JP2019062992A - Bathroom washing system and method - Google Patents

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Abstract

To prevent a bathroom from being contaminated by eliminating causes responsible for the contamination of the bathroom, and wash the bathroom while reducing time and labor of a user in contamination preventing operations.SOLUTION: A bathroom washing system includes: a supply water spraying process for spraying water supplied from a water supply source 11 in a bathroom 2; a silica removed water spraying process for spraying silica removed water in which a silica component is reduced to a concentration of 0.4 ppm or less from the water supplied from the water supply source 11, in the bathroom 2; and a drying process for drying the bathroom 2.SELECTED DRAWING: Figure 1

Description

本発明は、浴室の内壁、床、浴槽、ドア等に付着した汚れを自動的に除去することにより、浴室内の汚染防止を実現する上で好適な浴室洗浄システム及び方法に関する。   The present invention relates to a bathroom cleaning system and method suitable for realizing contamination prevention in a bathroom by automatically removing dirt adhering to the inner wall, floor, bath, door and the like of the bathroom.

浴室を使用し続けると、内壁、床、浴槽、ドア等には汚れが付着する。この汚れの第1原因は、皮脂や埃、石鹸等の付着による一般的な汚れが考えられる。また汚れの第2原因は、水道水に含まれるシリカ、カルシウム、マグネシウム等の溶解物質による水垢汚れが考えられる。特にこの浴室内を水道水で洗浄した場合には、浴室内に残存した水道水が蒸発し、上述した溶解物質による水垢汚れが表出される。更に汚れの第3原因は、入室者や空気の流れによって浴室内へ運ばれてくるカビや酵母等の菌類を始めとした微生物が考えられる。このような微生物によるカビ等が浴室内の内壁に付着すると擦っても簡単には除去できないしつこい汚れとなってしまう。   Continuation of the use of the bathroom will cause the inner wall, floor, bath, door, etc. to become dirty. The first cause of this stain is considered to be a general stain caused by adhesion of sebum, dust, soap and the like. Moreover, the second cause of the contamination is considered to be a stain caused by the presence of dissolved substances such as silica, calcium and magnesium contained in tap water. In particular, when the inside of the bathroom is washed with tap water, the tap water remaining in the bathroom is evaporated, and the above-described dissolved substance causes the appearance of the water stain. Furthermore, the third cause of the contamination is considered to be microorganisms including fungi such as molds and yeasts which are carried into the bathroom by the occupants and the air flow. When mold or the like due to such microorganisms adheres to the inner wall in the bathroom, it becomes a persistent stain that can not be easily removed by rubbing.

従って、浴室内の汚れを除去して清浄にするためには、これら汚れの第1原因〜第3原因の何れも取り除くことが必要となる。   Therefore, in order to remove and clean the stains in the bathroom, it is necessary to remove any of the first to third causes of the stains.

このため、従来より、このような浴室の汚れを除去することにより、浴室内を清浄に保つことができる浴室洗浄システムに関する研究が進展している。特許文献1の開示技術では、浴室内における浴槽や洗い場に対してほぼ全面に散水し、次に洗剤を噴霧し、必要な場合には再度散水を行った上で浴室内を換気する浴室洗浄システムが提案されている。   For this reason, research on a bathroom cleaning system capable of keeping the inside of the bathroom clean by removing such bathroom dirt has been developed. According to the disclosed technology of Patent Document 1, a bathroom cleaning system in which water is sprayed almost all over a bath or washing place in a bathroom, then a detergent is sprayed, and if necessary water is re-sprayed before ventilating the bathroom. Has been proposed.

しかしながら、この特許文献1の開示技術によれば、散水後に残存した水滴を拭き取ることなく換気によって蒸発乾燥させること前提としている。このため、この残存した水滴が蒸発した場合に、水道水中に含まれるシリカやマグネシウム等を始めとした溶解物質による水垢が表出化し、浴室内の内壁や床等に強固に付着してしまう虞がある。これら溶解物質が石鹸成分と結びつき、擦っても落ちにくい金属石鹸として残存する虞もある。特にこの特許文献1の開示技術では、入浴の都度、洗浄システムを動作させることを前提としていることから使用頻度が高く、上述した水垢や金属石鹸がより堆積していく可能性が高くなる。   However, according to the disclosed technique of Patent Document 1, it is premised that the water droplets remaining after watering are evaporated and dried by ventilation without wiping off. For this reason, when this remaining water droplet evaporates, there is a possibility that a water stain due to the dissolved substance including silica, magnesium and the like contained in the tap water may be exposed and firmly attached to the inner wall or floor in the bathroom. There is. These dissolved substances may be combined with the soap component and remain as a metal soap which is hard to drop off even when rubbed. In particular, in the technology disclosed in Patent Document 1, since it is premised that the cleaning system is operated every time of bathing, the frequency of use is high, and the possibility that the above-mentioned water tank and metal soap are more deposited becomes high.

このような水垢や金属石鹸等の汚れを除去するためには、酢酸やクエン酸等の酸性水溶液を浸したペーパーを汚れの上から貼り付けた後、当該水溶液の蒸発を防ぐためにラップで覆って放置することで、汚れの溶解除去性を向上させることが必要になる。またこのような汚れに対して研磨剤を使用して磨くことでも除去は可能である。但し、これら汚れの除去作業の労力の負担が大きくなるという問題点も生じる。   In order to remove such stains such as water stains and metal soaps, a paper soaked with an acidic aqueous solution such as acetic acid or citric acid is pasted over the stains, and then covered with a wrap to prevent evaporation of the aqueous solution. It is necessary to improve the dissolution and removability of the soil by leaving it to stand. It is also possible to remove such dirt by polishing using an abrasive. However, there is also a problem that the burden of labor for removing these stains is increased.

また特許文献2には、給水源から供給されてくる水道水からシリカ等の溶解物質を逆浸透膜を介して除去した上でこれを浴室内に散布する技術が開示されている。このような溶解物質を除去した水を散布することで、浴室内に上述した水垢や金属石鹸の発生の抑制が期待される。   Further, Patent Document 2 discloses a technology of removing dissolved substances such as silica from tap water supplied from a water supply source through a reverse osmosis membrane, and then dispersing it in a bathroom. By spraying water from which such a dissolved substance has been removed, it is expected to suppress the generation of the above-described water tank and metal soap in the bathroom.

しかしながら、この特許文献2の開示技術では、溶解物質を除去した水を浴室内に散布した後、特段乾燥することを行わず、いわば自然乾燥のみとなるため、水滴が乾燥するまでに長時間を要してしまう。特に気温の低い冬季は、水滴が乾燥し難く、翌日の入浴時まで乾かずに浴室が湿った状態が続いてしまう場合がある。その結果、残存して水滴に含まれている菌類が増殖する虞がある。特に特許文献2の開示技術では、このような水道水中の菌類を除去するための手段が設けられていないため、増殖した菌類によるカビ等の汚れの発生を抑制することができない可能性がある。   However, in the technology disclosed in Patent Document 2, after the water from which the dissolved substance has been removed is dispersed in the bathroom, it is not particularly dried and only so-called natural drying is performed. I need it. Especially in winter when the temperature is low, the water droplets are difficult to dry, and the bathroom may continue to be damp until the next day's bathing. As a result, there is a possibility that the remaining fungi contained in the water droplets may grow. In particular, in the technology disclosed in Patent Document 2, there is a possibility that such a means for removing fungi in tap water can not be suppressed, and therefore the growth of fungi and the like due to grown fungi can not be suppressed.

またこのような菌類の増殖が続けば、浴室の汚染除去ができないばかりなく、人体に害を及ぼす危険性も生じるという問題点がある。   In addition, if the growth of such fungi continues, there is a problem that not only the bathroom can not be decontaminated, but also there is a risk of harming the human body.

特開平10−216068号公報Unexamined-Japanese-Patent No. 10-216068 gazette 特開2009−125500号公報JP, 2009-125500, A

そこで本発明は、上述した問題点に鑑みて案出されたものであり、その目的とするところは、浴室の汚れの第1原因(皮脂や埃、石鹸等の付着による一般的な汚れ)、第2原因(水道水中のシリカ等の溶解物質による水垢汚れ)、第3原因(入室者や空気の流れによって浴室内に運ばれてくる微生物に基づくカビ等)の全てを取り除くことにより浴室内の汚染防止を実現し、しかもこれらの処理動作を行う上でユーザの労力負担を軽減した方法で浴室内を洗浄することが可能な浴室洗浄システム及び方法を提供することにある。   Therefore, the present invention has been devised in view of the above-mentioned problems, and the purpose thereof is the first cause of stains in a bathroom (general stains due to adhesion of sebum, dust, soap, etc.), In the bathroom by removing all of the second cause (water stains due to dissolved substances such as silica in tap water) and the third cause (microbes etc. carried into the bathroom by the occupants and the air flow) It is an object of the present invention to provide a bathroom cleaning system and method capable of cleaning the inside of a bathroom in a manner that achieves contamination prevention and reduces the burden on the user in performing these processing operations.

第1発明に係る浴室洗浄システムは、給水源から供給されてくる水からシリカ成分の濃度を0.4ppm以下まで低減させたシリカ除去水を浴室内に散布するシリカ除去水散布手段と、上記シリカ除去水散布手段による散布後に、上記浴室内を乾燥させる乾燥手段とを備えることを特徴とする。   According to a first aspect of the present invention, there is provided a bathroom cleaning system comprising: silica removing water spraying means for spraying silica removing water having a concentration of silica component reduced to 0.4 ppm or less from water supplied from a water supply source; And drying means for drying the inside of the bathroom after spraying by the removing water spraying means.

第2発明に係る浴室洗浄システムは、第1発明において、シリカ除去水散布手段によるシリカ除去水の散布前に、上記給水源から供給されてくる水を浴室内に散布する供給水散布手段を更に備えることを特徴とする。   In the bathroom cleaning system according to the second aspect of the present invention, in the first aspect, the supply water distribution means for distributing the water supplied from the water supply source into the bathroom before the dispersion of the silica removal water by the silica removal water distribution means. It is characterized by having.

