JP2019520670A - 無水銀uvガス放電ランプ - Google Patents
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Abstract
Description
UV放射線源の開発は、可視スペクトルにおける電磁放射線(ER)源、すなわち、可視照明、の開発と密接に関連している。これらの関連は、物理学および設計における同じ基礎的原理に関してだけでなく、実用的でもある。重要な例は、水銀のUV原子発光を吸収して、続けて可視領域において発光する蛍光物質コーティングの追加を除いて、住宅照明に一般的に使用される蛍光ランプと本質的に同一である低圧水銀(LP−Hg)ランプである。可視照明は世界で生成される電気エネルギーのおよそ25%を消費するため、可視ER源の効率の増加および寿命の延長という目標は、UV−ER発生の代替の方法に関する潜在的識見を提供することにも一致する。UV放射線源は、下記において調査および説明されるが、市場における現在の優位性から、特にプラズマ源に焦点が当てられている。新たに用いられるUV放射線源およびそれらの影響についても説明される。
タングステンワイヤなどの加熱された本体からERを放つ白熱電球に続いて登場したプラズマランプは、1930年代に商業的成功を収めた。
元素または化合物のUV殺菌における使用に好適なランププラズマを生成するために、以下の特性が達成されなければならない。
・望ましい波長において共鳴ERを生成するための励起エネルギーを有しつつ、比較的低いイオン化エネルギー
・ランプ作動温度において気/蒸気相であるための十分に低い沸騰温度を有しつつ、最適な内部ランプ圧を生じさせるための十分な蒸気圧
・ランプ材料、すなわち、電極およびランプ用外套容器、に対する化学的不活性
ランプ充填物に関する、高圧(HP)(高強度放電(HID)を包含する用語)のための基本的要件は、LP放電と同じであり、したがって、Hgは、この場合もやはり、最も一般的に使用される充填物である。しかしながら、対照的に、Hgの量(したがって、結果的に、内部圧力)はLP放電でのHgの量よりも著しく高く、LP放電との重要な区別として、全てのHgは蒸気相中にある。これは、図1に示されるLP放電に対してこの対比を示すために、図2に示される。
1.励起状態からより高いエネルギーレベルへのさらなる励起が生じ、異なる波長で多数のさらなる光子の放出を引き起こす
2.その後の励起が原子エネルギーレベルを超えたとき、イオン化が生じ、次いで、原子/イオン再結合の際に光子が放たれる(スペクトル連続帯、例えば、200nm−230nmのHg連続帯、に寄与する)
3.制動放射−プラズマ内において加速または減速の際に光子が放出されるプロセス(連続スペクトルも生じる)
HPプラズマの効率は、LP放電について前述した圧力制御では、既にLTEにおいて機能しているため、最適化または改善され得ない。しかしながら、可視照明において、望ましい励起およびイオン化エネルギーを有するが高すぎる沸点または低すぎる蒸気圧を有する元素、の使用を可能にするための機知に富んだ方法が採用されている。望ましい元素と併用してのハロゲンの使用は、ほとんどの場合、沸点の低下という結果を生じ、直接的にまたはHPプラズマの一部として使用されることを可能にする。ヨウ素は、内部ランプ成分とあまり反応せず、一般的に他のハロゲン化合物と比べて最も高い蒸気温度も生じるため、しばしば、臭素および塩素よりも、よく選択されるハロゲンである。ハロゲン化物(ハロゲン成分に加えて)は、通常、金属であり、したがって、金属ハロゲン化物(MH)なる用語が、高圧Hg放電に加えられる。次いで、Hgは、必要なガス蒸気特性および電気特性の大部分を提供する「緩衝ガス」の役割を果たすが、この場合、スペクトル出力にも貢献する。スペクトル出力は、使用される金属の励起ポテンシャルが、比較的Hgよりはるかに低いという事実により、追加の金属含有量73によって、ほぼ完全に決定される(図5)。大部分の点において、そのようなプラズマは、純粋なHgHP放電に似ているとみなすことができるが、追加されたハロゲン化物は、電子輸送能力により影響を受ける膨張および収縮する両方のアークのサイズなどのランプの運転状態に対して、反比例の効果を有し得る。
