JP2019533818A - ターゲットアセンブリ及び同位体製造システム - Google Patents
ターゲットアセンブリ及び同位体製造システム Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019533818A JP2019533818A JP2019524071A JP2019524071A JP2019533818A JP 2019533818 A JP2019533818 A JP 2019533818A JP 2019524071 A JP2019524071 A JP 2019524071A JP 2019524071 A JP2019524071 A JP 2019524071A JP 2019533818 A JP2019533818 A JP 2019533818A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- chamber
- sheet
- manufacturing chamber
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21G—CONVERSION OF CHEMICAL ELEMENTS; RADIOACTIVE SOURCES
- G21G1/00—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes
- G21G1/04—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes outside nuclear reactors or particle accelerators
- G21G1/10—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes outside nuclear reactors or particle accelerators by bombardment with electrically charged particles
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21G—CONVERSION OF CHEMICAL ELEMENTS; RADIOACTIVE SOURCES
- G21G1/00—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes
- G21G1/001—Recovery of specific isotopes from irradiated targets
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H6/00—Targets for producing nuclear reactions
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21G—CONVERSION OF CHEMICAL ELEMENTS; RADIOACTIVE SOURCES
- G21G1/00—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes
- G21G1/001—Recovery of specific isotopes from irradiated targets
- G21G2001/0015—Fluorine
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21G—CONVERSION OF CHEMICAL ELEMENTS; RADIOACTIVE SOURCES
- G21G1/00—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes
- G21G1/001—Recovery of specific isotopes from irradiated targets
- G21G2001/0021—Gallium
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
Description
Claims (20)
- 同位体製造システム用のターゲットアセンブリであって、
製造チャンバと、前記製造チャンバに隣接するビームキャビティと、を有するターゲット本体であって、前記製造チャンバは、ターゲット材料を保持するように構成されており、前記ビームキャビティは、前記ターゲット本体の外側に対して開口し、前記製造チャンバに入射する粒子ビームを受容するように構成されている、ターゲット本体と、
前記ビームキャビティ及び前記製造チャンバを分離するように位置付けられているターゲットシートであって、前記ターゲットシートは、同位体の製造中に前記ターゲットシートが前記ターゲット材料と接触するように前記製造チャンバに露出される側面を有し、前記ターゲットシートはグラフェンを含む、ターゲットシートと、を備える、ターゲットアセンブリ。 - 前記ターゲットシートは、グラフェンから本質的になるグラフェン層を含む、請求項1に記載のターゲットアセンブリ。
- 前記ターゲットシートはまた、前記グラフェン層に対して積層されるチャンバ層を含み、前記チャンバ層は、前記グラフェン層と前記製造チャンバとの間に位置付けられ、同位体の製造中に前記ターゲット材料が前記チャンバ層と接触するように前記製造チャンバに露出される、請求項2に記載のターゲットアセンブリ。
- 前記チャンバ層は、前記粒子ビームによる活性化時に長寿命同位体を生じさせる材料を含まない、請求項3に記載のターゲットアセンブリ。
- 前記チャンバ層は、金、ニオブ、タンタル、チタン、又は上記のうちの1つ以上を含む合金を含む、請求項3に記載のターゲットアセンブリ。
- 前記ターゲットシートは、少なくとも20マイクロメートルの厚さを有する、請求項1に記載のターゲットアセンブリ。
- 前記ターゲットシートは、グラフェンから本質的になるグラフェン層を含み、前記グラフェン層は、少なくとも20マイクロメートルの厚さを有する、請求項1に記載のターゲットアセンブリ。
- 前記ターゲット本体は、ビーム通路内に配置されるグリッド部を含み、前記グリッド部は、前記ターゲットシートの前面と接する背面を有し、前記グリッド部は、前記ターゲットシートを支持して、前記製造チャンバ内の高圧による破裂の可能性を低減する、請求項1に記載のターゲットアセンブリ。
- 同位体製造システムであって、
粒子ビームを生成するように構成されている粒子加速器と、
