JP2019181815A - Laminate film and flexible organic el device using the same - Google Patents

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良樹 越山
Yoshiki Koshiyama
良樹 越山
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Abstract

To provide a laminate film capable of suppressing moisture permeation through an end face, and a flexible organic EL device suppressing moisture permeation through an end face of a laminate film and having long-term sealing reliability.SOLUTION: A laminate film 20 comprises at least two gas barrier films 10(A) each having a substrate film 1 and a gas barrier layer 2 formed on one surface of the substrate film, bonded to each other with an adhesive layer 3. In the laminate film 20, the at least two gas barrier films comprise the gas barrier film 10(A) and a gas barrier film 10(B) having an outer dimension smaller than that of the gas barrier film 10(A), and the gas barrier film 10(B) is laminated on the gas barrier film 10(A) in such a manner that the outer circumference of the gas barrier film 10(B) is located inside the outer circumference of the gas barrier film 10(A).SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、積層フィルム及びこの積層フィルムを用いたフレキシブル有機ELデバイスに関する。   The present invention relates to a laminated film and a flexible organic EL device using the laminated film.

近年、基板にフィルムを用いたデバイスは、ガラス基板を用いたデバイスと比較して軽量であると共に可撓性を備え、基板が破損しにくい等の利点を有することから、種々の用途への応用が期待されている。   In recent years, a device using a film as a substrate is advantageous in that it is lighter and more flexible than a device using a glass substrate, and the substrate is less likely to be damaged. Is expected.

有機ELは構造的に極薄化することができる。そこでこの特徴を活かす為に、プラスチックフィルムを基板に使用したフレキシブル有機ELデバイスが注目されている。有機ELは、水分や酸素に極めて弱く、水分や酸素により発光材料が変質したり、電極が酸化したりすることで、ダークスポット(以下、DSと略す)や発光シュリンクと呼ばれる発光不良が発生するという課題がある。それゆえ、基板にプラスチックフィルムを使用する際はガスバリア性を有する透明プラスチックフィルムが使用される。ガスバリア性フィルムとして最も一般的なものは、プラスチックフィルムからなる基材の表面に、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム等からなる無機蒸着膜を形成した透明性の高いガスバリア性フィルムである。このような透明性の高いガスバリア性フィルムについて数多く提案され、また実用化されているが、有機EL素子の保護材料として求められるバリアレベルとしては不十分なものが多い。   The organic EL can be structurally made extremely thin. Therefore, in order to make use of this feature, a flexible organic EL device using a plastic film as a substrate has attracted attention. Organic EL is very weak to moisture and oxygen, and the light emitting material is altered by the moisture and oxygen, and the electrodes are oxidized, resulting in light emission defects called dark spots (hereinafter abbreviated as DS) and light emitting shrink. There is a problem. Therefore, when using a plastic film for the substrate, a transparent plastic film having gas barrier properties is used. The most common gas barrier film is a highly transparent gas barrier film in which an inorganic vapor deposition film made of silicon oxide, aluminum oxide, magnesium oxide or the like is formed on the surface of a substrate made of a plastic film. Many such highly transparent gas barrier films have been proposed and put into practical use, but many of them are insufficient as barrier levels required as protective materials for organic EL elements.

ガスバリア性フィルムのガスバリア性向上を目的として、例えば特許文献1には、基材フィルムの表面に無機薄膜層を少なくとも2層有してなるガスバリア性積層体を複数枚積層したガスバリア性積層フィルムが開示されている。特許文献1に記載のガスバリア性積層フィルムは、基材フィルム側と無機薄膜層側の面とが接着層を介して接着されている。また、特許文献2には、ガスバリア性フィルムを少なくとも2枚以上、接着剤層を介して貼り合わせた積層体と、この積層体の一方の面に形成されたシール層とを有する積層フィルムが開示されている。特許文献2に記載の積層フィルムは、ガスバリア性フィルムの水蒸気透過度が、40℃90%R.H.の条件下で0.03g/m・day・atm以下である。 For the purpose of improving the gas barrier property of a gas barrier film, for example, Patent Document 1 discloses a gas barrier laminate film in which a plurality of gas barrier laminates having at least two inorganic thin film layers are laminated on the surface of a base film. Has been. In the gas barrier laminate film described in Patent Document 1, the base film side and the surface of the inorganic thin film layer are bonded to each other through an adhesive layer. Patent Document 2 discloses a laminated film having a laminated body in which at least two gas barrier films are bonded together via an adhesive layer, and a seal layer formed on one surface of the laminated body. Has been. The laminated film described in Patent Document 2 has a water vapor permeability of 40 ° C. and 90% R.D. H. And 0.03 g / m 2 · day · atm or less.

国際公開第2009/139391号International Publication No. 2009/139391 特開2013−54985号公報JP 2013-54985 A

上記特許文献1及び2の構成は、ガスバリア性フィルムを複数枚貼り合わせた構造なので、ガスバリア性フィルムの面方向からの透湿に対して防湿性は高い。しかしながら、ガスバリア性フィルムを複数枚貼り合わせたとしても、ガスバリア性フィルムの端面方向からの透湿に対しては防湿性が充分とは言えなかった。そのため、ガスバリア性フィルムの基材の端面或いは接着剤層の端面から透湿し、水分が有機EL層に到達することで、電極が酸化して発光しなくなる可能性があった。   Since the configurations of Patent Documents 1 and 2 have a structure in which a plurality of gas barrier films are bonded together, the moisture resistance against moisture permeation from the surface direction of the gas barrier film is high. However, even when a plurality of gas barrier films are bonded together, it cannot be said that the moisture barrier property is sufficient with respect to moisture permeation from the end face direction of the gas barrier film. Therefore, there is a possibility that moisture permeates from the end face of the base material of the gas barrier film or the end face of the adhesive layer and moisture reaches the organic EL layer, so that the electrode is oxidized and no light is emitted.