第3発明に係る浴室洗浄システムは、第1発明又は第2発明において、上記浴室内から上記シリカ除去水散布手段への微生物の浸入を抑制する微生物除去手段を更に備えることを特徴とする。   The bathroom cleaning system according to the third invention is characterized in that, in the first invention or the second invention, the system further comprises a microorganism removing means for suppressing the infiltration of the microorganism from the inside of the bathroom to the silica removing water spraying means.

第4発明に係る浴室洗浄システムは、第1発明〜第3発明の何れかにおいて、上記乾燥手段は、予め除湿された空気を吹き付けることにより乾燥させることを特徴とする。   A bathroom cleaning system according to a fourth aspect of the present invention is characterized in that, in any one of the first to third aspects, the drying means is dried by blowing air which has been dehumidified in advance.

第5発明に係る浴室洗浄システムは、給水源から供給されてくる水からシリカ成分の濃度を0.4ppm以下まで低減させたシリカ除去水を浴室内に散布するとともに、上記シリカ成分を濾し取ることでこれが濃縮された残水を分離するシリカ除去水散布手段と、上記残水を上記浴室内に散布する残水散布手段と、上記シリカ除去水散布手段及び上記残水散布手段による散布後に、上記浴室内を乾燥させる乾燥手段とを備え、上記残水散布手段は、上記シリカ除去水散布手段による散布前に、上記残水を上記浴室内に散布することを特徴とする。   In the bathroom cleaning system according to the fifth aspect of the invention, silica removed water in which the concentration of the silica component is reduced to 0.4 ppm or less from the water supplied from the water supply source is sprayed into the bathroom and the silica component is filtered off. Means for separating the residual water from which it is concentrated, residual water application means for applying the residual water into the bathroom, and the application of the residual water application means and the residual water application means after application of the residual water. And drying means for drying the inside of the bathroom, wherein the residual water spraying means sprays the residual water into the bathroom before spraying by the silica removing water spraying means.

第6発明に係る浴室洗浄システムは、第5発明において、上記残水散布手段は、上記残水を一時的に貯水した上でこれを上記浴室内に散布することを特徴とする。   A bathroom cleaning system according to a sixth aspect of the present invention is characterized in that, in the fifth aspect, the residual water dispersion means temporarily stores the residual water and then disperses the residual water in the bathroom.

第7発明に係る浴室洗浄方法は、給水源から供給されてくる水からシリカ成分の濃度を0.4ppm以下まで低減させたシリカ除去水を浴室内に散布するシリカ除去水散布工程と、上記浴室内を乾燥させる乾燥工程とを有することを特徴とする。   A bathroom cleaning method according to a seventh aspect of the present invention is a silica removal water spraying step of spraying silica removed water in which concentration of silica component is reduced to 0.4 ppm or less from water supplied from a water supply source in the bathroom; And drying the inside.

上述した構成からなる本発明によれば、散布した水道水が蒸発する前に、シリカ除去水が散布される。その結果、シリカ等の溶解物質を含む水道水がシリカ除去水によって洗い流すことが可能となる。このため、散布した水道水を洗い流すことで、当該水道水に含まれるシリカ、カルシウム、マグネシウム等の溶解物質の残存量を低減させることができ、水垢汚れの発生を抑えることができる。その結果、シリカ除去水の散布を通じて水垢による汚れの第2原因をも取り除くことが可能となる。なお、シリカ除去水がそのまま蒸発しても、予めシリカ成分の濃度が0.4ppm以下まで低減されていることから、当該シリカ成分の不揮発分が浴室内に残存してしまうことも防止することが可能となる。   According to the present invention having the above-described configuration, the silica removing water is sprayed before the sprayed tap water evaporates. As a result, tap water containing dissolved substances such as silica can be washed away by the silica-removed water. For this reason, by washing away the sprinkled tap water, the residual amount of dissolved substances such as silica, calcium, magnesium and the like contained in the tap water can be reduced, and the occurrence of water stains can be suppressed. As a result, it is possible to remove the second cause of water stains through the application of silica removing water. In addition, even if silica removal water evaporates as it is, since the density | concentration of a silica component is reduced to 0.4 ppm or less beforehand, it also prevents that the non volatile matter of the said silica component remains in a bathroom. It becomes possible.

本発明に係る浴室洗浄システムが適用される浴室の斜視図である。It is a perspective view of a bathroom to which a bathroom cleaning system concerning the present invention is applied. 本発明を適用した浴室洗浄システムのブロック構成図である。It is a block block diagram of the bathroom washing system to which the present invention is applied. 供給水散布ユニットとシリカ除去水散布ユニットにおいてそれぞれ共通の散布部とした例を示す図である。It is a figure which shows the example made into the common spreading part in a feed water dispersion | distribution unit and a silica removal water dispersion | distribution unit, respectively. シャワーや水栓をそれぞれ共通の散布手段とした例について示す図である。It is a figure shown about the example which made the shower and the faucet common respectively dispersion means. 溶解物質除去部の下流側において、微生物除去部を設けた例を示す図である。It is a figure which shows the example which provided the microorganisms removal part in the downstream of the dissolved substance removal part. 浴室内において、乾燥した空気を吹き付ける例を示す図である。It is a figure which shows the example which sprays the dry air in a bathroom. 本発明に係る浴室洗浄システムにおいて残水散布ユニットを設けた例を示す図である。It is a figure which shows the example which provided the residual water dispersion | distribution unit in the bathroom washing system which concerns on this invention. 本発明に係る浴室洗浄システムにおいて残水散布ユニットを設けた他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example which provided the residual water dispersion | distribution unit in the bathroom washing system which concerns on this invention. 本発明に係る浴室洗浄システムの実験的検証のフローチャートである。It is a flow chart of experimental verification of a bathroom cleaning system concerning the present invention. 水垢抑制効果の実験結果を示す図である。It is a figure which shows the experimental result of a blister suppression effect.

以下、本発明を適用した浴室洗浄システムを実施するための形態について図面を参照しながら詳細に説明をする。   Hereinafter, an embodiment for implementing a bathroom cleaning system to which the present invention is applied will be described in detail with reference to the drawings.

本発明を適用した浴室洗浄システムは、図1、2に示す浴室2に適用される。図1は、浴室2の斜視図であり、図2は、浴室洗浄システム1のブロック構成図である。   A bathroom cleaning system to which the present invention is applied is applied to a bathroom 2 shown in FIGS. FIG. 1 is a perspective view of a bathroom 2 and FIG. 2 is a block diagram of a bathroom cleaning system 1.

浴室2は、浴槽3と、浴槽3に隣接する洗い場7とを備え、浴槽3と洗い場7の上部空間を囲って内空部に浴室2を形成する内壁4と、天井5とが設けられている。また、少なくとも一の内壁4には、シャワー8及び水栓9が設けられている。浴室2外には、更にユーザが浴室洗浄システム1を制御するための操作部10が設けられている。天井5には、浴室洗浄システム1における第1散布部16と、第2散布部20とが形成され、更に浴室2内を乾燥するための乾燥機22が設けられている。   The bathroom 2 includes a bath 3 and a washing area 7 adjacent to the bath 3. An inner wall 4 surrounding the bath 3 and the upper space of the washing area 7 to form the bath 2 in the inner space and a ceiling 5 are provided There is. In addition, a shower 8 and a faucet 9 are provided on at least one inner wall 4. Outside the bathroom 2, an operation unit 10 is further provided for the user to control the bathroom cleaning system 1. The ceiling 5 is provided with a first spray unit 16 and a second spray unit 20 in the bathroom cleaning system 1, and a dryer 22 for drying the inside of the bathroom 2 is further provided.

また浴室洗浄システム1は、水道水を給水するための給水源11と、給水源11からの水道水を分岐し、一方をシャワー8及び水栓9へと導くと共に、他方を給水路14へと導く分岐部12と、一端が分岐部12に接続された給水路14の他端に接続された供給水散布ユニット17及びシリカ除去水散布ユニット21と、供給水散布ユニット17、シリカ除去水散布ユニット21、乾燥機22をそれぞれ制御するための制御部23とを備えている。供給水散布ユニット17は、給水路14から水道水が供給される制御弁15を有し、この制御弁15の出口側から上述した第1散布部16に連続することとなる。またシリカ除去水散布ユニット21は、給水路14から水道水が供給される制御弁18と、この制御弁18から連続する溶解物質除去部19とを有し、この溶解物質除去部19の出口側から上述した第2散布部20に連続することとなる。   In addition, the bathroom cleaning system 1 branches the water supply source 11 for supplying tap water and the tap water from the water supply source 11 and guides one to the shower 8 and the faucet 9, and the other to the water supply channel 14. The feed water dispersion unit 17 and the silica-removed water dispersion unit 21 which are connected to the other end of the water supply passage 14 whose one end is connected to the branch unit 12; the supply water dispersion unit 17; and the silica-removed water dispersion unit 21 and a control unit 23 for controlling the dryer 22 respectively. The feed water distribution unit 17 has a control valve 15 to which tap water is supplied from the water supply passage 14, and continues from the outlet side of the control valve 15 to the first distribution unit 16 described above. Further, the silica removal water dispersion unit 21 has a control valve 18 to which tap water is supplied from the water supply path 14 and a dissolved substance removing unit 19 continuous from the control valve 18, and the outlet side of the dissolved substance removing unit 19 From the above to the second spreader 20 described above.

制御弁15は、制御部23からの制御信号に基づき、給水路14から供給されてくる水道水につき給水又は止水の制御を行うための弁である。   The control valve 15 is a valve for performing control of water supply or water stop for the tap water supplied from the water supply path 14 based on a control signal from the control unit 23.

第1散布部16は、制御弁15を通過した水道水を浴室2内に散布するための噴射機構が設けられている。第1散布部16は、水道水が浴室2内の浴槽3、洗い場7、内壁4、更には天井5のそれぞれに広範な範囲で散布されるように噴射式ノズルが設けられていてもよい。   The first spreader 16 is provided with an injection mechanism for spreading tap water having passed through the control valve 15 into the bathroom 2. The first spreader 16 may be provided with jet nozzles so that tap water can be spread over a wide range in each of the bath 3, the washing place 7, the inner wall 4 and the ceiling 5 in the bathroom 2.

制御弁18は、制御部23からの制御信号に基づき、給水路14から供給されてくる水道水につき給水又は止水の制御を行うための弁である。   The control valve 18 is a valve for performing control of water supply or shutoff of tap water supplied from the water supply passage 14 based on a control signal from the control unit 23.

