JP2019124795A - Reflective mirror - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、光反射ミラーに関する。本発明は、特に、可視光領域における光反射率が高く、かつ短波長側の光反射率低下を抑制できる光反射ミラーに関する。 The present invention relates to a light reflecting mirror. In particular, the present invention relates to a light reflection mirror which has a high light reflectance in a visible light region and can suppress a decrease in light reflectance on the short wavelength side.
従来、光学製品に適用されている高光反射率の光反射ミラーは、金属製の薄膜を反射層として備えており、当該反射層の材料としては、アルミニウム単体や、銀単体又は銀合金等が用いられている（例えば、特許文献１、２参照。）。
Conventionally, a light reflection mirror with high light reflectance applied to optical products is provided with a thin film made of metal as a reflection layer, and as a material of the reflection layer, aluminum alone, silver alone, silver alloy or the like is used (See, for example,
ここで、図５に、アルミニウムからなる反射層、及び銀からなる反射層における光の波長に対する光反射率変化のグラフを示す。
図５に示すように、高光反射が必要な場合には、銀反射層を採用することが好ましいが、銀反射層は短波長側で光反射率が大きく低下してしまう傾向にある。一方で、アルミニウム反射層は、短波長側で光反射率が低下することはないが、可視光領域全体における光反射率が十分ではない。
Here, FIG. 5 shows a graph of change in light reflectance with respect to the wavelength of light in the reflective layer made of aluminum and the reflective layer made of silver.
As shown in FIG. 5, when high light reflection is required, it is preferable to use a silver reflective layer, but the silver reflective layer tends to have a large decrease in light reflectance on the short wavelength side. On the other hand, in the aluminum reflective layer, the light reflectance does not decrease on the short wavelength side, but the light reflectance in the entire visible light region is not sufficient.
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、可視光領域における光反射率が高く、かつ短波長側の光反射率低下を抑制できる光反射ミラーを提供することである。 The present invention has been made in view of the above problems and circumstances, and the problem to be solved is to provide a light reflection mirror which has a high light reflectance in the visible light region and can suppress a decrease in light reflectance on the short wavelength side. It is.
本発明に係る上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討した結果、光反射ミラーが、基板上に、アルミニウム含有層及び銀含有層をこの順に備え、アルミニウム含有層及び銀含有層の層厚がそれぞれ特定の数値範囲内であることで、可視光領域における光反射率が高く、かつ短波長側の光反射率低下を抑制できることを見いだした。
すなわち、本発明に係る課題は、以下の手段により解決される。
In order to solve the above problems according to the present invention, as a result of examining the causes of the above problems, etc., the light reflection mirror comprises an aluminum-containing layer and a silver-containing layer in this order on the substrate. It has been found that the light reflectance in the visible light region is high and the decrease in light reflectance on the short wavelength side can be suppressed by the layer thickness being within each specific numerical range.
That is, the subject concerning the present invention is solved by the following means.
１．基板上に、アルミニウム含有層及び銀含有層をこの順に備え、
前記アルミニウム含有層の層厚が、３０ｎｍ以上であり、
前記銀含有層の層厚が、１０〜４０ｎｍの範囲内であることを特徴とする光反射ミラー。
1. An aluminum-containing layer and a silver-containing layer are provided in this order on the substrate,
The layer thickness of the aluminum-containing layer is 30 nm or more.
The layer thickness of the said silver content layer is in the range of 10-40 nm, The light reflection mirror characterized by the above-mentioned.
２．前記銀含有層の層厚が、２０〜４０ｎｍの範囲内であることを特徴とする第１項に記載の光反射ミラー。
2. The light reflecting mirror according to
３．前記アルミニウム含有層のアルミニウム含有量が、８０質量％以上であり、
前記銀含有層の銀含有量が、９０質量％以上であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の光反射ミラー。
3. The aluminum content of the aluminum-containing layer is 80% by mass or more,
3. The light reflecting mirror according to
４．前記銀含有層の前記アルミニウム含有層とは反対側の面上に設けられる保護層を備え、
前記保護層の屈折率が、１．４〜１．８の範囲内であることを特徴とする第１項から第３項までのいずれか一項に記載の光反射ミラー。
4. A protective layer provided on the surface of the silver-containing layer opposite to the aluminum-containing layer,
The light reflecting mirror according to any one of
５．前記保護層の屈折率が、１．４〜１．６の範囲内であることを特徴とする第４項に記載の光反射ミラー。
5. 5. The light reflecting mirror according to
６．前記保護層が、イソシアネート系化合物及びシリコン系化合物の少なくとも一方を含有することを特徴とする第４項又は第５項に記載の光反射ミラー。
6. The light reflecting mirror according to
７．４００〜６５０ｎｍの光波長領域における最低光反射率が、８８％以上であることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光反射ミラー。
7. The light reflecting mirror according to any one of
８．４００〜６５０ｎｍの光波長領域における最低光反射率が、９０％以上であることを特徴とする第７項に記載の光反射ミラー。 8. The light reflection mirror according to item 7, wherein the lowest light reflectance in the light wavelength region of 400 to 650 nm is 90% or more.