本発明は上記した課題を解決するためになされたものであり、端面からの透湿を抑制可能な積層フィルム、及び積層フィルムの端面からの透湿を抑制し、長期封止信頼性のあるフレキシブル有機ELデバイスを提供することを目的とする。   The present invention has been made to solve the above-described problems, and a laminated film capable of suppressing moisture permeation from an end surface, and a flexible film that suppresses moisture permeation from the end surface of the laminated film and has long-term sealing reliability. An object is to provide an organic EL device.

本発明は、基材フィルムと基材フィルムの一方の面上に形成されたガスバリア層とを有するガスバリア性フィルムを2枚以上、接着剤を介して貼り合わせた積層フィルムにおいて、2枚以上のガスバリア性フィルムは、ガスバリア性フィルム(A)と、ガスバリア性フィルム(A)より外形寸法が小さいガスバリア性フィルム(B)とからなり、ガスバリア性フィルム(B)は、外周がガスバリア性フィルム(A)の外周の内側に位置するように、ガスバリア性フィルム(A)上に積層されていることを特徴とする積層フィルムである。   The present invention relates to a laminated film in which two or more gas barrier films having a base film and a gas barrier layer formed on one surface of the base film are bonded together with an adhesive, and two or more gas barriers are provided. The gas-resistant film is composed of a gas-barrier film (A) and a gas-barrier film (B) having an outer dimension smaller than that of the gas-barrier film (A). It is a laminated film characterized by being laminated on the gas barrier film (A) so as to be located inside the outer periphery.

また、本発明は、上記積層フィルムと、積層フィルムのガスバリア性フィルム(B)上に形成された有機EL素子と、有機EL素子を封止するシール剤と、シール剤上に形成された封止用フィルムと、を備え、ガスバリア性フィルム(B)の端面は、シール剤で覆われていることを特徴とするフレキシブル有機ELデバイスである。   Moreover, this invention is the sealing film formed on the said laminated | multilayer film, the organic EL element formed on the gas barrier film (B) of a laminated film, the sealing agent which seals an organic EL element, and a sealing agent The flexible organic EL device is characterized in that the end face of the gas barrier film (B) is covered with a sealing agent.

また、シール剤は、吸湿剤を含むことが好ましい。   Moreover, it is preferable that a sealing agent contains a hygroscopic agent.

本発明によれば、端面からの透湿を抑制可能な積層フィルム、及び積層フィルムの端面からの透湿を抑制し、長期封止信頼性のあるフレキシブル有機ELデバイスを実現できる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the moisture permeability from the end surface of a laminated film which can suppress moisture transmission from an end surface, and a laminated film are suppressed, and the flexible organic EL device with long-term sealing reliability is realizable.

本発明の実施形態に係る積層フィルムの第1の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 1st structural example of the laminated film which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係る積層フィルムの第2の構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 2nd structural example of the laminated film which concerns on embodiment of this invention. 本発明の実施形態に係るフレキシブル有機ELデバイスを示す断面模式図である。It is a cross-sectional schematic diagram which shows the flexible organic EL device which concerns on embodiment of this invention. 従来の積層フィルムの構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the structural example of the conventional laminated | multilayer film.

以下、本発明に係る実施の形態について図面を参照して説明する。なお、以下の実施の形態の説明において参照する図面は、本発明の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さ、寸法等は、実際のものとは異なる。また、本発明はこれらに限定されるものではない。   Hereinafter, embodiments according to the present invention will be described with reference to the drawings. Note that the drawings referred to in the following description of the embodiments are for explaining the configuration of the present invention, and the size, thickness, dimensions, and the like of each part shown in the drawings are different from the actual ones. The present invention is not limited to these.

本発明の積層フィルムの実施形態の一例を、図1を参照して説明する。   An example of an embodiment of the laminated film of the present invention will be described with reference to FIG.

なお、本発明の実施形態は、本発明の技術的思想を具体化するための構成を例示するものであって、各部の材質、形状、構造、配置、寸法等を下記のものに特定するものではない。本発明の技術的思想は、特許請求の範囲に記載された請求項が規定する技術的範囲内において、種々の変更を加えることが出来る。   The embodiment of the present invention exemplifies a configuration for embodying the technical idea of the present invention, and specifies the material, shape, structure, arrangement, dimensions, etc. of each part as follows. is not. The technical idea of the present invention can be variously modified within the technical scope defined by the claims described in the claims.

<積層フィルム>
図1は、本発明の実施形態に係る積層フィルムの第1の構成例を示す断面図である。図1に示す積層フィルム20は、基材フィルム1の一方の面上にガスバリア層2を形成したガスバリア性フィルム10(A)と、ガスバリア性フィルム10(A)上に、基材フィルム1の一方の面上にガスバリア層2を形成したガスバリア性フィルム10(B)とを、接着剤層3を介して貼り合わせている。ガスバリア性フィルム10(B)は、ガスバリア性フィルム10(A)よりサイズ(外形寸法)が小さい。また、ガスバリア性フィルム10(B)は、外周がガスバリア性フィルム10(A)の外周の内側に位置するように貼り合わされている。
<Laminated film>
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first configuration example of a laminated film according to an embodiment of the present invention. A laminated film 20 shown in FIG. 1 includes a gas barrier film 10 (A) in which a gas barrier layer 2 is formed on one surface of a base film 1, and one of the base films 1 on the gas barrier film 10 (A). A gas barrier film 10 (B) in which the gas barrier layer 2 is formed on the surface is bonded through the adhesive layer 3. The gas barrier film 10 (B) is smaller in size (outer dimensions) than the gas barrier film 10 (A). The gas barrier film 10 (B) is bonded so that the outer periphery is located inside the outer periphery of the gas barrier film 10 (A).

