JP2019078609A - Method of manufacturing physical quantity sensor, physical quantity sensor, inertial measurement device, mobile positioning device, portable electronic device, electronic device, and mobile body - Google Patents

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Abstract

To provide a manufacturing method for a physical quantity sensor which is easy to manufacture and effectively reduces unwanted vibrations, and to provide the physical quantity sensor, inertial measurement device, mobile positioning device, portable electronic device, electronic device, and mobile body.SOLUTION: A physical quantity sensor of the present invention comprises a vibrator, and a spring that supports the vibrator in a manner that allows the vibrator to vibrate in a first direction. The spring comprises an arm extending along a second direction perpendicular to the first direction, and a protective beam disposed next to the arm on one side in the first direction to extend in the second direction.SELECTED DRAWING: Figure 17

Description

本発明は、物理量センサーの製造方法、物理量センサー、慣性計測装置、移動体測位装置、携帯型電子機器、電子機器および移動体に関するものである。   The present invention relates to a method of manufacturing a physical quantity sensor, a physical quantity sensor, an inertial measurement device, a mobile object positioning device, a portable electronic device, an electronic device, and a mobile object.

従来から、ジャイロセンサー(物理量センサー)として、特許文献1に記載の構成が知られている。特許文献1に記載されているジャイロセンサーは、X軸方向に振動可能なフレームと、フレームの内側に配置されたプルーフ質量と、プルーフ質量がフレームに対してY軸方向に変位可能となるようにプルーフ質量およびフレームを連結するビームと、プルーフ質量に対向配置されたセンス電極と、を有している。このようなジャイロセンサーでは、フレームをプルーフ質量と共にX軸方向に振動させた状態(この状態を以下「駆動振動モード」と言う。)でZ軸(X軸およびY軸の両軸に直交する軸)まわりの角速度が加わると、コリオリ力によってプルーフ質量がY軸方向に変位し、プルーフ質量とセンス電極との間の静電容量が変化する。そのため、静電容量の変化に基づいて、角速度を検出することができる。   DESCRIPTION OF RELATED ART Conventionally, the structure of patent document 1 is known as a gyro sensor (physical quantity sensor). The gyro sensor described in Patent Document 1 has a frame that can vibrate in the X-axis direction, a proof mass disposed inside the frame, and a proof mass that can be displaced in the Y-axis direction with respect to the frame. A proof mass and a beam connecting the frame and a sense electrode disposed opposite to the proof mass. In such a gyro sensor, an axis orthogonal to both the X-axis and the Y-axis in a state in which the frame is vibrated in the X-axis direction together with the proof mass (this state is hereinafter referred to as "drive vibration mode"). Coriolis force displaces the proof mass in the Y-axis direction when the angular velocity around it is applied, and the capacitance between the proof mass and the sense electrode changes. Therefore, the angular velocity can be detected based on the change in capacitance.

特表2002−540406号公報Japanese Patent Application Publication No. 2002-540406

また、特許文献1では、ビームの断面形状が平行四辺形のように矩形からずれてしまうと、駆動振動モードにおいてフレームおよびプルーフ質量がX軸方向のみならずY軸方向にも振動してしまい、角速度の検出特性が低下する問題を指摘している。特許文献1では、レーザー照射によってビームの一部を加工(除去)することで、前述のようなY軸方向への不要な振動(この振動を「クアドラチャ」とも言う)を低減している。   Further, in Patent Document 1, when the cross-sectional shape of the beam deviates from the rectangle as in a parallelogram, the frame and the proof mass vibrate not only in the X-axis direction but also in the Y-axis direction in the drive vibration mode. It points out the problem that the detection characteristic of angular velocity decreases. In Patent Document 1, a part of the beam is processed (removed) by laser irradiation to reduce unnecessary vibration in the Y-axis direction as described above (this vibration is also referred to as “quadrature”).

しかしながら、レーザーをビームに照射するためには、高い位置合わせ精度が必要である。また、レーザー照射では、ビームの複数個所を同時に加工することが困難である。このように、レーザー照射によってビームを加工する方法では、生産性(効率)が悪いという問題がある。   However, in order to irradiate the laser with a laser, high alignment accuracy is required. Further, it is difficult to simultaneously process a plurality of portions of the beam by laser irradiation. Thus, in the method of processing a beam by laser irradiation, there is a problem that productivity (efficiency) is bad.

本発明の目的は、製造が容易で、不要振動を効果的に低減することのできる物理量センサーの製造方法、物理量センサー、慣性計測装置、移動体測位装置、携帯型電子機器、電子機器および移動体を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a method of manufacturing a physical quantity sensor that is easy to manufacture and can effectively reduce unnecessary vibration, a physical quantity sensor, an inertial measurement apparatus, a mobile positioning apparatus, a portable electronic apparatus, an electronic apparatus and a mobile To provide.

本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の発明として実現することが可能である。   The present invention has been made to solve at least a part of the above-mentioned problems, and can be realized as the following invention.

本発明の物理量センサーの製造方法は、基板にマスクを形成するマスク形成工程と、
前記マスクを介して前記基板をドライエッチングすることで、前記基板から素子部を形成する素子部形成工程と、を有し、
前記素子部は、
振動体と、
前記振動体を第1方向に振動可能に支持するばねと、を有し、
前記ばねは、
前記第1方向と直交する第2方向に沿って延在するアームと、
前記アームに対して前記第1方向の一方側に隣り合って配置され、前記第2方向に沿って延在する保護梁と、を有することを特徴とする。
これにより、保護梁によってアームの横断面形状を制御することができ、クアドラチャが効果的に抑制された物理量センサーを製造することができる。
The method of manufacturing a physical quantity sensor according to the present invention comprises the steps of: forming a mask on a substrate;
An element portion forming step of forming an element portion from the substrate by dry etching the substrate through the mask;
The element unit is
A vibrating body,
And a spring for vibratably supporting the vibrator in a first direction,
The spring is
An arm extending along a second direction orthogonal to the first direction;
And a protection beam disposed adjacent to one side in the first direction with respect to the arm and extending in the second direction.
Thereby, the cross-sectional shape of the arm can be controlled by the protective beam, and the physical quantity sensor in which the quadrature is effectively suppressed can be manufactured.

本発明の物理量センサーの製造方法では、前記素子部形成工程では、前記基板から複数の前記素子部が形成され、
少なくとも2つの前記素子部において、前記アームと前記保護梁との離間距離が互いに異なっていることが好ましい。
これにより、基板内での位置に影響されることなく、各素子部のアームの横断面形状を所望の形状とすることができる。
In the method of manufacturing a physical quantity sensor according to the present invention, in the element portion forming step, a plurality of the element portions are formed from the substrate,
Preferably, in at least two of the element portions, the separation distance between the arm and the protective beam is different from each other.
Thereby, the cross-sectional shape of the arm of each element part can be made into a desired shape, without being influenced by the position in a board | substrate.

本発明の物理量センサーは、振動体と、
前記振動体を第1方向に振動可能に支持するばねと、を有し、
前記ばねは、
前記第1方向と直交する第2方向に沿って延在するアームと、
前記アームに対して前記第1方向の一方側に隣り合って配置され、前記第2方向に沿って延在する保護梁と、を有することを特徴とする。
これにより、保護梁によってアームの横断面形状を制御することができ、クアドラチャが効果的に抑制された物理量センサーが得られる。
The physical quantity sensor of the present invention comprises a vibrator and
And a spring for vibratably supporting the vibrator in a first direction,
The spring is
An arm extending along a second direction orthogonal to the first direction;
And a protection beam disposed adjacent to one side in the first direction with respect to the arm and extending in the second direction.
Thereby, the cross-sectional shape of the arm can be controlled by the protective beam, and a physical quantity sensor in which the quadrature is effectively suppressed can be obtained.

本発明の物理量センサーでは、前記ばねは、前記第1方向に並んで配置されている複数の前記アームを有し、
前記保護梁は、隣り合う一対の前記アームの間に配置されていることが好ましい。
これにより、アーム同士が直接接触することを防止することができる。また、保護梁によって、接触時の衝撃を緩和することもできる。そのため、アームの破損を効果的に抑制することができる。
In the physical quantity sensor of the present invention, the spring includes a plurality of the arms arranged side by side in the first direction,
Preferably, the protective beam is disposed between a pair of adjacent arms.
Thereby, direct contact between the arms can be prevented. Moreover, the impact beam at the time of a contact can also be relieved by a protection beam. Therefore, breakage of the arm can be effectively suppressed.

本発明の物理量センサーでは、前記ばねは、隣り合う一対の前記アームを接続する接続部を有し、
前記保護梁は、前記接続部に接続されていることが好ましい。
接続部は、アームと比較して、ばねの特性に影響を与え難い箇所である。そのため、接続部に保護梁を接続することで、ばねの特性の変動を効果的に抑制することができる。また、保護梁を含めたばね全体の設計が、アームに保護梁が接続されている場合と比べて容易となる。
In the physical quantity sensor of the present invention, the spring has a connection portion connecting the pair of adjacent arms,
Preferably, the protective beam is connected to the connecting portion.
The connection portion is a portion which hardly affects the characteristics of the spring as compared with the arm. Therefore, by connecting the protective beam to the connection portion, it is possible to effectively suppress the fluctuation of the characteristics of the spring. Also, the design of the entire spring including the protective beam is easier than when the protective beam is connected to the arm.

本発明の物理量センサーでは、前記保護梁は、前記アームに接続されていることが好ましい。
これにより、保護梁をアームと共に変位させることができ、保護梁とアームとの意図しない接触を効果的に抑制することができる。
In the physical quantity sensor of the present invention, preferably, the protective beam is connected to the arm.
Thereby, the protective beam can be displaced together with the arm, and an unintended contact between the protective beam and the arm can be effectively suppressed.

本発明の物理量センサーでは、前記保護梁は、前記第2方向に沿って複数配置されていることが好ましい。
これにより、保護梁を短くすることができ、その分、保護梁の機械的強度が向上する。
In the physical quantity sensor of the present invention, it is preferable that a plurality of the protective beams are disposed along the second direction.
As a result, the protective beam can be shortened, and the mechanical strength of the protective beam is improved accordingly.

本発明の物理量センサーでは、隣り合う一対の前記アームの一方と前記保護梁との離間距離と、他方と前記保護梁との離間距離と、が異なっていることが好ましい。
これにより、アーム同士の離間距離を十分に離しつつ、アームと保護梁とを十分に接近させることができる。そのため、駆動時のアーム同士の接触を抑制することができると共に、アームの横断面形状をより効果的に制御することができる。
In the physical quantity sensor of the present invention, it is preferable that a separation distance between one of the pair of adjacent arms and the protective beam and a separation distance between the other and the protective beam be different.
As a result, the arms and the protective beam can be sufficiently approached while sufficiently separating the arms from each other. Therefore, while being able to suppress the contact of the arms at the time of a drive, the cross-sectional shape of an arm can be controlled more effectively.

本発明の慣性計測装置は、本発明の物理量センサーと、
前記物理量センサーの駆動を制御する制御回路と、を含むことを特徴とする。
これにより、本発明の物理量センサーの効果を享受でき、信頼性の高い慣性計測装置が得られる。
An inertial measurement device of the present invention is a physical quantity sensor of the present invention,
And a control circuit that controls driving of the physical quantity sensor.
Thereby, the effect of the physical quantity sensor of the present invention can be obtained, and a highly reliable inertial measurement device can be obtained.

本発明の移動体測位装置は、本発明の慣性計測装置と、
測位用衛星から位置情報が重畳された衛星信号を受信する受信部と、
受信した前記衛星信号に基づいて、前記受信部の位置情報を取得する取得部と、
前記慣性計測装置から出力された慣性データに基づいて、移動体の姿勢を演算する演算部と、
算出された前記姿勢に基づいて前記位置情報を補正することにより、前記移動体の位置を算出する算出部と、を含むことを特徴とする。
これにより、本発明の慣性計測装置の効果を享受でき、信頼性の高い移動体測位装置が得られる。
A mobile positioning device according to the present invention comprises the inertial measurement device according to the present invention;
A receiver for receiving a satellite signal on which position information is superimposed from a positioning satellite;
An acquisition unit that acquires position information of the reception unit based on the received satellite signal;
An arithmetic unit that calculates the attitude of the moving object based on the inertial data output from the inertial measurement device;
And calculating a position of the moving body by correcting the position information based on the calculated attitude.
Thereby, the effect of the inertial measurement device of the present invention can be enjoyed, and a highly reliable mobile positioning device can be obtained.

本発明の携帯型電子機器は、本発明の物理量センサーと、
前記物理量センサーが収容されているケースと、
前記ケースに収容され、前記物理量センサーからの出力データを処理する処理部と、
前記ケースに収容されている表示部と、
前記ケースの開口部を塞いでいる透光性カバーと、を含むことを特徴とする。
これにより、本発明の物理量センサーの効果を享受でき、信頼性の高い携帯型電子機器が得られる。
A portable electronic device of the present invention is the physical quantity sensor of the present invention,
A case containing the physical quantity sensor;
A processing unit housed in the case and processing output data from the physical quantity sensor;
A display unit housed in the case;
And a translucent cover closing the opening of the case.
Thereby, the effect of the physical quantity sensor of the present invention can be enjoyed, and a highly reliable portable electronic device can be obtained.

本発明の電子機器は、本発明の物理量センサーと、
前記物理量センサーから出力された検出信号に基づいて制御を行う制御部と、を含むことを特徴とする。
これにより、本発明の物理量センサーの効果を享受でき、信頼性の高い電子機器が得られる。
An electronic device of the present invention includes the physical quantity sensor of the present invention,
And a control unit that performs control based on a detection signal output from the physical quantity sensor.
Thereby, the effect of the physical quantity sensor of the present invention can be obtained, and a highly reliable electronic device can be obtained.

本発明の移動体は、本発明の物理量センサーと、
前記物理量センサーから出力された検出信号に基づいて制御を行う制御部と、を含むことを特徴とする。
これにより、本発明の物理量センサーの効果を享受でき、信頼性の高い移動体が得られる。
A mobile according to the present invention is a physical quantity sensor according to the present invention,
And a control unit that performs control based on a detection signal output from the physical quantity sensor.
Thereby, the effect of the physical quantity sensor of the present invention can be enjoyed, and a highly reliable mobile object can be obtained.

本発明の第1実施形態に係る物理量センサーを示す平面図である。It is a top view showing a physical quantity sensor concerning a 1st embodiment of the present invention. 図1中のA−A線断面図である。It is the sectional view on the AA line in FIG. 図1の物理量センサーが有する素子部を示す平面図である。It is a top view which shows the element part which the physical quantity sensor of FIG. 1 has. 図1の物理量センサーに印加する電圧を示す図である。It is a figure which shows the voltage applied to the physical quantity sensor of FIG. 図3に示す素子部の振動モードを説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the vibration mode of the element part shown in FIG. 図3に示す素子部が有するばねを示す平面図である。It is a top view which shows the spring which the element part shown in FIG. 3 has. 図6中のB−B線断面図である。It is the BB sectional drawing in FIG. 図6に示すばねの変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the spring shown in FIG. 図6に示すばねの変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the spring shown in FIG. 図6に示すばねの変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the spring shown in FIG. 図6に示すばねの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the spring shown in FIG. 図6に示すばねの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the spring shown in FIG. 図6に示すばねの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the spring shown in FIG. 図6に示すばねの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the spring shown in FIG. 図3に示す素子部が有する駆動ばねを示す平面図である。It is a top view which shows the drive spring which the element part shown in FIG. 3 has. 図3に示す素子部が有する駆動ばねを示す平面図である。It is a top view which shows the drive spring which the element part shown in FIG. 3 has. 図3に示す素子部が有する検出ばねを示す平面図である。It is a top view which shows the detection spring which the element part shown in FIG. 3 has. 図3に示す素子部が有する接続ばねを示す平面図である。It is a top view which shows the connection spring which the element part shown in FIG. 3 has. 図1に示す物理量センサーの製造方法を示すフローチャートである。It is a flowchart which shows the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。It is sectional drawing for demonstrating the manufacturing method of the physical quantity sensor shown in FIG. 本発明の第2実施形態に係る物理量センサーが有するばねを示す平面図である。It is a top view which shows the spring which the physical quantity sensor which concerns on 2nd Embodiment of this invention has. 本発明の第3実施形態に係る物理量センサーが有するばねを示す平面図である。It is a top view which shows the spring which the physical quantity sensor which concerns on 3rd Embodiment of this invention has. 本発明の第4実施形態に係る慣性計測装置の分解斜視図である。It is an exploded perspective view of an inertial measurement device concerning a 4th embodiment of the present invention. 図27に示す慣性計測装置が有する基板の斜視図である。FIG. 28 is a perspective view of a substrate of the inertial measurement device shown in FIG. 27. 本発明の第5実施形態に係る移動体測位装置の全体システムを示すブロック図である。It is a block diagram showing the whole system of the mobile positioning device concerning a 5th embodiment of the present invention. 図29に示す移動体測位装置の作用を示す図である。It is a figure which shows the effect | action of the mobile positioning device shown in FIG. 本発明の第6実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view showing the electronic equipment concerning a 6th embodiment of the present invention. 本発明の第7実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view showing the electronic equipment concerning a 7th embodiment of the present invention. 本発明の第8実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic device which concerns on 8th Embodiment of this invention. 本発明の第9実施形態に係る携帯型電子機器を示す平面図である。It is a top view which shows the portable electronic device which concerns on 9th Embodiment of this invention. 図34に示す携帯型電子機器の概略構成を示す機能ブロック図である。It is a functional block diagram which shows schematic structure of the portable electronic device shown in FIG. 本発明の第10実施形態に係る移動体を示す斜視図である。It is a perspective view showing the mobile concerning a 10th embodiment of the present invention.

以下、本発明の物理量センサーの製造方法、物理量センサー、慣性計測装置、移動体測位装置、携帯側電子機器、電子機器および移動体を添付図面に示す実施形態に基づいて詳細に説明する。   Hereinafter, a method of manufacturing a physical quantity sensor, a physical quantity sensor, an inertial measurement device, a mobile positioning device, a portable electronic device, an electronic device, and a mobile according to the present invention will be described in detail based on embodiments shown in the attached drawings.

<第1実施形態>
まず、本発明の第1実施形態に係る物理量センサーおよび物理量センサーの製造方法について説明する。
First Embodiment
First, a physical quantity sensor and a method of manufacturing the physical quantity sensor according to the first embodiment of the present invention will be described.

図1は、本発明の第1実施形態に係る物理量センサーを示す平面図である。図2は、図1中のA−A線断面図である。図3は、図1の物理量センサーが有する素子部を示す平面図である。図4は、図1の物理量センサーに印加する電圧を示す図である。図5は、図3に示す素子部の振動モードを説明するための模式図である。図6は、図3に示す素子部が有するばねを示す平面図である。図7は、図6中のB−B線断面図である。図8ないし図10は、それぞれ、図6に示すばねの変形例を示す断面図である。図11ないし図14は、それぞれ、図6に示すばねの製造方法を説明するための断面図である。図15および図16は、それぞれ、図3に示す素子部が有する駆動ばねを示す平面図である。図17は、図3に示す素子部が有する検出ばねを示す平面図である。図18は、図3に示す素子部が有する接続ばねを示す平面図である。図19は、図1に示す物理量センサーの製造方法を示すフローチャートである。図20ないし図24は、ぞれぞれ、図1に示す物理量センサーの製造方法を説明するための断面図である。   FIG. 1 is a plan view showing a physical quantity sensor according to a first embodiment of the present invention. FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. FIG. 3 is a plan view showing an element portion of the physical quantity sensor of FIG. FIG. 4 is a diagram showing voltages applied to the physical quantity sensor of FIG. FIG. 5 is a schematic view for explaining a vibration mode of the element portion shown in FIG. 6 is a plan view showing a spring included in the element portion shown in FIG. 7 is a cross-sectional view taken along the line B-B in FIG. 8 to 10 are cross-sectional views showing modifications of the spring shown in FIG. 11 to 14 are cross-sectional views for explaining the method of manufacturing the spring shown in FIG. 15 and 16 are each a plan view showing a drive spring of the element portion shown in FIG. FIG. 17 is a plan view showing a detection spring included in the element portion shown in FIG. FIG. 18 is a plan view showing a connection spring included in the element portion shown in FIG. FIG. 19 is a flowchart showing a method of manufacturing the physical quantity sensor shown in FIG. 20 to 24 are cross-sectional views for explaining the method of manufacturing the physical quantity sensor shown in FIG.

