JP2019509285A - 2’−o−フコシルラクトースの製造方法 - Google Patents
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Abstract
本発明は、2'-O-フコシルラクトースの製造方法、及び本方法において使用される式(I)の保護されたフコシルドナーに関する。本方法は、下記の式(I)のフコース誘導体を一般式(II)の化合物と、活性化試薬の存在下で反応させることを含む。式(I)及び(II)において、変数は、それぞれ以下のように定義される:Xは、Br又はS結合基、すなわち-SCN、-S(O)n-RX1又は-S-RX2であり(ここで、RX1は、好ましくは置換基を有していてもよいフェニルであり、RX2は、好ましくはC1〜C4-アルキル、2-オキサゾリン-2-イル、2-チアゾリン-2-イル、ベンゾオキサゾール-2-イル、ベンゾチアゾール-2-イル又はピリジン-2-イルである)、RSiは、同一又は異なっており、式SiRaRbRcの基であり(ここで、Ra、Rb及びRcは、好ましくはそれぞれメチルである)、R1は、C(=O)-R11基又はSiR12R13R14基であり(ここで、R11は、好ましくはメチル、フェニル、tert-ブチルであり、R12、R13及びR14は好ましくはそれぞれメチルである)、R2は、同一又は異なっており、C1〜C8-アルキルであるか又は直鎖C3〜C6-アルカンジイル(これは非置換であるか、又は置換基として1〜6個のメチル基を有する)を一緒に形成し、R3は、同一又は異なっており、C1〜C8-アルキルであるか又は直鎖C1〜C4-アルカンジイル(これは非置換であるか又は置換基として1〜6個のメチル基を有する)を一緒に形成する。
【選択図】なし
Description
RSiは適切なシリル保護基であり、
Xは適切な脱離基である]
のものである、アノマー脱離基を有するトリシリル化フコース誘導体を適切なラクトースアクセプター、すなわち下でより詳細に定義される一般式(II)の化合物と、活性剤の存在下で反応させることによって、一般式(III)の対応する、保護された2'-O-フコシルラクトース誘導体が良好な収率及び高い選択性で得られ、この誘導体を次いでそれ自体が公知な方法で脱保護して、必要とされる水素化ステップを実施することなく、2'-O-フコシルラクトースを得ることができることが判明した。
a)一般式(I)
[式中、
RSiは、式SiRaRbRcの同一又は異なる基であり(ここで、
Ra、Rb及びRcは、同一又は異なっており、C1〜C8-アルキル、C3〜C8-シクロアルキル、フェニル及びC3〜C8-シクロアルキル-C1〜C4-アルキルから選択される)、
Xは、Br、及びS結合基、すなわち-SCN、-S(O)n-RX1又は-S-RX2からなる群から選択される(ここで、
nは、0、1又は2であり、
RX1は、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-ハロアルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する、アリールであり、
RX2は、C1〜C6-アルキル、C1〜C6-ハロアルキル、ベンジル(ここで、ベンジルのフェニル部分は、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-ハロアルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する)、結合点に対してオルト位に窒素原子を、場合により他方のオルト位にO及びSから選択される第2のヘテロ原子を有する5又は6員ヘテロシクリル(ここで、ヘテロシクリルは、縮合ベンジル部分を場合により有し得る)からなる群から選択される)]
を
一般式(II)
[式中、
R1は、C(=O)-R11基又はSiR12R13R14基であり(ここで、
R11は、水素、C1〜C8-アルキル、C1〜C8-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル-C1〜C4-アルキル又はフェニルであり(ここで、前記フェニルは、非置換であるか又はハロゲン、CN、NO2、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-アルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する)、並びに