なお、図1ではガスバリア性フィルム10(A)上にガスバリア性フィルム10(B)を1枚貼り合わせているが、さらに図2に示すように、ガスバリア性フィルム10(A)上に、接着剤層3を介して2枚以上のガスバリア性フィルム10(B)を貼り合わせることも出来る。図2は本発明の実施形態に係る積層フィルムの第2の構成例を示し、ガスバリア性フィルム10(A)上にガスバリア性フィルム10(B)を2枚貼り合わせている。また、2枚以上のガスバリア性フィルム10(A)上に、接着剤層3を介してガスバリア性フィルム10(B)を1枚貼り合わせてもよい。積層フィルム20は、ガスバリア性フィルム(A)の下面側にガスバリア性フィルム(B)が積層されておらず、かつ、ガスバリア性フィルム(B)の上面側にガスバリア性フィルム(A)が積層されていない構成となっている。   In FIG. 1, one gas barrier film 10 (B) is bonded to the gas barrier film 10 (A). However, as shown in FIG. 2, an adhesive is applied to the gas barrier film 10 (A). Two or more gas barrier films 10 (B) can be bonded together through the layer 3. FIG. 2 shows a second configuration example of the laminated film according to the embodiment of the present invention, in which two gas barrier films 10 (B) are bonded to the gas barrier film 10 (A). Further, one gas barrier film 10 (B) may be bonded to two or more gas barrier films 10 (A) via the adhesive layer 3. In the laminated film 20, the gas barrier film (B) is not laminated on the lower surface side of the gas barrier film (A), and the gas barrier film (A) is laminated on the upper surface side of the gas barrier film (B). It has no configuration.

(1)基材フィルム1
基材フィルム1としては、可視光に対する透過率が高いプラスチックフィルムが用いられ、例えば、ポリエチレンテレフタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(PEN)などのポリエステルフィルム、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリスチレンフィルム、6−ナイロン等のポリアミドフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリイミドフィルム、ポリ塩化ビニル等を用いることができる。これらプラスチックフィルムは、一軸延伸、二軸延伸、または未延伸フィルムのどちらでもよく、また、機械的強度や寸法安定性を有するものが好ましい。基材フィルム1の厚みは6μm以上300μm以下が望ましい。
(1) Base film 1
As the base film 1, a plastic film having a high transmittance to visible light is used. For example, a polyester film such as polyethylene terephthalate (PET) or polyethylene naphthalate (PEN), a polyolefin film such as polyethylene or polypropylene, a polystyrene film, Polyamide films such as 6-nylon, polycarbonate films, polyimide films, polyvinyl chloride, and the like can be used. These plastic films may be uniaxially stretched, biaxially stretched, or unstretched films, and those having mechanical strength and dimensional stability are preferred. As for the thickness of the base film 1, 6 micrometers or more and 300 micrometers or less are desirable.

また、基材フィルム1は、公知の添加剤、例えば、帯電防止剤、光線遮断剤、紫外線吸収剤、可塑剤、滑剤、フィラー、着色剤、安定剤、潤滑剤、架橋剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤等を含有することができる。   The base film 1 is a known additive such as an antistatic agent, a light blocking agent, an ultraviolet absorber, a plasticizer, a lubricant, a filler, a colorant, a stabilizer, a lubricant, a crosslinking agent, an antiblocking agent, An antioxidant etc. can be contained.

基材フィルム1上には、ガスバリア層2との密着性向上や基材フィルム1の表層の平坦化の為、アンカーコート剤を塗布し、アンカーコート層(図示せず)を適宜形成することが出来る。アンカーコート剤としては、溶剤性又は水性のポリエステル樹脂、イソシアネート樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、ビニル変性樹脂、ビニルアルコール樹脂、ビニルブチラール樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ニトロセルロース樹脂、オキサゾリン基含有樹脂、カルボジイミド基含有樹脂、メチレン基含有樹脂、エポキシ基含有樹脂、変性スチレン樹脂、変性シリコーン樹脂及びアルキルチタネート等を単独、あるいは2種以上紹み合わせて使用することができる。   On the base film 1, an anchor coat agent (not shown) may be appropriately formed by applying an anchor coating agent in order to improve the adhesion with the gas barrier layer 2 and to flatten the surface layer of the base film 1. I can do it. As anchor coating agents, solvent-based or water-soluble polyester resins, isocyanate resins, urethane resins, acrylic resins, vinyl-modified resins, vinyl alcohol resins, vinyl butyral resins, ethylene vinyl alcohol resins, nitrocellulose resins, oxazoline group-containing resins, carbodiimides A group-containing resin, a methylene group-containing resin, an epoxy group-containing resin, a modified styrene resin, a modified silicone resin, and an alkyl titanate can be used alone or in combination of two or more.

また、アンカーコート層は、シラン系カップリング剤、チタン系カップリング剤、光線遮断剤、紫外線吸収剤、安定剤、潤滑剤、ブロッキング防止剤、酸化防止剤等を含有してもよい。また、それらを上記樹脂と共重合させたものをアンカーコート層の材料として使用することができる。   The anchor coat layer may contain a silane coupling agent, a titanium coupling agent, a light blocking agent, an ultraviolet absorber, a stabilizer, a lubricant, an antiblocking agent, an antioxidant, and the like. Moreover, what copolymerized them with the said resin can be used as a material of an anchor coat layer.