低圧(LP)および高圧(HP)水銀(Hg)ランプは、それらの相対的な作動の簡易性および妥当なエネルギー効率により、UV殺菌市場において支配的である。多数の改良がLPランプにおいて為されているが、それらの最も大きい制限は、その低い内部圧力により生じる内部損失である。HPランプに対しても改良が為されているが、結局、さらなる効率の向上におけるそれらの制限は、スペクトル出力に関連し、ランプ圧力により決定される。
1.200nm−230nmおよび260nm−280nmの間の最適化されたスペクトル出力
2.従来のランプドライバ、すなわち、電磁式または電子式水銀/金属ハロゲン化物安定器上で稼働する能力
3.密接に適合した中圧Hgランプの幾何学的寸法
4.同等なHgベースのランプより優れた殺菌放射効率
を含む。
1.20%を超える殺菌放射効率
2.スペクトル出力、すなわち、200nm−300nmまたは260nm−280nm、における増加したエリアを選択する能力
3.無Hgランプ充填物
4.従来の中圧Hgランプ以上の殺菌出力密度
を含む。
・放射線として放出されるエネルギーに比例して熱として失われるエネルギーを減少させるHP放電の発生、すなわち、高圧放電の恩恵
・Hgよりもスペクトル線および遷移線の両方においてスペクトル的に優先的であるか、および/または、励起エネルギーが、理想的な励起エネルギー/スペクトル線、すなわち、低圧放電のスペクトル的恩恵、を有する二次ハロゲン化物を可能にするために十分なほど適切に低い、元素の選択(一次ハロゲン化物の一部としての)
・所望の出力密度を可能にするための安定的なアークおよび好適なプラズマ耐性を可能にするMHまたはMHの組み合わせからの好適なプラズマの生成、すなわち、中圧Hgランプにより現在達成されている出力密度および電気特性の模倣
図7は、好ましくは溶融石英または溶融シリカ製で、始動ガスまたは補助ガスで満たされ、作動時にはある量の気状の放射性作業材料30で満たされる、長細い封管20を備える、ガス放電ランプ10を示す。2つの離間された電極40,42は、ランプ内に配置され、始動ガスに点火するために使用される。これらの電極は、典型的には、トリウムがドープされたタングステンで作製され、好ましくは、ランプにおける対向する端部において密封される。好ましい実施形態において、ランプは、さらなる修正の必要なく、既存の水銀ランプとの置き換えが可能となるように、1m−2mの長さで、かつ、29mm未満の外径を有してもよい。
潜在的元素候補の初期評価は、周期表の4−6族の遷移金属、4−6族の半金属、および3−4族のポスト遷移金属の元素からの支配的スペクトル線(中性原子からの)を識別することにより実施された。この情報の要約は、以下の表1−3に示される。
テルルおよびアンチモンのより詳細なスペクトル評価は、MHランプのためのハロゲンとして一般的に使用されるヨウ素の添加により実施された。中性元素および単独でイオン化された元素の両方の支配的スペクトル線は表に示され、完全なスペクトルデータは図面に示される。3つの元素のUVC領域におけるスペクトルデータのまとめも示される。Sbに対して得られたデータは中性から−4価のイオン化までのスペクトル線も含み、その一方で、Teに対するデータは中性状態および−1価のイオン化状態に対してのみ利用可能である。
元素のスペクトル評価は、UV−MHランプにおける使用にとって潜在的に好適な元素として注目されるテルルおよびアンチモンを用いて実施された。望ましいスペクトル出力に加えて、充填物は、機能的特性も示さなければならない。
任意の潜在的ハロゲン化物が、そのイオン化エネルギー、熱的特性および蒸気特性、ならびにハロゲン化物化合物に関連する特異的分子相互作用との関連において、特に満たさなければならない、多数の重要な物理的特性が存在する。
ランプ充填物に必要な特徴は、ランプの始動時に役立つ、相対的に低いイオン化レベルである。より低いイオン化レベルは、自由電子を生成するため、延いては、アバランシェ効果として説明されるものにおいて、より多くの電子などを生成するために必要なエネルギーが少なくて済むことを意味する。表9に示されるように、アンチモンおよびテルルの両方は、水銀と比べてより低いイオン化レベルを有し、しがたって、プラズマ放電を開始するために好適であるはずである。
