JP2019207978A - Printed wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、開口に第1電子部品と第2電子部品を収容しているプリント配線板に関する。 The present invention relates to a printed wiring board in which a first electronic component and a second electronic component are accommodated in an opening.
特許文献1は、ペルチェ素子を内蔵しているメタル基板を開示している。
[特許文献1の課題]
特許文献1は、メタル基板にスルーホールを形成している。そして、特許文献1は、各スルーホールに1個の半導体素子を収容している。そのため、特許文献1によれば、メタル基板に内蔵する半導体素子の数が増えると、基板が大きくなると、予想される。
[Problems of Patent Document 1]
In
本発明に係るプリント配線板は、第5面と前記第5面と反対側の第6面とを有するコア材と前記コア材を貫通し、複数の第1電子部品と複数の第2電子部品を収容するための開口とを有するコア基板と、前記開口に収容されている複数の前記第1電子部品と、前記開口に収容されている複数の前記第2電子部品と、前記開口内に形成されていて、複数の前記第1電子部品と複数の前記第2電子部品を前記コア基板に固定するための樹脂と、前記第5面と前記開口上に形成さている第1樹脂絶縁層を含む第1ビルドアップ層と、前記第6面と前記開口上に形成さている第2樹脂絶縁層を含む第2ビルドアップ層、とを有する。そして、前記樹脂は前記第1樹脂絶縁層に由来していて、前記第1電子部品と前記第2電子部品との間のスペースの大きさは、10μm以上、50μm以下であって、前記開口から露出する前記コア基板の側壁と前記側壁に面する前記第1電子部品との間のスペースの大きさは、15μm以上、50μm以下であって、前記開口から露出する前記コア基板の側壁と前記側壁に面する前記第2電子部品との間のスペースの大きさは、15μm以上〜50μm以下である。 A printed wiring board according to the present invention penetrates through a core material having a fifth surface and a sixth surface opposite to the fifth surface, and a plurality of first electronic components and a plurality of second electronic components. Formed in the opening, a core substrate having an opening for receiving the plurality of first electronic components housed in the opening, a plurality of second electronic components housed in the opening, And a resin for fixing the plurality of first electronic components and the plurality of second electronic components to the core substrate, and a first resin insulating layer formed on the fifth surface and the opening. A first buildup layer; and a second buildup layer including the sixth surface and a second resin insulating layer formed on the opening. The resin is derived from the first resin insulating layer, and the size of the space between the first electronic component and the second electronic component is 10 μm or more and 50 μm or less, from the opening. The size of the space between the exposed side wall of the core substrate and the first electronic component facing the side wall is 15 μm or more and 50 μm or less, and the side wall of the core substrate and the side wall exposed from the opening The size of the space between the second electronic component facing the surface is 15 μm or more and 50 μm or less.
[実施形態の効果]
本発明の実施形態によれば、コア基板に形成されている1個の開口に複数の第1電子部品と複数の第2電子部品が収容される。そのため、第1電子部品と第2電子部品との間にコア基板が形成されなくてもよい。また、第1電子部品と第2電子部品との間のスペースの大きさが所定の値以下である。第1電子部品とコア基板との間のスペースの大きさが所定の値以下である。第2電子部品とコア基板との間のスペースの大きさが所定の値以下である。スペースの大きさが所定の値以下であるので、開口の大きさを小さくすることができる。プリント配線板を小さくすることができる。
第1電子部品と第2電子部品との間のスペースの大きさが所定の値以上である。第1電子部品とコア基板との間のスペースの大きさが所定の値以上である。第2電子部品とコア基板との間のスペースの大きさが所定の値以上である。1つの開口に複数の種類の電子部品が内蔵されても、異なる電子部品間に樹脂を充填することができる。異なる電子部品間の絶縁信頼性と接続信頼性を高くすることができる。
[Effect of the embodiment]
According to the embodiment of the present invention, a plurality of first electronic components and a plurality of second electronic components are accommodated in one opening formed in the core substrate. Therefore, the core substrate may not be formed between the first electronic component and the second electronic component. Further, the size of the space between the first electronic component and the second electronic component is equal to or less than a predetermined value. The size of the space between the first electronic component and the core substrate is not more than a predetermined value. The size of the space between the second electronic component and the core substrate is not more than a predetermined value. Since the size of the space is equal to or less than a predetermined value, the size of the opening can be reduced. A printed wiring board can be made small.
The size of the space between the first electronic component and the second electronic component is greater than or equal to a predetermined value. The size of the space between the first electronic component and the core substrate is not less than a predetermined value. The size of the space between the second electronic component and the core substrate is not less than a predetermined value. Even if a plurality of types of electronic components are built in one opening, resin can be filled between different electronic components. Insulation reliability and connection reliability between different electronic components can be increased.