溶解物質除去部19は、制御弁15を通過した水道水が供給されてくる。この溶解物質除去部19は、イオン交換樹脂や、逆浸透膜等が設けられ、特定の物質や成分を分離する。この溶解物質除去部19を通じて、例えばシリカ、カルシウム、マグネシウム等の溶解物質を除去することができる。溶解物質除去部19では、例えばシリカ成分の濃度が0.4ppm以下まで低減させるようにしてもよい。このようなシリカ成分の濃度を0.4ppm以下まで低減させた水を、以下、シリカ除去水という。溶解物質除去部19は、シリカ除去水を第2散布部20へ供給する。   The dissolved substance removing unit 19 is supplied with tap water that has passed through the control valve 15. The dissolved substance removing unit 19 is provided with an ion exchange resin, a reverse osmosis membrane, etc., and separates a specific substance or component. Through the dissolved substance removing unit 19, for example, dissolved substances such as silica, calcium, magnesium and the like can be removed. In the dissolved substance removing unit 19, for example, the concentration of the silica component may be reduced to 0.4 ppm or less. The water which reduced the density | concentration of such a silica component to 0.4 ppm or less is hereafter called silica removal water. The dissolved substance removing unit 19 supplies the silica removing water to the second spraying unit 20.

溶解物質除去部19を構成するイオン交換樹脂、逆浸透膜は、共に溶解物質の除去方法が異なるため、シリカ除去水に残留する成分も異なる。即ち、イオン交換樹脂は、水中で電離してイオン化している溶解物質を、イオン交換樹脂を用いて吸着するものであるため、電離する溶解物質の除去に適している。一方は、逆浸透膜は、膜を透過できない溶解物質を除去するしくみであるため、サイズの大きな溶解物質や固形物を除去するのに適している。水溶液中のシリカ成分の状態は、イオン化しているものもあるが、コロイド粒子として分散しているものが多い。本発明においては、この溶解物質除去部19を介して主としてシリカ成分を除去することを目的としているため、イオン交換樹脂よりも逆浸透膜の方が適している。   The ion exchange resin and the reverse osmosis membrane that constitute the dissolved substance removing unit 19 both differ in the method of removing the dissolved substance, so the components remaining in the silica-removed water are also different. That is, since the ion exchange resin adsorbs the ionized and ionized dissolved substance in water using the ion exchange resin, it is suitable for removing the ionized dissolved substance. On the other hand, reverse osmosis membranes are suitable for removing large-sized dissolved substances and solids, because reverse osmosis membranes are configured to remove dissolved substances that can not permeate through the membrane. The state of the silica component in the aqueous solution may be ionized, but is often dispersed as colloidal particles. In the present invention, a reverse osmosis membrane is more suitable than an ion exchange resin because the purpose is mainly to remove the silica component through the dissolved substance removing portion 19.

また溶解物質除去部19においてイオン交換樹脂を採用する場合、水道水中の残留塩素がこのイオン交換樹脂を劣化させる場合がある。このため、溶解物質除去部19においてイオン交換樹脂の上流側に活性炭(カーボンフィルター等)を設置し、残留塩素を除去するようにしてもよい。一方、溶解物質除去部19において逆浸透膜を使用する場合、逆浸透膜は塩素によって劣化する素材(ポリアミド)と、耐塩素素材(三酢酸セルロース)の2種があり、耐塩素素材であれば、活性炭の交換が不要になる。このため、システムの初期費用及び運転費用を共に低減できる。   In the case where an ion exchange resin is employed in the dissolved substance removing unit 19, residual chlorine in tap water may deteriorate the ion exchange resin. For this reason, activated carbon (carbon filter or the like) may be installed upstream of the ion exchange resin in the dissolved substance removing unit 19 to remove residual chlorine. On the other hand, when a reverse osmosis membrane is used in the dissolved substance removing portion 19, the reverse osmosis membrane is classified into two types, a material that is degraded by chlorine (polyamide) and a chlorine resistant material (cellulose triacetate). , Replacement of activated carbon becomes unnecessary. This can reduce both the initial cost and the operating cost of the system.

溶解物質除去部19における溶解物質の除去方法としては、供給される水道水を電気分解する方法も含まれる。例えば、陽極にアルミニウムを使用すると、アルミニウムイオンとして溶解し、陰極側から発生する水酸化イオンと結びついて、水酸化アルミニウムが生成されることが知られている。水酸化アルミニウムには強い凝集作用があり、一般的に浄水場において廃液中の微粒子や浮遊物を吸着して、沈澱させる工程で使用されている。溶解物質を吸着・沈澱するので、水道水中から溶解物質が除去される。   The method of removing the dissolved substance in the dissolved substance removing unit 19 also includes a method of electrolyzing the supplied tap water. For example, it is known that when aluminum is used for the anode, aluminum hydroxide is formed as a solution of aluminum ions and associated with hydroxide ions generated from the cathode side. Aluminum hydroxide has a strong aggregating action, and it is generally used in the step of adsorbing fine particles and suspended matter in waste liquid and precipitating it in a water purification plant. Since the dissolved substance is adsorbed and precipitated, the dissolved substance is removed from the tap water.

第2散布部20は、溶解物質除去部19から供給されてくるシリカ除去水を浴室2内に散布するための噴射機構が設けられている。第2散布部20は、シリカ除去水が浴室2内の浴槽3、洗い場7、内壁4、更には天井5のそれぞれに広範な範囲で散布されるように噴射式ノズルが設けられていてもよい。   The second spreader 20 is provided with a spray mechanism for spreading the silica-removed water supplied from the dissolved substance remover 19 into the bathroom 2. The second spray unit 20 may be provided with a jet-type nozzle so that the silica removing water can be sprayed in a wide range to each of the bath 3, the washing place 7, the inner wall 4 and the ceiling 5 in the bathroom 2. .

乾燥機22は、制御部23による制御の下で、浴室2内に温風を送風する。乾燥機22は、外部空間から空気を吸い込んで熱を溜め込み、その熱を利用して浴室2内に温風を送風するいわゆるヒートポンプ方式、又は内部で熱を作り出して浴室2内に温風を送風する電気ヒーター方式等を採用するものであってもよい。乾燥機22から温風を送風することにより、浴室2内の水分が蒸発することで乾燥させることが可能となる。なお、この乾燥機22は、換気扇により浴室2内から高湿な空気を排出するものも含まれる。   The dryer 22 blows hot air into the bathroom 2 under the control of the control unit 23. The dryer 22 sucks in air from the external space and stores the heat, and uses the heat to blow warm air into the bathroom 2 or so-called heat pump system, or generates heat inside and blows the warm air into the bathroom 2 An electric heater system or the like may be adopted. By blowing the warm air from the dryer 22, the water in the bathroom 2 can be evaporated to be dried. In addition, this dryer 22 includes what discharges high humidity air from the inside of bathroom 2 by a ventilation fan.

操作部10は、浴室2外に設置された操作パネル又はリモートコントローラ等で構成されており、制御部23に対して操作信号を有線通信又は無線通信を通じて送信可能なデバイスである。操作部10は、ユーザにより浴室2内の洗浄を開始する旨の入力が行われた場合に、これを反映させた操作信号を制御部23に送信する。   The operation unit 10 is configured of an operation panel or a remote controller installed outside the bathroom 2 and is a device capable of transmitting an operation signal to the control unit 23 through wired communication or wireless communication. When the user inputs an instruction to start cleaning in the bathroom 2, the operation unit 10 transmits an operation signal reflecting this to the control unit 23.

制御部23は、制御弁15、制御弁18の開閉及び乾燥機22による乾燥開始又は乾燥停止を制御する。制御部23は、操作部10から操作信号を受信した場合には、当該操作信号に反映されているユーザの意思に基づき、各種制御を行う。制御部23は、例えばCPU(Central Processing Unit)による制御の下で、予め記憶させたプログラムに基づいてこれらの制御を行うようにしてもよい。制御部23は、例えば制御弁15、制御弁18の各開弁時間及び乾燥機22による乾燥時間を時系列的に制御するようにしてもよい。   The control unit 23 controls opening / closing of the control valve 15 and the control valve 18 and start / stop of drying by the dryer 22. When the control unit 23 receives an operation signal from the operation unit 10, the control unit 23 performs various controls based on the intention of the user reflected in the operation signal. The control unit 23 may perform these controls based on a program stored in advance, for example, under the control of a CPU (Central Processing Unit). The control unit 23 may control, for example, the opening times of the control valve 15 and the control valve 18 and the drying time of the dryer 22 in time series.

上述した構成からなる浴室洗浄システム1によれば、給水路14から送られてくる水道水を供給水散布ユニット17を介してそのまま浴室2内に散布することができる。また浴室洗浄システム1によれば、更に給水路14から送られてくる水道水からシリカ成分を低減させたシリカ除去水をシリカ除去水散布ユニット21を介して浴室2内に散布することができる。更に浴室洗浄システム1によれば、乾燥機22を介して浴室2内を乾燥させることができる。   According to the bathroom cleaning system 1 configured as described above, the tap water sent from the water supply passage 14 can be dispersed as it is into the bathroom 2 through the supply water distribution unit 17. Further, according to the bathroom cleaning system 1, it is possible to disperse the silica-removed water from which the silica component is reduced from the tap water sent from the water supply passage 14 into the bathroom 2 through the silica-removed water dispersion unit 21. Furthermore, according to the bathroom cleaning system 1, the inside of the bathroom 2 can be dried through the dryer 22.

次に本発明を適用した浴室洗浄システム1による浴室2内の洗浄動作について説明をする。   Next, the cleaning operation in the bathroom 2 by the bathroom cleaning system 1 to which the present invention is applied will be described.