各図には、互いに直交する3つの軸としてX軸、Y軸およびZ軸が図示されている。また、X軸に平行な方向を「X軸方向」、Y軸に平行な方向を「Y軸方向」、Z軸に平行な方向を「Z軸方向」とも言う。また、各軸の矢印先端側を「プラス側」とも言い、反対側を「マイナス側」とも言う。また、Z軸方向プラス側を「上」とも言い、Z軸方向マイナス側を「下」とも言う。   In each figure, an X axis, a Y axis, and a Z axis are illustrated as three axes orthogonal to each other. A direction parallel to the X axis is also referred to as "X axis direction", a direction parallel to the Y axis as "Y axis direction", and a direction parallel to the Z axis as "Z axis direction". Moreover, the arrow tip side of each axis is also referred to as "plus side", and the opposite side is also referred to as "minus side". Moreover, the Z axis direction plus side is also referred to as "upper", and the Z axis direction minus side is also referred to as "down".

なお、本願明細書において、「直交」とは、90°で交わっている場合の他、90°から若干傾いた角度(例えば、90°±5°)で交わっている場合も含むものである。具体的には、X軸がYZ平面の法線方向に対して±5°程度傾いている場合、Y軸がXZ平面の法線方向に対して±5°程度傾いている場合、Z軸がXY平面の法線方向に対して±5°程度傾いている場合、についても「直交」に含まれる。   In the specification of the present application, the term "orthogonal" includes the case where they intersect at an angle slightly inclined from 90 ° (for example, 90 ° ± 5 °), in addition to the case where they intersect at 90 °. Specifically, when the X axis is inclined by about ± 5 ° with respect to the normal direction of the YZ plane, the Y axis is inclined by about ± 5 ° with respect to the normal direction of the XZ plane. The case of being inclined by about ± 5 ° with respect to the normal direction of the XY plane is also included in “orthogonal”.

図1に示す物理量センサー1は、Y軸まわりの角速度ωyを検出することのできる角速度センサーである。物理量センサー1は、基板2と、蓋体3と、素子部4と、を有している。   The physical quantity sensor 1 shown in FIG. 1 is an angular velocity sensor capable of detecting an angular velocity ωy around the Y axis. The physical quantity sensor 1 includes a substrate 2, a lid 3, and an element unit 4.

図1に示すように、基板2は、矩形の平面視形状を有している。また、基板2は、上面に開放する凹部21を有している。凹部21は、素子部4と基板2との接触を防止(抑制)するための逃げ部として機能する。また、基板2は、凹部21の底面から突出する複数のマウント22(221、222、224、225)を有している。そして、これらマウント22の上面に素子部4が接合されている。これにより、基板2との接触が防止された状態で、基板2に素子部4を固定することができる。また、基板2は、上面に開放する溝部23、24、25、26、27、28を有している。   As shown in FIG. 1, the substrate 2 has a rectangular shape in plan view. Further, the substrate 2 has a recess 21 opened on the top surface. The concave portion 21 functions as a relief portion for preventing (suppressing) the contact between the element portion 4 and the substrate 2. The substrate 2 also has a plurality of mounts 22 (221, 222, 224, 225) protruding from the bottom surface of the recess 21. The element portion 4 is bonded to the upper surface of the mount 22. Thereby, the element portion 4 can be fixed to the substrate 2 in a state where the contact with the substrate 2 is prevented. Further, the substrate 2 has groove portions 23, 24, 25, 26, 27, 28 opened on the upper surface.

基板2としては、例えば、アルカリ金属イオン(ナトリウムイオン:Na)を含むガラス材料、具体的にはテンパックスガラス(登録商標)、パイレックスガラス(登録商標)のような硼珪酸ガラスで構成されたガラス基板を用いることができる。ただし、基板2の構成材料としては、特に限定されず、シリコン基板、セラミックス基板等を用いてもよい。 The substrate 2 is made of, for example, a glass material containing an alkali metal ion (sodium ion: Na + ), specifically, borosilicate glass such as Tempax glass (registered trademark) or Pyrex glass (registered trademark). A glass substrate can be used. However, the constituent material of the substrate 2 is not particularly limited, and a silicon substrate, a ceramic substrate or the like may be used.

図1に示すように、凹部21の底面には固定検出電極81、82が配置されている。また、溝部23、24、25、26、27、28には、配線73、74、75、76、77、78が配置されている。配線73、74、77、78は、それぞれ、素子部4と電気的に接続されており、配線75、76は、固定検出電極81、82と電気的に接続されている。また、配線73、74、75、76、77、78の一端部は、それぞれ、蓋体3の外側に露出し、外部装置との電気的な接続を行う電極パッドPとして機能する。   As shown in FIG. 1, fixed detection electrodes 81 and 82 are disposed on the bottom of the recess 21. Wirings 73, 74, 75, 76, 77, 78 are disposed in the grooves 23, 24, 25, 26, 27, 28. The wires 73, 74, 77, 78 are electrically connected to the element unit 4, and the wires 75, 76 are electrically connected to the fixed detection electrodes 81, 82. In addition, one end portions of the wires 73, 74, 75, 76, 77, 78 are exposed to the outside of the lid 3 and function as electrode pads P for electrical connection with an external device.

図1に示すように、蓋体3は、矩形の平面視形状を有している。また、図2に示すように、蓋体3は、下面に開放する凹部31を有している。蓋体3は、凹部31内に素子部4を収納するようにして、基板2の上面に接合されている。そして、蓋体3および基板2によって、その内側に、素子部4を収納する収納空間Sが形成されている。   As shown in FIG. 1, the lid 3 has a rectangular plan view shape. Moreover, as shown in FIG. 2, the cover 3 has the recessed part 31 opened to a lower surface. The lid 3 is joined to the top surface of the substrate 2 so as to accommodate the element portion 4 in the recess 31. Then, a storage space S for storing the element portion 4 is formed inside the lid 3 and the substrate 2.

また、図2に示すように、蓋体3は、収納空間Sの内外を連通する連通孔32を有している。そのため、連通孔32を介して、収納空間Sを所望の雰囲気に置換することができる。また、連通孔32内には封止部材33が配置され、封止部材33によって連通孔32が気密封止されている。なお、収納空間Sは、減圧状態、特に真空状態であることが好ましい。これにより、粘性抵抗が減り、素子部4を効率的に振動させることができる。   Further, as shown in FIG. 2, the lid 3 has a communication hole 32 communicating the inside and the outside of the storage space S. Therefore, the storage space S can be replaced with a desired atmosphere via the communication hole 32. Further, a sealing member 33 is disposed in the communication hole 32, and the communication hole 32 is hermetically sealed by the sealing member 33. The storage space S is preferably in a reduced pressure state, particularly in a vacuum state. Thereby, the viscous resistance is reduced, and the element unit 4 can be vibrated efficiently.

このような蓋体3としては、例えば、シリコン基板を用いることができる。ただし、蓋体3としては、特に限定されず、例えば、ガラス基板やセラミックス基板を用いてもよい。また、基板2と蓋体3との接合方法としては、特に限定されず、基板2や蓋体3の材料によって適宜選択すればよいが、例えば、陽極接合、プラズマ照射によって活性化させた接合面同士を接合させる活性化接合、ガラスフリット等の接合材による接合、基板2の上面および蓋体3の下面に成膜した金属膜同士を接合する拡散接合等が挙げられる。本実施形態では、ガラスフリット39(低融点ガラス)を介して基板2と蓋体3とが接合されている。   For example, a silicon substrate can be used as such a lid 3. However, the lid 3 is not particularly limited, and for example, a glass substrate or a ceramic substrate may be used. The method of bonding the substrate 2 and the lid 3 is not particularly limited, and may be appropriately selected depending on the materials of the substrate 2 and the lid 3. However, for example, bonding surfaces activated by anodic bonding or plasma irradiation Examples include activation bonding for bonding together, bonding using a bonding material such as glass frit, and diffusion bonding for bonding metal films formed on the upper surface of the substrate 2 and the lower surface of the lid 3. In the present embodiment, the substrate 2 and the lid 3 are bonded via the glass frit 39 (low melting point glass).

素子部4は、収納空間Sに配置されており、マウント22の上面に接合されている。素子部4は、例えば、リン(P)、ボロン(B)、砒素(As)等の不純物がドープされた導電性のシリコン基板をドライエッチング法(シリコンディープエッチング。特にボッシュ法)によってパターニングすることで形成することができる。以下、素子部4の構成を図3に基づいて説明する。なお、以下では、Z軸方向からの平面視で、素子部4の中心Oと交わり、Y軸方向に延びる直線を「仮想直線α」とも言う。また、図3では、説明の便宜上、素子部4の詳細までは図示していない。素子部4の詳細については、図15〜図18に基づいて、別途説明する。   The element unit 4 is disposed in the storage space S, and is joined to the upper surface of the mount 22. For example, the element section 4 is to pattern a conductive silicon substrate doped with an impurity such as phosphorus (P), boron (B), arsenic (As) or the like by a dry etching method (silicon deep etching, particularly a Bosch method). Can be formed by Hereinafter, the configuration of the element unit 4 will be described based on FIG. Hereinafter, a straight line that intersects with the center O of the element unit 4 and extends in the Y-axis direction in plan view from the Z-axis direction is also referred to as a “virtual straight line α”. Further, in FIG. 3, the details of the element unit 4 are not shown for convenience of explanation. The details of the element unit 4 will be separately described based on FIGS. 15 to 18.

図3に示すように、素子部4の形状は、仮想直線αに対して対称である。また、素子部4は、仮想直線αの両側に配置された2つの駆動部41A、41Bを有している。駆動部41Aは、櫛歯状の可動駆動電極411Aと、櫛歯状をなし可動駆動電極411Aと噛み合って配置された固定駆動電極412Aと、を有している。同様に、駆動部41Bは、櫛歯状の可動駆動電極411Bと、櫛歯状をなし可動駆動電極411Bと噛み合って配置された固定駆動電極412Bと、を有している。   As shown in FIG. 3, the shape of the element unit 4 is symmetrical with respect to the imaginary straight line α. Further, the element unit 4 includes two drive units 41A and 41B disposed on both sides of the imaginary straight line α. The drive portion 41A has a comb-shaped movable drive electrode 411A, and a fixed drive electrode 412A which has a comb shape and is disposed so as to be engaged with the movable drive electrode 411A. Similarly, the drive unit 41B has a comb-shaped movable drive electrode 411B and a fixed drive electrode 412B which has a comb shape and is disposed so as to be engaged with the movable drive electrode 411B.

また、固定駆動電極412A、412Bは、それぞれ、マウント221の上面に接合され、基板2に固定されている。また、可動駆動電極411A、411Bは、それぞれ、配線73と電気的に接続され、固定駆動電極412A、412Bは、それぞれ、配線74と電気的に接続されている。   The fixed drive electrodes 412A and 412B are each bonded to the upper surface of the mount 221 and fixed to the substrate 2. The movable drive electrodes 411A and 411B are electrically connected to the wiring 73, respectively, and the fixed drive electrodes 412A and 412B are electrically connected to the wiring 74, respectively.

また、素子部4は、駆動部41Aの周囲に配置された4つの固定部42Aと、駆動部41Bの周囲に配置された4つの固定部42Bと、を有している。そして、各固定部42A、42Bは、マウント222の上面に接合され、基板2に固定されている。   Further, the element unit 4 includes four fixing portions 42A arranged around the driving portion 41A and four fixing portions 42B arranged around the driving portion 41B. The fixing portions 42 </ b> A and 42 </ b> B are bonded to the top surface of the mount 222 and fixed to the substrate 2.

また、素子部4は、各固定部42Aと可動駆動電極411Aとを連結する4つの駆動ばね43Aと、各固定部42Bと可動駆動電極411Bとを連結する4つの駆動ばね43Bと、を有している。各駆動ばね43AがX軸方向に弾性変形することで可動駆動電極411AのX軸方向への変位が許容され、各駆動ばね43BがX軸方向に弾性変形することで可動駆動電極411BのX軸方向への変位が許容される。   Further, the element unit 4 has four drive springs 43A for connecting the fixed portions 42A and the movable drive electrodes 411A, and four drive springs 43B for connecting the fixed portions 42B and the movable drive electrodes 411B. ing. Each drive spring 43A is elastically deformed in the X-axis direction to allow displacement of the movable drive electrode 411A in the X-axis direction, and each drive spring 43B is elastically deformed in the X-axis direction to move the X-axis of the movable drive electrode 411B. Displacement in the direction is allowed.

可動駆動電極411A、411Bを振動させるには、例えば、配線73を介して図4に示す電圧V1を可動駆動電極411A、411Bに印加し、配線74を介して図4に示す電圧V2を固定駆動電極412A、412Bに印加する。電圧V1は、GND基準(例えば、0.9V程度の電位)よりも大きい15V程度の定電圧であり、電圧V2は、GND基準を中心とした矩形波である。   To vibrate the movable drive electrodes 411A and 411B, for example, the voltage V1 shown in FIG. 4 is applied to the movable drive electrodes 411A and 411B via the wiring 73, and the voltage V2 shown in FIG. The voltage is applied to the electrodes 412A and 412B. The voltage V1 is a constant voltage of about 15 V larger than the GND reference (for example, a potential of about 0.9 V), and the voltage V2 is a rectangular wave centered on the GND reference.

これにより、可動駆動電極411Aと固定駆動電極412Aとの間および可動駆動電極411Bと固定駆動電極412Bとの間にそれぞれ静電引力が発生し、可動駆動電極411Aが駆動ばね43AをX軸方向に弾性変形させつつX軸方向に振動すると共に、可動駆動電極411Bが駆動ばね43BをX軸方向に弾性変形させつつX軸方向に振動する。前述したように、駆動部41A、41Bは、仮想直線αに対して対称的に配置されているため、可動駆動電極411A、411Bは、互いに接近、離間するようにX軸方向に逆相で振動する。そのため、可動駆動電極411A、411Bの振動がキャンセルされ、振動漏れを低減することができる。以下では、この振動モードを「駆動振動モード」とも言う。   As a result, electrostatic attraction is generated between movable drive electrode 411A and fixed drive electrode 412A and between movable drive electrode 411B and fixed drive electrode 412B, and movable drive electrode 411A moves drive spring 43A in the X-axis direction. The movable drive electrode 411B vibrates in the X axis direction while elastically deforming the drive spring 43B in the X axis direction while vibrating in the X axis direction while being elastically deformed. As described above, since the drive parts 41A and 41B are disposed symmetrically with respect to the imaginary straight line α, the movable drive electrodes 411A and 411B vibrate in the opposite phase in the X axis direction so as to approach and separate from each other. Do. Therefore, the vibration of the movable drive electrodes 411A and 411B is cancelled, and the vibration leakage can be reduced. Hereinafter, this vibration mode is also referred to as "drive vibration mode".

なお、駆動振動モードを励振することができれば、電圧V1、V2としては、特に限定されない。また、本実施形態の物理量センサー1では、静電引力によって駆動振動モードを励振させる静電駆動方式となっているが、励振させる方式は、特に限定されず、例えば、圧電駆動方式、磁場のローレンツ力を利用した電磁駆動方式等を適用することもできる。   The voltages V1 and V2 are not particularly limited as long as the driving vibration mode can be excited. Further, in the physical quantity sensor 1 of the present embodiment, an electrostatic drive system in which the drive vibration mode is excited by electrostatic attraction is used, but a system in which excitation is not particularly limited, for example, a piezoelectric drive system, Lorentz of a magnetic field It is also possible to apply an electromagnetic drive system or the like using power.

また、素子部4は、駆動部41Aと仮想直線αとの間に位置する検出部44Aと、駆動部41Bと仮想直線αとの間に位置する検出部44Bと、を有している。検出部44Aは、板状の可動検出電極441Aで構成されている。同様に、検出部44Bは、板状の可動検出電極441Bで構成されている。また、可動検出電極441Aは、固定検出電極81と対向して配置され、可動検出電極441Bは、固定検出電極82と対向して配置されている。   The element unit 4 further includes a detection unit 44A located between the drive unit 41A and the virtual straight line α, and a detection unit 44B located between the drive unit 41B and the virtual straight line α. The detection unit 44A is configured of a plate-like movable detection electrode 441A. Similarly, the detection unit 44B is configured of a plate-like movable detection electrode 441B. The movable detection electrode 441A is disposed to face the fixed detection electrode 81, and the movable detection electrode 441B is disposed to face the fixed detection electrode 82.

可動検出電極441A、441Bは、それぞれ、配線73と電気的に接続され、固定検出電極81は、配線75と電気的に接続され、固定検出電極82は、配線76と電気的に接続されている。そして、物理量センサー1の駆動時には、可動検出電極441Aと固定検出電極81との間に静電容量Caが形成され、可動検出電極441Bと固定検出電極82との間に静電容量Cbが形成される。   The movable detection electrodes 441A and 441B are electrically connected to the wiring 73, the fixed detection electrode 81 is electrically connected to the wiring 75, and the fixed detection electrode 82 is electrically connected to the wiring 76. . When the physical quantity sensor 1 is driven, a capacitance Ca is formed between the movable detection electrode 441A and the fixed detection electrode 81, and a capacitance Cb is formed between the movable detection electrode 441B and the fixed detection electrode 82. Ru.

また、素子部4は、検出部44A、44Bの間に配置された2つの固定部451、452を有している。固定部451、452は、それぞれ、マウント224の上面に接合され、基板2に固定されている。なお、本実施形態では、固定部451、452を介して、可動駆動電極411A、411Bや可動検出電極441A、441Bが配線73と電気的に接続されている。   Further, the element unit 4 includes two fixing portions 451 and 452 disposed between the detection units 44A and 44B. The fixing portions 451 and 452 are respectively bonded to the upper surface of the mount 224 and fixed to the substrate 2. In the present embodiment, the movable drive electrodes 411A and 411B and the movable detection electrodes 441A and 441B are electrically connected to the wiring 73 through the fixed portions 451 and 452, respectively.

また、素子部4は、可動検出電極441Aと固定部42A、451、452とを連結する4つの検出ばね46Aと、可動検出電極441Bと固定部42B、451、452とを連結する4つの検出ばね46Bと、を有している。各検出ばね46AがX軸方向に弾性変形することで可動検出電極441AのX軸方向への変位が許容され、Z軸方向に弾性変形することで可動検出電極441AのZ軸方向への変位が許容される。同様に、各検出ばね46BがX軸方向に弾性変形することで可動検出電極441BのX軸方向への変位が許容され、Z軸方向に弾性変形することで可動検出電極441BのZ軸方向への変位が許容される。   The element unit 4 also includes four detection springs 46A connecting the movable detection electrode 441A and the fixed portions 42A, 451 and 452, and four detection springs connecting the movable detection electrode 441B and the fixed portions 42B, 451 and 452 And 46B. Each detection spring 46A elastically deforms in the X-axis direction to allow displacement of the movable detection electrode 441A in the X-axis direction, and elastic deformation in the Z-axis direction causes displacement of the movable detection electrode 441A in the Z-axis direction Permissible. Similarly, each detection spring 46B elastically deforms in the X-axis direction to allow displacement of the movable detection electrode 441B in the X-axis direction, and elastically deforms in the Z-axis direction to move the movable detection electrode 441B in the Z-axis direction Displacement is acceptable.

また、素子部4は、可動駆動電極411Aと可動検出電極441Aとの間に位置し、これらを接続する梁47Aと、可動駆動電極411Bと可動検出電極441Bとの間に位置し、これらを接続する梁47Bと、を有している。そのため、図5に示すように、駆動振動モードでは、可動検出電極441A、441Bも、可動駆動電極411A、411Bと一体となってX軸方向に逆相で振動する。言い換えると、駆動振動モードでは、可動駆動電極411A、可動検出電極441Aおよび梁47Aの集合体である可動体4A(振動体)と、可動駆動電極411B、可動検出電極441Bおよび梁47Bの集合体である可動体4B(振動体)と、がX軸方向に逆相で振動する。   The element unit 4 is located between the movable drive electrode 411A and the movable detection electrode 441A, and is located between the beam 47A connecting these, the movable drive electrode 411B and the movable detection electrode 441B, and these are connected And the beam 47B. Therefore, as shown in FIG. 5, in the drive vibration mode, the movable detection electrodes 441A and 441B also vibrate in the opposite phase in the X-axis direction integrally with the movable drive electrodes 411A and 411B. In other words, in the drive vibration mode, the movable body 4A (oscillator) which is an assembly of the movable drive electrode 411A, the movable detection electrode 441A and the beam 47A, and the assembly of the movable drive electrode 411B, the movable detection electrode 441B and the beam 47B A certain movable body 4B (oscillator) vibrates in the opposite phase in the X-axis direction.

