JP2019158591A - 測定器 - Google Patents

Abstract

【課題】被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができる測定器を提供する。【解決手段】ゲージ本体２０と、このゲージ本体２０に取り付けられる測定子２２と、を有する測定器本体２と、測定器本体２を支持する測定台３と、を備える測定器１であって、測定台３の底面３ｂ側には、長手方向に沿って、長尺円柱構造の被測定対象物が当接可能な第１当接部３ｇが設けられ、幅方向に沿って、短尺円柱構造の被測定対象物が当接可能な第２当接部３ｈが設けられている。【選択図】図１

Description

本発明は、被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定する測定器に関する。

一般的に、被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、デプスゲージである測定器が用いられている（例えば、特許文献１参照）。

特開２０１５−３８４３１号公報

しかしながら、上記のような測定器は、被測定対象物の平面を基準とし、その基準とした平面からの溝、凹み、孔、疵等の深さを測定することを目的としているため、被測定対象物が、円柱構造の被測定対象物であると、平面が無いことから、基準となる基準面をとることが難しく、もって、円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを的確に測定することができないといった問題があった。

さらに、上記のような測定器の測定台の構造は、その測定台を被測定対象物の平面に載置する際、安定して載置させるために、その測定台の底面を平坦にしておく必要がある。そのため、そのような測定台を円柱構造の被測定対象物に載置させると、不安定にならざるを得ず、もって、安定させようとすると、様々な円柱構造の被測定対象物にあった測定台を製造しなければならないといった問題があった。

そして、上記のような測定器の測定台の構造は、測定子を隠蔽し、外部より視認することができない構造となっていることから、被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等に上記測定子を容易に当接させることができないといった問題があった。

そこで、本発明は、上記問題に鑑み、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができる測定器を提供することを目的としている。

上記本発明の目的は、以下の手段によって達成される。なお、括弧内は、後述する実施形態の参照符号を付したものであるが、本発明はこれに限定されるものではない。

請求項１の発明によれば、ゲージ本体（２０）と、このゲージ本体（２０）に取り付けられる測定子（２２）と、を有する測定器本体（２）と、
前記測定器本体（２）を支持する測定台（３）と、を備える測定器（１）であって、
前記測定台（３）の底部（底面３ｂ）側には、
長手方向に沿って、長尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ１）が当接可能な第１当接部（３ｇ）が設けられ、
幅方向に沿って、短尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ２）が当接可能な第２当接部（３ｈ）が設けられてなることを特徴としている。

また、請求項２の発明によれば、上記請求項１に記載の測定器（１）において、前記第１当接部（３ｇ）は、前記測定台（３）の底部（底面３ｂ）側から頂部（頂面３ａ）側に向かうにつれて先細り形状となっていることを特徴としている。

さらに、請求項３の発明によれば、上記請求項１又は２に記載の測定器（１）において、前記第２当接部（３ｈ）は、前記測定台（３）の底部（底面３ｂ）側から頂部（頂面３ａ）側に向かうにつれて先細り形状となっていることを特徴としている。

そしてさらに、請求項４の発明によれば、上記請求項１〜３の何れか１項に記載の測定器（１）において、前記測定台（３）には、前記測定器本体（２）を支持した際、前記測定子（２２）が外部に露呈するように、幅方向に向かって貫通孔（３ｉ）が貫設されてなることを特徴としている。

一方、請求項５の発明によれば、上記請求項１〜４の何れか１項に記載の測定器（１）を用いて被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）を測定する際、上記測定器（１）をガイドするガイド機構（Ｇ３，ＧＡ１，ＧＢ２）を備えた測定器ガイド装置（Ｇ，ＧＡ，ＧＢ）からなることを特徴としている。

次に、本発明の効果について、図面の参照符号を付して説明する。なお、括弧内は、後述する実施形態の参照符号を付したものであるが、本発明はこれに限定されるものではない。

請求項１に係る発明によれば、測定台（３）の底部（底面３ｂ）側には、長手方向に沿って、長尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ１）が当接可能な第１当接部（３ｇ）が設けられ幅方向に沿って、短尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ２）が当接可能な第２当接部（３ｈ）が設けられているから、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができる。