ユーザが浴室2内に在室している間などの操作部10を介して洗浄開始の指示を行う前は、操作信号が生成されないため、制御弁15、18は共に閉弁状態となっている。このため、給水源11から供給されてくる水道水は、分岐部12を介してシャワー8及び水栓9のみから出射することとなる。ユーザが浴室2から退出後、操作部10を介して浴室の洗浄開始の指示が行われる。操作部10はかかる洗浄開始の指示を受けた場合に、これを反映させた操作信号を生成し、制御部23へ送信する。なお、ユーザによる操作部10の操作を経ることなく、ユーザが浴室の終了を自動的に検知して上述した操作信号を生成し、これを制御部23へ送信するようにしてもよい。   Since an operation signal is not generated before the user issues an instruction to start cleaning via the operation unit 10 such as while in the bathroom 2, the control valves 15 and 18 are both closed. . For this reason, the tap water supplied from the water supply source 11 is emitted only from the shower 8 and the faucet 9 through the branch part 12. After the user leaves the bathroom 2, an instruction to start cleaning the bathroom is issued via the operation unit 10. When receiving the instruction to start cleaning, the operation unit 10 generates an operation signal reflecting the instruction and transmits the operation signal to the control unit 23. Alternatively, the user may automatically detect the end of the bathroom, generate the above-described operation signal, and transmit the operation signal to the control unit 23 without the operation of the operation unit 10 by the user.

制御部23は、かかる操作信号を受信し、浴室2内の洗浄処理を開始する。制御部23は、先ず制御弁15を開弁するための制御を行う。その結果、給水源11からの水道水は、給水路14を通過し、制御弁15を通過して第1散布部16へと到達することとなる。ちなみに浴室2内の洗浄処理の開始時は、ユーザによる浴室2の使用後であることから、水道水が分岐部12を介して分岐されてシャワー8等から出射されるケースは少ない。第1散布部16に到達した水道水は、浴室2内に散布される。この水道水は、浴槽3、洗い場7、内壁4、更には天井5等、浴室2全体に亘り散布される。このため、ユーザが浴室2を使用することにより、内壁4や洗い場7等に付着した皮脂や埃、石鹸等が除去される。その結果、この第1散布部16を介した水道水の散布を通じて皮脂や埃、石鹸等の付着による汚れの第1原因を取り除くことが可能となる。   The control unit 23 receives the operation signal and starts the cleaning process in the bathroom 2. The control unit 23 first performs control for opening the control valve 15. As a result, the tap water from the water supply source 11 passes through the water supply passage 14, passes through the control valve 15, and reaches the first distribution unit 16. By the way, since the cleaning process in the bathroom 2 is started after the user uses the bathroom 2, there are few cases where tap water is branched via the branching portion 12 and emitted from the shower 8 or the like. The tap water that has reached the first spray unit 16 is sprayed into the bathroom 2. The tap water is dispersed throughout the bathroom 2 such as the bathtub 3, the washing place 7, the inner wall 4, the ceiling 5 and the like. Therefore, when the user uses the bathroom 2, sebum, dust, soap and the like adhering to the inner wall 4 and the washing place 7 and the like are removed. As a result, it becomes possible to remove the 1st cause of the stain | pollution | contamination by adhesion of sebum, dust, a soap, etc. through dispersion | distribution of a tap water through this 1st spraying part 16.

制御部23は、この第1散布部16による水道水の散布を所定時間に亘り継続させた後、制御弁15を閉弁する。これにより第1散布部16による水道水の散布が終了する。   The control unit 23 closes the control valve 15 after continuing the application of the tap water by the first application unit 16 for a predetermined time. Thereby, the spraying of the tap water by the first spraying unit 16 is finished.

次に制御部23は、制御弁18を開弁するための制御を行う。その結果、給水源11からの水道水は、給水路14を通過し、制御弁18を通過して溶解物質除去部19に到達することとなる。溶解物質除去部19に到達した水道水は、イオン交換樹脂や、逆浸透膜等を介してシリカ等の溶解物質が除去される。このとき、水道水は、シリカ成分の濃度が0.4ppm以下まで低減されたシリカ除去水に変化することとなる。このシリカ除去水は、第2散布部20へと到達することとなる。第2散布部20に到達したシリカ除去水は、浴室2内に散布される。このシリカ除去水は、浴槽3、洗い場7、内壁4、更には天井5等、浴室2全体に亘り散布されることとなる。その結果、このシリカ除去水を通じて浴室2内の内壁4や洗い場7等を洗い流すことができる。   Next, the control unit 23 performs control for opening the control valve 18. As a result, the tap water from the water supply source 11 passes through the water supply passage 14, passes through the control valve 18, and reaches the dissolved substance removing unit 19. The tap water having reached the dissolved substance removing unit 19 has the dissolved substance such as silica removed through an ion exchange resin, a reverse osmosis membrane or the like. At this time, tap water changes to silica-removing water in which the concentration of the silica component is reduced to 0.4 ppm or less. The silica-removed water reaches the second spray unit 20. The silica removal water that has reached the second spray unit 20 is sprayed into the bathroom 2. The silica removing water is dispersed throughout the bathroom 2 such as the bath 3, the washing place 7, the inner wall 4, the ceiling 5 and the like. As a result, the inner wall 4 and the washing place 7 in the bathroom 2 can be washed away through the silica-removed water.

以前に第1散布部16により散布した水道水はシリカ等の溶解物質が含まれているものであるため、当該水道水の散布後に放置しておくとこれが蒸発乾燥し、シリカ等が水垢として付着してしまう。しかし本発明によれば、第1散布部16により散布した水道水が蒸発する前に、第2散布部20を介してシリカ除去水が散布される。その結果、シリカ等の溶解物質を含む水道水がシリカ除去水によって洗い流すことが可能となる。このため、第1散布部16により散布した水道水を洗い流すことで、当該水道水に含まれるシリカ、カルシウム、マグネシウム等の溶解物質の残存量を低減させることができ、水垢汚れの発生を抑えることができる。その結果、この第2散布部20を介したシリカ除去水の散布を通じて水垢による汚れの第2原因をも取り除くことが可能となる。なお、シリカ除去水がそのまま蒸発しても、予めシリカ成分の濃度が0.4ppm以下まで低減されていることから、当該シリカ成分の不揮発分が浴室2内に残存してしまうことも防止することが可能となる。   Since the tap water sprayed earlier by the first spraying unit 16 contains dissolved material such as silica, if it is left after spraying the tap water, it evaporates and dries, and the silica etc. adheres as a starch syrup Resulting in. However, according to the present invention, before the tap water sprayed by the first spraying unit 16 evaporates, silica removing water is sprayed through the second spraying unit 20. As a result, tap water containing dissolved substances such as silica can be washed away by the silica-removed water. For this reason, by washing away the tap water sprayed by the first spraying unit 16, the remaining amount of the dissolved substance such as silica, calcium, magnesium and the like contained in the tap water can be reduced, and the occurrence of water stains can be suppressed. Can. As a result, it is possible to remove the second cause of the contamination due to the water stain through the application of the silica removing water through the second application unit 20. In addition, even if silica removal water evaporates as it is, since the density | concentration of a silica component is beforehand reduced to 0.4 ppm or less, it also prevents that the non volatile matter of the said silica component remains in the bathroom 2, Is possible.

制御部23は、この第2散布部20によるシリカ除去水の散布を所定時間に亘り継続させた後、制御弁18を閉弁する。これにより第2散布部20によるシリカ除去水の散布が終了する。   The control unit 23 closes the control valve 18 after continuing dispersion of the silica-removed water by the second distribution unit 20 for a predetermined time. As a result, the application of the silica removing water by the second application unit 20 is completed.

次に制御部23は、乾燥機22により浴室2内の乾燥を開始するように制御を行う。乾燥機22により浴室2内に残存しているシリカ除去水の水滴を乾燥させることができる。その結果、自然乾燥させる場合と比較して早期にシリカ除去水を除去することができ、ユーザが浴室2に毎日入浴しても、入室者や空気の流れによって浴室内に運ばれてくる微生物の増殖を抑制する上で十分な時間に亘り乾燥状態を保つことができ、ひいては増殖した微生物によるカビの発生を抑えることが可能となり、汚れの第3原因(水道水に含まれる微生物に基づくカビ等)を取り除くことが可能となる。制御部23は、乾燥機22による乾燥を所定時間に亘り継続させた後、乾燥を停止させるように制御する。   Next, the control unit 23 controls the dryer 22 to start drying in the bathroom 2. The dryer 22 can dry the water droplets of the silica-removed water remaining in the bathroom 2. As a result, it is possible to remove the silica removal water earlier than in the case of natural drying, and even if the user baths in the bathroom 2 every day, the microorganisms carried into the bathroom by the occupants and the air flow It is possible to maintain the dry state for a sufficient time to suppress the growth, which in turn makes it possible to suppress the occurrence of mold due to the grown microorganisms, and the third cause of stains (molds based on the microorganisms contained in tap water, etc. ) Can be removed. After continuing the drying by the dryer 22 for a predetermined time, the control unit 23 controls to stop the drying.

上述した動作に基づいて浴室2内を洗浄する浴室洗浄システム1によれば、浴室の汚れの第1原因(皮脂や埃、石鹸等の付着による一般的な汚れ)、第2原因(水道水中のシリカ等の溶解物質による水垢汚れ)、第3原因(入室者や空気の流れによって浴室内に運ばれてくる微生物に基づくカビ等)の全てを取り除くことによる浴室2内の汚染防止を実現することが可能となる。しかも浴室洗浄システム1によれば、上述した洗浄動作を全てシステム側が自動的に実行することができることから、ユーザによる洗浄労力の負担を軽減することが可能となる。   According to the bathroom cleaning system 1 for cleaning the inside of the bathroom 2 based on the above-described operation, the first cause of bathroom dirt (general dirt due to adhesion of sebum, dust, soap etc.), second cause (under tap water) To prevent pollution in the bathroom 2 by removing all of the third cause (such as molds based on the microbes brought into the bathroom by the occupants and the flow of air) by dissolved substances such as silica and the third cause Is possible. Moreover, according to the bathroom cleaning system 1, since the system side can automatically execute all the cleaning operations described above, it is possible to reduce the burden of cleaning effort by the user.