R12、R13及びR14は、同一又は異なっており、C1〜C8-アルキル、C3〜C8-シクロアルキル、フェニル及びC3〜C8-シクロアルキル-C1〜C4-アルキルから選択される)、
R2は、同一でも異なっていてもよく、C1〜C8-アルキルを示し、又は同一炭素原子に結合している2個のR2基は直鎖C3〜C6-アルカンジイル(これは非置換であるか又は置換基として1〜6個のメチル基を有する)を一緒に形成し、
R3は、同一でも異なっていてもよく、C1〜C8-アルキルを示し、又は直鎖C1〜C4-アルカンジイル(これは非置換であるか又は置換基として1〜6個のメチル基を有する)を一緒に形成する]
と反応させるステップ、及び
b) ステップa)において得られた一般式(III)
[式中、
RSiは、式SiRaRbRcの同一又は異なる基であり(ここで、
Ra、Rb及びRcは、同一又は異なっており、C1〜C8-アルキル、C3〜C8-シクロアルキル、フェニル及びC3〜C8-シクロアルキル-C1〜C4-アルキルから選択される)、
Xは、Br、及びS結合基、すなわち-SCN、-S(O)n-RX1又は-S-RX2からなる群から選択される(ここで、
nは、0、1又は2であり、
RX1は、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-ハロアルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する、アリールであり、
RX2は、C1〜C6-アルキル、C1〜C6-ハロアルキル、ベンジル(ここで、ベンジルのフェニル部分は、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-ハロアルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する)、結合点に対してオルト位に窒素原子を、場合により他方のオルト位にO及びSから選択される第2のヘテロ原子を有する5又は6員ヘテロシクリル(ここで、ヘテロシクリルは、縮合ベンジル部分を場合により有し得る)からなる群から選択される)]
であって、
- RSiがトリメチルシリルであり、且つXが-S-(4-メチル-フェニル)である、
- RSiがトリエチルシリルであり、且つXが-S-エチル又は-S(O)-フェニルである、又は
- RSiがtert-ブチルジメチルシリルであり、且つXがBr又は-S-エチルである
式(I)の化合物を除く、一般式(I)のフコース誘導体に関する。
- 本明細書に記載の方法により使用される式(I)の2,3,4-トリシリル化フコシルドナー、
- 本明細書に記載の方法により得られる2'-O-フコシルラクトース、
- 食料品において又は食品添加物として、本明細書に記載の方法により入手できる2'-O-フコシルラクトースの使用、及び
- 本明細書に記載の方法により入手できる2'-O-フコシルラクトース及び食料品に適した少なくとも1つの担体を含む、食料品又は食品添加物、
にも関する。
RX1は、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル及びC1〜C4-アルコキシから選択される1、2又は3個の置換基を場合により有するフェニルであり、
RX2は、C1〜C4-アルキル、2-オキサゾリン-2-イル、2-チアゾリン-2-イル、ベンゾオキサゾール-2-イル、ベンゾチアゾール-2-イル及びピリジン-2-イルからなる群から選択される)
である、一方法に関する。
- 全てのRSi基がトリメチルシリルであり、且つX基がメチルチオである、式(I)の化合物、
- 全てのRSi基がトリメチルシリルであり、且つX基がエチルチオである、式(I)の化合物、及び
- 全てのRSi基がトリメチルシリルであり、且つX基がフェニルチオである、式(I)の化合物である。
- 全てのR2基がメチルであり、全てのR3基がメチルであり、全てのRSi基がトリメチルシリルであり、且つR1がトリメチルシリルである、式(III)の化合物、
- 全てのR2基がメチルであり、全てのR3基がメチルであり、全てのRSi基がトリメチルシリルであり、且つR1がアセチルである、式(III)の化合物、
