JP2019531481A - パルス型電磁高周波放射の時間分解キャプチャのための装置及び方法 - Google Patents
パルス型電磁高周波放射の時間分解キャプチャのための装置及び方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2019531481A JP2019531481A JP2019518058A JP2019518058A JP2019531481A JP 2019531481 A JP2019531481 A JP 2019531481A JP 2019518058 A JP2019518058 A JP 2019518058A JP 2019518058 A JP2019518058 A JP 2019518058A JP 2019531481 A JP2019531481 A JP 2019531481A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- time
- sample
- detector
- function
- frequency radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title claims abstract description 82
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 32
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims abstract description 42
- 230000008859 change Effects 0.000 claims abstract description 29
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims abstract description 21
- 230000005684 electric field Effects 0.000 claims description 48
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 claims description 19
- 230000036962 time dependent Effects 0.000 claims description 13
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 6
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 12
- 238000005070 sampling Methods 0.000 description 11
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 7
- 239000003365 glass fiber Substances 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 4
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 3
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 1
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000009466 transformation Effects 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S13/00—Systems using the reflection or reradiation of radio waves, e.g. radar systems; Analogous systems using reflection or reradiation of waves whose nature or wavelength is irrelevant or unspecified
- G01S13/86—Combinations of radar systems with non-radar systems, e.g. sonar, direction finder
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
- G01B11/0625—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating with measurement of absorption or reflection
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3581—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation
- G01N21/3586—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light using far infrared light; using Terahertz radiation by Terahertz time domain spectroscopy [THz-TDS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01S—RADIO DIRECTION-FINDING; RADIO NAVIGATION; DETERMINING DISTANCE OR VELOCITY BY USE OF RADIO WAVES; LOCATING OR PRESENCE-DETECTING BY USE OF THE REFLECTION OR RERADIATION OF RADIO WAVES; ANALOGOUS ARRANGEMENTS USING OTHER WAVES
- G01S7/00—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00
- G01S7/02—Details of systems according to groups G01S13/00, G01S15/00, G01S17/00 of systems according to group G01S13/00
- G01S7/28—Details of pulse systems
- G01S7/285—Receivers
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
- G01N2021/8438—Mutilayers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Remote Sensing (AREA)
- Radar, Positioning & Navigation (AREA)
- Immunology (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Pathology (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Computer Networks & Wireless Communication (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
Description
a)それぞれの層Si(ただし、i=1、2、3、...、N)についての層厚di、吸収指数ki及び屈折率niを選択するステップと、