なお、溶解物質除去部19に使用されるイオン交換樹脂や逆浸透膜等には水から除去した溶解物質が徐々に蓄積していくことになり、ひいては溶解物質除去性能の低下につながる場合もある。しかしながら、本発明は、第1散布部16から水道水を大量に散布して、汚れの第1原因である皮脂や石鹸等を徹底的に洗い流した後、第2散布部20からその水道水を単に洗い流すことができる程度の僅かな量のシリカ除去水を散布して第2原因を取り除けばよい。このため、シリカ除去水の散布量を大幅に削減できることから、溶解物質除去部19におけるイオン交換樹脂や逆浸透膜等に蓄積する溶解物質の量を低減することができる。その結果、溶解物質除去部19による溶解物質除去性能を長時間に亘り維持することができ、またその溶解物質除去性能を回復させるためのイオン交換樹脂や逆浸透膜等の交換するための労力やコスト、並びに浴室の清掃などの、浴室の清浄状態を維持するための労力やコストを低減させることが可能となる。   The dissolved substance removed from water gradually accumulates in the ion exchange resin, reverse osmosis membrane, etc. used in the dissolved substance removing portion 19, which may lead to a decrease in the dissolved substance removing performance. . However, according to the present invention, after a large amount of tap water is sprayed from the first spreading unit 16 and the sebum and soap etc. which are the first cause of the dirt are thoroughly washed away, the tap water is removed from the second spreading unit 20. The second cause may be removed by spraying a small amount of silica-removing water that can only be washed away. Therefore, the amount of the silica removing water to be dispersed can be significantly reduced, so that the amount of the dissolved substance accumulated in the ion exchange resin, the reverse osmosis membrane or the like in the dissolved substance removing unit 19 can be reduced. As a result, the dissolved substance removing performance by the dissolved substance removing unit 19 can be maintained for a long time, and labor for replacing the ion exchange resin, the reverse osmosis membrane, etc. for recovering the dissolved substance removing performance. It is possible to reduce the cost and the effort and cost for maintaining the cleanliness of the bathroom, such as cleaning the bathroom.

なお本発明においては、供給水散布ユニット17の構成を省略するようにしてもよい。かかる場合には、供給水散布ユニット17による水道水の散布工程を省略し、シリカ除去水の散布から開始することになる。かかる場合においても上述した効果が得られる。   In the present invention, the configuration of the supply water dispersion unit 17 may be omitted. In such a case, the process of spraying the tap water by the feed water spraying unit 17 is omitted, and the process is started from the spraying of the silica-removed water. Even in such a case, the above-described effects can be obtained.

図3は、浴室洗浄システム1の他の実施の形態を示している。図3に示す形態において、図2に示す形態と同一の構成要素、部材については、同一の符号を付すことにより以下での説明を省略する。   FIG. 3 shows another embodiment of the bathroom cleaning system 1. In the embodiment shown in FIG. 3, the same components and members as those in the embodiment shown in FIG.

図3に示す形態では、供給水散布ユニット17とシリカ除去水散布ユニット21においてそれぞれ共通の散布部25とし、第1散布部16、第2散布部20の構成を採用しない。即ち、この散布部25は、制御弁15及び溶解物質除去部19の両方から連続する。制御弁15が開弁状態で、かつ制御弁18が閉弁状態の場合には、供給水散布ユニット17から水道水がこの散布部25を介して浴室2内に散布される。また制御弁15が閉弁状態で、かつ制御弁18が開弁状態の場合には、シリカ除去水散布ユニット21からシリカ除去水がこの散布部25を介して浴室2内に散布される。かかる構成においても上述と同様の効果を奏することは勿論である。   In the embodiment shown in FIG. 3, the distribution unit 25 is common to the supply water distribution unit 17 and the silica removal water distribution unit 21, and the configurations of the first distribution unit 16 and the second distribution unit 20 are not adopted. That is, the spreader 25 continues from both the control valve 15 and the dissolved substance removing unit 19. When the control valve 15 is in the open state and the control valve 18 is in the closed state, tap water is dispersed from the supply water distribution unit 17 into the bathroom 2 through the distribution unit 25. Further, when the control valve 15 is in the closed state and the control valve 18 is in the open state, the silica-removed water is sprayed from the silica-removed water spray unit 21 into the bathroom 2 through the spray unit 25. Of course, the same effects as described above can be obtained in this configuration as well.

図4は、浴室洗浄システム1の他の実施の形態を示している。図4に示す形態において、図2に示す形態と同一の構成要素、部材については、同一の符号を付すことにより以下での説明を省略する。   FIG. 4 shows another embodiment of the bathroom cleaning system 1. In the embodiment shown in FIG. 4, the same components and members as those in the embodiment shown in FIG.

図4に示す形態では、供給水散布ユニット17とシリカ除去水散布ユニット21においてシャワー8や水栓9をそれぞれ共通の散布手段とし、第1散布部16、第2散布部20の構成を採用しない。シャワー8及び水栓9は、制御弁15及び溶解物質除去部19の両方から連続する。制御弁15が開弁状態で、かつ制御弁18が閉弁状態の場合には、供給水散布ユニット17から水道水がこのシャワー8及び水栓9を介して散布可能となる。この散布によって、ユーザによる入浴時並びに、水道水を介して汚れの第1原因である皮脂や石鹸等を洗い流すことができる。   In the embodiment shown in FIG. 4, the shower 8 and the faucet 9 are respectively used as common spreading means in the feed water spreading unit 17 and the silica removing water spreading unit 21, and the configurations of the first spreading unit 16 and the second spreading unit 20 are not adopted. . The shower 8 and the faucet 9 continue from both the control valve 15 and the dissolved substance removing unit 19. When the control valve 15 is in the open state and the control valve 18 is in the closed state, tap water can be dispersed from the supply water distribution unit 17 through the shower 8 and the faucet 9. By this spraying, it is possible to wash away sebum, soap and the like which are the first cause of stains during bathing by the user and via tap water.

シャワー8又は水栓9により水道水を介して皮脂や石鹸等を洗い流した後、制御部23は、制御弁15を閉弁状態とし、制御弁18を開弁状態とする。その結果、シリカ除去水散布ユニット21からシリカ除去水がこのシャワー8又は水栓9を介して浴室2内に散布される。このシリカ除去水の散布時は、シャワー8を利用してユーザの手動で浴槽3、洗い場7、内壁4、更には天井5等に対して自ら散布を行うようにしてもよい。   After the sebum, soap, etc. are washed away with tap water by the shower 8 or the faucet 9, the control unit 23 closes the control valve 15 and opens the control valve 18. As a result, silica removing water is sprayed from the silica removing water spraying unit 21 into the bathroom 2 through the shower 8 or the faucet 9. When the silica removing water is sprayed, the user may manually spray the bath 3, the washing place 7, the inner wall 4, the ceiling 5, etc. by using the shower 8.

図5は、浴室洗浄システム1の他の実施の形態を示している。図5に示す形態において、図2に示す形態と同一の構成要素、部材については、同一の符号を付すことにより以下での説明を省略する。   FIG. 5 shows another embodiment of the bathroom cleaning system 1. In the embodiment shown in FIG. 5, the same components and members as those in the embodiment shown in FIG.

図5に示す形態では、溶解物質除去部19の下流側において、微生物除去部24を設けている。この微生物除去部24は、例えば微生物を除去することが可能な精密ろ過膜、或いは微生物を殺菌するための紫外線殺菌灯による殺菌手段、次亜塩素酸発生器による殺菌手段、またはそれらのうちのいくつかの組み合わせにより構成されている。微生物除去部24の下流側に上述した第2散布部20が位置する。微生物除去部24は、溶解物質除去部19から流下してきたシリカ除去水から微生物の含有量を低減させ、これを第2散布部20へと送る。第2散布部20はこの微生物の含有量が低減された状態のシリカ除去水を散布する。或いは、この微生物除去部24は、第2散布部20から溶解物質除去部19に浸入しようとする微生物の含有量を低減させる。これにより、第2散布部20から溶解物質除去部19に微生物が浸入することによる、シリカ除去水の汚染を防止することができる。   In the embodiment shown in FIG. 5, the microorganism removing unit 24 is provided on the downstream side of the dissolved substance removing unit 19. The microorganism removing unit 24 may be, for example, a microfiltration membrane capable of removing a microorganism, or a sterilizing means using an ultraviolet sterilizing lamp for sterilizing a microorganism, a sterilizing means using a hypochlorous acid generator, or some of them. It is composed of a combination of The second spraying unit 20 described above is located downstream of the microorganism removing unit 24. The microorganism removal unit 24 reduces the content of microorganisms from the silica-removed water flowing down from the dissolved substance removal unit 19, and sends this to the second spray unit 20. The second spray unit 20 sprays the silica-removed water in a state in which the content of the microorganism is reduced. Alternatively, the microorganism removing unit 24 reduces the content of microorganisms that are about to enter the dissolved substance removing unit 19 from the second spreading unit 20. As a result, it is possible to prevent the contamination of the silica-removed water due to the infiltration of microorganisms from the second spray unit 20 into the dissolved substance removal unit 19.

溶解物質除去部19によりシリカ成分が低減されたシリカ除去水は、水道水に殺菌用として含まれる塩素成分等も減少している場合が多い。このため、このような微生物殺菌機能が低下したシリカ除去水をそのまま浴室2内に散布した場合、浴室2の内壁4や洗い場7等に付着した水分中の微生物の発生を抑制することができなくなる。   In the silica-removed water in which the silica component has been reduced by the dissolved substance removal unit 19, in many cases, the chlorine component and the like contained in the tap water for sterilization are also reduced. For this reason, when the silica removal water which such a microbe sterilization function fell is sprayed as it is in the bathroom 2, it becomes impossible to suppress generation | occurence | production of the microorganisms in the water adhering to the inner wall 4 of bathroom 2, or a washing place 7 grade | etc. .

しかしながら、この図5に示す形態では、微生物除去部24を通じてシリカ除去水中の微生物の含有量を低減させている。このため、このような微生物含有量の低いシリカ除去水を散布しても、浴室2内に付着した水分中において微生物が増殖するのを抑制することが可能となる。その結果、汚れの第3原因(水道水に含まれる微生物に基づくカビ等)をより効果的に取り除くことが可能となる。また浴室2内において微生物の増殖を抑えることができれば、例えばレジオネラ肺炎の原因にもなるレジオネラ属菌の発生を抑えることができ、浴室2内に入室者がこれを吸い込むことによる発症を抑えることが可能となる。また微生物除去部24を設けることにより、散布部20から微生物が溶解物質除去部19まで遡ってシリカ除去水を汚染することを食い止めることが可能となる。その結果、これ以降において微生物により汚染されたシリカ除去水を散布することを抑制することが可能となる。   However, in the embodiment shown in FIG. 5, the content of the microorganism in the silica-removed water is reduced through the microorganism removal unit 24. For this reason, even if silica removing water with such a low microbe content is sprayed, it is possible to suppress the growth of microbes in the water adhering to the inside of the bathroom 2. As a result, it is possible to more effectively remove the third cause of contamination (molds and the like based on microorganisms contained in tap water). In addition, if the growth of microorganisms can be suppressed in the bathroom 2, for example, the occurrence of Legionella bacteria that cause the pneumonia of Legionella can be suppressed, and the onset caused by a person entering the bathroom 2 can be suppressed. It becomes possible. Further, by providing the microorganism removing unit 24, it is possible to stop the contamination of the silica removing water from the spreading unit 20 back to the dissolved substance removing unit 19. As a result, it is possible to suppress the application of the silica-removed water contaminated with the microorganism after this.