本発明によれば、可視光領域における光反射率が高く、かつ短波長側の光反射率低下を抑制できる光反射ミラーを提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a light reflection mirror which has a high light reflectance in the visible light region and can suppress a decrease in the light reflectance on the short wavelength side.
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
すなわち、基板上に、層厚３０ｎｍ以上のアルミニウム含有層と、層厚１０〜４０ｎｍの銀含有層とをこの順に備えることで、アルミニウム含有層による短波長側での光反射率低下抑制機能と、銀含有層による高光反射率とを同時に得ることができ、結果として可視光領域における光反射率が高く、かつ短波長側の光反射率低下を抑制できる光反射ミラーを提供できたものと考えている。
The mechanism for expressing the effects of the present invention or the mechanism of action is not clear but is presumed as follows.
That is, by including an aluminum-containing layer having a layer thickness of 30 nm or more and a silver-containing layer having a layer thickness of 10 to 40 nm in this order on the substrate, the light reflectance decrease suppressing function on the short wavelength side by the aluminum-containing layer, Considering that it was possible to simultaneously obtain the high light reflectance by the silver-containing layer, and as a result it is possible to provide a light reflection mirror which has a high light reflectance in the visible light region and can suppress a decrease in light reflectance on the short wavelength side. There is.
また、層厚１０〜４０ｎｍの銀含有層を、層厚３０ｎｍ以上のアルミニウム含有層と組み合わせることで、光反射ミラーが銀含有層のみで構成される場合と比較して、コストを低減することができる。 In addition, by combining a silver-containing layer having a layer thickness of 10 to 40 nm with an aluminum-containing layer having a layer thickness of 30 nm or more, the cost can be reduced as compared with the case where the light reflection mirror is formed of only the silver-containing layer. it can.
本発明の光反射ミラーは、基板上に、アルミニウム含有層及び銀含有層をこの順に備え、前記アルミニウム含有層の層厚が、３０ｎｍ以上であり、前記銀含有層の層厚が、１０〜４０ｎｍの範囲内であることを特徴とする。この特徴は、下記各実施形態に共通する又は対応する技術的特徴である。
本発明においては、前記銀含有層の層厚が、２０〜４０ｎｍの範囲内であることが好ましい。これにより、可視光領域における光反射率をさらに向上させることができる。
また、本発明においては、前記アルミニウム含有層のアルミニウム含有量が、８０質量％以上であり、前記銀含有層の銀含有量が、９０質量％以上であることが好ましい。これにより、本発明の効果をより確実に得ることができる。
また、本発明においては、前記銀含有層の前記アルミニウム含有層とは反対側の面上に設けられる保護層を備え、前記保護層の屈折率が、１．４〜１．８の範囲内であることが好ましい。これにより、可視光領域における光反射率を高い値に維持しつつ、銀含有層の耐腐食性を向上させることができる。
また、本発明においては、前記保護層の屈折率が、１．４〜１．６の範囲内であることが好ましい。これにより、可視光領域における光反射率をより高い値に維持しつつ、銀含有層の耐腐食性を向上させることができる。
また、本発明においては、前記保護層が、イソシアネート系化合物及びシリコン系化合物の少なくとも一方を含有することが好ましい。これにより、銀原子の凝集を抑制することができ、光反射ミラーの耐湿性を向上させることができる。
また、本発明においては、４００〜６５０ｎｍの光波長領域における最低光反射率が、８８％以上であることが好ましい。
また、本発明においては、４００〜６５０ｎｍの光波長領域における最低光反射率が、９０％以上であることが好ましい。
The light reflection mirror of the present invention comprises an aluminum-containing layer and a silver-containing layer in this order on a substrate, wherein the layer thickness of the aluminum-containing layer is 30 nm or more, and the layer thickness of the silver-containing layer is 10 to 40 nm In the range of This feature is a technical feature common to or corresponding to the following embodiments.
In the present invention, the thickness of the silver-containing layer is preferably in the range of 20 to 40 nm. Thereby, the light reflectance in the visible light region can be further improved.
Further, in the present invention, it is preferable that the aluminum content of the aluminum-containing layer is 80% by mass or more, and the silver content of the silver-containing layer is 90% by mass or more. Thereby, the effects of the present invention can be obtained more reliably.
