JP2019064883A - Glass and method for manufacturing the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ガラス及びその製造方法に関する。 The present invention relates to a glass and a method of manufacturing the same.
デジタルカメラ等においては、CCDやCMOS等の固体撮像デバイスが用いられている。これらの固体撮像デバイスは、広範囲の受光感度を有しているので、人間の視感に合わせるため、赤外域の光を除去する必要がある。そのため、固体撮像デバイスには赤外線を吸収する樹脂フィルム、赤外線を吸収する膜、赤外線を反射する膜を表面に設けたガラスや赤外線吸収ガラスが用いられている。 In digital cameras and the like, solid-state imaging devices such as CCDs and CMOSs are used. Since these solid-state imaging devices have a wide range of light receiving sensitivities, it is necessary to remove light in the infrared region in order to match human vision. Therefore, a resin film that absorbs infrared light, a film that absorbs infrared light, a glass provided with a film that reflects infrared light, and an infrared-absorbing glass are used for the solid-state imaging device.
これらのガラスは、母材を分割することにより所望の大きさにされる。従来、母材の分割は、ダイシングブレードを用いて行われていた。しかしながら、この方法の場合、切断面において面方向に延びるマイクロクラックが生じる傾向があった。そのため、ガラスに割れが生じ易いという問題があった。 These glasses are sized as desired by dividing the matrix. Conventionally, division of the base material has been performed using a dicing blade. However, in the case of this method, there has been a tendency for the microcracks to extend in the plane direction in the cut surface. Therefore, there is a problem that the glass is easily broken.
この問題を解決するための方法として、下記の特許文献1には、母材の内部に改質領域を形成し、改質領域に沿って母材を分割する製造方法が開示されている。 As a method for solving this problem, Patent Document 1 below discloses a manufacturing method in which a modified region is formed inside a base material and the base material is divided along the modified region.
特許文献1に記載の製造方法においては、面方向に延びるマイクロクラックは生じ難い。しかしながら、分割されたガラスの端縁部が、周期が短い波状の形状となる傾向にあり、波状の凹凸を起点としてガラスに割れが生じ易くなるおそれがあった。特に、赤外線吸収ガラスの場合、割れが生じ易いという問題が顕著であった。 In the manufacturing method described in Patent Document 1, micro cracks extending in the surface direction are less likely to occur. However, the edge portion of the divided glass tends to have a wave-like shape with a short period, and there is a possibility that the glass tends to be broken starting from the wave-like unevenness. In particular, in the case of the infrared absorbing glass, the problem of being prone to cracking was remarkable.
本発明の目的は、破損し難いガラス及びその製造方法を提供することである。 An object of the present invention is to provide a glass that is resistant to breakage and a method of manufacturing the same.
本発明のガラスは、対向し合う第1の主面及び第2の主面と、第1の主面及び第2の主面を接続する側面とを有し、厚み方向において、側面の50%以上に改質部が設けられており、改質部が第1の主面及び第2の主面に至っていないことを特徴とする。 The glass of the present invention has a first main surface and a second main surface facing each other, and a side surface connecting the first main surface and the second main surface, and 50% of the side surface in the thickness direction The present invention is characterized in that the reforming section is provided as described above, and the reforming section does not reach the first main surface and the second main surface.
第1の主面の端縁部である第1の端縁部が、平面視において波状の形状を有し、第1の端縁部の波状の形状における波数の平均値が、1mm−1以下であることが好ましい。 A first edge which is an edge of the first main surface has a wave-like shape in plan view, and an average value of wave numbers in the wave-like shape of the first edge is 1 mm −1 or less Is preferred.