このような駆動振動モードで駆動させている最中に物理量センサー1に角速度ωyが加わると、可動検出電極441A、441Bは、コリオリの力によって、図5中の矢印Aに示すように、検出ばね46A、46BをZ軸方向に弾性変形させつつZ軸方向に逆相で振動する。なお、以下では、この振動モードを「検出振動モード」とも言う。検出振動モードでは、可動検出電極441A、441BがZ軸方向に振動するため、可動検出電極441Aと固定検出電極81とのギャップおよび可動検出電極441Bと固定検出電極82とのギャップがそれぞれ変化し、それに伴って静電容量Ca、Cbがそれぞれ変化する。そのため、静電容量Ca、Cbの変化に基づいて、角速度ωyを求めることができる。   When angular velocity ωy is applied to the physical quantity sensor 1 while driving in such a driving vibration mode, the movable detection electrodes 441A and 441B are detected spring as shown by an arrow A in FIG. It vibrates in the opposite phase in the Z-axis direction while elastically deforming 46A and 46B in the Z-axis direction. In addition, below, this vibration mode is also called "detection vibration mode." In the detection vibration mode, since the movable detection electrodes 441A and 441B vibrate in the Z-axis direction, the gap between the movable detection electrode 441A and the fixed detection electrode 81 and the gap between the movable detection electrode 441B and the fixed detection electrode 82 change, Along with that, the capacitances Ca and Cb change respectively. Therefore, the angular velocity ωy can be obtained based on the changes in the capacitances Ca and Cb.

検出振動モードでは、静電容量Caが大きくなると静電容量Cbが小さくなり、反対に、静電容量Caが小さくなると静電容量Cbが大きくなる。そのため、配線75から出力される検出信号(静電容量Caの大きさに応じた信号)と、配線76から出力される検出信号(静電容量Cbの大きさに応じた信号)とを差動演算(減算処理:Ca−Cb)することで、ノイズをキャンセルすることができ、より精度よく角速度ωyを検出することができる。   In the detection vibration mode, the electrostatic capacitance Cb decreases as the electrostatic capacitance Ca increases, and conversely, the electrostatic capacitance Cb increases as the electrostatic capacitance Ca decreases. Therefore, the detection signal (signal according to the size of the capacitance Ca) output from the wiring 75 and the detection signal (signal according to the size of the capacitance Cb) output from the wiring 76 are differentially By performing calculation (subtraction processing: Ca-Cb), noise can be canceled, and the angular velocity ωy can be detected more accurately.

また、図3に示すように、素子部4は、その中央部(検出部44A、44Bの間)に位置するフレーム48を有している。フレーム48は、「H」形状をなし、Y軸方向マイナス側に位置する欠損部481(凹部)と、Y軸方向プラス側に位置する欠損部482(凹部)と、を有している。そして、欠損部481の内外に亘って固定部451が配置されており、欠損部482の内外に亘って固定部452が配置されている。これにより、固定部451、452をそれぞれY軸方向に長く形成することができ、その分、基板2との接合面積が増え、基板2と素子部4との接合強度が増す。   Further, as shown in FIG. 3, the element unit 4 has a frame 48 located at the central portion (between the detection units 44A and 44B). The frame 48 has an “H” shape, and includes a defective portion 481 (recessed portion) located on the negative side in the Y-axis direction and a defective portion 482 (recessed portion) located on the positive side in the Y-axis direction. The fixing portion 451 is disposed over the inside and outside of the defect portion 481, and the fixing portion 452 is disposed over the inside and outside of the defect portion 482. As a result, the fixing portions 451 and 452 can be formed long in the Y-axis direction, and the bonding area with the substrate 2 is increased accordingly, and the bonding strength between the substrate 2 and the element portion 4 is increased.

また、素子部4は、固定部451とフレーム48との間に位置し、これらを接続するフレームばね488と、固定部452とフレーム48との間に位置し、これらを接続するフレームばね489と、を有している。フレームばね488、489は、それぞれ、Y軸方向に延在しており、X軸方向に弾性変形可能となっている。   The element portion 4 is located between the fixed portion 451 and the frame 48, and is connected with a frame spring 488, and between the fixed portion 452 and the frame 48 with a frame spring 489 for connecting these. ,have. The frame springs 488 and 489 respectively extend in the Y-axis direction, and are elastically deformable in the X-axis direction.

また、素子部4は、フレーム48と可動検出電極441Aとの間に位置し、これらを接続する接続ばね40Aと、フレーム48と可動検出電極441Bとの間に位置し、これらを接続する接続ばね40Bと、を有している。接続ばね40Aは、検出ばね46Aと共に可動検出電極441Aを支持し、接続ばね40Bは、検出ばね46Bと共に可動検出電極441Bを支持している。これにより、可動検出電極441A、441Bをより安定した姿勢で支持することができ、可動検出電極441A、441Bの不要振動(スプリアス)を低減することができる。   Further, the element portion 4 is located between the frame 48 and the movable detection electrode 441A, and is a connection spring for connecting these, and between the frame 48 and the movable detection electrode 441B, and a connection spring for connecting these. And 40B. The connection spring 40A supports the movable detection electrode 441A together with the detection spring 46A, and the connection spring 40B supports the movable detection electrode 441B together with the detection spring 46B. As a result, the movable detection electrodes 441A and 441B can be supported in a more stable posture, and unnecessary vibration (spurious) of the movable detection electrodes 441A and 441B can be reduced.

また、素子部4は、駆動振動モードでの可動検出電極441A、441Bの振動状態を検出するためのモニター部49A、49Bを有している。モニター部49Aは、可動検出電極441Aに配置された櫛歯状の可動モニター電極491Aと、櫛歯状をなし可動モニター電極491Aと噛み合って配置された固定モニター電極492A、493Aと、を有している。同様に、モニター部49Bは、可動検出電極441Bに配置された櫛歯状の可動モニター電極491Bと、櫛歯状をなし可動モニター電極491Bと噛み合って配置された固定モニター電極492B、493Bと、を有している。また、固定モニター電極492A、493A、492B、493Bは、それぞれ、マウント225の上面に接合され、基板2に固定されている。   The element unit 4 further includes monitor units 49A and 49B for detecting the vibration state of the movable detection electrodes 441A and 441B in the drive vibration mode. The monitor unit 49A includes a comb-shaped movable monitor electrode 491A disposed on the movable detection electrode 441A, and fixed monitor electrodes 492A and 493A which are comb-shaped and are engaged with the movable monitor electrode 491A. There is. Similarly, the monitor unit 49B includes a comb-like movable monitor electrode 491B disposed on the movable detection electrode 441B, and fixed monitor electrodes 492B and 493B having a comb-like shape and engaged with the movable monitor electrode 491B. Have. The fixed monitor electrodes 492A, 493A, 492B, 493B are respectively bonded to the upper surface of the mount 225 and fixed to the substrate 2.

モニター部49Aでは、可動モニター電極491AのX軸方向プラス側に固定モニター電極492Aが位置し、X軸方向マイナス側に固定モニター電極493Aが位置している。一方、モニター部49Bでは、可動モニター電極491BのX軸方向マイナス側に固定モニター電極492Bが位置し、X軸方向プラス側に固定モニター電極493Bが位置している。   In the monitor 49A, the fixed monitor electrode 492A is positioned on the positive side in the X-axis direction of the movable monitor electrode 491A, and the fixed monitor electrode 493A is positioned on the negative side in the X-axis direction. On the other hand, in the monitor unit 49B, the fixed monitor electrode 492B is positioned on the minus side in the X axis direction of the movable monitor electrode 491B, and the fixed monitor electrode 493B is positioned on the plus side in the X axis direction.

可動モニター電極491A、491Bは、それぞれ、配線73と電気的に接続され、固定モニター電極492A、492Bは、配線77と電気的に接続され、固定モニター電極493A、493Bは、配線78と電気的に接続されている。そして、物理量センサー1の駆動時には、可動モニター電極491Aと固定モニター電極492Aとの間および可動モニター電極491Bと固定モニター電極492Bとの間に静電容量Ccが形成され、可動モニター電極491Aと固定モニター電極493Aとの間および可動モニター電極491Bと固定モニター電極493Bとの間に静電容量Cdが形成されている。   The movable monitor electrodes 491A and 491B are electrically connected to the wiring 73, the fixed monitor electrodes 492A and 492B are electrically connected to the wiring 77, and the fixed monitor electrodes 493A and 493B are electrically connected to the wiring 78. It is connected. When the physical quantity sensor 1 is driven, a capacitance Cc is formed between the movable monitor electrode 491A and the fixed monitor electrode 492A and between the movable monitor electrode 491B and the fixed monitor electrode 492B, and the movable monitor electrode 491A and the fixed monitor A capacitance Cd is formed between the electrode 493A and between the movable monitor electrode 491B and the fixed monitor electrode 493B.

前述したように、駆動振動モードでは、可動検出電極441A、441BがX軸方向に振動するため、可動モニター電極491Aと固定モニター電極492A、493Aとのギャップおよび可動モニター電極491Bと固定モニター電極492B、493Bとのギャップがそれぞれ変化し、それに伴って静電容量Cc、Cdがそれぞれ変化する。そのため、静電容量Cc、Cdの変化に基づいて、可動検出電極441A、441Bの振動状態を検出することができる。   As described above, in the drive vibration mode, since the movable detection electrodes 441A and 441B vibrate in the X-axis direction, the gap between the movable monitor electrode 491A and the fixed monitor electrodes 492A and 493A and the movable monitor electrode 491B and the fixed monitor electrode 492B, The gap with 493 B changes, and the capacitances Cc and Cd change accordingly. Therefore, the vibration state of the movable detection electrodes 441A and 441B can be detected based on the changes in the capacitances Cc and Cd.

以上、素子部4の構成について一通り説明した。次に、物理量センサー1の特徴の1つである駆動ばね43A、43B、検出ばね46A、46Bおよび接続ばね40A、40Bの構成について詳細に説明する。なお、駆動ばね43A、43B、検出ばね46A、46Bおよび接続ばね40A、40Bは、それぞれ、「アーム51と並んで保護梁53が設けられている」という特徴的な構造が同じであるため、以下では、これらを「ばね5」として説明する。   The configuration of the element unit 4 has been described above. Next, the configuration of the drive springs 43A and 43B, the detection springs 46A and 46B, and the connection springs 40A and 40B, which is one of the features of the physical quantity sensor 1, will be described in detail. The drive springs 43A and 43B, the detection springs 46A and 46B, and the connection springs 40A and 40B have the same characteristic structure that "the protective beam 53 is provided side by side with the arm 51". These will be described as "springs 5".

図6に示すように、ばね5は、Y軸方向に往復する蛇行形状となっている。具体的には、ばね5は、Y軸方向に延在しX軸方向に沿って並んで配置された2本のアーム51(511、512)と、アーム511、512の一端部同士を接続する接続部52と、を有している。そして、アーム511の他端部が固定部58に接続され、アーム512の他端部が振動体59に接続されている。このような構成のばね5では、アーム511、512がそれぞれX軸方向に弾性変形することで、固定部58に対して振動体59がX軸方向に変位する。なお、アーム51の数としては、特に限定されず、1本でもよいし、3本以上であってもよい。   As shown in FIG. 6, the spring 5 has a serpentine shape that reciprocates in the Y-axis direction. Specifically, the spring 5 connects one end portions of two arms 51 (511, 512) extending in the Y-axis direction and arranged side by side along the X-axis direction with one ends of the arms 511, 512. And a connection portion 52. The other end of the arm 511 is connected to the fixed portion 58, and the other end of the arm 512 is connected to the vibrating body 59. In the spring 5 having such a configuration, the arms 511 and 512 elastically deform in the X-axis direction, whereby the vibrating body 59 is displaced in the X-axis direction with respect to the fixed portion 58. The number of arms 51 is not particularly limited, and may be one or three or more.

隣り合うアーム511、512の離間距離D3としては、特に限定されないが、例えば、5μm以上、20μm以下であることが好ましい。これにより、ばね5の過度な大型化を抑制することができる。また、アーム511、512の変形を許容するスペースを十分に確保することができ、アーム511、512同士の接触を効果的に抑制することができる。   The separation distance D3 between the adjacent arms 511 and 512 is not particularly limited, but is preferably, for example, 5 μm or more and 20 μm or less. Thereby, the excessive enlargement of the spring 5 can be suppressed. In addition, a space that allows deformation of the arms 511 and 512 can be sufficiently secured, and contact between the arms 511 and 512 can be effectively suppressed.

また、図7に示すように、アーム51は、等脚台形の横断面形状を有している。すなわち、アーム51の横断面形状は、上辺51a(Z軸方向プラス側の辺)と下辺51b(Z軸方向プラス側の辺)の中点を共に通る直線Lに対して対称的な形状となっている。これにより、アーム51が実質的にZ軸方向の振動成分を含まず、駆動振動モードの際の不要振動、すなわち可動検出電極441AのZ軸方向への振動を抑制することができる。ここで、等脚台形と言っても、通常は、例えば、アーム51の高さTが50μm程度であって、上辺51aの幅W1が2.0μm〜2.5μm程度である場合、下辺51bの幅W2が2.5μm〜3.0μm程度と、ほぼ矩形(長方形)と見做せる程度の等脚台形となる(説明の便宜上、図においては、誇張して示している)。   Further, as shown in FIG. 7, the arm 51 has an isosceles trapezoidal cross-sectional shape. That is, the cross sectional shape of the arm 51 is symmetrical with respect to a straight line L passing through the middle point of the upper side 51a (the side on the plus side in the Z-axis direction) and the lower side 51b (the side on the plus side in the Z-axis direction). ing. Thereby, the arm 51 substantially does not include the vibration component in the Z-axis direction, and unnecessary vibration in the drive vibration mode, that is, vibration in the Z-axis direction of the movable detection electrode 441A can be suppressed. Here, even if it is called an isosceles trapezoid, for example, when the height T of the arm 51 is about 50 μm and the width W 1 of the upper side 51 a is about 2.0 μm to 2.5 μm, the lower side 51 b The width W2 is an isosceles trapezoid which can be regarded as substantially rectangular (rectangular) with a width W2 of about 2.5 μm to about 3.0 μm (exaggerated in the figure for convenience of the description).

なお、アーム51の横断面形状としては、特に限定されず、例えば、図8に示すように、本実施形態と上下逆転した等脚台形であってもよし、図9に示すように、上側から下側へ幅が漸増するテーパー部51’と、このテーパー部51’の下側に位置し、上側から下側へ幅が漸減するテーパー部51”と、を有する樽形であってもよいし、図10に示すように、矩形であってもよい。アーム51の横断面形状は、ドライエッチングの環境に影響を受け易く、上述した形状のいずれかとなる場合が多い。   The cross sectional shape of the arm 51 is not particularly limited. For example, as shown in FIG. 8, it may be an isosceles trapezoid vertically reversed from that of the present embodiment, and as shown in FIG. It may have a barrel shape having a tapered portion 51 ′ whose width gradually increases downward and a tapered portion 51 ′ ′ located on the lower side of the tapered portion 51 ′ and whose width gradually decreases from the upper side to the lower side 10 may be rectangular as shown in Fig. 10. The cross sectional shape of the arm 51 is easily influenced by the environment of dry etching, and often becomes any of the shapes described above.

また、図6に示すように、ばね5は、さらに、各アーム51のX軸方向の一方側に位置する保護梁53を有している。具体的には、アーム511のX軸方向プラス側であって、アーム511、512の間には保護梁531(53)が配置されており、アーム512のX軸方向プラス側には保護梁532(53)が配置されている。保護梁531、532は、それぞれ、アーム511、512と平行となるように、Y軸方向に沿って延在している。なお、保護梁531、532の幅(X軸方向の長さ)としては、特に限定されないが、例えば、2μm以上、5μm以下とすることができる。これにより、保護梁531、532の機械的強度を十分に確保しつつ、より細い保護梁531、532となる。また、保護梁531、532は、それぞれ、その一端部において接続部52に接続されている。   Further, as shown in FIG. 6, the spring 5 further has a protective beam 53 positioned on one side of each arm 51 in the X-axis direction. Specifically, the protective beam 531 (53) is disposed on the positive side in the X axis direction of the arm 511 and between the arms 511 and 512, and the protective beam 532 on the positive side in the X axis direction of the arm 512. (53) is arranged. The protective beams 531 and 532 extend along the Y-axis direction so as to be parallel to the arms 511 and 512, respectively. The width (length in the X-axis direction) of the protective beams 531 and 532 is not particularly limited, but can be, for example, 2 μm or more and 5 μm or less. As a result, the protective beams 531 and 532 become thinner while sufficiently securing the mechanical strength of the protective beams 531 and 532. The protective beams 531 and 532 are each connected to the connecting portion 52 at one end.

このような保護梁53を設けることで、アーム51が過度に弾性変形した際に、アーム51が保護梁53を介して他の部分にぶつかるため、保護梁53によって衝撃が吸収、緩和され、アーム51に過度な衝撃が加わってしまうことを低減することができる。そのため、アーム51の破損を効果的に抑制することができる。また、アーム51が保護梁53と接触することで、それ以上のアーム51の弾性変形が抑制され、アーム51の過度な弾性変形を抑制することもできる。   By providing such a protective beam 53, when the arm 51 elastically deforms excessively, the arm 51 collides with another portion via the protective beam 53, so that the shock is absorbed and mitigated by the protective beam 53. It is possible to reduce an excessive impact on the 51. Therefore, breakage of the arm 51 can be effectively suppressed. Further, when the arm 51 contacts the protective beam 53, the elastic deformation of the arm 51 is further suppressed, and the excessive elastic deformation of the arm 51 can also be suppressed.

特に、本実施形態では、保護梁531が隣り合うアーム511、512の間に配置されている。そのため、アーム511、512が過度に変形した際は、保護梁531を介して互いに接触することになり、アーム511、512が直接接触する場合と比べて、その衝撃を小さく抑えることができる。アーム511、512は、機械的強度が低く、破損し易い箇所であるため、保護梁531を配置して、アーム511、512が直接接触することを防止することで、機械的強度の高いばね5となる。   In particular, in the present embodiment, the protective beam 531 is disposed between the adjacent arms 511 and 512. Therefore, when the arms 511 and 512 are excessively deformed, they will be in contact with each other via the protective beam 531, and the impact can be suppressed to a smaller level than in the case where the arms 511 and 512 are in direct contact. Since the arms 511 and 512 have low mechanical strength and are easily damaged, the protection beam 531 is disposed to prevent the arms 511 and 512 from coming into direct contact, thereby providing a spring 5 having high mechanical strength. It becomes.

ここで、アーム511と保護梁531との離間距離D1と、アーム512と保護梁531との離間距離D2と、の関係としては、特に限定されないが、D1≠D2であることが好ましく、D1<D2であることが好ましい。D1≠D2とすることで、前述したようにアーム511、512が過度に弾性変形した際に、アーム511、512が保護梁531の両側から同時に接触することを抑制することができる。そのため、アーム511との接触時およびアーム512との接触時に保護梁531がそれぞれ弾性変形し、接触時の衝撃を効果的に吸収、緩和することができる。   Here, the relationship between the separation distance D1 between the arm 511 and the protection beam 531 and the separation distance D2 between the arm 512 and the protection beam 531 is not particularly limited, but preferably D1 ≠ D2, and D1 <D1. It is preferable that it is D2. By setting D1 ≠ D2, when the arms 511 and 512 are elastically deformed excessively as described above, simultaneous contact from both sides of the protection beam 531 can be suppressed. Therefore, the protective beam 531 elastically deforms at the time of contact with the arm 511 and at the time of contact with the arm 512, and the impact at the time of contact can be effectively absorbed and mitigated.

また、前述したように、保護梁531、532は、それぞれ、接続部52に接続されている。接続部52は、アーム511、512と比較して、ばね5の特性に影響を与え難い箇所である。そのため、接続部52に保護梁531、532を接続することで、ばね5の特性の変動を効果的に抑制することができる。また、保護梁531、532を含めたばね5全体の設計が、例えば、アーム51に保護梁53が接続されている場合と比べて容易となる。   Further, as described above, the protection beams 531 and 532 are connected to the connection portion 52, respectively. The connecting portion 52 is a portion which hardly affects the characteristics of the spring 5 as compared with the arms 511 and 512. Therefore, by connecting the protective beams 531 and 532 to the connection portion 52, the fluctuation of the characteristics of the spring 5 can be effectively suppressed. Further, the design of the entire spring 5 including the protective beams 531 and 532 is easier than, for example, the case where the protective beam 53 is connected to the arm 51.

このような保護梁53は、ばね5の製造工程において、次のような効果を発揮することもできる。なお、説明の便宜上、上述した保護梁53の効果を「構造体上の効果」とも言い、以下に説明する保護梁53の効果を「製造方法上の効果」とも言う。   Such a protective beam 53 can also exhibit the following effects in the process of manufacturing the spring 5. In addition, for convenience of explanation, the effect of the protective beam 53 described above is also referred to as “the effect on the structure”, and the effect of the protective beam 53 described below is also referred to as “the effect on the manufacturing method”.