In the present invention, a protective layer is provided on the side opposite to the aluminum-containing layer of the silver-containing layer, and the refractive index of the protective layer is in the range of 1.4 to 1.8. Is preferred. Thereby, the corrosion resistance of the silver-containing layer can be improved while maintaining the light reflectance in the visible light region at a high value.
In the present invention, the refractive index of the protective layer is preferably in the range of 1.4 to 1.6. Thereby, the corrosion resistance of the silver-containing layer can be improved while maintaining the light reflectance in the visible light region at a higher value.
Further, in the present invention, the protective layer preferably contains at least one of an isocyanate compound and a silicon compound. Thereby, aggregation of silver atoms can be suppressed, and the moisture resistance of the light reflection mirror can be improved.
Moreover, in the present invention, it is preferable that the lowest light reflectance in the light wavelength region of 400 to 650 nm is 88% or more.
In the present invention, the lowest light reflectance in the light wavelength region of 400 to 650 nm is preferably 90% or more.
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。 BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Hereinafter, the present invention, its components, and modes and modes for carrying out the present invention will be described in detail. In the present application, “to” is used in the meaning including the numerical values described before and after that as the lower limit value and the upper limit value.
《光反射ミラーの概要》
本発明者らは、アルミニウム含有層上に銀含有層を形成すると、銀含有層の層厚が薄くても可視光領域において高い光反射率が得られ、かつ短波長側の光反射率低下を抑制できることを見いだした。これについて図１を参照して以下説明する。
Outline of light reflection mirror
When the present inventors form a silver-containing layer on an aluminum-containing layer, high light reflectance is obtained in the visible light region even if the thickness of the silver-containing layer is thin, and the light reflectance decreases on the short wavelength side. I found that I could suppress it. This will be described below with reference to FIG.
図１（ａ）は、層厚３０ｎｍ、６０ｎｍ、９０ｎｍの銀含有層単体における波長に対する光反射率変化のグラフ、図１（ｂ）は、層厚３０ｎｍのアルミニウム含有層と、層厚３０ｎｍ、６０ｎｍ、９０ｎｍの銀含有層それぞれとの積層体における波長に対する光反射率変化のグラフである。なお、図１（ｂ）に示す光反射率は、銀含有層側から光を照射した場合の光反射率である。 FIG. 1 (a) is a graph of the change in light reflectance with wavelength in single silver-containing layers having a layer thickness of 30 nm, 60 nm and 90 nm, and FIG. 1 (b) is an aluminum-containing layer with a layer thickness of 30 nm and 30 nm and 60 nm 6 is a graph of light reflectance change with wavelength in a laminate with each of the 90 nm silver-containing layers. In addition, the light reflectivity shown to FIG. 1B is a light reflectivity at the time of irradiating light from the silver containing layer side.
図１（ａ）及び（ｂ）に示されるように、アルミニウム含有層と銀含有層との積層体は、可視光領域（波長４００〜６５０ｎｍ）において高い光反射率を維持し、銀含有層単体と比較して短波長側の光反射率低下が抑制されていることが分かる。
As shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), the laminate of the aluminum-containing layer and the silver-containing layer maintains high light reflectance in the visible light region (
上記のような知見に基づき、本発明の光反射ミラーは、基板上に、アルミニウム含有層及び銀含有層をこの順に備え、アルミニウム含有層の層厚が、３０ｎｍ以上であり、銀含有層の層厚が、１０〜４０ｎｍの範囲内であることを特徴とする。
このような構成により、４００〜６５０ｎｍの光波長領域における最低光反射率を９２％以上にすることができる。
また、計算ソフトＴＦＣａｌｃ（Ｓｏｆｔｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．製）を用いて、アルミニウム含有層（アルミニウム含有量：９５質量％以上）と銀含有層（銀含有量：９９質量％以上）とを積層した場合において、各層の層厚をそれぞれ変更させた場合の可視光領域（波長４００〜６５０ｎｍ）における最低光反射率及び光反射率比を求めたとき、光波長領域４００〜４５０ｎｍの範囲内の平均光反射率（Ｒ１）と光波長領域４５０ｎｍ超６５０ｎｍ以下の範囲内の平均光反射率（Ｒ２）との比の値、すなわち、
光反射率比の値＝Ｒ１／Ｒ２
は、０．９８以上にすることができる。
なお、本発明の光反射ミラーには、保護層を設けることができるが、この場合、４００〜６５０ｎｍの光波長領域における最低光反射率が８８％以上、さらには９０％以上を達成することができるように保護層の層厚、屈折率等を調整することが好ましい。
Based on the above findings, the light reflection mirror of the present invention comprises an aluminum-containing layer and a silver-containing layer in this order on a substrate, and the layer thickness of the aluminum-containing layer is 30 nm or more. It is characterized in that the thickness is in the range of 10 to 40 nm.