図6に示す形態では、浴室2内において、乾燥した空気を吹き付けるものである。係る場合において乾燥機22において予め除湿させた乾燥空気を作り出し、これを浴室2内に送気する。乾燥機22は、例えば中空糸膜を通して除湿することで乾燥空気を作り出すようにしてもよい。   In the embodiment shown in FIG. 6, dry air is blown in the bathroom 2. In such a case, dry air previously dehumidified is produced in the dryer 22 and supplied into the bathroom 2. The dryer 22 may produce dry air, for example, by dehumidifying through a hollow fiber membrane.

このような乾燥空気を乾燥機22から浴室2内に送気することにより、浴室2内には図6に示すように乾燥空気が内壁4に沿って循環することとなる。これにより、浴室2内に付着した水滴の周囲の空気が継続的に移動して蒸発乾燥効率も上昇し、通常の換気扇による乾燥に比べて、水滴の乾燥に要する時間が短縮される。特にこの浴室2内において循環させる乾燥空気は、予め湿度が低くなるように調整が行われており、しかも温度が高い。このため、浴室2内の水分の蒸発効率を更に向上させることが可能となる。   By supplying such dry air from the dryer 22 into the bathroom 2, the dry air is circulated along the inner wall 4 in the bathroom 2 as shown in FIG. As a result, the air around the water droplets adhering to the inside of the bathroom 2 continuously moves to increase the evaporation drying efficiency, and the time required for drying the water droplets is shortened as compared to the drying with a normal ventilating fan. In particular, the dry air circulated in the bathroom 2 is previously adjusted to have a low humidity, and the temperature is high. For this reason, it is possible to further improve the evaporation efficiency of the water in the bathroom 2.

また乾燥機22から内壁4や洗い場7等に対して乾燥空気を吹き付ける圧力を高め、吐出量を増加させることにより、付着した水滴を吹き飛ばし、押し流し、或いは振り落とすことが可能となり、さらに水滴の蒸発時間を大幅に短縮することが可能となる。これにより、浴室2内がより乾燥している状態を更に長くすることができ、浴室2内における微生物の更なる増殖抑制につながり、汚れの第3原因(水道水に含まれる微生物に基づくカビ等)をより効果的に取り除くことが可能となる。また、乾燥に要する時間が短縮されるので乾燥に要するコストも低減することができる。   Further, by increasing the pressure for blowing dry air from the dryer 22 to the inner wall 4 and the washing place 7 and the like, and increasing the discharge amount, it is possible to blow away, wash away or shake off the deposited water droplets, and further evaporate the water droplets. It is possible to significantly reduce the time. As a result, the condition in which the inside of the bathroom 2 is more dry can be further lengthened, which leads to the suppression of the further growth of the microorganisms in the bathroom 2, and the third cause of stains (molds etc. based on the microorganisms contained in tap water) ) Can be removed more effectively. Further, since the time required for drying can be shortened, the cost required for drying can also be reduced.

図7は、浴室洗浄システム1の他の実施の形態を示している。図7に示す形態において、図2に示す形態と同一の構成要素、部材については、同一の符号を付すことにより以下での説明を省略する。   FIG. 7 shows another embodiment of the bathroom cleaning system 1. In the embodiment shown in FIG. 7, the same components and members as those in the embodiment shown in FIG.

図7に示す形態において、浴室洗浄システム1は、シリカ除去水散布ユニット21と、残水散布ユニット29とを備えている。シリカ除去水散布ユニット21は、溶解物質除去部19の下流側に貯水部27が設けられ、更にこの貯水部27の下流側にシリカ除去水散布駆動部28が設けられ、シリカ除去水散布駆動部28の下流側に第2散布部20が設けられている。   In the embodiment shown in FIG. 7, the bathroom cleaning system 1 includes a silica removal water dispersion unit 21 and a residual water dispersion unit 29. The silica removing water spraying unit 21 is provided with a reservoir 27 downstream of the dissolved substance removing unit 19, and further has a silica removing water spraying driving unit 28 installed downstream of the reservoir 27. The second spray unit 20 is provided on the downstream side of 28.

また残水散布ユニット29は、溶解物質除去部19により濾し取られたシリカ成分等を溶解することで、がそれらの成分の濃度が増加した残水が供給され、これを浴室2内に散布するための第3散布部30が設けられている。   Further, the residual water dispersion unit 29 dissolves the silica components and the like collected by the dissolved substance removing unit 19 so that residual water having an increased concentration of these components is supplied, and this is dispersed into the bathroom 2 A third scattering unit 30 is provided.

貯水部27は、溶解物質除去部19によりシリカ成分等が低減されたシリカ除去水を一時的に貯留するためのタンク等により構成されている。   The water storage unit 27 is configured by a tank or the like for temporarily storing the silica-removed water whose silica component and the like have been reduced by the dissolved substance removal unit 19.

シリカ除去水散布駆動部28は、貯水部27に貯留されているシリカ除去水を第2散布部20から散布させるための駆動を行う。シリカ除去水散布駆動部28は、この散布駆動のタイミングが制御部23により制御される。   The silica removal water dispersion drive unit 28 drives the silica removal water stored in the water storage unit 27 to be dispersed from the second spray unit 20. The timing of the dispersing drive of the silica removing water dispersing drive unit 28 is controlled by the control unit 23.

この図7に示す形態によれば、溶解物質除去部19においてシリカ等の溶解物質を除去してシリカ除去水とする過程において、溶解物質除去部19における逆浸透膜を介して濾し取られたシリカ成分等を溶解しそれらの成分の濃度が増加した残水を分離する。この残水は、シリカ除去水よりも量が多い場合もある。残水散布ユニット29は、このような大量の残水を有効活用するべく、第3散布部30を介してこれを浴室2内に散布する。この残水を散布することにより、内壁4や洗い場7等に付着した皮脂や埃、石鹸等を除去することができる。その結果、この第3散布部30を介した残水の散布を通じて皮脂や埃、石鹸等の付着による汚れの第1原因を取り除くことが可能となる。即ち、この図7に示す形態では、汚れの第1原因による皮脂や埃、石鹸等の付着を、水道水の代わりに残水を介して除去する。このような残水の散布している間、シリカ除去水は貯水部27に貯留されている。   According to the embodiment shown in FIG. 7, the silica removed through the reverse osmosis membrane in the dissolved substance removing unit 19 in the process of removing the dissolved material such as silica in the dissolved substance removing unit 19 to obtain silica-removing water. The ingredients etc. are dissolved and the residual water with increased concentration of those ingredients is separated. This residual water may be larger in amount than the silica-removed water. The residual water distribution unit 29 distributes the residual water into the bathroom 2 through the third distribution unit 30 in order to effectively utilize such a large amount of residual water. By spraying the residual water, sebum, dust, soap and the like adhering to the inner wall 4 and the washing place 7 can be removed. As a result, it becomes possible to remove the 1st cause of the stain | pollution | contamination by adhesion of sebum, dust, a soap etc. through dispersion | distribution of the remaining water through this 3rd spraying part 30. FIG. That is, in the embodiment shown in FIG. 7, the adhesion of sebum, dust, soap and the like due to the first cause of the dirt is removed through the remaining water instead of the tap water. While such residual water is being sprayed, the silica-removed water is stored in the reservoir 27.

残水の散布を終了させた後、シリカ除去水散布駆動部28は、貯水部27に貯留されているシリカ除去水を第2散布部20を介して散布する。第3散布部30により散布した残水はシリカ等の溶解物質が含まれているものであるため、放置しておくとこれが蒸発乾燥し、シリカ等が水垢として付着してしまう。しかし、この残水が蒸発する前に、第2散布部20を介してシリカ除去水が散布される。その結果、シリカ等の溶解物質を含む残水をシリカ除去水によって洗い流すことが可能となる。   After the dispersion of the residual water is finished, the silica removal water dispersion drive unit 28 disperses the silica removal water stored in the water storage unit 27 through the second dispersion unit 20. Since the residual water sprayed by the third spray unit 30 contains a dissolved substance such as silica, when left to stand, it evaporates and dries, and the silica and the like adhere as a starch syrup. However, before the residual water evaporates, silica removal water is sprayed through the second spray unit 20. As a result, it is possible to wash away residual water containing dissolved substances such as silica with silica removing water.

この図7の形態では、溶解物質除去部19に使用されるイオン交換樹脂や逆浸透膜等において溶解物質が蓄積することは殆ど無く、これを第3散布部30を介して残水により放出することが可能となる。その結果、溶解物質除去部19においてシリカ等が蓄積することによる溶解物質除去性能の低下を抑えることができる。またこの図7の形態では、水道水による第1原因の除去の役割を残水に担わせることにより、水道水の散布工程を省略することができる。これにより、洗浄に使用する水道水の量を低減させることが可能となる。   In the embodiment of FIG. 7, the dissolved substance hardly accumulates in the ion exchange resin, reverse osmosis membrane, etc. used in the dissolved substance removing portion 19, and is released by the residual water through the third spreading portion 30. It becomes possible. As a result, it is possible to suppress a decrease in the dissolved substance removal performance due to the accumulation of silica or the like in the dissolved substance removal unit 19. Moreover, in the form of this FIG. 7, the spreading process of a tap water can be skipped by making a residual water play the role of the removal of the 1st cause by a tap water. This makes it possible to reduce the amount of tap water used for cleaning.

