JP2019144029A - センサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法 - Google Patents

Abstract

【課題】センサウエハと台座ウエハとの位置合わせを高精度で行う。【解決手段】センサウエハ１０１を真空チャックした上側ステージ２を支軸６を中心として時計方向へ回転させて上下面を反転させる。光学的顕微鏡５−１，５−２の位置を調整して、センサウエハ１０１の上面１０１ａのアライメントマークＭ１1，Ｍ１2をモニタ枠Ｗ１，Ｗ２内に位置させる。上側ステージ２を支軸６を中心として反時計方向へ回転させて元の状態に戻す。台座ウエハ１０４を下側ステージ３に真空チャックし、下側ステージ３の位置を調整して、台座ウエハ１０４の上面１０４ａのアライメントマークＭ２1，Ｍ２2をモニタ枠Ｗ１，Ｗ２内に位置させ、上側ステージ２を支軸６を中心として時計方向へ回転し、上側ステージ２の上下面を再度反転させる。これにより、アライメントマークＭ１1，Ｍ１2の位置と、アライメントマークＭ２1，Ｍ２2の位置とが一致する。【選択図】 図１３

Description

本発明は、センサウエハと台座ウエハとを重ね合わせて接合する際のセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法に関する。

従来より、半導体圧力センサの製造方法として、半導体圧力センサを効率良く大量に生産するために、半導体基板を複数作成したウエハ（センサウエハ）と、ガラス台座を複数作成したウエハ（ガラス台座ウエハ）と、シリコンチューブを複数作成したウエハ（シリコンチューブウエハ）とを接合して３層のウエハの接合体とし、この３層のウエハの接合体をダイシングで切断して複数の半導体圧力センサを得るという方法が採用されている。

図２１に、半導体圧力センサを得る際の３層のウエハの接合体の要部を示す。同図において、１０１はセンサウエハ、１０２はガラス台座ウエハ、１０３はシリコンチューブウエハである。センサウエハ１０１には、エッチングを行うことによって、複数のダイアフラム１０１ｃが形成されている。ダイアフラム１０１ｃ上には、半導体プレーナ技術を用いて、ゲージ抵抗１０１ｄが形成されている。ガラス台座ウエハ１０２およびシリコンチューブウエハ１０３にはダイアフラム１０１ｃへの圧力導入孔１０２ｃ，１０３ｃが形成されている。

この３層のウエハの接合体１００では、先ず最初に、ガラス台座ウエハ１０２とシリコンチューブウエハ１０３とを陽極接合して、台座ウエハ１０４とする。そして、センサウエハ１０１と台座ウエハ１０４とを陽極接合して、３層のウエハの接合体１００とする。陽極接合は、接合部材間に第３の材料を介在させない直接的な接合方法であって、可動イオンを含むガラスとシリコンとを重ね合わせた状態で高温，高電圧を印加すると、界面に静電引力が働き、共有結合が起きて両者が接合される技術である。

この３層のウエハの接合体１００において、ガラス台座ウエハ１０２とシリコンチューブウエハ１０３とを陽極接合する際には、圧力導入孔１０２ｃ，１０３ｃを位置決め用の孔として、ガラス台座ウエハ１０２とシリコンチューブウエハ１０３との位置合わせを光学顕微鏡を使用して行うことができる。しかし、センサウエハ１０１と台座ウエハ１０４とを陽極接合する際には、センサウエハ１０１が台座ウエハ１０４に覆い被さり、圧力導入孔１０４ｃが隠れて見えなくなるので、光学顕微鏡を使用しての位置合わせは難しい。このため、現在、センサウエハ１０１と台座ウエハ１０４との位置合わせ方法として、次の（１）〜（３）ような方法が採用されている（例えば、特許文献１参照）。

〔方法（１）〕
図２２に示すように、ダイシングソーを用いて、センサウエハ１０１および台座ウエハ１０４に、それぞれオリエンテーションフラット２０１を直交するように２つ形成する。このオリエンテーションフラット２０１が形成されたセンサウエハ１０１および台座ウエハ１０４をＬ字ガイド２０２に押し当てて重ね合わせる。

