to a sole of a human foot or a distribution of a pressing pressure of a press machine. Examples of the input device include an operation module such as a keyboard of a music device. When measuring the distribution of the pressure applied to the sole of the human, the human stands on the pressure-sensitive sensor 10 and measures the pressure applied to the plurality of detection points DS to measure the distribution of the pressure applied to the sole of the foot. Is done. The detection location DS is disposed at an intersection of a plurality of first electrodes FE extending along the X-axis direction (first direction) and a plurality of second electrodes SE extending along the Y-axis direction (second direction). You. When distinguishing each of the plurality of first electrodes FE, different reference numerals are given like first electrodes X1, X2, X3, X4, and X5 to distinguish each of the plurality of second electrodes SE. Are denoted by different reference numerals like the second electrodes Y1, Y2, Y3, Y4, Y5, Y6, and Y7. Here, a case is described where the pressure-sensitive sensor 10 includes five first electrodes X1 to X5 and seven second electrodes Y1 to Y7, and as a result, there are 35 detection locations DS. Is an example, and is not limited to the configuration including the first electrodes X1 to X5 and the second electrodes Y1 to Y7.

IC2は、例えば、駆動回路4と抵抗値検出回路5とを備えて構成される。ここで簡単に、圧力の検出動作の一例について図2を用いて説明する。駆動回路4は、電源4aと、複数のスイッチ4bと、複数の基準抵抗4cとを備えて構成される。スイッチ4bは、例えばIC2の中のトランジスタで構成され、基準抵抗4cは、例えばIC2の中の半導体を用いて構成されてもよく、外付けのチップ抵抗を用いて構成されてもよい。
第1電極X4と第2電極Y2とが交差する検出箇所DSに圧力が掛かっている場合について説明する。スイッチ4bが順に閉じられて、電源4aから第1電極X1〜X5に電圧Vccが順次印加される。第1電極X1に電圧Vccが印加されても、第1電極X1と第2電極Y1〜Y7との間が絶縁状態のため、抵抗値検出回路5は、基準抵抗4cの一端の電圧が0Vであることを検出する。この場合、IC2は、第1電極X1と第2電極Y1〜Y7とが交差する検出箇所DSには圧力が掛かっていないことを検知することができる。電源4aから第1電極X2,X3,X5に電圧Vccが印加された場合も、第1電極X1に電圧Vccが印加された場合と同様にして、IC2は、第1電極X2、X3,X5と第2電極Y1〜Y7とが交差する検出箇所DSには圧力が掛かっていないことを検知することができる。
第1電極X4に接続されているスイッチ4bが閉じられて、電源4aから第1電極X4に電圧Vccが印加された場合、第1電極X4と第2電極Y1,Y3〜Y7との間が絶縁状態のため、抵抗値検出回路5は、第2電極Y1,Y3〜Y7に接続されている基準抵抗4cの一端の電圧が0Vであることを検出し、IC2は、第1電極X4と第2電極Y1,Y3〜Y7とが交差する検出箇所DSには圧力が掛かっていないことを検知することができる。そして、第1電極X4と第2電極Y2とが交差する検出箇所DSには圧力が掛かっていて、第1電極X4と第2電極Y2が導通しているので、第2電極Y2に接続された基準抵抗4cの一端には電圧が発生する。第2電極Y2に接続された基準抵抗4cの一端に電圧が発生することによって、IC2は、第1電極X4と第2電極Y2とが交差する検出箇所DSには圧力が掛かったことを検知することができる。
The IC 2 includes, for example, a drive circuit 4 and a resistance value detection circuit 5. Here, an example of the pressure detecting operation will be briefly described with reference to FIG. The drive circuit 4 includes a power supply 4a, a plurality of switches 4b, and a plurality of reference resistors 4c. The switch 4b is formed of, for example, a transistor in the IC2, and the reference resistor 4c is formed of, for example, a semiconductor in the IC2, or may be formed using an external chip resistor.
The case where pressure is applied to the detection location DS where the first electrode X4 and the second electrode Y2 intersect will be described. The switches 4b are sequentially closed, and the voltage Vcc is sequentially applied from the power supply 4a to the first electrodes X1 to X5. Even if the voltage Vcc is applied to the first electrode X1, since the first electrode X1 and the second electrodes Y1 to Y7 are in an insulated state, the resistance detection circuit 5 determines that the voltage at one end of the reference resistor 4c is 0V. Detect that there is. In this case, the IC 2 can detect that no pressure is applied to the detection point DS where the first electrode X1 and the second electrodes Y1 to Y7 intersect. When the voltage Vcc is applied to the first electrodes X2, X3 and X5 from the power supply 4a, the IC2 is connected to the first electrodes X2, X3 and X5 in the same manner as when the voltage Vcc is applied to the first electrode X1. It is possible to detect that no pressure is applied to the detection point DS where the second electrodes Y1 to Y7 intersect.
When the switch 4b connected to the first electrode X4 is closed and the voltage Vcc is applied from the power supply 4a to the first electrode X4, the first electrode X4 is insulated from the second electrodes Y1, Y3 to Y7. Because of the state, the resistance value detection circuit 5 detects that the voltage at one end of the reference resistance 4c connected to the second electrodes Y1 and Y3 to Y7 is 0 V, and the IC2 detects the voltage of the first electrode X4 and the second electrode Y4. It is possible to detect that no pressure is applied to the detection point DS where the electrodes Y1, Y3 to Y7 intersect. Then, pressure is applied to the detection point DS where the first electrode X4 and the second electrode Y2 intersect, and the first electrode X4 and the second electrode Y2 are electrically connected, so that they are connected to the second electrode Y2. A voltage is generated at one end of the reference resistor 4c. When a voltage is generated at one end of the reference resistor 4c connected to the second electrode Y2, the IC 2 detects that pressure is applied to the detection point DS where the first electrode X4 and the second electrode Y2 intersect. be able to.

第1電極X4と第2電極Y2との間には、後述する第1感圧帯FB4と第2感圧帯SB2(図3参照)が存在するため、圧力の大きさに応じて第1感圧帯FB4と第2感圧帯SB2の間で発生する接触抵抗の抵抗値が変化する。圧力が大きい場合には、第1感圧帯FB4と第2感圧帯SB2の間で発生する接触抵抗の抵抗値が小さくなり、逆に圧力が小さい場合には、第1感圧帯FB4と第2感圧帯SB2の間で発生する接触抵抗の抵抗値が大きくなる。ここでは、主に、第1引出配線21の導通抵抗と、第1電極X4の導通抵抗と、第1感圧帯FB4と第2感圧帯SB2の間で発生する接触抵抗と、第2電極Y2の導通抵抗と、第2引出配線22の導通抵抗と、基準抵抗4cとによって電源4aの電圧Vccが分圧される。
感圧センサ10において、圧力に関係する抵抗値は、第1感圧帯FB4及び第2感圧帯SB2の間で発生する接触抵抗である。この接触抵抗の抵抗値が大きくなれば基準抵抗4cの両端に生じる電位差が小さくなり、この接触抵抗の抵抗値が小さくなれば基準抵抗4cの両端に生じる電位差が大きくなる。抵抗値検出回路5が基準抵抗4cの両端に生じる電位差から接触抵抗の抵抗値を検出することによって、IC2は、第1電極X4と第2電極Y2との間に掛かった圧力を検出する。
このように基準抵抗4cの両端の電位差から圧力を検出する場合には、第1引出配線21の導通抵抗と第1電極X4の導通抵抗と第2電極Y2の導通抵抗と第2引出配線22の導通抵抗の合成抵抗が誤差の原因になる可能性があるので、この合成抵抗は小さい方が好ましい。通常、この合成抵抗の抵抗値は、接触抵抗の抵抗値及び基準抵抗4cの抵抗値に比べて十分に小さくなるように設定されている。
Since a first pressure-sensitive band FB4 and a second pressure-sensitive band SB2 (see FIG. 3) to be described later exist between the first electrode X4 and the second electrode Y2, the first pressure-sensitive band FB4 and the second pressure-sensitive band SB2 (see FIG. 3) are provided. The resistance value of the contact resistance generated between the pressure zone FB4 and the second pressure-sensitive zone SB2 changes. When the pressure is large, the resistance value of the contact resistance generated between the first pressure-sensitive band FB4 and the second pressure-sensitive band SB2 decreases, and conversely, when the pressure is small, the first pressure-sensitive band FB4 The resistance value of the contact resistance generated between the second pressure-sensitive zones SB2 increases. Here, mainly, the conduction resistance of the first extraction wiring 21, the conduction resistance of the first electrode X4, the contact resistance generated between the first pressure-sensitive band FB4 and the second pressure-sensitive band SB2, and the second electrode The voltage Vcc of the power supply 4a is divided by the conduction resistance of Y2, the conduction resistance of the second extraction wiring 22, and the reference resistance 4c.
In the pressure-sensitive sensor 10, the resistance value related to the pressure is a contact resistance generated between the first pressure-sensitive band FB4 and the second pressure-sensitive band SB2. As the resistance value of the contact resistance increases, the potential difference between both ends of the reference resistor 4c decreases, and as the resistance value of the contact resistance decreases, the potential difference between both ends of the reference resistor 4c increases. The resistance value detection circuit 5 detects the resistance value of the contact resistance from the potential difference generated between both ends of the reference resistance 4c, whereby the IC 2 detects the pressure applied between the first electrode X4 and the second electrode Y2.
As described above, when the pressure is detected from the potential difference between both ends of the reference resistor 4c, the conduction resistance of the first extraction wiring 21, the conduction resistance of the first electrode X4, the conduction resistance of the second electrode Y2, and the resistance of the second extraction wiring 22 Since the combined resistance of the conduction resistances may cause an error, the combined resistance is preferably small. Normally, the resistance value of the combined resistance is set to be sufficiently smaller than the resistance value of the contact resistance and the resistance value of the reference resistance 4c.

(2)感圧センサ10の構造
(2−1)感圧センサ10の構造の概要
図3には、圧力検出装置1のうち、感圧センサ10の部分が分解して模式的に示されている。
感圧センサ10は、樹脂製の第1絶縁基板11と、樹脂製の第2絶縁基板12と、複数の第1電極FEと、複数の第1感圧帯FB1〜FB5と、複数の第2電極SEと、複数の第2感圧帯SB1〜SB7と、複数のスペーサ支持部SS1〜SS4と、複数の当接部CP1〜CP6と、接着枠13と、第1引出配線21及び第2引出配線22(図1参照)とを備えている。なお、第1感圧帯FB、第2感圧帯SB、スペーサ支持部SS、及び当接部CPと記載する場合もあり、複数のものを個別に区別する必要がない場合にはこれらのように記載することがある。複数の第1電極FEと複数の第1感圧帯FBと複数のスペーサ支持部SS1〜SS4は、第1絶縁基板11の2つの主面のうちの接着枠13に対向する主面に形成されているが、図3では、第1絶縁基板11が透明である場合について記載されているため、IC2が搭載されている側から第1絶縁基板11を透過して見えている。また、図3では、複数の第1電極FEと複数の第1感圧帯FBと複数の第2電極SEと複数の第2感圧帯SBと複数のスペーサ支持部SS1〜SS4と複数の当接部CP1〜CP6と接着枠13の大きさなどについては、図面上での見易さを考慮し、デフォルメして模式的に記載されている。
第1絶縁基板11がセンシングの行われる第1領域AR1を含み、第2絶縁基板12がセンシングの行われる第2領域AR2を含んでいる。図1に示されているように、第1絶縁基板11と第2絶縁基板12とが組み合わされた状態では、第1領域AR1と第2領域AR2とが重なる。複数の第1電極FEは、X軸方向(第1方向)に沿って第1領域AR1に延設されている。複数の第2電極SEは、Y軸方向(第2方向)に沿って第2領域AR2に延設されている。また、第1絶縁基板11が第1領域AR1の周囲に第3領域AR3を含み、第2絶縁基板12が第2領域AR2の周囲に第4領域AR4を含んでいる。複数の第1引出配線21は、第3領域AR3に配置されている。複数の第1引出配線21のうちの各々の第1引出配線21は、対応する第1電極FEに接続されている。また、複数の第2引出配線22は、第4領域AR4に配置されている。複数の第2引出配線22のうちの各々の第2引出配線22は、対応する第2電極SEに接続されている。これら複数の第1引出配線21及び複数の第2引出配線22は、FPC3を介してIC2に接続される。
(2) Structure of Pressure-Sensitive Sensor 10 (2-1) Outline of Structure of Pressure-Sensitive Sensor 10 FIG. 3 schematically shows an exploded portion of the pressure-sensitive sensor 10 in the pressure detecting device 1. I have.
The pressure-sensitive sensor 10 includes a first insulating substrate 11 made of resin, a second insulating substrate 12 made of resin, a plurality of first electrodes FE, a plurality of first pressure-sensitive zones FB1 to FB5, and a plurality of second The electrode SE, the plurality of second pressure-sensitive zones SB1 to SB7, the plurality of spacer supporting portions SS1 to SS4, the plurality of contact portions CP1 to CP6, the bonding frame 13, the first lead-out wiring 21, and the second lead-out. Wiring 22 (see FIG. 1). The first pressure-sensitive band FB, the second pressure-sensitive band SB, the spacer support portion SS, and the contact portion CP may be described. When it is not necessary to individually distinguish a plurality of pressure-sensitive bands, these are used. May be described. The plurality of first electrodes FE, the plurality of first pressure-sensitive zones FB, and the plurality of spacer supporting portions SS1 to SS4 are formed on the main surface of the first insulating substrate 11 that faces the bonding frame 13 among the two main surfaces. However, FIG. 3 illustrates a case where the first insulating substrate 11 is transparent, and thus is seen through the first insulating substrate 11 from the side on which the IC 2 is mounted. In FIG. 3, a plurality of first electrodes FE, a plurality of first pressure-sensitive zones FB, a plurality of second electrodes SE, a plurality of second pressure-sensitive zones SB, a plurality of spacer support portions SS1 to SS4, and a plurality of The sizes and the like of the contact portions CP1 to CP6 and the adhesive frame 13 are schematically described in a deformed manner in consideration of the legibility on the drawing.
The first insulating substrate 11 includes a first region AR1 where sensing is performed, and the second insulating substrate 12 includes a second region AR2 where sensing is performed. As shown in FIG. 1, in a state where the first insulating substrate 11 and the second insulating substrate 12 are combined, the first region AR1 and the second region AR2 overlap. The plurality of first electrodes FE extend in the first region AR1 along the X-axis direction (first direction). The plurality of second electrodes SE extend in the second region AR2 along the Y-axis direction (second direction). Further, the first insulating substrate 11 includes a third region AR3 around the first region AR1, and the second insulating substrate 12 includes a fourth region AR4 around the second region AR2. The plurality of first extraction wirings 21 are arranged in the third region AR3. Each first extraction wiring 21 of the plurality of first extraction wirings 21 is connected to a corresponding first electrode FE. Further, the plurality of second extraction wirings 22 are arranged in the fourth region AR4. Each second extraction wiring 22 of the plurality of second extraction wirings 22 is connected to the corresponding second electrode SE. The plurality of first extraction wirings 21 and the plurality of second extraction wirings 22 are connected to the IC 2 via the FPC 3.