b)モデルによって、サンプルによって反射された電磁高周波放射についての時間依存電場EM(t)を計算するステップであって、モデルは、それぞれ、測定環境とサンプルとの間及び個々の層同士の間のN+1個の界面の数に従う時間依存電場Ej(t)(ただし、j=0、1、2、3、...、N)を考慮し、電場Ej(t)は、層厚di、吸収指数ki及び屈折率niに基づいて時間依存電場EM(t)に加えられる、ステップと、
c)計算された時間依存電場EM(t)を時間にわたる電場についての補正された関数と比較するステップであって、
d)計算された場強度EM(t)と場強度EP(t)についての補正された関数との間の偏差Qが予め定めた許容量Tよりも大きいとき、偏差Qが許容量Tよりも小さくなるまでずっと少なくとも層厚diが変更され、ステップb)からd)までが反復される、ステップと、
e)層厚決定動作の結果として層厚diを提供するステップと、を含む。
図3は、層1〜層3として識別された、サンプル4の3つの層についての層厚測定結果を、対応する測定の順序番号に対してプロットしている。個々の測定値が、厚さの平均値の周りに最大2.5μmの幅を有することが明らかにわかるであろう。
2 生成器
3 検出器
4 サンプル
5 ガラス繊維
6 ガラス繊維
7 短パルスレーザシステム、遅延部及びビームスプリッタを有する配列
8 生成器2によって生成されたテラヘルツ放射
8’ サンプル4と相互作用したテラヘルツ放射
9 評価装置
10 時間の関数として検出されたテラヘルツ放射の電場強度
11 テラヘルツ時間領域分光計
12 光干渉計
13 時間の関数としての距離
14 時間の関数として補正されたテラヘルツ放射の電場強度
Claims (11)
- パルス型電磁高周波放射(8)の時間分解キャプチャのための装置(1)であって、
生成器(2)であって、前記装置の動作中に、前記生成器(2)が前記電磁高周波放射(8)のパルスを生成するように適合されている、生成器(2)と、
検出器(3)であって、前記装置の動作中に、前記検出器がサンプル(4)によって反射された前記パルスの場強度を時間の関数(10)としてキャプチャするように適合及び配列されている、検出器(3)と、を備える装置(1)において、
前記装置は、距離測定システム(12)と、前記検出器(3)及び前記距離測定システム(12)に接続された評価装置(9)と、を更に有し、
前記距離測定システム(12)は、前記装置の動作中に、前記距離測定システム(12)が前記生成器(2)と前記サンプル(4)との間及び/又は前記サンプル(4)と前記検出器(3)との間の距離変化を時間の関数(13)としてキャプチャするように適合及び配列されており、
前記評価装置(9)は、前記評価装置(9)が時間(10)にわたる前記場強度についての補正された関数(14)を、時間にわたる前記場強度についての前記キャプチャされた関数(10)及び時間にわたる前記距離変化についての前記検出された関数(13)から計算するように適合されていることを特徴とする、装置(1)。 - 前記距離測定システム(12)は、干渉計又はレーダシステムであることを特徴とする、請求項1に記載の装置(1)。
- 前記装置は、
前記装置の動作中に、パルス形式の光電磁放射線を生成するように適合されている短パルスレーザ源と、
前記電磁高周波放射(8)のパルスのための前記生成器(2)と、
前記電磁高周波放射(8)のパルスのための前記検出器(3)と、
前記装置の動作中に、前記光放射の第1部分を前記生成器(2)上に、前記光放射の第2部分を前記検出器(3)上に渡すように適合及び配列されているビーム分割装置と、
前記装置の動作中に、前記検出器(3)上での前記電磁高周波放射(8)のパルスの衝突と前記光電磁放射線のパルスとの間の時間遅延が、前記遅延装置によって調節可能に変更可能であるように適合されている、遅延装置と、を有する時間領域分光計(11)を含み、
前記遅延装置は、前記評価装置(9)に接続されており、
前記評価装置(9)は、前記装置の動作中に、前記遅延装置及び前記時間遅延を制御するように適合されていることを特徴とする請求項1又は2に記載の装置(1)。 - パルス型電磁高周波放射(8)の時間分解キャプチャのための方法であって、
生成器(2)によって電磁高周波放射(8)のパルスを生成するステップと、
前記電磁高周波放射(8)のパルスによってサンプル(4)を照射するステップと、
前記サンプル(4)によって反射された前記パルスの場強度を検出器(3)によって時間の関数(10)としてキャプチャするステップと、を備える方法において、
前記方法は、
前記生成器(2)と前記サンプル(4)との間又は前記サンプル(4)と前記検出器(3)との間の距離変化を距離測定システム(12)によって時間の関数(13)としてキャプチャするステップと、
時間にわたる前記場強度についての補正された関数(14)を、時間にわたる前記場強度についての前記キャプチャされた関数(10)及び時間にわたる前記距離変化の関数(13)から計算するステップと、を更に備えることを特徴とする方法。 - 前記場強度についての前記補正された関数(14)は、前記生成器と前記サンプル(4)との間又は前記サンプル(4)と前記検出器(3)との間の距離が、前記パルスの継続期間中に変化しないならば、前記場強度がキャプチャされるであろう時間に対応するそれぞれの時間tから時間t’までにおいて転送されているパルスの前記キャプチャされた場強度によって計算されることを特徴とする、請求項4に記載の方法。
- 前記サンプル(4)は、それぞれ層厚diの複数のN個の互いに重塁した層Siを有し、i=1、2、3、...、Nであり、全N個の層の層厚diは、時間(10)にわたる前記場強度についての前記補正された関数から決定されることを特徴とする、請求項4又は5に記載の方法。
- 前記層厚diを決定することについての前記動作は、
a)それぞれの層Siについての層厚di、吸収指数ki及び屈折率ni(ただし、i=1、2、3、...、N)を選択するステップと、
b)前記サンプル(4)によって反射された前記電磁高周波放射についての時間依存電場EM(t)をモデルによって計算するステップであって、前記モデルは、測定環境と前記サンプル(4)との間及び前記個々の層同士の間のN+1個の界面の数に従う時間依存電場Ej(t)(ただし、j=0、1、2、3、...、N)をそれぞれ考慮し、前記電場Ej(t)は、前記層厚di、前記吸収指数ki及び前記屈折率niに基づいて前記時間依存電場EM(t)に加えられる、ステップと、
c)前記計算された時間依存電場EM(t)を時間にわたる前記電場についての前記補正された関数と比較するステップであって、
d)前記計算された電場EM(t)と前記キャプチャされた電場EP(t)との間の偏差Qが予め定めた許容量Tよりも大きいとき、前記層厚di、前記屈折率ni及び前記吸収指数kiは、前記偏差Qが前記許容量Tよりも小さくなるまでずっと変更されて、ステップb)からd)までが反復される、ステップと、
e)前記層厚決定動作の結果として前記層厚diを提供するステップと、を含むことを特徴とする、請求項6に記載の方法。 - 前記電磁高周波放射(8)は、予め定めた周波数帯域幅を有し、ステップb)において、前記吸収指数kiは、用いる前記電磁高周波放射の周波数帯域幅にわたって一定であるように仮定され、前記屈折率niは、用いる前記電磁高周波放射の周波数帯域幅にわたって一定であるように仮定されることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 前記電磁高周波放射(8)は、予め定めた周波数帯域幅を有し、ステップb)において、前記吸収指数kiは、用いる前記電磁高周波放射の周波数帯域幅にわたって変化しているように仮定され、前記屈折率niは、用いる前記電磁高周波放射の周波数帯域幅にわたって変化しているように仮定され、ステップb)における前記計算は、前記周波数での前記吸収指数ki及び前記屈折率niの関数に基づいていることを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 前記電磁高周波放射(8)は、予め定めた周波数帯域幅を有し、前記吸収指数ki及び前記屈折率niの周波数依存性は、前記層のそれぞれについての前記周波数帯域幅にわたる較正測定において前もって予め定められ、前記予め定めた周波数依存性は、ステップb)における前記計算のための基準を形成することを特徴とする、請求項7に記載の方法。