まず、ばね5の製造方法について簡単に説明する。ばね5は、図11に示すように、シリコン基板50の上面にハードマスクHMを形成し、図12に示すように、このハードマスクHMを介してシリコン基板50をドライエッチングすることで形成することができる。ドライエッチングとしては、反応性プラズマガスを用いたエッチングプロセスとデポジション(堆積)プロセスとを組み合わせたドライボッシュ(Bosch)法を用いることができる。   First, a method of manufacturing the spring 5 will be briefly described. The spring 5 is formed by forming a hard mask HM on the upper surface of the silicon substrate 50 as shown in FIG. 11, and dry etching the silicon substrate 50 through the hard mask HM as shown in FIG. Can. As dry etching, a dry Bosch (Bosch) method in which an etching process using a reactive plasma gas is combined with a deposition process can be used.

反応性プラズマガスによるシリコン基板50の加工は、シリコン基板50を配置したチャンバー内にエッチングガスを導入し、反応性プラズマを発生させるが、反応性プラズマは、シリコン基板50に対して同心円状の密度分布を持つため、チャンバー内での位置によってその入射角度が異なる。したがって、シリコン基板50内で垂直加工精度に分布が生じる。具体的には、チャンバーの中心部では、シリコン基板50に対してほぼ垂直にエッチングが進むため、アーム51の横断面形状は、等脚台形となる。これに対して、チャンバーの縁部では、シリコン基板50に対して傾斜した方向にエッチングが進むため、アーム51の横断面形状は、等脚台形から傾いた台形となる。この傾き度合は、チャンバーの中心部から縁部に向かうほど大きくなる傾向にある。   The processing of the silicon substrate 50 by reactive plasma gas introduces an etching gas into a chamber in which the silicon substrate 50 is disposed to generate reactive plasma, but the reactive plasma has a density concentric with the silicon substrate 50. Because of the distribution, the incident angle differs depending on the position in the chamber. Therefore, distribution occurs in the vertical processing accuracy in the silicon substrate 50. Specifically, in the central portion of the chamber, the etching proceeds substantially perpendicularly to the silicon substrate 50, so the cross-sectional shape of the arm 51 is an isosceles trapezoid. On the other hand, at the edge of the chamber, the etching proceeds in a direction inclined with respect to the silicon substrate 50, so the cross-sectional shape of the arm 51 is a trapezoid inclined from the isosceles trapezoid. The degree of inclination tends to increase from the center to the edge of the chamber.

アーム51の横断面形状が等脚台形から傾いてしまうと、アーム51がX軸方向の振動成分に加えてZ軸方向の振動成分を含んでしまうため、素子部4を駆動振動モードで振動させた際に、可動検出電極441A、441BがZ軸方向に振動してしまう。すると、物理量センサー1に角速度ωyが加わっていないにも関わらず、静電容量Ca、Cbがそれぞれ変化してしまう。そのため、クアドラチャ信号(ノイズ信号)が生じ、角速度ωyの検出精度が悪化してしまう。なお、以下では、駆動振動モードにおける可動検出電極441A、441BのX軸方向以外の振動(特に、Z軸方向の振動)をクアドラチャとも言う。   When the cross sectional shape of the arm 51 is inclined from the isosceles trapezoid, the arm 51 includes the vibration component in the Z-axis direction in addition to the vibration component in the X-axis direction, so the element unit 4 is vibrated in the driving vibration mode. At this time, the movable detection electrodes 441A and 441B vibrate in the Z-axis direction. Then, although the angular velocity ωy is not applied to the physical quantity sensor 1, the capacitances Ca and Cb change. Therefore, a quadrature signal (noise signal) is generated, and the detection accuracy of the angular velocity ωy is deteriorated. In the following, the vibration (in particular, the vibration in the Z-axis direction) other than the X-axis direction of the movable detection electrodes 441A and 441B in the drive vibration mode is also referred to as a quadrature.

物理量センサー1は、このような問題(クアドラチャの発生)を解消するために、アーム51の隣に保護梁53を配置している。すなわち、保護梁53は、アーム51の横断面形状が等脚台形から崩れてしまうことを抑制する機能を有している。ここで、ドライエッチングでは、隣り合う構造体(ドライエッチング後に残る部分)同士の離間距離が小さい程、側面の傾きが大きくなる傾向にある。これは、隣り合う構造体同士の離間距離が小さい程、エッチングが進むに連れて反応性ガスが隣り合う構造体の間に入り込み難くなってエッチングレートが低下するためと思われる。このような性質を利用すれば、アーム51と保護梁53との離間距離D1を調整することで、アーム51の保護梁53側の側面51cの傾斜角θ1を調整することができる。そのため、ドライエッチングの結果、横断面形状が等脚台形から傾いてしまうと想定されるアーム51について、その隣に保護梁53を配置し、かつ、想定される傾きの度合いに応じてアーム51と保護梁53との離間距離D1を調整することで、ドライエッチング後のアーム51の横断面形状をほぼ等脚台形とすることができる。   The physical quantity sensor 1 arranges a protective beam 53 next to the arm 51 in order to eliminate such a problem (the occurrence of quadrature). That is, the protective beam 53 has a function of suppressing the cross-sectional shape of the arm 51 from being broken from the isosceles trapezoid. Here, in dry etching, as the separation distance between adjacent structures (portions remaining after dry etching) is smaller, the inclination of the side surface tends to be larger. It is considered that this is because as the distance between adjacent structures is smaller, as the etching progresses, the reactive gas is less likely to enter between the adjacent structures, and the etching rate is lowered. By using such a property, by adjusting the separation distance D1 between the arm 51 and the protective beam 53, the inclination angle θ1 of the side surface 51c of the arm 51 on the protective beam 53 side can be adjusted. Therefore, for the arm 51 whose cross-sectional shape is assumed to be inclined from the isosceles trapezoid as a result of dry etching, the protective beam 53 is disposed next to the arm 51 and the arm 51 according to the assumed degree of inclination. By adjusting the separation distance D1 with the protective beam 53, the cross-sectional shape of the arm 51 after dry etching can be made approximately isosceles trapezoidal.

具体的には、図13に示すように、保護梁53を配置しなければアーム51の横断面形状が等脚台形から傾いてしまうところ、図14に示すように、アーム51の隣に保護梁53を所定の離間距離D1で配置して、アーム51の保護梁53側の側面51cの傾斜角θ1を、反対側の側面51dの傾斜角θ2と等しくすることで、アーム51の横断面形状を等脚台形とすることができる。そのため、クアドラチャが効果的に抑制された物理量センサー1が得られる。なお、離間距離D1としては、特に限定されないが、例えば、0.1μm以上、2μm以下程度であることが好ましい。これにより、傾斜角θ1を調整し易くなる。離間距離D1が0.1μm未満であると、反応性ガスが侵入し難くなり過ぎてしまい、シリコン基板50の厚さ等によっては、エッチング不良等が生じるおそれがある。反対に、2μmを超えると、傾斜角θ1の調整効果が飽和してしまい(すなわち、離間距離D1をこれ以上大きくしても傾斜角θ1はほとんど変わらず)、単にばね5の大型化を招くだけのおそれがある。   Specifically, as shown in FIG. 13, when the protective beam 53 is not disposed, the cross sectional shape of the arm 51 is inclined from the isosceles trapezoid. As shown in FIG. 53 is disposed at a predetermined separation distance D1, and the cross-sectional shape of the arm 51 is made equal by making the inclination angle θ1 of the side surface 51c on the protection beam 53 side of the arm 51 equal to the inclination angle θ2 of the opposite side surface 51d. It can be an isosceles trapezoid. Therefore, the physical quantity sensor 1 in which the quadrature is effectively suppressed can be obtained. The separation distance D1 is not particularly limited, but is preferably, for example, about 0.1 μm or more and 2 μm or less. This makes it easy to adjust the inclination angle θ1. If the separation distance D1 is less than 0.1 μm, it becomes too difficult for the reactive gas to infiltrate, and depending on the thickness and the like of the silicon substrate 50, etching defects may occur. On the other hand, if it exceeds 2 μm, the adjustment effect of the inclination angle θ1 is saturated (that is, the inclination angle θ1 hardly changes even if the separated distance D1 is further increased), and merely the enlargement of the spring 5 is caused. There is a risk of

なお、前述したように、チャンバー内のどの位置にあるかで、アーム51の横断面形状の等脚台形からの傾き方が異なるため、例えば、所定の領域(例えば、チャンバー内の中央部、縁部)毎、アーム51毎に離間距離D1を設定して保護梁53を配置することが好ましい。また、例えば、チャンバー内の中央部に位置するアーム51では、横断面形状の等脚台形からのずれが生じ難いため、このようなアーム51の隣には保護梁53を配置しなくてもよい。   As described above, depending on where in the chamber the inclination of the cross-sectional shape of the arm 51 from the isosceles trapezoid differs, for example, a predetermined area (for example, a central portion in the chamber, an edge) It is preferable to set the separation distance D1 for each arm 51 and arrange the protective beam 53 every part). Further, for example, in the arm 51 located at the central portion in the chamber, since it is difficult to cause a deviation from the isosceles trapezoidal cross-sectional shape, the protection beam 53 may not be arranged next to such an arm 51 .

以上、保護梁53の「製造方法上の効果」について説明した。なお、保護梁53は、「構造体上の効果」および「製造方法上の効果」を共に発揮することができるのが好ましいが、これらのうちの一方だけを発揮することができるものであってもよい。   In the above, the “effect on manufacturing method” of the protective beam 53 has been described. In addition, although it is preferable that the protection beam 53 can exhibit both "the effect on a structure" and "the effect on a manufacturing method", only one of these can be exhibited, It is also good.

次に、このようなばね5を適用した本実施形態の駆動ばね43A、43B、検出ばね46A、46Bおよび接続ばね40A、40Bについて説明する。   Next, drive springs 43A and 43B, detection springs 46A and 46B, and connection springs 40A and 40B of this embodiment to which such a spring 5 is applied will be described.

まず、4つの駆動ばね43Aを代表して、図3中の駆動ばね43A’について説明する。図15に示すように、駆動ばね43A’は、Y軸方向に延在し、X軸方向に並んで配置された2本のアーム511、512と、これら2本のアーム511、512のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部521と、アーム512のY軸方向マイナス側の端部と可動駆動電極411Aとを接続する接続部522と、を有している。   First, the drive spring 43A 'in FIG. 3 will be described as a representative of the four drive springs 43A. As shown in FIG. 15, the drive spring 43A ′ extends in the Y-axis direction, and includes two arms 511 and 512 arranged in the X-axis direction, and the Y-axis of these two arms 511 and 512. A connection portion 521 connecting the end portions on the positive direction side and a connection portion 522 connecting the end portion on the negative side in the Y-axis direction of the arm 512 and the movable drive electrode 411A are included.

また、駆動ばね43A’は、アーム511のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁531と、アーム512のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁532と、を有している。そして、保護梁531は、そのY軸方向プラス側の端部が接続部521に接続され、保護梁532は、そのY軸方向マイナス側の端部が接続部522に接続されている。このような構成によれば、保護梁531によってアーム511の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁532によってアーム512の横断面形状のずれを抑制できる。   In addition, the drive spring 43A ′ has a protection beam 531 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 511 and a protection beam 532 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 512. doing. The protective beam 531 has its end on the positive side in the Y-axis direction connected to the connecting portion 521, and the protective beam 532 has its end on the negative side in the Y-axis direction connected to the connecting portion 522. According to such a configuration, the shift of the cross sectional shape of the arm 511 can be suppressed by the protective beam 531, and the shift of the cross sectional shape of the arm 512 can be suppressed by the protective beam 532.

次に、4つの駆動ばね43Bを代表して、図3中の駆動ばね43B’について説明する。図16に示すように、駆動ばね43B’は、Y軸方向に延在し、X軸方向に並んで配置された2本のアーム511、512と、これら2本のアーム511、512のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部521と、アーム512のY軸方向マイナス側の端部と可動駆動電極411Bとを接続する接続部522と、を有している。   Next, the drive spring 43B 'in FIG. 3 will be described as a representative of the four drive springs 43B. As shown in FIG. 16, the drive spring 43B 'extends in the Y-axis direction, and includes two arms 511 and 512 arranged side by side in the X-axis direction, and the Y-axis of the two arms 511 and 512. A connection portion 521 connecting the end portions on the positive direction side and a connection portion 522 connecting the end portion on the negative side in the Y-axis direction of the arm 512 and the movable drive electrode 411B are included.

また、駆動ばね43B’は、アーム511のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁531と、アーム512のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁532と、を有している。そして、保護梁531は、そのY軸方向マイナス側の端部が固定部42Bに接続され、保護梁532は、そのY軸方向プラス側の端部が接続部521に接続されている。このような構成によれば、保護梁531によってアーム511の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁532によってアーム512の横断面形状のずれを抑制できる。   In addition, the drive spring 43B ′ has a protection beam 531 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 511, and a protection beam 532 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 512. doing. The protective beam 531 is connected at the negative end in the Y-axis direction to the fixing portion 42B, and the protective beam 532 is connected at the positive end in the Y-axis direction to the connecting portion 521. According to such a configuration, the shift of the cross sectional shape of the arm 511 can be suppressed by the protective beam 531, and the shift of the cross sectional shape of the arm 512 can be suppressed by the protective beam 532.

次に、4つの検出ばね46Aを代表して、図3中の検出ばね46A’について説明する。図17に示すように、検出ばね46A’は、Y軸方向に延在し、X軸方向に並んで配置された4本のアーム511、512、513、514と、アーム511のY軸方向マイナス側の端部と固定部451とを接続する接続部521と、アーム511、512のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部522と、アーム512、513のY軸方向マイナス側の端部同士を接続する接続部523と、アーム513、514のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部524と、アーム514のY軸方向マイナス側の端部と可動検出電極441Aとを接続するアーム55と、を有している。   Next, the detection spring 46A 'in FIG. 3 will be described on behalf of the four detection springs 46A. As shown in FIG. 17, the detection spring 46A ′ extends in the Y-axis direction, and is provided with four arms 511, 512, 513, 514 arranged side by side in the X-axis direction, and the Y-axis direction minus of the arm 511. A connecting portion 521 connecting the end of the side and the fixing portion 451, a connecting portion 522 connecting the ends of the arms 511 and 512 on the plus side of the Y axis direction, and the minus side of the arms 512 and 513 in the Y axis direction A connection 523 for connecting the ends, a connection 524 for connecting the ends of the arms 513 and 514 on the positive side in the Y-axis direction, an end on the negative side in the Y-axis direction of the arm 514, and the movable detection electrode 441A And an arm 55 for connecting the

また、検出ばね46A’は、アーム511のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁531と、アーム512のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁532と、アーム513のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁533と、アーム514のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁534と、を有している。そして、保護梁531は、そのY軸方向プラス側の端部が接続部522に接続され、保護梁532は、そのY軸方向マイナス側の端部が接続部523に接続され、保護梁533、534は、それぞれ、そのY軸方向プラス側の端部が接続部524に接続されている。   In addition, the detection spring 46A ′ includes a protection beam 531 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 511, a protection beam 532 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 512, and the arm 513. The protection beam 533 is disposed adjacent to the X axis direction plus side, and the protection beam 534 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 514. The protective beam 531 is connected at its Y-axis direction positive end to the connecting portion 522, and the protective beam 532 is connected at the negative Y-axis direction end to the connecting portion 523. In each of the terminals 534, the end on the plus side in the Y-axis direction is connected to the connection 524.

このような構成によれば、保護梁531によってアーム511の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁532によってアーム512の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁533によってアーム513の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁534によってアーム514の横断面形状のずれを抑制できる。   According to such a configuration, the shift of the cross sectional shape of the arm 511 can be suppressed by the protective beam 531, the shift of the cross sectional shape of the arm 512 can be suppressed by the protective beam 532, and the cross section of the arm 513 by the protective beam 533 The protective beam 534 can suppress the displacement of the cross sectional shape of the arm 514.

次に、4つの検出ばね46Bを代表して、図3中の検出ばね46B’について説明する。図17に示すように、検出ばね46B’は、Y軸方向に延在し、X軸方向に並んで配置された4本のアーム511、512、513、514と、アーム511のY軸方向マイナス側の端部と固定部451とを接続する接続部521と、アーム511、512のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部522と、アーム512、513のY軸方向マイナス側の端部同士を接続する接続部523と、アーム513、514のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部524と、アーム514のY軸方向マイナス側の端部と可動検出電極441Bとを接続するアーム55と、を有している。   Next, the detection spring 46B 'in FIG. 3 will be described on behalf of the four detection springs 46B. As shown in FIG. 17, the detection spring 46B ′ extends in the Y-axis direction, and is provided with four arms 511, 512, 513, and 514 arranged in the X-axis direction, and the Y-axis direction minus of the arm 511. A connecting portion 521 connecting the end of the side and the fixing portion 451, a connecting portion 522 connecting the ends of the arms 511 and 512 on the plus side of the Y axis direction, and the minus side of the arms 512 and 513 in the Y axis direction A connection portion 523 for connecting the end portions, a connection portion 524 for connecting the end portions of the arms 513 and 514 on the positive Y-axis direction side, an end portion on the negative Y-axis direction of the arm 514 and the movable detection electrode 441B And an arm 55 for connecting the

また、検出ばね46B’は、アーム511のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁531と、アーム512のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁532と、アーム513のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁533と、アーム514のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁534と、を有している。そして、保護梁531は、そのY軸方向マイナス側の端部が接続部521に接続され、保護梁532は、そのY軸方向プラス側の端部が接続部522に接続され、保護梁533は、そのY軸方向マイナス側の端部が接続部523に接続され、保護梁534は、そのY軸方向プラス側の端部が接続部524に接続されている。   Further, the detection spring 46 B ′ includes a protection beam 531 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 511, a protection beam 532 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 512, and the arm 513. The protection beam 533 is disposed adjacent to the X axis direction plus side, and the protection beam 534 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 514. The protective beam 531 has its negative end connected to the connecting portion 521, the protective beam 532 has its positive end connected to the connecting portion 522, and the protective beam 533 has The Y axis direction minus side end is connected to the connecting portion 523, and the Y axis direction plus side end of the protective beam 534 is connected to the connecting portion 524.

このような構成によれば、保護梁531によってアーム511の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁532によってアーム512の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁533によってアーム513の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁534によってアーム514の横断面形状のずれを抑制できる。   According to such a configuration, the shift of the cross sectional shape of the arm 511 can be suppressed by the protective beam 531, the shift of the cross sectional shape of the arm 512 can be suppressed by the protective beam 532, and the cross section of the arm 513 by the protective beam 533 The protective beam 534 can suppress the displacement of the cross sectional shape of the arm 514.

次に、接続ばね40Aについて説明する。図18に示すように、接続ばね40Aは、第1部分40A’と第2部分40A”とを有している。第1部分40A’は、Y軸方向に延在し、X軸方向に並んで配置された3本のアーム511、512、513と、アーム511のY軸方向プラス側の端部とフレーム48とを接続する接続部521と、アーム511、512のY軸方向マイナス側の端部同士を接続する接続部522と、アーム512、513のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部523と、を有している。また、第2部分40A”は、Y軸方向に延在し、X軸方向に並んで配置された3本のアーム514、515、516と、アーム514のY軸方向マイナス側の端部とフレーム48とを接続する接続部524と、アーム514、515のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部525と、アーム515、516のY軸方向マイナス側の端部同士を接続する接続部526と、を有している。また、接続ばね40Aは、アーム513、516の先端部同士と可動検出電極441Aとを接続する接続部57を有している。   Next, the connection spring 40A will be described. As shown in FIG. 18, the connection spring 40A has a first portion 40A ′ and a second portion 40A ′ ′. The first portion 40A ′ extends in the Y-axis direction and is aligned in the X-axis direction. Of the three arms 511, 512, and 513 arranged in the Y direction of the Y axis direction of the arm 511 and the frame 48, and the ends of the arms 511 and 512 in the Y direction of the Y axis direction It has connecting part 522 which connects parts, and connecting part 523 which connects end parts on the Y axis direction plus side of arms 512 and 513. Moreover, 2nd part 40A ′ ′ is in the Y axis direction. Extending in the X-axis direction, a connecting portion 524 connecting the end of the arm 514 on the Y-axis direction negative side and the frame 48, and an arm 514 , 515 Y-axis direction plus side end same A connecting portion 525 for connecting, and a connecting portion 526 for connecting the ends of the Y-axis minus direction side of the arm 515 and 516, a. Further, the connection spring 40A has a connection portion 57 for connecting the distal end portions of the arms 513 and 516 and the movable detection electrode 441A.

また、第1部分40A’は、アーム511のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁531と、アーム512のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁532と、アーム513のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁533と、を有している。そして、保護梁531は、そのY軸方向マイナス側の端部が接続部522に接続され、保護梁532、533は、それぞれ、そのY軸方向プラス側の端部が接続部523に接続されている。   Further, the first portion 40A ′ includes a protection beam 531 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 511, a protection beam 532 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 512, and the arm And a protective beam 533 disposed adjacent to the positive side in the X-axis direction of 513. The protective beam 531 is connected at the negative end in the Y-axis direction to the connecting portion 522, and the protective beams 532 and 533 are connected at the positive end in the Y-axis direction to the connecting portion 523. There is.