本発明の他の局面におけるガラスは、対向し合う第1の主面及び第2の主面と、第1の主面及び第2の主面を接続する側面とを有し、第1の主面の端縁部である第1の端縁部が、平面視において波状の形状を有し、第1の端縁部の波状の形状における波数の平均値が、1mm−1以下であることを特徴とする。 A glass according to another aspect of the present invention has a first main surface and a second main surface facing each other, and a side surface connecting the first main surface and the second main surface, The first edge which is the edge of the surface has a wave-like shape in plan view, and the average value of the wave numbers in the wave-like shape of the first edge is 1 mm −1 or less It features.
第2の主面の端縁部である第2の端縁部が、平面視において波状の形状を有し、第1の端縁部の波状の形状及び第2の端縁部の波状の形状の両方における波数の平均値が、1mm−1以下であることが好ましい。 The second edge which is the edge of the second main surface has a wavelike shape in plan view, and the wavelike shape of the first edge and the wavelike shape of the second edge It is preferable that the average value of the wave number in both of is 1 mm <-1> or less.
厚み方向において、側面の50%以上に改質部が設けられており、改質部が第1の主面及び第2の主面に至っていないことが好ましい。 In the thickness direction, it is preferable that at least 50% of the side surfaces be provided with a reformed portion, and the reformed portion does not reach the first main surface and the second main surface.
厚み方向において、側面の60%以上に改質部が設けられており、改質部が第1の主面及び第2の主面に至っていないことがより好ましい。 In the thickness direction, it is more preferable that 60% or more of the side surface is provided with a reformed portion, and the reformed portion does not reach the first main surface and the second main surface.
厚み方向における側面の中心と、厚み方向における改質部の中心とが同じ位置であることが好ましい。 It is preferable that the center of the side surface in the thickness direction and the center of the reformed portion in the thickness direction be at the same position.
厚みが0.3mm以下であることが好ましい。 The thickness is preferably 0.3 mm or less.
ガラスが赤外線吸収ガラスであることが好ましい。 It is preferred that the glass is an infrared absorbing glass.
曲げ強度が100MPa以上であることが好ましい。 The bending strength is preferably 100 MPa or more.
本発明のガラスの製造方法は、対向し合う第1の主面及び第2の主面を有するガラスの母材を用意する工程と、母材にレーザー光を照射することにより、母材の内部に改質部を設ける工程と、改質部が設けられている部分に沿い母材を割断する工程とを備え、改質部を設ける工程において、改質部が第1の主面及び第2の主面に至らないように、かつ、改質部を母材の厚み方向における50%以上に設けることを特徴とする。 The method for producing a glass according to the present invention comprises the steps of preparing a glass base material having a first main surface and a second main surface facing each other, and irradiating the base material with laser light to obtain the inside of the base material. And a step of cutting the base material along a portion where the reforming portion is provided, and in the step of providing the reforming portion, the reforming portion includes the first main surface and the second main surface. The modified portion is provided at 50% or more in the thickness direction of the base material so as not to reach the main surface of the substrate.
改質部を設ける工程において、改質部を母材の厚み方向における60%以上に設けることが好ましい。 In the step of providing the reforming portion, it is preferable to provide the reforming portion at 60% or more in the thickness direction of the base material.
改質部を設ける工程において、母材の厚み方向における母材の中心と母材の厚み方向における改質部の中心とが同じ位置になるように、改質部を設けることが好ましい。 In the step of providing the reforming portion, it is preferable to provide the reforming portion so that the center of the base material in the thickness direction of the base material and the center of the reforming portion in the thickness direction of the base material are at the same position.
ガラスが、赤外線吸収ガラスであることが好ましい。 The glass is preferably an infrared absorbing glass.
本発明によれば、破損し難いガラス及びその製造方法を提供することができる。 According to the present invention, it is possible to provide a glass that is resistant to breakage and a method for producing the same.
以下、好ましい実施形態について説明する。但し、以下の実施形態は単なる例示であり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。また、各図面において、実質的に同一の機能を有する部材は同一の符号で参照する場合がある。 Hereinafter, preferred embodiments will be described. However, the following embodiments are merely examples, and the present invention is not limited to these embodiments. In each drawing, members having substantially the same functions may be referred to by the same reference numerals.