[第1実施形態]
図1(A)は第1実施形態のプリント配線板10の断面図である。プリント配線板10は、第5面Fと第5面Fと反対側の第6面Sとを有するコア基板30とコア基板30の第5面F上に形成されている第1ビルドアップ層55Fとコア基板の第6面S上に形成されている第2ビルドアップ層55Sとを有する。
[First embodiment]
FIG. 1A is a cross-sectional view of the printed
コア基板30は、第5面Fと第5面Fと反対側の第6面Sとを有するコア材(絶縁基板)20zとコア材20zの第5面上に形成されている第5導体層34Fとコア材20zの第6面S上に形成されている第6導体層34Sと第5導体層34Fと第6導体層34Sとを接続するスルーホール導体36とを有する。コア基板30は、さらに、第5面Fから第6面Sに至る開口31を有する。開口31には、複数の第1電子部品32Pと複数の第2電子部品32Nが収容されている。第1電子部品32Pと第2電子部品32N間のスペースは樹脂53で充填されている。第1電子部品32Pとコア基板30間のスペースは樹脂53で充填されている。第2電子部品32Nとコア基板30間のスペースは樹脂53で充填されている。第1電子部品32Pと第2電子部品32Nは樹脂53によってコア基板30に固定されている。
The
図1(B)に第1電子部品32Pが示される。
第1電子部品32Pは、両端に電極32P1、32P2を有する。例えば、第1電子部品32Pは、第1面F1と第1面F1と反対側の第2面S1とを持つP型の半導体素子321と第1面F1上の第1電極32P1と第2面S1上の第2電極32P2で形成される。P型の半導体素子321は、第1電極32P1と第2電極32P2で挟まれている。
第1電極32P1はコア基板30の第5面Fを向いていて、第2電極32P2はコア基板30の第6面Sを向いている。P型の半導体素子はP型の熱電素子であることが好ましい。
第1電子部品32Pは第1電極32P1が第5面Fを向くように開口31に内蔵される。
FIG. 1B shows a first
The first
The first electrode 32P1 faces the fifth surface F of the
The first
図1(C)に第2電子部品32Nが示される。
第2電子部品32Nは、両端に電極32P3、32P4を有する。例えば、第2電子部品32Nは、第3面F2と第3面F2と反対側の第4面S2とを持つN型の半導体素子322と第3面F2上の第3電極32P3と第4面S2上の第4電極32P4で形成される。N型の半導体素子322は、第3電極32P3と第4電極32P4で挟まれている。
第3電極32P3はコア基板30の第5面Fを向いていて、第4電極32P4はコア基板30の第6面Sを向いている。N型の半導体素子はN型の熱電素子であることが好ましい。第2電子部品32Nは第3電極32P3が第5面Fを向くように開口31に内蔵される。
FIG. 1C shows the second
The second
The third electrode 32P3 faces the fifth surface F of the
第1ビルドアップ層55Fは、コア基板30の第5面Fと第5導体層34F上に形成されている第1樹脂絶縁層50Fと、第1樹脂絶縁層50F上に形成されている第1導体層58Fと、第1導体層58Fと第1樹脂絶縁層50F上に形成されている第3樹脂絶縁層150Fと、第3樹脂絶縁層150F上に形成されている第3導体層158F、とを有する。第1樹脂絶縁層50Fは開口31を覆っている。樹脂53と第1樹脂絶縁層50Fは一体的に形成されている。第1樹脂絶縁層50Fに由来する樹脂が第1電子部品32Pと開口31から露出するコア基板30の側壁との間のスペースを充填している。第1樹脂絶縁層50Fに由来する樹脂が第2電子部品32Nと開口31から露出するコア基板30の側壁との間のスペースを充填している。第1樹脂絶縁層50Fに由来する樹脂が第1電子部品32Pと第2電子部品32Nとの間のスペースを充填している。第1樹脂絶縁層50F由来の成分が樹脂53を形成する。樹脂53は、第1樹脂絶縁層50F由来の樹脂と無機粒子を含むことができる。
The
第1導体層58Fは、開口31の直上に形成されている第1導体回路58FWとコア材20zの直上に形成されているコア材上第1導体回路58FCとを有する。第1導体回路58FWにより、隣接する第1電子部品32Pと第2電子部品32Nが接続される。
The
図8(A)は、第1導体回路58FWを示している平面図である。第1導体回路58FWは、第1電極32P1を覆う第1電極上第1導体回路58FW1と第3電極32P3を覆う第3電極上第1導体回路58FW3と第1電極上第1導体回路58FW1と第3電極上第1導体回路58FW3を繋ぐ第1配線58fWを含む。第1電極上第1導体回路58FW1は第1電極32P1上に位置し、第1電極上第1導体回路58FW1のサイズは第1電極32P1のサイズより大きい。第3電極上第1導体回路58FW3は第3電極32P3上に位置し、第3電極上第1導体回路58FW3のサイズは第3電極32P3のサイズより大きい。第1配線58fWの幅58fWDは第1電極上第1導体回路58FW1の幅58FWD1と等しい。あるいは、第1配線58fWの幅58fWDは第1電極上第1導体回路58FW1の幅58FWD1より小さい。第1配線58fWの幅58fWDは第3電極上第1導体回路58FW3の幅58FWD3と等しい。あるいは、第1配線58fWの幅58fWDは第3電極上第1導体回路58FW3の幅58FWD3より小さい。
第1電極上第1導体回路58FW1内の点線は第1電極用第1ビア導体60F1の頂部の外周を示している。第1電極上第1導体回路58FW1と第1電極32P1は、複数の第1電極用第1ビア導体60F1で接続されている。
第3電極上第1導体回路58FW3内の点線は第3電極用第1ビア導体60F3の頂部の外周を示している。第3電極上第1導体回路58FW3と第3電極32P3は、複数の第3電極用第1ビア導体60F3で接続されている。
1つの第1電極32P1上に1つの第1電極上第1導体回路58FW1が形成されている。1つの第3電極32P3上に1つの第3電極上第1導体回路58FW3が形成されている。
FIG. 8A is a plan view showing the first conductor circuit 58FW. The first conductor circuit 58FW includes a first on-electrode first conductor circuit 58FW1 covering the first electrode 32P1, a third on-electrode first conductor circuit 58FW3 covering the third electrode 32P3, a first on-electrode first conductor circuit 58FW1, The first wiring 58fW that connects the first conductor circuit 58FW3 on the three electrodes is included. The first conductor circuit 58FW1 on the first electrode is located on the first electrode 32P1, and the size of the first conductor circuit 58FW1 on the first electrode is larger than the size of the first electrode 32P1. The first conductor circuit 58FW3 on the third electrode is located on the third electrode 32P3, and the size of the first conductor circuit 58FW3 on the third electrode is larger than the size of the third electrode 32P3. The width 58fWD of the first wiring 58fW is equal to the width 58FWD1 of the first on-electrode first conductor circuit 58FW1. Alternatively, the width 58fWD of the first wiring 58fW is smaller than the width 58FWD1 of the first on-electrode first conductor circuit 58FW1. The width 58fWD of the first wiring 58fW is equal to the width 58FWD3 of the first conductor circuit 58FW3 on the third electrode. Alternatively, the width 58fWD of the first wiring 58fW is smaller than the width 58FWD3 of the first conductive circuit 58FW3 on the third electrode.
A dotted line in the first conductor circuit 58FW1 on the first electrode indicates the outer periphery of the top portion of the first via conductor 60F1 for the first electrode. The first electrode first conductive circuit 58FW1 and the first electrode 32P1 are connected by a plurality of first electrode first via conductors 60F1.
The dotted line in the first conductor circuit 58FW3 on the third electrode indicates the outer periphery of the top of the first via conductor 60F3 for the third electrode. The first conductor circuit 58FW3 on the third electrode and the third electrode 32P3 are connected by a plurality of third electrode first via conductors 60F3.
One first electrode first conductor circuit 58FW1 is formed on one first electrode 32P1. One third electrode first conductor circuit 58FW3 is formed on one third electrode 32P3.
