JP2019050423A - 基板液処理方法及び基板液処理装置 - Google Patents
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Description
本願発明者らは、この緩衝溶液の特性を利用することにより、pHが5〜9範囲内の所望の値の処理液を容易に安定的に生成することができるとの考えに至った。
そして、受渡部14に載置された処理済のウエハWは、基板搬送装置13によってキャリア載置部11のキャリアCへ戻される。
− (1)二酸化炭素溶解水供給部710において二酸化炭素溶解水を生成する際における、純水ライン712に流す純水の流量、二酸化炭素ガスライン717に流す二酸化炭素ガスの流量、及び得られる二酸化炭素溶解水の抵抗率
− (2)上記(1)に基づき生成された二酸化炭素溶解水に混合すべきアンモニア水の量(混合比)
が含まれる。
従って、抵抗率計715の検出値に基づいて、予め定められた量の二酸化炭素ガスが純水中に溶け込んだことを確認することができる。
しかも、純水にアンモニア水及び二酸化炭素ガスの一方を添加した後に他方を添加してゆく過程においては、添加量変化に伴うpH変化は鈍いため、アンモニア水または二酸化炭素ガスの添加量を厳しく(非常に精密に)管理する必要はない。純水にアンモニア水だけを添加した(二酸化炭素ガスを溶解しない)希アンモニア水のpHを中性付近で調整する際に必要とされる微小流量の超精密制御が不要となるので、高価な流量制御装置を用いる必要がなくなる。もちろん、二酸化炭素ガスの添加量とアンモニア水の添加量の比率を変更することにより、pHが8〜9程度の弱アルカリ性の緩衝溶液を得ることも可能であるし、pHが5〜7程度の微〜弱酸性の緩衝溶液を得ることも可能である。つまり、上記実施形態によれば、純水にアンモニア水だけを添加、あるいは純水に二酸化炭素ガスだけを添加することによっては製造が困難なpHが5〜9程度の溶液を容易に製造することができる。
この場合、目標とする抵抗率あるいはpHを得るために必要な純水への二酸化炭素ガスの添加量は、実験により予め求めておく(図11,図12のグラフを参照)。
(工程1)基板保持機構30によりウエハWを水平に保持させた状態で鉛直軸線周りに回転させながら薬液供給源70’(図3、図8を参照)から供給される薬液を処理流体供給部40(例えばノズル)からウエハWに薬液を供給することにより行われる薬液洗浄処理またはウエットエッチング処理、
(工程2)引き続きウエハWを回転させながら処理流体供給部40(例えば別のノズル)から上記緩衝溶液をウエハに供給することにより行われるリンス処理、及び
(工程3)引き続きウエハWを回転させながらウエハWへの液の供給を止めることにより行われるスピン乾燥(振り切り乾燥)処理
が順次行われる。
16 処理部(処理ユニット)
40 処理液供給部(処理流体供給部)
70 処理液生成部(処理流体供給源)
701 タンク
702 循環ライン
712 純水ライン
714 二酸化炭素ガス溶解部(二酸化炭素ガス溶解モジュール)
715 抵抗率または導電率を測定する測定器(抵抗率計)
720 アンモニア水供給部
Claims (13)
- 金属が露出した基板を液処理する基板液処理方法であって、
純水と、二酸化炭素と、アンモニアとを含むpHが5〜9の範囲内の予め定められた値の処理液を生成する処理液生成工程と、
前記処理液を用いて基板を処理する液処理工程と、
を備えた基板液処理方法。 - 前記処理液生成工程は、
純水に二酸化炭素ガスを予め定められた抵抗率または導電率になるまで溶解させる二酸化炭素ガス溶解工程と、
前記二酸化炭素ガス溶解工程の後に、二酸化炭素ガスが溶解した純水にアンモニア水を添加してpHが5〜9の範囲内の前記予め定められた値とするアンモニア水添加工程と、を含む、請求項1記載の基板液処理方法。 - 前記予め定められた抵抗率または導電率を得るために必要な二酸化炭素ガスの溶解量を予め求めておき、前記二酸化炭素ガス溶解工程において、この予め求めておいた溶解量の二酸化炭素ガスを純水に溶解させる、請求項2記載の基板液処理方法。
- 前記二酸化炭素ガス溶解工程において、二酸化炭素ガスを溶解した純水の抵抗率または導電率が計測され、その計測値が予め定められた値以下となるように、純水への二酸化炭素ガスの溶解量が制御される、請求項2記載の基板液処理方法。
- 前記アンモニア水添加工程において、二酸化炭素ガスが溶解した純水に予め定められた量のアンモニア水が添加され、アンモニア水の添加量は、アンモニア水の添加量自体を計測することができる計測装置の検出値に基づき管理される、請求項2記載の基板液処理方法。
- 前記処理液生成工程は、
純水にアンモニア水を添加してpHを9より大きい予め定められた値にするアンモニア水添加工程と、