製造チャンバと、前記製造チャンバに隣接するビームキャビティと、を有するターゲット本体を含むターゲットアセンブリであって、前記製造チャンバは、ターゲット液体を保持するように構成されており、前記ビームキャビティは、前記ターゲット本体の外側に対して開口し、前記製造チャンバに入射する粒子ビームを受容するように構成されており、前記ターゲットアセンブリはまた、前記ビームキャビティ及び前記製造チャンバを分離するように位置付けられているターゲットシートを含み、前記ターゲットシートは、同位体の製造中に前記ターゲット材料が前記ターゲットシートと接触するように、前記製造チャンバに露出される側面を有し、前記ターゲットシートはグラフェンを含む、ターゲットアセンブリと、を備える、同位体製造システム。 - 前記ターゲットシートは、グラフェンから本質的になるグラフェン層を含む、請求項9に記載の同位体製造システム。
- 前記ターゲットシートはまた、前記グラフェン層に対して積層されるチャンバ層を含み、前記チャンバ層は、前記グラフェン層と前記製造チャンバとの間に位置付けられ、同位体の製造中に前記ターゲット材料が前記チャンバ層と接触するように前記製造チャンバに露出される、請求項10に記載の同位体製造システム。
- 前記チャンバ層は、前記粒子ビームによる活性化時に長寿命同位体を生じさせる材料を含まない、請求項11に記載の同位体製造システム。
- 前記ターゲットシートは、少なくとも20マイクロメートルの厚さを有する、請求項11に記載の同位体製造システム。
- 前記ターゲット本体は、ビーム通路内に配置されるグリッド部を含み、前記グリッド部は、前記ターゲットシートの前面と接する背面を有し、前記グリッド部は、前記ターゲットシートを支持して、前記製造チャンバ内の高圧による破裂の可能性を低減する、請求項11に記載の同位体製造システム。
- 硝酸中の硝酸68Znを前記製造チャンバに流し込むように構成されている流体制御システムを更に備える、請求項9に記載の同位体製造システム。
- 放射性同位体を生成する方法であって、
ターゲットアセンブリの製造チャンバにターゲット材料を供給することであって、前記ターゲットアセンブリは、製造チャンバと、前記製造チャンバに隣接するビームキャビティと、を有し、前記製造チャンバは、ターゲット液体を保持するように構成されており、前記ビームキャビティは、前記製造チャンバに入射する粒子ビームを受容するように構成されており、前記ターゲットアセンブリはまた、前記ビームキャビティ及び前記製造チャンバを分離するように位置付けられているターゲットシートを含み、前記ターゲットシートは、同位体の製造中に前記ターゲット材料が前記ターゲットシートと接触するように、前記製造チャンバに露出される側面を有し、前記ターゲットシートはグラフェンを含む、ことと、
前記粒子ビームを前記ターゲット材料へと方向付けることであって、前記粒子ビームは、前記ターゲットシートを通過して前記ターゲット材料に入射する、ことと、を含む、方法。 - 前記ターゲット材料は硝酸中の硝酸68Znを含み、前記グラフェン層は、同位体の製造中に前記ターゲット材料が前記グラフェン層と接触するように前記ターゲット材料に露出される、請求項16に記載の方法。
- 前記ターゲット材料に入射する前記粒子ビームのエネルギーは7〜24MeVである、請求項17に記載の方法。
- 前記ターゲット材料は、天然14N2ガスを含む、請求項16に記載の方法。
- 前記ターゲットシートは、前記製造チャンバと前記グラフェン層との間に配置されるチャンバ層を備え、前記チャンバ層は、前記グラフェン層から前記製造チャンバへの非活性炭素の流れを妨げる、請求項19に記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/348,198 | 2016-11-10 | ||
US15/348,198 US10354771B2 (en) | 2016-11-10 | 2016-11-10 | Isotope production system having a target assembly with a graphene target sheet |
PCT/US2017/060183 WO2018089304A1 (en) | 2016-11-10 | 2017-11-06 | Target assembly and isotope production system |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019533818A true JP2019533818A (ja) | 2019-11-21 |
JP6968163B2 JP6968163B2 (ja) | 2021-11-17 |
Family
ID=60413282
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019524071A Active JP6968163B2 (ja) | 2016-11-10 | 2017-11-06 | ターゲットアセンブリ及び同位体製造システム |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US10354771B2 (ja) |
EP (1) | EP3539361A1 (ja) |
JP (1) | JP6968163B2 (ja) |
CN (1) | CN109964542B (ja) |
CA (1) | CA3043034A1 (ja) |
WO (1) | WO2018089304A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US11315700B2 (en) | 2019-05-09 | 2022-04-26 | Strangis Radiopharmacy Consulting and Technology | Method and apparatus for production of radiometals and other radioisotopes using a particle accelerator |
CN116685042A (zh) * | 2021-12-21 | 2023-09-01 | 中国科学技术大学 | 中性原子束产生装置 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2004191190A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho | 核変換処理による高温発生方法及び装置 |
US20050061994A1 (en) * | 2000-11-28 | 2005-03-24 | Behrouz Amini | High power high yield target for production of all radioisotopes for positron emission tomography |
US20110255646A1 (en) * | 2010-04-19 | 2011-10-20 | Tomas Eriksson | Self-shielding target for isotope production systems |