互いに隣接する第1電極X1と第1電極X2の間に位置する第1絶縁領域AR5に、スペーサ支持部SS1が配置されている。同様に、互いに隣接する第1電極X2〜X4と第1電極X3〜X5の間に位置する第1絶縁領域AR5に、スペーサ支持部SS2〜SS4が配置されている。スペーサ支持部SS1〜SS4は、複数の第1感圧帯FB1〜FB5と同じ構成を持つ第1感圧層L1(図8参照)を含んでいる。ここでは、スペーサ支持部SS1〜SS4は、第1感圧層L1のみで構成されている。図3への図示を省略しているが、このスペーサ支持部SS1〜SS4に複数のドットスペーサ15(図6参照)が配置される。
同様に、互いに隣接する第2電極Y1と第2電極Y2の間に位置する第2絶縁領域AR6に、当接部CP1が配置されている。同様に、互いに隣接する第2電極Y2〜X6と第2電極Y3〜Y7の間に位置する第2絶縁領域AR6に、当接部CP2〜CP6が配置されている。当接部CP1〜CP6は、複数の第2感圧帯SB1〜SB7と同じ構成を持つ第2感圧層L2(図9参照)を含んでいる。ここでは、当接部CP1〜CP6は、第2感圧層L2のみで構成されている。図3への図示を省略しているが、この当接部CP1〜CP6にドットスペーサ15(図6参照)が当接することで、圧力が掛かっていない状態で第1感圧帯FBと第2感圧帯SBの間の隙間が維持される構成になっている。
The spacer supporting portion SS1 is arranged in the first insulating region AR5 located between the first electrode X1 and the first electrode X2 adjacent to each other. Similarly, spacer support portions SS2 to SS4 are arranged in the first insulating region AR5 located between the first electrodes X2 to X4 and the first electrodes X3 to X5 adjacent to each other. The spacer supporting portions SS1 to SS4 include a first pressure-sensitive layer L1 (see FIG. 8) having the same configuration as the plurality of first pressure-sensitive zones FB1 to FB5. Here, the spacer supporting portions SS1 to SS4 are constituted only by the first pressure-sensitive layer L1. Although not shown in FIG. 3, a plurality of dot spacers 15 (see FIG. 6) are arranged on the spacer supporting portions SS1 to SS4.
Similarly, the contact portion CP1 is disposed in the second insulating region AR6 located between the second electrode Y1 and the second electrode Y2 adjacent to each other. Similarly, the contact portions CP2 to CP6 are arranged in the second insulating region AR6 located between the second electrodes Y2 to X6 and the second electrodes Y3 to Y7 adjacent to each other. The contact portions CP1 to CP6 include a second pressure-sensitive layer L2 (see FIG. 9) having the same configuration as the plurality of second pressure-sensitive zones SB1 to SB7. Here, the contact portions CP1 to CP6 are constituted only by the second pressure-sensitive layer L2. Although not shown in FIG. 3, the dot spacer 15 (see FIG. 6) abuts on the contact portions CP1 to CP6, so that the first pressure-sensitive zone FB and the second pressure-sensitive zone FB are not pressed. The gap between the pressure-sensitive zones SB is maintained.

(2−2)感圧センサ10の検出箇所DS
図4には、図2に示された感圧センサ10の検出箇所DS(第1電極X4と第2電極Y2の交差部分)の断面構造が模式的に示されている。第1電極X4は、互いに電気的に結合された複数の第1導電性粒子31を含んでいる。つまり、多数の第1導電性粒子31が高分子バインダ41の中に含まれている。この高分子バインダ41によって、第1導電性粒子31が第1絶縁基板11に固定され、第1導電性粒子31同士の電気的結合が維持されている。第1電極X4の抵抗率は、主に第1導電性粒子31の抵抗率と状態に依存している。他の第1電極X1〜X3,X5も、第1電極X4と同様の構成を有し、互いに電気的に結合された複数の第1導電性粒子31を高分子バインダ41の中に含むものとなっている。
第1感圧帯FB4は、互いに電気的に結合された複数の第2導電性粒子32を含んでいる。つまり、多数の第2導電性粒子32が高分子バインダ42の中に含まれている。この高分子バインダ42によって、第2導電性粒子32が第1電極X4に固定され、第2導電性粒子32同士の電気的結合が維持されるとともに第2導電性粒子32が第1導電性粒子31に電気的に接続される。第1感圧帯FB4の抵抗率は、主に第2導電性粒子32の抵抗率と状態に依存している。他の第1感圧帯FB1〜FB3,FB5も、第1感圧帯FB4と同様の構成を有し、互いに電気的に結合された複数の第2導電性粒子32を高分子バインダ42の中に含むものとなっている。
第2電極Y2は、互いに電気的に結合された複数の第3導電性粒子33を含んでいる。つまり、多数の第3導電性粒子33が高分子バインダ43の中に含まれている。この高分子バインダ43によって、第3導電性粒子33が第2絶縁基板12に固定され、第3導電性粒子33同士の電気的結合が維持されている。第2電極Y2の抵抗率は、主に第3導電性粒子33の抵抗率と状態に依存している。他の第2電極Y1,Y3〜Y7も、第2電極Y2と同様の構成を有し、互いに電気的に結合された複数の第3導電性粒子33を高分子バインダ43の中に含むものとなっている。
(2-2) Detection location DS of pressure-sensitive sensor 10
FIG. 4 schematically shows a cross-sectional structure of a detection point DS (intersection between the first electrode X4 and the second electrode Y2) of the pressure-sensitive sensor 10 shown in FIG. The first electrode X4 includes a plurality of first conductive particles 31 electrically coupled to each other. That is, many first conductive particles 31 are contained in the polymer binder 41. The first conductive particles 31 are fixed to the first insulating substrate 11 by the polymer binder 41, and the electrical connection between the first conductive particles 31 is maintained. The resistivity of the first electrode X4 mainly depends on the resistivity and the state of the first conductive particles 31. The other first electrodes X1 to X3 and X5 also have the same configuration as the first electrode X4, and include a plurality of first conductive particles 31 electrically coupled to each other in the polymer binder 41. Has become.
The first pressure-sensitive band FB4 includes a plurality of second conductive particles 32 electrically connected to each other. That is, many second conductive particles 32 are contained in the polymer binder 42. The polymer binder 42 fixes the second conductive particles 32 to the first electrode X4, maintains the electrical connection between the second conductive particles 32, and forms the second conductive particles 32 with the first conductive particles 32. 31 is electrically connected. The resistivity of the first pressure-sensitive band FB4 mainly depends on the resistivity and the state of the second conductive particles 32. The other first pressure-sensitive zones FB1 to FB3 and FB5 also have a configuration similar to that of the first pressure-sensitive zone FB4, and include a plurality of second conductive particles 32 electrically coupled to each other in the polymer binder 42. Is included.
The second electrode Y2 includes a plurality of third conductive particles 33 electrically connected to each other. That is, many third conductive particles 33 are contained in the polymer binder 43. The third conductive particles 33 are fixed to the second insulating substrate 12 by the polymer binder 43, and the electrical connection between the third conductive particles 33 is maintained. The resistivity of the second electrode Y2 mainly depends on the resistivity and the state of the third conductive particles 33. The other second electrodes Y1, Y3 to Y7 also have the same configuration as the second electrode Y2, and include a plurality of third conductive particles 33 electrically connected to each other in the polymer binder 43. Has become.

第2感圧帯SB2は、互いに電気的に結合された複数の第4導電性粒子34を含んでいる。つまり、多数の第4導電性粒子34が高分子バインダ44の中に含まれている。この高分子バインダ44によって、第4導電性粒子34が第2電極Y2に固定され、第4導電性粒子34同士の電気的結合が維持されるとともに第4導電性粒子34が第2導電性粒子32に電気的に接続される。第2感圧帯SB2の抵抗率は、主に第4導電性粒子34の抵抗率と状態に依存している。他の第2感圧帯SB1,SB3〜SB7も、第2感圧帯SB2と同様の構成を有し、互いに電気的に結合された複数の第4導電性粒子34を高分子バインダ44の中に含むものとなっている。
第2導電性粒子32の導電率は、第1導電性粒子31の導電率よりも小さく、また第4導電性粒子34の導電率は、第3導電性粒子33の導電率よりも小さい。このような関係を持つように設定されているため、第1感圧帯FB4と第2感圧帯SB2は、例えば第2導電性粒子32及び第4導電性粒子34の導電率を第1導電性粒子31及び第3導電性粒子33の導電率と同じにする場合に比べて、圧力の変化に対して接触抵抗を大きく変化させることができる。なお、図4には、第1導電性粒子31と第3導電性粒子33の粒子径が第2導電性粒子32と第4導電性粒子34の粒子径よりも小さく描かれているが、第1導電性粒子31と第3導電性粒子の粒子径が第2導電性粒子32と第4導電性粒子34の粒子径よりも小さいとは限らない。第1導電性粒子31と第3導電性粒子の粒子径が第2導電性粒子32と第4導電性粒子34の粒子径よりも大きい場合もある。
Second pressure-sensitive band SB2 includes a plurality of fourth conductive particles 34 electrically connected to each other. That is, many fourth conductive particles 34 are contained in the polymer binder 44. By the polymer binder 44, the fourth conductive particles 34 are fixed to the second electrode Y2, the electrical connection between the fourth conductive particles 34 is maintained, and the fourth conductive particles 34 are separated from the second conductive particles 34. 32. The resistivity of the second pressure-sensitive band SB2 mainly depends on the resistivity and the state of the fourth conductive particles 34. The other second pressure-sensitive zones SB1, SB3 to SB7 have the same configuration as the second pressure-sensitive zone SB2, and a plurality of fourth conductive particles 34 electrically connected to each other are placed in the polymer binder 44. Is included.
The conductivity of the second conductive particles 32 is smaller than the conductivity of the first conductive particles 31, and the conductivity of the fourth conductive particles 34 is smaller than the conductivity of the third conductive particles 33. Since the first pressure-sensitive band FB4 and the second pressure-sensitive band SB2 are set so as to have such a relationship, for example, the conductivity of the second conductive particles 32 and the fourth conductive particles 34 is set to the first conductivity band. As compared with the case where the electric conductivity of the conductive particles 31 and the electric conductivity of the third conductive particles 33 are the same, the contact resistance can be largely changed with respect to the change of the pressure. In FIG. 4, the particle diameters of the first conductive particles 31 and the third conductive particles 33 are smaller than the particle diameters of the second conductive particles 32 and the fourth conductive particles 34. The particle sizes of the first conductive particles 31 and the third conductive particles are not necessarily smaller than the particle sizes of the second conductive particles 32 and the fourth conductive particles 34. The particle diameters of the first conductive particles 31 and the third conductive particles may be larger than the particle diameters of the second conductive particles 32 and the fourth conductive particles.

(2−3)感圧センサ10の各部の大きさ
図5及び図6には、感圧センサ10の断面形状の一部分が拡大して示されている。なお、図5においては、見易くするために、Y軸方向(第2の方向)とZ軸方向(第1方向及び第2方向に垂直な方向)との拡大率が異なっている。Y軸方向に対してZ軸方向の拡大率が非常に大きくなっている。
まず、図5に示されているY軸方向の大きさについて説明する。第1電極FEの幅W1が例えば2500μmである。第1電極FEの間隔、つまり第1絶縁領域AR5の幅W2が例えば1500μmである。スペーサ支持部SSの幅W3が例えば740μmである。第1電極FEの端から第1感圧帯FBの端までの幅W4が350μmである。ここでは、第1感圧帯FBとスペーサ支持部SSの間の距離が30μmである。つまり、後述するレーザ加工の1回の照射によって、第1感圧層L1が30μmの幅を持つ直線状に除去されたということである。なお、ここでは1回のレーザの照射で1本の直線状の除去部分を第1感圧層L1に形成する例を示しているが、複数回のレーザ照射で1本の直線状の除去部分を形成してもよい。
なお、本実施形態では、第2電極SEの幅も第1電極FEの幅W1と同じに設定され、第2絶縁領域AR6の幅も第1絶縁領域AR5の幅W2と同じに設定され、当接部CPの幅もスペーサ支持部SSの幅W3と同じに設定され、第2電極SEの端から第2感圧帯SBの端までの幅も350μmに設定されている。ここでは、第2感圧帯SBと当接部CPの間の距離も30μmである。
(2-3) Size of Each Part of Pressure-Sensitive Sensor 10 FIGS. 5 and 6 show a part of the cross-sectional shape of the pressure-sensitive sensor 10 in an enlarged manner. In FIG. 5, the magnification in the Y-axis direction (second direction) is different from that in the Z-axis direction (direction perpendicular to the first direction and the second direction) for easy viewing. The enlargement ratio in the Z-axis direction is much larger than that in the Y-axis direction.
First, the size in the Y-axis direction shown in FIG. 5 will be described. The width W1 of the first electrode FE is, for example, 2500 μm. The interval between the first electrodes FE, that is, the width W2 of the first insulating region AR5 is, for example, 1500 μm. The width W3 of the spacer supporting portion SS is, for example, 740 μm. The width W4 from the end of the first electrode FE to the end of the first pressure-sensitive band FB is 350 μm. Here, the distance between the first pressure-sensitive band FB and the spacer supporting portion SS is 30 μm. That is, the first pressure-sensitive layer L1 was removed in a straight line having a width of 30 μm by one irradiation of the laser processing described later. Here, an example is shown in which one linear removal portion is formed in the first pressure-sensitive layer L1 by one laser irradiation, but one linear removal portion is formed by a plurality of laser irradiations. May be formed.
In the present embodiment, the width of the second electrode SE is also set to be the same as the width W1 of the first electrode FE, and the width of the second insulating region AR6 is also set to be the same as the width W2 of the first insulating region AR5. The width of the contact portion CP is set to be the same as the width W3 of the spacer supporting portion SS, and the width from the end of the second electrode SE to the end of the second pressure-sensitive band SB is also set to 350 μm. Here, the distance between the second pressure-sensitive band SB and the contact portion CP is also 30 μm.

