JP2018190711A - ターゲットアセンブリの生成チャンバ内の固体ターゲットを作製するためのシステムおよび方法 - Google Patents
ターゲットアセンブリの生成チャンバ内の固体ターゲットを作製するためのシステムおよび方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2018190711A JP2018190711A JP2018083529A JP2018083529A JP2018190711A JP 2018190711 A JP2018190711 A JP 2018190711A JP 2018083529 A JP2018083529 A JP 2018083529A JP 2018083529 A JP2018083529 A JP 2018083529A JP 2018190711 A JP2018190711 A JP 2018190711A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- target
- conductive base
- electrolyte
- chamber
- target assembly
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
- G21G—CONVERSION OF CHEMICAL ELEMENTS; RADIOACTIVE SOURCES
- G21G1/00—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes
- G21G1/04—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes outside nuclear reactors or particle accelerators
- G21G1/10—Arrangements for converting chemical elements by electromagnetic radiation, corpuscular radiation or particle bombardment, e.g. producing radioactive isotopes outside nuclear reactors or particle accelerators by bombardment with electrically charged particles
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H6/00—Targets for producing nuclear reactions
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H13/00—Magnetic resonance accelerators; Cyclotrons
- H05H13/005—Cyclotrons
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H13/00—Magnetic resonance accelerators; Cyclotrons
- H05H13/02—Synchrocyclotrons, i.e. frequency modulated cyclotrons
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
- H05H7/14—Vacuum chambers
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
- H05H7/08—Arrangements for injecting particles into orbits
- H05H2007/088—Arrangements for injecting particles into orbits by mechanical means, e.g. stripping foils
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05H—PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OF NEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMIC BEAMS
- H05H7/00—Details of devices of the types covered by groups H05H9/00, H05H11/00, H05H13/00
- H05H7/12—Arrangements for varying final energy of beam
- H05H2007/125—Arrangements for varying final energy of beam by mechanical means, e.g. stripping foils
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- High Energy & Nuclear Physics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
Description
[実施態様1]
システム(100)であって、
生成チャンバ(304)を有するターゲットアセンブリ(300)であって、電極(320)と、前記生成チャンバ(304)に露出された導電性ベース(322)と、を含み、前記生成チャンバ(304)へのアクセスを提供する流体ポート(306〜309)を有するターゲットアセンブリ(300)と、