第1ビルドアップ層55Fは、さらに、第1樹脂絶縁層50Fを貫通する第1ビア導体60Fと第3樹脂絶縁層150Fを貫通する第3ビア導体160Fとを有する。第1ビア導体60Fは、第5導体層34Fとコア材上第1導体回路58FCとを接続するビア導体(第5導体層用第1ビア導体)60F5と第1電極32P1と第1電極上第1導体回路58FW1とを接続するビア導体(第1電極用第1ビア導体)60F1と第3電極32P3と第3電極上第1導体回路58FW3とを接続するビア導体(第3電極用第1ビア導体)60F3とを有する。1つの第1電極32P1と1つの第1電極上第1導体回路58FW1を接続する第1電極用第1ビア導体60F1の数は複数である。例えば、1つの第1電極32P1に至る第1電極用第1ビア導体60F1の数は20以上である。放熱の効果を高くすることができる。電子部品32が伸び縮みしても、接続信頼性を高くすることができる。1つの第3電極32P3と1つの第3電極上第1導体回路58FW3を接続する第3電極用第1ビア導体60F3の数は複数である。例えば、1つの第3電極32P3に至る第3電極用第1ビア導体60F3の数は20以上である。放熱の効果を高くすることができる。電子部品32が伸び縮みしても、接続信頼性を高くすることができる。
The
第1樹脂絶縁層50Fは第5面Fと対向するボトム面BFとボトム面BFと反対側のトップ面TFを有する。そして、第5導体層用第1ビア導体60F5と第1電極用第1ビア導体60F1と第3電極用第1ビア導体60F3はトップ面TFの位置でトップ径TDFを有する。第5導体層用第1ビア導体60F5のトップ径TDFと第1電極用第1ビア導体60F1のトップ径TDFと第3電極用第1ビア導体60F3のトップ径TDFは略等しい。トップ径TDFは図1(D)に示されている。
The first
第2ビルドアップ層55Sは、コア基板30の第6面Sと第6導体層34S上に形成されている第2樹脂絶縁層50Sと、第2樹脂絶縁層50S上に形成されている第2導体層58Sと、第2導体層58Sと第2樹脂絶縁層50S上に形成されている第4樹脂絶縁層150Sと、第4樹脂絶縁層150S上に形成されている第4導体層158S、とを有する。
The
第2導体層58Sは、開口31の直上に形成されている第2導体回路58SWとコア材20zの直上に形成されているコア材上第2導体回路58SCとを有する。
第2導体回路58SWにより、隣接する第1電子部品32Pと第2電子部品32Nが接続される。
The
The adjacent first
図8(B)は、第2導体回路58SWを示している平面図である。第2導体回路58SWは、第2電極32P2を覆う第2電極上第2導体回路58SW2と第4電極32P4を覆う第4電極上第2導体回路58SW4と第2電極上第2導体回路58SW2と第4電極上第2導体回路58SW4を繋ぐ第2配線58sWを含む。第2電極上第2導体回路58SW2は第2電極32P2上に位置し、第2電極上第2導体回路58SW2のサイズは第2電極32P2のサイズより大きい。第4電極上第2導体回路58SW4は第4電極32P4上に位置し、第4電極上第2導体回路58SW4のサイズは第4電極32P4のサイズより大きい。第2配線58sWの幅58sWDは第2電極上第2導体回路58SW2の幅58SWD2と等しい。あるいは、第2配線58sWの幅58sWDは第2電極上第2導体回路58SW2の幅58SWD2より小さい。第2配線58sWの幅58sWDは第4電極上第2導体回路58SW4の幅58SWD4と等しい。あるいは、第2配線58sWの幅58sWDは第4電極上第2導体回路58SW4の幅58SWD4より小さい。
第2電極上第2導体回路58SW2内の点線は第2電極用第2ビア導体60S2の頂部の外周を示している。第2電極上第2導体回路58SW2と第2電極32P2は、複数の第2電極用第2ビア導体60S2で接続されている。
第4電極上第2導体回路58SW4内の点線は第4電極用第2ビア導体60S4の頂部の外周を示している。第4電極上第2導体回路58SW4と第4電極32P4は、複数の第4電極用第2ビア導体60S4で接続されている。
1つの第2電極32P2上に1つの第2電極上第2導体回路58SW2が形成されている。1つの第4電極32P4上に1つの第4電極上第2導体回路58SW4が形成されている。
FIG. 8B is a plan view showing the second conductor circuit 58SW. The second conductor circuit 58SW includes a second on-electrode second conductor circuit 58SW2 that covers the second electrode 32P2, a fourth on-electrode second conductor circuit 58SW4 that covers the fourth electrode 32P4, a second on-electrode second conductor circuit 58SW2, and a second electrode circuit. A second wiring 58sW that connects the second conductor circuit 58SW4 on the four electrodes is included. The second conductor circuit 58SW2 on the second electrode is located on the second electrode 32P2, and the size of the second conductor circuit 58SW2 on the second electrode is larger than the size of the second electrode 32P2. The second conductor circuit 58SW4 on the fourth electrode is located on the fourth electrode 32P4, and the size of the second conductor circuit 58SW4 on the fourth electrode is larger than the size of the fourth electrode 32P4. The width 58sWD of the second wiring 58sW is equal to the width 58SWD2 of the second on-electrode second conductor circuit 58SW2. Alternatively, the width 58sWD of the second wiring 58sW is smaller than the width 58SWD2 of the second conductive circuit 58SW2 on the second electrode. The width 58sWD of the second wiring 58sW is equal to the width 58SWD4 of the second conductive circuit 58SW4 on the fourth electrode. Alternatively, the width 58sWD of the second wiring 58sW is smaller than the width 58SWD4 of the second conductive circuit 58SW4 on the fourth electrode.
The dotted line in the second conductor circuit 58SW2 on the second electrode indicates the outer periphery of the top of the second electrode second via conductor 60S2. The second electrode second conductive circuit 58SW2 and the second electrode 32P2 are connected by a plurality of second electrode second via conductors 60S2.
A dotted line in the second conductor circuit 58SW4 on the fourth electrode indicates the outer periphery of the top portion of the second via conductor 60S4 for the fourth electrode. The fourth electrode upper second conductor circuit 58SW4 and the fourth electrode 32P4 are connected by a plurality of fourth electrode second via conductors 60S4.
One second second electrode circuit 58SW2 is formed on one second electrode 32P2. One fourth on-electrode second conductor circuit 58SW4 is formed on one fourth electrode 32P4.