次に、図5に示されているZ軸方向の大きさについて説明する。第1絶縁基板11の厚さH1は、例えば20μm以上であることが好ましい。20μmより第1絶縁基板11が薄くなるとフィルム強度が弱くなって取り扱いが難しくなる。また、第1絶縁基板11の厚さH1は、200μm以下であることが好ましい。第1絶縁基板11の厚さが200μmより厚くなると、フィルムの剛性が大きくなって感度が悪くなる。なお、第2絶縁基板12の厚さも、20μm以上が好ましく、また200μm以下が好ましい。第1電極FEの厚さH2は、例えば2μmから10μmであり、第2電極SEの厚さも同様に設定される。第1感圧帯FBの厚さH3は、例えば10μmから20μmであり、第2感圧帯SBの厚さも同様に設定される。接着枠13を構成しているシールド層51,53の厚さH4は例えば10μmから50μmであり、糊層52,54の厚さH5は例えば10μmから50μmである。このシールド層51,53及び糊層52,54によって第1電極FE及び第2電極SEとの絶縁が図られている。
図6に示されているように、ドットスペーサ15の断面形状はドーム型である。ドットスペーサ15は、Z軸方向に見たときは円形の形状を呈する。このドットスペーサ15の高さH6は例えば10μmから30μmであり、幅W5は例えば50μmから200μmである。
Next, the size in the Z-axis direction shown in FIG. 5 will be described. The thickness H1 of the first insulating substrate 11 is preferably, for example, 20 μm or more. When the thickness of the first insulating substrate 11 is thinner than 20 μm, the film strength becomes weak and handling becomes difficult. Further, the thickness H1 of the first insulating substrate 11 is preferably equal to or less than 200 μm. When the thickness of the first insulating substrate 11 is greater than 200 μm, the rigidity of the film increases, and the sensitivity deteriorates. Note that the thickness of the second insulating substrate 12 is also preferably 20 μm or more, and more preferably 200 μm or less. The thickness H2 of the first electrode FE is, for example, 2 μm to 10 μm, and the thickness of the second electrode SE is set similarly. The thickness H3 of the first pressure-sensitive band FB is, for example, 10 μm to 20 μm, and the thickness of the second pressure-sensitive band SB is similarly set. The thickness H4 of the shield layers 51, 53 constituting the bonding frame 13 is, for example, 10 μm to 50 μm, and the thickness H5 of the adhesive layers 52, 54 is, for example, 10 μm to 50 μm. The shield layers 51 and 53 and the glue layers 52 and 54 provide insulation between the first electrode FE and the second electrode SE.
As shown in FIG. 6, the cross-sectional shape of the dot spacer 15 is a dome shape. The dot spacer 15 has a circular shape when viewed in the Z-axis direction. The height H6 of the dot spacer 15 is, for example, 10 μm to 30 μm, and the width W5 is, for example, 50 μm to 200 μm.

(2−4)感圧センサ10の構成材料
第1絶縁基板11及び第2絶縁基板12には、ポリカーボネート系、ポリアミド系、ポリイミド系、若しくはポリエーテルケトン系などのエンジニアリングプラスチック、または、アクリル系、ポリエチレンテレフタレート系、若しくはポリオレフィン系などの熱可塑樹脂を用いることができる。ポリイミド系のエンジニアプラスチックとしては、例えばポリイミド(PI)があり、ポリエチレンテレフタレート系樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)がある。
第1電極FEに含まれる第1導電性粒子31及び第2電極SEに含まれる第3導電性粒子33には、金属製の微粒子を用いることができる。金属製の微粒子には、例えば、金、銀、銅及びニッケルがある。これらの粒子径は、第1電極FE及び第2電極SEの高さより小さい。第1感圧帯FBに含まれる第2導電性粒子32及び第2感圧帯SBに含まれる第4導電性粒子34には、金属製の微粒子よりも導電性が小さい高抵抗材料を用いる。高抵抗材料としては、例えば、カーボン及びPEDOT(ポリ(3,4-エチレンジオキシチオフェン))がある。第1電極FE、第2電極SE、第1感圧帯FB及び第2感圧帯SBに含まれる高分子バインダ41〜44には、熱可塑性樹脂を用いることができる。スクリーン印刷を行う際には、熱可塑性樹脂を溶媒に溶かして用いる。第1感圧帯FB及び第2感圧帯SBには、絶縁性の無機微粉末を添加してもよい。無機微粉末には、例えば二酸化珪素、二酸化アルミニウム、もしくは二酸化チタンからなる微粉末またはそれらの混合物が使用できる。
ドットスペーサ15を形成するためのドットスペーサ用材料には、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂またはそれらを混合したものを用いることができる。また、ドットスペーサ用材料には、絶縁性の無機微粉末を添加してもよい。無機微粉末には、例えば二酸化珪素、二酸化アルミニウム、もしくは二酸化チタンからなる微粉末またはそれらの混合物が使用できる。スクリーン印刷を行う際には、樹脂を溶媒に溶かして用いる。
シールド層51,53を形成するための材料は、樹脂、無機微粉末及び溶媒によって構成でき、糊層52,54を形成するための材料には、例えば溶剤型またはエマルジョン型の接着剤を用いることができる。
(2-4) Constituent materials of the pressure-sensitive sensor 10 The first insulating substrate 11 and the second insulating substrate 12 are made of engineering plastics such as polycarbonate, polyamide, polyimide, or polyetherketone, or acrylic, A thermoplastic resin such as polyethylene terephthalate or polyolefin can be used. Examples of the polyimide-based engineering plastic include polyimide (PI), and examples of the polyethylene terephthalate-based resin include polyethylene terephthalate (PET).
Fine particles made of metal can be used for the first conductive particles 31 included in the first electrode FE and the third conductive particles 33 included in the second electrode SE. Examples of the metal fine particles include gold, silver, copper, and nickel. These particle diameters are smaller than the height of the first electrode FE and the second electrode SE. As the second conductive particles 32 included in the first pressure-sensitive band FB and the fourth conductive particles 34 included in the second pressure-sensitive band SB, a high-resistance material having lower conductivity than metal fine particles is used. Examples of the high resistance material include carbon and PEDOT (poly (3,4-ethylenedioxythiophene)). A thermoplastic resin can be used for the polymer binders 41 to 44 included in the first electrode FE, the second electrode SE, the first pressure-sensitive band FB, and the second pressure-sensitive band SB. When screen printing is performed, a thermoplastic resin is dissolved in a solvent and used. An insulating inorganic fine powder may be added to the first pressure-sensitive band FB and the second pressure-sensitive band SB. As the inorganic fine powder, for example, a fine powder composed of silicon dioxide, aluminum dioxide, or titanium dioxide, or a mixture thereof can be used.
As a material for the dot spacer for forming the dot spacer 15, a thermosetting resin, a thermoplastic resin, or a mixture thereof can be used. Further, an insulating inorganic fine powder may be added to the dot spacer material. As the inorganic fine powder, for example, a fine powder composed of silicon dioxide, aluminum dioxide, or titanium dioxide, or a mixture thereof can be used. When performing screen printing, a resin is dissolved in a solvent and used.
A material for forming the shield layers 51 and 53 can be composed of a resin, an inorganic fine powder and a solvent. As a material for forming the glue layers 52 and 54, for example, a solvent type or emulsion type adhesive is used. Can be.

(3)感圧センサ10の製造方法
図7には、感圧センサ10の製造工程のフローの一例が示されている。図7に示されているステップS1〜S9が第1絶縁基板11に関連する製造工程であり、ステップS11〜S17が第2絶縁基板12に関連する製造工程であり、ステップS21が第1絶縁基板11及び第2絶縁基板12の両方に関連する製造工程である。ここでは、ステップS1〜S9とステップS11〜S17が並行に進められる例が示されているが、ステップS1〜S9とステップS11〜S17は一方の後に他方が進めされてもよく、その順序はいずれが先であってもよい。
まず、第1絶縁基板11が準備される(ステップS1)。具体的には、樹脂フィルムのロールが準備されるか、または1枚の樹脂フィルムが例えばロールから切り出されて準備される。ステップS1のあとの製造工程は、ロールから樹脂フィルムを巻き出しながら行われてもよく、1枚の樹脂フィルムを製造装置に対して相対的に移動させながら行われてもよい。
準備された第1絶縁基板11の第1領域AR1に、第1電極FEを形成するため、銀ペーストのパターンがスクリーン印刷により塗布される(ステップS2)。銀ペーストは、後続の工程における位置合わせ用のアライメントマークの形成にも用いられる。この場合、第1電極FEを構成する第1導電性粒子31は、銀の微粒子である。なお、第1引出配線21を形成するためのパターンも、このとき同時に銀ペーストを使ってスクリーン印刷により塗布される。
(3) Method of Manufacturing Pressure-Sensitive Sensor 10 FIG. 7 shows an example of a flow of a manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10. Steps S1 to S9 shown in FIG. 7 are manufacturing steps related to the first insulating substrate 11, steps S11 to S17 are manufacturing steps related to the second insulating substrate 12, and step S21 is a first insulating substrate. This is a manufacturing process related to both the first and second insulating substrates 12. Here, an example is shown in which steps S1 to S9 and steps S11 to S17 proceed in parallel, but one of steps S1 to S9 and steps S11 to S17 may proceed after the other, and the order may be any. May be first.
First, the first insulating substrate 11 is prepared (Step S1). Specifically, a roll of a resin film is prepared, or one resin film is cut out from a roll and prepared. The manufacturing process after step S1 may be performed while unwinding the resin film from the roll, or may be performed while moving one resin film relatively to the manufacturing apparatus.
A silver paste pattern is applied by screen printing to the first region AR1 of the prepared first insulating substrate 11 to form the first electrode FE (step S2). The silver paste is also used for forming alignment marks for positioning in a subsequent step. In this case, the first conductive particles 31 constituting the first electrode FE are silver fine particles. At this time, a pattern for forming the first extraction wiring 21 is simultaneously applied by screen printing using a silver paste.

次に、銀ペーストが塗布された第1絶縁基板11が乾燥されて、第1導電層が形成される(ステップS3)。ここでは、スクリーン印刷によって第1電極FEが形成される部分にのみ銀ペーストが塗布されてパターニングが同時に行われるため、第1導電層の形成が、すなわち第1電極FEの形成になっている。第1絶縁基板11が樹脂製であり、また銀ペーストに含まれる高分子バインダも樹脂製であるため、乾燥は、樹脂の耐熱温度以下の比較的低い温度で行われることが好ましく、例えば200℃以下で行われることが好ましい。
露出している第1電極FEの表面だけでなく、露出している第1絶縁基板11の第1領域AR1の表面も含め、第1領域AR1の全面にカーボンインキがスクリーン印刷により塗布される(ステップS4)。位置合せには、ステップS3で形成されたアライメントマークが使用される。第1領域AR1の全面に塗布されたカーボンインキが乾燥され(ステップS5)、第1領域AR1の全面に第1感圧層L1(図8参照)が形成される。
そして、絶縁性微粒子と樹脂と溶剤を含むドットスペーサ用材料をスクリーン印刷によって、第1絶縁領域AR5にある第1感圧層L1の表面に円形に塗布する(ステップS6)。位置合せには、ステップS3で形成されたアライメントマークが使用される。目標とするドットスペーサ15の高さは、例えば実験により得られる第1感圧層L1とドットスペーサ用材料の接触角のデータを使ってドットスペーサ用材料の半径から設定することができる。このようにしてスクリーン印刷によって印刷されたドットスペーサ用材料が乾燥されることにより(ステップS7)、所望の高さを持つドットスペーサ15が形成される。当然、乾燥の際にドットスペーサ用材料の状態に比べてドットスペーサ15の収縮または膨張が起きる場合には、収縮または膨張に起因する寸法の変化も考慮される。ドットスペーサ用材料に熱硬化性樹脂が含まれる場合には、乾燥と同時に樹脂の硬化も行われる。
なお、レーザによる第1のパターニング(ステップS8)は、ドットスペーサ15の形成(ステップS6,S7)の前に行ってもよい。
Next, the first insulating substrate 11 coated with the silver paste is dried to form a first conductive layer (Step S3). Here, since the silver paste is applied only to the portion where the first electrode FE is formed by screen printing and patterning is performed at the same time, the formation of the first conductive layer, that is, the formation of the first electrode FE is performed. Since the first insulating substrate 11 is made of a resin and the polymer binder contained in the silver paste is also made of a resin, the drying is preferably performed at a relatively low temperature equal to or lower than the heat resistance temperature of the resin. It is preferably performed in the following.
Carbon ink is applied by screen printing to the entire surface of the first region AR1 including the exposed surface of the first region AR1 of the first insulating substrate 11 as well as the exposed surface of the first electrode FE ( Step S4). For alignment, the alignment mark formed in step S3 is used. The carbon ink applied on the entire surface of the first region AR1 is dried (Step S5), and a first pressure-sensitive layer L1 (see FIG. 8) is formed on the entire surface of the first region AR1.
Then, a dot spacer material containing insulating fine particles, a resin, and a solvent is circularly applied to the surface of the first pressure-sensitive layer L1 in the first insulating region AR5 by screen printing (step S6). For alignment, the alignment mark formed in step S3 is used. The target height of the dot spacer 15 can be set from the radius of the dot spacer material using, for example, data on the contact angle between the first pressure-sensitive layer L1 and the dot spacer material obtained by experiments. By drying the dot spacer material printed by the screen printing in this manner (step S7), the dot spacer 15 having a desired height is formed. Of course, when the dot spacer 15 contracts or expands during drying as compared to the state of the dot spacer material, a change in dimension due to the contraction or expansion is also considered. When the thermosetting resin is contained in the dot spacer material, the resin is cured simultaneously with drying.
Note that the first patterning using laser (step S8) may be performed before the formation of the dot spacers 15 (steps S6 and S7).

