JP2019065117A - Transparent conductive film, coating composition for forming transparent conductive film, and method of producing transparent conductive film - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、透明基材の一方の面に形成される透明導電性膜、該透明導電性膜を形成するためのコーティング組成物、及び該透明導電性膜の製造方法に関する。 The present invention relates to a transparent conductive film formed on one surface of a transparent substrate, a coating composition for forming the transparent conductive film, and a method for producing the transparent conductive film.
チオフェン系やアニリン系の高分子は優れた安定性及び導電性を有することから、有機導電性材料としてその活用が期待されている。その活用の一つとして、液晶ディスプレイ、透明タッチパネル等の各種デバイスに用いられる透明電極及び帯電防止膜に、上記高分子にドーパントを付加した導電性高分子を無機系バインダで結合した透明導電性膜が用いられている。 Since thiophene-based and aniline-based polymers have excellent stability and conductivity, their use as organic conductive materials is expected. A transparent conductive film in which a conductive polymer obtained by adding a dopant to the above-mentioned polymer to a transparent electrode and an antistatic film used for various devices such as liquid crystal displays and transparent touch panels is used as one of its applications Is used.
例えば、特許文献1には、透明基材の上に透明導電性膜を備え、前記透明導電性膜は、導電性高分子と、シラン化合物を含む粒子状の無機系バインダとを含み、前記導電性高分子は、前記無機系バインダの粒子の間に配置されている透明導電性シートが記載されている。 For example, in Patent Document 1, a transparent conductive film is provided on a transparent substrate, and the transparent conductive film contains a conductive polymer and a particulate inorganic binder containing a silane compound, and the conductive As the polymer, a transparent conductive sheet is described, which is disposed between particles of the inorganic binder.
近年、各種デバイスに用いられる透明電極及び帯電防止膜に対する要求性能が高まり、導電性高分子を無機系バインダで結合した透明導電性膜に対しても、耐湿熱性及び耐候性を更に向上させることが要求されている。特に、該透明導電性膜を形成するためのコーティング組成物は短時間のうちに特性が変化するため、膜厚の均一性に優れた透明導電性膜を効率良く製造することが困難である。 In recent years, the required performance for transparent electrodes and antistatic films used in various devices has increased, and the heat and humidity resistance and the weather resistance can be further improved even for transparent conductive films obtained by bonding conductive polymers with an inorganic binder. It is required. In particular, since the characteristics of the coating composition for forming the transparent conductive film change in a short time, it is difficult to efficiently manufacture the transparent conductive film excellent in the uniformity of the film thickness.
本発明は上記問題を解決するものであり、その目的とするところは、耐湿熱性及び耐候性に優れた透明導電性膜、及び該透明導電性膜を形成するための保存安定性に優れたコーティング組成物を提供することにある。 The present invention solves the above problems, and the object of the present invention is to provide a transparent conductive film excellent in heat and humidity resistance and weather resistance, and a coating excellent in storage stability for forming the transparent conductive film. It is in providing a composition.
本発明は、ポリチオフェン系化合物/ポリスチレンスルホン酸を含む導電性高分子と、シラン化合物を含む無機系バインダと、無機酸と、表面調整剤とを含む、透明基材の一方の面に形成された透明導電性膜であって、
該無機酸は、該導電性高分子の含有量を基準にして30質量%以下の量で含まれる透明導電性膜を提供する。
The present invention is formed on one side of a transparent substrate containing a conductive polymer containing polythiophene compound / polystyrene sulfonic acid, an inorganic binder containing a silane compound, an inorganic acid, and a surface control agent. A transparent conductive film,
The inorganic acid provides a transparent conductive film contained in an amount of 30% by mass or less based on the content of the conductive polymer.
ある一形態においては、前記透明導電性膜は、前記導電性高分子の含有量を基準にして10質量%以下の量で酸化防止剤を更に含む。 In one embodiment, the transparent conductive film further includes an antioxidant in an amount of 10% by mass or less based on the content of the conductive polymer.
ある一形態においては、前記無機酸は、リン酸、塩酸及び硫酸から成る群から選択される少なくとも一種である。 In one embodiment, the inorganic acid is at least one selected from the group consisting of phosphoric acid, hydrochloric acid and sulfuric acid.
ある一形態においては、前記酸化防止剤は、キノン化合物である。 In one embodiment, the antioxidant is a quinone compound.
ある一形態においては、前記導電性高分子は、導電性高分子及び無機系バインダの合計量を基準にして1〜75質量%の量で含まれる。 In one embodiment, the conductive polymer is contained in an amount of 1 to 75% by mass based on the total amount of the conductive polymer and the inorganic binder.
また、本発明は、ポリチオフェン系化合物/ポリスチレンスルホン酸を含む導電性高分子と、シラン化合物と、無機酸と、表面調整剤と、水性溶媒を含むコーティング組成物であって、
該無機酸は、該導電性高分子の含有量を基準にして30質量%以下の量で含まれるコーティング組成物を提供する。
The present invention is also a coating composition comprising a conductive polymer containing polythiophene compound / polystyrene sulfonic acid, a silane compound, an inorganic acid, a surface conditioner, and an aqueous solvent,
The inorganic acid provides a coating composition contained in an amount of 30% by weight or less based on the content of the conductive polymer.
ある一形態においては、前記コーティング組成物は、前記導電性高分子の含有量を基準にして10質量%以下の量で酸化防止剤を更に含む。 In one embodiment, the coating composition further comprises an antioxidant in an amount of 10% by weight or less based on the content of the conductive polymer.
また、本発明は、前記いずれかのコーティング組成物を透明基材の一方の面に塗布することで塗膜を形成し、該塗膜を乾燥及び硬化させることで成膜する工程を包含する透明導電性膜の製造方法を提供する。 In addition, the present invention includes a step of forming a coating film by applying any one of the above-mentioned coating compositions to one surface of a transparent substrate, and forming a film by drying and curing the coating film. Provided is a method of manufacturing a conductive film.
ある一形態においては、前記塗布はスプレーコート法を使用して行われる。 In one embodiment, the application is performed using a spray coating method.
本発明によれば、耐湿熱性及び耐候性に優れた透明導電性膜、及び該透明導電性膜を形成するための保存安定性に優れたコーティング組成物が提供される。 According to the present invention, a transparent conductive film excellent in heat and humidity resistance and weather resistance, and a coating composition excellent in storage stability for forming the transparent conductive film are provided.
