JP2019219227A - パターン検査装置及びパターン検査方法 - Google Patents
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Abstract
Description
非解像パターンが形成された領域を含む複数の特定領域を検査領域とした試料から光学画像を取得する光学画像取得機構と、
検査領域を複数の処理領域に分割して、処理領域毎に、当該処理領域内で取得された光学画像の階調値に基づいて当該処理領域が複数の特定領域のうちどの特定領域に相当するのかを判定する特定領域判定部と、
複数の特定領域の特定領域毎に判定閾値を変えながら、被検査画像となる光学画像が取得された処理領域に相当する特定領域の判定閾値を用いて、当該被検査画像と、当該被検査画像と同一パターンが形成される光学画像とを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とする。
非解像パターンが形成された領域を含む複数の特定領域を検査領域とした試料から光学画像を取得する工程と、
検査領域を複数の処理領域に分割して、処理領域毎に、当該処理領域内で取得された光学画像の階調値に基づいて当該処理領域が複数の特定領域のうちどの特定領域に相当するのかを判定する工程と、
複数の特定領域の特定領域毎に判定閾値を変えながら、被検査画像となる光学画像が取得された処理領域に相当する特定領域の判定閾値を用いて、当該被検査画像と、当該被検査画像と同一パターンが形成される光学画像とを比較する工程と、
を備えたことを特徴とする。
非解像パターンが形成された領域を含む複数の特定領域を検査領域とした試料から光学画像を取得する光学画像取得機構と、
前記検査領域を複数の処理領域に分割して、処理領域毎に、当該処理領域内で取得された前記光学画像の階調値に基づいて当該処理領域が前記複数の特定領域のうちどの特定領域に相当するのかを判定する特定領域判定部と、
前記複数の特定領域の特定領域毎に判定閾値を変えながら、被検査画像となる光学画像が取得された処理領域に相当する特定領域の判定閾値を用いて、当該被検査画像を検査する検査部と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1におけるパターン検査装置の構成を示す構成図である。図1において、検査対象基板に形成されたパターンの欠陥を検査する検査装置100は、光学画像取得機構150、及び制御系回路160を備えている。
20 検査ストライプ
30 フレーム領域
32 サンプリング領域
40 非解像パターン領域
41 非解像パターン
42 パターン無し領域
43 欠陥
44 境界領域
50 サンプリング領域抽出部
51 記憶装置
52 階調値分布作成部
53 キャリブレーション処理部
70,72,76 記憶装置
74 フレーム分割部
78 位置合わせ部
79 比較処理部
80 領域特定部
100 検査装置
101 基板
102 XYθテーブル
103 光源
104 拡大光学系
105 フォトダイオードアレイ
106 センサ回路
107 位置回路
108 比較回路
109 磁気ディスク装置
110 制御計算機
113 オートローダ制御回路
114 テーブル制御回路
115 磁気テープ装置
116 FD
117 CRT
118 パターンモニタ
119 プリンタ
120 バス
122 レーザ測長システム
123 ストライプパターンメモリ
140 階調レベル調整回路
142 特定領域判定回路
150 光学画像取得機構
160 制御系回路
170 照明光学系
174 ビームスプリッタ
176 結像光学系
Claims (6)
- 非解像パターンが形成された領域を含む複数の特定領域を検査領域とした試料から光学画像を取得する光学画像取得機構と、
前記検査領域を複数の処理領域に分割して、処理領域毎に、当該処理領域内で取得された前記光学画像の階調値に基づいて当該処理領域が前記複数の特定領域のうちどの特定領域に相当するのかを判定する特定領域判定部と、
前記複数の特定領域の特定領域毎に判定閾値を変えながら、被検査画像となる光学画像が取得された処理領域に相当する特定領域の判定閾値を用いて、当該被検査画像と、当該被検査画像と同一パターンが形成される光学画像とを比較する比較部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。 - 前記複数の特定領域には、前記非解像パターンが形成された非解像パターン領域と、パターン無し領域と、前記非解像パターン領域と前記パターン無し領域との境界領域と、が含まれることを特徴とする請求項1記載のパターン検査装置。
- 前記試料として、ナノインプリント用のテンプレートが用いられることを特徴とする請求項1又は2記載のパターン検査装置。
- 前記非解像パターンとして、縦横サイズが異なるホールパターンが形成されることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載のパターン検査装置。
- 非解像パターンが形成された領域を含む複数の特定領域を検査領域とした試料から光学画像を取得する工程と、
前記検査領域を複数の処理領域に分割して、処理領域毎に、当該処理領域内で取得された前記光学画像の階調値に基づいて当該処理領域が前記複数の特定領域のうちどの特定領域に相当するのかを判定する工程と、
前記複数の特定領域の特定領域毎に判定閾値を変えながら、被検査画像となる光学画像が取得された処理領域に相当する特定領域の判定閾値を用いて、当該被検査画像と、当該被検査画像と同一パターンが形成される光学画像とを比較する工程と、
を備えたことを特徴とするパターン検査方法。 - 非解像パターンが形成された領域を含む複数の特定領域を検査領域とした試料から光学画像を取得する光学画像取得機構と、
前記検査領域を複数の処理領域に分割して、処理領域毎に、当該処理領域内で取得された前記光学画像の階調値に基づいて当該処理領域が前記複数の特定領域のうちどの特定領域に相当するのかを判定する特定領域判定部と、
前記複数の特定領域の特定領域毎に判定閾値を変えながら、被検査画像となる光学画像が取得された処理領域に相当する特定領域の判定閾値を用いて、当該被検査画像を検査する検査部と、
を備えたことを特徴とするパターン検査装置。
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