アンカーコート層の形成方法としては、公知のコーティング方法が適宜採択される。例えば、ロールコート法、グラビアコート法、スプレイコート法、エアナイフコート法など使用できる。アンカーコート層の厚さは0.005〜5μmであることが好ましい。アンカーコート層が、5μm以下の厚さであれば、滑り性が良好であり、アンカーコート層自体の内部応力による基材フィルム1からの剥離もほとんどなく、また、0.005μm以上の厚さであれば、均一な厚さを保つことができる。   As a method for forming the anchor coat layer, a known coating method is appropriately adopted. For example, a roll coating method, a gravure coating method, a spray coating method, an air knife coating method and the like can be used. The thickness of the anchor coat layer is preferably 0.005 to 5 μm. If the anchor coat layer has a thickness of 5 μm or less, the slipperiness is good, there is almost no peeling from the base film 1 due to the internal stress of the anchor coat layer itself, and the thickness is 0.005 μm or more. If so, a uniform thickness can be maintained.

(2)ガスバリア層2
ガスバリア層2は、水蒸気や酸素等のガスの透過を防ぐ層で、基材フィルム1の少なくとも一方の面上に形成される。ガスバリア層2はガスバリア性を有する層であれば、特に制限はない。
(2) Gas barrier layer 2
The gas barrier layer 2 is a layer that prevents permeation of gases such as water vapor and oxygen, and is formed on at least one surface of the base film 1. The gas barrier layer 2 is not particularly limited as long as it has a gas barrier property.

ガスバリア性としては、水蒸気透過度が0.01g/m・day・atm以下であることが好ましい。通常、ガスバリア層は無機物の層(無機層と称することがある)である。無機層に含まれる無機物としては、典型的には、ホウ素、マグネシウム、アルミニウム、珪素、チタン、亜鉛、及びスズの酸化物、窒化物、酸窒化物、炭化物、水素化物等が挙げられる。これらは純物質でもよいし、複数組成からなる混合物でもよい。これらのうち、アルミニウムの酸化物、窒化物若しくは酸窒化物、又は珪素の酸化物、窒化物若しくは酸窒化物、又はこれらの混合物が好ましい。 As the gas barrier property, the water vapor permeability is preferably 0.01 g / m 2 · day · atm or less. Usually, the gas barrier layer is an inorganic layer (sometimes referred to as an inorganic layer). Typical examples of the inorganic substance contained in the inorganic layer include boron, magnesium, aluminum, silicon, titanium, zinc, and tin oxides, nitrides, oxynitrides, carbides, hydrides, and the like. These may be pure substances or a mixture comprising a plurality of compositions. Of these, aluminum oxide, nitride or oxynitride, or silicon oxide, nitride or oxynitride, or a mixture thereof is preferable.

ガスバリア層2としての無機層は、単層でも、複数層の積層でもよい。ガスバリア層2が積層構造を有する場合、無機層と有機層との積層でもよく、複数の無機層と複数の有機層の交互積層でもよい。また、ガスバリア層2は、傾斜材料層を含んでいてもよい。ガスバリア層2の膜厚は、用いられるガスバリア材料の種類・構成・形成方式により最適条件が異なるが、3nm以上10μm以下の範囲内であることが好ましい。膜厚が3nm未満であるとガスバリアとしての機能を十分に果たすことができず、膜厚が10μmを越えると、透明性や膜の柔軟性が低下し、成膜後に折り曲げ、引張りなどの外力で、薄膜に割れが生じる恐れがある。   The inorganic layer as the gas barrier layer 2 may be a single layer or a laminate of a plurality of layers. When the gas barrier layer 2 has a laminated structure, it may be a laminate of an inorganic layer and an organic layer, or may be an alternating laminate of a plurality of inorganic layers and a plurality of organic layers. Further, the gas barrier layer 2 may include a gradient material layer. The optimum thickness of the gas barrier layer 2 varies depending on the type, configuration, and formation method of the gas barrier material used, but is preferably in the range of 3 nm to 10 μm. If the film thickness is less than 3 nm, the function as a gas barrier cannot be sufficiently achieved. If the film thickness exceeds 10 μm, the transparency and flexibility of the film are lowered, and external force such as bending and pulling after film formation is reduced. There is a risk that the thin film will crack.

ガスバリア層2の形成方法については、特に限定はなく、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、反応性スパッタリング法、原子堆積法、分子線エピタキシー法、クラスターイオンビーム法、イオンプレーティング法、プラズマ重合法、大気圧プラズマ重合法、プラズマCVD法、レーザーCVD法、熱CVD法、コーティング法等を用いることが出来る。また、ガスバリア層2の透過率は、積層フィルム20を支持基板として用いた有機ELデバイスにおいて支持基板側から光を取り出す場合には、可視光領域で80%以上であることが望ましい。   A method for forming the gas barrier layer 2 is not particularly limited. For example, a vacuum deposition method, a sputtering method, a reactive sputtering method, an atomic deposition method, a molecular beam epitaxy method, a cluster ion beam method, an ion plating method, a plasma polymerization method, An atmospheric pressure plasma polymerization method, a plasma CVD method, a laser CVD method, a thermal CVD method, a coating method, or the like can be used. Further, the transmittance of the gas barrier layer 2 is desirably 80% or more in the visible light region when light is extracted from the support substrate side in the organic EL device using the laminated film 20 as the support substrate.

(3)接着剤層3
接着剤層3は、2枚以上のガスバリア性フィルム10を重ねて貼り合わせる為の層である。
(3) Adhesive layer 3
The adhesive layer 3 is a layer for stacking and bonding two or more gas barrier films 10 together.