電解液(330)を保持するように構成された貯蔵容器(146)と、前記ターゲットアセンブリ(300)の前記流体ポート(306〜309)に接続する流体ラインと、を有する流体制御システム(125)であって、前記ターゲットアセンブリ(300)の前記貯蔵容器(146)および前記生成チャンバ(304)は、前記流体ラインのうちの少なくとも1つを通って流体連通する、流体制御システム(125)と、
前記電極(320)および前記導電性ベース(322)に電気的に接続されるように構成された電源(332)であって、前記生成チャンバ(304)内に前記電解液(330)が配置されている場合には、前記生成チャンバ(304)と前記電極(320)と前記導電性ベース(322)とが電解槽(335)を形成し、導電性ベース(322)に沿って固体ターゲット(326)を堆積させるために、前記電極(320)および前記導電性ベース(322)に電圧を印加するように構成された電源(332)と、を含むシステム(100)。
[実施態様2]
前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記電極(320)と前記導電性ベース(322)との間に配置された中間本体部分(317)を含み、前記中間本体部分(317)は絶縁性である、実施態様1に記載のシステム(100)。
[実施態様3]
1つもしくは複数の回路またはプロセッサをさらに含み、前記1つもしくは複数の回路またはプロセッサは、
前記流体制御システム(125)を用いて、前記生成チャンバ(304)内への前記電解液(330)の流れを誘起し、
前記電源(332)を用いて前記ターゲットアセンブリ(300)に前記電圧を印加し、それによって前記導電性ベース(322)上に金属イオンを堆積させ、
前記電圧が印加された後に、前記流体制御システム(125)を用いて生成チャンバ(304)から出る前記電解液(330)の流れを誘起するように構成される、実施態様1に記載のシステム(100)。
[実施態様4]
前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記電極(320)と前記導電性ベース(322)との間に配置された中間本体部分(317)を含み、前記中間本体部分(317)は絶縁性である、実施態様3に記載のシステム(100)。
[実施態様5]
前記1つもしくは複数の回路またはプロセッサは、前記電圧が印加されている間に、(a)前記生成チャンバ(304)内の前記電解液(330)の流れを誘起すること、または(b)前記生成チャンバ(304)内の振動を引き起こす振動装置(340)を作動させること、の少なくとも一方を行うように構成される、実施態様3に記載のシステム(100)。
[実施態様6]
前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記生成チャンバ(304)への開口部を覆うフォイル(310)を含み、前記フォイル(310)は前記生成チャンバ(304)の一部を画定する、実施態様1に記載のシステム(100)。
[実施態様7]
前記ターゲットアセンブリ(300)は、粒子ビーム(325)を受け取るように構成された前記生成チャンバ(304)への開口部を含み、前記導電性ベース(322)は、前記粒子ビーム(325)が前記導電性ベース(322)に沿って前記固体ターゲット(326)に入射するように、前記開口部と位置合わせされる、実施態様1に記載のシステム(100)。
[実施態様8]
システム(100)であって、
粒子ビーム(325)を生成するように構成された粒子加速器(102)と、
生成チャンバ(304)を有するターゲットアセンブリ(300)であって、電極(320)と、前記生成チャンバ(304)に露出された導電性ベース(322)と、を含み、前記生成チャンバ(304)へのアクセスを提供する流体ポート(306〜309)を有するターゲットアセンブリ(300)と、
電解液(330)を保持するように構成された貯蔵容器(146)と、前記ターゲットアセンブリ(300)の前記流体ポート(306〜309)に接続する流体ラインと、を有する流体制御システム(125)であって、前記ターゲットアセンブリ(300)の前記貯蔵容器(146)および前記生成チャンバ(304)は、前記流体ラインのうちの少なくとも1つを通って流体連通する、流体制御システム(125)と、
前記電極(320)および前記導電性ベース(322)に電気的に接続されるように構成された電源(332)であって、前記生成チャンバ(304)内に前記電解液(330)が配置されている場合には、前記生成チャンバ(304)と前記電極(320)と前記導電性ベース(322)とが電解槽(335)を形成する電源(332)と、を含み、
前記流体制御システム(125)は、前記生成チャンバ(304)と流体連通する少なくとも1つのポンプ(144)を含み、前記少なくとも1つのポンプ(144)は、前記生成チャンバ(304)内への前記電解液(330)の流れを誘起し、前記電源(332)によって電圧が印加された後に、前記生成チャンバ(304)から出る前記電解液(330)の流れを誘起するように構成される、システム(100)。
[実施態様9]
1つまたは複数のプロセッサと、前記1つまたは複数のプロセッサによってアクセス可能なプログラムされた命令を格納するように構成された記憶媒体と、を含む制御システム(118)をさらに含み、前記1つまたは複数のプロセッサは、前記少なくとも1つのポンプ(144)および前記電源(332)を制御して、
前記生成チャンバ(304)内への前記電解液(330)の前記流れを誘起し、