前記アンモニア水添加工程の後に、アンモニア水が添加された純水に二酸化炭素ガスを溶解させpHを5〜9の範囲内の前記予め定められた値とするとともに予め定められた抵抗率または導電率にする二酸化炭素ガス溶解工程と、
を含む、請求項1記載の基板液処理方法。 - 前記処理液は、前記基板に薬液処理を行った後に前記基板をリンス処理するために用いられる、請求項1から6のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法。
- 前記処理液は、前記基板に対する薬液処理の前処理として行われる処理を行うために用いられ、前記前処理は、前記薬液処理を行う処理部において前記基板に対して行われる初めての液処理である、請求項1から6のうちのいずれか一項に記載の基板液処理方法。
- 前記処理液を前記基板に供給する前に、前記処理液に有機溶剤を混合する工程を含む、請求項8記載の基板液処理方法。
- 処理液を用いて基板に液処理を行う処理部と、
処理液を生成する処理液生成部と、
前記処理液生成部で生成した処理液を前記処理部に供給する処理液供給部と、
制御部と、
を備え、
前記処理液生成部は、
純水を供給する純水供給部と、
二酸化炭素ガスを供給する二酸化炭素ガス供給部と、
アンモニア水を供給するアンモニア水供給部と、を含み、
前記制御部は、前記処理液生成部を制御して、純水と、二酸化炭素ガスと、アンモニア水とを混合することによりpHが5〜9の範囲内の予め定められた値の処理液を生成し、前記処理液供給部を制御して前記処理液を前記処理部に供給して基板を処理する、基板液処理装置。 - 前記処理液生成部は、
処理液を貯留するタンクと、
前記タンク内の処理液が循環する循環ラインと、
前記タンクに純水を供給する純水ラインと、
純水に前記二酸化炭素ガス供給部から供給された二酸化炭素ガスを溶解させる二酸化炭素ガス溶解部と、
をさらに備え、
前記二酸化炭素ガス溶解部は、前記純水ラインまたは前記循環ラインに介設されて、前記純水ラインまたは前記循環ラインを流れる純水に、予め定められた抵抗率または導電率になるまで二酸化炭素ガスを溶解させ、
前記アンモニア水供給部は、前記タンクまたは前記純水ラインにアンモニア水を供給してpHを5〜9の範囲内の前記予め定められた値にする、請求項10記載の基板液処理装置。 - 前記二酸化炭素ガス溶解部は前記純水ラインに介設され、前記アンモニア水供給部は前記タンクにアンモニア水を供給する、請求項11記載の基板液処理装置。
- 二酸化炭素ガスが溶解した純水の抵抗率または導電率を測定する測定器をさらに備え、 前記制御部は、前記二酸化炭素ガス溶解部により、アンモニア水を含まない純水に対して二酸化炭素ガスを溶解させ、この二酸化炭素ガスを溶解させたアンモニア水を含まない純水の抵抗率または導電率が予め定められた値となっていることが前記測定器により確認された後に、前記アンモニア水供給部により、二酸化炭素ガスを溶解させたアンモニア水を含まない純水に、アンモニア水を添加するように制御を行う、請求項9から12のうちのいずれか一項に記載の基板液処理装置。
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---|---|---|---|---|
JPH1064867A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-06 | Japan Organo Co Ltd | 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2000354729A (ja) * | 1999-04-12 | 2000-12-26 | Japan Organo Co Ltd | 洗浄用機能水製造方法及び製造装置 |
JP2013136024A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Shibaura Mechatronics Corp | 処理液生成装置、処理液生成方法、基板処理装置及び基板処理方法 |
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JPH1064867A (ja) * | 1996-08-20 | 1998-03-06 | Japan Organo Co Ltd | 電子部品部材類の洗浄方法及び洗浄装置 |
JP2000354729A (ja) * | 1999-04-12 | 2000-12-26 | Japan Organo Co Ltd | 洗浄用機能水製造方法及び製造装置 |
JP2013136024A (ja) * | 2011-12-28 | 2013-07-11 | Shibaura Mechatronics Corp | 処理液生成装置、処理液生成方法、基板処理装置及び基板処理方法 |
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