第2ビルドアップ層55Sは、さらに、第2樹脂絶縁層50Sを貫通する第2ビア導体60Sと第4樹脂絶縁層150Sを貫通する第4ビア導体160Sとを有する。第2ビア導体60Sは、第6導体層34Sとコア材上第2導体回路58SCとを接続するビア導体(第6導体層用第2ビア導体)60S6と第2電極32P2と第2電極上第2導体回路58SW2とを接続するビア導体(第2電極用第2ビア導体)60S2と第4電極32P4と第4電極上第2導体回路58SW4とを接続するビア導体(第4電極用第2ビア導体)60S4とを有する。1つの第2電極32P2と1つの第2電極上第2導体回路58SW2を接続する第2電極用第2ビア導体60S2の数は複数である。例えば、1つの第2電極32P2に至る第2電極用第2ビア導体60S2の数は20以上である。放熱の効果を高くすることができる。電子部品32が伸び縮みしても、接続信頼性を高くすることができる。1つの第4電極32P4と1つの第4電極上第2導体回路58SW4を接続する第4電極用第2ビア導体60S4の数は複数である。例えば、1つの第4電極32P4に至る第4電極用第2ビア導体60S4の数は20以上である。放熱の効果を高くすることができる。電子部品32が伸び縮みしても、接続信頼性を高くすることができる。
The
第2樹脂絶縁層50Sは第6面Sと対向するボトム面BSとボトム面BSと反対側のトップ面TSを有する。そして、第6導体層用第2ビア導体60S6と第2電極用第2ビア導体60S2と第4電極用第2ビア導体60S4はトップ面TSの位置でトップ径TDSを有する。第6導体層用第2ビア導体60S6のトップ径TDSと第2電極用第2ビア導体60S2のトップ径TDSと第4電極用第2ビア導体60S4のトップ径TDSは略等しい。トップ径TDSは図1(E)に示されている。
The second
第4導体層158Sと第4樹脂絶縁層150S上に開口71Sを有する第2ソルダーレジスト層70Sを形成することができる。開口71Sから露出する第4導体層158Sは、マザーボード等の配線板と接続するための第2パッド73Sを形成する。
A second solder resist
第3樹脂絶縁層150Fと第3導体層158F上に開口71Fを有する第1ソルダーレジスト層70Fを形成することができる。開口71Fから露出する第3導体層158Fは、電子部品を搭載するための第1パッド73Fを形成する。第1パッド73F上に搭載される電子部品の例は、LEDやパワー半導体であり、駆動時、発熱量が大きい。
A first solder resist
第1電子部品32Pと第2電子部品32Nと第1導体回路58FWと第1電極用第1ビア導体60F1と第3電極用第1ビア導体60F3と第2導体回路58SWと第2電極用第2ビア導体60S2と第4電極用第2ビア導体60S4の接続方法が模式的に図6(B)と図8(A)、図8(B)に示されている。図6(B)は断面図である。これらの図に示されるように、第1電子部品32Pと第2電子部品32Nは、第1導体回路58FWと第1電極用第1ビア導体60F1と第3電極用第1ビア導体60F3と第2導体回路58SWと第2電極用第2ビア導体60S2と第4電極用第2ビア導体60S4を介し、直列に接続されている。第1電子部品32Pと第2電子部品32Nは、交互に接続されている。第1電子部品32Pと第2電子部品32Nは交互に配置されていて、両者は直列に繋げられている。第1電子部品32Pと第2電子部品32N間の第1導体回路58FWでの接続と第1電子部品32Pと第2電子部品32N間の第2導体回路58SWでの接続は交互に繰り返される。
The first
図1(A)に示されるように、第2パッド73Sは、プラス電位を持つ第2パッド(プラスパッド)73SPとマイナス電位を持つ第2パッド(マイナスパッド)73SNを有する。そして、複数の第1電子部品32Pと複数の第2電子部品32Nは、プラスパッド73SPとマイナスパッド73SN間に配置されている。プラスパッド73SPから第1電子部品32Pと第2電子部品32Nを介しマイナスパッド73SNに至る配線(内蔵部品用配線)はプリント配線板10内で独立している。内蔵部品用配線は、第1導体回路58FWと第1電極用第1ビア導体60F1と第3電極用第1ビア導体60F3と第2導体回路58SWと第2電極用第2ビア導体60S2と第4電極用第2ビア導体60S4を含む。内蔵部品用配線は内蔵部品用配線以外のプリント配線板内の導体回路に繋がっていない。プリント配線板10内を伝送するデータが劣化しがたい。開口31を囲んでいるスルーホール導体36Sは内蔵部品用配線に含まれる。例えば、内蔵部品用配線に含まれるスルーホール導体36Sの数は2である。図8(A)の左上の第1導体回路58FWLUは、開口31上の位置からコア材20z上の位置へ延びていて、スルーホール導体36Sに繋がっている。図8(A)の左下の第1導体回路58FWLLは、開口31上の位置からコア材20z上の位置へ延びていて、スルーホール導体36Sに繋がっている。
プラスパッドより低い電位を持つ第2パッドはマイナスパッドに含められる。
As shown in FIG. 1A, the
A second pad having a lower potential than the plus pad is included in the minus pad.