また、請求項２に係る発明によれば、第１当接部（３ｇ）は、測定台（３）の底部（底面３ｂ）側から頂部（頂面３ａ）側に向かうにつれて先細り形状となっているから、様々な径の長尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂ）に対して、測定台（３）を安定して載置することができることとなる。これにより、様々な長尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂ）の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。

さらに、請求項３に係る発明によれば、第２当接部（３ｈ）は、測定台（３）の底部（底面３ｂ）側から頂部（頂面３ａ）側に向かうにつれて先細り形状となっているから、様々な径の短尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂ）に対して、測定台（３）を安定して載置することができることとなる。これにより、様々な短尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂ）の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。

そしてさらに、請求項４に係る発明によれば、測定台（３）には、測定器本体（２）を支持した際、測定子（２２）が外部に露呈するように、幅方向に向かって貫通孔（３ｉ）が貫設されているから、使用者が測定器（１）を使用する際、測定子（２２）を容易に確認することができるから、被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等に上記測定子（２２）を容易に当接させることができる。

一方、請求項５に係る発明によれば、上記請求項１〜４の何れか１項に記載の測定器（１）を用いて被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）を測定する際、上記測定器（１）をガイドするガイド機構（Ｇ３，ＧＡ１，ＧＢ２）を備えた測定器ガイド装置（Ｇ，ＧＡ，ＧＢ）を用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定することができる。

本発明の一実施形態に係る測定器の分解斜視図である。 （ａ）は、図１に示すＡ−Ａ線断面図、（ｂ）は、図１に示すＢ−Ｂ線断面図である。 同実施形態に係る測定器の正面図である。 （ａ）は、同実施形態に係る測定器を用いて長尺円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定している状態を示す斜視図、（ｂ）は、同実施形態に係る測定器を用いて短尺円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定している状態を示す斜視図である。 （ａ）は、同実施形態に係る測定器の第１当接部に様々な径の長尺円柱構造の被測定対象物を当接させることが可能であることを説明するための説明図、（ｂ）は、同実施形態に係る測定器の第２当接部に様々な径の短尺円柱構造の被測定対象物を当接させることが可能であることを説明するための説明図である。 測定器ガイド装置を用いて短尺円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定している状態を示し、（ａ）は、斜視図、（ｂ）は、正面図である。 （ａ）は、他の測定器ガイド装置を用いて短尺円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定している状態を示し、（ｂ）は、（ａ）に示す測定台の正面図、（ｃ）は、（ａ）に示す測定台の側面図である。 他の測定器ガイド装置を用いて短尺円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定している状態を示し、（ａ）は、斜視図、（ｂ）は、正面図である。 図８に示す測定器ガイド装置の一対の支持台を連結する横架材を設けた場合の測定器ガイド装置を用いて短尺円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定している状態を示し、（ａ）は、斜視図、（ｂ）は、正面図である。

以下、本発明に係る測定器の一実施形態を、図面を参照して具体的に説明する。なお、以下の説明において、上下左右の方向を示す場合は、図示正面から見た場合の上下左右をいうものとする。

本実施形態に係る測定器は、被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定する際に使用されるもので、特に、円柱構造の被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さの測定に有用である。図１に示すように、測定器１は、測定器本体２と、測定台３とで構成されている。この測定器本体２は、従来周知の構造のもので、円筒形状のゲージ本体２０と、このゲージ本体２０に貫通し、ゲージ本体２０の下部に設けられているステム２０ａ内を上下方向（実線位置から破線位置、破線位置から実線位置、矢印Ｙ１方向参照）に摺動可能なように支持されているスピンドル２１と、このスピンドル２１の基端側に一体的に設けられている測定子２２と、で構成されている。このゲージ本体２０には、前面に、外周に沿って等間隔に目盛２０ｂ１が刻設されている目盛板２０ｂが設けられ、ゲージ本体２０の中心には指針２０ｃが設けられている。そしてさらに、このゲージ本体２０には、目盛板２０ｂ及び指針２０ｃを保護する外枠２３が取り付けられている。なお、指針２０ｃは、上下方向（実線位置から破線位置、破線位置から実線位置、矢印Ｙ１方向参照）に摺動可能なように支持されているスピンドル２１と、このスピンドル２１の基端側に一体的に設けられている測定子２２の動きに連動して回転するようになっている。これにより、測定子２２を被測定対象物に当接させれば、被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さに応じて、測定子２２が上下動、すなわち、スピンドル２１が上下動することとなるから、それに合わせて、指針２０ｃが回転し、もって、指針２０ｃが指し示す目盛２０ｂ１を確認すれば、被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定できることとなる。