(ガラス)
(第1の実施形態)
図1は、本発明の第1の実施形態のガラスを示す模式的斜視図である。図1に示すように、ガラス10は、対向し合う第1の主面1a及び第2の主面1bと、第1の主面1a及び第2の主面1bを接続する側面1cとを有する。側面1cには、改質部2が設けられている。ここで、改質部とは、レーザー光の照射等により、ガラスの屈折率や構造等に変化が生じた部分をいう。なお、ガラス10は赤外線吸収ガラスである。赤外線吸収ガラスは、一般的には割れが生じ易い。
(Glass)
First Embodiment
FIG. 1 is a schematic perspective view showing a glass of a first embodiment of the present invention. As shown in FIG. 1, the
本実施形態においては、改質部2は、厚み方向において側面1cに設けられており、第1の主面1a及び第2の主面1bには至っていない。これにより、改質部2が設けられた部分に沿って母材を割断してガラス10を得る際に、改質部2を起点としてクラックが発生し、発生したクラックは母材の厚み方向に延びるため、第1の端縁部1d及び第2の端縁部1eにおける面方向に延びるマイクロクラックの発生を抑えることができる。なお、上記面方向とは、第1の主面1aまたは第2の主面1bが延びる方向である。
In the present embodiment, the reforming
また、改質部2を厚み方向において側面1cの50%以上に設けることで、改質部2と、第1の主面1aや第2の主面1bとの距離が短くなる。よって、分割されたガラスの端縁部が、周期が長い波状の形状となり易く、波状の凹凸を起点としたガラスの割れの発生を抑制することができる。従って、一般的には割れが生じ易い赤外線吸収ガラスであっても、破損を抑制することができる。
Further, by providing the reformed
なお、改質部2は、厚み方向において、側面1cの60%以上に設けられていることが好ましい。それによって、ガラス10をより破損し難くすることができる。改質部2は、厚み方向において、側面1cの99%以下に設けられていることが好ましい。改質部2が第1の主面1aまたは第2の主面1bに至っている場合には、第1の主面1aまたは第2の主面1bにクラックが発生し易くなり、ガラス10が破損し易くなる。
In addition, it is preferable that the
厚み方向における側面1cの中心と、厚み方向における改質部2の中心とが同じ位置であることが好ましい。それによって、ガラス10をより確実に破損し難くすることができる。なお、厚み方向における側面1cの中心と、厚み方向における改質部2の中心とは異なる位置であってもよい。
It is preferable that the center of the
図2は、第1の実施形態のガラスを示す模式的拡大平面図である。ガラス10は、母材を割断することにより作製されている。そのため、図2に示すように、第1の主面1aの端縁部である第1の端縁部1dは、平面視において波状の形状を有する。ここで、図2中の矢印Aで示すような1組の凹凸を1つの波とし、単位長さ当たりの波の数を波数(mm−1)とする。本実施形態においては、第1の端縁部1dの波数の平均値は1mm−1以下である。このように、第1の端縁部1dにおいて凹凸の間隔が長く、第1の端縁部1dの形状が直線に近いため、ガラス10の割れの起点となる部分が生じ難い。
FIG. 2 is a schematic enlarged plan view showing the glass of the first embodiment. The
さらに、図1に示す第2の主面1bの端縁部である第2の端縁部1eも、平面視において波状の形状を有し、第2の端縁部1eの波数の平均値は1mm−1以下である。従って、ガラス10はより一層破損し難い。
Furthermore, the
第1の端縁部1d及び第2の端縁部1eの波数の平均値は0.8mm−1以下であることが好ましく、0.5mm−1以下であることがより好ましい。それによって、第1の端縁部1d及び第2の端縁部1eの形状をより一層直線に近づけることができ、ガラス10はより一層破損し難い。
The average value of the wave numbers of the
ガラス10の厚みは0.3mm以下、0.2mm以下、特に0.18mm以下であることが好ましい。また、ガラス10が赤外線吸収ガラスであることが好ましい。この場合には、一般的には割れが生じ易いにも関わらず、破損し難くすることができるため、本発明の構成が特に好適である。
The thickness of the
以下、赤外線吸収ガラスを構成する材料の詳細について説明する。 Hereinafter, details of the material constituting the infrared absorbing glass will be described.