第1電子部品32Pと第2電子部品32Nは、第1ビア導体60Fを介し、第1導体回路58FWに接続されている。そのため、第1電子部品32Pと第2電子部品32Nがコア基板内に内蔵されても、第1導体回路58FWを介し、熱を第1電子部品32Pと第2電子部品32Nに伝えることができる。効率的に熱を第1電子部品32Pと第2電子部品32Nに伝えることができる。プリント配線板に実装される電子部品の温度上昇を抑えることができる。例えば、熱は第1パッド73F上に搭載される電子部品から生じる。断面方向において、コア基板30はプリント配線板の略中心に位置する。断面方向は第5面Fに対し垂直である。
The first
第1電子部品32Pと第2電子部品32Nは、第2ビア導体60Sを介し、第2導体回路58SWに接続されている。そのため、第1電子部品32Pと第2電子部品32Nがコア基板内に内蔵されても、第2導体回路58SWを介し、熱を外部に伝えることができる。効率的に熱を外部に伝えることができる。例えば、熱をマザーボードに伝えることができる。プリント配線板に実装される電子部品の温度上昇を抑えることができる。
The first
コア材20zは、エポキシなどの樹脂とガラスクロス等の補強材で形成されている。コア材20zは、さらに、シリカ等の無機粒子を有しても良い。第1樹脂絶縁層50Fと第2樹脂絶縁層50S、第3樹脂絶縁層150F、第4樹脂絶縁層150Sは、エポキシ等の樹脂とシリカ等の無機粒子で形成されている。第1樹脂絶縁層50Fと第2樹脂絶縁層50S、第3樹脂絶縁層150F、第4樹脂絶縁層150Sは、さらに、ガラスクロス等の補強材を有しても良い。
The
第1実施形態のプリント配線板10では、第1電子部品32Pと第2電子部品32Nに電流を流すことで、第1パッド73Fに実装されている電子部品からの熱を第2パッド73Sを介して配線板に伝えることができる。
In the printed
図2(B)は、コア基板30の開口31に収容されている第1電子部品32Pと第2電子部品32Nの配置を示している。第1電子部品32Pと第2電子部品32Nは交互に配置されている。第1電子部品32Pの隣に第2電子部品32Nが位置している。図2(B)に示されるように、図面上で、第1電子部品32Pの上に位置する電子部品は第2電子部品32Nであり、第1電子部品32Pの下に位置する電子部品は第2電子部品32Nであり、第1電子部品32Pの右に位置する電子部品は第2電子部品32Nであり、第1電子部品32Pの左に位置する電子部品は第2電子部品32Nである。第2電子部品32Nの上に位置する電子部品は第1電子部品32Pであり、第2電子部品32Nの下に位置する電子部品は第1電子部品32Pであり、第2電子部品32Nの右に位置する電子部品は第1電子部品32Pであり、第2電子部品32Nの左に位置する電子部品は第1電子部品32Pである。
1つの開口31内に収容される第1電子部品32Pの数と第2電子部品32Nの数は等しい。
FIG. 2B shows the arrangement of the first
The number of first
1つの開口31に複数の種類の電子部品が内蔵される。電子部品の例が第1電子部品32Pと第2電子部品32Nである。また、各種の電子部品の数は複数である。隣接する電子部品間にコア基板30が存在しない。隣接する電子部品間にコア材20zが存在しない。そのため、電子部品を収容するための開口31の大きさを小さくすることができる。プリント配線板10の大きさを小さくすることができる。第1電子部品32Pの数は10以上であり、第2電子部品32Nの数は10以上である。
A plurality of types of electronic components are built in one
例えば、第1電子部品32Pと第2電子部品32Nの形状は、立方体である。各辺の長さの例は1mmである。
For example, the shape of the first
図2(B)に示されるように隣接する第1電子部品32Pと第2電子部品32Nとの間にスペースseが存在する。スペースseの幅seDは、10μm以上、50μm以下である。スペースseが存在するので、第1電子部品32Pと第2電子部品32N間の干渉を抑えることができる。
図2(B)に示されるようにコア基板30と第1電子部品32Pとの間にスペースswが存在する。コア基板30と第2電子部品32Nとの間にスペースswが存在する。スペースswの幅swDは、15μm以上、50μm以下である。スペースswが存在するので、第1電子部品32Pと第5導体層34F間の干渉を抑えることができる。第2電子部品32Nと第5導体層34F間の干渉を抑えることができる。第1電子部品32Pと第6導体層34S間の干渉を抑えることができる。第2電子部品32Nと第6導体層34S間の干渉を抑えることができる。
As shown in FIG. 2B, a space se exists between the adjacent first
As shown in FIG. 2B, a space sw exists between the
第1実施形態のプリント配線板10によれば、1個の開口31に複数の電子部品(第1電子部品32P、第2電子部品32N)32が収容される。多数の電子部品がプリント配線板10に内蔵されても、プリント配線板10のサイズを小さくすることができる。プリント配線板に複数の電子部品が内蔵されても、小さくて高い冷却効果を有するプリント配線板10を提供することができる。
According to the printed
スペースseとスペースswに第1樹脂絶縁層50F由来の樹脂53が充填される。このため、開口31内に形成されている樹脂53と第1樹脂絶縁層50Fは一体的に形成される。樹脂53と第1樹脂絶縁層50Fとの間に界面が形成されない。そのため、開口31内の電子部品32が熱膨張と熱収縮を繰り返しても樹脂53と第1樹脂絶縁層50Fとの間で剥離が生じない。高い信頼性を有するプリント配線板10を提供することができる。スペースseとスペースswの大きさseD、swDが適切な範囲であるので、スペースse、swに第1樹脂絶縁層50F由来の樹脂53が入り込むことができる。スペースse、swを第1樹脂絶縁層50F由来の樹脂53で充填することができる。
The space se and the space sw are filled with the
第1配線58fWは異種の電子部品のみを接続している。第2配線58sWは異種の電子部品のみを接続している。同種の電子部品間の干渉を抑えることができる。例えば、個々の電子部品が最大の能力を発揮することができる。放熱の効果を高くすることができる。 The first wiring 58fW connects only different types of electronic components. The second wiring 58sW connects only different types of electronic components. Interference between electronic components of the same type can be suppressed. For example, individual electronic components can exert their maximum capabilities. The effect of heat dissipation can be increased.
[第1実施形態の製造方法]
図3〜図5は第1実施形態のプリント配線板の製造方法を示す。
両面銅張り積層板20が用意される(図3(A))。両面銅張り積層板20は、第5面Fと第5面Fと反対側の第6面Sとを有するコア材20zとコア材20zの両面に積層されている銅箔22で形成されている。
[Production Method of First Embodiment]
3-5 shows the manufacturing method of the printed wiring board of 1st Embodiment.