<透明導電性膜>
導電性高分子とは、Conductive Polymers(CPs)と呼ばれる高分子であり、ドーパントによるドーピングによって、ポリラジカルカチオニック塩又はポリラジカルアニオニック塩が形成された状態で、それ自体が導電性を発揮し得る高分子をいう。
<Transparent conductive film>
A conductive polymer is a polymer called Conductive Polymers (CPs), and itself exhibits conductivity in a state where a polyradical cationic salt or a polyradical anionic salt is formed by doping with a dopant. It refers to the macromolecules obtained.
本発明では、導電性高分子として、ポリチオフェン系化合物とドーパントとを含むものを用いる。本発明における導電性高分子としては、ポリチオフェン系化合物としてポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)と、ドーパントとしてポリスチレンスルホン酸とを含む混合物(PEDOT/PSSともいう。)を用いることができる。PEDOT/PSSは導電性、耐湿熱性及び耐候性に優れており、有用である。 In the present invention, as the conductive polymer, one containing a polythiophene compound and a dopant is used. As the conductive polymer in the present invention, a mixture (also referred to as PEDOT / PSS) containing poly (3,4-ethylenedioxythiophene) as a polythiophene compound and polystyrenesulfonic acid as a dopant can be used. PEDOT / PSS is excellent in conductivity, moist heat resistance and weather resistance and is useful.
無機系バインダとしては、透明性が高く、粒子状の無機系バインダを構成できるシラン化合物を含むバインダを用いる。無機系バインダを粒子状に形成し、導電性高分子を無機系バインダの粒子の間に配置することにより、本発明の透明導電性シートの透明導電性膜の電気特性を向上できる。 As the inorganic binder, a binder containing a silane compound which has high transparency and can form a particulate inorganic binder is used. The electrical property of the transparent conductive film of the transparent conductive sheet of the present invention can be improved by forming the inorganic binder in the form of particles and arranging the conductive polymer between the particles of the inorganic binder.
また、無機系バインダの粒子の長軸径は、10nm以上300nm以下であることが好ましく、20nm以上200nm以下がより好ましい。無機系バインダの粒子の長軸径が範囲内にあれば、導電性高分子による導電パスを緻密に形成できるからである。 Further, the major axis diameter of the particles of the inorganic binder is preferably 10 nm or more and 300 nm or less, and more preferably 20 nm or more and 200 nm or less. If the major axis diameter of the inorganic binder particles is within the range, the conductive path by the conductive polymer can be formed densely.
本発明において無機系バインダの粒子の長軸径は、透明導電性膜の断面を走査電子顕微鏡で観察して、少なくとも100個のバインダ粒子の長軸径を求めて、それらの長軸径の算術平均値として求めるものとする。 In the present invention, the major axis diameter of the inorganic binder particles is obtained by observing the cross section of the transparent conductive film with a scanning electron microscope to determine the major axis diameter of at least 100 binder particles, and calculating the arithmetic of the major axis diameters. It shall be determined as an average value.
導電性高分子は、導電性高分子及び無機系バインダの合計量を基準にして1〜75質量%の量で使用される。導電性高分子の使用量が導電性高分子及び無機系バインダの合計量を基準にして1質量%未満であると、透明導電性膜の表面抵抗が大きくなり、電気特性が悪化し、75質量%を超えると、塗膜密着性が低下する。導電性高分子の使用量は、導電性高分子及び無機系バインダの合計量を基準にして、好ましくは5〜50質量%であり、より好ましくは10〜25質量%である。 The conductive polymer is used in an amount of 1 to 75% by mass based on the total amount of the conductive polymer and the inorganic binder. When the amount of the conductive polymer used is less than 1% by mass based on the total amount of the conductive polymer and the inorganic binder, the surface resistance of the transparent conductive film becomes large, and the electrical characteristics deteriorate, and 75 mass When it exceeds 10%, coating film adhesion is reduced. The amount of the conductive polymer used is preferably 5 to 50% by mass, more preferably 10 to 25% by mass, based on the total amount of the conductive polymer and the inorganic binder.
無機酸としては、例えば、リン酸、塩酸、硫酸等を使用する。特に好ましい無機酸はリン酸である。無機酸は、導電性高分子の含有量を基準にして30質量%以下の量で使用する。無機酸の使用量が導電性高分子の含有量を基準にして30質量%を超えると、無機酸が導電性高分子と反応するため、透明導電性膜の耐候性が低下し、コーティング組成物の保存安定性が低下する。無機酸の使用量は、導電性高分子の含有量を基準にして、好ましくは30質量%未満、5重量%以上30質量%未満、より好ましくは7〜25質量%である。 As the inorganic acid, for example, phosphoric acid, hydrochloric acid, sulfuric acid and the like are used. An especially preferred inorganic acid is phosphoric acid. The inorganic acid is used in an amount of 30% by mass or less based on the content of the conductive polymer. When the amount of the inorganic acid used exceeds 30% by mass based on the content of the conductive polymer, the inorganic acid reacts with the conductive polymer, so that the weather resistance of the transparent conductive film decreases, and the coating composition Storage stability is reduced. The amount of the inorganic acid used is preferably less than 30% by mass, more than 5% by weight and less than 30% by mass, and more preferably 7 to 25% by mass, based on the content of the conductive polymer.
透明導電性膜は、酸化防止剤を更に含んでいてもよい。酸化防止剤を使用することにより、透明導電性膜の耐湿熱性及び耐候性が向上し、コーティング組成物の保存安定性が更に向上する。酸化防止剤としては、キノン化合物、ニトロソアミン化合物、フェノール系酸化防止剤等を使用する。 The transparent conductive film may further contain an antioxidant. By using an antioxidant, the heat and humidity resistance and the weather resistance of the transparent conductive film are improved, and the storage stability of the coating composition is further improved. As an antioxidant, a quinone compound, a nitrosamine compound, a phenolic antioxidant, etc. are used.
キノン化合物としては、例えば、ヒドロキノン、メトキノン、メチルヒドロキノン、4−tert−ブチルピロカテコールtert−ブチルヒドロキノン、1,4−ベンゾキノン、ジブチルヒドロキシトルエン、1,1−ジフェニル−2−ピクリルヒドラジル フリーラジカル、メキノール、フェノチアジン、4−ヒドロキシTEMPO等が挙げられる。
ニトロソアミン化合物としては、例えば、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミン、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム塩、N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンセリウム塩等が挙げられる。
フェノール系酸化防止剤としては、例えば、2,6−ジ−tert−ブチル−4−メチルフェノール、没食子酸プロピル、2,4,5−トリヒドロキシブチロフェノンノルジヒドログアヤレチック酸、ブチルヒドロキシアニソール、没食子酸オクチル、ジブチルヒドロキシトルエン、没食子酸ドデシル等が挙げられる。
Examples of quinone compounds include hydroquinone, methoquinone, methylhydroquinone, 4-tert-butylpyrocatechol tert-butylhydroquinone, 1,4-benzoquinone, dibutylhydroxytoluene, 1,1-diphenyl-2-picrylhydrazyl free radical , Mequinol, phenothiazine, 4-hydroxy TEMPO and the like.