- 全てのR2基がメチルであり、全てのR3基がメチルであり、全てのRSi基がトリメチルシリルであり、且つR1がピバロイルである、式(III)の化合物
である。
- 全てのR2基がメチルであり、全てのR3基がメチルであり、且つR11がメチルである、R1=-C(=O)-R11である、式(IIIa)の化合物、
- 全てのR2基がメチルであり、全てのR3基がメチルであり、且つR11がフェニルである、R1=-C(=O)-R11である、式(IIIa)の化合物、
- 全てのR2基がメチルであり、全てのR3基がメチルであり、且つR11がtert-ブチルである、R1=-C(=O)-R11である、式(IIIa)の化合物である。
- 全てのR2基がメチルであり、且つ全てのR3基がメチルである、式(IIIb)の化合物である。
- R11がメチルである、式(IIIc)の化合物、
- R11がエチルである、式(IIIc)の化合物、
- R11がフェニルである、式(IIIc)の化合物、
- R11がtert-ブチルである、式(IIIc)の化合物
である。
このようなグルコシルドナーを用いるグルコシル化は、例えば、「Handbook of Chemical Glycosylation」、Alexei V. Demchenko編、2008、Wiley-VCH Verlag, Weinheim、Germany、及びその中に引用されている文献において開示されている。
i) クロラミンT、すなわち、例えば、A. K. Misraら、 Carbohydr. Res. 2004、339、885〜890に記載されている、N-クロロ4-メチルベンゼンスルホンアミドのナトリウム塩、
ii) 例えば、R. U. Lemieuxら、Canadian Journal of Chemistry 1965、43、2205、G. H. Veenemanら、Tetrahedron Lett. 1990、31、275〜278、及びOttら、J. Carbohydr. Chem. 2001、20(7&8)、611〜636に記載されている、ヨードニウムジコリジンパークロレート(iodonium dicollidine perchlorate)、
iii) 例えば、P. Fugediら、Carbohydr. Res. 1986、149m、C9-C12、及びOttら、J. Carbohydr. Chem. 2001、20 (7&8)、611-636に記載されている、ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフラート、
vi) 例えば、K.C. Nicolaouら、J. Am. Chem. Soc. 105 (1983)、2430〜34に記載されている、N-ブロモスクシンイミド(NBS)、
v) N-ヨードスクシンイミド(NIS)、
vi) 例えば、M. Sasakiら、Tetrahedron Lett. 1991、32、6873〜76に記載されている、N-ブロモスクシンイミド+トリフリン酸(TfOH)、
vii) 例えば、Z. H. Qinら、Carbohydr. Res. 2002、337、31〜36に記載されている、N-ブロモスクシンイミド+トリメチルシリルトリフラート(TMSOTf)、
viii) 例えば、G. H. Veeneman ら、Tetrahedron Lett. 1990、31、1331〜34、及びP. Konradssonら、Tetrahedron Lett. 1990、31、4313〜16に記載されている、N-ヨードスクシンイミド+トリフル酸、
ix) 例えば、G. H. Veenemanら、Tetrahedron Lett. 1990、31、1331〜34、及びP. Konradssonら、Tetrahedron Lett. 1990、31、4313〜16に記載されている、N-ヨードスクシンイミド+トリメチルシリルトリフラート、
x) 例えば、J. O. Kihlbergら、J. Org. Chem. 1990、55、2860〜63に記載されている、臭素(Br2)+銀(I)トリフラート(AgTf)、
xi) 例えば、J. D. C. Codeeら、Tetrahedron 2004、60、1057〜64、及びJ. D. C. Codeeら、Organic Letters 2003、5、1519〜22に記載されている、ジフェニルスルホキシド(Ph2SO)+トリフル酸無水物(TfO2)、