接着剤層3は、接着剤中に異物、気泡が少ない接着剤を用いることが好ましく、例えば、エポキシ硬化系の接着剤や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる接着剤を使用することが出来る。形成方法はドライラミネート法が望ましく、塗工方式としてはグラビアコーター、ディップコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いることができる。接着剤のコーティング量としては、0.1〜10g/m(乾燥状態)が望ましい。 For the adhesive layer 3, it is preferable to use an adhesive with few foreign matters and bubbles in the adhesive. For example, an epoxy-curing adhesive or a main agent having a hydroxyl group such as rubber, silicone, acrylic or urethane. An adhesive that is cured with an isocyanate curing agent can be used. The forming method is preferably a dry laminating method, and a gravure coater, a dip coater, a wire bar coater, a die coater or the like can be used as a coating method. The coating amount of the adhesive is preferably 0.1 to 10 g / m 2 (dry state).

(4)積層フィルム20
積層フィルム20はサイズの異なるガスバリア性フィルム10を貼り合わせたものである。ガスバリア性フィルム10(A)上に、ガスバリア性フィルム10(A)よりもサイズの小さいガスバリア性フィルム10(B)が、ガスバリア性フィルム10(B)の外周がガスバリア性フィルム10(A)の外周の内側に位置するように貼り合わされる。ガスバリア性フィルム10(A)を複数枚貼り合わせてから、複数枚のガスバリア性フィルム10(A)とガスバリア性フィルム10(B)とを貼り合わせても良いし、又、ガスバリア性フィルム10(A)上に、複数枚貼り合わせたガスバリア性フィルム10(B)を貼り合わせても良い。ガスバリア性フィルム10(A)及びガスバリア性フィルム10(B)が平面視矩形状である場合、ガスバリア性フィルム10(A)は、ガスバリア性フィルム10(B)より1辺あたり1〜20mm大きいことが望ましい。
(4) Laminated film 20
The laminated film 20 is a laminate of gas barrier films 10 having different sizes. The gas barrier film 10 (B) having a smaller size than the gas barrier film 10 (A) is formed on the gas barrier film 10 (A), and the outer periphery of the gas barrier film 10 (B) is the outer periphery of the gas barrier film 10 (A). It is pasted so that it may be located inside. After a plurality of gas barrier films 10 (A) are bonded together, a plurality of gas barrier films 10 (A) and gas barrier films 10 (B) may be bonded together, or the gas barrier films 10 (A) ) A plurality of gas barrier films 10 (B) bonded together may be bonded together. When the gas barrier film 10 (A) and the gas barrier film 10 (B) are rectangular in plan view, the gas barrier film 10 (A) may be 1 to 20 mm larger per side than the gas barrier film 10 (B). desirable.

<有機ELデバイス>
本発明の実施形態に係るフレキシブル有機ELデバイスの一例を、図3を参照して説明する。図3は、本発明の実施形態に係るフレキシブル有機ELデバイスを示す断面模式図である。図3に示すように、フレキシブル有機ELデバイス40は、積層フィルム20と、積層フィルム20のガスバリア性フィルム10(B)上に形成された有機EL素子50と、有機EL素子50を封止するシール剤5と、シール剤5上に形成された封止用フィルム30とを備える。積層フィルム20は、図1に示す積層フィルム20と同じものである。以下、積層フィルム20及び有機EL素子50の構成を有機EL素子基板21と呼ぶ。シール剤5は、吸湿剤4を含み、ガスバリア性フィルム10(B)の端面の全面を被覆するように形成されている。有機EL素子50は、一対の電極層間に形成された有機EL層を備える公知の有機EL素子であればよく、構成や材料などは特に限定されない。
<Organic EL device>
An example of the flexible organic EL device according to the embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a flexible organic EL device according to an embodiment of the present invention. As shown in FIG. 3, the flexible organic EL device 40 includes a laminated film 20, an organic EL element 50 formed on the gas barrier film 10 (B) of the laminated film 20, and a seal that seals the organic EL element 50. Agent 5 and sealing film 30 formed on sealant 5 are provided. The laminated film 20 is the same as the laminated film 20 shown in FIG. Hereinafter, the configuration of the laminated film 20 and the organic EL element 50 is referred to as an organic EL element substrate 21. The sealing agent 5 includes the hygroscopic agent 4 and is formed so as to cover the entire end face of the gas barrier film 10 (B). The organic EL element 50 may be a known organic EL element including an organic EL layer formed between a pair of electrode layers, and the configuration and material are not particularly limited.

(5)封止用フィルム30
封止用フィルム30は、先に記載したガスバリア性フィルム10やメタルフォイル等が好適に使用される。ガスバリア性としては、水蒸気透過度が0.01g/m・day・atm以下であることが好ましい。より好ましくは0.005g/m・day・atm以下である。封止用フィルム30側から有機EL発光を取り出す場合は、封止用フィルムの可視光透過率は80%以上であることが望ましい。一方、積層フィルム20側から有機EL発光を取り出す場合は、封止用フィルム30の可視光透過率は特に限定されない。封止用フィルム30の厚みは特に限定されないが、10μm〜300μmが好ましい。
(5) Sealing film 30
As the sealing film 30, the previously described gas barrier film 10, metal foil, or the like is preferably used. As the gas barrier property, the water vapor permeability is preferably 0.01 g / m 2 · day · atm or less. More preferably, it is 0.005 g / m 2 · day · atm or less. When taking out organic EL light emission from the sealing film 30 side, the visible light transmittance of the sealing film is desirably 80% or more. On the other hand, when taking out organic EL light emission from the laminated film 20 side, the visible light transmittance of the sealing film 30 is not particularly limited. Although the thickness of the film 30 for sealing is not specifically limited, 10 micrometers-300 micrometers are preferable.