図8は、浴室洗浄システム1の他の実施の形態を示している。図8に示す形態において、図7に示す形態と同一の構成要素、部材については、同一の符号を付すことにより以下での説明を省略する。   FIG. 8 shows another embodiment of the bathroom cleaning system 1. In the embodiment shown in FIG. 8, the same components and members as those in the embodiment shown in FIG.

図8に示す形態では、残水散布ユニット29の内部に貯水部31と、残水散布駆動部32を有している。貯水部31は、溶解物質除去部19により濾し取られたシリカ成分等の溶解物質が濃縮された残水が供給される。貯水部31は、供給されてきた残水を一時的に貯留するタンクで構成されている。   In the embodiment shown in FIG. 8, the water storage unit 31 and the residual water dispersion driving unit 32 are provided inside the residual water dispersion unit 29. The water storage section 31 is supplied with residual water in which the dissolved substance such as the silica component collected by the dissolved substance removing section 19 is concentrated. The water storage unit 31 is configured of a tank that temporarily stores the supplied residual water.

残水散布駆動部32は、貯水部31に貯留されている残水を第3散布部30から散布させるための駆動を行う。残水散布駆動部32は、この散布駆動のタイミングが制御部23により制御される。   The residual water dispersion driving unit 32 performs driving for dispersing the residual water stored in the water storage unit 31 from the third scattering unit 30. The control unit 23 controls the timing of the spray driving of the residual water spray driving unit 32.

この図8の形態によれば、貯水部31に残水を一旦貯留しておく。そして、実際の散布のタイミングにおいて残水散布駆動部32による駆動により、この貯留されている残水を第3散布部30を介して散布する。貯水部31に残水を貯留しておくことにより、第3散布部30による散布時にまとまった量の残水を一気に噴出させることができる。その結果、散布する残水の水量を増やすことができ、出水圧力を上げることができる。   According to the form of FIG. 8, the remaining water is temporarily stored in the water storage section 31. Then, the stored residual water is dispersed through the third distribution unit 30 by driving by the remaining water distribution drive unit 32 at the actual distribution timing. By storing the remaining water in the water storage unit 31, it is possible to spout out the remaining water of the amount collected at the time of spraying by the third spraying unit 30 at a stretch. As a result, the amount of residual water to be sprayed can be increased, and the pressure of the water can be increased.

以下、本発明を適用した浴室洗浄システム1の実施例について説明をする。上述した構成からなる本発明の作用効果を検証する観点から、以下に示す実験的検証を行った。図9は、この実験的検証のフローチャートである。   Hereinafter, the Example of the bathroom washing system 1 to which this invention is applied is described. The experimental verification shown below was performed from a viewpoint of verifying the effect of this invention which consists of a structure mentioned above. FIG. 9 is a flowchart of this experimental verification.

実験的検証を行う上で、サイズ500×500×500mmの試験用箱を作成した。この試験用箱の内面の材料は、一般の浴室の内壁として用いられているアクリル樹脂で構成した。試験用箱は、グループA〜グループEの5種類分準備した。   For experimental verification, a test box of size 500 × 500 × 500 mm was created. The material of the inner surface of this test box was made of acrylic resin used as the inner wall of a common bathroom. Test boxes were prepared for five types of groups A to E.

ステップS10において、全グループの試験用箱の内壁及び底面に対して汚染物質の噴霧を行った。汚染物質としては、入浴時の皮脂と石鹸を含む排水を想定し、「手洗いした石鹸水」を1000mlに菌の増殖を促進させるためのグルコース10gを混合したものを使用している。この汚染物質の噴霧量は100mlとしている。なおグループEの試験用箱は、ステップS10終了後、ステップS11に移行してそのまま自然乾燥させた。   In step S10, spraying of contaminants was performed on the inner walls and the bottom of the test boxes of all groups. As a contaminant, assuming that the drainage containing sebum and soap at the time of bathing, a mixture of "hand-washed soap water" with 10 g of glucose for promoting the growth of bacteria is used. The amount sprayed of this contaminant is 100 ml. In addition, after the completion of step S10, the test box of group E was transferred to step S11 and naturally dried as it was.

次にステップS12に移行し、汚染物質を噴霧したグループA〜グループDの試験用箱に対して1時間放置後、水道水を噴霧した。次にステップS13へ移行し、30分放置後、グループA〜グループDの試験用箱の箱内全面に対して水道水を2l散水した。   Next, the process proceeds to step S12, and after standing for one hour on test boxes of groups A to D sprayed with contaminants, tap water is sprayed. Next, the process proceeds to step S13, and after standing for 30 minutes, 2 liters of tap water is sprinkled on the entire surface of the test boxes of groups A to D.

グループA、Bの試験用箱については、ステップS14において更に箱内全面に対して水道水を2l散水した。またグループC、Dの試験用箱については、ステップS15において箱内全面に対してイオン交換水2lを散水した。この散水したイオン交換水は、シリカ、およびミネラル等の不純物を除去した水であって、電気伝導度0.2μS/cmのものとしている。   With regard to the test boxes of groups A and B, in step S14, 2 liters of tap water was further sprayed to the entire inside of the box. In addition, with regard to the test boxes of groups C and D, in step S15, 2 liters of ion exchanged water was sprinkled to the entire surface of the box. The ion-exchanged water thus sprayed is water from which impurities such as silica and minerals have been removed, and has an electric conductivity of 0.2 μS / cm.

グループAについては、ステップS16に移行し、試験用箱内に除湿した乾燥空気を吹き入れて内部を乾燥させた。グループBについては、ステップS17に移行し、そのまま放置して自然乾燥させた。グループCについては、ステップS18に移行し、試験用箱内に除湿した乾燥空気を吹き入れて内部を乾燥させた。グループDについては、ステップS19に移行し、そのまま放置して自然乾燥させた。   For the group A, the process proceeds to step S16, and dry air dehumidified is blown into the test box to dry the inside. The group B was transferred to step S17, and left as it is to dry naturally. For the group C, the process proceeds to step S18, and dry air dehumidified is blown into the test box to dry the inside. About group D, it moved to Step S19, left it as it was, and naturally dried.

グループA〜Eの各試験用箱について、初回の散水洗浄(ステップS13)、2回目の散水洗浄(ステップS14、S15)、乾燥(ステップS11、S16〜S19)を以下の表1に分類、整理している。   For each test box of groups A to E, the first water washing (step S13), the second water washing (steps S14 and S15), and the drying (steps S11 and S16 to S19) are classified in Table 1 below, and organized. doing.

Figure 2019062992
Figure 2019062992

各グループA〜Eの試験用箱について、上述した操作を1日1回、2.5ヶ月繰り返し実行した。その後、各グループの試験用箱の床及び内壁の汚れ度合を目視で評価し、箱内の生菌数(一般細菌数)を測定した。この生菌数の測定方法としては、(株)エルメックス製Pro・media ST-25 PBS(拭き取り検査キット)を使用し、生菌数を測定しようとする任意の箇所5×5cmの縦横往復10回を2回繰り返し拭き取りを行う。拭き取り後は容器に戻し、液中に分散させ、これを検液10倍液とする。検液10倍液、100倍液、1000倍液、10000倍液、100000倍液、1000000倍液のそれぞれについてシャーレに各1mLずつ正確に滅菌ピペットで採り、加温溶解させて50℃程度に保持した栄研化学パールコア製標準寒天培地を加え、静かに混和、冷却凝固させる。検液をシャーレに採ってから培地を加えるまでに20分以内に行う。培養は温度35℃、時間は48時間とする。検出されたコロニーを測定し、1cm2あたりの菌数を算出する。
汚れ度合の評価基準を以下に示す。
6:床及び内壁の1/2以上が汚れで覆われている。
5:床及び内壁の1/4以上1/2未満が汚れで覆われている。
4:床及び内壁の1/4未満が汚れで覆われている。
3:床及び内壁の一部に汚れが確認できる。
2:床及び内壁の一部に水の蒸発痕が確認できる。
1:ステップS10の汚染物質噴霧前の初期状態と変わらない。
The above-described operation was repeated once a day for 2.5 months for the test boxes of each of the groups A to E. Thereafter, the degree of soiling of the floor and the inner wall of the test box of each group was visually evaluated, and the viable cell count (general bacterial count) in the box was measured. As a method of measuring the number of viable cells, Pro • media ST-25 PBS (wipe test kit) manufactured by Elmex Co., Ltd. is used. Repeat wiping twice. After wiping, return to the container, disperse in the solution, and use this as the 10-fold solution. For each 10-fold test solution, 100-fold solution, 1000-fold solution, 10000-fold solution, 100000-fold solution, 100000-fold solution, and 1,000,000-fold solution, take 1 mL each of each in the petri dish exactly with a sterile pipette, heat and dissolve and keep at around 50 ° C Add Eiken Chemical Pearl Core's standard agar medium, mix gently and allow to cool and coagulate. Take the test solution into a petri dish and within 20 minutes before adding the culture medium. The culture is carried out at a temperature of 35 ° C. for 48 hours. Measure the detected colonies and calculate the number of bacteria per 1 cm 2 .
The evaluation criteria of the degree of contamination are shown below.
6: 1/2 or more of the floor and the inner wall are covered with dirt.
5: 1⁄4 to 1⁄2 of the floor and the inner wall are covered with dirt.
4: Less than 1/4 of the floor and the inner wall are covered with dirt.
3: Contamination can be confirmed on part of the floor and the inner wall.
2: Evaporation marks of water can be confirmed on part of the floor and the inner wall.
1: No change from the initial state before the contaminant spraying in step S10.

以下の表2には、この目視による汚れ度合の評価結果を、また表3には、測定した生菌数を示す。   Table 2 below shows the evaluation results of the degree of stain by visual observation, and Table 3 shows the number of viable bacteria measured.