高圧放電の特性はアークの収縮であり、これは、MP−Hgランプの設計において説明される場合、比較的安定で直線状のアークを生成しなければならず、しかしながら、これは、MHランプでは保証されない。HgベースのMHランプにおける先行研究は、たとえ、MH添加剤の比例量がランプ内のHgの量に対して最少であったとしても、ランプアークに対するMH添加剤の重要な影響が、収縮性または拡張性のどちらであるかを識別した。文献に記録された例は、トリウム、スカンジウム、および他の希土類金属であり、これらは、アークを収縮させ、内部変動に対してより影響されやすくするが、その一方で、アルカリ金属(すなわち、セシウム、ナトリウム、カリウム)の添加は、反対の効果を有し、安定化効果を有するランプアークを膨張させる。
前述のとおり、ランプアークはおよそ3700℃−4700℃の温度を有するが、ランプの外套容器の温度は800℃未満であると予想される。これは、石英の外套容器に対して保護を提供するためだけでなく、放電の効率を最大化するために放電の熱損失を抑制するためにも、高い断熱が必要とされることを暗に意味している。元素形態において比較的高い蒸気圧をも生じるHgおよびZnと比較したTeおよびSbにおける、熱伝導性のためのいくつかのデータポイントは、表10に提供される。TeおよびSbのデータは似ているが、重要な差は、水銀は温度と共に安定した増加傾向を示すが、Teは減少傾向を示すことである。Sbのデータは、1つのポイントのみであるため、わずかしか解釈ができないが、かなり大きな熱伝導を示す亜鉛(Zn)のデータと比較すると、Hgの熱的特性と凡そ同じ熱的特性が、ランプ壁の温度におけるTeベースのランプにより提供され得る。
提案された全てのハロゲン化物ランプの安定性にとって重要なのは、ランプ充填物に使用されるハロゲン化物化合物充填物、特に、一次充填化合物の間の安定性および相互作用である。スペクトル選択では、適切な一次充填物としてTeのみを識別したため、表11において、金属ヨウ化物としてのTeに対する文献の評価が、Sbに関する情報と共に提供される重要な情報により行われた。
前述したランププラズマの重要な要素は、十分な内部ランプ圧力を提供するランプ充填物の能力である。対照的に、ハロゲン化物による高すぎる圧力を有すること、および使用する量を制限する必要があることに関する問題が知られている。MHランプはHg−HPランプと凡そ同じ主要設計基準において機能するように設計されるため、Hgと比較して、温度に関してランプ充填物の圧力は、慎重に評価される。TeI4およびSbI3の両方の圧力データは限られるが、図11において、圧力曲線Te2I2が、I2およびTeBr4の圧力曲線と並んで示される。
スペクトル的に、Teは、二次充填物としてのSbを伴う、一次ランプ充填物としての使用にとって好適な線を提供し、両方の元素は、壁安定化アークの生成を示すイオン化にとって必要な好適なエネルギーポテンシャルの証拠を提供する。Teは、一次ランプ充填物として、Hgに一致する好適な熱的特性および圧力特性(TeI4として)を提供し得る。Teは、事前の稼働条件において、TeI4として安定なヨウ化物を提供し、それは、気相中におけるTeI2へと転化されるであろう。評価において識別された唯一の可能性のある欠点は、600℃を超える温度において、Teヨウ化物はTeおよびIの両方(両方とも、気相中にある)と平衡するが、これが、ランプの機能における何らかの不安定性の原因となるか否かは不明であることである。
選択されたハロゲン化物TeおよびSbの機能評価は、UV−MHランプの潜在的高効率に対する基礎を提供する。UVの発生方法の開発は、可視照明に結びつけられ、そのため、そのようなMH開発の欠如の理由となり得る(すなわち、可視HgMHランプは、Hgの置き換えから恩恵を受けないであろう)。LPUV源の開発を考える場合、これまでのそのようなMH開発の欠如の原因に関する根本的な疑問が、依然として存在する。出願された関連する特許のそのような評価が、図12、図13、および図14に示した関連するデータと共に表12にリスト化される。
表12:Te/SbのMHランプに関連する特許
・特許1=Schafer,J.(1976)英国特開第1552334号「重合性ラッカーの硬化のために使用される金属ハロゲン化物放電ランプ」
・特許2=Turner,B.(1994)米国特許第5661365号「テルルランプ」
・特許3=Derra,G.およびNielman,U.(2003)欧州特許第1502485号「極端紫外線の生成方法」、ならびにDerra,G.およびNielman,U.(2008)米国特許第7385211号「極端紫外線の生成方法」
・特許4=Kaas,P.およびEbert,B.(2004)欧州特開第1463091号「UV最適化電極放電ランプ」
・400nmを超える放射線の発生
・TeI5の使用