xii) 例えば、P. Curaら、Synlett 2000、1279〜80、及びK. P. R. Karthaら、 Tetrahedron: Asymmetry 2000、11、581〜593に記載されている、ヨウ素(I2)+ヘキサメチルジシラザン(HMDS)、及び
xiii) 例えば、J. O. Kihlbergら、J. Org. Chem. 1990、55、2860〜63、及びS. Satoら、Carbohydr. Res. 1986、155、C6-C10に記載されている、臭化銅(II)(CuBr2)+テトラ-(C1〜C6-アルキル)アンモニウム臭化物((C1〜C6-アルキル)4NBr)
から選択されるのが好ましい。
1) L-フコピラノースの過アシル化、
2) アノマー炭素原子へのS-結合基の導入、
3) アシル保護基の除去、及び
4) チオフコシドの2、3及び4位におけるヒドロキシル基のシリル化
によって製造され得る。
R2は、特にC1〜C4-アルキル及びとりわけメチルであり、又は同一炭素原子に結合している2個のR2残基は共に1,5-ペンタンジイルであり、したがってそれらが結合している炭素原子とともにシクロヘキサン-1,1-ジイル残基を形成している。全てのR2残基はとりわけメチルである。
R3は、特にC1〜C4-アルキル及びとりわけメチルである。
d: ダブレット
dd: ダブレットのダブレット
ps-q: 偽カルテット
s: シングレット
t: トリプレット
m: マルチプレット
mc: 中心となるマルチプレット
CHCl3: トリクロロメタン
CHE: シクロヘキサン
DCM: ジクロロメタン、アミレンで安定化されているか又は安定剤無しが好ましい
DMF: ジメチルホルムアミド
of th.:理論の
EE: 酢酸エチル
BF3 *Et2O: 三フッ化ホウ素ジエチルエーテラート
MgSO4: 硫酸マグネシウム
MeOH: メタノール
NaHCO3: 炭酸水素ナトリウム
RT: 周囲温度、約22℃
82.5/17.5v/vのアセトニトリル/水を溶離液として使用し、検出にはRID検出器を用いた。流速は1mL/min、ラン時間は10〜40minとした。試料容積は5μLとした。
試料調製については、各場合において試料100mgを容量比50/50のアセトニトリル/水10mLに溶かした。
テトラアセチルフコース47.1g(0.14mol)のCHCl3200mL溶液を0℃に冷却し、次いでエタンチオール13.3g(0.21mol)をゆっくり添加した。その後、26.2g(0.18mol)のBF3 *Et2Oを0℃で15分かけて滴下した。反応混合液を室温で24時間攪拌し、続いてDCM100mLで混合液を希釈して後処理した。得られた混合液を、NaHCO3飽和溶液100mL及び水100mLで連続して洗浄した。有機相をMgSO4で乾燥させ、濾過し、減圧下で濃縮乾固した。残渣をEE/CHE 8:2(v/v)中で再溶解し、溶液をシリカゲルパッド(250mL)に通して濾過した。生成物を含有する画分を集め、減圧下で濃縮乾固した。収量:32.6g(理論値の(of th)69%)
1-チオエチル-2,3,4-トリ-O-アセチル-L-フコピラノース32.6g(0.097mol)を、メタノール350ml中に室温で溶解した。ナトリウムメトキシド1.76gの添加後、得られた混合液を室温で6日間攪拌した。次いで、イオン交換樹脂(Amberlite IR 120、H+形態、強酸性)2gを添加し、混合液を室温で15分間攪拌した。
続いて、イオン交換樹脂を濾過によって除去し、次いで濾液を減圧下で濃縮乾固した。残渣をn-ヘプタン/EE 1:1(v/v)20mLに溶解し、攪拌しながら0℃で2時間かけて結晶化させた。n-ヘプタン10mLを用いた結晶の濾過及び洗浄によって、固体生成物16gを得た。
1-チオエチル-2,3,4-トリ-O-トリメチルシリル-L-フコピラノースの製造
トリメチルアミン15.23gを、1-チオエチル-L-フコピラノース9.5g(0.046mol)のDMF30mL溶液に添加し、次いでクロロトリメチルシラン16.7gを0℃で滴下した。0℃で4時間攪拌を続けた後、n-ペンタン75mLを添加し、次いで水50mLを滴下した。続いて、有機相を分離し、水25mLで3回、飽和NaCl溶液25mLで洗浄し、次いで減圧下での濃縮乾固によって、油状生成物17.3gを得た。
