JP2019210325A - Curable composition and its cured product - Google Patents

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Abstract

To provide a novel curable composition containing an inclusion compound having 1,1'-bi-2-naphthol compound as a host compound, as a curing agent and/or a curing accelerator of a resin, and its production method and a cured product of the curable composition.SOLUTION: A curable composition of the present invention contains an epoxy resin, and an inclusion compound as a curing agent and/or a curing accelerator, and the inclusion compound contains a host compound expressed by the following formula (1) and a guest compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring or its condensed heterocyclic ring containing a plurality of nitrogen atoms as a constituent atom of a ring. (In the formula, Rand Reach is independently a substituent group, ms each is independently an integer of 0 to 4, ns each is independently an integer of 0 to 2.)SELECTED DRAWING: None

Description

本発明は、ビナフトール化合物をホストとする包接化合物を、エポキシ樹脂の硬化剤及び/又は硬化促進剤として利用した硬化性組成物及びその製造方法、並びに前記硬化性組成物の硬化物に関する。   The present invention relates to a curable composition using a clathrate compound containing a binaphthol compound as a host as an epoxy resin curing agent and / or curing accelerator, a method for producing the same, and a cured product of the curable composition.

包接化合物は、ゲスト化合物の化学的安定性を高めたり、ゲスト化合物を不揮発化や粉末化して取扱性を向上できることが知られている。また、包接化合物は、包接による選択分離性を利用した分離材料の分野などで利用されている。   It is known that the clathrate compound can improve the chemical stability of the guest compound or improve the handleability by making the guest compound non-volatile or powdered. In addition, clathrate compounds are used in the field of separation materials utilizing selective separation by inclusion.

例えば、1,1’−ビ−2−ナフトール化合物は、小分子を包接可能なホスト化合物として機能することで知られており、国際公開第2008/053496号(特許文献1)及び国際公開第2010/079504号(特許文献2)では、ラセミ化合物を1,1’−ビ−2−ナフトールに包接させることにより、ジアステレオマー塩を形成して、光学活性体を分割する方法が提案されている。   For example, a 1,1′-bi-2-naphthol compound is known to function as a host compound capable of including a small molecule, and International Publication No. 2008/053496 (Patent Document 1) and International Publication No. In 2010/07954 (Patent Document 2), a method of splitting an optically active substance by forming a diastereomeric salt by inclusion of a racemate in 1,1′-bi-2-naphthol is proposed. ing.

一方、包接化合物は、ゲスト化合物の放出が温度に依存することを利用した温度感応型材料などとしても利用できる。例えば、特開平11−71449号公報(特許文献3)には、1,1,2,2−テトラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタンなどの所定のアルカンテトラキスフェノールをホスト化合物として、イミダゾール類などをゲスト化合物とする包接化合物を、エポキシ樹脂の硬化剤又は硬化促進剤として用いることが提案されている。   On the other hand, the clathrate compound can also be used as a temperature sensitive material utilizing the fact that the release of the guest compound depends on the temperature. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 11-71449 (Patent Document 3) discloses that a predetermined alkanetetrakisphenol such as 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane as a host compound and imidazoles as a guest It has been proposed to use an inclusion compound as a compound as a curing agent or curing accelerator for an epoxy resin.

しかし、これらの文献には、1,1’−ビ−2−ナフトール化合物をホスト化合物とする包接化合物を、樹脂の硬化剤などとして利用することについて、何ら記載されていない。   However, these documents do not describe any use of an inclusion compound containing a 1,1′-bi-2-naphthol compound as a host compound as a resin curing agent.

国際公開第2008/053496号International Publication No. 2008/053496 国際公開第2010/079504号International Publication No. 2010/0795504 特開平11−71449号公報JP-A-11-71449

従って、本発明の目的は、樹脂の硬化剤及び/又は硬化促進剤として、1,1’−ビ−2−ナフトール化合物をホスト化合物とする包接化合物を含む新規な硬化性組成物及びその製造方法並びに前記硬化性組成物の硬化物を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a novel curable composition containing an inclusion compound containing a 1,1′-bi-2-naphthol compound as a host compound as a resin curing agent and / or curing accelerator, and its production. It is in providing the method and the hardened | cured material of the said curable composition.

本発明の他の目的は、高い貯蔵安定性を有し、かつ加熱により迅速に硬化可能な硬化性組成物及びその製造方法並びに前記硬化性組成物の硬化物を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a curable composition having high storage stability and capable of being rapidly cured by heating, a method for producing the same, and a cured product of the curable composition.

本発明のさらに他の目的は、包接化合物を硬化剤及び/又は硬化促進剤として用いても、その使用量を低減できる硬化性組成物及びその製造方法並びに前記硬化性組成物の硬化物を提供することにある。   Still another object of the present invention is to provide a curable composition capable of reducing the amount of use even when an inclusion compound is used as a curing agent and / or a curing accelerator, a method for producing the same, and a cured product of the curable composition. It is to provide.

本発明者らは、前記課題を達成するため鋭意検討した結果、1,1’−ビ−2−ナフトール化合物をホスト化合物とする包接化合物は、樹脂の硬化剤及び/又は硬化促進剤として有効に利用できることを見いだし、本発明を完成した。   As a result of intensive studies to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have found that an inclusion compound containing a 1,1′-bi-2-naphthol compound as a host compound is effective as a resin curing agent and / or curing accelerator. The present invention has been completed.

すなわち、本発明の硬化性組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤及び/又は硬化促進剤としての包接化合物とを含み、前記包接化合物が、下記式(1)で表されるホスト化合物と、環の構成原子として複数の窒素原子を含む5又は6員複素環又はその縮合複素環を有するゲスト化合物とを含む。   That is, the curable composition of the present invention includes an epoxy resin and an inclusion compound as a curing agent and / or a curing accelerator, and the inclusion compound is a host compound represented by the following formula (1): And a guest compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing a plurality of nitrogen atoms as ring constituent atoms or a condensed heterocyclic ring thereof.

Figure 2019210325
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(式中、R及びRはそれぞれ独立して置換基、mはそれぞれ独立して0〜4の整数、nはそれぞれ独立して0〜2の整数を示す)。 (Wherein R 1 and R 2 are each independently a substituent, m is each independently an integer of 0 to 4, and n is each independently an integer of 0 to 2).

前記式(1)において、R及びRは、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基であってもよく、mは0〜2の整数であってもよく、nは0又は1であってもよい。 In the formula (1), R 1 and R 2 are an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom. An atom, a nitro group, a cyano group, or a substituted amino group may be sufficient, m may be an integer of 0-2, and n may be 0 or 1.

前記ゲスト化合物は、下記式(2)で表される化合物を含んでいてもよい。   The guest compound may contain a compound represented by the following formula (2).

Figure 2019210325
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(式中、Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、シアノアルキル基、又はトリアジン−アルキル基を示し;R〜Rは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアシル基を示し、前記アルキル基はヒドロキシル基を有していてもよく;RとRとは互いに結合して隣接する窒素原子及び炭素原子とともに環を形成してもよく;pは0〜3の整数を示し;実線と破線との二重線は単結合又は二重結合を示す)。 (In the formula, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a cyanoalkyl group, or a triazine-alkyl group; R 4 to R 6 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a nitro group. A group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group or an acyl group, and the alkyl group may have a hydroxyl group; and R 3 and R 4 are bonded to each other to form an adjacent nitrogen atom and You may form a ring with a carbon atom; p shows the integer of 0-3; the double line of a solid line and a broken line shows a single bond or a double bond).

前記ゲスト化合物は、下記式(2a)及び/又は(2b)で表される化合物を含んでいてもよい。   The guest compound may contain a compound represented by the following formula (2a) and / or (2b).

Figure 2019210325
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(式中、qは0〜5の整数を示し;R〜R及び実線と破線との二重線は前記式(2)に同じ)。 (In the formula, q represents an integer of 0 to 5; R 3 to R 6 and a double line of a solid line and a broken line are the same as those in the formula (2)).

前記ゲスト化合物は、2−アルキルイミダゾール、2−アリールイミダゾール、2,4−ジアルキルイミダゾール及び1−シアノエチル−2,4−ジアルキルイミダゾールから選択された少なくとも1種のイミダゾール化合物を含んでいてもよい。前記包接化合物は、ホスト化合物1モルに対してゲスト化合物を0.5〜5モルの割合で含んでいてもよい。エポキシ樹脂は、液状エポキシ樹脂であってもよい。前記硬化性組成物は、エポキシ樹脂100質量部に対して、包接化合物を0.1〜25質量部の割合で含んでいてもよい。   The guest compound may contain at least one imidazole compound selected from 2-alkylimidazole, 2-arylimidazole, 2,4-dialkylimidazole, and 1-cyanoethyl-2,4-dialkylimidazole. The clathrate compound may contain a guest compound in a ratio of 0.5 to 5 mol with respect to 1 mol of the host compound. The epoxy resin may be a liquid epoxy resin. The said curable composition may contain the clathrate compound in the ratio of 0.1-25 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins.

本発明は、前記式(1)で表されるホスト化合物と、環の構成原子として複数の窒素原子を含む5又は6員複素環又はその縮合複素環を有するゲスト化合物とを含む包接化合物を、エポキシ樹脂に混合して、前記硬化性組成物を製造する方法を包含する。また、本発明は、前記硬化性組成物が硬化した硬化物も包含する。   The present invention provides an inclusion compound comprising a host compound represented by the above formula (1) and a guest compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing a plurality of nitrogen atoms as ring constituent atoms or a condensed heterocyclic ring thereof. And a method for producing the curable composition by mixing with an epoxy resin. The present invention also includes a cured product obtained by curing the curable composition.

なお、本明細書及び特許請求の範囲において、置換基の炭素原子の数をC、C、C10などで示すことがある。例えば、炭素数が1のアルキル基は「Cアルキル」で示し、炭素数が6〜10のアリール基は「C6−10アリール」で示す。 In the present specification and claims, the number of carbon atoms of the substituent may be indicated by C 1 , C 6 , C 10 or the like. For example, an alkyl group having 1 carbon atom is represented by “C 1 alkyl”, and an aryl group having 6 to 10 carbon atoms is represented by “C 6-10 aryl”.

本発明では、樹脂の硬化剤及び/又は硬化促進剤として、1,1’−ビ−2−ナフトール化合物をホスト化合物とする包接化合物を含む新規な硬化性組成物を提供できる。また、前記硬化性組成物は、前記包接化合物を含むため、高い貯蔵安定性を有し、かつ加熱により迅速に硬化可能である。さらに、本発明では、ホスト化合物の分子量がそれほど大きくなく、ホスト化合物1モルに対するゲスト化合物の包接比が大きいため、通常、使用量が多くなり易い包接化合物を硬化剤及び/又は硬化促進剤として用いるにもかかわらず、その使用量を低減できる   In the present invention, a novel curable composition comprising an inclusion compound containing a 1,1′-bi-2-naphthol compound as a host compound as a resin curing agent and / or curing accelerator can be provided. Moreover, since the said curable composition contains the said inclusion compound, it has high storage stability and can be hardened | cured rapidly by heating. Furthermore, in the present invention, since the molecular weight of the host compound is not so large and the inclusion ratio of the guest compound to 1 mol of the host compound is large, the inclusion compound which is likely to be used in a large amount is usually used as a curing agent and / or curing accelerator Despite being used as a product, its usage can be reduced

図1は、BINOLのH−NMRスペクトルである。FIG. 1 is a 1 H-NMR spectrum of BINOL. 図2は、2E4MZのH−NMRスペクトルである。FIG. 2 is a 1 H-NMR spectrum of 2E4MZ. 図3は、2MZ−HのH−NMRスペクトルである。FIG. 3 is a 1 H-NMR spectrum of 2MZ-H. 図4は、2E4MZ−CNのH−NMRスペクトルである。FIG. 4 is a 1 H-NMR spectrum of 2E4MZ-CN. 図5は、2PZ−PWのH−NMRスペクトルである。FIG. 5 is a 1 H-NMR spectrum of 2PZ-PW. 図6は、実施例1の包接化合物のH−NMRスペクトルである。6 is a 1 H-NMR spectrum of the clathrate compound of Example 1. FIG. 図7は、実施例2の包接化合物のH−NMRスペクトルである。FIG. 7 is a 1 H-NMR spectrum of the clathrate compound of Example 2. 図8は、実施例3の包接化合物のH−NMRスペクトルである。FIG. 8 is the 1 H-NMR spectrum of the clathrate compound of Example 3. 図9は、実施例4の包接化合物のH−NMRスペクトルである。FIG. 9 is a 1 H-NMR spectrum of the clathrate compound of Example 4. 図10は、BINOLのXRDチャートである。FIG. 10 is a BINOL XRD chart. 図11は、実施例1の包接化合物のXRDチャートである。FIG. 11 is an XRD chart of the clathrate compound of Example 1. 図12は、実施例2の包接化合物のXRDチャートである。12 is an XRD chart of the clathrate compound of Example 2. FIG. 図13は、実施例3の包接化合物のXRDチャートである。FIG. 13 is an XRD chart of the clathrate compound of Example 3. 図14は、実施例4の包接化合物のXRDチャートである。FIG. 14 is an XRD chart of the clathrate compound of Example 4. 図15は、BINOLのTGAチャートである。FIG. 15 is a BINOL TGA chart. 図16は、2E4MZのTGAチャートである。FIG. 16 is a TGA chart of 2E4MZ. 図17は、2MZ−HのTGAチャートである。FIG. 17 is a 2MZ-H TGA chart. 図18は、2E4MZ―CNのTGAチャートである。FIG. 18 is a TGA chart of 2E4MZ-CN. 図19は、2PZ―PWのTGAチャートである。FIG. 19 is a 2PZ-PW TGA chart. 図20は、実施例1の包接化合物のTGAチャートである。20 is a TGA chart of the clathrate compound of Example 1. FIG. 図21は、実施例2の包接化合物のTGAチャートである。FIG. 21 is a TGA chart of the clathrate compound of Example 2. 図22は、実施例3の包接化合物のTGAチャートである。FIG. 22 is a TGA chart of the clathrate compound of Example 3. 図23は、実施例4の包接化合物のTGAチャートである。23 is a TGA chart of the clathrate compound of Example 4. FIG.

本発明の硬化性組成物は、エポキシ樹脂と、硬化剤及び/又は硬化促進剤とを含み、前記硬化剤及び/又は硬化促進剤として所定の包接化合物を含んでいる。   The curable composition of the present invention includes an epoxy resin, a curing agent and / or a curing accelerator, and includes a predetermined inclusion compound as the curing agent and / or the curing accelerator.

[包接化合物]
包接化合物では、ホスト化合物(ホスト又はホスト分子)により形成された空間内に、ゲスト化合物(ゲスト又はゲスト分子)として小分子が取り込まれ、共有結合によらずゲストが安定に存在する。
[Inclusion compound]
In the inclusion compound, a small molecule is incorporated as a guest compound (guest or guest molecule) in a space formed by the host compound (host or host molecule), and the guest exists stably regardless of the covalent bond.

(ホスト化合物)
本発明において、ホスト化合物としては、下記式(1)で表される1,1’−ビ−2−ナフトール化合物を用いることができる。
(Host compound)
In the present invention, a 1,1′-bi-2-naphthol compound represented by the following formula (1) can be used as the host compound.

Figure 2019210325
Figure 2019210325

(式中、R及びRはそれぞれ独立して置換基、mはそれぞれ独立して0〜4の整数、nはそれぞれ独立して0〜2の整数を示す)。 (Wherein R 1 and R 2 are each independently a substituent, m is each independently an integer of 0 to 4, and n is each independently an integer of 0 to 2).

前記式(1)において、置換基R及びRの種類は、ゲスト化合物の包接を損なわない限り特に制限されず、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、炭化水素基、基−OR10、基−SR10、基−COOR10、基−COR10、基−CON(R10(各式中、R10はそれぞれ独立して、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などを示す。)
などの広い範囲から選択できる。前記炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などが挙げられる。
In the formula (1), the types of the substituents R 1 and R 2 are not particularly limited as long as the inclusion of the guest compound is not impaired, and a halogen atom, a nitro group, a cyano group, a hydrocarbon group, a group —OR 10 , Group —SR 10 , group —COOR 10 , group —COR 10 , group —CON (R 10 ) 2 (in each formula, R 10 independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, Indicates a group etc.)
You can choose from a wide range. Examples of the hydrocarbon group include an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and an aralkyl group.

代表的なR及びRとしては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などの炭化水素基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アルキルチオ基、シクロアルキルチオ基、アリールチオ基、アラルキルチオ基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基などが挙げられる。 Typical R 1 and R 2 include, for example, a hydrocarbon group such as an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and an aralkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an alkylthio group, a cyclo Examples thereof include an alkylthio group, an arylthio group, an aralkylthio group, an acyl group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom, a nitro group, a cyano group, and a substituted amino group.

アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1−10アルキル基、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状C1−6アルキル基、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状C1−4アルキル基などが挙げられる。 Examples of the alkyl group include linear or branched C 1-10 alkyl such as methyl group, ethyl group, propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, and t-butyl group. A group, preferably a linear or branched C 1-6 alkyl group, more preferably a linear or branched C 1-4 alkyl group.

シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基などのC5−10シクロアルキル基、好ましくはC5−8シクロアルキル基、さらに好ましくはC5−6シクロアルキル基などが挙げられる。 Examples of the cycloalkyl group include C 5-10 cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group, preferably a C 5-8 cycloalkyl group, and more preferably a C 5-6 cycloalkyl group.

アリール基としては、例えば、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基などのC6−12アリール基などが挙げられる。 Examples of the aryl group include C 6-12 aryl groups such as a phenyl group, a biphenyl group, and a naphthyl group.

アラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基などのC6−10アリール−C1−4アルキル基などが挙げられる。 Examples of the aralkyl group include C 6-10 aryl-C 1-4 alkyl groups such as benzyl group and phenethyl group.

なお、前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基などの炭化水素基は、アルキル基、ハロゲン原子などの置換基を有していてもよく、例えば、アルキルフェニル基などを形成してもよい。アルキルフェニル基としては、例えば、メチルフェニル基(トリル基)、ジメチルフェニル基(キシリル基)などが挙げられる。   The hydrocarbon group such as an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, and an aralkyl group may have a substituent such as an alkyl group or a halogen atom, and may form, for example, an alkylphenyl group. Good. Examples of the alkylphenyl group include a methylphenyl group (tolyl group) and a dimethylphenyl group (xylyl group).

アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、n−ブトキシ基、イソブトキシ基、t−ブトキシ基などの直鎖状又は分岐鎖状C1−10アルコキシ基、好ましくはC1−8アルコキシ基、さらに好ましくはC1−6アルコキシ基などが挙げられる。 Examples of the alkoxy group include linear or branched C 1-10 alkoxy groups such as methoxy group, ethoxy group, propoxy group, n-butoxy group, isobutoxy group and t-butoxy group, preferably C 1-8. Examples thereof include an alkoxy group, more preferably a C 1-6 alkoxy group.

シクロアルコキシ基としては、例えば、シクロへキシルオキシ基などのC5−10シクロアルコキシ基などが挙げられる。 Examples of the cycloalkoxy group include C 5-10 cycloalkoxy groups such as a cyclohexyloxy group.