また、第2部分40A”は、アーム514のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁534と、アーム515のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁535と、アーム516のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁536と、を有している。そして、保護梁534は、そのY軸方向プラス側の端部が接続部525に接続され、保護梁535、536は、それぞれ、そのY軸方向マイナス側の端部が接続部526に接続されている。   Further, the second portion 40A ′ ′ includes a protection beam 534 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 514, a protection beam 535 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 515, and the arm The protective beam 536 is disposed adjacent to the positive side of the X axis direction 516. The protective beam 534 is connected to the connecting portion 525 by the end on the positive side in the Y axis direction to protect the protective beam 534. The beams 535 and 536 are connected to the connecting portion 526 at the negative end in the Y-axis direction.

このような構成によれば、保護梁531によってアーム511の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁532によってアーム512の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁533によってアーム513の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁534によってアーム514の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁535によってアーム515の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁536によってアーム516の横断面形状のずれを抑制できる。   According to such a configuration, the shift of the cross sectional shape of the arm 511 can be suppressed by the protective beam 531, the shift of the cross sectional shape of the arm 512 can be suppressed by the protective beam 532, and the cross section of the arm 513 by the protective beam 533 Displacement of the cross section of the arm 514 can be suppressed by the protection beam 534, deviation of the cross section of the arm 515 can be suppressed by the protection beam 535, and displacement of the cross section of the arm 516 by the protection beam 536 Can be suppressed.

次に、接続ばね40Bについて説明する。図18に示すように、接続ばね40Bは、第1部分40B’と第2部分40B”とを有している。第1部分40B’は、Y軸方向に延在し、X軸方向に並んで配置された3本のアーム511、512、513と、アーム511のY軸方向プラス側の端部とフレーム48とを接続する接続部521と、アーム511、512のY軸方向マイナス側の端部同士を接続する接続部522と、アーム512、513のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部523と、を有している。また、第2部分40B”は、Y軸方向に延在し、X軸方向に並んで配置された3本のアーム514、515、516と、アーム514のY軸方向マイナス側の端部とフレーム48とを接続する接続部524と、アーム514、515のY軸方向プラス側の端部同士を接続する接続部525と、アーム515、516のY軸方向マイナス側の端部同士を接続する接続部526と、を有している。また、接続ばね40Bは、アーム513、516の先端部同士と可動検出電極441Bとを接続する接続部57を有している。   Next, the connection spring 40B will be described. As shown in FIG. 18, the connection spring 40B has a first portion 40B ′ and a second portion 40B ′ ′. The first portion 40B ′ extends in the Y axis direction and is aligned in the X axis direction. Of the three arms 511, 512, and 513 arranged in the Y direction of the Y axis direction of the arm 511 and the frame 48, and the ends of the arms 511 and 512 in the Y direction of the Y axis direction It has connecting part 522 which connects parts, and connecting part 523 which connects the end parts on the Y axis direction plus side of arms 512 and 513. Moreover, the second part 40B ′ ′ is in the Y axis direction. Extending in the X-axis direction, a connecting portion 524 connecting the end of the arm 514 on the Y-axis direction negative side and the frame 48, and an arm 514 , 515 Y-axis direction plus side end same A connecting portion 525 for connecting, and a connecting portion 526 for connecting the ends of the Y-axis minus direction side of the arm 515 and 516, a. Further, the connection spring 40B has a connection portion 57 for connecting the distal end portions of the arms 513 and 516 and the movable detection electrode 441B.

また、第1部分40B’は、アーム511のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁531と、アーム512のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁532と、アーム513のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁533と、を有している。そして、保護梁531は、そのY軸方向プラス側の端部が接続部521に接続され、保護梁532は、そのY軸方向マイナス側の端部が接続部522に接続され、保護梁533は、そのY軸方向プラス側の端部が接続部523に接続されている。   Further, the first portion 40B ′ includes a protection beam 531 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 511, a protection beam 532 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 512, and the arm And a protective beam 533 disposed adjacent to the positive side in the X-axis direction of 513. The protective beam 531 has its end on the positive side in the Y-axis direction connected to the connecting portion 521, and the protective beam 532 has its end on the negative side in the Y-axis direction connected to the connecting portion 522, and the protective beam 533 has The end on the plus side in the Y-axis direction is connected to the connection portion 523.

また、第2部分40B”は、アーム514のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁534と、アーム515のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁535と、アーム516のX軸方向プラス側に隣り合って配置された保護梁536と、を有している。そして、保護梁534は、そのY軸方向マイナス側の端部が接続部524に接続され、保護梁535は、そのY軸方向プラス側の端部が接続部525に接続され、保護梁536は、そのY軸方向マイナス側の端部が接続部526に接続されている。   Further, the second portion 40B ′ ′ includes a protection beam 534 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 514, a protection beam 535 disposed adjacent to the X axis direction plus side of the arm 515, and the arm And a protective beam 536 disposed adjacent to the positive side in the X-axis direction of the optical axis 516. The protective beam 534 is connected to the connecting portion 524 at the negative end side in the Y-axis direction to protect the protective beam 534. The end of the beam 535 on the positive side in the Y-axis direction is connected to the connecting portion 525, and the end on the negative side in the Y-axis direction of the protective beam 536 is connected to the connecting portion 526.

このような構成によれば、保護梁531によってアーム511の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁532によってアーム512の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁533によってアーム513の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁534によってアーム514の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁535によってアーム515の横断面形状のずれを抑制でき、保護梁536によってアーム516の横断面形状のずれを抑制できる。   According to such a configuration, the shift of the cross sectional shape of the arm 511 can be suppressed by the protective beam 531, the shift of the cross sectional shape of the arm 512 can be suppressed by the protective beam 532, and the cross section of the arm 513 by the protective beam 533 Displacement of the cross section of the arm 514 can be suppressed by the protection beam 534, deviation of the cross section of the arm 515 can be suppressed by the protection beam 535, and displacement of the cross section of the arm 516 by the protection beam 536 Can be suppressed.

以上、ばね5を適用した本実施形態の駆動ばね43A、43B、検出ばね46A、46Bおよび接続ばね40A、40Bについて説明したが、これらの構成としては、それぞれ、特に限定されず、少なくとも、1本のアーム51と、それに対応した1本の保護梁53と、を有していればよい。また、駆動ばね43A、43B、検出ばね46A、46Bおよび接続ばね40A、40Bの少なくとも1つが保護梁53を有さない構成であってもよい。なお、横断面形状のずれがクアドラチャに最も影響するのが検出ばね46A、46Bであり、次に影響するのが駆動ばね43A、43Bであり、最も影響し難いのが接続ばね40A、40Bである。そのため、例えば、検出ばね46A、46Bおよび駆動ばね43A、43Bについては、保護梁53を有するばね5の構成を適用し、接続ばね40A、40Bについては、保護梁53を有しない構成としてもよい。   The drive springs 43A and 43B, the detection springs 46A and 46B, and the connection springs 40A and 40B of the present embodiment to which the spring 5 is applied have been described above, but the configuration thereof is not particularly limited. It is sufficient to have the arm 51 of the above and one protection beam 53 corresponding thereto. In addition, at least one of the drive springs 43A and 43B, the detection springs 46A and 46B, and the connection springs 40A and 40B may not have the protective beam 53. Incidentally, it is the detection springs 46A and 46B that the displacement of the cross-sectional shape most affects the quadrature, the drive springs 43A and 43B that affect next, and the connection springs 40A and 40B that are the most difficult to affect . Therefore, for example, the configuration of the spring 5 having the protective beam 53 may be applied to the detection springs 46A and 46B and the drive springs 43A and 43B, and the protective beam 53 may not be provided to the connection springs 40A and 40B.

以上、物理量センサー1について説明した。このような物理量センサー1は、可動体4A、4B(振動体)と、可動体4A、4BをX軸方向(第1方向)に振動可能に支持するばね5(駆動ばね43A、43B、検出ばね46A、46Aおよび接続ばね40A、40B)と、を有している。また、ばね5は、X軸方向(第1方向)と直交するY軸方向(第2方向)に沿って延在するアーム51と、このアーム51に対してX軸方向の一方側に隣り合って配置され、Y軸方向に沿って延在する保護梁53と、を有している。このような構成によれば、前述したように、保護梁53によってアーム51の横断面形状を制御することができ、クアドラチャが効果的に抑制された物理量センサー1を得られる。また、保護梁53によって、アーム51が他の部分に直接接触することを防止することができ、アーム51の破損を効果的に抑制することもできる。なお、本実施形態では、対象のアーム51に対してX軸方向プラス側に保護梁53が位置しているが、これに限定されず、アーム51に対してX軸方向マイナス側に保護梁53が位置していてもよく、ドライエッチングの条件等に応じて、適宜選択すればよい。   The physical quantity sensor 1 has been described above. Such a physical quantity sensor 1 includes the movable body 4A, 4B (oscillator) and the spring 5 (drive spring 43A, 43B, detection spring) that vibratably supports the movable body 4A, 4B in the X-axis direction (first direction). 46A, 46A and connecting springs 40A, 40B). Further, the spring 5 is adjacent to one side of the arm 51 extending in the Y-axis direction (second direction) orthogonal to the X-axis direction (first direction) with respect to the arm 51 in the X-axis direction. And a protective beam 53 extending along the Y-axis direction. According to such a configuration, as described above, the cross-sectional shape of the arm 51 can be controlled by the protective beam 53, and the physical quantity sensor 1 in which the quadrature is effectively suppressed can be obtained. Further, the protection beam 53 can prevent the arm 51 from directly contacting other parts, and can effectively suppress the breakage of the arm 51. In the present embodiment, the protective beam 53 is positioned on the positive side in the X-axis direction with respect to the target arm 51, but the present invention is not limited thereto. The protective beam 53 on the negative side in the X-axis direction with respect to the arm 51 May be located, and may be appropriately selected according to the conditions of dry etching and the like.

特に、本実施形態では、ばね5は、X軸方向に並んで配置されている複数のアーム51を有し、保護梁53は、隣り合う一対のアーム51の間に配置されている。このような構成によれば、アーム51同士が直接接触することを防止することができる。また、保護梁53によって、接触時の衝撃を緩和することもできる。そのため、アーム51の破損を効果的に抑制することができる。   In particular, in the present embodiment, the spring 5 has a plurality of arms 51 arranged side by side in the X-axis direction, and the protective beam 53 is arranged between a pair of adjacent arms 51. According to such a configuration, direct contact between the arms 51 can be prevented. Moreover, the impact at the time of contact can also be relieved by the protection beam 53. Therefore, breakage of the arm 51 can be effectively suppressed.

また、前述したように、本実施形態の物理量センサー1では、ばね5は、隣り合う一対のアーム51を接続する接続部52を有している。そして、保護梁53は、接続部52に接続されている。接続部52は、アーム51と比較して、ばね5の特性に影響を与え難い箇所である。そのため、接続部52に保護梁53を接続することで、ばね5の特性の変動を効果的に抑制することができる。また、保護梁53を含めたばね5全体の設計が、アーム51に保護梁53が接続されている場合と比べて容易となる。   Further, as described above, in the physical quantity sensor 1 of the present embodiment, the spring 5 has the connecting portion 52 that connects the pair of adjacent arms 51. The protective beam 53 is connected to the connection portion 52. The connecting portion 52 is a portion which is less likely to affect the characteristics of the spring 5 than the arm 51. Therefore, by connecting the protective beam 53 to the connection portion 52, the fluctuation of the characteristics of the spring 5 can be effectively suppressed. Further, the design of the entire spring 5 including the protective beam 53 is easier than when the protective beam 53 is connected to the arm 51.

また、前述したように、本実施形態の物理量センサー1では、隣り合う一対のアーム511、512の一方(アーム511)と保護梁531との離間距離D1と、他方(アーム512)と保護梁531との離間距離D2と、が異なっている。本実施形態では、D1<D2となっている。これにより、アーム511、512同士の離間距離を十分に離しつつ、アーム511と保護梁531とを十分に接近させることができる。そのため、駆動時のアーム511、512の接触を抑制することができると共に、アーム511の横断面形状をより効果的に制御することができる。   Further, as described above, in the physical quantity sensor 1 of this embodiment, the separation distance D1 between one of the pair of arms 511 and 512 adjacent to each other (arm 511) and the protective beam 531, the other (arm 512) and the protective beam 531 And the separation distance D2 are different. In this embodiment, D1 <D2. Thereby, the arm 511 and the protection beam 531 can be sufficiently approached while sufficiently separating the distance between the arms 511 and 512 from each other. Therefore, while being able to suppress the contact of the arms 511 and 512 at the time of a drive, the cross-sectional shape of the arm 511 can be controlled more effectively.

次に、物理量センサー1の製造方法について説明する。図19に示すように、物理量センサー1の製造方法は、基板2の母材となるガラス基板20を準備する準備工程S1と、ガラス基板20に素子部4の母材となるシリコン基板40を接合する接合工程S2と、シリコン基板40の上面にハードマスクHMを形成するマスク形成工程S3と、ハードマスクHMを介してシリコン基板40をドライエッチングして素子部4を形成する素子部形成工程S4と、蓋体3の母材となるシリコン基板30をガラス基板20に接合する蓋体接合工程S5と、複数の物理量センサー1を個片化工程S6と、を有している。以下、各工程を順次説明する。   Next, a method of manufacturing the physical quantity sensor 1 will be described. As shown in FIG. 19, in the method of manufacturing the physical quantity sensor 1, a preparation step S 1 of preparing the glass substrate 20 which is a base material of the substrate 2, and bonding a silicon substrate 40 which is a base material of the element portion 4 to the glass substrate 20. Bonding step S2, mask formation step S3 of forming hard mask HM on the upper surface of silicon substrate 40, and element portion formation step S4 of dry etching the silicon substrate 40 through hard mask HM to form element portion 4 A lid bonding step S5 of bonding the silicon substrate 30 as a base material of the lid 3 to the glass substrate 20 and a singulation step S6 of the plurality of physical quantity sensors 1 are included. The respective steps will be sequentially described below.

[準備工程S1]
まず、基板2の母材となるガラス基板20を用意する。次に、ガラス基板20に凹部21、マウント22(221、222、224、225)および溝部23、24、25、26、27、28を形成する。これらは、例えば、ウェットエッチングにより形成することができる。なお、ガラス基板20には、後に個片化されて1つの基板2となる複数の個片化領域Qが行列状に設けられており、これら個片化領域Q毎に、凹部21、マウント22および溝部23、24、25、26、27、28を形成する。次に、個片化領域Q毎に配線73、74、75、76、77、78を形成する。
[Preparation step S1]
First, a glass substrate 20 to be a base material of the substrate 2 is prepared. Next, the recess 21, the mount 22 (221, 222, 224, 225) and the grooves 23, 24, 25, 26, 27, 28 are formed in the glass substrate 20. These can be formed, for example, by wet etching. In the glass substrate 20, a plurality of singulation areas Q that will be singulated later and become one substrate 2 are provided in a matrix, and for each of the singulation areas Q, the recess 21 and the mount 22 are provided. And the grooves 23, 24, 25, 26, 27, 28 are formed. Next, the wirings 73, 74, 75, 76, 77, 78 are formed for each of the singulated regions Q.

[接合工程S2]
図20に示すように、素子部4の母材となるシリコン基板40を用意し、このシリコン基板40をガラス基板20に接合する。シリコン基板40とガラス基板20との接合方法としては、特に限定されず、例えば、陽極接合法により接合することができる。次に、必要に応じてCMP(化学機械研磨)を用いてシリコン基板40を薄肉化した後、シリコン基板40にリン、ボロン、砒素等の不純物をドープ(拡散)して導電性を付与する。
[Bonding process S2]
As shown in FIG. 20, a silicon substrate 40 to be a base material of the element portion 4 is prepared, and the silicon substrate 40 is bonded to the glass substrate 20. It does not specifically limit as a joining method of the silicon substrate 40 and the glass substrate 20, For example, it can join by the anodic bonding method. Next, after thinning the silicon substrate 40 using CMP (chemical mechanical polishing) as necessary, the silicon substrate 40 is doped (diffused) with an impurity such as phosphorus, boron, or arsenic to impart conductivity.

[マスク形成工程S3]
次に、図21に示すように、シリコン基板40の上面にドライエッチング耐性を有するハードマスクHMを素子部4の形状に対応させて形成する。例えば、シリコン基板40の表面を熱酸化して形成した酸化シリコン膜をパターニングすることで形成することができる。ここで、前述したように、シリコン基板40内での位置によって、アーム51の横断面形状にずれが生じるため、当該ずれが発生しないように、素子部4毎に、アーム51と保護梁53との離間距離D1を設定し、設定した離間距離D1となるようにハードマスクHMを形成する。なお、離間距離D1は、例えば、チャンバー内の中心部、縁部と言った複数の素子部4を含む比較的広い領域毎に設定してもよいし、素子部4毎と言った比較的狭い領域毎に設定してもよいし、ばね5毎と言ったより狭い領域毎に設定してもよいし、アーム51毎にと言ったさらに狭い領域毎に設定してもよい。また、チャンバー内の中央部に位置するアーム51については、横断面形状にずれが生じないため、当該部分にあるアーム51の隣には保護梁53が形成されないようなマスク形状としてもよい。
[Mask forming step S3]
Next, as shown in FIG. 21, a hard mask HM having dry etching resistance is formed on the upper surface of the silicon substrate 40 so as to correspond to the shape of the element portion 4. For example, it can be formed by patterning a silicon oxide film formed by thermally oxidizing the surface of the silicon substrate 40. Here, as described above, since the displacement in the cross-sectional shape of the arm 51 occurs depending on the position in the silicon substrate 40, the arm 51 and the protection beam 53 for each element unit 4 do not generate the displacement. The separation distance D1 is set, and the hard mask HM is formed to be the set separation distance D1. The separation distance D1 may be set, for example, in a relatively wide area including a plurality of element portions 4 such as a center portion in the chamber and an edge portion, or a relatively narrow area such as each element portion 4 It may be set for each area, may be set for each narrower area such as every spring 5, or may be set for each narrower area such as every arm 51. Further, the arm 51 located at the central portion in the chamber may have a mask shape such that the protective beam 53 is not formed next to the arm 51 in the portion, since no deviation occurs in the cross sectional shape.

[素子部形成工程S4]
次に、ハードマスクHMを介してシリコン基板40をドライエッチングする。ドライエッチング方法としては、特に限定されないが、本実施形態では、反応性プラズマガスを用いたエッチングプロセスとデポジション(堆積)プロセスとを組み合わせたドライボッシュ(Bosch)法を用いている。これにより、図22に示すように、複数の素子部4が個片化領域Q毎に形成される。前述したように、シリコン基板40内での位置に応じて、素子部4毎に離間距離D1を設定しているため、各素子部4に、所望(等脚台形)の横断面形状を有するアーム51を形成することができる。
[Element part formation process S4]
Next, the silicon substrate 40 is dry etched through the hard mask HM. The dry etching method is not particularly limited, but in the present embodiment, a dry Bosch (Bosch) method in which an etching process using a reactive plasma gas and a deposition (deposition) process are combined is used. Thereby, as shown in FIG. 22, a plurality of element units 4 are formed for each singulated area Q. As described above, since the separation distance D1 is set for each of the element units 4 according to the position in the silicon substrate 40, an arm having a desired (isosceles trapezoidal) cross-sectional shape in each element unit 4 51 can be formed.

[蓋体接合工程S5]
次に、蓋体3の母材となるシリコン基板30を用意し、このシリコン基板30をフォトリソグラフィー技法およびエッチング技法を用いてパターニングすることで、個片化領域Q毎に凹部31を形成する。次に、図23に示すように、ガラスフリット39を介してシリコン基板30をガラス基板20に接合する。これにより、個片化領域毎に、素子部4を収納する収納空間Sが形成される。次に、連通孔32を介して収納空間S内を所望の雰囲気にした後、連通孔32を封止部材33で封止する。これにより、複数の物理量センサー1が一体的に形成された積層体10が得られる。
Lid bonding step S5
Next, a silicon substrate 30 to be a base material of the lid 3 is prepared, and the silicon substrate 30 is patterned using a photolithographic technique and an etching technique to form a recess 31 for each singulated region Q. Next, as shown in FIG. 23, the silicon substrate 30 is bonded to the glass substrate 20 through the glass frit 39. Thereby, storage space S which stores element part 4 is formed for every division area. Next, after the inside of the storage space S is made into a desired atmosphere via the communication hole 32, the communication hole 32 is sealed by the sealing member 33. Thereby, the laminated body 10 in which the several physical quantity sensor 1 was integrally formed is obtained.