〔方法（２）〕
図２３に示すように、ＸＹθテーブル２０３にセンサウエハ１０１と台座ウエハ１０４とを重ねて置き、吸着部２０４を有してなるＺテーブル２０５の上下移動によりセンサウエハ１０１を吸着し、センサウエハ１０１と台座ウエハ１０４との間に僅かなギャップを設ける。そして、ＸＹθテーブル２０３を移動させてセンサウエハ１０１と台座ウエハ１０４とを位置合わせ（アライメント）した後、Ｚテーブル２０５を下降させてセンサウエハ１０１と台座ウエハ１０４とを接触させる。

ここで、センサウエハ１０１と台座ウエハ１０４との位置合わせは、センサウエハ１０１を透過する赤外光２０６を照射し、赤外線顕微鏡２０７で観察されたセンサウエハ１０１および台座ウエハ１０４に設けられているアライメントマーク（不図示）をモニタ２０８で監視し、この２つのアライメントマークが一致するようにセンサウエハ１０１と台座ウエハ１０４との位置を調整する。

〔方法（３）〕
図２４に示すように、センサウエハ１０１に位置合わせ用の孔１０１ｅを形成し、光学的顕微鏡２０９を用いて、位置合わせ用の孔１０１ｃの中央に台座ウエハ１０４の圧力導入孔１０４ｃがくるように、センサウエハ１０１と台座ウエハ１０４との位置を調整する。

特開平９−２２９７９５号公報

しかしながら、上述した方法（１）によると、位置合わせの精度が低い。また、ダイシングにかかる工数も大きい。また、上述した方法（２）によると、高価な赤外線顕微鏡が必要となる。上述した方法（３）によると、センサウエハ１０１に形成する位置合わせ用の孔１０１ｅの形状（径）がプロセスの条件で制約され、位置合わせ用の孔１０１ｅを通して下の圧力導入孔１０４ｃが見えにくいというようなこともあり、アライメント精度は高くない。

本発明は、このような課題を解決するためになされたもので、その目的とするところは、高価な赤外線顕微鏡を使用することなく、センサウエハと台座ウエハとの位置合わせを高精度で行うことが可能なセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法を提供することにある。

このような目的を達成するために本発明は、センサウエハ（１０１）と台座ウエハ（１０４）とを重ね合わせて接合する際の位置合わせを光学的顕微鏡（５−１，５−２）を用いて行うセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法であって、センサウエハを所定の位置に位置させる第１工程（Ｓ１０１，Ｓ１０２）と、第１工程によってセンサウエハを所定の位置に位置させた後、光学的顕微鏡の位置を調整して、センサウエハの上面（１０１ａ）に設けられている第１のアライメントマーク（Ｍ１₁，Ｍ１₂）を光学的顕微鏡のモニタ画面（Ｇ１，Ｇ２）内に定められた所定のモニタ枠（Ｗ１，Ｗ２）内に位置させる第２工程（Ｓ１０３）と、第２工程によって光学的顕微鏡の位置を調整した後、センサウエハを光学的顕微鏡の視野範囲から外す第３工程（Ｓ１０４）と、第３工程によってセンサウエハを光学的顕微鏡の視野範囲から外した後、台座ウエハを光学的顕微鏡の視野範囲に位置させ、台座ウエハの位置を調整することによって、台座ウエハの上面（１０４ａ）に設けられている第２のアライメントマーク（Ｍ２₁，Ｍ２₂）を光学的顕微鏡の画面内に定められた所定のモニタ枠内に位置させる第４工程（Ｓ１０５，Ｓ１０６）と、第４工程によって台座ウエハの位置を調整した後、センサウエハを所定の位置に再度位置させる第５工程（Ｓ１０７）と、第５工程によって所定の位置に位置させたセンサウエハと第４工程によって位置が調整された台座ウエハとを重ね合わせる第６工程（Ｓ１０８）とを備えることを特徴とする。