アリールオキシ基としては、例えば、フェノキシ基などのC6−10アリールオキシ基などが挙げられる。 Examples of the aryloxy group include C 6-10 aryloxy groups such as a phenoxy group.

アラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基などのC6−10アリール−C1−4アルキルオキシ基などが挙げられる。 Examples of the aralkyloxy group include a C 6-10 aryl-C 1-4 alkyloxy group such as a benzyloxy group.

アルキルチオ基としては、例えば、メチルチオ基などの前記アルコキシ基に対応するC1−10アルキルチオ基などが挙げられる。シクロアルキルチオ基としては、例えば、シクロヘキシルチオ基などのC5−10シクロアルキルチオ基などが挙げられる。アリールチオ基としては、例えば、チオフェノキシ基などのC6−10アリールチオ基などが挙げられる。アラルキルチオ基としては、例えば、ベンジルチオ基などのC6−10アリール−C1−4アルキルチオ基などが挙げられる。 Examples of the alkylthio group include a C 1-10 alkylthio group corresponding to the alkoxy group such as a methylthio group. Examples of the cycloalkylthio group include a C 5-10 cycloalkylthio group such as a cyclohexylthio group. Examples of the arylthio group include C 6-10 arylthio groups such as a thiophenoxy group. Examples of the aralkylthio group include a C 6-10 aryl-C 1-4 alkylthio group such as a benzylthio group.

アシル基としては、例えば、アセチル基などのC1−6アシル基などが挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基などのC1−4アルコキシ−カルボニル基などが挙げられる。 Examples of the acyl group include a C 1-6 acyl group such as an acetyl group. Examples of the alkoxycarbonyl group include C 1-4 alkoxy-carbonyl groups such as a methoxycarbonyl group.

ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。   Examples of the halogen atom include a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

置換アミノ基としては、例えば、ジアルキルアミノ基、ビス(アルキルカルボニル)アミノ基などが挙げられる。ジアルキルアミノ基としては、例えば、ジメチルアミノ基などのジC1−4アルキルアミノ基などが挙げられる。ビス(アルキルカルボニル)アミノ基としては、例えば、ジアセチルアミノ基などのビス(C1−4アルキル−カルボニル)アミノ基などが挙げられる。 Examples of the substituted amino group include a dialkylamino group and a bis (alkylcarbonyl) amino group. Examples of the dialkylamino group include a diC1-4 alkylamino group such as a dimethylamino group. Examples of the bis (alkylcarbonyl) amino group include a bis (C 1-4 alkyl-carbonyl) amino group such as a diacetylamino group.

置換基R及びR有する場合、好ましい置換基R及びRとしては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基が挙げられ;より好ましくはアルキル基、アリール基、又は、直鎖状又は分岐鎖状C1−6アルコキシ基などのアルコキシ基が挙げられ;さらに好ましくはアルキル基又はアリール基である。特に好ましくは直鎖状又は分岐鎖状C1−6アルキル基、又はC6−12アリール基であり、なかでも、メチル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1−4アルキル基、又はフェニル基などのC6−10アリール基である。 In the case of having substituents R 1 and R 2 , preferred substituents R 1 and R 2 are alkyl group, cycloalkyl group, aryl group, aralkyl group, alkoxy group, cycloalkoxy group, aryloxy group, aralkyloxy group, acyl Group, alkoxycarbonyl group, halogen atom, nitro group, cyano group or substituted amino group; more preferably, an alkoxy group such as an alkyl group, an aryl group, or a linear or branched C 1-6 alkoxy group And more preferably an alkyl group or an aryl group. Particularly preferred is a linear or branched C 1-6 alkyl group, or a C 6-12 aryl group. Among them, a linear or branched C 1-4 alkyl group such as a methyl group, or phenyl C 6-10 aryl groups such as groups.

置換基Rの置換数mは、例えば、0〜3程度の整数であってもよく、好ましくは0〜2の整数、さらに好ましくは0又は1、特に0である。2つの異なるナフタレン環における2つの置換数mは、互いに異なっていてもよいが、通常、同一である。2つの異なるナフタレン環に置換するRの種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、mが2以上である場合、同一のナフタレン環に置換する2以上のRの種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。 The substitution number m of the substituent R 1 may be, for example, an integer of about 0 to 3, preferably an integer of 0 to 2, more preferably 0 or 1, especially 0. The two substitution numbers m in two different naphthalene rings may be different from each other but are usually the same. The types of R 1 substituted on two different naphthalene rings may be the same or different from each other. When m is 2 or more, the two or more types of R 1 substituted on the same naphthalene ring may be the same or different from each other.

置換基Rの置換数nは、例えば、0又は1、好ましくは0である。2つの異なるナフタレン環における2つの置換数nは、互いに異なっていてもよいが、通常、同一である。2つの異なるナフタレン環に置換するRの種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。また、nが2である場合、同一のナフタレン環に置換する2つのRの種類は、互いに同一又は異なっていてもよい。 The substitution number n of the substituent R 2 is, for example, 0 or 1, preferably 0. The two substitution numbers n in two different naphthalene rings may be different from each other but are usually the same. The types of R 2 substituted on two different naphthalene rings may be the same or different from each other. In addition, when n is 2, the two types of R 2 substituted on the same naphthalene ring may be the same or different from each other.

前記式(1)で表される化合物として、代表的には、1,1’−ビ−2−ナフトール(BINOL)などが挙げられる。   A typical example of the compound represented by the formula (1) is 1,1'-bi-2-naphthol (BINOL).

(ゲスト化合物)
前記包接化合物は、ゲスト化合物として、所定の複素環化合物、すなわち、複数の窒素原子を環の構成原子として含む5又は6員複素環又はその縮合複素環を有する化合物を含んでいる。前記窒素原子は、例えば、塩基性窒素原子などであってもよく、前記窒素原子の数は、例えば、2〜5個、好ましくは2〜4個、さらに好ましくは2〜3個、特に2個である。前記5又は6員複素環は、脂肪族性複素環(又は非芳香族性複素環)又は芳香族性複素環のいずれであってもよい。また、前記5又は6員複素環は、脂肪族もしくは芳香族炭化水素環又は他の複素環のいずれの環と縮合して、前記縮合複素環を形成してもよい。
(Guest compound)
The inclusion compound includes, as a guest compound, a predetermined heterocyclic compound, that is, a compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing a plurality of nitrogen atoms as ring constituent atoms or a condensed heterocyclic ring thereof. The nitrogen atom may be, for example, a basic nitrogen atom, and the number of the nitrogen atoms is, for example, 2 to 5, preferably 2 to 4, more preferably 2 to 3, particularly 2 It is. The 5- or 6-membered heterocyclic ring may be either an aliphatic heterocyclic ring (or a non-aromatic heterocyclic ring) or an aromatic heterocyclic ring. In addition, the 5- or 6-membered heterocyclic ring may be condensed with an aliphatic or aromatic hydrocarbon ring or any other heterocyclic ring to form the condensed heterocyclic ring.

このような複素環化合物(又はゲスト化合物)としては、例えば、ピペラジン類、トリアジン類などの単環式複素環化合物、トリエチレンジアミン(DABCO;1,4−ジアザビシクロ[2.2.2]オクタン)などの縮合多環式複素環化合物などが挙げられる。ピペラジン類としては、例えば、ピペラジン;N,N’−ジメチルピペラジンなどのN,N’−ジアルキルピペラジン;N−(アミノエチル)ピペラジンなどのN−アミノアルキルピペラジン;1−(2−ジメチルアミノエチル)−4−メチルピペラジンなどのN−ジアルキルアミノエチル−N’−アルキルピペラジンなどが挙げられる。トリアジン類としては、例えば、トリアジン、N,N’,N”−トリス(ジメチルアミノプロピル)ヘキサヒドロ−s−トリアジンなどが挙げられる。   Examples of such a heterocyclic compound (or guest compound) include monocyclic heterocyclic compounds such as piperazines and triazines, triethylenediamine (DABCO; 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane), and the like. And a condensed polycyclic heterocyclic compound. As piperazine, for example, piperazine; N, N′-dialkylpiperazine such as N, N′-dimethylpiperazine; N-aminoalkylpiperazine such as N- (aminoethyl) piperazine; 1- (2-dimethylaminoethyl) And N-dialkylaminoethyl-N′-alkylpiperazines such as -4-methylpiperazine. Examples of the triazines include triazine, N, N ′, N ″ -tris (dimethylaminopropyl) hexahydro-s-triazine, and the like.

複素環化合物(又はゲスト化合物)は前記化合物を含んでいてもよいが、下記式(2)で表される化合物を含むのが好ましい。   Although the heterocyclic compound (or guest compound) may contain the said compound, it is preferable that the compound represented by following formula (2) is included.

Figure 2019210325
Figure 2019210325

(式中、Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、シアノアルキル基、又はトリアジン−アルキル基を示し;R〜Rは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアシル基を示し、前記アルキル基はヒドロキシル基を有していてもよく;RとRとは互いに結合して隣接する窒素原子及び炭素原子とともに環を形成してもよく;pは0〜3の整数を示し;実線と破線との二重線は単結合又は二重結合を示す)。 (In the formula, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a cyanoalkyl group, or a triazine-alkyl group; R 4 to R 6 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a nitro group. A group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group or an acyl group, and the alkyl group may have a hydroxyl group; and R 3 and R 4 are bonded to each other to form an adjacent nitrogen atom and You may form a ring with a carbon atom; p shows the integer of 0-3; the double line of a solid line and a broken line shows a single bond or a double bond).

前記式(2)において、Rで表されるアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1−10アルキル基が例示できる。好ましいアルキル基は、直鎖状又は分岐鎖状C1−6のアルキル基である。 In the formula (2), examples of the alkyl group represented by R 3 include a methyl group, an ethyl group, an n-propyl group, an isopropyl group, an n-butyl group, an isobutyl group, an s-butyl group, and a t-butyl group. Examples thereof include linear or branched C 1-10 alkyl groups such as a group, n-pentyl group, n-hexyl group, nonyl group, isononyl group and decyl group. Preferred alkyl groups are linear or branched C 1-6 alkyl groups.

で表されるシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロへキシル基などのC5−10シクロアルキル基などが例示できる。好ましいシクロアルキル基は、C5−8シクロアルキル基、特にC5−6シクロアルキル基などである。 Examples of the cycloalkyl group represented by R 3 include C 5-10 cycloalkyl groups such as a cyclopentyl group and a cyclohexyl group. Preferred cycloalkyl groups are C 5-8 cycloalkyl groups, especially C 5-6 cycloalkyl groups and the like.

で表されるアリール基としては、単環式又は多環式アリール基であってもよく、多環式アリール基は、完全不飽和のみならず、部分飽和の基であってもよい。アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アズレニル基、インデニル基、インダニル基、テトラリニル基などのC6−16アリール基などが例示できる。好ましいアリール基は、フェニル基、ナフチル基などのC6−10アリール基である。 The aryl group represented by R 3 may be a monocyclic or polycyclic aryl group, and the polycyclic aryl group may be not only fully unsaturated but also partially saturated. Examples of the aryl group include C 6-16 aryl groups such as a phenyl group, a naphthyl group, an azulenyl group, an indenyl group, an indanyl group, and a tetralinyl group. A preferred aryl group is a C 6-10 aryl group such as a phenyl group or a naphthyl group.

で表されるアラルキル基(アリールアルキル基)としては、上記アリール基とアルキル基とが結合した基であり、例えば、ベンジル基、フェネチル基、3−フェニル−n−プロピル基、1−フェニル−n−へキシル基、ナフタレン−1−イル−メチル基、ナフタレン−2−イル−エチル基、1−(ナフタレン−2−イル)−n−プロピル基、インデン−1−イル−メチル基などのC6−12アリールC1−6アルキル基などが例示できる。好ましいアラルキル基は、ベンジル基、フェネチル基などのC6−10アリールC1−4アルキル基である。 The aralkyl group (arylalkyl group) represented by R 3 is a group in which the aryl group and the alkyl group are bonded. For example, benzyl group, phenethyl group, 3-phenyl-n-propyl group, 1-phenyl -N-hexyl group, naphthalen-1-yl-methyl group, naphthalen-2-yl-ethyl group, 1- (naphthalen-2-yl) -n-propyl group, inden-1-yl-methyl group, etc. Examples thereof include a C 6-12 aryl C 1-6 alkyl group. A preferred aralkyl group is a C 6-10 aryl C 1-4 alkyl group such as a benzyl group or a phenethyl group.

前記アルキル基、シクロアルキル基、アリール基及びアラルキル基は置換基を有していてもよい。置換基としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル基、アルコキシ基、アシル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、アルキル基などが例示できる。   The alkyl group, cycloalkyl group, aryl group and aralkyl group may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom, a hydroxyl group, an alkoxy group, an acyl group, a carboxyl group, an alkoxycarbonyl group, and an alkyl group.

ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子などが挙げられる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基などのC1−6アルコキシ基などが挙げられる。アシル基としては、例えば、ホルミル基;アセチル基、プロピオニル基などのC1−10アルキル−カルボニル基などが挙げられる。アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基などのC1−4アルコキシ−カルボニル基などが挙げられる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基などのC1−6アルキル基などが挙げられる。 Examples of the halogen atom include a fluorine atom and a chlorine atom. Examples of the alkoxy group include a methoxy group, a C 1-6 alkoxy group such as ethoxy group. Examples of the acyl group include formyl group; C 1-10 alkyl-carbonyl group such as acetyl group and propionyl group. Examples of the alkoxycarbonyl group include C 1-4 alkoxy-carbonyl groups such as a methoxycarbonyl group. Examples of the alkyl group include C 1-6 alkyl groups such as a methyl group and an ethyl group.

で表されるシアノアルキル基としては、例えば、シアノメチル基、シアノエチル基などのシアノC1−6アルキル基が挙げられる。好ましいシアノアルキル基としては、シアノC1−4アルキル基であり、さらに好ましくはシアノC1−2アルキル基であり、特に、シアノエチル基である。 Examples of the cyanoalkyl group represented by R 3 include cyano C 1-6 alkyl groups such as a cyanomethyl group and a cyanoethyl group. A preferable cyanoalkyl group is a cyano C 1-4 alkyl group, more preferably a cyano C 1-2 alkyl group, and particularly preferably a cyanoethyl group.

で表されるトリアジン−アルキル基において、トリアジンは、1,3,5−トリアジン、1,2,4−トリアジン、1,2,3−トリアジンなどであってもよく、トリアジン環の炭素原子には、アミノ基、ヒドロキシル基などが置換していてもよい。代表的なトリアジン−アルキル基としては、例えば、4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン−2−イル−メチル基、4−アミノ−6−ヒドロキシ−1,3,5−トリアジン−2−イル−メチル基、4,6−ジヒドロキシ−1,3,5−トリアジン−2−イル−メチル基などの1,3,5−トリアジン−2−イル−C1−4アルキル基などが例示できる。好ましいトリアジン−アルキル基は、4,6−ジアミノ−1,3,5−トリアジン−2−イル−C1−2アルキル基である。 In the triazine-alkyl group represented by R 3 , the triazine may be 1,3,5-triazine, 1,2,4-triazine, 1,2,3-triazine, etc., and the carbon atom of the triazine ring May be substituted with an amino group, a hydroxyl group, or the like. Representative triazine-alkyl groups include, for example, 4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl-methyl group, 4-amino-6-hydroxy-1,3,5-triazine-2 Examples include 1,3,5-triazin-2-yl-C 1-4 alkyl groups such as -yl-methyl group and 4,6-dihydroxy-1,3,5-triazin-2-yl-methyl group. . A preferred triazine-alkyl group is a 4,6-diamino-1,3,5-triazin-2-yl-C 1-2 alkyl group.

とRとが環を形成しない場合、好ましいRとしては、水素原子、C1−4アルキル基、C6−10アリール基、C6−10アリールC1−4アルキル基、シアノC1−3アルキル基、又は1,3,5−トリアジン−2−イル−C1−2アルキル基などであり、通常、水素原子、シアノエチル基などである場合が多い。 When R 3 and R 4 do not form a ring, preferred R 3 includes a hydrogen atom, a C 1-4 alkyl group, a C 6-10 aryl group, a C 6-10 aryl C 1-4 alkyl group, a cyano C It is a 1-3 alkyl group or a 1,3,5-triazin-2-yl-C 1-2 alkyl group, and is usually a hydrogen atom, a cyanoethyl group or the like in many cases.

〜Rで表されるハロゲン原子には、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が含まれる。 The halogen atom represented by R 4 to R 6 includes a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, and an iodine atom.

〜Rで表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、イソブチル基、s−ブチル基、t−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、ラウリル基、トリデシル基、ミリスチル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基(パルミチル基)、ヘプタデシル基、オクタデシル基(ステアリル基)などの直鎖状又は分岐鎖状C1−20アルキル基などが例示できる。好ましいアルキル基としては、以下、段階的に、直鎖状又は分岐鎖状C1−18アルキル基、直鎖状又は分岐鎖状C1−12アルキル基、直鎖状又は分岐鎖状C1−10アルキル基、直鎖状又は分岐鎖状C1−6アルキル基、直鎖状又は分岐鎖状C1−4アルキル基である。 Examples of the alkyl group represented by R 4 to R 6 include methyl group, ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, isobutyl group, s-butyl group, t-butyl group, and n-pentyl group. , N-hexyl group, 2-ethylhexyl group, nonyl group, isononyl group, decyl group, lauryl group, tridecyl group, myristyl group, pentadecyl group, hexadecyl group (palmityl group), heptadecyl group, octadecyl group (stearyl group), etc. Examples thereof include a linear or branched C 1-20 alkyl group. As the preferable alkyl group, hereinafter, stepwise linear or branched C 1-18 alkyl group, linear or branched C 1-12 alkyl group, linear or branched C 1 1- A 10 alkyl group, a linear or branched C 1-6 alkyl group, and a linear or branched C 1-4 alkyl group.

また、R〜Rで表されるアルキル基、特に、R又はRで表されるアルキル基は、ヒドロキシル基を有していてもよい。ヒドロキシル基を有するアルキル基としては、例えば、ヒドロキシメチル基、ヒドロキシエチル基などのヒドロキシC1−20アルキル基などが例示できる。好ましいヒドロキシアルキル基としては、以下、段階的に、ヒドロキシC1−18アルキル基、ヒドロキシC1−16アルキル基、ヒドロキシC1−12アルキル基、ヒドロキシC1−8アルキル基、ヒドロキシC1−6アルキル基、ヒドロキシC1−4アルキル基であり、さらに好ましくはヒドロキシC1−2アルキル基、最も好ましくはヒドロキシメチル基である。 The alkyl group represented by R 4 to R 6, in particular, the alkyl group represented by R 5 or R 6 may have a hydroxyl group. Examples of the alkyl group having a hydroxyl group include hydroxy C 1-20 alkyl groups such as hydroxymethyl group and hydroxyethyl group. Preferable hydroxyalkyl groups are shown below in a stepwise manner: hydroxy C 1-18 alkyl group, hydroxy C 1-16 alkyl group, hydroxy C 1-12 alkyl group, hydroxy C 1-8 alkyl group, hydroxy C 1-6 An alkyl group and a hydroxy C1-4 alkyl group, more preferably a hydroxy C1-2 alkyl group, and most preferably a hydroxymethyl group.