次に、第1感圧層L1が、波長2μm以下のパルス発振レーザを使って、X軸方向(第1方向)に沿って複数回切断される(ステップS8)。波長2μm以下のパルス発振レーザには、例えばルビーレーザ、YAGレーザ及びYFLレーザを用いることができる。このステップS8が、パルス発振レーザによる第1のパターニングである。このときの位置合せにも、ステップS3で形成されたアライメントマークが使用される。図8に二点差線91で示されている箇所がパルス発振レーザによって切断される箇所である。パルス発振レーザの条件が調整され、第1絶縁基板11を切り離さないようにしつつ、第1感圧層L1を分離して絶縁する。レーザによって、例えば、第1感圧層L1が30μmの幅に渡って切り離される。波長2μm以下のパルス発振レーザを使って切り離すときの間隔は、例えば20μmから100μmの範囲で設定される。この第1のパターニングの結果、複数の第1感圧帯FB1〜FB5が形成されるとともに、複数のスペーサ支持部SS1〜SS4が形成される。
次に、接着枠13のスクリーン印刷が行われる(ステップS9)。位置合せには、ステップS3で形成されたアライメントマークが使用される。接着枠13がシールド層51と糊層52とが積層されたものとなっているため、接着枠13のスクリーン印刷では、版を取り換えて印刷が2回行われる。
第2絶縁基板12に関連する製造工程は、ドットスペーサ15の製造工程を除いて、第1絶縁基板11に関連する製造工程と同様に行える。第2絶縁基板12が準備された後(ステップS11の後)、第2絶縁基板12の第2領域AR2に、第2電極SEを形成するため、銀ペーストのパターンがスクリーン印刷により塗布される(ステップS12)。なお、第2引出配線22を形成するためのパターンも、このとき同時に銀ペーストを使ってスクリーン印刷により塗布される。
Next, the first pressure-sensitive layer L1 is cut a plurality of times along the X-axis direction (first direction) using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less (step S8). For example, a ruby laser, a YAG laser, and a YFL laser can be used as the pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less. This step S8 is the first patterning using the pulsed laser. The alignment mark formed in step S3 is also used for alignment at this time. A portion indicated by a two-dot line 91 in FIG. 8 is a portion cut by the pulsed laser. The conditions of the pulsed laser are adjusted, and the first pressure-sensitive layer L1 is separated and insulated while keeping the first insulating substrate 11 from separating. For example, the first pressure-sensitive layer L1 is cut by a laser over a width of 30 μm. The interval at which separation is performed using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less is set, for example, in the range of 20 μm to 100 μm. As a result of this first patterning, a plurality of first pressure-sensitive zones FB1 to FB5 are formed, and a plurality of spacer support portions SS1 to SS4 are formed.
Next, screen printing of the adhesive frame 13 is performed (step S9). For alignment, the alignment mark formed in step S3 is used. Since the bonding frame 13 is formed by laminating the shield layer 51 and the glue layer 52, in the screen printing of the bonding frame 13, printing is performed twice while changing the plate.
The manufacturing process related to the second insulating substrate 12 can be performed in the same manner as the manufacturing process related to the first insulating substrate 11, except for the manufacturing process of the dot spacer 15. After the second insulating substrate 12 is prepared (after step S11), a pattern of a silver paste is applied by screen printing on the second region AR2 of the second insulating substrate 12 to form the second electrode SE ( Step S12). At this time, a pattern for forming the second extraction wiring 22 is simultaneously applied by screen printing using a silver paste.

次に、銀ペーストが塗布された第2絶縁基板12が乾燥されて、第2導電層が形成されて、第2電極SEが形成される(ステップS13)。以降の位置合せには、ステップS13で形成されたアライメントマークが使用される。
露出している第2電極SEの表面だけでなく、露出している第2絶縁基板12の第2領域AR2の表面も含め、第2領域AR2の全面にカーボンインキがスクリーン印刷により塗布される(ステップS14)。第2領域AR2の全面に塗布されたカーボンインキが乾燥され(ステップS15)、第2領域AR2の全面に第2感圧層L2(図9参照)が形成される。
次に、第2感圧層L2が、波長2μm以下のパルス発振レーザを使って、Y軸方向(第2方向)に沿って複数回切断される(ステップS16)。このときの位置合せにも、ステップS13で形成されたアライメントマークが使用される。このステップS16が、パルス発振レーザによる第2のパターニングである。図9に二点差線92で示されている箇所がパルス発振レーザによって切断される箇所である。パルス発振レーザの条件が調整され、第2絶縁基板12を切り離さないようにしつつ、第2感圧層L2を分離して絶縁する。レーザによって、例えば、第2感圧層L2が30μmの幅に渡って切り離される。この第2のパターニングの結果、複数の第2感圧帯SB1〜SB7が形成されるとともに、複数の当接部CP1〜CP6が形成される。
Next, the second insulating substrate 12 to which the silver paste has been applied is dried to form the second conductive layer, thereby forming the second electrode SE (Step S13). For the subsequent alignment, the alignment mark formed in step S13 is used.
Carbon ink is applied by screen printing to the entire surface of the second region AR2 including the exposed surface of the second region AR2 of the second insulating substrate 12 as well as the exposed surface of the second electrode SE ( Step S14). The carbon ink applied on the entire surface of the second region AR2 is dried (Step S15), and the second pressure-sensitive layer L2 (see FIG. 9) is formed on the entire surface of the second region AR2.
Next, the second pressure-sensitive layer L2 is cut a plurality of times along the Y-axis direction (second direction) using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less (step S16). The alignment mark formed in step S13 is also used for alignment at this time. This step S16 is the second patterning using the pulsed laser. The portion indicated by the two-dot line 92 in FIG. 9 is the portion cut by the pulsed laser. The condition of the pulsed laser is adjusted, and the second pressure-sensitive layer L2 is separated and insulated while keeping the second insulating substrate 12 from separating. For example, the second pressure-sensitive layer L2 is cut by a laser over a width of 30 μm. As a result of the second patterning, a plurality of second pressure-sensitive zones SB1 to SB7 are formed, and a plurality of contact portions CP1 to CP6 are formed.

次に、接着枠13のスクリーン印刷が行われる(ステップS17)。接着枠13がシールド層53と糊層54とが積層されたものとなっているため、接着枠13のスクリーン印刷では、版を取り換えて印刷が2回行われる。
最後に、第1絶縁基板11に形成された糊層52と第2絶縁基板12に形成された糊層54とを重ねて接着させる。糊層52と糊層54の配置位置と厚さが適切に設定されているので、第1領域AR1と第2領域AR2を重ね且つ複数の第1感圧帯FB1〜FB5と複数の第2感圧帯SB1〜SB7とを互いに接触可能な位置に対向させて配置することができる。また、糊層52と糊層54の配置位置と厚さが適切に設定されているので、第2導電性粒子32及び第4導電性粒子34を用いて複数の第1感圧帯FB1〜FB5と複数の第2感圧帯SB1〜SB7の接触箇所の接触抵抗の抵抗値が接触箇所に加わる圧力によって変化するように、第1絶縁基板11と第2絶縁基板12とを組み合わせることができる。
第1絶縁基板11と第2絶縁基板12とを組み合わせた状態が図10に示されている。
Next, screen printing of the adhesive frame 13 is performed (step S17). Since the bonding frame 13 is formed by laminating the shield layer 53 and the glue layer 54, in the screen printing of the bonding frame 13, printing is performed twice while changing the plate.
Finally, the glue layer 52 formed on the first insulating substrate 11 and the glue layer 54 formed on the second insulating substrate 12 are overlapped and bonded. Since the arrangement positions and thicknesses of the glue layer 52 and the glue layer 54 are appropriately set, the first area AR1 and the second area AR2 overlap, and the plurality of first pressure-sensitive zones FB1 to FB5 and the plurality of second The pressure zones SB1 to SB7 can be arranged facing each other at positions where they can come into contact with each other. Further, since the arrangement positions and thicknesses of the glue layer 52 and the glue layer 54 are appropriately set, the plurality of first pressure-sensitive zones FB1 to FB5 are formed using the second conductive particles 32 and the fourth conductive particles 34. The first insulating substrate 11 and the second insulating substrate 12 can be combined so that the resistance value of the contact resistance at the contact location of the plurality of second pressure-sensitive zones SB1 to SB7 changes according to the pressure applied to the contact location.
FIG. 10 shows a state in which the first insulating substrate 11 and the second insulating substrate 12 are combined.

(4)特徴
(4−1)
上記第1実施形態の感圧センサ10の製造方法では、スクリーン印刷によって第1感圧層L1を形成するためのカーボンインキが第1領域AR1の全面に塗布される。このように第1領域AR1の全面にカーボンインキが塗布されることで、複数の第1電極FEの縁部でカーボンインキが盛り上がる、ひいては第1感圧層L1が盛り上がるサドル現象を防止することができる。図11には、第1絶縁基板11または第2絶縁基板12に形成された帯状の第1電極101または第2電極102に沿って、第1感圧帯111または第2感圧帯112を形成するために、帯状にカーボンインキをスクリーン印刷で塗布した場合に生じるサドル現象が模式的に示されている。図11において、符号121,122で示された部分が盛り上がっている部分である。符号121,122で示された盛り上がり部分は、第1感圧帯111または第2感圧帯112の縁部113,114に沿って山脈のように連なって発生する。このようなサドル現象が防止される結果、第1感圧帯FBが平坦化され、圧力検出の感度のバラツキを低減させることができている。圧力検出の感度のバラツキとは、同じ圧力が複数の検出箇所に掛かったときに、検出した圧力の値が異なるものになることである。
また、第1領域AR1の全面に形成された第1感圧層L1をパターニングする第1のパターニング(ステップS8)が波長2μm以下のパルス発振レーザによって行われるため、レーザの出力を調整して切断する幅を小さくできるとともにレーザを照射する位置を精度よく設定できる。その結果、互いに隣接する第1感圧帯FBの間隔(スペーサ支持部SSの幅W3+レーザによる切断幅×2)及び互いに隣接する第1電極FEの間隔W2を狭められるので、第2方向に沿って配置される複数の検出箇所の設置密度を大きくすることができる。
(4) Features (4-1)
In the method of manufacturing the pressure-sensitive sensor 10 according to the first embodiment, the carbon ink for forming the first pressure-sensitive layer L1 is applied to the entire first region AR1 by screen printing. By applying the carbon ink to the entire surface of the first region AR1 in this manner, it is possible to prevent the carbon ink from rising at the edges of the plurality of first electrodes FE, and thereby prevent the saddle phenomenon in which the first pressure-sensitive layer L1 rises. it can. In FIG. 11, a first pressure-sensitive zone 111 or a second pressure-sensitive zone 112 is formed along a strip-shaped first electrode 101 or a second electrode 102 formed on the first insulating substrate 11 or the second insulating substrate 12. For this purpose, a saddle phenomenon that occurs when carbon ink is applied in a belt shape by screen printing is schematically shown. In FIG. 11, the portions indicated by reference numerals 121 and 122 are raised portions. The bulges indicated by reference numerals 121 and 122 are continuously formed like the mountain range along the edges 113 and 114 of the first pressure-sensitive zone 111 or the second pressure-sensitive zone 112. As a result of preventing such a saddle phenomenon, the first pressure-sensitive band FB is flattened, and variations in sensitivity of pressure detection can be reduced. The variation in the sensitivity of the pressure detection means that when the same pressure is applied to a plurality of detection points, the detected pressures have different values.
Further, since the first patterning (step S8) for patterning the first pressure-sensitive layer L1 formed on the entire surface of the first region AR1 is performed by a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less, the laser output is adjusted to cut. The width of the laser irradiation can be reduced, and the position for irradiating the laser can be set accurately. As a result, the distance between the first pressure-sensitive zones FB adjacent to each other (the width W3 of the spacer supporting portion SS + the width cut by the laser × 2) and the distance W2 between the first electrodes FE adjacent to each other can be reduced, so that the distance W2 between the first electrodes FE along the second direction can be reduced. The installation density of a plurality of detection locations arranged in a horizontal direction can be increased.