US20130259180A1 (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | General Electric Company | Target windows for isotope systems |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6011825A (en) | 1995-08-09 | 2000-01-04 | Washington University | Production of 64 Cu and other radionuclides using a charged-particle accelerator |
SE513191C2 (sv) | 1998-09-29 | 2000-07-24 | Gems Pet Systems Ab | Snabbkoppling |
KR100854965B1 (ko) | 2001-06-13 | 2008-08-28 | 트라이엄프,오퍼레이팅애즈어조인트벤쳐바이더거버너스 오브더유니버시티오브알버타더유니버시티오브브리티시콜롬비아 칼레톤유니버시티시몬프레이저유니버시티더유니버시티 오브토론토앤드더유니버시티오브빅토리아 | 이온빔에 의한 18f-플루오르화물의 제조 장치 및 방법 |
JP3893451B2 (ja) * | 2001-11-30 | 2007-03-14 | 大学共同利用機関法人 高エネルギー加速器研究機構 | 荷電変換膜、荷電変換膜の製造方法、及び荷電変換膜の製造装置 |
EP1509925B1 (en) | 2002-05-21 | 2008-10-01 | Duke University | Batch target and method for producing radionuclide |
EP1569243A1 (en) | 2004-02-20 | 2005-08-31 | Ion Beam Applications S.A. | Target device for producing a radioisotope |
KR100648408B1 (ko) * | 2005-06-21 | 2006-11-24 | 한국원자력연구소 | 표적장치 |
JP2010530965A (ja) | 2007-06-22 | 2010-09-16 | アドバンスト アプライド フィジックス ソリューションズ,インコーポレイテッド | 放射性同位体を製造する高圧モジュール式ターゲットシステム |
EP2146555A1 (en) | 2008-07-18 | 2010-01-20 | Ion Beam Applications S.A. | Target apparatus for production of radioisotopes |
EP2393344A1 (en) | 2010-06-01 | 2011-12-07 | Ion Beam Applications S.A. | Apparatus for producing a radioisotope comprising means for maintenance and method of maintenance for said apparatus |
JP2013206726A (ja) * | 2012-03-28 | 2013-10-07 | High Energy Accelerator Research Organization | 複合型ターゲット、複合型ターゲットを用いる中性子発生方法、及び複合型ターゲットを用いる中性子発生装置 |
US9907867B2 (en) * | 2013-09-26 | 2018-03-06 | General Electric Company | Systems, methods and apparatus for manufacturing radioisotopes |
EP3142709A4 (en) | 2014-05-15 | 2017-12-20 | Mayo Foundation for Medical Education and Research | Solution target for cyclotron production of radiometals |
BE1023217B1 (fr) | 2014-07-10 | 2016-12-22 | Pac Sprl | Conteneur, son procede d'obtention, et ensemble de cible pour la production de radio-isotopes utilisant un tel conteneur |
US20160141062A1 (en) * | 2014-11-19 | 2016-05-19 | General Electric Company | Target body for an isotope production system and method of using the same |
US10249398B2 (en) * | 2015-06-30 | 2019-04-02 | General Electric Company | Target assembly and isotope production system having a vibrating device |
-
2016
- 2016-11-10 US US15/348,198 patent/US10354771B2/en not_active Expired - Fee Related
-
2017
- 2017-11-06 JP JP2019524071A patent/JP6968163B2/ja active Active
- 2017-11-06 CA CA3043034A patent/CA3043034A1/en not_active Abandoned
- 2017-11-06 EP EP17801558.2A patent/EP3539361A1/en not_active Withdrawn
- 2017-11-06 WO PCT/US2017/060183 patent/WO2018089304A1/en unknown
- 2017-11-06 CN CN201780066302.0A patent/CN109964542B/zh active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20050061994A1 (en) * | 2000-11-28 | 2005-03-24 | Behrouz Amini | High power high yield target for production of all radioisotopes for positron emission tomography |