〜Rで表されるシクロアルキル基、アリール基、アラルキル基としては、前記置換基Rと好ましい態様を含めて同様の基が例示できる。 Examples of the cycloalkyl group, aryl group, and aralkyl group represented by R 4 to R 6 include the same groups including the substituent R 3 and preferred embodiments.

〜Rで表されるアシル基は、水素原子;又はアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、もしくはヘテロアリール基などの有機基と、カルボニル基とが結合した基であればよい。アシル基としては、例えば、ホルミル基、直鎖状又は分岐鎖状アルキル−カルボニル基、置換基を有していてもよいアルケニル−カルボニル基、アルキニル−カルボニル基、アリール−カルボニル基、ヘテロアリール−カルボニル基などが例示できる。 The acyl group represented by R 4 to R 6 may be a group in which a hydrogen atom; or an organic group such as an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, or a heteroaryl group, and a carbonyl group are bonded. . Examples of the acyl group include a formyl group, a linear or branched alkyl-carbonyl group, an optionally substituted alkenyl-carbonyl group, an alkynyl-carbonyl group, an aryl-carbonyl group, and a heteroaryl-carbonyl group. Examples include groups.

直鎖状又は分岐鎖状アルキル−カルボニル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、イソブチリル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、へプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、デカノイル基、3−メチルノナノイル基、8−メチルノナノイル基、3−エチルオクタノイル基、3,7−ジメチルオクタノイル基、ウンデカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ペンタデカノイル基、ヘキサデカノイル基、1−メチルペンタデカノイル基、14−メチルペンタデカノイル基、13,13−ジメチルテトラデカノイル基、ヘプタデカノイル基、15−メチルヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、1−メチルヘプタデカノイル基、ノナデカノイル基、アイコサノイル基、ヘナイコサノイル基などの直鎖状又は分岐鎖状C1−26アルキル−カルボニル基などが挙げられる。 Examples of the linear or branched alkyl-carbonyl group include acetyl group, propionyl group, butyryl group, isobutyryl group, pentanoyl group, hexanoyl group, heptanoyl group, octanoyl group, nonanoyl group, decanoyl group, and 3-methylnonanoyl group. Group, 8-methylnonanoyl group, 3-ethyloctanoyl group, 3,7-dimethyloctanoyl group, undecanoyl group, dodecanoyl group, tridecanoyl group, tetradecanoyl group, pentadecanoyl group, hexadecanoyl group, 1-methyl Pentadecanoyl group, 14-methylpentadecanoyl group, 13,13-dimethyltetradecanoyl group, heptadecanoyl group, 15-methylhexadecanoyl group, octadecanoyl group, 1-methylheptadecanoyl group, nonadecanoyl group, Icosanoyl group, f Linear or branched C 1-26 alkyl such icosanoyl group -, carbonyl groups and the like.

置換基を有していてもよいアルケニル−カルボニル基としては、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、アリルカルボニル基、シンナモイル基などの、置換基を有していてもよいC2−6アルケニル−カルボニル基などが挙げられる。前記置換基としては、アリール基などが挙げられる。 Examples of the optionally substituted alkenyl-carbonyl group include an optionally substituted C 2-6 alkenyl-carbonyl group such as an acryloyl group, a methacryloyl group, an allylcarbonyl group, and a cinnamoyl group. Etc. Examples of the substituent include an aryl group.

アルキニル−カルボニル基としては、例えば、エチニルカルボニル基、プロピニルカルボニル基などのC2−6アルキニル−カルボニル基などが挙げられる。 Examples of the alkynyl-carbonyl group include C 2-6 alkynyl-carbonyl groups such as ethynylcarbonyl group and propynylcarbonyl group.

アリール−カルボニル基としては、例えば、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、ビフェニルカルボニル基、アントラニルカルボニル基などのC6−18アリール−カルボニル基などが挙げられる。 Examples of the aryl-carbonyl group include C 6-18 aryl-carbonyl groups such as a benzoyl group, a naphthylcarbonyl group, a biphenylcarbonyl group, and an anthranylcarbonyl group.

ヘテロアリール−カルボニル基としては、例えば、2−ピリジルカルボニル基、チエニルカルボニル基などの非芳香族又は芳香族5〜6員ヘテロアリール−カルボニル基などが挙げられる。   Examples of the heteroaryl-carbonyl group include non-aromatic or aromatic 5- to 6-membered heteroaryl-carbonyl groups such as 2-pyridylcarbonyl group and thienylcarbonyl group.

好ましいアシル基は、直鎖状又は分岐鎖状C1−20アルキル−カルボニル基であって、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状C1−6アルキル−カルボニル基である。 A preferable acyl group is a linear or branched C 1-20 alkyl-carbonyl group, and more preferably a linear or branched C 1-6 alkyl-carbonyl group.

とRとは互いに結合して隣接する窒素原子及び炭素原子とともに環を形成してもよい。前記環は、例えば、4〜12員環程度の範囲から選択してもよく、好ましくは5〜10員環である。 R 3 and R 4 may be bonded to each other to form a ring together with adjacent nitrogen and carbon atoms. The ring may be selected from a range of, for example, about 4 to 12 membered ring, and is preferably a 5 to 10 membered ring.

繰り返し数pは0〜3の整数を示し、好ましくは0〜2、さらに好ましくは0又は1である。   The repeating number p represents an integer of 0 to 3, preferably 0 to 2, and more preferably 0 or 1.

実線と破線との二重線は単結合又は二重結合を示し、通常、RとRとが互いに結合して環(複素環)を形成する場合、単結合であってもよく、RとRとが環(複素環)を形成しない場合、二重結合である場合が多い。 The double line between the solid line and the broken line represents a single bond or a double bond. Usually, when R 3 and R 4 are bonded to each other to form a ring (heterocycle), it may be a single bond, When 3 and R 4 do not form a ring (heterocycle), it is often a double bond.

とRとが環を形成しない場合、好ましいRとしては、水素原子、アルキル基、アリール基が挙げられ、さらに好ましくはアルキル基又はアリール基である。 When R 3 and R 4 do not form a ring, preferred R 4 includes a hydrogen atom, an alkyl group, and an aryl group, and more preferably an alkyl group or an aryl group.

好ましいR及び/又はRとしては、水素原子、アルキル基、ヒドロキシアルキル基などが挙げられる。 Preferred examples of R 5 and / or R 6 include a hydrogen atom, an alkyl group, and a hydroxyalkyl group.

前記式(2)で表される複素環化合物(ゲスト化合物)として、より具体的には、例えば、下記式(2a)で表される化合物及び/又は下記式(2b)で表される化合物が挙げられる。   More specifically, examples of the heterocyclic compound (guest compound) represented by the formula (2) include a compound represented by the following formula (2a) and / or a compound represented by the following formula (2b). Can be mentioned.

Figure 2019210325
Figure 2019210325

(式中、qは0〜5の整数を示し;R〜R及び実線と破線との二重線は好ましい態様を含めて前記式(2)に同じ)。 (In the formula, q represents an integer of 0 to 5; R 3 to R 6 and a double line of a solid line and a broken line are the same as those in the formula (2) including a preferred embodiment).

また、前記式(2a)において、Rのより好ましい態様としては、水素原子、シアノエチル基、トリアジン−アルキル基が挙げられ、さらに好ましくは水素原子が挙げられる。 In the formula (2a), more preferable embodiments of R 3 include a hydrogen atom, a cyanoethyl group, and a triazine-alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

前記式(2a)において、Rのより好ましい態様としては、水素原子、直鎖状又は分岐鎖状C1−20アルキル基、C6−14アリール基が挙げられ、さらに好ましくは直鎖状又は分岐鎖状C1−12アルキル基、C6−12アリール基であって、なかでも、直鎖状又は分岐鎖状C1−6アルキル基、C6−11アリール基が好ましい。迅速な硬化性が重要な用途では、直鎖状又は分岐鎖状C1−4アルキル基、特にC1−2アルキル基であるのが好ましい。また、高い貯蔵安定性が重要な用途では、C6−10アリール基が好ましい。これらのなかでも、迅速な硬化性と、高い貯蔵安定性とのバランスが特に優れ、ホスト化合物1モルに対するゲスト化合物の包接比を大きくできる点から、C6−10アリール基が最も好ましい。 In the formula (2a), more preferable embodiments of R 4 include a hydrogen atom, a linear or branched C 1-20 alkyl group, and a C 6-14 aryl group, and more preferably a linear or A branched C 1-12 alkyl group and a C 6-12 aryl group, among which a linear or branched C 1-6 alkyl group and a C 6-11 aryl group are preferable. For applications where rapid curability is important, linear or branched C 1-4 alkyl groups, particularly C 1-2 alkyl groups, are preferred. In applications where high storage stability is important, C 6-10 aryl groups are preferred. Among these, a C 6-10 aryl group is most preferable because it has a particularly excellent balance between rapid curability and high storage stability and can increase the inclusion ratio of the guest compound to 1 mol of the host compound.

前記式(2a)において、Rのより好ましい態様としては、水素原子、C1−8アルキル基、ヒドロキシC1−4アルキル基が挙げられ、さらに好ましくは水素原子、C1−6アルキル基であってもよく、なかでも水素原子、C1−4アルキル基が好ましく、特に水素原子、C1−2アルキル基が好ましい。なお、Rがアルキル基である場合、Rは水素原子又はアルキル基であることが多く、Rがアリール基である場合、Rは水素原子であることが多い。 In the formula (2a), more preferable embodiments of R 5 include a hydrogen atom, a C 1-8 alkyl group, and a hydroxy C 1-4 alkyl group, and more preferably a hydrogen atom and a C 1-6 alkyl group. Among them, a hydrogen atom and a C 1-4 alkyl group are preferable, and a hydrogen atom and a C 1-2 alkyl group are particularly preferable. When R 4 is an alkyl group, R 5 is often a hydrogen atom or an alkyl group, and when R 4 is an aryl group, R 5 is often a hydrogen atom.

前記式(2a)において、Rのより好ましい態様としては、水素原子、ヒドロキシC1−4アルキル基が挙げられ、さらに好ましくは水素原子である。 In the formula (2a), more preferable embodiments of R 6 include a hydrogen atom and a hydroxy C 1-4 alkyl group, and more preferably a hydrogen atom.

前記式(2a)において、R及びRが結合した炭素原子間の結合の種類は、単結合(イミダゾリン化合物)であってもよいが、工業的に入手が容易な点などから、二重結合(イミダゾール化合物)であるのが好ましい。 In the formula (2a), the type of bond between the carbon atoms to which R 5 and R 6 are bonded may be a single bond (imidazoline compound). A bond (imidazole compound) is preferred.

前記式(2b)において、好ましい繰り返し数qは、1〜5の整数であって、さらに好ましくは1〜4の整数、特に1〜3の整数である。   In the formula (2b), the preferable number of repetitions q is an integer of 1 to 5, more preferably an integer of 1 to 4, particularly an integer of 1 to 3.

式(2a)で表される化合物として代表的にはイミダゾリン化合物、イミダゾール化合物が挙げられ、イミダゾリン化合物としては、例えば、2−メチルイミダゾリン、2−フェニルイミダゾリンなどが挙げられる。   Typical examples of the compound represented by the formula (2a) include an imidazoline compound and an imidazole compound. Examples of the imidazoline compound include 2-methylimidazoline and 2-phenylimidazoline.

イミダゾール化合物としては、例えば、イミダゾール;1−メチルイミダゾール、1−エチルイミダゾール、1−n−プロピルイミダゾール、1−イソプロピルイミダゾール、1−n−ブチルイミダゾール、1−イソブチルイミダゾールなどの1−アルキルイミダゾール;2−メチルイミダゾール、2−エチルイミダゾール、2−n−プロピルイミダゾール、2−イソプロピルイミダゾール、2−n−ブチルイミダゾール、2−イソブチルイミダゾール、2−ウンデシルイミダゾール、2−ヘプタデシルイミダゾールなどの2−アルキルイミダゾール;2−フェニルイミダゾールなどの2−アリールイミダゾール;4−メチルイミダゾール、4−エチルイミダゾールなどの4−アルキルイミダゾール;1,2−ジメチルイミダゾールなどの1,2−ジアルキルイミダゾール;2,4−ジメチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾールなどの2,4−ジアルキルイミダゾール;2−フェニル−4−メチルイミダゾールなどの2−アリール−4−アルキルイミダゾール;1−ベンジル−2−メチルイミダゾールなどの1−アラルキル−2−アルキルイミダゾール;1−ベンジル−2−フェニルイミダゾールなどの1−アラルキル−2−アリールイミダゾール;1−シアノエチル−2−メチルイミダゾール、1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾールなどの1−シアノエチル−2−アルキルイミダゾール;1−シアノエチル−2−フェニルイミダゾールなどの1−シアノエチル−2−アリールイミダゾール;1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾールなどの1−シアノエチル−2,4−ジアルキルイミダゾール;2−フェニル−4−メチル−5−ヒドロキシメチルイミダゾールなどの2−アリール−4−アルキル−5−ヒドロキシアルキルイミダゾール;2−フェニル−4,5−ビス(ヒドロキシメチル)イミダゾールなどの2−アリール−4,5−ビス(ヒドロキシアルキル)イミダゾールなどが挙げられる。   Examples of the imidazole compound include imidazole; 1-alkylimidazole such as 1-methylimidazole, 1-ethylimidazole, 1-n-propylimidazole, 1-isopropylimidazole, 1-n-butylimidazole, 1-isobutylimidazole; 2 2-alkylimidazoles such as methylimidazole, 2-ethylimidazole, 2-n-propylimidazole, 2-isopropylimidazole, 2-n-butylimidazole, 2-isobutylimidazole, 2-undecylimidazole, 2-heptadecylimidazole 2-arylimidazoles such as 2-phenylimidazole; 4-alkylimidazoles such as 4-methylimidazole and 4-ethylimidazole; 1 such as 1,2-dimethylimidazole; 2-dialkylimidazole; 2,4-dialkylimidazole such as 2,4-dimethylimidazole and 2-ethyl-4-methylimidazole; 2-aryl-4-alkylimidazole such as 2-phenyl-4-methylimidazole; 1-aralkyl-2-alkylimidazole such as benzyl-2-methylimidazole; 1-aralkyl-2-arylimidazole such as 1-benzyl-2-phenylimidazole; 1-cyanoethyl-2-methylimidazole, 1-cyanoethyl-2 1-cyanoethyl-2-alkylimidazole such as undecylimidazole; 1-cyanoethyl-2-arylimidazole such as 1-cyanoethyl-2-phenylimidazole; 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole 1-cyanoethyl-2,4-dialkylimidazole; 2-aryl-4-alkyl-5-hydroxyalkylimidazole such as 2-phenyl-4-methyl-5-hydroxymethylimidazole; 2-phenyl-4,5-bis And 2-aryl-4,5-bis (hydroxyalkyl) imidazole such as (hydroxymethyl) imidazole.

なお、イミダゾール化合物はR〜Rのうち少なくとも1つの基が水素原子以外の置換基である場合が多く、好ましくはR〜Rのうち少なくとも1つの基が水素原子以外の置換基であり、さらに好ましくはR又はRのうち少なくとも1つの基が水素原子以外の置換基であり、なかでも、少なくともRが水素原子以外の置換基であるのが好ましい。 In many cases, at least one of R 3 to R 6 is a substituent other than a hydrogen atom in the imidazole compound, and preferably at least one of R 3 to R 5 is a substituent other than a hydrogen atom. More preferably, at least one of R 4 and R 5 is a substituent other than a hydrogen atom, and among them, at least R 4 is preferably a substituent other than a hydrogen atom.

式(2b)で表される化合物(二環式アミジン化合物)として代表的には、例えば、ジアザビシクロウンデセン(DBU:1,8−ジアザビシクロ[5.4.0]−7−ウンデセン)、ジアザビシクロノネン(DBN:1,5−ジアザビシクロ[4.3.0]−5−ノネン)などが挙げられる。   As the compound represented by the formula (2b) (bicyclic amidine compound), for example, diazabicycloundecene (DBU: 1,8-diazabicyclo [5.4.0] -7-undecene), And diazabicyclononene (DBN: 1,5-diazabicyclo [4.3.0] -5-nonene).

これらの複素環化合物(ゲスト化合物)は、単独で又は2種以上組み合わせて使用することもできる。これらの複素環化合物のうち、前記式(2a)で表される化合物が好ましく、なかでもイミダゾール化合物が好ましい。好ましいイミダゾール化合物としては、2−アルキルイミダゾール、2−アリールイミダゾール、2,4−ジアルキルイミダゾール、1−シアノエチル−2,4−ジアルキルイミダゾールが挙げられ、さらに好ましくは、2−メチルイミダゾールなどの2−C1−6アルキル−イミダゾール;2−フェニルイミダゾールなどの2−C6−12アリール−イミダゾール;2−エチル−4−メチルイミダゾールなどの2,4−ジC1−6アルキル−イミダゾール;1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾールなどの1−シアノエチル−2,4−ジC1−6アルキル−イミダゾールが挙げられる。 These heterocyclic compounds (guest compounds) can be used alone or in combination of two or more. Of these heterocyclic compounds, a compound represented by the formula (2a) is preferable, and an imidazole compound is particularly preferable. Preferable imidazole compounds include 2-alkylimidazole, 2-arylimidazole, 2,4-dialkylimidazole, 1-cyanoethyl-2,4-dialkylimidazole, and more preferably 2-C such as 2-methylimidazole. 1-6 alkyl-imidazole; 2-C 6-12 aryl-imidazole such as 2-phenylimidazole; 2,4-diC 1-6 alkyl-imidazole such as 2-ethyl-4-methylimidazole; 1-cyanoethyl- 1-cyanoethyl-2,4-diC 1-6 alkyl-imidazole such as 2-ethyl-4-methylimidazole.

なかでも、迅速な硬化性が重要な用途では、2−メチルイミダゾールなどの2−C1−4アルキル−イミダゾール;2−エチル−4−メチルイミダゾールなどの2,4−ジC1−4アルキル−イミダゾールが好ましく、さらに好ましくは2−C1−2アルキル−イミダゾール、2,4−ジC1−2アルキル−イミダゾールであり、特に、2−C1−2アルキル−イミダゾールが好ましい。また、高い貯蔵安定性が重要な用途では、2−フェニルイミダゾールなどの2−C6−10アリール−イミダゾールが好ましい。これらのなかでも、迅速な硬化性と、高い貯蔵安定性とのバランスに優れ、ホスト化合物1モルに対するゲスト化合物の包接比を大きくできる点から、2−フェニルイミダゾールなどの2−C6−10アリール−イミダゾールが最も好ましい。 Among these, in applications where rapid curability is important, 2-C 1-4 alkyl-imidazole such as 2-methylimidazole; 2,4-diC 1-4 alkyl- such as 2-ethyl-4-methylimidazole. Imidazole is preferred, more preferably 2-C 1-2 alkyl-imidazole and 2,4-diC 1-2 alkyl-imidazole, and particularly preferably 2-C 1-2 alkyl-imidazole. In applications where high storage stability is important, 2-C 6-10 aryl-imidazoles such as 2-phenylimidazole are preferred. Among these, 2-C 6-10 such as 2-phenylimidazole has an excellent balance between rapid curability and high storage stability and can increase the inclusion ratio of the guest compound to 1 mol of the host compound. Aryl-imidazole is most preferred.