前記ターゲットアセンブリ(300)に前記電圧を印加し、それによって前記導電性ベース(322)に沿って固体ターゲット(326)を堆積させ、
前記電圧が印加された後に、生成チャンバ(304)から出る前記電解液(330)の前記流れを誘起するように構成される、実施態様8に記載のシステム(100)。
[実施態様10]
前記制御システム(118)は、前記粒子加速器(102)を制御して、前記粒子ビーム(325)を前記生成チャンバ(304)内の前記固体ターゲット(326)上に導くように構成される、実施態様9に記載のシステム(100)。
[実施態様11]
前記電解液(330)は第2の電解液(330)であり、前記固体ターゲット(326)が堆積される前に、前記1つまたは複数のプロセッサは、前記少なくとも1つのポンプ(144)および前記電源(332)を制御して、
前記生成チャンバ(304)内への第1の電解液(330)の流れを誘起し、
前記ターゲットアセンブリ(300)に電圧を印加し、それによって前記導電性ベース(322)に沿ってベース層を堆積させ、
前記電圧が印加された後に、生成チャンバ(304)から出る前記第1の電解液(330)の前記流れを誘起するように構成され、前記固体ターゲット(326)は前記ベース層に沿って堆積される、実施態様9に記載のシステム(100)。
[実施態様12]
前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記電極(320)と前記導電性ベース(322)との間に配置された中間本体部分(317)を含み、前記中間本体部分(317)は絶縁性である、実施態様8に記載のシステム(100)。
[実施態様13]
前記粒子ビーム(325)が前記固体ターゲット(326)上に導かれた後に、前記少なくとも1つのポンプ(144)は、溶解液(344)を前記生成チャンバ(304)内に流すように構成され、前記溶解液(344)は、前記固体ターゲット(326)が前記粒子ビーム(325)によって活性化された後に、前記固体ターゲット(326)を前記溶液中に溶解させるように構成される、実施態様8に記載のシステム(100)。
[実施態様14]
前記ターゲットアセンブリ(300)は、粒子ビーム(325)を受け取るように構成された前記生成チャンバ(304)への開口部を含み、前記導電性ベース(322)は、前記粒子ビーム(325)が前記導電性ベース(322)に沿って前記固体ターゲット(326)に入射するように、前記開口部と位置合わせされる、実施態様8に記載のシステム(100)。
[実施態様15]
前記少なくとも1つのポンプ(144)は、前記電圧が印加されている間に、(a)前記生成チャンバ(304)内の前記電解液(330)の流れを誘起すること、または(b)前記生成チャンバ(304)内で前記電解液(330)を実質的に静的に保持することの少なくとも一方を行うように構成される、実施態様8に記載のシステム(100)。
[実施態様16]
固体ターゲット(326)を生成する方法(400)であって、
電解液(330)をターゲットアセンブリ(300)の生成チャンバ(304)内に流すステップ(402)であって、前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記生成チャンバ(304)内に配置された電極(320)および導電性ベース(322)を含み、前記生成チャンバ(304)と前記電極(320)と前記導電性ベース(322)と前記電解液(330)とは電解槽(335)を形成する、ステップと、
前記ターゲットアセンブリ(300)に電圧を印加し、それによって前記導電性ベース(322)に沿って固体ターゲット(326)を堆積させるステップ(404)と、
前記電圧が印加された後に、生成チャンバ(304)から前記電解液(330)を流出させるステップ(408)と、を含む方法(400)。
[実施態様17]
前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記電極(320)と前記導電性ベース(322)との間に配置された中間本体部分(317)を含み、前記中間本体部分(317)は絶縁性である、実施態様16に記載の方法(400)。
[実施態様18]
前記生成チャンバ(304)内の前記固体ターゲット(326)上に粒子ビーム(325)を導くように粒子加速器(102)を制御するステップをさらに含み、前記粒子ビーム(325)が前記固体ターゲット(326)上に導かれた後に、前記方法(400)は、溶解液(344)を前記生成チャンバ(304)内に流すステップをさらに含み、前記溶解液(344)は、前記固体ターゲット(326)が前記粒子ビーム(325)によって活性化された後に、前記固体ターゲット(326)を前記溶液中に溶解させるように構成される、実施態様16に記載の方法(400)。
[実施態様19]
前記電圧が前記ターゲットアセンブリ(300)に印加される際に前記生成チャンバ(304)内で生成されるガスを排気するステップ(407)をさらに含む、実施態様16に記載の方法(400)。
[実施態様20]
前記電圧が印加されている間に、前記生成チャンバ(304)内で前記電解液(330)を移動させるステップ(406)をさらに含む、実施態様16に記載の方法(400)。
2 出口ポート
3 出口ポート
4 出口ポート
5 出口ポート
6 出口ポート
100 同位体生成システム
102 粒子加速器
103 パラジウム
104 イオン源システム
106 電界システム
108 磁界システム
110 真空システム
111 インジウム
112 粒子ビーム
114 ターゲットシステム
115 抽出システム
116 ターゲット材料
117 ビーム通路