赤外線吸収ガラスとしては、例えば、硫リン酸塩系ガラス、フツリン酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラス等からなるガラス板が挙げられる。特に、CuOを含有した硫リン酸塩系ガラス、フツリン酸塩系ガラス、リン酸塩系ガラスが好ましく用いられる。 As an infrared rays absorption glass, the glass plate which consists of a sulfate phosphate glass, fluorophosphate glass, phosphate glass etc. is mentioned, for example. In particular, sulfated phosphate glass, fluorophosphate glass, and phosphate glass containing CuO are preferably used.
硫リン酸塩系ガラスとしては、赤外線吸収ガラスとして用いられる公知のガラス組成を
用いることができるが、具体的には、質量%でP2O5 20%〜70%、SO3 1%〜25%、ZnO 10%〜50%、R2O 1%〜30%(RはLi、Na、Kのいずれか)の基本組成を含有するガラスを用いることができる。
Although a known glass composition used as infrared absorbing glass can be used as the sulfurized phosphate glass, specifically, P 2 O 5 20% to 70%, SO 3 1% to 25% by mass% Glass containing 10% to 50% ZnO and 1% to 30% R 2 O (where R is any of Li, Na and K) can be used.
フツリン酸塩系ガラスとしては、赤外線吸収ガラスとして用いられる公知のガラス組成を用いることができるが、具体的には、アニオン%でF− 5%〜70% O2− 30%〜95%であり、カチオン%でP5+ 20%〜50%、Al3+ 0.2%〜20%、R+ 1%〜30%(RはLi、Na、Kのいずれか)、R’2+ 1%〜50%(R’はZn、Mg、Ca、Sr、Baのいずれか)の基本組成を含有するガラスを用いることができる。 The fluorophosphate salt-based glass, but may be any known glass compositions used as an infrared absorbing glass, specifically, F anionic% - a 5% ~70% O 2- 30% ~95% , Cation% P 5 + 20% to 50%, Al 3 + 0.2% to 20%, R + 1% to 30% (R is any of Li, Na, K), R ' 2+ 1% to 50% A glass containing a basic composition of (R ′ is any of Zn, Mg, Ca, Sr, and Ba) can be used.
リン酸塩系ガラスとしては、赤外線吸収ガラスとして用いられる公知のガラス組成を用いることができるが、具体的には、重量%でP2O5 20%〜70%、Al2O3 1%〜20%、R2O 0%〜30%(RはLi、Na、Kのいずれか)、R’O 0%〜40%(R’はZn、Mg、Ca、Sr、Baのいずれか)の基本組成を含有するガラスを用いることができる。
Although a known glass composition used as infrared absorbing glass can be used as the phosphate glass, specifically, 20% to 70% of P 2 O 5 and 1% of Al 2 O 3 by
上記各ガラスにおけるCuOの含有量は、基礎ガラス100質量部に対して、0.1質量部〜15質量部であることが好ましく、0.5質量部〜10質量部であることがより好ましく、2質量部〜8質量部であることがさらに好ましい。CuOの含有量が少なすぎると、赤外線吸収性能が不十分となる場合があり、CuOの含有量が多すぎると、可視光透過率が低下する場合や、ガラス化しない場合がある。 The content of CuO in each of the above glasses is preferably 0.1 parts by mass to 15 parts by mass, and more preferably 0.5 parts by mass to 10 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the base glass. More preferably, it is 2 parts by mass to 8 parts by mass. If the content of CuO is too small, the infrared absorption performance may be insufficient. If the content of CuO is too large, the visible light transmittance may decrease or may not be vitrified.