- 前記生成器と前記サンプル(4)との間又は前記サンプル(4)と前記検出器(3)との間の距離変化を時間の関数としてキャプチャすることは、100kHz以上、好ましくは150kHz以上、特に好ましくは200kHz以上の測定レートによって達成されることを特徴とする、請求項4乃至10のいずれかに記載の方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102016118905.7 | 2016-10-05 | ||
DE102016118905.7A DE102016118905A1 (de) | 2016-10-05 | 2016-10-05 | Vorrichtung und Verfahren zum zeitaufgelösten Erfassen gepulster elektromagnetischer Hochfrequenzstrahlung |
PCT/EP2017/074580 WO2018065281A1 (de) | 2016-10-05 | 2017-09-28 | Vorrichtung und verfahren zum zeitaufgelösten erfassen gepulster elektromagnetischer hochfrequenzstrahlung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2019531481A true JP2019531481A (ja) | 2019-10-31 |
Family
ID=60153262
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019518058A Pending JP2019531481A (ja) | 2016-10-05 | 2017-09-28 | パルス型電磁高周波放射の時間分解キャプチャのための装置及び方法 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20190265349A1 (ja) |
EP (1) | EP3523633A1 (ja) |
JP (1) | JP2019531481A (ja) |
DE (1) | DE102016118905A1 (ja) |
WO (1) | WO2018065281A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3742110B1 (en) | 2019-05-24 | 2023-03-08 | Helmut Fischer GmbH Institut für Elektronik und Messtechnik. | Apparatus for determining a layer thickness and method of operating such apparatus |
GB2617330A (en) * | 2022-03-31 | 2023-10-11 | Teraview Ltd | Method, system and sensor for analysing a sample, and process for manufacturing an electrode |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07181261A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Canon Inc | 光レーダ |
JP2006052948A (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-23 | Okayama Univ | 分光計測方法及び分光計測装置 |
JP2009517693A (ja) * | 2005-12-01 | 2009-04-30 | ザイゴ コーポレーション | 電子アバランシェ・フォトダイオードによるデータ・エイジの補償 |
JP2014122875A (ja) * | 2012-11-26 | 2014-07-03 | Canon Inc | 層状物体の測定装置および方法 |
US20150211934A1 (en) * | 2014-01-28 | 2015-07-30 | Jacobus Lodevicus Martinus VAN MECHELEN | Sensor System And Method For Characterizing A Coated Body |
US9140542B2 (en) * | 2012-02-08 | 2015-09-22 | Honeywell Asca Inc. | Caliper coating measurement on continuous non-uniform web using THz sensor |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009210421A (ja) | 2008-03-04 | 2009-09-17 | Sony Corp | テラヘルツ分光装置 |
CN104870931B (zh) * | 2012-10-19 | 2017-08-29 | 派克米瑞斯有限责任公司 | 利用反射太赫兹辐射计算材料属性 |
EP2899499A1 (en) | 2014-01-28 | 2015-07-29 | ABB Technology AG | Sensor system for characterizing a coating such as a paint film by THz radiation |
US9417181B2 (en) * | 2014-05-08 | 2016-08-16 | Advantest Corporation | Dynamic measurement of density using terahertz radiation with real-time thickness measurement for process control |
-
2016
- 2016-10-05 DE DE102016118905.7A patent/DE102016118905A1/de active Pending
-
2017
- 2017-09-28 WO PCT/EP2017/074580 patent/WO2018065281A1/de unknown
- 2017-09-28 JP JP2019518058A patent/JP2019531481A/ja active Pending
- 2017-09-28 EP EP17787338.7A patent/EP3523633A1/de active Pending
- 2017-09-28 US US16/336,933 patent/US20190265349A1/en not_active Abandoned
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07181261A (ja) * | 1993-12-22 | 1995-07-21 | Canon Inc | 光レーダ |
