JP2019192680A - Method for manufacturing rigid multilayer printed wiring board - Google Patents

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Abstract

To provide a method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board, capable of eliminating a process for forming a gap portion in a layer that serves as a core, and capable of easily adjusting the film thickness of a rigid multilayer wiring board that is produced by adjusting a stacking position of each of layer constitution materials during a process for stacking the layer constitution materials and also capable of easily adjusting a layer exposed to the outside.SOLUTION: A method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board includes: a resin dam layer formation step of forming one or more resin dam layers made of a resin composition on at least one of an upper face and a lower face of at least one or more conductor layers and at least one selected from an intermediate material, a resin material and a cured product thereof; and a stacking step of stacking a conductor layer and at least one selected from an intermediate material, a resin material and a cured product thereof where the resin dam layer is formed and one or more other conductor layers and at least one selected from an intermediate material, a resin material and a cured product thereof.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、リジッド多層プリント配線板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board.

近年の電子制御装置の性能向上に伴い、これに用いられる電子回路実装基板に実装される電子部品の数は増加傾向にある。しかし一方で、電子制御装置の小型化も進んでおり、電子制御装置内部の空間は減少傾向にある。
そのため、電子回路実装基板においても、電子部品の高密度実装化と併せ、これが組み込まれる電子制御装置内スペースの効率的な活用が課題の1つとなっている。
With the recent improvement in performance of electronic control devices, the number of electronic components mounted on an electronic circuit mounting board used for this has been increasing. On the other hand, however, the electronic control device is becoming smaller and the space inside the electronic control device is decreasing.
Therefore, also in the electronic circuit mounting substrate, along with the high density mounting of electronic components, efficient utilization of the space in the electronic control device in which the electronic components are incorporated is one of the problems.

上記課題を解決する方法として、フレキシブルプリント配線板やフレキシブルリジッドプリント配線板を用いてこれに電子部品を実装し、屈曲した状態で当該基板を電子制御装置に組み込む方法が広く用いられている(特許文献1参照)。
しかしフレキシブルプリント配線板は可撓性が高い一方で耐熱性や耐久性が低いものが多く、また特殊な性能を有する樹脂ではフレキシブルプリント配線板化が難しいものもある。
またフレキシブルリジッドプリント配線板の場合、フレキシブル部の素材とリジッド部の素材とが異なる場合には熱膨張係数の差により破損が生じ易くなる虞がある。また上述の通り、特殊な性能を有する樹脂ではフレキシブル部の素材として利用できない虞があるため、可撓性が高く且つ所望の特性を有する基板を作製することは難しい。
As a method for solving the above problems, a method is widely used in which an electronic component is mounted on a flexible printed wiring board or a flexible rigid printed wiring board, and the board is incorporated into an electronic control device in a bent state (patents). Reference 1).
However, many flexible printed wiring boards have high flexibility but low heat resistance and durability, and some resins having special performance are difficult to be made into flexible printed wiring boards.
Further, in the case of a flexible rigid printed wiring board, if the material of the flexible portion and the material of the rigid portion are different, there is a possibility that damage is likely to occur due to a difference in thermal expansion coefficient. Further, as described above, since a resin having special performance may not be used as a material for the flexible portion, it is difficult to produce a substrate having high flexibility and desired characteristics.

そこでリジッドプリント配線板(多層板)の一部の厚みを薄くして当該部分に可撓性(所謂、屈曲性)を持たせた屈曲式リジットプリント配線板の製造方法が提案されている(特許文献2参照)。   Therefore, a method for manufacturing a bent type rigid printed wiring board has been proposed in which a part of the rigid printed wiring board (multilayer board) is thinned and the part has flexibility (so-called flexibility) (patent) Reference 2).

特開2015−8315号公報Japanese Patent Laying-Open No. 2015-8315 国際公開第2007/013595号公報International Publication No. 2007/013595

特許文献2においては、硬質のコア材に間隙部分を設け、当該コア材の表面に間隙部分を含め耐熱性樹脂層を積層し、裏面に間隙部分を除いて耐熱性樹脂層を積層する方法や、上記間隙部分に耐熱性樹脂材を埋没し、上記コア材の両面に耐熱性樹脂層を積層してこれに回路(導体層)を形成した後、上記間隙部分に埋設させた耐熱性樹脂材を対応する耐熱性樹脂層及び導体層と共に除去する方法が開示されている。
このような方法の場合、前提としてコア材に間隙部分を形成する工程が必要となる。またコア材の間隙部分に埋没した耐熱性樹脂材の素材として特許文献2の段落[0016]でテフロン(登録商標)シート、シリコンゴム等を列挙しているが、これらはいずれもコア材等とは接着し難い(離型性の高い)樹脂である。そのため、耐熱性樹脂材の厚み、大きさ及び幅等によっては、例えば積層された耐熱性樹脂層の熱圧着時において、耐熱性樹脂層から溶出した耐熱性樹脂が間隙部分のうちコア材と耐熱性樹脂材との隙間に入り込み易く、耐熱性樹脂材の除去において手間がかかる虞がある。またこの場合、コア材と耐熱性樹脂材との隙間に入り込んだ前記耐熱性樹脂が設計上望ましくない部分に付着して硬化する可能性があり、耐熱性樹脂材の除去時に併せて不要な硬化物を除去して耐熱性樹脂層の表面を平滑にしなければならない虞がある。
In Patent Document 2, there is a method in which a gap portion is provided in a hard core material, a heat resistant resin layer including the gap portion is laminated on the surface of the core material, and a heat resistant resin layer is laminated on the back surface except for the gap portion. The heat resistant resin material is embedded in the gap portion after the heat resistant resin material is buried in the gap portion, the heat resistant resin layer is laminated on both sides of the core material, and a circuit (conductor layer) is formed thereon. Is disclosed together with the corresponding heat-resistant resin layer and conductor layer.
In the case of such a method, a step of forming a gap portion in the core material is necessary as a premise. In addition, Teflon (registered trademark) sheets, silicon rubber, and the like are listed in paragraph [0016] of Patent Document 2 as materials of the heat-resistant resin material buried in the gap portion of the core material. Is a resin that is difficult to bond (highly releasable). Therefore, depending on the thickness, size, width, etc. of the heat-resistant resin material, for example, when the laminated heat-resistant resin layer is thermocompression bonded, the heat-resistant resin eluted from the heat-resistant resin layer is in contact with the core material in the gap portion. It is easy to enter the gap with the heat-resistant resin material, and there is a possibility that it takes time to remove the heat-resistant resin material. Also, in this case, the heat-resistant resin that has entered the gap between the core material and the heat-resistant resin material may adhere to an undesired part of the design and harden. There is a possibility that the surface of the heat-resistant resin layer must be smoothed by removing objects.

また耐熱性樹脂材の除去において間隙部分に切込みを入れて耐熱性樹脂材を除去する方法を用いる場合、耐熱性樹脂材の厚みに合わせて間隙部分に切込みを入れる必要があり、高い加工精度が要求される。
即ち、例えば特許文献2の段落[0016]で例示しているような厚みが0.4mmの耐熱性樹脂材を用いる場合、仮にコア材の裏面に積層された厚み0.1mmの耐熱性樹脂層と厚み200μm〜600μmの銅層(同段落[0017]参照)を併せても切込みを入れる深さ(銅層の裏面から耐熱性樹脂材の表面までの厚み)は0.6mm弱と非常に浅い。そのため、耐熱性樹脂材の除去において、屈曲式リジットプリント配線板を構成する他の層構成材に傷等つけることなく切込みを入れるためには非常に高い加工精度が要求される。
このように、上記方法では耐熱性樹脂材を取り出す際に屈曲式リジットプリント配線板に形成された回路や他の箇所を毀損・破損する虞があり、また除去時に発生した塵やゴミ等が屈曲式リジッドプリント配線板上に異物として残る虞がある。
In addition, when removing heat-resistant resin material, when using the method of making a cut in the gap portion to remove the heat-resistant resin material, it is necessary to make a cut in the gap portion according to the thickness of the heat-resistant resin material. Required.
That is, for example, when using a heat-resistant resin material having a thickness of 0.4 mm as exemplified in paragraph [0016] of Patent Document 2, a heat-resistant resin layer having a thickness of 0.1 mm laminated on the back surface of the core material. And the depth of cutting (thickness from the back surface of the copper layer to the surface of the heat-resistant resin material) is very shallow at less than 0.6 mm even when a copper layer having a thickness of 200 μm to 600 μm (see the same paragraph [0017]) is combined. . Therefore, in removing the heat-resistant resin material, a very high processing accuracy is required in order to make a cut without damaging other layer constituent materials constituting the bent rigid printed wiring board.
As described above, in the above method, there is a possibility that the circuit formed on the bending type rigid printed wiring board and other parts may be damaged or damaged when the heat-resistant resin material is taken out, and dust or dust generated at the time of removal is bent. There is a risk of remaining as foreign matter on the rigid-type printed wiring board.

ここで、シリコンゴムのような非結晶素材からなる耐熱性樹脂材は、耐熱性樹脂層等の熱圧着時において形状変化し易い性質を有する。そのため非結晶性素材からなる耐熱性樹脂材を用いる場合、熱圧着時に耐熱性樹脂層から溶出した耐熱性樹脂はコア材と耐熱性樹脂材との隙間に更に入り込み易く、耐熱性樹脂材の除去時に屈曲部の位置、形状、厚み等を所望のものとするために手間を要する虞がある。   Here, a heat-resistant resin material made of an amorphous material such as silicon rubber has a property of easily changing its shape during thermocompression bonding of a heat-resistant resin layer or the like. Therefore, when using a heat-resistant resin material made of an amorphous material, the heat-resistant resin eluted from the heat-resistant resin layer during thermocompression can easily enter the gap between the core material and the heat-resistant resin material, and the heat-resistant resin material is removed. Sometimes it may take time to make the position, shape, thickness, etc. of the bent part desired.

またテフロン(フッ素樹脂)のような結晶性素材からなる耐熱性樹脂材は、耐熱性樹脂層等の熱圧着時において形状変化はし難いものの、例えばコア材の裏面には間隙部分を除いて耐熱性樹脂層を積層する場合、圧着時に溶出した樹脂が耐熱性樹脂材の裏面にまで及ぶ虞がある。また特にコア材と耐熱性樹脂材との厚みが異なる場合において、溶出した樹脂のコントロール(制御)が難しくなる。   In addition, heat-resistant resin materials made of crystalline materials such as Teflon (fluorine resin) are unlikely to change shape when heat-bonding heat-resistant resin layers, etc. When laminating the heat-resistant resin layer, there is a possibility that the resin eluted during the pressure bonding may reach the back surface of the heat-resistant resin material. In particular, when the core material and the heat-resistant resin material have different thicknesses, it becomes difficult to control the eluted resin.

なお特許文献1においては、フレキシブル部とリジッド部とを設け、リジッド部の一部に空間部を設けてこれに電子部品を接続し且つこれを密閉する方法が開示されており、電子部品とリジット部とを接続する層とフレキシブル部とが接続しないよう、リジッド部のうち空間部を形成する位置に接着防止材による層を形成してリジッド部を構成する層を積層し、その後空間部を形成するリジッド部の一部と上記接着防止材層とを除去することで空間を形成しているものであり、リジッド部を薄膜化してこれに可撓性を持たせることを目的としていない。またこの方法は、リジッド部の一部を除去し、更に接着防止材層を除去しなければならないために手間がかかる。更にはリジッド部に形成される接着防止材による層は洗浄成分を用いて除去されるため、洗浄しきれずリジッド部に残留した成分がイオン化することにより、基板の信頼性を低下させる虞がある。   Patent Document 1 discloses a method in which a flexible part and a rigid part are provided, a space part is provided in a part of the rigid part, an electronic component is connected thereto, and the electronic component is sealed. In order to prevent the flexible part from being connected to the layer connecting the part, a layer made of an anti-adhesive material is laminated at the position where the space part is formed in the rigid part, and then the layer constituting the rigid part is laminated, and then the space part is formed The space is formed by removing a part of the rigid portion and the adhesion preventing material layer, and it is not intended to make the rigid portion thin and to have flexibility. In addition, this method requires time and effort because it is necessary to remove a part of the rigid portion and further remove the adhesion preventing material layer. Furthermore, since the layer made of the adhesion preventing material formed on the rigid portion is removed by using the cleaning component, the component remaining in the rigid portion without being cleaned may be ionized to reduce the reliability of the substrate.

本発明は上記課題を解決するものであり、作製されるリジッド多層プリント配線板のコアとなる層構成材に間隙部分を形成する工程が不要であり、またリジッド多層プリント配線板の製造に用いる層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置を調整することにより作製されるリジッド多層プリント配線板の膜厚を容易に調整し、また外部に露出する層を容易に調整し得るリジッド多層プリント配線板の製造方法を提供することをその目的とする。   The present invention solves the above-described problems, and does not require a step of forming a gap portion in a layer constituting material that becomes a core of a rigid multilayer printed wiring board to be produced, and is a layer used for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board. Rigid multilayer printed wiring that can easily adjust the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board produced by adjusting the stacking position of each layer constituent material in the process of stacking the constituent materials, and can easily adjust the layer exposed to the outside It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a plate.

上記目的を達成するために、本発明に係るリジッド多層プリント配線板の製造方法は、以下の構成を有する。   In order to achieve the above object, a method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board according to the present invention has the following configuration.

(1)本発明は、上面部及び下面部の少なくとも一方に1つ以上の樹脂ダム層を備える層と他の層とがそれぞれ1つ以上積層されてなるリジッド多層プリント配線板であって、前記樹脂ダム層を備える層及び他の層はそれぞれ導体層及び非導体層の少なくとも一方からなり、前記非導体層は中間材及び樹脂材の少なくとも一方の硬化物から構成され、前記樹脂ダム層の少なくとも1つの一方側面部の一部または全部は、リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部の一部または全部を構成し、当該樹脂ダム層を備える層の当該樹脂ダム層と接する面若しくは当該面側に積層され且つ当該樹脂ダム層と接する他の層の最外面と前記リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部とはL字型または逆L字型となるよう構成されることにより、一部の膜厚が他の部分の膜厚と異なるように構成されるリジッド多層プリント配線板の製造方法であって、1つ以上の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの上面部及び下面部の少なくとも一方に樹脂組成物からなる樹脂ダム層を1つ以上形成する樹脂ダム層形成工程と、前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと1つ以上の他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかを積み重ねる積重工程とを含み、前記積重工程において、前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかは、前記樹脂ダム層の少なくとも1つの一方側面部の一部または全部がリジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部の一部または全部を構成するように、且つ当該樹脂ダム層を備える導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの当該樹脂ダム層と接する面若しくは当該面側に積み重ねられて当該樹脂ダム層と接する他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの最外面と前記リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部とがL字型または逆L字型となるように積み重ねられ、前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかは、リジッド多層プリント配線板の製造工程のいずれかにおいて加熱により積層状態となることをその特徴とする。 (1) The present invention is a rigid multilayer printed wiring board in which one or more layers each having one or more resin dam layers and at least one other layer are laminated on at least one of an upper surface portion and a lower surface portion, The layer including the resin dam layer and the other layer are each composed of at least one of a conductor layer and a non-conductor layer, and the non-conductor layer is composed of a cured product of at least one of an intermediate material and a resin material. A part or all of one side surface part constitutes part or all of any side surface part of the rigid multilayer printed wiring board, and a surface in contact with the resin dam layer of the layer including the resin dam layer or the surface The outermost surface of the other layer that is laminated on the side and in contact with the resin dam layer and any side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board are configured to be L-shaped or inverted L-shaped. A method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board configured such that a part of the film thickness is different from that of the other part, and is selected from one or more conductor layers, an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof. A resin dam layer forming step of forming at least one resin dam layer made of a resin composition on at least one of the upper surface portion and the lower surface portion, and a conductor layer, an intermediate material, and a resin formed with the resin dam layer A stacking step of stacking at least one selected from a material and a cured product thereof, one or more other conductor layers, and at least one selected from an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof, and the stacking step And at least one selected from the conductor layer, the intermediate material, the resin material, and a cured product thereof, and the other conductor layer, the intermediate material, the resin material, and the resin dam layer. At least one selected from these cured products is such that a part or all of at least one side surface of the resin dam layer constitutes part or all of any side surface of the rigid multilayer printed wiring board. In addition, a conductor layer provided with the resin dam layer, an intermediate material, a resin material, and at least one selected from these cured products, a surface in contact with the resin dam layer, or stacked on the surface side and in contact with the resin dam layer The outermost surface selected from the conductor layer and the intermediate material, the resin material, and a cured product thereof, and any one of the side surfaces of the rigid multilayer printed wiring board are L-shaped or inverted L-shaped. At least one selected from a conductor layer and an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof, which are stacked and the resin dam layer is formed, and the other conductor At least one selected from a layer, an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof is characterized by being in a laminated state by heating in any of the manufacturing processes of a rigid multilayer printed wiring board.

(2)本発明は、上面部及び下面部の少なくとも一方に1つ以上の樹脂ダム層を備える層と他の層とがそれぞれ1つ以上積層されてなるリジッド多層プリント配線板であって、前記樹脂ダム層を備える層及び他の層はそれぞれ導体層及び非導体層の少なくとも一方からなり、前記非導体層が中間材及び樹脂材の少なくとも一方の硬化物から構成され、前記樹脂ダム層の少なくとも1つの一方側面部の一部または全部は、リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部の一部または全部を構成し、当該樹脂ダム層を備える層の当該樹脂ダム層と接する面若しくは当該面側に積層され且つ当該樹脂ダム層と接する他の層の最外面と前記リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部とはL字型または逆L字型となるよう構成されることにより、一部の膜厚が他の部分の膜厚と異なるように構成されるリジッド多層プリント配線板の製造方法であって、1つ以上の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの上面部及び下面部の少なくとも一方に樹脂組成物からなる樹脂ダム層を1つ以上形成する樹脂ダム層形成工程と、前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと1つ以上の他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかを積み重ねる積重工程と、前記樹脂ダム層の少なくとも1つの一方側面部の一部または全部がリジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部の一部または全部を構成するように、且つ当該樹脂ダム層を備える導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの当該樹脂ダム層と接する面若しくは当該面側に積み重ねられて当該樹脂ダム層と接する他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの最外面と前記リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部とがL字型または逆L字型となるように、当該樹脂ダム層よりも外層側に積み重ねられる前記他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの一部を除去する除去工程を含み、前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかは、リジッド多層プリント配線板の製造工程のいずれかの工程において加熱により積層状態となることをその特徴とする。 (2) The present invention is a rigid multilayer printed wiring board in which one or more layers each having one or more resin dam layers and at least one other layer are laminated on at least one of an upper surface portion and a lower surface portion, The layer including the resin dam layer and the other layer are each composed of at least one of a conductor layer and a non-conductor layer, and the non-conductor layer is composed of a cured product of at least one of an intermediate material and a resin material. A part or all of one side surface part constitutes part or all of any side surface part of the rigid multilayer printed wiring board, and a surface in contact with the resin dam layer of the layer including the resin dam layer or the surface The outermost surface of the other layer that is laminated on the side and in contact with the resin dam layer and any side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board are configured to be L-shaped or inverted L-shaped. A method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board configured such that a part of the film thickness is different from that of the other part, and is selected from one or more conductor layers, an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof. A resin dam layer forming step of forming at least one resin dam layer made of a resin composition on at least one of the upper surface portion and the lower surface portion, and a conductor layer, an intermediate material, and a resin formed with the resin dam layer A stacking step of stacking at least one selected from materials and at least one selected from these cured products and at least one selected from one or more other conductor layers and intermediate materials, resin materials and these cured products, and at least the resin dam layer A part of or all of one side surface part of the rigid multilayer printed wiring board constitutes part or all of one side surface part of the rigid multi-layer printed wiring board and includes the resin dam layer. Layers, intermediate materials, resin materials, and other conductive layers that are in contact with the resin dam layer stacked on the surface side or the surface side in contact with the resin dam layer selected from these cured products and intermediate materials, resin materials And at least one of the outermost surfaces selected from these cured products and the side surface of any of the rigid multilayer printed wiring boards are L-shaped or reverse L-shaped so that the outer layer side of the resin dam layer. Including a removal step of removing at least a part selected from the other conductor layer and the intermediate material, the resin material, and a cured product thereof, and the conductor layer and the intermediate material on which the resin dam layer is formed, At least one selected from a resin material and a cured product thereof, and at least one selected from the other conductor layer and the intermediate material, a resin material, and a cured product thereof. It is characterized in that it is brought into a laminated state by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board.

(3)上記(1)または(2)に記載の製造方法にあって、前記樹脂ダム層は、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、ディスペンサー印刷及びオフセット印刷のうち少なくともいずれかの方法により前記樹脂組成物を前記導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物のうち少なくともいずれかの上面部及び下面部の少なくとも一方に印刷することにより形成され、当該樹脂ダム層はリジッド多層プリント配線板の製造工程のいずれかにおいて紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となることをその特徴とする。 (3) In the manufacturing method according to the above (1) or (2), the resin dam layer is at least one of screen printing, flexographic printing, gravure printing, inkjet printing, dispenser printing, and offset printing. The resin composition is formed by printing on at least one of the upper surface portion and the lower surface portion of at least one of the conductor layer, the intermediate material, the resin material, and a cured product thereof, and the resin dam layer is a rigid multilayer print. It is characterized in that it is cured by at least one of ultraviolet curing and thermal curing in any of the manufacturing processes of the wiring board.

(4)上記(1)から(3)のいずれか1に記載の製造方法にあって、前記樹脂組成物は、紫外線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂、紫外線硬化性・熱硬化性樹脂の少なくともいずれかを含むことをその特徴とする。 (4) In the manufacturing method according to any one of (1) to (3), the resin composition includes at least an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, and an ultraviolet curable / thermosetting resin. It is characterized by including either.

(5)本発明は、上記(1)から(4)のいずれか1に記載のリジッド多層プリント配線板の製造方法にあり、前記他の中間材の硬化物からなる非導体層と前記樹脂ダム層とがその一部または全部において同一平面上に存し、当該樹脂ダム層と当該他の中間材の硬化物からなる非導体層とがその一部または全部において当該他の中間材由来の樹脂硬化物を介して隣接するよう構成されるリジッド多層プリント配線板の製造方法であって、前記積重工程において前記樹脂ダム層と前記他の中間材との間に間隙部が設けられるように前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の中間材とが積み重ねられることをその特徴とする。 (5) The present invention resides in the method for producing a rigid multilayer printed wiring board according to any one of (1) to (4) above, wherein the non-conductive layer made of a cured product of the other intermediate material and the resin dam The resin dam layer and the non-conductive layer made of a cured product of the other intermediate material are partially or entirely resin derived from the other intermediate material. A method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board configured to be adjacent via a cured product, wherein the gap is provided between the resin dam layer and the other intermediate material in the stacking step. The conductive layer in which the resin dam layer is formed and at least one selected from an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof and the other intermediate material are stacked.

(6)本発明は、上記(1)から(5)のいずれか1に記載のリジッド多層プリント配線板の製造方法にあり、その一部または全部において同一平面上に存し且つ前記他の中間材由来の樹脂硬化物を介して隣接する前記他の中間材の硬化物からなる非導体層と前記樹脂ダム層とが複数存在するリジッド多層プリント配線板の製造方法であって、前記積重工程において前記樹脂ダム層と前記他の中間材との間に間隙部が設けられるように前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の中間材とが積み重ねられることをその特徴とする。 (6) The present invention resides in the method for producing a rigid multilayer printed wiring board according to any one of (1) to (5) above, wherein a part or all of the method exists on the same plane and the other intermediate A method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board in which a plurality of non-conductive layers and cured resin dam layers, which are adjacent to each other through a cured resin derived from a material, are present, the stacking step And at least one selected from a conductor layer, an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof, in which the resin dam layer is formed so that a gap is provided between the resin dam layer and the other intermediate material. It is characterized by being stacked with other intermediate materials.

(7)本発明は、上記(1)から(6)のいずれか1に記載のリジッド多層プリント配線板の製造方法にあって、当該リジッド多層プリント配線板の製造工程のいずれかの工程において、積み重ねられる前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれか若しくはこれらが積層状態となったものにビアホールを形成する工程を含むことをその特徴とする。 (7) The present invention is the method for producing a rigid multilayer printed wiring board according to any one of (1) to (6) above, and in any of the steps of producing the rigid multilayer printed wiring board, At least one selected from the conductor layer and the intermediate material, the resin material, and a cured product thereof, and the other conductor layer, the intermediate material, the resin material, and the cured product thereof, which are formed on the resin dam layer to be stacked. Alternatively, the method includes a step of forming a via hole in the stacked state.

本発明のリジッド多層プリント配線板の製造方法は、作製されるリジッド多層プリント配線板のコアとなる層構成材に間隙部分を形成する工程が不要であり、またリジッド多層プリント配線板の製造に用いる層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置を調整することにより作製されるリジッド多層プリント配線板の膜厚を容易に調整し、また外部に露出する層を容易に調整し得る。   The method for producing a rigid multilayer printed wiring board according to the present invention does not require a step of forming a gap portion in a layer constituting material that is a core of the produced rigid multilayer printed wiring board, and is used for producing a rigid multilayer printed wiring board. In the step of stacking the layer constituent materials, the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board produced by adjusting the stacking position of each layer constituent material can be easily adjusted, and the layer exposed to the outside can be easily adjusted.

本発明の第1の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the 1st Embodiment of this invention. 同実施形態の変形例におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法である。It is a manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the modification of the embodiment. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の概略上面図である。It is a schematic top view of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 同実施形態における樹脂ダム層の形成方法の変形例を表わす概略上面図である。It is a schematic top view showing the modification of the formation method of the resin dam layer in the embodiment. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板を屈曲させた状態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the state which bent the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 本発明の第2の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the 2nd Embodiment of this invention. 本発明の第3の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the 3rd Embodiment of this invention. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板を屈曲させた状態の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the state which bent the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 同実施形態の変形例におけるリジッド多層プリント配線板の概略断面図である。It is a schematic sectional drawing of the rigid multilayer printed wiring board in the modification of the embodiment. 本発明の第4の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する概略断面図である。It is a schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the 4th Embodiment of this invention. 本発明の第5の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第1概略断面図である。It is a 1st schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the 5th Embodiment of this invention. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第2概略断面図である。It is a 2nd schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 本発明の第6の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の概略上面図及び概略断面図である。It is the schematic top view and schematic sectional drawing of the rigid multilayer printed wiring board in the 6th Embodiment of this invention. 本発明の第7の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第1概略断面図である。It is a 1st schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the 7th Embodiment of this invention. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第2概略断面図である。It is a 2nd schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第3概略断面図である。It is a 3rd schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第4概略断面図である。It is a 4th schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 本発明の第8の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第1概略断面図である。It is a 1st schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the 8th Embodiment of this invention. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第2概略断面図である。It is a 2nd schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第3概略断面図である。It is a 3rd schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 本発明の第9の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第1概略断面図である。It is a 1st schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the 9th Embodiment of this invention. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第2概略断面図である。It is a 2nd schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第3概略断面図である。It is a 3rd schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 本発明の第10の実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第1概略断面図である。It is a 1st schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the 10th Embodiment of this invention. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第2概略断面図である。It is a 2nd schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment. 同実施形態におけるリジッド多層プリント配線板の製造方法を説明する第3概略断面図である。It is a 3rd schematic sectional drawing explaining the manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board in the same embodiment.

以下、本発明のリジッド多層プリント配線板の製造方法の一実施形態について詳細に説明する。なお、本発明が以下の実施形態に限定されるものではないことはもとよりである。   Hereinafter, an embodiment of a method for producing a rigid multilayer printed wiring board according to the present invention will be described in detail. Of course, the present invention is not limited to the following embodiments.

<第1の実施形態>
第1の実施形態について、図1を参照して説明する。
先ずコア材111の上面部111aに導体層132を、下面部111bに導体層131をそれぞれ積み重ねて積層状態(接着状態)とする(図1(a)参照)。
<First Embodiment>
A first embodiment will be described with reference to FIG.
First, the conductor layer 132 is stacked on the upper surface portion 111a of the core material 111 and the conductor layer 131 is stacked on the lower surface portion 111b to form a laminated state (adhered state) (see FIG. 1A).

コア材111は、例えば樹脂材、中間材を熱硬化することにより作製される。コア材111の膜厚は、10μm以上6mm以下であることが望ましい。
本明細書において「層構成材」とは、導体層、非導体層を形成する中間材、樹脂材及びこれらの硬化物をいう。
「樹脂材」とは、エポキシ樹脂等の樹脂を含む接着性樹脂組成物、硬化性樹脂組成物及び絶縁樹脂組成物等の樹脂組成物を他の層構成材に塗布乾燥することにより形成される層、並びにドライフィルム及びボンディングシート等を構成する接着性樹脂組成物、硬化性樹脂組成物及び絶縁樹脂組成物等からなる層のような樹脂組成物からなるシート状の材料をいう。
また本明細書において「中間材」とは、プリプレグのようなエポキシ樹脂等の樹脂を含む接着性樹脂組成物、硬化性樹脂組成物及び絶縁樹脂組成物等の樹脂組成物を含侵させたシートをいう。
The core material 111 is produced, for example, by thermosetting a resin material or an intermediate material. The film thickness of the core material 111 is desirably 10 μm or more and 6 mm or less.
In this specification, the “layer constituent material” refers to an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof, which form a conductor layer and a non-conductor layer.
The “resin material” is formed by applying and drying a resin composition such as an adhesive resin composition containing a resin such as an epoxy resin, a curable resin composition, and an insulating resin composition on another layer constituent material. It refers to a sheet-like material made of a resin composition such as a layer and a layer made of an adhesive resin composition, a curable resin composition, an insulating resin composition, and the like constituting a dry film and a bonding sheet.
Further, in the present specification, the “intermediate material” means a sheet impregnated with a resin composition such as an adhesive resin composition containing a resin such as an epoxy resin such as a prepreg, a curable resin composition, and an insulating resin composition. Say.

導体層131,132は、例えば銅等の導体めっき等によりコア材111の上面部111a及び下面部111bにそれぞれ積み重ねられて積層状態とされ得る。
また導体層131,132は、例えばコア材111の上面部111a及び下面部111bに接着性樹脂組成物からなる層(接着層。図示せず)を介するようにこれらをそれぞれ積み重ねて加熱(熱圧着を含む。以下同じ。)され得る。そしてこれにより、当該接着層を介してコア材111の上面部111aと導体層132とが、また下面部111bと導体層131とが積層状態とされ得る。
この場合、導体層131,132として箔状といったシート状の導体を用いてもよく、例えばコア材111の上面部111aに接着層及びシート状の導体層132を順に積み重ね、またコア材111の下面部111bに前記接着層及びシート状の導体層131を順に積み重ねてこれらを加熱して、積層状態にしてもよい。
The conductor layers 131 and 132 can be stacked on the upper surface portion 111a and the lower surface portion 111b of the core material 111 by conductor plating such as copper, for example.
In addition, the conductor layers 131 and 132 are stacked and heated (thermocompression bonding), for example, on the upper surface portion 111a and the lower surface portion 111b of the core material 111 such that layers (adhesive layers; not shown) made of an adhesive resin composition are interposed therebetween. The same shall apply hereinafter). As a result, the upper surface portion 111a and the conductor layer 132 of the core material 111 and the lower surface portion 111b and the conductor layer 131 can be laminated through the adhesive layer.
In this case, a sheet-like conductor such as a foil may be used as the conductor layers 131 and 132. For example, the adhesive layer and the sheet-like conductor layer 132 are sequentially stacked on the upper surface portion 111a of the core material 111, and the lower surface of the core material 111 The adhesive layer and the sheet-like conductor layer 131 may be sequentially stacked on the portion 111b and heated to form a laminated state.

前記接着層は、例えばコア材111の上面部111a及び下面部111bにエポキシ樹脂等の樹脂を含む接着性樹脂組成物を塗布乾燥することにより、コア材111の上面部111a及び下面部111bに積み重ねてもよい。また接着性樹脂組成物からなる樹脂シート(ドライフィルム、ボンディングシート等)やプリプレグのような炭素繊維等に接着性や熱硬化性を有する樹脂を含侵させたシートを用いてコア材111の上面部111a及び下面部111bに積み重ねてもよい。   The adhesive layer is stacked on the upper surface portion 111a and the lower surface portion 111b of the core material 111 by applying and drying an adhesive resin composition containing a resin such as an epoxy resin on the upper surface portion 111a and the lower surface portion 111b of the core material 111, for example. May be. Further, the upper surface of the core material 111 is formed using a resin sheet (dry film, bonding sheet, etc.) made of an adhesive resin composition, or a sheet in which a carbon fiber or the like such as a prepreg is impregnated with an adhesive or thermosetting resin. You may stack on the part 111a and the lower surface part 111b.

次に導体層132の上面部(コア材111の上面部111aと接していない方の面)に2つの樹脂ダム層121(樹脂ダム層1211,1212)を形成する(図1(b)参照)。   Next, two resin dam layers 121 (resin dam layers 1211 and 1212) are formed on the upper surface portion of the conductor layer 132 (the surface not in contact with the upper surface portion 111a of the core material 111) (see FIG. 1B). .

導体層132の上面部に樹脂ダム層121を形成する方法としては、例えばスクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、ディスペンサー印刷及びオフセット印刷のうち少なくともいずれかの方法を用いることができる。また前記樹脂組成物を導体層132の上面部に印刷する回数は、樹脂ダム層121の膜厚の設計内容により適宜調整可能であり、1回であっても複数回であってもよい。
これらの印刷方法のうち、微細な樹脂ダム層121を形成し得ることから、特にインクジェット印刷方法が好ましく用いられる。また一定以上の膜厚の樹脂ダム層121を形成する場合であって、1回の印刷で所望の膜厚を実現したい場合、例えば粘度の高い樹脂組成物をディスペンサー印刷方法を用いて印刷することが好ましい。
As a method of forming the resin dam layer 121 on the upper surface portion of the conductor layer 132, for example, at least one of screen printing, flexographic printing, gravure printing, inkjet printing, dispenser printing, and offset printing can be used. In addition, the number of times the resin composition is printed on the upper surface portion of the conductor layer 132 can be appropriately adjusted according to the design content of the film thickness of the resin dam layer 121, and may be once or plural times.
Among these printing methods, since the fine resin dam layer 121 can be formed, an inkjet printing method is particularly preferably used. Further, when the resin dam layer 121 having a certain thickness or more is to be formed and it is desired to achieve a desired film thickness by one printing, for example, a resin composition having a high viscosity is printed using a dispenser printing method. Is preferred.

樹脂ダム層121を形成する層構成材及びその位置は、作製されるリジッド多層プリント配線板100の設計内容やその膜厚を調整したい位置等により適宜調整できる。本実施形態においては、樹脂ダム層1211の側面部121b、樹脂ダム層1212の側面部121cが後述するリジッド多層プリント配線板100の側面部100a,100bをそれぞれ構成するように、その位置を調整して樹脂ダム層121を形成することが望ましい。
また樹脂ダム層121の膜厚は、作製されるリジッド多層プリント配線板100の膜厚、樹脂ダム層121を形成する層構成材及び他の層構成材の膜厚等により適宜調整し得る。
The layer constituting material for forming the resin dam layer 121 and the position thereof can be appropriately adjusted depending on the design content of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 100, the position where the film thickness is desired to be adjusted, and the like. In the present embodiment, the positions of the side surface portion 121b of the resin dam layer 1211 and the side surface portion 121c of the resin dam layer 1212 are adjusted so that the side surface portions 100a and 100b of the rigid multilayer printed wiring board 100 to be described later are formed. It is desirable to form the resin dam layer 121.
Further, the film thickness of the resin dam layer 121 can be appropriately adjusted depending on the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board 100 to be produced, the layer constituent material forming the resin dam layer 121, the film thickness of other layer constituent materials, and the like.

また本実施形態においては、樹脂ダム層121は導体層132の上面部に2つ形成されるが、作製されるリジッド多層プリント配線板100の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層121の数は1つであってもよく、また複数であってもよい。   In this embodiment, two resin dam layers 121 are formed on the upper surface portion of the conductor layer 132. However, if the film thickness of the produced rigid multilayer printed wiring board 100 can be adjusted, the resin dam layer 121 is formed. The number of dam layers 121 may be one or plural.

樹脂ダム層121の形成に用いられる樹脂組成物は、例えば紫外線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂、紫外線硬化性・熱硬化性樹脂の少なくともいずれかを含むことが好ましい。また前記樹脂組成物には、これら樹脂以外の樹脂、光重合開始剤、熱硬化触媒、溶剤及び添加剤等を適宜配合してもよい。   The resin composition used for forming the resin dam layer 121 preferably includes, for example, at least one of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, and an ultraviolet curable / thermosetting resin. Moreover, you may mix | blend resin other than these resin, a photoinitiator, a thermosetting catalyst, a solvent, an additive, etc. suitably with the said resin composition.

前記紫外線硬化性樹脂としては、紫外線に反応し硬化する官能基を有する樹脂であれば好ましく用いられる。例えば単官能のアクリレート樹脂、多官能のアクリレート樹脂等が挙げられる。これらは、1種単独で又は複数種を組み合わせて用いることができる。   The ultraviolet curable resin is preferably used as long as it has a functional group that cures in response to ultraviolet rays. For example, a monofunctional acrylate resin, a polyfunctional acrylate resin, etc. are mentioned. These can be used individually by 1 type or in combination of multiple types.

前記熱硬化性樹脂としては 、例えばエポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、シリコーン樹脂、トリアジン樹脂及びメラミン樹脂等が挙げられる。これらは、1種単独で又は複数種を組み合わせて用いることができる。   Examples of the thermosetting resin include epoxy resin, phenol resin, amino resin, silicone resin, triazine resin, and melamine resin. These can be used individually by 1 type or in combination of multiple types.

前記その他の樹脂としては、例えばスチレン樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。   Examples of the other resin include styrene resin and urethane resin.

前記光重合開始剤としては、前記紫外線硬化性樹脂及び紫外線硬化性・熱硬化性樹脂の紫外線硬化を促進するものであれば好ましく用いられ、例えばラジカル系光重合開始剤及びカチオン系光重合開始剤等が挙げられる。これらは、1種単独で又は複数種を組み合わせて用いることができる。   The photopolymerization initiator is preferably used as long as it accelerates the ultraviolet curing of the ultraviolet curable resin and the ultraviolet curable / thermosetting resin, for example, a radical photopolymerization initiator and a cationic photopolymerization initiator. Etc. These can be used individually by 1 type or in combination of multiple types.

前記熱硬化触媒としては、前記熱硬化性樹脂及び紫外線硬化・熱硬化性樹脂の熱硬化を促進するものであれば好ましく用いられ、例えばイミダゾール系硬化触媒、アミン系硬化触媒、リン系硬化触媒等が挙げられる。これらは、1種単独で又は複数種を組み合わせて用いることができる。   The thermosetting catalyst is preferably used as long as it accelerates the thermosetting of the thermosetting resin and the ultraviolet curable / thermosetting resin, such as an imidazole-based curing catalyst, an amine-based curing catalyst, and a phosphorus-based curing catalyst. Is mentioned. These can be used individually by 1 type or in combination of multiple types.

前記溶剤としては、例えばケトン系、芳香族炭化水素系、グリコールエーテル系、エステル系、脂肪族炭化水素系、石油系等の溶剤が挙げられる。これらは、1種単独で又は複数種を組み合わせて用いることができる。   Examples of the solvent include ketone solvents, aromatic hydrocarbon solvents, glycol ether solvents, ester solvents, aliphatic hydrocarbon solvents, petroleum solvents, and the like. These can be used individually by 1 type or in combination of multiple types.

前記添加剤としては、例えば消泡剤、フィラー、増粘剤、可塑剤及び増核剤等が挙げられる。
消泡剤としては、例えばポリアルキルシロキサン等を使用することができる。またフィラーとしては金属酸化物、ケイ素化合物、ガラスフィラー及びタルク等を使用することができる。
これらは、1種単独で又は複数種を組み合わせて用いることができる。
Examples of the additive include an antifoaming agent, a filler, a thickener, a plasticizer, and a nucleating agent.
As the antifoaming agent, for example, polyalkylsiloxane can be used. Moreover, a metal oxide, a silicon compound, a glass filler, talc, etc. can be used as a filler.
These can be used individually by 1 type or in combination of multiple types.