一方、測定台３は、図３に示すように、正面視、略凸状に形成されており、図１及び図２（ａ）に示すように、中心位置に、頂面３ａから底面３ｂに向かって、円形状の支持孔３ｃが貫通して設けられている。この支持孔３ｃの外径は、ゲージ本体２０のステム２０ａの外径よりも若干径大となっており、この支持孔３ｃ内に、ゲージ本体２０のステム２０ａ及びスピンドル２１並びに測定子２２が挿入できるようになっている。これにより、図３に示すように、測定器本体２を測定台３にて支持できることとなる。

一方、図１，図２（ａ），図３に示すように、測定台３の側面３ｄには、頂部側（頂面３ａ側）端部に、一対のネジ孔３ｅが幅方向（測定台３の前後方向）に向かって貫通して設けられている。この一対のネジ孔３ｅ内には、それぞれ、図１に示すように、ネジＮが螺合される。これにより、測定器本体２を測定台３にてしっかりと支持することができる。すなわち、図１，図２（ａ）に示すように、支持孔３ｃの左右には、支持孔３ｃの前後方向に僅かな隙間ができるように、測定台３に形成された断面視矩形状の調整孔３ｆが連通している。そして、この調整孔３ｆは、一対のネジ孔３ｅとも連通している。これにより、支持孔３ｃ内に、ゲージ本体２０のステム２０ａ及びスピンドル２１並びに測定子２２を挿入した状態で、図１に示すように、ネジ孔３ｅ内に、それぞれ、ネジＮを螺合させれば、調整孔３ｆに形成されている前後方向の僅かな隙間が僅かながら縮まる。これに伴い、支持孔３ｃの外径が僅かながら縮まることで、支持孔３ｃ内の外径とゲージ本体２０のステム２０ａの外径が同一となる。これにより、ゲージ本体２０のステム２０ａが支持孔３ｃ内に密着固定されることとなるから、測定器本体２を測定台３にてしっかりと支持できることとなる。

また一方、図１，図２（ｂ）に示すように、測定台３の底面３ｂ側には、測定台３の長手方向（図示左右方向）に沿って、第１当接部３ｇが形成されている。この第１当接部３ｇは、図２（ｂ）に示すように、底面３ｂから頂面３ａに向かって先細り形状となる山型に形成されている。しかして、このような形状とすることにより、図４（ａ）に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に、測定台３を安定して載置することができる。すなわち、図５（ａ）に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に、測定台３の底面３ｂ側を載置させれば、測定台３の底面３ｂ側に形成されている第１当接部３ｇが、先細り形状となる山型に形成されているから、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に点接触することとなる。より詳しく説明すると、図５（ａ）に示すように、第１当接部３ｇの一対の斜面にそれぞれ、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１が点Ｐ１，Ｐ２の２点で接触し、もって、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１が第１当接部３ｇに当接することとなる。しかして、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に、測定台３の底面３ｂ側を載置させれば、第１当接部３ｇが、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に２点で接触し当接することとなるから、測定台３のバランスが安定することとなる。これにより、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に、測定台３を安定して載置することができることとなる。それゆえ、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。

しかして、第１当接部３ｇが、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に対して、２点で接触し当接できれば、測定台３のバランスが安定することとなるから、第１当接部３ｇを先細り形状となる山型に形成することにより、図５（ａ）に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１よりも径小の長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１ａ，長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１ａよりも径小の長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１ｂであっても、第１当接部３ｇが２点で接触し当接できることとなる。これにより、様々な径の長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂに対して、測定台３を安定して載置することができることとなるから、様々な長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂの溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。