1H-NMR (CD2Cl2): δ 5.2 (d); 4.2 (d); 4,1 (ps-q); 3.9 (dd); 3.6-3.5 (m); 3.5 (ps-q); 3.3 (m); 2.6-2.3 (m); 1.1 (m); 1.0 (m); 0.5-0.0 (m)
チオフェノール10.2gを、テトラアセチルフコース24.1gのトルエン24g溶液に添加し、溶液を0℃に冷却した。次いで15.6gのBF3 *Et2Oを滴下し、得られた混合液を12時間攪拌した。飽和NaHCO3溶液50mLでの抽出後、有機相を分離し、水50mLで2回洗浄し、Na2SO4で乾燥させ、最後に減圧下での濃縮乾固によって、粗表題化合物29gを得た。
粗1-チオエチル-2,3,4-トリ-O-アセチル-L-フコピラノース29gを、メタノール60mL中に溶解し、ナトリウムメトキシド1.6gを添加した。室温で24時間攪拌した後、イオン交換樹脂(Amberlite IRA 120、H+形態、強酸性)6gを添加し、混合液を室温で5分間攪拌した。続いて、イオン交換樹脂を濾過によって除去し、次いで濾液を減圧下での濃縮乾固によって、粗表題化合物17.5gを得た。
1-チオフェニル-2,3,4-トリ-O-トリメチルシリル-L-フコピラノースの製造
トリエチルアミン(3.3eq)22.7gを、粗1-チオフェニル-L-フコピラノース17.4gのDMF50mL懸濁液に添加し、次いで-5〜0℃の温度でクロロトリメチルシラン(3.3eq)24.6gをゆっくり添加した。0℃で4時間攪拌を続けた後、n-ペンタン100mLを添加し、次いで水70mLを添加して反応をクエンチした。水相をペンタン50mLで再抽出し、合わせた有機抽出物をNa2SO4で乾燥させた。減圧下での濃縮乾固によって、13C-NMR分光法によって示されたように、α-及びβ-異性体の混合物の形態で存在する表題化合物10gを得た。
13C NMR (CD2Cl2, 126 MHz): δ (ppm) 136.04, 135.71, 132.12, 132.12, 130.33, 130.33, 129.47, 129.47, 129.07, 129.07, 127.02, 126.71, 90.25, 89.35, 77.42, 75.82, 75.67, 75.08, 72.70, 70.52, 69.42, 68.19, 17.32, 16.74, 0.78,0.78, 0.78, 0.69, 0.69, 0.69, 0.55, 0.55, 0.55,,0.50, 0.50, 0.50, 0.28.0,28, 0.28,0.28, 0.28, 0.28.
4-O-(3,4-イソプロピリデン-β-D-ガラクトピラノシル)-2,3;5,6-ビス-O-イソプロピリデン-D-グルコース-ジメチルアセタール150g(280mmol)を、DCM190mLに入れた。これに、トリエチルアミン57.19g(565mmol)を加えた。塩化ピバロイル49.56g(411mmol)のDCM35mL溶液を2時間かけて添加し、それに伴い温度を27℃未満に維持した。次いで、反応混合物を21h間加熱還流した(内部温度:49℃)。冷却後、懸濁液を氷水410mL上に注ぎ、生成した混合物を10min間攪拌した。有機相を分離し、水相をDCM95mLで1回抽出した。合わせた有機相を、水95mL、NaCl飽和溶液95mLで連続して洗浄し、Na2SO445gで乾燥し、固形物をろ別した。濾液をロータリーエバポレーションにより蒸発させて(40℃、5mbar)、表題化合物79.2重量%を含む生成物188.65gを得た(89.2% of th.)。
13C NMR(CD2Cl2, 500 MHz): δ (ppm) 178.24, 110.40, 110.30, 108.55, 105.65, 103.95, 79.36, 78.35, 78.12, 76.72, 75.62, 74.60, 73.60, 71.36, 64.99, 63.09, 56.51, 53.54, 38.98, 28.25, 27.35, 27.26, 27.26, 27.26, 26.68, 26.39, 25.82, 24.51.