118 制御システム
120 生成チャンバ
122 冷却システム
125 流体制御システム
126 振動装置
127 電源
140 ターゲットアセンブリ
142 ターゲット本体
144 バルブ
146 貯蔵容器
148 貯蔵容器
150 抽出システム
152 ターゲットシステム
154 抽出ユニット
156 抽出ユニット
158 フォイルホルダ、抽出ユニット
160 抽出フォイル
162 外部粒子ビーム
164 ターゲット位置
166 トラック、レール
168 出口ポート
170 軸
172 ターゲットアセンブリ
174 ターゲット本体
200 ターゲットアセンブリ
201 ターゲット本体
202 本体アセンブリ、本体部分
204 本体アセンブリ、本体部分
206 本体アセンブリ、本体部分
207 外面
208 ボルト
210 ワッシャ
212 継手
213 後面
214 材料ポート、流体ポート
215 材料ポート、流体ポート
218 生成チャンバ
219 通路開口部
220 ターゲットインサート
221 キャビティ
222 キャビティ
225 振動装置
226 封止リング
227 ワイヤ
228 フォイル部材
230 キャビティ
232 キャビティ
236 封止境界
238 開口部
240 フォイル部材
242 環状リム
244 封止
246 封止リング
248 開口部
250 封止リング
252 リム
254 ピン
256 開口部
258 封止リング
260 開口部
262 ボア
300 ターゲットアセンブリ
301 ターゲット本体
302 ターゲット本体
304 生成チャンバ
305 ガス蓄積領域
306 ポート、流体ポート
307 ポート、流体ポート
308 ポート、流体ポート
309 ポート、流体ポート
310 ターゲットフォイル、シート
311 内面
312 ビーム通路
314 開口部
316 後方本体部分
317 中間本体部分
318 前方本体部分
320 電極
322 導電性ベース
325 粒子ビーム
326 固体ターゲット
326A 下位層
326B 下位層
330 電解液
332 電源
335 電解槽
340 振動装置
342 撹拌装置
344 溶解液
350 内面
352 内面
356 カバー
358 キャップ
P 矢印
Claims (13)
- システム(100)であって、
生成チャンバ(304)を有するターゲットアセンブリ(300)であって、電極(320)と、前記生成チャンバ(304)内に配置された導電性ベース(322)と、を含み、前記生成チャンバ(304)へのアクセスを提供する流体ポート(306〜309)を有するターゲットアセンブリ(300)と、
電解液を保持するように構成された貯蔵容器(146)と、前記ターゲットアセンブリ(300)の前記流体ポート(306〜309)に接続する流体ラインと、を有する流体制御システム(125)であって、前記ターゲットアセンブリ(300)の前記貯蔵容器(146)および前記生成チャンバ(304)は、前記流体ラインのうちの少なくとも1つを通って流体連通する、流体制御システム(125)と、
前記電極(320)および前記導電性ベース(322)に電気的に接続されるように構成された電源(332)であって、前記生成チャンバ(304)内に前記電解液が配置されている場合には、前記生成チャンバ(304)と前記電極(320)と前記導電性ベース(322)とが電解槽を形成する電源と、を含み、
導電性ベース(322)に沿って固体ターゲット(326)を堆積させるために、前記電極(320)および前記導電性ベース(322)に電圧を印加するように構成された電源(332)と、を含むシステム(100)。 - 前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記電極(320)と前記導電性ベース(322)との間に配置された中間本体部分(317)を含み、前記中間本体部分(317)は絶縁性である、請求項1に記載のシステム(100)。
- 1つもしくは複数の回路またはプロセッサをさらに含み、前記1つもしくは複数の回路またはプロセッサは、
前記流体制御システム(125)を用いて、前記生成チャンバ(304)内への前記電解液(330)の流れを誘起し、
前記電源(332)を用いて前記ターゲットアセンブリ(300)に前記電圧を印加し、それによって前記導電性ベース(322)上に金属イオンを堆積させ、
前記電圧が印加された後に、前記流体制御システム(125)を用いて生成チャンバ(304)から出る前記電解液(330)の流れを誘起するように構成される、請求項1に記載のシステム(100)。 - 前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記電極(320)と前記導電性ベース(322)との間に配置された中間本体部分(317)を含み、前記中間本体部分(317)は絶縁性である、請求項3に記載のシステム(100)。
- 前記1つもしくは複数の回路またはプロセッサは、前記電圧が印加されている間に、(a)前記生成チャンバ(304)内の前記電解液(330)の流れを誘起すること、または(b)前記生成チャンバ(304)内の振動を引き起こす振動装置(340)を作動させること、の少なくとも一方を行うように構成される、請求項3に記載のシステム(100)。
- 前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記生成チャンバ(304)への開口部を覆うフォイル(310)を含み、前記フォイル(310)は前記生成チャンバ(304)の一部を画定する、請求項1に記載のシステム(100)。