With such a configuration, the lowest light reflectance in the light wavelength region of 400 to 650 nm can be 92% or more.
In addition, in the case where an aluminum-containing layer (aluminum content: 95 mass% or more) and a silver-containing layer (silver content: 99 mass% or more) are laminated using calculation software TFCalc (manufactured by Software Spectra, Inc.) And the average light reflectance within the light wavelength range of 400 to 450 nm when the lowest light reflectance and light reflectance ratio in the visible light range (
Light reflectance ratio value = R1 / R2
Can be 0.98 or more.
In the light reflection mirror of the present invention, a protective layer can be provided. In this case, the lowest light reflectance in the light wavelength range of 400 to 650 nm is 88% or more, and further 90% or more. It is preferable to adjust the layer thickness, refractive index and the like of the protective layer so as to be able to.
次に、本発明の光反射ミラーの具体的な構成について、図２を参照して説明する。図２は、本発明の光反射ミラーの概略構成を示す断面図である。 Next, a specific configuration of the light reflection mirror of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a schematic configuration of the light reflection mirror of the present invention.
本発明の光反射ミラー１０は、基板１、当該基板１上に設けられ、層厚が３０ｎｍ以上のアルミニウム含有層２、アルミニウム含有層２上に設けられ、層厚が１０〜４０ｎｍの範囲内の銀含有層３、銀含有層３上に設けられる保護層４等を備える。
The
それぞれの各層間及び保護層４上には、必要に応じて各種機能性層が設けられていても良く、また、基板のアルミニウム含有層２とは反対側の面に粘着層や接着層等が設けられて、光反射ミラー１０自体が他の部材等に貼合されていても良い。
If necessary, various functional layers may be provided on the respective layers and the
以下、各構成層について詳細に説明する。 Each component layer will be described in detail below.
〔１〕基板
基材は、光反射ミラーのベースとなる部材であり、その少なくとも一方の面がアルミニウム含有層に被覆される平坦な光学面を有する。
[1] Substrate The substrate is a member to be a base of the light reflecting mirror, and has a flat optical surface on which at least one surface is coated with the aluminum-containing layer.
基板は、ガラス、樹脂又は金属からなる。樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類又はそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリアリレート類等が挙げられる。金属としては、例えば、アルミニウム、ステンレス等が挙げられる。 The substrate is made of glass, resin or metal. Examples of the resin include polyesters such as polyethylene terephthalate (PET) and polyethylene naphthalate (PEN), polyethylene, polypropylene, cellophane, cellulose diacetate, cellulose triacetate (TAC), cellulose acetate butyrate, cellulose acetate propionate (CAP) ), Cellulose esters such as cellulose acetate phthalate, cellulose nitrate or derivatives thereof, polyvinylidene chloride, polyvinyl alcohol, polyethylene vinyl alcohol, syndiotactic polystyrene, polycarbonate, norbornene resin, polymethylpentene, polyether ketone, polyimide, Polyether sulfone (PES), polyphenylene sulfide, polysulfones, and polyether Ruimido, polyether ketone imide, polyamide, fluorine resin, nylon, polymethyl methacrylate, acrylic resins, polyarylates, and the like. As a metal, aluminum, stainless steel, etc. are mentioned, for example.
〔２〕アルミニウム含有層
アルミニウム含有層は、基板上に設けられ、アルミニウムを含有する層である。アルミニウム含有層の層厚は、３０ｎｍ以上であるが、より高い光反射率を得る観点から、４０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましい。また、膜割れや膜浮きを防止する観点から、２００ｎｍ以下であることが好ましく、特に、８０ｎｍ以下であることがより好ましい。８０ｎｍ以下であると、耐熱環境下においてクラックの発生をより確実に抑えることができ、信頼性をさらに向上させることができる。
[2] Aluminum-Containing Layer The aluminum-containing layer is a layer provided on a substrate and containing aluminum. The layer thickness of the aluminum-containing layer is 30 nm or more, preferably 40 nm or more, and more preferably 50 nm or more from the viewpoint of obtaining higher light reflectance. Further, from the viewpoint of preventing film breakage and film floating, the thickness is preferably 200 nm or less, and particularly preferably 80 nm or less. When the thickness is 80 nm or less, the occurrence of cracks can be more reliably suppressed in a heat-resistant environment, and the reliability can be further improved.