また一方、図１，図２（ａ）に示すように、測定台３の底面３ｂ側中央位置には、測定台３の幅方向（測定台３の前後方向）に沿って、第２当接部３ｈが形成されている。この第２当接部３ｈは、図２（ａ）に示すように、底面３ｂから頂面３ａに向かって先細り形状となる尻窄まり形状に形成されている。しかして、このような形状とすることにより、図４（ｂ）に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に、測定台３を安定して載置することができる。すなわち、図５（ｂ）に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に、測定台３の底面３ｂ側を載置させれば、測定台３の底面３ｂ側中央位置に形成されている第２当接部３ｈが、先細り形状となる尻窄まり形状に形成されているから、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に点接触することとなる。より詳しく説明すると、図５（ｂ）に示すように、第２当接部３ｈの一対の斜面にそれぞれ、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２が点Ｐ１０，Ｐ１１の２点で接触し、もって、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２が第２当接部３ｈに当接することとなる。しかして、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に、測定台３の底面３ｂ側を載置させれば、第２当接部３ｈが、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に２点で接触し当接することとなるから、測定台３のバランスが安定することとなる。これにより、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に、測定台３を安定して載置することができることとなる。それゆえ、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。

しかして、第２当接部３ｈが、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に対して、２点で接触し当接できれば、測定台３のバランスが安定することとなるから、第２当接部３ｈを先細り形状となる尻窄まり形状に形成することにより、図５（ｂ）に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２よりも径小の短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２ａ，短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２ａよりも径小の短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２ｂであっても、第２当接部３ｈが２点で接触し当接できることとなる。これにより、様々な径の短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂに対して、測定台３を安定して載置することができることとなるから、様々な短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂの溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。

また一方、図１，図２（ａ），図３に示すように、測定台３の底面３ｂ側中央位置には、測定台３の幅方向（測定台３の前後方向）に向かって、正面視略矩形状の貫通孔３ｉが貫通して設けられている。この貫通孔３ｉは、図２（ａ）に示すように、第２当接部３ｈに連通し、支持孔３ｃに連通している。しかして、支持孔３ｃ内に、ゲージ本体２０のステム２０ａ及びスピンドル２１並びに測定子２２を挿入すれば、図３に示すように、貫通孔３ｉより測定子２２が外部に露呈することとなる。これにより、使用者が測定器１を使用する際、測定子２２を容易に確認することができることとなるから、被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等に上記測定子２２を容易に当接させることができる。

かくして、上記のように構成される測定器１は、次のように使用される。

まず、図１に示すように、支持孔３ｃ内に、ゲージ本体２０のステム２０ａ及びスピンドル２１並びに測定子２２を挿入する。そして、この状態で、ネジ孔３ｅ内に、それぞれ、ネジＮを螺合する。これにより、図３に示すように、測定器本体２が測定台３にてしっかりと支持されることとなる。

次いで、この測定器１を使用し、例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、図４（ａ）に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に対して、測定台３の底面３ｂ側を載置させれば、測定台３の底面３ｂ側に形成されている第１当接部３ｇが、先細り形状となる山型に形成されているから、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に点接触（図５（ａ）参照）することとなる。これにより、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に、測定台３を安定して載置することができることとなる。それゆえ、図３に示す、貫通孔３ｉより外部に露呈している測定子２２を、図４（ａ）に示すように、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１の溝、凹み、孔、疵等に、的確に当接できることとなる。これにより、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１の溝、凹み、孔、疵等の深さに応じて、測定子２２が上下動、すなわち、スピンドル２１が上下動することとなるから、それに合わせて、指針２０ｃが回転し、もって、指針２０ｃが指し示す目盛２０ｂ１を確認すれば、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１の溝、凹み、孔、疵等の深さを的確に測定できることとなる。

また、この測定器１を使用し、例えば、図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、図４（ｂ）に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に対して、測定台３の底面３ｂ側を載置させれば、測定台３の底面３ｂ側中央位置に形成されている第２当接部３ｈが、先細り形状となる尻窄まり形状に形成されているから、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に点接触（図５（ｂ）参照）することとなる。これにより、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に、測定台３を安定して載置することができることとなる。それゆえ、図３に示す、貫通孔３ｉより外部に露呈している測定子２２を、図４（ｂ）に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の溝、凹み、孔、疵等に、的確に当接できることとなる。これにより、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の溝、凹み、孔、疵等の深さに応じて、測定子２２が上下動、すなわち、スピンドル２１が上下動することとなるから、それに合わせて、指針２０ｃが回転し、もって、指針２０ｃが指し示す目盛２０ｂ１を確認すれば、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１の溝、凹み、孔、疵等の深さを的確に測定できることとなる。