(4−2)
上記第1実施形態の感圧センサ10の製造方法では、第1感圧層L1の表面にドットスペーサ15が形成されるので、第1絶縁基板11の表面に直接ドットスペーサ15が形成される場合に比べて、ドットスペーサ15の高さを小さくでき、ドットスペーサ15の高さのバラツキを小さくして感度のバラツキを抑制することができる。図12には、ドットスペーサ15の径と高さの関係を示すグラフが描かれている。実線で示されたグラフ及び一点差線で示されたグラフは、スクリーン印刷の版の厚さが60μmの場合のグラフである。また、破線で示されたグラフ及び二点差線で示されたグラフは、スクリーン印刷の版の厚さが100μmの場合のグラフである。さらに、実線で示されたグラフ及び破線で示されたグラフは、スクリーン印刷の条件として同じ第1条件で印刷した場合のグラフであり、一点差線で示されたグラフ及び二点差線で示されたグラフは、スクリーン印刷の条件として同じ第2条件で印刷した場合のグラフである。図12から分かるように、ドットスペーサの径を同じにしても、印刷時の条件によってドットスペーサの高さにバラツキが生じる。そして、高さのバラツキは、ドットスペーサの径を大きくしてドットスペーサの高さを高くするほど大きくなる傾向がある。言い換えると、ドットスペーサの径を小さくして高さを低くするほどドットスペーサの高さのバラツキを減少させることができるということである。
(4-2)
In the method of manufacturing the pressure-sensitive sensor 10 according to the first embodiment, since the dot spacers 15 are formed on the surface of the first pressure-sensitive layer L1, the dot spacers 15 are formed directly on the surface of the first insulating substrate 11. In comparison with the above, the height of the dot spacer 15 can be reduced, and the variation in the height of the dot spacer 15 can be reduced to suppress the variation in sensitivity. FIG. 12 is a graph illustrating the relationship between the diameter and the height of the dot spacer 15. The graph shown by the solid line and the graph shown by the dashed line are the graphs when the thickness of the screen printing plate is 60 μm. The graph shown by the broken line and the graph shown by the two-dot line are graphs when the thickness of the screen printing plate is 100 μm. Furthermore, the graph shown by the solid line and the graph shown by the dashed line are graphs when printing is performed under the same first condition as the condition of screen printing, and is shown by the graph shown by the one-point difference line and the two-point difference line. The graph shown is a graph when printing is performed under the same second condition as the condition of screen printing. As can be seen from FIG. 12, even if the diameter of the dot spacer is the same, the height of the dot spacer varies depending on the printing conditions. The variation in height tends to increase as the diameter of the dot spacer is increased and the height of the dot spacer is increased. In other words, the smaller the diameter of the dot spacer and the lower the height, the more the variation in the height of the dot spacer can be reduced.

(4−3)
上述の(4−1)で説明した事項が、第2感圧帯SBの形成にも当て嵌まる。第2領域AR2の全面にカーボンインキが塗布されることで、サドル現象を防止することができ、第2感圧帯SBが平坦化され、圧力検出の感度のバラツキを低減させることができている。
また、第2領域AR2の全面に形成された第2感圧層L2をパターニングする第2のパターニング(ステップS16)が波長2μm以下のパルス発振レーザによって行われるため、レーザの出力を調整して切断する幅を小さくできるとともにレーザを照射する位置を精度よく設定できる。その結果、互いに隣接する第2感圧帯SBの間隔及び互いに隣接する第2電極SEの間隔を狭められるので、第1方向に沿って配置される複数の検出箇所の設置密度を大きくすることができる。
(4−4)
感圧センサ10では、第2感圧層L2の表面である当接部CPの表面にドットスペーサ15が当接するので、第2絶縁基板12の表面にドットスペーサ15が直接当接する場合に比べて、ドットスペーサ15の高さを小さくできている。このようにドットスペーサの高さを小さくすることで、(4−3)で説明したように、ドットスペーサ15の高さのバラツキを小さくして感度のバラツキを抑制することができる。
(4-3)
The items described in (4-1) above also apply to the formation of the second pressure-sensitive zone SB. By applying the carbon ink to the entire surface of the second region AR2, the saddle phenomenon can be prevented, the second pressure-sensitive band SB is flattened, and the variation in sensitivity of pressure detection can be reduced. .
Further, since the second patterning (step S16) for patterning the second pressure-sensitive layer L2 formed on the entire surface of the second region AR2 is performed by a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less, the laser output is adjusted to cut. The width of the laser irradiation can be reduced, and the position for irradiating the laser can be set accurately. As a result, the interval between the second pressure-sensitive zones SB adjacent to each other and the interval between the second electrodes SE adjacent to each other can be reduced, so that the installation density of the plurality of detection points arranged along the first direction can be increased. it can.
(4-4)
In the pressure-sensitive sensor 10, since the dot spacer 15 abuts on the surface of the abutting portion CP, which is the surface of the second pressure-sensitive layer L <b> 2, compared with the case where the dot spacer 15 directly abuts on the surface of the second insulating substrate 12. The height of the dot spacer 15 can be reduced. By reducing the height of the dot spacer in this way, as described in (4-3), the variation in the height of the dot spacer 15 can be reduced and the variation in sensitivity can be suppressed.

(5)変形例
(5−1)変形例1A
上記第1実施形態では、隣接するスペーサ支持部SSに並ぶドットスペーサ15がX軸上の同じ位置に配置されているが、ドットスペーサ15の配置はこのような配置に限られるものではない。例えば、図13に示されているように、ドットスペーサ15を千鳥状に配置してもよい。図13に示されているように、ドットスペーサ15を千鳥状に配置してドットスペーサ15の設置密度を減らすことで、感圧センサ10が検出する荷重レンジが低くなる。つまり、図13に示された感圧センサ10は、図10に示された感圧センサ10が検出できる下限の圧力よりも小さな圧力まで検出することができる。
(5−2)変形例1B
上記第1実施形態では、スペーサがドットスペーサ15である場合について説明したが、スペーサの種類はドットスペーサには限られない。例えば、図14に示されているように、線状に形成したスペーサ15Aを用いてもよい。このような線状のスペーサ15Aを用いた場合には、図10に示されたドットスペーサ15を用いる場合に比べて、感圧センサ10が検出する荷重レンジが高くなる。つまり、図14に示された感圧センサ10は、図10に示された感圧センサ10が検出できる上限の圧力よりも大きな圧力まで検出することができる。
(5) Modification (5-1) Modification 1A
In the first embodiment, the dot spacers 15 arranged in the adjacent spacer support portion SS are arranged at the same position on the X axis, but the arrangement of the dot spacers 15 is not limited to such an arrangement. For example, as shown in FIG. 13, the dot spacers 15 may be arranged in a staggered manner. As shown in FIG. 13, by disposing the dot spacers 15 in a staggered manner and reducing the installation density of the dot spacers 15, the load range detected by the pressure-sensitive sensor 10 decreases. That is, the pressure-sensitive sensor 10 shown in FIG. 13 can detect a pressure smaller than the lower limit pressure that can be detected by the pressure-sensitive sensor 10 shown in FIG.
(5-2) Modification 1B
In the first embodiment, the case where the spacer is the dot spacer 15 has been described, but the type of the spacer is not limited to the dot spacer. For example, as shown in FIG. 14, a spacer 15A formed in a linear shape may be used. When such a linear spacer 15A is used, the load range detected by the pressure-sensitive sensor 10 is higher than when the dot spacer 15 shown in FIG. 10 is used. That is, the pressure-sensitive sensor 10 shown in FIG. 14 can detect a pressure higher than the upper limit pressure that can be detected by the pressure-sensitive sensor 10 shown in FIG.

(5−3)変形例1C
上記第1実施形態では、図8に示されているように、一つの第1絶縁領域AR5に対してレーザを2回照射し、2本の二点差線91に沿って2本の切断溝を第1感圧層L1に形成している。同様に、図9に示されているように、一つの第2絶縁領域AR6に対してレーザを2回照射し、2本の二点差線92に沿って2本の切断溝を第2感圧層L2に形成している。しかし、一つの第1絶縁領域AR5及び一つの第2絶縁領域AR6に対するレーザの照射回数は2回に限られるものではない。図15及び図16に示されているように、一つの第1絶縁領域AR5及び一つの第2絶縁領域AR6に対するレーザの照射回数は1回でもよい。また、一つの第1絶縁領域AR5及び一つの第2絶縁領域AR6に対するレーザの照射回数は3回以上であってもよい。
(5−4)変形例1D
上記第1実施形態では、ドットスペーサ15を形成するドットスペーサ用材料と、第1感圧層L1を形成する材料を異ならせている。しかし、ドットスペーサ15を形成するドットスペーサ用材料と、第1感圧層L1を形成する材料を同じものとすることができる。ドットスペーサ15を支持しているスペーサ支持部SS及びドットスペーサ15が当接する当接部CPが第1感圧帯FB及び第2感圧帯SBから分離して絶縁されているので、ドットスペーサ15が導電性粒子であるカーボンを含んでいても問題がない。
ドットスペーサ15を形成するドットスペーサ用材料と第1感圧層L1を形成する材料とを同じものとすることで、ドットスペーサ15の形成に第1感圧層L1を形成するために用いるカーボンインキを用いることができるので、材料が共通化されてコストが削減される。
(5-3) Modification 1C
In the first embodiment, as shown in FIG. 8, one first insulating region AR5 is irradiated with laser twice, and two cut grooves are formed along two two-dot lines 91. It is formed on the first pressure-sensitive layer L1. Similarly, as shown in FIG. 9, one second insulating region AR6 is irradiated with laser twice, and two cut grooves are formed along the two two-dot lines 92 with the second pressure-sensitive groove. It is formed in the layer L2. However, the number of laser irradiations on one first insulating region AR5 and one second insulating region AR6 is not limited to two. As shown in FIGS. 15 and 16, the number of laser irradiations on one first insulating region AR5 and one second insulating region AR6 may be one. Further, the number of laser irradiations on one first insulating region AR5 and one second insulating region AR6 may be three or more.
(5-4) Modification 1D
In the first embodiment, the material for forming the dot spacer 15 and the material for forming the first pressure-sensitive layer L1 are different. However, the material for forming the dot spacer 15 and the material for forming the first pressure-sensitive layer L1 can be the same. Since the spacer support portion SS supporting the dot spacer 15 and the contact portion CP with which the dot spacer 15 abuts are separated and insulated from the first pressure sensitive zone FB and the second pressure sensitive zone SB, the dot spacer 15 Does not have a problem even if carbon contains conductive particles.
By using the same material for the dot spacer 15 to form the dot spacer 15 and the material to form the first pressure-sensitive layer L1, the carbon ink used to form the first pressure-sensitive layer L1 for forming the dot spacer 15 is formed. Can be used, so that the material can be used in common and the cost can be reduced.

(5−5)変形例1E
上記第1実施形態では、カーボンインキが第1領域AR1及び第2領域AR2の全面に塗布され、銀ペーストは、スクリーン印刷のときに既にパターニングされている。しかし、導電性粒子を含むペースト(第1実施形態では銀ペースト)を第1領域AR1及び/または第2領域AR2の全面に塗布した後に、波長2μm以下のパルス発振レーザを使った第3のパターニング及び/または第4のパターニングによって第1電極FE及び/または第2電極SEを形成してもよい。
図17には、感圧センサ10の製造工程のフローの他の例が示されている。変形例1Eの感圧センサ10の製造工程が第1実施形態の感圧センサ10の製造工程と異なる点は、ステップS2において、第1領域AR1の全面に銀ペーストがスクリーン印刷を使って塗布される点と、ステップS3の後にステップS3Aが更に設けられている点である。このステップS3Aでは、図18Aに示されている二点差線93の上にレーザが照射されることにより、ステップS3で形成された第1導電層L3が分離して絶縁される。このとき第1導電層L3が分離される距離は、例えば30μmである。このステップS3Aで実施されるレーザを使った第3のパターニングによって、第1電極FEが形成される(図18B参照)。図18Bに示されているように、ステップS8においては、レーザによる第1のパターニングが行われ、二点差線91に沿って波長2μm以下のパルス発振レーザを使って第1感圧層L1が分離して絶縁される。このとき、第1感圧層L1とともに第1導電層L3もさらに分離して絶縁される。そのため、スペーサ支持部SSは、第1感圧層L1とともに第1導電層L3も含むものになる。このように製造される場合には、感圧センサ10の第1感圧帯FBの表面粗さがさらに低減され、感度のバラツキがさらに低減される。
(5-5) Modification 1E
In the first embodiment, the carbon ink is applied to the entire surface of the first region AR1 and the second region AR2, and the silver paste is already patterned at the time of screen printing. However, after applying a paste containing conductive particles (silver paste in the first embodiment) to the entire surface of the first region AR1 and / or the second region AR2, the third patterning using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less is performed. The first electrode FE and / or the second electrode SE may be formed by and / or fourth patterning.
FIG. 17 shows another example of the flow of the manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10. The manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10 of Modification Example 1E is different from the manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10 of the first embodiment in that a silver paste is applied to the entire surface of the first region AR1 using screen printing in step S2. And step S3A is further provided after step S3. In this step S3A, the first conductive layer L3 formed in step S3 is separated and insulated by irradiating the laser on the two-dot line 93 shown in FIG. 18A. At this time, the distance at which the first conductive layer L3 is separated is, for example, 30 μm. The first electrode FE is formed by the third patterning using the laser performed in step S3A (see FIG. 18B). As shown in FIG. 18B, in step S8, first patterning by laser is performed, and the first pressure-sensitive layer L1 is separated along the two-dot line 91 using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less. And is insulated. At this time, the first conductive layer L3 is further separated and insulated together with the first pressure-sensitive layer L1. Therefore, the spacer supporting portion SS includes the first conductive layer L3 together with the first pressure-sensitive layer L1. When manufactured in this manner, the surface roughness of the first pressure-sensitive zone FB of the pressure-sensitive sensor 10 is further reduced, and the variation in sensitivity is further reduced.