これらの複素環化合物は、酸、例えば、トリメリット酸、ピロメリット酸、イソシアヌル酸などの有機酸又は塩酸などの無機酸との塩であってもよい。   These heterocyclic compounds may be salts with acids, for example, organic acids such as trimellitic acid, pyromellitic acid, and isocyanuric acid, or inorganic acids such as hydrochloric acid.

ゲスト化合物は、上述した環の構成原子として複数の窒素原子を含む5又は6員複素環又はその縮合複素環を有するゲスト化合物(第1のゲスト化合物)に加えて、必ずしも必要ではないが、前記第1のゲスト化合物の範疇に属さない他のゲスト化合物(又は第2のゲスト化合物)を含んでいてもよい。   The guest compound is not necessarily required in addition to the guest compound (first guest compound) having a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing a plurality of nitrogen atoms as a constituent atom of the ring described above or a condensed heterocyclic ring thereof. Other guest compounds (or second guest compounds) that do not belong to the category of the first guest compound may be included.

第2のゲスト化合物としては、特に制限されず、慣用のアミン化合物、例えば、脂肪族アミン類、脂環式アミン類、芳香族アミン類、複素環式アミン類(ただし、第1のゲスト化合物を除く)、変性アミン類などが挙げられ、具体的には、後述する他の硬化剤及び/又は硬化促進剤として例示するアミン系化合物などが挙げられる。これらの第2のゲスト化合物は、単独で又は2種以上組み合わせて使用することもできる。   The second guest compound is not particularly limited, and is a conventional amine compound such as aliphatic amines, alicyclic amines, aromatic amines, heterocyclic amines (provided that the first guest compound is And the like, and specifically, amine compounds exemplified as other curing agents and / or curing accelerators to be described later. These 2nd guest compounds can also be used individually or in combination of 2 or more types.

第1のゲスト化合物の割合は、ホスト化合物に包接されたゲスト化合物全体に対して、例えば、10質量%以上、具体的には、30〜100質量%程度の範囲から選択してもよい。好ましい範囲としては、以下、段階的に、50質量%以上、60質量%以上、70質量%以上、80質量%以上であり、さらに好ましい範囲としては、90質量%以上、95質量%以上、特に100質量%(実質的に第1のゲスト化合物のみ)であるのが好ましい。なお、第2のゲスト化合物を含む場合、前記割合は、例えば、60〜99質量%、好ましくは80〜95質量%であってもよい。   The ratio of the first guest compound may be selected from a range of, for example, about 10% by mass or more, specifically about 30 to 100% by mass with respect to the entire guest compound included in the host compound. The preferable range is 50% by mass or more, 60% by mass or more, 70% by mass or more, and 80% by mass or more stepwise, and the more preferable range is 90% by mass or more, 95% by mass or more, particularly It is preferably 100% by mass (substantially only the first guest compound). In addition, when a 2nd guest compound is included, the said ratio may be 60-99 mass%, for example, Preferably it may be 80-95 mass%.

前記式(2a)及び/又は(2b)で表されるゲスト化合物の割合は、第1のゲスト化合物全体に対して、例えば、10質量%以上、具体的には、30〜100質量%程度の範囲から選択してもよい。好ましい範囲としては、以下、段階的に、50質量%以上、60質量%以上、70質量%以上、80質量%以上であり、さらに好ましい範囲としては、90質量%以上、95質量%以上、特に100質量%(実質的に前記式(2a)及び/又は(2b)で表されるゲスト化合物のみ)である。なお、前記式(2a)及び/又は(2b)の範疇に属さない第1のゲスト化合物を含む場合、前記割合は、例えば、60〜99質量%、好ましくは80〜95質量%であってもよい。   The ratio of the guest compound represented by the formula (2a) and / or (2b) is, for example, about 10% by mass or more, specifically about 30 to 100% by mass with respect to the entire first guest compound. You may select from a range. The preferable range is 50% by mass or more, 60% by mass or more, 70% by mass or more, and 80% by mass or more stepwise, and the more preferable range is 90% by mass or more, 95% by mass or more, particularly 100% by mass (substantially only the guest compound represented by the formula (2a) and / or (2b)). In addition, when the 1st guest compound which does not belong to the category of the said Formula (2a) and / or (2b) is included, even if the said ratio is 60-99 mass%, Preferably it is 80-95 mass%, for example. Good.

また、包接化合物において、ホスト化合物1モルに対するゲスト化合物の割合(又は包接比)は、例えば、0.5〜10モル程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、0.8〜8モル、1〜5モル、1.5〜4.5モルであり、さらに好ましくは2〜4モルである。また、本発明では前記包接比を大きく調整し易いため、ホスト化合物1モルに対するゲスト化合物の割合は、例えば、2.5〜6モル、好ましくは3〜5モル、さらに好ましくは3.5〜4.5モルである。   In the inclusion compound, the ratio of the guest compound to the mole of the host compound (or the inclusion ratio) can be selected, for example, from a range of about 0.5 to 10 moles. .8 to 8 mol, 1 to 5 mol, 1.5 to 4.5 mol, and more preferably 2 to 4 mol. In the present invention, since the inclusion ratio can be easily adjusted, the ratio of the guest compound to 1 mol of the host compound is, for example, 2.5 to 6 mol, preferably 3 to 5 mol, more preferably 3.5 to 4.5 moles.

なお、包接化合物において、フェノール性ヒドロキシル基は塩、例えば、塩基との塩を形成してもよい。本発明において、包接化合物は、包接形態を有する限り、このような塩を形成した化合物も含まれる。   In the inclusion compound, the phenolic hydroxyl group may form a salt, for example, a salt with a base. In the present invention, the inclusion compound includes a compound that forms such a salt as long as it has an inclusion form.

[包接化合物の製造方法]
本発明において、包接化合物は、前記式(1)で表されるホスト化合物と、前記第1のゲスト化合物を含むゲスト化合物とを混合(又は反応)することにより調製でき、生成した包接化合物をろ取などにより回収することで得ることができる。
[Method for producing inclusion compound]
In the present invention, the clathrate compound can be prepared by mixing (or reacting) the host compound represented by the formula (1) and the guest compound containing the first guest compound, and the resulting clathrate compound is produced. It can be obtained by collecting by filtration or the like.

ホスト化合物及びゲスト化合物のうち、少なくとも一方の成分が混合温度で液体である場合、液体である一方の成分に他方の成分を添加して混合してもよい。例えば、ゲスト化合物が液体である場合、ゲスト化合物に、ホスト化合物を添加してもよい。なお、前記混合温度としては、例えば、常温又は30〜100℃程度であってもよく、好ましくは50〜100℃であり、通常、70〜90℃であることが多い。   When at least one of the host compound and guest compound is liquid at the mixing temperature, the other component may be added to one component that is liquid and mixed. For example, when the guest compound is a liquid, the host compound may be added to the guest compound. In addition, as said mixing temperature, normal temperature or about 30-100 degreeC may be sufficient, for example, Preferably it is 50-100 degreeC, and it is usually 70-90 degreeC in many cases.

ホスト化合物とゲスト化合物との混合は、必要により溶媒の存在下で行ってもよい。溶媒として、代表的には、アルコール類、例えば、メタノール、エタノール、1−プロパノール、2−プロパノール、1−ブタノール、イソブタノール、t−ブタノールなど;エーテル類、例えば、2−メトキシエタノール(又はメチルセロソルブ)、エチレングリコールモノエチルエーテル(又はエチルセロソルブ)、エチレングリコールモノブチルエーテル(又はブチルセロソルブ)などのセロソルブ類、ジエチレングリコールモノメチルエーテル(又はメチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノエチルエーテル(又はエチルカルビトール)、ジエチレングリコールモノブチルエーテル(又はブチルカルビトール)などのカルビトール類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどの環状エーテル類、ジエチルエーテルなどの鎖状エーテル類など;ケトン類、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ペンタノン、2−ヘキサノンなどの鎖状ケトン類、イソホロン、シクロヘキサノンなどの環状ケトン類など;エステル類、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、酢酸イソブチルなどの酢酸エステル類など;エーテルエステル類、例えば、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(又はエチルセロソルブアセテート)、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート(又はエチルカルビトールアセテート)、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなど;脂肪族炭化水素類、例えば、ヘプタン、オクタンなど;脂環族炭化水素類、例えば、シクロヘキサンなど;芳香族炭化水素類、例えば、トルエン、キシレンなど;ハロゲン化炭化水素類、例えば、ジクロロメタン、クロロホルム、クロロベンゼンなど;アミド類、例えば、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドなどのアミド類;スルホキシド類、例えば、ジメチルスルホキシドなどが例示できる。   Mixing of the host compound and guest compound may be performed in the presence of a solvent, if necessary. The solvent typically includes alcohols such as methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol, 1-butanol, isobutanol, t-butanol and the like; ethers such as 2-methoxyethanol (or methyl cellosolve) ), Ethylene glycol monoethyl ether (or ethyl cellosolve), cellosolves such as ethylene glycol monobutyl ether (or butyl cellosolve), diethylene glycol monomethyl ether (or methyl carbitol), diethylene glycol monoethyl ether (or ethyl carbitol), diethylene glycol monobutyl ether (Or butyl carbitol) and other carbitols, dioxane, tetrahydrofuran and other cyclic ethers, diethyl ether and other chain ethers Tells, etc .; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, chain ketones such as 2-pentanone and 2-hexanone, cyclic ketones such as isophorone and cyclohexanone, etc .; esters such as methyl acetate and acetic acid Acetic esters such as ethyl, propyl acetate, butyl acetate and isobutyl acetate; ether esters such as ethylene glycol monoethyl ether acetate (or ethyl cellosolve acetate), diethylene glycol monoethyl ether acetate (or ethyl carbitol acetate), propylene Glycol monomethyl ether acetate, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, etc .; aliphatic hydrocarbons such as heptane, octane, etc .; alicyclic hydrocarbons For example, cyclohexane and the like; aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; halogenated hydrocarbons such as dichloromethane, chloroform and chlorobenzene; amides such as amides such as dimethylformamide and dimethylacetamide; sulfoxides Examples thereof include dimethyl sulfoxide.

溶媒は、アミド類、スルホキシド類などの非プロトン性極性溶媒であってもよい。これらの溶媒は単独で又は2種以上の混合溶媒として使用できる。これらの溶媒のうち、通常、酢酸エチルなどのエステル類がよく利用される。   The solvent may be an aprotic polar solvent such as amides and sulfoxides. These solvents can be used alone or as a mixed solvent of two or more. Of these solvents, esters such as ethyl acetate are usually used.

ホスト化合物1モルに対するゲスト化合物の混合割合は、例えば、0.5〜5モル、好ましくは1〜4モル、さらに好ましくは2〜3モルである。   The mixing ratio of the guest compound to 1 mol of the host compound is, for example, 0.5 to 5 mol, preferably 1 to 4 mol, and more preferably 2 to 3 mol.

混合(又は反応)は、必要に応じて撹拌しながら行ってもよい。また、混合(又は反応)は、加熱下で行ってもよく、混合温度(又は加熱温度)は、溶媒の沸点以下、例えば、30〜120℃、好ましくは50〜100℃であり、通常、70〜90℃であることが多い。加熱した場合、必要に応じて冷却し、生成した固体を回収してもよい。また、混合(又は反応)時間は、特に制限されず、例えば、0.5分〜72時間程度の範囲で行ってもよく、好ましくは1分〜24時間、より好ましくは5分〜6時間、さらに好ましくは10分〜2時間である。   You may perform mixing (or reaction), stirring as needed. The mixing (or reaction) may be performed under heating, and the mixing temperature (or heating temperature) is not higher than the boiling point of the solvent, for example, 30 to 120 ° C., preferably 50 to 100 ° C., usually 70 Often -90 ° C. When heated, it may be cooled as necessary to recover the generated solid. The mixing (or reaction) time is not particularly limited, and may be, for example, in the range of about 0.5 minutes to 72 hours, preferably 1 minute to 24 hours, more preferably 5 minutes to 6 hours, More preferably, it is 10 minutes to 2 hours.

溶媒を用いる場合、混合(又は反応)終了後、溶媒は、必要に応じて常圧蒸留、減圧蒸留などの慣用の方法で留去してもよい。また、溶媒を含む混合物は、混合に用いた溶媒とは異なる溶媒と混合することにより、包接化合物を析出させてもよい。回収した包接化合物は、必要により洗浄又は乾燥してもよい。乾燥方法としては、減圧乾燥が好ましい。乾燥温度としては、例えば、50〜100℃、好ましくは70〜90℃である。   When using a solvent, after completion of the mixing (or reaction), the solvent may be distilled off by a conventional method such as atmospheric distillation or vacuum distillation, if necessary. Moreover, the mixture containing a solvent may precipitate the clathrate compound by mixing with a solvent different from the solvent used for mixing. The collected clathrate may be washed or dried as necessary. As a drying method, vacuum drying is preferable. As drying temperature, it is 50-100 degreeC, for example, Preferably it is 70-90 degreeC.

包接化合物におけるホスト化合物とゲスト化合物との組成比(又は包接比)は、慣用の分析方法、例えば、H−NMRスペクトルの積分比により容易に決定できる。また、熱重量分析(TGA)により、加熱に伴い、包接化合物から放出されたゲスト化合物の量に基づいて、ホスト化合物とゲスト化合物との組成比を決定することもできる。さらに、包接化合物の構造は、単結晶X線構造解析、粉末X線回折などの手法により決定することもできる。本明細書及び特許請求の範囲において、包接化合物のホスト化合物とゲスト化合物との組成比は、H−NMRスペクトルにより分析した結果から、最も単純な整数比となるように決定した。 The composition ratio (or inclusion ratio) between the host compound and the guest compound in the inclusion compound can be easily determined by a conventional analysis method, for example, an integration ratio of 1 H-NMR spectrum. Further, the composition ratio between the host compound and the guest compound can also be determined by thermogravimetric analysis (TGA) based on the amount of the guest compound released from the clathrate compound with heating. Furthermore, the structure of the clathrate compound can also be determined by techniques such as single crystal X-ray structural analysis and powder X-ray diffraction. In the present specification and claims, the composition ratio between the host compound and the guest compound of the clathrate compound was determined to be the simplest integer ratio from the result of analysis by 1 H-NMR spectrum.

[硬化性組成物]
本発明では、前記式(1)で表されるホスト化合物が、エポキシ樹脂(エポキシ化合物)の硬化剤及び/又は硬化促進剤として機能する所定の複素環化合物を安定に包接するためか、エポキシ樹脂と混合しても低温(常温若しくは貯蔵温度)では長時間に亘り安定である。一方、包接化合物は、加熱に伴って前記複素環化合物を放出するためか、所定温度に加熱すると、エポキシ樹脂を迅速に硬化させることができる。また、包接化合物において、ゲスト化合物である複素環化合物が、第二級アミノ基及び/又は第三級アミノ基を有しているためか、エポキシ樹脂の硬化剤として機能するとともに硬化促進剤として機能させることもできる。そのため、包接化合物は、エポキシ樹脂(エポキシ化合物)を硬化させるための硬化剤及び/又は硬化促進剤として有効に利用でき、エポキシ樹脂(エポキシ化合物)と組み合わせて硬化性組成物を調製するのに有用である。
[Curable composition]
In the present invention, whether the host compound represented by the formula (1) stably includes a predetermined heterocyclic compound that functions as a curing agent and / or a curing accelerator of an epoxy resin (epoxy compound), or an epoxy resin. It is stable for a long time even at low temperatures (normal temperature or storage temperature). On the other hand, the inclusion compound can rapidly cure the epoxy resin when it is heated to a predetermined temperature in order to release the heterocyclic compound with heating. In addition, in the inclusion compound, the heterocyclic compound as the guest compound has a secondary amino group and / or a tertiary amino group, or functions as a curing agent for the epoxy resin and as a curing accelerator. It can also function. Therefore, the inclusion compound can be effectively used as a curing agent and / or a curing accelerator for curing the epoxy resin (epoxy compound), and is used in preparing a curable composition in combination with the epoxy resin (epoxy compound). Useful.

(第2の硬化剤及び/又は硬化促進剤)
本発明の硬化性組成物は、前記包接化合物(第1の硬化剤及び/又は硬化促進剤ともいう)とエポキシ樹脂とを含んでいればよく、必要により、慣用のエポキシ樹脂の硬化剤及び/又は硬化促進剤(第2の硬化剤及び/又は硬化促進剤ともいう)を含んでいてもよい。このような硬化剤は、エポキシ樹脂のオキシラン環(又はエポキシ基)と反応してエポキシ樹脂を硬化させる化合物であれば、特に制限はなく、硬化促進剤もエポキシ樹脂の硬化反応を促進する化合物であれば、特に制限されない。このような硬化剤及び/又は硬化促進剤としては、例えば、アミン系化合物、アミド系化合物、エステル系化合物、フェノール系化合物、アルコール系化合物、チオール系化合物、エーテル系化合物、チオエーテル系化合物、尿素系化合物、チオ尿素系化合物、ルイス酸系化合物、リン系化合物、酸無水物系化合物、オニウム塩系化合物(又はカチオン重合開始剤)、活性珪素化合物−アルミニウム錯体などが例示できる。
(Second curing agent and / or curing accelerator)
The curable composition of the present invention only needs to contain the inclusion compound (also referred to as a first curing agent and / or a curing accelerator) and an epoxy resin, and if necessary, a conventional epoxy resin curing agent and A curing accelerator (also referred to as a second curing agent and / or a curing accelerator) may be included. Such a curing agent is not particularly limited as long as it is a compound that reacts with the oxirane ring (or epoxy group) of the epoxy resin to cure the epoxy resin, and the curing accelerator is a compound that accelerates the curing reaction of the epoxy resin. If there is, there is no particular limitation. Examples of such curing agents and / or curing accelerators include amine compounds, amide compounds, ester compounds, phenol compounds, alcohol compounds, thiol compounds, ether compounds, thioether compounds, and urea compounds. Examples thereof include compounds, thiourea compounds, Lewis acid compounds, phosphorus compounds, acid anhydride compounds, onium salt compounds (or cationic polymerization initiators), and active silicon compounds-aluminum complexes.

具体的な第2の硬化剤及び/又は硬化促進剤としては、例えば、以下の化合物などが挙げられる。   Specific examples of the second curing agent and / or curing accelerator include the following compounds.

アミン系化合物としては、例えば、脂肪族アミン類、脂環式アミン類、芳香族アミン類、複素環式アミン類、変性アミン類などが挙げられる。   Examples of the amine compound include aliphatic amines, alicyclic amines, aromatic amines, heterocyclic amines, and modified amines.