しかして、以上説明した本実施形態によれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。

なお、本実施形態においては、被測定対象物として、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）を例に説明したが、それに限らず、平らな被測定対象物にも適用可能である。すなわち、図２（ｂ）に示すように、測定台３の底面３ｂは平らな面を有しているから、その面が平らな被測定対象物に当接することができるため、もって、平らな被測定対象物の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができることとなる。

また、本実施形態において例示した測定器本体２、測定台３の形状はあくまで一例であり、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において種々の変形・変更が可能である。例えば、本実施形態において、測定台３の第１当接部３ｇは、図２（ｂ）に示すように、底面３ｂから頂面３ａに向かって先細り形状となる山型に形成されている例を示したが、これに限らず、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１に対して、２点で接触し当接できれば、どのような形状でも良い。しかしながら、様々な長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂの溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定するのであれば、第１当接部３ｇは、図２（ｂ）に示すように、底面３ｂから頂面３ａに向かって先細り形状となる山型に形成されるのが好ましい。

また、本実施形態において、測定台３の第２当接部３ｈは、図２（ａ）に示すように、底面３ｂから頂面３ａに向かって先細り形状となる尻窄まり形状に形成されている例を示したが、これに限らず、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に対して、２点で接触し当接できれば、どのような形状でも良い。しかしながら、様々な短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂの溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定するのであれば、第２当接部３ｈは、図２（ａ）に示すように、底面３ｂから頂面３ａに向かって先細り形状となる尻窄まり形状に形成されるのが好ましい。

ところで、上記説明した測定器１は、そのままでも十分使用可能であるが、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定するのであれば、図６〜図９に示すようなガイド機構を備えた測定器ガイド装置を用いるのが好ましい。

図６に示す測定器ガイド装置Ｇは、水平台Ｇ１と、この水平台Ｇ１の一側端部に立設固定されている垂直台Ｇ２と、この垂直台Ｇ２に取り付けられているガイド機構Ｇ３とを備えている。このガイド機構Ｇ３は、垂直台Ｇ２の内側面上部側長手方向に沿って固定されている水平ガイドレールＧ３ａと、この水平ガイドレールＧ３ａにスライド可能に取り付けられている正面視矩形状の水平案内板Ｇ３ｂと、この水平案内板Ｇ３ｂの右側面に立設固定されている垂直ガイドレールＧ３ｃと、この垂直ガイドレールＧ３ｃにスライド可能に取り付けられている正面視矩形状の垂直案内板Ｇ３ｄと、で構成されている。そして、このガイド機構Ｇ３と、測定器１とを接続するため、垂直案内板Ｇ３ｄと、測定器１の測定台３の側面３ｄとを繋ぐＬ字状金具Ｋを用いている。これにより、測定器１を垂直ガイドレールＧ３ｃに沿って、上下方向（図６（ａ）に示す矢印Ｙ１０方向）に移動させることができ、さらに、測定器１を水平ガイドレールＧ３ａに沿って、左右方向（図６（ａ）に示す矢印Ｙ１１方向）に移動させることができる。

しかるに、図６に示す測定器ガイド装置Ｇを用いて、測定器１を使用するにあたっては、まず、水平台Ｇ１に、測定を所望する、例えば、図６に示すような短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２を載置する。次いで、測定器１を垂直ガイドレールＧ３ｃに沿って、上下方向（図６（ａ）に示す矢印Ｙ１０方向）に移動させて、図６（ｂ）に示すように、測定台３の底面３ｂ側中央位置に形成されている第２当接部３ｈを、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に点接触させ、当接させる。そしてこの状態で、水平ガイドレールＧ３ａに沿って、左右方向（図６（ａ）に示す矢印Ｙ１１方向）に測定器１を移動させれば、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定できることとなる。

しかして、このような測定器ガイド装置Ｇを用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定できることとなる。