A double-sided copper-clad
両面銅張り積層板20にスルーホール導体用の貫通孔が形成される。スルーホール導体用の貫通孔にスルーホール導体36が形成される。その後、サブトラクティブ法で、コア材20zの第5面F上に第5導体層34Fが形成される。コア材20zの第6面S上に第6導体層34Sが形成される。第5導体層34Fと第6導体層34Sはスルーホール導体36で接続される。回路基板が完成する。第5導体層34FはアライメントマークTMを有する。アライメントマークTMを基準として、回路基板の中央部に回路基板を貫通する開口31が形成される。第5面Fと第5面Fと反対側の第6面Sとを有するコア基板30が完成する(図3(B))。コア基板30は、第5導体層34Fと第6導体層34Sとスルーホール導体36と開口31を有する。コア基板30の第5面Fとコア材20zの第5面Fは同じ面であり、コア基板30の第6面Sとコア材20zの第6面Sは同じ面である。
Through-holes for through-hole conductors are formed in the double-sided copper-clad
コア基板30の第6面S上にテープ18が貼られ、開口31が塞がれる(図3(C))。アライメントマークTMを基準として、まず、開口31から露出するテープ上に第1電子部品32Pが1個ずつ搭載される。この時、図2(A)に示されるように、第1電子部品32Pは、第1電子部品32Pと第2電子部品32Nを搭載するための空間SPが隣り合うように、テープ18上に搭載される(図3(D))。第1電子部品32Pは行と列に配置され、第1電子部品32Pと空間SPが交互に配置される。第1電子部品32Pの搭載が完了する。1つの開口31内に収容される全ての第1電子部品32Pがテープ18上に搭載される。その後、アライメントマークTMを基準として、開口31と第1電子部品32Pから露出するテープ上に第2電子部品が1個ずつ搭載される。この時、図2(B)に示されるように、空間SPに第2電子部品32Nが置かれる。第1電子部品32Pと第2電子部品32Nは隣り合っている。第2電子部品32Nは行と列に配置され、第1電子部品32Pと第2電子部品32Nが交互に配置される(図4(A))。図2(C)に示されるように、第1電子部品32Pと第2電子部品32Nは行と列の交点に配置される。行の数と列の数は同じである。行の数は4以上であり、列の数は4以上である。第1実施形態のプリント配線板の製造方法では、まず、開口31内に全ての第1電子部品32Pが収容される。その後、開口31内に全ての第2電子部品32Nが収容される。このため、2種類の電子部品32P、32Nを正しい位置に収容することができる。同一のアライメントマークTMを基準として、開口31の形成と電子部品32P、32Nの搭載が行われる。このため、開口31と電子部品32P、32N間の位置精度を高くすることができる。第1電子部品32Pと第2電子部品32N間の位置精度を高くすることができる。スペースseの幅seDを所定の範囲(10μm以上、50μm以下)にすることができる。スペースswの幅swDを所定の範囲(15μm以上、50μm以下)にすることができる。
The
第1電子部品32Pと第2電子部品32Nの搭載順序は自由である。
The mounting order of the first
電子部品32P、32Nがテープ18上に搭載されると、未硬化の樹脂絶縁層形成用フィルムがコア基板30の第5面F上に積層される。この時、樹脂絶縁層形成用フィルムは開口31を覆っている。その後、加熱プレスにより、樹脂絶縁層形成用フィルムが軟化する。樹脂絶縁層形成用フィルム由来の無機粒子を含む樹脂で、スペースseとスペースswが充填される(図4(B))。樹脂絶縁層形成用フィルムとスペースseを充填している樹脂とスペースswを充填している樹脂が硬化する。コア基板30と開口31上に第1樹脂絶縁層50Fが形成される。スペースseとスペースswを充填している樹脂53が形成される。第1樹脂絶縁層50Fと樹脂53は一体的に形成されている。
When the
第1樹脂絶縁層50Fは第5面Fと対向するボトム面BFとボトム面BFと反対側のトップ面TFを有する。
The first
コア基板30からテープ18が除去される。コア基板30の第6面Sと開口31上に第2樹脂絶縁層50Sが形成される(図4(C))。
The
第2樹脂絶縁層50Sは第6面Sと対向するボトム面BSとボトム面BSと反対側のトップ面TSを有する。
The second
第1樹脂絶縁層50F上に第1導体層58Fが形成される。同時に、第1樹脂絶縁層50Fを貫通する第1ビア導体60Fが形成される。第1導体層58Fと第1ビア導体60Fはセミアディティブ法で形成される。第1樹脂絶縁層50Fを貫通する第1ビア導体用の開口が形成される。そして、その開口を充填することで、第1ビア導体60Fは形成される。第1ビア導体用の開口は、第1樹脂絶縁層50Fのトップ面TFの位置にトップ径TDFを有する。
第1導体層58Fは、1つの第1電子部品32P上に形成されている第1電極上第1導体回路58FW1と1つの第2電子部品32N上に形成されている第3電極上第1導体回路58FW3を含む。第1電極上第1導体回路58FW1と第3電極上第1導体回路58FW3は複数形成されている。1つの第1配線58fWにより、隣り合う第1電子部品32Pと第2電子部品32Nが接続される。1つの第1配線58fWにより、1つの第1電子部品32Pと1つの第2電子部品32Nが接続される。
第1ビア導体60Fは第1導体層58Fと第5導体層34Fを接続する第5導体層用第1ビア導体60F5と第1電極32P1と第1導体回路58FWとを接続する第1電極用第1ビア導体60F1と第3電極32P3と第1導体回路58FWとを接続する第3電極用第1ビア導体60F3とを有する。第5導体層用第1ビア導体60F5はトップ面TFの位置にトップ径TDFを有する。第1電極用第1ビア導体60F1はトップ面TFの位置にトップ径TDFを有する。第3電極用第1ビア導体60F3はトップ面TFの位置にトップ径TDFを有する。第5導体層用第1ビア導体60F5のトップ径TDFと第1電極用第1ビア導体60F1のトップ径TDFと第3電極用第1ビア導体60F3のトップ径TDFは略等しい。第1電極用第1ビア導体60F1と第3電極用第1ビア導体60F3は、アライメントマークTMを基準として形成されている。
1つの第1電極32P1と第1導体回路58FWは、複数の第1電極用第1ビア導体60F1で接続される。例えば、1つの第1電極32P1と第1導体回路58FWを接続する第1電極用第1ビア導体60F1の数は30以上、40以下である。
1つの第3電極32P3と第1導体回路58FWは、複数の第3電極用第1ビア導体60F3で接続される。例えば、1つの第3電極32P3と第1導体回路58FWを接続する第3電極用第1ビア導体60F3の数は30以上、40以下である。
A first conductor layer (58F) is formed on first resin insulation layer (50F). At the same time, a first via
The
The first via
One first electrode 32P1 and the first conductor circuit 58FW are connected by a plurality of first electrode first via conductors 60F1. For example, the number of first via conductors 60F1 for the first electrode that connects one first electrode 32P1 and the first conductor circuit 58FW is 30 or more and 40 or less.
One third electrode 32P3 and the first conductor circuit 58FW are connected by a plurality of third electrode first via conductors 60F3. For example, the number of first via conductors 60F3 for third electrode connecting one third electrode 32P3 and the first conductor circuit 58FW is 30 or more and 40 or less.