アルミニウム含有層は、アルミニウムを主成分とし、その他に、銀、マグネシウム、銅、インジウムリチウム、アルミニウム化合物（例えば、酸化アルミニウム等）等を含有していても良い。ここで、主成分とは、アルミニウム含有層を構成する材料の中で最も含有割合が高い材料であることを意味する。また、アルミニウム含有層のアルミニウム含有量が８０質量％以上であることが好ましい。 The aluminum-containing layer may contain aluminum as its main component, and may further contain silver, magnesium, copper, indium lithium, an aluminum compound (eg, aluminum oxide etc.), and the like. Here, the main component means that the material having the highest content ratio among the materials constituting the aluminum-containing layer. Moreover, it is preferable that the aluminum content of an aluminum containing layer is 80 mass% or more.
アルミニウム含有層の形成方法としては、例えば、塗布法、インクジェット法、コーティング法、ディップ法等のウェットプロセスを用いる方法や、蒸着法（抵抗加熱、ＥＢ法等。）、スパッタ法、ＣＶＤ法等のドライプロセスを用いる方法を適用することができる。中でも蒸着法及びスパッタ法が好ましい。また、適宜の方法でアルミニウム含有層を成膜した後、必要に応じてアニール処理（加熱処理）を行っても良い。当該アニール処理としては、例えば、アルミニウム含有層が４０〜１５０℃の範囲内となるように加熱することが好ましい。 As a method of forming the aluminum-containing layer, for example, a method using a wet process such as a coating method, an inkjet method, a coating method, a dip method, a vapor deposition method (resistance heating, EB method etc.), a sputtering method, a CVD method, etc. A method using a dry process can be applied. Among these, vapor deposition and sputtering are preferred. In addition, after forming the aluminum-containing layer by an appropriate method, annealing treatment (heat treatment) may be performed as necessary. As the said annealing process, it is preferable to heat so that an aluminum containing layer may become in the range of 40-150 degreeC, for example.
〔３〕銀含有層
銀含有層は、アルミニウム含有層上に設けられ、銀を含有する層である。銀含有層の層厚は、１０〜４０ｎｍの範囲内であり、好ましくは２０〜４０ｎｍの範囲内である。２０〜４０ｎｍの範囲内であることで、可視光領域の光反射率をさらに向上させることができる。
[3] Silver-Containing Layer The silver-containing layer is a layer provided on the aluminum-containing layer and containing silver. The layer thickness of the silver-containing layer is in the range of 10 to 40 nm, preferably in the range of 20 to 40 nm. By being in the range of 20 to 40 nm, the light reflectance in the visible light region can be further improved.
銀含有層は、銀を主成分とし、その他の金属や銀化合物（例えば、酸化銀等）を含有していても良い。ここで、主成分とは、銀含有層を構成する材料の中で最も含有割合が高い材料であることを意味する。また、銀含有層の銀含有量が９０質量％以上であることが好ましい。 The silver-containing layer may contain silver as a main component and may contain other metals or silver compounds (eg, silver oxide etc.). Here, the main component means that the material having the highest content ratio among the materials constituting the silver-containing layer. Moreover, it is preferable that silver content of a silver containing layer is 90 mass% or more.
銀含有層に銀とともに含有されるその他の金属としては、例えば、亜鉛、金、銅、パラジウム、アルミニウム、マンガン、ビスマス、ネオジム、モリブデン、白金、チタン、クロム等が挙げられる。例えば、銀と亜鉛とが組み合わされると、銀含有層の耐硫化性が高まる。また、銀と金とが組み合わされると、銀含有層の耐塩（ＮａＣｌ）性が高まる。さらに、銀と銅とが組み合わされると、銀含有層の耐酸化性が高まる。銀含有層に含まれる各原子の種類や含有量は、例えば、ＸＰＳ（X-ray Photoelectron Spectroscopy）法等で特定され得る。 Examples of other metals contained in the silver-containing layer together with silver include zinc, gold, copper, palladium, aluminum, manganese, bismuth, neodymium, molybdenum, platinum, titanium, chromium and the like. For example, the combination of silver and zinc increases the sulfur resistance of the silver-containing layer. Also, when silver and gold are combined, the salt resistance (NaCl) of the silver-containing layer is enhanced. Furthermore, the combination of silver and copper increases the oxidation resistance of the silver-containing layer. The type and content of each atom contained in the silver-containing layer can be specified by, for example, an X-ray photoelectron spectroscopy (XPS) method or the like.
銀含有層の形成方法としては、上記アルミニウム含有層の形成方法と同様の方法が挙げられる。 As a formation method of a silver containing layer, the method similar to the formation method of the said aluminum containing layer is mentioned.