(製造方法)
以下、第1の実施形態に係るガラス10の製造方法の一例を説明する。
(Production method)
Hereinafter, an example of the manufacturing method of the
図3(a)及び(b)は、本発明の第1の実施形態に係るガラスの製造方法の一例を説明するための模式的断面図である。図4(a)及び(b)は、本発明の第1の実施形態に係るガラスの製造方法の一例を説明するための模式的断面図である。図3(a)及び(b)並びに図4(a)及び(b)における方向zは厚み方向を示す。方向x及び方向yは面方向のそれぞれの方向を示す。図3(a)及び(b)はx方向から見た断面図であり、図4(a)及び(b)は、x方向に垂直なy方向から見た断面図である。 FIGS. 3A and 3B are schematic cross-sectional views for explaining an example of the method for producing glass according to the first embodiment of the present invention. FIG. 4A and FIG. 4B are schematic cross-sectional views for explaining an example of the method for producing glass according to the first embodiment of the present invention. The directions z in FIGS. 3A and 3B and FIGS. 4A and 4B indicate the thickness direction. The direction x and the direction y indicate the respective directions of the surface direction. 3A and 3B are cross-sectional views as viewed from the x direction, and FIGS. 4A and 4B are cross-sectional views as viewed from the y direction perpendicular to the x direction.
図3(a)に示すように、ガラスの母材20を用意する。次に、図3(b)に示すように、母材20を分割する部分に沿いレーザー光Lを走査させて照射する。なお、焦点の位置が母材20の内部となるように、レーザー光Lを照射する。これにより、母材20の内部に改質部2を設ける。改質部2は、母材20の厚み方向zにおける50%以上に設ける。本実施形態においては、改質部2は、厚み方向zにおいて1つ設けている。なお、照射強度、照射時間、集光幅、走査回数を調整することで、改質部2を、母材20の厚み方向zにおいて50%以上設けることができる。また、レーザー光Lを複数回走査させて改質部2を設けてもよく、レーザー光Lの1回の走査により改質部2を設けてもよい。
As shown in FIG. 3A, a
改質部2は、母材20の厚み方向zにおける60%以上に設けることがより好ましい。図3(b)においては、y方向に延びる改質部2を示しているが、x方向に延びる改質部2も同様に設ける。
The
一方で、図4(a)に示すように、母材20の割断に用いる支持体21を用意する。支持体21の構成は特に限定されないが、支持体21は、樹脂フィルムと、樹脂フィルム上に設けられた粘着剤層とを有する。次に、支持体21の粘着剤層に母材20を貼り付ける。
On the other hand, as shown to Fig.4 (a), the
次に、押圧部材22を、母材20における改質部2が設けられた領域と平面視において重なるように、支持体21側に配置する。なお、押圧部材22は母材20を割断するための部材であり、y方向に直線状に延びているブレード23を有する。次に、押圧部材22を母材20側に移動させることにより、支持体21側から母材20を押圧する。具体的には、母材20における改質部2が設けられた領域を、支持体21を介して間接的に、ブレード23によって押圧する。これにより、図4(b)に示すように、改質部2に沿い厚み方向zに母材20を割断する。同様に、各改質部2に沿い母材20を割断する。
Next, the pressing
本実施形態においては、上記のように母材20を割断しているため、x方向またはy方向に延びるマイクロクラックは生じ難い。そのため、ガラス10が破損し難くなる。
In the present embodiment, since the
改質部2は母材20の厚み方向zにおいて60%以上に設けられている。これにより、母材20の両主面と改質部2との距離を効果的に短くすることができる。もっとも、改質部2を厚み方向zにおいて50%以上に設けた場合においても、母材20の両主面と改質部2との距離を十分に短くすることができる。加えて、母材20における厚み方向zにおいて、両主面と改質部2との間の領域以外は、全て改質部2となっている。よって、より一層安定的に割断することができる。これにより、図1に示す、割断後の第1の端縁部1d及び第2の端縁部1eにおける上記波数を小さくすることができる。よって、第1の端縁部1d及び第2の端縁部1eの形状を、改質部2が延びる直線に近い形状とすることができる。従って、割れの起点となる部分が生じ難く、ガラス10はより一層破損し難い。
The reforming
改質部2を設ける工程においては、改質部2は、厚み方向zにおける母材20の中心と厚み方向zにおける改質部2の中心とが同じ位置になるように、改質部2を設けることがより好ましい。それによって、母材20の両主面と改質部2との距離をより確実に短くすることができる。従って、ガラス10の破損をより確実に生じ難くすることができる。