Examples of the nitrosamine compound include N-nitroso-N-phenylhydroxylamine, N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum salt, N-nitroso-N-phenylhydroxylamine cerium salt and the like.
Phenolic antioxidants include, for example, 2,6-di-tert-butyl-4-methylphenol, propyl gallate, 2,4,5-trihydroxybutyrophenone nordihydroguayretic acid, butylhydroxyanisole, gallic acid Examples include octyl acid, dibutylhydroxytoluene, dodecyl gallate and the like.
特に好ましい酸化防止剤はヒドロキノンである。酸化防止剤は、導電性高分子の含有量を基準にして20質量%以下の量で使用する。酸化防止剤の使用量が導電性高分子の含有量を基準にして20質量%を超えると、無機系バインダの比率が少なくなり、塗膜硬度が低下するため、酸化防止剤の使用量は、導電性高分子の含有量を基準にして、好ましくは1〜15質量%、より好ましくは2〜10質量%である。 An especially preferred antioxidant is hydroquinone. The antioxidant is used in an amount of 20% by mass or less based on the content of the conductive polymer. When the amount of the antioxidant used exceeds 20% by mass based on the content of the conductive polymer, the proportion of the inorganic binder decreases and the coating film hardness decreases, so the amount of the antioxidant used is The amount is preferably 1 to 15% by mass, more preferably 2 to 10% by mass, based on the content of the conductive polymer.
透明導電性膜は、有機系バインダを更に含んでいてもよい。透明導電性膜が有機系バインダを含むことにより、透明導電性膜と透明基材との密着性を向上できる。特に、透明基材としてプラスチックフィルム等のフレキシブル基材を用いる場合に、透明導電性膜が有機系バインダを含むことは、透明導電性膜と透明基材との密着性や追従性の観点で好ましい。 The transparent conductive film may further contain an organic binder. When the transparent conductive film contains an organic binder, the adhesion between the transparent conductive film and the transparent substrate can be improved. In particular, when a flexible substrate such as a plastic film is used as the transparent substrate, it is preferable that the transparent conductive film contains an organic binder from the viewpoint of adhesion between the transparent conductive film and the transparent substrate and followability. .
有機系バインダとしては、例えば、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリフッ化ビニリデン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコール(PEG)、ポリエチレンオキサイド、ポリプロピレンオキサイド、多糖類、その他の光重合性樹脂等が挙げられる。また、有機系バインダの使用形態としては、溶媒溶解型又はエマルジョン型が使用できる。有機系バインダの含有量が多すぎると無機系バインダの効果が減少するため、有機系バインダの含有量はかかる問題が生じない範囲に制限する。 Examples of the organic binder include acrylic resin, melamine resin, polyester resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyurethane resin, polystyrene resin, polyvinyl chloride resin, polyvinylidene chloride resin, polyvinyl acetate resin, polyvinylidene fluoride resin, hydroxy Examples include ethyl cellulose, polyvinyl alcohol, polyethylene glycol (PEG), polyethylene oxide, polypropylene oxide, polysaccharides, and other photopolymerizable resins. Moreover, as a use form of an organic type binder, a solvent soluble type or an emulsion type can be used. If the content of the organic binder is too large, the effect of the inorganic binder is reduced, so the content of the organic binder is limited to such a range that the problem does not occur.
透明導電性膜の表面抵抗値は、好ましくは150〜3000Ω/□である。表面抵抗値が小さいほど良好な電気特性を示す。透明導電性膜の表面抵抗値は、より好ましくは250〜2000Ω/□、更に好ましくは500〜1000Ω/□である。 The surface resistance value of the transparent conductive film is preferably 150 to 3000 Ω / □. The smaller the surface resistance, the better the electrical characteristics. The surface resistance value of the transparent conductive film is more preferably 250 to 2000 Ω / □, still more preferably 500 to 1000 Ω / □.
透明導電性膜の膜厚は、用途に応じて適宜設定されるが、通常、0.01〜5μm程度である。膜厚が薄すぎても厚すぎても、均一な透明導電性膜を形成することが困難となる。透明導電性膜の膜厚は、好ましくは0.05〜1μm、より好ましくは0.1〜0.3μmである。 Although the film thickness of a transparent conductive film is suitably set according to a use, it is usually about 0.01-5 micrometers. If the film thickness is too thin or too thick, it becomes difficult to form a uniform transparent conductive film. The film thickness of the transparent conductive film is preferably 0.05 to 1 μm, more preferably 0.1 to 0.3 μm.
透明導電性膜のヘイズは、好ましくは2%以下である。ヘイズ値が低いほど透明性が高いことを示す。ヘイズは、ヘイズメーター、例えば、日本電色工業社製の“NDH2000”により測定可能である。透明導電性膜のヘイズは、より好ましくは1%以下、更に好ましくは0.5%以下である。 The haze of the transparent conductive film is preferably 2% or less. The lower the haze value, the higher the transparency. The haze can be measured by a haze meter, for example, "NDH 2000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. The haze of the transparent conductive film is more preferably 1% or less, still more preferably 0.5% or less.
透明導電性膜の全光線透過率は、好ましくは90%以上である。全光線透過率が高いほど良好な光学特性を示す。全光線透過率は、分光光度計、例えば、日本分光社製の“V−570”により測定可能である。透明導電性膜の全光透過率は、より好ましくは93%以上、更に好ましくは95%以上である。 The total light transmittance of the transparent conductive film is preferably 90% or more. The higher the total light transmittance, the better the optical characteristics. The total light transmittance can be measured by a spectrophotometer, for example, "V-570" manufactured by JASCO Corporation. The total light transmittance of the transparent conductive film is more preferably 93% or more, still more preferably 95% or more.
透明導電性膜の硬度は、好ましくは、鉛筆硬度2H以上である。鉛筆硬度は、日本工業規格(JIS)K5400の測定方法に基づき決定される。透明導電性膜の硬度は、より好ましくは、鉛筆硬度3H以上である。 The hardness of the transparent conductive film is preferably pencil hardness 2H or more. The pencil hardness is determined based on the measurement method of Japanese Industrial Standard (JIS) K5400. The hardness of the transparent conductive film is more preferably pencil hardness 3 H or more.