- 前記ターゲットアセンブリ(300)は、粒子ビーム(325)を受け取るように構成された前記生成チャンバ(304)への開口部を含み、前記導電性ベース(322)は、前記粒子ビーム(325)が前記導電性ベース(322)に沿って前記固体ターゲット(326)に入射するように、前記開口部と位置合わせされる、請求項1に記載のシステム(100)。
- 粒子ビームを生成し、前記生成チャンバ(304)内の前記固体ターゲット(326)上に導くように構成された粒子加速器(102)をさらに含む、請求項1に記載のシステム(100)。
- 固体ターゲット(326)を生成する方法であって、
電解液をターゲットアセンブリ(300)の生成チャンバ(304)内に流すステップであって、ターゲットアセンブリ(300)は、前記生成チャンバ(304)内に配置された電極(320)および導電性ベース(322)を含み、前記生成チャンバ(304)と前記電極(320)と前記導電性ベース(322)と前記電解液とは電解槽を形成する、ステップと、
前記ターゲットアセンブリ(300)に電圧を印加し、それによって前記導電性ベース(322)に沿って固体ターゲット(326)を堆積させるステップと、
前記電圧が印加された後に、生成チャンバ(304)から前記電解液を流出させるステップと、を含む方法。 - 前記ターゲットアセンブリ(300)は、前記電極(320)と前記導電性ベース(322)との間に配置された中間本体部分(317)を含み、前記中間本体部分(317)は絶縁性である、請求項9に記載の方法。
- 前記生成チャンバ(304)内の前記固体ターゲット(326)上に粒子ビーム(325)を導くように粒子加速器(102)を制御するステップをさらに含み、前記粒子ビーム(325)が前記固体ターゲット(326)上に導かれた後に、前記方法(400)は、溶解液(344)を前記生成チャンバ(304)内に流すステップをさらに含み、前記溶解液(344)は、前記固体ターゲット(326)が前記粒子ビーム(325)によって活性化された後に、前記固体ターゲット(326)を前記溶液中に溶解させるように構成される、請求項9に記載の方法(400)。
- 前記電圧が前記ターゲットアセンブリ(300)に印加される際に前記生成チャンバ(304)内で生成されるガスを排気するステップ(407)をさらに含む、請求項9に記載の方法(400)。
- 前記電圧が印加されている間に、前記生成チャンバ(304)内で前記電解液(330)を移動させるステップ(406)をさらに含む、請求項9に記載の方法(400)。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US15/586,696 | 2017-05-04 | ||
US15/586,696 US20180322972A1 (en) | 2017-05-04 | 2017-05-04 | System and method for making a solid target within a production chamber of a target assembly |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2018190711A true JP2018190711A (ja) | 2018-11-29 |
Family
ID=63895756
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2018083529A Pending JP2018190711A (ja) | 2017-05-04 | 2018-04-25 | ターゲットアセンブリの生成チャンバ内の固体ターゲットを作製するためのシステムおよび方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20180322972A1 (ja) |
JP (1) | JP2018190711A (ja) |
CN (1) | CN108811294A (ja) |
CA (1) | CA3002245A1 (ja) |
DE (1) | DE102018109928A1 (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019189022A1 (ja) * | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | 加速器を用いた放射性核種の製造装置、製造方法、および放射性核種製造用容器 |
WO2020196793A1 (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 住友重機械工業株式会社 | ターゲット照射システム、及び固体ターゲットからの放射性同位元素の回収方法 |
JP2021018238A (ja) * | 2019-07-23 | 2021-02-15 | コリア・インスティテュート・オブ・ラディオロジカル・アンド・メディカル・サイエンシーズ | 液化ラジウムを利用したアクチニウム生産方法 |
JP2021021725A (ja) * | 2019-07-25 | 2021-02-18 | コリア・インスティテュート・オブ・ラディオロジカル・アンド・メディカル・サイエンシーズ | 液体ターゲットを利用した核種生産装置 |
JP2022515989A (ja) * | 2018-12-11 | 2022-02-24 | ソシエテ ドゥ コメシャリザシオン デ プロデュイ ドゥ ラ ルシェルシェ アプリケー ソクプラー シャーンス エ ジェニ エス.ウー.セー. | ガリウム68を生成および/または精製するプロセスおよびシステム |