本発明では、センサウエハを所定の位置に位置させた後、光学的顕微鏡の位置を調整して、センサウエハの上面に設けられている第１のアライメントマークを光学的顕微鏡のモニタ画面内に定められた所定のモニタ枠内に位置させる。そして、センサウエハを光学的顕微鏡の視野範囲から外し、台座ウエハを光学的顕微鏡の視野範囲に位置させ、台座ウエハの位置を調整することによって、台座ウエハの上面に設けられている第２のアライメントマークを光学的顕微鏡のモニタ画面内に定められた所定のモニタ枠内に位置させる。

これにより、本発明では、センサウエハを所定の位置に再度位置させると、センサウエハの上面に設けられている第１のアライメントマークの位置と台座ウエハの上面に設けられている第２のアライメントマークの位置とが一致する。そして、この第１のアライメントマークの位置と第２のアライメントマークの位置とが一致した状態で、センサウエハと台座ウエハとが重ね合わされる。本発明では、位置合わせ用の孔など制約を受けるプロセスはなく、アライメントマークも自由に設計でき、センサウエハと台座ウエハとの高精度での位置合わせが可能となる。

なお、上記説明では、一例として、発明の構成要素に対応する図面上の構成要素を、括弧を付した参照符号によって示している。

以上説明したように、本発明によれば、センサウエハを所定の位置に位置させた後、光学的顕微鏡の位置を調整して、センサウエハの上面に設けられている第１のアライメントマークを光学的顕微鏡のモニタ画面内に定められた所定のモニタ枠内に位置させ、この後、センサウエハを光学的顕微鏡の視野範囲から外し、台座ウエハを光学的顕微鏡の視野範囲に位置させ、台座ウエハの位置を調整することによって、台座ウエハの上面に設けられている第２のアライメントマークを光学的顕微鏡のモニタ画面内に定められた所定のモニタ枠内に位置させ、この後、センサウエハを所定の位置に再度位置させるようにしたので、第１のアライメントマークの位置と第２のアライメントマークの位置とが一致した状態でセンサウエハと台座ウエハとが重ね合わせられ、高価な赤外線顕微鏡を使用することなく、センサウエハと台座ウエハとの位置合わせを高精度で行うことが可能となる。

図１は、本発明の実施の形態に係るセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法を実施する際に用いられる位置合わせ治具の要部を示す図である。 図２は、この位置合わせ治具の上側ステージの上下面を反転させた状態を示す図である。 図３は、この位置合わせ治具を用いたセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせを説明するためのフローチャートである。 図４は、上側ステージにセンサウエハを置いて真空チャックした状態を示す図である。 図５は、上側ステージに置かれたセンサウエハの側断面図である。 図６は、センサウエハの上面に設けられているアライメントマークを示す図である。 図７は、上側ステージをひっくり返した状態を示す図である。 図８は、光学的顕微鏡のモニタ画面内に定められた所定のモニタ枠内にセンサウエハの上面に設けられているアライメントマークが入るように光学的顕微鏡の位置を調整した状態を示す図である。 図９は、上側ステージをひっくり返して元に戻した状態を示す図である。 図１０は、下側ステージに台座ウエハを置いて真空チャックした状態を示す図である。 図１１は、下側ステージに置かれた台座ウエハの側断面図である。 図１２は、台座ウエハの上面に設けられているアライメントマークを示す図である。 図１３は、上側ステージを再度ひっくり返した状態を示す図である。 図１４は、下側ステージを上げてセンサウエハの下面に台座ウエハの上面を密着させる時の様子を示す図である。 図１５は、センサウエハの下面と台座ウエハの上面とを密着させた時の状態を示す側断面図である。 図１６は、上側ステージをひっくり返して元に戻した状態を示す図である。 図１７は、重ね合わされた台座ウエハとセンサウエハと電極ウエハとをクランプで固定した状態を示す図である。 図１８は、ガイドレール機構の仮想軸を固定軸とする例を示す図である。 図１９は、モータの駆動軸を固定軸とする例を示す図である。 図２０は、上側ステージをスライド移動させるようにした例を示す図である。 図２１は、半導体圧力センサを得る際の３層のウエハの接合体の要部を示す図である。 図２２は、従来のセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法の第１例（方法（１））を説明する図である。 図２３は、従来のセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法の第２例（方法（２））を説明する図である。 図２４は、従来のセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法の第３例（方法（３））を説明する図である。