〔４〕保護層
保護層は、必要に応じて、銀含有層のアルミニウム含有層とは反対側の面上に設けられる。保護層が設けられていることにより、銀含有層の酸化等、腐食による光反射率の低下を抑制することができる。
[4] Protective Layer The protective layer is provided on the surface of the silver-containing layer opposite to the aluminum-containing layer, if necessary. By providing the protective layer, it is possible to suppress a decrease in light reflectance due to corrosion such as oxidation of the silver-containing layer.
保護層は、銀含有層の腐食を抑制可能な安定な材料からなり、光反射ミラーの光反射率に与える影響が少ない層であることが好ましい。したがって、保護層としては、有機化合物を含有する層であっても良いし、無機化合物を含有する層であっても良いが、凝集抑制及びガスバリアー性の観点から有機化合物を含有する層であることが好ましい。 The protective layer is preferably a layer made of a stable material capable of suppressing the corrosion of the silver-containing layer and having less influence on the light reflectance of the light reflection mirror. Therefore, the protective layer may be a layer containing an organic compound or a layer containing an inorganic compound, but is a layer containing an organic compound from the viewpoint of aggregation suppression and gas barrier properties. Is preferred.
保護層に含有される有機化合物としては、例えば、イソシアネート樹脂、変性シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、エチレンビニルアルコール樹脂、ビニル変性樹脂、エポキシ樹脂、変性スチレン樹脂、アセタール樹脂等が挙げられる。これらは１種単独で使用されても良いし、２種以上を併せて使用されても良い。また、これらの樹脂には、従来公知の添加剤を加えることもできる。
また、保護層に含有される無機化合物としては、例えば、Ｓｉ、Ｔｉ及びＺｒの少なくとも１種を含む金属化合物であり、金属アルコキシド、アルコキシシラン等のシラン化合物、シラザン化合物、金属ハロゲン化物等が挙げられる。これにより、保護層の水蒸気透過率を低減することができ、また、紫外光による保護層の着色を抑制することができる。
Examples of the organic compound contained in the protective layer include isocyanate resin, modified silicone resin, polyester resin, urethane resin, acrylic resin, ethylene vinyl alcohol resin, vinyl modified resin, epoxy resin, modified styrene resin, acetal resin and the like. Be These may be used singly or in combination of two or more. In addition, conventionally known additives can also be added to these resins.
The inorganic compound contained in the protective layer is, for example, a metal compound containing at least one of Si, Ti and Zr, and examples thereof include metal alkoxides, silane compounds such as alkoxysilanes, silazane compounds, metal halides and the like. Be Thereby, the water vapor transmission rate of the protective layer can be reduced, and the coloring of the protective layer due to ultraviolet light can be suppressed.
また、保護層の層厚は、光反射ミラーの光反射率に与える影響が少ない範囲であることが好ましく、例えば、５０〜５０００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
本発明においては、保護層の屈折率が、１．４〜１．８の範囲内であることが好ましい。さらに、当該保護層の屈折率が、１．４〜１．６の範囲内であることが好ましい。これにより、可視光領域における光反射率をより高い値に維持できる。
また、本発明においては、保護層が、イソシアネート系化合物及びシリコン系化合物の少なくとも一方を含有することが好ましい。これにより、銀原子の凝集を抑制することができ、光反射ミラーの耐湿性を向上させることができる。
Further, the layer thickness of the protective layer is preferably in a range in which the light reflectance of the light reflecting mirror is less affected, and for example, preferably in the range of 50 to 5000 nm.
In the present invention, the refractive index of the protective layer is preferably in the range of 1.4 to 1.8. Furthermore, it is preferable that the refractive index of the said protective layer exists in the range of 1.4-1.6. Thereby, the light reflectance in the visible light region can be maintained at a higher value.
In the present invention, the protective layer preferably contains at least one of an isocyanate compound and a silicon compound. Thereby, aggregation of silver atoms can be suppressed, and the moisture resistance of the light reflection mirror can be improved.
保護層の形成方法としては、例えば、グラビアコート、バーコート、スプレー、スピンコート等の方法が挙げられる。 Examples of the method for forming the protective layer include methods such as gravure coating, bar coating, spraying, and spin coating.
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。 EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be specifically described by way of examples, but the present invention is not limited thereto. In addition, although the display of "part" or "%" is used in an Example, unless otherwise indicated, it represents "mass part" or "mass%."