透明導電性膜の耐湿熱性は、温度85℃、相対湿度85%の環境下で240時間保存する湿熱試験の前後における、表面抵抗値の変化率を基準にして、良否が決定される。湿熱試験の前後における表面抵抗値の変化率は、好ましくは100%以下である。 The heat and moisture resistance of the transparent conductive film is determined based on the rate of change of the surface resistance before and after the moist heat test of storing for 240 hours in an environment at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85%. The change rate of the surface resistance value before and after the moist heat test is preferably 100% or less.
透明導電性膜の耐候性は、放射照度60W/m2(波長300〜400nm)の照射下で120時間保存する暴露試験の前後における、表面抵抗値の変化率を基準にして、良否が決定される。暴露試験の前後における表面抵抗値の変化率は、好ましくは300%以下である。 The weather resistance of the transparent conductive film is determined based on the rate of change of the surface resistance before and after the exposure test stored for 120 hours under irradiation of irradiance 60 W / m 2 (wavelength 300 to 400 nm). Ru. The change rate of the surface resistance value before and after the exposure test is preferably 300% or less.
透明基材としては、例えば、プラスチック、ゴム、ガラス、セラミックス等を含む種々の透明材料が使用できる。 As the transparent substrate, various transparent materials including, for example, plastic, rubber, glass, ceramics and the like can be used.
<透明導電性膜形成用コーティング組成物>
透明導電性膜形成用コーティング組成物における導電性高分子の含有量は、コーティング組成物全体を基準にして0.01〜10質量%である。表面抵抗値150〜3000Ω/□になるように塗布した場合、導電性高分子の含有量が0.01質量%未満であると、ウェット膜厚が50μm以上となり、10質量%を超えると膜厚が1μm未満となり、それぞれ塗布膜厚制御が困難となる。導電性高分子の含有量は、コーティング組成物全体を基準にして、好ましくは0.05〜0.5質量%、より好ましくは0.08〜0.3質量%である。
<Coating composition for forming transparent conductive film>
The content of the conductive polymer in the transparent conductive film-forming coating composition is 0.01 to 10% by mass based on the entire coating composition. When it is applied so that the surface resistance value is 150 to 3000 Ω / □, the wet film thickness becomes 50 μm or more when the content of the conductive polymer is less than 0.01 mass%, and the film thickness exceeds 10 mass%. Is less than 1 μm, which makes it difficult to control the applied film thickness. The content of the conductive polymer is preferably 0.05 to 0.5% by mass, more preferably 0.08 to 0.3% by mass, based on the entire coating composition.
シラン化合物は、加水分解及び脱水縮合する。シラン化合物は、アルコキシシランであることが好ましい。また、アルコキシシランとしては、テトラアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシラン及びアルコキシシランオリゴマーからなる群から選ばれる少なくとも1種のアルコキシシランが例示される。 The silane compounds undergo hydrolysis and dehydration condensation. The silane compound is preferably an alkoxysilane. Further, as the alkoxysilane, at least one alkoxysilane selected from the group consisting of tetraalkoxysilane, trialkoxysilane, dialkoxysilane and an alkoxysilane oligomer is exemplified.
テトラアルコキシシランの例としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラiso−プロポキシシラン、テトラt−ブトキシシラン等の炭素数1〜4のアルコキシ基でテトラ置換されたシランが挙げられる。具体例としては、信越化学社製の“KBE−04”(商品名)等が挙げられる。 Examples of tetraalkoxysilanes include silanes tetra-substituted with an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrapropoxysilane, tetraiso-propoxysilane, tetra-t-butoxysilane and the like. . As a specific example, "KBE-04" (trade name) manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., etc. may be mentioned.
トリアルコキシシランの例としては、トリメトキシシラン、トリエトキシシラン、トリプロポキシシラン、トリブトキシシラン、トリiso−プロポキシシラン、トリL−ブトキシシラン等の炭素数1〜4のアルコキシ基でトリ置換されたシランが挙げられる。 Examples of trialkoxysilanes include tri-substituted alkoxy groups having 1 to 4 carbon atoms such as trimethoxysilane, triethoxysilane, tripropoxysilane, tributoxysilane, triiso-propoxysilane, tri L-butoxysilane, etc. Silane is mentioned.
ジアルコキシシランの例としては、ジメチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等が挙げられる。 Examples of dialkoxysilanes include dimethyldimethoxysilane, diphenyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, diphenyldiethoxysilane and the like.
アルコキシシランオリゴマーは、アルコキシシリル基を持つ比較的低分子のレジンである。具体例としては、信越化学社製の“X−40−2308”、“X−40−9225”、“X−40−9226”、“X−40−9238”、“X−40−9247”、“X−40−9250”、“KC−89S”、“KR−220LP”、“KR−401N”、“KR−500”、“KR−510”、“KR−9218”(商品名)、コルコート社製の“エチルシリケート40”、“エチルシリケート48”、“メチルシリケート51”、“メチルシリケート53A”、“EMS−485”、“SS101”(商品名)等が挙げられる。 The alkoxysilane oligomer is a relatively low molecular weight resin having an alkoxysilyl group. As a specific example, “X-40-2308”, “X-40-9225”, “X-40-9226”, “X-40-9238”, “X-40-9247”, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., "X-40-9250", "KC-89S", "KR-220LP", "KR-401N", "KR-500", "KR-510", "KR-9218" (trade name), Korkot, Inc. And “ethyl silicate 40”, “ethyl silicate 48”, “methyl silicate 51”, “methyl silicate 53A”, “EMS-485”, “SS 101” (trade names), and the like.
また、アルコキシシランとしては、ビニルメトキシシラン、p−スチリルメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、トリフロロプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシランモノマーも用いることができる。 Also, as alkoxysilane, vinylmethoxysilane, p-styrylmethoxysilane, methyltrimethoxysilane, dimethyldimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, phenyltriethoxysilane, hexyltrimethoxysilane Also, alkoxysilane monomers such as hexyltriethoxysilane, decyltrimethoxysilane and trifluoropropyltrimethoxysilane can be used.
また、テトラアルコキシシラン及びトリアルコキシシランを併用することができる。 Also, tetraalkoxysilane and trialkoxysilane can be used in combination.