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１は本発明の実施の形態に係るセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法を実施する際に用いられる位置合わせ治具１の要部を示す図である。

〔位置合わせ治具の構成〕
この位置合わせ治具１は、上側ステージ（第１のステージ）２と、下側ステージ（第２のステージ）３と、Ｚテーブル４と、Ｚテーブル４に取り付けられた光学的顕微鏡（ＣＣＤカメラ）５−１，５−２とを備えている。

この位置合わせ治具１において、上側ステージ２には、ウエハ載置部２１とバキューム配管２２が設けられている。ウエハ載置部２１は、上側ステージ２の上面２ａに設けられており、大径の貫通孔２１ａと、この貫通孔２１ａの周囲に設けられた段差面２１ｂとから構成されている。

また、上側ステージ２には、軸６が貫通して設けられている。軸６は、上側ステージ２を回転させるヒンジ機構３００の支軸として、定位置に設けられている。以下、軸６を支軸と呼ぶ。この支軸６が本発明でいう固定軸に相当する。図２に、支軸６を中心として回転することにより、上側ステージ２の上下面を反転させ、上側ステージ２の上面２ａを下側、下面２ｂを上側とした状態を示す。

この例において、上側ステージ２は、図１に示した状態から支軸６を中心として時計方向へ回転させると、図２に示した状態まで回転してその位置が規制され、図２に示した状態から支軸６を中心として反時計方向へ回転させると、図１に示した状態まで回転してその位置が規制されるものとされている。

下側ステージ３には、ウエハ載置部３１とバキューム配管３２が設けられている。ウエハ載置部３１は、下側ステージ３の上面３ａに段差面として設けられている。すなわち、ウエハ載置部３１は、その全体が段差面とされている。また、下側ステージ３は、前後左右方向（Ｘ，Ｙ方向）の位置および回転角度位置（θ方向の位置）を調整することが可能とされている。また、下側ステージ３は、昇降させることができるようになっている。

Ｚテーブル４は、光学的顕微鏡５−１，５−２を取り付けた状態で高さ方向（Ｚ方向）の位置を調整することが可能とされており、光学的顕微鏡５−１，５−２はＺテーブル４に取り付けられた状態でＸ，Ｙ方向の位置を調整することが可能とされている。

〔位置合わせ治具を使用してのセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ〕
次に、図３に示すフローチャートを参照しながら、図４〜図１７を用いて、この位置合わせ治具１を使用してのセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせについて説明する。なお、図４〜図１７では、説明に必要な各部の概略的な構成のみを示している。

先ず、図４に示すように、上側ステージ２のウエハ載置部２１にセンサウエハ１０１を置いて、真空チャックする（ステップＳ１０１）。図５に、上側ステージ２のウエハ載置部２１に置かれたセンサウエハ１０１の側断面図を示す。

この場合、センサウエハ１０１の上面１０１ａを下にして（センサウエハ１０１の下面１０１ｂを上にして）、ウエハ載置部２１にセンサウエハ１０１を置く。センサウエハ１０１の上面１０１ａには、図６に示すように、２つのアライメントマークＭ１₁，Ｍ１₂（第１のアライメントマーク）が設けられている。この例において、アライメントマークＭ１₁，Ｍ１₂は、センサウエハ１０１の上面１０１ａに配線パターンを作る際に、この配線パターンと一緒に作られている。

次に、図７に示すように、上側ステージ２を支軸６を中心として時計方向へ回転し、上側ステージ２の上下面を反転させる（ステップＳ１０２）。すなわち、図４に示した状態から上側ステージ２をひっくり返し、上側ステージ２の上面２ａを下側とし、上側ステージ２の下面２ｂを上側とする。この状態が、本発明でいうセンサウエハを所定の位置に位置させた状態に相当する。また、この状態において、センサウエハ１０１の上面１０１ａが光学的顕微鏡５−１，５−２に向けられるものとなる。