変形例1Eの感圧センサ10の製造工程が第1実施形態の感圧センサ10の製造工程と異なる点は、ステップS12において、第2領域AR2の全面に銀ペーストがスクリーン印刷を使って塗布される点と、ステップS13の後にステップS13Aが更に設けられている点である。このステップS13Aでは、レーザが照射されることにより、ステップS13で形成された第2導電層が分離して絶縁される。このステップS13Aで実施されるレーザを使った第4のパターニングによって、第2電極SEが形成される。ステップS16においては、レーザによる第2のパターニングが行われ、波長2μm以下のパルス発振レーザを使って第2感圧層が分離して絶縁される。このとき、第2感圧層とともに第2導電層もさらに分離して絶縁される。そのため、当接部は、第2感圧層とともに第2導電層も含むものになる。このように製造される場合には、感圧センサ10の第2感圧帯SBの表面粗さがさらに低減され、感度のバラツキがさらに低減される。   The manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10 of the modified example 1E is different from the manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10 of the first embodiment. In step S12, a silver paste is applied to the entire surface of the second area AR2 using screen printing. And step S13A is further provided after step S13. In step S13A, the second conductive layer formed in step S13 is separated and insulated by irradiating the laser. The second electrode SE is formed by the fourth patterning using the laser performed in step S13A. In step S16, the second patterning is performed using a laser, and the second pressure-sensitive layer is separated and insulated using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less. At this time, the second conductive layer is further separated and insulated together with the second pressure-sensitive layer. Therefore, the contact portion includes the second conductive layer together with the second pressure-sensitive layer. When manufactured in this manner, the surface roughness of the second pressure-sensitive band SB of the pressure-sensitive sensor 10 is further reduced, and the variation in sensitivity is further reduced.

(5−6)変形例1F
上記第1実施形態では、第1感圧帯FB及び第2感圧帯SBを形成するために、波長2μm以下のパルス発振レーザを使って第1感圧層L1及び第2感圧層L2をパターニングした。しかし、第1感圧帯FB及び第2感圧帯SBの両方をレーザでパターニングせずに、いずれか一方を従来と同様にスクリーン印刷でカーボンインキのパターンを印刷するようにしてもよい。このように、第1感圧帯FB及び第2感圧帯SBのうちの一方をパターニングして形成する際にスクリーン印刷を用いることで、製造コストを削減することができる。
(5−7)変形例1G
上記第1実施形態では、第1のパターニングの際に、第1感圧層L1のみを切断して分離絶縁した。しかし、さらに検出箇所DSの設置密度を大きくする際には、第1のパターニングで波長2μm以下のパルス発振レーザを使って、ドットスペーサ15の端を同時切断することを許容してもよい。図6に示されているように、ドットスペーサ15は、扁平な形状であるので中央部を残して端をカットしてもスペーサの役割を果たすことができる。このようにして、第1絶縁領域AR5の幅を狭くすることで、検出箇所DSの設置密度を大きくし易くなる。
(5-6) Modification 1F
In the first embodiment, in order to form the first pressure-sensitive band FB and the second pressure-sensitive band SB, the first pressure-sensitive layer L1 and the second pressure-sensitive layer L2 are formed using a pulse oscillation laser having a wavelength of 2 μm or less. Patterned. However, instead of patterning both the first pressure-sensitive band FB and the second pressure-sensitive band SB with the laser, one of the first pressure-sensitive band FB and the second pressure-sensitive band SB may be screen-printed with a carbon ink pattern in the same manner as in the related art. As described above, by using screen printing when forming one of the first pressure-sensitive band FB and the second pressure-sensitive band SB by patterning, the manufacturing cost can be reduced.
(5-7) Modification 1G
In the first embodiment, at the time of the first patterning, only the first pressure-sensitive layer L1 is cut and separated and insulated. However, in order to further increase the installation density of the detection locations DS, it may be permitted to simultaneously cut the ends of the dot spacers 15 using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less in the first patterning. As shown in FIG. 6, since the dot spacer 15 has a flat shape, it can function as a spacer even if the end is cut while leaving the center portion. In this manner, by reducing the width of the first insulating region AR5, it is easy to increase the installation density of the detection points DS.

〈第2実施形態〉
図21には、第2実施形態に係る感圧センサ10Aの構成が模式的に示されている。第2実施形態に係る感圧センサ10Aが第1実施形態に係る感圧センサ10と異なる点は、ドットスペーサ15の形成を省いている点である。つまり、第2実施形態に係る感圧センサ10Aは、ドットスペーサ15を有していない。そのため、感圧センサ10Aの製造工程では、図7に示された感圧センサ10の製造工程からステップS6,S7の工程が省かれる。ステップS6,S7以外の工程は、感圧センサ10の製造工程を感圧センサ10Aの製造工程に適用することができるので、感圧センサ10Aの製造工程についての詳細な説明を省略する。
図19には、カーボンインキを第1絶縁基板11にスクリーン印刷した後にカーボンインキを乾燥し(ステップS5に相当する製造工程)、さらにその後にレーザによる第1のパターニングを行うとき(ステップS8に相当する製造工程)のレーザの照射箇所が示されている。図19の二点差線95で示されている箇所が波長2μm以下のパルス発振レーザによって第1感圧層L1が切断される箇所である。
図20には、カーボンインキを第2絶縁基板12にスクリーン印刷した後にカーボンインキを乾燥し(ステップS15に相当する製造工程)、さらにその後にレーザによる第2のパターニングを行うとき(ステップS16に相当する製造工程)のレーザの照射箇所が示されている。図20の二点差線96で示されている箇所が波長2μm以下のパルス発振レーザによって第2感圧層L2が切断される箇所である。
<Second embodiment>
FIG. 21 schematically illustrates a configuration of a pressure-sensitive sensor 10A according to the second embodiment. The pressure sensor 10A according to the second embodiment differs from the pressure sensor 10 according to the first embodiment in that the formation of the dot spacer 15 is omitted. That is, the pressure-sensitive sensor 10A according to the second embodiment does not include the dot spacer 15. Therefore, in the manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10A, steps S6 and S7 are omitted from the manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10 shown in FIG. Steps other than steps S6 and S7 can apply the manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10 to the manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10A, and thus a detailed description of the manufacturing process of the pressure-sensitive sensor 10A is omitted.
In FIG. 19, when the carbon ink is screen-printed on the first insulating substrate 11, the carbon ink is dried (a manufacturing process corresponding to step S5), and then the first patterning by laser is performed (corresponding to step S8). Of the manufacturing process). The portion indicated by the two-dot line 95 in FIG. 19 is the portion where the first pressure-sensitive layer L1 is cut by the pulse oscillation laser having a wavelength of 2 μm or less.
FIG. 20 shows the case where the carbon ink is dried after the screen printing of the carbon ink on the second insulating substrate 12 (a manufacturing process corresponding to step S15), and then the second patterning by laser is performed (corresponding to step S16). Of the manufacturing process). The portion indicated by the two-dot line 96 in FIG. 20 is the portion where the second pressure-sensitive layer L2 is cut by the pulse oscillation laser having a wavelength of 2 μm or less.

(6)感圧センサ10Aの構造
(6−1)感圧センサ10Aの構造の概要
感圧センサ10Aも、感圧センサ10と同様に、樹脂製の第1絶縁基板11と、樹脂製の第2絶縁基板12と、複数の第1電極FEと、複数の第1感圧帯FBと、複数の第2電極SEと、複数の第2感圧帯SBと、接着枠13と、第1引出配線21と、第2引出配線22とを備えている。図21においては、第1電極FEの側から第2電極SEの側に向って見ており、第1絶縁基板11が透明である場合について記載されているため、第1絶縁基板11を透過して第1電極FE及び接着枠13などが見えている。
第1絶縁基板11がセンシングの行われる第1領域AR1を含み、第2絶縁基板12がセンシングの行われる第2領域AR2を含んでいる。図21に示されているように、第1絶縁基板11と第2絶縁基板12とが組み合わされた状態では、第1領域AR1と第2領域AR2とが重なる。複数の第1電極FEは、X軸方向(第1方向)に沿って第1領域AR1に延設されている。複数の第2電極SEは、Y軸方向(第2方向)に沿って第2領域AR2に延設されている。また、第1絶縁基板11が第1領域AR1の周囲に第3領域AR3を含み、第2絶縁基板12が第2領域AR2の周囲に第4領域AR4を含んでいる。複数の第1引出配線21は、第3領域AR3に配置されている。複数の第1引出配線21のうちの各々の第1引出配線21は、対応する第1電極FEに接続されている。また、複数の第2引出配線22は、第4領域AR4に配置されている。複数の第2引出配線22のうちの各々の第2引出配線22は、対応する第2電極SEに接続されている。感圧センサ10Aにおいても、感圧センサ10と同様に、複数の第1引出配線21及び複数の第2引出配線22は、FPC3を介してIC2に接続される。
(6) Structure of Pressure-Sensitive Sensor 10A (6-1) Outline of Structure of Pressure-Sensitive Sensor 10A Similarly to the pressure-sensitive sensor 10, the pressure-sensitive sensor 10A also includes a first insulating substrate 11 made of resin and a resin-made first insulating substrate 11A. 2 insulating substrate 12, a plurality of first electrodes FE, a plurality of first pressure-sensitive zones FB, a plurality of second electrodes SE, a plurality of second pressure-sensitive zones SB, an adhesive frame 13, and a first drawer. A wiring 21 and a second extraction wiring 22 are provided. FIG. 21 is viewed from the first electrode FE side to the second electrode SE side, and describes a case where the first insulating substrate 11 is transparent. Thus, the first electrode FE and the adhesive frame 13 are visible.
The first insulating substrate 11 includes a first region AR1 where sensing is performed, and the second insulating substrate 12 includes a second region AR2 where sensing is performed. As shown in FIG. 21, in a state where the first insulating substrate 11 and the second insulating substrate 12 are combined, the first region AR1 and the second region AR2 overlap. The plurality of first electrodes FE extend in the first region AR1 along the X-axis direction (first direction). The plurality of second electrodes SE extend in the second region AR2 along the Y-axis direction (second direction). Further, the first insulating substrate 11 includes a third region AR3 around the first region AR1, and the second insulating substrate 12 includes a fourth region AR4 around the second region AR2. The plurality of first extraction wirings 21 are arranged in the third region AR3. Each first extraction wiring 21 of the plurality of first extraction wirings 21 is connected to a corresponding first electrode FE. Further, the plurality of second extraction wirings 22 are arranged in the fourth region AR4. Each second extraction wiring 22 of the plurality of second extraction wirings 22 is connected to the corresponding second electrode SE. Also in the pressure sensor 10A, similarly to the pressure sensor 10, the plurality of first lead wires 21 and the plurality of second lead wires 22 are connected to the IC 2 via the FPC 3.

(6−2)感圧センサ10Aの検出箇所DS
図22には、図21に示された感圧センサ10Aの2箇所の検出箇所DSの断面構造が模式的に示されている。図22では、第1電極FEと第1感圧帯FBと複数の第2電極SEと複数の第2感圧帯SBと接着枠13の大きさなどについては、図面上での見易さを考慮し、デフォルメして模式的に記載されている。感圧センサ10Aの第1電極FEも、感圧センサ10の第1電極FEと同様に、互いに電気的に結合された複数の第1導電性粒子31を含んでいる。そして、多数の第1導電性粒子31が高分子バインダ41の中に含まれている。この高分子バインダ41によって、第1導電性粒子31が第1絶縁基板11に固定され、第1導電性粒子31同士の電気的結合が維持されている。感圧センサ10Aの第2電極SEも、感圧センサ10の第2電極SEと同様に、互いに電気的に結合された複数の第3導電性粒子33を含んでおり、多数の第3導電性粒子33が高分子バインダ43の中に含まれた構成になっている。小型の感圧センサ10Aにおいては、第1導電性粒子31及び第3導電性粒子33の平均粒子径は、2μm以下であることが好ましく、1μm以下であることがさらに好ましい。
感圧センサ10Aの第1感圧帯FBも、感圧センサ10の第1感圧帯FBと同様に、互いに電気的に結合された複数の第2導電性粒子32を含んでおり、多数の第2導電性粒子32が高分子バインダ42の中に含まれた構成になっている。感圧センサ10Aの第2感圧帯SBも、感圧センサ10の第2感圧帯SBと同様に、互いに電気的に結合された複数の第4導電性粒子34を含んでおり、多数の第4導電性粒子34が高分子バインダ44の中に含まれた構成になっている。そして、第2導電性粒子32の導電率は、第1導電性粒子31の導電率よりも小さく、また第4導電性粒子34の導電率は、第3導電性粒子33の導電率よりも小さい。
(6-2) Detection location DS of pressure-sensitive sensor 10A
FIG. 22 schematically illustrates a cross-sectional structure of two detection points DS of the pressure-sensitive sensor 10A illustrated in FIG. In FIG. 22, the size of the first electrode FE, the first pressure-sensitive band FB, the plurality of second electrodes SE, the plurality of second pressure-sensitive bands SB, the size of the bonding frame 13, and the like are shown in the drawing for ease of viewing. Considered, deformed and described schematically. Like the first electrode FE of the pressure-sensitive sensor 10, the first electrode FE of the pressure-sensitive sensor 10A also includes a plurality of first conductive particles 31 electrically connected to each other. Further, many first conductive particles 31 are included in the polymer binder 41. The first conductive particles 31 are fixed to the first insulating substrate 11 by the polymer binder 41, and the electrical connection between the first conductive particles 31 is maintained. Similarly to the second electrode SE of the pressure-sensitive sensor 10, the second electrode SE of the pressure-sensitive sensor 10A also includes a plurality of third conductive particles 33 electrically connected to each other, and includes a large number of third conductive particles. The structure is such that the particles 33 are contained in the polymer binder 43. In the small pressure-sensitive sensor 10A, the average particle diameter of the first conductive particles 31 and the third conductive particles 33 is preferably 2 μm or less, more preferably 1 μm or less.
Similarly to the first pressure-sensitive band FB of the pressure-sensitive sensor 10, the first pressure-sensitive band FB of the pressure-sensitive sensor 10A includes a plurality of second conductive particles 32 electrically connected to each other. The structure is such that the second conductive particles 32 are contained in the polymer binder 42. Similarly to the second pressure-sensitive band SB of the pressure-sensitive sensor 10, the second pressure-sensitive band SB of the pressure-sensitive sensor 10A includes a plurality of fourth conductive particles 34 electrically connected to each other. The fourth conductive particles 34 are included in a polymer binder 44. The conductivity of the second conductive particles 32 is smaller than the conductivity of the first conductive particles 31, and the conductivity of the fourth conductive particles 34 is smaller than the conductivity of the third conductive particles 33. .