・マイクロ波エネルギーの使用
UV−MHランプは、TeおよびTeI2の形態のヨウ化物の一次ランプ充填物と、SbI3の二次ランプ充填物と、に基づいて、実現可能であると考えられた。最適化された量において、ランプ充填物のこの組み合わせは、Hg−HPランプと同様の内部ランプ圧力を可能にすることが予想されたが、より低い励起レベルおよび最適なスペクトル特性を有する二次充填物に起因する増加したスペクトル効率を伴う。Teをヨウ素と併用する恩恵は、Hgと比較的似ている圧力特性が達成されなければならないことである。しかしながら、HPランプにおいて生じる温度(>600℃)において、相互互換的状態が、気相中のヨウ化物化合物と気相中の元素成分との間において形成される。元素成分、特に高蒸気圧を有するI2が、ランプの安定性および機能性に影響を及ぼすか否かについては不明である。これを除いて、HD−UV源としてHgに対する機能的代替手段を提供するためのTeおよびSbのヨウ化物の両方の適性は、技術的に有望に見える。しかしながら、最適量は、実際に評価される必要がある。
ランププラズマの一次成分を形成するTeハロゲン化物と、UVC領域におけるスペクトル出力を最大化する二次充填物としてのSbヨウ化物と、を伴う高効率のMH−HPランプの提案された概要を実現するために、多くの設計段階を実施しなければならなかった。それらを以下に説明する。
段階1のための初期ガイダンスとして、以下の値が決定された。比較値として総重量を使用する場合、選択されたランプの幾何学的形状を伴う表13におけるより低い値(Turner(1994)によるプロトタイプにおいて使用される量の半分)は、現状のHP−Hgランプ(18mmのIDのプロトタイプのランプ)に対して使用される領域内である。スペクトル出力、スペクトル効率、およびランプ性能の目視確認(例えば、アークの位置および安定性)に関するこれらのプロトタイプの結果の評価に従って、ランプ充填物の最適化が、段階2に対して提案され得る。
表13:初期Teプロトタイプの仕様
#1Hgは、最大負荷に基づくランプの概要を満たしつつ、安定したアーク12Vcm−1を可能にする。15mmのプロトタイプの推定される電圧cm−1に対して、Hgの適用量は、25mgであり、18mmのプロトタイプの場合は40mgである。
全てのプロトタイプのランプは、Hanovia Ltd社(バークシャー、イギリス国)により製造された。Hgランプは、発明者の仕様による標準的製造プロセスに従って製造された(表14)。金属ハロゲン化物のプロトタイプのために製造された全てのランプ本体(充填物のないランプ)は、ランプ充填物を挿入する時点までは、Hgランプと同じ製造プロセスを使用して製造され、ランプ充填物を挿入した時点で、Swagelok(登録商標)(ハートフォードシャー、イギリス)真空取付具を使用して、真空下においてランプがプロセスから外され、湿気および酸素のない環境(<0.5ppmの、測定されたH2OおよびO2)を可能にするMbraun(登録商標)(ノッティンガムシャー、イギリス)Unilab Plusグローブボックスに移された。この条件下において、必要なランプ充填物を、1mgまでの感度を有する自動較正付きVWR(レスターシャ、イギリス)精密天秤(SN:LPW−723i)を使用して秤量した。充填物をランプ本体に加え、再び密封し、標準ランプ製造プロセスに戻した。全てのプロトタイプは、赤外線ERを反射するために電極の裏側に白金反射塗料を有し、電極の背後での冷点の形成と、ランププラズマからのランプ充填物の凝縮の可能性と、を防いでいる。
性能評価は、3つの特定の側面、すなわち、物理特性(すなわち、アーク安定性)、絶対スペクトル出力、および電気特性に関して実施された。全てのプロトタイプは、4kWの電力定格のEta+(ニュールティンゲン、ドイツ)Xシリーズの電子安定器により駆動された。プロトタイプが点灯しなかった場合、内部ガス圧を下げ、結果としてストライク電圧を下げるために、噴霧式冷凍器(Artic Products、リーズ イギリス、またはElectrolube、レスターシャ、イギリス)を使用して、プロトタイプは冷却された(冷却が必要かどうかは、表16のコメント欄において述べられている)。これは、一般的に、例えば、(ランプ充填物とガスを挿入するために使用された)ランプステムの除去に起因するランプ温度の上昇など、製造プロセスの間のハロゲン化物の解離に起因した。
●プロトタイプの開発