なお、本実施形態における測定器ガイド装置Ｇでは、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定する例を示したが、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１（図４（ａ）参照）の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、水平ガイドレールＧ３ａに沿って、測定器１が左右方向（図６（ａ）に示す矢印Ｙ１１方向）に移動できるように、Ｌ字状金具Ｋを取り外し、図６（ａ）に示す測定器１を右に９０度回転させ、その右に９０度回転させた測定器１の測定台３の左側面と垂直案内板Ｇ３ｄとをＬ字状金具Ｋを用いて繋ぐようにすれば良い。このようにすれば、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１（図４（ａ）参照）の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを、測定器ガイド装置Ｇを用いて測定することが可能となる。

一方、このような測定器ガイド装置は、図６に示すようなものに限らず、図７に示すような測定器ガイド装置ＧＡでも良い。

図７に示す測定器ガイド装置ＧＡは、一対のガイド機構ＧＡ１を備えている。このガイド機構ＧＡ１は、図７（ａ），（ｃ）に示すように、測定器１の測定台３の第２当接部３ｈより前後方向に突出して設けられている。そして、このガイド機構ＧＡ１は、図７（ｂ）に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に点接触できるように、測定台３の底面３ｂから頂面３ａに向かって先細り形状となる尻窄まり形状に形成されている。

しかるに、図７に示す測定器ガイド装置ＧＡを用いて、測定器１を使用するにあたっては、一対のガイド機構ＧＡ１を図７（ａ）に示すように、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に点接触させ、当接させる。そしてこの状態で、一対のガイド機構ＧＡ１に沿って、使用者が測定器１を前後方向に移動させれば、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定できることとなる。

しかして、このような測定器ガイド装置ＧＡを用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定できることとなる。

なお、本実施形態における測定器ガイド装置ＧＡでは、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定する例を示したが、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、測定器１の測定台３の第１当接部３ｇより左右方向に突出してガイド機構を設けるようにすれば良い。このようにすれば、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１（図４（ａ）参照）の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを、測定器ガイド装置ＧＡを用いて測定することが可能となる。

一方、このような測定器ガイド装置は、図６，図７に示すようなものに限らず、図８に示すような測定器ガイド装置ＧＢでも良い。

図８に示す測定器ガイド装置ＧＢは、水平台ＧＢ１と、この水平台ＧＢ１に取り付けられているガイド機構ＧＢ２とを備えている。このガイド機構ＧＢ２は、水平台ＧＢ１の両側端部に立設固定されている一対の垂直台ＧＢ２ａと、この一対の垂直台ＧＢ２ａに対して上下方向（図８（ａ）に示す矢印Ｙ２０方向）にスライド可能なようにそれぞれ取り付けられている一対の支持台ＧＢ２ｂとを備えている。この垂直台ＧＢ２ａは、図８（ａ）に示すように、内側左右方向端部に一対の凹孔ＧＢ２ａ１が設けられ、長手方向に沿って、一定間隔をおいて、複数の長孔ＧＢ２ａ２（図示では、３個）が幅方向に向かって貫通して設けられている。そして、支持台ＧＢ２ｂは、内側左右方向端部に一対の突部ＧＢ２ｂ１が設けられ、この突部ＧＢ２ｂ１が垂直台ＧＢ２ａの凹孔ＧＢ２ａ１に嵌合されることにより、支持台ＧＢ２ｂが垂直台ＧＢ２ａに対して上下方向（図８（ａ）に示す矢印Ｙ２０方向）にスライド可能となる。そしてさらに、支持台ＧＢ２ｂの側面、すなわち、垂直台ＧＢ２ａに接触する側面には、頭部Ｎ１ａが長孔ＧＢ２ａ２の径よりも径大である調整ネジＮ１が螺合できるようになっている。これにより、支持台ＧＢ２ｂを垂直台ＧＢ２ａに対して上下方向（図８（ａ）に示す矢印Ｙ２０方向）にスライドさせ、所望箇所で支持台ＧＢ２ｂを固定しておきたい場合、複数の長孔ＧＢ２ａ２から、それぞれ、複数の調整ネジＮ１を支持台ＧＢ２ｂの側面、すなわち、垂直台ＧＢ２ａに接触する側面に螺合すれば、複数の調整ネジＮ１の頭部Ｎ１ａが垂直台ＧＢ２ａの外側面に接触し移動が規制されることとなり、もって、これら調整ネジＮ１によって、支持台ＧＢ２ｂを所望箇所にて固定できることとなる。