脂肪族アミン類としては、例えば、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、ペンタンジアミン、2,5−ジメチルヘキサメチレンジアミン、トリメチルヘキサメチレンジアミン、2,5−ジメチル−2,5−ヘキサンジアミンなどの直鎖状又は分岐鎖状アルキレンジアミン類;ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ジプロピレントリアミン、ペンタメチルジエチレントリアミンなどのポリアルキレンポリアミン類;ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノプロピルアミンなどのN,N−ジアルキルアミノアルキルアミン類;ビス(2−ジメチルアミノエチル)エーテル、ジエチレングリコールビス(3−アミノプロピル)エーテル、ポリプロピレングリコールジアミンなどの(ポリ)エーテルジアミン類;N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルヘキサメチレンジアミン、N,N,N’,N’−テトラメチルプロピレンジアミンなどのN−アルキル置換アルキレンジアミン類;ジメチルアミノエトキシエトキシエタノール、トリエタノールアミン、ジメチルアミノヘキサノールなどのアルカノールアミン類;モノ−t−アルキルアミンなどの直鎖状又は分岐鎖状アルキルアミン類などが挙げられる。   Examples of aliphatic amines include ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, pentanediamine, 2,5-dimethylhexamethylenediamine, trimethylhexamethylenediamine, 2,5-dimethyl. -Linear or branched alkylene diamines such as 2,5-hexanediamine; polyalkylene polyamines such as diethylenetriamine, triethylenetetramine, tetraethylenepentamine, dipropylenetriamine, pentamethyldiethylenetriamine; dimethylaminopropylamine; N, N-dialkylaminoalkylamines such as diethylaminopropylamine and dibutylaminopropylamine; bis (2-dimethylaminoethyl) ester (Poly) ether diamines such as ter, diethylene glycol bis (3-aminopropyl) ether, polypropylene glycol diamine; N, N, N ′, N′-tetramethylethylenediamine, N, N, N ′, N′-tetramethyl N-alkyl-substituted alkylenediamines such as hexamethylenediamine and N, N, N ′, N′-tetramethylpropylenediamine; alkanolamines such as dimethylaminoethoxyethoxyethanol, triethanolamine and dimethylaminohexanol; mono-t -Linear or branched alkylamines, such as alkylamine, etc. are mentioned.

脂環式アミン類としては、例えば、メンセンジアミン;イソホロンジアミン;ジメチルシクロヘキシルアミンなどのジアルキルシクロアルキルアミン類;後述する芳香族アミン類の水添物などが挙げられる。芳香族アミン類の水添物としては、例えば、ビス(4−アミノシクロヘキシル)メタン、ビス(4−アミノ−3−メチルシクロヘキシル)メタンなどのビス(アミノシクロヘキシル)アルカン類;1,2−シクロヘキサンジアミン、1,4−シクロヘキサンジアミンなどのシクロヘキサンジアミン;m−キシリレンジアミンの水添物;1,3,5−トリス(アミノメチル)ベンゼンの水添物などが挙げられる。   Examples of the alicyclic amines include mensendiamine, isophoronediamine, dialkylcycloalkylamines such as dimethylcyclohexylamine, and hydrogenated aromatic amines described later. Examples of hydrogenated aromatic amines include bis (aminocyclohexyl) alkanes such as bis (4-aminocyclohexyl) methane and bis (4-amino-3-methylcyclohexyl) methane; 1,2-cyclohexanediamine And cyclohexanediamine such as 1,4-cyclohexanediamine; hydrogenated m-xylylenediamine; hydrogenated 1,3,5-tris (aminomethyl) benzene, and the like.

芳香族アミン類としては、例えば、o−フェニレンジアミン、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミンなどのフェニレンジアミン;m−キシリレンジアミン、1,3,5−トリス(アミノメチル)ベンゼンなどのモノ乃至トリ(アミノメチル)ベンゼン類;2−(ジメチルアミノメチル)フェノール、2,4,6−トリス(ジメチルアミノメチル)フェノールなどのモノ乃至トリ(ジアルキルアミノメチル)フェノール類;ビス(4−アミノフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3−メチルフェニル)メタン、ビス(4−アミノ−3−エチルフェニル)メタンなどのビス(アミノフェニル)アルカン類;ビス(4−アミノフェニル)スルホンなどのビス(アミノフェニル)スルホン類;フタロシアニンテトラミンなどのフタロシアニンアミン類;ベンジルメチルアミン、ベンジルジメチルアミン、(α−メチルベンジル)メチルアミン、(α−メチルベンジル)エチルアミンなどのベンジルアルキルアミン類などが挙げられる。   Aromatic amines include, for example, phenylenediamines such as o-phenylenediamine, m-phenylenediamine, and p-phenylenediamine; mono to or from m-xylylenediamine, 1,3,5-tris (aminomethyl) benzene, and the like. Tri (aminomethyl) benzenes; mono to tri (dialkylaminomethyl) phenols such as 2- (dimethylaminomethyl) phenol and 2,4,6-tris (dimethylaminomethyl) phenol; bis (4-aminophenyl) Bis (aminophenyl) alkanes such as methane, bis (4-amino-3-methylphenyl) methane, bis (4-amino-3-ethylphenyl) methane; bis (amino such as bis (4-aminophenyl) sulfone Phenyl) sulfones; phthalocyanines such as phthalocyanine tetramine Nin'amin like; benzyl methylamine, benzyl dimethylamine, (alpha-methylbenzyl) methylamine, and the like benzyl alkyl amines such as (alpha-methylbenzyl) ethylamine.

複素環式アミン類は、1つの窒素原子を含む複素環骨格を有するアミン類、複数の窒素原子を含む複素環骨格を有するアミン類に大別できる。1つの窒素原子を含む複素環骨格を有するアミン類としては、例えば、ピリジン、ピコリンなどのピリジン類;ピペリジン、4−アミノ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジンなどのピペリジン類;ピロール、2H−ピロールなどのピロール類;モルホリン、メチルモルホリン、エチルモルホリンなどのモルホリン類などが挙げられる。   Heterocyclic amines can be broadly classified into amines having a heterocyclic skeleton containing one nitrogen atom and amines having a heterocyclic skeleton containing a plurality of nitrogen atoms. Examples of amines having a heterocyclic skeleton containing one nitrogen atom include pyridines such as pyridine and picoline; piperidines such as piperidine and 4-amino-2,2,6,6-tetramethylpiperidine; pyrrole, Examples include pyrroles such as 2H-pyrrole; morpholines such as morpholine, methylmorpholine, and ethylmorpholine.

複数の窒素原子を含む複素環骨格を有するアミン類としては、例えば、ゲスト化合物の項で例示した複数の窒素原子を環の構成原子として含む5又は6員複素環又はその縮合複素環を有する化合物などが挙げられる。より具体的には、例えば、ゲスト化合物の項で例示したピペラジン類及びトリアジン類、前記式(2a)で表される化合物として例示したイミダゾリン類及びイミダゾール類などの単環式複素環化合物;ゲスト化合物の項で例示したトリエチレンジアミン類、前記式(2b)で表される化合物として例示した二環式アミジン化合物などの縮合多環式複素環化合物;3,9−ビス(3−アミノプロピル)−2,4,8,10−テトラオキサスピロ[5.5]ウンデカンなどのスピロ環式アミン類などが挙げられる。   Examples of the amines having a heterocyclic skeleton containing a plurality of nitrogen atoms include, for example, a compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing a plurality of nitrogen atoms exemplified in the section of the guest compound as a constituent atom of the ring or a condensed heterocyclic ring thereof Etc. More specifically, for example, piperazines and triazines exemplified in the section of guest compounds, monocyclic heterocyclic compounds such as imidazolines and imidazoles exemplified as compounds represented by the above formula (2a); guest compounds A condensed polycyclic heterocyclic compound such as the triethylenediamines exemplified in the above section and the bicyclic amidine compound exemplified as the compound represented by the formula (2b); 3,9-bis (3-aminopropyl) -2 , 4,8,10-tetraoxaspiro [5.5] undecane and the like.

変性アミン類としては、例えば、エポキシ化合物にアミンが付加したポリアミン(又はアミンアダクト)、マイケル付加ポリアミン、マンニッヒ付加ポリアミン、チオ尿素付加ポリアミン、ケトン封鎖ポリアミン(ケチミン)、ジシアンジアミド、グアニジン、有機酸ヒドラジド、ジアミノマレオニトリル、アミンイミド、三フッ化ホウ素−ピペリジン錯体、三フッ化ホウ素−モノエチルアミン錯体などが例示できる。   Examples of the modified amines include polyamines (or amine adducts) obtained by adding amines to epoxy compounds, Michael addition polyamines, Mannich addition polyamines, thiourea addition polyamines, ketone-capped polyamines (ketimines), dicyandiamide, guanidine, organic acid hydrazides, Examples include diaminomaleonitrile, amine imide, boron trifluoride-piperidine complex, and boron trifluoride-monoethylamine complex.

これらのアミン系化合物は、酸、例えば、2−エチルヘキシル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、イソシアヌル酸などの有機酸又は塩酸などの無機酸との塩であってもよい。   These amine compounds may be salts with acids, for example, organic acids such as 2-ethylhexylic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, and isocyanuric acid, or inorganic acids such as hydrochloric acid.

アミド系化合物としては、例えば、ダイマー酸(重合脂肪酸又は多量体化脂肪酸)とポリアミンとの縮合により得られるポリアミド(又はポリアミノアミド)などが挙げられる。ダイマー酸としては、例えば、不飽和高級脂肪酸の二量体〜四量体などが挙げられる。ポリアミンとしては、例えば、アルキレンジアミン、ポリエチレンポリアミンなどが挙げられる。   Examples of the amide compound include polyamide (or polyaminoamide) obtained by condensation of dimer acid (polymerized fatty acid or multimerized fatty acid) and polyamine. Examples of the dimer acid include dimers to tetramers of unsaturated higher fatty acids. Examples of the polyamine include alkylene diamine and polyethylene polyamine.

エステル系化合物としては、例えば、カルボン酸のアリール及びチオアリールエステルなどの活性カルボニル化合物などが挙げられる。   Examples of the ester compounds include active carbonyl compounds such as aryl and thioaryl esters of carboxylic acids.

フェノール系化合物としては、例えば、フェノール樹脂硬化剤として、フェノールアラルキル樹脂、ナフトールアラルキル樹脂などのアラルキル型フェノ−ル樹脂、フェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂などのノボラック型フェノール樹脂、これらの変性樹脂、例えば、エポキシ化又はブチル化したノボラック型フェノール樹脂などのフェノ−ル樹脂;ジシクロペンタジエン変性フェノール樹脂、パラキシレン変性フェノール樹脂、トリフェノールアルカン型フェノール樹脂、多官能型フェノール樹脂などの変性フェノール樹脂などが例示できる。   Examples of phenolic compounds include phenolic resin curing agents such as phenol aralkyl resins, aralkyl phenol resins such as naphthol aralkyl resins, novolac phenol resins such as phenol novolac resins and cresol novolac resins, and modified resins thereof such as Phenolic resins such as epoxidized or butylated novolac type phenolic resins; modified phenolic resins such as dicyclopentadiene modified phenolic resin, paraxylene modified phenolic resin, triphenolalkane type phenolic resin, polyfunctional phenolic resin, etc. It can be illustrated.

アルコール系化合物としては、例えば、ポリオールなどが挙げられる。チオール系化合物としては、例えば、ポリメルカプタンなどが挙げられる。エーテル系化合物としては、ポリエーテルなどが挙げられる。チオエーテル系化合物としては、例えば、ポリスルフィドなどが挙げられる。尿素系化合物としては、例えば、ブチル化尿素、ブチル化メラミンなどが挙げられる。チオ尿素系化合物としては、例えば、ブチル化チオ尿素などが挙げられる。ルイス酸系化合物としては、例えば、三フッ化ホウ素などが挙げられる。   Examples of alcohol compounds include polyols. Examples of the thiol compound include polymercaptan. Examples of ether compounds include polyethers. Examples of thioether compounds include polysulfides. Examples of urea compounds include butylated urea and butylated melamine. Examples of the thiourea compound include butylated thiourea. Examples of the Lewis acid compound include boron trifluoride.

リン系化合物としては、有機ホスフィン化合物、例えば、エチルホスフィン、ブチルホスフィンなどのアルキルホスフィン、フェニルホスフィンなどのアリールホスフィンなどの第1ホスフィン類;ジメチルホスフィン、ジプロピルホスフィン、メチルエチルホスフィンなどのジアルキルホスフィン、ジフェニルホスフィンなどのジアリールホスフィンなどの第2ホスフィン類;トリメチルホスフィン、トリエチルホスフィンなどのトリアルキルホスフィン、トリフェニルホスフィンなどのトリアリールホスフィンなどの第3ホスフィン類などが挙げられる。   Examples of phosphorus compounds include organic phosphine compounds such as alkyl phosphines such as ethyl phosphine and butyl phosphine, and first phosphines such as aryl phosphines such as phenyl phosphine; dialkyl phosphines such as dimethyl phosphine, dipropyl phosphine, and methyl ethyl phosphine; Second phosphines such as diarylphosphine such as diphenylphosphine; trialkylphosphines such as trimethylphosphine and triethylphosphine, and third phosphines such as triarylphosphine such as triphenylphosphine.

酸無水物系化合物としては、例えば、無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水ベンゾフェノンテトラカルボン酸、エチレングリコールビス(アンヒドロトリメリテート)、グリセロールトリス(アンヒドロトリメリテート)などの芳香族ポリカルボン酸無水物;テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルシクロヘキセントリカルボン酸無水物、5−(2,5−ジオキソテトラヒドロフリル)−3−メチル−3−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸無水物、無水ハイミック酸、無水メチルハイミック酸、エンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロ無水フタル酸(無水メチルナジック酸)などの脂環族ポリカルボン酸無水物;無水マレイン酸、テトラメチレン無水マレイン酸、ドデセニル無水コハク酸、ポリアジピン酸無水物、ポリアゼライン酸無水物、ポリセバシン酸無水物、ポリ(エチルオクタデカン二酸)無水物、ポリ(フェニルヘキサデカン二酸)無水物などの脂肪族ポリカルボン酸無水物;無水ヘット酸(無水クロレンド酸)、テトラブロモ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸などのハロゲン化酸無水物などが挙げられる。   Examples of acid anhydride compounds include phthalic anhydride, trimellitic anhydride, pyromellitic anhydride, benzophenone tetracarboxylic anhydride, ethylene glycol bis (anhydro trimellitate), glycerol tris (anhydro trimellitate). Aromatic hydrocarboxylic anhydrides such as: tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, trialkyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methylcyclohexenic carboxylic anhydride, 5- ( 2,5-dioxotetrahydrofuryl) -3-methyl-3-cyclohexene-1,2-dicarboxylic anhydride, anhydrous hymic acid, anhydrous methyl hymic acid, endomethylenetetrahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydro (B) Alicyclic polycarboxylic anhydrides such as phthalic anhydride (methyl nadic anhydride); maleic anhydride, tetramethylene maleic anhydride, dodecenyl succinic anhydride, polyadipic anhydride, polyazelinic anhydride, polysebacic anhydride , Aliphatic polycarboxylic acid anhydrides such as poly (ethyl octadecanedioic acid) anhydride, poly (phenylhexadecanedioic acid) anhydride; het acid anhydride (chlorendic acid anhydride), tetrabromophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride And halogenated acid anhydrides.

オニウム塩系化合物としては、例えば、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、アリールスルホニウム塩、アリールメチルスルホニウム塩、ジアリールスルホニウム塩、トリアリールスルホニウム塩などが挙げられる。アリールメチルスルホニウム塩などがよく利用され、例えば、ベンジルメチルスルホニウム塩などが挙げられる。   Examples of the onium salt compounds include aryldiazonium salts, diaryliodonium salts, arylsulfonium salts, arylmethylsulfonium salts, diarylsulfonium salts, and triarylsulfonium salts. Arylmethylsulfonium salts and the like are often used, and examples thereof include benzylmethylsulfonium salts.

活性珪素化合物−アルミニウム錯体としては、例えば、トリフェニルシラノール−アルミニウム錯体、トリフェニルメトキシシラン−アルミニウム錯体、シリルペルオキシド−アルミニウム錯体、トリフェニルシラノール−トリス(サリシルアルデヒダート)アルミニウム錯体などが挙げられる。   Examples of the active silicon compound-aluminum complex include a triphenylsilanol-aluminum complex, a triphenylmethoxysilane-aluminum complex, a silyl peroxide-aluminum complex, and a triphenylsilanol-tris (salicylide) aluminum complex.

これらの第2の硬化剤及び/又は硬化促進剤は単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。前記包接化合物(第1の硬化剤及び/又は硬化促進剤)と、上記第2の硬化剤及び/又は硬化促進剤との割合は、例えば、前者/後者(質量比)=100/0〜30/70、好ましくは100/0〜50/50、より好ましくは100/0〜70/30、さらに好ましくは100/0〜90/10、特に100/0(実質的に前記包接化合物のみ)が好ましい。   These 2nd hardening | curing agents and / or hardening accelerators can be used individually or in combination of 2 or more types. The ratio of the inclusion compound (first curing agent and / or curing accelerator) to the second curing agent and / or curing accelerator is, for example, the former / the latter (mass ratio) = 100/0. 30/70, preferably 100/0 to 50/50, more preferably 100/0 to 70/30, still more preferably 100/0 to 90/10, especially 100/0 (substantially only the inclusion compound) Is preferred.

また、上記第2の硬化剤及び/又は硬化促進剤を用いる場合、第2の硬化剤及び/又は硬化促進剤におけるエポキシ基と反応可能な官能基の割合は、エポキシ樹脂中のエポキシ基に対して、例えば、0.7〜1.3当量、好ましくは0.8〜1.2当量、さらに好ましくは0.9〜1.1当量であり、通常、1当量である。前記エポキシ基と反応可能な官能基としては、例えば、アミノ基、酸無水物基、水酸基などが挙げられる。   When the second curing agent and / or curing accelerator is used, the ratio of the functional group capable of reacting with the epoxy group in the second curing agent and / or curing accelerator is based on the epoxy group in the epoxy resin. For example, 0.7 to 1.3 equivalents, preferably 0.8 to 1.2 equivalents, more preferably 0.9 to 1.1 equivalents, and usually 1 equivalent. Examples of the functional group capable of reacting with the epoxy group include an amino group, an acid anhydride group, and a hydroxyl group.

(エポキシ樹脂)
エポキシ樹脂(又はエポキシ化合物)としては、例えば、グリシジルエーテル型エポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリシジルアミン型エポキシ樹脂、不飽和二重結合を酸化してエポキシ化したエポキシ樹脂などであってもよい。
(Epoxy resin)
The epoxy resin (or epoxy compound) may be, for example, a glycidyl ether type epoxy resin, a glycidyl ester type epoxy resin, a glycidyl amine type epoxy resin, an epoxy resin obtained by oxidizing an unsaturated double bond, and the like. .

グリシジルエーテル型エポキシ樹脂(又は化合物)としては、例えば、アルカンモノオール類のグリシジルエーテル、アルカンポリオール類のポリグリシジルエーテル、単核多価フェノール類又はそのアルキレンオキシド付加体のポリグリシジルエーテル、多核多価フェノール類又はそのアルキレンオキシド付加体のポリグリジルエーテル、複素環化合物のポリグリジルエーテルなどが挙げられる。   Examples of the glycidyl ether type epoxy resin (or compound) include, for example, glycidyl ethers of alkane monools, polyglycidyl ethers of alkane polyols, mononuclear polyhydric phenols or polyglycidyl ethers of alkylene oxide adducts thereof, and polynuclear polyhydric polyvalents. Examples include polyglycidyl ethers of phenols or alkylene oxide adducts thereof, and polyglycidyl ethers of heterocyclic compounds.