(6)シール剤5
シール剤5は、ガスバリア性フィルム10(A)と封止用フィルム30の間に形成され、有機EL素子50を封止するとともに、有機EL素子基板21のガスバリア性フィルム10(B)の端面の全面を被覆するように形成される。
(6) Sealant 5
The sealing agent 5 is formed between the gas barrier film 10 (A) and the sealing film 30, seals the organic EL element 50, and forms an end surface of the gas barrier film 10 (B) of the organic EL element substrate 21. It is formed so as to cover the entire surface.

シール剤5は、シール剤中に異物、気泡が少ないシール剤であることが好ましく、例えば、エポキシ硬化系の接着剤や、ゴム系、シリコーン系、アクリル系、ウレタン系などの水酸基を持つ主剤にイソシアネート硬化剤で硬化させる接着剤を使用することが出来る。シール剤5の形成方法は、不活性ガス雰囲気下で行い、例えばスクリーン印刷、ディスペンス法、または予め別の基材上に形成させておいて転写させる転写法などを適宜用いることが出来る。ガスバリア性フィルム10および有機EL素子50を被覆するシール剤5の厚みは、3μm以上200μm以下が好ましく、より好ましくは10μm以上100μm以下である。   The sealing agent 5 is preferably a sealing agent with few foreign matters and bubbles in the sealing agent. For example, an epoxy-curing adhesive or a main agent having a hydroxyl group such as rubber, silicone, acrylic or urethane is used. An adhesive that is cured with an isocyanate curing agent can be used. The sealing agent 5 is formed in an inert gas atmosphere. For example, screen printing, dispensing, or a transfer method in which the sealant 5 is previously formed on another substrate and transferred can be appropriately used. The thickness of the sealing agent 5 that covers the gas barrier film 10 and the organic EL element 50 is preferably 3 μm or more and 200 μm or less, and more preferably 10 μm or more and 100 μm or less.

(7)吸湿剤4
吸湿剤4は水分等を除去可能なものであって、例えば、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、硫酸塩、金属ハロゲン化物、過塩素酸塩等の無機化合物、アクリル系又はメタクリル系の吸水性高分子等の有機物、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択される金属又はそれらの合金、活性アルミナ、シリカゲル、ゼオライト等の一般的な吸湿剤、など使用することができ、これらの1種又は2種以上を使用することができる。水分の除去用には、水分を物理吸着する一般的な吸湿剤よりも、水分を化学吸着するアルカリ金属酸化物及び/又はアルカリ土類金属酸化物を吸湿剤とすることが好ましい。吸湿剤はシール剤5に対して1〜70体積%の範囲とすることが好ましく、5〜50体積%とすることがより好ましい。また、吸湿剤は固体でも液状でも構わない。
(7) Hygroscopic agent 4
The moisture absorbent 4 can remove moisture and the like, for example, an inorganic compound such as alkali metal oxide, alkaline earth metal oxide, sulfate, metal halide, perchlorate, acrylic or methacrylic Organic materials such as water-absorbing polymers, metals selected from alkali metals and alkaline earth metals or alloys thereof, general hygroscopic agents such as activated alumina, silica gel, zeolite, etc. can be used. Species or two or more can be used. For the removal of moisture, it is preferable to use an alkali metal oxide and / or alkaline earth metal oxide that chemically adsorbs moisture as a hygroscopic agent, rather than a general hygroscopic agent that physically adsorbs moisture. The moisture absorbent is preferably in the range of 1 to 70% by volume, more preferably 5 to 50% by volume with respect to the sealant 5. Further, the hygroscopic agent may be solid or liquid.

シール剤5を形成した有機EL素子基板21と封止用フィルム30との貼合わせは、不活性ガス雰囲気下で行い、シール剤5に気泡が入らないように撓ませながら貼合わせを行う。貼合安定性、貼合部内への気泡混入防止等を考慮し、10〜1×10−5Paの減圧及び0.01〜0.5MPaの加圧条件で行うことがより好ましい。 The organic EL element substrate 21 on which the sealing agent 5 is formed and the sealing film 30 are bonded together under an inert gas atmosphere, and are bonded while being bent so that bubbles do not enter the sealing agent 5. In consideration of the bonding stability, prevention of bubbles from being mixed into the bonding portion, etc., it is more preferable to carry out under a reduced pressure of 10 to 1 × 10 −5 Pa and a pressure of 0.01 to 0.5 MPa.

本発明に係る積層フィルムによれば、ガスバリア性フィルム10(B)の端面、或いはガスバリア性フィルム10(A)とガスバリア性フィルム10(B)との間に形成された接着剤層3の端面をシール剤で覆うことができ、その結果、ガスバリア性フィルム10(B)の端面及び接着剤層3の端面からの透湿を抑制することが可能となる。また、本発明に係る積層フィルムを用いたフレキシブル有機ELデバイスによれば、ガスバリア性フィルム10(B)の端面、或いはガスバリア性フィルム10(A)とガスバリア性フィルム10(B)との間に形成された接着剤層3の端面からの透湿を抑制することが可能となる。また、本発明に係るフレキシブル有機ELデバイスによれば、シール剤5が吸湿剤4を含有することで、シール剤5の端面方向からの透湿を遅延させることが出来、その結果、長期封止信頼性を有することが出来る。   According to the laminated film of the present invention, the end face of the gas barrier film 10 (B) or the end face of the adhesive layer 3 formed between the gas barrier film 10 (A) and the gas barrier film 10 (B) is provided. It can be covered with a sealing agent, and as a result, moisture permeation from the end face of the gas barrier film 10 (B) and the end face of the adhesive layer 3 can be suppressed. Moreover, according to the flexible organic EL device using the laminated film according to the present invention, it is formed between the end face of the gas barrier film 10 (B) or between the gas barrier film 10 (A) and the gas barrier film 10 (B). It becomes possible to suppress moisture permeation from the end face of the adhesive layer 3 made. Moreover, according to the flexible organic EL device which concerns on this invention, the sealing agent 5 contains the hygroscopic agent 4, can delay the moisture permeation from the end surface direction of the sealing agent 5, As a result, long-term sealing It can have reliability.