R1=C(=O)C(CH3)3、R2=CH3、R3=CH3及びRSi=トリメチルシリルである、式(III)化合物の製造
式(II-1)のフコシルアクセプター0.3mmol(製造例3を参照されたい)、1-チオエチル-2,3,4-トリ-O-トリメチルシリル-L-フコピラノース0.45mmol、及びN-ヨードスクシンイミド0.45mmolのDCM25mL溶液を、最初に、分子ふるい4Å約2gを用いて1時間攪拌し、次いでトリメチルシリルトリフラート0.05mmolのDCM1mL溶液を、-25℃で添加した。この温度で攪拌を16時間続け、その後トリエチルアミン0.5mLを用いたクエンチによって反応を停止した。混合液を、DCM30mLで希釈し、有機相を飽和亜硫酸水素ナトリウム液10mLで2回、水10mLで洗浄した。Na2SO445gで乾燥させた後、固体を濾過除去し、濾液を減圧下で濃縮した。原料をCHE/EE 5:1(v/v)中に再溶解し、トリエチルアミン1体積%で処理し、シリカゲルカラム(カラム寸法:直径d=9cm、高さh=37cm、体積V約2.3L)の上部に移した。カラムを多少の加圧下で溶出した。生成物画分を合わせて、ロータリーエバポレーションにより45℃及び5mbarにて濃縮し、次いで真空オイルポンプにより1h間濃縮し、表題化合物を得た。
13C NMR (CD2Cl2, 500 MHz): δ (ppm) 178.18, 110.26, 110.12, 108.96, 105.84, 101.80, 97.96, 80.26, 78.01, 77.56, 76.29, 75.94, 75.37, 75.23, 73.80, 71.23, 70.96, 69.25, 66.98, 65.98, 6278, 56.23, 5340, 39.01, 27.92, 27.41, 27.32, 27.27, 27.27, 27.27, 27.16, 26.35, 25.66, 17.08, 0.77, 0.77, 0.77, 0.62, 0.62, 0.62, 0.26, 0.26, 0.26.
2'-O-フコシルラクトースの製造方法
メタノール20mL中、実施例3で得られた、得られた粗生成物1gを、K2CO3で処理し、16時間攪拌した。メタノールを留去し、次いでDCM20mLを添加し、混合液を水10mLで洗浄した。有機相をNa2SO4で乾燥させ、濃縮乾固し、0.5NのHCl25mL中に溶解し、混合液を室温で8時間攪拌した。続いて、混合液を、5mLのイオン交換体IMAC HP 661を充填したカラムを通して、溶出により中和し、続いて水3mLで3回再洗浄し、合わせた水相をDCM6mLで洗浄した。真空下での蒸発後、そのHPLC保持時間を2'-O-フコシルラクトースの真正な試料の1つと比較することによって、表題生成物であると確認された非晶質生成物を得た(HPLCは、上記に記載されたように実施された)。
Claims (23)
- 2'-O-フコシルラクトースの製造方法であって、
a) 一般式(I)
[式中、
RSiは、式SiRaRbRcの同一又は異なる基であり(ここで、
Ra、Rb及びRcは、同一又は異なっており、C1〜C8-アルキル、C3〜C8-シクロアルキル、フェニル及びC3〜C8-シクロアルキル-C1〜C4-アルキルから選択される)、
Xは、Br、及びS結合基、すなわち-SCN、-S(O)n-RX1又は-S-RX2からなる群から選択される(ここで、
nは、0、1又は2であり、
RX1は、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-ハロアルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する、アリールであり、
RX2は、C1〜C6-アルキル、C1〜C6-ハロアルキル、ベンジル(ここで、ベンジルのフェニル部分は、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-ハロアルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する)、結合点に対してオルト位に窒素原子を、場合により他方のオルト位にO及びSから選択される第2のヘテロ原子を有する5又は6員ヘテロシクリル(ここで、ヘテロシクリルは、縮合ベンジル部分を場合により有し得る)からなる群から選択される)]
を一般式(II)
[式中、
R1は、C(=O)-R11基又はSiR12R13R14基であり(ここで、