アルカンモノオール類のグリシジルエーテルとしては、例えば、フェニルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、メチルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、s−ブチルグリシジルエーテル、2−エチルヘキシルグリシジルエーテル、2−メチルオクチルグリシジルエーテル、ステアリルグリシジルエーテルなどが挙げられる。   Examples of glycidyl ethers of alkane monools include phenyl glycidyl ether, allyl glycidyl ether, methyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, s-butyl glycidyl ether, 2-ethylhexyl glycidyl ether, 2-methyloctyl glycidyl ether, and stearyl glycidyl ether. Etc.

アルカンポリオール類のポリグリシジルエーテルにおいて、前記アルカンポリオール類としては、例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ポリグリコール、チオジエチレングリコール、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ソルビトールなどが挙げられる。   In the polyglycidyl ether of alkane polyols, examples of the alkane polyols include ethylene glycol, propylene glycol, butylene glycol, hexanediol, polyglycol, thiodiethylene glycol, glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, and sorbitol. Etc.

単核多価フェノール類又はそのアルキレンオキシド付加体のポリグリシジルエーテルにおいて、前記単核多価フェノール類としては、例えば、ハイドロキノン、レゾルシン、ピロカテコール、フロログルクシノールなどが挙げられる。   In the polyglycidyl ether of mononuclear polyhydric phenols or alkylene oxide adducts thereof, examples of the mononuclear polyhydric phenols include hydroquinone, resorcin, pyrocatechol, and phloroglucinol.

多核多価フェノール類又はそのアルキレンオキシド付加体のポリグリジルエーテルにおいて、多核多価フェノール類としては、例えば、ジヒドロキシナフタレン、ビフェノール、ビスフェノール類、トリス又はテトラキス(ヒドロキシフェニル)アルカン、ノボラック又はノボラック樹脂、テルペンフェノールなどが挙げられる。   In the polyglycidyl ether of polynuclear polyhydric phenols or alkylene oxide adducts thereof, examples of polynuclear polyhydric phenols include dihydroxynaphthalene, biphenol, bisphenols, tris or tetrakis (hydroxyphenyl) alkane, novolac or novolac resin, Examples include terpene phenol.

ビスフェノール類としては、例えば、メチレンビスフェノール(又はビスフェノールF)、メチレンビス(オルトクレゾール)、エチリデンビスフェノール(又はビスフェノールAD)、イソプロピリデンビスフェノール(又はビスフェノールA)、イソプロピリデンビス(オルトクレゾール)、テトラブロモビスフェノールA、1,3−ビス(4−ヒドロキシクミル)ベンゼン、1,4−ビス(4−ヒドロキシクミル)ベンゼン、ビス(ヒドロキシフェニル)ケトン、ビス(ヒドロキシフェニル)エーテル、ビス(ヒドロキシフェニル)チオエーテル、ビス(ヒドロキシフェニル)スルホン(又はビスフェノールS)、9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレンなどが挙げられる。9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレンとしては、例えば、9,9−ビス(4−ヒドロキシフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−メチルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)フルオレン、、9,9−ビス(4−ヒドロキシ−3−フェニルフェニル)フルオレン、9,9−ビス(6−ヒドロキシ−2−ナフチル)フルオレン、9,9−ビス(5−ヒドロキシ−1−ナフチル)フルオレンなどが挙げられる。   Examples of bisphenols include methylene bisphenol (or bisphenol F), methylene bis (orthocresol), ethylidene bisphenol (or bisphenol AD), isopropylidene bisphenol (or bisphenol A), isopropylidene bis (orthocresol), and tetrabromobisphenol A. 1,3-bis (4-hydroxycumyl) benzene, 1,4-bis (4-hydroxycumyl) benzene, bis (hydroxyphenyl) ketone, bis (hydroxyphenyl) ether, bis (hydroxyphenyl) thioether, Examples thereof include bis (hydroxyphenyl) sulfone (or bisphenol S), 9,9-bis (hydroxyaryl) fluorene, and the like. Examples of 9,9-bis (hydroxyaryl) fluorene include 9,9-bis (4-hydroxyphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-methylphenyl) fluorene, and 9,9-bis. (4-hydroxy-3,5-dimethylphenyl) fluorene, 9,9-bis (4-hydroxy-3-phenylphenyl) fluorene, 9,9-bis (6-hydroxy-2-naphthyl) fluorene, 9, And 9-bis (5-hydroxy-1-naphthyl) fluorene.

前記アルキレンオキシド付加体としては、例えば、エチレンオキシド、プロピレンオキシドなどのC2−4アルキレンオキシドの付加体などが挙げられる。アルキレンオキシドの付加モル数は、特に制限されず、例えば、前記フェノール類1モルに対して、例えば、1〜20モル、好ましくは2〜10モルである。 Examples of the alkylene oxide adduct include adducts of C 2-4 alkylene oxide such as ethylene oxide and propylene oxide. The number of added moles of alkylene oxide is not particularly limited, and is, for example, 1 to 20 moles, preferably 2 to 10 moles with respect to 1 mole of the phenols.

トリス又はテトラキス(ヒドロキシフェニル)アルカンとしては、例えば、1,1,3−トリス(4−ヒドロキシフェニル)ブタン、1,1,2,2−テトラ(4−ヒドロキシフェニル)エタンなどが挙げられる。   Examples of tris or tetrakis (hydroxyphenyl) alkane include 1,1,3-tris (4-hydroxyphenyl) butane and 1,1,2,2-tetra (4-hydroxyphenyl) ethane.

ノボラック又はノボラック樹脂としては、例えば、フェノールノボラック、オルソクレゾールノボラック、エチルフェノールノボラック、ブチルフェノールノボラック、オクチルフェノールノボラック、レゾルシンノボラックなどが挙げられる。   Examples of the novolak or novolak resin include phenol novolak, orthocresol novolak, ethylphenol novolak, butylphenol novolak, octylphenol novolak, and resorcin novolak.

複素環化合物のポリグリジルエーテルとしては、例えば、トリグリシジルイソシアヌレートなどが挙げられる。   Examples of the polyglycidyl ether of the heterocyclic compound include triglycidyl isocyanurate.

グリシジルエステル型エポキシ樹脂(又は化合物)としては、例えば、バーサティック酸グリシジルエステルなどのモノカルボン酸類のモノグリシジルエステル;マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、コハク酸、グルタル酸、スベリン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ダイマー酸、トリマー酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸、トリメシン酸、ピロメリット酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、エンドメチレンテトラヒドロフタル酸などの脂肪族、脂環族又は芳香族多価カルボン酸類のグリシジルエステル類;グリシジル(メタ)アクリレートの単独重合体又は共重合体などが挙げられる。   Examples of the glycidyl ester type epoxy resin (or compound) include monoglycidyl esters of monocarboxylic acids such as glycidyl versatic acid ester; maleic acid, fumaric acid, itaconic acid, succinic acid, glutaric acid, suberic acid, adipic acid, Aliphatic acids such as azelaic acid, sebacic acid, dimer acid, trimer acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesic acid, pyromellitic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, endomethylenetetrahydrophthalic acid And glycidyl esters of alicyclic or aromatic polycarboxylic acids; homopolymers or copolymers of glycidyl (meth) acrylate.

グリシジルアミン型エポキシ樹脂(又は化合物)としては、例えば、N,N−ジグリシジルアニリン、ビス[4−(N−メチル−N−グリシジルアミノ)フェニル]メタン、N,N−ジグリシジルトルイジン、テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジルアミノフェノールなどが挙げられる。   Examples of the glycidylamine type epoxy resin (or compound) include N, N-diglycidylaniline, bis [4- (N-methyl-N-glycidylamino) phenyl] methane, N, N-diglycidyltoluidine, and tetraglycidyl. Examples thereof include diaminodiphenylmethane and triglycidylaminophenol.

不飽和二重結合がエポキシ化したエポキシ化合物としては、例えば、ビニルシクロヘキセンジエポキシド、ジシクロペンタジエンジエポキシド、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル−6−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペートなどの環状オレフィン類のエポキシ化物;エポキシ化ポリブタジエン、エポキシ化スチレン−ブタジエン共重合物などのエポキシ化共役ジエン重合体などが挙げられる。   Examples of the epoxy compound in which the unsaturated double bond is epoxidized include, for example, vinylcyclohexene diepoxide, dicyclopentadiene diepoxide, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy- Epoxidized products of cyclic olefins such as 6-methylcyclohexylmethyl-6-methylcyclohexanecarboxylate and bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate; epoxidized polybutadiene, epoxidized styrene-butadiene copolymer, etc. And epoxidized conjugated diene polymers.

これらのエポキシ樹脂(又は化合物)は単独で又は2種以上組み合わせて使用できる。なお、エポキシ樹脂(又は化合物)は、単量体であってもよく、二量体〜十量体程度の多量体を含んでいてもよい。また、アルカンモノオール類又はアルカンポリオール類のモノ又はポリグリシジルエーテル、モノカルボン酸類のグリシジルエステル、環状オレフィン類のエポキシ化物などは反応性希釈剤として使用する場合が多い。   These epoxy resins (or compounds) can be used alone or in combination of two or more. In addition, a monomer may be sufficient as an epoxy resin (or compound), and the multimer about a dimer-decamer may be included. Also, mono- or polyglycidyl ethers of alkane monools or alkane polyols, glycidyl esters of monocarboxylic acids, epoxidized products of cyclic olefins, etc. are often used as reactive diluents.

好ましいエポキシ樹脂としては、分子内に複数のエポキシ基(又はオキシラン環)を有するポリグリシジルエーテル、例えば、メチレンビスフェノール(又はビスフェノールF)、メチレンビス(オルトクレゾール)、エチリデンビスフェノール(又はビスフェノールAD)、イソプロピリデンビスフェノール(又はビスフェノールA)、イソプロピリデンビス(オルトクレゾール)、9,9−ビス(ヒドロキシアリール)フルオレンなどのビスフェノール類又はそのアルキレンオキシド付加体のポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。   Preferred epoxy resins include polyglycidyl ethers having a plurality of epoxy groups (or oxirane rings) in the molecule, such as methylene bisphenol (or bisphenol F), methylene bis (orthocresol), ethylidene bisphenol (or bisphenol AD), isopropylidene. Examples thereof include bisphenols such as bisphenol (or bisphenol A), isopropylidenebis (orthocresol), and 9,9-bis (hydroxyaryl) fluorene, or polyglycidyl ethers of alkylene oxide adducts thereof.

さらに、エポキシ樹脂は、室温程度、例えば、10〜30℃、好ましくは15〜20℃で流動性を有する液体、流動性に乏しい高粘度(又は高粘稠)の半固体又は固体であってもよく、通常、前記包接化合物と混合する温度(混合温度又は加工温度)において流動性を有しており、混合温度において液状又は粘稠な液状エポキシ樹脂であってもよい。   Further, the epoxy resin may be a liquid having fluidity at about room temperature, for example, 10 to 30 ° C., preferably 15 to 20 ° C., a semi-solid or solid having high viscosity (or high viscosity) with poor fluidity. Ordinarily, it may be a liquid or viscous liquid epoxy resin that has fluidity at the temperature (mixing temperature or processing temperature) at which it is mixed with the clathrate compound and is liquid at the mixing temperature.

本発明の硬化性組成物において、包接化合物の割合は、硬化方法に応じて適宜選択でき、第1のゲスト化合物としての複素環化合物が、通常、硬化剤及び/又は硬化促進剤として使用される割合であってもよい。例えば、第1のゲスト化合物又は複素環化合物(第1の硬化剤及び/又は硬化促進剤)が、エポキシ樹脂中のエポキシ基との反応により、硬化樹脂中に必ず共有結合により組み込まれる付加型硬化剤である場合、包接化合物の割合は、硬化樹脂の特性に応じて、通常、エポキシ基(又はオキシラン環)1モルに対して、包接された複素環化合物換算で、0.1〜1モル程度の範囲から選択でき、好ましくは0.2〜0.8モル、さらに好ましくは0.25〜0.5モルである。   In the curable composition of the present invention, the ratio of the inclusion compound can be appropriately selected according to the curing method, and the heterocyclic compound as the first guest compound is usually used as a curing agent and / or a curing accelerator. It may be a ratio. For example, addition type curing in which a first guest compound or heterocyclic compound (first curing agent and / or curing accelerator) is necessarily incorporated into a cured resin by a covalent bond by reaction with an epoxy group in the epoxy resin. In the case of an agent, the ratio of the clathrate compound is usually 0.1 to 1 in terms of the clathrated heterocyclic compound with respect to 1 mol of the epoxy group (or oxirane ring) depending on the properties of the cured resin. It can select from the range of about a mole, Preferably it is 0.2-0.8 mol, More preferably, it is 0.25-0.5 mol.

また、複素環化合物が、硬化樹脂中に共有結合により組み込まれることなく、触媒的にエポキシ基の開環を誘発し、エポキシ化合物間の重合付加反応を生じさせる重合型硬化剤や光開始型硬化剤である場合、又は硬化促進剤として使用する場合などでは、包接化合物の割合は、エポキシ基(又はオキシラン環)1モルに対して、包接された複素環化合物換算で、1モル以下程度の範囲から選択でき、好ましくは0.001〜0.5モル、さらに好ましくは0.005〜0.1モルである。   In addition, the heterocyclic compound is not incorporated into the cured resin by a covalent bond, but it induces the ring opening of the epoxy group catalytically and causes a polymerization addition reaction between the epoxy compounds. In the case of being an agent or when used as a curing accelerator, the ratio of the clathrate compound is about 1 mol or less in terms of the clathrated heterocyclic compound with respect to 1 mol of the epoxy group (or oxirane ring). The range is preferably 0.001 to 0.5 mol, and more preferably 0.005 to 0.1 mol.

通常、硬化性組成物における包接化合物の割合は、エポキシ樹脂100質量部に対して、包接化合物中の複素環化合物(第1のゲスト化合物)が、例えば、0.1〜25質量部、好ましくは0.5〜15質量部、さらに好ましくは1〜10質量部、特に、1.5〜5質量部となる割合である。   Usually, the ratio of the inclusion compound in the curable composition is such that the heterocyclic compound (first guest compound) in the inclusion compound is, for example, 0.1 to 25 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the epoxy resin. The ratio is preferably 0.5 to 15 parts by mass, more preferably 1 to 10 parts by mass, and particularly preferably 1.5 to 5 parts by mass.

本発明の硬化性組成物は、前記包接化合物を含む硬化剤及び/又は硬化促進剤成分と、エポキシ樹脂とを混合することにより製造できる。例えば、前記包接化合物を含む硬化剤及び/又は硬化促進剤成分と、エポキシ樹脂とを、ホモジナイザー、ミキサー又は混合機、ニーダー、ロール、押出機などの混練機、らいかい機(擂潰機)などを使用して、硬化反応(又はゲル化)が生じない又は抑制できる温度、時間で混合又は混練することにより調製してもよい。前記混錬は、例えば、溶融混練などであってもよい。   The curable composition of this invention can be manufactured by mixing the hardening | curing agent and / or hardening accelerator component containing the said clathrate compound, and an epoxy resin. For example, a curing agent and / or a curing accelerator component containing the inclusion compound and an epoxy resin are mixed with a homogenizer, a mixer or a mixer, a kneader, a roll, an extruder, or the like, a raking machine (crusher) Or the like, and may be prepared by mixing or kneading at a temperature and time at which the curing reaction (or gelation) does not occur or can be suppressed. The kneading may be, for example, melt kneading.

また、混合又は混練は加熱下、例えば、50〜100℃程度で行ってもよいが、低温、例えば、0〜50℃程度、好ましくは氷浴中で混合又は混練して、加熱下での混合又は混練を省略することが多い。なお、前記包接化合物の製造方法の項に例示の溶媒の存在下で混合又は混練してもよい。   Mixing or kneading may be performed under heating, for example, at about 50 to 100 ° C., but mixing at low temperature, for example, about 0 to 50 ° C., preferably mixing or kneading in an ice bath, and mixing under heating. Or, kneading is often omitted. In addition, you may mix or knead | mix in presence of the solvent illustrated to the term of the manufacturing method of the said clathrate compound.

本発明の硬化性組成物には、必要に応じて、種々の添加剤、例えば、シランカップリング剤、可塑剤、有機溶剤、反応性希釈剤、充填剤、補強剤、顔料などの着色剤、難燃剤、離型剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤などの安定剤、増量剤、増粘剤などを添加してもよい。   In the curable composition of the present invention, various additives, for example, silane coupling agents, plasticizers, organic solvents, reactive diluents, fillers, reinforcing agents, colorants such as pigments, and the like as necessary. Stabilizers such as flame retardants, mold release agents, antioxidants, ultraviolet absorbers, extenders, thickeners and the like may be added.

シランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシジルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、3−(メタ)アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、N−フェニル−3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリエトキシシランなどが挙げられる。   Examples of the silane coupling agent include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidyloxypropyltriethoxysilane, 3- (meth) acryloyloxypropyltrimethoxysilane, 3 -(Meth) acryloyloxypropyltriethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, N- (2-amino) Ethyl) -3-aminopropyltriethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltrimethoxysilane, N-phenyl-3-aminopropyltriethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercapto Etc. b pills triethoxy silane.

可塑剤としては、例えば、フタル酸系可塑剤、アジピン酸系可塑剤などのアルカンジカルボン酸系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などが挙げられる。   Examples of the plasticizer include alkane dicarboxylic acid plasticizers such as phthalic acid plasticizers and adipic acid plasticizers, phosphate ester plasticizers, and polyester plasticizers.

有機溶剤としては、前記包接化合物の製造方法の項に例示の溶媒などが例示できる。反応性希釈剤としては、前記例示のエポキシ化合物、例えば、n−ブチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、スチレンオキサイド、t−ブチルフェニルグリシジルエーテル、ジシクロペンタジエンジエポキシドなどのエポキシ化合物、フェノール、クレゾール、t−ブチルフェノールなどのフェノール類などが挙げられる。   Examples of the organic solvent include the solvents exemplified in the section of the method for producing the clathrate compound. Examples of the reactive diluent include epoxy compounds exemplified above, for example, epoxy compounds such as n-butyl glycidyl ether, phenyl glycidyl ether, styrene oxide, t-butylphenyl glycidyl ether, dicyclopentadiene diepoxide, phenol, cresol, t -Phenols such as butylphenol.

充填剤としては、例えば、炭酸カルシウムなどの金属炭酸塩;シリカ、酸化チタン、酸化亜鉛などの金属酸化物;水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウムなどの金属水酸化物;硫酸バリウムなどの金属硫酸塩;ホウ酸アルミニウムなどの金属ホウ酸塩;チタン酸カリウムなどの金属チタン酸塩;タルク、カオリン、クレー、マイカ、ウォラストナイト、セピオライト、ゾノトライトなどの鉱物などが挙げられる。また、炭酸カルシウムとしては、例えば、重炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウムなどが挙げられる。シリカとしては、例えば、天然シリカ、合成シリカ、溶融シリカなどが挙げられる。   Examples of the filler include metal carbonates such as calcium carbonate; metal oxides such as silica, titanium oxide, and zinc oxide; metal hydroxides such as aluminum hydroxide and magnesium hydroxide; metal sulfates such as barium sulfate; Examples thereof include metal borates such as aluminum borate; metal titanates such as potassium titanate; minerals such as talc, kaolin, clay, mica, wollastonite, sepiolite, and zonotlite. Examples of calcium carbonate include calcium bicarbonate and light calcium carbonate. Examples of silica include natural silica, synthetic silica, and fused silica.