アルコキシシランとして、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランとを併用する場合は、テトラアルコキシシランとトリアルコキシシランとのモル比は9:1〜5:5であることが好ましく、より好ましくは8:2〜6:4である。このモル比関係が好ましい理由は、透明導電性膜の硬度の低下を防止しつつ、経時変化によって透明導電性膜に亀裂が発生する危険性をより一層なくし、且つ透明基材との密着性をより高めることができるからである。テトラアルコキシシランは、高い膜硬度の発現に作用し、トリアルコキシシランは、透明導電性膜の亀裂発生防止、透明基材との密着性に作用すると考えられる。 When tetraalkoxysilane and trialkoxysilane are used in combination as the alkoxysilane, the molar ratio of tetraalkoxysilane to trialkoxysilane is preferably 9: 1 to 5: 5, more preferably 8: 2 to 2 6: 4. The reason why this molar ratio relationship is preferable is to prevent the reduction of the hardness of the transparent conductive film, further eliminate the risk of the occurrence of cracks in the transparent conductive film due to the change with time, and to adhere to the transparent substrate. It is because it can raise more. It is thought that tetraalkoxysilane acts on expression of high film hardness, and trialkoxysilane acts on crack prevention of a transparent conductive film, and adhesiveness with a transparent base material.
透明導電性膜形成用コーティング組成物におけるシラン化合物の含有量は、コーティング組成物全体を基準にして0.05〜10質量%である。シラン化合物の含有量が0.05質量%未満であると、鉛筆硬度が低下し、10質量%を超えるとインク保存性が悪化する。
シラン化合物の含有量は、コーティング組成物全体を基準にして、好ましくは0.1〜5質量%、より好ましくは0.3〜3質量%である。
The content of the silane compound in the transparent conductive film-forming coating composition is 0.05 to 10% by mass based on the total coating composition. When the content of the silane compound is less than 0.05% by mass, the pencil hardness decreases, and when it exceeds 10% by mass, the ink storage stability is deteriorated.
The content of the silane compound is preferably 0.1 to 5% by mass, more preferably 0.3 to 3% by mass, based on the total coating composition.
透明導電性膜形成用コーティング組成物における無機酸の含有量は、コーティング組成物全体を基準にして0.0001〜0.1質量%である。無機酸の含有量が0.0001質量%未満であると、信頼性試験後の表面抵抗が上昇し、0.1質量%を超えるとインク保存性が悪化する。無機酸の含有量は、コーティング組成物全体を基準にして、好ましくは0.001〜0.07質量%、より好ましくは0.003〜0.04質量%である。 The content of the inorganic acid in the transparent conductive film-forming coating composition is 0.0001 to 0.1% by mass based on the entire coating composition. When the content of the inorganic acid is less than 0.0001% by mass, the surface resistance after the reliability test is increased, and when it is more than 0.1% by mass, the ink storage stability is deteriorated. The content of the inorganic acid is preferably 0.001 to 0.07% by mass, more preferably 0.003 to 0.04% by mass, based on the entire coating composition.
透明導電性膜形成用コーティング組成物における酸化防止剤の含有量は、コーティング組成物全体を基準にして0.1質量%以下である。酸化防止剤の含有量が0.1質量%を超えると鉛筆硬度が低下する。酸化防止剤の含有量は、コーティング組成物全体を基準にして、好ましくは0.05質量%以下、より好ましくは0.03質量%以下である。透明導電性膜形成用コーティング組成物は酸化防止剤を含有しなくてもよい。 The content of the antioxidant in the transparent conductive film-forming coating composition is 0.1% by mass or less based on the entire coating composition. When the content of the antioxidant exceeds 0.1% by mass, the pencil hardness decreases. The content of the antioxidant is preferably 0.05% by mass or less, more preferably 0.03% by mass or less, based on the entire coating composition. The coating composition for transparent conductive film formation may not contain an antioxidant.
透明導電性膜形成用コーティング組成物における有機系バインダの含有量は、コーティング組成物全体を基準にして50質量%以下である。有機系バインダの含有量が50質量%を超えると信頼性試験後の表面抵抗が上昇する。
有機系バインダの含有量は、コーティング組成物全体を基準にして、好ましくは25質量%以下、より好ましくは10質量%以下である。透明導電性膜形成用コーティング組成物は有機系バインダを含有しなくてもよい。
The content of the organic binder in the transparent conductive film-forming coating composition is 50% by mass or less based on the entire coating composition. When the content of the organic binder exceeds 50% by mass, the surface resistance after the reliability test is increased.
The content of the organic binder is preferably 25% by mass or less, more preferably 10% by mass or less, based on the entire coating composition. The coating composition for forming a transparent conductive film may not contain an organic binder.
表面調整剤としては、シリコン系表面調整剤を使用でき、例えば、シロキサン系表面調整剤等を使用する。表面調整剤は、コーティング組成物全体を基準にして0.01〜10質量%の量で使用する。表面調整剤の使用量を上記範囲に調節することで、透明導電性膜、特にスプレー皮膜の厚さが均一化される。表面調整剤の使用量は、コーティング組成物全体を基準にして、好ましくは0.02〜5質量%、より好ましくは0.05〜0.3質量%である。 As a surface control agent, a silicon type surface control agent can be used, for example, a siloxane type surface control agent etc. are used. The surface conditioner is used in an amount of 0.01 to 10% by weight based on the total coating composition. By adjusting the amount of the surface conditioner to be in the above range, the thickness of the transparent conductive film, particularly the spray coating, can be made uniform. The amount of the surface control agent to be used is preferably 0.02 to 5% by mass, more preferably 0.05 to 0.3% by mass, based on the entire coating composition.
水性溶媒は水を含む溶媒である。水性溶媒は、プロトン性極性溶媒と非プロトン性極性溶媒とを含むことが好ましい。プロトン性極性溶媒と非プロトン性極性溶媒とを併用することにより、比較的低い乾燥温度で透明性に優れた透明導電性膜を得ることができる。 An aqueous solvent is a solvent containing water. The aqueous solvent preferably comprises a protic polar solvent and an aprotic polar solvent. By using a protic polar solvent and an aprotic polar solvent in combination, it is possible to obtain a transparent conductive film excellent in transparency at a relatively low drying temperature.
プロトン性極性溶媒としては、例えば、水、エチルアルコール、メチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、n−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、酢酸等が挙げられ、非プロトン性極性溶媒としては、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。特に好ましい水性溶媒は、ジメチルスルホキシド、水、及びエタノールを含むものである。 Examples of protic polar solvents include water, ethyl alcohol, methyl alcohol, n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, ethylene glycol, propylene glycol, acetic acid and the like, and aprotic polar solvents Examples of D include dimethylsulfoxide, N-methylpyrrolidone, N-ethylpyrrolidone, N, N-dimethylformamide, acetonitrile, acetone, tetrahydrofuran and the like. Particularly preferred aqueous solvents are those containing dimethyl sulfoxide, water and ethanol.
