JP2019210274A5 - - Google Patents

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  1. 下記式(1)で表される3−アセトキシハロベンゼン(XはF、Clまたはrを示す。)をHeck反応させることを特徴とする、下記式(2)で表される3−アセトキシスチレンの製造方法。
    Figure 2019210274
  2. パラジウム触媒を3−アセトキシハロベンゼン1モルに対して0.001〜10モル使用し、ホスフィン配位子をリン/パラジウム(原子比)が1〜50で使用する請求項1に記載の製造方法。
  3. 反応溶媒として、アセトニトリルを使用する請求項1または2に記載の製造方法。
  4. 反応系に、トリアルキルアミンを存在させる請求項1〜3のいずれかに記載の製造方法。
  5. 反応を、エチレンガス雰囲気中で、0.3〜3MPaの圧力下で行う請求項1〜4のいずれかに記載の製造方法。
  6. 反応を170℃以下の温度で行う請求項1〜5のいずれかに記載の製造方法。
JP2018247163A 2018-12-28 2018-12-28 3−アセトキシスチレンの製造方法 Pending JP2019210274A (ja)

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