［実施例１］
計算ソフトＴＦＣａｌｃ（Ｓｏｆｔｗａｒｅ Ｓｐｅｃｔｒａ，Ｉｎｃ．製）を用いて、アルミニウム含有層（アルミニウム含有量：９５質量％以上）と銀含有層（銀含有量：９９質量％以上）とを積層した場合において、各層の層厚をそれぞれ変更させた場合の可視光領域（波長４００〜６５０ｎｍ）における最低光反射率及び光反射率比を求めた。光反射率比は、下記式に従って算出した。下記式中、Ｒ１は、光波長領域４００〜４５０ｎｍの範囲内の平均光反射率、Ｒ２は、光波長領域４５０ｎｍ超６５０ｎｍ以下の範囲内の平均光反射率を表す。
光反射率比＝Ｒ１／Ｒ２
Example 1
Each layer in the case where an aluminum-containing layer (aluminum content: 95 mass% or more) and a silver-containing layer (silver content: 99 mass% or more) are laminated using calculation software TFCalc (manufactured by Software Spectra, Inc.) The lowest light reflectance and light reflectance ratio in the visible light region (
Light reflectance ratio = R1 / R2
上記のようにして求めた最低光反射率を表Iに、光反射率比を表IIにそれぞれ示す。 The lowest light reflectances determined as described above are shown in Table I, and the light reflectance ratios are shown in Table II.
表I及び表IIから明らかなように、アルミニウム含有層の層厚が３０ｎｍ以上、かつ銀含有層の層厚が１０〜４０ｎｍの範囲内であるとき、光反射率が９２．０％以上、光反射率比が０．９８０以上となっていることが分かる。したがって、本発明によれば、可視光領域における光反射率が高く、かつ短波長側の光反射率低下を抑制できる光反射ミラーを提供することができるといえる。
また、銀含有層の層厚が２０〜４０ｎｍの範囲内であるとき、９３．９％以上の光反射率を示しており、より高い光反射率が得られることが分かる。
As apparent from Tables I and II, when the layer thickness of the aluminum-containing layer is 30 nm or more and the layer thickness of the silver-containing layer is in the range of 10 to 40 nm, the light reflectance is 92.0% or more, the light It can be seen that the reflectance ratio is 0.980 or more. Therefore, according to the present invention, it can be said that it is possible to provide a light reflection mirror which has a high light reflectance in the visible light region and can suppress a decrease in the light reflectance on the short wavelength side.
Moreover, when the layer thickness of a silver content layer is in the range of 20-40 nm, the light reflectivity of 93.9% or more is shown, and it turns out that a higher light reflectivity is obtained.
［実施例２］
《光反射ミラー２０１の作製》
基材として、三菱エンジニアリングプラスチックス社製のポリカーボネート（ＰＣ）（商品名：ユーピロン Ｈ−３０００Ｒ）を、直径３０ｍｍで厚さ３ｍｍに成形したものを準備した。
Example 2
<< Production of Light Reflection Mirror 201>
What prepared polycarbonate (PC) (brand name: Iupilon H-3000R) by Mitsubishi Engineering-Plastics Co., Ltd. as a base material in 30 mm in diameter and 3 mm in thickness was prepared.
蒸着装置ＢＥＳ−１３００ＤＮ（シンクロン社製）を用いて、上記基材の一方の面上に、層厚１００ｎｍのアルミニウム含有層（アルミニウム含有量：９５質量％）、及び層厚２０ｎｍの銀含有層（銀含有量：９９質量％）をこの順に形成して、光反射ミラー２０１を作製した。 An aluminum-containing layer having a layer thickness of 100 nm (aluminum content: 95% by mass), and a silver-containing layer having a layer thickness of 20 nm on one surface of the above substrate using a vapor deposition apparatus BES-1300DN (manufactured by Syncron Co., Ltd.) Silver content: 99 mass%) was formed in this order, and the light reflection mirror 201 was produced.
《光反射ミラー２０２〜２０４の作製》
上記光反射ミラー２０１の作製において、銀含有層の層厚を３０ｎｍ、４０ｎｍ、７５ｎｍに変更した以外は同様にして、光反射ミラー２０２〜２０４を作製した。
<< Preparation of light reflection mirrors 202-204 >>
The light reflecting mirrors 202 to 204 were produced in the same manner as in the production of the light reflecting mirror 201 except that the thickness of the silver-containing layer was changed to 30 nm, 40 nm, and 75 nm.
《光反射ミラー２０１〜２０４の評価》
上記作製した光反射ミラー２０１〜２０４に対して、日立計測製Ｕ−４１００を用いて、５°における波長３５０〜６５０ｎｍの範囲内の光反射率を測定した。その結果を図３（ａ）に示す。
<< Evaluation of light reflection mirrors 201-204 >>
The light reflectivity in the range of wavelength 350-650 nm in 5 degrees was measured with respect to the produced said light reflection mirrors 201-204 using Hitachi measurement U-4100. The results are shown in FIG. 3 (a).