[個片化工程S6]
次に、例えば、ダイシングブレード等を用いて積層体10を個片化領域Q毎に個片化する。これにより、図24に示すように、複数の物理量センサー1が一括形成される。
[Separating step S6]
Next, for example, the stacked body 10 is singulated for each singulation area Q using a dicing blade or the like. Thereby, as shown in FIG. 24, a plurality of physical quantity sensors 1 are formed at once.

以上、物理量センサー1の製造方法について説明した。このような物理量センサー1の製造方法は、前述したように、シリコン基板40(基板)にハードマスクHM(マスク)を形成するマスク形成工程S3と、ハードマスクHMを介してシリコン基板40をドライエッチングすることで、シリコン基板40から素子部4を形成する素子部形成工程S4と、を有している。そして、素子部形成工程S4で得られる素子部4は、可動体4A、4Bと、可動体4A、4BをX軸方向に振動可能に支持するばね5と、を有している。さらに、ばね5は、X軸方向と直交するY軸方向(第2方向)に沿って延在するアーム51と、アーム51に対してX軸方向の一方側に隣り合って配置され、Y軸方向に沿って延在する保護梁53と、を有している。このような製造方法によれば、保護梁53によってアーム51の横断面形状を制御することができ、クアドラチャが効果的に抑制された物理量センサー1を製造することができる。また、保護梁53によってアーム51が他の部分に直接接触することを防止することができ、アーム51の破損を効果的に抑制することができる。そのため、機械的強度の高い物理量センサー1が得られる。   The method of manufacturing the physical quantity sensor 1 has been described above. In the method of manufacturing such a physical quantity sensor 1, as described above, the mask forming step S3 of forming the hard mask HM (mask) on the silicon substrate 40 (substrate) and the dry etching of the silicon substrate 40 via the hard mask HM. And the element portion forming step S4 of forming the element portion 4 from the silicon substrate 40. The element portion 4 obtained in the element portion forming step S4 includes the movable bodies 4A and 4B, and the spring 5 for supporting the movable bodies 4A and 4B so as to be able to vibrate in the X-axis direction. Furthermore, the spring 5 is disposed adjacent to one side of the arm 51 extending in the Y-axis direction (second direction) orthogonal to the X-axis direction with respect to the arm 51, the Y-axis And a protective beam 53 extending along the direction. According to such a manufacturing method, the cross-sectional shape of the arm 51 can be controlled by the protective beam 53, and the physical quantity sensor 1 in which the quadrature is effectively suppressed can be manufactured. Further, the protection beam 53 can prevent the arm 51 from coming into direct contact with other parts, and the breakage of the arm 51 can be effectively suppressed. Therefore, the physical quantity sensor 1 with high mechanical strength can be obtained.

また、前述したように、素子部形成工程S4では、シリコン基板40から複数の素子部4が形成される。そして、少なくとも2つの素子部4において、アーム51と保護梁53との離間距離D1が異なっている。これにより、シリコン基板40内での位置に影響されることなく、各素子部4のアーム51の横断面形状を所望の形状とすることができる。   Further, as described above, in the element portion forming step S4, the plurality of element portions 4 are formed from the silicon substrate 40. Further, in at least two element units 4, the separation distance D1 between the arm 51 and the protective beam 53 is different. Thereby, the cross-sectional shape of the arm 51 of each element unit 4 can be made into a desired shape without being influenced by the position in the silicon substrate 40.

<第2実施形態>
次に、本発明の第2実施形態に係る物理量センサーについて説明する。
Second Embodiment
Next, a physical quantity sensor according to a second embodiment of the present invention will be described.

図25は、本発明の第2実施形態に係る物理量センサーが有するばねを示す平面図である。   FIG. 25 is a plan view showing a spring included in the physical quantity sensor according to the second embodiment of the present invention.

本実施形態にかかる物理量センサーは、ばね5の構成が異なること以外は、前述した第1実施形態の物理量センサーと同様である。   The physical quantity sensor according to the present embodiment is the same as the physical quantity sensor according to the first embodiment described above except that the configuration of the spring 5 is different.

なお、以下の説明では、第2実施形態の物理量センサーに関し、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項に関してはその説明を省略する。また、図25では前述した実施形態と同様の構成について、同一符号を付している。   In the following description, the physical quantity sensor according to the second embodiment will be described focusing on differences from the first embodiment described above, and the description of the same matters will be omitted. Further, in FIG. 25, the same components as those of the embodiment described above are denoted by the same reference numerals.

図25に示すように、本実施形態のばね5では、1本のアーム51に対して複数の保護梁53が配置され、これら複数の保護梁53がY軸方向に沿って配置されている。本実施形態では、2本の保護梁53がY軸方向に沿って配置されている。そして、一方の保護梁53は、アーム51の一端部に接続された接続部521(52)に接続されており、他方の保護梁53は、アーム51の他端部に接続された接続部522(52)に接続されている。このような構成によれば、保護梁53を前述した第1実施形態と比べて短くすることができ、その分、保護梁53の機械的強度が向上する。また、一方の保護梁53は、接続部521と共に変位し、他方の保護梁53は、接続部522と共に変位する。そのため、2本の保護梁53は、アーム51の弾性変形に伴ってそれぞれ独立して変位し、駆動振動モードにおいて、保護梁53とアーム51との接触を効果的に抑制することができる。   As shown in FIG. 25, in the spring 5 of the present embodiment, a plurality of protection beams 53 are disposed for one arm 51, and the plurality of protection beams 53 are disposed along the Y-axis direction. In the present embodiment, two protection beams 53 are disposed along the Y-axis direction. The one protective beam 53 is connected to the connecting portion 521 (52) connected to one end of the arm 51, and the other protective beam 53 is connected to the other end of the arm 51. Connected to (52). According to such a configuration, the protective beam 53 can be shortened as compared with the first embodiment described above, and the mechanical strength of the protective beam 53 is improved accordingly. Further, one protective beam 53 is displaced together with the connecting portion 521, and the other protective beam 53 is displaced together with the connecting portion 522. Therefore, the two protection beams 53 are displaced independently with the elastic deformation of the arm 51, and the contact between the protection beam 53 and the arm 51 can be effectively suppressed in the drive vibration mode.

以上のように、本実施形態のばね5では、保護梁53は、Y軸方向に沿って複数配置されている。これにより、保護梁53を、前述した第1実施形態と比べて短くすることができ、その分、保護梁53の機械的強度が向上する。特に、本実施形態では、2本の保護梁53がY軸方向に沿って配置されている。このように、保護梁53を2本とすることで、一方を接続部521に接続することができ、他方を接続部522に接続することができる。すなわち、全ての保護梁53を接続部52に接続することができる。そのため、前述した第1実施形態でも述べたように、ばね5の特性の変動を効果的に抑制することができ、また、ばね5全体の設計が容易となる。   As described above, in the spring 5 of the present embodiment, a plurality of protection beams 53 are disposed along the Y-axis direction. Thereby, the protective beam 53 can be shortened as compared with the first embodiment described above, and the mechanical strength of the protective beam 53 is improved accordingly. In particular, in the present embodiment, two protection beams 53 are disposed along the Y-axis direction. As described above, by using two protection beams 53, one can be connected to the connection portion 521, and the other can be connected to the connection portion 522. That is, all the protection beams 53 can be connected to the connection portion 52. Therefore, as described in the first embodiment described above, the fluctuation of the characteristics of the spring 5 can be effectively suppressed, and the design of the entire spring 5 becomes easy.

このような第2実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。なお、保護梁53は、Y軸方向に沿って3本以上配置されていてもよい(例えば、後述する第3実施形態参照)。   Also by such a second embodiment, the same effect as that of the first embodiment described above can be exhibited. In addition, three or more protection beams 53 may be disposed along the Y-axis direction (for example, see the third embodiment described later).

<第3実施形態>
次に、本発明の第3実施形態に係る物理量センサーについて説明する。
Third Embodiment
Next, a physical quantity sensor according to a third embodiment of the present invention will be described.

図26は、本発明の第3実施形態に係る物理量センサーが有するばねを示す平面図である。   FIG. 26 is a plan view showing a spring included in the physical quantity sensor according to the third embodiment of the present invention.

本実施形態にかかる物理量センサーは、ばね5の構成が異なること以外は、前述した第1実施形態の物理量センサーと同様である。   The physical quantity sensor according to the present embodiment is the same as the physical quantity sensor according to the first embodiment described above except that the configuration of the spring 5 is different.

なお、以下の説明では、第3実施形態の物理量センサーに関し、前述した第1実施形態との相違点を中心に説明し、同様の事項に関してはその説明を省略する。また、図28では前述した実施形態と同様の構成について、同一符号を付している。   In the following description, the physical quantity sensor of the third embodiment will be described focusing on differences from the first embodiment described above, and the description of the same matters will be omitted. Further, in FIG. 28, the same components as those in the above-described embodiment are denoted by the same reference numerals.

図26に示すように、本実施形態のばね5では、1本のアーム51に対して複数の保護梁53が配置され、これら複数の保護梁53がY軸方向に沿って配置されている。本実施形態では、4本の保護梁53がY軸方向に沿って配置されている。そして、各保護梁53は、連結梁54を介してアーム51に接続されている。このような構成によれば、保護梁53を前述した第1実施形態と比べて短くすることができ、その分、保護梁53の機械的強度が向上する。また、保護梁53がアーム51に接続されているため、保護梁53をアーム51と共に変位させることができる。そのため、駆動振動モードにおいて、保護梁53とアーム51との接触を効果的に抑制することができる。   As shown in FIG. 26, in the spring 5 of this embodiment, a plurality of protection beams 53 are disposed for one arm 51, and the plurality of protection beams 53 are disposed along the Y-axis direction. In the present embodiment, four protection beams 53 are disposed along the Y-axis direction. Each protective beam 53 is connected to the arm 51 via the connecting beam 54. According to such a configuration, the protective beam 53 can be shortened as compared with the first embodiment described above, and the mechanical strength of the protective beam 53 is improved accordingly. Further, since the protective beam 53 is connected to the arm 51, the protective beam 53 can be displaced together with the arm 51. Therefore, in the drive vibration mode, the contact between the protective beam 53 and the arm 51 can be effectively suppressed.

以上のように、本実施形態のばね5では、保護梁53は、Y軸方向に沿って複数配置されている。これにより、保護梁53を、前述した第1実施形態と比べて短くすることができ、その分、保護梁53の機械的強度が向上する。特に、本実施形態では、保護梁53は、アーム51に接続されている。そのため、保護梁53をアーム51と共に変位させることができ、保護梁53とアーム51との意図しない接触を効果的に抑制することができる。   As described above, in the spring 5 of the present embodiment, a plurality of protection beams 53 are disposed along the Y-axis direction. Thereby, the protective beam 53 can be shortened as compared with the first embodiment described above, and the mechanical strength of the protective beam 53 is improved accordingly. In particular, in the present embodiment, the protective beam 53 is connected to the arm 51. Therefore, the protective beam 53 can be displaced together with the arm 51, and an unintended contact between the protective beam 53 and the arm 51 can be effectively suppressed.

このような第3実施形態によっても、前述した第1実施形態と同様の効果を発揮することができる。   Also by such a third embodiment, the same effect as that of the first embodiment described above can be exhibited.

<第4実施形態>
次に、本発明の第4実施形態に係る慣性計測装置について説明する。
Fourth Embodiment
Next, an inertial measurement device according to a fourth embodiment of the present invention will be described.

図27は、本発明の第4実施形態に係る慣性計測装置の分解斜視図である。図28は、図27に示す慣性計測装置が有する基板の斜視図である。   FIG. 27 is an exploded perspective view of the inertial measurement device according to the fourth embodiment of the present invention. FIG. 28 is a perspective view of a substrate of the inertial measurement device shown in FIG.

図27に示す慣性計測装置2000(IMU:Inertial Measurement Unit)は、自動車や、ロボットなどの運動体(被装着装置)の姿勢や、挙動(慣性運動量)を検出する慣性計測装置である。慣性計測装置2000は、3軸の加速度センサーと、3軸の角速度センサーと、を備えた、いわゆる6軸モーションセンサーとして機能する。   An inertial measurement device 2000 (IMU: Inertial Measurement Unit) shown in FIG. 27 is an inertial measurement device that detects the posture or behavior (inertial momentum) of a moving object (mounted device) such as a car or a robot. The inertial measurement device 2000 functions as a so-called six-axis motion sensor provided with a three-axis acceleration sensor and a three-axis angular velocity sensor.

慣性計測装置2000は、平面形状が略正方形の直方体である。また、正方形の対角線方向に位置する2ヶ所の頂点近傍に固定部としてのネジ穴2110が形成されている。この2ヶ所のネジ穴2110に2本のネジを通して、自動車などの被装着体の被装着面に慣性計測装置2000を固定することができる。なお、部品の選定や設計変更により、例えば、スマートフォンや、デジタルカメラに搭載可能なサイズに小型化することも可能である。   The inertial measurement device 2000 is a rectangular solid having a substantially square planar shape. In addition, screw holes 2110 as fixing portions are formed in the vicinity of two apexes located in the diagonal direction of the square. The inertial measurement device 2000 can be fixed to the mounting surface of a mounting object such as a car by passing two screws through the two screw holes 2110. In addition, it is also possible to miniaturize to a size that can be mounted on, for example, a smartphone or a digital camera, by selecting parts or changing the design.

慣性計測装置2000は、アウターケース2100と、接合部材2200と、センサーモジュール2300と、を有し、アウターケース2100の内部に、接合部材2200を介在させて、センサーモジュール2300を挿入した構成となっている。また、センサーモジュール2300は、インナーケース2310と、基板2320と、を有している。   The inertial measurement device 2000 has an outer case 2100, a joining member 2200, and a sensor module 2300. The inside of the outer case 2100 has the joining member 2200 interposed therein, and the sensor module 2300 is inserted. There is. The sensor module 2300 also includes an inner case 2310 and a substrate 2320.

アウターケース2100の外形は、前述した慣性計測装置2000の全体形状と同様に、平面形状が略正方形の直方体であり、正方形の対角線方向に位置する2ヶ所の頂点近傍に、それぞれネジ穴2110が形成されている。また、アウターケース2100は、箱状であり、その内部にセンサーモジュール2300が収納されている。   The outer shape of the outer case 2100 is a rectangular solid having a substantially square planar shape, similar to the overall shape of the inertial measurement device 2000 described above, and screw holes 2110 are formed in the vicinity of two apexes located in the diagonal direction of the square. It is done. The outer case 2100 is box-shaped, and the sensor module 2300 is housed inside.

インナーケース2310は、基板2320を支持する部材であり、アウターケース2100の内部に収まる形状となっている。また、インナーケース2310には、基板2320との接触を防止するための凹部2311や後述するコネクター2330を露出させるための開口2312が形成されている。このようなインナーケース2310は、接合部材2200(例えば、接着剤を含浸させたパッキン)を介してアウターケース2100に接合されている。また、インナーケース2310の下面には接着剤を介して基板2320が接合されている。   The inner case 2310 is a member that supports the substrate 2320 and has a shape that fits inside the outer case 2100. Further, in the inner case 2310, a recess 2311 for preventing contact with the substrate 2320 and an opening 2312 for exposing a connector 2330 described later are formed. Such an inner case 2310 is joined to the outer case 2100 via a joining member 2200 (for example, a packing impregnated with an adhesive). A substrate 2320 is bonded to the lower surface of the inner case 2310 via an adhesive.

図28に示すように、基板2320の上面には、コネクター2330、Z軸まわりの角速度を検出する角速度センサー2340z、X軸、Y軸およびZ軸の各軸方向の加速度を検出する加速度センサー2350などが実装されている。また、基板2320の側面には、X軸まわりの角速度を検出する角速度センサー2340xおよびY軸まわりの角速度を検出する角速度センサー2340yが実装されている。なお、角速度センサー2340z、2340x、2340yとしては、特に限定されず、例えば、コリオリの力を利用した振動ジャイロセンサーを用いることができる。特に、Y軸方向の角速度を検出するものとして、前述した実施形態の構成を用いることができる。また、加速度センサー2350としては、特に限定されず、例えば、静電容量型の加速度センサーを用いることができる。   As shown in FIG. 28, a connector 2330, an angular velocity sensor 2340z for detecting an angular velocity around the Z axis, an acceleration sensor 2350 for detecting an acceleration in each axial direction of the X axis, Y axis and Z axis, etc. Has been implemented. Further, on the side surface of the substrate 2320, an angular velocity sensor 2340x for detecting an angular velocity around the X axis and an angular velocity sensor 2340y for detecting an angular velocity around the Y axis are mounted. The angular velocity sensors 2340z, 2340x, and 2340y are not particularly limited, and, for example, vibration gyro sensors using Coriolis force can be used. In particular, the configuration of the embodiment described above can be used to detect the angular velocity in the Y-axis direction. Further, the acceleration sensor 2350 is not particularly limited, and, for example, a capacitive acceleration sensor can be used.

また、基板2320の下面には、制御IC2360が実装されている。制御IC2360は、MCU(Micro Controller Unit)であり、不揮発性メモリーを含む記憶部や、A/Dコンバーターなどを内蔵しており、慣性計測装置2000の各部を制御する。記憶部には、加速度、および角速度を検出するための順序と内容を規定したプログラムや、検出データをデジタル化してパケットデータに組込むプログラム、付随するデータなどが記憶されている。なお、基板2320には、その他にも複数の電子部品が実装されている。   Further, a control IC 2360 is mounted on the lower surface of the substrate 2320. The control IC 2360 is an MCU (Micro Controller Unit), incorporates a storage unit including a non-volatile memory, an A / D converter, and the like, and controls each unit of the inertial measurement device 2000. The storage unit stores a program that defines the order and content for detecting acceleration and angular velocity, a program that digitizes detection data and incorporates it into packet data, and accompanying data. A plurality of other electronic components are mounted on the substrate 2320.

以上、慣性計測装置2000について説明した。このような慣性計測装置2000は、物理量センサーとしての角速度センサー2340z、2340x、2340yおよび加速度センサー2350と、これら各センサー2340z、2340x、2340y、2350の駆動を制御する制御IC2360(制御回路)と、を含んでいる。これにより、本発明の物理量センサーの効果を享受でき、信頼性の高い慣性計測装置2000が得られる。   The inertial measurement device 2000 has been described above. Such an inertial measurement device 2000 includes angular velocity sensors 2340z, 2340x, 2340y and an acceleration sensor 2350 as physical quantity sensors, and a control IC 2360 (control circuit) for controlling driving of the respective sensors 2340z, 2340x, 2340y, 2350. It contains. Thereby, the effect of the physical quantity sensor of the present invention can be obtained, and a highly reliable inertial measurement device 2000 can be obtained.

<第5実施形態>
次に、本発明の第5実施形態に係る移動体測位装置について説明する。
Fifth Embodiment
Next, a mobile positioning device according to a fifth embodiment of the present invention will be described.

図29は、本発明の第5実施形態に係る移動体測位装置の全体システムを示すブロック図である。図30は、図29に示す移動体測位装置の作用を示す図である。   FIG. 29 is a block diagram showing an entire system of a mobile positioning device according to a fifth embodiment of the present invention. FIG. 30 shows the operation of the mobile positioning device shown in FIG.

図29に示す移動体測位装置3000は、移動体に装着して用い、当該移動体の測位を行うための装置である。移動体としては、特に限定されず、自転車、自動車(四輪自動車およびバイクを含む)、電車、飛行機、船等のいずれでもよいが、本実施形態では四輪自動車として説明する。移動体測位装置3000は、慣性計測装置3100(IMU)と、演算処理部3200と、GPS受信部3300と、受信アンテナ3400と、位置情報取得部3500と、位置合成部3600と、処理部3700と、通信部3800と、表示部3900と、を有している。なお、慣性計測装置3100としては、例えば、前述した慣性計測装置2000を用いることができる。   A mobile body positioning device 3000 shown in FIG. 29 is a device mounted on a mobile body and used to position the mobile body. The moving body is not particularly limited, and may be a bicycle, a car (including a four-wheeled car and a motorcycle), a train, an airplane, a ship, etc., but in the present embodiment, it will be described as a four-wheeled car. The mobile positioning device 3000 includes an inertial measurement device 3100 (IMU), an arithmetic processing unit 3200, a GPS receiving unit 3300, a receiving antenna 3400, a position information obtaining unit 3500, a position combining unit 3600, and a processing unit 3700. , A communication unit 3800, and a display unit 3900. As the inertial measurement device 3100, for example, the above-described inertial measurement device 2000 can be used.