非プロトン性極性溶媒としては、例えば、ジメチルスルホキシド、N−メチルピロリドン、N−エチルピロリドン、N,N−ジメチルホルムアミド、アセトニトリル、アセトン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。 Examples of the aprotic polar solvent include dimethyl sulfoxide, N-methyl pyrrolidone, N-ethyl pyrrolidone, N, N-dimethylformamide, acetonitrile, acetone, tetrahydrofuran and the like.
非プロトン性極性溶媒の含有量は、溶媒全体に対して1.0質量%以上50.0質量%以下であることが好ましい。非プロトン性極性溶媒の含有量が、溶媒全体に対して1.0質量%を下回ると透明導電性膜の光学特性が低下し、50.0質量%を超えると透明導電性膜の耐湿熱性が低下する。 It is preferable that content of an aprotic polar solvent is 1.0 to 50.0 mass% with respect to the whole solvent. When the content of the aprotic polar solvent is less than 1.0% by mass with respect to the whole solvent, the optical properties of the transparent conductive film are deteriorated, and when it exceeds 50.0% by mass, the heat and moisture resistance of the transparent conductive film is descend.
溶媒の含有量は特に限定されないが、コーティング組成物全体に対して、50.0質量%以上99.5質量%以下とすればよい。また、溶媒には、無極性溶媒を含んでいてもよい。 The content of the solvent is not particularly limited, but may be 50.0% by mass or more and 99.5% by mass or less with respect to the entire coating composition. The solvent may also contain a nonpolar solvent.
コーティング組成物は、導電性高分子、シラン化合物、無機酸、表面調整剤及び水性溶媒等を公知の手法により適宜混合することにより製造できる。例えば、各成分を、ボールミル、サンドミル、ピコミル、ペイントコンディショナー等のメディアを介在させた機械的処理により、又は超音波分散機、ホモジナイザー、ディスパー、ジェットミル等のメディアレス処理により、混合、分散することができる。 The coating composition can be produced by appropriately mixing a conductive polymer, a silane compound, an inorganic acid, a surface control agent, an aqueous solvent and the like by a known method. For example, each component is mixed and dispersed by mechanical treatment with media such as ball mill, sand mill, pico mill, paint conditioner or the like, or by medialess treatment by ultrasonic dispersion machine, homogenizer, disper, jet mill etc. Can.
また、各成分の添加順序も特に限定されず、例えば、導電性高分子と溶媒とからなる溶液に、シラン化合物と無機酸とを加えてもよいし、導電性高分子と溶媒からなる溶液と、シラン化合物と無機酸と溶媒とからなる溶液とを、別々に作製した後に、各溶液を混合してもよい。 In addition, the order of addition of each component is not particularly limited, and, for example, a silane compound and an inorganic acid may be added to a solution composed of a conductive polymer and a solvent, or a solution composed of a conductive polymer and a solvent After preparing separately the solution which consists of a silane compound, an inorganic acid, and a solvent, you may mix each solution.
コーティング組成物の固形分濃度は、好ましくは、コーティング組成物全体を基準にして3重量%以下である。コーティング組成物の固形分濃度がコーティング組成物全体を基準にして3重量%を超えると、コーティング組成物の粘度が高くなり、スプレーコート法による塗布が困難になる結果、膜厚の均一性に優れた透明導電性膜を形成することが困難になる。コーティング組成物の固形分濃度は、コーティング組成物全体を基準にして、より好ましくは2.5重量%以下である。コーティング組成物の固形分とは不揮発性成分をいう。コーティング組成物の固形分には、典型的には、導電性高分子、シラン化合物、酸触媒、酸化防止剤及び表面調整剤が含まれる。 The solids concentration of the coating composition is preferably at most 3% by weight, based on the total coating composition. When the solid content concentration of the coating composition exceeds 3% by weight based on the entire coating composition, the viscosity of the coating composition becomes high, and as a result of which the application by the spray coating method becomes difficult, the uniformity of the film thickness is excellent. It becomes difficult to form a transparent conductive film. The solid content concentration of the coating composition is more preferably 2.5% by weight or less based on the entire coating composition. The solid content of the coating composition refers to a non-volatile component. The solid content of the coating composition typically includes a conductive polymer, a silane compound, an acid catalyst, an antioxidant and a surface conditioner.
コーティング組成物の粘度は、好ましくは、20cps以下である。コーティング組成物の粘度が20cpsを超えると、スプレーコート法による塗布が困難になる結果、膜厚の均一性に優れた透明導電性膜を形成することが困難になる。コーティング組成物の粘度は、より好ましくは15cps以下、より好ましくは10cps以下である。 The viscosity of the coating composition is preferably 20 cps or less. When the viscosity of the coating composition exceeds 20 cps, coating by the spray coating method becomes difficult, and as a result, it becomes difficult to form a transparent conductive film excellent in uniformity of film thickness. The viscosity of the coating composition is more preferably 15 cps or less, more preferably 10 cps or less.
コーティング組成物の保存安定性の良否は、コーティング組成物を製造後、室温で保存することで、透明導電性膜の塗膜特性(例えば、表面電気抵抗、ヘイズ、透過率又は鉛筆硬度)が著しく変化した場合に、そのコーティング組成物が保存された時間を指標にして、決定される。透明導電性膜の塗膜特性が著しく変化するまでのコーティング組成物の保存時間は、好ましくは8時間以上、より好ましくは12時間以上である。 The storage stability of the coating composition is determined by storing the coating composition at room temperature after the preparation of the coating composition, whereby the coating characteristics (for example, surface electrical resistance, haze, transmittance or pencil hardness) of the transparent conductive film are remarkable. When changed, it is determined based on the storage time of the coating composition. The storage time of the coating composition until the coating properties of the transparent conductive film change significantly is preferably 8 hours or more, more preferably 12 hours or more.
<透明導電性膜の形成>
本発明の導電性膜は、本発明のコーティング組成物を透明基材に塗布して塗膜を形成した後に、上記塗膜を乾燥及び硬化させて成膜する。
<Formation of transparent conductive film>
The conductive film of the present invention is formed by applying the coating composition of the present invention to a transparent substrate to form a coating, and then drying and curing the above coating to form a film.
コーティング組成物の塗布方法としては、例えば、バーコート法、リバース法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法、ダイコート法、ディッピング法、スピンコート法、スリットコート法、スプレーコート法等の公知の塗布方法を用いることができる。コーティング組成物の塗布方法は、スプレーコート法を用いることが好ましい。その理由は、スプレーコート法を使用することで基材厚さに偏差があった場合でもその影響を受けずに膜厚が均一な塗膜を形成することが可能であり、基材端部まで塗膜の膜厚を制御することが可能であり、異なる寸法の基材にも容易に対応することが可能だからである。 As a coating method of the coating composition, for example, known coating methods such as bar coating method, reverse method, gravure coating method, micro gravure coating method, die coating method, dipping method, spin coating method, slit coating method, spray coating method and the like Can be used. It is preferable to use a spray coating method as the method of applying the coating composition. The reason is that by using the spray coating method, even when there is a deviation in the substrate thickness, it is possible to form a coating film having a uniform film thickness, and even to the end of the substrate This is because it is possible to control the film thickness of the coating film and to easily cope with substrates of different dimensions.