設計の段階1のためのハロゲン化物のプロトタイプの初期セットの製造において、ランプのドープの間に誤差が生じ、これは、投与されたTeの量が、表13において所望される量より10倍多いことを意味し、したがって、その後の全ての設計段階に対する最終的な量は、表15において提供される。さらに、2つの実用的問題が生じた:すなわち、ランプ充填物の秤量(結果として測定の間の圧力変化を生じたため、ガスリークに起因することが特定された。これは、プロトタイプの第2セットおよび第3セットで解決された)と、ランプ製造プロセスにおけるステム除去(de-stemming)のプロセス(真空取付具のための6mmまでのマージンステムサイズ(Merge stem size)の増加に起因し、これは、より段階的に閉鎖することを可能にするために、複数の段階でのステムの除去により解決された)と、である。
3つ全てのプロトタイプの段階から得られた性能結果は、図16、図17、図18、および図19に続けて提供される性能評価を支援するための関連画像と共に、下記の表16に提供される。
(表20)
#4第2スペクトルスキャンからの電気計測の第1セットは欠けており、したがって、スキャンの間の期間が短いことから、第1スキャンからの第2セットが使用された。
(表21)
Hgの同等物と比較して、最大で凡そ1/10の殺菌出力を生じ、大部分が、特に電極の近くにおいて不規則な特性を有するランプアークを発生させた、設計の段階1、2、および3からの結果全体を考慮すると、設計の概要が、生産の準備からはほど遠いことは明確である。しかしながら、同研究は、現在の状況におけるランプ概要の重要な理論的設計特徴の検証を可能にした。さらに、プロトタイプの性能限界のもっともらしい原因も識別され、これらに対してどのように対処することができるかに関しての提案もされた。
が、I2からのアークの不安定性またはTeの凝集のどちらかを生じるか否かであった。ランプ充填物の推定される飽和は、気相中のTeの場合、プラズマ容量内では凝集が生じるように見られなかったこと、または凝集が生じたとしても、ランプの機能性を損傷させるほどではないことを示唆する。対照的に、I2は、アークの安定性と、結果としてプラズマのインピーダンスと、に影響を及ぼすように見られた。これは、ドーパントとしてのSbによる、より低い出力を有し、乱流アークへと移行した、ランプ設計VIおよびVIIにより支持された。これは、電極付近において乱流の増加を生じさせるSbI3からの追加のIに起因し、ランプ18mmVIIの場合、これは、アークの下側全部を拡大させた。これは、通常は、それ自体、ハロゲンサイクルの維持不能による、主要な設計上の制限であろう。しかしながら、この場合、2つの因子が、そうでないことを示唆している。第1は、ランプ充填物としてTe:Iの非化学量論比を使用しても機能的なHPプラズマである。第2は、ランプのウォームアップ段階の大部分の間における、ランプアークのほとんど理想的な特性である(表23のコメント欄7,3,4)。プラズマの形成および維持よりも、アークの安定性および出力にほとんど、または全く悪影響を及ぼさない程度までに使用されるIの減量が可能な能力が、ランプの性能の向上において重要であろう。アークは、ウォームアップ段階の間に現れ、ウォームアップの後も、減じられたIの比率および減じられた全ランプ充填物において恒久的に再現されることを意図し、目に見える乱流を生じさせず、最小の可視出力を生じさせた(図19c)。課題は、ランプが稼働中にランプの安定性および出力を妨げないように充填物の量を十分に低くしつつ、十分なハロゲン化物を添加することによりプラズマが形成できるように(すなわち、ランプがアークを発生するように)、ハロゲン化物形態において添加されるランプ充填物の量のバランスを取ることである。アークを発生させた全てのプロトタイプは、およそ1分−2分で完全稼働出力(乱流段階への移行を含まない)へと進み、これは、時間枠をHg−HPランプと同様の時間枠にし、システム設計の配分(例えば、動作/待機要件)を、現在使用されているHPランプ(例えば、中圧ランプ)のシステム設計の配分と同じにした。
初期研究による結論からの提案に対処するため、プロトタイプのランプのさらなるセットが作製された(9mmID、190mmのアーク長、および2mmの壁厚)。各ランプの充填物の詳細は、下記の表に示され、ランプのスペクトル出力は、以下に述べる重要な成果と共にグラフに示される。
・ランプ充填物の化学量論比1:2(Te:I)が安定的なアークおよびプラズマの形成を可能にすることの確認