第2樹脂絶縁層50S上に第2導体層58Sが形成される。同時に、第2樹脂絶縁層50Sを貫通する第2ビア導体60Sが形成される。第2導体層58Sと第2ビア導体60Sはセミアディティブ法で形成される。第2樹脂絶縁層50Sを貫通する第2ビア導体用の開口が形成される。そして、その開口を充填することで、第2ビア導体60Sは形成される。第2ビア導体用の開口は、第2樹脂絶縁層50Sのトップ面TSの位置にトップ径TDSを有する。
第2導体層58Sは、1つの第1電子部品32P上に形成されている第2電極上第2導体回路58SW2と1つの第2電子部品32N上に形成されている第4電極上第2導体回路58SW4を含む。第2電極上第2導体回路58SW2と第4電極上第2導体回路58SW4は複数形成されている。1つの第2配線58sWにより、隣り合う第1電子部品32Pと第2電子部品32Nが接続される。1つの第2配線58sWにより、1つの第1電子部品32Pと1つの第2電子部品32Nが接続される。
第2ビア導体60Sは第2導体層58Sと第6導体層34Sを接続する第6導体層用第2ビア導体60S6と第2電極32P2と第2導体回路58SWとを接続する第2電極用第2ビア導体60S2と第4電極32P4と第2導体回路58SWとを接続する第4電極用第2ビア導体60S4とを有する。第6導体層用第2ビア導体60S6はトップ面TSの位置にトップ径TDSを有する。第2電極用第2ビア導体60S2はトップ面TSの位置にトップ径TDSを有する。第4電極用第2ビア導体60S4はトップ面TSの位置にトップ径TDSを有する。第6導体層用第2ビア導体60S6のトップ径TDSと第2電極用第2ビア導体60S2のトップ径TDSと第4電極用第2ビア導体60S4のトップ径TDSは略等しい。
1つの第2電極32P2と第2導体回路58SWは、複数の第2電極用第2ビア導体60S2で接続される。例えば、1つの第2電極32P2と第2導体回路58SWを接続する第2電極用第2ビア導体60S2の数は30以上、40以下である。
1つの第4電極32P4と第2導体回路58SWは、複数の第4電極用第2ビア導体60S4で接続される。例えば、1つの第4電極32P4と第2導体回路58SWを接続する第4電極用第2ビア導体60S4の数は30以上、40以下である(図5(A))。
A
The
The second via
One second electrode 32P2 and the second conductor circuit 58SW are connected by a plurality of second via conductors 60S2 for the second electrode. For example, the number of second via conductors 60S2 for the second electrode connecting one second electrode 32P2 and the second conductor circuit 58SW is 30 or more and 40 or less.
One fourth electrode 32P4 and the second conductor circuit 58SW are connected by a plurality of fourth electrode second via conductors 60S4. For example, the number of the fourth electrode second via conductors 60S4 connecting one fourth electrode 32P4 and the second conductor circuit 58SW is 30 or more and 40 or less (FIG. 5A).
第1導体層58Fと第1樹脂絶縁層50F上に第3樹脂絶縁層150Fが形成される。セミアディティブ法で第3樹脂絶縁層150F上に第3導体層158Fが形成される。同時に、第3樹脂絶縁層150Fを貫通し、第1導体層58Fと第3導体層158Fを接続する第3ビア導体160Fが形成される(図5(B))。例えば、第3導体層158Fと第1導体回路58FWを接続する第3ビア導体160Fは存在しない。
The third
第2導体層58Sと第2樹脂絶縁層50S上に第4樹脂絶縁層150Sが形成される。セミアディティブ法で第4樹脂絶縁層150S上に第4導体層158Sが形成される。同時に、第4樹脂絶縁層150Sを貫通し、第2導体層58Sと第4導体層158Sを接続する第4ビア導体160Sが形成される(図5(B))。例えば、第4導体層158Sと第2導体回路58SWを接続する第4ビア導体160Sは存在しない。
A fourth
第3導体層158Fと第3樹脂絶縁層150F上に第1開口71Fを有する第1ソルダーレジスト層70Fが形成される。第4導体層158Sと第4樹脂絶縁層150S上に第2開口71Sを有する第2ソルダーレジスト層70Sが形成される。プリント配線板10が完成する(図1(A))。第1開口71Fから露出する第3導体層158Fは電子部品を搭載するためのパッドとして機能する。第2開口71Sから露出する第4導体層158Sはマザーボードと接続するためのパッドとして機能する。
A first solder resist layer (70F) having a first opening (71F) is formed on the third conductor layer (158F) and the third resin insulation layer (150F). A second solder resist
[第2実施形態]
図6(A)は第2実施形態のプリント配線板110の断面図である。プリント配線板110は、コア基板30の開口31内に、3種類の電子部品33を収容している。1つの開口31内に収容されている電子部品33の例は、コンデンサ33Cとインダクタ33Lと抵抗33Rである。
[Second Embodiment]
FIG. 6A is a cross-sectional view of the printed
[第2実施形態の製造方法]
図7は第2実施形態のプリント配線板110の製造方法の一部を示す。図7は、開口31を塞いでいるテープ18上に電子部品33を搭載する方法を示している。
第1実施形態と同様に、アライメントマークTMを基準として、まず、開口31内にコンデンサ33C等の第1電子部品が1個ずつテープ18上に搭載される。コンデンサ33C等の第1電子部品の収容が完了する。図7(A)に示されるように全てのコンデンサ33C等の第1電子部品が開口31から露出するテープ18上に搭載される。その後、アライメントマークTMを基準として、インダクタ33L等の第2電子部品が1個ずつテープ18上に搭載される。インダクタ33L等の第2電子部品の収容が完了する。全てのインダクタ33L等の第2電子部品が開口31から露出するテープ18上に搭載される。最後に、アライメントマークTMを基準として、抵抗33R等の第3電子部品が1個ずつテープ18上に搭載される。抵抗33R等の第3電子部品の収容が完了する。全ての抵抗33R等の第3電子部品が開口31から露出するテープ18上に搭載される。3種類の電子部品33が行と列の交点に配列される。
第1実施形態のコア基板30の形成方法と第2実施形態のコア基板30の形成方法は同様である。第1実施形態の第1ビルドアップ層55Fの形成方法と第2実施形態の第1ビルドアップ層55Fの形成方法は同様である。第1実施形態の第2ビルドアップ層55Sの形成方法と第2実施形態の第2ビルドアップ層55Sの形成方法は同様である。第1実施形態の第1ソルダーレジスト層70Fの形成方法と第2実施形態の第1ソルダーレジスト層70Fの形成方法は同様である。第1実施形態の第2ソルダーレジスト層70Sの形成方法と第2実施形態の第2ソルダーレジスト層70Sの形成方法は同様である。
[Manufacturing Method of Second Embodiment]
FIG. 7 shows a part of the manufacturing method of the printed
Similar to the first embodiment, first, the first electronic components such as the
The method for forming the
行は電子部品32を内蔵するための開口31から露出するコア基板の側壁と略平行である。列は電子部品32を内蔵するための開口31から露出するコア基板の側壁と略平行である。
The row is substantially parallel to the side wall of the core substrate exposed from the
第1導体回路58FWは、第2電子部品32Nと図1(A)中のスルーホール導体36S(内蔵部品用配線中のスルーホール導体)とを繋ぐ第1導体回路58FWF1と第1電子部品32Pと図1(A)中のスルーホール導体36S(内蔵部品用配線中のスルーホール導体)を繋ぐ第1導体回路58FWF2を含むことができる。
The first conductor circuit 58FW includes a first conductor circuit 58FWF1 and a first
第2導体回路58SWは、第1電子部品32Pと内蔵部品用配線中のスルーホール導体とを繋ぐ第2導体回路と第2電子部品32Nと内蔵部品用配線中のスルーホール導体36Sを繋ぐ第2導体回路を含むことができる。