前記樹脂組成物の組成及び各組成の配合量は、硬化後の樹脂ダム層121の硬度、形成範囲及び位置、樹脂ダム層121が形成される層構成材の材質等を考慮して適宜調整される。   The composition of the resin composition and the blending amount of each composition are appropriately adjusted in consideration of the hardness, formation range and position of the resin dam layer 121 after curing, the material of the layer constituent material on which the resin dam layer 121 is formed, and the like. The

また樹脂ダム層121はリジッド多層プリント配線板100の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する樹脂層141の加熱や樹脂層142の加熱と同時に行ってもよい。
The resin dam layer 121 can be cured by at least one of ultraviolet curing and thermosetting in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 100, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
Note that the thermosetting may be performed simultaneously with the heating of the resin layer 141 and the heating of the resin layer 142 described later.

そして樹脂ダム層1211の側面部121b及び樹脂ダム層1212の側面部121cが後述するリジッド多層プリント配線板100の側面部100a,100bをそれぞれ構成するように、導体層132の上面部側に樹脂層141及び導体層133が積み重ねられる(図1(c)参照)。
本実施形態においては、導体層132の上面部の2つの樹脂ダム層1211211,1212の間隙部分以外の面に樹脂層141及び導体層133が積み重ねられる。即ち図1(c)で表すように、1つずつの樹脂層141及び導体層133のそれぞれの一側面部が樹脂ダム層1211の側面部121aと接するように、また別の1つずつの樹脂層141及び導体層133のそれぞれの一側面部が樹脂ダム層1212の側面部121dと接するように積み重ねられる。
なお、樹脂層141として中間材を用いる場合、以下で詳述する第1の実施形態の変形例(図2参照)のように、樹脂層141である中間材及び導体層133は、各々樹脂ダム層121の側面部(樹脂ダム層1211の側面部121a、樹脂ダム層1212の側面部121d)近傍であってこれらと接しないように若干の間隙部を設けて導体層132の上面部側に積み重ねられることが望ましい。このような構成とすることにより、後述する樹脂層141の加熱時において中間材(樹脂層141)から溶出した樹脂組成物が前記間隙部に流入し、これが硬化して樹脂硬化物となり、これを介して樹脂ダム層121と樹脂層141及び導体層133とが隣接するように積層状態になり得る。
A resin layer is formed on the upper surface portion side of the conductor layer 132 so that the side surface portion 121b of the resin dam layer 1211 and the side surface portion 121c of the resin dam layer 1212 constitute side surfaces 100a and 100b of the rigid multilayer printed wiring board 100 described later. 141 and the conductor layer 133 are stacked (see FIG. 1C).
In the present embodiment, the resin layer 141 and the conductor layer 133 are stacked on the surface of the upper surface portion of the conductor layer 132 other than the gap between the two resin dam layers 1212111 and 1212. That is, as shown in FIG. 1C, one resin layer 141 and one conductor layer 133 are in contact with the side surface 121a of the resin dam layer 1211 so that each one side surface is in contact with another resin. Each of the side surfaces of the layer 141 and the conductor layer 133 is stacked so as to be in contact with the side surface 121d of the resin dam layer 1212.
When an intermediate material is used as the resin layer 141, the intermediate material and the conductor layer 133, which are the resin layer 141, are respectively resin dams, as in a modification of the first embodiment (see FIG. 2) described in detail below. Stacked on the upper surface portion side of the conductor layer 132 with a slight gap provided in the vicinity of the side surface portion of the layer 121 (the side surface portion 121a of the resin dam layer 1211 and the side surface portion 121d of the resin dam layer 1212). It is desirable that By adopting such a configuration, the resin composition eluted from the intermediate material (resin layer 141) flows into the gap when the resin layer 141 described later is heated, and the resin composition is cured to become a cured resin product. Thus, the resin dam layer 121, the resin layer 141, and the conductor layer 133 can be stacked so as to be adjacent to each other.

本実施形態においては、形成する樹脂ダム層121の高さ(膜厚)と樹脂層141及び導体層133を併せた高さ(膜厚)とを同等としたが、それぞれの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。   In this embodiment, the height (film thickness) of the resin dam layer 121 to be formed is equal to the height (film thickness) of the resin layer 141 and the conductor layer 133, but the respective film thicknesses are adjusted as appropriate. Of course, you may do.

導体層133は、導体層131と同様の方法で樹脂層141の上面部(導体層132と接していない方の面)にこれを積み重ねて積層状態にし得る。
また導体層133は、後述する樹脂層141の加熱時において樹脂層141と積層状態となるようにしてもよい。
The conductor layer 133 can be stacked in the same manner as the conductor layer 131 by stacking it on the upper surface of the resin layer 141 (the surface not in contact with the conductor layer 132).
The conductor layer 133 may be laminated with the resin layer 141 when the resin layer 141 described later is heated.

樹脂層141としては、樹脂材及び中間材が好ましく用いられる。樹脂層141は、導体層132の上面部に樹脂組成物を塗布乾燥することによりこれを積み重ねてもよく、また樹脂組成物からなるシート状の材料や中間材を樹脂層141として導体層132の上面部に積み重ねてもよい。   As the resin layer 141, a resin material and an intermediate material are preferably used. The resin layer 141 may be stacked by applying and drying the resin composition on the upper surface portion of the conductor layer 132, and a sheet-like material or intermediate material made of the resin composition is used as the resin layer 141 to form the conductor layer 132. It may be stacked on the upper surface.

樹脂層141は、リジッド多層プリント配線板100の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
樹脂ダム層1211の側面部121aに接するよう積み重ねられた樹脂層141は樹脂ダム層1211の側面部121aと積層状態となり、樹脂ダム層1212の側面部121dに接するよう積み重ねられた樹脂層141は樹脂ダム層1212の側面部121dと積層状態になり得る。
但し樹脂層141を加熱するタイミングによっては、樹脂層141の加熱前に樹脂ダム層121と樹脂層141とが積層状態となっている場合も存在し、この場合は樹脂層141の加熱により、樹脂ダム層121と硬化した樹脂層141とが積層状態になり得る。
なお、本明細書においては、加熱により硬化する前及び硬化した後のいずれの状態についても「樹脂層」という。これは樹脂層141以外の樹脂層及び他の実施形態における樹脂層についても同様である。
そして樹脂ダム層121は、上記加熱時に樹脂層141から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が導体層132の上面部の2つの樹脂ダム層1211,1212の間隙部分の面まで溶出することを抑制し得る。これにより、導体層132の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板100の膜厚調整を容易にし得る。
The resin layer 141 is cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 100, and can be in a laminated state with another layer constituent material in contact therewith.
The resin layer 141 stacked to be in contact with the side surface portion 121a of the resin dam layer 1211 is laminated with the side surface portion 121a of the resin dam layer 1211, and the resin layer 141 stacked to be in contact with the side surface portion 121d of the resin dam layer 1212 is a resin. The side surface portion 121d of the dam layer 1212 can be laminated.
However, depending on the timing of heating the resin layer 141, there may be a case where the resin dam layer 121 and the resin layer 141 are in a laminated state before the resin layer 141 is heated. The dam layer 121 and the cured resin layer 141 can be in a laminated state.
In this specification, both the state before curing by heating and the state after curing are referred to as “resin layer”. The same applies to resin layers other than the resin layer 141 and resin layers in other embodiments.
The resin dam layer 121 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 141 during the heating, and the resin composition is formed between the two resin dam layers 1211 and 1212 on the upper surface portion of the conductor layer 132. Elution to the surface of the gap portion can be suppressed. Thereby, the upper surface part of the conductor layer 132 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 100 can be made easy.

また本実施形態においては、導体層132の上面部のうち2つの樹脂ダム層1211,1212の間隙部分の面に樹脂層142を積み重ねる。   In the present embodiment, the resin layer 142 is stacked on the surface of the gap between the two resin dam layers 1211 and 1212 in the upper surface of the conductor layer 132.

樹脂層142としては、絶縁性樹脂組成物を用いた樹脂材及び中間材が好ましく用いられる。樹脂層142は、導体層132の上面部の所定位置に絶縁性樹脂組成物を塗布乾燥することによりこれを積み重ねてもよく、また絶縁性樹脂組成物からなるシート状の材料や中間材を樹脂層142として導体層132の上面部の所定位置に積み重ねてもよい。なお図3のように作製されるリジッド多層プリント配線板100を屈曲状態で使用する場合、後述する加熱及び/または紫外線照射等により導体層132と積層状態となった樹脂層142が可撓性を有するように前記樹脂組成物の成分を調整することが望ましい。   As the resin layer 142, a resin material and an intermediate material using an insulating resin composition are preferably used. The resin layer 142 may be stacked by applying and drying an insulating resin composition at a predetermined position on the upper surface portion of the conductor layer 132, and a sheet-like material or intermediate material made of the insulating resin composition may be used as a resin. The layer 142 may be stacked at a predetermined position on the upper surface portion of the conductor layer 132. When the rigid multilayer printed wiring board 100 manufactured as shown in FIG. 3 is used in a bent state, the resin layer 142 laminated with the conductor layer 132 by heating and / or ultraviolet irradiation described later has flexibility. It is desirable to adjust the components of the resin composition so as to have.

前述の通り、樹脂層142は、リジッド多層プリント配線板100の製造工程のいずれかの工程において加熱及び/または紫外線照射等されて硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。なお、上記加熱は、樹脂層141の加熱と同時に行ってもよい。   As described above, the resin layer 142 can be cured by heating and / or ultraviolet irradiation in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 100, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith. . Note that the heating may be performed simultaneously with the heating of the resin layer 141.

本実施形態においては、樹脂層142は他の層構成材を積み重ねた後に導体層132の上面部に積み重ねられたが、例えば他の層構成材の積み重ね前または他の層構成材の積み重ねと同時に導体層132の上面部に積み重ねられてもよい。
また本実施形態においては導体層132の上面部に樹脂ダム層121を形成したが、例えば樹脂層142に樹脂ダム層121を形成し、樹脂ダム層121を形成した樹脂層142を導体層132の所定位置に積み重ねてもよい。
またコア材111の上面部111aのうち、樹脂ダム層1211,1212の間隙部分にあたる面に導体層132を設けない場合、例えば当該部分に積層された導体層132をエッチング処理等により除去し、コア材111の上面部111aのうち導体層132が除去された部分に樹脂ダム層121を形成して他の層構成材を積み重ねる場合、樹脂層142はリジッド多層プリント配線板100の構成要素から除外してもよい。
In this embodiment, the resin layer 142 is stacked on the upper surface portion of the conductor layer 132 after stacking other layer constituent materials. For example, before the other layer constituent materials are stacked or simultaneously with stacking of the other layer constituent materials. The conductor layer 132 may be stacked on the upper surface portion.
In the present embodiment, the resin dam layer 121 is formed on the upper surface of the conductor layer 132. For example, the resin dam layer 121 is formed on the resin layer 142, and the resin layer 142 formed with the resin dam layer 121 is formed on the conductor layer 132. You may stack in a predetermined position.
When the conductor layer 132 is not provided on the surface corresponding to the gap between the resin dam layers 1211 and 1212 in the upper surface portion 111a of the core material 111, for example, the conductor layer 132 laminated on the portion is removed by etching or the like. When the resin dam layer 121 is formed on the portion of the upper surface portion 111a of the material 111 where the conductor layer 132 is removed and another layer constituent material is stacked, the resin layer 142 is excluded from the components of the rigid multilayer printed wiring board 100. May be.

そして樹脂ダム層121及び樹脂層141,142を硬化状態とし、また全ての層構成材を積層状態とすることにより、本実施形態のリジッド多層プリント配線板100が作製される(図1(d)参照)。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板100は、図1(d)で表されるように、樹脂ダム層1211の側面部121b及び樹脂ダム層1212の側面部121cがそれぞれリジッド多層プリント配線板100の側面部100a,100bを構成するように積層されている。
また樹脂層142は樹脂ダム層121を備える導体層132の上面部と積層状態となり、且つ樹脂ダム層121と接するよう積層されている。そしてリジッド多層プリント配線板100は、樹脂層142の上面部とリジッド多層プリント配線板100の側面部100aとがL字型(リジッド多層プリント配線板100の側面部100aを縦線、樹脂層142の上面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層142の上面部とリジッド多層プリント配線板100の側面部100bとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板100の側面部100bを縦線、樹脂層142の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板100はこのような構成となることにより、導体層133の上面部から導体層131の下面部までの高さ(膜厚H1)と樹脂層142の上面部から導体層131の下面部までの高さ(膜厚H2)とが異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
Then, the resin dam layer 121 and the resin layers 141 and 142 are set in a cured state, and all the layer constituent materials are set in a laminated state, whereby the rigid multilayer printed wiring board 100 of the present embodiment is manufactured (FIG. 1D). reference).
In the rigid multilayer printed wiring board 100 of the present embodiment, as shown in FIG. 1 (d), the side surface portion 121 b of the resin dam layer 1211 and the side surface portion 121 c of the resin dam layer 1212 are each of the rigid multilayer printed wiring board 100. The side portions 100a and 100b are stacked so as to constitute the side portions 100a and 100b.
Further, the resin layer 142 is laminated with the upper surface portion of the conductor layer 132 including the resin dam layer 121 and is in contact with the resin dam layer 121. In the rigid multilayer printed wiring board 100, the upper surface portion of the resin layer 142 and the side surface portion 100a of the rigid multilayer printed wiring board 100 are L-shaped (the side surface portion 100a of the rigid multilayer printed wiring board 100 is a vertical line, The upper surface portion of the resin layer 142 and the side surface portion 100b of the rigid multilayer printed wiring board 100 are inverted L-shaped (the side surface portion 100b of the rigid multilayer printed wiring board 100 is formed). Vertical lines, and when the upper surface portion of the resin layer 142 is viewed as horizontal lines).
The rigid multilayer printed wiring board 100 of the present embodiment has such a configuration, so that the height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 133 to the lower surface portion of the conductor layer 131 and the upper surface portion of the resin layer 142 are increased. The film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1 so that the height (film thickness H2) to the lower surface portion of the conductor layer 131 is different.

リジッド多層プリント配線板100において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 100, the film thickness H1 is preferably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

このように、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板100は、リジッド多層プリント配線板100のコアとなる層(コア材111)に間隙部分を形成する工程が不要であり、また層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板100の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得る。   As described above, the rigid multilayer printed wiring board 100 manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment does not require a step of forming a gap portion in a layer (core material 111) serving as a core of the rigid multilayer printed wiring board 100. Moreover, the film thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 100 can be easily adjusted by adjusting the stacking position of each layer constituent material in the process of stacking the layer constituent materials.

導体層131,132,133は、リジッド多層プリント配線板100の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductive layers 131, 132, and 133 can remove unnecessary portions by etching or the like so as to form a desired circuit pattern in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 100.

樹脂層141のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。また樹脂層142のような表層絶縁層となる樹脂層の膜厚は、硬化状態において5μm以上30μm以下であることが望ましい。
また導体層131,132,133の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layer 141 is desirably 20 μm or more in the cured state. In addition, the thickness of the resin layer serving as a surface insulating layer such as the resin layer 142 is desirably 5 μm or more and 30 μm or less in the cured state.
The film thickness of the conductor layers 131, 132, 133 is preferably 5 μm or more and 300 μm or less.

なお、本実施形態においては、コア材111の上面部111aに導体層132を、コア材111の下面部111bに導体層131をそれぞれ積み重ねてこれを積層状態にし、導体層132の上面部側に他の層構成材を積層したが、例えばコア材111,導体層131,132(上面部に樹脂ダム層121を形成),133、樹脂層141,142を所定の構成となるように積み重ねてこれらを加熱することにより、各々が積層状態となるようにしてもよい。
また各層構成材の積み重ね及び積層は、例えば1層ずつ積み重ねて積層してもよく、複数の層構成材を積み重ねて積層してもよく、またこれらの組み合わせであってもよい。
In the present embodiment, the conductor layer 132 is stacked on the upper surface portion 111 a of the core material 111, and the conductor layer 131 is stacked on the lower surface portion 111 b of the core material 111. Other layer constituent materials are laminated. For example, the core material 111, the conductor layers 131 and 132 (the resin dam layer 121 is formed on the upper surface portion), 133, and the resin layers 141 and 142 are stacked so as to have a predetermined configuration. Each of them may be laminated by heating.
In addition, stacking and stacking of each layer constituent material may be performed by stacking, for example, one layer at a time, a plurality of layer constituent materials may be stacked and stacked, or a combination thereof.

また本実施形態においては、コア材111の上面部111aと下面部111bにそれぞれ導体層131,132を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいるが、例えば予めコア材111の両面に導体層131,132に対応する導体層が積層されている銅張積層板(図示せず)を用いることにより、上記工程を省略してもよい。
このような銅張積層板は、コア材111の上面部111a及び下面部111bにそれぞれ導体層131,132を積み重ねて積層状態とする方法と同様の方法にて作製し得る。
Further, in the present embodiment, the process includes a step of stacking the conductor layers 131 and 132 on the upper surface portion 111a and the lower surface portion 111b of the core material 111, respectively. , 132 may be omitted by using a copper-clad laminate (not shown) in which conductor layers corresponding to.
Such a copper-clad laminate can be produced by a method similar to the method of stacking the conductor layers 131 and 132 on the upper surface portion 111a and the lower surface portion 111b of the core material 111, respectively.

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板100のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板100の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層131,132,133を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板100における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層131,133の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In the present embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 100. For example, after all layer constituent materials that are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 100 are in a laminated state, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof to form conductor layers 131, 132, and 133. Can be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 100.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 131 and 133 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is manufactured.

<第1の実施形態の変形例>
次に第1の実施形態の変形例について、図2を用いて説明する。なお、第1の実施形態と同一の構成要素には同一符号を付し、重複する説明は適宜省略する。
先ず、コア材111の上面部111a及び下面部111bにそれぞれ導体層131,132が積層された銅張積層板161を用意する(図2(a)参照)。なお、銅張積層板161の膜厚は40μm以上3.2mm以下であることが望ましい。
<Modification of First Embodiment>
Next, a modification of the first embodiment will be described with reference to FIG. In addition, the same code | symbol is attached | subjected to the component same as 1st Embodiment, and the overlapping description is abbreviate | omitted suitably.
First, the copper clad laminated board 161 by which the conductor layers 131 and 132 were each laminated | stacked on the upper surface part 111a and the lower surface part 111b of the core material 111 is prepared (refer Fig.2 (a)). The film thickness of the copper clad laminate 161 is desirably 40 μm or more and 3.2 mm or less.

次いで銅張積層板161を構成する導体層132の上面部(コア材111の上面部111aと接していない方の面)に樹脂ダム層121を形成する(図2(b)参照)。   Next, a resin dam layer 121 is formed on the upper surface portion of the conductor layer 132 constituting the copper clad laminate 161 (the surface not in contact with the upper surface portion 111a of the core material 111) (see FIG. 2B).

そして樹脂ダム層121の側面部のうち樹脂ダム層1211の側面部121b及び樹脂ダム層1212の側面部121cが後述するリジッド多層プリント配線板100の側面部100a,100bをそれぞれ構成するように、導体層132の上面部側に樹脂層141として中間材及び導体層133が積み重ねられる(図2(c)参照)。
本変形例においては、導体層132の上面部の2つの樹脂ダム層1211,1212の間隙部分以外の面に樹脂層141及び導体層133が積み重ねられる。即ち図2(c)で表すように、1つずつの樹脂層141及び導体層133が、樹脂ダム層1211の側面部121aの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて導体層132の上面部側に積み重ねられる。
また別の1つずつの樹脂層141及び導体層133が樹脂ダム層1212の側面部121dの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて導体層132の上面部側に積み重ねられる。
The conductor dam layer 121 has a side surface portion 121b of the resin dam layer 1211 and a side surface portion 121c of the resin dam layer 1212 so as to form side surfaces 100a and 100b of the rigid multilayer printed wiring board 100 described later. The intermediate material and the conductor layer 133 are stacked as the resin layer 141 on the upper surface side of the layer 132 (see FIG. 2C).
In the present modification, the resin layer 141 and the conductor layer 133 are stacked on a surface other than the gap between the two resin dam layers 1211 and 1212 on the upper surface portion of the conductor layer 132. That is, as shown in FIG. 2C, a small gap is provided so that each of the resin layer 141 and the conductor layer 133 is in the vicinity of the side surface portion 121a of the resin dam layer 1211 and does not come into contact therewith. The conductor layer 132 is stacked on the upper surface side.
In addition, another resin layer 141 and conductor layer 133 are stacked on the upper surface portion side of the conductor layer 132 with a slight gap provided in the vicinity of the side surface portion 121d of the resin dam layer 1212 so as not to come into contact therewith. It is done.

そして樹脂層141の加熱時に、樹脂ダム層1211の側面部121a側に積み重ねられた樹脂層141から流出した樹脂組成物は、図2(c)に表される樹脂ダム層1211の側面部121a、導体層132,133及び樹脂層141に囲まれた間隙部に流入し、これが硬化して樹脂層1431(樹脂硬化物)となる。また上記加熱時に、樹脂ダム層1212の側面部121d側に積み重ねられた樹脂層141から流出した樹脂組成物は、図2(c)に表される樹脂ダム層1212の側面部121d、導体層132,133及び樹脂層141に囲まれた間隙部に流入し、これが硬化して樹脂層1432(樹脂硬化物)となる。
そして、樹脂層1431を介して樹脂ダム層1211(側面部121a側)と樹脂層141及び導体層133とが隣接するように積層状態となり、樹脂層1432を介して樹脂ダム層1212(側面部121d側)と樹脂層141及び導体層133とが隣接するように積層状態となる(図2(b)参照)。
このように、樹脂ダム層121は、上記加熱時に樹脂層141から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が導体層132の上面部の2つの樹脂ダム層1211,1212の間隙部分の面まで溶出することを抑制し得る。これにより、導体層132の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板100の膜厚調整を容易にし得る。
When the resin layer 141 is heated, the resin composition flowing out from the resin layer 141 stacked on the side surface 121a side of the resin dam layer 1211 is the side surface portion 121a of the resin dam layer 1211 shown in FIG. It flows into a gap surrounded by the conductor layers 132 and 133 and the resin layer 141, and is cured to form a resin layer 1431 (cured resin). Also, during the heating, the resin composition that has flowed out of the resin layer 141 stacked on the side surface 121d side of the resin dam layer 1212 is the side surface portion 121d of the resin dam layer 1212 and the conductor layer 132 shown in FIG. , 133 and the resin layer 141 flow into a gap, which is cured to form a resin layer 1432 (cured resin).
Then, the resin dam layer 1211 (side surface portion 121a side), the resin layer 141, and the conductor layer 133 are laminated so as to be adjacent to each other via the resin layer 1431, and the resin dam layer 1212 (side surface portion 121d) is interposed via the resin layer 1432. Side), the resin layer 141, and the conductor layer 133 are adjacent to each other (see FIG. 2B).
Thus, the resin dam layer 121 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 141 during the heating, and the resin composition is the two resin dam layers 1211 on the upper surface portion of the conductor layer 132. , 1212 can be prevented from eluting to the surface of the gap portion. Thereby, the upper surface part of the conductor layer 132 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 100 can be made easy.

なお、本変形例において、銅張積層板161を構成する導体層132について、樹脂ダム層1211,1212の間隙部分にあたる面をエッチング処理等により除去してリジッド多層プリント配線板100を作製する場合、樹脂層142はリジッド多層プリント配線板100の構成要素から除外してもよい。   In the present modification, when the rigid multilayer printed wiring board 100 is manufactured by removing the surface corresponding to the gap between the resin dam layers 1211 and 1212 with respect to the conductor layer 132 constituting the copper clad laminate 161, The resin layer 142 may be excluded from the components of the rigid multilayer printed wiring board 100.

そして樹脂ダム層121及び樹脂層141,142,1421,1432を硬化状態とし、また各々接する層構成材を積層状態とすることにより、本変形例のリジッド多層プリント配線板100が作製される(図2(e)参照)。
本変形例のリジッド多層プリント配線板100は、図2(e)で表されるように、樹脂ダム層121の側面部121b,121cがそれぞれリジッド多層プリント配線板100の側面部100a,100bを構成するように積層されている。
また樹脂層142は樹脂ダム層121を備える導体層132の上面部と積層状態となり、且つ樹脂ダム層121と接するよう積層されている。そしてリジッド多層プリント配線板100は、樹脂層142の上面部とリジッド多層プリント配線板100の側面部100aとがL字型(リジッド多層プリント配線板100の側面部100aを縦線、樹脂層142の上面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層142の上面部とリジッド多層プリント配線板100の側面部100bとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板100の側面部100bを縦線、樹脂層142の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本変形例のリジッド多層プリント配線板100はこのような構成となることにより、導体層133の上面部から導体層131の下面部までの高さ(膜厚H1)と樹脂層142の上面部から導体層131の下面部までの高さ(膜厚H2)とが異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
Then, the resin dam layer 121 and the resin layers 141, 142, 1421, and 1432 are set in a cured state, and the layer constituent materials that are in contact with each other are set in a laminated state, whereby the rigid multilayer printed wiring board 100 of the present modification is manufactured (FIG. 2 (e)).
In the rigid multilayer printed wiring board 100 of this modification, as shown in FIG. 2E, the side surface portions 121 b and 121 c of the resin dam layer 121 constitute the side surface portions 100 a and 100 b of the rigid multilayer printed wiring board 100, respectively. It is laminated so that.
Further, the resin layer 142 is laminated with the upper surface portion of the conductor layer 132 including the resin dam layer 121 and is in contact with the resin dam layer 121. In the rigid multilayer printed wiring board 100, the upper surface portion of the resin layer 142 and the side surface portion 100a of the rigid multilayer printed wiring board 100 are L-shaped (the side surface portion 100a of the rigid multilayer printed wiring board 100 is a vertical line, The upper surface portion of the resin layer 142 and the side surface portion 100b of the rigid multilayer printed wiring board 100 are inverted L-shaped (the side surface portion 100b of the rigid multilayer printed wiring board 100 is formed). Vertical lines, and when the upper surface portion of the resin layer 142 is viewed as horizontal lines).
With this configuration, the rigid multilayer printed wiring board 100 according to this modification has a height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 133 to the lower surface portion of the conductor layer 131 and the upper surface portion of the resin layer 142. The film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1 so that the height (film thickness H2) to the lower surface portion of the conductor layer 131 is different.

本変形例のリジッド多層プリント配線板100において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 100 of this modification, the film thickness H1 is desirably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

このように、本変形例の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板100は、リジッド多層プリント配線板100のコアとなる層(コア材111)に間隙部分を形成する工程が不要であり、層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板100の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得る。   As described above, the rigid multilayer printed wiring board 100 manufactured by the manufacturing method of the present modification does not require a step of forming a gap portion in a layer (core material 111) that becomes a core of the rigid multilayer printed wiring board 100. The film thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 100 can be easily adjusted by adjusting the stacking position or the like of each layer constituent material in the step of stacking the layer constituent materials.

なお、本変形例においては、各層構成材の積み重ね及び積層は、例えば1層ずつ積み重ねて積層してもよく、複数の層構成材を積み重ねて積層してもよく、またこれらの組み合わせであってもよい。   In this modification, stacking and stacking of each layer constituent material may be performed by stacking, for example, one layer at a time, or a plurality of layer constituent materials may be stacked and stacked, or a combination thereof. Also good.

また本変形例においては、銅張積層板161を使用したが、例えばコア材111の上面部111aと下面部111bにそれぞれ導体層131,132を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいてもよい。   In this modification, the copper clad laminate 161 is used. However, for example, a step of laminating the conductor layers 131 and 132 on the upper surface portion 111a and the lower surface portion 111b of the core material 111 may be included. .

次に第1の実施形態にかかるリジッド多層プリント配線板100を上面から見た構成を図3を参照して説明する。
図3に表されるように、樹脂ダム層1211,1212、導体層133及び樹脂層142がリジッド多層プリント配線板100の上方最外層となるよう積層されている。
そして上方最外層が樹脂層142の範囲の膜厚(膜厚H2)は、上方最外層が樹脂ダム層1211,1212及び導体層133の膜厚(膜厚H1)よりも薄い。
Next, the configuration of the rigid multilayer printed wiring board 100 according to the first embodiment viewed from the top will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 3, the resin dam layers 1211 and 1212, the conductor layer 133, and the resin layer 142 are laminated so as to be the outermost upper layer of the rigid multilayer printed wiring board 100.
The upper outermost layer has a film thickness (film thickness H2) in the range of the resin layer 142, and the upper outermost layer is thinner than the resin dam layers 1211 and 1212 and the conductor layer 133 (film thickness H1).

なお、樹脂ダム層121の形成工程においては、樹脂組成物を導体層132の上面部のみに印刷してもよく、また図4のように導体層132の上面部外(銅張積層板161外)の領域にも印刷してよい(図4(a)参照)。そして、リジッド多層プリント配線板100の製造工程のいずれかにおいて、導体層132の上面部外の領域に印刷された樹脂ダム層121eを除去して樹脂ダム層121f(樹脂ダム層1211,1212に対応)のみを残すようにしてもよい(図4(b)参照)。
この場合、樹脂ダム層121e,121fは隣接するように印刷されることが望ましく、樹脂ダム層121は例えば円形、楕円形、矩形等の任意の形状となるよう印刷されることが好ましい。樹脂ダム層121をこのような態様で印刷することにより、上述した加熱時において樹脂層141から溶出した樹脂組成物が銅張積層板161の側面部(161a,161b)に付着することを防止することができる。
なお樹脂ダム層121eに対応する部分は、上述の加熱時に樹脂層141から溶出した樹脂組成物が銅張積層板161の側面部(161a,161b)に付着することを防止し得るのであれば、樹脂ダム層121e以外の構造、例えば導電性ペーストからなるダム層としてもよい。但しこの場合であっても、樹脂ダム層121fと当該導電性ペーストからなるダム層とは隣接するように形成されることが望ましい。
In the step of forming the resin dam layer 121, the resin composition may be printed only on the upper surface portion of the conductor layer 132. Further, as shown in FIG. ) May also be printed (see FIG. 4A). Then, in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 100, the resin dam layer 121e printed in a region outside the upper surface portion of the conductor layer 132 is removed to remove the resin dam layer 121f (corresponding to the resin dam layers 1211 and 1212). ) May be left (see FIG. 4B).
In this case, the resin dam layers 121e and 121f are desirably printed so as to be adjacent to each other, and the resin dam layer 121 is preferably printed to have an arbitrary shape such as a circle, an ellipse, and a rectangle. By printing the resin dam layer 121 in such a manner, the resin composition eluted from the resin layer 141 during the heating described above is prevented from adhering to the side surfaces (161a, 161b) of the copper-clad laminate 161. be able to.
If the portion corresponding to the resin dam layer 121e can prevent the resin composition eluted from the resin layer 141 during the above-mentioned heating from adhering to the side surfaces (161a, 161b) of the copper-clad laminate 161, A structure other than the resin dam layer 121e, for example, a dam layer made of a conductive paste may be used. However, even in this case, it is desirable that the resin dam layer 121f and the dam layer made of the conductive paste are formed adjacent to each other.

このように、樹脂ダム層121の一部または全部は、リジッド多層プリント配線板100の製造工程のいずれかにおいて適宜除去し得る。このような樹脂ダム層の形成方法は、他の実施形態においても用いることができる。   Thus, part or all of the resin dam layer 121 can be appropriately removed in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 100. Such a method for forming a resin dam layer can also be used in other embodiments.

またリジッド多層プリント配線板100を屈曲させた構成を図5を参照して説明する。
図5に表されるように、リジッド多層プリント配線板100は、導体層131が最外層となるように樹脂層142が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることができる。このようにリジッド多層プリント配線板100は屈曲状態で使用することができるため、電子制御装置内のスペースを効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板100への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を広げることができる。
A configuration in which the rigid multilayer printed wiring board 100 is bent will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 5, the rigid multilayer printed wiring board 100 can bend the portion where the resin layer 142 is laminated (having the film thickness H <b> 2) so that the conductor layer 131 is the outermost layer. Thus, since the rigid multilayer printed wiring board 100 can be used in a bent state, the space in the electronic control device can be efficiently utilized, and electronic components can be mounted on the rigid multilayer printed wiring board 100 ( Design) and the degree of freedom in designing an electronic control device incorporating the same.

そしてリジッド多層プリント配線板100は、屈曲させる部分(樹脂層142が積層された(膜厚H2となる)部分)の材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。   The rigid multilayer printed wiring board 100 can adjust the film thickness without selecting the material of the portion to be bent (the portion where the resin layer 142 is laminated (having the film thickness H2)). In addition, since a highly durable material can be used and a resin having special performance can be used, high reliability can be realized.

更にはリジッド多層プリント配線板100のうち、膜厚H2となる部分を構成するコア材111及び導体層131,132,133と膜厚H1となる部分を構成するコア材111及び導体層131,132,133とは各々同じ材質となり得るため、熱膨張係数の差を抑え、破損の発生を抑制することもできる。またこれらの材質が同一の場合には誘電率も一致することから、これらを異なる材質とした場合と比較して、高周波特性への対応を容易に行うことができる。
そして膜厚H2となる部分を構成する各層構成材と膜厚H1となる部分を構成する各層構成材との材質を同一にでき、また既存の層構成材を利用し得ることから、既存の層構成材について既に取得した信頼性評価等(例えば回路、スルーホール等について)の結果をリジッド多層プリント配線板100自体の信頼性評価に一部流用することができ、これに要するコストや時間を抑制することができる。
Further, in the rigid multilayer printed wiring board 100, the core material 111 and the conductor layers 131, 132, and 133 constituting the portion having the thickness H2 and the core material 111 and the conductor layers 131 and 132 constituting the portion having the thickness H1 are formed. , 133 can be made of the same material, so that the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed and the occurrence of breakage can also be suppressed. Further, when these materials are the same, the dielectric constants also match, so that it is possible to easily cope with high frequency characteristics as compared with the case where these materials are different.
And since the material of each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H2 and each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H1 can be made the same, and since the existing layer constituent material can be utilized, the existing layer The results of reliability evaluation, etc. that have already been obtained for components (for example, circuits, through holes, etc.) can be partially used for reliability evaluation of the rigid multilayer printed wiring board 100 itself, thereby reducing the cost and time required for this. can do.

<第2の実施形態>
第2の実施形態について、図6を参照して説明する。
先ずコア材211の上面部211aに樹脂ダム層221を形成する(図6(a)参照)。本実施形態においては、樹脂ダム層221はコア材211の上面部211aに1つ形成され得る。
コア材211は、前述の第1の実施形態のコア材111と同様の方法にて作製し得る。またコア材211の上面部211aへの樹脂ダム層211の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
なお樹脂ダム層221を形成する層構成材及びその位置は、作製されるリジッド多層プリント配線板200の設計内容やその膜厚を調整したい位置等により適宜調整できる。本実施形態においては、樹脂ダム層221の側面部221aが後述するリジッド多層プリント配線板200の側面部200aを構成するように、その位置を調整して樹脂ダム層221を形成することが望ましい。
また樹脂ダム層221の膜厚は、作製されるリジッド多層プリント配線板200の膜厚、樹脂ダム層221を形成する層構成材及び他の層構成材の膜厚等により適宜調整し得る。
また樹脂ダム層221はリジッド多層プリント配線板200の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する樹脂層241の加熱と同時に行ってもよい。
<Second Embodiment>
A second embodiment will be described with reference to FIG.
First, the resin dam layer 221 is formed on the upper surface portion 211a of the core material 211 (see FIG. 6A). In the present embodiment, one resin dam layer 221 may be formed on the upper surface portion 211 a of the core material 211.
The core material 211 can be manufactured by the same method as the core material 111 of the first embodiment described above. Further, the resin dam layer 211 can be formed on the upper surface portion 211a of the core material 211 by using the same method as the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above, and can have the same configuration.
The layer constituent material for forming the resin dam layer 221 and the position thereof can be appropriately adjusted depending on the design content of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 200 and the position where the film thickness is to be adjusted. In the present embodiment, it is desirable to form the resin dam layer 221 by adjusting its position so that the side surface portion 221a of the resin dam layer 221 constitutes a side surface portion 200a of the rigid multilayer printed wiring board 200 described later.
Further, the film thickness of the resin dam layer 221 can be appropriately adjusted depending on the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board 200 to be manufactured, the layer constituent material forming the resin dam layer 221 and the film thicknesses of other layer constituent materials.
Further, the resin dam layer 221 can be cured by at least one of ultraviolet curing and heat curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 200, and can be laminated with another layer constituent material in contact therewith.
In addition, you may perform the said thermosetting simultaneously with the heating of the resin layer 241 mentioned later.

次にコア材211の下面部211bに導体層231を積み重ねて積層状態とする(図6(b)参照)。
導体層231のコア材211の下面部211bへの積層は、前述の第1の実施形態における導体層131のコア材111の下面部111bへの積層方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
Next, the conductor layer 231 is stacked on the lower surface portion 211b of the core material 211 to form a laminated state (see FIG. 6B).
For the lamination of the conductor layer 231 to the lower surface portion 211b of the core material 211, a method similar to the method of laminating the conductor layer 131 to the lower surface portion 111b of the core material 111 in the first embodiment can be used. It can be set as this structure.

そして樹脂ダム層221の側面部のうち221aが後述するリジッド多層プリント配線板200の側面部200aを構成するように、コア材211の上面部211a側に導体層232、樹脂層241及び導体層233が積み重ねられる。
本実施形態においては、1つずつの導体層232、樹脂層241及び導体層233のそれぞれの一側面部が樹脂ダム層221の側面部221bと接するようにコア材211の上面部211a側に積み重ねられる。
なお、樹脂層241として中間材を用いる場合、導体層232、樹脂層241である中間材及び導体層233は、各々樹脂ダム層221の側面部221bの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けてコア材211の上面部211a側に積み重ねられることが望ましい。このような構成とすることにより、後述する樹脂層241の加熱時において中間材(樹脂層241)から溶出した樹脂組成物が前記間隙部に流入し、これが硬化して樹脂硬化物となり、これを介して樹脂ダム層221と導体層232、樹脂層241及び導体層233とが隣接するように積層状態になり得る。
The conductor layer 232, the resin layer 241, and the conductor layer 233 are disposed on the upper surface portion 211 a side of the core material 211 so that the side surface portion 221 a of the resin dam layer 221 constitutes a side surface portion 200 a of the rigid multilayer printed wiring board 200 described later. Are stacked.
In this embodiment, the conductor layer 232, the resin layer 241, and the conductor layer 233 are stacked on the upper surface portion 211 a side of the core material 211 so that one side surface portion of each of the conductor layers 232, 241 and 233 is in contact with the side surface portion 221 b of the resin dam layer 221. It is done.
When an intermediate material is used as the resin layer 241, the conductor layer 232, the intermediate material that is the resin layer 241, and the conductor layer 233 are in the vicinity of the side surface portion 221 b of the resin dam layer 221 and slightly in contact with each other. It is desirable that the gap portion is provided and stacked on the upper surface portion 211 a side of the core material 211. With this configuration, the resin composition eluted from the intermediate material (resin layer 241) flows into the gap when the resin layer 241 to be described later is heated, and the resin composition cures to become a cured resin product. The resin dam layer 221, the conductor layer 232, the resin layer 241, and the conductor layer 233 can be stacked so as to be adjacent to each other.

本実施形態においては、形成する樹脂ダム層221の高さ(膜厚)と樹脂層241及び導体層232,233を併せた高さ(膜厚)とを同等としたが、それぞれの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。   In the present embodiment, the height (film thickness) of the resin dam layer 221 to be formed is equal to the height (film thickness) of the resin layer 241 and the conductor layers 232 and 233 combined. Of course, it may be adjusted appropriately.

導体層232,233は、前述の第1の実施形態の導体層132と同様の方法でコア材211の上面部211a及び樹脂層241の上面部に各々を積み重ねて積層状態にし得る。
また導体層232,233は、後述する樹脂層241の加熱時において樹脂層241と積層状態となるようにしてもよい。
The conductor layers 232 and 233 can be laminated by stacking the upper surface portion 211a of the core material 211 and the upper surface portion of the resin layer 241 in the same manner as the conductor layer 132 of the first embodiment described above.
The conductor layers 232 and 233 may be laminated with the resin layer 241 when the resin layer 241 described later is heated.