補強剤としては、例えば、有機繊維、無機繊維に大別できる。有機繊維としては、例えば、セルロースファイバー、セルロースナノファイバーなどの天然繊維;ポリアルキレンアリレート繊維、ビニロン繊維、アラミド繊維などの合成繊維などが挙げられる。無機繊維としては、例えば、ガラス繊維、炭素繊維などが挙げられる。   The reinforcing agent can be roughly classified into, for example, organic fibers and inorganic fibers. Examples of organic fibers include natural fibers such as cellulose fibers and cellulose nanofibers; and synthetic fibers such as polyalkylene arylate fibers, vinylon fibers, and aramid fibers. Examples of the inorganic fiber include glass fiber and carbon fiber.

着色剤としては、カーボンブラックなどの黒色顔料、酸化チタンなどの白色顔料、黄色顔料、橙色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料などのいずれであってもよい。   The colorant may be any of black pigments such as carbon black, white pigments such as titanium oxide, yellow pigments, orange pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, and green pigments.

難燃剤としては、例えば、ヘキサブロモシクロデカン、ビス(ジブロモプロピル)テトラブロモビスフェノールA、トリス(ジブロモプロピル)イソシアヌレート、トリス(トリブロモネオペンチル)ホスフェート、デカブロモジフェニルオキサイド、ビス(ペンタブロモ)フェニルエタン、トリス(トリブロモフェノキシ)トリアジン、エチレンビステトラブロモフタルイミド、ポリブロモフェニルインダン、臭素化ポリスチレン、テトラブロモビスフェノールAポリカーボネート、臭素化フェニレンエチレンオキシド、ポリペンタブロモベンジルアクリレートなどの臭素化物、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、キシリルジフェニルホスフェート、クレジルビス(ジ−2,6−キシレニル)ホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート、レゾルシノールビス(ジフェニル)ホスフェート、ビスフェノールAビス(ジフェニル)ホスフェート、ビスフェノールAビス(ジクレジル)ホスフェート、レゾルシノールビス(ジ−2,6−キシレニル)ホスフェート、トリス(クロロエチル)ホスフェート、トリス(クロロプロピル)ホスフェート、トリス(ジクロロプロピル)ホスフェート、トリス(トリブロモプロピル)ホスフェート、ジエチル−N,N−ビス(2−ヒドロオキシエチル)アミノメチルホスホネートなどのリン酸エステル類、陰イオン蓚酸処理水酸化アルミニウム、硝酸塩処理水酸化アルミニウム、高温熱水処理水酸化アルミニウム、錫酸表面処理水和金属化合物、ニッケル化合物表面処理水酸化マグネシウム、シリコーンポリマー表面処理水酸化マグネシウム、プロコバイト、多層表面処理水和金属化合物、カチオンポリマー処理水酸化マグネシウムなどが挙げられる。   Examples of the flame retardant include hexabromocyclodecane, bis (dibromopropyl) tetrabromobisphenol A, tris (dibromopropyl) isocyanurate, tris (tribromoneopentyl) phosphate, decabromodiphenyl oxide, bis (pentabromo) phenylethane. , Tris (tribromophenoxy) triazine, ethylenebistetrabromophthalimide, polybromophenylindane, brominated polystyrene, tetrabromobisphenol A polycarbonate, brominated phenylene ethylene oxide, brominated compounds such as polypentabromobenzyl acrylate, triphenyl phosphate, tri Cresyl phosphate, trixinyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate, xylyl diphenyl phosphate, Zirbis (di-2,6-xylenyl) phosphate, 2-ethylhexyl diphenyl phosphate, resorcinol bis (diphenyl) phosphate, bisphenol A bis (diphenyl) phosphate, bisphenol A bis (dicresyl) phosphate, resorcinol bis (di-2,6- Xylenyl) phosphate, tris (chloroethyl) phosphate, tris (chloropropyl) phosphate, tris (dichloropropyl) phosphate, tris (tribromopropyl) phosphate, diethyl-N, N-bis (2-hydroxyethyl) aminomethylphosphonate, etc. Phosphate esters, anion oxalic acid treated aluminum hydroxide, nitrate treated aluminum hydroxide, high temperature hot water treated aluminum hydroxide, stannic acid surface treated hydrated metal compound , Surface treated magnesium hydroxide a nickel compound, a silicone polymer surface treatment of magnesium hydroxide, procolipase bytes, multilayer surface-treated hydrated metal compound, and a cationic polymer treatment magnesium hydroxide.

離型剤としては、例えば、高級脂肪酸、高級脂肪酸エステル、高級脂肪酸カルシウムなどの脂肪酸系離型剤;カルナバワックス、ポリエチレン系ワックスなどのワックス類;シリコーンオイルなどが挙げられる。   Examples of the release agent include fatty acid-based release agents such as higher fatty acids, higher fatty acid esters, and higher fatty acid calcium; waxes such as carnauba wax and polyethylene-based wax; and silicone oil.

さらに、本発明の硬化性組成物は、必要であれば、エポキシ樹脂の他に、エラストマー(又はエラストマー変性剤)を含んでいてもよい。エラストマー(又はエラストマー変性剤)としては、例えば、アクリロニトリルブタジエンゴム(NBR)、液状ポリブタジエン、ポリブタジエン(ブタジエンゴム、BR)、クロロプレンゴム、シリコーンゴム、変性シリコーンゴム、架橋NBR、架橋BR、アクリル系ゴム(コアシェル型アクリルゴムを含む)、ウレタンゴム、ポリエステルエラストマー、官能基含有液状NBR、液状ポリエステル、液状ポリスルフィド、ウレタンプレポリマーなどが挙げられる。   Furthermore, the curable composition of the present invention may contain an elastomer (or an elastomer modifier) in addition to the epoxy resin, if necessary. Examples of the elastomer (or elastomer modifier) include acrylonitrile butadiene rubber (NBR), liquid polybutadiene, polybutadiene (butadiene rubber, BR), chloroprene rubber, silicone rubber, modified silicone rubber, crosslinked NBR, crosslinked BR, and acrylic rubber ( Core-shell acrylic rubber), urethane rubber, polyester elastomer, functional group-containing liquid NBR, liquid polyester, liquid polysulfide, urethane prepolymer, and the like.

また、硬化性組成物は、必要であれば、エポキシ樹脂の他に、他の樹脂(又は第2の樹脂)を含んでいてもよい。第2の樹脂としては、例えば、高密度ポリエチレン、ポリプロピレンなどのオレフィン系樹脂、ポリスチレンなどのスチレン系樹脂、ポリメタクリル酸メチルなどのアクリル系樹脂、ポリ塩化ビニルなどのハロゲン含有樹脂、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ナイロン6、ナイロン66などのポリアミド樹脂、ポリウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂などが挙げられる。また、第2の樹脂は、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ビスフェノールA型ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトンなどのエンジニアリングプラスチックであってもよい。   Moreover, the curable composition may contain other resin (or 2nd resin) other than an epoxy resin if necessary. Examples of the second resin include olefin resins such as high density polyethylene and polypropylene, styrene resins such as polystyrene, acrylic resins such as polymethyl methacrylate, halogen-containing resins such as polyvinyl chloride, and polyethylene terephthalate. Examples thereof include polyester resins, polycarbonate resins, polyamide resins such as nylon 6 and nylon 66, polyurethane resins, and silicone resins. The second resin may be an engineering plastic such as polybutylene terephthalate, polyethylene naphthalate, bisphenol A-type polycarbonate, polyacetal, polysulfone, polyethersulfone, polyetherimide, polyetheretherketone.

これらの添加剤、エラストマー、及び樹脂は、それぞれ単独で又は2種以上組み合わせて使用することもできる。これらの添加剤、エラストマー及び/又は樹脂の割合は、特に限定されず、用途に応じて適宜選択できる。   These additives, elastomers, and resins can be used alone or in combination of two or more. The ratio of these additives, elastomers and / or resins is not particularly limited and can be appropriately selected depending on the application.

本発明は、前記硬化性組成物が硬化した硬化物も包含する。このような硬化物は、硬化性組成物の用途に応じて、前記硬化性組成物を加熱して硬化させることにより調製できる。例えば、前記硬化性組成物を、基材へ塗布して硬化させてもよく、所定部に注入又は封止して硬化させてもよく、注型して硬化させてもよく、繊維基材などの基材に含浸してプリプレグを調製し、このプリプレグを、重ね合わせや巻回などの方法で積層して所定形状に成形加工して硬化させてもよい。硬化における加熱温度は、例えば、100〜250℃程度であってもよく、好ましくは110〜200℃、さらに好ましくは120〜180℃である。また、本発明の硬化性組成物は、比較的低温であっても素早く硬化可能なため、好ましい加熱温度は100〜160℃であり、さらに好ましくは120〜150℃、最も好ましくは130〜140℃である。   The present invention also includes a cured product obtained by curing the curable composition. Such hardened | cured material can be prepared by heating and hardening the said curable composition according to the use of a curable composition. For example, the curable composition may be applied to a substrate and cured, injected or sealed into a predetermined part, cured, cast and cured, fiber substrate, etc. A prepreg may be prepared by impregnating the base material, and the prepreg may be laminated by a method such as superposition or winding, molded into a predetermined shape, and cured. The heating temperature in curing may be, for example, about 100 to 250 ° C, preferably 110 to 200 ° C, and more preferably 120 to 180 ° C. In addition, since the curable composition of the present invention can be quickly cured even at a relatively low temperature, the preferable heating temperature is 100 to 160 ° C, more preferably 120 to 150 ° C, and most preferably 130 to 140 ° C. It is.

また、本発明の硬化性組成物のゲル化時間は、加熱温度100℃において、例えば、30分以下程度の範囲から選択でき、好ましい範囲としては、以下段階的に、25分以下、20分以下、15分以下であり、さらに好ましくは10分以下である。また、前記ゲル化時間は、例えば、0.1〜15分、好ましくは1〜10分である。   The gelation time of the curable composition of the present invention can be selected from a range of, for example, about 30 minutes or less at a heating temperature of 100 ° C., and a preferable range is 25 minutes or less and 20 minutes or less step by step. 15 minutes or less, and more preferably 10 minutes or less. The gelation time is, for example, 0.1 to 15 minutes, preferably 1 to 10 minutes.

本発明の硬化性組成物は、低温で素早く硬化できるにもかかわらず、意外にも貯蔵安定性(又は保存安定性)が高い。そのため、硬化性組成物の調製後、25℃で24時間密閉保管した後の25℃における粘度は、硬化性組成物調製直後(調製0時間後)の25℃における初期粘度に対して、例えば、1〜2.5倍であり、好ましい範囲としては、以下段階的に、2.1倍以下、2倍以下、1.8倍以下、1.5倍以下であり、さらに好ましくは1.4倍以下であり、1.3倍以下が最も好ましい。   The curable composition of the present invention has unexpectedly high storage stability (or storage stability) despite being able to cure quickly at low temperatures. Therefore, after the preparation of the curable composition, the viscosity at 25 ° C. after being stored sealed at 25 ° C. for 24 hours is the initial viscosity at 25 ° C. immediately after the preparation of the curable composition (after 0 hours of preparation), for example, The preferred range is 2.1 times or less, 2 times or less, 1.8 times or less, 1.5 times or less, and more preferably 1.4 times. It is below, and 1.3 times or less is the most preferable.

なお、本明細書及び特許請求の範囲において、前記ゲル化時間及び粘度は、後述する実施例に記載の方法により測定できる。   In addition, in this specification and a claim, the said gelation time and a viscosity can be measured by the method as described in the Example mentioned later.

以下に、実施例に基づいて本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。なお、以下の実施例及び比較例において各種特性は次のようにして測定した。   Hereinafter, the present invention will be described in more detail based on examples, but the present invention is not limited to these examples. In the following examples and comparative examples, various characteristics were measured as follows.

H−NMR)
H−NMRは、包接化合物を、重クロロホルム、重メタノール、重ジメチルスルホキシドなどに溶解し、ブルカー・バイオスピン社製「AVANCE III HD」(H共鳴周波数:300MHz)を用いて測定した。
(1 H-NMR)
1 H-NMR was measured by dissolving an inclusion compound in deuterated chloroform, deuterated methanol, deuterated dimethyl sulfoxide and the like and using “AVANCE III HD” ( 1 H resonance frequency: 300 MHz) manufactured by Bruker BioSpin.

(XRD)
X線回折(XRD)は、リガク社製「SMART LAB」(X線源:Cu Kα)を用いて測定した。
(XRD)
X-ray diffraction (XRD) was measured using “SMART LAB” (X-ray source: Cu Kα) manufactured by Rigaku Corporation.

(TGA)
熱重量分析(TGA)は、(株)パーキンエルマー製「TGA 4000」を用いて測定した。
(TGA)
Thermogravimetric analysis (TGA) was measured using “TGA 4000” manufactured by PerkinElmer Co., Ltd.

1.包接化合物の調製
[実施例1](BINOL:2E4MZの包接化合物の合成)
1,1’−ビ−2−ナフトール(BINOL、14.3g、50mmol)の酢酸エチル(100g)溶液に、80℃で、2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ、四国化成工業(株)製、13.2g、120mmol)の酢酸エチル(50g)溶液を加えた。1時間の撹拌の後、加熱を止め、10℃まで冷却後、生じた固体をろ取、乾燥し、生成物を得た(白色固体、収量23.6g)。図6、11及び20に、得られた包接化合物のH−NMR、XRD及びTGAの測定結果を示す。XRDにより、BINOL単体とは異なる結晶性の化合物であることを確認した。また、得られた包接化合物は、H−NMRにより包接比BINOL:2E4MZ=1:2の包接化合物であることを確認した。さらに、TGAからも、前記と同様の包接比であることを補足的に確認した。また、比較のために、BINOL単体のH−NMR、XRD及びTGAの測定結果を図1、10及び15に、2E4MZ単体のH−NMR及びTGAの測定結果を図2及び16にそれぞれ示す。
1. Preparation of inclusion compound [Example 1] (Synthesis of inclusion compound of BINOL: 2E4MZ)
To a solution of 1,1′-bi-2-naphthol (BINOL, 14.3 g, 50 mmol) in ethyl acetate (100 g) at 80 ° C., 2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ, manufactured by Shikoku Chemical Industries, Ltd.) , 13.2 g, 120 mmol) in ethyl acetate (50 g) was added. After stirring for 1 hour, the heating was stopped, and after cooling to 10 ° C., the resulting solid was collected by filtration and dried to give the product (white solid, yield 23.6 g). 6, 11 and 20 show the measurement results of 1 H-NMR, XRD and TGA of the resulting clathrate compound. XRD confirmed that the compound was a crystalline compound different from BINOL alone. Moreover, it was confirmed by 1 H-NMR that the obtained inclusion compound was an inclusion compound having an inclusion ratio of BINOL: 2E4MZ = 1: 2. Further, it was supplementarily confirmed from TGA that the inclusion ratio was the same as described above. For comparison, the measurement results of 1 H-NMR, XRD and TGA of BINOL alone are shown in FIGS. 1, 10 and 15, and the measurement results of 1 H-NMR and TGA of 2E4MZ alone are shown in FIGS. 2 and 16, respectively. .

なお、実施例で得られた包接化合物のTGAチャートにおいて、横軸(温度)に平行に引かれた2本の破線は、測定開始時及びゲスト放出完了時を示し、「ΔY」は、包接化合物中のゲスト化合物の質量割合を示す(以下、同じ)。   In the TGA chart of the clathrate compound obtained in the examples, two broken lines drawn parallel to the horizontal axis (temperature) indicate the start of measurement and the completion of guest release, and “ΔY” The mass ratio of the guest compound in the contact compound is shown (hereinafter the same).

[実施例2](BINOL:2MZ−Hの包接化合物の合成)
1,1’−ビ−2−ナフトール(BINOL、14.3g、50mmol)に2−メチルイミダゾール(2MZ−H、四国化成工業(株)製、9.9g、120mmol)と酢酸エチル(50g)とを加え、80℃で溶解した。1時間の撹拌の後、加熱を止め、10℃まで冷却後、生じた固体をろ取、乾燥し、生成物を得た(白色固体、収量16.7g)。図7、12及び21に得られた包接化合物のH−NMR、XRD及びTGAの測定結果を示す。XRDにより、BINOL単体とは異なる結晶性の化合物であることを確認した。また、得られた包接化合物は、H−NMRにより包接比BINOL:2MZ−H=1:2の包接化合物であることを確認した。さらに、TGAからも、前記と同様の包接比であることを補足的に確認した。また、比較のために、BINOL単体のH−NMR、XRD及びTGAの測定結果を図1、10及び15に、2MZ−H単体のH−NMR及びTGAの測定結果を図3及び17にそれぞれ示す。
[Example 2] (BINOL: Synthesis of inclusion compound of 2MZ-H)
1,1′-bi-2-naphthol (BINOL, 14.3 g, 50 mmol) and 2-methylimidazole (2MZ-H, manufactured by Shikoku Chemicals Co., Ltd., 9.9 g, 120 mmol) and ethyl acetate (50 g) Was dissolved at 80 ° C. After stirring for 1 hour, the heating was stopped, and after cooling to 10 ° C., the resulting solid was collected by filtration and dried to obtain the product (white solid, yield 16.7 g). The measurement results of 1 H-NMR, XRD and TGA of the clathrate compounds obtained are shown in FIGS. XRD confirmed that the compound was a crystalline compound different from BINOL alone. Moreover, it was confirmed by 1 H-NMR that the obtained inclusion compound was an inclusion compound having an inclusion ratio BINOL: 2MZ-H = 1: 2. Further, it was supplementarily confirmed from TGA that the inclusion ratio was the same as described above. For comparison, the measurement results of 1 H-NMR, XRD and TGA of BINOL alone are shown in FIGS. 1, 10 and 15, and the measurement results of 1 H-NMR and TGA of 2MZ-H alone are shown in FIGS. Each is shown.

[実施例3](BINOL:2E4MZ−CNの包接化合物の合成)
1,1’−ビ−2−ナフトール(BINOL、14.3g、50mmol)に1−シアノエチル−2−エチル−4−メチルイミダゾール(2E4MZ−CN、四国化成工業(株)製、19.6g、120mmol)と酢酸エチル(150g)とを加え、80℃で1時間撹拌し溶解した。撹拌の後、加熱を止め、10℃まで冷却後、生じた固体をろ取、乾燥し、生成物を得た(白色固体、収量26.0g)。図8、13及び22に得られた包接化合物のH−NMR、XRD及びTGAの測定結果を示す。XRDにより、BINOL単体とは異なる結晶性の化合物であることを確認した。また、得られた包接化合物は、H−NMRにより包接比BINOL:2E4MZ−CN=1:2の包接化合物であることを確認した。さらに、TGAからも、前記と同様の包接比であることを補足的に確認した。また、比較のために、BINOL単体のH−NMR、XRD及びTGAの測定結果を図1、10及び15に、2E4MZ−CN単体のH−NMR及びTGAの測定結果を図4及び18にそれぞれ示す。
[Example 3] (BINOL: Synthesis of inclusion compound of 2E4MZ-CN)
1,1′-bi-2-naphthol (BINOL, 14.3 g, 50 mmol) to 1-cyanoethyl-2-ethyl-4-methylimidazole (2E4MZ-CN, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., 19.6 g, 120 mmol) ) And ethyl acetate (150 g) were added and dissolved by stirring at 80 ° C. for 1 hour. After stirring, the heating was stopped, and after cooling to 10 ° C., the resulting solid was collected by filtration and dried to obtain the product (white solid, yield 26.0 g). 8, 13 and 22 show the measurement results of 1 H-NMR, XRD and TGA of the clathrate compound obtained. XRD confirmed that the compound was a crystalline compound different from BINOL alone. Moreover, it was confirmed by 1 H-NMR that the obtained inclusion compound was an inclusion compound having an inclusion ratio BINOL: 2E4MZ-CN = 1: 2. Further, it was supplementarily confirmed from TGA that the inclusion ratio was the same as described above. For comparison, the measurement results of 1 H-NMR, XRD and TGA of BINOL alone are shown in FIGS. 1, 10 and 15, and the measurement results of 1 H-NMR and TGA of 2E4MZ-CN alone are shown in FIGS. Each is shown.