R11は、水素、C1〜C8-アルキル、C1〜C8-ハロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル、C3〜C8-シクロアルキル-C1〜C4-アルキル又はフェニルであり(ここで、前記フェニルは、非置換であるか又はハロゲン、CN、NO2、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-ハロアルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する)、
R12、R13及びR14は、同一又は異なっており、C1〜C8-アルキル、C3〜C8-シクロアルキル、フェニル及びC3〜C8-シクロアルキル-C1〜C4-アルキルから選択される)、
R2は、同一でも異なっていてもよく、C1〜C8-アルキルであり、又は同一の炭素原子に結合している2個のR2基は直鎖C3〜C6-アルカンジイル(これは非置換であるか又は置換基として1〜6個のメチル基を有する)を一緒に形成し、
R3は、同一でも異なっていてもよく、C1〜C8-アルキルであり、又は直鎖C1〜C4-アルカンジイル(これは非置換であるか又は置換基として1〜6個のメチル基を有する)を一緒に形成する]
と活性化試薬の存在下で反応させるステップ;及び
b) ステップa)において得られた一般式(III)
のカップリング生成物を脱保護して、2'-O-フコシルラクトースを得るステップ
を含む、製造方法。 - 式(I)のXが、Brとは異なる、請求項1に記載の方法。
- 式(I)のXが、-S-RX1又は-S-RX2であり、
RX1が、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル及びC1〜C4-アルコキシから選択される1、2又は3個の置換基を場合により有する、フェニルであり、
RX2が、C1〜C4-アルキル、2-オキサゾリン-2-イル、2-チアゾリン-2-イル、ベンゾオキサゾール-2-イル、ベンゾチアゾール-2-イル及びピリジン-2-イルからなる群から選択される、
請求項2に記載の方法。 - 式(I)のXが、メチルチオ、エチルチオ及びフェニルチオからなる群から選択される、請求項3に記載の方法。
- 活性化試薬が、以下の試薬i)〜xv):
i) クロラミンT、
ii) ヨードニウムジコリジンパークロレート、
iii) ジメチル(メチルチオ)スルホニウムトリフラート、
iv) N-ブロモスクシンイミド、
v) N-ヨードスクシンイミド、
vi) N-ブロモスクシンイミド+トリフル酸、
vii) N-ブロモスクシンイミド+トリメチルシリルトリフラート、
viii) N-ヨードスクシンイミド+トリフル酸、
ix) N-ヨードスクシンイミド+トリメチルシリルトリフラート、
x) 臭素+銀(I)トリフラート、
xi) ジフェニルスルホキシド+トリフル酸無水物、
xii) ヨウ素+ヘキサメチルジシラザン、及び
xiii) 臭化銅(II)+テトラ-(C1〜C6-アルキル)アンモニウム臭化物
からなる群から選択される、請求項2〜4のいずれか一項に記載の方法。 - 活性化試薬が、試薬vi)、vii)、viii)及びix)からなる群から選択される、請求項5に記載の方法。
- 活性化試薬が、試薬i)〜v)のうちの1種であって、それが式(I)の化合物1モル当たり、0.05〜2モル当量、好ましくは0.5〜1.5モル当量の量で使用される、請求項5に記載の方法。
- 活性化試薬が、試薬vi)〜xiii)のうちの1種であって、式(I)の化合物1モル当たり、第1の成分が1〜2モル当量、好ましくは1〜1.5モル当量、且つ第2の成分が0.01〜2モル当量、好ましくは0.05〜1.5モル当量となるような量で使用される、請求項5又は6に記載の方法。
- ステップa)が、式(I)[式中、X基はBrとは異なるS-結合基である]の化合物を臭素と反応させて、式(I)[式中、XはBrである]の化合物を得て、続いて式(I)[式中、Xは、Brである]の化合物を式(II)の化合物と活性化試薬の存在下で反応させることを含む、請求項1に記載の方法。
- 活性化試薬が、アルカリ金属臭化物、アルカリ土類金属臭化物及びテトラ-(C1〜C6-アルキル)アンモニウム臭化物からなる群から選択される、請求項9に記載の方法。
- 活性化試薬が、テトラ-n-ブチルアンモニウム臭化物である、請求項10に記載の方法。
- 活性化試薬が、式(I)の化合物1モル当たり、0.05〜2モル、好ましくは0.5〜1.5モル、特に0.8〜1.2モルの量で使用される、請求項10又は11に記載の方法。