In the process of providing the reforming
<実施例及び比較例>
(実施例1)
厚み0.10mmの母材にレーザー光を照射することにより、母材の内部に改質部を設けた。改質部は、母材の厚み方向における50%に設けた。次に、改質部が設けられた領域に沿い、母材を割断した。これにより、主面が6mm×6mmの大きさであり、厚みが0.10mmである赤外線吸収ガラスを得た。
<Example and Comparative Example>
Example 1
By irradiating a laser beam to a base material having a thickness of 0.10 mm, a reformed part was provided inside the base material. The reformed portion was provided at 50% in the thickness direction of the base material. Next, the base material was cut along the area where the reforming section was provided. This obtained the infrared rays absorption glass whose main surface is a size of 6 mm x 6 mm, and whose thickness is 0.10 mm.
(実施例2)
改質部を母材の厚み方向における60%に設けたこと以外においては、実施例1と同様に赤外線吸収ガラスを作製した。
(Example 2)
An infrared-absorbing glass was produced in the same manner as in Example 1 except that the modified portion was provided at 60% in the thickness direction of the base material.
(比較例)
改質部を母材の厚み方向における30%に設けたこと以外においては、実施例1と同様に赤外線吸収ガラスを作製した。
(Comparative example)
An infrared ray absorbing glass was produced in the same manner as in Example 1 except that the modified portion was provided at 30% in the thickness direction of the base material.
下記の表1に、実施例1、実施例2及び比較例の赤外線吸収ガラスについて曲げ強度試験を行った結果を示す。 Table 1 below shows the results of the bending strength test conducted on the infrared absorbing glasses of Example 1, Example 2 and Comparative Example.
表1に示すように、実施例1及び実施例2における曲げ強度は100MPa以上となっており、比較例よりも高いことがわかる。このように、実施例1及び実施例2においては、赤外線吸収ガラスが破損し難い。 As shown in Table 1, it is understood that the bending strength in Example 1 and Example 2 is 100 MPa or more, which is higher than that of the comparative example. Thus, in Example 1 and Example 2, infrared rays absorption glass is hard to be damaged.
1a…第1の主面
1b…第2の主面
1c…側面
1d…第1の端縁部
1e…第2の端縁部
2…改質部
10…ガラス
20…母材
21…支持体
22…押圧部材
23…ブレード
DESCRIPTION OF
Claims (14)
厚み方向において、前記側面の50%以上に改質部が設けられており、
前記改質部が前記第1の主面及び前記第2の主面に至っていない、ガラス。 It has a first main surface and a second main surface facing each other, and a side surface connecting the first main surface and the second main surface,
In the thickness direction, 50% or more of the side surface is provided with a reformed portion,
The glass in which the reforming portion has not reached the first main surface and the second main surface.
前記第1の端縁部の波状の形状における波数の平均値が、1mm−1以下である、請求項1に記載のガラス。 A first end edge which is an end edge of the first main surface has a wave-like shape in plan view,
The glass according to claim 1, wherein an average value of wave numbers in the wavelike shape of the first edge portion is 1 mm- 1 or less.