Figure 2019062992
Figure 2019062992

Figure 2019062992
Figure 2019062992

表2から示唆されることとしては、グループBは、グループEと比較して汚れ度合が格段に改善されていた。このため、散水により汚れ度合が大きく改善できることを確認することができた。またグループAはグループBよりも汚れ度合が改善され、グループCはグループDよりも汚れ度合が改善されている。これにより、単なる自然乾燥よりも乾燥空気を吹き付けることにより、汚れ度合が大きく改善できることを確認することができた。またグループCは、グループAよりも汚れ度合が改善されていた。このため、乾燥空気を吹き付ける場合において、イオン交換水を散布することにより、汚れ度合を改善できることを確認することができた。   It is suggested from Table 2 that the degree of soiling was significantly improved in group B as compared to group E. Therefore, it was confirmed that the degree of soiling can be greatly improved by watering. Also, the degree of contamination of group A is improved more than that of group B, and the degree of contamination of group C is improved more than group D. Thereby, it was possible to confirm that the degree of soiling can be greatly improved by blowing dry air rather than mere natural drying. In addition, group C had a better degree of contamination than group A. Therefore, it was possible to confirm that the degree of soiling can be improved by spraying ion-exchanged water when blowing dry air.

表3から示唆されることとしては、グループBは、グループEと比較して生菌数が大幅に減少していたことから、散水により微生物を低減できることを確認することができた。また、またグループAはグループBよりも生菌数が減少し、グループCはグループDよりも生菌数が減少している。これにより、単なる自然乾燥よりも乾燥空気を吹き付けることにより、生菌数が大きく減少することを確認することができた。   As suggested from Table 3, group B was able to reduce the number of microorganisms by water sprinkling, as the viable count was significantly reduced compared to group E. Also, the number of viable bacteria in group A is smaller than that in group B, and the number of viable bacteria in group C is smaller than that of group D. Thereby, it was possible to confirm that the number of viable bacteria is greatly reduced by blowing dry air rather than mere natural drying.

以上から、汚れ度合を改善し、生菌数の減少させるためには、水道水を散水した後にイオン交換水を散水し、更に乾燥空気により乾燥させることが効果的であることを実験的に検証することができた。   From the above, in order to improve the degree of soiling and to reduce the number of viable bacteria, it is experimentally verified that it is effective to spray ion-exchanged water after sprinkling tap water and to further dry it with dry air. We were able to.

シリカ除去水による水垢抑制効果を実験的に検証した結果について説明をする。実験では、シリカ除去水をアクリル樹脂に散布した。その後60分にわたり乾燥させ、再度このアクリル樹脂にシリカ除去水を散布と乾燥を繰り返し実行する。このシリカ除去水の散布と乾燥を、試験体の表面に水垢成分が目視できるレベルに堆積するまで繰り返す。この実験を繰り返す過程で目視で水垢が確認できた繰り返し回数をプロットする。かかる実験を、シリカの濃度を互いに異ならせたシリカ除去水についてそれぞれ行った。   The results of experimental verification of the water repellent suppression effect by the silica removal water will be described. In the experiment, silica-removed water was sprayed on the acrylic resin. After that, it is allowed to dry for 60 minutes, and this acrylic resin is repeatedly sprayed and dried with silica removing water again. The application of the silica removing water and the drying are repeated until the constituents of the water are deposited to a visible level on the surface of the sample. In the process of repeating this experiment, the number of repetitions at which a blister was visually confirmed is plotted. Such an experiment was carried out for each of the silica-removed waters having different concentrations of silica.

表4は、水垢抑制効果の実験結果を示している。   Table 4 has shown the experimental result of the blister control effect.

Figure 2019062992
Figure 2019062992

また図10は、表4の実験結果をグラフに表示したものである。横軸がシリカ除去水中のシリカ濃度であり、縦軸は、シリカ除去水の散布と乾燥の繰り返し回数を示している。実験は、シリカ除去水として、逆浸透膜を通すことでCaやMgも除去した水を使用し、比較のためにCaやMgの量が水道水と同じレベルの水についても同様の実験を行っている。図10中のプロットが水垢の発現を確認できた繰り返し回数である。シリカ濃度と、水垢が発現する繰り返し回数の関係はほぼ線形の関係にあることが示されている。またシリカ濃度が高いほど水垢発現の繰り返し回数が少なくなり、シリカ濃度が低いほど水垢発現の繰り返し回数が多くなることが示されている。このため、シリカ除去水中のシリカ濃度を低くするほど水垢抑制効果が高くなることが示唆されていた。中でもシリカ成分の濃度を0.4ppm以下まで低減することができれば、水垢発現の繰り返し回数が25回程度になることから、所期の水垢抑制効果が得られることが分かる。また、シリカ除去水は、シリカ以外の水垢の原因とされるCaやMgの量が水道水と同じレベルであっても水垢抑制効果が向上する点も示唆されていた。   Moreover, FIG. 10 displays the experimental result of Table 4 on the graph. The horizontal axis is the silica concentration in the silica-free water, and the vertical axis shows the number of repetitions of the silica-free water dispersion and drying. The experiment uses water from which Ca and Mg have been removed by passing it through a reverse osmosis membrane as silica removal water, and the same experiment is conducted for water having the same amount of Ca and Mg as tap water for comparison. ing. The plot in FIG. 10 shows the number of repetitions of the occurrence of blisters. It has been shown that the relationship between the silica concentration and the number of repetitions of blistering is approximately linear. It is also shown that the higher the silica concentration, the smaller the number of repetitions of blistering, and the lower the silica concentration, the higher the number of repetitions of blistering. For this reason, it was suggested that the water-repellent suppression effect becomes high, so that the silica concentration in silica removal water is made low. Above all, if the concentration of the silica component can be reduced to 0.4 ppm or less, it can be seen that the desired number of times of suppressing the water scale can be obtained because the number of repetition of the appearance of the water scale becomes about 25 times. In addition, it is also suggested that the silica-removing water is improved in the water-flour suppressing effect even if the amount of Ca and Mg, which is considered to be the cause of water-flour other than silica, is the same level as tap water.

1 浴室洗浄システム
2 浴室
3 浴槽
4 内壁
5 天井
7 洗い場
8 シャワー
9 水栓
10 操作部
11 給水源
12 分岐部
14 給水路
15 制御弁
16 第1散布部
17 供給水散布ユニット
18 制御弁
19 溶解物質除去部
20 第2散布部
21 シリカ除去水散布ユニット
22 乾燥機
23 制御部
24 微生物除去部
25 散布部
27 貯水部
28 シリカ除去水散布駆動部
29 残水散布ユニット
30 第3散布部
31 貯水部
32 残水散布駆動部
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 bathroom washing system 2 bathroom 3 bathtub 4 inner wall 5 ceiling 7 washing place 8 shower 9 faucet 10 operation part 11 water supply source 12 branch part 14 water supply passage 15 control valve 16 first scattering part 17 supply water scattering unit 18 control valve 19 dissolved substance Removal unit 20 Second dispersion unit 21 Silica removal water dispersion unit 22 Drying unit 23 Control unit 24 Microbial removal unit 25 Dispersion unit 27 Water storage unit 28 Silica removal water dispersion drive unit 29 Residual water dispersion unit 30 Third dispersion unit 31 Water storage unit 32 Residual water spray drive

Claims (7)

給水源から供給されてくる水からシリカ成分の濃度を0.4ppm以下まで低減させたシリカ除去水を浴室内に散布するシリカ除去水散布手段と、
上記シリカ除去水散布手段による散布後に、上記浴室内を乾燥させる乾燥手段とを備えること
を特徴とする浴室洗浄システム。
Silica-removing water spraying means for spraying, into the bathroom, silica-removing water in which the concentration of the silica component is reduced to 0.4 ppm or less from the water supplied from the water supply source;
And a drying means for drying the inside of the bathroom after the dispersion by the silica removing water spraying means.
シリカ除去水散布手段によるシリカ除去水の散布前に、上記給水源から供給されてくる水を浴室内に散布する供給水散布手段を更に備えること
を特徴とする請求項1記載の浴室洗浄システム。
The bathroom cleaning system according to claim 1, further comprising: a supply water spraying means for spraying the water supplied from the water supply source into the bathroom before spraying the silica removal water by the silica removal water spraying means.
上記浴室内から上記シリカ除去水散布手段への微生物の浸入を抑制する微生物除去手段を更に備えること
を特徴とする請求項1又は2記載の浴室洗浄システム。
The bathroom cleaning system according to claim 1 or 2, further comprising a microorganism removing means for suppressing the infiltration of microorganisms from the inside of the bathroom to the silica removing water spraying means.
上記乾燥手段は、予め除湿された空気を吹き付けることにより乾燥させること
を特徴とする請求項1〜3のうち何れか1項記載の浴室洗浄システム。
The bathroom cleaning system according to any one of claims 1 to 3, wherein the drying means is dried by blowing air which has been dehumidified in advance.
給水源から供給されてくる水からシリカ成分の濃度を0.4ppm以下まで低減させたシリカ除去水を浴室内に散布するとともに、上記シリカ成分を濾し取ることでこれが濃縮された残水を分離するシリカ除去水散布手段と、
上記残水を上記浴室内に散布する残水散布手段と、
上記シリカ除去水散布手段及び上記残水散布手段による散布後に、上記浴室内を乾燥させる乾燥手段とを備え、
上記残水散布手段は、上記シリカ除去水散布手段による散布前に、上記残水を上記浴室内に散布すること
を特徴とする浴室洗浄システム。
While removing the silica removal water which reduced the concentration of the silica component to 0.4 ppm or less from the water supplied from the water supply source into the bathroom, the above silica component is separated by filtration to separate the residual water which is concentrated Silica removal water spraying means,
Residual water spraying means for spraying the residual water into the bathroom;
Drying means for drying the inside of the bathroom after the silica removing water spraying means and the residual water spraying means are sprayed,
The bathroom washing system, wherein the residual water spraying means sprays the residual water into the bathroom before spraying by the silica removing water spraying means.
上記残水散布手段は、上記残水を一時的に貯水した上でこれを上記浴室内に散布すること
を特徴とする請求項5記載の浴室洗浄システム。
The bathroom cleaning system according to claim 5, wherein the residual water dispersion means temporarily stores the residual water and then disperses the residual water in the bathroom.
給水源から供給されてくる水からシリカ成分の濃度を0.4ppm以下まで低減させたシリカ除去水を浴室内に散布するシリカ除去水散布工程と、
上記浴室内を乾燥させる乾燥工程とを有すること
を特徴とする浴室洗浄方法。
A silica removing water spraying step of spraying silica removing water in which concentration of a silica component is reduced to 0.4 ppm or less from water supplied from a water supply source in a bathroom;
And d) drying the inside of the bathroom.
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