[実施例4](BINOL:2PZ−PWの包接化合物の合成)
1,1’−ビ−2−ナフトール(BINOL、14.3g、50mmol)に2−フェニルイミダゾール(2PZ−PW、四国化成工業(株)製、17.3g、120mmol)と酢酸エチル(475g)とを加え、80℃で溶解した。15分の撹拌の後、加熱を止め、10℃まで冷却後、生じた固体をろ取、乾燥し、生成物を得た(白色固体、収量12.0g)。得られた包接化合物は、図9、14及び23に得られた包接化合物のH−NMR、XRD及びTGAの測定結果を示す。XRDにより、BINOL単体とは異なる結晶性の化合物であることを確認した。また、得られた包接化合物は、H−NMRにより包接比BINOL:2PZ−PW=1:4の包接化合物であることを確認した。さらに、TGAからも、前記と同様の包接比であることを補足的に確認した。また、比較のために、BINOL単体のH−NMR、XRD及びTGAの測定結果を図1、10及び15に、2PZ−PW単体のH−NMR及びTGAの測定結果を図5及び19にそれぞれ示す。
[Example 4] (BINOL: Synthesis of inclusion compound of 2PZ-PW)
1,1′-bi-2-naphthol (BINOL, 14.3 g, 50 mmol) and 2-phenylimidazole (2PZ-PW, manufactured by Shikoku Kasei Co., Ltd., 17.3 g, 120 mmol) and ethyl acetate (475 g) Was dissolved at 80 ° C. After stirring for 15 minutes, the heating was stopped, and after cooling to 10 ° C., the resulting solid was collected by filtration and dried to obtain the product (white solid, yield 12.0 g). The obtained inclusion compound shows the measurement result of 1 H-NMR, XRD, and TGA of the inclusion compound obtained in FIGS. It was confirmed by XRD that the compound was a crystalline compound different from BINOL alone. Moreover, it was confirmed by 1 H-NMR that the obtained inclusion compound was an inclusion compound having an inclusion ratio of BINOL: 2PZ-PW = 1: 4. Further, it was supplementarily confirmed from TGA that the inclusion ratio was the same as described above. For comparison, the measurement results of 1 H-NMR, XRD and TGA of BINOL alone are shown in FIGS. 1, 10 and 15, and the measurement results of 1 H-NMR and TGA of 2PZ-PW alone are shown in FIGS. Each is shown.

以下の表1に各包接化合物の組成を示す。   Table 1 below shows the composition of each clathrate compound.

Figure 2019210325
Figure 2019210325

2.硬化性組成物の作製及び試験
[実施例5]
液状エポキシ樹脂100質量部(jER 828、三菱化学(株)製)に6.9質量部のBINOL:2E4MZ(2E4MZとして3質量部)を加え、ホモジナイザー((株)日本精機製作所製、エースホモジナイザーAM−10)で、15000rpmの回転数で氷浴中にて15分撹拌し、硬化性組成物を作製した。
2. Preparation and test of curable composition [Example 5]
6.9 parts by mass of BINOL: 2E4MZ (3 parts by mass as 2E4MZ) was added to 100 parts by mass of liquid epoxy resin (jER 828, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Seisakusho Co., Ltd., Ace Homogenizer AM). -10), the mixture was stirred in an ice bath at a rotational speed of 15000 rpm for 15 minutes to prepare a curable composition.

[実施例6]
液状エポキシ樹脂100質量部(jER 828、三菱化学(株)製)に4.5質量部のBINOL:2PZ−PW(2PZ−PWとして3質量部)を加え、ホモジナイザー((株)日本精機製作所製、エースホモジナイザーAM−10)で、15000rpmの回転数で氷浴中にて15分撹拌し、硬化性組成物を作製した。
[Example 6]
4.5 parts by mass of BINOL: 2PZ-PW (3 parts by mass as 2PZ-PW) was added to 100 parts by mass of liquid epoxy resin (jER 828, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Seisakusho Co., Ltd.). And ace homogenizer AM-10), the mixture was stirred for 15 minutes in an ice bath at a rotation speed of 15000 rpm to prepare a curable composition.

[実施例7]
液状エポキシ樹脂100質量部(jER 828、三菱化学(株)製)に8.2質量部のBINOL:2MZ−H(2MZ−Hとして3質量部)を加え、ホモジナイザー((株)日本精機製作所製、エースホモジナイザーAM−10)で、15000rpmの回転数で氷浴中にて15分撹拌し、硬化性組成物を作製した。
[Example 7]
To 100 parts by mass of liquid epoxy resin (jER 828, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), 8.2 parts by mass of BINOL: 2MZ-H (3 parts by mass as 2MZ-H) was added, and a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Seisakusho Co., Ltd.). And ace homogenizer AM-10), the mixture was stirred for 15 minutes in an ice bath at a rotation speed of 15000 rpm to prepare a curable composition.

[比較例1]
液状エポキシ樹脂100質量部(jER 828、三菱化学(株)製)に3質量部の2E4MZを加え、ホモジナイザー((株)日本精機製作所製、エースホモジナイザーAM−10)で、15000rpmの回転数で氷浴中にて15分撹拌し、硬化性組成物を作製した。
[Comparative Example 1]
3 parts by mass of 2E4MZ is added to 100 parts by mass of liquid epoxy resin (jER 828, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and ice is produced at a rotational speed of 15000 rpm with a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Seisakusho, ACE homogenizer AM-10). The mixture was stirred for 15 minutes in a bath to prepare a curable composition.

[比較例2]
液状エポキシ樹脂100質量部(jER 828、三菱化学(株)製)に3質量部の2PZ−PWを加え、ホモジナイザー((株)日本精機製作所製、エースホモジナイザーAM−10)で、15000rpmの回転数で氷浴中にて15分撹拌し、硬化性組成物を作製した。
[Comparative Example 2]
3 parts by mass of 2PZ-PW is added to 100 parts by mass of liquid epoxy resin (jER 828, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), and the number of revolutions is 15000 rpm with a homogenizer (manufactured by Nippon Seiki Seisakusho, ACE homogenizer AM-10). The mixture was stirred for 15 minutes in an ice bath to prepare a curable composition.

[ゲル化時間の測定]
ガラスサンプル管と、その外径と同じ径の穴をあけたアルミニウムブロックとを用意した。アルミニウムブロックは、ホットプレート上であらかじめ所定の温度に熱した。サンプル管に試料(硬化性組成物)を取り、上記アルミニウムブロックの穴にサンプル管を挿入し、サンプル管中をスパチュラで毎分60回ほどの速度で円状に(円を描くように)かき混ぜ、試料がゲル状になりスパチュラに付着しなくなった点又は糸引きがなくなった点を終点とし、サンプル管の挿入から終点までにかかった時間を計測した。結果を以下の表2に示す。
[Measurement of gelation time]
A glass sample tube and an aluminum block with a hole having the same diameter as the outer diameter were prepared. The aluminum block was preheated to a predetermined temperature on a hot plate. Take the sample (curable composition) into the sample tube, insert the sample tube into the hole in the aluminum block, and stir the sample tube in a circle (like drawing a circle) at a speed of about 60 times per minute with a spatula The time point from the insertion of the sample tube to the end point was measured with the point where the sample became a gel and no longer adhered to the spatula or the point where the stringing disappeared. The results are shown in Table 2 below.

Figure 2019210325
Figure 2019210325

[硬化性組成物の貯蔵安定性試験]
作製した硬化性組成物を初期粘度(作製0時間後に測定した25℃における粘度、mPa・s/25℃)を、E型粘度計(東機産業(株)製「TVE−22L」)を用いて測定した。次いで、作製した硬化性組成物を25℃で密閉容器にて保存し、24時間保存後の粘度を同様にして測定した。結果を以下の表3に示す。
[Storage stability test of curable composition]
Using the E-type viscometer ("TVE-22L" manufactured by Toki Sangyo Co., Ltd.), the initial viscosity (viscosity at 25 ° C measured at 0 hours after preparation, mPa · s / 25 ° C) of the prepared curable composition was used. Measured. Subsequently, the produced curable composition was preserve | saved at 25 degreeC in the airtight container, and the viscosity after 24 hours preservation | save was measured similarly. The results are shown in Table 3 below.

Figure 2019210325
Figure 2019210325

実施例5の硬化性組成物の粘度は24時間保管後、初期粘度の約2.1倍に達したのに対し、比較例1の硬化性組成物は約6倍に達していた。実施例6の硬化性組成物の粘度は24時間保管後、初期粘度の約1.3倍に達したのに対し、比較例2の硬化性組成物は約2.9倍に達していた。   The viscosity of the curable composition of Example 5 reached about 2.1 times the initial viscosity after storage for 24 hours, whereas the curable composition of Comparative Example 1 reached about 6 times. The viscosity of the curable composition of Example 6 reached about 1.3 times the initial viscosity after storage for 24 hours, whereas the curable composition of Comparative Example 2 reached about 2.9 times.

本発明の硬化性組成物は、所定の包接化合物を硬化剤及び/又は硬化促進剤として含むため、貯蔵安定性(又は保存安定性)が高く、しかも加熱により迅速に硬化する特性を示す。そのため、本発明の硬化性組成物は、エポキシ樹脂が適用される種々の用途、例えば、絶縁材料、封止材料、エポキシ樹脂積層板、複合材料、注型材料、コンクリート構造体の補修材料、接着剤、コーティング剤などの用途に利用できる。   Since the curable composition of the present invention contains a predetermined clathrate compound as a curing agent and / or a curing accelerator, it has a high storage stability (or storage stability) and exhibits a property of being rapidly cured by heating. Therefore, the curable composition of the present invention has various uses to which the epoxy resin is applied, for example, insulating materials, sealing materials, epoxy resin laminates, composite materials, casting materials, repair materials for concrete structures, adhesion It can be used for applications such as adhesives and coating agents.

封止材料としては、例えば、半導体、発光ダイオードなどの電子部品の封止材料などが挙げられる。エポキシ樹脂積層板としては、例えば、ガラス布、紙、合成繊維布、銅箔などの基材と、エポキシ樹脂との積層板、具体的には、プリント配線板用積層板などが挙げられる。複合材料としては、例えば、ガラス繊維、炭素繊維、アラミド繊維などの補強繊維との繊維強化複合材料などが挙げられる。コーティング剤としては、例えば、ワニス、塗料(粉体塗料を含む)、インクなどが挙げられる。   Examples of the sealing material include sealing materials for electronic components such as semiconductors and light emitting diodes. As an epoxy resin laminated board, the laminated board of base materials, such as glass cloth, paper, a synthetic fiber cloth, copper foil, and an epoxy resin, specifically, the laminated board for printed wiring boards, etc. are mentioned, for example. Examples of the composite material include fiber-reinforced composite materials with reinforcing fibers such as glass fibers, carbon fibers, and aramid fibers. Examples of the coating agent include varnish, paint (including powder paint), ink, and the like.

Claims (10)

エポキシ樹脂と、硬化剤及び/又は硬化促進剤としての包接化合物とを含む硬化性組成物であって、包接化合物が、下記式(1)
Figure 2019210325
(式中、R及びRはそれぞれ独立して置換基、mはそれぞれ独立して0〜4の整数、nはそれぞれ独立して0〜2の整数を示す。)
で表されるホスト化合物と、環の構成原子として複数の窒素原子を含む5又は6員複素環又はその縮合複素環を有するゲスト化合物とを含む硬化性組成物。
A curable composition comprising an epoxy resin and a clathrate compound as a curing agent and / or a curing accelerator, wherein the clathrate compound is represented by the following formula (1):
Figure 2019210325
(Wherein R 1 and R 2 are each independently a substituent, m is each independently an integer of 0 to 4, and n is each independently an integer of 0 to 2).
And a guest compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing a plurality of nitrogen atoms as ring constituent atoms or a condensed heterocyclic ring thereof.
式(1)において、R及びRが、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリールオキシ基、アラルキルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基又は置換アミノ基、mが0〜2の整数、nが0又は1である請求項1記載の硬化性組成物。 In the formula (1), R 1 and R 2 are an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, an alkoxy group, a cycloalkoxy group, an aryloxy group, an aralkyloxy group, an acyl group, an alkoxycarbonyl group, a halogen atom. The curable composition according to claim 1, wherein nitro group, cyano group or substituted amino group, m is an integer of 0 to 2, and n is 0 or 1. ゲスト化合物が、下記式(2)
Figure 2019210325
(式中、Rは、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、シアノアルキル基、又はトリアジン−アルキル基を示し;R〜Rは、水素原子、ハロゲン原子、ニトロ基、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基又はアシル基を示し、前記アルキル基はヒドロキシル基を有していてもよく;RとRとは互いに結合して隣接する窒素原子及び炭素原子とともに環を形成してもよく;pは0〜3の整数を示し;実線と破線との二重線は単結合又は二重結合を示す。)
で表される化合物を含む請求項1又は2記載の硬化性組成物。
The guest compound is represented by the following formula (2)
Figure 2019210325
(In the formula, R 3 represents a hydrogen atom, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group, a cyanoalkyl group, or a triazine-alkyl group; R 4 to R 6 represent a hydrogen atom, a halogen atom, or a nitro group. A group, an alkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an aralkyl group or an acyl group, and the alkyl group may have a hydroxyl group; and R 3 and R 4 are bonded to each other to form an adjacent nitrogen atom and A ring may be formed with a carbon atom; p represents an integer of 0 to 3; a double line between a solid line and a broken line represents a single bond or a double bond.)
The curable composition of Claim 1 or 2 containing the compound represented by these.
ゲスト化合物が、下記式(2a)及び/又は(2b)
Figure 2019210325
(式中、qは0〜5の整数を示し;R〜R及び実線と破線との二重線は請求項3に同じ。)
で表される化合物を含む請求項1〜3のいずれかに記載の硬化性組成物。
The guest compound is represented by the following formula (2a) and / or (2b)
Figure 2019210325
(In the formula, q represents an integer of 0 to 5; R 3 to R 6 and a double line of a solid line and a broken line are the same as in claim 3).
The curable composition in any one of Claims 1-3 containing the compound represented by these.
ゲスト化合物が、2−アルキルイミダゾール、2−アリールイミダゾール、2,4−ジアルキルイミダゾール及び1−シアノエチル−2,4−ジアルキルイミダゾールから選択された少なくとも1種のイミダゾール化合物を含む請求項1〜4のいずれかに記載の硬化性組成物。   The guest compound comprises at least one imidazole compound selected from 2-alkylimidazole, 2-arylimidazole, 2,4-dialkylimidazole and 1-cyanoethyl-2,4-dialkylimidazole. A curable composition according to any one of the above. 包接化合物が、ホスト化合物1モルに対してゲスト化合物を0.5〜5モルの割合で含む請求項1〜5のいずれかに記載の硬化性組成物。   The curable composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the clathrate compound contains the guest compound in a proportion of 0.5 to 5 mol with respect to 1 mol of the host compound. エポキシ樹脂が、液状エポキシ樹脂である請求項1〜6のいずれかに記載の硬化性組成物。   The curable composition according to any one of claims 1 to 6, wherein the epoxy resin is a liquid epoxy resin. エポキシ樹脂100質量部に対して、包接化合物中のゲスト化合物を0.1〜25質量部の割合で含む請求項1〜7のいずれかに記載の硬化性組成物。   The curable composition in any one of Claims 1-7 which contain the guest compound in a clathrate compound in the ratio of 0.1-25 mass parts with respect to 100 mass parts of epoxy resins. 請求項1記載の式(1)で表されるホスト化合物と、環の構成原子として複数の窒素原子を含む5又は6員複素環又はその縮合複素環を有するゲスト化合物とを含む包接化合物を、エポキシ樹脂に混合して、請求項1〜8のいずれかに記載の硬化性組成物を製造する方法。   An inclusion compound comprising a host compound represented by the formula (1) according to claim 1 and a guest compound having a 5- or 6-membered heterocyclic ring containing a plurality of nitrogen atoms as ring constituent atoms or a condensed heterocyclic ring thereof. A method for producing a curable composition according to claim 1, mixed with an epoxy resin. 請求項1〜8のいずれかに記載の硬化性組成物が硬化した硬化物。   Hardened | cured material which the curable composition in any one of Claims 1-8 hardened | cured.
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Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05194711A (en) * 1991-08-06 1993-08-03 Kurita Water Ind Ltd Curing agent and cure accelerator for epoxy resin
JP2000313737A (en) * 1999-04-28 2000-11-14 Dainippon Ink & Chem Inc Thermosetting composition
JP2002179597A (en) * 2000-12-11 2002-06-26 Nippon Soda Co Ltd Method for producing molecular compound
JP2002316953A (en) * 2001-04-18 2002-10-31 Nippon Soda Co Ltd Method for molecular compound
JP2012219222A (en) * 2011-04-12 2012-11-12 Yokohama Rubber Co Ltd:The Epoxy resin composition
JP2014062188A (en) * 2012-09-21 2014-04-10 Dic Corp Phenylphenol-naphthol resin, curable resin composition, cured product thereof and printed wiring board
JP2017071857A (en) * 2015-10-09 2017-04-13 Jfeスチール株式会社 Mixed powder for powder metallurgy
JP2018025799A (en) * 2016-08-11 2018-02-15 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. Chemically amplified photosensitive resin composition and insulation film produced from the same

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05194711A (en) * 1991-08-06 1993-08-03 Kurita Water Ind Ltd Curing agent and cure accelerator for epoxy resin
JP2000313737A (en) * 1999-04-28 2000-11-14 Dainippon Ink & Chem Inc Thermosetting composition
JP2002179597A (en) * 2000-12-11 2002-06-26 Nippon Soda Co Ltd Method for producing molecular compound
JP2002316953A (en) * 2001-04-18 2002-10-31 Nippon Soda Co Ltd Method for molecular compound
JP2012219222A (en) * 2011-04-12 2012-11-12 Yokohama Rubber Co Ltd:The Epoxy resin composition
JP2014062188A (en) * 2012-09-21 2014-04-10 Dic Corp Phenylphenol-naphthol resin, curable resin composition, cured product thereof and printed wiring board
JP2017071857A (en) * 2015-10-09 2017-04-13 Jfeスチール株式会社 Mixed powder for powder metallurgy
JP2018025799A (en) * 2016-08-11 2018-02-15 東友ファインケム株式会社Dongwoo Fine−Chem Co., Ltd. Chemically amplified photosensitive resin composition and insulation film produced from the same

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