(6−3)感圧センサ10Aの各部の大きさ
まず、図22に示されているY軸方向の大きさについて説明する。第1電極FEの幅W11が例えば100μmである。第1電極FEの間隔、つまり第1絶縁領域AR5の幅W12が例えば100μmである。レーザ加工の1回の照射によって、第1感圧層L1が30μmの幅W13を持つ直線状に除去されている。なお、第2実施形態では、第2電極SEの幅も第1電極FEの幅W11と同じに設定され、第2絶縁領域AR6の幅も第1絶縁領域AR5の幅W12と同じに設定されている。また、レーザ加工の1回の照射によって、第2感圧層L2が30μmの幅を持つ直線状に除去される。なお、ここでは1回のレーザの照射で1本の直線状の除去部分を第2感圧層L2に形成する例を示しているが、複数回のレーザ照射で1本の直線状の除去部分を形成してもよい。
図19に示されているように、スペーサとして兼用される接着枠13は、X軸方向(第1方向)に沿って延びていて且つ互いに対向する第1の縁13aと第2の縁13bを持っている。そして、第1の縁13aと第2の縁13bの間隔が50mm以下に設定されている。第1絶縁基板11及び第2絶縁基板12の厚さが50μm以下の場合は、第1絶縁基板11及び第2絶縁基板12の剛性が小さいので、第1の縁13aと第2の縁13bの間隔を20mm以下に設定することが好ましい。
次に、図22に示されているZ軸方向の大きさについて説明する。感圧センサ10Aの第1絶縁基板11及び第2絶縁基板12の厚さH11は、感圧センサ10と同様に、20μm以上200μm以下であることが好ましい。第1電極FE及び第2電極SEの厚さH12は、例えば2μmから10μmであり、第1感圧帯FB及び第2感圧帯SBの厚さH13は、例えば10μmから20μmである。接着枠13を構成しているシールド層51,53の厚さH14は例えば10μmから50μmであり、糊層52,54の厚さH15は例えば10μmから50μmである。
(6-3) Size of Each Part of Pressure Sensor 10A First, the size in the Y-axis direction shown in FIG. 22 will be described. The width W11 of the first electrode FE is, for example, 100 μm. The interval between the first electrodes FE, that is, the width W12 of the first insulating region AR5 is, for example, 100 μm. By the single irradiation of the laser processing, the first pressure-sensitive layer L1 is removed in a linear shape having a width W13 of 30 μm. In the second embodiment, the width of the second electrode SE is set to be the same as the width W11 of the first electrode FE, and the width of the second insulating region AR6 is set to be the same as the width W12 of the first insulating region AR5. I have. Further, the second pressure-sensitive layer L2 is removed linearly with a width of 30 μm by one irradiation of the laser processing. Here, an example is shown in which one linear removal portion is formed in the second pressure-sensitive layer L2 by one laser irradiation. However, one linear removal portion is formed by a plurality of laser irradiations. May be formed.
As shown in FIG. 19, the adhesive frame 13 also serving as a spacer extends along the X-axis direction (first direction) and has a first edge 13a and a second edge 13b facing each other. have. The distance between the first edge 13a and the second edge 13b is set to 50 mm or less. When the thickness of the first insulating substrate 11 and the second insulating substrate 12 is 50 μm or less, the rigidity of the first insulating substrate 11 and the second insulating substrate 12 is small, so that the first edge 13a and the second edge 13b It is preferable to set the interval to 20 mm or less.
Next, the size in the Z-axis direction shown in FIG. 22 will be described. The thickness H11 of the first insulating substrate 11 and the second insulating substrate 12 of the pressure-sensitive sensor 10A is preferably not less than 20 μm and not more than 200 μm as in the pressure-sensitive sensor 10. The thickness H12 of the first electrode FE and the second electrode SE is, for example, 2 μm to 10 μm, and the thickness H13 of the first pressure-sensitive band FB and the second pressure-sensitive band SB is, for example, 10 μm to 20 μm. The thickness H14 of the shield layers 51 and 53 constituting the bonding frame 13 is, for example, 10 μm to 50 μm, and the thickness H15 of the adhesive layers 52, 54 is, for example, 10 μm to 50 μm.

図23には、第1領域AR1及び第2領域AR2に配置されている第1電極FE及び第2電極SEと、第3領域AR3及び第4領域AR4に配置されている第1引出配線21及び第2引出配線22との接続部分が拡大して示されている。第1電極FE及び第2電極SEの幅W11が100μmである場合に、第1引出配線21及び第2引出配線22が2倍の200μmに広げて接続されている。なお、第1電極FE及び第2電極SEの配線間隔及び、第1引出配線21及び第2引出配線22の配線間隔は、いずれも100μmである。第1引出配線21及び第2引出配線22の配線幅が第1電極FE及び第2電極SEの電極幅の2倍以上であるので、第1電極FE及び第2電極SEを細くして複数の検出箇所の設置密度を高くしつつ第1引出配線21及び第2引出配線22での電圧降下を減らすことができ、検出精度を向上させ易くなる。
なお、第2実施形態では、第1引出配線21及び第2引出配線22の配線幅が第1電極FE及び第2電極SEの電極幅の2倍に広げられる場合について説明したが、第1引出配線21及び/または第2引出配線22の配線幅が第1電極FE及び/または第2電極SEの電極幅2倍よりも大きく拡張されてもよい。第1電極FEまたは第2電極SEから第1引出配線21及び第2引出配線22の配線に接続するときに線幅が拡張されているが、例えば第1引出配線21及び/または第2引出配線22の配線方向を変更するときに線幅が拡張されてもよい。
FIG. 23 shows the first electrode FE and the second electrode SE arranged in the first region AR1 and the second region AR2, and the first extraction wiring 21 arranged in the third region AR3 and the fourth region AR4. The connection portion with the second extraction wiring 22 is shown in an enlarged manner. When the width W11 of the first electrode FE and the second electrode SE is 100 μm, the first extraction wiring 21 and the second extraction wiring 22 are connected to be expanded to 200 μm, which is twice as large. Note that the wiring interval between the first electrode FE and the second electrode SE and the wiring interval between the first extraction wiring 21 and the second extraction wiring 22 are all 100 μm. Since the wiring width of the first extraction wiring 21 and the second extraction wiring 22 is twice or more of the electrode width of the first electrode FE and the second electrode SE, the first electrode FE and the second electrode SE are made thinner to form a plurality of wirings. The voltage drop at the first lead-out wiring 21 and the second lead-out wiring 22 can be reduced while increasing the installation density of the detection points, and the detection accuracy can be easily improved.
In the second embodiment, the case has been described where the wiring width of the first lead wiring 21 and the second lead wiring 22 is increased to twice the electrode width of the first electrode FE and the second electrode SE. The wiring width of the wiring 21 and / or the second lead wiring 22 may be expanded to be larger than twice the electrode width of the first electrode FE and / or the second electrode SE. The line width is expanded when connecting from the first electrode FE or the second electrode SE to the wiring of the first extraction wiring 21 and the second extraction wiring 22, for example, the first extraction wiring 21 and / or the second extraction wiring. When changing the wiring direction of the line 22, the line width may be expanded.

(7)特徴
(7−1)
第2実施形態に係る感圧センサ10Aの製造方法も、(4−1)及び(4−3)で説明した第1実施形態に係る感圧センサ10の製造方法と同じ効果を奏する。
(7−2)
第2実施形態では、第1電極FE及び第2電極SEの電極幅が小さいので、第1引出配線21及び第2引出配線22の配線幅を第1電極FE及び第2電極SEの電極幅の2倍以上に拡張しているので、第1電極FE及び/第2電極SEを細くして複数の検出課の設置密度を高くしつつ第1引出配線21及び第2引出配線22での電圧降下を減らすことができ、検出精度を向上させ易くなる。
(7) Features (7-1)
The method of manufacturing the pressure-sensitive sensor 10A according to the second embodiment also has the same effect as the method of manufacturing the pressure-sensitive sensor 10 according to the first embodiment described in (4-1) and (4-3).
(7-2)
In the second embodiment, since the electrode width of the first electrode FE and the second electrode SE is small, the wiring width of the first extraction wiring 21 and the second extraction wiring 22 is set to the width of the electrode width of the first electrode FE and the second electrode SE. Since the first electrode FE and / or the second electrode SE are thinned to increase the installation density of the plurality of detection sections, the voltage drop at the first extraction wiring 21 and the second extraction wiring 22 is increased. Can be reduced, and the detection accuracy can be easily improved.

(8)変形例
(8−1)変形例2A
上記第2実施形態においても、変形例1Cのように、一つの第1絶縁領域AR5及び第2絶縁領域AR6に対して照射するレーザの照射回数を変更してもよい。
(8−2)変形例2B
上記第2実施形態においても、変形例1Eのように、レーザによる第3のパターニング及び/またはレーザによる第4のパターニングを用いて、第1領域AR1及び/または第2領域AR2の全面に塗布されて形成された第1導電層及び/または第2導電層をパターニングして、第1電極及び/または第2電極を形成するように構成してもよい。
(8−3)変形例2C
上記第2実施形態においても、変形例1Fのように、第1感圧帯FB及び第2感圧帯SBの両方をレーザでパターニングせずに、いずれか一方を従来と同様にスクリーン印刷でカーボンインキのパターンを印刷するようにしてもよい。
(8) Modification (8-1) Modification 2A
Also in the second embodiment, as in Modification 1C, the number of laser irradiations for irradiating one first insulating region AR5 and one second insulating region AR6 may be changed.
(8-2) Modification 2B
Also in the second embodiment, as in the modification 1E, the third region is patterned on the entire surface of the first region AR1 and / or the second region AR2 by using the third patterning by laser and / or the fourth patterning by laser. The first conductive layer and / or the second conductive layer formed by patterning may be patterned to form the first electrode and / or the second electrode.
(8-3) Modification 2C
Also in the second embodiment, as in Modification 1F, both the first pressure-sensitive band FB and the second pressure-sensitive band SB are not patterned by laser, and either one is screen-printed in the same manner as in the related art. An ink pattern may be printed.

1 圧力検出装置
10,10A 感圧センサ
11 第1絶縁基板
12 第2絶縁基板
13 接着枠
15 ドットスペーサ
15A スペーサ
21 第1引出配線
22 第2引出配線
31 第1導電性粒子
32 第2導電性粒子
33 第3導電性粒子
34 第4導電性粒子
41〜44 高分子バインダ
51,53 シールド層
52,54 糊層
CP,CP1〜CP6 当接部
DS 検出箇所
FB,FB1〜FB5 第1感圧帯
FE 第1電極
L1 第1感圧層
L2 第2感圧層
L3 第1導電層
SB,SB1〜SB7 第2感圧帯
SE 第2電極
SS,SS1〜SS4 スペーサ支持部
X1〜X5 第1電極
Y1〜Y7 第2電極
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Pressure detecting device 10 and 10A Pressure sensor 11 First insulating substrate 12 Second insulating substrate 13 Adhesive frame 15 Dot spacer 15A Spacer 21 First extraction wiring 22 Second extraction wiring 31 First conductive particle 32 Second conductive particle 33 Third conductive particles 34 Fourth conductive particles 41 to 44 Polymer binder 51, 53 Shield layer 52, 54 Glue layer CP, CP1 to CP6 Contact part DS Detection point FB, FB1 to FB5 First pressure sensitive zone FE 1st electrode L1 1st pressure sensitive layer L2 2nd pressure sensitive layer L3 1st conductive layer SB, SB1-SB7 2nd pressure sensitive zone SE 2nd electrode SS, SS1-SS4 Spacer support part X1-X5 1st electrode Y1- Y7 second electrode

Claims (10)