JP2004191190A (ja) * | 2002-12-11 | 2004-07-08 | Laser Gijutsu Sogo Kenkyusho | 核変換処理による高温発生方法及び装置 |
US20110255646A1 (en) * | 2010-04-19 | 2011-10-20 | Tomas Eriksson | Self-shielding target for isotope production systems |
JP2013527922A (ja) * | 2010-04-19 | 2013-07-04 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | アイソトープ生成システム用の自己シールドターゲット |
US20130259180A1 (en) * | 2012-03-30 | 2013-10-03 | General Electric Company | Target windows for isotope systems |
JP2015512517A (ja) * | 2012-03-30 | 2015-04-27 | ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ | アイソトープ製造システムのためのターゲットウィンドウ |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
HAIJING,WANG ET AL: "DESIGN OF HIGH-POWER GRAPHENE BEAM WINDOW", 5TH INTERNATIONAL PARTICLE ACCELERATOR CONFERENCE PROCEEDING OF IPAC2014,DRESDEN,GERMANY, JPN7020004048, 2014, pages 45 - 47, XP002776589, ISSN: 0004411226 * |
J. VINCENT ET AL: "THE IONETIX ION-12SC COMPACT SUPERCONDUCTING CYCLOTRONFOR PRODUCTION OF MEDICAL ISOTOPES", 21ST INTERNATIONAL CONFERENCE ON CYCLOTRONS AND THIER APPLICATIONS PROCEEDINGS OF CYCLOTRONS2016, ZU, JPN7020004049, September 2016 (2016-09-01), pages 290 - 293, XP002776588, ISSN: 0004411227 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US10354771B2 (en) | 2019-07-16 |
CA3043034A1 (en) | 2018-05-17 |
WO2018089304A1 (en) | 2018-05-17 |
JP6968163B2 (ja) | 2021-11-17 |
CN109964542B (zh) | 2021-11-02 |
CN109964542A (zh) | 2019-07-02 |
EP3539361A1 (en) | 2019-09-18 |
US20180130567A1 (en) | 2018-05-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6276745B2 (ja) | アイソトープ生成システム用の自己シールドターゲット | |
JP6791996B2 (ja) | グリッド部分を有するターゲットアセンブリおよび同位体生成システム | |
JP7091183B2 (ja) | ターゲットアセンブリおよび核種製造システム | |
JP6352897B2 (ja) | ターゲットウィンドウ、ターゲットシステム及びアイソトープ製造システム | |
TW201414362A (zh) | 中子產生裝置用標靶及其製造方法 | |
US20060062342A1 (en) | Method and apparatus for the production of radioisotopes | |
JP2018190711A (ja) | ターゲットアセンブリの生成チャンバ内の固体ターゲットを作製するためのシステムおよび方法 | |
US11678430B2 (en) | Neutron generating target for neutron beam systems | |
US20160141062A1 (en) | Target body for an isotope production system and method of using the same | |
JP6968163B2 (ja) | ターゲットアセンブリ及び同位体製造システム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20190523 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190523 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20190716 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20190712 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200306 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200421 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20210106 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20210401 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20210520 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20210524 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20210928 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20211026 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6968163 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |