JP2019125084A - Touch sensor - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、タッチセンサ、詳しくは、タッチされた位置の座標およびタッチの圧力の両方を検出するタッチセンサに関する。 The present invention relates to a touch sensor, and more particularly to a touch sensor that detects both coordinates of a touched position and pressure of a touch.
従来、タッチの位置と押圧とを検出する押圧検出機能付きタッチパネルが知られている（例えば、特許文献１参照。）。 Conventionally, a touch panel with a pressure detection function for detecting the position and pressure of a touch is known (see, for example, Patent Document 1).
特許文献１に記載の押圧検出機能付きタッチパネルでは、電荷測定用電極および基準電位電極の間に圧電体が配置されており、圧電体に押圧が加わったときに圧電体で発生する電荷を電荷測定用電極で検出している。さらに、基準電位電極が、タッチパネルの周囲にあるノイズから圧電体を遮蔽して、上記した電荷を正確に検出している。 In the touch panel with pressure detection function described in Patent Document 1, the piezoelectric body is disposed between the charge measurement electrode and the reference potential electrode, and the charge generated in the piezoelectric body is measured when the pressure is applied to the piezoelectric body It detects with the electrode. Furthermore, the reference potential electrode shields the piezoelectric body from noise around the touch panel to accurately detect the charge described above.
しかるに、押圧検出機能付きタッチパネルでは、上記したノイズからの遮蔽に加えて、薄型化も要求されている。さらに、優れた透明性も求められる。 However, in addition to the shielding from the above-mentioned noise, in the touch panel with a pressure detection function, thinning is also required. Furthermore, excellent transparency is also required.
本発明は、ノイズから圧電体層を遮蔽できながら、透明性を損なうことなく薄型化が図られたタッチセンサを提供する。 The present invention provides a touch sensor whose thickness can be reduced without impairing transparency while shielding the piezoelectric layer from noise.
本発明（１）は、ディスプレイの前側に配置されるタッチセンサであって、タッチされた位置の座標を検出する静電容量センサと、前記静電容量センサの後側に配置され、前記タッチの圧力を検出する圧電センサとを備え、前記圧電センサは、基材フィルムと、前記基材フィルムに支持され、厚みが０．０５μｍを超え２０μｍ未満である圧電体層と、前記基材フィルムおよび前記圧電体層の前側に配置される第１透明電極と、前記基材フィルムおよび前記圧電体層の後側に配置される第２透明電極とを備え、前記第１透明電極および前記第２透明電極のいずれか一方は、基準電位電極である、タッチセンサを含む。 The present invention (1) is a touch sensor disposed on the front side of a display, the capacitance sensor detecting coordinates of a touched position, and a touch sensor disposed on the back side of the capacitance sensor, the touch sensor A piezoelectric sensor for detecting pressure, wherein the piezoelectric sensor is supported by a base film, the base film, and a piezoelectric layer having a thickness of more than 0.05 μm and less than 20 μm, the base film, and A first transparent electrode disposed on the front side of the piezoelectric layer, and a second transparent electrode disposed on the rear side of the base film and the piezoelectric layer, the first transparent electrode and the second transparent electrode One of them includes a touch sensor which is a reference potential electrode.
このタッチセンサでは、第１透明電極および第２透明電極のいずれか一方が基準電位電極であるので、圧電センサの周囲からのノイズから圧電体層を遮蔽することができる。併せて、圧電体層の厚みが０．０５μｍを超え２０μｍ未満と薄いので、透明性を損なうことなく圧電センサの薄型化を図り、ひいては、タッチセンサの薄型化を図ることができる。 In this touch sensor, since any one of the first transparent electrode and the second transparent electrode is the reference potential electrode, the piezoelectric layer can be shielded from noise from the periphery of the piezoelectric sensor. In addition, since the thickness of the piezoelectric layer is as thin as more than 0.05 μm and less than 20 μm, thinning of the piezoelectric sensor can be achieved without impairing the transparency, and consequently, thinning of the touch sensor can be achieved.
その結果、このタッチセンサは、ノイズから圧電体層を遮蔽できながら、薄型化が図られる。 As a result, the touch sensor can be thinned while shielding the piezoelectric layer from noise.
本発明（２）は、前記圧電体層が、塗布層またはスパッタリング層である、（１）に記載のタッチセンサを含む。 The present invention (2) includes the touch sensor according to (1), wherein the piezoelectric layer is a coated layer or a sputtering layer.
このタッチセンサでは、圧電体層が、塗布層またはスパッタリング層であるので、圧電体層の厚みが上記した薄い厚みに確実に設定される。 In this touch sensor, since the piezoelectric layer is a coating layer or a sputtering layer, the thickness of the piezoelectric layer is reliably set to the above-described thin thickness.
本発明（３）は、前記塗布層が、フッ素樹脂を塗布した塗布層であり、前記スパッタリング層が、ウルツ鉱構造を有する無機化合物をスパッタリングしたスパッタリング層である、（２）に記載のタッチセンサを含む。 The present invention (3) is the touch sensor according to (2), wherein the coating layer is a coating layer coated with a fluorine resin, and the sputtering layer is a sputtering layer sputtering an inorganic compound having a wurtzite structure. including.
このタッチセンサでは、塗布層が、フッ素樹脂を塗布した塗布層であり、スパッタリング層が、ウルツ鉱構造を有する無機化合物をスパッタリングしたスパッタリング層であれば、圧電体層の圧電特性が優れる。 In this touch sensor, when the coating layer is a coating layer coated with a fluorine resin and the sputtering layer is a sputtering layer obtained by sputtering an inorganic compound having a wurtzite structure, the piezoelectric characteristics of the piezoelectric layer are excellent.
本発明（４）は、前記圧電体層は、厚みが０．５μｍを超え２０μｍ未満である塗布層であり、フッ素樹脂が、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレンおよびクロロトリフルオロエチレンからなる群から選択される少なくとも１つのモノマーが重合してなる重合体である、（１）〜（３）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。 In the invention (4), the piezoelectric layer is a coating layer having a thickness of more than 0.5 μm and less than 20 μm, and the fluorine resin is selected from the group consisting of vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene and chlorotrifluoroethylene. The touch sensor according to any one of (1) to (3), which is a polymer formed by polymerization of at least one monomer to be contained.
このタッチセンサでは、特定の厚みを有し、特定の重合体である塗布層である圧電体層は、圧電特性に優れる。
本発明（５）は、前記圧電体層が、厚みが０．０５μｍを超え０．５μｍ以下であるスパッタリング層であり、無機化合物が、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＡｌＮ、ＧａＮ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、および、ＳｉＣからなる群から選択される少なくとも１つを含む、（１）〜（３）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。
In this touch sensor, the piezoelectric layer, which is a coating layer having a specific thickness and a specific polymer, is excellent in piezoelectric characteristics.
The invention (5) is a sputtering layer in which the piezoelectric layer has a thickness of more than 0.05 μm and 0.5 μm or less, and the inorganic compound is ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, AlN, GaN, CdSe, CdTe. And the touch sensor according to any one of (1) to (3), including at least one selected from the group consisting of SiC.
このタッチセンサでは、特定の厚みを有し、特定の無機化合物であるスパッタリング層である圧電体層は、圧電特性に優れる。 In this touch sensor, a piezoelectric layer having a specific thickness and a sputtering layer which is a specific inorganic compound has excellent piezoelectric characteristics.
本発明（６）は、前記第１透明電極が、前記基準電位電極である、（１）〜（５）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。 The present invention (6) includes the touch sensor according to any one of (1) to (5), wherein the first transparent electrode is the reference potential electrode.
このタッチセンサでは、第１透明電極が、基準電位電極であるので、静電容量センサに起因するノイズから圧電体層を遮蔽することができる。 In this touch sensor, since the first transparent electrode is the reference potential electrode, the piezoelectric layer can be shielded from the noise caused by the capacitance sensor.
本発明（７）は、静電容量センサは、第２基材フィルムと、前記第２基材フィルムの前側に配置される第３透明電極と、前記第２基材フィルムの後側に配置される第４透明電極とを備える、（１）〜（６）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。 In the invention (7), the capacitance sensor is disposed on the second substrate film, the third transparent electrode disposed on the front side of the second substrate film, and the back side of the second substrate film. And the touch sensor according to any one of (1) to (6).
このタッチセンサでは、静電容量センサは、第３透明電極と第４透明電極とによって、タッチされた位置の座標を精度よく検出することができる。 In this touch sensor, the capacitance sensor can accurately detect the coordinates of the touched position by the third transparent electrode and the fourth transparent electrode.
本発明（８）は、静電容量センサは、第２基材フィルムと、前記第２基材フィルムの前側に配置される第３透明電極と、前記第２基材フィルムの後側に配置され、前記第１透明電極によって兼ねられる第４透明電極とを備える、（１）〜（６）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。 In the invention (8), the capacitance sensor is disposed on the second substrate film, a third transparent electrode disposed on the front side of the second substrate film, and on the rear side of the second substrate film. The touch sensor according to any one of (1) to (6), including: a fourth transparent electrode which is also used by the first transparent electrode.
このタッチセンサでは、静電容量センサは、静電容量センサにおける第１透明電極によって兼ねられる第４透明電極を有するので、第１透明電極とは別途設けられる第４透明電極を備える構成に比べて、構成を簡単にすることができるとともに、薄型化を図ることができる。 In this touch sensor, since the capacitance sensor includes the fourth transparent electrode which is shared by the first transparent electrode in the capacitance sensor, compared to the configuration including the fourth transparent electrode provided separately from the first transparent electrode. The configuration can be simplified and the thickness can be reduced.
本発明（９）は、前記基材フィルムの材料が、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン、ポリシクロオレフィン、ポリカーボネート、ポリエーテスルフォン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレンおよびポリノルボネンからなる群から選択される少なくとも１つのポリマーである、（１）〜（８）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。 In the invention (9), the material of the substrate film is selected from the group consisting of polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyolefin, polycycloolefin, polycarbonate, polyethersulfone, polyarylate, polyimide, polyamide, polystyrene and polynorbonene. The touch sensor according to any one of (1) to (8), which is at least one polymer.
このタッチセンサでは、基材フィルムの材料が上記した少なくとも１つのポリマーであるので、基材フィルムは靱性に優れ、そのため、圧電センサの薄型化を図りながら、基材フィルムは、圧電体層を確実に支持することができる。 In this touch sensor, since the material of the substrate film is at least one of the polymers described above, the substrate film is excellent in toughness, and therefore the substrate film ensures the piezoelectric layer while achieving thinning of the piezoelectric sensor. Support.
本発明（１０）は、前記第１透明電極および前記第２透明電極の材料が、インジウム含有酸化物である、（１）〜（９）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。 The present invention (10) includes the touch sensor according to any one of (1) to (9), wherein the material of the first transparent electrode and the second transparent electrode is an indium-containing oxide.
このタッチセンサでは、第１透明電極および第２透明電極の材料が、インジウム含有酸化物であるので、第１透明電極および第２透明電極の表面抵抗を低減することができる。 In this touch sensor, since the material of the first transparent electrode and the second transparent electrode is an indium-containing oxide, the surface resistance of the first transparent electrode and the second transparent electrode can be reduced.
本発明（１１）は、前記圧電体層に接触する接着剤層をさらに備える、（１）〜（１０）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。 The present invention (11) includes the touch sensor according to any one of (1) to (10), further including an adhesive layer in contact with the piezoelectric layer.
このタッチセンサでは、圧電体層に接触する接着剤層によって、圧電体層を、第１透明電極および第２透明電極のいずれかと接着することができる。 In this touch sensor, the piezoelectric layer can be bonded to either the first transparent electrode or the second transparent electrode by the adhesive layer in contact with the piezoelectric layer.
本発明（１２）は、前記接着剤層の厚みは、１μｍを超え、２００μｍ未満である、（１１）に記載のタッチセンサを含む。 The present invention (12) includes the touch sensor according to (11), wherein the thickness of the adhesive layer is more than 1 μm and less than 200 μm.
このタッチセンサでは、接着剤層の厚みは、薄いので、圧電センサのより一層の薄型化を図り、ひいては、タッチセンサのより一層の薄型化を図ることができる。 In this touch sensor, since the thickness of the adhesive layer is thin, the thickness of the piezoelectric sensor can be further reduced, and thus, the thickness of the touch sensor can be further reduced.
本発明（１３）は、前記基準電位電極は、前記基材フィルムの一面全面に配置されている、（１）〜（１２）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。 The present invention (13) includes the touch sensor according to any one of (1) to (12), wherein the reference potential electrode is disposed on the entire surface of the base film.
このタッチセンサでは、基準電位電極は、基材フィルムの一面全面に配置されているので、ノイズからの圧電体層の遮蔽効果を向上させることができる。 In this touch sensor, since the reference potential electrode is disposed on the entire surface of the base film, the shielding effect of the piezoelectric layer from noise can be improved.
本発明（１４）は、前記圧電センサは、前記基材フィルムの前面または後面に直接形成され、アンダーコート層、屈折率調整層およびアンチブロッキング層からなる群から選択される少なくとも１つの機能層をさらに備える、（１）〜（１３）のいずれか一項に記載のタッチセンサを含む。 In the invention (14), the piezoelectric sensor is formed directly on the front surface or the rear surface of the base film, and at least one functional layer selected from the group consisting of an undercoat layer, a refractive index adjustment layer and an antiblocking layer. The touch sensor according to any one of (1) to (13) is further included.
このタッチセンサでは、機能層によって、その機能を作用させることができる。 In this touch sensor, the function can be exerted by the functional layer.
本発明（１５）は、前記基準電位電極は、前記機能層の一面全面に配置されている、（１４）に記載のタッチセンサを含む。 The present invention (15) includes the touch sensor according to (14), wherein the reference potential electrode is disposed on the entire surface of the functional layer.
このタッチセンサでは、基準電位電極は、機能層の一面全面に配置されているので、ノイズからの圧電体層の遮蔽効果を向上させることができる。 In this touch sensor, since the reference potential electrode is disposed on the entire surface of the functional layer, the shielding effect of the piezoelectric layer from noise can be improved.
本発明のタッチセンサによれば、ノイズから圧電体層を遮蔽できながら、薄型化が図られる。 According to the touch sensor of the present invention, thinning can be achieved while shielding the piezoelectric layer from noise.
＜第１実施形態＞
本発明のタッチセンサの第１実施形態を、図１を参照して説明する。
First Embodiment
A first embodiment of the touch sensor of the present invention will be described with reference to FIG.
タッチセンサ１は、ディスプレイ２（仮想線）の前側に、例えば、第５感圧接着剤層３（後述）を介して配置される。具体的には、ディスプレイ２、第５感圧接着剤層３、および、タッチセンサ１が、前側に向かって順に配置されている。 The touch sensor 1 is disposed on the front side of the display 2 (virtual line) via, for example, a fifth pressure-sensitive adhesive layer 3 (described later). Specifically, the display 2, the fifth pressure-sensitive adhesive layer 3, and the touch sensor 1 are arranged in order toward the front side.
また、タッチセンサ１の前側には、カバーガラス４（仮想線）が第６感圧接着層５（後述）を介して配置される。具体的には、タッチセンサ１、第６感圧接着層５およびカバーガラス４が、前側に向かって順に配置されている。従って、ディスプレイ２、第５感圧接着剤層３、タッチセンサ１、第６感圧接着層５およびカバーガラス４は、前側に向かって順に配置されている。 In addition, on the front side of the touch sensor 1, a cover glass 4 (virtual line) is disposed via a sixth pressure-sensitive adhesive layer 5 (described later). Specifically, the touch sensor 1, the sixth pressure-sensitive adhesive layer 5 and the cover glass 4 are arranged in order toward the front side. Therefore, the display 2, the fifth pressure-sensitive adhesive layer 3, the touch sensor 1, the sixth pressure-sensitive adhesive layer 5 and the cover glass 4 are arranged in order toward the front side.
タッチセンサ１は、所定の厚みを有するフィルム形状（シート形状を含む）をなし、面方向（前後方向に直交する方向）に延び、平坦な前面および平坦な後面（２つの主面）を有する。タッチセンサ１の前面は、ユーザがタッチセンサ１を操作するための操作面を供する。タッチセンサ１の後面は、ディスプレイ２に対向する対向面である。 The touch sensor 1 has a film shape (including a sheet shape) having a predetermined thickness, extends in a surface direction (direction orthogonal to the front-rear direction), and has a flat front surface and a flat rear surface (two main surfaces). The front surface of the touch sensor 1 provides an operation surface for the user to operate the touch sensor 1. The rear surface of the touch sensor 1 is an opposing surface facing the display 2.
タッチセンサ１は、ユーザの指やペンなどのタッチに基づく前後方向における圧力と、タッチされた位置の座標（具体的には、ＸＹ座標）との両方を検出するセンサである。 The touch sensor 1 is a sensor that detects both a pressure in the front-rear direction based on a touch of a user's finger or a pen and coordinates of the touched position (specifically, XY coordinates).
タッチセンサ１は、圧電センサ７と、第１感圧接着層６と、静電容量センサ８とを前側に向かって順に備える。具体的には、タッチセンサ１は、圧電センサ７と、圧電センサ７の前面に配置される第１感圧接着層６と、第１感圧接着層６の前面に配置される静電容量センサ８とを備える。好ましくは、タッチセンサ１は、圧電センサ７と、第１感圧接着層６と、静電容量センサ８とのみからなる。 The touch sensor 1 includes a piezoelectric sensor 7, a first pressure-sensitive adhesive layer 6, and a capacitance sensor 8 in order from the front side. Specifically, the touch sensor 1 includes a piezoelectric sensor 7, a first pressure-sensitive adhesive layer 6 disposed on the front surface of the piezoelectric sensor 7, and a capacitance sensor disposed on the front surface of the first pressure-sensitive adhesive layer 6. And 8. Preferably, the touch sensor 1 includes only the piezoelectric sensor 7, the first pressure-sensitive adhesive layer 6, and the capacitance sensor 8.
圧電センサ７は、ユーザの指やペンなどのタッチに基づく厚み方向における圧力（荷重）を検出するセンサ（フォースセンサ、あるいは、荷重センサ）である。また、圧電センサ７は、タッチによるＺ方向（前後方向）（奥行き方向）の圧力を検出するＺ方向センサでもある。圧電センサ７は、面方向に延び、平坦な前面および平坦な後面（２つの主面）を有する。圧電センサ７は、タッチセンサ１における後面を形成する。つまり、圧電センサ７は、タッチセンサ１における最後層である。 The piezoelectric sensor 7 is a sensor (force sensor or load sensor) that detects the pressure (load) in the thickness direction based on the touch of the user's finger or pen. The piezoelectric sensor 7 is also a Z-direction sensor that detects pressure in the Z direction (front-rear direction) (depth direction) due to touch. The piezoelectric sensor 7 extends in the surface direction and has a flat front surface and a flat rear surface (two main surfaces). The piezoelectric sensor 7 forms a rear surface of the touch sensor 1. That is, the piezoelectric sensor 7 is the last layer in the touch sensor 1.
圧電センサ７は、第１透明電極１１と、基材フィルムの一例としての第１基材フィルム１２と、圧電体層１３と、第２感圧接着層１４と、第２透明電極１５と、第４基材フィルム１６とを後側に向かって順に備える。具体的には、圧電センサ７は、第１透明電極１１と、第１透明電極１１の後面に配置される第１基材フィルム１２と、第１基材フィルム１２の後面に配置される圧電体層１３と、圧電体層１３の後面に配置される第２感圧接着層１４と、第２感圧接着層１４の後面に埋設される第２透明電極１５と、第２透明電極１５の後面に配置される第４基材フィルム１６とを備える。好ましくは、圧電センサ７は、第１透明電極１１と、第１基材フィルム１２と、圧電体層１３と、第２感圧接着層１４と、第２透明電極１５と、第４基材フィルム１６とのみからなる。 The piezoelectric sensor 7 includes a first transparent electrode 11, a first base film 12 as an example of a base film, a piezoelectric layer 13, a second pressure-sensitive adhesive layer 14, a second transparent electrode 15, and a second transparent electrode 15. The four base films 16 are provided in order toward the rear side. Specifically, the piezoelectric sensor 7 includes a first transparent electrode 11, a first base film 12 disposed on the rear surface of the first transparent electrode 11, and a piezoelectric body disposed on the rear surface of the first base film 12. Layer 13, a second pressure-sensitive adhesive layer 14 disposed on the rear surface of the piezoelectric layer 13, a second transparent electrode 15 embedded on the rear surface of the second pressure-sensitive adhesive layer 14, and a rear surface of the second transparent electrode 15 And a fourth base film 16 disposed on the Preferably, the piezoelectric sensor 7 includes the first transparent electrode 11, the first base film 12, the piezoelectric layer 13, the second pressure-sensitive adhesive layer 14, the second transparent electrode 15, and the fourth base film. It consists only of 16.
第１透明電極１１は、面方向に延び、平坦な前面および平坦な後面（２つの主面）を有する。第１透明電極１１は、圧電センサ７における前面を形成する。つまり、第１透明電極１１は、圧電センサ７における最前層である。 The first transparent electrode 11 extends in the surface direction and has a flat front surface and a flat rear surface (two main surfaces). The first transparent electrode 11 forms the front surface of the piezoelectric sensor 7. That is, the first transparent electrode 11 is the frontmost layer in the piezoelectric sensor 7.
第１透明電極１１は、基準電位電極（あるいはグランド電極）である。具体的には、第１透明電極１１は、配線９を介して接地されている。 The first transparent electrode 11 is a reference potential electrode (or a ground electrode). Specifically, the first transparent electrode 11 is grounded via the wiring 9.
第１透明電極１１は、好ましくは、次に説明する第１基材フィルム１２の前面全面に接触している。つまり、第１透明電極１１は、第１基材フィルム１２の面方向に沿うベタパターンを有する。また、第１透明電極１１は、第１基材フィルム１２の前面を露出しないように、第１基材フィルム１２の前面全面を被覆している。 Preferably, the first transparent electrode 11 is in contact with the entire front surface of the first base film 12 described below. That is, the first transparent electrode 11 has a solid pattern along the surface direction of the first base film 12. The first transparent electrode 11 covers the entire front surface of the first base film 12 so that the front surface of the first base film 12 is not exposed.
第１透明電極１１の材料としては、例えば、透明導電材料が挙げられる。透明導電材料としては、例えば、インジウムスズ複合酸化物（ＩＴＯ）などのインジウム含有酸化物、例えば、アンチモンスズ複合酸化物（ＡＴＯ）などのアンチモン含有酸化物などが挙げられ、好ましくは、インジウム含有酸化物、より好ましくは、ＩＴＯが挙げられる。 As a material of the 1st transparent electrode 11, a transparent conductive material is mentioned, for example. Examples of the transparent conductive material include indium-containing oxides such as indium tin complex oxide (ITO), antimony-containing oxides such as antimony tin complex oxide (ATO), and the like, and preferably indium-containing oxide And, more preferably, ITO.
第１透明電極１１の表面抵抗は、例えば、１０００Ω／□以下、好ましくは、３００Ω／□以下であり、また、例えば、１Ω／□以上、好ましくは、１０Ω／□以上である。 The surface resistance of the first transparent electrode 11 is, for example, 1000 Ω / sq or less, preferably 300 Ω / sq or less, and for example, 1 Ω / sq or more, preferably 10 Ω / sq or more.
第１透明電極１１の厚みは、例えば、３５ｎｍ以下、また、例えば、１ｎｍ以上である。 The thickness of the first transparent electrode 11 is, for example, 35 nm or less, and for example, 1 nm or more.
第１基材フィルム１２は、第１透明電極１１の後面全面に接触している。これにより、第１基材フィルム１２は、第１透明電極１１を後側から支持している。つまり、第１透明電極１１は、第１基材フィルム１２に対して前側に配置されている。第１基材フィルム１２は、面方向に延びるフィルム形状を有し、平坦な前面および平坦な後面（２つの主面）を有する。 The first base film 12 is in contact with the entire rear surface of the first transparent electrode 11. Thus, the first base film 12 supports the first transparent electrode 11 from the rear side. That is, the first transparent electrode 11 is disposed on the front side with respect to the first base film 12. The first substrate film 12 has a film shape extending in the plane direction, and has a flat front surface and a flat rear surface (two main surfaces).
第１基材フィルム１２の材料としては、例えば、透明材料が挙げられる。透明材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン−プロピレン共重合体など）、ポリシクロオレフィン（例えば、シクロオレフィンコポリマーなどを含む）、ポリカーボネート、ポリエーテスルフォン、ポリアリレート、ポリイミド、ポリアミド、ポリスチレン、ポリノルボネンなどの、強靱性を有するポリマーが挙げられる。これらは、単独使用または２種以上併用することができる。 Examples of the material of the first base film 12 include transparent materials. Transparent materials include, for example, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyolefins (eg, polyethylene, polypropylene, ethylene-propylene copolymer etc.), polycycloolefins (eg, including cycloolefin copolymers etc.), polycarbonate, polyethersulfone And polymers having toughness, such as polyarylates, polyimides, polyamides, polystyrenes and polynorbonenes. These can be used alone or in combination of two or more.
第１基材フィルム１２の材料は、好ましくは、絶縁性を有する。 The material of the first base film 12 preferably has an insulating property.
第１基材フィルム１２の厚みＴ２は、例えば、１μｍ以上、好ましくは、１０μｍ以上であり、また、例えば、１００μｍ以下、好ましくは、６０μｍ以下である。 The thickness T2 of the first base film 12 is, for example, 1 μm or more, preferably 10 μm or more, and for example, 100 μm or less, preferably 60 μm or less.
圧電体層１３は、第１基材フィルム１２の後面全面に接触している。これにより、圧電体層１３は、第１基材フィルム１２によって前側から支持されている。なお、圧電体層１３の前側には、第１透明電極１１が配置されている。圧電体層１３は、前後方向において、第１基材フィルム１２に対して第１透明電極１１の反対側に位置している。そのため、圧電体層１３は、タッチセンサ１においては、第１基材フィルム１２によって、第１透明電極１１から絶縁されている。 The piezoelectric layer 13 is in contact with the entire rear surface of the first base film 12. Thus, the piezoelectric layer 13 is supported by the first base film 12 from the front side. The first transparent electrode 11 is disposed on the front side of the piezoelectric layer 13. The piezoelectric layer 13 is located on the opposite side of the first transparent electrode 11 with respect to the first base film 12 in the front-rear direction. Therefore, in the touch sensor 1, the piezoelectric layer 13 is insulated from the first transparent electrode 11 by the first base film 12.
圧電体層１３は、例えば、塗布層、スパッタリング層などである。圧電体層１３は、単層であり、また、上記から選択した異なる種類の層を積層した複層であってもよい。好ましくは、単層である。 The piezoelectric layer 13 is, for example, a coating layer, a sputtering layer, or the like. The piezoelectric layer 13 may be a single layer, or may be a multilayer in which layers of different types selected from the above are stacked. Preferably, it is a single layer.
圧電体層１３の材料は、圧電特性を有する材料であれば特に限定されず、例えば、フッ素樹脂、ウルツ鉱構造を有する無機化合物などが挙げられる。具体的には、圧電体層１３の材料として、圧電体層１３が塗布層であれば、フッ素樹脂が挙げられ、圧電体層１３がスパッタリング層であれば、ウルツ鉱構造を有する無機化合物が挙げられる。 The material of the piezoelectric layer 13 is not particularly limited as long as it has a piezoelectric property, and examples thereof include a fluorine resin and an inorganic compound having a wurtzite structure. Specifically, as the material of the piezoelectric layer 13, if the piezoelectric layer 13 is an application layer, a fluorine resin is mentioned, and if the piezoelectric layer 13 is a sputtering layer, an inorganic compound having a wurtzite structure is mentioned. Be
フッ素樹脂としては、例えば、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレンおよびクロロトリフルオロエチレンからなる群から選択される少なくとも１つのモノマーが重合してなる重合体が挙げられる。具体的には、フッ素樹脂としては、例えば、ポリフッ化ビニリデン、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレンなどの単独重合体、例えば、フッ化ビニリデン−トリフルオロエチレン共重合体、フッ化ビニリデン−トリフルオロエチレン−クロロトリフルオロエチレン共重合体、ヘキサフルオロプロピレン−フッ化ビニリデン共重合体、パーフルオロビニルエーテル−フッ化ビニリデン共重合体、テトラフルオロエチレン−フッ化ビニリデン共重合体、ヘキサフルオロプロピレンオキシド−フッ化ビニリデン共重合体、ヘキサフルオロプロピレンオキシド−テトラフルオロエチレン−フッ化ビニリデン共重合体、ヘキサフルオロプロピレン−テトラフルオロエチレン−フッ化ビニリデン共重合体などが挙げられる。フッ素樹脂は、単独使用または併用することができる。 Examples of the fluorine resin include polymers formed by polymerization of at least one monomer selected from the group consisting of vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene and chlorotrifluoroethylene. Specifically, as the fluorine resin, for example, homopolymers such as polyvinylidene fluoride, polytetrafluoroethylene, polychlorotrifluoroethylene and the like, for example, vinylidene fluoride-trifluoroethylene copolymer, vinylidene fluoride-tri Fluoroethylene-chlorotrifluoroethylene copolymer, hexafluoropropylene-vinylidene fluoride copolymer, perfluorovinyl ether-vinylidene fluoride copolymer, tetrafluoroethylene-vinylidene fluoride copolymer, hexafluoropropylene oxide-fluorocarbon Examples include vinylidene fluoride copolymers, hexafluoropropylene oxide-tetrafluoroethylene-vinylidene fluoride copolymers, and hexafluoropropylene-tetrafluoroethylene-vinylidene fluoride copolymers. The fluorine resin can be used alone or in combination.
ウルツ鉱構造を有する無機化合物としては、例えば、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＡｌＮ、ＧａＮ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、ＳｉＣなどが挙げられる。ウルツ鉱構造を有する無機化合物は、単独使用または併用することができる。 As an inorganic compound which has a wurtzite structure, ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, AlN, GaN, CdSe, CdTe, SiC etc. are mentioned, for example. The inorganic compounds having a wurtzite structure can be used alone or in combination.
圧電体層１３は、例えば、透明性を有する。具体的には、圧電体層１３の全光線透過率は、例えば、９０％以上、好ましくは、９２％以上、より好ましくは、９５％以上であり、また、例えば、１００％以下である。 The piezoelectric layer 13 has, for example, transparency. Specifically, the total light transmittance of the piezoelectric layer 13 is, for example, 90% or more, preferably 92% or more, more preferably 95% or more, and for example, 100% or less.
圧電体層１３の厚みＴ１は、０．０５μｍを超え、好ましくは、０．１μｍ以上である。また、圧電体層１３の厚みＴ１は、２０μｍ未満、好ましくは、１５μｍ以下、より好ましくは、１０μｍ以下、さらに好ましくは、５μｍ以下、とりわけ好ましくは、１μｍ以下である。 The thickness T1 of the piezoelectric layer 13 is more than 0.05 μm, preferably 0.1 μm or more. The thickness T1 of the piezoelectric layer 13 is less than 20 μm, preferably 15 μm or less, more preferably 10 μm or less, still more preferably 5 μm or less, and particularly preferably 1 μm or less.
具体的には、圧電体層１３が塗布層であれば、厚みＴ１が、好ましくは、０．５μｍを超え２０μｍ未満である。また、圧電体層１３がスパッタリング層であれば、厚みＴ１が、好ましくは、厚みが０．０５μｍを超え０．５μｍ以下である。 Specifically, when the piezoelectric layer 13 is a coating layer, the thickness T1 is preferably more than 0.5 μm and less than 20 μm. When the piezoelectric layer 13 is a sputtering layer, the thickness T1 is preferably more than 0.05 μm and 0.5 μm or less.
圧電体層１３の厚みＴ１が上記した上限を上回ると、圧電センサ７の薄型化を図ることができず、また、タッチセンサ１の薄型化を図ることができない。 When the thickness T1 of the piezoelectric layer 13 exceeds the above-described upper limit, thinning of the piezoelectric sensor 7 can not be achieved, and thinning of the touch sensor 1 can not be achieved.
一方、圧電体層１３の厚みＴ１が上記した下限を下回ると、圧電特性が低下する。 On the other hand, when the thickness T1 of the piezoelectric layer 13 falls below the above-described lower limit, the piezoelectric characteristics are degraded.
圧電体層１３の厚みＴ１の、第１基材フィルム１２の厚みＴ２に対する比（Ｔ１／Ｔ２）は、例えば、０．０８６以下、また、例えば、０．０００５以上である。 The ratio (T1 / T2) of the thickness T1 of the piezoelectric layer 13 to the thickness T2 of the first base film 12 is, for example, 0.086 or less, and for example, 0.0005 or more.
とりわけ、圧電体層１３がスパッタリング層であれば、上記した比（Ｔ１／Ｔ２）は、例えば、０．０００５以上、好ましくは、０．０００８以上、より好ましくは、０．００１７以上であり、また、例えば、０．０５００以下、より好ましくは、０．０２５０以下、さらに好ましくは、０．０２００以下である。一方、圧電体層１３が塗布層であれば、上記した比（Ｔ１／Ｔ２）は、例えば、０．００５以上、好ましくは、０．００８以上、より好ましくは、０．０１７以上、さらに好ましくは、０．０５０以上であり、また、例えば、２．０００以下、好ましくは、１．０００以下、より好ましくは、０．７５０以下、より好ましくは、０．６００以下である。 In particular, when the piezoelectric layer 13 is a sputtering layer, the above-mentioned ratio (T1 / T2) is, for example, 0.0005 or more, preferably 0.0008 or more, more preferably 0.0017 or more, For example, it is 0.00500 or less, More preferably, it is 0.0250 or less, More preferably, it is 0.0200 or less. On the other hand, if the piezoelectric layer 13 is a coating layer, the above ratio (T1 / T2) is, for example, 0.005 or more, preferably 0.008 or more, more preferably 0.017 or more, more preferably , 0.050 or more, for example, 2.000 or less, preferably 1.000 or less, more preferably 0.750 or less, more preferably 0.600 or less.
上記した比が上記した上限以下であれば、圧電センサ７の薄型化を十分に図ることができ、さらには、タッチセンサ１の薄型化を十分に図ることができる。 If the above ratio is equal to or less than the above-described upper limit, thinning of the piezoelectric sensor 7 can be sufficiently achieved, and furthermore, thinning of the touch sensor 1 can be sufficiently achieved.
第２感圧接着層１４は、圧電体層１３の後面全面に接触している。第２感圧接着層１４は、面方向に延び、平坦な前面と、第２透明電極１５の形状に追従する後面と（２つの主面）を有する。また、第２感圧接着層１４は、圧電体層１３の後面を密着状に被覆している。これにより、第２感圧接着層１４は、次に説明する第２透明電極１５および第４基材フィルム１６を、圧電体層１３に、接着して固定している。 The second pressure-sensitive adhesive layer 14 is in contact with the entire rear surface of the piezoelectric layer 13. The second pressure-sensitive adhesive layer 14 extends in the surface direction, and has a flat front surface, a rear surface that follows the shape of the second transparent electrode 15, and (two main surfaces). The second pressure-sensitive adhesive layer 14 covers the rear surface of the piezoelectric layer 13 in a close contact manner. Thus, the second pressure-sensitive adhesive layer 14 adheres and fixes the second transparent electrode 15 and the fourth base film 16 described below to the piezoelectric layer 13.
第２感圧接着層１４の材料としては、例えば、透明性および絶縁性を有する感圧接着組成物が挙げられる。感圧接着組成物としては、限定されず、例えば、アクリル系感圧接着組成物、シリコーン系感圧接着組成物などが挙げられる。第２感圧接着層１４の厚みは、例えば、１μｍを超え、好ましくは、４μｍ以上、より好ましくは、１０μｍ以上であり、また、例えば、２００μｍ未満、好ましくは、１００μｍ以下である。 As a material of the 2nd pressure sensitive adhesive layer 14, the pressure sensitive adhesive composition which has transparency and insulation is mentioned, for example. The pressure-sensitive adhesive composition is not limited, and examples thereof include acrylic pressure-sensitive adhesive compositions and silicone pressure-sensitive adhesive compositions. The thickness of the second pressure-sensitive adhesive layer 14 is, for example, more than 1 μm, preferably 4 μm or more, more preferably 10 μm or more, and for example, less than 200 μm, preferably 100 μm or less.
第２透明電極１５は、具体的には、第２感圧接着層１４の後面に埋設されるように、配置されている。第２透明電極１５は、面方向において互いに間隔を隔てるパターンを有する。 Specifically, the second transparent electrode 15 is disposed so as to be embedded in the rear surface of the second pressure-sensitive adhesive layer 14. The second transparent electrodes 15 have patterns which are spaced apart from each other in the surface direction.
第２透明電極１５は、シグナル電極である。第２透明電極１５は、配線（図示せず）を介して、圧電体層１３における電荷量を検出し、タッチの圧力を算出するデバイス（図示せず）などと電気的に接続される。第２透明電極１５の材料、表面抵抗および厚みは、第１透明電極１１で例示したそれらと同一である。 The second transparent electrode 15 is a signal electrode. The second transparent electrode 15 is electrically connected to a device (not shown) or the like that detects the amount of charge in the piezoelectric layer 13 and calculates the pressure of the touch via a wire (not shown). The material, surface resistance and thickness of the second transparent electrode 15 are the same as those exemplified for the first transparent electrode 11.
第４基材フィルム１６は、第２透明電極１５の後面と、第２透明電極１５間および第２透明電極１５の外側における第４基材フィルム１６の後面とに接触している。第４基材フィルム１６は、面方向に延び、平面視において、第２透明電極１５を含む（第２透明電極１５より大きい）寸法を有する。これにより、第４基材フィルム１６は、第２透明電極１５を後側から支持する。第４基材フィルム１６は、平坦な前面および平坦な後面（２つの主面）を有する。また、第４基材フィルム１６は、圧電センサ７の後面を形成する。つまり、第４基材フィルム１６は、圧電センサ７における最後層である。第４基材フィルム１６の材料、体積抵抗率および厚みは、第１基材フィルム１２で例示したそれらと同一である。 The fourth base film 16 is in contact with the rear surface of the second transparent electrode 15 and the rear surface of the fourth base film 16 between the second transparent electrodes 15 and outside the second transparent electrode 15. The fourth base film 16 extends in the plane direction and has a dimension (larger than the second transparent electrode 15) including the second transparent electrode 15 in a plan view. Thereby, the fourth base film 16 supports the second transparent electrode 15 from the rear side. The fourth substrate film 16 has a flat front surface and a flat rear surface (two main surfaces). In addition, the fourth base film 16 forms the rear surface of the piezoelectric sensor 7. That is, the fourth base film 16 is the last layer in the piezoelectric sensor 7. The material, volume resistivity, and thickness of the fourth base film 16 are the same as those exemplified for the first base film 12.
圧電センサ７の厚みＴ３は、第１透明電極１１、第１基材フィルム１２、圧電体層１３、第２感圧接着層１４、第２透明電極１５および第４基材フィルム１６の総厚みであり、具体的には、例えば、５００μｍ以下、好ましくは、３００μｍ以下、より好ましくは、１００μｍ以下であり、また、例えば、４５μｍ以上である。 The thickness T3 of the piezoelectric sensor 7 is the total thickness of the first transparent electrode 11, the first base film 12, the piezoelectric layer 13, the second pressure-sensitive adhesive layer 14, the second transparent electrode 15, and the fourth base film 16. Specifically, for example, it is 500 μm or less, preferably 300 μm or less, more preferably 100 μm or less, and for example, 45 μm or more.
第１感圧接着層６は、圧電センサ７の前面全面に接触している。第１感圧接着層６は、圧電センサ７および静電容量センサ８の間に介在する。そのため、第１感圧接着層６は、タッチセンサ１における中間層を形成する。また、第１感圧接着層６は、面方向に延び、平坦な前面および平坦な後面（２つの主面）を有するフィルム形状を有する。第１感圧接着層６は、圧電センサ７の前面を密着状に被覆している。第１感圧接着層６の材料および厚みは、第２感圧接着層１４で例示したそれらと同一である。 The first pressure-sensitive adhesive layer 6 is in contact with the entire front surface of the piezoelectric sensor 7. The first pressure-sensitive adhesive layer 6 is interposed between the piezoelectric sensor 7 and the capacitance sensor 8. Therefore, the first pressure-sensitive adhesive layer 6 forms an intermediate layer in the touch sensor 1. In addition, the first pressure-sensitive adhesive layer 6 has a film shape that extends in the plane direction and has a flat front surface and a flat rear surface (two main surfaces). The first pressure-sensitive adhesive layer 6 covers the front surface of the piezoelectric sensor 7 in a close contact manner. The material and thickness of the first pressure sensitive adhesive layer 6 are the same as those exemplified for the second pressure sensitive adhesive layer 14.
静電容量センサ８は、面方向におけるタッチされた座標（具体的には、ＸＹ座標）を検出する位置センサである。また、静電容量センサ８は、ＸＹ方向（２次元方向）のタッチ位置を検出するいわゆるＸＹセンサである。 The capacitance sensor 8 is a position sensor that detects touched coordinates (specifically, XY coordinates) in the surface direction. Further, the capacitance sensor 8 is a so-called XY sensor that detects a touch position in the XY direction (two-dimensional direction).
静電容量センサ８は、面方向に延び、平坦な前面および平坦な後面（２つの主面）を有する。静電容量センサ８は、タッチセンサ１における前面を形成する。つまり、静電容量センサ８は、タッチセンサ１における最前層である。静電容量センサ８は、第１感圧接着層６の前面全面に接触している。静電容量センサ８は、圧電センサ７の前側に第１感圧接着層６を介して感圧接着されている。つまり、圧電センサ７の前側に配置されている。 The capacitance sensor 8 extends in the surface direction and has a flat front surface and a flat rear surface (two main surfaces). The capacitance sensor 8 forms the front surface of the touch sensor 1. That is, the capacitance sensor 8 is the frontmost layer in the touch sensor 1. The capacitance sensor 8 is in contact with the entire front surface of the first pressure-sensitive adhesive layer 6. The capacitance sensor 8 is pressure-sensitively bonded to the front side of the piezoelectric sensor 7 via the first pressure-sensitive adhesive layer 6. That is, it is disposed on the front side of the piezoelectric sensor 7.
静電容量センサ８は、第３透明電極１７と、第２基材フィルム１８と、第３感圧接着層１９と、第４透明電極２０と、第３基材フィルム２１とを後側に向かって順に備える。具体的には、静電容量センサ８は、第３透明電極１７と、第３透明電極１７の後面に配置される第２基材フィルム１８と、第２基材フィルム１８の後面に配置される第３感圧接着層１９と、第３感圧接着層１９の後面に配置される第４透明電極２０と、第４透明電極２０の後面に配置される第３基材フィルム２１とを備える。静電容量センサ８は、好ましくは、第３透明電極１７と、第２基材フィルム１８と、第３感圧接着層１９と、第４透明電極２０と、第３基材フィルム２１とのみからなる。 The capacitance sensor 8 is configured to face the third transparent electrode 17, the second base film 18, the third pressure-sensitive adhesive layer 19, the fourth transparent electrode 20, and the third base film 21 to the rear side. In order. Specifically, the capacitance sensor 8 is disposed on the third transparent electrode 17, the second base film 18 disposed on the rear surface of the third transparent electrode 17, and the rear surface of the second base film 18. The third pressure-sensitive adhesive layer 19, the fourth transparent electrode 20 disposed on the rear surface of the third pressure-sensitive adhesive layer 19, and the third base film 21 disposed on the rear surface of the fourth transparent electrode 20 are provided. The capacitance sensor 8 preferably comprises only the third transparent electrode 17, the second base film 18, the third pressure-sensitive adhesive layer 19, the fourth transparent electrode 20, and the third base film 21. Become.
第３透明電極１７は、静電容量センサ８の前面を形成する。つまり、第２透明電極１４は、静電容量センサ８における最前層である。第３透明電極１７は、面方向に互いに間隔を隔てるパターンを有する。第３透明電極１７のパターンとしては、特に限定されず、例えば、平面視において、菱形（ダイヤモンド形）形状を有する複数の第１検出部分３１と、隣接する第１検出部分３１を連結する連結部分（図１において図示せず）とを連続して有するパターンや、井桁パターンなどが挙げられる。第３透明電極１７の材料、表面抵抗および厚みは、第１透明電極１１で例示したそれらと同一である。第３透明電極１７は、図示しない外部装置（検流計など）と電気的に接続される。 The third transparent electrode 17 forms the front surface of the capacitance sensor 8. That is, the second transparent electrode 14 is the frontmost layer in the capacitance sensor 8. The third transparent electrodes 17 have patterns which are spaced apart from each other in the surface direction. The pattern of the third transparent electrode 17 is not particularly limited. For example, in plan view, a connection portion connecting the plurality of first detection portions 31 having a rhombus (diamond shape) shape and the adjacent first detection portions 31 Examples of such patterns include a pattern having (not shown in FIG. 1) continuously, a well pattern, and the like. The material, surface resistance and thickness of the third transparent electrode 17 are the same as those exemplified for the first transparent electrode 11. The third transparent electrode 17 is electrically connected to an external device (such as a galvanometer) not shown.
第２基材フィルム１８は、第３透明電極１７の後面に接触している。第３透明電極１７は、第２基材フィルム１８の前側に配置されている。第２基材フィルム１８は、面方向に延び、平面視において、第３透明電極１７を含む（第３透明電極１７より大きい）寸法を有する。これにより、第２基材フィルム１８は、第３透明電極１７を後側から支持する。第２基材フィルム１８は、平坦な前面および平坦な後面（２つの主面）を有する。第２基材フィルム１８の材料、体積抵抗率および厚みは、第１基材フィルム１２で例示したそれらと同一である。 The second base film 18 is in contact with the rear surface of the third transparent electrode 17. The third transparent electrode 17 is disposed on the front side of the second base film 18. The second base film 18 extends in the plane direction and has a dimension (larger than the third transparent electrode 17) including the third transparent electrode 17 in a plan view. Thereby, the second base film 18 supports the third transparent electrode 17 from the rear side. The second substrate film 18 has a flat front surface and a flat rear surface (two main surfaces). The material, volume resistivity and thickness of the second base film 18 are the same as those exemplified for the first base film 12.
第３感圧接着層１９は、第２基材フィルム１８の後面全面に接触している。第３感圧接着層１９は、面方向に延び、平坦な前面と、第４透明電極２０の形状に追従する後面（２つの主面）を有する。第３感圧接着層１９は、第２基材フィルム１８の後面を密着状に被覆している。第３感圧接着層１９の材料および厚みは、第２感圧接着層１４で例示したそれらと同一である。 The third pressure-sensitive adhesive layer 19 is in contact with the entire rear surface of the second base film 18. The third pressure-sensitive adhesive layer 19 extends in the plane direction and has a flat front surface and a rear surface (two main surfaces) that follow the shape of the fourth transparent electrode 20. The third pressure-sensitive adhesive layer 19 covers the rear surface of the second base film 18 in a close contact manner. The material and thickness of the third pressure sensitive adhesive layer 19 are the same as those exemplified for the second pressure sensitive adhesive layer 14.
第４透明電極２０は、第３感圧接着層１９の後面に埋設されるように、配置されている。第４透明電極２０は、第２基材フィルム１８の後側に第３感圧接着層１９を介して配置されている。つまり、第４透明電極２０は、第２基材フィルム１８の後側に配置されている。第４透明電極２０は、面方向に互いに間隔を隔てるパターンを有する。第４透明電極２０は、前後方向に投影したときに、第３透明電極１７と重複しないパターンを有する。具体的には、第４透明電極２０のパターンとしては、例えば、平面視において、菱形（ダイヤモンド形）形状を有し、第３透明電極１７の第１検出部分３１とずれて配置される複数の第２検出部分３２と、隣接する第２検出部分３２を連結する連結部分（図１において図示せず）とを連続して有するパターンや、井桁パターンなどが挙げられる。第４透明電極２０の材料、表面抵抗および厚みは、第１透明電極１１で例示したそれらと同一である。第４透明電極２０は、図示しない外部装置と電気的に接続される。 The fourth transparent electrode 20 is disposed so as to be embedded in the rear surface of the third pressure-sensitive adhesive layer 19. The fourth transparent electrode 20 is disposed on the rear side of the second base film 18 via the third pressure-sensitive adhesive layer 19. That is, the fourth transparent electrode 20 is disposed on the rear side of the second base film 18. The fourth transparent electrode 20 has a pattern spaced apart from each other in the surface direction. The fourth transparent electrode 20 has a pattern that does not overlap with the third transparent electrode 17 when projected in the front-rear direction. Specifically, the pattern of the fourth transparent electrode 20 is, for example, a rhombus (diamond shape) shape in plan view, and a plurality of the fourth transparent electrodes 20 are arranged to be offset from the first detection portion 31 of the third transparent electrode 17. The pattern which has the 2nd detection part 32 and the connection part (not shown in FIG. 1) which connects the 2nd detection part 32 which adjoins continuously, a parallel pattern, etc. are mentioned. The material, surface resistance and thickness of the fourth transparent electrode 20 are the same as those exemplified for the first transparent electrode 11. The fourth transparent electrode 20 is electrically connected to an external device (not shown).
第３基材フィルム２１は、第４透明電極２０の後面と、第４透明電極２０間および第４透明電極２０の外側における第３感圧接着層１９の後面とに接触している。また、第４基材フィルム１６は、面方向に延び、平面視において、第４透明電極２０を含む（第４透明電極２０より大きい）寸法を有する。これにより、第３基材フィルム２１は、第４透明電極２０を後側から支持する。第４基材フィルム１６は、平坦な前面および平坦な後面（２つの主面）を有する。第３基材フィルム２１の材料、体積抵抗率および厚みは、第１基材フィルム１２で例示したそれらと同一である。 The third base film 21 is in contact with the rear surface of the fourth transparent electrode 20 and the rear surface of the third pressure-sensitive adhesive layer 19 between the fourth transparent electrodes 20 and outside the fourth transparent electrode 20. In addition, the fourth base film 16 extends in the plane direction and has a dimension (larger than the fourth transparent electrode 20) including the fourth transparent electrode 20 in a plan view. Thereby, the third base film 21 supports the fourth transparent electrode 20 from the rear side. The fourth substrate film 16 has a flat front surface and a flat rear surface (two main surfaces). The material, volume resistivity, and thickness of the third base film 21 are the same as those exemplified for the first base film 12.
第３基材フィルム２１は、第４透明電極２０とともに、第３感圧接着層１９を介して第２基材フィルム１８に接着して固定される。つまり、静電容量センサ８において、第３基材フィルム２１は、第２基材フィルム１８に接着される。 The third base film 21 is bonded and fixed to the second base film 18 via the third pressure-sensitive adhesive layer 19 together with the fourth transparent electrode 20. That is, in the capacitance sensor 8, the third base film 21 is bonded to the second base film 18.
他方、タッチセンサ１において、第３基材フィルム２１は、第１感圧接着層６を介して、第１透明電極１１に接着して固定される。 On the other hand, in the touch sensor 1, the third base film 21 is bonded and fixed to the first transparent electrode 11 via the first pressure-sensitive adhesive layer 6.
静電容量センサ８の厚みは、第３透明電極１７、第２基材フィルム１８、第３感圧接着層１９、第４透明電極２０および第３基材フィルム２１の総厚みであって、例えば、１００μｍ以下、好ましくは、５０μｍ以下であり、また、例えば、２μｍ以上、好ましくは、１５μｍ以上である。 The thickness of the capacitance sensor 8 is the total thickness of the third transparent electrode 17, the second base film 18, the third pressure-sensitive adhesive layer 19, the fourth transparent electrode 20 and the third base film 21. , 100 μm or less, preferably 50 μm or less, and for example, 2 μm or more, preferably 15 μm or more.
タッチセンサ１の厚みは、圧電センサ７、第１感圧接着層６および静電容量センサ８の総厚みであって、例えば、２００μｍ以下、好ましくは、１５０μｍ以下であり、また、例えば、３μｍ以上、好ましくは、２０μｍ以上である。 The thickness of the touch sensor 1 is the total thickness of the piezoelectric sensor 7, the first pressure-sensitive adhesive layer 6, and the capacitance sensor 8, and is, for example, 200 μm or less, preferably 150 μm or less, and for example, 3 μm or more Preferably, it is 20 micrometers or more.
タッチセンサ１を製造するには、まず、圧電センサ７および静電容量センサ８のそれぞれを準備する。 In order to manufacture the touch sensor 1, first, each of the piezoelectric sensor 7 and the capacitance sensor 8 is prepared.
圧電センサ７を準備するには、前後両面のそれぞれに第１透明電極１１および圧電体層１３のそれぞれが形成された第１基材フィルム１２と、前面に第２透明電極１５が形成された第２基材フィルム１６とを、第２感圧接着層１４を介して、貼り合わせる。 In order to prepare the piezoelectric sensor 7, a first base film 12 in which the first transparent electrode 11 and the piezoelectric layer 13 are formed on each of the front and back surfaces, and a second transparent electrode 15 on the front surface The two base films 16 are pasted together via the second pressure-sensitive adhesive layer 14.
後面に圧電体層１３が形成される第１基材フィルム１２の製造において、圧電体層１３の材料がフッ素樹脂であれば、フッ素樹脂を含む塗布液を調製し、それを第１基材フィルム１２の後面に塗布し、その後、必要により、加熱して、塗布層を形成する。圧電体層１３の材料がウルツ鉱構造を有する無機化合物であれば、上記した無機化合物をターゲットとして、第１基材フィルム１２の後面をスパッタリングして、スパッタリング層を形成する。上記した方法によれば、薄い厚みＴ１を有する圧電体層１３を形成することができる。 In the production of the first base film 12 in which the piezoelectric layer 13 is formed on the rear surface, if the material of the piezoelectric layer 13 is a fluorocarbon resin, a coating liquid containing the fluorocarbon resin is prepared and used as a first base film It is applied to the rear surface of 12 and then, if necessary, heated to form a coated layer. If the material of the piezoelectric layer 13 is an inorganic compound having a wurtzite structure, the rear surface of the first base film 12 is sputtered using the above-described inorganic compound as a target to form a sputtering layer. According to the method described above, the piezoelectric layer 13 having a thin thickness T1 can be formed.
前面に第１透明電極１１が形成された第１基材フィルム１２の製造では、例えば、第１基材フィルム１２の前面をスパッタリングして、第１透明電極１１を第１基材フィルム１２の前面に直接形成する。 In the production of the first base film 12 in which the first transparent electrode 11 is formed on the front side, for example, the front side of the first base film 12 is sputtered to make the first transparent electrode 11 the front side of the first base film 12 Form directly on.
前面に第２透明電極１５が形成された第４基材フィルム１６の製造では、例えば、第４基材フィルム１６の前面をスパッタリングして、第２透明電極１５を第４基材フィルム１６の前面に直接形成する。 In the production of the fourth base film 16 in which the second transparent electrode 15 is formed on the front side, for example, the front side of the fourth base film 16 is sputtered to make the second transparent electrode 15 the front side of the fourth base film 16 Form directly on.
静電容量センサ８を準備するには、前面に第３透明電極１７が形成された第２基材フィルム１８と、前面に第４透明電極２０が形成された第３基材フィルム２１とを、第３感圧接着層１９を介して、貼り合わせる。 In order to prepare the capacitance sensor 8, the second base film 18 having the third transparent electrode 17 formed on the front surface, and the third base film 21 having the fourth transparent electrode 20 formed on the front surface, It bonds together through the 3rd pressure-sensitive adhesive layer 19.
前面に第３透明電極１７が形成された第２基材フィルム１８の製造では、例えば、第２基材フィルム１８の前面をスパッタリングして、第３透明電極１７を第２基材フィルム１８の前面に直接形成する。 In the production of the second base film 18 in which the third transparent electrode 17 is formed on the front side, for example, the front side of the second base film 18 is sputtered to make the third transparent electrode 17 the front side of the second base film 18 Form directly on.
前面に第４透明電極２０が形成された第３基材フィルム２１の製造では、例えば、第３基材フィルム２１の前面をスパッタリングして、第４透明電極２０を第３基材フィルム２１の前面に直接形成する。 In the manufacture of the third base film 21 in which the fourth transparent electrode 20 is formed on the front side, for example, the front side of the third base film 21 is sputtered to make the fourth transparent electrode 20 the front side of the third base film 21. Form directly on.
その後、圧電センサ７および静電容量センサ８を、第１感圧接着層６を介して、貼り合わせる。 Thereafter, the piezoelectric sensor 7 and the capacitance sensor 8 are attached to each other via the first pressure-sensitive adhesive layer 6.
このようにして得られたタッチセンサ１は、例えば、タッチセンサ装置３０に用いられる。 The touch sensor 1 obtained in this manner is used, for example, for the touch sensor device 30.
タッチセンサ装置３０は、例えば、タッチセンサ１と、ディスプレイ２と、カバーガラス４と、図示しない外部装置（検流計など）と、図示しないデバイスと、ノイズフィルターとを備える。 The touch sensor device 30 includes, for example, a touch sensor 1, a display 2, a cover glass 4, an external device (not shown) (such as a galvanometer), a device (not shown), and a noise filter.
タッチセンサ１は、ディスプレイ２の前側に第５感圧接着剤層３を介して接着して固定される。カバーガラス４は、静電容量センサ８の前側に第６感圧接着層５を介して接着して固定される。第５感圧接着剤層３および第６感圧接着層５の材料および厚みは、第２感圧接着層１４で例示したそれらと同一である。 The touch sensor 1 is adhesively fixed to the front side of the display 2 via the fifth pressure-sensitive adhesive layer 3. The cover glass 4 is adhered and fixed to the front side of the capacitance sensor 8 via the sixth pressure-sensitive adhesive layer 5. The materials and thicknesses of the fifth pressure-sensitive adhesive layer 3 and the sixth pressure-sensitive adhesive layer 5 are the same as those exemplified for the second pressure-sensitive adhesive layer 14.
外部装置（図示せず）は、第３透明電極１７および第４透明電極２０のそれぞれと電気的に接続される。 An external device (not shown) is electrically connected to each of the third transparent electrode 17 and the fourth transparent electrode 20.
デバイス（図示せず）は、第２透明電極１５と電気的に接続される。 A device (not shown) is electrically connected to the second transparent electrode 15.
ノイズフィルターは、第２透明電極１５とデバイスとの間に介在される。ノイズフィルターは、第２透明電極１５とデバイスとの間の配線（図示せず）におけるノイズを除去（カット）または低減する。 The noise filter is interposed between the second transparent electrode 15 and the device. The noise filter removes (cuts) or reduces noise in the wiring (not shown) between the second transparent electrode 15 and the device.
タッチセンサ装置３０において、カバーガラス４にユーザの指やペンなどでタッチされると、第３透明電極１７および第４透明電極２０の静電容量が変化し、タッチされた位置のＸＹ座標が外部装置（図示せず）によって検出される。 In the touch sensor device 30, when the cover glass 4 is touched with a finger or a pen of the user, the capacitance of the third transparent electrode 17 and the fourth transparent electrode 20 is changed, and the XY coordinates of the touched position are outside It is detected by a device (not shown).
同時に、タッチセンサ１は、タッチに基づく後側に向かう圧力を受けると、圧電体層１３の圧電特性により電荷量が変化し、これが、シグナル電極である第２透明電極１５を介して、デバイス（図示せず）によって検出される。 At the same time, when the touch sensor 1 receives a backward pressure based on a touch, the amount of charge changes due to the piezoelectric characteristics of the piezoelectric layer 13, and this changes the device (the second transparent electrode 15 which is a signal electrode) Not shown).
これによって、タッチセンサ装置３０は、タッチされた位置のＸＹ座標と、タッチに基づく圧力との両方を検出する。 Thereby, the touch sensor device 30 detects both the XY coordinates of the touched position and the pressure based on the touch.
そして、このタッチセンサ１では、第１透明電極１１が基準電位電極であるので、圧電センサ７の周囲からのノイズから圧電体層１３を遮蔽することができる。併せて、圧電体層１３の厚みＴ１が０．０５μｍを超え２０μｍ未満と薄いので、透明性を損なうことなく圧電センサ７の薄型化を図り、ひいては、タッチセンサ１の薄型化を図ることができる。 And in this touch sensor 1, since the 1st transparent electrode 11 is a reference electric potential electrode, the piezoelectric material layer 13 can be shielded from the noise from the circumference | surroundings of the piezoelectric sensor 7. FIG. At the same time, since the thickness T1 of the piezoelectric layer 13 is as thin as more than 0.05 μm and less than 20 μm, thinning of the piezoelectric sensor 7 can be achieved without loss of transparency, and thus thinning of the touch sensor 1 can be achieved. .
その結果、このタッチセンサ１は、ノイズから圧電体層１３を遮蔽できながら、薄型化が図られる。 As a result, the touch sensor 1 can be thinned while shielding the piezoelectric layer 13 from noise.
また、このタッチセンサ１では、圧電体層１３が、塗布層またはスパッタリング層であるので、圧電体層１３の厚みＴ１が上記した薄い厚みに確実に設定される。 Further, in the touch sensor 1, since the piezoelectric layer 13 is a coating layer or a sputtering layer, the thickness T 1 of the piezoelectric layer 13 is reliably set to the above-described thin thickness.
また、このタッチセンサ１では、塗布層が、フッ素樹脂を塗布した塗布層であり、あるいは、スパッタリング層が、ウルツ鉱構造を有する無機化合物をスパッタリングしたスパッタリング層であれば、圧電体層１３の圧電特性が優れる。 In the touch sensor 1, if the coating layer is a coating layer coated with a fluorine resin, or if the sputtering layer is a sputtering layer sputtering an inorganic compound having a wurtzite structure, the piezoelectric of the piezoelectric layer 13 The characteristics are excellent.
また、このタッチセンサ１では、上記した特定の厚みＴ１（０．５μｍを超え２０μｍ未満）を有する塗布層である圧電体層１３は、圧電特性に優れる。また、圧電体層１３が、上記した上記した重合体からなる塗布層であれば、圧電特性に一層優れる。 Further, in the touch sensor 1, the piezoelectric layer 13 which is an application layer having the above-described specific thickness T1 (greater than 0.5 μm and less than 20 μm) is excellent in piezoelectric characteristics. In addition, when the piezoelectric layer 13 is a coating layer made of the above-described polymer, the piezoelectric characteristics are further excellent.
また、このタッチセンサ１では、上記した特定の厚みＴ１（０．０５μｍを超え０．５μｍ以下）を有するスパッタリング層である圧電体層１３は、圧電特性に優れる。また、圧電体層１３が、上記した上記した無機化合物からなるスパッタリング層であれば、圧電特性に一層優れる。 Further, in the touch sensor 1, the piezoelectric layer 13 which is a sputtering layer having the above-described specific thickness T1 (more than 0.05 μm and 0.5 μm or less) is excellent in piezoelectric characteristics. In addition, when the piezoelectric layer 13 is a sputtering layer made of the above-described inorganic compound, the piezoelectric characteristics are further excellent.
さらに、このタッチセンサ１では、圧電体層１３の前側に配置される第１透明電極１１が、基準電位電極であるので、圧電センサ７の前側に配置される静電容量センサ８に起因するノイズから圧電体層１３を遮蔽することができる。 Furthermore, in the touch sensor 1, since the first transparent electrode 11 disposed on the front side of the piezoelectric layer 13 is a reference potential electrode, noise caused by the capacitance sensor 8 disposed on the front side of the piezoelectric sensor 7 Thus, the piezoelectric layer 13 can be shielded.
また、このタッチセンサ１において、静電容量センサ８は、第３透明電極１７と第４透明電極２０とによって、タッチされた位置の座標を精度よく検出することができる。 Further, in the touch sensor 1, the capacitance sensor 8 can accurately detect the coordinates of the touched position by the third transparent electrode 17 and the fourth transparent electrode 20.
また、このタッチセンサ１では、第１基材フィルム１２の材料が上記した少なくとも１つのポリマーであれば、第１基材フィルム１２は、靱性に優れ、そのため、圧電センサ７の薄型化を図りながら、第１基材フィルム１２は、圧電体層１３を確実に支持することができる。 In addition, in the touch sensor 1, if the material of the first base film 12 is at least one of the polymers described above, the first base film 12 is excellent in toughness, and therefore, the piezoelectric sensor 7 can be thinned. The first base film 12 can reliably support the piezoelectric layer 13.
また、このタッチセンサ１では、第１透明電極１１および第２透明電極１５の材料が、インジウム含有酸化物であれば、第１透明電極１１および第２透明電極１５の表面抵抗を低減することができる。 In the touch sensor 1, if the material of the first transparent electrode 11 and the second transparent electrode 15 is an indium-containing oxide, the surface resistance of the first transparent electrode 11 and the second transparent electrode 15 may be reduced. it can.
このタッチセンサ１では、基準電位電極である第１透明電極１１は、第１基材フィルム１２の前面全面に配置されているので、ノイズからの圧電体層１３の遮蔽効果を向上させることができる。 In this touch sensor 1, since the first transparent electrode 11 which is the reference potential electrode is disposed on the entire front surface of the first base film 12, the shielding effect of the piezoelectric layer 13 from noise can be improved. .
＜変形例＞
以下の各変形例において、上記した第１実施形態および変形例と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、各変形例は、特記する以外、第１実施形態および変形例と同様の作用効果を奏することができる。
<Modification>
In the following modifications, the same members and steps as those of the first embodiment and the modification described above are designated by the same reference numerals, and the detailed description thereof will be omitted. Further, each modification can exhibit the same function and effect as those of the first embodiment and the modification, unless otherwise specified.
第１実施形態では、第１透明電極１１が第１基材フィルム１２の前面全面に配置されているが、例えば、第１基材フィルム１２の前面の微小面積を露出し、残部を被覆することもできる。第１透明電極１１は、第１基材フィルム１２の前面の略全部に配置されていればよい。具体的には、第１透明電極１１の面積Ｓ１１の、第１基材フィルム１２の前面の面積Ｓ１２に対する割合（Ｓ１１／Ｓ１２）は、例えば、０．８以上、好ましくは、０．９以上、より好ましくは、０．９５以上、さらに好ましくは、０．９９以上であり、また、１．００未満である。 In the first embodiment, although the first transparent electrode 11 is disposed on the entire front surface of the first base film 12, for example, a minute area of the front surface of the first base film 12 is exposed and the remaining portion is covered. You can also. The first transparent electrode 11 may be disposed on substantially the entire front surface of the first base film 12. Specifically, the ratio (S11 / S12) of the area S11 of the first transparent electrode 11 to the area S12 of the front surface of the first base film 12 is, for example, 0.8 or more, preferably 0.9 or more, More preferably, it is 0.95 or more, more preferably 0.99 or more, and less than 1.00.
さらに、第１透明電極１１が、第１基材フィルム１２の前面の一部を完全に露出するパターンを有することもできる。 Furthermore, the first transparent electrode 11 can also have a pattern that completely exposes a part of the front surface of the first base film 12.
好ましくは、第１実施形態のように、第１透明電極１１が第１基材フィルム１２の前面全面に接触する。このような第１透明電極１１は、第１基材フィルム１２の前面の一部を露出するパターンを有する第１透明電極１１に比べて、静電容量センサ８に起因するノイズをより一層効率的に除去することができる。 Preferably, as in the first embodiment, the first transparent electrode 11 is in contact with the entire front surface of the first base film 12. Such a first transparent electrode 11 makes noise due to the capacitance sensor 8 more efficient than the first transparent electrode 11 having a pattern that exposes a part of the front surface of the first base film 12. Can be removed.
第１実施形態では、圧電体層１３は、第１基材フィルム１２の後面に接触している（直接的に形成されている）。 In the first embodiment, the piezoelectric layer 13 is in contact with the rear surface of the first base film 12 (formed directly).
しかし、図示しないが、圧電体層１３は、第１基材フィルム１２の後側に機能層を介して配置されていてもよい。つまり、圧電体層１３は、第１基材フィルム１２の後面に間接的に形成されていてもよい。 However, although not shown, the piezoelectric layer 13 may be disposed on the rear side of the first base film 12 via a functional layer. That is, the piezoelectric layer 13 may be formed indirectly on the rear surface of the first base film 12.
機能層としては、例えば、アンダーコート層、屈折率調整層、アンチブロッキング層などが挙げられる。アンダーコート層（アンカー層）は、第１基材フィルム１２および圧電体層１３層間の密着性を高める。屈折率調整層は、反射率を調整する。アンチブロッキング層は、タッチセンサ１が積み重ねられたフィルムが圧着（ブロッキング）することを抑制する。機能層は、単層または上記から選択した異なる種類の層を積層した複層であってもよい。機能層の厚みは、例えば、１０μｍ以下、好ましくは、５μｍ以下であり、また、例えば、０．５μｍ以上、好ましくは、１μｍ以上である。 As a functional layer, an undercoat layer, a refractive index adjustment layer, an antiblocking layer etc. are mentioned, for example. The undercoat layer (anchor layer) enhances the adhesion between the first base film 12 and the piezoelectric layer 13. The refractive index adjustment layer adjusts the reflectance. The anti blocking layer suppresses the pressure (blocking) of the film on which the touch sensor 1 is stacked. The functional layer may be a single layer or a multilayer formed by laminating different types of layers selected from the above. The thickness of the functional layer is, for example, 10 μm or less, preferably 5 μm or less, and for example, 0.5 μm or more, preferably 1 μm or more.
この場合には、圧電体層１３は、機能層の後面全面に配置される。 In this case, the piezoelectric layer 13 is disposed on the entire back surface of the functional layer.
この変形例では、機能層によって、その機能を作用させることができる。 In this modification, the function can be exerted by the functional layer.
さらに、この変形例では、圧電体層１３は、機能層の後面全面に配置されているので、ノイズからの圧電体層１３の遮蔽効果を向上させることができる。 Furthermore, in this modification, since the piezoelectric layer 13 is disposed on the entire back surface of the functional layer, the shielding effect of the piezoelectric layer 13 from noise can be improved.
また、機能層に代えて、別の感圧接着層（接着層の一例、第２感圧接着層１４とは異なる感圧接着層）を、圧電体層１３および第１基材フィルム１２の間に介在させることもできる。感圧接着層の材料および厚み（例えば、１μｍを超え、２００μｍ未満）は、第２感圧接着層１４で例示したそれらと同一である。 Further, instead of the functional layer, another pressure-sensitive adhesive layer (an example of the adhesive layer, a pressure-sensitive adhesive layer different from the second pressure-sensitive adhesive layer 14) may be provided between the piezoelectric layer 13 and the first base film 12 Can also be intervened. The material and thickness (for example, more than 1 μm and less than 200 μm) of the pressure sensitive adhesive layer are the same as those exemplified for the second pressure sensitive adhesive layer 14.
この変形例では、感圧接着層によって、圧電体層１３を、第２透明電極１５と感圧接着することができる。 In this modification, the piezoelectric layer 13 can be pressure-sensitively bonded to the second transparent electrode 15 by the pressure-sensitive adhesive layer.
さらに、感圧接着層の厚みが、１μｍを超え、２００μｍ未満と薄ければ、圧電センサ７のより一層の薄型化を図り、ひいては、タッチセンサ１のより一層の薄型化を図ることができる。 Furthermore, when the thickness of the pressure-sensitive adhesive layer is as thin as more than 1 μm and less than 200 μm, it is possible to further reduce the thickness of the piezoelectric sensor 7 and to further reduce the thickness of the touch sensor 1.
接着層の一例として、感圧接着層に代えて、例えば、硬化型の接着層であってもよい。すなわち、未硬化の接着層は、まだ接着性を奏さず、加熱、紫外線の照射などで接着層の材料である硬化樹脂組成物が硬化して初めて接着性を奏する。 As an example of the adhesive layer, instead of the pressure-sensitive adhesive layer, for example, a curable adhesive layer may be used. That is, the uncured adhesive layer does not exhibit adhesiveness yet, and exhibits adhesiveness only when the cured resin composition which is a material of the adhesive layer is cured by heating, irradiation of ultraviolet light or the like.
また、タッチセンサ装置３０において、第５感圧接着剤層３に代えて、空気層とすることもできる。つまり、圧電センサ７とディスプレイ２との間には、空気層によって仕切られる隙間が形成される。 In the touch sensor device 30, the fifth pressure-sensitive adhesive layer 3 may be replaced by an air layer. That is, a gap partitioned by the air layer is formed between the piezoelectric sensor 7 and the display 2.
第１実施形態では、圧電体層１３は、第１基材フィルム１２に接触している。 In the first embodiment, the piezoelectric layer 13 is in contact with the first base film 12.
一方、図２に示す変形例では、圧電体層１３は、第４基材フィルム１６に接触している。この変形例では、圧電体層１３は、第４基材フィルム１６の前面全面に接触している。
圧電センサ７は、第１透明電極１１と、第１基材フィルム１２と、第２感圧接着層１４と、圧電体層１３と、第４基材フィルム１６と、第２透明電極１５とを後側に向かって順に備える。この変形例では、圧電体層１３は、第４基材フィルム１６の前面全面に配置されている。圧電体層１３は、例えば、第４基材フィルム１６の前面に対する塗布またはスパッタリングにより形成される塗布層またはスパッタリング層である。
On the other hand, in the modification shown in FIG. 2, the piezoelectric layer 13 is in contact with the fourth base film 16. In this modification, the piezoelectric layer 13 is in contact with the entire front surface of the fourth base film 16.
The piezoelectric sensor 7 includes the first transparent electrode 11, the first base film 12, the second pressure-sensitive adhesive layer 14, the piezoelectric layer 13, the fourth base film 16, and the second transparent electrode 15. Prepare in order towards the rear side. In this modification, the piezoelectric layer 13 is disposed on the entire front surface of the fourth base film 16. The piezoelectric layer 13 is, for example, a coated layer or a sputtering layer formed by coating or sputtering on the front surface of the fourth base film 16.
図３および図４に示す変形例では、圧電センサ７は、さらに、第５基材フィルム２２および第７感圧接着層２３を備える。これらの変形例では、第５基材フィルム２２および第７感圧接着層２３は、第１透明電極１１および第１基材フィルム１２の間に配置されている。 In the modification shown in FIGS. 3 and 4, the piezoelectric sensor 7 further includes a fifth base film 22 and a seventh pressure-sensitive adhesive layer 23. In these variations, the fifth base film 22 and the seventh pressure-sensitive adhesive layer 23 are disposed between the first transparent electrode 11 and the first base film 12.
図３の変形例では、圧電センサ７は、第１透明電極１１と、第５基材フィルム２２と、第７感圧接着層２３と、第１基材フィルム１２と、圧電体層１３と、第２感圧接着層１４と、第２透明電極１５と、第４基材フィルム１６とを後側に向かって順に備える。 In the modification of FIG. 3, the piezoelectric sensor 7 includes the first transparent electrode 11, the fifth base film 22, the seventh pressure-sensitive adhesive layer 23, the first base film 12, and the piezoelectric layer 13. The second pressure-sensitive adhesive layer 14, the second transparent electrode 15, and the fourth base film 16 are provided in order toward the rear side.
図４の変形例では、圧電センサ７は、第１透明電極１１と、第５基材フィルム２２と、第７感圧接着層２３と、圧電体層１３と、第１基材フィルム１２と、第２感圧接着層１４と、第４基材フィルム１６と、第２透明電極１５とを後側に向かって順に備える。 In the modification of FIG. 4, the piezoelectric sensor 7 includes the first transparent electrode 11, the fifth base film 22, the seventh pressure-sensitive adhesive layer 23, the piezoelectric layer 13, and the first base film 12. The second pressure-sensitive adhesive layer 14, the fourth base film 16, and the second transparent electrode 15 are provided in order toward the rear side.
＜第２実施形態＞
第２実施形態において、上記した第１実施形態および変形例と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、第２実施形態は、特記する以外、第１実施形態および変形例と同様の作用効果を奏することができる。
Second Embodiment
In the second embodiment, the same members and steps as those of the first embodiment and the modification described above are denoted by the same reference numerals, and the detailed description thereof will be omitted. In addition, the second embodiment can exhibit the same effects as those of the first embodiment and the modified example, unless otherwise specified.
図５に示すように、第２透明電極１５は、第４基材フィルム１６の前面全面に接触している。つまり、第２透明電極１５は、第４基材フィルム１６の面方向に沿うベタパターンを有する。また、第２透明電極１５は、第４基材フィルム１６の前面を露出しないように、第４基材フィルム１６の前面全面を被覆している。 As shown in FIG. 5, the second transparent electrode 15 is in contact with the entire front surface of the fourth base film 16. That is, the second transparent electrode 15 has a solid pattern along the surface direction of the fourth base film 16. The second transparent electrode 15 covers the entire front surface of the fourth base film 16 so that the front surface of the fourth base film 16 is not exposed.
＜第３実施形態＞
第３実施形態において、上記した第１、第２実施形態および変形例と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、第３実施形態は、特記する以外、第１、第２実施形態および変形例と同様の作用効果を奏することができる。
Third Embodiment
In the third embodiment, the same members and steps as those of the first and second embodiments and the modification described above are denoted by the same reference numerals, and the detailed description thereof will be omitted. In addition, the third embodiment can exhibit the same effects as those of the first, second embodiment and the modified example, unless otherwise stated.
図６に示すように、第１透明電極１１は、シグナル電極であって、第１実施形態の第２透明電極１５と同様のパターンを有する。 As shown in FIG. 6, the first transparent electrode 11 is a signal electrode, and has the same pattern as the second transparent electrode 15 of the first embodiment.
一方、第２透明電極１５は、基準電位電極であって、配線９を介して接地されている。また、第２透明電極１５は、第４基材フィルム１６の前面全面に接触して（配置されて）いる。 On the other hand, the second transparent electrode 15 is a reference potential electrode and is grounded via the wiring 9. The second transparent electrode 15 is in contact (disposed) on the entire front surface of the fourth base film 16.
第３実施形態では、第２透明電極１５が基準電位電極であるので、ディスプレイ２に起因するノイズから圧電体層１３を遮蔽することができる。 In the third embodiment, since the second transparent electrode 15 is a reference potential electrode, the piezoelectric layer 13 can be shielded from noise caused by the display 2.
＜第４実施形態＞
第４実施形態において、上記した第１〜第３実施形態および変形例と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、第４実施形態は、特記する以外、第１〜第３実施形態および変形例と同様の作用効果を奏することができる。
Fourth Embodiment
In the fourth embodiment, the same members and steps as those in the first to third embodiments and the modification described above are denoted by the same reference numerals, and the detailed description thereof will be omitted. In addition, the fourth embodiment can exhibit the same function and effect as those of the first to third embodiments and the modified example, unless otherwise specified.
図７に示すように、第４実施形態では、第１透明電極１１は、第４透明電極２０を兼ねる。第４実施形態における第１透明電極１１は、第１実施形態における第４透明電極２０と同様のパターンを有する。この第１透明電極１１は、シグナル電極であり、図示しない外部装置（検流計など）と電気的に接続される。 As shown in FIG. 7, in the fourth embodiment, the first transparent electrode 11 doubles as the fourth transparent electrode 20. The first transparent electrode 11 in the fourth embodiment has the same pattern as the fourth transparent electrode 20 in the first embodiment. The first transparent electrode 11 is a signal electrode, and is electrically connected to an external device (such as a galvanometer) not shown.
他方、第２透明電極１５は、第３実施形態（図６参照）と同様に、基準電位電極であって、配線９を介して接地されている。また、第２透明電極１５は、第４基材フィルム１６の前面全面に配置されている。 On the other hand, the second transparent electrode 15 is a reference potential electrode as in the third embodiment (see FIG. 6), and is grounded via the wiring 9. In addition, the second transparent electrode 15 is disposed on the entire front surface of the fourth base film 16.
タッチセンサ１は、第２透明電極１５、第１透明電極１１（第４透明電極２０）および第３透明電極１７を前側に向かって順に備える。詳しくは、タッチセンサ１では、第４基材フィルム１６と、第２透明電極１５と、第２感圧接着層１４と、圧電体層１３と、第１基材フィルム１２と、第１透明電極１１（第４透明電極２０）と、第３感圧接着層１９と、第２基材フィルム１８と、第３透明電極１７とが順に配置されている。 The touch sensor 1 includes a second transparent electrode 15, a first transparent electrode 11 (fourth transparent electrode 20), and a third transparent electrode 17 in this order toward the front side. Specifically, in the touch sensor 1, the fourth base film 16, the second transparent electrode 15, the second pressure-sensitive adhesive layer 14, the piezoelectric layer 13, the first base film 12, and the first transparent electrode 11 (fourth transparent electrode 20), the third pressure-sensitive adhesive layer 19, the second base film 18, and the third transparent electrode 17 are disposed in order.
そして、第４実施形態では、第１透明電極１１が第４透明電極２０を兼ねるので、第１透明電極１１と第４透明電極２０とを別の層として２つの基材フィルムにそれぞれ配置する必要がない。そのため、構成を簡単にすることができるとともに、タッチセンサ１の薄型化を図ることができる。
＜第５実施形態＞
第５実施形態において、上記した第１〜第４実施形態および変形例と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、第５実施形態は、特記する以外、第１〜第４実施形態および変形例と同様の作用効果を奏することができる。
And in 4th Embodiment, since the 1st transparent electrode 11 serves as the 4th transparent electrode 20, it is necessary to arrange the 1st transparent electrode 11 and the 4th transparent electrode 20 as two layers on two base films, respectively. There is no Therefore, while being able to simplify a structure, thickness reduction of the touch sensor 1 can be achieved.
Fifth Embodiment
In 5th Embodiment, about the member and process similar to above-described 1st-4th embodiment and modification, the same referential mark is attached | subjected and the detailed description is abbreviate | omitted. Further, the fifth embodiment can exhibit the same function and effect as those of the first to fourth embodiments and the modified example, unless otherwise stated.
図８に示すように、第３透明電極１７および第４透明電極２０は、ともに、第２基材フィルム１８の前面に接触している。 As shown in FIG. 8, both the third transparent electrode 17 and the fourth transparent electrode 20 are in contact with the front surface of the second base film 18.
そして、静電容量センサ８は、自己容量検出型の位置センサである。自己容量検出型の位置センサは、例えば、特開２０１７−０４９７４９号公報、特開２０１７−０３７３８６号公報などに記載される。
＜第６実施形態＞
第６実施形態において、上記した第１〜第５実施形態および変形例と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、第６実施形態は、特記する以外、第１〜第５実施形態および変形例と同様の作用効果を奏することができる。
The capacitance sensor 8 is a self-capacitance detection type position sensor. For example, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-049749, Japanese Unexamined Patent Publication No. 2017-037386, and the like describe self-capacitance detection type position sensors.
Sixth Embodiment
In 6th Embodiment, about the member and process similar to above-described 1st-5th embodiment and modification, the same referential mark is attached | subjected and the detailed description is abbreviate | omitted. In addition, the sixth embodiment can exhibit the same function and effect as those of the first to fifth embodiments and the modified example, unless otherwise stated.
図９に示すように、第１透明電極１１は、平面視において、自己容量検出型の静電容量センサ８における第３透明電極１７と略同一パターンを有する。
＜第７実施形態＞
第７実施形態において、上記した第１〜第６実施形態および変形例と同様の部材および工程については、同一の参照符号を付し、その詳細な説明を省略する。また、第７実施形態は、特記する以外、第１〜第６実施形態および変形例と同様の作用効果を奏することができる。
As shown in FIG. 9, the first transparent electrode 11 has substantially the same pattern as the third transparent electrode 17 in the self-capacitance detection type capacitance sensor 8 in a plan view.
Seventh Embodiment
In the seventh embodiment, the same members and steps as those in the first to sixth embodiments and the modification described above are denoted by the same reference numerals, and the detailed description thereof will be omitted. Moreover, 7th Embodiment can have the same effect as 1st-6th embodiment and a modification, as it mentions specially.
図１０に示すように、第１透明電極１１は、第１実施形態と同様に、基準電位電極であって、第１基材フィルム１２の前面全面に接触している。第１透明電極１１は、配線９を介して接地されている。 As shown in FIG. 10, the first transparent electrode 11 is a reference potential electrode as in the first embodiment, and is in contact with the entire front surface of the first base film 12. The first transparent electrode 11 is grounded via the wiring 9.
他方、第２透明電極１５は、シグナル電極であって、第１実施形態の第２透明電極１５と同様のパターンを有する。 On the other hand, the second transparent electrode 15 is a signal electrode and has the same pattern as the second transparent electrode 15 of the first embodiment.
＜組合せ＞
図示しないが、上記した第１実施形態〜第７実施形態および変形例を適宜組合せることができる。
<Combination>
Although not shown, the above-described first to seventh embodiments and modifications can be combined as appropriate.
１ タッチセンサ
７ 圧電センサ
８ 静電容量センサ
１１ 第１透明電極
１２ 第１基材フィルム
１３ 圧電体層
１５ 第２透明電極
１６ 第４基材フィルム
１７ 第３透明電極
２０ 第４透明電極
Ｔ１ 圧電体層の厚み
Reference Signs List 1 touch sensor 7 piezoelectric sensor 8 capacitance sensor 11 first transparent electrode 12 first base film 13 piezoelectric layer 15 second transparent electrode 16 fourth base film 17 third transparent electrode 20 fourth transparent electrode T1 piezoelectric body Layer thickness
Claims (15)
タッチされた位置の座標を検出する静電容量センサと、
前記静電容量センサの後側に配置され、前記タッチの圧力を検出する圧電センサとを備え、
前記圧電センサは、
基材フィルムと、
前記基材フィルムに支持され、厚みが０．０５μｍを超え２０μｍ未満である圧電体層と、
前記基材フィルムおよび前記圧電体層の前側に配置される第１透明電極と、
前記基材フィルムおよび前記圧電体層の後側に配置される第２透明電極とを備え、
前記第１透明電極および前記第２透明電極のいずれか一方は、基準電位電極であることを特徴とする、タッチセンサ。 A touch sensor disposed on the front side of the display,
A capacitance sensor that detects the coordinates of the touched position;
A piezoelectric sensor disposed on the rear side of the capacitance sensor to detect the pressure of the touch;
The piezoelectric sensor is
A substrate film,
A piezoelectric layer supported by the base film and having a thickness of more than 0.05 μm and less than 20 μm;
A first transparent electrode disposed on the front side of the base film and the piezoelectric layer;
The substrate film and a second transparent electrode disposed on the rear side of the piezoelectric layer;
A touch sensor, wherein any one of the first transparent electrode and the second transparent electrode is a reference potential electrode.
前記スパッタリング層が、ウルツ鉱構造を有する無機化合物をスパッタリングしたスパッタリング層である
ことを特徴とする、請求項２に記載のタッチセンサ。 The coating layer is a coating layer coated with a fluorine resin,
The touch sensor according to claim 2, wherein the sputtering layer is a sputtering layer formed by sputtering an inorganic compound having a wurtzite structure.
フッ素樹脂が、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレンおよびクロロトリフルオロエチレンからなる群から選択される少なくとも１つのモノマーが重合してなる重合体であることを特徴とする、請求項３に記載のタッチセンサ。 The piezoelectric layer is a coated layer having a thickness of more than 0.5 μm and less than 20 μm,
The touch sensor according to claim 3, wherein the fluorine resin is a polymer formed by polymerizing at least one monomer selected from the group consisting of vinylidene fluoride, tetrafluoroethylene and chlorotrifluoroethylene. .
無機化合物が、ＺｎＯ、ＺｎＳ、ＺｎＳｅ、ＺｎＴｅ、ＡｌＮ、ＧａＮ、ＣｄＳｅ、ＣｄＴｅ、および、ＳｉＣからなる群から選択される少なくとも１つを含むことを特徴とする、請求項３に記載のタッチセンサ。 The piezoelectric layer is a sputtering layer having a thickness of more than 0.05 μm and 0.5 μm or less,
The touch sensor according to claim 3, wherein the inorganic compound includes at least one selected from the group consisting of ZnO, ZnS, ZnSe, ZnTe, AlN, GaN, CdSe, CdTe, and SiC.
第２基材フィルムと、
前記第２基材フィルムの前側に配置される第３透明電極と、
前記第２基材フィルムの後側に配置される第４透明電極とを備えることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のタッチセンサ。 Capacitance sensor is
A second substrate film,
A third transparent electrode disposed on the front side of the second base film;
The touch sensor according to any one of claims 1 to 6, further comprising: a fourth transparent electrode disposed on the rear side of the second base film.
第２基材フィルムと、
前記第２基材フィルムの前側に配置される第３透明電極と、
前記第２基材フィルムの後側に配置され、前記第１透明電極によって兼ねられる第４透明電極とを備えることを特徴とする、請求項１〜６のいずれか一項に記載のタッチセンサ。 Capacitance sensor is
A second substrate film,
A third transparent electrode disposed on the front side of the second base film;
The touch sensor according to any one of claims 1 to 6, further comprising: a fourth transparent electrode disposed on the rear side of the second base film and served by the first transparent electrode.
前記基材フィルムの前面または後面に直接形成され、アンダーコート層、屈折率調整層およびアンチブロッキング層からなる群から選択される少なくとも１つの機能層
をさらに備えることを特徴とする、請求項１〜１３のいずれか一項に記載のタッチセンサ。 The piezoelectric sensor is
The method according to claim 1, further comprising at least one functional layer formed directly on the front surface or the rear surface of the substrate film and selected from the group consisting of an undercoat layer, a refractive index adjustment layer, and an antiblocking layer. The touch sensor according to any one of 13.
The touch sensor according to claim 14, wherein the reference potential electrode is disposed on an entire surface of the functional layer.
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