本発明のコーティング組成物はスプレーコート法で塗布するのに適した粘度を有する。また、本発明のコーティング組成物は優れた保存安定性を有する。そのため、スプレーコーターに充填してから塗布が完了するまでの時間にわたって塗布に適した粘度が維持され、基材の表面全体に、膜厚が均一な塗膜を形成することができる。 The coating composition of the present invention has a viscosity suitable to be applied by spray coating. Also, the coating composition of the present invention has excellent storage stability. Therefore, the viscosity suitable for application | coating is maintained over the time until it complete | finishes application | coating from being filled to a spray coater, and the coating film with a uniform film thickness can be formed in the whole surface of a base material.
コーティング組成物を基材の主面にスプレー塗布した後、加熱によって溶剤を除去し、シラン化合物を脱水縮合させて成膜させる。必要に応じて、塗膜にUV光やEB光を照射して塗膜を硬化させてもよい。本発明のコーティング組成物及びスプレーコート法を使用して塗膜を形成し、その塗膜を乾燥及び硬化させて成膜した皮膜は、導電性スプレー皮膜と言うことができる。導電性スプレー皮膜は、基材厚さに偏差があった場合でもその影響を受けずに均一な膜厚を有し、基材端部まで膜厚が均一な膜厚を有する皮膜である。 After the coating composition is spray-coated on the main surface of the substrate, the solvent is removed by heating, and the silane compound is dehydrated and condensed to form a film. If necessary, the coating may be cured by irradiating the coating with UV light or EB light. A coating film is formed using the coating composition of the present invention and the spray coating method, and the film formed by drying and curing the coating film can be referred to as a conductive spray film. The conductive spray coating is a coating having a uniform film thickness without being affected even when the substrate thickness has a deviation, and having a uniform film thickness up to the end of the substrate.
塗布後の加熱は、コーティング組成物の溶媒成分が蒸発する条件であればよく、100〜150℃で5〜60分間行うことが好ましい。加熱により、シラン化合物は、加水分解及び脱水縮合反応によりポリシロキサンを含む粒子状の無機系バインダとなり、無機系バインダの粒子の間に導電性高分子が配置され、透明導電性膜の中に3次元的な導電パスが形成される。加熱方法としては、例えば、熱風乾燥法、加熱乾燥法、真空乾燥法、自然乾燥等により行うことができる。また、必要に応じて、塗膜にUV光やEB光を照射して塗膜を硬化させたりして、透明導電性膜を形成してもよい。 The heating after application may be performed under conditions that the solvent component of the coating composition evaporates, and is preferably performed at 100 to 150 ° C. for 5 to 60 minutes. By heating, the silane compound becomes a particulate inorganic binder containing polysiloxane by hydrolysis and dehydration condensation reaction, a conductive polymer is disposed between particles of the inorganic binder, and the transparent conductive film is A dimensional conductive path is formed. As a heating method, for example, a hot air drying method, a heating drying method, a vacuum drying method, natural drying and the like can be performed. In addition, if necessary, the coating film may be cured by irradiating the coating film with UV light or EB light to form a transparent conductive film.
以下、実施例を用いて本発明を詳細に述べる。但し、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。特に指摘がない場合、下記において、「部」及び「%」は質量基準である。 Hereinafter, the present invention will be described in detail using examples. However, the present invention is not limited to the following examples. In the following, "parts" and "%" are based on mass unless otherwise indicated.
<透明導電性膜形成用コーティング組成物の製造>
以下の成分を準備し、表1に示す組成になる量で混合して、透明導電性膜形成用コーティング組成物を製造した。
(1)導電性高分子分散液(ヘレウス社製、商品名“クレビオスPH1000”、導電性高分子:PEDOT/PSS、固形分濃度:1.12質量%、溶媒:水)
(2)シラン化合物:アルコキシシラン(信越化学工業社製、商品名“X−40−2308”、“KR−220LP”、“KR−500”)
(3)非プロトン性極性溶媒(ジメチルスルホキシド)
(4)酸触媒(リン酸)
(5)酸化防止剤(ヒドロキノン)
(6)表面調整剤(ポリシロキサン系)
(7)水
(8)プロトン性極性溶媒(エチルアルコール)
<Production of Coating Composition for Forming Transparent Conductive Film>
The following components were prepared and mixed in amounts to achieve the compositions shown in Table 1 to produce a coating composition for forming a transparent conductive film.
(1) Conductive polymer dispersion (made by Heraeus, trade name "Clebios PH 1000", conductive polymer: PEDOT / PSS, solid content concentration: 1.12% by mass, solvent: water)
(2) Silane compound: alkoxysilane (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., trade name "X-40-2308", "KR-220LP", "KR-500")
(3) Aprotic polar solvent (dimethyl sulfoxide)
(4) Acid catalyst (phosphoric acid)
(5) Antioxidant (hydroquinone)
(6) Surface conditioner (polysiloxane type)
(7) Water (8) Protic polar solvent (ethyl alcohol)
<保存安定性>
製造したコーティング組成物を室温で所定時間保存した。保存後のコーティング組成物を無アルカリガラス基板の表面に塗布し、120℃の大気雰囲気下にて乾燥させて成膜し、塗膜特性(表面電気抵抗、ヘイズ、透過率及び鉛筆硬度)を測定した。各コーティング組成物について、いずれかの塗膜特性が著しく変化した保存時間を決定した。当該保存時間が8時間以内であったコーティング組成物は×、8〜12時間であったものは〇、12時間以上であったものは◎と保存安定性を評価した。結果を表1に示す。
<Storage stability>
The prepared coating composition was stored at room temperature for a predetermined time. The coating composition after storage is applied to the surface of an alkali-free glass substrate, dried in an air atmosphere at 120 ° C. to form a film, and the coating film characteristics (surface electrical resistance, haze, transmittance and pencil hardness) are measured. did. For each coating composition, the storage time at which any coating properties changed significantly was determined. The coating composition in which the storage time was less than 8 hours was evaluated as x, in those in which it was 8 to 12 hours, in 〇 and 12 hours or more, the storage stability was evaluated as ◎. The results are shown in Table 1.