また、慣性計測装置3100は、3軸の加速度センサー3110と、3軸の角速度センサー3120と、を有している。演算処理部3200は、加速度センサー3110からの加速度データおよび角速度センサー3120からの角速度データを受け、これらデータに対して慣性航法演算処理を行い、慣性航法測位データ(移動体の加速度および姿勢を含むデータ)を出力する。   Further, the inertial measurement device 3100 has a 3-axis acceleration sensor 3110 and a 3-axis angular velocity sensor 3120. Arithmetic processing unit 3200 receives acceleration data from acceleration sensor 3110 and angular velocity data from angular velocity sensor 3120, performs inertial navigation arithmetic processing on these data, and performs inertial navigation positioning data (data including acceleration and attitude of moving body) Output).

また、GPS受信部3300は、受信アンテナ3400を介してGPS衛星からの信号(GPS搬送波。位置情報が重畳された衛星信号)を受信する。また、位置情報取得部3500は、GPS受信部3300が受信した信号に基づいて、移動体測位装置3000(移動体)の位置(緯度、経度、高度)、速度、方位を表すGPS測位データを出力する。このGPS測位データには、受信状態や受信時刻等を示すステータスデータも含まれている。   Also, the GPS reception unit 3300 receives a signal from a GPS satellite (GPS carrier wave, satellite signal on which position information is superimposed) via the reception antenna 3400. The position information acquisition unit 3500 also outputs GPS positioning data representing the position (latitude, longitude, altitude), velocity, and direction of the mobile positioning device 3000 (mobile) based on the signal received by the GPS reception unit 3300. Do. The GPS positioning data also includes status data indicating a reception state, a reception time, and the like.

位置合成部3600は、演算処理部3200から出力された慣性航法測位データおよび位置情報取得部3500から出力されたGPS測位データに基づいて、移動体の位置、具体的には移動体が地面のどの位置を走行しているかを算出する。例えば、GPS測位データに含まれている移動体の位置が同じであっても、図30に示すように、地面の傾斜等の影響によって移動体の姿勢が異なっていれば、地面の異なる位置を移動体が走行していることになる。そのため、GPS測位データだけでは移動体の正確な位置を算出することができない。そこで、位置合成部3600は、慣性航法測位データ(特に、移動体の姿勢に関するデータ)を用いて、移動体が地面のどの位置を走行しているのかを算出する。なお、当該判定は、三角関数(鉛直方向に対する傾きθ)を用いた演算によって比較的簡単に行うことができる。   The position synthesis unit 3600 determines the position of the moving object, specifically, the moving object on the ground, based on the inertial navigation positioning data output from the arithmetic processing unit 3200 and the GPS positioning data output from the position information acquisition unit 3500. Calculate if you are traveling in position. For example, even if the position of the moving object included in the GPS positioning data is the same, as shown in FIG. 30, if the posture of the moving object is different due to the influence of the inclination of the ground, the different position of the ground The moving body is traveling. Therefore, it is not possible to calculate the accurate position of the mobile using GPS positioning data alone. Therefore, the position synthesis unit 3600 calculates which position on the ground the moving body is traveling using the inertial navigation positioning data (in particular, data on the attitude of the moving body). Note that the determination can be made relatively easily by calculation using a trigonometric function (slope θ with respect to the vertical direction).

位置合成部3600から出力された位置データは、処理部3700によって所定の処理が行われ、測位結果として、表示部3900に表示されるようになっている。また、位置データは、通信部3800によって外部装置に送信されるようになっていてもよい。   The position data output from the position combining unit 3600 is subjected to predetermined processing by the processing unit 3700, and is displayed on the display unit 3900 as a positioning result. The position data may be transmitted to the external device by the communication unit 3800.

以上、移動体測位装置3000について説明した。このような移動体測位装置3000は、前述したように、慣性計測装置3100と、測位用衛星から位置情報が重畳された衛星信号を受信するGPS受信部3300(受信部)と、受信した衛星信号に基づいて、GPS受信部3300の位置情報を取得する位置情報取得部3500(取得部)と、慣性計測装置3100から出力された慣性航法測位データ(慣性データ)に基づいて、移動体の姿勢を演算する演算処理部3200(演算部)と、算出された姿勢に基づいて位置情報を補正することにより、移動体の位置を算出する位置合成部3600(算出部)と、を含んでいる。これにより、慣性計測装置3100(2000)の効果を享受でき、信頼性の高い移動体測位装置3000が得られる。   The mobile positioning device 3000 has been described above. As described above, such a mobile positioning device 3000 includes the inertial measurement device 3100, the GPS receiving unit 3300 (receiving unit) for receiving the satellite signal on which the position information is superimposed from the positioning satellite, and the received satellite signal Based on the position information acquisition unit 3500 (acquisition unit) that acquires position information of the GPS reception unit 3300 and the inertial navigation positioning data (inertial data) output from the inertial measurement device 3100, It includes an arithmetic processing unit 3200 (arithmetic unit) to calculate, and a position synthesis unit 3600 (calculator) that calculates the position of the moving body by correcting the position information based on the calculated attitude. As a result, the effect of the inertial measurement device 3100 (2000) can be obtained, and a highly reliable mobile positioning device 3000 can be obtained.

<第6実施形態>
次に、本発明の第6実施形態に係る電子機器について説明する。
図31は、本発明の第6実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。
Sixth Embodiment
Next, an electronic device according to a sixth embodiment of the present invention will be described.
FIG. 31 is a perspective view showing an electronic device according to a sixth embodiment of the present invention.

図31に示すモバイル型(またはノート型)のパーソナルコンピューター1100は、本発明の電子機器を適用したものである。この図において、パーソナルコンピューター1100は、キーボード1102を備えた本体部1104と、表示部1108を備えた表示ユニット1106と、により構成され、表示ユニット1106は、本体部1104に対しヒンジ構造部を介して回動可能に支持されている。   A mobile (or notebook) personal computer 1100 shown in FIG. 31 is an application of the electronic device of the present invention. In this figure, the personal computer 1100 comprises a main unit 1104 having a keyboard 1102 and a display unit 1106 having a display unit 1108. The display unit 1106 is connected to the main unit 1104 via a hinge structure. It is rotatably supported.

このようなパーソナルコンピューター1100には、物理量センサー1と、物理量センサー1と、物理量センサー1から出力された検出信号に基づいて制御を行う制御回路1110(制御部)と、が内蔵されている。なお、物理量センサー1としては、特に限定されないが、例えば、前述した各実施形態のいずれのものも用いることができる。   Such a personal computer 1100 incorporates the physical quantity sensor 1, the physical quantity sensor 1, and a control circuit 1110 (control unit) that performs control based on a detection signal output from the physical quantity sensor 1. The physical quantity sensor 1 is not particularly limited, but, for example, any one of the above-described embodiments can be used.

このようなパーソナルコンピューター1100(電子機器)は、物理量センサー1と、物理量センサー1から出力された検出信号に基づいて制御を行う制御回路1110(制御部)と、を有している。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。   Such a personal computer 1100 (electronic device) includes the physical quantity sensor 1 and a control circuit 1110 (control unit) that performs control based on a detection signal output from the physical quantity sensor 1. Therefore, the effects of the physical quantity sensor 1 described above can be obtained, and high reliability can be exhibited.

<第7実施形態>
次に、本発明の第7実施形態に係る電子機器について説明する。
図32は、本発明の第7実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。
Seventh Embodiment
Next, an electronic device according to a seventh embodiment of the present invention will be described.
FIG. 32 is a perspective view showing an electronic device according to a seventh embodiment of the present invention.

図32に示す携帯電話機1200(PHSも含む)は、本発明の電子機器を適用したものである。この図において、携帯電話機1200は、アンテナ(図示せず)、複数の操作ボタン1202、受話口1204および送話口1206を備え、操作ボタン1202と受話口1204との間には、表示部1208が配置されている。   A mobile phone 1200 (including a PHS) shown in FIG. 32 is an application of the electronic device of the present invention. In this figure, the mobile phone 1200 includes an antenna (not shown), a plurality of operation buttons 1202, an earpiece 1204, and a mouthpiece 1206, and a display unit 1208 is provided between the operation button 1202 and the earpiece 1204. It is arranged.

このような携帯電話機1200には、物理量センサー1と、物理量センサー1から出力された検出信号に基づいて制御を行う制御回路1210(制御部)と、が内蔵されている。なお、物理量センサー1としては、特に限定されないが、例えば、前述した各実施形態のいずれのものも用いることができる。   Such a mobile phone 1200 incorporates the physical quantity sensor 1 and a control circuit 1210 (control unit) that performs control based on the detection signal output from the physical quantity sensor 1. The physical quantity sensor 1 is not particularly limited, but, for example, any one of the above-described embodiments can be used.

このような携帯電話機1200(電子機器)は、物理量センサー1と、物理量センサー1から出力された検出信号に基づいて制御を行う制御回路1210(制御部)と、を有している。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。   Such a mobile phone 1200 (electronic device) includes the physical quantity sensor 1 and a control circuit 1210 (control unit) that performs control based on a detection signal output from the physical quantity sensor 1. Therefore, the effects of the physical quantity sensor 1 described above can be obtained, and high reliability can be exhibited.

<第8実施形態>
次に、本発明の第8実施形態に係る電子機器について説明する。
図33は、本発明の第8実施形態に係る電子機器を示す斜視図である。
Eighth Embodiment
Next, an electronic device according to an eighth embodiment of the present invention will be described.
FIG. 33 is a perspective view showing an electronic device according to an eighth embodiment of the present invention.

図33に示すデジタルスチールカメラ1300は、本発明の電子機器を適用したものである。この図において、ケース1302の背面には表示部1310が設けられ、CCDによる撮像信号に基づいて表示を行う構成になっており、表示部1310は、被写体を電子画像として表示するファインダーとして機能する。また、ケース1302の正面側(図中裏面側)には、光学レンズ(撮像光学系)やCCDなどを含む受光ユニット1304が設けられている。そして、撮影者が表示部1310に表示された被写体像を確認し、シャッターボタン1306を押すと、その時点におけるCCDの撮像信号が、メモリー1308に転送・格納される。   The digital still camera 1300 shown in FIG. 33 is an application of the electronic device of the present invention. In this figure, a display unit 1310 is provided on the back of the case 1302, and is configured to perform display based on an image pickup signal from a CCD, and the display unit 1310 functions as a finder for displaying an object as an electronic image. A light receiving unit 1304 including an optical lens (imaging optical system), a CCD, and the like is provided on the front side (the rear side in the drawing) of the case 1302. Then, when the photographer confirms the subject image displayed on the display unit 1310 and presses the shutter button 1306, the imaging signal of the CCD at that time is transferred and stored in the memory 1308.

このようなデジタルスチールカメラ1300には、物理量センサー1と、物理量センサー1から出力された検出信号に基づいて制御を行う制御回路1320(制御部)と、が内蔵されている。なお、物理量センサー1としては、特に限定されないが、例えば、前述した各実施形態のいずれのものも用いることができる。   The digital still camera 1300 incorporates the physical quantity sensor 1 and a control circuit 1320 (control unit) that performs control based on the detection signal output from the physical quantity sensor 1. The physical quantity sensor 1 is not particularly limited, but, for example, any one of the above-described embodiments can be used.

このようなデジタルスチールカメラ1300(電子機器)は、物理量センサー1と、物理量センサー1から出力された検出信号に基づいて制御を行う制御回路1320(制御部)と、を有している。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。   Such a digital still camera 1300 (electronic device) includes the physical quantity sensor 1 and a control circuit 1320 (control unit) that performs control based on a detection signal output from the physical quantity sensor 1. Therefore, the effects of the physical quantity sensor 1 described above can be obtained, and high reliability can be exhibited.

なお、本発明の電子機器は、前述した実施形態のパーソナルコンピューターおよび携帯電話機、本実施形態のデジタルスチールカメラの他にも、例えば、スマートフォン、タブレット端末、時計(スマートウォッチを含む)、インクジェット式吐出装置(例えばインクジェットプリンタ)、ラップトップ型パーソナルコンピューター、テレビ、HMD(ヘッドマウントディスプレイ)等のウェアラブル端末、ビデオカメラ、ビデオテープレコーダー、カーナビゲーション装置、ページャ、電子手帳(通信機能付も含む)、電子辞書、電卓、電子ゲーム機器、ワードプロセッサー、ワークステーション、テレビ電話、防犯用テレビモニター、電子双眼鏡、POS端末、医療機器(例えば電子体温計、血圧計、血糖計、心電図計測装置、超音波診断装置、電子内視鏡)、魚群探知機、各種測定機器、移動体端末基地局用機器、計器類(例えば、車両、航空機、船舶の計器類)、フライトシミュレーター、ネットワークサーバー等に適用することができる。   The electronic device according to the present invention may be, for example, a smartphone, a tablet terminal, a watch (including a smart watch), an inkjet discharge, in addition to the personal computer and the mobile phone of the above-described embodiment and the digital still camera of the present embodiment. Devices (for example, inkjet printers), laptop personal computers, televisions, wearable terminals such as HMDs (head mounted displays), video cameras, video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic organizers (including communication function included), electronics Dictionaries, calculators, electronic game devices, word processors, workstations, video phones, television monitors for crime prevention, electronic binoculars, POS terminals, medical devices (such as electronic thermometers, sphygmomanometers, blood glucose meters, electrocardiogram measuring devices, ultrasound examinations Devices, electronic endoscopes), fish finders, various measuring devices, devices for mobile terminal base stations, instruments (for example, instruments of vehicles, aircraft, ships), flight simulators, network servers, etc. it can.

<第9実施形態>
次に、本発明の第9実施形態に係る携帯型電子機器について説明する。
The Ninth Embodiment
Next, a portable electronic device according to a ninth embodiment of the present invention will be described.

図34は、本発明の第9実施形態に係る携帯型電子機器を示す平面図である。図35は、図34に示す携帯型電子機器の概略構成を示す機能ブロック図である。   FIG. 34 is a plan view showing a portable electronic device according to a ninth embodiment of the present invention. FIG. 35 is a functional block diagram showing a schematic configuration of the portable electronic device shown in FIG.

図34に示す腕時計型の活動計1400(アクティブトラッカー)は、本発明の携帯型電子機器を適用したリスト機器である。活動計1400は、バンド1401によってユーザーの手首等の部位(被検体)に装着される。また、活動計1400は、デジタル表示の表示部1402を備えると共に、無線通信が可能である。上述した本発明に係る物理量センサー1は、加速度を測定する加速度センサー1408や角速度を計測する角速度センサー1409として活動計1400に組込まれている。   A wristwatch-type activity meter 1400 (active tracker) shown in FIG. 34 is a wrist device to which the portable electronic device of the present invention is applied. The activity meter 1400 is attached to a site (subject) such as the user's wrist by a band 1401. Further, the activity meter 1400 is equipped with a display portion 1402 of digital display, and is capable of wireless communication. The physical quantity sensor 1 according to the present invention described above is incorporated in the activity meter 1400 as an acceleration sensor 1408 that measures acceleration and an angular velocity sensor 1409 that measures angular velocity.

活動計1400は、物理量センサー1が収容されているケース1403と、ケース1403に収容され、物理量センサー1からの出力データを処理する処理部1410と、ケース1403に収容されている表示部1402と、ケース1403の開口部を塞いでいる透光性カバー1404と、を備えている。また、透光性カバー1404の外側にはベゼル1405が設けられている。また、ケース1403の側面には複数の操作ボタン1406、1407が設けられている。   The activity meter 1400 includes a case 1403 in which the physical quantity sensor 1 is accommodated, a processing unit 1410 which is accommodated in the case 1403 and processes output data from the physical quantity sensor 1, and a display unit 1402 which is accommodated in the case 1403. And a translucent cover 1404 closing the opening of the case 1403. In addition, a bezel 1405 is provided on the outside of the translucent cover 1404. A plurality of operation buttons 1406 and 1407 are provided on the side surface of the case 1403.

図35に示すように、加速度センサー1408は、互いに交差する(理想的には直交する)3軸方向の各々の加速度を検出し、検出した3軸加速度の大きさおよび向きに応じた信号(加速度信号)を出力する。また、角速度センサー1409は、互いに交差する(理想的には直交する)3軸方向の各々の角速度を検出し、検出した3軸角速度の大きさおよび向きに応じた信号(角速度信号)を出力する。   As shown in FIG. 35, the acceleration sensor 1408 detects each acceleration in the directions of three axes intersecting (ideally orthogonal) with each other, and a signal (acceleration (acceleration according to the detected magnitude and direction of the three axis acceleration) Output signal). Further, the angular velocity sensor 1409 detects angular velocities in the directions of three axes intersecting (ideally orthogonal) with each other, and outputs a signal (angular velocity signal) according to the magnitude and direction of the detected three axial angular velocity. .

表示部1402を構成する液晶ディスプレイ(LCD)では、種々の検出モードに応じて、例えば、GPSセンサー1411や地磁気センサー1412を用いた位置情報、移動量や物理量センサー1に含まれる加速度センサー1408や角速度センサー1409などを用いた運動量などの運動情報、脈拍センサー1413などを用いた脈拍数などの生体情報、もしくは現在時刻などの時刻情報などが表示される。なお、温度センサー1414を用いた環境温度を表示することもできる。   In the liquid crystal display (LCD) constituting the display unit 1402, for example, position information using the GPS sensor 1411 or the geomagnetic sensor 1412, an acceleration sensor 1408 included in the movement amount or physical quantity sensor 1, an angular velocity according to various detection modes. The exercise information such as the amount of exercise using the sensor 1409 or the like, the biological information such as the pulse rate using the pulse sensor 1413 or the like, or the time information such as the current time is displayed. In addition, the environmental temperature using the temperature sensor 1414 can also be displayed.

通信部1415は、ユーザー端末と図示しない情報端末との間の通信を成立させるための各種制御を行う。通信部1415は、例えば、Bluetooth(登録商標)(BTLE:Bluetooth Low Energyを含む)、Wi−Fi(登録商標)(Wireless Fidelity)、Zigbee(登録商標)、NFC(Near field communication)、ANT+(登録商標)等の近距離無線通信規格に対応した送受信機や、USB(Universal Serial Bus)等の通信バス規格に対応したコネクターを含んで構成される。   The communication unit 1415 performs various controls for establishing communication between the user terminal and an information terminal (not shown). The communication unit 1415 may be, for example, Bluetooth (registered trademark) (including BTLE: Bluetooth Low Energy), Wi-Fi (registered trademark) (Wireless Fidelity), Zigbee (registered trademark), NFC (Near field communication), ANT + (registered trademark) It is configured to include a transceiver corresponding to a short distance wireless communication standard such as a trademark, and a connector corresponding to a communication bus standard such as USB (Universal Serial Bus).

処理部1410(プロセッサー)は、例えば、MPU(Micro Processing Unit)、DSP(Digital Signal Processor)、ASIC(Application Specific Integrated Circuit)等により構成される。処理部1410は、記憶部1416に格納されたプログラムと、操作部1417(例えば操作ボタン1406、1407)から入力された信号とに基づき、各種の処理を実行する。処理部1410による処理には、GPSセンサー1411、地磁気センサー1412、圧力センサー1418、加速度センサー1408、角速度センサー1409、脈拍センサー1413、温度センサー1414、計時部1419の各出力信号に対するデータ処理、表示部1402に画像を表示させる表示処理、音出力部1420に音を出力させる音出力処理、通信部1415を介して情報端末と通信を行う通信処理、バッテリー1421からの電力を各部へ供給する電力制御処理などが含まれる。   The processing unit 1410 (processor) is configured of, for example, a micro processing unit (MPU), a digital signal processor (DSP), an application specific integrated circuit (ASIC), or the like. The processing unit 1410 executes various processes based on the program stored in the storage unit 1416 and the signals input from the operation unit 1417 (for example, operation buttons 1406 and 1407). The processing by the processing unit 1410 includes data processing for each output signal of the GPS sensor 1411, the geomagnetic sensor 1412, the pressure sensor 1418, the acceleration sensor 1408, the angular velocity sensor 1409, the pulse sensor 1413, the temperature sensor 1414, and the timer unit 1419, Display processing for displaying an image on the screen, sound output processing for outputting sound to the sound output unit 1420, communication processing for communicating with an information terminal via the communication unit 1415, power control processing for supplying power from the battery 1421 to each unit, etc. Is included.