WO2024143203A1 (ja) * | 2022-12-26 | 2024-07-04 | 住友重機械工業株式会社 | Ri製造装置 |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3503693B1 (en) * | 2017-12-21 | 2020-02-19 | Ion Beam Applications S.A. | Cyclotron for extracting charged particles at various energies |
US11315700B2 (en) | 2019-05-09 | 2022-04-26 | Strangis Radiopharmacy Consulting and Technology | Method and apparatus for production of radiometals and other radioisotopes using a particle accelerator |
HUP2000235A1 (hu) * | 2020-07-16 | 2022-01-28 | Syniq Kft | Eljárás fém radioizotópok elõállítására és berendezés az eljárás foganatosítására |
IT202200003206A1 (it) * | 2022-02-21 | 2023-08-21 | Comecer Spa | Contenitore per un materiale target solido e corrispondente stazione di irraggiamento per la produzione di un radioisotopo |
IT202200008456A1 (it) * | 2022-04-28 | 2023-10-28 | Comecer Spa | Stazione di irraggiamento per un sistema di produzione di un radioisotopo |
CN116705375B (zh) * | 2023-03-20 | 2024-03-19 | 中子高新技术产业发展(重庆)有限公司 | 一种基于加速器的同位素生产固液耦合靶装置 |
CN116193701B (zh) * | 2023-04-23 | 2023-06-30 | 中国科学院合肥物质科学研究院 | 一种用于放射性核素制备的固体靶系统 |
CN117059296B (zh) * | 2023-09-27 | 2024-02-06 | 原子高科股份有限公司 | 一种钯-103的制备方法及应用 |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090296872A1 (en) * | 2005-06-22 | 2009-12-03 | Paolo Bedeschi | Structure having a mounting means |
JP2016138807A (ja) * | 2015-01-27 | 2016-08-04 | 三菱重工業株式会社 | 核種変換反応膜の再生方法及び核種変換システム |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
AU7265096A (en) * | 1995-08-09 | 1997-03-12 | Newton Scientific, Inc. | Production of 64cu and other radionuclides using charged-particle accelerator |
CN1222205A (zh) * | 1996-04-26 | 1999-07-07 | 材料革新公司 | 粉末的电化学流化床涂敷 |
US7005075B2 (en) * | 2001-07-16 | 2006-02-28 | Miox Corporation | Gas drive electrolytic cell |
DE10259362A1 (de) * | 2002-12-18 | 2004-07-08 | Siemens Ag | Verfahren zum Abscheiden einer Legierung auf ein Substrat |
US7674706B2 (en) * | 2004-04-13 | 2010-03-09 | Fei Company | System for modifying small structures using localized charge transfer mechanism to remove or deposit material |
US8241470B1 (en) * | 2006-06-28 | 2012-08-14 | Tantalum Pellet Company | Method of anodizing |
CN100575562C (zh) * | 2007-06-28 | 2009-12-30 | 北京科技大学 | 一种高电阻率金属氧化物材料表面电镀的方法 |
DE102010006434B4 (de) * | 2010-02-01 | 2011-09-22 | Siemens Aktiengesellschaft | Verfahren und Vorrichtung zur Produktion eines 99mTc-Reaktionsprodukts |
US9693443B2 (en) * | 2010-04-19 | 2017-06-27 | General Electric Company | Self-shielding target for isotope production systems |