しかるに、図８に示す測定器ガイド装置ＧＢを用いて、測定器１を使用するにあたっては、まず、水平台ＧＢ１に、測定を所望する、例えば、図８に示すような短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２を載置する。次いで、支持台ＧＢ２ｂを垂直台ＧＢ２ａに対して上下方向（図８（ａ）に示す矢印Ｙ２０方向）にスライドさせ、複数の長孔ＧＢ２ａ２から、それぞれ、複数の調整ネジＮ１を支持台ＧＢ２ｂの側面、すなわち、垂直台ＧＢ２ａに接触する側面に螺合する。これにより、支持台ＧＢ２ｂを所望箇所にて固定する。この状態で、図８（ｂ）に示すように、測定器１の測定台３の底面３ｂ側中央位置に形成されている第２当接部３ｈを、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２に点接触させ、当接させる。この際、測定器１の測定台３が一対の支持台ＧＢ２ｂの上面に支持されることとなるから、支持台ＧＢ２ｂに沿って、左右方向（図８（ａ）に示す矢印Ｙ２１方向）に測定器１を移動させれば、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定できることとなる。

しかして、このような測定器ガイド装置ＧＢを用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定できることとなる。

なお、本実施形態における測定器ガイド装置ＧＢでは、短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定する例を示したが、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを測定するにあたっては、図８（ａ）に示す測定器１を右に９０度回転させ、その右に９０度回転させた測定器１の測定台３の底面３ｂを一対の支持台ＧＢ２ｂに載置すれば良い。仮に、一対の支持台ＧＢ２ｂの幅が狭く、測定器１の測定台３の底面３ｂを載置できなければ、一対の支持台ＧＢ２ｂの幅を広くすればよい。このようにすれば、長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１（図４（ａ）参照）の所望箇所の溝、凹み、孔、疵等の深さを、測定器ガイド装置ＧＡを用いて測定することが可能となる。

ところで、図８に示す測定器ガイド装置ＧＢの一対の支持台ＧＢ２ｂは、別々に移動することができるため、一対の支持台ＧＢ２ｂの高さが一致しない可能性がある。そのため、一対の支持台ＧＢ２ｂの高さを一致させるために、図８（ａ）に示すように目盛Ｍを設けるようにしても良い。

また、図９に示すように、一対の支持台ＧＢ２ｂを連結する横架材ＧＢ２ｂ２を前後左右に設けるようにしても良い。このようにすれば、一対の支持台ＧＢ２ｂが垂直台ＧＢ２ａに対して上下方向（図８（ａ）に示す矢印Ｙ２０方向）に一度にスライドできることとなるから、一対の支持台ＧＢ２ｂの高さが一致しないということがない。なお、図９に示す測定器ガイド装置ＧＢには、図８（ａ）に示すような目盛Ｍを設けていないが、勿論、設けても良い。

しかして、以上説明した図６〜図９に示すようなガイド機構を備えた測定器ガイド装置を用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定できることとなる。

なお、このようなガイド機構を備えた測定器ガイド装置は、従来の測定器にも適用可能であるが、上記説明した測定器１に対して使用した方が好ましい。被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定することができるためである。

１ 測定器
２ 測定器本体
２２ 測定子
３ 測定台
３ａ 頂面
３ｂ 底面
３ｇ 第１当接部
３ｈ 第２当接部
３ｉ 貫通孔
Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂ 長尺円柱構造の被測定対象物（被測定対象物）
Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂ 短尺円柱構造の被測定対象物（被測定対象物）
Ｇ，ＧＡ，ＧＢ 測定器ガイド装置
Ｇ３，ＧＡ１，ＧＢ２ ガイド機構