JP2006052948A (ja) * | 2004-08-09 | 2006-02-23 | Okayama Univ | 分光計測方法及び分光計測装置 |
JP2009517693A (ja) * | 2005-12-01 | 2009-04-30 | ザイゴ コーポレーション | 電子アバランシェ・フォトダイオードによるデータ・エイジの補償 |
US9140542B2 (en) * | 2012-02-08 | 2015-09-22 | Honeywell Asca Inc. | Caliper coating measurement on continuous non-uniform web using THz sensor |
JP2014122875A (ja) * | 2012-11-26 | 2014-07-03 | Canon Inc | 層状物体の測定装置および方法 |
US20150211934A1 (en) * | 2014-01-28 | 2015-07-30 | Jacobus Lodevicus Martinus VAN MECHELEN | Sensor System And Method For Characterizing A Coated Body |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
KRIMI, SOUFIENE ET AL.: "Highly accurate thickness measurement of multi-layered automotive paints using terahertz technology", APPL. PHYS. LETT., vol. 109, no. 2, JPN6020013423, July 2016 (2016-07-01), pages 021105 - 1, XP012209153, ISSN: 0004251156, DOI: 10.1063/1.4955407 * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP3523633A1 (de) | 2019-08-14 |
WO2018065281A1 (de) | 2018-04-12 |
US20190265349A1 (en) | 2019-08-29 |
DE102016118905A1 (de) | 2018-04-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR101717785B1 (ko) | 테라헤르쯔 파형을 해석하기 위한 시스템 | |
RU2313078C2 (ru) | Способ обнаружения газов с использованием спектрометра на основе полупроводникового диодного лазера и спектрометр для его осуществления | |
JP5357531B2 (ja) | 情報取得装置及び情報取得方法 | |
US9012833B2 (en) | Terahertz wave measuring apparatus and measurement method | |
JP2015508160A5 (ja) | ||
US10317283B2 (en) | Spectrum measurement method using fourier transform type spectroscopic device | |
US20100053629A1 (en) | Real-time measurement of ultrashort laser pulses | |
US20120300206A1 (en) | Error compensation in a spectrometer | |
US8263937B2 (en) | Apparatus and method for acquiring time waveform of terahertz waves | |
JP2019531481A (ja) | パルス型電磁高周波放射の時間分解キャプチャのための装置及び方法 | |
US9846078B2 (en) | Method of compensating frequency drift in an interferometer | |
Koleják et al. | Experimental Gouy phase shift compensation in Terahertz time-domain spectroscopy | |
JP3896532B2 (ja) | テラヘルツ帯複素誘電率測定装置 | |
JP6132362B2 (ja) | ポンプ・プローブ分光法におけるパルス管理装置 | |
Thangaraj et al. | Demonstration of a real-time interferometer as a bunch-length monitor in a high-current electron beam accelerator | |
WO2015129696A1 (ja) | 干渉計の較正方法及びこの較正方法を用いた干渉計 | |
JP5127159B2 (ja) | 測定装置及び測定方法 | |
CN107407601B (zh) | 用于补偿由光谱仪系统产生的干涉图的时间周期扰动的光谱仪系统和方法 | |
JP2015055563A (ja) | 情報取得装置及び情報取得方法 | |
JP5836479B2 (ja) | 時間領域分光装置および時間領域分光分析システム | |
JP2009150811A (ja) | テラヘルツ分光装置 | |
US9124060B1 (en) | System and method for generating and utilizing a valid sweep vector to obviate spurious data and increase sweep rate in an akinetic path-based swept laser | |
US9153939B1 (en) | System and method for generating and utilizing sample trigger blanking to obviate spurious data and increase sweep rate in an akinetic path-based swept laser | |
US9385501B1 (en) | System and method for generating and utilizing a valid sweep signal to obviate spurious data and increase sweep rate in an akinetic path-based swept laser | |
JP6331133B2 (ja) | 膜厚計測装置と方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20190723 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20200323 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20200414 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20200710 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20201104 |