<透明導電性膜の製造>
厚さ0.7mmの10cm角の無アルカリガラス(全光線透過率:91.2%)を基板として用い、基板の一方の面の全面に上記透明導電性膜形成用塗布液をスプレーコート法により塗布して、塗膜を形成した。スプレーコーターには、ノードソン社製のスプレーガン(スワールノズル、口径:1.0mm)を用いた。塗布条件は次の通りとした。即ち、スプレーガン速度10〜1500mm/秒、塗布ピッチ2〜30mm、ガン高さ1〜20cm、霧化圧0.01〜0.5MPaである。その後120℃で1時間加熱した。これにより、一方の面に透明導電膜性膜が形成された透明導電性シートを作製した。
<Production of transparent conductive film>
Using a 10 cm square alkali-free glass (total light transmittance: 91.2%) having a thickness of 0.7 mm as a substrate, the coating liquid for forming a transparent conductive film is spray-coated on the entire surface of one side of the substrate. It apply | coated and formed the coating film. As a spray coater, a Nordson spray gun (swirl nozzle, caliber: 1.0 mm) was used. The application conditions were as follows. That is, the spray gun speed is 10 to 1,500 mm / sec, the coating pitch is 2 to 30 mm, the gun height is 1 to 20 cm, and the atomization pressure is 0.01 to 0.5 MPa. Thereafter, it was heated at 120 ° C. for 1 hour. Thereby, the transparent conductive sheet in which the transparent conductive film conductive film was formed in one side was produced.
次に、上記透明導電性膜について、以下に示す各評価を行った。透明導電性膜の組成及び評価結果を表2に示す。 Next, each evaluation shown below was performed about the said transparent conductive film. Table 2 shows the composition of the transparent conductive film and the evaluation results.
<表面抵抗>
透明導電性膜の表面抵抗値(Ω/□)は、三菱化学アナリテック社製の抵抗率測定装置“Loresta−GP”(MCP−T610型)とLSPプローブを用いて測定した。
<Surface resistance>
The surface resistance value (Ω / □) of the transparent conductive film was measured using a resistivity measuring device “Loresta-GP” (MCP-T610 type) manufactured by Mitsubishi Chemical Analytech Co., Ltd. and an LSP probe.
<膜厚>
透明導電性膜の膜厚(μm)は、導電性膜をガラス基板ごと切断し、走査型電子顕微鏡(SEM、日立製作所社製“S−4500”)にて断面観察して、膜厚を測定した。
<Film thickness>
The film thickness (μm) of the transparent conductive film is obtained by cutting the conductive film together with the glass substrate and observing the cross section with a scanning electron microscope (SEM, “S-4500” manufactured by Hitachi, Ltd.) to measure the film thickness. did.
<ヘイズ>
透明導電性膜のヘイズ(%)は、日本電色工業社製のヘイズメータ"NDH2000"を用いて測定した。
<Haze>
The haze (%) of the transparent conductive film was measured using a haze meter "NDH 2000" manufactured by Nippon Denshoku Industries Co., Ltd.
<全光透過率>
透明導電性膜の全光線透過率(%)は、日本分光社製の分光光度計“V−570” を用いて測定した。
<All light transmittance>
The total light transmittance (%) of the transparent conductive film was measured using a spectrophotometer "V-570" manufactured by JASCO Corporation.
<鉛筆硬度>
透明導電性膜の鉛筆硬度は、日本工業規格(JIS)K5400に規定された鉛筆硬度の測定方法に基づき、新東科学社製の表面性試験機“HEIDON−14DR”を用いて測定した。
<Pencil hardness>
The pencil hardness of the transparent conductive film was measured using a surface property tester "HEIDON-14DR" manufactured by Shinto Scientific Co., Ltd. based on the measurement method of pencil hardness defined in Japanese Industrial Standard (JIS) K5400.
<耐湿熱性>
先ず、透明導電性膜の初期の表面抵抗値を前述の電気特性の評価と同様にして測定した。次に、透明導電性シートを恒温恒湿槽に入れて温度85℃、相対湿度85%で240時間保存した。続いて、保存後の透明導電性シートの透明導電性膜の表面抵抗値を上記と同様にして測定した。最後に、下記式(1)により表面抵抗値の変化度を算出した。
<Heat and humidity resistance>
First, the initial surface resistance value of the transparent conductive film was measured in the same manner as the evaluation of the electrical characteristics described above. Next, the transparent conductive sheet was placed in a constant temperature and humidity chamber and stored at a temperature of 85 ° C. and a relative humidity of 85% for 240 hours. Subsequently, the surface resistance value of the transparent conductive film of the transparent conductive sheet after storage was measured in the same manner as described above. Finally, the degree of change of the surface resistance value was calculated by the following equation (1).
表面抵抗値変化率(%)=(保存後の表面抵抗値−初期の表面抵抗値)/初期の表面抵抗値 (1) Surface resistance change rate (%) = (surface resistance after storage−initial surface resistance) / initial surface resistance (1)
<耐候性>
先ず、透明導電性膜の初期の表面抵抗値を前述の電気特性の評価と同様にして測定した。次に、透明導電性シートをウェザーメーターに入れて放射照度60W/m2(波長300〜400nm)で120時間保存した。続いて、保存後の透明導電性シートの透明導電性膜の表面抵抗値を上記と同様にして測定した。最後に、上記式(1)により表面抵抗値の変化率を算出した。
<Weatherability>
First, the initial surface resistance value of the transparent conductive film was measured in the same manner as the evaluation of the electrical characteristics described above. Next, the transparent conductive sheet was placed in a weather meter and stored at an irradiance of 60 W / m 2 (wavelength 300 to 400 nm) for 120 hours. Subsequently, the surface resistance value of the transparent conductive film of the transparent conductive sheet after storage was measured in the same manner as described above. Finally, the rate of change of the surface resistance was calculated by the above equation (1).
Claims (9)
該無機酸は、該導電性高分子の含有量を基準にして30質量%以下の量で含まれる透明導電性膜。 A transparent conductive film formed on one surface of a transparent substrate, comprising a conductive polymer containing polythiophene compound / polystyrene sulfonic acid, an inorganic binder containing a silane compound, an inorganic acid, and a surface control agent And
The transparent conductive film, wherein the inorganic acid is contained in an amount of 30% by mass or less based on the content of the conductive polymer.
該無機酸は、該導電性高分子の含有量を基準にして30質量%以下の量で含まれるコーティング組成物。 A coating composition comprising a conductive polymer containing a polythiophene compound / polystyrene sulfonic acid, a silane compound, an inorganic acid, a surface control agent, and an aqueous solvent,
The coating composition, wherein the inorganic acid is contained in an amount of 30% by mass or less based on the content of the conductive polymer.
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