尚、本発明に係る積層フィルムは、フレキシブル有機ELデバイスの他に電子ペーパー、液晶ディスプレイ等の各種デバイスにも適用可能である。   The laminated film according to the present invention can be applied to various devices such as electronic paper and liquid crystal display in addition to the flexible organic EL device.

以下に、本発明の具体的実施例について説明する。   Specific examples of the present invention will be described below.

<実施例1>
膜厚25μmのPENを基材フィルム1とし、プラズマ化学気相堆積法で厚さ0.5μmの窒化珪素膜(ガスバリア層2)を基材フィルム1上に形成してガスバリア性フィルム10を得た。このガスバリア性フィルムの水蒸気透過度は40℃90%R.H.の条件下で5mg/m・day・atmであった。
<Example 1>
PEN having a film thickness of 25 μm was used as the base film 1, and a silicon nitride film (gas barrier layer 2) having a thickness of 0.5 μm was formed on the base film 1 by plasma chemical vapor deposition to obtain a gas barrier film 10. . This gas barrier film has a water vapor permeability of 40 ° C. and 90% R.D. H. And 5 mg / m 2 · day · atm.

次に、作製したガスバリア性フィルム10を切断し、サイズの異なる100mm角のガスバリア性フィルム10(A)と80mm角のガスバリア性フィルム10(B)を得た。次に、ガスバリア性フィルム10(A)の窒化珪素膜面とガスバリア性フィルム10(B)のPEN面が向き合うようにエポキシ硬化系接着剤(膜厚:5μm)を介してラミネート法で貼り合わせ、積層フィルム20を得た。このとき、ガスバリア性フィルム(B)10の外周が、ガスバリア性フィルム10(A)の外周の内側に位置するように貼り合わせた。   Next, the produced gas barrier film 10 was cut to obtain 100 mm square gas barrier films 10 (A) and 80 mm square gas barrier films 10 (B) having different sizes. Next, the silicon nitride film surface of the gas barrier film 10 (A) and the PEN surface of the gas barrier film 10 (B) are bonded together by a laminate method through an epoxy curable adhesive (film thickness: 5 μm), A laminated film 20 was obtained. At this time, it bonded so that the outer periphery of the gas barrier film (B) 10 might be located inside the outer periphery of the gas barrier film 10 (A).

次に積層フィルム20のガスバリア性フィルム10(B)の窒化珪素膜面上に有機EL素子50を形成し、有機EL素子基板21を得た。有機EL素子50は真空成膜法により陽極(ITO)を成膜し、その上に正孔輸送層、発光層である有機EL層、陰極(Ba/Al)、パシベーション膜を順に形成することで得た。発光エリアは60mm角であった。   Next, the organic EL element 50 was formed on the silicon nitride film surface of the gas barrier film 10 (B) of the laminated film 20 to obtain an organic EL element substrate 21. The organic EL element 50 is formed by forming an anode (ITO) by a vacuum film formation method, and forming a hole transport layer, an organic EL layer as a light emitting layer, a cathode (Ba / Al), and a passivation film on the anode (ITO). Obtained. The light emitting area was 60 mm square.

封止用フィルム30はアルミ箔/PET複合フィルムを使用した。封止用フィルム30と、粒径0.6μmのゼオライトを10体積%添加したシール剤5を形成した有機EL素子基板21とを貼り合わせた。シール剤5は、エポキシ硬化系接着剤(膜厚:25μm)を使用し、ガスバリア性フィルム10(B)の端面の全面を被覆するように90mm角のエリアに形成した。貼り合わせは1×10−1Paの真空度、0.3MPaの圧力で行った。以上により、フレキシブル有機ELデバイス40を得た。 As the sealing film 30, an aluminum foil / PET composite film was used. The sealing film 30 and the organic EL element substrate 21 on which the sealing agent 5 to which 10% by volume of zeolite having a particle size of 0.6 μm was added were bonded. The sealant 5 was formed in an area of 90 mm square using an epoxy curable adhesive (film thickness: 25 μm) so as to cover the entire end face of the gas barrier film 10 (B). Bonding was performed at a vacuum of 1 × 10 −1 Pa and a pressure of 0.3 MPa. Thus, the flexible organic EL device 40 was obtained.

<実施例2>
図2に記載するように、ガスバリア性フィルム10(B)/接着剤層/ガスバリア性フィルム10(B)/接着剤層/ガスバリア性フィルム10(A)の層構成からなる積層フィルム20を使用したことを除いて実施例1と同じ手順で、フレキシブル有機ELデバイス40を得た。
<Example 2>
As shown in FIG. 2, a laminated film 20 having a layer configuration of gas barrier film 10 (B) / adhesive layer / gas barrier film 10 (B) / adhesive layer / gas barrier film 10 (A) was used. A flexible organic EL device 40 was obtained in the same procedure as in Example 1 except that.

<比較例1>
図4に記載するように、サイズが同じ2枚のガスバリア性フィルムを用いた、ガスバリア性フィルム10/接着剤層/ガスバリア性フィルム10の層構成からなる積層20フィルムを使用したことを除いて実施例1と同じ手順で、フレキシブル有機ELデバイス40を得た。
<Comparative Example 1>
As shown in FIG. 4, it was carried out except that a laminated 20 film having a gas barrier film 10 / adhesive layer / gas barrier film 10 layer structure using two gas barrier films having the same size was used. The flexible organic EL device 40 was obtained by the same procedure as in Example 1.