請求項１の発明によれば、ゲージ本体（２０）と、このゲージ本体（２０）に取り付けられる測定子（２２）と、を有する測定器本体（２）と、
前記測定器本体（２）を支持する測定台（３）と、を備える測定器（１）であって、
前記測定台（３）の底部（底面３ｂ）側中央部分には、前記測定器本体（２）を支持した際、前記測定子（２２）が完全に外部に露呈するように、前記測定台（３）の幅方向に向かって貫通孔（３ｉ）が貫設され、
前記測定台（３）の底部（底面３ｂ）側には、前記測定台（３）の長手方向に沿って、山型状の第１当接部（３ｇ）が設けられ、
前記測定台（３）の底部（底面３ｂ）側中央部分には、前記貫通孔（３ｉ）の下端面に連設すると共に、前記測定台（３）の幅方向に沿って、前記測定台（３）の底部（底面３ｂ）側に向かって末広がり状に形成されている第２当接部（３ｈ）が設けられ、
前記第１当接部（３ｇ）は、様々な径の長尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂ）が当接可能で、
前記第２当接部（３ｈ）は、様々な径の短尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂ）が当接可能であることを特徴としている。

一方、請求項２の発明によれば、上記請求項１に記載の測定器（１）を用いて被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）を測定する際、上記測定器（１）をガイドするガイド機構（Ｇ３，ＧＡ１，ＧＢ２）を備えた測定器ガイド装置（Ｇ，ＧＡ，ＧＢ）からなることを特徴としている。

請求項１に係る発明によれば、測定台（３）の底部（底面３ｂ）側中央部分には、測定器本体（２）を支持した際、測定子（２２）が完全に外部に露呈するように、測定台（３）の幅方向に向かって貫通孔（３ｉ）が貫設され、測定台（３）の底部（底面３ｂ）側には、測定台（３）の長手方向に沿って、山型状の第１当接部（３ｇ）が設けられている。さらに、測定台（３）の底部（底面３ｂ）側中央部分には、貫通孔（３ｉ）の下端面に連設すると共に、測定台（３）の幅方向に沿って、測定台（３）の底部（底面３ｂ）側に向かって末広がり状に形成されている第２当接部（３ｈ）が設けられている。そしてさらに、第１当接部（３ｇ）は、様々な径の長尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂ）が当接可能で、第２当接部（３ｈ）は、様々な径の短尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂ）が当接可能である。これにより、様々な径の長尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂ）、様々な径の短尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂ）に安定して載置することができると共に、測定子（２２）も見やすくすることができ、もって、様々な径の長尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂ）、様々な径の短尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂ）の溝、凹み、孔、疵等に測定子（２２）を当接し易くすることができる。それゆえ、様々な径の長尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ１，Ｗ１ａ，Ｗ１ｂ）、様々な径の短尺円柱構造の被測定対象物（Ｗ２，Ｗ２ａ，Ｗ２ｂ）の溝、凹み、孔、疵等の深さを安定的に容易且つ的確に測定することができる。

一方、請求項２に係る発明によれば、上記請求項１に記載の測定器（１）を用いて被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）を測定する際、上記測定器（１）をガイドするガイド機構（Ｇ３，ＧＡ１，ＧＢ２）を備えた測定器ガイド装置（Ｇ，ＧＡ，ＧＢ）を用いれば、被測定対象物、特に、円柱構造の被測定対象物（例えば、図４（ａ）に示す長尺円柱構造の被測定対象物Ｗ１，図４（ｂ）に示す短尺円柱構造の被測定対象物Ｗ２）の溝、凹み、孔、疵等の深さをより安定的に容易且つ的確に測定することができる。

Claims (5)

1. ゲージ本体と、このゲージ本体に取り付けられる測定子と、を有する測定器本体と、
   前記測定器本体を支持する測定台と、を備える測定器であって、
   前記測定台の底部側には、
   長手方向に沿って、長尺円柱構造の被測定対象物が当接可能な第１当接部が設けられ、
   幅方向に沿って、短尺円柱構造の被測定対象物が当接可能な第２当接部が設けられてなる測定器。
2. 前記第１当接部は、前記測定台の底部側から頂部側に向かうにつれて先細り形状となっている請求項１に記載の測定器。
3. 前記第２当接部は、前記測定台の底部側から頂部側に向かうにつれて先細り形状となっている請求項１又は２に記載の測定器。
4. 前記測定台には、前記測定器本体を支持した際、前記測定子が外部に露呈するように、幅方向に向かって貫通孔が貫設されてなる請求項１〜３の何れか１項に記載の測定器。
5. 前記請求項１〜４の何れか１項に記載の測定器を用いて前記被測定対象物を測定する際、前記測定器をガイドするガイド機構を備えた測定器ガイド装置。
   
   
   
   

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