このような活動計1400では、少なくとも以下のような機能を有することができる。
1.距離:高精度のGPS機能により計測開始からの合計距離を計測する。
2.ペース:ペース距離計測から、現在の走行ペースを表示する。
3.平均スピード:平均スピード走行開始から現在までの平均スピードを算出し表示する。
4.標高:GPS機能により、標高を計測し表示する。
5.ストライド:GPS電波が届かないトンネル内などでも歩幅を計測し表示する。
6.ピッチ:1分あたりの歩数を計測し表示する。
7.心拍数:脈拍センサーにより心拍数を計測し表示する。
8.勾配:山間部でのトレーニングやトレイルランにおいて、地面の勾配を計測し表示する。
9.オートラップ:事前に設定した一定距離や一定時間を走った時に、自動でラップ計
測を行う。
10.運動消費カロリー:消費カロリーを表示する。
11.歩数:運動開始からの歩数の合計を表示する。
Such an activity meter 1400 can have at least the following functions.
1. Distance: Measure the total distance from the start of measurement by high precision GPS function.
2. Pace: Displays the current running pace from the pace distance measurement.
3. Average Speed: Average Speed Calculates and displays the average speed from the start of driving to the present.
4. Elevation: Measure and display elevation by GPS function.
5. Stride: Measures and displays stride even in a tunnel where GPS radio waves do not reach.
6. Pitch: Measure and display the number of steps per minute.
7. Heart rate: The heart rate is measured and displayed by the pulse sensor.
8. Slope: Measure and display the slope of the ground during training or trail running in mountainous areas.
9. Auto lap: Automatic lap measurement is performed when running a certain distance or certain time set in advance.
10. Exercise calories burned: Display calories burned.
11. Number of steps: Display the total number of steps from the start of exercise.

このような活動計1400(携帯型電子機器)は、物理量センサー1と、物理量センサー1が収容されているケース1403と、ケース1403に収容され、物理量センサー1からの出力データを処理する処理部1410と、ケース1403に収容されている表示部1402と、ケース1403の開口部を塞いでいる透光性カバー1404と、を含んでいる。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。   The activity meter 1400 (portable electronic device) includes a physical quantity sensor 1, a case 1403 in which the physical quantity sensor 1 is housed, and a case 1403, and a processing unit 1410 that processes output data from the physical quantity sensor 1. And a light transmitting cover 1404 closing the opening of the case 1403. Therefore, the effects of the physical quantity sensor 1 described above can be obtained, and high reliability can be exhibited.

なお、活動計1400は、ランニングウォッチ、ランナーズウォッチ、デュアスロンやトライアスロン等マルチスポーツ対応のランナーズウォッチ、アウトドアウォッチ、および衛星測位システム、例えばGPSを搭載したGPSウォッチ、等に広く適用できる。   The activity meter 1400 can be widely applied to a running watch, a runner's watch, a runner's watch for multi sports such as a duathlon or a triathlon, an outdoor watch, and a satellite positioning system, for example, a GPS watch equipped with GPS.

また、上述では、衛星測位システムとしてGPS(Global Positioning System)を用いて説明したが、他の全地球航法衛星システム(GNSS:Global Navigation Satellite System)を利用してもよい。例えば、EGNOS(European Geostationary-Satellite Navigation Overlay Service)、QZSS(Quasi Zenith Satellite System)、GLONASS(GLObal NAvigation Satellite System)、GALILEO、BeiDou(BeiDou Navigation Satellite System)、等の衛星測位システムのうち1又は2以上を利用してもよい。また、衛星測位システムの少なくとも1つにWAAS(Wide Area Augmentation System)、EGNOS(European Geostationary-Satellite Navigation Overlay Service)等の静止衛星型衛星航法補強システム(SBAS:Satellite-based Augmentation System)を利用してもよい。   Also, although the above description has been made using the GPS (Global Positioning System) as a satellite positioning system, another Global Navigation Satellite System (GNSS) may be used. For example, one or more of satellite positioning systems such as EGNOS (European Geostationary-Satellite Navigation Overlay Service), QZSS (Quasi Zenith Satellite System), GLONASS (GLO Bal NAvigation Satellite System), GALILEO, BeiDou (BeiDou Navigation Satellite System), etc. You may use In addition, using at least one of the satellite positioning systems, the Satellite-based Augmentation System (SBAS) such as Wide Area Augmentation System (WAAS), European Geostationary-Satellite Navigation Overlay Service (EGNOS), etc. It is also good.

<第10実施形態>
次に、本発明の第10実施形態に係る移動体について説明する。
図36は、本発明の第10実施形態に係る移動体を示す斜視図である。
Tenth Embodiment
Next, a mobile unit according to a tenth embodiment of the present invention will be described.
FIG. 36 is a perspective view showing a mobile unit according to the tenth embodiment of the present invention.

図36に示す自動車1500は、本発明の移動体を適用した自動車である。この図において、自動車1500には、物理量センサー1が内蔵されており、物理量センサー1によって車体1501の姿勢を検出することができる。物理量センサー1の検出信号は、車体姿勢制御装置1502(姿勢制御部)に供給され、車体姿勢制御装置1502は、その信号に基づいて車体1501の姿勢を検出し、検出結果に応じてサスペンションの硬軟を制御したり、個々の車輪1503のブレーキを制御したりすることができる。ここで、物理量センサー1としては、例えば、前述した各実施形態と同様のものを用いることができる。   An automobile 1500 shown in FIG. 36 is an automobile to which the mobile unit of the present invention is applied. In this figure, a physical quantity sensor 1 is built in an automobile 1500, and the physical quantity sensor 1 can detect the posture of a vehicle body 1501. A detection signal of the physical quantity sensor 1 is supplied to a vehicle body posture control device 1502 (a posture control unit), and the vehicle body posture control device 1502 detects the posture of the vehicle body 1501 based on the signal, and according to the detection result Control the brakes of the individual wheels 1503. Here, as the physical quantity sensor 1, for example, the same ones as those in the above-described embodiments can be used.

このような自動車1500(移動体)は、物理量センサー1と、物理量センサー1から出力された検出信号に基づいて制御を行う車体姿勢制御装置1502(制御部)と、を有している。そのため、前述した物理量センサー1の効果を享受でき、高い信頼性を発揮することができる。   Such an automobile 1500 (moving body) includes the physical quantity sensor 1 and a vehicle body posture control device 1502 (control unit) that performs control based on a detection signal output from the physical quantity sensor 1. Therefore, the effects of the physical quantity sensor 1 described above can be obtained, and high reliability can be exhibited.

なお、物理量センサー1は、他にも、カーナビゲーションシステム、カーエアコン、アンチロックブレーキシステム(ABS)、エアバック、タイヤ・プレッシャー・モニタリング・システム(TPMS:Tire Pressure Monitoring System)、エンジンコントロール、ハイブリッド自動車や電気自動車の電池モニター等の電子制御ユニット(ECU:electronic control unit)に広く適用できる。   In addition, the physical quantity sensor 1 also includes car navigation systems, car air conditioners, antilock brake systems (ABS), airbags, tire pressure monitoring systems (TPMS: Tire Pressure Monitoring System), engine control, hybrid vehicles It can be widely applied to electronic control units (ECUs) such as battery monitors of electric vehicles and electric vehicles.

また、移動体としては、自動車1500に限定されず、例えば、飛行機、ロケット、人工衛星、船舶、AGV(無人搬送車)、二足歩行ロボット、ドローン等の無人飛行機等にも適用することができる。   Also, the moving body is not limited to the car 1500, and can be applied to, for example, airplanes, rockets, artificial satellites, ships, AGVs (unmanned transport vehicles), biped robots, unmanned airplanes such as drone etc. .

以上、本発明の物理量センサーの製造方法、物理量センサー、慣性計測装置、移動体測位装置、携帯型電子機器、電子機器および移動体を図示の実施形態に基づいて説明したが、本発明はこれに限定されるものではなく、各部の構成は、同様の機能を有する任意の構成のものに置換することができる。また、本発明に他の任意の構成物が付加されていてもよい。また、前述した実施形態を適宜組み合わせてもよい。   The method for manufacturing the physical quantity sensor, the physical quantity sensor, the inertial measurement device, the mobile object positioning device, the portable electronic device, the electronic device, and the mobile object according to the present invention have been described above based on the illustrated embodiments. The configuration of each part is not limited, and may be replaced with any configuration having the same function. In addition, any other component may be added to the present invention. Also, the embodiments described above may be combined as appropriate.

また、前述した実施形態では、物理量センサーとして角速度を検出するものについて説明したが、これに限定されず、例えば、加速度を検出するものであってもよい。また、加速度と角速度の両方を検出するものであってもよい。   Further, in the embodiment described above, the physical quantity sensor that detects angular velocity has been described. However, the present invention is not limited to this, and for example, acceleration may be detected. In addition, both acceleration and angular velocity may be detected.

1…物理量センサー、10…積層体、2…基板、20…ガラス基板、21…凹部、22、221、222、224、225…マウント、23、24、25、26、27、28…溝部、3…蓋体、30…シリコン基板、31…凹部、32…連通孔、33…封止部材、39…ガラスフリット、4…素子部、4A、4B…可動体、40…シリコン基板、40A、40B…接続ばね、40A’、40B’…第1部分、40A”、40B”…第2部分、41A、41B…駆動部、411A、411B…可動駆動電極、412A、412B…固定駆動電極、42A、42B…固定部、43A、43A’、43B、43B’…駆動ばね、44A、44B…検出部、441A、441B…可動検出電極、451、452…固定部、46A、46A’、46B、46B’…検出ばね、47A、47B…梁、48…フレーム、481、482…欠損部、488、489…フレームばね、49A、49B…モニター部、491A、491B…可動モニター電極、492A、492B、493A、493B…固定モニター電極、5…ばね、50…シリコン基板、51、511、512、513、514、515、516…アーム、51’、51”…テーパー部、51a…上辺、51b…下辺、51c…側面、51d…側面、52、521、522、523、524、525、526…接続部、53、531、532、533、534、535、536…保護梁、54…連結梁、55…アーム、57…接続部、58…固定部、59…振動体、73、74、75、76、77、78…配線、81、82…固定検出電極、1100…パーソナルコンピューター、1102…キーボード、1104…本体部、1106…表示ユニット、1108…表示部、1110…制御回路、1200…携帯電話機、1202…操作ボタン、1204…受話口、1206…送話口、1208…表示部、1210…制御回路、1300…デジタルスチールカメラ、1302…ケース、1304…受光ユニット、1306…シャッターボタン、1308…メモリー、1310…表示部、1320…制御回路、1400…活動計、1401…バンド、1402…表示部、1403…ケース、1404…透光性カバー、1405…ベゼル、1406…操作ボタン、1407…操作ボタン、1408…加速度センサー、1409…角速度センサー、1410…処理部、1411…GPSセンサー、1412…地磁気センサー、1413…脈拍センサー、1414…温度センサー、1415…通信部、1416…記憶部、1417…操作部、1418…圧力センサー、1419…計時部、1420…音出力部、1421…バッテリー、1500…自動車、1501…車体、1502…車体姿勢制御装置、1503…車輪、2000…慣性計測装置、2100…アウターケース、2110…ネジ穴、2200…接合部材、2300…センサーモジュール、2310…インナーケース、2311…凹部、2312…開口、2320…基板、2330…コネクター、2340x、2340y、2340z…角速度センサー、2350…加速度センサー、2360…制御IC、3000…移動体測位装置、3100…慣性計測装置、3110…加速度センサー、3120…角速度センサー、3200…演算処理部、3300…GPS受信部、3400…受信アンテナ、3500…位置情報取得部、3600…位置合成部、3700…処理部、3800…通信部、3900…表示部、A…矢印、D1、D2、D3…離間距離、HM…ハードマスク、O…中心、P…電極パッド、Q…個片化領域、S…収納空間、T…高さ、V1、V2…電圧、α…仮想直線、θ…傾き、θ1、θ2…傾斜角、ωy…角速度   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Physical quantity sensor, 10 ... Laminated body, 2 ... Board | substrate, 20 ... Glass substrate, 21 ... Recess, 22, 221, 222, 224, 225 ... Mount, 23, 24, 25, 26, 27, 28 ... Groove part, 3 ... Lid body, 30 ... Silicon substrate, 31 ... Concave portion, 32 ... Communication hole, 33 ... Sealing member, 39 ... Glass frit, 4 ... Element part, 4A, 4B ... Movable body, 40 ... Silicon substrate, 40A, 40B ... Connection spring, 40A ′, 40B ′: first part, 40A ′ ′, 40B ′ ′, second part, 41A, 41B: drive part, 411A, 411B: movable drive electrode, 412A, 412B: fixed drive electrode, 42A, 42B: Fixed part, 43A, 43A ', 43B, 43B' ... drive spring, 44A, 44B ... detection part, 441A, 441B ... movable detection electrode, 451, 452 ... fixed part, 46A, 46A ', 46B, 6B '... detection spring, 47A, 47B ... beam, 48 ... frame, 481, 482 ... defect part, 488, 489 ... frame spring, 49A, 49B ... monitor part, 491A, 491B ... movable monitor electrode, 492A, 492B, 493A , 493B: fixed monitor electrode, 5: spring, 50: silicon substrate, 51, 511, 512, 513, 514, 515, 516: arm, 51 ′, 51 ′ ′: taper portion, 51a: upper side, 51b: lower side, 51c ... Side face, 51 d ... Side face, 52, 521, 522, 523, 524, 525 ... Connection part, 53, 531, 532, 533, 534, 535, 536 ... Protection beam, 54 ... Coupling beam, 55 ... Arm, Reference Signs List 57 connection part 58 fixed part 59 vibrator 73 73 74 75 76 77 78 wiring 81 81 fixed detection Polar, 1100 personal computer, 1102 keyboard, 1104 main unit, 1106 display unit, 1108 display unit, 1110 control circuit, 1200 mobile phone, 1202 operation button, 1204 earpiece, 1206 talk Reference numeral 1210 Display unit 1210 Control circuit 1300 Digital still camera 1302 Case 1304 Light receiving unit 1306 Shutter button 1308 Memory 1310 Display unit 1320 Control circuit 1400 Activity meter , 1401: display portion, 1403: case, 1404: translucent cover, 1405: bezel, 1406: operation button, 1407: operation button, 1408: acceleration sensor, 1409: angular velocity sensor, 1410: processing unit, 1411 ... GPS Sensor 1412 Geomagnetic sensor 1413 Pulse sensor 1414 Temperature sensor 1414 Communication unit 1416 Storage unit 1417 Operation unit 1418 Pressure sensor 1419 Timekeeping unit 1420 Sound output unit 1421 Battery, 1500: Car, 1501: Car body, 1502: Car body attitude control device, 1503: Wheel, 2000: Inertial measurement device, 2100: Outer case, 2110: Screw hole, 2200: Joint member, 2300: Sensor module, 2310: Inner Case, 2311 ... recessed portion, 2312 ... opening, 2320 ... substrate, 2330 ... connector, 2340x, 2340y, 2340z ... angular velocity sensor, 2350 ... acceleration sensor, 2360 ... control IC, 3000 ... moving body positioning device, 3100 ... inertial measurement device, 31 DESCRIPTION OF SYMBOLS 0 ... Acceleration sensor, 3120 ... Angular velocity sensor, 3200 ... Arithmetic processing part, 3300 ... GPS reception part, 3400 ... Reception antenna, 3500 ... Position information acquisition part, 3600 ... Position synthetic | combination part, 3700 ... Processing part, 3800 ... Communications part, 3900: display unit, A: arrow, D1, D2, D3: separation distance, HM: hard mask, O: center, P: electrode pad, Q: singulation area, S: storage space, T: height, V1 , V2 ... voltage, α ... virtual straight line, θ ... inclination, θ1, θ2 ... inclination angle, ωy ... angular velocity

Claims (13)

基板にマスクを形成するマスク形成工程と、
前記マスクを介して前記基板をドライエッチングすることで、前記基板から素子部を形成する素子部形成工程と、を有し、
前記素子部は、
振動体と、
前記振動体を第1方向に振動可能に支持するばねと、を有し、
前記ばねは、
前記第1方向と直交する第2方向に沿って延在するアームと、
前記アームに対して前記第1方向の一方側に隣り合って配置され、前記第2方向に沿って延在する保護梁と、を有することを特徴とする物理量センサーの製造方法。
A mask forming step of forming a mask on the substrate;
An element portion forming step of forming an element portion from the substrate by dry etching the substrate through the mask;
The element unit is
A vibrating body,
And a spring for vibratably supporting the vibrator in a first direction,
The spring is
An arm extending along a second direction orthogonal to the first direction;
A method of manufacturing a physical quantity sensor, comprising: a protection beam disposed adjacent to one side of the first direction with respect to the arm and extending along the second direction.
前記素子部形成工程では、前記基板から複数の前記素子部が形成され、
少なくとも2つの前記素子部において、前記アームと前記保護梁との離間距離が互いに異なっている請求項1に記載の物理量センサーの製造方法。
In the element portion forming step, a plurality of the element portions are formed from the substrate,
The manufacturing method of the physical quantity sensor according to claim 1, wherein the separation distance between the arm and the protective beam is different in at least two of the element units.
振動体と、
前記振動体を第1方向に振動可能に支持するばねと、を有し、
前記ばねは、
前記第1方向と直交する第2方向に沿って延在するアームと、
前記アームに対して前記第1方向の一方側に隣り合って配置され、前記第2方向に沿って延在する保護梁と、を有することを特徴とする物理量センサー。
A vibrating body,
And a spring for vibratably supporting the vibrator in a first direction,
The spring is
An arm extending along a second direction orthogonal to the first direction;
And a protective beam disposed adjacent to one side of the first direction with respect to the arm and extending along the second direction.
前記ばねは、前記第1方向に並んで配置されている複数の前記アームを有し、
前記保護梁は、隣り合う一対の前記アームの間に配置されている請求項3に記載の物理量センサー。
The spring includes a plurality of the arms arranged side by side in the first direction,
The physical quantity sensor according to claim 3, wherein the protection beam is disposed between a pair of adjacent arms.
前記ばねは、隣り合う一対の前記アームを接続する接続部を有し、
前記保護梁は、前記接続部に接続されている請求項4に記載の物理量センサー。
The spring has a connecting portion that connects a pair of adjacent arms.
The physical quantity sensor according to claim 4, wherein the protective beam is connected to the connection portion.
前記保護梁は、前記アームに接続されている請求項3または4に記載の物理量センサー。   The physical quantity sensor according to claim 3, wherein the protective beam is connected to the arm. 前記保護梁は、前記第2方向に沿って複数配置されている請求項3ないし6のいずれか1項に記載の物理量センサー。   The physical quantity sensor according to any one of claims 3 to 6, wherein a plurality of the protection beams are arranged along the second direction. 隣り合う一対の前記アームの一方と前記保護梁との離間距離と、他方と前記保護梁との離間距離と、が異なっている請求項4ないし7のいずれか1項に記載の物理量センサー。   The physical quantity sensor according to any one of claims 4 to 7, wherein a separation distance between one of the pair of adjacent arms and the protection beam and a separation distance between the other and the protection beam are different. 請求項3ないし8のいずれか1項に記載の物理量センサーと、
前記物理量センサーの駆動を制御する制御回路と、を含むことを特徴とする慣性計測装置。
A physical quantity sensor according to any one of claims 3 to 8,
And a control circuit that controls driving of the physical quantity sensor.
請求項9に記載の慣性計測装置と、
測位用衛星から位置情報が重畳された衛星信号を受信する受信部と、
受信した前記衛星信号に基づいて、前記受信部の位置情報を取得する取得部と、
前記慣性計測装置から出力された慣性データに基づいて、移動体の姿勢を演算する演算部と、
算出された前記姿勢に基づいて前記位置情報を補正することにより、前記移動体の位置を算出する算出部と、を含むことを特徴とする移動体測位装置。
An inertial measurement device according to claim 9;
A receiver for receiving a satellite signal on which position information is superimposed from a positioning satellite;
An acquisition unit that acquires position information of the reception unit based on the received satellite signal;
An arithmetic unit that calculates the attitude of the moving object based on the inertial data output from the inertial measurement device;
And a calculator configured to calculate the position of the mobile body by correcting the position information based on the calculated attitude.
請求項3ないし8のいずれか1項に記載の物理量センサーと、
前記物理量センサーが収容されているケースと、
前記ケースに収容され、前記物理量センサーからの出力データを処理する処理部と、
前記ケースに収容されている表示部と、
前記ケースの開口部を塞いでいる透光性カバーと、を含むことを特徴とする携帯型電子機器。
A physical quantity sensor according to any one of claims 3 to 8,
A case containing the physical quantity sensor;
A processing unit housed in the case and processing output data from the physical quantity sensor;
A display unit housed in the case;
And a translucent cover closing the opening of the case.
請求項3ないし8のいずれか1項に記載の物理量センサーと、
前記物理量センサーから出力された検出信号に基づいて制御を行う制御部と、を含むことを特徴とする電子機器。
A physical quantity sensor according to any one of claims 3 to 8,
And a control unit configured to perform control based on a detection signal output from the physical quantity sensor.
請求項3ないし8のいずれか1項に記載の物理量センサーと、
前記物理量センサーから出力された検出信号に基づいて制御を行う制御部と、を含むことを特徴とする移動体。
A physical quantity sensor according to any one of claims 3 to 8,
And a control unit configured to perform control based on a detection signal output from the physical quantity sensor.
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