- 式(I)の化合物及び式(II)の化合物を、1:3〜3:1、好ましくは1:2〜2:1、特に1:1.5〜1.5:1の範囲のモル比(I):(II)で反応させる、請求項1〜12のいずれか一項に記載の方法。
- ステップa)の反応が、ジクロロメタン、アセトニトリル、DMF、トルエン、THF、ジエチルエーテル、ジメトキシエタン、1,4-ジオキサン又はこれらの混合物からなる群から選択される非プロトン性溶媒内で実施される、請求項1〜13のいずれか一項に記載の方法。
- ステップa)の反応が、-40〜60℃、好ましくは-20〜40℃の範囲内の温度で実施される、請求項1〜14のいずれか一項に記載の方法。
- ステップb)において、
b.1) 式(III)の化合物を酸の存在下、水で処理するか、
又は
b.2) 式(III)[式中、R1はSiR12R13R14基である]の化合物を、脱シリル化試薬でまず処理し、ここで、式(IIIb)
続いて、酸の存在下で、式(IIIb)の化合物を水で処理することにより、残りの保護基を除去するか、
又は
b.3) 式(III)[式中、R1はC(O)R11基である]の化合物を、脱シリル化試薬でまず処理し、ここで、式(IIIa')
続いて、C(O)-R11基及び残りの保護基を引き続き除去するか、
又は
b.4) 保護基C(R2)2及びOR3を式(III)[式中、R1はC(O)R11基である]の化合物からまず除去し、ここで、式(IIIc)
続いて、C(O)R11基を除去するか、
又は
b.5) 式(III)[式中、R1はC(O)-R11基である]の化合物を、C1〜C4-アルカノール及びアルカリ金属塩基でまず処理し、これにより、式(IIIb)の化合物が得られ、続いて、酸性反応条件下で式(IIIb)の化合物を処理することによって、残りの保護基を除去する、
請求項1〜15のいずれかに記載の方法。 - 式(I)及び(III)におけるRSi基がトリメチルシリルである、請求項1〜16のいずれかに記載の方法。
- 式(II)及び(III)におけるR1基がトリメチルシリルである、請求項1〜17のいずれかに記載の方法。
- 式(II)及び(III)におけるR1基が、アセチル、ピバロイル、ベンゾイル、4-クロロベンゾイル及び4-メチルベンゾイル、好ましくはアセチル、ピバロイル、及びベンゾイルから選択される、請求項1〜17のいずれか一項に記載の方法。
- 式(II)及び(III)におけるR2基がメチルである、請求項1〜19のいずれかに記載の方法。
- 式(II)及び(III)におけるR3基がメチルである、請求項1〜20のいずれかに記載の方法。
- 一般式(I)
[式中、
RSiは、式SiRaRbRcの同一又は異なる基であり(ここで、
Ra、Rb及びRcは、同一又は異なっており、C1〜C8-アルキル、C3〜C8-シクロアルキル、フェニル及びC3〜C8-シクロアルキル-C1〜C4-アルキルから選択される)、
Xは、Br、及びS結合基、すなわち-SCN、-S(O)n-RX1又は-S-RX2からなる群から選択される(ここで、
nは、0、1又は2であり、
RX1は、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-ハロアルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する、アリールであり、
RX2は、C1〜C6-アルキル、C1〜C6-ハロアルキル、ベンジル(ここで、ベンジルのフェニル部分は、非置換であるか又はハロゲン、C1〜C4-アルキル、C1〜C4-アルコキシ、C1〜C4-ハロアルキル及びC1〜C4-ハロアルコキシから選択される1〜5個の置換基を場合により有する)、結合点に対してオルト位に窒素原子を、場合により他方のオルト位にO及びSから選択される第2のヘテロ原子を有する5又は6員ヘテロシクリル(ここで、ヘテロシクリルは、縮合ベンジル部分を場合により有し得る)からなる群から選択される)]
であって、
- RSiがトリメチルシリルであり、且つXが-S-(4-メチル-フェニル)である、
- RSiがトリエチルシリルであり、且つXが-S-エチル又は-S(O)-フェニルである、又は
- RSiが、tert-ブチルジメチルシリルであり、且つXが、Br又は-S-エチルである
式(I)の化合物を除く、一般式(I)のフコース誘導体。 - 式(I)における、RSiがトリメチルシリルであり、且つXがBr、メチルチオ、エチルチオ及びフェニルチオから選択される、請求項22に記載のフコース誘導体。
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