US9336915B2 (en) * | 2011-06-17 | 2016-05-10 | General Electric Company | Target apparatus and isotope production systems and methods using the same |
US9894746B2 (en) * | 2012-03-30 | 2018-02-13 | General Electric Company | Target windows for isotope systems |
US20140262028A1 (en) * | 2013-03-13 | 2014-09-18 | Intermolecular, Inc. | Non-Contact Wet-Process Cell Confining Liquid to a Region of a Solid Surface by Differential Pressure |
US20160035448A1 (en) * | 2014-07-31 | 2016-02-04 | General Electric Company | Production of carbon-11 using a liquid target |
AR102068A1 (es) * | 2014-09-18 | 2017-02-01 | Modumetal Inc | Métodos de preparación de artículos por electrodeposición y procesos de fabricación aditiva |
US10249398B2 (en) * | 2015-06-30 | 2019-04-02 | General Electric Company | Target assembly and isotope production system having a vibrating device |
US20180211737A1 (en) * | 2017-01-24 | 2018-07-26 | Mallinckrodt Nuclear Medicine Llc | Gallium-69 enriched target bodies |
-
2017
- 2017-05-04 US US15/586,696 patent/US20180322972A1/en not_active Abandoned
-
2018
- 2018-04-19 CA CA3002245A patent/CA3002245A1/en active Pending
- 2018-04-25 DE DE102018109928.2A patent/DE102018109928A1/de not_active Withdrawn
- 2018-04-25 JP JP2018083529A patent/JP2018190711A/ja active Pending
- 2018-05-04 CN CN201810419307.3A patent/CN108811294A/zh active Pending
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20090296872A1 (en) * | 2005-06-22 | 2009-12-03 | Paolo Bedeschi | Structure having a mounting means |
JP2016138807A (ja) * | 2015-01-27 | 2016-08-04 | 三菱重工業株式会社 | 核種変換反応膜の再生方法及び核種変換システム |
Cited By (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019189022A1 (ja) * | 2018-03-27 | 2019-10-03 | 国立研究開発法人量子科学技術研究開発機構 | 加速器を用いた放射性核種の製造装置、製造方法、および放射性核種製造用容器 |
JP2022515989A (ja) * | 2018-12-11 | 2022-02-24 | ソシエテ ドゥ コメシャリザシオン デ プロデュイ ドゥ ラ ルシェルシェ アプリケー ソクプラー シャーンス エ ジェニ エス.ウー.セー. | ガリウム68を生成および/または精製するプロセスおよびシステム |
US11986815B2 (en) | 2018-12-11 | 2024-05-21 | Societe De Commercialisation Des Produits De La Recherche Appliquée Socpra Sciences Sante Et Humaines S.E.C. | Processes and systems for producing and/or purifying gallium-68 |
JP7402233B2 (ja) | 2018-12-11 | 2023-12-20 | ソシエテ ドゥ コメシャリザシオン デ プロデュイ ドゥ ラ ルシェルシェ アプリケー ソクプラー シャーンス エ ジェニ エス.ウー.セー. | ガリウム68を生成および/または精製するプロセスおよびシステム |
WO2020196793A1 (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | 住友重機械工業株式会社 | ターゲット照射システム、及び固体ターゲットからの放射性同位元素の回収方法 |