センシングが行われる第1領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第1絶縁基板を準備し、
前記第1領域に導電性ペーストをスクリーン印刷により塗布した後に乾燥して互いに電気的に結合された第1導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1電極を形成し、
前記複数の第1電極の形成後に、前記第1導電性粒子よりも導電率が低い第2導電性粒子を含むインキをスクリーン印刷により前記第1領域の全面に塗布した後に乾燥して、高分子バインダにより互いに電気的に結合された前記第2導電性粒子が前記第1導電性粒子に接している第1感圧層を形成し、
前記複数の第1電極の中の互いに隣接する第1電極の間の複数の第1絶縁領域にある前記第1感圧層を、波長2μm以下のパルス発振レーザを使って第1方向に沿って切断して前記第1感圧層を複数の第1感圧帯に分離して絶縁する第1のパターニングを行い、前記第1方向に延設されている複数の第1電極の各々を、前記複数の第1感圧帯のうちの対応するものに接して配置させ、
前記第1方向に交差する第2方向に延設され且つ互いに電気的に結合された第3導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2電極と、前記第2方向に沿って前記複数の第2電極に接して延設され且つ前記第3導電性粒子よりも導電率が低い第4導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2感圧帯とが、センシングが行われる第2領域に形成されている、厚さ200μm以下の樹脂製の第2絶縁基板を準備し、
前記第1領域と前記第2領域を重ね且つ前記複数の第1感圧帯と前記複数の第2感圧帯とを互いに接触可能な位置に対向させて配置し、前記第1導電性粒子及び前記第3導電性粒子よりも導電率が低い前記第2導電性粒子及び前記第4導電性粒子を用いて前記複数の第1感圧帯と前記複数の第2感圧帯の接触箇所の接触抵抗の抵抗値が前記接触箇所に加わる圧力によって変化するように、前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板とを組み合わせる、感圧センサの製造方法。
A first insulating substrate made of resin including a first region where sensing is performed and having a thickness of 200 μm or less is prepared,
Applying a conductive paste to the first region by screen printing and then drying to form a plurality of first electrodes including first conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder;
After forming the plurality of first electrodes, an ink containing second conductive particles having a lower conductivity than the first conductive particles is applied to the entire surface of the first region by screen printing, and then dried to obtain a polymer. Forming a first pressure-sensitive layer in which the second conductive particles electrically connected to each other by a binder are in contact with the first conductive particles;
The first pressure-sensitive layer in a plurality of first insulating regions between adjacent first electrodes among the plurality of first electrodes is moved along a first direction using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less. The first pressure-sensitive layer is cut and separated into a plurality of first pressure-sensitive zones to perform first patterning for insulation, and each of the plurality of first electrodes extending in the first direction is Placed in contact with a corresponding one of the plurality of first pressure-sensitive zones,
A plurality of second electrodes that extend in a second direction intersecting the first direction and are electrically coupled to each other and that include third conductive particles in a polymer binder; and the plurality of second electrodes along the second direction. A plurality of second pressure-sensitive zones that extend in contact with the second electrode and that include fourth conductive particles having a lower conductivity than the third conductive particles in the polymer binder; A resin-made second insulating substrate having a thickness of 200 μm or less formed in two regions is prepared,
The first region and the second region overlap each other, and the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones are arranged so as to face each other at positions where they can come into contact with each other, and the first conductive particles and Contact between the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones using the second conductive particles and the fourth conductive particles having lower conductivity than the third conductive particles. A method for manufacturing a pressure-sensitive sensor, comprising combining the first insulating substrate and the second insulating substrate such that a resistance value of a resistor changes according to a pressure applied to the contact portion.
前記第1感圧層の形成後、前記第1感圧層の切断の前または切断の後に、前記第1絶縁領域にある前記第1感圧層の表面に複数のスペーサを形成する、
請求項1に記載の感圧センサの製造方法。
After forming the first pressure-sensitive layer, before or after cutting the first pressure-sensitive layer, forming a plurality of spacers on the surface of the first pressure-sensitive layer in the first insulating region;
A method for manufacturing the pressure-sensitive sensor according to claim 1.
前記複数の第2電極と前記複数の第2感圧帯とが前記第2領域に形成されている前記第2絶縁基板の準備は、
厚さ200μm以下の樹脂製の前記第2絶縁基板を準備し、
前記第2領域に前記第3導電性粒子を含む導電性ペーストをスクリーン印刷により塗布した後に乾燥して第2導電層を形成し、
前記第2導電層の形成後に、前記第4導電性粒子を含むインキを前記第2領域の全面に塗布した後に乾燥して、前記第2導電層に接している第2感圧層を形成し、
波長2μm以下のパルス発振レーザを使って前記第2方向に沿って前記第2感圧層を切断して前記第2感圧層を前記複数の第2感圧帯に分離して絶縁する第2のパターニングを行い、前記第2方向に延設されている前記複数の第2電極の各々を、前記複数の第2感圧帯のうちの対応するものに接して配置させる、
請求項1または請求項2に記載の感圧センサの製造方法。
The preparation of the second insulating substrate in which the plurality of second electrodes and the plurality of second pressure-sensitive zones are formed in the second region includes:
Preparing the second insulating substrate made of resin having a thickness of 200 μm or less,
A second conductive layer is formed by applying a conductive paste containing the third conductive particles to the second region by screen printing and then drying the paste.
After forming the second conductive layer, an ink containing the fourth conductive particles is applied to the entire surface of the second region and then dried to form a second pressure-sensitive layer in contact with the second conductive layer. ,
Using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less, cutting the second pressure-sensitive layer along the second direction to separate and insulate the second pressure-sensitive layer into the plurality of second pressure-sensitive zones. Patterning, and disposing each of the plurality of second electrodes extending in the second direction in contact with a corresponding one of the plurality of second pressure-sensitive zones,
A method for manufacturing the pressure-sensitive sensor according to claim 1.
前記第1のパターニングのときに、前記第1感圧層を分離して絶縁することにより前記複数のスペーサを支持する複数のスペーサ支持部を、前記複数の第1感圧帯から絶縁して前記第1絶縁領域に形成し、
前記第2のパターニングのときに、前記第2感圧層を分離して絶縁することにより前記複数のスペーサに当接する複数の当接部を、前記複数の第2感圧帯から絶縁して、前記複数の第2電極の中の互いに隣接する第2電極の間の複数の第2絶縁領域に形成する、
請求項3に記載の感圧センサの製造方法。
At the time of the first patterning, the plurality of spacer supporting portions that support the plurality of spacers by separating and insulating the first pressure-sensitive layer are insulated from the plurality of first pressure-sensitive zones. Formed in the first insulating region,
At the time of the second patterning, a plurality of contact portions that contact the plurality of spacers by separating and insulating the second pressure-sensitive layer are insulated from the plurality of second pressure-sensitive zones, Forming a plurality of second insulating regions between adjacent second electrodes among the plurality of second electrodes;
A method for manufacturing the pressure-sensitive sensor according to claim 3.
前記複数のスペーサは、前記インキを用いて形成する、
請求項4に記載の感圧センサの製造方法。
The plurality of spacers are formed using the ink,
A method for manufacturing the pressure-sensitive sensor according to claim 4.
前記第1領域及び前記第2領域の周囲にスペーサとして兼用される接着枠が前記第1方向に沿って延びていて且つ互いに対向する第1の縁と第2の縁を持ち、前記第1の縁と前記第2の縁の間隔が50mm以下に設定され、
前記接着枠を前記第1絶縁基板及び前記第2絶縁基板のうちの少なくとも一方にスクリーン印刷して、前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板とを組み合わせるときに前記接着枠によって前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板とを貼り合せる、
請求項1から5のいずれか一項に記載の感圧センサの製造方法。
An adhesive frame also used as a spacer around the first region and the second region extends along the first direction and has a first edge and a second edge facing each other, and The distance between the edge and the second edge is set to 50 mm or less,
The adhesive frame is screen-printed on at least one of the first insulating substrate and the second insulating substrate, and the first insulating substrate and the second insulating substrate are combined with the first insulating substrate when the first insulating substrate and the second insulating substrate are combined. Bonding a substrate and the second insulating substrate,
A method for manufacturing the pressure-sensitive sensor according to claim 1.
スクリーン印刷によって前記第1領域の全面に第1導電層を形成し、波長2μm以下のパルス発振レーザを使って前記第1方向に沿って前記第1導電層を切断して前記第1導電層を前記複数の第1電極に分離して絶縁する第3のパターニングを行うことにより、前記複数の第1電極を形成する、
請求項1から6のいずれか一項に記載の感圧センサの製造方法。
A first conductive layer is formed on the entire surface of the first region by screen printing, and the first conductive layer is cut along the first direction using a pulsed laser having a wavelength of 2 μm or less to form the first conductive layer. Forming a plurality of first electrodes by performing third patterning for separating and insulating the plurality of first electrodes;
A method for manufacturing the pressure-sensitive sensor according to claim 1.
センシングが行われる第1領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第1絶縁基板と、
センシングが行われる第2領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第2絶縁基板と、
第1方向に沿って前記第1領域に延設され、互いに電気的に結合された第1導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1電極と、
前記第1方向に沿って延設されて前記複数の第1電極の中の対応するものにそれぞれ接し、互いに電気的に結合された第2導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1感圧帯と、
前記第1方向に交差する第2方向に沿って前記第2領域に延設され、互いに電気的に結合された第3導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2電極と、
前記第2方向に沿って延設されて前記複数の第2電極の中の対応するものにそれぞれ接し、互いに電気的に結合された第4導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2感圧帯と、
前記複数の第1電極の中の互いに隣接する第1電極の間の少なくとも一つの第1絶縁領域に配置され、前記複数の第1感圧帯と同じ構成を持つ第1感圧層を含む少なくとも一つのスペーサ支持部と、
前記スペーサ支持部の表面に配置されている複数のスペーサと、
を備え、
前記第1領域と前記第2領域を重ね且つ前記複数の第1感圧帯と前記複数の第2感圧帯とを互いに接触可能な位置に対向させて配置し、前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板の間に圧力が加わらない状態では前記複数のスペーサによって前記複数の第1感圧帯と前記複数の第2感圧帯との間の隙間が維持され、前記第1導電性粒子及び前記第3導電性粒子よりも導電率が低い前記第2導電性粒子及び前記第4導電性粒子を用いて前記複数の第1感圧帯と前記複数の第2感圧帯の接触箇所の接触抵抗の抵抗値が前記接触箇所に加わる圧力によって変化するように、前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板とを組み合わせている、感圧センサ。
A first insulating substrate made of a resin including a first region where sensing is performed and having a thickness of 200 μm or less;
A second insulating substrate made of a resin including a second region where sensing is performed and having a thickness of 200 μm or less;
A plurality of first electrodes extending in the first region along the first direction and including first conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder;
A plurality of first conductive particles extending in the first direction and contacting corresponding ones of the plurality of first electrodes, respectively, and including second conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder. Pressure sensitive zone,
A plurality of second electrodes extending in the second region along a second direction intersecting with the first direction and including third conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder;
A plurality of second conductive particles extending in the second direction and in contact with corresponding ones of the plurality of second electrodes and electrically connected to each other and including fourth conductive particles in a polymer binder; Pressure sensitive zone,
At least including a first pressure-sensitive layer disposed in at least one first insulating region between adjacent first electrodes in the plurality of first electrodes and having the same configuration as the plurality of first pressure-sensitive zones. One spacer support,
A plurality of spacers arranged on the surface of the spacer support,
With
The first region and the second region overlap each other, and the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones are arranged so as to face each other at positions where they can come into contact with each other, and the first insulating substrate and the When no pressure is applied between the second insulating substrates, a gap between the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones is maintained by the plurality of spacers, and the first conductive particles are formed. And using the second conductive particles and the fourth conductive particles having a lower conductivity than the third conductive particles to determine a contact point between the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones. A pressure-sensitive sensor, wherein the first insulating substrate and the second insulating substrate are combined so that a resistance value of a contact resistance changes according to a pressure applied to the contact portion.
センシングが行われる第1領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第1絶縁基板と、
センシングが行われる第2領域を含み、厚さ200μm以下の樹脂製の第2絶縁基板と、
第1方向に沿って前記第1領域に延設され、互いに電気的に結合された第1導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1電極と、
前記第1方向に沿って延設されて前記複数の第1電極の中の対応するものにそれぞれ接し、互いに電気的に結合された第2導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第1感圧帯と、
前記第1方向に交差する第2方向に沿って前記第2領域に延設され、互いに電気的に結合された第3導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2電極と、
前記第2方向に沿って延設されて前記複数の第2電極の中の対応するものにそれぞれ接し、互いに電気的に結合された第4導電性粒子を高分子バインダ中に含む複数の第2感圧帯と、
前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板とを接着しており、間隔が50mm以下の互いに対向する第1の縁及び第2の縁を持ち且つ前記第1領域及び前記第2領域の周囲にスペーサとして兼用されている接着枠と、
を備え、
前記第1領域と前記第2領域を重ね且つ前記複数の第1感圧帯と前記複数の第2感圧帯とを互いに接触可能な位置に対向させて配置し、前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板の間に圧力が加わらない状態では前記接着枠によって前記複数の第1感圧帯と前記複数の第2感圧帯との間の隙間が維持され、前記第1導電性粒子及び前記第3導電性粒子よりも導電率が低い前記第2導電性粒子及び前記第4導電性粒子を用いて前記複数の第1感圧帯と前記複数の第2感圧帯の接触箇所の接触抵抗の抵抗値が前記接触箇所に加わる圧力によって変化するように、前記第1絶縁基板と前記第2絶縁基板とを組み合わせている、感圧センサ。
A first insulating substrate made of a resin including a first region where sensing is performed and having a thickness of 200 μm or less;
A second insulating substrate made of a resin including a second region where sensing is performed and having a thickness of 200 μm or less;
A plurality of first electrodes extending in the first region along the first direction and including first conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder;
A plurality of first conductive particles extending in the first direction and contacting corresponding ones of the plurality of first electrodes, respectively, and including second conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder. Pressure sensitive zone,
A plurality of second electrodes extending in the second region along a second direction intersecting with the first direction and including third conductive particles electrically coupled to each other in a polymer binder;
A plurality of second conductive particles extending in the second direction and in contact with corresponding ones of the plurality of second electrodes and electrically connected to each other and including fourth conductive particles in a polymer binder; Pressure sensitive zone,
The first insulating substrate and the second insulating substrate are bonded to each other, have a first edge and a second edge facing each other with a distance of 50 mm or less, and are provided around the first region and the second region. An adhesive frame also used as a spacer,
With
The first region and the second region overlap each other, and the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones are arranged so as to face each other at positions where they can come into contact with each other, and the first insulating substrate and the In a state where pressure is not applied between the second insulating substrates, a gap between the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones is maintained by the adhesive frame, and the first conductive particles and Contact between the plurality of first pressure-sensitive zones and the plurality of second pressure-sensitive zones using the second conductive particles and the fourth conductive particles having lower conductivity than the third conductive particles. A pressure-sensitive sensor, wherein the first insulating substrate and the second insulating substrate are combined so that a resistance value of a resistor changes according to a pressure applied to the contact portion.
前記第1絶縁基板は、前記第1領域の周囲に第3領域を含み、前記第3領域に配置されていて前記複数の第1電極に接続され且つ前記複数の第1電極の電極幅の2倍以上の配線幅を持つ複数の第1引出配線を有する、
請求項9に記載の感圧センサ。

The first insulating substrate includes a third region around the first region, is disposed in the third region, is connected to the plurality of first electrodes, and has an electrode width of 2 of the plurality of first electrodes. Having a plurality of first extraction wirings having a wiring width twice or more,
The pressure sensor according to claim 9.

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