・アンチモンは、安定的なアークおよびプラズマを維持しつつ、ランプ充填物のさらなる添加剤として使用され得る。
・最も効果的なランプ充填物は、テルルおよびヨウ素のみのランプ充填物であったが、これらは、将来、最適化され得る。
要約すると、高圧UV放電を可能にする、新規の、概念実証のための、Hgフリープラズマが生産された。プロトタイプ設計の殺菌効率は、Hgの同等物より非常に低かった。しかしながら、2つの基本的制限、すなわち、プラズマ飽和を伴い過度に負荷のかかったランプと、安定的なUV効率の放電が含むことができる量より多いヨウ素含有量と、が主要な原因であることが識別された。本研究は、望ましい電気特性および安定的なアークを生じる機能的ランププラズマを発生させると同時に、使用され得るIに対するTeの非化学量論量を、決定的に明らかにした。Hgフリー、高効率および高出力密度のランプを製造するための環境的および経済的ドライバの増加により、提示された概念実証を水事業に適用可能なランプへとさらに発展させるために、以下の推奨が提案される。
1.スペクトル出力および出力密度の両方にとって最適な充填物が製造されるまでの、Teランプ充填物を減量した様々なランプの開発
2.ポイント1と併せて、アーク安定性および殺菌効率に対して最小の影響を有しつつ、機能的プラズマを可能にする、ヨウ素含有量を減らしたさらなる様々なランプ充填物の開発
3.ポイント1および2の完了後、実用のための効率的なランプを可能にするための、ランプドライバ、緩衝ガス、および追加のドーパントの最適化
・特にUV放射線または400nm未満の放射線を発生させるための、比較的低い内部設計圧
・円筒管において安定的なアークおよびランププラズマを発生させるための、減じられた比率のヨウ素の使用
・可視発光を刺激し得る過剰なヨウ素ではなく、UV放射線の発生のための減量されたヨウ素の使用
を含む。
Claims (15)
- オスミウム、ゲルマニウム、およびテルルのうちの少なくとも1つの一次充填物と、
スズ、アンチモン、インジウム、タンタル、および金のうちの少なくとも1つを含む二次充填物と、
を含む、
ことを特徴とする無水銀高圧金属ハロゲン化物紫外線ガス放電ランプ。 - 前記一次ランプ充填物は、テルルであり、
前記二次ランプ充填物は、アンチモンである、
請求項1記載のガス放電ランプ。 - 前記金属ハロゲン化物のハロゲンは、
ヨウ素、
を含む、
請求項1または2記載のガス放電ランプ。 - 前記一次ランプ充填物は、TeI2であり、
前記二次ランプ充填物は、SbI3である、
請求項3記載のガス放電ランプ。 - ヨウ素対テルルの比率は、非化学量論的であり、好ましくは、ヨウ素の含有量が減じられる、
請求項3または4記載のガス放電ランプ。 - ヨウ素対テルルの前記比率は、2:1以下、好ましくは1.5以下、より好ましくは1.0未満である、
請求項5記載のガス放電ランプ。 - 前記ランプの出力は、
200nm−300nmの範囲の波長の電磁放射線、
を含む、
請求項1乃至6のいずれかに記載のガス放電ランプ。 - 前記一次ランプ充填物は、
水銀と同様の物理特性、例えば、蒸気圧など、
を有する、
請求項1乃至7のいずれかに記載のガス放電ランプ。 - 前記一次ランプ充填物は、
200nm−230nmより低いスペクトル線(すなわち、より高い光子エネルギー)、
を有する、
請求項8記載のガス放電ランプ。 - 前記一次ランプ充填物は、
253.7nmより低い支配的スペクトル線、
を有する、
請求項8記載のガス放電ランプ。 - 前記二次ランプ充填物は、
ランプの始動時温度および稼働時温度の両方において、ランプ特性に影響を及ぼさない程度の十分に好適に高い蒸気温度、
を有する、
請求項1乃至10のいずれかに記載のガス放電ランプ。 - 前記二次ランプ充填物は、
励起において優先的に選択される、波長200nm−230nmおよび/または260nm−280nmのスペクトル線、
を有する、
請求項11記載のガス放電ランプ。 - 請求項1乃至12のいずれかに記載のガス放電ランプにおける一次充填物および二次充填物を用いてガス放電ランプを充填する方法。
- 実質的に添付の図面を参照しながら本明細書において説明されるようなガス放電ランプ。
- 実質的に添付の図面を参照しながら本明細書において説明されるようなガス放電ランプを充填する方法。
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