(評価)
実施例1、2及び比較例1で作製したフレキシブル有機ELデバイス40を60℃90%R.H.の環境下に放置し、DS(ダークスポット)のサイズ及び発光シュリンクの有無を確認した。DSのサイズは、平均直径サイズが100μm未満の場合は○(=良品)と判定し、100μm以上の場合は×(=不良)と判定した。発光シュリンクは無ければ○(=良品)と判定し、発光シュリンクが起きた場合を×(=不良)と判定した。
(Evaluation)
The flexible organic EL device 40 produced in Examples 1 and 2 and Comparative Example 1 was subjected to 60 ° C. and 90% R.D. H. The DS (dark spot) size and the presence or absence of light emitting shrinkage were confirmed. When the average diameter size was less than 100 μm, the DS size was determined to be ◯ (= non-defective product), and when the average diameter size was 100 μm or more, it was determined to be x (= defective). If there was no light emission shrinkage, it was determined as ◯ (= non-defective product), and a case where light emission shrinkage occurred was determined as x (= defective).

なお、DSの平面形状は、正円又はほぼ正円の場合がほとんどであるが、楕円や多角形の場合もあり得る。そこで、本評価では、DSの平面形状が楕円の場合には、楕円の長手方向の長さを上記「直径」とした。また、DSの平面形状が多角形の場合には、多角形の重心点を通り辺上の任意の2点を結ぶ一番長い直線の長さを上記「直径」とした。   The planar shape of the DS is almost a perfect circle or almost a perfect circle, but may be an ellipse or a polygon. Therefore, in this evaluation, when the planar shape of the DS is an ellipse, the length in the longitudinal direction of the ellipse is defined as the “diameter”. When the DS planar shape is a polygon, the length of the longest straight line passing through the center of gravity of the polygon and connecting any two points on the side is defined as the “diameter”.

<評価結果>
500h経過後、比較例1のフレキシブル有機ELデバイス40はDSサイズが100μm以上になり、発光シュリンクが発生した。一方、実施例1、2のフレキシブル有機ELデバイス40は、DSサイズは100um未満で、発光シュリンクは発生していなかった。実施例1、2のフレキシブル有機ELデバイス40は、ガスバリア性フィルム10(B)の端面の全面を吸湿剤4入りのシール剤5で被覆したことで、端面方向からの透湿を抑制し、DSの拡大及び発光シュリンクの発生を抑制することが出来た。
<Evaluation results>
After 500 hours, the flexible organic EL device 40 of Comparative Example 1 had a DS size of 100 μm or more, and light emission shrinkage occurred. On the other hand, the flexible organic EL devices 40 of Examples 1 and 2 had a DS size of less than 100 μm, and no light emission shrinkage occurred. In the flexible organic EL devices 40 of Examples 1 and 2, the entire end face of the gas barrier film 10 (B) was covered with the sealant 5 containing the moisture absorbent 4, thereby suppressing moisture permeation from the end face direction. And the generation of light emitting shrinkage could be suppressed.

本発明に係る積層フィルムによれば、例えば、フレキシブル有機ELデバイスに好適に利用できる。   According to the laminated film which concerns on this invention, it can utilize suitably for a flexible organic EL device, for example.

1…基材フィルム
2…ガスバリア層
3…接着剤層
4…吸湿剤
5…シール剤
10、10(A)、10(B)…ガスバリア性フィルム
20…積層フィルム
21…有機EL素子基板
30…封止用フィルム
40…フレキシブル有機ELデバイス
50…有機EL素子
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base film 2 ... Gas barrier layer 3 ... Adhesive layer 4 ... Hygroscopic agent 5 ... Sealing agent 10, 10 (A), 10 (B) ... Gas barrier film 20 ... Laminated film 21 ... Organic EL element substrate 30 ... Sealing Stop film 40 ... Flexible organic EL device 50 ... Organic EL element

Claims (3)

基材フィルムと前記基材フィルムの一方の面上に形成されたガスバリア層とを有するガスバリア性フィルムを2枚以上、接着剤を介して貼り合わせた積層フィルムにおいて、
前記2枚以上のガスバリア性フィルムは、ガスバリア性フィルム(A)と、前記ガスバリア性フィルム(A)より外形寸法が小さいガスバリア性フィルム(B)とからなり、
前記ガスバリア性フィルム(B)は、外周が前記ガスバリア性フィルム(A)の外周の内側に位置するように前記ガスバリア性フィルム(A)上に積層されていることを特徴とする積層フィルム。
In a laminated film in which two or more gas barrier films having a base film and a gas barrier layer formed on one surface of the base film are bonded via an adhesive,
The two or more gas barrier films comprise a gas barrier film (A) and a gas barrier film (B) having an outer dimension smaller than that of the gas barrier film (A).
The said gas barrier film (B) is laminated | stacked on the said gas barrier film (A) so that an outer periphery may be located inside the outer periphery of the said gas barrier film (A), The laminated | multilayer film characterized by the above-mentioned.
請求項1記載の積層フィルムと、
前記積層フィルムの前記ガスバリア性フィルム(B)上に形成された有機EL素子と、
前記有機EL素子を封止するシール剤と、
前記シール剤上に形成された封止用フィルムと、を備え、
前記ガスバリア性フィルム(B)の端面は、前記シール剤で覆われていることを特徴とするフレキシブル有機ELデバイス。
A laminated film according to claim 1;
An organic EL element formed on the gas barrier film (B) of the laminated film;
A sealing agent for sealing the organic EL element;
A sealing film formed on the sealing agent,
An end surface of the gas barrier film (B) is covered with the sealing agent, and is a flexible organic EL device.
前記シール剤は、吸湿剤を含むことを特徴とする請求項2に記載のフレキシブル有機ELデバイス。   The flexible organic EL device according to claim 2, wherein the sealant contains a hygroscopic agent.
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