JP2019526297A - 精密アプリケータを作製するための方法 - Google Patents
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Abstract
Description
a.構造のデジタル幾何学的表現を作成する工程であって、標的構造が平坦度比を有する、工程と、
b.標的構造のデジタル幾何学的表現を用いてアプリケータを形成する工程であって、アプリケータは標的構造接触面を有する、工程と、
c.アプリケータの標的構造接触面上に活性薬剤を配置する工程と、を含む、方法。
B.標的構造のデジタル幾何学的表現を用いてアプリケータを形成する工程であって、アプリケータは標的構造接触面を有する、工程が、デジタル幾何学的表現に従って、標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する工程と、標的構造の物理的表現を用いてアプリケータを形成する工程であって、アプリケータは標的構造接触面を有する、工程と、を含む、パラグラフAに記載の方法。
C.デジタル幾何学的表現に従って標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する工程が、標的構造のデジタル幾何学的表現の部分のセットに対応する物理的表現のセットを作製する工程を更に含む、パラグラフBに記載の方法。
D.デジタル幾何学的表現に従って標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する工程が、物理的表現の一部として活性薬剤堆積チャネルを作製する工程を更に含む、パラグラフB又はCのいずれかに記載の方法。
E.アプリケータを形成する工程が、標的構造の物理的表現を用いてアプリケータの少なくとも一部を熱成形する工程を含む、パラグラフB、C、又はDのいずれかに記載の方法。
F.デジタル幾何学的表現に従って標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する工程が、標的構造の変更されたデジタル幾何学的表現に対応する物理的表現を作製する工程を更に含む、パラグラフB、C、D、又はEのいずれかに記載の方法。
G.デジタル幾何学的表現に従って標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する工程が、標的構造の平坦分配量(flatness ration)よりも高い平坦度比を有する標的構造の一部の物理的表現を作製する工程を更に含む、パラグラフB、C、D、E、又はFのいずれかに記載の方法。
H.成形されたアプリケータの一部を除去する工程を更に含む、パラグラフB、C、D、E、F、又はGのいずれかに記載の方法。
I.標的構造を走査して、標的面のデジタル診断走査を作成する工程を更に含む、パラグラフB、C、D、E、F、G、又はHのいずれかに記載の方法。
J.デジタル診断走査に従って活性薬剤をアプリケータ上に配置する工程を更に含む、パラグラフIに記載の方法。
K.標的構造のデジタル幾何学的表現を用いてアプリケータを形成する工程であって、アプリケータは標的構造接触面を有する、工程は、デジタル幾何学的表現に従って標的構造のネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する工程を含み、物理的表現は標的構造接触面を有する、パラグラフAに記載の方法。
L.デジタル幾何学的表現に従って標的構造のネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する工程が、デジタル幾何学的表現に従って標的構造のネガティブの部分のセットに対応する物理的表現のセットを作製する工程を更に含む、パラグラフKに記載の方法。
M.デジタル幾何学的表現に従って標的構造のネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する工程が、物理的表現の一部として活性薬剤堆積標識を作製することを更に含む、パラグラフK又はLのいずれかに記載の方法。
N.デジタル幾何学的表現に従って標的構造のネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する工程が、標的構造の変更されたデジタル幾何学的表現に対応する物理的表現を作製することを更に含む、パラグラフK、L、又はMのいずれかに記載の方法。
O.デジタル幾何学的表現に従って標的構造のネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する工程が、標的構造の平坦度比よりも高い平坦度比を有する標的構造のネガティブの一部の物理的表現を作製する工程を更に含む、パラグラフK、L、M、又はNのいずれかに記載の方法。
P.作製されたアプリケータの一部を除去する工程を更に含む、パラグラフK、L、M、N、又はOのいずれかに記載の方法。
Q.標的構造を走査して、標的面のデジタル診断走査を作成する工程を更に含む、パラグラフK、L、M、N、O、又はPのいずれかに記載の方法。
R.デジタル診断走査に従って活性薬剤をアプリケータ上に配置する工程を更に含む、パラグラフK、L、M、N、O、P、又はQのいずれかに記載の方法。
Claims (15)
- アプリケータを形成するための方法であって、
a.標的構造のデジタル幾何学的表現を作成する工程であって、前記標的構造が平坦度比を有する、工程と、
b.前記標的構造の前記デジタル幾何学的表現を用いて前記アプリケータを形成する工程であって、前記アプリケータは標的構造接触面を有する、工程と、
c.前記アプリケータの前記標的構造接触面上に活性薬剤を配置する工程と、を含むことを特徴とする、方法。 - 前記標的構造の前記デジタル幾何学的表現を用いて前記アプリケータを形成する工程であって、前記アプリケータは標的構造接触面を有する、前記工程が、前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する工程と、前記標的構造の前記物理的表現を用いて前記アプリケータを形成する工程であって、前記アプリケータは標的構造接触面を有する、工程と、を含む、請求項1に記載の方法。
- 前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する前記工程が、前記標的構造の前記デジタル幾何学的表現の部分のセットに対応する物理的表現のセットを作製する工程を更に含む、請求項2に記載の方法。
- 前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する前記工程が、前記物理的表現の一部として活性薬剤堆積チャネルを作製する工程を更に含む、請求項2に記載の方法。
- 前記アプリケータを形成する前記工程が、前記標的構造の前記物理的表現を用いて前記アプリケータの少なくとも一部を熱成形する工程を含む、請求項2に記載の方法。
- 前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する前記工程が、前記標的構造の変更されたデジタル幾何学的表現に対応する物理的表現を作製する工程を更に含む、請求項2に記載の方法。
- 前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の少なくとも一部の物理的表現を作製する前記工程が、前記標的構造の平坦分配量よりも高い平坦度比を有する前記標的構造の一部の物理的表現を作製する工程を更に含む、請求項2に記載の方法。
- 前記形成されたアプリケータの一部を除去する工程を更に含む、請求項2に記載の方法。
- 前記標的面のデジタル診断走査を作成する工程を更に含む、請求項2に記載の方法。
- 前記デジタル診断走査に従って前記活性薬剤を前記アプリケータ上に配置する工程を更に含む、請求項9に記載の方法。
- 前記標的構造の前記デジタル幾何学的表現を用いて前記アプリケータを形成する工程であって、前記アプリケータは標的構造接触面を有する、前記工程が、前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造のネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する工程を含み、前記物理的表現は標的構造接触面を有する、請求項1に記載の方法。
- 前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の前記ネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する前記工程が、前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の前記ネガティブの部分のセットに対応する物理的表現のセットを作製する工程を更に含む、請求項11に記載の方法。
- 前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の前記ネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する前記工程が、前記物理的表現の一部として活性薬剤堆積標識を作製する工程を更に含む、請求項11に記載の方法。
- 前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の前記ネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する前記工程が、前記標的構造の変更されたデジタル幾何学的表現に対応する物理的表現を作製する工程を更に含む、請求項11に記載の方法。
- 前記デジタル幾何学的表現に従って前記標的構造の前記ネガティブの少なくとも一部の物理的表現を作製する工程が、前記標的構造の前記平坦度比よりも高い平坦度比を有する前記標的構造の前記ネガティブの一部の物理的表現を作製する工程を更に含む、請求項11に記載の方法。
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