JPWO2020196793A1 (ja) * | 2019-03-28 | 2020-10-01 | ||
JP2021018238A (ja) * | 2019-07-23 | 2021-02-15 | コリア・インスティテュート・オブ・ラディオロジカル・アンド・メディカル・サイエンシーズ | 液化ラジウムを利用したアクチニウム生産方法 |
US11424047B2 (en) | 2019-07-23 | 2022-08-23 | Korea Institute Of Radiological & Medical Sciences | Method of producing actinium by irradiating liquefied radium with a particle beam |
JP7025482B2 (ja) | 2019-07-23 | 2022-02-24 | コリア・インスティテュート・オブ・ラディオロジカル・アンド・メディカル・サイエンシーズ | 液化ラジウムを利用したアクチニウム生産方法 |
JP7084446B2 (ja) | 2019-07-25 | 2022-06-14 | コリア・インスティテュート・オブ・ラディオロジカル・アンド・メディカル・サイエンシーズ | 液体ターゲットを利用した核種生産装置 |
US11476012B2 (en) | 2019-07-25 | 2022-10-18 | Korea Institute Of Radiological & Medical Sciences | Apparatus of producing nuclide using fluid target |
JP2021021725A (ja) * | 2019-07-25 | 2021-02-18 | コリア・インスティテュート・オブ・ラディオロジカル・アンド・メディカル・サイエンシーズ | 液体ターゲットを利用した核種生産装置 |
WO2024143203A1 (ja) * | 2022-12-26 | 2024-07-04 | 住友重機械工業株式会社 | Ri製造装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN108811294A (zh) | 2018-11-13 |
DE102018109928A1 (de) | 2018-11-08 |
US20180322972A1 (en) | 2018-11-08 |
CA3002245A1 (en) | 2018-11-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2018190711A (ja) | ターゲットアセンブリの生成チャンバ内の固体ターゲットを作製するためのシステムおよび方法 | |
US10249398B2 (en) | Target assembly and isotope production system having a vibrating device | |
JP6152341B2 (ja) | アイソトープ生成システム用の自己シールドターゲット | |
RU2494484C2 (ru) | Устройство и способ производства медицинских изотопов | |
JP6352897B2 (ja) | ターゲットウィンドウ、ターゲットシステム及びアイソトープ製造システム | |
US11250964B2 (en) | System for the irradiation of a target material | |
KR102579109B1 (ko) | 타겟 조립체 및 핵종 생성 시스템 | |
JP7312621B2 (ja) | 放射性核種の製造方法および放射性核種の製造システム | |
EP3473063B1 (en) | Target assembly and isotope production system having a grid section | |
JP6968163B2 (ja) | ターゲットアセンブリ及び同位体製造システム | |
JP7190200B2 (ja) | 加速器を用いた放射性核種の製造装置、製造方法、および放射性核種製造用容器 | |
AU2021309906B2 (en) | Method for the production of metal radioisotopes and apparatus for the implementation of the method | |
EP4332994A1 (en) | Radionuclide production system and radionuclide production method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20190530 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20201218 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20210520 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20210524 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20211020 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20211102 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20220601 |