次に、図８に示すように、光学的顕微鏡５−１，５−２のモニタ画面Ｇ１，Ｇ２内に定められた所定のモニタ枠（この例では、中央のモニタ枠）Ｗ１，Ｗ２内にセンサウエハ１０１の上面１０１ａのアライメントマークＭ１₁，Ｍ１₂が入るように、光学的顕微鏡５−１，５−２の位置を調整する（ステップＳ１０３）。なお、この場合、光学的顕微鏡５−１，５−２のＸ，Ｙ方向の位置を調整するが、ピントが合わない場合にはＺ方向の位置も調整する。

次に、図９に示すように、上側ステージ２を支軸６を中心として反時計方向へ回転し、上側ステージ２の上下面を反転させて元の状態に戻す（ステップＳ１０４）。すなわち、図８に示した状態から上側ステージ２をひっくり返し、上側ステージ２の上面２ａを上側に戻し、上側ステージ２の下面２ｂを下側に戻す。この状態が、本発明でいうセンサウエハを光学的顕微鏡の視野範囲から外した状態に相当する。

次に、図１０に示すように、下側ステージ３のウエハ載置部３１に台座ウエハ１０４を置いて、真空チャックする（ステップＳ１０５）。図１１に、下側ステージ３のウエハ載置部３１に置かれた台座ウエハ１０４の側断面図を示す。

この場合、台座ウエハ１０４の上面１０４ａを上にして（台座ウエハ１０４の下面１０４ｂを下にして）、ウエハ載置部３１に台座ウエハ１０４を置く。台座ウエハ１０４の上面１０４ａには、図１２に示すように、２つのアライメントマークＭ２₁，Ｍ２₂（第２のアライメントマーク）が設けられている。このアライメントマークＭ２₁，Ｍ２₂は、センサウエハ１０１のアライメントマークＭ１₁，Ｍ１₂（図６）に対応する位置に、サンドブラストなどで作られている。

次に、光学的顕微鏡５−１，５−２のモニタ画面Ｇ１，Ｇ２内に定められたモニタ枠Ｗ１，Ｗ２内にアライメントマークＭ２₁，Ｍ２₂が入るように、下側ステージ３の位置を調整する（ステップＳ１０６）。すなわち、センサウエハ１０１のアライメントマークＭ１₁，Ｍ１₂を位置させたモニタ枠Ｗ１，Ｗ２内に、台座ウエハ１０４のアライメントマークＭ２₁，Ｍ２₂を位置させる。なお、この場合、下側ステージ３のＸ，Ｙの位置やθ方向の位置を調整することによって、モニタ枠Ｗ１，Ｗ２内に台座ウエハ１０４のアライメントマークＭ２₁，Ｍ２₂を位置させる。

次に、図１３に示すように、上側ステージ２（センサウエハ１０１が真空チャックされている上側ステージ２）を再度ひっくり返し（ステップＳ１０７）、上側ステージ２の上面２ａを下側とし、上側ステージ２の下面２ｂを上側とする。この状態が、本発明でいうセンサウエハを所定の位置に再度位置させた状態に相当する。この状態において、センサウエハ１０１のアライメントマークＭ１₁，Ｍ１₂の位置と台座ウエハ１０４のアライメントマークＭ２₁，Ｍ２₂の位置とが一致する。

次に、図１４に示すように、下側ステージ３を上げて、センサウエハ１０１の下面１０１ｂに台座ウエハ１０４の上面１０４ａを密着させる（ステップＳ１０８）。図１５に、センサウエハ１０１の下面１０１ｂと台座ウエハ１０４の上面１０４ａとを密着させた時の状態を示す。