前記第1の主面の端縁部である第1の端縁部が、平面視において波状の形状を有し、
前記第1の端縁部の波状の形状における波数の平均値が、1mm−1以下である、ガラス。 It has a first main surface and a second main surface facing each other, and a side surface connecting the first main surface and the second main surface,
A first end edge which is an end edge of the first main surface has a wave-like shape in plan view,
Glass whose average value of the wave number in the wavelike shape of said 1st edge part is 1 mm <-1> or less.
前記第1の端縁部の波状の形状及び前記第2の端縁部の波状の形状の両方における波数の平均値が、1mm−1以下である、請求項2または3に記載のガラス。 A second end edge which is an end edge of the second main surface has a wavy shape in plan view,
The glass according to claim 2 or 3, wherein an average value of wave numbers in both the wave-like shape of the first edge and the wave-like shape of the second edge is 1 mm- 1 or less.
前記改質部が前記第1の主面及び前記第2の主面に至っていない、請求項3または4に記載のガラス。 In the thickness direction, 50% or more of the side surface is provided with a reformed portion,
The glass according to claim 3, wherein the modified portion does not reach the first main surface and the second main surface.
前記改質部が前記第1の主面及び前記第2の主面に至っていない、請求項1〜5のいずれか一項に記載のガラス。 In the thickness direction, 60% or more of the side surface is provided with a reformed portion,
The glass as described in any one of Claims 1-5 in which the said modification part has not reached the said 1st main surface and the said 2nd main surface.
前記母材にレーザー光を照射することにより、前記母材の内部に改質部を設ける工程と、
前記改質部が設けられている部分に沿い前記母材を割断する工程とを備え、
前記改質部を設ける工程において、前記改質部が前記第1の主面及び前記第2の主面に至らないように、かつ、前記改質部を前記母材の厚み方向における50%以上に設ける、ガラスの製造方法。 Preparing a glass base material having a first main surface and a second main surface facing each other;
Providing a reformer inside the matrix by irradiating the matrix with laser light;
And c. Cutting the base material along the portion where the reforming section is provided,
In the step of providing the reformed portion, the reformed portion is 50% or more in the thickness direction of the base material so that the reformed portion does not reach the first main surface and the second main surface. The method for producing glass, provided in
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Citations (5)
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---|---|---|---|---|
US20130129947A1 (en) * | 2011-11-18 | 2013-05-23 | Daniel Ralph Harvey | Glass article having high damage resistance |
JP2013245153A (en) * | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Hamamatsu Photonics Kk | Method for cutting tempered glass plate |
JP2014148454A (en) * | 2013-02-04 | 2014-08-21 | Asahi Glass Co Ltd | Cutting method of glass substrate, glass substrate and near-infrared cut filter glass |
JP2015131732A (en) * | 2014-01-09 | 2015-07-23 | 旭硝子株式会社 | Method for cutting glass substrate |
WO2015182300A1 (en) * | 2014-05-29 | 2015-12-03 | 旭硝子株式会社 | Optical glass and method for cutting glass substrate |
-
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20130129947A1 (en) * | 2011-11-18 | 2013-05-23 | Daniel Ralph Harvey | Glass article having high damage resistance |
JP2013245153A (en) * | 2012-05-29 | 2013-12-09 | Hamamatsu Photonics Kk | Method for cutting tempered glass plate |
JP2014148454A (en) * | 2013-02-04 | 2014-08-21 | Asahi Glass Co Ltd | Cutting method of glass substrate, glass substrate and near-infrared cut filter glass |
JP2015131732A (en) * | 2014-01-09 | 2015-07-23 | 旭硝子株式会社 | Method for cutting glass substrate |
WO2015182300A1 (en) * | 2014-05-29 | 2015-12-03 | 旭硝子株式会社 | Optical glass and method for cutting glass substrate |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2020195438A1 (en) * | 2019-03-22 | 2020-10-01 | 日本電気硝子株式会社 | Glass plate and production method therefor |
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