樹脂層241は、前述の第1の実施形態における樹脂層141と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。   The resin layer 241 can have the same configuration as the resin layer 141 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method.

樹脂層241は、リジッド多層プリント配線板200の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。また樹脂ダム層221の側面部221bに接するよう積み重ねられた樹脂層241は、樹脂ダム層221の側面部221bと積層状態になり得る。但し樹脂層241を加熱するタイミングによっては、樹脂層241の加熱前に樹脂ダム層221と樹脂層241とが積層状態となっている場合も存在し、この場合は樹脂層241の加熱により、樹脂ダム層221と硬化した樹脂層241とが積層状態になり得る。
そして樹脂ダム層221は、上記加熱時に樹脂層241から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物がコア材211の上面部211aまで溶出することを抑制し得る。これにより、コア材211の上面部211aを平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板200の膜厚調整を容易にし得る。
The resin layer 241 is cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 200, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith. In addition, the resin layer 241 stacked so as to be in contact with the side surface portion 221b of the resin dam layer 221 may be laminated with the side surface portion 221b of the resin dam layer 221. However, depending on the timing of heating the resin layer 241, there may be a case where the resin dam layer 221 and the resin layer 241 are laminated before the resin layer 241 is heated. In this case, the resin layer 241 is heated to The dam layer 221 and the cured resin layer 241 can be in a laminated state.
The resin dam layer 221 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 241 during the heating, and can prevent the resin composition from being eluted to the upper surface portion 211 a of the core material 211. Thereby, the upper surface part 211a of the core material 211 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 200 can be facilitated.

そして樹脂ダム層221及び樹脂層241を硬化状態とし、また各々接する層構成材を積層状態とすることにより、本実施形態のリジッド多層プリント配線板200が作製される(図6(c)参照)。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板200は、図2(c)で表されるように、樹脂ダム層221の側面部221aがリジッド多層プリント配線板200の側面部200aを構成するように積層されている。そしてリジッド多層プリント配線板200は、樹脂ダム層221を備えるコア材211の上面部211aとリジッド多層プリント配線板200の側面部200aとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板200の側面部200aを縦線、コア材211の上面部211aを横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板200はこのような構成となることにより、導体層233の上面部から導体層231の下面部までの高さ(膜厚H1)とコア材211の上面部211aから導体層231の下面部までの高さ(膜厚H2)とを異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
Then, the resin dam layer 221 and the resin layer 241 are set in a cured state, and the layer constituent materials in contact with each other are set in a laminated state, whereby the rigid multilayer printed wiring board 200 of the present embodiment is manufactured (see FIG. 6C). .
As shown in FIG. 2C, the rigid multilayer printed wiring board 200 of this embodiment is laminated so that the side surface portion 221 a of the resin dam layer 221 constitutes the side surface portion 200 a of the rigid multilayer printed wiring board 200. ing. In the rigid multilayer printed wiring board 200, the upper surface portion 211a of the core material 211 including the resin dam layer 221 and the side surface portion 200a of the rigid multilayer printed wiring board 200 are inverted L-shaped (the side surface portion 200a of the rigid multilayer printed wiring board 200). Is a vertical line, and the upper surface portion 211a of the core material 211 is a horizontal line).
The rigid multilayer printed wiring board 200 of the present embodiment has such a configuration, so that the height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 233 to the lower surface portion of the conductor layer 231 and the upper surface portion 211a of the core material 211 are increased. From the height of the conductor layer 231 to the lower surface portion (film thickness H2), that is, the film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1.

リジッド多層プリント配線板200において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 200, the film thickness H1 is preferably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

このように、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板200は、リジッド多層プリント配線板200のコアとなる層(コア材211)に間隙部分を形成する工程が不要であり、層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板100の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得る。   Thus, the rigid multilayer printed wiring board 200 produced by the manufacturing method of the present embodiment does not require a step of forming a gap portion in the layer (core material 211) that becomes the core of the rigid multilayer printed wiring board 200. The film thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 100 can be easily adjusted by adjusting the stacking position or the like of each layer constituent material in the step of stacking the layer constituent materials.

導体層231,232,233は、リジッド多層プリント配線板200の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductive layers 231, 232, and 233 can remove unnecessary portions by etching or the like so as to form a desired circuit pattern in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 200.

樹脂層241のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。
また導体層231,232,233の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The film thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layer 241 is desirably 20 μm or more in the cured state.
The film thicknesses of the conductor layers 231, 232, and 233 are preferably 5 μm or more and 300 μm or less.

なお、本実施形態においては、コア材211の下面部211bに導体層231を積み重ねてこれを積層状態にし、コア材211の上面部211a側に他の層構成材を積層したが、例えばコア材211(上面部211aに樹脂ダム層221を形成)、導体層231,232,233及び樹脂層241を所定の構成となるように積み重ねてこれらを加熱することにより、各々が積層状態となるようにしてもよい。
また各層構成材の積み重ね及び積層は、例えば1層ずつ積み重ねて積層してもよく、複数の層構成材を積み重ねて積層してもよく、またこれらの組み合わせであってもよい。
In the present embodiment, the conductor layer 231 is stacked on the lower surface portion 211b of the core material 211 to form a laminated state, and another layer constituent material is stacked on the upper surface portion 211a side of the core material 211. 211 (resin dam layer 221 is formed on upper surface portion 211a), conductor layers 231, 232, 233, and resin layer 241 are stacked so as to have a predetermined configuration, and these are heated, so that each becomes a laminated state. May be.
In addition, stacking and stacking of each layer constituent material may be performed by stacking, for example, one layer at a time, a plurality of layer constituent materials may be stacked and stacked, or a combination thereof.

また本実施形態においては、コア材211の上面部211aと下面部211bにそれぞれ導体層231,232を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいるが、例えば予めコア材211の両面の所定の位置に導体層231,232に対応する導体層が積層されている銅張積層板(図示せず)を用いることにより、上記工程を省略してもよい。
このような銅張積層板は、コア材211の上面部211a及び下面部211bにそれぞれ導体層231,232を積み重ねて積層状態とする方法と同様の方法にて作製し得る。
In addition, the present embodiment includes a step of stacking the conductor layers 231 and 232 on the upper surface portion 211a and the lower surface portion 211b of the core material 211, respectively. The above process may be omitted by using a copper-clad laminate (not shown) in which conductor layers corresponding to the conductor layers 231 and 232 are laminated.
Such a copper-clad laminate can be manufactured by a method similar to the method of stacking the conductor layers 231 and 232 on the upper surface portion 211a and the lower surface portion 211b of the core material 211, respectively.

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板200のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板200の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層231,232,233を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板200における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層231,233の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In the present embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 200. For example, after all layer constituent materials that are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 200 are in a laminated state, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof to form conductor layers 231, 232, 233. Can be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 200.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 231 and 233 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is manufactured.

リジッド多層プリント配線板200は、膜厚H2となる部分を屈曲させたり、当該部分に電子部品を埋め込んでスペースを効率的に利用したりすることができと共に、リジッド多層プリント配線板200への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を広げることができる。
そしてリジッド多層プリント配線板200は、材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。
The rigid multilayer printed wiring board 200 can bend a portion having a film thickness H2 or embed an electronic component in the portion to efficiently use a space. The degree of freedom of component mounting (design) and design of an electronic control unit incorporating the component can be expanded.
Since the rigid multilayer printed wiring board 200 can adjust its film thickness without selecting a material, for example, a material having high heat resistance and durability can be used for this portion, and a resin having a special performance can be used. Since it can be used, high reliability can be realized.

更にはリジッド多層プリント配線板200のうち、膜厚H2となる部分を構成するコア材211及び導体層231と膜厚H1となる部分を構成するコア材211及び導体層231(232,233)とは各々同じ材質となり得るため、熱膨張係数の差を抑え、破損の発生を抑制することもできる。またこれらの材質が同一の場合には誘電率も一致することから、これらを異なる材質とした場合と比較して、高周波特性への対応を容易に行うことができる。
そして膜厚H2となる部分を構成する各層構成材と膜厚H1となる部分を構成する各層構成材との材質を同一にでき、また既存の層構成材を利用し得ることから、既存の層構成材について既に取得した信頼性評価等(例えば回路、スルーホール等について)の結果をリジッド多層プリント配線板200自体の信頼性評価に一部流用することができ、これに要するコストや時間を抑制することができる。
Further, in the rigid multilayer printed wiring board 200, the core material 211 and the conductor layer 231 constituting the portion having the thickness H2, and the core material 211 and the conductor layer 231 (232, 233) constituting the portion having the thickness H1. Since each can be made of the same material, the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed and the occurrence of breakage can also be suppressed. Further, when these materials are the same, the dielectric constants also match, so that it is possible to easily cope with high frequency characteristics as compared with the case where these materials are different.
And since the material of each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H2 and each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H1 can be made the same, and since the existing layer constituent material can be utilized, the existing layer The results of reliability evaluation, etc. that have already been acquired for component materials (for example, circuits, through holes, etc.) can be partially used for reliability evaluation of the rigid multilayer printed wiring board 200 itself, and the cost and time required for this can be suppressed. can do.

<第3の実施形態>
第3の実施形態について、図7を参照して説明する。
先ず、コア材311の上面部311a及び下面部312bにそれぞれ導体層331,332が積層された銅張積層板361を用意する(図7(a)参照)。
銅張積層板361は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
<Third Embodiment>
A third embodiment will be described with reference to FIG.
First, a copper clad laminate 361 in which conductor layers 331 and 332 are laminated on the upper surface portion 311a and the lower surface portion 312b of the core material 311 is prepared (see FIG. 7A).
For the copper-clad laminate 361, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.

次いで銅張積層板361を構成する導体層332の上面部(コア材311の上面部311aと接していない方の面)及び導体層331の下面部(コア材311の下面部311bと接していない方の面)にそれぞれ樹脂ダム層321,322を形成する(図7(b)参照)。
導体層332の上面部への樹脂ダム層321の形成及び導体層331の下面部への樹脂ダム層322の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また本実施形態においては、樹脂ダム層321は導体層332の上面部に2つ形成され(樹脂ダム層3211,3212)、樹脂ダム層322は導体層331の下面部に2つ形成される(樹脂ダム層3221,3222)が、作製されるリジッド多層プリント配線板300の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層321,322の数はそれぞれ1つであってもよく、またそれぞれ複数であってもよい。
樹脂ダム層321,322を形成する層構成材及びその位置は、作製されるリジッド多層プリント配線板300の設計内容やその膜厚を調整したい位置等により適宜調整できる。本実施形態においては、樹脂ダム層3211の側面部321b、樹脂ダム層3212の側面部321c、樹脂ダム層3221の側面部322b,樹脂ダム層3222の側面部322cが後述するリジッド多層プリント配線板300の側面部300a,300b,300c,300dをそれぞれ構成するように位置を調整して樹脂ダム層321,322を形成することが望ましい。
また樹脂ダム層321,322の膜厚は、作製されるリジッド多層プリント配線板300の膜厚、樹脂ダム層321,322を形成する層構成材及び他の層構成材の膜厚等により適宜調整し得る。
また樹脂ダム層321,322はリジッド多層プリント配線板300の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これらにそれぞれ接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する樹脂層341,343の加熱や樹脂層342,344の加熱と同時に行ってもよい。
Next, the upper surface portion of the conductor layer 332 (the surface not in contact with the upper surface portion 311a of the core material 311) and the lower surface portion of the conductor layer 331 (not in contact with the lower surface portion 311b of the core material 311) constituting the copper clad laminate 361. Resin dam layers 321 and 322 are respectively formed on the surface (see FIG. 7B).
The formation of the resin dam layer 321 on the upper surface portion of the conductor layer 332 and the formation of the resin dam layer 322 on the lower surface portion of the conductor layer 331 are similar to the method of forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above. Can be used, and the same configuration can be adopted.
In this embodiment, two resin dam layers 321 are formed on the upper surface portion of the conductor layer 332 (resin dam layers 3211 and 3212), and two resin dam layers 322 are formed on the lower surface portion of the conductor layer 331 (see FIG. If the resin dam layers 3221 and 3222) can adjust the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board 300 to be produced, the number of the resin dam layers 321 and 322 formed may be one each. There may be more than one.
The layer constituent material for forming the resin dam layers 321 and 322 and the position thereof can be appropriately adjusted depending on the design content of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 300, the position where the film thickness is desired to be adjusted, and the like. In the present embodiment, the side surface portion 321b of the resin dam layer 3211, the side surface portion 321c of the resin dam layer 3212, the side surface portion 322b of the resin dam layer 3221, and the side surface portion 322c of the resin dam layer 3222 are described later in a rigid multilayer printed wiring board 300. The resin dam layers 321 and 322 are preferably formed by adjusting the positions so as to constitute the side portions 300a, 300b, 300c, and 300d, respectively.
The film thickness of the resin dam layers 321 and 322 is appropriately adjusted according to the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board 300 to be produced, the layer constituent materials forming the resin dam layers 321 and 322, the film thicknesses of other layer constituent materials, and the like. Can do.
In addition, the resin dam layers 321 and 322 are cured by at least one of ultraviolet curing and thermal curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 300, and are laminated with other layer constituent materials in contact with them. Can be.
The thermosetting may be performed simultaneously with the heating of resin layers 341 and 343 and the heating of resin layers 342 and 344 described later.

そして樹脂ダム層3211の側面部321b、樹脂ダム層3212の側面部321cが後述するリジッド多層プリント配線板300の側面部300a,300bをそれぞれ構成するように導体層332の上面部側に樹脂層341及び導体層333が積み重ねられる。また樹脂ダム層3221の側面部322b、樹脂ダム層3222の側面部322cがリジッド多層プリント配線板300の側面部300c,300dをそれぞれ構成するように導体層331の下面部側に樹脂層343及び導体層334が積み重ねられる(図7(b)参照)。
本実施形態においては、図7(c)で表されるように、1つずつの樹脂層341及び導体層333のそれぞれの一側面部が樹脂ダム層3211の側面部321aに接するように、また別の1つずつの樹脂層341及び導体層333のそれぞれの一側面部が樹脂ダム層3212の側面部321dに接するように導体層332の上面部側に積み重ねられる。
また1つずつの樹脂層343及び導体層334のそれぞれの一側面部が樹脂ダム層3221の側面部322aに接するように、また別の1つずつの樹脂層343及び導体層334のそれぞれの一側面部が樹脂ダム層3222の側面部322dに接するように導体層321の下面部側に積み重ねられる。
The resin layer 341 is formed on the upper surface of the conductor layer 332 so that the side surface 321b of the resin dam layer 3211 and the side surface 321c of the resin dam layer 3212 constitute side surfaces 300a and 300b of the rigid multilayer printed wiring board 300 described later. And the conductor layer 333 is stacked. Further, the resin layer 343 and the conductor are formed on the lower surface side of the conductor layer 331 so that the side surface portion 322b of the resin dam layer 3221 and the side surface portion 322c of the resin dam layer 3222 constitute the side surface portions 300c and 300d of the rigid multilayer printed wiring board 300, respectively. Layers 334 are stacked (see FIG. 7B).
In the present embodiment, as shown in FIG. 7C, each side surface portion of each of the resin layer 341 and the conductor layer 333 is in contact with the side surface portion 321 a of the resin dam layer 3211, and One side surface portion of each of another resin layer 341 and another conductor layer 333 is stacked on the upper surface portion side of the conductor layer 332 so as to be in contact with the side surface portion 321 d of the resin dam layer 3212.
Further, one side of each of the resin layer 343 and one of the conductor layers 334 is in contact with the side of the side surface 322 a of the resin dam layer 3221, and one of each of the other resin layer 343 and conductor layer 334 of each other. The side surface portion is stacked on the lower surface portion side of the conductor layer 321 so as to contact the side surface portion 322 d of the resin dam layer 3222.

なお、樹脂層341として中間材を用いる場合、樹脂層341である中間材及び導体層333は、各々樹脂ダム層321の側面部(樹脂ダム層3211の側面部321a、樹脂ダム層3212の側面部321d)と接しないように、これらとの間に若干の間隙部を設けて導体層332の上面部側に積み重ねられることが望ましい。また樹脂層343として中間材を用いる場合、樹脂層343である中間材及び導体層334は、各々樹脂ダム層322の側面部(樹脂ダム層3221の側面部322a、樹脂ダム層3222の側面部321dと接しないように、これらとの間に若干の間隙部を設けて導体層331の下面部側に積み重ねられることが望ましい。
このような構成とすることにより、後述する樹脂層341,343の加熱時において中間材(樹脂層341,343)から溶出した樹脂組成物が前記間隙部にそれぞれ流入し、これらが硬化して樹脂硬化物となり、これを介して樹脂ダム層321と樹脂層341及び導体層333とが、また樹脂ダム層322と樹脂層343及び導体層334とが各々隣接するように積層状態になり得る。
When an intermediate material is used as the resin layer 341, the intermediate material and the conductor layer 333, which are the resin layer 341, are respectively a side surface portion of the resin dam layer 321 (a side surface portion 321a of the resin dam layer 3211 and a side surface portion of the resin dam layer 3212). 321d) is preferably stacked on the upper surface side of the conductor layer 332 with a slight gap between them. When an intermediate material is used as the resin layer 343, the intermediate material and the conductor layer 334, which are the resin layers 343, are respectively provided on the side surface portions of the resin dam layer 322 (the side surface portion 322a of the resin dam layer 3221 and the side surface portion 321d of the resin dam layer 3222). It is desirable that a slight gap is provided between them so that they are stacked on the lower surface side of the conductor layer 331.
With such a configuration, the resin compositions eluted from the intermediate materials (resin layers 341 and 343) flow into the gaps when the resin layers 341 and 343, which will be described later, are heated, and these are cured and cured. The resin dam layer 321, the resin layer 341, and the conductor layer 333, and the resin dam layer 322, the resin layer 343, and the conductor layer 334 can be laminated through the cured product.

本実施形態においては、樹脂ダム層321の高さ(膜厚)と導体層333及び樹脂層341を併せた高さ(膜厚)とを同等とし、また樹脂ダム層322の高さ(膜厚)と導体層334及び樹脂層343を併せた高さ(膜厚)とを同等としたが、それぞれの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。   In the present embodiment, the height (film thickness) of the resin dam layer 321 and the height (film thickness) of the conductor layer 333 and the resin layer 341 are made equal, and the height (film thickness) of the resin dam layer 322 is made. ) And the combined height (film thickness) of the conductor layer 334 and the resin layer 343, it is of course possible to adjust the film thicknesses appropriately.

導体層333,334は、前述の第1の実施形態の導体層131と同様の方法でそれぞれ樹脂層341の上面部及び樹脂層343の下面部にこれを積み重ねて積層状態にし得る。
また導体層333,334は、後述する樹脂層341,343の加熱時において、樹脂層341,344とそれぞれ積層状態となるようにしてもよい。
The conductor layers 333 and 334 can be stacked on the upper surface portion of the resin layer 341 and the lower surface portion of the resin layer 343 in the same manner as the conductor layer 131 of the first embodiment described above.
Further, the conductor layers 333 and 334 may be laminated with the resin layers 341 and 344 when the resin layers 341 and 343 described later are heated.

樹脂層341,343は、前述の第1の実施形態における樹脂層141と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。   The resin layers 341 and 343 can have the same configuration as the resin layer 141 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method.

樹脂層341,343は、リジッド多層プリント配線板300の製造工程のいずれかの工程における加熱によりこれらに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
また樹脂ダム層3211の側面部321aに接するよう積み重ねられた樹脂層341は樹脂ダム層3211の側面部321aと積層状態となり、樹脂ダム層3212の側面部321dに接するよう積み重ねられた樹脂層341は樹脂ダム層3212の側面部321dと積層状態になり得る。同様に樹脂ダム層3221の側面部322aに接するよう積み重ねられた樹脂層343は樹脂ダム層3221の側面部322aと積層状態となり、樹脂ダム層3222の側面部322dに接するよう積み重ねられた樹脂層343は樹脂ダム層3222の側面部322dと積層状態になり得る。
但し樹脂層341,343を加熱するタイミングによっては、樹脂層341,343の加熱前に樹脂ダム層321と樹脂層341とが、樹脂ダム層322と樹脂層343とがそれぞれ積層状態となっている場合も存在し、この場合は樹脂層341,343の加熱により、樹脂ダム層321と硬化した樹脂層341とが、樹脂ダム層321と硬化した樹脂層343とがそれぞれ積層状態になり得る。
そして樹脂ダム層321は、上記加熱時に樹脂層341から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が導体層322の上面部の2つの樹脂ダム層3211,3212の間隙部分の面まで溶出することを抑制し得る。これにより、導体層322の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板300の膜厚調整を容易にし得る。
また樹脂ダム層322は、上記加熱時に樹脂層343から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が各層構成材において本来付着すべきではない場所に付着し硬化することを抑制し得る。
The resin layers 341 and 343 can be laminated with other layer constituent materials in contact with them by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 300.
In addition, the resin layer 341 stacked to be in contact with the side surface portion 321a of the resin dam layer 3211 is laminated with the side surface portion 321a of the resin dam layer 3211, and the resin layer 341 stacked to be in contact with the side surface portion 321d of the resin dam layer 3212 is The side surface portion 321d of the resin dam layer 3212 can be laminated. Similarly, the resin layer 343 stacked to be in contact with the side surface portion 322 a of the resin dam layer 3221 is laminated with the side surface portion 322 a of the resin dam layer 3221, and the resin layer 343 stacked to be in contact with the side surface portion 322 d of the resin dam layer 3222. Can be laminated with the side surface portion 322 d of the resin dam layer 3222.
However, depending on the timing at which the resin layers 341 and 343 are heated, the resin dam layer 321 and the resin layer 341 are laminated, and the resin dam layer 322 and the resin layer 343 are laminated before the resin layers 341 and 343 are heated. In some cases, by heating the resin layers 341 and 343, the resin dam layer 321 and the cured resin layer 341 can be laminated with the resin dam layer 321 and the cured resin layer 343, respectively.
The resin dam layer 321 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 341 during the heating, and the resin composition is formed by the two resin dam layers 3211 and 3212 on the upper surface portion of the conductor layer 322. Elution to the surface of the gap portion can be suppressed. Thereby, the upper surface part of the conductor layer 322 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 300 can be facilitated.
Further, the resin dam layer 322 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 343 during the heating, and the resin composition adheres to and cures at a place where the resin composition should not originally adhere in each layer constituent material. This can be suppressed.

また本実施形態においては、導体層332の上面部のうち2つの樹脂ダム層3211,3212の間隙部分の面に樹脂層342を、導体層331の下面部のうち2つの樹脂ダム層3221,3222の間隙部分の面に樹脂層344をそれぞれ積み重ねる。   In the present embodiment, the resin layer 342 is provided on the surface of the gap between the two resin dam layers 3211 and 3212 in the upper surface portion of the conductor layer 332, and the two resin dam layers 3221 and 3222 in the lower surface portion of the conductor layer 331. The resin layers 344 are stacked on the surface of the gap portion.

樹脂層342,344は、前述の第1の実施形態における樹脂層142と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。なお作製されるリジッド多層プリント配線板300を屈曲状態で使用する場合、後述する加熱及び/または紫外線照射等によりそれぞれが導体層332,331と積層状態となった樹脂層342,344が可撓性を有するようにこれらの形成に用いる樹脂組成物の成分を調整することが望ましい。   The resin layers 342 and 344 can have the same configuration as the resin layer 142 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method. When the rigid multilayer printed wiring board 300 to be produced is used in a bent state, the resin layers 342 and 344 that are laminated with the conductor layers 332 and 331 by heating and / or ultraviolet irradiation described later are flexible. It is desirable to adjust the components of the resin composition used for these formations so as to have

樹脂層342,344は、リジッド多層プリント配線板300の製造工程のいずれかの工程において加熱及び/または紫外線照射等されて硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。なお、上記加熱は、樹脂層341,343の加熱と同時に行ってもよい。   The resin layers 342 and 344 may be cured by being heated and / or irradiated with ultraviolet rays or the like in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 300, and may be laminated with other layer constituent materials in contact therewith. Note that the heating may be performed simultaneously with the heating of the resin layers 341 and 343.

本実施形態においては、樹脂層342,344は他の層構成材を積み重ねた後にそれぞれ導体層332の上面部及び導体層331の下面部に積み重ねられたが、例えば他の層構成材の積み重ね前または他の層構成材の積み重ねと同時にそれぞれ導体層332の上面部及び導体層331の下面部に積み重ねられてもよい。
また本実施形態においては導体層332の上面部及び導体層331の下面部にそれぞれ樹脂ダム層321,322を形成したが、例えば樹脂層342の上面部に樹脂ダム層321を形成し、樹脂ダム層321を形成した樹脂層342を導体層332の上面部の所定位置に積み重ねてもよく、樹脂層344の下面部に樹脂ダム層322を形成し、樹脂ダム層322を形成した樹脂層344を導体層331の下面部の所定位置に積み重ねてもよい。
またコア材311の上面部311aのうち、樹脂ダム層3211,3212の間隙部分にあたる面に導体層332を設けない場合、例えば当該部分に積層された導体層332をエッチング処理等により除去し、コア材311の上面部311aのうち導体層332が除去された部分に樹脂ダム層321を形成して他の層構成材を積み重ねる場合、樹脂層342はリジッド多層プリント配線板300の構成要素から除外してもよい。同様にコア材311の下面部311bのうち、樹脂ダム層3221,3222の間隙部分にあたる面に導体層331を積層しない場合、例えば当該部分に積層された導体層331をエッチング処理等により除去し、コア材311の下面部311bのうち導体層331が除去された部分に樹脂ダム層322を形成して他の層構成材を積み重ねる場合、樹脂層344はリジッド多層プリント配線板300の構成要素から除外してもよい。
In this embodiment, the resin layers 342 and 344 are stacked on the upper surface portion of the conductor layer 332 and the lower surface portion of the conductor layer 331 after stacking other layer constituent materials, respectively, for example, before stacking other layer constituent materials Alternatively, they may be stacked on the upper surface portion of the conductor layer 332 and the lower surface portion of the conductor layer 331 simultaneously with the stacking of other layer constituent materials.
In this embodiment, the resin dam layers 321 and 322 are formed on the upper surface portion of the conductor layer 332 and the lower surface portion of the conductor layer 331, respectively. For example, the resin dam layer 321 is formed on the upper surface portion of the resin layer 342, and the resin dam is formed. The resin layer 342 on which the layer 321 is formed may be stacked at a predetermined position on the upper surface portion of the conductor layer 332, the resin dam layer 322 is formed on the lower surface portion of the resin layer 344, and the resin layer 344 on which the resin dam layer 322 is formed is formed. The conductor layer 331 may be stacked at a predetermined position on the lower surface portion.
When the conductor layer 332 is not provided on the surface corresponding to the gap between the resin dam layers 3211 and 3212 in the upper surface portion 311a of the core material 311, for example, the conductor layer 332 laminated on the portion is removed by etching or the like. In the case where the resin dam layer 321 is formed on the portion of the upper surface portion 311a of the material 311 where the conductor layer 332 is removed and another layer constituent material is stacked, the resin layer 342 is excluded from the components of the rigid multilayer printed wiring board 300. May be. Similarly, when the conductor layer 331 is not laminated on the surface corresponding to the gap between the resin dam layers 3221 and 3222 in the lower surface portion 311b of the core material 311, for example, the conductor layer 331 laminated on the portion is removed by an etching process or the like, When the resin dam layer 322 is formed on the portion of the lower surface portion 311b of the core material 311 where the conductor layer 331 is removed and another layer constituent material is stacked, the resin layer 344 is excluded from the components of the rigid multilayer printed wiring board 300. May be.

そして樹脂ダム層321,322及び樹脂層341,342,343,344を硬化状態とし、また各々接する層構成材を積層状態とすることにより、本実施形態のリジッド多層プリント配線板300が作製される(図7(d)参照)。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板300は、図7(d)で表わされるように、樹脂ダム層3211の側面部321b、樹脂ダム層3212の側面部321cがリジッド多層プリント配線板300の側面部300a,300bをそれぞれ構成するように積層されている。また樹脂ダム層3221の側面部322b、樹脂ダム層3222の側面部322cがリジッド多層プリント配線板300の側面部300c,300dをそれぞれ構成するように積層されている。
また樹脂層342は樹脂ダム層321を備える導体層332の上面部と積層状態となり、且つ樹脂ダム層321と接するよう積層されている。そしてリジッド多層プリント配線板300は、樹脂層342の上面部とリジッド多層プリント配線板300の側面部300aとがL字型(リジッド多層プリント配線板300の側面部300aを縦線、樹脂層342の上面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層342の上面部とリジッド多層プリント配線板300の側面部300bとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板300の側面部300bを縦線、樹脂層342の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
更に樹脂層344は樹脂ダム層322を備える導体層331の下面部と積層状態となり、且つ樹脂ダム層322と接するよう積層されている。そしてリジッド多層プリント配線板300は、樹脂層344の下面部とリジッド多層プリント配線板300の側面部300cとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板300の側面部300cを縦線、樹脂層344の下面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層344の下面面部とリジッド多層プリント配線板300の側面部300dとがL字型(リジッド多層プリント配線板300の側面部300dを縦線、樹脂層344の下面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板300はこのような構成となることにより、導体層333の上面部から導体層331の下面部までの高さ(膜厚H1)と樹脂層342の上面部から導体層331の下面部までの高さ(膜厚H2)とを異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
Then, the resin dam layers 321 and 322 and the resin layers 341, 342, 343, and 344 are set in a cured state, and the layer constituent materials that are in contact with each other are set in a laminated state, whereby the rigid multilayer printed wiring board 300 of this embodiment is manufactured. (See FIG. 7 (d)).
In the rigid multilayer printed wiring board 300 of this embodiment, as shown in FIG. 7D, the side surface portion 321 b of the resin dam layer 3211 and the side surface portion 321 c of the resin dam layer 3212 are side surfaces of the rigid multilayer printed wiring board 300. The layers 300a and 300b are stacked so as to constitute each. Further, the side surface portion 322b of the resin dam layer 3221 and the side surface portion 322c of the resin dam layer 3222 are laminated so as to constitute the side surface portions 300c and 300d of the rigid multilayer printed wiring board 300, respectively.
Further, the resin layer 342 is laminated with the upper surface portion of the conductor layer 332 including the resin dam layer 321 and is in contact with the resin dam layer 321. In the rigid multilayer printed wiring board 300, the upper surface portion of the resin layer 342 and the side surface portion 300a of the rigid multilayer printed wiring board 300 are L-shaped (the side surface portion 300a of the rigid multilayer printed wiring board 300 is a vertical line, and the resin layer 342 has The upper surface portion of the resin layer 342 and the side surface portion 300b of the rigid multilayer printed wiring board 300 are formed in an inverted L shape (the side surface portion 300b of the rigid multilayer printed wiring board 300). Vertical lines, and the upper surface portion of the resin layer 342 as horizontal lines).
Further, the resin layer 344 is laminated with the lower surface portion of the conductor layer 331 including the resin dam layer 322 and is in contact with the resin dam layer 322. In the rigid multilayer printed wiring board 300, the lower surface portion of the resin layer 344 and the side surface portion 300c of the rigid multilayer printed wiring board 300 are inverted L-shaped (the side surface portion 300c of the rigid multilayer printed wiring board 300 is a vertical line, and the resin layer 344 is formed. The bottom surface portion of the resin layer 344 and the side surface portion 300d of the rigid multilayer printed wiring board 300 form an L-shape (the side surface portion 300d of the rigid multilayer printed wiring board 300). Vertical lines, and the lower surface portion of the resin layer 344 as horizontal lines).
The rigid multilayer printed wiring board 300 of the present embodiment has such a configuration, so that the height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 333 to the lower surface portion of the conductor layer 331 and the upper surface portion of the resin layer 342 are increased. The thickness (film thickness H2) to the lower surface portion of the conductor layer 331 can be made different, that is, the film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1.

リジッド多層プリント配線板300において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 300, the film thickness H1 is desirably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

このように、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板300は、リジッド多層プリント配線板300のコアとなる層(コア材311)に間隙部分を形成する工程が不要であり、層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板300の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得る。   As described above, the rigid multilayer printed wiring board 300 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment does not require a step of forming a gap portion in a layer (core material 311) that becomes a core of the rigid multilayer printed wiring board 300. The film thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 300 can be easily adjusted by adjusting the stacking position of each layer constituent material in the step of stacking the layer constituent materials.

導体層331,332,333,334は、リジッド多層プリント配線板300の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductive layers 331, 332, 333, and 334 can remove unnecessary portions by etching or the like so as to form a desired circuit pattern in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 300.

樹脂層341,343のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。また樹脂層342,344のような表層絶縁層となる樹脂層の膜厚は、硬化状態において5μm以上30μm以下であることが望ましい。
また導体層331,332,333,334の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layers 341 and 343 is preferably 20 μm or more in the cured state. In addition, the thickness of the resin layer serving as the surface insulating layer such as the resin layers 342 and 344 is desirably 5 μm or more and 30 μm or less in the cured state.
The film thickness of the conductor layers 331, 332, 333, and 334 is preferably 5 μm or more and 300 μm or less.

なお、本実施形態においては、各層構成材の積み重ね及び積層は、例えば1層ずつ積み重ねて積層してもよく、複数の層構成材を積み重ねて積層してもよく、またこれらの組み合わせであってもよい。   In the present embodiment, stacking and stacking of each layer constituent material may be performed by stacking, for example, one layer at a time, or a plurality of layer constituent materials may be stacked and stacked, or a combination thereof. Also good.

また本実施形態においては、銅張積層板361を使用したが、例えばコア材311の上面部311aと下面部311bにそれぞれ導体層331,332を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいてもよい。   In the present embodiment, the copper clad laminate 361 is used. However, for example, a step of stacking the conductor layers 331 and 332 on the upper surface portion 311a and the lower surface portion 311b of the core material 311 may be included. .

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板300のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板300の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層331,332,333,334を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板300における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層333,334の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In this embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 300. For example, after all layer constituent materials that are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 300 are in a laminated state, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof to form conductor layers 331, 332, and 333. , 334 may be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 300.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 333 and 334 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is manufactured.

またリジッド多層プリント配線板300を屈曲させた構成を図8を参照して説明する。
図8(a)に表されるように、リジッド多層プリント配線板300は、導体層334が最外層となるように樹脂層342,344が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることができる。更には図8(b)に表されるように、リジッド多層プリント配線板300は、導体層333が最外層となるようにも樹脂層342,344が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることができる。
このようにリジッド多層プリント配線板300は、導体層333側を最外層とするようにも、導体層334側を最外層とするようにも、いずれの方向にも屈曲状態で使用することができるため、電子制御装置内のスペースを更に効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板300への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を更に広げることができる。
A configuration in which the rigid multilayer printed wiring board 300 is bent will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 8A, the rigid multilayer printed wiring board 300 bends the portion where the resin layers 342 and 344 are laminated (the film thickness is H2) so that the conductor layer 334 is the outermost layer. be able to. Further, as shown in FIG. 8B, in the rigid multilayer printed wiring board 300, the resin layers 342 and 344 are laminated (the film thickness is H2) so that the conductor layer 333 is the outermost layer. Can be bent.
In this way, the rigid multilayer printed wiring board 300 can be used in a bent state in either direction, whether the conductor layer 333 side is the outermost layer or the conductor layer 334 side is the outermost layer. Therefore, the space in the electronic control device can be utilized more efficiently, and the degree of freedom in designing (mounting) the electronic component on the rigid multilayer printed wiring board 300 and the design of the electronic control device incorporating the electronic component is further increased. Can be spread.

そしてリジッド多層プリント配線板300は、屈曲させる部分(樹脂層342,344が積層された(膜厚H2となる)部分)の材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。   The rigid multilayer printed wiring board 300 can adjust the film thickness without selecting the material of the part to be bent (the part where the resin layers 342 and 344 are laminated (the film thickness becomes H2)). Since a material having high heat resistance and durability can be used and a resin having special performance can be used, high reliability can be realized.

更にはリジッド多層プリント配線板300のうち、膜厚H2となる部分を構成するコア材311及び導体層331,332と膜厚H1となる部分を構成するコア材311及び導体層331,332(333,334)とは各々同じ材質となり得るため、熱膨張係数の差を抑え、破損の発生を抑制することもできる。またこれらの材質が同一の場合には誘電率も一致することから、これらを異なる材質とした場合と比較して、高周波特性への対応を容易に行うことができる。
そして膜厚H2となる部分を構成する各層構成材と膜厚H1となる部分を構成する各層構成材との材質を同一にでき、また既存の層構成材を利用し得ることから、既存の層構成材について既に取得した信頼性評価等(例えば回路、スルーホール等について)の結果をリジッド多層プリント配線板300自体の信頼性評価に一部流用することができ、これに要するコストや時間を抑制することができる。
Further, in the rigid multilayer printed wiring board 300, the core material 311 and the conductor layers 331 and 332 constituting the portion having the film thickness H2, and the core material 311 and the conductor layers 331 and 332 (333) constituting the portion having the film thickness H1. , 334) can be made of the same material, so that the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed and the occurrence of breakage can also be suppressed. Further, when these materials are the same, the dielectric constants also match, so that it is possible to easily cope with high frequency characteristics as compared with the case where these materials are different.
And since the material of each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H2 and each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H1 can be made the same, and since the existing layer constituent material can be utilized, the existing layer The results of reliability evaluation, etc. that have already been acquired for the components (for example, circuits, through-holes, etc.) can be partially used for reliability evaluation of the rigid multilayer printed wiring board 300 itself, and the cost and time required for this can be suppressed. can do.

なお、リジッド多層プリント配線板300においては、樹脂ダム層3211の側面部321a,321b、樹脂ダム層3212の側面部321c,321dと、樹脂ダム層3221の側面部322a,322b、樹脂ダム層3222の側面部322c,322dとがそれぞれが垂直上で同一直線上に存するように構成されているが、例えば図9に示す第3の実施形態の変形例のように、樹脂ダム層321の各側面部と樹脂ダム層322の各側面部とがそれぞれ垂直上で同一直線上に存しないように、または一部のみが垂直上で同一直線上に存するように樹脂ダム層321,322形成してもよい。
このようなリジッド多層プリント配線板300は、これがSの字状や波型状となるように膜厚H2となる部分を屈曲させることができるため、電子制御装置内のスペースを更に効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板300への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を更に広げることができる。
In the rigid multilayer printed wiring board 300, the side surfaces 321 a and 321 b of the resin dam layer 3211, the side surfaces 321 c and 321 d of the resin dam layer 3212, the side surfaces 322 a and 322 b of the resin dam layer 3221, and the resin dam layer 3222. The side surface portions 322c and 322d are configured to be vertically and collinear, but each side surface portion of the resin dam layer 321 is, for example, a modification of the third embodiment shown in FIG. The resin dam layers 321 and 322 may be formed such that the side surfaces of the resin dam layer 322 do not exist vertically and on the same straight line, or only part of the resin dam layers 322 exist on the same straight line. .
Since such a rigid multilayer printed wiring board 300 can bend the portion having the film thickness H2 so that it is S-shaped or corrugated, the space in the electronic control device is more efficiently utilized. In addition, the degree of freedom in mounting (designing) electronic components on the rigid multilayer printed wiring board 300 and designing an electronic control device incorporating the electronic components can be further expanded.

<第4の実施形態>
第4の実施形態について、図10を参照して説明する。
先ず、コア材411の上面部411a及び下面部412bにそれぞれ導体層431,432が積層された銅張積層板461を用意する(図10(a)参照)。
銅張積層板461は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
<Fourth Embodiment>
A fourth embodiment will be described with reference to FIG.
First, a copper clad laminate 461 in which conductor layers 431 and 432 are respectively laminated on the upper surface portion 411a and the lower surface portion 412b of the core material 411 is prepared (see FIG. 10A).
For the copper-clad laminate 461, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.

次いで銅張積層板461を構成する導体層432の上面部(コア材411の上面部411aと接していない方の面)に樹脂ダム層421を形成する(図10(b)参照)。
導体層432の上面部への樹脂ダム層421の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また本実施形態においては、樹脂ダム層421は導体層432の上面部に2つ形成される(樹脂ダム層4211,4212)が、作製されるリジッド多層プリント配線板400の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層421の数は1つであってもよく、また複数であってもよい。
樹脂ダム層421を形成する層構成材及びその位置は、作製されるリジッド多層プリント配線板400の設計内容やその膜厚を調整したい位置等により適宜調整できる。本実施形態においては、樹脂ダム層4211の側面部421b、樹脂ダム層4212の側面部421cが後述するリジッド多層プリント配線板400の側面部400a,400bをそれぞれ構成するように位置を調整して樹脂ダム層421を形成することが望ましい。
また樹脂ダム層421の膜厚は、作製されるリジッド多層プリント配線板400の膜厚、樹脂ダム層421を形成する層構成材及び他の層構成材の膜厚等により適宜調整し得る。
また樹脂ダム層421はリジッド多層プリント配線板400の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する樹脂層443の加熱や樹脂層422の加熱と同時に行ってもよい。
Next, a resin dam layer 421 is formed on the upper surface portion of the conductor layer 432 constituting the copper-clad laminate 461 (the surface not in contact with the upper surface portion 411a of the core material 411) (see FIG. 10B).
For the formation of the resin dam layer 421 on the upper surface portion of the conductor layer 432, a method similar to the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be adopted.
In the present embodiment, two resin dam layers 421 are formed on the upper surface of the conductor layer 432 (resin dam layers 4211 and 4212), and the thickness of the rigid multilayer printed wiring board 400 to be manufactured can be adjusted. In this case, the number of the resin dam layers 421 to be formed may be one or plural.
The layer constituting material for forming the resin dam layer 421 and the position thereof can be appropriately adjusted depending on the design content of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 400, the position where the film thickness is to be adjusted, and the like. In this embodiment, the position is adjusted so that the side surface portion 421b of the resin dam layer 4211 and the side surface portion 421c of the resin dam layer 4212 constitute side surfaces 400a and 400b of the rigid multilayer printed wiring board 400 described later, respectively. It is desirable to form the dam layer 421.
Further, the film thickness of the resin dam layer 421 can be appropriately adjusted depending on the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board 400 to be produced, the layer constituent material forming the resin dam layer 421, the film thickness of other layer constituent materials, and the like.
Further, the resin dam layer 421 can be cured by at least one of ultraviolet curing and thermal curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 400, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
Note that the thermosetting may be performed simultaneously with the heating of the resin layer 443 and the heating of the resin layer 422 described later.

そして樹脂ダム層4211の側面部421b、樹脂ダム層4212の側面部421cが後述するリジッド多層プリント配線板400の側面部400a,400bをそれぞれ構成するように、導体層432の上面部側に樹脂層441として中間材、導体層433、樹脂層443及び導体層434が積み重ねられる(図10(c)参照)。
本実施形態においては、導体層432の上面部の2つの樹脂ダム層4211,4212の間隙部分以外の面に樹脂層441、導体層433、樹脂層443及び導体層434が積み重ねられる。
即ち図10(c)で表されるように、樹脂ダム層421の高さ(膜厚)と樹脂層441及び導体層433を併せた高さ(膜厚)とを同程度とし、且つ、1つずつの樹脂層441及び導体層433が樹脂ダム層4211の側面部421aの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて導体層332の上面部に積み重ねられる。また別の1つずつの樹脂層441及び導体層433が樹脂ダム層4212の側面部421dの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて導体層332の上面部に積み重ねられる。
更には、本実施形態においては、一方の導体層433の上面部側に1つずつの樹脂層443及び導体層434が、樹脂ダム層4211の上面部を覆うように、且つ導体層434の一側面部434a及び樹脂層443の一側面部443aが樹脂ダム層4211の側面部421bと垂直上で同一直線上に存するように積み重ねられる。また他方の導体層433の上面部側に別の1つずつの樹脂層443及び導体層434が、樹脂ダム層4212の上面部を覆うように、且つ導体層434の一側面部434b及び樹脂層443の一側面部443bが樹脂ダム層4212の側面部421cと垂直上で同一直線上に存するように積み重ねられる。
このように各層構成材を積み重ねることにより、樹脂ダム層4211の側面部421b、導体層434の側面部434a及び樹脂層443の側面部443aがリジッド多層プリント配線板400の側面部400aを構成し、樹脂ダム層4212の側面部421c、導体層434の側面部434b及び樹脂層443の側面部443bがリジッド多層プリント配線板400の側面部400bを構成し得る。このような構成となることにより、後述するように、リジッド多層プリント配線板400は、導体層431が最外層となるように屈曲状態で使用し得る。
このように、本実施形態においては樹脂ダム層よりも外層に位置するよう積み重ねられる層構成材については、その一側面部が樹脂ダム層のいずれかの側面部と併せてリジッド多層プリント配線板の側面部の一部を構成するように積み重ねることができる。これは他の実施形態においても同様である。
The resin layer is formed on the upper surface of the conductor layer 432 so that the side surface portion 421b of the resin dam layer 4211 and the side surface portion 421c of the resin dam layer 4212 constitute side surfaces 400a and 400b of the rigid multilayer printed wiring board 400 described later. As 441, an intermediate material, a conductor layer 433, a resin layer 443, and a conductor layer 434 are stacked (see FIG. 10C).
In the present embodiment, the resin layer 441, the conductor layer 433, the resin layer 443, and the conductor layer 434 are stacked on the surface of the upper surface portion of the conductor layer 432 other than the gap between the two resin dam layers 4211 and 4212.
That is, as shown in FIG. 10C, the height (film thickness) of the resin dam layer 421 and the height (film thickness) of the resin layer 441 and the conductor layer 433 are set to be approximately equal, and 1 The resin layer 441 and the conductor layer 433 are stacked on the upper surface portion of the conductor layer 332 with a slight gap provided in the vicinity of the side surface portion 421a of the resin dam layer 4211 so as not to come into contact therewith. Another resin layer 441 and conductor layer 433 are stacked on the upper surface portion of the conductor layer 332 with a slight gap provided in the vicinity of the side surface portion 421d of the resin dam layer 4212 so as not to come into contact therewith. .
Furthermore, in the present embodiment, one resin layer 443 and one conductor layer 434 are provided on the upper surface portion side of one conductor layer 433 so as to cover the upper surface portion of the resin dam layer 4211 and one conductor layer 434 is provided. The side surface portion 434a and the one side surface portion 443a of the resin layer 443 are stacked so as to be vertically aligned with the side surface portion 421b of the resin dam layer 4211. Further, another one resin layer 443 and one conductor layer 434 on the upper surface portion side of the other conductor layer 433 cover the upper surface portion of the resin dam layer 4212, and one side surface portion 434 b and the resin layer of the conductor layer 434. One side surface portion 443b of 443 is stacked so as to exist on the same straight line as the side surface portion 421c of the resin dam layer 4212.
By stacking the layer constituent materials in this manner, the side surface portion 421b of the resin dam layer 4211, the side surface portion 434a of the conductor layer 434, and the side surface portion 443a of the resin layer 443 constitute the side surface portion 400a of the rigid multilayer printed wiring board 400. The side surface portion 421c of the resin dam layer 4212, the side surface portion 434b of the conductor layer 434, and the side surface portion 443b of the resin layer 443 can constitute the side surface portion 400b of the rigid multilayer printed wiring board 400. With this configuration, the rigid multilayer printed wiring board 400 can be used in a bent state so that the conductor layer 431 is the outermost layer, as will be described later.
As described above, in the present embodiment, for the layer constituent material that is stacked so as to be positioned outside the resin dam layer, one side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board is combined with one of the side surface portions of the resin dam layer. They can be stacked to form part of the side part. The same applies to other embodiments.

本実施形態においては、樹脂ダム層421の高さ(膜厚)と樹脂層441及び導体層433を併せた高さ(膜厚)とを同等としたが、樹脂層443及び導体層434含め、それぞれの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。   In the present embodiment, the height (film thickness) of the resin dam layer 421 and the height (film thickness) of the resin layer 441 and the conductor layer 433 are made equal, but the resin layer 443 and the conductor layer 434 are included. Of course, each film thickness may be adjusted appropriately.

導体層433,434は、前述の第1の実施形態の導体層131と同様の方法でそれぞれ樹脂層441の上面部及び樹脂層443の上面部にこれを積み重ねて積層状態にし得る。
また導体層433,434は、後述する樹脂層441,443の加熱時において樹脂層441,443とそれぞれ積層状態となるようにしてもよい。
The conductor layers 433 and 434 can be stacked on the upper surface portion of the resin layer 441 and the upper surface portion of the resin layer 443 by a method similar to that of the conductor layer 131 of the first embodiment described above.
The conductor layers 433 and 434 may be laminated with the resin layers 441 and 443 when the resin layers 441 and 443 described later are heated.

樹脂層441,443は、前述の第1の実施形態における樹脂層141と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。   The resin layers 441 and 443 can have the same configuration as the resin layer 141 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method.

樹脂層441,443は、リジッド多層プリント配線板400の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
そして上記加熱時に、樹脂ダム層4211の側面部421a側にそれぞれ積み重ねられた樹脂層441から流出した樹脂組成物は、図10(e)に表される樹脂ダム層4211の側面部421a、導体層432,433及び樹脂層441,443に囲まれた間隙部に流入し、これが硬化して樹脂層4441(樹脂硬化物)となる。また上記加熱時に、樹脂ダム層4212の側面部421d側に積み重ねられた樹脂層441から流出した樹脂組成物は、図10(e)に表される樹脂ダム層4212の側面部421d、導体層432,433及び樹脂層441,443に囲まれた間隙部に流入し、これが硬化して樹脂層4442(樹脂硬化物)となる。
The resin layers 441 and 443 can be cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 400 and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
During the heating, the resin composition flowing out from the resin layer 441 stacked on the side surface portion 421a side of the resin dam layer 4211 is the side surface portion 421a of the resin dam layer 4211 shown in FIG. The resin flows into a gap surrounded by 432 and 433 and the resin layers 441 and 443, and is cured to form a resin layer 4441 (cured resin). Further, during the heating, the resin composition flowing out from the resin layer 441 stacked on the side surface portion 421d side of the resin dam layer 4212 has a side surface portion 421d of the resin dam layer 4212 and the conductor layer 432 shown in FIG. , 433 and the resin layers 441, 443, and is cured to form a resin layer 4442 (cured resin).

そして、樹脂層4441を介して樹脂ダム層4211(側面部421a側)と導体層433及び樹脂層441とが隣接するように積層状態となり、樹脂層4442を介して樹脂ダム層4212(側面部421d側)と導体層433及び樹脂層441とが隣接するように積層状態になり得る(図10(e)参照)。
このように、樹脂ダム層421は、上記加熱時に樹脂層441から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が導体層432の上面部の2つの樹脂ダム層4211,4212の間隙部分の面まで溶出することを抑制し得る。これにより、導体層432の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板400の膜厚調整を容易にし得る。
Then, the resin dam layer 4211 (side surface portion 421a side), the conductor layer 433, and the resin layer 441 are laminated so as to be adjacent to each other through the resin layer 4441, and the resin dam layer 4212 (side surface portion 421d) is interposed through the resin layer 4442. Side), the conductor layer 433, and the resin layer 441 may be in a stacked state (see FIG. 10E).
Thus, the resin dam layer 421 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 441 during the heating, and the resin composition is in contact with the two resin dam layers 4211 on the upper surface of the conductor layer 432. , 4212 can be prevented from eluting to the surface of the gap portion. Thereby, the upper surface part of the conductor layer 432 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 400 can be facilitated.

また本実施形態においては、導体層432の上面部のうち2つの樹脂ダム層4211,4212の間隙部分の面に樹脂層442を積み重ねる。   In the present embodiment, the resin layer 442 is stacked on the surface of the gap between the two resin dam layers 4211 and 4212 in the upper surface portion of the conductor layer 432.

樹脂層442は、前述の第1の実施形態における樹脂層142と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。なお作製されるリジッド多層プリント配線板400を屈曲状態で使用する場合、後述する加熱及び/または紫外線照射等により導体層432と積層状態となった樹脂層442が可撓性を有するように前記樹脂組成物の成分を調整することが望ましい。   The resin layer 442 can have the same configuration as that of the resin layer 142 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method. When the rigid multilayer printed wiring board 400 to be produced is used in a bent state, the resin layer 442 that is laminated with the conductor layer 432 by heating and / or ultraviolet irradiation, which will be described later, is flexible. It is desirable to adjust the components of the composition.

樹脂層442は、リジッド多層プリント配線板400の製造工程のいずれかの工程において加熱及び/または紫外線照射等されて硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。なお、上記加熱は、樹脂層441,443の加熱と同時に行ってもよい。   The resin layer 442 may be cured by being heated and / or irradiated with ultraviolet rays or the like in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 400, and may be laminated with another layer constituent material in contact therewith. Note that the heating may be performed simultaneously with the heating of the resin layers 441 and 443.

本実施形態においては、樹脂層442は他の層構成材を積み重ねた後に導体層432の上面部に積み重ねられたが、例えば他の層構成材の積み重ね前または他の層構成材の積み重ねと同時に導体層432の上面部に積み重ねられてもよい。
また本実施形態においては導体層432の上面部に樹脂ダム層421を形成したが、例えば樹脂層442の上面部に樹脂ダム層421を形成した樹脂層442を導体層432の上面部の所定位置に積み重ねてもよい。
またコア材411の上面部411aのうち、樹脂ダム層421の間隙部分にあたる面に導体層432を設けない場合、例えば当該部分に積層された導体層432をエッチング処理等により除去し、コア材411の上面部411aのうち導体層432が除去された部分に樹脂ダム層421を形成して他の層構成材を積み重ねる場合、樹脂層442はリジッド多層プリント配線板400の構成要素から除外してもよい。
In this embodiment, the resin layer 442 is stacked on the upper surface portion of the conductor layer 432 after stacking other layer constituent materials. For example, before the other layer constituent materials are stacked or simultaneously with stacking of other layer constituent materials. The conductive layer 432 may be stacked on the upper surface portion.
In this embodiment, the resin dam layer 421 is formed on the upper surface portion of the conductor layer 432. For example, the resin layer 442 having the resin dam layer 421 formed on the upper surface portion of the resin layer 442 is disposed at a predetermined position on the upper surface portion of the conductor layer 432. May be stacked.
Further, when the conductor layer 432 is not provided on the surface corresponding to the gap portion of the resin dam layer 421 in the upper surface portion 411a of the core material 411, for example, the conductor layer 432 laminated on the portion is removed by an etching process or the like. In the case where the resin dam layer 421 is formed on the portion of the upper surface portion 411a from which the conductor layer 432 is removed and another layer constituent material is stacked, the resin layer 442 may be excluded from the components of the rigid multilayer printed wiring board 400. Good.

そして樹脂ダム層421及び樹脂層441,443,4441,4442を硬化状態とし、また各々接する層構成材を積層状態とすることにより、本実施形態のリジッド多層プリント配線板400が作製される(図10(e)参照)。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板400は、図10(d)で表すように、樹脂ダム層4211の側面部421b、樹脂ダム層4212の側面部421cがリジッド多層プリント配線板400の側面部400a,400bをそれぞれ構成するように積層されている。
また樹脂層442は樹脂ダム層421を備える導体層432の上面部と積層状態となり、且つ樹脂ダム層421と接するよう積層されている。そしてリジッド多層プリント配線板400は、樹脂層442の上面部とリジッド多層プリント配線板400の側面部400aとがL字型(リジッド多層プリント配線板400の側面部400aを縦線、樹脂層442の上面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層442の上面部とリジッド多層プリント配線板400の側面部400bとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板400の側面部400bを縦線、樹脂層442の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板400はこのような構成となることにより、導体層434の上面部から導体層431の下面部までの高さ(膜厚H1)と樹脂層442の上面部から導体層431の下面部までの高さ(膜厚H2)とを異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
Then, the resin dam layer 421 and the resin layers 441, 443, 4441, and 4442 are set in a cured state, and the layer constituent materials in contact with each other are set in a laminated state, whereby the rigid multilayer printed wiring board 400 of the present embodiment is manufactured (FIG. 10 (e)).
In the rigid multilayer printed wiring board 400 of this embodiment, as shown in FIG. 10D, the side surface portion 421b of the resin dam layer 4211 and the side surface portion 421c of the resin dam layer 4212 are the side surface portion 400a of the rigid multilayer printed wiring board 400. , 400b are stacked.
Further, the resin layer 442 is laminated with the upper surface portion of the conductor layer 432 including the resin dam layer 421 and is in contact with the resin dam layer 421. In the rigid multilayer printed wiring board 400, the upper surface portion of the resin layer 442 and the side surface portion 400a of the rigid multilayer printed wiring board 400 are L-shaped (the side surface portion 400a of the rigid multilayer printed wiring board 400 is a vertical line, and the resin layer 442 The upper surface portion of the resin layer 442 and the side surface portion 400b of the rigid multilayer printed wiring board 400 form an inverted L-shape (the side surface portion 400b of the rigid multilayer printed wiring board 400). Vertical lines, and the upper surface portion of the resin layer 442 as horizontal lines).
The rigid multilayer printed wiring board 400 of the present embodiment has such a configuration, so that the height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 434 to the lower surface portion of the conductor layer 431 and the upper surface portion of the resin layer 442 are reduced. The thickness (film thickness H2) to the lower surface portion of the conductor layer 431 can be made different, that is, the film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1.

リジッド多層プリント配線板400において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 400, the film thickness H1 is preferably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

このように、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板400は、リジッド多層プリント配線板400のコアとなる層(コア材411)に間隙部分を形成する工程が不要であり、また層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板400の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得る。   As described above, the rigid multilayer printed wiring board 400 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment does not require a step of forming a gap portion in a layer (core material 411) serving as a core of the rigid multilayer printed wiring board 400. Moreover, the film thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 400 can be easily adjusted by adjusting the stacking position of each layer constituent material in the step of stacking the layer constituent materials.

導体層431,432,433,434は、リジッド多層プリント配線板400の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductive layers 431, 432, 433, and 434 can remove unnecessary portions by etching or the like so as to form a desired circuit pattern in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 400.

樹脂層441,443のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。また樹脂層442のような表層絶縁層となる樹脂層の膜厚は、硬化状態において5μm以上30μm以下であることが望ましい。
また導体層431,432,433,434の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layers 441 and 443 is desirably 20 μm or more in the cured state. In addition, the thickness of the resin layer serving as a surface insulating layer such as the resin layer 442 is preferably 5 μm or more and 30 μm or less in the cured state.
The film thickness of the conductor layers 431, 432, 433, and 434 is preferably 5 μm or more and 300 μm or less.

なお、本実施形態においては、各層構成材の積み重ね及び積層は、例えば1層ずつ積み重ねて積層してもよく、複数の層構成材を積み重ねて積層してもよく、またこれらの組み合わせであってもよい。   In the present embodiment, stacking and stacking of each layer constituent material may be performed by stacking, for example, one layer at a time, or a plurality of layer constituent materials may be stacked and stacked, or a combination thereof. Also good.

また本実施形態においては、銅張積層板461を使用したが、例えばコア材411の上面部411aと下面部411bにそれぞれ導体層431,432を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいてもよい。   In the present embodiment, the copper clad laminate 461 is used. However, for example, a step of stacking the conductor layers 431 and 432 on the upper surface portion 411a and the lower surface portion 411b of the core material 411 may be included. .

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板400のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板400の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層431,432,433,434を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板400における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層431,434の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In the present embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 400. For example, after all layer constituent materials that are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 400 are in a laminated state, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof to form conductor layers 431, 432, and 433. , 434 can be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 400.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 431 and 434 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is manufactured.

リジッド多層プリント配線板400は、導体層431が最外層となるように樹脂層442が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることができる。このようにリジッド多層プリント配線板400は屈曲状態で使用することができるため、電子制御装置内のスペースを効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板400への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を広げることができる。
そしてリジッド多層プリント配線板400は、材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。
The rigid multilayer printed wiring board 400 can bend the portion where the resin layer 442 is laminated (having a film thickness H2) so that the conductor layer 431 is the outermost layer. Thus, since the rigid multilayer printed wiring board 400 can be used in a bent state, it is possible to efficiently use the space in the electronic control device and mount electronic components on the rigid multilayer printed wiring board 400 ( Design) and the degree of freedom in designing an electronic control device incorporating the same.
Since the rigid multilayer printed wiring board 400 can adjust its film thickness without selecting a material, for example, a material having high heat resistance and durability can be used in this portion, and a resin having a special performance can be used. Since it can be used, high reliability can be realized.

更にはリジッド多層プリント配線板400のうち、膜厚H2となる部分を構成するコア材411及び導体層431,432と膜厚H1となる部分を構成するコア材411及び導体層431,432(433,434)とは各々同じ材質となり得るため、熱膨張係数の差を抑え、破損の発生を抑制することもできる。またこれらの材質が同一の場合には誘電率も一致することから、これらを異なる材質とした場合と比較して、高周波特性への対応を容易に行うことができる。
そして膜厚H2となる部分を構成する各層構成材と膜厚H1となる部分を構成する各層構成材との材質を同一にでき、また既存の層構成材を利用し得ることから、既存の層構成材について既に取得した信頼性評価等(例えば回路、スルーホール等について)の結果をリジッド多層プリント配線板400自体の信頼性評価に一部流用することができ、これに要するコストや時間を抑制することができる。
Further, in the rigid multilayer printed wiring board 400, the core material 411 and the conductor layers 431 and 432 constituting the portion having the thickness H2, and the core material 411 and the conductor layers 431 and 432 (433) constituting the portion having the thickness H1. , 434) can be made of the same material, so that the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed and the occurrence of breakage can also be suppressed. Further, when these materials are the same, the dielectric constants also match, so that it is possible to easily cope with high frequency characteristics as compared with the case where these materials are different.
And since the material of each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H2 and each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H1 can be made the same, and since the existing layer constituent material can be utilized, the existing layer The results of reliability evaluation, etc. that have already been obtained for component materials (for example, circuits, through holes, etc.) can be partially used for reliability evaluation of the rigid multilayer printed wiring board 400 itself, and the cost and time required for this can be suppressed. can do.

<第5の実施形態>
第5の実施形態について、図11及び図12を参照して説明する。
先ず、コア材511の上面部511a及び下面部511bにそれぞれ導体層531,532が積層された銅張積層板561を用意する。またコア材512の下面部512bに導体層533が積層された銅張積層板562を用意する。(図11(a)参照)。
銅張積層板561は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。また銅張積層板562は、コア材512の上面部512aに導体層が積層されていないこと以外は銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
<Fifth Embodiment>
A fifth embodiment will be described with reference to FIGS. 11 and 12.
First, a copper clad laminate 561 in which conductor layers 531 and 532 are respectively laminated on the upper surface portion 511a and the lower surface portion 511b of the core material 511 is prepared. Also, a copper clad laminate 562 in which a conductor layer 533 is laminated on the lower surface portion 512b of the core material 512 is prepared. (See FIG. 11 (a)).
For the copper-clad laminate 561, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be adopted. Further, the copper clad laminate 562 can use a method similar to the method for producing the copper clad laminate 161 except that the conductor layer is not laminated on the upper surface portion 512a of the core material 512, and can have the same configuration.

次いで銅張積層板561を構成する導体層532の上面部(コア材511の上面部511aと接していない方の面)に樹脂ダム層521を形成する。また銅張積層板562を構成する導体層533の下面部(コア材512の下面部512bと接していない方の面)に樹脂ダム層522を形成する(図11(b)参照)。   Next, a resin dam layer 521 is formed on the upper surface portion of the conductor layer 532 constituting the copper-clad laminate 561 (the surface not in contact with the upper surface portion 511a of the core material 511). Also, a resin dam layer 522 is formed on the lower surface portion of the conductor layer 533 constituting the copper clad laminate 562 (the surface not in contact with the lower surface portion 512b of the core material 512) (see FIG. 11B).

導体層532の上面部への樹脂ダム層521の形成及び導体層533の下面部への樹脂ダム層522の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また本実施形態においては、樹脂ダム層521は導体層532の上面部に2つ形成され(樹脂ダム層5211,5212)、樹脂ダム層522は導体層533の下面部に2つ形成される(樹脂ダム層5221,5222)が、作製されるリジッド多層プリント配線板500の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層521,522の数はそれぞれ1つであってもよく、またそれぞれ複数であってもよい。
樹脂ダム層531,532を形成する層構成材及びその位置は、作製されるリジッド多層プリント配線板500の設計内容やその膜厚を調整したい位置等により適宜調整できる。本実施形態においては、樹脂ダム層5211の側面部521b、樹脂ダム層5221の側面部521cが後述するリジッド多層プリント配線板500の側面部500a,500bをそれぞれ構成するように位置を調整して樹脂ダム層521を形成することが望ましく、樹脂ダム層5221の側面部522b、樹脂ダム層5222の側面部522bが後述するリジッド多層プリント配線板500の側面部500c,500dをそれぞれ構成するように位置を調整して樹脂ダム層522を形成することが望ましい。
また樹脂ダム層521,522の膜厚は、作製されるリジッド多層プリント配線板500の膜厚、樹脂ダム層521,522を形成する層構成材及び他の層構成材の膜厚等により適宜調整し得る。
また樹脂ダム層521,522はリジッド多層プリント配線板500の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する樹脂層541,543や樹脂層542,546の加熱と同時に行ってもよい。
The formation of the resin dam layer 521 on the upper surface portion of the conductor layer 532 and the formation of the resin dam layer 522 on the lower surface portion of the conductor layer 533 are the same as the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above. Can be used, and the same configuration can be adopted.
In this embodiment, two resin dam layers 521 are formed on the upper surface portion of the conductor layer 532 (resin dam layers 5211 and 5212), and two resin dam layers 522 are formed on the lower surface portion of the conductor layer 533 (see FIG. If the resin dam layers 5221 and 5222) can adjust the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board 500 to be produced, the number of the resin dam layers 521 and 522 formed may be one, There may be more than one.
The layer constituent material for forming the resin dam layers 531 and 532 and the position thereof can be appropriately adjusted depending on the design content of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 500 and the position where the film thickness is to be adjusted. In the present embodiment, the position is adjusted so that the side surface portion 521b of the resin dam layer 5211 and the side surface portion 521c of the resin dam layer 5221 constitute side surfaces 500a and 500b of the rigid multilayer printed wiring board 500 described later, respectively. Preferably, the dam layer 521 is formed, and the side surface portion 522b of the resin dam layer 5221 and the side surface portion 522b of the resin dam layer 5222 are positioned so as to constitute side surfaces 500c and 500d of the rigid multilayer printed wiring board 500 described later. It is desirable to adjust to form the resin dam layer 522.
The film thickness of the resin dam layers 521 and 522 is appropriately adjusted depending on the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board 500 to be manufactured, the layer constituent materials forming the resin dam layers 521 and 522 and the film thicknesses of other layer constituent materials. Can do.
Also, the resin dam layers 521 and 522 are cured by at least one of ultraviolet curing and thermal curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 500, and are laminated with other layer constituent materials in contact therewith. obtain.
In addition, you may perform the said thermosetting simultaneously with the heating of the resin layers 541 and 543 and the resin layers 542 and 546 which are mentioned later.

そして樹脂ダム層5211の側面部521b,樹脂ダム層5212の側面部521cが後述するリジッド多層プリント配線板500の側面部500a,500bをそれぞれ構成するように導体層532の上面部側に樹脂層541として中間材及び導体層534が積み重ねられる。また樹脂ダム層5221の側面部522b,樹脂ダム層5222の側面部522cがリジッド多層プリント配線板500の側面部500c,500dをそれぞれ構成するように導体層533の下面部側に樹脂層543として中間材及び導体層535が積み重ねられると共に、銅張積層板561を上側及び銅張積層板562を下側として、銅張積層板561,562が積み重ねられる(図11(c)参照)。
本実施形態においては、導体層532の上面部の2つの樹脂ダム層5211,5212の間隙部分以外の面に樹脂層541及び導体層534が積み重ねられ、導体層531の下面部の2つの樹脂ダム層5221,5222の間隙部分以外の面に樹脂層543及び導体層535が積み重ねられる。
即ち図11(c)で表すように、樹脂ダム層521の高さ(膜厚)と樹脂層541及び導体層534を併せた高さ(膜厚)とを同程度とし、且つ、1つずつの樹脂層541及び導体層534が樹脂ダム層5211の側面部521aの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて導体層532の上面部側に積み重ねられる。また別の1つずつの樹脂層541及び導体層534が樹脂ダム層5212の側面部521dの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて導体層532の上面部側に積み重ねられる。
また樹脂ダム層522の高さ(膜厚)と樹脂層543及び導体層535を併せた高さ(膜厚)とを同程度とし、且つ、1つずつの樹脂層543及び導体層535が樹脂ダム層5221の側面部522aの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて導体層533の下面部側に積み重ねられる。また別の1つずつの樹脂層543及び導体層535が樹脂ダム層5222の側面部521dの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて導体層533の下面部側に積み重ねられる。
Then, the resin layer 541 is formed on the upper surface side of the conductor layer 532 so that the side surface portion 521b of the resin dam layer 5211 and the side surface portion 521c of the resin dam layer 5212 constitute side surfaces 500a and 500b of the rigid multilayer printed wiring board 500, which will be described later. Intermediate material and conductor layer 534 are stacked. Further, a side surface portion 522b of the resin dam layer 5221 and a side surface portion 522c of the resin dam layer 5222 are formed as a resin layer 543 on the lower surface side of the conductor layer 533 so that the side surface portions 500c and 500d of the rigid multilayer printed wiring board 500 are formed. The material and conductor layers 535 are stacked, and the copper-clad laminates 561 and 562 are stacked with the copper-clad laminate 561 as the upper side and the copper-clad laminate 562 as the lower side (see FIG. 11C).
In the present embodiment, the resin layer 541 and the conductor layer 534 are stacked on a surface other than the gap between the two resin dam layers 5211 and 5212 on the upper surface portion of the conductor layer 532, and the two resin dams on the lower surface portion of the conductor layer 531. A resin layer 543 and a conductor layer 535 are stacked on the surface of the layers 5221 and 5222 other than the gap portion.
That is, as shown in FIG. 11C, the height (film thickness) of the resin dam layer 521 and the height (film thickness) of the resin layer 541 and the conductor layer 534 are set to the same level, and one by one. The resin layer 541 and the conductor layer 534 are stacked in the vicinity of the side surface portion 521a of the resin dam layer 5211 and are provided on the upper surface portion side of the conductor layer 532 with a slight gap so as not to come into contact therewith. In addition, the resin layer 541 and the conductor layer 534 are stacked on the upper surface portion side of the conductor layer 532 by providing a slight gap so that the resin layer 541 and the conductor layer 534 are in the vicinity of the side surface portion 521d of the resin dam layer 5212 and do not come into contact therewith. It is done.
Further, the height (film thickness) of the resin dam layer 522 and the height (film thickness) obtained by combining the resin layer 543 and the conductor layer 535 are approximately the same, and the resin layer 543 and the conductor layer 535 are made of resin. A small gap is provided in the vicinity of the side surface portion 522 a of the dam layer 5221 so as not to contact with the side surface portion 522 a, and the conductor layer 533 is stacked on the lower surface portion side. Another resin layer 543 and conductor layer 535 are stacked on the lower surface portion side of the conductor layer 533 with a slight gap provided in the vicinity of the side surface portion 521d of the resin dam layer 5222 so as not to come into contact therewith. It is done.

本実施形態においては、樹脂ダム層521の高さ(膜厚)と樹脂層541及び導体層534を併せた高さ(膜厚)とを同等とし、樹脂ダム層522の高さ(膜厚)と樹脂層543及び導体層535を併せた高さ(膜厚)とを同等としたが、樹脂層541,543及び導体層534,535の膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。   In the present embodiment, the height (film thickness) of the resin dam layer 521 is equal to the height (film thickness) of the resin layer 541 and the conductor layer 534, and the height (film thickness) of the resin dam layer 522 is the same. However, it is a matter of course that the film thicknesses of the resin layers 541 and 543 and the conductor layers 534 and 535 may be appropriately adjusted. .

銅張積層板561,562は、例えば銅張積層板561,562の間に接着性樹脂組成物からなる層(接着層。図示せず)を介するようにこれらをそれぞれ積み重ねてリジッド多層プリント配線板500の製造工程のいずれかにおいて加熱することにより、当該接着層を介して銅張積層板561を構成する導体層531の下面部と銅張積層板562を構成するコア材512の上面部512aとが接するようにこれらを積層状態にし得る。   The copper-clad laminates 561 and 562 are, for example, stacked by interposing layers (adhesive layers; not shown) made of an adhesive resin composition between the copper-clad laminates 561 and 562 to form a rigid multilayer printed wiring board. By heating in any of the 500 manufacturing steps, the lower surface portion of the conductor layer 531 constituting the copper-clad laminate 561 and the upper surface portion 512a of the core material 512 constituting the copper-clad laminate 562 via the adhesive layer, These can be laminated so that they are in contact with each other.

導体層534,535は、前述の第1の実施形態の導体層131と同様の方法で樹脂層541の上面部及び樹脂層543の下面部にこれらを積み重ねて積層状態にし得る。
また導体層534,535は、後述する樹脂層541,543の加熱時において樹脂層541,543とそれぞれ積層状態となるようにしてもよい。
The conductor layers 534 and 535 can be laminated by stacking them on the upper surface portion of the resin layer 541 and the lower surface portion of the resin layer 543 in the same manner as the conductor layer 131 of the first embodiment.
The conductor layers 534 and 535 may be laminated with the resin layers 541 and 543 when the resin layers 541 and 543 described later are heated.

樹脂層541,543は、前述の第1の実施形態における樹脂層141と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。   The resin layers 541 and 543 can have the same configuration as the resin layer 141 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method.

樹脂層541,543は、リジッド多層プリント配線板500の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これらに接する他の層構成材とそれぞれ積層状態になり得る。
上記加熱時に、樹脂ダム層5211の側面部521a側に積み重ねられた樹脂層541から流出した樹脂組成物は、図12(d)に表される樹脂ダム層5211の側面部521a、導体層532,534及び樹脂層541に囲まれた間隙部に流入し、これが硬化して樹脂層5441(樹脂硬化物)となる。また上記加熱時に、樹脂ダム層5212の側面部521d側に積み重ねられた樹脂層541から流出した樹脂組成物は、図12(d)に表される樹脂ダム層5212の側面部521d、導体層532,534及び樹脂層541に囲まれた間隙部に流入し、これが硬化して樹脂層5442(樹脂硬化物)となる。
更に上記加熱時に、樹脂ダム層5221の側面部522a側に積み重ねられた樹脂層543から流出した樹脂組成物は、図12(d)に表される樹脂ダム層5221の側面部522a、導体層533,535及び樹脂層543に囲まれた間隙部に流入し、これが硬化して樹脂層5451(樹脂硬化物)となる。また上記加熱時に、樹脂ダム層5222の側面部522d側に積み重ねられた樹脂層543から流出した樹脂組成物は、図12(d)に表される樹脂ダム層5222の側面部522d、導体層533,535及び樹脂層543に囲まれた間隙部に流入し、これが硬化して樹脂層5452(樹脂硬化物)となる。
そして、樹脂層5441を介して樹脂ダム層5211(側面部521a側)と樹脂層541及び導体層534とが隣接するように積層状態となり、樹脂層5442を介して樹脂ダム層5212(側面部521d側)と樹脂層541及び導体層534とが隣接するように積層状態になり得る(図12(e)参照)。
また樹脂層5451を介して樹脂ダム層5221(側面部522a側)と樹脂層543及び導体層535とが隣接するように積層状態となり、樹脂層5452を介して樹脂ダム層5222(側面部522d側)と樹脂層543及び導体層535とが隣接するように積層状態になり得る(図12(e)参照)。
このように、樹脂ダム層521は、上記加熱時に樹脂層541から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が導体層532の上面部の2つの樹脂ダム層5211,5212の間隙部分の面まで溶出することを抑制し得る。これにより、導体層532の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板500の膜厚調整を容易にし得る。
また樹脂ダム層522は、上記加熱時に樹脂層543から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が各層構成材において本来付着すべきではない場所に付着し硬化することを抑制し得る。
The resin layers 541 and 543 can be cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 500, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
During the heating, the resin composition flowing out from the resin layer 541 stacked on the side surface portion 521a side of the resin dam layer 5211 is the side surface portion 521a of the resin dam layer 5211 shown in FIG. It flows into a gap surrounded by 534 and the resin layer 541 and is cured to become a resin layer 5441 (cured resin). During the heating, the resin composition that has flowed out of the resin layer 541 stacked on the side surface portion 521d side of the resin dam layer 5212 is the side surface portion 521d of the resin dam layer 5212 and the conductor layer 532 shown in FIG. , 534 and the resin layer 541 and flows into a gap surrounded by the resin layer 541 to be cured into a resin layer 5442 (cured resin).
Further, during the heating, the resin composition that has flowed out from the resin layer 543 stacked on the side surface 522a side of the resin dam layer 5221 is the side surface portion 522a of the resin dam layer 5221 and the conductor layer 533 shown in FIG. , 535 and the resin layer 543 and flows into a gap surrounded by the resin layer 543 to be cured into a resin layer 5451 (cured resin). Further, during the heating, the resin composition flowing out from the resin layer 543 stacked on the side surface portion 522d side of the resin dam layer 5222 is the side surface portion 522d of the resin dam layer 5222 and the conductor layer 533 shown in FIG. , 535 and the resin layer 543 and flows into a gap surrounded by the resin layer 543 to be cured into a resin layer 5452 (cured resin).
Then, the resin dam layer 5211 (side surface portion 521a side), the resin layer 541, and the conductor layer 534 are laminated so as to be adjacent to each other through the resin layer 5441, and the resin dam layer 5212 (side surface portion 521d is interposed through the resin layer 5442. Side), the resin layer 541, and the conductor layer 534 may be in a laminated state (see FIG. 12E).
Further, the resin dam layer 5221 (side surface portion 522a side) is laminated to the resin layer 543 and the conductor layer 535 via the resin layer 5451, and the resin dam layer 5222 (side surface portion 522d side) is interposed therebetween. ), The resin layer 543, and the conductor layer 535 may be in a laminated state (see FIG. 12E).
Thus, the resin dam layer 521 serves as a wall that keeps the flow of the resin composition eluted from the resin layer 541 during the heating, and the resin composition is the two resin dam layers 5211 on the upper surface of the conductor layer 532. , 5212 can be prevented from eluting to the surface of the gap portion. Thereby, the upper surface part of the conductor layer 532 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 500 can be facilitated.
In addition, the resin dam layer 522 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 543 during the heating, and the resin composition adheres to and cures at a place where the resin composition should not originally adhere in each layer constituent material. This can be suppressed.

また本実施形態においては、導体層532の上面部のうち2つの樹脂ダム層5211,5212の間隙部分の面に樹脂層542を、導体層533の下面部のうち2つの樹脂ダム層5221,5222の間隙部分の面に樹脂層546をそれぞれ積み重ねる。   In the present embodiment, the resin layer 542 is provided on the surface of the gap between the two resin dam layers 5211 and 5212 in the upper surface portion of the conductor layer 532, and the two resin dam layers 5221 and 5222 in the lower surface portion of the conductor layer 533. The resin layers 546 are stacked on the surface of the gap portion.

樹脂層542,546は、前述の第1の実施形態における樹脂層142と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。なお作製されるリジッド多層プリント配線板500を屈曲状態で使用する場合、後述する加熱及び/または紫外線照射等によりそれぞれが導体層532,533と積層状態となった樹脂層542,546が可撓性を有するようにこれらの形成に用いる樹脂組成物の成分を調整することが望ましい。   The resin layers 542 and 546 can have the same configuration as the resin layer 142 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method. When the rigid multilayer printed wiring board 500 to be produced is used in a bent state, the resin layers 542 and 546 that are laminated with the conductor layers 532 and 533 by heating and / or ultraviolet irradiation described later are flexible. It is desirable to adjust the components of the resin composition used for these formations so as to have

樹脂層542,546は、リジッド多層プリント配線板500の製造工程のいずれかの工程において加熱及び/または紫外線照射等されて硬化し、これに接する他の層構成材とそれぞれ積層状態になり得る。なお、上記加熱は、樹脂層541,545の加熱と同時に行ってもよい。   The resin layers 542 and 546 are cured by being heated and / or irradiated with ultraviolet rays or the like in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 500, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith. Note that the heating may be performed simultaneously with the heating of the resin layers 541 and 545.

本実施形態においては、樹脂層542,546は他の層構成材を積み重ねた後にそれぞれ導体層532の上面部及び導体層533の下面部側に積み重ねられたが、例えば他の層構成材の積み重ね前または他の層構成材の積み重ねと同時にそれぞれ導体層532の上面部及び導体層533の下面部に積み重ねてもよい。
また本実施形態においては導体層532の上面部及び導体層533の下面部にそれぞれ樹脂ダム層521,522を形成したが、例えば樹脂層542の上面部に樹脂ダム層521を形成し、樹脂ダム層521を形成した樹脂層542を導体層532の上面部の所定位置に積み重ねてもよく、樹脂層546の下面部に樹脂ダム層522を形成し、樹脂ダム層522を形成した樹脂層546を導体層533の下面部の所定位置に積み重ねてもよい。
またコア材511の上面部511aのうち、樹脂ダム層5211,5212の間隙部分にあたる面に導体層532を設けない場合、例えば当該部分に積層された導体層532をエッチング処理等により除去し、コア材511の上面部511aのうち導体層532が除去された部分に樹脂ダム層521を形成して他の層構成材を積み重ねる場合、樹脂層542はリジッド多層プリント配線板500の構成要素から除外してもよい。同様にコア材512の下面部511bのうち、樹脂ダム層5221,5222の間隙部分にあたる面に導体層533を設けない場合、例えば当該部分に積層された導体層533をエッチング処理等により除去し、コア材511の下面部511bのうち導体層533が除去された部分に樹脂ダム層522を形成して他の層構成材を積み重ねる場合、樹脂層546はリジッド多層プリント配線板500の構成要素から除外してもよい。
In the present embodiment, the resin layers 542 and 546 are stacked on the upper surface portion of the conductor layer 532 and the lower surface portion side of the conductor layer 533 after stacking other layer constituent materials. You may stack | stack on the upper surface part of the conductor layer 532, and the lower surface part of the conductor layer 533, respectively, simultaneously with the stack | stacking of the front or another layer structure material.
In this embodiment, the resin dam layers 521 and 522 are formed on the upper surface portion of the conductor layer 532 and the lower surface portion of the conductor layer 533, respectively. For example, the resin dam layer 521 is formed on the upper surface portion of the resin layer 542, and the resin dam is formed. The resin layer 542 on which the layer 521 is formed may be stacked at a predetermined position on the upper surface portion of the conductor layer 532. The resin dam layer 522 is formed on the lower surface portion of the resin layer 546, and the resin layer 546 on which the resin dam layer 522 is formed is formed. The conductor layer 533 may be stacked at a predetermined position on the lower surface portion.
When the conductor layer 532 is not provided on the surface corresponding to the gap between the resin dam layers 5211 and 5212 in the upper surface portion 511a of the core material 511, for example, the conductor layer 532 laminated on the portion is removed by an etching process or the like. When the resin dam layer 521 is formed on the portion of the upper surface portion 511a of the material 511 where the conductor layer 532 is removed and another layer constituent material is stacked, the resin layer 542 is excluded from the components of the rigid multilayer printed wiring board 500. May be. Similarly, when the conductor layer 533 is not provided on the surface corresponding to the gap between the resin dam layers 5221 and 5222 in the lower surface portion 511b of the core material 512, for example, the conductor layer 533 laminated on the portion is removed by an etching process or the like. When the resin dam layer 522 is formed on the portion of the lower surface portion 511b of the core material 511 where the conductor layer 533 is removed and another layer constituent material is stacked, the resin layer 546 is excluded from the components of the rigid multilayer printed wiring board 500. May be.

そして樹脂ダム層521,522及び樹脂層541,542,543,5441,5442,5451,5452,546を硬化状態とし、また各々接する層構成材を積層状態とすることにより、本実施形態のリジッド多層プリント配線板500が作製される(図12(e)参照)。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板500は、図11(e)で表すように、樹脂ダム層5211の側面部521b、樹脂ダム層5212の側面部521cがリジッド多層プリント配線板500の側面部500a,500bをそれぞれ構成するように積層されている。また樹脂ダム層5221の側面部522b、樹脂ダム層5222の側面部522cがリジッド多層プリント配線板500の側面部500c,500dをそれぞれ構成するように積層されている。
また樹脂層542は樹脂ダム層521を備える導体層532の上面部と積層状態となり、且つ樹脂ダム層521と接するよう積層されている。そしてリジッド多層プリント配線板500は、樹脂層542の上面部とリジッド多層プリント配線板500の側面部500aとがL字型(リジッド多層プリント配線板500の側面部500aを縦線、樹脂層542の上面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層542の上面部とリジッド多層プリント配線板500の側面部500bとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板500の側面部500bを縦線、樹脂層542の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
更に樹脂層546は樹脂ダム層522を備える導体層533の下面部と積層状態となり、且つ樹脂ダム層522と接するよう積層されている。そしてリジッド多層プリント配線板500は、樹脂層546の下面部とリジッド多層プリント配線板500の側面部500cとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板500の側面部500cを縦線、樹脂層546の下面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層546の下面部とリジッド多層プリント配線板500の側面部500dとがL字型(リジッド多層プリント配線板500の側面部500dを縦線、樹脂層546の下面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板500はこのような構成となることにより、導体層534の上面部から導体層535の下面部までの高さ(膜厚H1)と樹脂層542の上面部から樹脂層546の下面部までの高さ(膜厚H2)とを異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
Then, the resin dam layers 521, 522 and the resin layers 541, 542, 543, 5441, 5442, 5451, 5452, 546 are set in a hardened state, and the respective layer constituent materials that are in contact with each other are set in a laminated state. A printed wiring board 500 is manufactured (see FIG. 12E).
In the rigid multilayer printed wiring board 500 of this embodiment, as shown in FIG. 11E, the side surface portion 521b of the resin dam layer 5211 and the side surface portion 521c of the resin dam layer 5212 are side surfaces 500a of the rigid multilayer printed wiring board 500. , 500b, respectively. The side surface portion 522b of the resin dam layer 5221 and the side surface portion 522c of the resin dam layer 5222 are laminated so as to constitute the side surface portions 500c and 500d of the rigid multilayer printed wiring board 500, respectively.
The resin layer 542 is laminated with the upper surface portion of the conductor layer 532 including the resin dam layer 521 and is in contact with the resin dam layer 521. In the rigid multilayer printed wiring board 500, the upper surface portion of the resin layer 542 and the side surface portion 500a of the rigid multilayer printed wiring board 500 are L-shaped (the side surface portion 500a of the rigid multilayer printed wiring board 500 is a vertical line, and the resin layer 542 has The upper surface portion of the resin layer 542 and the side surface portion 500b of the rigid multilayer printed wiring board 500 form an inverted L-shape (the side surface portion 500b of the rigid multilayer printed wiring board 500). Vertical lines, and the upper surface portion of the resin layer 542 as horizontal lines).
Further, the resin layer 546 is laminated with the lower surface portion of the conductor layer 533 including the resin dam layer 522 and is in contact with the resin dam layer 522. In the rigid multilayer printed wiring board 500, the lower surface portion of the resin layer 546 and the side surface portion 500c of the rigid multilayer printed wiring board 500 are inverted L-shaped (the side surface portion 500c of the rigid multilayer printed wiring board 500 is a vertical line, and the resin layer 546 The bottom surface portion of the resin layer 546 and the side surface portion 500d of the rigid multilayer printed wiring board 500 form an L-shape (the side surface portion 500d of the rigid multilayer printed wiring board 500). Vertical lines, and the lower surface portion of the resin layer 546 as horizontal lines).
The rigid multilayer printed wiring board 500 of the present embodiment has such a configuration, so that the height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 534 to the lower surface portion of the conductor layer 535 and the upper surface portion of the resin layer 542 are increased. The height (film thickness H2) to the lower surface portion of the resin layer 546 can be made different, that is, the film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1.

リジッド多層プリント配線板500において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 500, the film thickness H1 is preferably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

このように、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板500は、リジッド多層プリント配線板500のコアとなる層(コア材511,512)に間隙部分を形成する工程が不要であり、また層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板500の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得る。   As described above, the rigid multilayer printed wiring board 500 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment does not require a step of forming a gap portion in a layer (core material 511, 512) that becomes a core of the rigid multilayer printed wiring board 500. In addition, the thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 500 can be easily adjusted by adjusting the stacking position of each layer constituent material in the step of stacking the layer constituent materials.

導体層531,532,533,534,535は、リジッド多層プリント配線板500の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductor layers 531, 532, 533, 534, and 535 can remove unnecessary portions by etching or the like so as to form a desired circuit pattern in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 500.

樹脂層541,543のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。また樹脂層542,546のような表層絶縁層となる樹脂層の膜厚は、硬化状態において5μm以上30μm以下であることが望ましい。
また導体層531,532,533,534,535の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layers 541 and 543 is desirably 20 μm or more in the cured state. In addition, the thickness of the resin layer serving as the surface insulating layer such as the resin layers 542 and 546 is desirably 5 μm or more and 30 μm or less in the cured state.
The film thickness of the conductor layers 531, 532, 533, 534, and 535 is preferably 5 μm or more and 300 μm or less.

なお、本実施形態においては、各層構成材の積み重ね及び積層は、例えば1層ずつ積み重ねて積層してもよく、複数の層構成材を積み重ねて積層してもよく、またこれらの組み合わせであってもよい。   In the present embodiment, stacking and stacking of each layer constituent material may be performed by stacking, for example, one layer at a time, or a plurality of layer constituent materials may be stacked and stacked, or a combination thereof. Also good.

また本実施形態においては、銅張積層板561,562を使用したが、例えばコア材511の上面部511aと下面部511bにそれぞれ導体層531,532を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいてもよく、コア材512の下面部512bに導体層533を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいてもよい。   In the present embodiment, the copper clad laminates 561 and 562 are used. However, for example, there is a step of stacking the conductor layers 531 and 532 on the upper surface portion 511a and the lower surface portion 511b of the core material 511, respectively. Alternatively, a step of stacking the conductor layer 533 on the lower surface portion 512b of the core material 512 to form a laminated state may be included.

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板500のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板500の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層531,532,533,534,535を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板500における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層534,535の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In the present embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 500. For example, after all the layer constituent materials which are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 500 are laminated, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof, thereby forming the conductor layers 531, 532 and 533. 534, 535 can be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 500.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 534 and 535 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is manufactured.

リジッド多層プリント配線板500は、導体層534が最外層となるように樹脂層542,546が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることができる。更にはリジッド多層プリント配線板500は、導体層535が最外層となるようにも樹脂層542,546が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることができる。
このようにリジッド多層プリント配線板500は、導体層534側を最外層とするようにも、導体層535側を最外層とするようにも、いずれの方向にも屈曲状態で使用することができるため、電子制御装置内のスペースを更に効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板500への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を更に広げることができる。
The rigid multilayer printed wiring board 500 can bend the portion where the resin layers 542 and 546 are laminated (having the film thickness H2) so that the conductor layer 534 is the outermost layer. Further, the rigid multilayer printed wiring board 500 can bend the portion where the resin layers 542 and 546 are laminated (having the film thickness H2) so that the conductor layer 535 is the outermost layer.
In this way, the rigid multilayer printed wiring board 500 can be used in a bent state in either direction, such that the conductor layer 534 side is the outermost layer and the conductor layer 535 side is the outermost layer. Therefore, the space in the electronic control device can be used more efficiently, and the degree of freedom in designing (mounting) the electronic component on the rigid multilayer printed wiring board 500 and the electronic control device incorporating the electronic component is further increased. Can be spread.

そしてリジッド多層プリント配線板500は、屈曲させる部分(樹脂層542,546が積層された(膜厚H2となる)部分)の材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。   The rigid multilayer printed wiring board 500 can adjust the film thickness without selecting the material of the part to be bent (the part where the resin layers 542 and 546 are laminated (the film thickness becomes H2)). Since a material having high heat resistance and durability can be used and a resin having special performance can be used, high reliability can be realized.

更にはリジッド多層プリント配線板500のうち、膜厚H2となる部分を構成するコア材511,512及び導体層531,532,533と膜厚H1となる部分を構成するコア材511,512及び導体層531,532,533(534,535)とは各々同じ材質となり得るため、熱膨張係数の差を抑え、破損の発生を抑制することもできる。またこれらの材質が同一の場合には誘電率も一致することから、これらを異なる材質とした場合と比較して、高周波特性への対応を容易に行うことができる。
そして膜厚H2となる部分を構成する各層構成材と膜厚H1となる部分を構成する各層構成材との材質を同一にでき、また既存の層構成材を利用し得ることから、既存の層構成材について既に取得した信頼性評価等(例えば回路、スルーホール等について)の結果をリジッド多層プリント配線板500自体の信頼性評価に一部流用することができ、これに要するコストや時間を抑制することができる。
Further, in the rigid multilayer printed wiring board 500, the core materials 511, 512 and the conductor layers 531, 532, 533 constituting the portion having the film thickness H2 and the core materials 511, 512 and the conductor constituting the portion having the film thickness H1. Since the layers 531, 532, and 533 (534 and 535) can be made of the same material, the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed and the occurrence of breakage can also be suppressed. Further, when these materials are the same, the dielectric constants also match, so that it is possible to easily cope with high frequency characteristics as compared with the case where these materials are different.
And since each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H2 and each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H1 can be made the same material, and since the existing layer constituent material can be utilized, the existing layer The results of reliability evaluation, etc. that have already been obtained for components (for example, circuits, through holes, etc.) can be partially used for reliability evaluation of the rigid multilayer printed wiring board 500 itself, thereby reducing the cost and time required for this. can do.

なお、リジッド多層プリント配線板500においては、樹脂ダム層5211の側面部521a,521b、樹脂ダム層5212の側面部521c,521dと樹脂ダム層5221の側面部522a,522b、樹脂ダム層5222の側面部522c,522dとは、それぞれ垂直上で同一直線上に存するよう構成されているが、これらがそれぞれ垂直上で同一直線上に存しないように、または一部のみが垂直上で同一直線上に存するように樹脂ダム層521,522を形成してもよい。
このようなリジッド多層プリント配線板500は、これがSの字状や波型状となるように膜厚H2となる部分を屈曲させることができるため、電子制御装置内のスペースを更に効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板500への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を更に広げることができる。
Note that in the rigid multilayer printed wiring board 500, the side surfaces 521 a and 521 b of the resin dam layer 5211, the side surfaces 521 c and 521 d of the resin dam layer 5212, the side surfaces 522 a and 522 b of the resin dam layer 5221, The parts 522c and 522d are configured so as to exist on the same straight line in the vertical direction, but do not exist on the same straight line in the vertical direction, or only partially on the same straight line in the vertical direction. The resin dam layers 521 and 522 may be formed as existing.
Since such a rigid multilayer printed wiring board 500 can bend the portion having the film thickness H2 so that it is S-shaped or corrugated, the space in the electronic control device is more efficiently utilized. In addition, it is possible to further expand the degree of freedom in mounting (designing) electronic components on the rigid multilayer printed wiring board 500 and designing an electronic control device incorporating the electronic component.

<第6の実施形態>
第6の実施形態にかかるリジッド多層プリント配線板600について図13を参照して説明する。
図13(b)で表されるように、リジッド多層プリント配線板600は、コア材611の上面部611a側に導体層632、樹脂層641及び導体層633が積層され、またコア材611の下面部611b側に導体層631が積層されている。そして導体層632の上面部に樹脂ダム層621が設けられている。この樹脂ダム層621は、図13(a)で表されるように、導体層632の上面部に四角形の輪郭を描くように設けられている。
なお本実施形態においては、樹脂ダム層621の外周部のそれぞれの側面部を側面部621a,621b,621c,621dとし、内周部のそれぞれの側面部を側面部621e,621f,621g,621hとした。
<Sixth Embodiment>
A rigid multilayer printed wiring board 600 according to the sixth embodiment will be described with reference to FIG.
As shown in FIG. 13B, the rigid multilayer printed wiring board 600 has a conductor layer 632, a resin layer 641, and a conductor layer 633 laminated on the upper surface portion 611 a side of the core material 611, and the lower surface of the core material 611. A conductor layer 631 is stacked on the portion 611b side. A resin dam layer 621 is provided on the upper surface of the conductor layer 632. As shown in FIG. 13A, the resin dam layer 621 is provided on the upper surface portion of the conductor layer 632 so as to draw a rectangular outline.
In the present embodiment, the side surfaces of the outer peripheral portion of the resin dam layer 621 are side surfaces 621a, 621b, 621c, and 621d, and the side surfaces of the inner peripheral portion are side surfaces 621e, 621f, 621g, and 621h. did.

リジッド多層プリント配線板600の製造工程においては、コア材611の上面部611a及び下面部611bにそれぞれ導体層631,632を積み重ね積層する工程を含んでいてもよく、またコア材611の上面部611a及び下面部611bに導体層631,632がそれぞれ積層されている銅張積層板661(図示せず)を用いてもよい。   The manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 600 may include a step of stacking and laminating the conductor layers 631 and 632 on the upper surface portion 611a and the lower surface portion 611b of the core material 611, respectively, and the upper surface portion 611a of the core material 611. Alternatively, a copper clad laminate 661 (not shown) in which conductor layers 631 and 632 are respectively laminated on the lower surface portion 611b may be used.

導体層631,632は、前述の第1の実施形態の導体層131,132と同様の方法でコア材611の上面部611a及び下面部611bにそれぞれ積み重ねられ、積層状態にし得る。   The conductor layers 631 and 632 may be stacked on the upper surface portion 611a and the lower surface portion 611b of the core material 611 in the same manner as the conductor layers 131 and 132 of the first embodiment described above, and may be laminated.

導体層632の上面部への樹脂ダム層621の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
樹脂ダム層621を形成する層構成材及びその位置は、作製されるリジッド多層プリント配線板600の設計内容やその膜厚を調整したい位置等により適宜調整できる。
また樹脂ダム層621の膜厚は、作製されるリジッド多層プリント配線板600の膜厚、樹脂ダム層621を形成する層構成材及び他の層構成材の膜厚等により適宜調整し得る。
また樹脂ダム層621はリジッド多層プリント配線板600の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する樹脂層641の加熱と同時に行ってもよい。
For the formation of the resin dam layer 621 on the upper surface portion of the conductor layer 632, a method similar to the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above can be used, and the same configuration can be adopted.
The layer constituent material for forming the resin dam layer 621 and its position can be appropriately adjusted depending on the design content of the rigid multilayer printed wiring board 600 to be produced, the position where the film thickness is to be adjusted, and the like.
Further, the film thickness of the resin dam layer 621 can be appropriately adjusted depending on the film thickness of the rigid multilayer printed wiring board 600 to be produced, the layer constituent material forming the resin dam layer 621, the film thickness of other layer constituent materials, and the like.
Further, the resin dam layer 621 can be cured by at least one of ultraviolet curing and heat curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 600, and can be laminated with another layer constituent material in contact therewith.
In addition, you may perform the said thermosetting simultaneously with the heating of the resin layer 641 mentioned later.

リジッド多層プリント配線板600においては、図13(a)及び(b)で表されるように、樹脂ダム層621の側面部のうち621e,621f,621g,621hがリジッド多層プリント配線板600の側面部600a,600b,600c,600dをそれぞれ構成するように各層構成材を積み重ねて積層状態にし得る。   In the rigid multilayer printed wiring board 600, as shown in FIGS. 13A and 13B, 621e, 621f, 621g, and 621h of the side surfaces of the resin dam layer 621 are the side surfaces of the rigid multilayer printed wiring board 600. The layer constituent materials can be stacked to form a laminated state so as to constitute the parts 600a, 600b, 600c, and 600d, respectively.

本実施形態においては、導体層632の上面部側への樹脂層641及び導体層633の積み重ねは前述の第1の実施形態の導体層132の上面部側への樹脂層141及び導体層133の積み重ねと同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。   In the present embodiment, the resin layer 641 and the conductor layer 633 are stacked on the upper surface side of the conductor layer 632 so that the resin layer 141 and the conductor layer 133 are stacked on the upper surface side of the conductor layer 132 of the first embodiment. A method similar to stacking can be used, and a similar configuration can be employed.

樹脂層641は、前述の第1の実施形態における樹脂層141と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。本実施形態においては、樹脂層641は、樹脂ダム層621の側面部621a,621b,621c,621dに接するように導体層632の上面部に積み重ねられる。
また導体層633は、前述の第1の実施形態における導体層131と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。また導体層633は、後述する樹脂層641の加熱時において樹脂層641と積層状態となるようにしてもよい。
The resin layer 641 can have the same configuration as that of the resin layer 141 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method. In the present embodiment, the resin layer 641 is stacked on the upper surface portion of the conductor layer 632 so as to be in contact with the side surface portions 621a, 621b, 621c, and 621d of the resin dam layer 621.
In addition, the conductor layer 633 can have the same configuration as that of the conductor layer 131 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method. The conductor layer 633 may be laminated with the resin layer 641 when the resin layer 641 described later is heated.

本実施形態においては、樹脂ダム層621の高さ(膜厚)と樹脂層641及び導体層633を併せた高さ(膜厚)とを同等とたが、これらの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。   In this embodiment, the height (film thickness) of the resin dam layer 621 is equal to the height (film thickness) of the resin layer 641 and the conductor layer 633, but these film thicknesses are adjusted as appropriate. Of course it is good.

樹脂層641は、リジッド多層プリント配線板600の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。但し樹脂層641を加熱するタイミングによっては、樹脂層641の加熱前に樹脂ダム層621と樹脂層641とが積層状態となっている場合も存在し、この場合は樹脂層641の加熱により、樹脂ダム層621と硬化した樹脂層641とが積層状態になり得る。
そして樹脂ダム層621は、上記加熱時に樹脂層641から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が導体層632の上面部まで溶出することを抑制し得る。これにより、導体層632の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板600の膜厚調整を容易にし得る。
The resin layer 641 can be cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 600 and can be laminated with another layer constituent material in contact therewith. However, depending on the timing at which the resin layer 641 is heated, there is a case where the resin dam layer 621 and the resin layer 641 are in a laminated state before the resin layer 641 is heated. The dam layer 621 and the cured resin layer 641 can be in a laminated state.
The resin dam layer 621 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 641 during the heating, and can suppress the resin composition from being eluted to the upper surface of the conductor layer 632. Thereby, the upper surface part of the conductor layer 632 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 600 can be facilitated.

本実施形態のリジッド多層プリント配線板600は、樹脂ダム層621及び樹脂層641が硬化状態となり、また各々接する層構成材が積層状態となることにより作製される。
そしてリジッド多層プリント配線板600は、樹脂ダム層621を備える導体層632の上面部とリジッド多層プリント配線板600の側面部600a、及び導体層632の上面部とリジッド多層プリント配線板600の側面部600bとがそれぞれL字型(リジッド多層プリント配線板600の側面部600a,600bを縦線、導体層632の上面部を横線と見た場合)となるように、また導体層632の上面部とリジッド多層プリント配線板600の側面部600c、及び導体層632の上面部とリジッド多層プリント配線板600の側面部600dとがそれぞれ逆L字型(リジッド多層プリント配線板600の側面部600c,600dを縦線、導体層632の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板600はこのような構成となることにより、導体層633の上面部から導体層631の下面部までの高さ(膜厚H1)と導体層632の上面部から導体層631の下面部までの高さ(膜厚H2)とを異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
The rigid multilayer printed wiring board 600 of the present embodiment is manufactured by the resin dam layer 621 and the resin layer 641 being cured, and the layer constituent materials in contact with each other being laminated.
The rigid multilayer printed wiring board 600 includes an upper surface portion of the conductor layer 632 including the resin dam layer 621, a side surface portion 600a of the rigid multilayer printed wiring board 600, and an upper surface portion of the conductor layer 632 and a side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board 600. 600b are L-shaped (when the side surface portions 600a and 600b of the rigid multilayer printed wiring board 600 are viewed as vertical lines and the upper surface portion of the conductor layer 632 as horizontal lines), and the upper surface portion of the conductor layer 632 The side surface portion 600c of the rigid multilayer printed wiring board 600, and the upper surface portion of the conductor layer 632 and the side surface portion 600d of the rigid multilayer printed wiring board 600 are respectively reverse L-shaped (the side surface portions 600c and 600d of the rigid multilayer printed wiring board 600 are Vertical lines, when the upper surface portion of the conductor layer 632 is viewed as horizontal lines).
The rigid multilayer printed wiring board 600 of the present embodiment has such a configuration, so that the height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 633 to the lower surface portion of the conductor layer 631 and the upper surface portion of the conductor layer 632 are reduced. The thickness (film thickness H2) to the lower surface portion of the conductor layer 631 can be made different, that is, the film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1.

リジッド多層プリント配線板600において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 600, the film thickness H1 is preferably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

即ち、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板600は、リジッド多層プリント配線板600のコアとなる層(コア材611)に間隙部分を形成する工程が不要であり、また層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板300の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得る。
またリジッド多層プリント配線板600の樹脂ダム層621の一部の側面部がリジッド多層プリント配線板600の一部の側面部を構成している領域は四角状に窪んでいるような(凹状となっている)構成となっているため、当該領域の形状に応じて、これに適合する電子部品(図示せず)の埋め込み搭載が可能となる。特に樹脂ダム層641をインクジェット印刷方法を用いて形成する場合には、微細な形状で樹脂組成物を導体層632の上面部に印刷し得るため、この場合、微細な電子部品を埋め込み搭載できるようなリジッド多層プリント配線板600を作製し得る。
このようにリジッド多層プリント配線板600は、様々な電子部品を埋め込み搭載することができる。またリジッド多層プリント配線板600には複数の樹脂ダム層621を設けられるため、これに電子部品を実装した基板を組み込んだ電子制御装置内のスペースを効率的に活用することができる。
That is, the rigid multilayer printed wiring board 600 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment does not require a step of forming a gap portion in a layer (core material 611) that becomes the core of the rigid multilayer printed wiring board 600. The film thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 300 can be easily adjusted by adjusting the stacking position of each layer constituent material in the step of stacking the constituent materials.
Further, a region in which a part of the side surface portion of the resin dam layer 621 of the rigid multilayer printed wiring board 600 constitutes a part of the side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board 600 is depressed in a square shape (concave shape). Therefore, in accordance with the shape of the region, it is possible to embed and mount an electronic component (not shown) that conforms to the shape of the region. In particular, when the resin dam layer 641 is formed using an ink jet printing method, the resin composition can be printed on the upper surface portion of the conductor layer 632 in a fine shape. In this case, a fine electronic component can be embedded and mounted. A rigid multilayer printed wiring board 600 can be produced.
Thus, the rigid multilayer printed wiring board 600 can be embedded with various electronic components. Further, since the rigid multilayer printed wiring board 600 is provided with a plurality of resin dam layers 621, the space in the electronic control device in which the board on which the electronic component is mounted can be efficiently used.

導体層631,632,633は、リジッド多層プリント配線板600の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductive layers 631, 632, and 633 can remove unnecessary portions by etching or the like so as to form a desired circuit pattern in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 600.

樹脂層641のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。
また導体層631,632,633の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The film thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layer 641 is desirably 20 μm or more in the cured state.
The film thickness of the conductor layers 631, 632, 633 is preferably 5 μm or more and 300 μm or less.

なお、本実施形態においては、各層構成材の積み重ね及び積層は、例えば1層ずつ積み重ねて積層してもよく、複数の層構成材を積み重ねて積層してもよく、またこれらの組み合わせであってもよい。   In the present embodiment, stacking and stacking of each layer constituent material may be performed by stacking, for example, one layer at a time, or a plurality of layer constituent materials may be stacked and stacked, or a combination thereof. Also good.

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板600のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板600の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層631,632,633を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板600における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層631,633の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In this embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 600. For example, after all layer constituent materials that are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 600 are in a laminated state, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof to form conductor layers 631, 632, and 633. Can be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 600.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 631 and 633 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is manufactured.

またリジッド多層プリント配線板600は、膜厚H2となる部分の材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。   In addition, since the thickness of the rigid multilayer printed wiring board 600 can be adjusted without selecting the material of the part having the film thickness H2, for example, a material having high heat resistance and durability can be used for this part. Since a resin having special performance can be used, high reliability can be realized.

更にはリジッド多層プリント配線板600のうち、膜厚H2となる部分を構成するコア材611及び導体層631,632と膜厚H1となる部分を構成するコア材611及び導体層631,632(633)とは各々同じ材質となり得るため、熱膨張係数の差を抑え、破損の発生を抑制することもできる。またこれらの材質が同一の場合には誘電率も一致することから、これらを異なる材質とした場合と比較して、高周波特性への対応を容易に行うことができる。
そして膜厚H2となる部分を構成する各層構成材と膜厚H1となる部分を構成する各層構成材との材質を同一にでき、また既存の層構成材を利用し得ることから、既存の層構成材について既に取得した信頼性評価等(例えば回路、スルーホール等について)の結果をリジッド多層プリント配線板600自体の信頼性評価に一部流用することができ、これに要するコストや時間を抑制することができる。
Further, in the rigid multilayer printed wiring board 600, the core material 611 and the conductor layers 631, 632 constituting the part having the film thickness H2 and the core material 611 and the conductor layers 631, 632 (633) constituting the part having the film thickness H1. ) Can be made of the same material, so that the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed and the occurrence of breakage can also be suppressed. Further, when these materials are the same, the dielectric constants also match, so that it is possible to easily cope with high frequency characteristics as compared with the case where these materials are different.
And since each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H2 and each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H1 can be made the same material, and since the existing layer constituent material can be utilized, the existing layer The results of reliability evaluation, etc. that have already been obtained for component materials (for example, circuits, through holes, etc.) can be partially used for reliability evaluation of the rigid multilayer printed wiring board 600 itself, and the cost and time required for this can be suppressed. can do.

<第7の実施形態>
第7の実施形態について、図14から図17を参照して説明する。
コア材711の上面部711a及び下面部711bにそれぞれ導体層731,732が積層された銅張積層板761を用意する(図14(a)参照)。
銅張積層板761は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
<Seventh Embodiment>
A seventh embodiment will be described with reference to FIGS. 14 to 17.
A copper-clad laminate 761 in which conductor layers 731 and 732 are respectively laminated on the upper surface portion 711a and the lower surface portion 711b of the core material 711 is prepared (see FIG. 14A).
For the copper-clad laminate 761, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.

次いで銅張積層板761の所定の位置に空隙部751を形成する(図14(b)参照)。   Next, a gap 751 is formed at a predetermined position of the copper-clad laminate 761 (see FIG. 14B).

銅張積層板761を構成する導体層731,732について、後述する樹脂硬化物からなる樹脂層745,746,748,749が形成される位置に対応する領域をエッチング等で除去した後、導体層732の上面部(コア材711の上面部711aと接していない方の面)に樹脂ダム層721を形成する(図14(c)参照)。
導体層732の上面部への樹脂ダム層721の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また本実施形態においては、樹脂ダム層721は導体層732の上面部に2つ形成され(樹脂ダム層7211,7212)、1つの樹脂ダム層7211はその側面部721bが銅張積層板761の側面部761aと垂直上で同一直線上に存するように、もう1つの樹脂ダム層7212はその側面部721cが銅張積層板761の側面部761bと垂直上で同一直線上に存するように形成される。
なお、作製されるリジッド多層プリント配線板700の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層721の数は1つであってもよく、また複数であってもよい。
また樹脂ダム層721はリジッド多層プリント配線板700の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これと接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する熱圧着と同時に行ってもよい。
For the conductor layers 731 and 732 constituting the copper clad laminate 761, after removing regions corresponding to positions where resin layers 745, 746, 748, and 749 made of a cured resin described later are formed by etching or the like, the conductor layers A resin dam layer 721 is formed on the upper surface portion of 732 (the surface not in contact with the upper surface portion 711a of the core material 711) (see FIG. 14C).
For the formation of the resin dam layer 721 on the upper surface portion of the conductor layer 732, a method similar to the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above can be used, and the same configuration can be adopted.
In this embodiment, two resin dam layers 721 are formed on the upper surface portion of the conductor layer 732 (resin dam layers 7211 and 7212), and one resin dam layer 7211 has a side surface portion 721b of the copper-clad laminate 761. The other resin dam layer 7212 is formed such that the side surface portion 721c is perpendicular to the side surface portion 761b of the copper-clad laminate 761 so as to be on the same straight line as the vertical surface of the side surface portion 761a. The
Note that the number of the resin dam layers 721 formed may be one or plural as long as the thickness of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 700 can be adjusted.
Further, the resin dam layer 721 is cured by at least one of ultraviolet curing and thermal curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 700, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
In addition, you may perform the said thermosetting simultaneously with the thermocompression bonding mentioned later.

コア材712の上面部712a及び下面部712bにそれぞれ導体層733,734が積層された銅張積層板762を用意する(図15(d)参照)。
銅張積層板762は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
A copper-clad laminate 762 in which conductor layers 733 and 734 are respectively laminated on the upper surface portion 712a and the lower surface portion 712b of the core material 712 is prepared (see FIG. 15D).
For the copper-clad laminate 762, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.

次いで銅張積層板762を構成する導体層733,734について、後述する樹脂硬化物からなる樹脂層747,749が形成される位置に対応する領域及び積み重ねた際に樹脂ダム層7211の側面部721aから樹脂ダム層7212の側面部721dまでの間に対応する領域をエッチング等で除去する(図15(e)参照)。   Next, with respect to the conductor layers 733 and 734 constituting the copper clad laminate 762, a region corresponding to a position where resin layers 747 and 749 made of a cured resin, which will be described later, are formed, and a side surface portion 721a of the resin dam layer 7211 when stacked. To the side surface portion 721d of the resin dam layer 7212 is removed by etching or the like (see FIG. 15E).

コア材713の上面部713a及び下面部713bにそれぞれ導体層735,736が積層された銅張積層板763を用意する(図16(f)参照)。
銅張積層板763は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
A copper-clad laminate 763 in which conductor layers 735 and 736 are respectively laminated on the upper surface portion 713a and the lower surface portion 713b of the core material 713 is prepared (see FIG. 16F).
For the copper-clad laminate 763, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.

次いで銅張積層板763を構成する導体層736について、後述する樹脂硬化物からなる樹脂層744が形成される位置に対応する領域をエッチング等で除去する(図16(g)参照)。   Next, in the conductor layer 736 constituting the copper-clad laminate 763, a region corresponding to a position where a resin layer 744 made of a cured resin, which will be described later, is formed is removed by etching or the like (see FIG. 16G).

そして、導体層736の上面部の所定の位置に樹脂層741を積み重ねる(図16(h)参照)。樹脂層741は、前述の第1の実施形態における樹脂層142と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。なお作製されるリジッド多層プリント配線板700を屈曲状態で使用する場合、後述する加熱及び/または紫外線照射等により導体層736と積層状態となった樹脂層741が可撓性を有するようにこれの形成に用いる樹脂組成物の成分を調整することが望ましい。   Then, the resin layer 741 is stacked at a predetermined position on the upper surface portion of the conductor layer 736 (see FIG. 16H). The resin layer 741 can have the same configuration as the resin layer 142 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method. In addition, when the rigid multilayer printed wiring board 700 to be manufactured is used in a bent state, the resin layer 741 that is laminated with the conductor layer 736 by heating and / or ultraviolet irradiation, which will be described later, is flexible. It is desirable to adjust the components of the resin composition used for formation.

樹脂層741は、リジッド多層プリント配線板700の製造工程のいずれかの工程において加熱及び/または紫外線照射等されて硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
また樹脂層741を積み重ねる導体層736の位置及び樹脂層741の大きさ(広さ)等は、作製されるリジッド多層プリント配線板700において、後述する樹脂ダム層7221の側面部722bがリジッド多層プリント配線板700の側面部700aの一部を構成するように、また樹脂ダム層7222の側面部722cがリジッド多層プリント配線板700の側面部700bの一部を構成するように積み重ねられるよう、適宜調整し得る。
The resin layer 741 can be cured by being heated and / or irradiated with ultraviolet rays or the like in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 700, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
The position of the conductor layer 736 on which the resin layer 741 is stacked and the size (width) of the resin layer 741 are such that the side surface portion 722b of the resin dam layer 7221 described later is a rigid multilayer print in the manufactured rigid multilayer printed wiring board 700. Adjust appropriately so that a part of the side part 700a of the wiring board 700 is configured, and the side part 722c of the resin dam layer 7222 is stacked so as to form a part of the side part 700b of the rigid multilayer printed wiring board 700. Can do.

そして樹脂層741の上面部(導体層736の上面部と接していない方の面)に樹脂ダム層722を形成する(図16(i)参照)。
樹脂層741の上面部への樹脂ダム層721の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また本実施形態においては、樹脂ダム層722は樹脂層741の上面部に2つ形成される(樹脂ダム層7221,7222)。更に樹脂ダム層722は、後述する銅張積層板761,762,763の積み重ね時において、樹脂ダム層7221の側面部722a,722b、樹脂ダム層7222の側面部722c,722dがそれぞれ樹脂ダム層7211の側面部721a,721b、樹脂ダム層7212の側面部721c,721dと垂直上で同一直線上に存するように形成される。
なお、作製されるリジッド多層プリント配線板700の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層722の数は1つであってもよく、また複数であってもよい。
また樹脂ダム層722はリジッド多層プリント配線板700の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、コア材711の下面部711b及び樹脂層741と積層状態となる。なお、当該熱硬化は後述する熱圧着と同時に行ってもよい。
Then, a resin dam layer 722 is formed on the upper surface portion of the resin layer 741 (the surface not in contact with the upper surface portion of the conductor layer 736) (see FIG. 16I).
For the formation of the resin dam layer 721 on the upper surface portion of the resin layer 741, a method similar to the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be adopted.
In the present embodiment, two resin dam layers 722 are formed on the upper surface of the resin layer 741 (resin dam layers 7221 and 7222). Further, the resin dam layer 722 includes a resin dam layer 7211 in which side surfaces 722a and 722b of the resin dam layer 7221 and side surfaces 722c and 722d of the resin dam layer 7222 are respectively stacked when copper clad laminates 761, 762 and 763 described later are stacked. The side surfaces 721a and 721b of the resin dam layer 7212 and the side surfaces 721c and 721d of the resin dam layer 7212 are formed so as to be on the same straight line.
Note that the number of the resin dam layers 722 formed may be one or plural as long as the thickness of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 700 can be adjusted.
The resin dam layer 722 is cured by at least one of ultraviolet curing and heat curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 700, and is laminated with the lower surface portion 711b of the core material 711 and the resin layer 741. Become. In addition, you may perform the said thermosetting simultaneously with the thermocompression bonding mentioned later.

そして樹脂ダム層7211の側面部721b、樹脂ダム層7212の側面部721c及び樹脂ダム層7221の側面部722b、樹脂ダム層7222の側面部722cがそれぞれ後述するリジッド多層プリント配線板700の側面部700a,700bの一部を構成するように、銅張積層板761,762,763を下から763,761,762となるように積み重ねると共に、図17(j)に表されるように樹脂層742,743を積み重ねる。
本実施形態においては、図17(j)で表されるように、1つの樹脂層742が導体層736の上面部と導体層731の下面部に接するように且つ樹脂ダム層7221の側面部722aの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられ、また別の樹脂層742が導体層736の上面部と導体層731の下面部に接するように且つ樹脂ダム層7222の側面部722dの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられる。
また図17(j)で表されるように、1つの樹脂層743が導体層732の上面部と導体層733の下面部に接するように且つ樹脂ダム層7211の側面部721aの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられ、また別の樹脂層743が導体層732の上面部と導体層733の下面部に接するように且つ樹脂ダム層7212の側面部721dの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられる。
Then, the side surface portion 721b of the resin dam layer 7211, the side surface portion 721c of the resin dam layer 7212, the side surface portion 722b of the resin dam layer 7221, and the side surface portion 722c of the resin dam layer 7222 are respectively described. , 700b, the copper clad laminates 761, 762, 763 are stacked so as to be 763, 761, 762 from the bottom, and the resin layer 742, as shown in FIG. 743 is stacked.
In this embodiment, as shown in FIG. 17J, one resin layer 742 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 736 and the lower surface portion of the conductor layer 731 and the side surface portion 722a of the resin dam layer 7221. The resin dam layer 7222 is stacked such that another resin layer 742 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 736 and the lower surface portion of the conductor layer 731. In the vicinity of the side surface portion 722d, a small gap is provided so as not to contact the side surface portion 722d.
17J, one resin layer 743 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 732 and the lower surface portion of the conductor layer 733, and in the vicinity of the side surface portion 721a of the resin dam layer 7211. The resin layer 743 is stacked with a slight gap so as not to contact it, and another resin layer 743 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 732 and the lower surface portion of the conductor layer 733 and the side surface portion 721d of the resin dam layer 7212 They are stacked with a slight gap so that they are close to each other and not in contact therewith.

本実施形態においては、樹脂ダム層721の高さ(膜厚)と導体層732,733及び樹脂層743を併せた高さ(膜厚)とを同等とし、樹脂ダム層722と樹脂層741を併せた高さ(膜厚)と導体層731及び樹脂層742を併せた高さ(膜厚)とを同等としたが、それぞれの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。また同様に他の各層構成材についても適宜膜厚を調整し得る。   In the present embodiment, the height (film thickness) of the resin dam layer 721 is equal to the height (film thickness) of the conductor layers 732 and 733 and the resin layer 743, and the resin dam layer 722 and the resin layer 741 are Although the combined height (film thickness) and the combined height (film thickness) of the conductor layer 731 and the resin layer 742 are made equal, it goes without saying that the respective film thicknesses may be adjusted as appropriate. Similarly, the film thickness of other layer constituent materials can be adjusted as appropriate.

樹脂層742,743は、リジッド多層プリント配線板700の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これらに接する他の層構成材と積層状態になり得る。本実施形態においては、上記各層構成材を積み重ねた後、熱圧着により各層構成材を積層状態とすることが望ましい。
上記加熱時に、樹脂ダム層7221の側面部722a側に積み重ねられた樹脂層742から流出した樹脂組成物は、図17(k)に表されるコア材713の上面部713a、導体層736及び樹脂層742に囲まれた間隙部、コア材711の下面部711b、導体層731及び樹脂層742に囲まれた間隙部及びコア材711の下面部711b、樹脂ダム層7221の側面部722a、導体層731,736及び樹脂層741,742に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層744,745,7481)となる。
また上記加熱時に、樹脂ダム層7222の側面部722d側に積み重ねられた樹脂層742から流出した樹脂組成物は、図17(k)に表されるコア材713の上面部713a、導体層736及び樹脂層742に囲まれた間隙部、コア材711の下面部711b、導体層731及び樹脂層742に囲まれた間隙部及びコア材711の下面部711b、樹脂ダム層7222の側面部722d、導体層731,736及び樹脂層741,742に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層744,745,7482)となる。
更には、上記加熱時に、樹脂ダム層7211の側面部721a側に積み重ねられた樹脂層743から流出した樹脂組成物は、図17(k)に表されるコア材711の上面部711a、導体層732及び樹脂層743に囲まれた間隙部、コア材712の下面部712b、導体層733及び樹脂層743に囲まれた間隙部及びコア材712の下面部712b、樹脂ダム層7211の側面部721a、導体層732,733及び樹脂層743に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層746,747,7491)となる。
また上記加熱時に樹脂ダム層7212の側面部721d側に積み重ねられた樹脂層743から流出した樹脂組成物は、図17(k)に表されるコア材711の上面部711a、導体層732及び樹脂層743に囲まれた間隙部、コア材712の下面部712b、導体層733及び樹脂層743に囲まれた間隙部及びコア材712の下面部712b、樹脂ダム層7212の側面部721d、導体層732,733及び樹脂層743に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層746,747,7492)となる。
そして、樹脂層7481を介して樹脂ダム層7221(側面部722a側)と導体層731及び樹脂層742とが隣接するように積層状態になり、樹脂層7482を介して樹脂ダム層7222(側面部722d側)と導体層731及び樹脂層742とが隣接するように積層状態になり得る(図17(k)参照)。またこの際、樹脂層7481とコア材711の下面部711b及び導体層736の上面部とを、樹脂層7482とコア材711の下面部711b及び導体層736の上面部とをそれぞれ積層状態にし得る。
また、樹脂層7491を介して樹脂ダム層7211(側面部721a側)と導体層732,733及び樹脂層743とが隣接するように積層状態となり、樹脂層7492を介して樹脂ダム層7212(側面部721d側)と導体層732,733及び樹脂層743とが隣接するように積層状態となる(図17(k)参照)。またこの際、樹脂層7491とコア材711の上面部711a及びコア材712の下面部712bとを、樹脂層7492とコア材711の上面部711a及びコア材712の下面部712bとをそれぞれ積層状態にし得る。
なお、樹脂層744はコア材713の上面部713a、導体層736の側面部及び樹脂層742の下面部と積層状態となり、樹脂層745はコア材711の下面部711b、導体層732の側面部及び樹脂層742の上面部と積層状態となり、樹脂層746はコア材711の上面部711a、導体層733の側面部及び樹脂層743の下面部と積層状態となり、樹脂層747はコア材712の下面部712b、導体層733の側面部及び樹脂層743の上面部と積層状態になり得る。
そして樹脂ダム層721は、上記加熱時に樹脂層743から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が樹脂層741の上面部まで溶出することを抑制し得る。これにより、樹脂層741の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板700の膜厚調整を容易にし得る。
また樹脂ダム層722は、上記加熱時に樹脂層743から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が樹脂層741の上面部まで溶出することを抑制し得る。これにより、樹脂層741の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板700の膜厚調整を容易にし得る。
The resin layers 742 and 743 can be cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 700, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith. In the present embodiment, it is desirable to stack each layer constituent material and then put each layer constituent material into a laminated state by thermocompression bonding.
During the heating, the resin composition flowing out from the resin layer 742 stacked on the side surface portion 722a side of the resin dam layer 7221 is the upper surface portion 713a, the conductor layer 736, and the resin of the core material 713 shown in FIG. The gap surrounded by the layer 742, the lower face 711b of the core material 711, the gap surrounded by the conductor layer 731 and the resin layer 742, the lower face 711b of the core material 711, the side face 722a of the resin dam layer 7221, and the conductor layer. 731 and 736 and the resin layers 741 and 742, respectively, are introduced into the gaps, which are cured to become resin cured products (resin layers 744, 745 and 7481), respectively.
Further, during the heating, the resin composition that has flowed out of the resin layer 742 stacked on the side surface portion 722d side of the resin dam layer 7222 has an upper surface portion 713a, a conductor layer 736, and a core layer 713 shown in FIG. The gap surrounded by the resin layer 742, the lower face 711b of the core material 711, the gap surrounded by the conductor layer 731 and the resin layer 742, the lower face 711b of the core material 711, the side face 722d of the resin dam layer 7222, the conductor The resin flows into gaps surrounded by the layers 731 and 736 and the resin layers 741 and 742, and is cured to become cured resin products (resin layers 744, 745 and 7482), respectively.
Furthermore, the resin composition that has flowed out of the resin layer 743 stacked on the side surface portion 721a side of the resin dam layer 7211 during the above heating is the upper surface portion 711a of the core material 711 shown in FIG. 732 and the gap surrounded by the resin layer 743, the lower surface portion 712b of the core material 712, the gap surrounded by the conductor layer 733 and the resin layer 743, the lower surface portion 712b of the core material 712, and the side surface portion 721a of the resin dam layer 7211. Then, they flow into gaps surrounded by the conductor layers 732 and 733 and the resin layer 743, respectively, and are cured to become cured resin products (resin layers 746, 747 and 7491), respectively.
In addition, the resin composition that has flowed out of the resin layer 743 stacked on the side surface portion 721d side of the resin dam layer 7212 during the heating is the upper surface portion 711a, the conductor layer 732, and the resin of the core material 711 shown in FIG. The gap surrounded by the layer 743, the lower face 712b of the core material 712, the gap surrounded by the conductor layer 733 and the resin layer 743, the lower face 712b of the core material 712, the side face 721d of the resin dam layer 7212, and the conductor layer 732 and 733, and the resin layer 743, respectively, flow into the gaps, which are cured to become cured resin products (resin layers 746, 747, and 7492), respectively.
Then, the resin dam layer 7221 (side surface portion 722a side) is laminated so that the conductor layer 731 and the resin layer 742 are adjacent to each other via the resin layer 7481, and the resin dam layer 7222 (side surface portion) is interposed via the resin layer 7482. 722d side), the conductor layer 731 and the resin layer 742 may be in a stacked state (see FIG. 17K). At this time, the resin layer 7481, the lower surface portion 711b of the core material 711, and the upper surface portion of the conductor layer 736 can be laminated, and the resin layer 7482, the lower surface portion 711b of the core material 711, and the upper surface portion of the conductor layer 736 can be laminated. .
In addition, the resin dam layer 7211 (side surface portion 721a side), the conductor layers 732 and 733, and the resin layer 743 are stacked so as to be adjacent to each other through the resin layer 7491, and the resin dam layer 7212 (side surface) is interposed through the resin layer 7492. (The portion 721d side), the conductor layers 732 and 733, and the resin layer 743 are adjacent to each other (see FIG. 17K). At this time, the resin layer 7491, the upper surface portion 711a of the core material 711, and the lower surface portion 712b of the core material 712 are laminated, and the resin layer 7492, the upper surface portion 711a of the core material 711, and the lower surface portion 712b of the core material 712 are laminated. Can be.
The resin layer 744 is laminated with the upper surface portion 713a of the core material 713, the side surface portion of the conductor layer 736, and the lower surface portion of the resin layer 742, and the resin layer 745 is the lower surface portion 711b of the core material 711 and the side surface portion of the conductor layer 732. The resin layer 746 is laminated with the upper surface portion 711 a of the core material 711, the side surface portion of the conductor layer 733 and the lower surface portion of the resin layer 743, and the resin layer 747 is laminated with the upper surface portion of the core material 712. The lower surface portion 712b, the side surface portion of the conductor layer 733, and the upper surface portion of the resin layer 743 can be stacked.
The resin dam layer 721 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 743 during the heating, and can prevent the resin composition from being eluted to the upper surface of the resin layer 741. Thereby, the upper surface part of the resin layer 741 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 700 can be facilitated.
In addition, the resin dam layer 722 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 743 during the heating, and can suppress the resin composition from being eluted to the upper surface of the resin layer 741. Thereby, the upper surface part of the resin layer 741 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 700 can be facilitated.

本実施形態においては、樹脂層742,743及び銅張積層板761,762,763を同時に積み重ねて積層状態とするような構成としたが、例えば樹脂層742及び銅張積層板761,763とを積み重ねてこれらを積層状態にし、その後これと樹脂層743と銅張積層板762とを積み重ねて積層状態にしてもよく、樹脂層743及び銅張積層板761,762とを積み重ねてこれらを積層状態にし、その後これと樹脂層742と銅張積層板763とを積み重ねて積層状態にしてもよい。   In the present embodiment, the resin layers 742 and 743 and the copper-clad laminates 761, 762 and 763 are stacked at the same time to form a laminated state. For example, the resin layer 742 and the copper-clad laminates 761 and 763 are These may be stacked to form a laminated state, and then the resin layer 743 and the copper-clad laminate 762 may be stacked to form a laminated state. The resin layer 743 and the copper-clad laminates 761 and 762 may be stacked to form a laminated state. Then, the resin layer 742 and the copper clad laminate 763 may be stacked to form a laminated state.

本実施形態においては、樹脂ダム層721,722及び樹脂層741,742,743,744,745,746,747,7481,7482,7491,7492を硬化状態とし、また各々接する層構成材が積層状態となった後、コア材712及び導体層734のうち、樹脂ダム層7211の側面部721b及び樹脂ダム層7221の側面部722bと垂直上で同一直線上に対応する位置を切断し、並びに樹脂ダム層7212の側面部721c及び樹脂ダム層7222の側面部722cに垂直上で同一直線上に対応する位置を切断することにより、コア材712及び導体層734の一部を除去する。これにより、本実施形態のリジッド多層プリント配線板700が作製される(図17(l)参照)。
なお本実施形態においては、全ての層構成材が積層状態となった後にコア材712及び導体層734の一部を除去したが、これらの除去はリジッド多層プリント配線板700の製造工程のいずれであってもよい。
そしてリジッド多層プリント配線板700は、図17(l)で表されるように、樹脂ダム層7211の側面部721b及び樹脂ダム層7221の側面部722bがリジッド多層プリント配線板700の側面部700aの一部を構成し、樹脂ダム層7212の側面部721c及び樹脂ダム層7222の側面部722cがリジッド多層プリント配線板700の側面部700bの一部を構成している。
そしてリジッド多層プリント配線板700は、樹脂ダム層722を備える樹脂層741の上面部とリジッド多層プリント配線板700の側面部700aとがL字型(リジッド多層プリント配線板700の側面部700aを縦線、樹脂層741の上面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層741の上面部とリジッド多層プリント配線板700の側面部700bとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板700の側面部700bを縦線、樹脂層741の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板700はこのような構成となることにより、導体層734の上面部から導体層735の下面部までの高さ(膜厚H1)と樹脂層741の上面部から導体層735の下面部までの高さ(膜厚H2)とを異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
In the present embodiment, the resin dam layers 721 and 722 and the resin layers 741, 742, 743, 744, 745, 746, 747, 7481, 7482, 7491, and 7492 are in a cured state, and the layer constituent materials that are in contact with each other are in a laminated state. After that, the core material 712 and the conductor layer 734 are cut at positions corresponding to the same straight line and perpendicular to the side surface portion 721b of the resin dam layer 7211 and the side surface portion 722b of the resin dam layer 7221. The core material 712 and a part of the conductor layer 734 are removed by cutting positions corresponding to the same vertical line on the side surface portion 721c of the layer 7212 and the side surface portion 722c of the resin dam layer 7222. Thereby, the rigid multilayer printed wiring board 700 of this embodiment is produced (refer FIG.17 (l)).
In this embodiment, the core material 712 and a part of the conductor layer 734 are removed after all the layer constituting materials are in the laminated state. However, these removals are performed in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 700. There may be.
As shown in FIG. 17L, the rigid multilayer printed wiring board 700 has a side surface portion 721b of the resin dam layer 7211 and a side surface portion 722b of the resin dam layer 7221 of the side surface portion 700a of the rigid multilayer printed wiring board 700. A part of the side surface portion 721c of the resin dam layer 7212 and a side surface portion 722c of the resin dam layer 7222 constitute a part of the side surface portion 700b of the rigid multilayer printed wiring board 700.
In the rigid multilayer printed wiring board 700, the upper surface portion of the resin layer 741 including the resin dam layer 722 and the side surface portion 700a of the rigid multilayer printed wiring board 700 are L-shaped (the side surface portion 700a of the rigid multilayer printed wiring board 700 is vertically formed). The upper surface of the resin layer 741 and the side surface 700b of the rigid multilayer printed wiring board 700 are inverted L-shaped (rigid multilayer printed wiring board). The side surface portion 700b of 700 is a vertical line, and the upper surface portion of the resin layer 741 is a horizontal line).
With this configuration, the rigid multilayer printed wiring board 700 of the present embodiment has a height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 734 to the lower surface portion of the conductor layer 735 and the upper surface portion of the resin layer 741. The height (film thickness H2) to the lower surface portion of the conductor layer 735 can be made different, that is, the film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1.

リジッド多層プリント配線板700において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 700, the film thickness H1 is desirably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

このように、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板700は、リジッド多層プリント配線板700のコアとなる層(コア材713)に間隙部分を形成する工程が不要であり、またリジッド多層プリント配線板700を構成する層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板700の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得ると共に、外部に露出する層(樹脂層741)を容易に調整し得る。   As described above, the rigid multilayer printed wiring board 700 manufactured by the manufacturing method according to the present embodiment does not require a step of forming a gap portion in a layer (core material 713) serving as a core of the rigid multilayer printed wiring board 700. Further, by adjusting the stacking position of each layer constituent material in the step of stacking the layer constituent materials constituting the rigid multilayer printed wiring board 700, the film thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 700 can be easily adjusted. In addition, the layer (resin layer 741) exposed to the outside can be easily adjusted.

導体層731,732,733,734,735,736は、リジッド多層プリント配線板700の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductor layers 731, 732, 733, 734, 735, and 736 can remove unnecessary portions by etching or the like so that a desired circuit pattern is obtained in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 700. .

樹脂層742,743のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。また樹脂層741のような表層絶縁層となる樹脂層の膜厚は、硬化状態において5μm以上30μm以下であることが望ましい。
また導体層731,732,733,734,735,736の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layers 742 and 743 is preferably 20 μm or more in the cured state. In addition, the thickness of the resin layer serving as a surface insulating layer such as the resin layer 741 is desirably 5 μm or more and 30 μm or less in the cured state.
Further, the film thickness of the conductor layers 731, 732, 733, 734, 735, 736 is desirably 5 μm or more and 300 μm or less.

また本実施形態においては、銅張積層板761,762,763を使用したが、例えばコア材711の上面部711aと下面部711bにそれぞれ導体層731,732を積み重ねて積層状態とする工程、コア材712の上面部712aと下面部712bにそれぞれ導体層733,734を積み重ねて積層状態とする工程及びコア材713の上面部713aと下面部713bにそれぞれ導体層735,736を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいてもよい。   In this embodiment, the copper clad laminates 761, 762, 763 are used. For example, the step of stacking the conductor layers 731 and 732 on the upper surface portion 711a and the lower surface portion 711b of the core material 711, respectively, Conductive layers 733 and 734 are stacked on the upper surface portion 712a and the lower surface portion 712b of the material 712 to form a laminated state, and conductive layers 735 and 736 are stacked on the upper surface portion 713a and the lower surface portion 713b of the core material 713, respectively. The process to perform may be included.

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板700のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板700の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層731,732,733,734,735,736を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板700における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層734,735の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In this embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 700. For example, after all the layer constituent materials that are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 700 are laminated, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof, thereby forming the conductor layers 731, 732, and 733. , 734, 735, 736 can be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 700.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 734 and 735 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is manufactured.

リジッド多層プリント配線板700は、導体層735が最外層となるように樹脂層741が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることができる。このようにリジッド多層プリント配線板700は屈曲状態で使用することができるため、電子制御装置内のスペースを効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板700への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を広げることができる。
そしてリジッド多層プリント配線板700は、材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。
The rigid multilayer printed wiring board 700 can bend the portion where the resin layer 741 is laminated (having the film thickness H2) so that the conductor layer 735 is the outermost layer. Thus, since the rigid multilayer printed wiring board 700 can be used in a bent state, it is possible to efficiently use the space in the electronic control device and mount electronic components on the rigid multilayer printed wiring board 700 ( Design) and the degree of freedom in designing an electronic control device incorporating the same.
Since the rigid multilayer printed wiring board 700 can be adjusted in film thickness without selecting a material, for example, a material having high heat resistance and durability can be used in this portion, and a resin having special performance can be used. Since it can be used, high reliability can be realized.

更にはリジッド多層プリント配線板700のうち、膜厚H2となる部分を構成するコア材713及び導体層735,736と膜厚H1となる部分を構成するコア材(711,712)713及び導体層(731,732,733,734)735,736とは各々同じ材質となり得るため、熱膨張係数の差を抑え、破損の発生を抑制することもできる。またこれらの材質が同一の場合には誘電率も一致することから、これらを異なる材質とした場合と比較して、高周波特性への対応を容易に行うことができる。
そして膜厚H2となる部分を構成する各層構成材と膜厚H1となる部分を構成する各層構成材との材質を同一にでき、また既存の層構成材を利用し得ることから、既存の層構成材について既に取得した信頼性評価等(例えば回路、スルーホール等について)の結果をリジッド多層プリント配線板700自体の信頼性評価に一部流用することができ、これに要するコストや時間を抑制することができる。
Furthermore, in the rigid multilayer printed wiring board 700, the core material 713 and the conductor layers 735 and 736 constituting the portion having the film thickness H2, and the core material (711, 712) 713 and the conductor layer constituting the portion having the film thickness H1. Since (731, 732, 733, 734) 735, 736 can be the same material, the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed and the occurrence of breakage can also be suppressed. Further, when these materials are the same, the dielectric constants also match, so that it is possible to easily cope with high frequency characteristics as compared with the case where these materials are different.
And since the material of each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H2 and each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H1 can be made the same, and since the existing layer constituent material can be utilized, the existing layer The results of reliability evaluation, etc. that have already been obtained for component materials (for example, circuits, through holes, etc.) can be partially used for reliability evaluation of the rigid multilayer printed wiring board 700 itself, and the cost and time required for this can be suppressed. can do.

<第8の実施形態>
第8の実施形態について、図18から図20を参照して説明する。
コア材811の上面部811a及び下面部811bにそれぞれ導体層831,832が積層された銅張積層板861を用意する(図18(a)参照)。
銅張積層板861は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
<Eighth Embodiment>
The eighth embodiment will be described with reference to FIGS.
A copper-clad laminate 861 in which conductor layers 831 and 832 are laminated on the upper surface portion 811a and the lower surface portion 811b of the core material 811 is prepared (see FIG. 18A).
For the copper-clad laminate 861, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.

次いで銅張積層板861を構成する導体層831,832について、後述する樹脂硬化物からなる樹脂層845,846が形成される位置に対応する領域をエッチング等で除去する(図18(b)参照)。   Next, with respect to the conductor layers 831 and 832 constituting the copper-clad laminate 861, regions corresponding to positions where resin layers 845 and 846 made of a resin cured material described later are formed are removed by etching or the like (see FIG. 18B). ).

そして、導体層832の上面部の所定の位置に樹脂層8412を積み重ね、導体層831の下面部の所定の位置に樹脂層8411を積み重ねる(図18(c)参照)。
樹脂層8411,8412は、前述の第1の実施形態における樹脂層142と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。なお作製されるリジッド多層プリント配線板800を屈曲状態で使用する場合、後述する加熱及び/または紫外線照射等により導体層831と積層状態になった樹脂層8411と、導体層832と積層状態となった樹脂層8412とが、それぞれ可撓性を有するようにこれらの形成に用いられる樹脂組成物の成分を調整することが望ましい。
Then, the resin layer 8412 is stacked at a predetermined position on the upper surface portion of the conductor layer 832, and the resin layer 8411 is stacked at a predetermined position on the lower surface portion of the conductor layer 831 (see FIG. 18C).
The resin layers 8411 and 8412 can have the same configuration as the resin layer 142 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials in the same manner. When the rigid multilayer printed wiring board 800 to be manufactured is used in a bent state, the resin layer 8411 that is laminated with the conductor layer 831 by heating and / or ultraviolet irradiation described later, and the conductor layer 832 are laminated. It is desirable to adjust the components of the resin composition used for forming the resin layer 8412 so that the resin layer 8412 has flexibility.

樹脂層8411,8412は、リジッド多層プリント配線板800の製造工程のいずれかの工程において加熱及び/または紫外線照射等されて硬化し、これらに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
また樹脂層8411を積み重ねる位置及び樹脂層8411の大きさ(広さ)等は、作製されるリジッド多層プリント配線板800において、後述する樹脂ダム層8211の側面部821bがリジッド多層プリント配線板800の側面部800aの一部を構成するように、また樹脂ダム層8212の側面部821cがリジッド多層プリント配線板800の側面部800bの一部を構成するように積み重ねられるよう、適宜調整し得る。
同様に、樹脂層8412を積み重ねる位置及び樹脂層8412の大きさ(広さ)等は、作製されるリジッド多層プリント配線板800において、後述する樹脂ダム層樹脂ダム層8221の側面部822bがリジッド多層プリント配線板800の側面部800cの一部を構成するように、また樹脂ダム層8222の側面部822cがリジッド多層プリント配線板800の側面部800dの一部を構成するように積み重ねられるよう、適宜調整し得る。
The resin layers 8411 and 8412 can be cured by heating and / or ultraviolet irradiation or the like in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 800, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
Further, the position where the resin layers 8411 are stacked and the size (width) of the resin layer 8411 are such that the side surface portion 821b of the resin dam layer 8211 to be described later is formed on the rigid multilayer printed wiring board 800. It can be adjusted as appropriate so as to constitute a part of the side surface part 800a and so that the side surface part 821c of the resin dam layer 8212 forms a part of the side surface part 800b of the rigid multilayer printed wiring board 800.
Similarly, the position at which the resin layers 8412 are stacked and the size (width) of the resin layer 8412 are such that the side surface portion 822b of the resin dam layer resin dam layer 8221 described later is a rigid multi-layer printed wiring board 800. Appropriately so as to constitute a part of the side surface portion 800c of the printed wiring board 800 and so that the side surface portion 822c of the resin dam layer 8222 constitutes a part of the side surface portion 800d of the rigid multilayer printed wiring board 800. Can be adjusted.

そして樹脂層8412の上面部(導体層832の上面部と接していない方の面)に樹脂ダム層821を形成し、樹脂層8411の下面部(導体層831の下面部と接していない方の面)に樹脂ダム層822を形成する(図18(d)参照)。
樹脂層8412の上面部への樹脂ダム層821の形成及び樹脂層8411の下面部への樹脂ダム層822の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また本実施形態においては、樹脂ダム層821は導体層8412の上面部に2つ形成され(樹脂ダム層8211,8212)、樹脂ダム層822は導体層8411の下面部に2つ形成される(樹脂ダム層8221,8222)。そして樹脂ダム層821,822は、樹脂ダム層8211の側面部821a,821b、樹脂ダム層8212の側面部821c,821dと樹脂ダム層8221の側面部822a,822b、樹脂ダム層8222の側面部822c,822dとがそれぞれ垂直上で同一直線上に存するように形成される。
なお、作製されるリジッド多層プリント配線板800の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層821,822の数は1つであってもよく、また複数であってもよい。
また樹脂ダム層821,822はリジッド多層プリント配線板800の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これらにそれぞれ接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する熱圧着と同時に行ってもよい。
A resin dam layer 821 is formed on the upper surface portion of the resin layer 8412 (the surface not in contact with the upper surface portion of the conductor layer 832), and the lower surface portion of the resin layer 8411 (the surface not in contact with the lower surface portion of the conductor layer 831). A resin dam layer 822 is formed on the surface (see FIG. 18D).
The formation of the resin dam layer 821 on the upper surface portion of the resin layer 8412 and the formation of the resin dam layer 822 on the lower surface portion of the resin layer 8411 are similar to the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above. Can be used, and the same configuration can be adopted.
In this embodiment, two resin dam layers 821 are formed on the upper surface portion of the conductor layer 8412 (resin dam layers 8211 and 8212), and two resin dam layers 822 are formed on the lower surface portion of the conductor layer 8411 (see FIG. Resin dam layers 8221, 8222). The resin dam layers 821 and 822 include side surfaces 821a and 821b of the resin dam layer 8211, side surfaces 821c and 821d of the resin dam layer 8212, side surfaces 822a and 822b of the resin dam layer 8221, and side surfaces 822c of the resin dam layer 8222. , 822d are formed on the same straight line in the vertical direction.
Note that the number of the resin dam layers 821 and 822 to be formed may be one or plural as long as the thickness of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 800 can be adjusted.
Also, the resin dam layers 821 and 822 are cured by at least one of ultraviolet curing and thermal curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 800, and are laminated with other layer constituent materials in contact with them. Can be.
In addition, you may perform the said thermosetting simultaneously with the thermocompression bonding mentioned later.

コア材812の上面部812a及び下面部812bにそれぞれ導体層833,834が積層された銅張積層板862を用意する(図19(e)参照)。
銅張積層板862は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
A copper-clad laminate 862 in which conductor layers 833 and 834 are respectively laminated on the upper surface portion 812a and the lower surface portion 812b of the core material 812 is prepared (see FIG. 19E).
For the copper-clad laminate 862, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.

銅張積層板862を構成する導体層833,834について、後述する樹脂硬化物からなる樹脂層847,8491,8492が形成される位置に対応する領域及び積み重ねた際に樹脂ダム層8211の側面部821aから樹脂ダム層8212の側面部821dまでの間に対応する領域をエッチング等で除去する(図19(f)参照)。   Regarding the conductor layers 833 and 834 constituting the copper-clad laminate 862, regions corresponding to positions where resin layers 847, 8491 and 8492 made of a cured resin, which will be described later, are formed, and side surfaces of the resin dam layer 8211 when stacked. A corresponding region between 821a and the side surface portion 821d of the resin dam layer 8212 is removed by etching or the like (see FIG. 19F).

コア材813の上面部813a及び下面部813bにそれぞれ導体層835,836が積層された銅張積層板863を用意する(図19(g)参照)。
銅張積層板863は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
A copper-clad laminate 863 in which conductor layers 835 and 836 are respectively laminated on the upper surface portion 813a and the lower surface portion 813b of the core material 813 is prepared (see FIG. 19G).
For the copper-clad laminate 863, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.

銅張積層板863を構成する導体層836について、後述する樹脂硬化物からなる樹脂層844,8481,8482が形成される位置に対応する領域及び積み重ねた際に樹脂ダム層8221の側面部822aから樹脂ダム層8222の側面部822dまでの間に対応する領域をエッチング等で除去する(図19(h)参照)。   With respect to the conductor layer 836 constituting the copper clad laminate 863, the region corresponding to the position where the resin layers 844, 8481, and 8482 made of a cured resin, which will be described later, are formed and from the side surface portion 822 a of the resin dam layer 8221 when stacked. A region corresponding to the side portion 822d of the resin dam layer 8222 is removed by etching or the like (see FIG. 19H).

そして樹脂ダム層8211の側面部821bが後述するリジッド多層プリント配線板800の側面部800aの一部を構成し、樹脂ダム層8212の側面部821cがリジッド多層プリント配線板800の側面部800bの一部を構成し樹脂ダム層8221の側面部822bが後述するリジッド多層プリント配線板800の側面部800cの一部を構成し、樹脂ダム層8222の側面部822cがリジッド多層プリント配線板800の側面部800dの一部をそれぞれ構成するように、銅張積層板861,862,863を下から863,861,862となるように積み重ねると共に、図20(i)に表されるように樹脂層842,843を積み重ねる。
本実施形態においては、図20(i)で表されるように、1つの樹脂層842が導体層836の上面部と導体層831の下面部に接するように且つ樹脂ダム層8221の側面部822aの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられる。また別の樹脂層842が導体層836の上面部と導体層831の下面部に接するように且つ樹脂ダム層8222の側面部822dの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられる。
また図20(j)で表されるように、1つの樹脂層843が導体層832の上面部と導体層833の下面部に接するように且つ樹脂ダム層8211の側面部821aの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられる。また別の樹脂層843が導体層832の上面部と導体層833の下面部に接するように且つ樹脂ダム層8212の側面部821dの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられる。
The side surface portion 821b of the resin dam layer 8211 constitutes a part of a side surface portion 800a of the rigid multilayer printed wiring board 800 described later, and the side surface portion 821c of the resin dam layer 8212 is one of the side surface portions 800b of the rigid multilayer printed wiring board 800. The side part 822b of the resin dam layer 8221 constitutes a part of a side part 800c of the rigid multilayer printed wiring board 800, which will be described later, and the side part 822c of the resin dam layer 8222 constitutes a side part of the rigid multilayer printed wiring board 800. The copper clad laminates 861, 862, and 863 are stacked so as to be 863, 861, and 862 from the bottom so as to constitute a part of 800d, respectively, and the resin layer 842 and the resin layer 842 as shown in FIG. 843 is stacked.
In the present embodiment, as shown in FIG. 20I, one resin layer 842 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 836 and the lower surface portion of the conductor layer 831, and the side surface portion 822 a of the resin dam layer 8221. Are stacked with a slight gap so that they are not in contact with each other. Further, a slight gap is provided so that another resin layer 842 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 836 and the lower surface portion of the conductor layer 831 and in the vicinity of the side surface portion 822d of the resin dam layer 8222. Are stacked.
20J, one resin layer 843 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 832 and the lower surface portion of the conductor layer 833, and in the vicinity of the side surface portion 821a of the resin dam layer 8211. They are stacked with a slight gap so as not to contact this. Further, a slight gap is provided so that another resin layer 843 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 832 and the lower surface portion of the conductor layer 833, and is in the vicinity of the side surface portion 821d of the resin dam layer 8212. Are stacked.

本実施形態においては、樹脂層8411と樹脂ダム層822を併せた高さ(膜厚)と導体層836及び樹脂層843を併せた高さ(膜厚)とを同等とし、樹脂層8412と樹脂ダム層821を併せた高さ(膜厚)と導体層833及び樹脂層843を併せた高さ(膜厚)とを同等としたが、それぞれの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。また同様に他の各層構成材についても適宜膜厚を調整し得る。   In the present embodiment, the combined height (film thickness) of the resin layer 8411 and the resin dam layer 822 is equal to the combined height (film thickness) of the conductor layer 836 and the resin layer 843, and the resin layer 8412 and the resin Although the height (film thickness) of the dam layer 821 combined with the height (film thickness) of the conductor layer 833 and the resin layer 843 is equal, it goes without saying that the respective film thicknesses may be adjusted as appropriate. It is. Similarly, the film thickness of other layer constituent materials can be adjusted as appropriate.

樹脂層842,843は、リジッド多層プリント配線板800の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これらに接する他の層構成材と積層状態になり得る。本実施形態においては、上記各層構成材を積み重ねた後、熱圧着により各層構成材を積層状態とすることが望ましい。
上記加熱時に、樹脂ダム層8221の側面部822a側に積み重ねられた樹脂層842から流出した樹脂組成物は、図20(j)に表されるコア材813の上面部813a、導体層836及び樹脂層842に囲まれた間隙部、コア材811の下面部811b、導体層831及び樹脂層842に囲まれた間隙部、コア材813の上面部813ab、樹脂ダム層8221の側面部822a、導体層831,836及び樹脂層8411,842に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層844,845,8481)となる。
また上記加熱時に、樹脂ダム層8222の側面部822d側に積み重ねられた樹脂層842から流出した樹脂組成物は、図20(j)に表されるコア材813の上面部813a、導体層836及び樹脂層842に囲まれた間隙部、コア材811の下面部811b、導体層831及び樹脂層842に囲まれた間隙部及びコア材813の上面部813a、樹脂ダム層8222の側面部822d、導体層831,836及び樹脂層8411,842に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層844,845,8482)となる。
更には、上記加熱時に、樹脂ダム層8211の側面部821a側に積み重ねられた樹脂層843から流出した樹脂組成物は、図20(j)に表されるコア材811の上面部811a、導体層832及び樹脂層843に囲まれた間隙部、コア材812の下面部812b、導体層833及び樹脂層843に囲まれた間隙部及びコア材812の下面部812b、樹脂ダム層8211の側面部821a、導体層832,833及び樹脂層8412,843に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層846,847,8491)となる。
また上記加熱時に樹脂ダム層8212の側面部821d側に積み重ねられた樹脂層843から流出した樹脂組成物は、図20(j)に表されるコア材811の上面部811a、導体層832及び樹脂層843に囲まれた間隙部、コア材812の下面部812b、導体層833及び樹脂層843に囲まれた間隙部及びコア材812の下面部812b、樹脂ダム層8212の側面部821d、導体層832及び樹脂層8412,843に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層846,847,8492)となる。
そして、樹脂層8481を介して樹脂ダム層8221(側面部822a側)と導体層836及び樹脂層842とが隣接するように積層状態となり、樹脂層8482を介して樹脂ダム層8222(側面部822d側)と導体層836及び樹脂層842とが隣接するように積層状態になり得る(図20(j)参照)。またこの際、樹脂層8481とコア材813の上面部813a、導体層831の下面部及び樹脂層8411の側面部とを積層状態にし、樹脂層8482とコア材813の上面部813a、導体層831の下面部及び樹脂層8411の側面部とをそれぞれ積層状態にし得る。
また、樹脂層8491を介して樹脂ダム層8211(側面部821a側)と導体層833及び樹脂層843とが隣接するように積層状態になり、樹脂層8492を介して樹脂ダム層8212(側面部821d側)と導体層833及び樹脂層843とが隣接するように積層状態になり得る(図20(j)参照)。またこの際、樹脂層8491とコア材812の下面部812b、導体層832の上面部及び樹脂層8412の側面部とを、樹脂層8492とコア材812の下面部812b、導体層832の上面部及び樹脂層8412の側面部とをそれぞれ積層状態にし得る。
なお、樹脂層844はコア材813の上面部813a、導体層836の側面部及び樹脂層842の下面部と積層状態になり、樹脂層845はコア材811の下面部811b、導体層831の側面部及び樹脂層842の上面部と積層状態になり、樹脂層846はコア材811の上面部811a、導体層832の側面部及び樹脂層843の下面部と積層状態になり、樹脂層847はコア材812の下面部812b、導体層833の側面部及び樹脂層843の上面部と積層状態になり得る。
そして樹脂ダム層821は、上記加熱時に樹脂層843から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が樹脂層8412の上面部まで溶出することを抑制し得る。これにより、樹脂層8412の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板800の膜厚調整を容易にし得る。
また樹脂ダム層822は、上記加熱時に樹脂層842から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が各層構成材において本来付着すべきではない場所に付着し硬化することを抑制し得る。
The resin layers 842 and 843 can be cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 800, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith. In the present embodiment, it is desirable to stack each layer constituent material and then put each layer constituent material into a laminated state by thermocompression bonding.
During the heating, the resin composition that has flowed out of the resin layer 842 stacked on the side surface portion 822a side of the resin dam layer 8221 is the upper surface portion 813a, the conductor layer 836, and the resin of the core material 813 shown in FIG. The gap surrounded by the layer 842, the lower face 811b of the core material 811, the gap surrounded by the conductor layer 831 and the resin layer 842, the upper face 813ab of the core material 813, the side face 822a of the resin dam layer 8221, the conductor layer 831 and 836 and the gap portions surrounded by the resin layers 8411 and 842, respectively, are cured to become cured resin products (resin layers 844, 845 and 8481), respectively.
Further, during the heating, the resin composition that has flowed out of the resin layer 842 stacked on the side surface portion 822d side of the resin dam layer 8222 has an upper surface portion 813a, a conductor layer 836, and a core layer 813 shown in FIG. The gap surrounded by the resin layer 842, the lower surface 811b of the core material 811, the gap surrounded by the conductor layer 831 and the resin layer 842, the upper surface 813a of the core material 813, the side surface 822d of the resin dam layer 8222, the conductor The resin flows into gaps surrounded by the layers 831 and 836 and the resin layers 8411 and 842, and is cured to become cured resin products (resin layers 844, 845 and 8482), respectively.
Furthermore, the resin composition that has flowed out of the resin layer 843 stacked on the side surface portion 821a side of the resin dam layer 8211 during the heating is the upper surface portion 811a of the core material 811 shown in FIG. 832 and the gap surrounded by the resin layer 843, the lower surface portion 812b of the core material 812, the gap surrounded by the conductor layer 833 and the resin layer 843, the lower surface portion 812b of the core material 812, and the side surface portion 821a of the resin dam layer 8211. Then, they flow into gaps surrounded by the conductor layers 832 and 833 and the resin layers 8412 and 843, respectively, and are cured to become cured resin products (resin layers 864, 847, and 8491), respectively.
In addition, the resin composition that has flowed out of the resin layer 843 stacked on the side surface portion 821d side of the resin dam layer 8212 during the heating is the upper surface portion 811a, the conductor layer 832, and the resin of the core material 811 shown in FIG. The gap surrounded by the layer 843, the lower surface portion 812b of the core material 812, the gap surrounded by the conductor layer 833 and the resin layer 843, the lower surface portion 812b of the core material 812, the side surface portion 821d of the resin dam layer 8212, and the conductor layer 832 and the resin layers 8412 and 843, respectively, are introduced into the gaps, and are cured to become cured resin products (resin layers 846, 847, and 8492), respectively.
Then, the resin dam layer 8221 (side surface portion 822a side), the conductor layer 836, and the resin layer 842 are laminated through the resin layer 8421, and the resin dam layer 8222 (side surface portion 822d) is interposed therebetween. Side), the conductor layer 836, and the resin layer 842 can be laminated (see FIG. 20J). At this time, the resin layer 8481, the upper surface portion 813a of the core material 813, the lower surface portion of the conductor layer 831, and the side surface portion of the resin layer 8411 are laminated, and the resin layer 8482, the upper surface portion 813a of the core material 813, and the conductor layer 831 are stacked. Each of the lower surface portion and the side surface portion of the resin layer 8411 can be laminated.
Further, the resin dam layer 8211 (side surface portion 821a side), the conductor layer 833, and the resin layer 843 are laminated so as to be adjacent to each other via the resin layer 8491, and the resin dam layer 8212 (side surface portion) is interposed via the resin layer 8492. 821d side), the conductor layer 833, and the resin layer 843 may be in a laminated state (see FIG. 20J). At this time, the resin layer 8491 and the lower surface portion 812b of the core material 812, the upper surface portion of the conductor layer 832 and the side surface portion of the resin layer 8412 are connected to the resin layer 8492, the lower surface portion 812b of the core material 812, and the upper surface portion of the conductor layer 832. And the side surface portion of the resin layer 8412 may be laminated.
The resin layer 844 is laminated with the upper surface portion 813a of the core material 813, the side surface portion of the conductor layer 836, and the lower surface portion of the resin layer 842, and the resin layer 845 is the lower surface portion 811b of the core material 811 and the side surface of the conductor layer 831. The resin layer 846 is laminated with the upper surface 811a of the core material 811, the side surface of the conductor layer 832 and the lower surface of the resin layer 843, and the resin layer 847 is the core. The lower surface portion 812b of the material 812, the side surface portion of the conductor layer 833, and the upper surface portion of the resin layer 843 can be laminated.
The resin dam layer 821 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 843 during the heating, and can prevent the resin composition from being eluted to the upper surface of the resin layer 8412. Thereby, the upper surface part of the resin layer 8412 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 800 can be facilitated.
In addition, the resin dam layer 822 serves as a wall for stopping the flow of the resin composition eluted from the resin layer 842 during the heating, and the resin composition adheres to and cures at a place where the resin composition should not originally adhere in each layer constituent material. This can be suppressed.

本実施形態においては、樹脂層842,843及び銅張積層板861,862,863は同時に積み重ねて積層状態とするような構成としたが、例えば樹脂層842及び銅張積層板861,863とを積み重ねてこれらを積層状態にし、その後これと樹脂層843と銅張積層板862とを積み重ねて積層状態にしてもよく、樹脂層843及び銅張積層板861,862とを積み重ねてこれらを積層状態にし、その後これと樹脂層842と銅張積層板863とを積み重ねて積層状態にしてもよい。   In the present embodiment, the resin layers 842 and 843 and the copper-clad laminates 861, 862 and 863 are stacked at the same time to form a laminated state. However, for example, the resin layer 842 and the copper-clad laminates 861 and 863 are combined. These may be stacked to form a laminated state, and then the resin layer 843 and the copper-clad laminate 862 may be stacked to form a laminated state. The resin layer 843 and the copper-clad laminates 861 and 862 may be stacked to form a laminated state. Then, the resin layer 842 and the copper clad laminate 863 may be stacked to form a laminated state.

本実施形態においては、樹脂ダム層821,822及び樹脂層841,842,843,844,845,846,847,8481,8482,8491,8492を硬化状態とし、また各々接する層構成材が積層状態となった後、コア材812及び導体層834並びにコア材813及び導体層835のうち、樹脂ダム層8211の側面部821b及び樹脂ダム層8221の側面部822bに垂直上で同一直線上に対応する位置を切断し、樹脂ダム層8212の側面部821c及び樹脂ダム層8222の側面部822cに垂直上で同一直線上に対応する位置を切断することにより、コア材812及び導体層834並びにコア材813及び導体層835の一部をそれぞれ除去する。これにより、本実施形態のリジッド多層プリント配線板800が作製される(図20(k)参照)。
なお本実施形態においては、全ての層構成材が積層状態となった後にコア材812及び導体層834並びにコア材813及び導体層835の一部を除去したが、これらの除去はリジッド多層プリント配線板800の製造工程のいずれであってもよい。
そしてリジッド多層プリント配線板800は、図20(k)で表されるように、樹脂ダム層8211の側面部821bがリジッド多層プリント配線板800の側面部800aの一部を構成し、樹脂ダム層8212の側面部821cがリジッド多層プリント配線板800の側面部800bの一部を構成し、樹脂ダム層8221の側面部822bがリジッド多層プリント配線板800の側面部800cの一部を構成し、樹脂ダム層8222の側面部822cがリジッド多層プリント配線板800の側面部800dの一部を構成している。
そしてリジッド多層プリント配線板800は、樹脂ダム層821を備える樹脂層8412の上面部とリジッド多層プリント配線板800の側面部800aとがL字型(リジッド多層プリント配線板800の側面部800aを縦線、樹脂層8412の上面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層8412の上面部とリジッド多層プリント配線板800の側面部800bとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板800の側面部800bを縦線、樹脂層8412の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
更には、リジッド多層プリント配線板800は、樹脂ダム層822を備える樹脂層8411の下面部とリジッド多層プリント配線板800の側面部800cとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板800の側面部800cを縦線、樹脂層8411の下面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層8411の下面部とリジッド多層プリント配線板800の側面部800dとがL字型(リジッド多層プリント配線板800の側面部800dを縦線、樹脂層8411の下面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板800はこのような構成となることにより、導体層834の上面部から導体層835の下面部までの高さ(膜厚H1)と樹脂層8412の上面部から樹脂層8411の下面部までの高さ(膜厚H2)とを異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
In the present embodiment, the resin dam layers 821, 822 and the resin layers 841, 842, 843, 844, 845, 846, 847, 8481, 8482, 8491, 8492 are in a cured state, and the layer constituent materials that are in contact with each other are in a laminated state. Then, of the core material 812 and the conductor layer 834 and the core material 813 and the conductor layer 835, the side surface portion 821b of the resin dam layer 8211 and the side surface portion 822b of the resin dam layer 8221 correspond to the same vertical line. The core material 812, the conductor layer 834, and the core material 813 are cut by cutting the positions and cutting the positions corresponding to the same vertical line on the side surface portion 821 c of the resin dam layer 8212 and the side surface portion 822 c of the resin dam layer 8222. And a part of the conductor layer 835 are removed. Thereby, the rigid multilayer printed wiring board 800 of this embodiment is produced (refer FIG.20 (k)).
In this embodiment, the core material 812, the conductor layer 834, and a part of the core material 813 and the conductor layer 835 are removed after all the layer constituent materials are in the laminated state. Any of the manufacturing steps of the plate 800 may be used.
In the rigid multilayer printed wiring board 800, as shown in FIG. 20 (k), the side surface portion 821b of the resin dam layer 8211 constitutes a part of the side surface portion 800a of the rigid multilayer printed wiring board 800, and the resin dam layer The side surface portion 821c of 8212 constitutes a part of the side surface portion 800b of the rigid multilayer printed wiring board 800, the side surface portion 822b of the resin dam layer 8221 constitutes a part of the side surface portion 800c of the rigid multilayer printed wiring board 800, and resin The side surface portion 822 c of the dam layer 8222 constitutes a part of the side surface portion 800 d of the rigid multilayer printed wiring board 800.
In the rigid multilayer printed wiring board 800, the upper surface portion of the resin layer 8412 including the resin dam layer 821 and the side surface portion 800a of the rigid multilayer printed wiring board 800 are L-shaped (the side surface portion 800a of the rigid multilayer printed wiring board 800 is vertically formed). The upper surface portion of the resin layer 8412 and the side surface portion 800b of the rigid multilayer printed wiring board 800 are in an inverted L-shape (rigid multilayer printed wiring board). The side surface portion 800b of 800 is a vertical line, and the upper surface portion of the resin layer 8412 is a horizontal line).
Further, in the rigid multilayer printed wiring board 800, the lower surface portion of the resin layer 8411 including the resin dam layer 822 and the side surface portion 800c of the rigid multilayer printed wiring board 800 are inverted L-shaped (the side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board 800). The bottom surface of the resin layer 8411 and the side surface portion 800d of the rigid multilayer printed wiring board 800 are L-shaped (when the bottom surface of the resin layer 8411 is viewed as a horizontal line). The side surface portion 800d of the wiring board 800 is a vertical line, and the lower surface portion of the resin layer 8411 is a horizontal line).
The rigid multilayer printed wiring board 800 of the present embodiment has such a configuration, so that the height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 834 to the lower surface portion of the conductor layer 835 and the upper surface portion of the resin layer 8412 are increased. The height (film thickness H2) to the lower surface portion of the resin layer 8411 can be made different, that is, the film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1.

リジッド多層プリント配線板800において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 800, the film thickness H1 is preferably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

このように、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板800は、リジッド多層プリント配線板800のコアとなる層(コア材811)に間隙部分を形成する工程が不要であり、またリジッド多層プリント配線板800を構成する層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板800の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得ると共に、外部に露出する層(樹脂層8411,8412)を容易に調整し得る。   As described above, the rigid multilayer printed wiring board 800 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment does not require a step of forming a gap portion in a layer (core material 811) serving as a core of the rigid multilayer printed wiring board 800. Further, in the step of stacking the layer constituent materials constituting the rigid multilayer printed wiring board 800, the film thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 800 can be easily adjusted by adjusting the stacking position of each layer constituent material. In addition, the layers (resin layers 8411 and 8412) exposed to the outside can be easily adjusted.

導体層831,832,833,834,835,836は、リジッド多層プリント配線板800の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductor layers 831, 832, 833, 834, 835, and 836 can remove unnecessary portions by etching or the like so that a desired circuit pattern is obtained in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 800. .

樹脂層842,843のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。また樹脂層8411,8412のような表層絶縁層となる樹脂層の膜厚は、硬化状態において5μm以上30μm以下であることが望ましい。
また導体層831,832,833,834,835,836の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The film thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layers 842 and 843 is preferably 20 μm or more in the cured state. In addition, it is desirable that the film thickness of the resin layer serving as the surface insulating layer such as the resin layers 8411 and 8412 be 5 μm or more and 30 μm or less in the cured state.
Further, the film thickness of the conductor layers 831, 832, 833, 834, 835, 836 is desirably 5 μm or more and 300 μm or less.

また本実施形態においては、銅張積層板861,862,863を使用したが、例えばコア材811の上面部811aと下面部811bにそれぞれ導体層831,832を積み重ねて積層状態とする工程、コア材812の上面部812aと下面部812bにそれぞれ導体層833,834を積み重ねて積層状態とする工程及びコア材813の上面部813aと下面部812bにそれぞれ導体層835,836を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいてもよい。   In the present embodiment, the copper clad laminates 861, 862, and 863 are used. For example, the step of stacking the conductor layers 831 and 832 on the upper surface portion 811a and the lower surface portion 811b of the core material 811 to form a laminated state, Conductive layers 833 and 834 are stacked on the upper surface portion 812a and the lower surface portion 812b of the material 812 to form a stacked state, and conductive layers 835 and 836 are stacked on the upper surface portion 813a and the lower surface portion 812b of the core material 813, respectively. The process to perform may be included.

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板800のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板800の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層831,832,833,834,835,836を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板800における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層834,835の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In the present embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 800. For example, after all the layer constituent materials that are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 800 are laminated, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof to thereby form the conductor layers 831, 832, and 833. , 834, 835, 836 can be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 800.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 834 and 835 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is produced.

リジッド多層プリント配線板800は、導体層835が最外層となるように樹脂層8411,8412が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることができ、また導体層834が最外層となるように樹脂層8411,8412が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることもできる。
このようにリジッド多層プリント配線板800は導体層834,835のいずれをも最外層とするように屈曲状態で使用することができるため、電子制御装置内のスペースをより効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板800への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度をより広げることができる。
そしてリジッド多層プリント配線板800は、材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。
The rigid multilayer printed wiring board 800 can bend the portion where the resin layers 8411 and 8412 are laminated (having a film thickness H2) so that the conductor layer 835 is the outermost layer, and the conductor layer 834 is the outermost layer. Thus, the portion where the resin layers 8411 and 8412 are laminated (having the film thickness H2) can be bent.
Thus, since the rigid multilayer printed wiring board 800 can be used in a bent state so that any of the conductor layers 834 and 835 is the outermost layer, the space in the electronic control device can be utilized more efficiently. In addition, the degree of freedom in the design (mounting) of electronic components on the rigid multilayer printed wiring board 800 and the design of an electronic control device incorporating the electronic components can be further expanded.
Since the thickness of the rigid multilayer printed wiring board 800 can be adjusted without selecting a material, for example, a material having high heat resistance and durability can be used for this portion, and a resin having a special performance can be used. Since it can be used, high reliability can be realized.

更にはリジッド多層プリント配線板800のうち、膜厚H2となる部分を構成するコア材813及び導体層835,836と膜厚H1となる部分を構成するコア材(811,812)813及び導体層(831,832,833,834)835,836とは各々同じ材質となり得るため、熱膨張係数の差を抑え、破損の発生を抑制することもできる。またこれらの材質が同一の場合には誘電率も一致することから、これらを異なる材質とした場合と比較して、高周波特性への対応を容易に行うことができる。
そして膜厚H2となる部分を構成する各層構成材と膜厚H1となる部分を構成する各層構成材との材質を同一にでき、また既存の層構成材を利用し得ることから、既存の層構成材について既に取得した信頼性評価等(例えば回路、スルーホール等について)の結果をリジッド多層プリント配線板800自体の信頼性評価に一部流用することができ、これに要するコストや時間を抑制することができる。
Furthermore, in the rigid multilayer printed wiring board 800, the core material 813 and the conductor layers 835 and 836 constituting the portion having the film thickness H2, and the core material (811, 812) 813 and the conductor layer constituting the portion having the film thickness H1. Since (831, 832, 833, 834) 835 and 836 can be made of the same material, the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed and the occurrence of breakage can also be suppressed. Further, when these materials are the same, the dielectric constants also match, so that it is possible to easily cope with high frequency characteristics as compared with the case where these materials are different.
And since each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H2 and each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H1 can be made the same material, and since the existing layer constituent material can be utilized, the existing layer The results of reliability evaluation, etc. that have already been obtained for component materials (for example, circuits, through holes, etc.) can be partially used for reliability evaluation of the rigid multilayer printed wiring board 800 itself, thereby reducing the cost and time required for this. can do.

<第9の実施形態>
第9の実施形態について、図21から図23を参照して説明する。
コア材911の上面部911a及び下面部911bにそれぞれ導体層931,932が積層された銅張積層板961を用意する(図21(a)参照)。
銅張積層板961は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
<Ninth Embodiment>
A ninth embodiment will be described with reference to FIGS.
A copper-clad laminate 961 in which conductor layers 931 and 932 are respectively laminated on the upper surface portion 911a and the lower surface portion 911b of the core material 911 is prepared (see FIG. 21A).
The copper-clad laminate 961 can use the same method as the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above, and can have the same configuration.

次いで銅張積層961を構成する導体層931について、後述する樹脂硬化物からなる樹脂層9944,9451,9452が形成される位置に対応する領域及び積み重ねた際に樹脂ダム層9211の側面部921aから樹脂ダム層9212の側面部921dまでの間に対応する領域をエッチング等で除去する(図21(b)参照)。   Next, with respect to the conductor layer 931 constituting the copper-clad laminate 961, the region corresponding to the position where the resin layers 9944, 9451, and 9452 made of a cured resin, which will be described later, are formed and from the side surface portion 921a of the resin dam layer 9211 when stacked. A region corresponding to the side portion 921d of the resin dam layer 9212 is removed by etching or the like (see FIG. 21B).

そして銅張積層板961の所定の位置に空隙部951を形成する(図21(c)参照)。
空隙部951は、その側面部951aが後述する樹脂ダム層9211の側面部921bと垂直上で同一直線上に存するように、また空隙部951の側面部bが樹脂ダム層921の側面部921cに垂直上で同一直線上に存するように銅張積層板961(コア材911)に設けられることが望ましい。
And the space | gap part 951 is formed in the predetermined position of the copper clad laminated board 961 (refer FIG.21 (c)).
The gap portion 951 is such that the side surface portion 951a is perpendicular to the side surface portion 921b of the resin dam layer 9211 described later, and the side surface portion b of the gap portion 951 is on the side surface portion 921c of the resin dam layer 921. It is desirable to be provided on the copper clad laminate 961 (core material 911) so as to be on the same straight line in the vertical direction.

コア材912の上面部912a及び下面部912bにそれぞれ導体層933,934が積層された銅張積層板962を用意する(図22(d)参照)。
銅張積層板962は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
A copper-clad laminate 962 in which conductor layers 933 and 934 are respectively laminated on the upper surface portion 912a and the lower surface portion 912b of the core material 912 is prepared (see FIG. 22D).
For the copper-clad laminate 962, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.

次いで銅張積層962を構成する導体層934について、後述する樹脂硬化物からなる樹脂層943が形成される位置に対応する領域をエッチング等で除去する(図22(e)参照)。   Next, with respect to the conductor layer 934 constituting the copper clad laminate 962, a region corresponding to a position where a resin layer 943 made of a cured resin described later is formed is removed by etching or the like (see FIG. 22E).

そして、導体層934の上面部の所定の位置に樹脂層941を積み重ねる(図20(f)参照)。樹脂層941は、前述の第1の実施形態における樹脂層142と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。なお作製されるリジッド多層プリント配線板900を屈曲状態で使用する場合、後述する加熱及び/または紫外線照射等により導体層934と積層状態となった樹脂層941が可撓性を有するようにこれの形成に用いられる樹脂組成物の成分を調整することが望ましい。   Then, the resin layer 941 is stacked at a predetermined position on the upper surface portion of the conductor layer 934 (see FIG. 20F). The resin layer 941 can have the same configuration as the resin layer 142 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method. When the rigid multilayer printed wiring board 900 to be produced is used in a bent state, the resin layer 941 that has been laminated with the conductor layer 934 by heating and / or ultraviolet irradiation, which will be described later, is flexible. It is desirable to adjust the components of the resin composition used for formation.

樹脂層941は、リジッド多層プリント配線板900の製造工程のいずれかの工程において加熱及び/または紫外線照射等されて硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
また導体層943の上面部に樹脂層941を積み重ねる際の位置及びその範囲等は、作製されるリジッド多層プリント配線板900において、後述する樹脂ダム層9211の側面部921bがリジッド多層プリント配線板900の側面部900aの一部を構成するように、また樹脂ダム層9212の側面部921cがリジッド多層プリント配線板900の側面部900bの一部を構成するように積み重ねられるよう、適宜調整し得る。
The resin layer 941 can be cured by heating and / or ultraviolet irradiation or the like in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 900, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
The position and range of the resin layer 941 when the resin layer 941 is stacked on the upper surface portion of the conductor layer 943 are such that the side surface portion 921b of the resin dam layer 9211 described later is formed in the rigid multilayer printed wiring board 900. The side surface portion 921c of the resin dam layer 9212 may be appropriately adjusted so that the side surface portion 921c of the resin dam layer 9212 is stacked to form a part of the side surface portion 900b of the rigid multilayer printed wiring board 900.

そして樹脂層941の上面部(導体層934の上面部と接していない方の面)に樹脂ダム層921を形成する(図22(g)参照)。
樹脂層941の上面部への樹脂ダム層921の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また本実施形態においては、樹脂ダム層921は樹脂層941の上面部に2つ形成される(樹脂ダム層9211,9212)。
樹脂ダム層9211は、樹脂ダム層9211の側面部921bが前述した空隙部951の側面部951aと垂直上で同一直線上に存するように且つリジッド多層プリント配線板900の側面部900aの一部を構成するように形成される。また樹脂ダム層9212は、樹脂ダム層9212の側面部921cが空隙部951の側面部951bと垂直上で同一直線上に存するように且つリジッド多層プリント配線板900の側面部900bの一部を構成するように形成される。
なお、作製されるリジッド多層プリント配線板900の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層921の数は1つであってもよく、また複数であってもよい。
また樹脂ダム層921はリジッド多層プリント配線板900の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する熱圧着と同時に行ってもよい。
Then, a resin dam layer 921 is formed on the upper surface portion of the resin layer 941 (the surface not in contact with the upper surface portion of the conductor layer 934) (see FIG. 22G).
The formation of the resin dam layer 921 on the upper surface portion of the resin layer 941 can use the same method as the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above, and can have the same configuration.
In the present embodiment, two resin dam layers 921 are formed on the upper surface of the resin layer 941 (resin dam layers 9211 and 9212).
The resin dam layer 9211 is formed so that the side surface portion 921b of the resin dam layer 9211 exists on the same straight line as the above-described side surface portion 951a of the gap portion 951 and a part of the side surface portion 900a of the rigid multilayer printed wiring board 900. Formed to compose. Further, the resin dam layer 9212 constitutes a part of the side surface portion 900b of the rigid multilayer printed wiring board 900 so that the side surface portion 921c of the resin dam layer 9212 is perpendicular to the side surface portion 951b of the gap portion 951 and is collinear. To be formed.
Note that the number of the resin dam layers 921 formed may be one or plural as long as the thickness of the rigid multilayer printed wiring board 900 to be manufactured can be adjusted.
The resin dam layer 921 can be cured by at least one of ultraviolet curing and heat curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 900, and can be laminated with another layer constituent material in contact therewith.
In addition, you may perform the said thermosetting simultaneously with the thermocompression bonding mentioned later.

そして樹脂ダム層9211の側面部921b、樹脂ダム層9212の側面部921cがそれぞれ後述するリジッド多層プリント配線板900の側面部900a,900bの一部を構成するように、また空隙部951の側面部951aが樹脂ダム層9211の側面部921aと垂直上で同一直線上に存するように、また空隙部951の側面部951bが樹脂ダム層9212の側面部921cと垂直上で同一直線上に存するように、銅張積層板961,962を下から962,961となるように積み重ねると共に、図23(h)に表されるように樹脂層942を積み重ねる。
本実施形態においては、図23(h)で表されるように、1つの樹脂層942が導体層934の上面部と導体層931の下面部に接するように且つ樹脂ダム層9211の側面部921aの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられ、また別の樹脂層942が導体層934の上面部と導体層931の下面部に接するように且つ樹脂ダム層9212の側面部921dの近傍であってこれと接しないように若干の間隙部を設けて積み重ねられる。
The side surface portion 921b of the resin dam layer 9211 and the side surface portion 921c of the resin dam layer 9212 constitute part of side surface portions 900a and 900b of the rigid multilayer printed wiring board 900, which will be described later, and the side surface portions of the gap portion 951. 951a exists on the same straight line as the vertical side surface 921a of the resin dam layer 9211, and so that the side surface part 951b of the gap 951 exists on the same vertical line as the vertical side surface part 921c of the resin dam layer 9212. The copper clad laminates 961 and 962 are stacked so as to be 962 and 961 from the bottom, and the resin layers 942 are stacked as shown in FIG.
In this embodiment, as shown in FIG. 23H, one resin layer 942 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 934 and the lower surface portion of the conductor layer 931, and the side surface portion 921 a of the resin dam layer 9211. The resin dam layer 9212 is stacked such that another resin layer 942 is in contact with the upper surface portion of the conductor layer 934 and the lower surface portion of the conductor layer 931. In the vicinity of the side surface portion 921d, a small gap portion is provided so as not to contact the side surface portion 921d.

本実施形態においては、樹脂ダム層921と樹脂層941を併せた高さ(膜厚)と導体層931及び樹脂層942を併せた高さ(膜厚)とを同等としたが、それぞれの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。また同様に他の各層構成材についても適宜膜厚を調整し得る。   In the present embodiment, the height (film thickness) of the resin dam layer 921 and the resin layer 941 is equal to the height (film thickness) of the conductor layer 931 and the resin layer 942. Of course, the thickness may be appropriately adjusted. Similarly, the film thickness of other layer constituent materials can be adjusted as appropriate.

樹脂層942は、リジッド多層プリント配線板900の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これと接する他の層構成材と積層状態になり得る。本実施形態においては、上記各層構成材を積み重ねた後、熱圧着により各層構成材を積層状態とすることが望ましい。
上記加熱時に、樹脂ダム層9211の側面部921a側に積み重ねられた樹脂層942から流出した樹脂組成物は、図23(i)に表されるコア材912の上面部912a、導体層934及び樹脂層942に囲まれた間隙部、コア材911の下面部911b、導体層931及び樹脂層942に囲まれた間隙部及びコア材911の下面部911b、樹脂ダム層9211の側面部921a、導体層931,934及び樹脂層941,942に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層943,944,9451)となる。
また上記加熱時に、樹脂ダム層9212の側面部921d側に積み重ねられた樹脂層942から流出した樹脂組成物は、図23(i)に表されるコア材912の上面部912a、導体層934及び樹脂層942に囲まれた間隙部、コア材911の下面部911b、導体層931及び樹脂層942に囲まれた間隙部及びコア材911の下面部911b、樹脂ダム層9212の側面部921d、導体層931,934及び樹脂層941,942に囲まれた間隙部にそれぞれ流入し、これが硬化してそれぞれ樹脂硬化物(樹脂層943,944,9452)となる。
そして、樹脂層9451を介して樹脂ダム層9211(側面部921a側)と導体層931及び樹脂層942とが隣接するように積層状態となり、樹脂層9452を介して樹脂ダム層9212(側面部921d側)と導体層931及び樹脂層942とが隣接するように積層状態になり得る(図23(i)参照)。またこの際、樹脂層9451とコア材911の下面部911b及び導体層934の上面部とを、樹脂層9452とコア材911の下面部911b及び導体層934の上面部とをそれぞれ積層状態にし得る。
なお、樹脂層943はコア材912の上面部912a、導体層934の側面部及び樹脂層942の下面部と積層状態となり、樹脂層944はコア材911の下面部912b、導体層934の側面部及び樹脂層942の上面部と積層状態になり得る。
そして樹脂ダム層921は、上記加熱時に樹脂層942から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が樹脂層941の上面部まで溶出することを抑制し得る。これにより、樹脂層941の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板900の膜厚調整を容易にし得る。
The resin layer 942 can be cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 900, and can be laminated with another layer constituent material in contact therewith. In the present embodiment, it is desirable to stack each layer constituent material and then put each layer constituent material into a laminated state by thermocompression bonding.
During the heating, the resin composition that has flowed out of the resin layer 942 stacked on the side surface 921a side of the resin dam layer 9211 is the upper surface portion 912a, the conductor layer 934, and the resin of the core material 912 shown in FIG. The gap surrounded by the layer 942, the lower surface portion 911b of the core material 911, the gap surrounded by the conductor layer 931 and the resin layer 942, the lower surface portion 911b of the core material 911, the side surface portion 921a of the resin dam layer 9211, and the conductor layer. 931 and 934 and resin layers 941 and 942 are respectively surrounded by gaps, which are cured to form resin cured products (resin layers 943, 944 and 9451), respectively.
Also, during the heating, the resin composition that has flowed out of the resin layer 942 stacked on the side surface portion 921d side of the resin dam layer 9212 has an upper surface portion 912a, a conductor layer 934, and a core material 912 shown in FIG. The gap surrounded by the resin layer 942, the lower surface portion 911b of the core material 911, the gap surrounded by the conductor layer 931 and the resin layer 942, the lower surface portion 911b of the core material 911, the side surface portion 921d of the resin dam layer 9212, and the conductor. The resin flows into gaps surrounded by the layers 931 and 934 and the resin layers 941 and 942, respectively, and is cured to become cured resin products (resin layers 943, 944 and 9452), respectively.
Then, the resin dam layer 9211 (side surface portion 921a side), the conductor layer 931, and the resin layer 942 are laminated so as to be adjacent to each other through the resin layer 9451, and the resin dam layer 9212 (side surface portion 921d) is interposed therebetween. Side), the conductor layer 931, and the resin layer 942 can be in a laminated state (see FIG. 23I). At this time, the resin layer 9451, the lower surface portion 911b of the core material 911, and the upper surface portion of the conductor layer 934 can be laminated, and the resin layer 9452, the lower surface portion 911b of the core material 911, and the upper surface portion of the conductor layer 934 can be laminated. .
The resin layer 943 is laminated with the upper surface portion 912a of the core material 912, the side surface portion of the conductor layer 934, and the lower surface portion of the resin layer 942, and the resin layer 944 is the lower surface portion 912b of the core material 911 and the side surface portion of the conductor layer 934. In addition, the upper surface portion of the resin layer 942 can be laminated.
The resin dam layer 921 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 942 during the heating, and can prevent the resin composition from being eluted to the upper surface of the resin layer 941. Thereby, the upper surface part of the resin layer 941 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 900 can be facilitated.

本実施形態においては、樹脂ダム層921及び樹脂層941,942,943,944,9451,9452を硬化状態とし、また各々接する層構成材が積層状態となった後、コア材911及び導体層932のうち、空隙部951の側面部951a,951bに垂直上で同一直線上に存する位置をそれぞれ切断することにより、コア材911及び導体層932の一部を除去する。これにより、本実施形態のリジッド多層プリント配線板900が作製される(図23(j)参照)。
なお本実施形態においては、全ての層構成材が積層状態となった後にコア材911及び導体層932の一部を除去したが、これらの除去はリジッド多層プリント配線板900の製造工程のいずれであってもよい。
そしてリジッド多層プリント配線板900は、図23(j)で表されるように、樹脂ダム層9211の側面部921bがリジッド多層プリント配線板900の側面部900aの一部を構成し、樹脂ダム層9212の側面部921cがリジッド多層プリント配線板900の側面部900bの一部を構成している。
そしてリジッド多層プリント配線板900は、樹脂ダム層921を備える樹脂層941の上面部とリジッド多層プリント配線板900の側面部900aとがL字型(リジッド多層プリント配線板900の側面部900aを縦線、樹脂層941の上面部を横線と見た場合)となるように、また樹脂層941の上面部とリジッド多層プリント配線板900の側面部900bとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板900の側面部900bを縦線、樹脂層941の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板900はこのような構成となることにより、導体層932の上面部から導体層933の下面部までの高さ(膜厚H1)と樹脂層941の上面部から導体層933の下面部までの高さ(膜厚H2)とを異なるように、即ち膜厚H2の方を膜厚H1よりも薄くし得る。
In the present embodiment, after the resin dam layer 921 and the resin layers 941, 942, 943, 944, 9451, and 9452 are in a cured state and the layer constituent materials that are in contact with each other are in a laminated state, the core material 911 and the conductor layer 932 Among them, the core material 911 and a part of the conductor layer 932 are removed by cutting the positions that are perpendicular to the side surface portions 951a and 951b of the gap portion 951 and are on the same straight line. Thereby, the rigid multilayer printed wiring board 900 of this embodiment is produced (refer FIG.23 (j)).
In this embodiment, the core material 911 and a part of the conductor layer 932 are removed after all the layer constituent materials are in the laminated state. However, these removals are performed in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 900. There may be.
In the rigid multilayer printed wiring board 900, as shown in FIG. 23 (j), the side surface portion 921b of the resin dam layer 9211 constitutes a part of the side surface portion 900a of the rigid multilayer printed wiring board 900, and the resin dam layer The side surface portion 921 c of 9212 constitutes a part of the side surface portion 900 b of the rigid multilayer printed wiring board 900.
In the rigid multilayer printed wiring board 900, the upper surface portion of the resin layer 941 including the resin dam layer 921 and the side surface portion 900a of the rigid multilayer printed wiring board 900 are L-shaped (the side surface portion 900a of the rigid multilayer printed wiring board 900 is vertically formed). The upper surface portion of the resin layer 941 and the side surface portion 900b of the rigid multilayer printed wiring board 900 are reverse L-shaped (rigid multilayer printed wiring board). The side surface portion 900b of 900 is a vertical line, and the upper surface portion of the resin layer 941 is a horizontal line.
The rigid multilayer printed wiring board 900 according to the present embodiment has such a configuration, so that the height (film thickness H1) from the upper surface portion of the conductor layer 932 to the lower surface portion of the conductor layer 933 and the upper surface portion of the resin layer 941. The thickness (film thickness H2) to the lower surface portion of the conductor layer 933 can be made different, that is, the film thickness H2 can be made thinner than the film thickness H1.

リジッド多層プリント配線板900において、膜厚H1は100μm以上6mm以下であることが望ましい。また膜厚H2は30μm以上であり且つ膜厚H1よりも100μmm以上薄いことが望ましい。   In the rigid multilayer printed wiring board 900, the film thickness H1 is desirably 100 μm or more and 6 mm or less. The film thickness H2 is preferably 30 μm or more and is preferably 100 μmm or less thinner than the film thickness H1.

即ち、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板700は、リジッド多層プリント配線板900のコアとなる層(コア材912)に間隙部分を形成する工程が不要であり、またリジッド多層プリント配線板900を構成する層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整することにより、リジッド多層プリント配線板900の膜厚(H1,H2)を容易に調整し得ると共に、外部に露出する層(樹脂層941)を容易に調整し得る。   That is, the rigid multilayer printed wiring board 700 manufactured by the manufacturing method of the present embodiment does not require a step of forming a gap portion in a layer (core material 912) that becomes a core of the rigid multilayer printed wiring board 900. In the process of stacking the layer constituent materials constituting the multilayer printed wiring board 900, the film thickness (H1, H2) of the rigid multilayer printed wiring board 900 can be easily adjusted by adjusting the stacking position and the like of each layer constituent material. The layer exposed to the outside (resin layer 941) can be easily adjusted.

導体層931,932,933,934は、リジッド多層プリント配線板700の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductive layers 931, 932, 933, and 934 can remove unnecessary portions by etching or the like so as to form a desired circuit pattern in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 700.

樹脂層942のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。また樹脂層941のような表層絶縁層となる樹脂層の膜厚は、硬化状態において5μm以上30μm以下であることが望ましい。
また導体層931,932,933,934の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The film thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layer 942 is desirably 20 μm or more in the cured state. In addition, the thickness of the resin layer serving as a surface insulating layer such as the resin layer 941 is preferably 5 μm or more and 30 μm or less in the cured state.
The film thickness of the conductor layers 931, 932, 933, and 934 is preferably 5 μm or more and 300 μm or less.

また本実施形態においては、銅張積層板961,962を使用したが、例えばコア材911の上面部911aと下面部911bにそれぞれ導体層931,932を積み重ねて積層状態とする工程、コア材912の上面部912aと下面部912bにそれぞれ導体層933,934を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいてもよい。   In the present embodiment, the copper clad laminates 961 and 962 are used. For example, the core material 912 includes a step of stacking the conductor layers 931 and 932 on the upper surface portion 911a and the lower surface portion 911b of the core material 911, respectively. A step of stacking conductor layers 933 and 934 on the upper surface portion 912a and the lower surface portion 912b, respectively, may be included.

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板900のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板900の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層931,932,933,934を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板900における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層932,933の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In the present embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 900. For example, after all layer constituent materials that are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 900 are in a laminated state, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof to form conductor layers 931, 932, and 933. , 934 can be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 900.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 932 and 933 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is manufactured.

リジッド多層プリント配線板900は、導体層933が最外層となるように樹脂層941が積層された(膜厚H2となる)部分を屈曲させることができる。このようにリジッド多層プリント配線板900は屈曲状態で使用することができるため、電子制御装置内のスペースを効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板900への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を広げることができる。
そしてリジッド多層プリント配線板900は、材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。
The rigid multilayer printed wiring board 900 can bend the portion where the resin layer 941 is laminated (having the film thickness H2) so that the conductor layer 933 is the outermost layer. Thus, since the rigid multilayer printed wiring board 900 can be used in a bent state, it is possible to efficiently utilize the space in the electronic control device and to mount electronic components on the rigid multilayer printed wiring board 900 ( Design) and the degree of freedom in designing an electronic control device incorporating the same.
Since the rigid multilayer printed wiring board 900 can adjust its film thickness without selecting a material, for example, a material having high heat resistance and durability can be used for this portion, and a resin having a special performance is used. Since it can be used, high reliability can be realized.

更にはリジッド多層プリント配線板900のうち、膜厚H2となる部分を構成するコア材912及び導体層933,934と膜厚H1となる部分を構成するコア材(911)912及び導体層(931,932)933,934とは各々同じ材質となり得るため、熱膨張係数の差を抑え、破損の発生を抑制することもできる。またこれらの材質が同一の場合には誘電率も一致することから、これらを異なる材質とした場合と比較して、高周波特性への対応を容易に行うことができる。
そして膜厚H2となる部分を構成する各層構成材と膜厚H1となる部分を構成する各層構成材との材質を同一にでき、また既存の層構成材を利用し得ることから、既存の層構成材について既に取得した信頼性評価等(例えば回路、スルーホール等について)の結果をリジッド多層プリント配線板900自体の信頼性評価に一部流用することができ、これに要するコストや時間を抑制することができる。
Further, in the rigid multilayer printed wiring board 900, the core material 912 and the conductor layers 933 and 934 constituting the portion having the thickness H2 and the core material (911) 912 and the conductor layer (931 constituting the portion having the thickness H1 are formed. 932) 933 and 934 can be made of the same material, so that the difference in thermal expansion coefficient can be suppressed and the occurrence of breakage can also be suppressed. Further, when these materials are the same, the dielectric constants also match, so that it is possible to easily cope with high frequency characteristics as compared with the case where these materials are different.
And since the material of each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H2 and each layer constituent material which comprises the part used as the film thickness H1 can be made the same, and since the existing layer constituent material can be utilized, the existing layer The results of reliability evaluation, etc. that have already been obtained for components (for example, circuits, through holes, etc.) can be partially used for reliability evaluation of the rigid multilayer printed wiring board 900 itself, and the cost and time required for this can be suppressed. can do.

<第10の実施形態>
第10の実施形態について、図24から図26を参照して説明する。
コア材1011の上面部1011a及び下面部1011bにそれぞれ導体層1031,1032が積層された銅張積層板1061を用意する(図24(a)参照)。
銅張積層板1061は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
<Tenth Embodiment>
The tenth embodiment will be described with reference to FIGS.
A copper-clad laminate 1061 in which conductor layers 1031 and 1032 are respectively laminated on the upper surface portion 1011a and the lower surface portion 1011b of the core material 1011 is prepared (see FIG. 24A).
The copper-clad laminate 1061 can use the same method as the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above, and can have the same configuration.

そして導体層1032の上面部(コア材1011の上面部1011aと接していない方の面)に樹脂ダム層1021を形成する(図24(b)参照)。
導体層1032の上面部への樹脂ダム層1021の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また本実施形態においては、樹脂ダム層1021は導体層1032の上面部に2つ形成され(樹脂ダム層10211,10212)、樹脂ダム層10211の側面部1021cが後述するリジッド多層プリント配線板1000の側面部1000bの一部を構成するように形成される。
なお、作製されるリジッド多層プリント配線板1000の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層1021の数は1つであってもよく、また複数であってもよい。
また樹脂ダム層1021はリジッド多層プリント配線板1000の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これと接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、後述する樹脂層1041,1042の加熱と同時に行ってもよい。
Then, a resin dam layer 1021 is formed on the upper surface portion of the conductor layer 1032 (the surface not in contact with the upper surface portion 1011a of the core material 1011) (see FIG. 24B).
For the formation of the resin dam layer 1021 on the upper surface portion of the conductor layer 1032, a method similar to the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be adopted.
In the present embodiment, two resin dam layers 1021 are formed on the upper surface portion of the conductor layer 1032 (resin dam layers 10211 and 10212), and the side surface portion 1021c of the resin dam layer 10211 is formed on a rigid multilayer printed wiring board 1000 described later. It forms so that a part of side part 1000b may be comprised.
Note that the number of the resin dam layers 1021 formed may be one or plural as long as the thickness of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 1000 can be adjusted.
Further, the resin dam layer 1021 can be cured by at least one of ultraviolet curing and thermal curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 1000, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
In addition, you may perform the said thermosetting simultaneously with the heating of the resin layers 1041 and 1042 mentioned later.

次いで導体層1032の上面部に樹脂層1041が積み重ねられる(図24(c)参照)。
本実施形態においては、導体層1032の上面部の2つの樹脂ダム層10211,10212の間隙部分以外の面に樹脂層1041が積み重ねられる。
即ち図24(c)で表されるように、樹脂ダム層1021の高さ(膜厚)と樹脂層1041(膜厚)とを同程度とし、且つ、1つの樹脂層1041が樹脂ダム層10211の側面部1021aと接するように、また1つの樹脂層1041が樹脂ダム層10212の側面部1021dと接するように導体層1032の上面部に積み重ねられる。なお、これらの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。
Next, the resin layer 1041 is stacked on the upper surface portion of the conductor layer 1032 (see FIG. 24C).
In the present embodiment, the resin layer 1041 is stacked on a surface other than the gap between the two resin dam layers 10211 and 10212 on the upper surface portion of the conductor layer 1032.
That is, as shown in FIG. 24C, the height (film thickness) of the resin dam layer 1021 and the resin layer 1041 (film thickness) are set to the same level, and one resin layer 1041 is the resin dam layer 10211. One resin layer 1041 is stacked on the upper surface portion of the conductor layer 1032 so as to be in contact with the side surface portion 1021a of the resin dam layer 10212. Of course, these film thicknesses may be appropriately adjusted.

樹脂層1041は、前述の第1の実施形態における樹脂層141と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。   The resin layer 1041 can have the same configuration as the resin layer 141 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials in the same manner.

樹脂層1041は、リジッド多層プリント配線板1000の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
また樹脂ダム層10211の側面部1021aに接するよう積み重ねられた樹脂層1041は樹脂ダム層10211の側面部1021aと積層状態となり、樹脂ダム層10212の側面部1021dに接するよう積み重ねられた樹脂層1041は樹脂ダム層10212の側面部1021dと積層状態となる。
但し樹脂層1041を加熱するタイミングによっては、樹脂層1041の加熱前に樹脂ダム層1021と樹脂層1041とが積層状態となっている場合も存在し、この場合は樹脂層1041の加熱により、樹脂ダム層1021と硬化した樹脂層1041とが積層状態となる。
そして樹脂ダム層1021は、上記加熱時に樹脂層1041から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が導体層1032の上面部の2つの樹脂ダム層10211,10212の間隙部分の面まで溶出することを抑制し得る。これにより、導体層1032の上面部を平滑に保つことができ、リジッド多層プリント配線板1000の膜厚調整を容易にし得る。
The resin layer 1041 is cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 1000, and can be in a laminated state with other layer constituent materials in contact therewith.
Further, the resin layer 1041 stacked to be in contact with the side surface portion 1021a of the resin dam layer 10211 is laminated with the side surface portion 1021a of the resin dam layer 10211, and the resin layer 1041 stacked to be in contact with the side surface portion 1021d of the resin dam layer 10212 is The resin dam layer 10212 is laminated with the side surface portion 1021d.
However, depending on the timing of heating the resin layer 1041, there may be a case where the resin dam layer 1021 and the resin layer 1041 are in a laminated state before the resin layer 1041 is heated. The dam layer 1021 and the cured resin layer 1041 are stacked.
The resin dam layer 1021 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 1041 during the heating, and the resin composition is formed between the two resin dam layers 10211 and 10212 on the upper surface portion of the conductor layer 1032. Elution to the surface of the gap portion can be suppressed. Thereby, the upper surface part of the conductor layer 1032 can be kept smooth, and the film thickness adjustment of the rigid multilayer printed wiring board 1000 can be facilitated.

次いで、樹脂ダム層10211に接する樹脂層1041の上面部にコア材1012を積み重ねる(図24(d)参照)。コア材1012は、前述の第1の実施形態におけるコア材111と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。
コア材1012はコア材1012の一側面部である側面部1012aが樹脂ダム層10211の側面部1021bと垂直上で同一直線上に存するように積み重ねられることが望ましい。
Next, the core material 1012 is stacked on the upper surface portion of the resin layer 1041 in contact with the resin dam layer 10211 (see FIG. 24D). The core material 1012 can have the same configuration as the core material 111 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials in the same manner.
The core material 1012 is preferably stacked such that a side surface portion 1012a, which is one side surface portion of the core material 1012, is vertically aligned with the side surface portion 1021b of the resin dam layer 10211.

そして樹脂ダム層10212の上面部及び樹脂ダム層10212に接する樹脂層1041の上面部を覆うように放熱性を有する導体層である放熱層1071を積み重ねる(図24(e)参照)。放熱層1071は、放熱層1071の一側面部である側面部1071aが樹脂ダム層10212の側面部1021cよりも樹脂ダム層10211側寄りに位置するように積み重ねられることが望ましい。
放熱層1071としては放熱性を有する素材を用いることができ、例えば銅、銀、金及びアルミニウム等の少なくとも1種、または基材を放熱性を有する樹脂、銅、亜鉛及びニッケル等で被覆したもの等が挙げられる。また放熱層1071の膜厚は1mm以上2mm以下であることが望ましい。
なお、放熱層1071はコア材1012には接しないように積み重ねられることが望ましく、放熱層1071とコア材1012とは同等の膜厚とすることが望ましい。放熱層1071をこのような構成とすることにより、後述するコア材1012を含む所定の層構成材の除去を容易にし得る。
Then, a heat dissipation layer 1071 which is a conductive layer having heat dissipation properties is stacked so as to cover the upper surface portion of the resin dam layer 10212 and the upper surface portion of the resin layer 1041 in contact with the resin dam layer 10212 (see FIG. 24E). The heat dissipation layer 1071 is preferably stacked such that the side surface portion 1071a which is one side surface portion of the heat dissipation layer 1071 is located closer to the resin dam layer 10211 side than the side surface portion 1021c of the resin dam layer 10212.
As the heat dissipation layer 1071, a heat dissipation material can be used, for example, at least one of copper, silver, gold, and aluminum, or a substrate coated with a heat dissipation resin, copper, zinc, nickel, etc. Etc. The film thickness of the heat dissipation layer 1071 is desirably 1 mm or more and 2 mm or less.
Note that the heat dissipation layer 1071 is preferably stacked so as not to be in contact with the core material 1012, and the heat dissipation layer 1071 and the core material 1012 are preferably formed to have the same thickness. By setting the heat dissipation layer 1071 to such a configuration, it is possible to easily remove a predetermined layer constituent material including a core material 1012 described later.

またコア材1012の上面部(樹脂ダム層10211の上面部及び樹脂層1041の上面部と接していない方の面)に1つ(樹脂ダム層10221)、及び放熱層1071の上面部(樹脂ダム層10212の上面部及び樹脂層1041の上面部と接していない方の面)に1つ(樹脂ダム層10222)、樹脂ダム層1022を形成する(図24(f)参照)。
樹脂ダム層1022の形成は、前述の第1の実施形態の樹脂ダム層121の形成方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また本実施形態においては、樹脂ダム層1022は上述の通り、コア材1012の上面部に1つ、放熱層1071の上面部に1つ、計2つ形成される。
樹脂ダム層10221は、樹脂ダム層10221の側面部1022bとコア材1012の側面部1012a及び樹脂ダム層10211の側面部1021bとが垂直上で同一直線上に存するように形成される。
また樹脂ダム層10222は、樹脂ダム層1022の側面部1022cが後述するリジッド多層プリント配線板1000の側面部1000bの一部を構成するように形成される。
更には、樹脂ダム層10221は樹脂ダム層10221の側面部1022a,1022bと樹脂ダム層10211の側面部1021a,1021bとが垂直上で同一直線上に存するようにコア材1012の上面部に形成され、また樹脂ダム層10222は樹脂ダム層10222の側面部1022c,1022dと樹脂ダム層10221の側面部1022c,1022dとがそれぞれ垂直上で同一直線上に存するように放熱層1071の上面部に形成される。
なお、作製されるリジッド多層プリント配線板1000の膜厚を調整し得るのであれば、形成される樹脂ダム層1022の数は1つであってもよく、また複数であってもよい。
また樹脂ダム層1022はリジッド多層プリント配線板1000の製造工程のいずれかにおいて、紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となり、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
なお当該熱硬化は、上述した樹脂層1041や後述する樹脂層1042の加熱と同時に行ってもよい。
Also, one (resin dam layer 10221) and one upper surface portion (resin dam layer) of the core material 1012 (the upper surface portion of the resin dam layer 10211 and the surface not in contact with the upper surface portion of the resin layer 1041). One (resin dam layer 10222) and one resin dam layer 1022 are formed on the upper surface portion of the layer 10212 and the surface not in contact with the upper surface portion of the resin layer 1041 (see FIG. 24F).
The resin dam layer 1022 can be formed using a method similar to the method for forming the resin dam layer 121 of the first embodiment described above, and can have a similar configuration.
In this embodiment, as described above, two resin dam layers 1022 are formed, one on the upper surface portion of the core material 1012 and one on the upper surface portion of the heat dissipation layer 1071.
The resin dam layer 10221 is formed such that the side surface portion 1022b of the resin dam layer 10221, the side surface portion 1012a of the core material 1012, and the side surface portion 1021b of the resin dam layer 10211 exist on the same straight line.
The resin dam layer 10222 is formed such that the side surface portion 1022c of the resin dam layer 1022 constitutes a part of the side surface portion 1000b of the rigid multilayer printed wiring board 1000 described later.
Further, the resin dam layer 10221 is formed on the upper surface portion of the core material 1012 so that the side surface portions 1022a and 1022b of the resin dam layer 10221 and the side surface portions 1021a and 1021b of the resin dam layer 10211 are on the same vertical line. The resin dam layer 10222 is formed on the upper surface portion of the heat dissipation layer 1071 so that the side surface portions 1022c and 1022d of the resin dam layer 10222 and the side surface portions 1022c and 1022d of the resin dam layer 10221 are on the same straight line. The
Note that the number of the resin dam layers 1022 formed may be one or plural as long as the thickness of the manufactured rigid multilayer printed wiring board 1000 can be adjusted.
Further, the resin dam layer 1022 can be cured by at least one of ultraviolet curing and thermal curing in any of the manufacturing processes of the rigid multilayer printed wiring board 1000, and can be laminated with another layer constituent material in contact therewith.
Note that the thermosetting may be performed simultaneously with the heating of the above-described resin layer 1041 or a resin layer 1042 described later.

次いで放熱層1071の上面部に樹脂層1042が積み重ねられる(図23(g)参照)。
本実施形態においては、図25(g)で表されるように、樹脂ダム層1022の高さ(膜厚)と樹脂層1042(膜厚)とを同程度とし、且つ、1つの樹脂層1042が樹脂ダム層10221の側面部1022aと接するようにコア材1012の上面部に積み重ねられ、また別の1つの樹脂層1042が樹脂ダム層10222の側面部1022dと接するように放熱層1071の上面部に積み重ねられる。なお、これらの膜厚を適宜調整してもよいことはもちろんである。
Next, the resin layer 1042 is stacked on the upper surface portion of the heat dissipation layer 1071 (see FIG. 23G).
In the present embodiment, as shown in FIG. 25G, the height (film thickness) of the resin dam layer 1022 and the resin layer 1042 (film thickness) are set to the same level, and one resin layer 1042 is formed. Is stacked on the upper surface portion of the core material 1012 so as to be in contact with the side surface portion 1022a of the resin dam layer 10221, and the upper surface portion of the heat dissipation layer 1071 so that another resin layer 1042 is in contact with the side surface portion 1022d of the resin dam layer 10222. Stacked on. Of course, these film thicknesses may be appropriately adjusted.

樹脂層1042は、前述の第1の実施形態における樹脂層141と同様の構成とすることができ、また同様の方法にて他の層構成材に積み重ねることができる。   The resin layer 1042 can have the same configuration as that of the resin layer 141 in the first embodiment described above, and can be stacked on other layer constituent materials by the same method.

樹脂層1042は、リジッド多層プリント配線板1000の製造工程のいずれかの工程における加熱により硬化し、これに接する他の層構成材と積層状態になり得る。
また樹脂ダム層10221の側面部1022aに接するよう積み重ねられた樹脂層1042は樹脂ダム層10221の側面部1022aと積層状態となり、樹脂ダム層10222の側面部1022dに接するよう積み重ねられた樹脂層1042は樹脂ダム層10222の側面部1022dと積層状態となる。
但し樹脂層1042を加熱するタイミングによっては、樹脂層1042の加熱前に樹脂ダム層1022と樹脂層1042とが積層状態となっている場合も存在し、この場合は樹脂層1042の加熱により、樹脂ダム層1022と硬化した樹脂層1042とが積層状態となる。
そして樹脂ダム層1022は、上記加熱時に樹脂層1042から溶出した樹脂組成物の流動を留める壁の役割を果たし、当該樹脂組成物が放熱層1071の上面部及び導体層1032の上面部にまで溶出することを抑制し得る。これにより、放熱層1071の上面部に樹脂硬化物が付着することを防止すると共に、放熱層1071の上面部及び導体層1032の上面部を平滑に保つことができるため、リジッド多層プリント配線板1000の膜厚調整を容易にし得る。
The resin layer 1042 is cured by heating in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 1000, and can be laminated with other layer constituent materials in contact therewith.
In addition, the resin layer 1042 stacked so as to be in contact with the side surface portion 1022a of the resin dam layer 10221 is laminated with the side surface portion 1022a of the resin dam layer 10221, and the resin layer 1042 stacked so as to be in contact with the side surface portion 1022d of the resin dam layer 10222 is The resin dam layer 10222 is laminated with the side surface portion 1022d.
However, depending on the timing of heating the resin layer 1042, there may be a case where the resin dam layer 1022 and the resin layer 1042 are laminated before the resin layer 1042 is heated. In this case, the resin layer 1042 is heated to The dam layer 1022 and the cured resin layer 1042 are stacked.
The resin dam layer 1022 serves as a wall that stops the flow of the resin composition eluted from the resin layer 1042 during the heating, and the resin composition is eluted to the upper surface portion of the heat dissipation layer 1071 and the upper surface portion of the conductor layer 1032. It can be suppressed. Accordingly, it is possible to prevent the cured resin from adhering to the upper surface portion of the heat dissipation layer 1071 and to keep the upper surface portion of the heat dissipation layer 1071 and the upper surface portion of the conductor layer 1032 smooth. The film thickness can be easily adjusted.

また コア材1013の上面部1013a及び下面部1013bにそれぞれ導体層1013,1014が積層された銅張積層板1062を用意し、樹脂層1042の上面部(コア材1012の上面部及び放熱層1071の上面部と接していない方の面)に銅張積層板1062を積み重ねる(図26(h)参照)。
銅張積層板1062は、前述の第1の実施形態の変形例の銅張積層板161の作製方法と同様の方法を用いることができ、同様の構成とし得る。
また銅張積層板1062は、コア材1012の上面部及び放熱層1071の上演武を覆うように積み重ねられることが望ましい。
Also, a copper clad laminate 1062 in which conductor layers 1013 and 1014 are respectively laminated on the upper surface portion 1013a and the lower surface portion 1013b of the core material 1013 is prepared, and the upper surface portion of the resin layer 1042 (the upper surface portion of the core material 1012 and the heat dissipation layer 1071). A copper-clad laminate 1062 is stacked on the surface not in contact with the upper surface portion (see FIG. 26H).
For the copper-clad laminate 1062, a method similar to the method for producing the copper-clad laminate 161 of the modified example of the first embodiment described above can be used, and a similar configuration can be used.
The copper clad laminate 1062 is preferably stacked so as to cover the upper surface of the core material 1012 and the outer layer of the heat dissipation layer 1071.

本実施形態においては、樹脂ダム層1021,1022及び樹脂層1041,1042を硬化状態とし、また各々接する層構成材が積層状態となった後、銅張積層板1061,1062のうち、樹脂ダム層10122の側面部1021c及び樹脂ダム層10222の側面部1022cに垂直上で同一直線上に対応する位置をそれぞれ切断することにより、コア材1012、並びに樹脂ダム層10211,10221樹脂層1041,1042のそれぞれ一方及び銅張積層板1061,1062の一部を除去する(図26(i)参照)。   In this embodiment, after the resin dam layers 1021 and 1022 and the resin layers 1041 and 1042 are in a cured state and the respective layer constituent materials in contact with each other are in a laminated state, the resin dam layer of the copper-clad laminates 1061 and 1062 The core material 1012, and the resin dam layers 10211, 10221, and the resin layers 1041, 1042 are respectively cut by cutting the positions corresponding to the same straight line perpendicular to the side surface portion 1021c of the resin dam layer 1022 and the side surface portion 1022c of the resin dam layer 10222. On the other hand, a part of the copper clad laminates 1061 and 1062 is removed (see FIG. 26 (i)).

このように各層構成材の一部が除去され、放熱層1071の一部(側面部1071a付近)が樹脂ダム層10212の側面部1021c及び樹脂ダム層10222の側面部1022cよりも外層側に突出するように(凸状となるように)露出状態となった本実施形態のリジッド多層プリント配線板1000が作製される(図26(j)参照)。   In this way, a part of each layer constituent material is removed, and a part of the heat radiation layer 1071 (near the side part 1071a) protrudes to the outer layer side from the side part 1021c of the resin dam layer 10212 and the side part 1022c of the resin dam layer 10222. Thus, the rigid multilayer printed wiring board 1000 of this embodiment that is exposed (so as to have a convex shape) is manufactured (see FIG. 26J).

本実施形態のリジッド多層プリント配線板1000は、図26(j)で表すように、樹脂ダム層10212の側面部1021cがリジッド多層プリント配線板1000の側面部1000bの一部を構成し、樹脂ダム層10222の側面部1022cがリジッド多層プリント配線板1000の側面部1000aの一部を構成するように積層されている。
また樹脂ダム層10212を備える放熱層1071の下面部と多層プリント配線板1000の側面部1000bとがL字型(リジッド多層プリント配線板1000の側面部1000bを縦線、放熱層1071の下面部を横線と見た場合)となるように構成されており、また樹脂ダム層10222を備える放熱層1071の上面部とリジッド多層プリント配線板1000の側面部1000aとが逆L字型(リジッド多層プリント配線板1000の側面部1000aを縦線、放熱層1071の上面部を横線と見た場合)となるよう構成されている。
本実施形態のリジッド多層プリント配線板1000はこのような構成となることにより、リジッド多層プリント配線板1000の一部の膜厚を調整、即ち放熱層1071の一部を容易に外部に露出させることができる。
In the rigid multilayer printed wiring board 1000 of the present embodiment, as shown in FIG. 26 (j), the side surface portion 1021c of the resin dam layer 10212 constitutes a part of the side surface portion 1000b of the rigid multilayer printed wiring board 1000. The side surface portion 1022 c of the layer 10222 is laminated so as to constitute a part of the side surface portion 1000 a of the rigid multilayer printed wiring board 1000.
The lower surface portion of the heat dissipation layer 1071 including the resin dam layer 10212 and the side surface portion 1000b of the multilayer printed wiring board 1000 are L-shaped (the side surface portion 1000b of the rigid multilayer printed wiring board 1000 is a vertical line, and the lower surface portion of the heat dissipation layer 1071 is The upper surface portion of the heat dissipation layer 1071 including the resin dam layer 10222 and the side surface portion 1000a of the rigid multilayer printed wiring board 1000 are inverted L-shaped (rigid multilayer printed wiring). The side surface portion 1000a of the plate 1000 is a vertical line, and the upper surface portion of the heat dissipation layer 1071 is a horizontal line).
The rigid multilayer printed wiring board 1000 of the present embodiment has such a configuration, so that the film thickness of a part of the rigid multilayer printed wiring board 1000 is adjusted, that is, a part of the heat dissipation layer 1071 can be easily exposed to the outside. Can do.

このように、本実施形態の製造方法により作製されるリジッド多層プリント配線板1000は、リジッド多層プリント配線板1000を構成する層構成材を積み重ねる工程において各層構成材の積み重ね位置等を調整し、且つ、樹脂ダム層1021,1022の外層側に積み重ねられる銅張積層板1061,1062の所定位置を切断するだけでこれらの一部と所定の層構成材を除去でき、容易に放熱層1071を外部に露出させる(リジッド多層プリント配線板1000の一部の膜厚を調整する)ことができる。   Thus, the rigid multilayer printed wiring board 1000 produced by the manufacturing method of the present embodiment adjusts the stacking position and the like of each layer constituent material in the step of stacking the layer constituent materials constituting the rigid multilayer printed wiring board 1000, and By simply cutting predetermined positions of the copper-clad laminates 1061 and 1062 stacked on the outer layer side of the resin dam layers 1021 and 1022, a part of these and predetermined layer constituent materials can be removed, and the heat dissipation layer 1071 can be easily moved to the outside. It is possible to expose (adjust the film thickness of a part of the rigid multilayer printed wiring board 1000).

導体層1031,1032,1033,1034は、リジッド多層プリント配線板1000の製造工程のいずれかの工程にて、所望の回路パターンとなるようにエッチング等により不要な部分を除去し得る。   The conductive layers 1031, 1032, 1033, and 1034 can remove unnecessary portions by etching or the like so as to obtain a desired circuit pattern in any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 1000.

樹脂層1041,1042のように導体層間にある樹脂層の膜厚は、硬化状態において20μm以上であることが望ましい。
また導体層1031,1032,1033,1034の膜厚は5μm以上300μm以下であることが望ましい。
The film thickness of the resin layer between the conductor layers like the resin layers 1041 and 1042 is desirably 20 μm or more in the cured state.
The film thickness of the conductor layers 1031, 1032, 1033, and 1034 is preferably 5 μm or more and 300 μm or less.

なお、本実施形態においては、各層構成材の積み重ね及び積層は、例えば1層ずつ積み重ねて積層してもよく、複数の層構成材を積み重ねて積層してもよく、またこれらの組み合わせであってもよい。   In the present embodiment, stacking and stacking of each layer constituent material may be performed by stacking, for example, one layer at a time, or a plurality of layer constituent materials may be stacked and stacked, or a combination thereof. Also good.

また本実施形態においては、銅張積層板1061,1063を使用したが、例えばコア材1061の上面部1011aと下面部1011bにそれぞれ導体層1031,1032を積み重ねて積層状態とする工程、コア材1013の上面部1013aと下面部1013bにそれぞれ導体層1033,1034を積み重ねて積層状態とする工程を含んでいてもよい。   In this embodiment, the copper clad laminates 1061 and 1063 are used. For example, the core material 1013 is a process of stacking the conductor layers 1031 and 1032 on the upper surface portion 1011a and the lower surface portion 1011b of the core material 1061, respectively. A step of stacking the conductor layers 1033 and 1034 on the upper surface portion 1013a and the lower surface portion 1013b, respectively, may be included.

また本実施形態においては、リジッド多層プリント配線板1000のいずれかの製造工程において、ビアホールを形成する工程を設けてもよい。例えばリジッド多層プリント配線板1000の構成要素となる全ての層構成材が積層状態となった後に、これの所定の位置にビアホール(図示せず)を形成することにより、導体層1031,1032,1033,1034を電気的接続し得る。また例えば当該ビアホールは、一部の層構成材が積層状態となった際に設けてもよい。
前記ビアホールの形成される位置は、リジッド多層プリント配線板1000における設計回路パターンにより適宜調整し得る。
そして導体層1031,1034の所定の位置(例えばランド部。図示せず)や形成されたビアホールに所定の電子部品を搭載することにより、所望のリジッド多層プリント実装配線板が作製される。
In the present embodiment, a step of forming a via hole may be provided in any manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board 1000. For example, after all the layer constituent materials that are constituent elements of the rigid multilayer printed wiring board 1000 are laminated, via holes (not shown) are formed at predetermined positions thereof to form the conductor layers 1031, 1032, and 1033. , 1034 can be electrically connected. Further, for example, the via hole may be provided when a part of the layer constituent materials is in a laminated state.
The position where the via hole is formed can be appropriately adjusted according to the design circuit pattern in the rigid multilayer printed wiring board 1000.
Then, by mounting predetermined electronic components on predetermined positions (for example, land portions, not shown) of the conductor layers 1031 and 1034 and formed via holes, a desired rigid multilayer printed circuit board is manufactured.

リジッド多層プリント配線板1000は、上述の通り、樹脂ダム層1012,1022の外層側に積み重ねられる銅張積層板1061,1062の所定位置を切断するだけでこれらの一部と所定の層構成材を除去でき、容易に放熱層1071を外部に露出させることができる。即ち、放熱層1071の上面部及び下面部に接する層構成材を切断することなく放熱層1071を外部に露出することができるため、高度な切断加工技術が不要であり、また上述した切断時において放熱層1071を毀損・破損するリスクを低減させることができる。
またこのようなリジッド多層プリント配線板1000は、その膜厚を容易に調整することができるため、電子制御装置内のスペースを効率的に活用することができると共に、リジッド多層プリント配線板1000への電子部品の実装(設計)やこれを組み込んだ電子制御装置の設計の自由度を広げることができる。
そしてリジッド多層プリント配線板1000は、材質を選ぶことなくその膜厚を調整し得るため、この部分に例えば耐熱性や耐久性の高い材質を使用することができ、また特殊な性能を有する樹脂を使用することができるため、高い信頼性を実現することができる。
As described above, the rigid multilayer printed wiring board 1000 is obtained by cutting a predetermined position of the copper clad laminates 1061 and 1062 stacked on the outer layer side of the resin dam layers 1012 and 1022 and a predetermined layer constituent material. The heat dissipation layer 1071 can be easily exposed to the outside. That is, since the heat dissipation layer 1071 can be exposed to the outside without cutting the layer constituent materials in contact with the upper surface portion and the lower surface portion of the heat dissipation layer 1071, an advanced cutting technique is not necessary. The risk of damage or damage to the heat dissipation layer 1071 can be reduced.
In addition, since the thickness of the rigid multilayer printed wiring board 1000 can be easily adjusted, the space in the electronic control device can be efficiently utilized, and the rigid multilayer printed wiring board 1000 can be used. The degree of freedom in the design (mounting) of electronic parts and the design of electronic control devices incorporating the electronic parts can be expanded.
Since the rigid multilayer printed wiring board 1000 can adjust the film thickness without selecting a material, for example, a material having high heat resistance and durability can be used in this portion, and a resin having a special performance is used. Since it can be used, high reliability can be realized.

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない限り種々の変形が可能なことは勿論である。   In addition, this invention is not limited to the said embodiment, Of course, a various deformation | transformation is possible unless it deviates from the summary of this invention.

コア材 … 111,211,311,411,511,512,611,711,712,713,811,812,813,911,912,913,1011,1012,1013
樹脂ダム層 … 121(1211,1212),221,321(3211,3212),322(3221,3222),421(4211,4212),521(5211,5212),522(5221,5222),621(6211,6212),721(7211,7212)、722(7221,7222)、821(8211,8212),822(8221,8222),921(9211,9212),1021(10211,10212),1022(10221,10222)
導体層 … 131,132,133,134,231,232,233,331,332,333,334,431,432,433,434,531,532,533,534,535,631,632,633,731,732,733,734,835,736,831,832,833,834,835,836,931,932,933,1031,1032,1033,1034
樹脂層 … 141,142,1431,1432,241,341,342,343,344,441,442,443,4441,4442,541,542,543,5441,5442,543,5451,5452,546,641,741,742,743,744,745,746,747,7481,7482,7491,7492,8411,8412,843,844,845,846,847,8481,8482,8491,8492,941,942,943,944,9451,9452,1041,1042
銅張積層板 … 161,361,461,561,761,762,763,861,862,863,961,962,1061,1063
放熱層 … 1071
リジッド多層プリント配線板 … 100,200,300,400,500,600,700,800,900,1000


Core material: 111, 211, 311, 411, 511, 512, 611, 711, 712, 713, 811, 812, 813, 911, 912, 913, 1011, 1012, 1013
Resin dam layer 121 (1211, 1212), 221, 321 (3211, 3212), 322 (3221, 3222), 421 (4211, 4212), 521 (5211, 5212), 522 (5221, 5222), 621 ( 6211, 6212), 721 (7211, 7212), 722 (7221, 7222), 821 (8211, 8212), 822 (8221, 8222), 921 (9211, 9212), 1021 (10211, 10212), 1022 (10221) , 10222)
Conductor layer 131, 132, 133, 134, 231, 232, 233, 331, 332, 333, 334, 431, 432, 433, 434, 531, 532, 533, 534, 535, 631, 632, 633, 731 , 732, 733, 734, 835, 736, 831, 832, 833, 834, 835, 836, 931, 932, 933, 1031, 1032, 1033, 1034
Resin layer: 141, 142, 1431, 1432, 241, 341, 342, 343, 344, 441, 442, 443, 4441, 4442, 541, 542, 543, 5441, 5442, 543, 5451, 5452, 546, 641 , 741, 742, 743, 744, 745, 746, 747, 7481, 7482, 7491, 7492, 8411, 8412, 843, 844, 845, 846, 847, 8481, 8482, 8491, 8492, 941, 942, 943 , 944,9451,9452,1041,1042
Copper-clad laminate… 161,361,461,561,761,762,763,861,862,863,961,962,1061,1063
Heat dissipation layer ... 1071
Rigid multilayer printed wiring board 100, 200, 300, 400, 500, 600, 700, 800, 900, 1000


Claims (7)

上面部及び下面部の少なくとも一方に1つ以上の樹脂ダム層を備える層と他の層とがそれぞれ1つ以上積層されてなるリジッド多層プリント配線板であって、前記樹脂ダム層を備える層及び他の層はそれぞれ導体層及び非導体層の少なくとも一方からなり、前記非導体層は中間材及び樹脂材の少なくとも一方の硬化物から構成され、
前記樹脂ダム層の少なくとも1つの一方側面部の一部または全部は、リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部の一部または全部を構成し、
当該樹脂ダム層を備える層の当該樹脂ダム層と接する面若しくは当該面側に積層され且つ当該樹脂ダム層と接する他の層の最外面と前記リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部とはL字型または逆L字型となるよう構成されることにより、一部の膜厚が他の部分の膜厚と異なるように構成されるリジッド多層プリント配線板の製造方法であって、
1つ以上の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの上面部及び下面部の少なくとも一方に樹脂組成物からなる樹脂ダム層を1つ以上形成する樹脂ダム層形成工程と、
前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと1つ以上の他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかを積み重ねる積重工程とを含み、
前記積重工程において、前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかは、前記樹脂ダム層の少なくとも1つの一方側面部の一部または全部がリジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部の一部または全部を構成するように、且つ当該樹脂ダム層を備える導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの当該樹脂ダム層と接する面若しくは当該面側に積み重ねられて当該樹脂ダム層と接する他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの最外面と前記リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部とがL字型または逆L字型となるように積み重ねられ、
前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかは、リジッド多層プリント配線板の製造工程のいずれかにおいて加熱により積層状態となることを特徴とするリジッド多層プリント配線板の製造方法。
A rigid multilayer printed wiring board in which one or more layers each including one or more resin dam layers and at least one other layer are laminated on at least one of an upper surface portion and a lower surface portion, the layers including the resin dam layers; The other layers are each composed of at least one of a conductor layer and a non-conductor layer, and the non-conductor layer is composed of a cured product of at least one of an intermediate material and a resin material,
A part or all of at least one side surface of the resin dam layer constitutes part or all of any side surface of the rigid multilayer printed wiring board,
The surface of the layer comprising the resin dam layer or the outermost surface of another layer that is laminated on the surface side and in contact with the resin dam layer and any side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board By being configured to be L-shaped or inverted L-shaped, a method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board configured such that a part of the film thickness is different from the film thickness of the other part,
Resin dam layer that forms one or more resin dam layers made of a resin composition on at least one of at least one of an upper surface portion and a lower surface portion selected from one or more conductor layers and intermediate materials, resin materials, and cured products thereof Forming process;
The conductor layer in which the resin dam layer is formed and at least one selected from an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof, and at least one other conductor layer, and an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof. Including a stacking process of stacking either
In the stacking step, the conductor layer in which the resin dam layer is formed, the intermediate material, the resin material, and a cured product thereof, and the other conductor layer, the intermediate material, the resin material, and the cured product thereof. At least one of the resin dam layers is selected such that a part or all of at least one side surface portion of the resin dam layer constitutes part or all of any side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board. A conductor layer having a layer, an intermediate material, a resin material, and at least one surface selected from these cured products, the surface in contact with the resin dam layer, or another conductor layer stacked on the surface side and in contact with the resin dam layer, and an intermediate At least one outermost surface selected from a material, a resin material, and a cured product thereof, and any side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board L-shaped or reverse L-shaped and made so stacked,
At least one selected from a conductor layer and an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof formed with the resin dam layer, and at least one selected from the other conductor layer, an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof. A method for producing a rigid multilayer printed wiring board, wherein the laminated state is formed by heating in any of the steps for producing a rigid multilayer printed wiring board.
上面部及び下面部の少なくとも一方に1つ以上の樹脂ダム層を備える層と他の層とがそれぞれ1つ以上積層されてなるリジッド多層プリント配線板であって、前記樹脂ダム層を備える層及び他の層はそれぞれ導体層及び非導体層の少なくとも一方からなり、前記非導体層が中間材及び樹脂材の少なくとも一方の硬化物から構成され、
前記樹脂ダム層の少なくとも1つの一方側面部の一部または全部は、リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部の一部または全部を構成し、
当該樹脂ダム層を備える層の当該樹脂ダム層と接する面若しくは当該面側に積層され且つ当該樹脂ダム層と接する他の層の最外面と前記リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部とはL字型または逆L字型となるよう構成されることにより、一部の膜厚が他の部分の膜厚と異なるように構成されるリジッド多層プリント配線板の製造方法であって、
1つ以上の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの上面部及び下面部の少なくとも一方に樹脂組成物からなる樹脂ダム層を1つ以上形成する樹脂ダム層形成工程と、
前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと1つ以上の他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかを積み重ねる積重工程と、
前記樹脂ダム層の少なくとも1つの一方側面部の一部または全部がリジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部の一部または全部を構成するように、且つ当該樹脂ダム層を備える導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの当該樹脂ダム層と接する面若しくは当該面側に積み重ねられて当該樹脂ダム層と接する他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの最外面と前記リジッド多層プリント配線板のいずれかの側面部とがL字型または逆L字型となるように、当該樹脂ダム層よりも外層側に積み重ねられる前記他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかの一部を除去する除去工程を含み、
前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかは、リジッド多層プリント配線板の製造工程のいずれかの工程において加熱により積層状態となることを特徴とするリジッド多層プリント配線板の製造方法。
A rigid multilayer printed wiring board in which one or more layers each including one or more resin dam layers and at least one other layer are laminated on at least one of an upper surface portion and a lower surface portion, the layers including the resin dam layers; The other layers are each composed of at least one of a conductor layer and a non-conductor layer, and the non-conductor layer is composed of a cured product of at least one of an intermediate material and a resin material,
A part or all of at least one side surface of the resin dam layer constitutes part or all of any side surface of the rigid multilayer printed wiring board,
The surface of the layer comprising the resin dam layer or the outermost surface of another layer that is laminated on the surface side and in contact with the resin dam layer and any side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board By being configured to be L-shaped or inverted L-shaped, a method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board configured such that a part of the film thickness is different from the film thickness of the other part,
Resin dam layer that forms one or more resin dam layers made of a resin composition on at least one of at least one of an upper surface portion and a lower surface portion selected from one or more conductor layers and intermediate materials, resin materials, and cured products thereof Forming process;
The conductor layer in which the resin dam layer is formed and at least one selected from an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof, and at least one other conductor layer, and an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof. A stacking process of stacking either
A conductor layer including the resin dam layer and an intermediate portion thereof, such that at least one side surface part of the resin dam layer constitutes part or all of any side surface part of the rigid multilayer printed wiring board. A material in contact with the resin dam layer selected from the materials, resin materials and cured products thereof, or other conductor layers stacked on the surface side and in contact with the resin dam layer, and intermediate materials, resin materials, and these At least one outermost surface selected from a cured product and any side surface portion of the rigid multilayer printed wiring board are stacked on the outer layer side of the resin dam layer so as to be L-shaped or inverted L-shaped. A removal step of removing at least one part selected from the other conductor layers and intermediate materials, resin materials, and cured products thereof,
At least one selected from a conductor layer and an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof formed with the resin dam layer, and at least one selected from the other conductor layer, an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof. A method for producing a rigid multilayer printed wiring board, wherein a laminated state is formed by heating in any of the steps of producing a rigid multilayer printed wiring board.
前記樹脂ダム層は、スクリーン印刷、フレキソ印刷、グラビア印刷、インクジェット印刷、ディスペンサー印刷及びオフセット印刷のうち少なくともいずれかの方法により前記樹脂組成物を前記導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物のうち少なくともいずれかの上面部及び下面部の少なくとも一方に印刷することにより形成され、当該樹脂ダム層はリジッド多層プリント配線板の製造工程のいずれかにおいて紫外線硬化及び熱硬化の少なくとも一方の方法により硬化状態となることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のリジッド多層プリント配線板の製造方法。   The resin dam layer is formed of the resin composition by using at least one of screen printing, flexographic printing, gravure printing, inkjet printing, dispenser printing, and offset printing, and the conductive layer, intermediate material, resin material, and cured products thereof. Is formed by printing on at least one of the upper surface portion and the lower surface portion, and the resin dam layer is formed by at least one of ultraviolet curing and thermosetting in any of the manufacturing steps of the rigid multilayer printed wiring board. The manufacturing method of the rigid multilayer printed wiring board according to claim 1 or 2, wherein the cured state is achieved. 前記樹脂組成物は、紫外線硬化性樹脂及び熱硬化性樹脂、紫外線硬化性・熱硬化性樹脂の少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のリジッド多層プリント配線板の製造方法。   4. The resin composition according to claim 1, wherein the resin composition includes at least one of an ultraviolet curable resin, a thermosetting resin, and an ultraviolet curable / thermosetting resin. 5. Manufacturing method of rigid multilayer printed wiring board. 前記他の中間材の硬化物からなる非導体層と前記樹脂ダム層とがその一部または全部において同一平面上に存し、当該樹脂ダム層と当該他の中間材の硬化物からなる非導体層とがその一部または全部において当該他の中間材由来の樹脂硬化物を介して隣接するよう構成されるリジッド多層プリント配線板の製造方法であって、前記積重工程において前記樹脂ダム層と前記他の中間材との間に間隙部が設けられるように前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の中間材とが積み重ねられることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか1項に記載のリジッド多層プリント配線板の製造方法。   The non-conductor layer made of a cured product of the other intermediate material and the resin dam layer partially or entirely on the same plane, and the non-conductor made of the cured product of the resin dam layer and the other intermediate material A rigid multi-layer printed wiring board configured to be adjacent to each other in part or in whole via a resin cured product derived from the other intermediate material, and in the stacking step, the resin dam layer and The conductor layer on which the resin dam layer is formed and at least one selected from the intermediate material, the resin material and a cured product thereof and the other intermediate material so that a gap is provided between the other intermediate material and the other intermediate material The method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board according to any one of claims 1 to 4, wherein the layers are stacked. その一部または全部において同一平面上に存し且つ前記他の中間材由来の樹脂硬化物を介して隣接する前記他の中間材の硬化物からなる非導体層と前記樹脂ダム層とが複数存在するリジッド多層プリント配線板の製造方法であって、
前記積重工程において前記樹脂ダム層と前記他の中間材との間に間隙部が設けられるように前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと前記他の中間材とが積み重ねられることを特徴とする請求項5に記載のリジッド多層プリント配線板の製造方法。
A plurality of the non-conductive layer and the resin dam layer, which are partly or entirely on the same plane and made of the cured product of the other intermediate material that is adjacent to each other through the cured resin product of the other intermediate material. A method for manufacturing a rigid multilayer printed wiring board,
In the stacking step, a conductor layer on which the resin dam layer is formed, an intermediate material, a resin material, and a cured product thereof are selected so that a gap is provided between the resin dam layer and the other intermediate material. 6. The method of manufacturing a rigid multilayer printed wiring board according to claim 5, wherein at least one of the other intermediate materials is stacked.
リジッド多層プリント配線板の製造工程のいずれかの工程において、積み重ねられる前記樹脂ダム層の形成される導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれかと他の導体層並びに中間材、樹脂材及びこれらの硬化物から選ばれる少なくともいずれか若しくはこれが積層状態となったものにビアホールを形成する工程を含むことを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載のリジッド多層プリント配線板の製造方法。   In any step of the manufacturing process of the rigid multilayer printed wiring board, at least one selected from the conductive layer and the intermediate material, the resin material, and the cured product thereof, and the other conductive layer and the intermediate layer formed of the resin dam layer to be stacked 7. The method according to claim 1, further comprising a step of forming a via hole in at least one selected from a material, a resin material, and a cured product thereof, or in a stacked state thereof. Manufacturing method of rigid multilayer printed wiring board.
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Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2001185854A (en) * 1999-12-22 2001-07-06 Toshiba Corp Multilayered printed wiring board and producing method therefor
JP2006228887A (en) * 2005-02-16 2006-08-31 Fujikura Ltd Manufacturing method of rigid and flexible multilayer printed circuit board
JP2008251625A (en) * 2007-03-29 2008-10-16 Fujifilm Corp Printed circuit board, imaging device, and manufacturing method of the printed circuit board

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001185854A (en) * 1999-12-22 2001-07-06 Toshiba Corp Multilayered printed wiring board and producing method therefor
JP2006228887A (en) * 2005-02-16 2006-08-31 Fujikura Ltd Manufacturing method of rigid and flexible multilayer printed circuit board
JP2008251625A (en) * 2007-03-29 2008-10-16 Fujifilm Corp Printed circuit board, imaging device, and manufacturing method of the printed circuit board

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