また、上記実施例１と同様にして、層厚１００ｎｍのアルミニウム含有層と、層厚２０、３０、４０、７０ｎｍの銀含有層とを積層した場合における波長３５０〜６５０ｎｍの範囲内の光反射率を求めた場合の結果を図３（ｂ）に示す。 Further, in the same manner as in Example 1 above, the light reflectance in the wavelength range of 350 to 650 nm when an aluminum containing layer having a thickness of 100 nm and a silver containing layer having a thickness of 20, 30, 40 or 70 nm are laminated. The result in the case of obtaining is shown in FIG. 3 (b).
図３（ａ）及び（ｂ）に示すように、作製したサンプルに対して測定して得た光反射率は、計算ソフトで求めた光反射率とおおむね一致している。したがって、本発明によれば、可視光領域における光反射率が高く、かつ短波長側の光反射率低下を抑制できる光反射ミラーを提供することができることが確認された。 As shown to FIG. 3 (a) and (b), the light reflectivity obtained by measuring with respect to the produced sample is substantially in agreement with the light reflectivity calculated | required by calculation software. Therefore, it was confirmed that according to the present invention, it is possible to provide a light reflecting mirror which has a high light reflectance in the visible light region and can suppress a decrease in light reflectance on the short wavelength side.
［実施例３］
上記実施例１と同様にして、層厚５０ｎｍのアルミニウム含有層と、層厚３０ｎｍの銀含有層とを積層した場合における波長３５０〜６５０ｎｍの範囲内の光反射率を求めた。また、同様の構成のアルミニウム含有層及び銀含有層上に、層厚３００ｎｍの保護層（屈折率ｎ＝１．４、１．５、１．６、１．７、１．８、１．９、２．０）を積層した場合における波長３５０〜６５０ｎｍの範囲内の光反射率を求めた。それらの結果を図４に示す。
[Example 3]
The light reflectance in the wavelength range of 350 to 650 nm was determined in the case where an aluminum-containing layer having a layer thickness of 50 nm and a silver-containing layer having a layer thickness of 30 nm were laminated in the same manner as in Example 1 above. In addition, a protective layer having a layer thickness of 300 nm (refractive index n = 1.4, 1.5, 1.6, 1.7, 1.8, 1.9) is formed on the aluminum-containing layer and the silver-containing layer having the same constitution. The light reflectance in the wavelength range of 350 to 650 nm in the case of laminating 2.0) was determined. The results are shown in FIG.
図４に示すように、保護層の屈折率ｎが１．４〜１．８の範囲内であると、可視光領域における最低光反射率が８８％程度となり、可視光領域における光反射率を高い値に維持できる。また、保護層の屈折率ｎが１．４〜１．６の範囲内であると、可視光領域における最低光反射率が９０％程度となり、可視光領域における光反射率をより高い値に維持できる。 As shown in FIG. 4, when the refractive index n of the protective layer is in the range of 1.4 to 1.8, the lowest light reflectance in the visible light region is about 88%, and the light reflectance in the visible light region is It can be maintained at a high value. In addition, when the refractive index n of the protective layer is in the range of 1.4 to 1.6, the lowest light reflectance in the visible light region is about 90%, and the light reflectance in the visible light region is maintained at a higher value it can.
１ 基板
２ アルミニウム含有層
３ 銀含有層
４ 保護層
１０ 光反射ミラー
1
Claims (8)
前記アルミニウム含有層の層厚が、３０ｎｍ以上であり、
前記銀含有層の層厚が、１０〜４０ｎｍの範囲内であることを特徴とする光反射ミラー。 An aluminum-containing layer and a silver-containing layer are provided in this order on the substrate,
The layer thickness of the aluminum-containing layer is 30 nm or more.
The layer thickness of the said silver content layer is in the range of 10-40 nm, The light reflection mirror characterized by the above-mentioned.
前記銀含有層の銀含有量が、９０質量％以上であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光反射ミラー。 The aluminum content of the aluminum-containing layer is 80% by mass or more,
The light reflection mirror according to claim 1 or 2, wherein the silver content of the silver-containing layer is 90% by mass or more.
前記保護層の屈折率が、１．４〜１．８の範囲内であることを特徴とする請求項１から請求項３までのいずれか一項に記載の光反射ミラー。 A protective layer provided on the surface of the silver-containing layer opposite to the aluminum-containing layer,
The light reflecting mirror according to any one of claims 1 to 3, wherein the refractive index of the protective layer is in the range of 1.4 to 1.8.
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