The second conductor circuit 58SW is a second conductor circuit connecting the first
図6(C)は1つの行に配置されている2つの第1電子部品32P(32PI、32PII)と2つの第2電子部品32N(32NI、32NII)を示している。図6(C)に示されるように、電子部品は、第1電子部品32PI、第2電子部品32NI、第1電子部品32PII、第2電子部品32NIIの順で並んでいる。第1電子部品32PIの第1面F1の重心と第1電子部品32PIIの第1面F1の重心とを結ぶ直線L2が図6(C)に示されている。第2電子部品32NIの第3面F2の重心と第2電子部品32NIIの第3面F2の重心とを結ぶ直線L1が図6(C)に示されている。直線L1と直線L2は重ならない。直線L1と直線L2との間にギャップが存在する。熱伝導を高くすることができる。
特定の行上に配置されている1つの第1電子部品の第1面の重心と別の第1電子部品の第1面の重心とを結ぶ直線と特定の行上に配置されている1つの第2電子部品の第3面の重心と別の第2電子部品の第3面の重心とを結ぶ直線は重ならない。
FIG. 6C shows two first
A straight line connecting the centroid of the first surface of one first electronic component arranged on a specific row and the centroid of the first surface of another first electronic component and one arranged on the specific row A straight line connecting the center of gravity of the third surface of the second electronic component and the center of gravity of the third surface of another second electronic component does not overlap.
図6(D)は1つの列に配置されている2つの第1電子部品32P(32PI、32PII)と2つの第2電子部品32N(32NI、32NII)を示している。図6(D)に示されるように、電子部品は、第1電子部品32PI、第2電子部品32NI、第1電子部品32PII、第2電子部品32NIIの順で並んでいる。第1電子部品32PIの第1面F1の重心と第1電子部品32PIIの第1面F1の重心とを結ぶ直線L4が図6(D)に示されている。第2電子部品32NIの第3面F2の重心と第2電子部品32NIIの第3面F2の重心とを結ぶ直線L3が図6(D)に示されている。直線L3と直線L4は重ならない。直線L3と直線L4との間にギャップが存在する。熱伝導を高くすることができる。
特定の列上に配置されている1つの第1電子部品の第1面の重心と別の第1電子部品の第1面の重心とを結ぶ直線と特定の列上に配置されている1つの第2電子部品の第3面の重心と別の第2電子部品の第3面の重心とを結ぶ直線は重ならない。
FIG. 6D shows two first
A straight line connecting the centroid of the first surface of one first electronic component arranged on a specific row and the centroid of the first surface of another first electronic component and one arranged on the specific row A straight line connecting the center of gravity of the third surface of the second electronic component and the center of gravity of the third surface of another second electronic component does not overlap.
実施形態によれば、プリント配線板上に搭載される電子部品の温度を所定範囲内に制御することができる。 According to the embodiment, the temperature of the electronic component mounted on the printed wiring board can be controlled within a predetermined range.
30 コア基板
31 開口
32P 第1電子部品
32N 第2電子部品
34F 第5導体層
50F 第1樹脂絶縁層
60F 第1ビア導体
60S 第2ビア導体
60F5 第5導体層用第1ビア導体
60F1 第1電極用第1ビア導体
60F3 第3電極用第1ビア導体
60S6 第6導体層用第2ビア導体
60S2 第2電極用第2ビア導体
60S4 第4電極用第2ビア導体
se、sw スペース
30
Claims (7)
前記開口に収容されている複数の前記第1電子部品と、
前記開口に収容されている複数の前記第2電子部品と、
前記開口内に形成されていて、複数の前記第1電子部品と複数の前記第2電子部品を前記コア基板に固定するための樹脂と、
前記第5面と前記開口上に形成さている第1樹脂絶縁層を含む第1ビルドアップ層と、
前記第6面と前記開口上に形成さている第2樹脂絶縁層を含む第2ビルドアップ層、とを有するプリント配線板であって、
前記樹脂は前記第1樹脂絶縁層に由来していて、前記第1電子部品と前記第2電子部品との間のスペースの大きさは、10μm以上、50μm以下であって、前記開口から露出する前記コア基板の側壁と前記側壁に面する前記第1電子部品との間のスペースの大きさは、15μm以上、50μm以下であって、前記開口から露出する前記コア基板の側壁と前記側壁に面する前記第2電子部品との間のスペースの大きさは、15μm以上〜50μm以下である。 A core member having a fifth surface and a sixth surface opposite to the fifth surface; and a plurality of first electronic components and openings for receiving the plurality of second electronic components through the core material. A core substrate;
A plurality of the first electronic components housed in the opening;
A plurality of the second electronic components housed in the opening;
A resin formed in the opening for fixing the plurality of first electronic components and the plurality of second electronic components to the core substrate;
A first buildup layer including a first resin insulating layer formed on the fifth surface and the opening;
A printed wiring board having the sixth surface and a second buildup layer including a second resin insulation layer formed on the opening,
The resin is derived from the first resin insulating layer, and the size of the space between the first electronic component and the second electronic component is 10 μm or more and 50 μm or less, and is exposed from the opening. The size of the space between the side wall of the core substrate and the first electronic component facing the side wall is 15 μm or more and 50 μm or less, and the side wall of the core substrate exposed from the opening and the surface facing the side wall The size of the space between the second electronic component is 15 μm or more and 50 μm or less.
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