なお、この実施の形態では、下側ステージ３を上げるようにしているが、上側ステージ２を下げて、センサウエハ１０１の下面１０１ｂを台座ウエハ１０４の上面１０４ａに密着させるようにしてもよい。また、上側ステージ２と下側ステージ３の両方を上げ下げして、センサウエハ１０１の下面１０１ｂと台座ウエハ１０４の上面１０４ａとを密着させるようにしてもよい。

この状態で、下側ステージ３の真空チャックを全開（吸着力を最大）とすると同時に、上側ステージ２の真空チャックをＯＦＦ（吸着力を零）とする（ステップＳ１０９）。これにより、台座ウエハ１０４の圧力導入孔１０４ｃを通して、センサウエハ１０１が台座ウエハ１０４側に吸着されるものとなる。

次に、図１６に示すように、上側ステージ２をひっくり返し、元の状態に戻す（ステップＳ１１０）。この場合、センサウエハ１０１は台座ウエハ１０４側に吸着されているので、上側ステージ２から離れ、台座ウエハ１０４とともに下側ステージ３に残される。

このようにして、本実施の形態では、光学的顕微鏡５−１，５−２を使用するのみで、すなわち高価な赤外線顕微鏡を使用することなく、センサウエハ１０１と台座ウエハ１０４との位置合わせを高精度（例えば、±１０μｍ）で行うことができるようになる。

このセンサウエハ１０１と台座ウエハ１０４との位置合わせを後、図１７に示すように、センサウエハ１０１の上面に電極ウエハ１０５を載せ（ステップＳ１１１）、センサウエハ１０１と台座ウエハ１０４と電極ウエハ１０５とをクランプ８で固定する（ステップＳ１１２）。そして、このクランプ８で固定したセンサウエハ１０１と台座ウエハ１０４と電極ウエハ１０５とを陽極接合装置（図示せず）へ持って行き、センサウエハ１０１と台座ウエハ１０４とを陽極接合する（ステップＳ１１３）。

なお、上述した実施の形態では、上側ステージ２の上下面を反転させる機構として、上側ステージ２を支軸６を中心として回転させるヒンジ機構３００を用いたが、図１８に示すように、ガイドレール９に沿って上側ステージ２を案内させることによって、上側ステージ２の上下面を反転させるガイドレール機構４００を用いるようにしてもよい。すなわち、上側ステージ２の上下面を反転させる機構として、上側ステージ２を仮想軸４０１を中心として回転させるガイドレール機構４００を用いるようにしてもよい。この場合、ガイドレール機構４００の仮想軸４０１が本発明でいう固定軸に相当する。また、上側ステージ２の上下面を反転させる装置としてモータ５００（図１９）を設け、このモータ５００の駆動軸５０１を固定軸として、上側ステージ２の上下面を反転させるようにしてもよい。

また、上側ステージ２の上下面を反転させる機構は必ずしも設けなくてもよく、例えば図２０に示すように、上側ステージ２を上面２ａを下側としてセットし、アライメントマークＭ１₁，Ｍ１₂を上側としてセンサウエハ１０１を下側から上側ステージ２’に真空チャックさせ、このセンサウエハ１０１を真空チャックさせた上側ステージ２’をスライド移動させて、光学的顕微鏡５−１，５−２の視野範囲に位置させるようにしてもよい。

〔実施の形態の拡張〕
以上、実施の形態を参照して本発明を説明したが、本発明は上記の実施の形態に限定されるものではない。本発明の構成や詳細には、本発明の技術思想の範囲で当業者が理解し得る様々な変更をすることができる。

１…位置合わせ治具、２…上側ステージ、２ａ…上面、２ｂ…下面、３…下側ステージ、５−１，５−２…光学的顕微鏡、６…支軸、１０１…センサウエハ、１０１ａ…上面、１０１ｂ…下面、１０２…ガラス台座ウエハ、１０３…シリコンチューブウエハ、１０４…台座ウエハ、１０４ａ…上面、１０４ｂ…下面、３００…ヒンジ機構、４００…ガイドレール機構、４０１…仮想軸、５００…モータ、５０１…駆動軸、Ｇ１，Ｇ２…モニタ画面、Ｗ１，Ｗ２…モニタ枠、Ｍ１₁，Ｍ１₂…アライメントマーク（第１のアライメントマーク）、Ｍ２₁，Ｍ２₂…アライメントマーク（第２のアライメントマーク）。

Claims (6)

1. センサウエハと台座ウエハとを重ね合わせて接合する際の位置合わせを光学的顕微鏡を用いて行うセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法であって、
   前記センサウエハを所定の位置に位置させる第１工程と、
   前記第１工程によって前記センサウエハを前記所定の位置に位置させた後、前記光学的顕微鏡の位置を調整して、前記センサウエハの上面に設けられている第１のアライメントマークを前記光学的顕微鏡のモニタ画面内に定められた所定のモニタ枠内に位置させる第２工程と、
   前記第２工程によって前記光学的顕微鏡の位置を調整した後、前記センサウエハを前記光学的顕微鏡の視野範囲から外す第３工程と、
   前記第３工程によって前記センサウエハを前記光学的顕微鏡の視野範囲から外した後、前記台座ウエハを前記光学的顕微鏡の視野範囲に位置させ、前記台座ウエハの位置を調整することによって、前記台座ウエハの上面に設けられている第２のアライメントマークを前記光学的顕微鏡の画面内に定められた前記所定のモニタ枠内に位置させる第４工程と、
   前記第４工程によって前記台座ウエハの位置を調整した後、前記センサウエハを前記所定の位置に再度位置させる第５工程と、
   前記第５工程によって前記所定の位置に位置させた前記センサウエハと前記第４工程によって位置が調整された前記台座ウエハとを重ね合わせる第６工程と
   を備えることを特徴とするセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法。
2. 請求項１に記載されたセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法において、
   前記センサウエハを第１のステージに真空チャックする工程と、
   前記台座ウエハを第２のステージに真空チャックする工程とを備え、
   前記第１工程は、
   前記センサウエハが真空チャックされている前記第１のステージを固定軸を中心として一方側へ回転し、前記第１のステージの上下面を反転させることによって、前記センサウエハを前記所定の位置に位置させ、
   前記第３工程は、
   前記センサウエハが真空チャックされている前記第１のステージを前記固定軸を中心として他方側へ回転し、前記第１のステージの上下面を反転させて元の状態に戻すことによって、前記センサウエハを前記光学的顕微鏡の視野範囲から外し、
   前記第５工程は、
   前記センサウエハが真空チャックされている前記第１のステージを前記固定軸を中心として一方側へ回転し、前記第１のステージの上下面を反転させることによって、前記センサウエハを前記所定の位置に再度位置させ、
   前記第６工程は、
   前記第１のステージおよび前記第２のステージの少なくとも一方を昇降させることによって、前記センサウエハと前記台座ウエハとを密着させる
   ことを特徴とするセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法。
3. 請求項２に記載されたセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法において、
   前記第６工程によって前記センサウエハと前記台座ウエハとを密着させた後、前記第２のステージの真空チャックの吸引力を最大とすると同時に前記第１のステージの真空チャックの吸引力を零とする第７工程
   を備えることを特徴とするセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法。
4. 請求項２又は３に記載されたセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法において、
   前記第１のステージの上下面を反転させる機構として前記第１のステージを支軸を中心として回転させるヒンジ機構を備え、
   前記固定軸は、
   前記ヒンジ機構の支軸である
   ことを特徴とするセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法。
5. 請求項２又は３に記載されたセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法において、
   前記第１のステージの上下面を反転させる機構として前記第１のステージを仮想軸を中心として回転させるガイドレール機構を備え、
   前記固定軸は、
   前記ガイドレール機構の仮想軸である
   ことを特徴とするセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法。
6. 請求項２又は３に記載されたセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法において、
   前記第１のステージの上下面を反転する装置としてモータを備え、
   前記固定軸は、
   前記モータの駆動軸である
   ことを特徴とするセンサウエハと台座ウエハとの位置合わせ方法。